KR20120112154A - Process for forming pixel pattern, color filter and display device - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A method for forming a pixel pattern, a color filter, and a display device are provided to sufficiently make superior chromaticity of a dye and a lake pigment when the dye or the lake pigment is used as a coloring agent. CONSTITUTION: A conductive film of a colored radiation-sensitive composition of at least one type is formed on a substrate. The one type is selected from a group made of a dye or a lake pigment. A radiation is irradiated to at least one portion of the conductive film. The spectral distribution of the radiation has peaks whose ranges are 350nm to 450nm. The maximum strength under a 350nm radiation is under 50% of the maximum peak strength from 350nm to 450nm. [Reference numerals] (AA) Light relative intensity(%); (BB) Wavelength(nm)

Description

화소 패턴의 형성 방법, 컬러 필터 및 표시 소자{PROCESS FOR FORMING PIXEL PATTERN, COLOR FILTER AND DISPLAY DEVICE}Formation method of pixel pattern, color filter and display element {PROCESS FOR FORMING PIXEL PATTERN, COLOR FILTER AND DISPLAY DEVICE}

본 발명은 화소 패턴의 형성 방법, 이 방법에 의해 제조된 컬러 필터, 및 상기 컬러 필터를 구비하는 표시 소자에 관한 것이다.The present invention relates to a method of forming a pixel pattern, a color filter manufactured by the method, and a display element comprising the color filter.

컬러 필터는 가시광 내의 특정한 파장 영역의 광을 투과시켜, 착색된 투과광을 생성한다. 액정을 이용한 액정 표시 소자는 그 자체가 발색하는 것은 불가능하지만, 컬러 필터를 사용함으로써 컬러 액정 표시 소자로서 기능할 수 있다. 또한, 컬러 필터는 백색 발광층을 이용한 유기 EL(Electro Luminescence) 소자나, 전자페이퍼 등의 컬러 표시에도 이용된다. 또한, 컬러 필터를 이용하면 CCD 이미지 센서, CMOS 이미지 센서 등의 고체 촬상 소자의 컬러 촬영이 가능해진다.The color filter transmits light of a specific wavelength region in the visible light, thereby producing colored transmitted light. The liquid crystal display element using the liquid crystal cannot itself develop color, but can function as a color liquid crystal display element by using a color filter. The color filter is also used for color display such as an organic EL (Electro Luminescence) device using an white light emitting layer or an electronic paper. In addition, the color filter enables color imaging of solid-state imaging devices such as CCD image sensors and CMOS image sensors.

컬러 필터의 제조 방법으로는 다음과 같은 것이 알려져 있다. 예를 들면, 투명 기판 상 또는 원하는 패턴의 차광층이 형성된 투명 기판 상에, 적당한 조사선에 감응하는 착색 조성물로서 착색 감방사선성 조성물을 도포한다. 이어서 도막을 건조시킨 후, 마스크를 통해 건조 도막에 방사선을 조사(이하, "노광"이라 함)하고, 현상 처리를 실시한다. 이에 따라, 각 색의 화소를 얻는 방법이다(예를 들면, 특허문헌 1 및 2 참조.). 또한, 착색 경화성 수지 조성물을 이용하여, 잉크젯 방식에 의해 각 색의 화소를 얻는 방법 등도 알려져 있다(예를 들면, 특허문헌 3 참조).The following are known as a manufacturing method of a color filter. For example, a coloring radiation sensitive composition is apply | coated as a coloring composition which responds to a suitable irradiation line on the transparent substrate or the transparent substrate in which the light shielding layer of the desired pattern was formed. Subsequently, after drying a coating film, radiation is irradiated to a dry coating film through a mask (henceforth "exposure"), and a developing process is performed. Thereby, it is the method of obtaining the pixel of each color (for example, refer patent document 1 and 2.). Moreover, the method etc. which obtain the pixel of each color by the inkjet system using a colored curable resin composition are also known (for example, refer patent document 3).

그런데 표시 소자의 고휘도화와 고색순도화, 또는 고체 촬상 소자의 고정밀화를 실현하기 위해서는, 착색제로서 염료나 레이크 안료를 이용하는 것이 유효하다는 것이 알려져 있다(예를 들면, 특허문헌 4 및 5 참조).By the way, in order to implement | achieve high brightness of a display element, high color purity, or high definition of a solid-state image sensor, it is known that it is effective to use dye and a lake pigment as a coloring agent (for example, refer patent document 4 and 5).

일본 특허 공개 (평)2-144502호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 2-144502 일본 특허 공개 (평)3-53201호 공보Japanese Patent Laid-Open Publication No. 3-53201 일본 특허 공개 제2000-310706호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 2000-310706 일본 특허 공개 제2008-304766호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 2008-304766 일본 특허 공개 제2001-081348호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 2001-081348

그러나, 염료나 레이크 안료를 포함하는 착색 감방사선성 조성물은 안료만을 포함하는 착색 감방사선성 조성물에 비하여 색도 특성의 공정 안정성이 현저히 떨어진다. 이 때문에, 착색제로서 염료나 레이크 안료를 이용하더라도, 결국 안료에 대하여 색도 특성에 우위성이 있는 컬러 필터가 얻어지기 어렵다는 문제가 있다.However, the colored radiation-sensitive composition containing a dye or a lake pigment is significantly inferior in process stability to chromaticity characteristics as compared to the colored radiation-sensitive composition containing only a pigment. For this reason, even if dye or a lake pigment is used as a coloring agent, there exists a problem that the color filter which has an advantage in chromaticity characteristic with respect to a pigment is hard to be obtained eventually.

본 발명은 이상과 같은 문제를 감안하여 이루어진 것이다. 즉, 본 발명의 목적은 착색제로서 염료나 레이크 안료를 이용한 경우, 염료나 레이크 안료의 우수한 색도 특성을 충분히 발현시키기 위한 화소 패턴의 형성 방법, 상기 방법에 의해 형성된 컬러 필터, 및 상기 컬러 필터를 구비하는, 색도 특성이 우수한 표시 소자를 제공하는 데에 있다.The present invention has been made in view of the above problems. That is, an object of the present invention is to provide a method of forming a pixel pattern, a color filter formed by the method, and the color filter in order to sufficiently express the excellent chromaticity characteristics of the dye or the lake pigment when a dye or a lake pigment is used as the colorant. It is an object to provide a display element excellent in chromaticity characteristics.

본 발명자들은 예의 검토한 결과, 화소 패턴을 형성할 때에 노광 방사선으로서 특정한 자외선을 이용함으로써 상기 과제를 해결할 수 있는 것을 발견하였다.MEANS TO SOLVE THE PROBLEM As a result of earnestly examining, it discovered that the said subject can be solved by using specific ultraviolet-ray as exposure radiation when forming a pixel pattern.

즉, 본 발명은 (1) 기판 상에, 염료 및 레이크 안료로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 함유하는 착색 감방사선성 조성물의 도막을 형성하는 공정, 및 (2) 상기 도막의 적어도 일부에 방사선을 조사하는 공정을 포함하고, 상기 방사선의 분광 분포가 350 nm 내지 450 nm의 범위에 복수개의 피크를 가지며, 상기 방사선의 350 nm 미만에서의 최대 강도가 350 nm 내지 450 nm에서의 최대 피크 강도의 50 % 이하인 것을 특징으로 하는 화소 패턴의 형성 방법을 제공하는 것이다. 또한, 이하에서는 "분광 분포가 350 nm 내지 450 nm의 범위에 복수의 피크를 가지며, 350 nm 미만에서의 최대 강도가 350 nm 내지 450 nm에서의 최대 피크 강도의 50 % 이하인 방사선"을 "특정 방사선"이라고도 한다.That is, this invention is a process of (1) forming the coating film of the colored radiation-sensitive composition containing at least 1 sort (s) chosen from the group which consists of a dye and a rake pigment on a board | substrate, and (2) at least one part of the said coating film Irradiating the radiation, wherein the spectral distribution of the radiation has a plurality of peaks in the range of 350 nm to 450 nm, and the maximum intensity at less than 350 nm of the radiation is the maximum peak intensity at 350 nm to 450 nm. It is to provide a method for forming a pixel pattern, characterized in that 50% or less. In addition, hereinafter, "the radiation having a spectral distribution having a plurality of peaks in the range of 350 nm to 450 nm, and the maximum intensity at less than 350 nm is 50% or less of the maximum peak intensity at 350 nm to 450 nm" is referred to as "specific radiation. Also called.

또한, 본 발명은 상기 방법에 의해 형성된 화소 패턴을 구비하여 이루어지는 컬러 필터, 및 상기 컬러 필터를 구비하는 표시 소자를 제공하는 것이다.Moreover, this invention provides the color filter which comprises the pixel pattern formed by the said method, and the display element provided with the said color filter.

본 발명에 따르면, 착색제로서 염료나 레이크 안료를 이용한 경우, 염료나 레이크 안료의 우수한 색도 특성이 충분히 발휘되는 컬러 필터를 제조할 수 있다.According to the present invention, when a dye or a lake pigment is used as a colorant, a color filter can be produced in which the excellent chromaticity characteristics of the dye and the lake pigment are sufficiently exhibited.

도 1은 초고압 수은등으로부터 방사되는 방사선의 대표적인 분광 분포를 도시한 도면이다.
도 2는 초고압 수은등으로부터 방사되는 방사선에 자외선 차단 필터 1을 개재시켜 얻어진 방사선의 분광 분포를 도시한 도면이다.
도 3은 초고압 수은등으로부터 방사되는 방사선에 자외선 차단 필터 2를 개재시켜 얻어진 방사선의 분광 분포를 도시한 도면이다.
도 4는 초고압 수은등으로부터 방사되는 방사선에 자외선 차단 필터 3을 개재시켜 얻어진 방사선의 분광 분포를 도시한 도면이다.
1 is a diagram showing a representative spectral distribution of radiation emitted from an ultrahigh pressure mercury lamp.
FIG. 2 is a diagram showing a spectral distribution of radiation obtained by interposing an ultraviolet cut filter 1 to radiation emitted from an ultra-high pressure mercury lamp.
FIG. 3 is a diagram showing a spectral distribution of radiation obtained by interposing a UV cut filter 2 to radiation emitted from an ultra-high pressure mercury lamp.
FIG. 4 is a diagram showing the spectral distribution of radiation obtained by interposing an ultraviolet cut filter 3 to radiation emitted from an ultra-high pressure mercury lamp.

이하, 본 실시 형태에 대해서 상세히 설명한다.Hereinafter, this embodiment is described in detail.

<화소 패턴의 형성 방법 및 컬러 필터> <Formation method and color filter of pixel pattern>

본 발명의 화소 패턴의 형성 방법은, 적어도 하기 (1) 및 (2)의 공정을 포함하는 것을 특징으로 한다.The method of forming a pixel pattern of the present invention includes at least the steps (1) and (2) below.

(1) 기판 상에, 염료 및 레이크 안료로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 함유하는 착색 감방사선성 조성물의 도막을 형성하는 공정(이하, "도막 형성 공정"이라고도 함)(1) Process of forming the coating film of the colored radiation-sensitive composition containing at least 1 sort (s) chosen from the group which consists of a dye and a lake pigment on a board | substrate (henceforth a "coating film formation process").

(2) 상기 도막의 적어도 일부에 특정 방사선을 노광하는 공정(이하, "노광 공정"이라고도 함)(2) Process of exposing specific radiation to at least a part of said coating film (hereinafter also called "exposure process")

이하에서는, (1) 및 (2)의 각 공정에 대해서 구체예를 들어 상세히 설명한다.Hereinafter, each process of (1) and (2) is explained in full detail, giving a specific example.

(1) 도막 형성 공정(1) Coating film formation process

우선 기판을 준비한다. 기판으로는, 예를 들면 붕규산 유리, 알루미노붕규산 유리, 무알칼리 유리, 석영 유리, 합성 석영 유리, 소다석회 유리, 화이트사파이어 등의 투명한 유리 기판을 사용할 수 있다. 또한, 폴리메틸메타크릴레이트 등의 아크릴, 폴리아미드, 폴리아세탈, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 트리아세틸셀룰로오스, 신디오택틱?폴리스티렌, 폴리페닐렌술피드, 폴리에테르케톤, 폴리에테르에테르케톤, 불소 수지, 폴리에테르니트릴, 폴리카르보네이트, 변성 폴리페닐렌에테르, 폴리시클로헥센, 폴리노르보르넨계 수지, 폴리술폰, 폴리에테르술폰, 폴리아릴레이트, 폴리아미드이미드, 폴리에테르이미드 또는 열가소성 폴리이미드 등의 투명 수지 필름을 이용할 수도 있다. 특히, 무알칼리 유리는 열팽창률이 작은 소재이고, 치수 안정성 및 고온 가열 처리에 있어서의 특성이 우수하다는 점에서 바람직하게 이용된다.First, prepare a substrate. As a board | substrate, transparent glass substrates, such as borosilicate glass, alumino borosilicate glass, an alkali free glass, quartz glass, synthetic quartz glass, soda-lime glass, white sapphire, can be used, for example. Moreover, acryl, such as polymethyl methacrylate, polyamide, polyacetal, polybutylene terephthalate, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, triacetyl cellulose, syndiotactic polystyrene, polyphenylene sulfide, polyether ketone, Polyether ether ketone, fluororesin, polyether nitrile, polycarbonate, modified polyphenylene ether, polycyclohexene, polynorbornene-based resin, polysulfone, polyether sulfone, polyarylate, polyamideimide, polyether You may use transparent resin films, such as a mid or thermoplastic polyimide. In particular, alkali-free glass is a material having a low coefficient of thermal expansion, and is preferably used because it is excellent in dimensional stability and high temperature heat treatment.

또한 이들 기판에는, 필요에 따라 실란 커플링제 등에 의한 약품 처리나 플라즈마 처리 이외에, 이온 플레이팅법, 스퍼터링법, 기상 반응법 또는 진공 증착법 등에 의한 이산화규소막의 성막 등의 적당한 전처리를 실시해 둘 수도 있다.These substrates may be subjected to a suitable pretreatment such as film formation of a silicon dioxide film by ion plating, sputtering, vapor phase reaction or vacuum deposition, in addition to chemical treatment or plasma treatment with a silane coupling agent or the like as necessary.

다음으로, 기판 상에, 화소를 형성하는 부분을 구획하도록 차광층(블랙 매트릭스)을 형성한다. 예를 들면, 스퍼터나 증착에 의해 성막된 크롬 등의 금속 박막을, 포토리소그래피법을 이용하여 원하는 패턴으로 가공한다. 또는, 흑색의 착색제를 함유하는 감방사선성 조성물을 기판 상에 도포하고, 포토리소그래피법에 의해서 원하는 패턴을 형성할 수도 있다. 금속 박막을 포함하는 차광층의 막 두께는 통상 0.1 ㎛ 내지 0.2 ㎛로 하는 것이 바람직하다. 한편, 흑색의 감방사선성 조성물을 이용하여 형성된 차광막의 막 두께는 1 ㎛ 전후로 하는 것이 바람직하다.Next, a light shielding layer (black matrix) is formed on a board | substrate so that the part which forms a pixel may be divided. For example, a metal thin film such as chromium formed by sputtering or vapor deposition is processed into a desired pattern using a photolithography method. Or the radiation sensitive composition containing a black coloring agent can be apply | coated on a board | substrate, and a desired pattern can be formed by the photolithographic method. It is preferable that the film thickness of the light shielding layer containing a metal thin film shall be 0.1 micrometer-0.2 micrometer normally. On the other hand, it is preferable that the film thickness of the light shielding film formed using the black radiation sensitive composition shall be around 1 micrometer.

또한, 차광층은 불필요해지는 경우도 있으며, 그 경우에는 차광층 형성의 공정은 생략할 수 있다.In addition, a light shielding layer may be unnecessary, and in that case, the process of forming a light shielding layer can be skipped.

다음으로, 상기한 기판 상에, 예를 들면 청색의 염료 또는 레이크 안료를 함유하는 네가티브형의 청색 감방사선성 조성물을 도포한다. 이어서, 프리베이킹을 행하여 용제를 증발시켜 도막을 형성한다.Next, the negative type blue radiation sensitive composition containing a blue dye or a lake pigment is apply | coated on the said board | substrate, for example. Next, prebaking is performed to evaporate the solvent to form a coating film.

착색 감방사선성 조성물을 기판에 도포할 때에는 스프레이법, 롤 코팅법, 회전 도포법(스핀 코팅법), 슬릿다이 도포법 또는 바 코팅법 등을 적절하게 선택할 수 있다. 균일한 막 두께의 도막이 얻어진다는 점에서는 스핀 코팅법 또는 슬릿다이 도포법을 채용하는 것이 바람직하다.When apply | coating colored radiation-sensitive composition to a board | substrate, the spray method, the roll coating method, the spin coating method (spin coating method), the slit die coating method, the bar coating method, etc. can be selected suitably. It is preferable to employ | adopt the spin coating method or the slit die coating method from the point which the coating film of uniform film thickness is obtained.

프리베이킹은 통상 감압 건조와 가열 건조를 조합하여 행해진다. 감압 건조는 통상 50 Pa 내지 200 Pa에 도달할 때까지 행한다. 또한, 가열 건조의 조건은 통상 핫 플레이트를 이용하여, 70 ℃ 내지 110 ℃의 온도하에서 1 분간 내지 10 분간 정도이다. 또한, 도포되는 도막의 두께는 건조 후의 막 두께로서 통상 0.6 ㎛ 내지 8 ㎛, 바람직하게는 1.2 ㎛ 내지 5 ㎛이다.Prebaking is normally performed combining pressure reduction drying and heat drying. Drying under reduced pressure is usually performed until it reaches 50 Pa-200 Pa. In addition, the conditions of heat drying are about 1 to 10 minutes at the temperature of 70 degreeC-110 degreeC normally using a hotplate. In addition, the thickness of the coating film apply | coated is 0.6 micrometer-8 micrometers normally as film thickness after drying, Preferably they are 1.2 micrometers-5 micrometers.

또한, 기판 상에 착색 감방사선성 조성물의 도막을 형성하는 다른 예로서, 일본 특허 공개 (평)7-318723호 공보, 일본 특허 공개 제2000-310706호 공보 등에 개시되어 있는 잉크젯 방식에 의한 방법도 들 수 있다. 이 방법에 있어서는, 우선 기판의 표면 상에 차광 기능도 겸비한 격벽을 형성한다. 이어서, 이 격벽 내에, 예를 들면 청색의 염료 또는 레이크 안료를 함유하는 착색 감방사선성 조성물을 잉크젯 장치에 의해 토출시킨다. 그 후, 프리베이킹을 행하여 용매를 증발시킨다. 프리베이킹의 방법이나 조건은 상기한 제1 예와 마찬가지이다.Moreover, as another example of forming the coating film of a coloring radiation sensitive composition on a board | substrate, the method by the inkjet system currently disclosed by Unexamined-Japanese-Patent No. 7-318723, Unexamined-Japanese-Patent No. 2000-310706, etc. is also Can be mentioned. In this method, the partition which also has a light shielding function is first formed on the surface of a board | substrate. Subsequently, a colored radiation-sensitive composition containing, for example, a blue dye or a lake pigment is discharged into the partition by an inkjet apparatus. Thereafter, prebaking is performed to evaporate the solvent. The method and conditions of the prebaking are the same as in the first example described above.

또한, 상술한 격벽은 차광 기능뿐만 아니라, 구획 내에 토출된 각 색의 착색 감방사선성 조성물이 혼색되지 않기 위한 기능도 하고 있다. 이 때문에, 상기한 제1 예에서 사용되는 차광층(블랙 매트릭스)에 비하여 막 두께가 두껍다. 격벽은 통상 흑색의 감방사선성 조성물을 이용하여 형성된다.In addition, the partition wall mentioned above functions not only the light shielding function but the color-sensitive radiation-sensitive composition of each color discharged in the division not to be mixed. For this reason, a film thickness is thick compared with the light shielding layer (black matrix) used by said 1st example. A partition is normally formed using a black radiation sensitive composition.

또한, 기판 상에 착색 감방사선성 조성물의 도막을 형성하는 추가적인 예로서, 일본 특허 공개 (평)9-5991호 공보 등에 개시되어 있는 드라이 필름법도 들 수 있다. 이 방법에 있어서는, 필름상의 지지체 상에, 예를 들면 청색의 염료 또는 레이크 안료를 함유하는 착색 감방사선성 조성물을 도포하고, 프리베이킹을 행하여 유기 용제를 증발시킴으로써, 지지체 상에 착색 감방사선성 조성물층이 형성된 드라이 필름을 제조한다. 그리고, 이 착색 감방사선성 조성물층이 형성된 지지체를, 라미네이터를 이용하여 컬러 필터 형성용 기판에 라미네이트한다. 그 후, 착색 감방사선성 조성물층을 지지체로부터 박리시킴으로써, 착색 감방사선성 조성물층을 기판에 전사시킨다. 지지체 상에 착색 감방사선성 조성물을 도포하는 방법이나, 프리베이킹의 방법 및 조건은 상기한 제1 예와 마찬가지이다.Moreover, the dry film method currently disclosed by Unexamined-Japanese-Patent No. 9-5991 etc. is mentioned as an additional example of forming the coating film of a colored radiation-sensitive composition on a board | substrate. In this method, a colored radiation-sensitive composition is formed on a support by applying a colored radiation-sensitive composition containing, for example, a blue dye or a lake pigment, onto the film-like support and prebaking to evaporate the organic solvent. A layered dry film is prepared. And the support body in which this colored radiation-sensitive composition layer was formed is laminated on the board | substrate for color filter formation using a laminator. Thereafter, the colored radiation-sensitive composition layer is transferred to the substrate by peeling the colored radiation-sensitive composition layer from the support. The method of apply | coating a coloring radiation sensitive composition on a support body, the method and conditions of prebaking are the same as that of the said 1st example.

(2) 노광 공정(2) exposure process

도막 형성 공정 후, 형성된 도막의 적어도 일부에, 통상 소정의 패턴을 갖는 포토마스크를 통해 노광한다. 본 발명은 이 때 이용하는 노광 방사선이 특정한 분광 특성을 나타내는 것을 특징으로 한다. 통상, 컬러 액정 표시용 컬러 필터를 제조할 때에 이용되는 초고압 수은등으로부터 조사되는 방사선은 도 1과 같은 분광 특성을 나타낸다. 도 1에 있어서, 436 nm의 피크가 g선, 405 nm의 피크가 h선, 365 nm의 피크가 i선인데, 초고압 수은등으로부터 방사되는 방사선은 통상 이들 이외에, 350 nm 미만에도 몇개의 피크를 갖는 심자외선을 포함하고 있다. 본 발명자들은 이러한 분광 특성을 나타내는 노광 방사선에 대하여 350 nm 미만의 광 강도를 감소시킴으로써, 염료 및 레이크 안료의 안정성이 증가하는 것을 발견하여 본 발명에 이르렀다.After a coating film formation process, at least one part of the formed coating film is exposed through the photomask which has a predetermined pattern normally. The present invention is characterized in that the exposure radiation used at this time exhibits specific spectral characteristics. Usually, the radiation irradiated from the ultrahigh pressure mercury lamp used when manufacturing the color filter for color liquid crystal display shows the spectral characteristics like FIG. In Fig. 1, the peak at 436 nm is g-line, the peak at 405 nm is h-line, and the peak at 365 nm is i-line. Radiation emitted from an ultra-high pressure mercury lamp usually has several peaks below 350 nm. Contains deep ultraviolet light. The present inventors have found that the stability of dyes and lake pigments is increased by reducing the light intensity below 350 nm for exposure radiation exhibiting these spectroscopic properties.

특정 방사선에 있어서, 350 nm 미만에서의 최대 강도는 350 nm 내지 450 nm에서의 최대 피크 강도의 50 % 이하이지만, 원하는 효과를 높이기 위해서는 45 % 이하인 것이 바람직하고, 30 % 이하인 것이 더욱 바람직하다.In specific radiation, although the maximum intensity below 350 nm is 50% or less of the maximum peak intensity in 350 nm-450 nm, in order to raise a desired effect, it is preferable that it is 45% or less, and it is more preferable that it is 30% or less.

특정 방사선은, 광원으로서 상기한 바와 같은 분광 특성을 나타내는 램프를 이용하여 얻을 수 있지만, 초고압 수은등으로부터 방사된 방사선에 자외선 차단 필터를 개재시켜 얻을 수도 있다. 자외선 차단 필터로는 350 nm 미만의 광 강도를 상기 조건까지 감소시킬 수 있으면 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 자외선 차단 필터 UV-35, UV-33, UV-31(도시바 가라스사 제조) 등을 들 수 있다.Although specific radiation can be obtained using the lamp which shows the above-mentioned spectral characteristics as a light source, it can also obtain through the ultraviolet-ray filter through the radiation radiated | emitted from an ultrahigh pressure mercury lamp. The ultraviolet blocking filter is not particularly limited as long as the light intensity of less than 350 nm can be reduced to the above conditions, but for example, the ultraviolet blocking filter UV-35, UV-33, UV-31 (manufactured by Toshiba Glass Co., Ltd.), etc. Can be.

특정 방사선의 노광량은 통상 10 내지 10,000 J/㎡이지만, 원하는 효과를 높이기 위해서는 50 내지 5,000 J/㎡인 것이 바람직하고, 100 내지 2,000 J/㎡인 것이 더욱 바람직하다.Although the exposure amount of specific radiation is 10-100,000 J / m <2> normally, in order to raise a desired effect, it is preferable that it is 50-5,000 J / m <2>, and it is more preferable that it is 100-2,000 J / m <2>.

상기 노광 공정 후, 필요에 따라 (3) 노광 후의 도막을 현상하는 공정(이하, "현상 공정"이라고도 함) 및/또는 (4) 도막을 포스트 베이킹하는 공정이 행해진다.After the exposure process, a process (hereinafter, also referred to as a "development process") of developing the coating film after exposure (3) and / or (4) the process of post-baking the coating film is performed as needed.

(3) 현상 공정(3) developing process

노광 공정 후 현상액으로 현상함으로써, 도막의 미노광부를 용해 제거한다. 현상액으로는 알칼리 현상액이 바람직하고, 예를 들면 탄산나트륨, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 테트라메틸암모늄히드록시드, 콜린, 1,8-디아자비시클로-[5.4.0]-7-운데센, 1,5-디아자비시클로-[4.3.0]-5-노넨 등의 수용액이 이용된다. 알칼리 현상액에는, 예를 들면 메탄올, 에탄올 등의 수용성 유기 용제나, 계면활성제 등을 적량 첨가할 수도 있다. 또한, 알칼리 현상 처리 후에는 통상 수세를 행한다.By developing with a developing solution after the exposure step, the unexposed part of the coating film is dissolved and removed. As the developer, an alkaline developer is preferable, and for example, sodium carbonate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, tetramethylammonium hydroxide, choline, 1,8-diazabicyclo- [5.4.0] -7-undecene, 1, Aqueous solutions, such as 5-diazabicyclo- [4.3.0] -5-nonene, are used. A suitable amount of water-soluble organic solvents, such as methanol and ethanol, surfactant, etc. can also be added to alkaline developing solution. In addition, after an alkali image development process, water washing is normally performed.

현상 처리법으로는, 예를 들면 샤워 현상법, 스프레이 현상법, 딥(침지) 현상법 또는 퍼들(액고임) 현상법 등을 적용할 수 있다. 현상 조건은, 예를 들면 상온에서 5 초간 내지 300 초간으로 할 수 있다.As the developing treatment method, for example, a shower developing method, a spray developing method, a dip (immersion) developing method, a puddle (liquid buildup) developing method, or the like can be applied. The developing conditions can be, for example, 5 seconds to 300 seconds at room temperature.

또한, 상기 잉크젯 방식에 의해 착색 감방사선성 조성물의 도막을 형성한 경우, 현상 공정은 불필요하여 생략된다.In addition, when the coating film of a colored radiation-sensitive composition is formed by the said inkjet system, the image development process is unnecessary and is abbreviate | omitted.

(4) 도막을 포스트 베이킹하는 공정(4) post-baking the coating film

현상 공정 후, 또는 상기 잉크젯 방식에 의해 도막을 형성하고 노광 공정을 거친 후, 패터닝된 도막을 포스트 베이킹하는 것이 경화성을 높이는 점에서 바람직하다. 포스트 베이킹의 조건은 온풍 가열로를 이용한 경우, 예를 들면 150 ℃ 내지 250 ℃에서 20 분간 내지 40 분간 정도로 할 수 있다.After the development process or after forming a coating film by the said inkjet method and passing through an exposure process, post-baking a patterned coating film is preferable at the point which improves sclerosis | hardenability. The conditions of post-baking can be made into about 20 to 40 minutes at 150 degreeC-250 degreeC, for example, when using a warm air heating furnace.

이와 같이 하여 청색의 염료 또는 레이크 안료를 함유하는, 청색의 화소 패턴이 소정의 배열로 배치된 화소 어레이를 형성할 수 있다. 다음으로, 네가티브형의 녹색 감방사선성 조성물을 이용하여 상기 공정을 반복함으로써 녹색의 화소 패턴을 동일한 기판 상에 형성하고, 추가로 네가티브형의 적색 감방사선성 조성물을 이용하여 상기 공정을 반복함으로써 적색의 화소 패턴을 동일한 기판 상에 형성함으로써, 적색, 녹색 및 청색의 3원색의 화소 패턴이 소정의 배열로 배치된 화소 어레이를 기판 상에 형성할 수 있다. 단, 본 실시 형태에 있어서는, 각 색의 화소 패턴을 기판 상에 형성하는 순서는 상술한 예로 한정되지 않는다. 각 색의 형성순서는 적절하게 변경하는 것이 가능하다.In this way, a pixel array in which blue pixel patterns containing blue dyes or lake pigments are arranged in a predetermined arrangement can be formed. Next, a green pixel pattern is formed on the same substrate by repeating the above process using a negative green radiation-sensitive composition, and further, by repeating the above process using a negative red radiation-sensitive composition, red By forming a pixel pattern of on the same substrate, a pixel array in which three primary color pixel patterns of red, green, and blue are arranged in a predetermined arrangement can be formed on the substrate. However, in this embodiment, the order of forming the pixel pattern of each color on a board | substrate is not limited to the example mentioned above. The formation order of each color can be changed suitably.

이상과 같이 하여 형성된 화소 패턴의 막 두께는 통상 0.5 ㎛ 내지 5 ㎛, 바람직하게는 1.0 ㎛ 내지 3 ㎛이다.The film thickness of the pixel pattern formed as mentioned above is 0.5 micrometer-5 micrometers normally, Preferably they are 1.0 micrometer-3 micrometers.

또한, 본 발명에서 컬러 필터를 구성하는 화소 패턴은 적색, 녹색 및 청색으로 한정되는 것은 아니고, 황색, 마젠타색 및 시안색을 3원색으로 하는 화소 패턴일 수도 있다. 또한, 3원색의 화소에 대응하는 착색 패턴에 추가로, 제4나 제5의 착색 패턴을 형성할 수도 있다. 예를 들면, 일본 특허 공표 제2005-523465호 공보 등에 개시되어 있는 바와 같이 적색, 녹색 및 청색의 3원색의 화소에 대응하는 착색 패턴에 추가로, 표색 범위를 넓히기 위한 제4 화소(황색 화소)나 제5 화소(시안 화소)를 배치할 수 있다.In the present invention, the pixel pattern constituting the color filter is not limited to red, green, and blue, and may be a pixel pattern having three primary colors of yellow, magenta, and cyan. In addition to the coloring pattern corresponding to the pixel of the three primary colors, the fourth or fifth coloring pattern may be formed. For example, as disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 2005-523465 or the like, a fourth pixel (yellow pixel) for widening the color gamut in addition to the coloring pattern corresponding to the pixels of the three primary colors of red, green, and blue. The fifth pixel (cyan pixel) can be disposed.

이와 같이 하여 형성된 화소 패턴 상에 추가로 보호막을 설치함으로써, 표시 소자의 표시 특성을 높일 수 있다. 보호막으로는 경화성 조성물로부터 형성되는 유기막 또는 유기 무기 하이브리드막, 또는 SiNx막 및 SiOx막 등의 무기막을 들 수 있다. 본 실시 형태에 있어서는, 경화성 조성물을 이용하여 보호막을 형성하는 것이 바람직하다.By providing a protective film further on the pixel pattern formed in this way, the display characteristic of a display element can be improved. As a protective film, the organic film or organic-inorganic hybrid film formed from curable composition, or inorganic films, such as a SiNx film and a SiOx film, are mentioned. In this embodiment, it is preferable to form a protective film using a curable composition.

경화성 수지 조성물을 이용하여 보호막을 형성하는 방법으로는, 예를 들면 일본 특허 공개 (평)4-53879호 공보 또는 일본 특허 공개 (평)6-192389호 공보 등에 개시되어 있는 방법을 채용할 수 있다.As a method of forming a protective film using curable resin composition, the method disclosed by Unexamined-Japanese-Patent No. 4-53879, Unexamined-Japanese-Patent No. 6-192389, etc. can be employ | adopted, for example. .

보호막의 형성에 이용되는 경화성 수지 조성물로는, 예를 들면 일본 특허 공개 (평)3-188153호 공보 또는 일본 특허 공개 (평)4-53879호 공보 등에 개시되어 있는 열경화성 수지 조성물, 일본 특허 공개 (평)6-192389호 공보 또는 일본 특허 공개 (평)8-183819호 공보 등에 개시되어 있는 감방사선성 수지 조성물, 일본 특허 공개 제2006-195420호 공보 또는 일본 특허 공개 제2008-208342호 공보 등에 개시되어 있는 폴리오르가노실록산을 함유하는 경화성 조성물 등을 들 수 있다.As curable resin composition used for formation of a protective film, the thermosetting resin composition disclosed by Unexamined-Japanese-Patent No. 3-188153, Unexamined-Japanese-Patent No. 4-53879, etc. Disclosed in the radiation-sensitive resin composition disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-192389 or Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 8-183819, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-195420 or Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-208342 The curable composition containing the polyorganosiloxane which has become is mentioned.

본 발명의 화소 패턴의 형성 방법에 따르면, 염료나 레이크 안료의 우수한 색도 특성이 소실되지 않고 발휘되는, 즉 노광 전후에서의 색차(ΔE*ab)가 작은 화소 패턴이 얻어진다. 따라서, 본 발명의 화소 패턴의 형성 방법을 이용함으로써, 색도 특성이 우수한 컬러 필터를 얻는 것이 가능해진다. 본 발명의 화소 패턴의 형성 방법은, 예를 들면 컬러 액정 표시 소자용 컬러 필터, 고체 촬상 소자의 색 분해용 컬러 필터, 유기 EL 표시 소자용 컬러 필터, 전자페이퍼용 컬러 필터를 비롯한 각종 컬러 필터의 제조에 바람직하고, 특히 대형 기판을 이용하는 컬러 액정 표시 소자용 컬러 필터의 제조에 바람직하다.According to the method for forming a pixel pattern of the present invention, a pixel pattern is obtained in which the excellent chromaticity characteristics of the dye and the lake pigment are not lost, that is, the color difference ΔE * ab before and after exposure is small. Therefore, it becomes possible to obtain the color filter excellent in chromaticity characteristic by using the formation method of the pixel pattern of this invention. The method of forming the pixel pattern of the present invention includes various color filters including color filters for color liquid crystal display elements, color filters for color separation of solid-state imaging elements, color filters for organic EL display elements, and color filters for electronic paper. It is preferable for manufacture, and it is especially suitable for manufacture of the color filter for color liquid crystal display elements using a large substrate.

다음으로, 본 발명의 화소 패턴의 형성 방법에 있어서 이용되는 착색 감방사선성 조성물에 대해서 설명한다. 상기 착색 감방사선성 조성물은, 염료 및 레이크 안료로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 포함하는 착색제, 결합제 수지, 가교제 및 광중합 개시제를 적어도 함유한다. 착색 감방사선성 조성물은, 통상 용매를 배합하여 액상 조성물로 하여 사용된다.Next, the coloring radiation sensitive composition used in the formation method of the pixel pattern of this invention is demonstrated. The colored radiation-sensitive composition contains at least one colorant, a binder resin, a crosslinking agent and a photopolymerization initiator containing at least one selected from the group consisting of dyes and lake pigments. A colored radiation-sensitive composition is mix | blended with a solvent normally and is used as a liquid composition.

이하, 각 성분에 대해서 설명한다.Hereinafter, each component is demonstrated.

본 발명의 화소 패턴의 형성 방법에 있어서 이용되는 착색 감방사선성 조성물은, 착색제로서 염료 및 레이크 안료로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 함유한다. 염료로는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들면 아조계 염료, 안트라퀴논계 염료, 크산텐계 염료, 트리아릴메탄계 염료, 프탈로시아닌계 염료, 퀴논이민계 염료, 퀴놀린계 염료, 니트로계 염료, 메틴계 염료 등을 들 수 있다. 구체적으로는, 하기와 같은 컬러 인덱스(C.I.)명이 붙여져 있는 것을 들 수 있다.The colored radiation-sensitive composition used in the method of forming a pixel pattern of the present invention contains at least one selected from the group consisting of dyes and lake pigments as colorants. Although it does not specifically limit as dye, For example, azo dye, anthraquinone dye, xanthene dye, triaryl methane dye, phthalocyanine dye, quinone imine dye, quinoline dye, nitro dye, methine type Dyes; and the like. Specifically, what is attached to the following color index (C.I.) names is mentioned.

C.I. 애시드 옐로우 11, C.I. 애시드 오렌지 7, C.I. 애시드 레드 37, C.I. 애시드 레드 180, C.I. 애시드 블루 29, C.I. 솔벤트 레드 89, C.I. 다이렉트 레드 28, C.I. 다이렉트 레드 83, C.I. 다이렉트 옐로우 12, C.I. 다이렉트 오렌지 26, C.I. 다이렉트 그린 28, C.I. 다이렉트 그린 59, C.I. 리액티브 옐로우 2, C.I. 리액티브 레드 17, C.I. 리액티브 레드 120, C.I. 디스퍼스 오렌지 5, C.I. 디스퍼스 레드 58, C.I. 디스퍼스 블루 165, C.I. 베이직 블루 41, C.I. 베이직 레드 18, C.I. 몰단트(mordant) 레드 7, C.I. 몰단트 옐로우 5 등의 아조계 염료; C.I. Acid yellow 11, C.I. Acid orange 7, C.I. Acid red 37, C.I. Acid red 180, C.I. Acid blue 29, C.I. Solvent Red 89, C.I. Direct Red 28, C.I. Direct Red 83, C.I. Direct Yellow 12, C.I. Direct Orange 26, C.I. Direct Green 28, C.I. Direct Green 59, C.I. Reactive Yellow 2, C.I. Reactive red 17, C.I. Reactive Red 120, C.I. Disperse Orange 5, C.I. Disperse Red 58, C.I. Disperse Blue 165, C.I. Basic Blue 41, C.I. Basic Red 18, C.I. Mordant red 7, C.I. Azo dyes, such as maltant yellow 5;

C.I. 배트 블루 4, C.I. 애시드 블루 40, C.I. 애시드 그린 25, C.I. 리액티브 블루 19, C.I. 리액티브 블루 49, C.I. 디스퍼스 레드 60, C.I. 디스퍼스 블루 56, C.I. 디스퍼스 블루 60 등의 안트라퀴논계 염료; C.I. Bat Blue 4, C.I. Acid blue 40, C.I. Acid Green 25, C.I. Reactive Blue 19, C.I. Reactive Blue 49, C.I. Disperse Red 60, C.I. Disperse Blue 56, C.I. Anthraquinone dyes such as Disperse Blue 60;

C.I. 베이직 레드 1, C.I. 베이직 레드 1:1, C.I. 베이직 바이올렛 10, C.I. 솔벤트 레드 49 등의 크산텐계 염료; C.I. Basic Red 1, C.I. Basic Red 1: 1, C.I. Basic Violet 10, C.I. Xanthene dyes such as solvent red 49;

C.I. 베이직 블루 7, C.I. 베이직 블루 11 등의 트리아릴메탄계 염료; C.I. Basic Blue 7, C.I. Triarylmethane dyes such as basic blue 11;

C.I. 패드 블루 5 등의 프탈로시아닌계 염료; C.I. Phthalocyanine-based dyes such as pad blue 5;

C.I. 베이직 블루 3, C.I. 베이직 블루 9 등의 퀴논이민계 염료; C.I. Basic Blue 3, C.I. Quinone imine dyes such as basic blue 9;

C.I. 솔벤트 옐로우 33, C.I. 애시드 옐로우 3, C.I. 디스퍼스 옐로우 64 등의 퀴놀린계 염료; C.I. Solvent Yellow 33, C.I. Acid yellow 3, C.I. Quinoline dyes such as Disperse Yellow 64;

C.I. 애시드 옐로우 1, C.I. 애시드 오렌지 3, C.I. 디스퍼스 옐로우 42 등의 니트로계 염료; C.I. Acid yellow 1, C.I. Acid orange 3, C.I. Nitro dyes such as Disperse Yellow 42;

C.I. 솔벤트 옐로우 179 등의 메틴계 염료. C.I. Methine-based dyes such as solvent yellow 179.

그 밖에 일본 특허 공개 제2010-168531호 공보의 청구항 3 또는 청구항 4, 일본 특허 공개 제2010-170073호 공보, 일본 특허 공개 제2010-170074호 공보, 일본 특허 공개 제2010-275531호 공보, 일본 특허 공개 제2010-275533호 공보 등에 기재된 아조계 염료, 일본 특허 공표 2007-503477호 공보의 청구항 14, 국제 공개 제10/123071호 공보 등에 기재된 트리아릴메탄계 염료, 일본 특허 공표 2007-503477호 공보의 청구항 3, 일본 특허 공개 제2010-244027호 공보, 일본 특허 공개 제2010-254964호 공보 등에 기재된 크산텐계 염료 등을 들 수 있다.In addition, claim 3 or claim 4 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2010-168531, Unexamined-Japanese-Patent No. 2010-170073, Unexamined-Japanese-Patent No. 2010-170074, Unexamined-Japanese-Patent No. 2010-275531, Japan Patent Azo dyes disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2010-275533, triaryl methane dyes described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 14-503477, and Japanese Patent Publication No. 2007-503477 Xanthene type dye etc. which were described in Claim 3, Unexamined-Japanese-Patent No. 2010-244027, Unexamined-Japanese-Patent No. 2010-254964, etc. are mentioned.

이들 염료 중 아조계 염료, 트리아릴메탄계 염료, 크산텐계 염료, 메틴계 염료가, 본 발명의 화소 패턴의 형성 방법에 있어서 특히 우수한 효과가 얻어진다는 점에서 바람직하다.Of these dyes, azo dyes, triarylmethane dyes, xanthene dyes, and methine dyes are preferable in that the effect that is particularly excellent in the method of forming the pixel pattern of the present invention is obtained.

본 발명에서 염료는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.In this invention, dye can be used individually or in mixture of 2 or more types.

또한, 레이크 안료란 가용성인 염료를 침전제에 의해 불용성의 안료로 한 것이다. 침전제로는, 예를 들면 염화바륨, 염화칼슘, 황산암모늄, 염화알루미늄, 아세트산알루미늄, 아세트산납, 탄닌산, 카타놀, 타몰, 이소폴리산, 헤테로폴리산(예를 들면, 포스포텅스텐산, 포스포몰리브덴산, 포스포텅스텐?몰리브덴산, 실리코텅스텐몰리브덴산, 실리코텅스텐산, 실리코몰리브덴산) 등을 들 수 있다. 이들 중에서 침전제로는 이소폴리산, 헤테로폴리산이 바람직하다.In addition, a rake pigment is what makes soluble dye the insoluble pigment by the precipitant. As the precipitating agent, for example, barium chloride, calcium chloride, ammonium sulfate, aluminum chloride, aluminum acetate, lead acetate, tannic acid, catanol, tamole, isopoly acid, heteropoly acid (e.g., phosphotungstic acid, phosphomolybdic acid , Phosphotungsten molybdate, silico tungsten molybdate, silico tungstic acid, silicomolybdic acid) and the like. Among these, isopoly acid and heteropoly acid are preferable as a precipitating agent.

이러한 레이크 안료로는 하기와 같은 컬러 인덱스(C.I.)명이 붙여져 있는 것을 들 수 있다.Examples of such lake pigments include those having the following color index (C.I.) names.

C.I. 피그먼트 블루 1, C.I. 피그먼트 블루 2, C.I. 피그먼트 블루 3, C.I. 피그먼트 블루 9, C.I. 피그먼트 블루 10, C.I. 피그먼트 블루 14, C.I. 피그먼트 블루 17:1, C.I. 피그먼트 블루 24, C.I. 피그먼트 블루 24:1, C.I. 피그먼트 블루 56, C.I. 피그먼트 블루 61, C.I. 피그먼트 블루 62, C.I. Pigment Blue 1, C.I. Pigment Blue 2, C.I. Pigment Blue 3, C.I. Pigment Blue 9, C.I. Pigment Blue 10, C.I. Pigment Blue 14, C.I. Pigment Blue 17: 1, C.I. Pigment Blue 24, C.I. Pigment Blue 24: 1, C.I. Pigment Blue 56, C.I. Pigment Blue 61, C.I. Pigment blue 62,

C.I. 피그먼트 바이올렛 1, C.I. 피그먼트 바이올렛 2, C.I. 피그먼트 바이올렛 3, C.I. 피그먼트 바이올렛 3:1, C.I. 피그먼트 바이올렛 3:3, C.I. 피그먼트 바이올렛 27, C.I. 피그먼트 바이올렛 39, C.I. Pigment Violet 1, C.I. Pigment violet 2, C.I. Pigment violet 3, C.I. Pigment violet 3: 1, C.I. Pigment violet 3: 3, C.I. Pigment Violet 27, C.I. Pigment violet 39,

C.I. 피그먼트 그린 1, C.I. 피그먼트 그린 4, C.I. Pigment Green 1, C.I. Pigment green 4,

C.I. 피그먼트 레드 48:1, C.I. 피그먼트 레드 48:2, C.I. 피그먼트 레드 48:3, C.I. 피그먼트 레드 48:4, C.I. 피그먼트 레드 48:5, C.I. 피그먼트 레드 49, C.I. 피그먼트 레드 49:1, C.I. 피그먼트 레드 49:2, C.I. 피그먼트 레드 49:3, C.I. 피그먼트 레드 52:1, C.I. 피그먼트 레드 52:2, C.I. 피그먼트 레드 53:1, C.I. 피그먼트 레드 54, C.I. 피그먼트 레드 57:1, C.I. 피그먼트 레드 58, C.I. 피그먼트 레드 58:1, C.I. 피그먼트 레드 58:2, C.I. 피그먼트 레드 58:3, C.I. 피그먼트 레드 58:4, C.I. 피그먼트 레드 60:1, C.I. 피그먼트 레드 63, C.I. 피그먼트 레드 63:1, C.I. 피그먼트 레드 63:2, C.I. 피그먼트 레드 63:3, C.I. 피그먼트 레드 64:1, C.I. 피그먼트 레드 68, C.I. 피그먼트 레드 81, C.I. 피그먼트 레드 81:1, C.I. 피그먼트 레드 200, C.I. 피그먼트 레드 237, C.I. 피그먼트 레드 239, C.I. 피그먼트 레드 247, C.I. Pigment Red 48: 1, C.I. Pigment Red 48: 2, C.I. Pigment Red 48: 3, C.I. Pigment Red 48: 4, C.I. Pigment Red 48: 5, C.I. Pigment Red 49, C.I. Pigment Red 49: 1, C.I. Pigment Red 49: 2, C.I. Pigment Red 49: 3, C.I. Pigment Red 52: 1, C.I. Pigment Red 52: 2, C.I. Pigment Red 53: 1, C.I. Pigment Red 54, C.I. Pigment Red 57: 1, C.I. Pigment Red 58, C.I. Pigment Red 58: 1, C.I. Pigment Red 58: 2, C.I. Pigment Red 58: 3, C.I. Pigment Red 58: 4, C.I. Pigment Red 60: 1, C.I. Pigment Red 63, C.I. Pigment Red 63: 1, C.I. Pigment Red 63: 2, C.I. Pigment Red 63: 3, C.I. Pigment Red 64: 1, C.I. Pigment Red 68, C.I. Pigment Red 81, C.I. Pigment Red 81: 1, C.I. Pigment Red 200, C.I. Pigment Red 237, C.I. Pigment Red 239, C.I. Pigment Red 247,

C.I. 피그먼트 옐로우 61, C.I. 피그먼트 옐로우 61:1, C.I. 피그먼트 옐로우 62, C.I. 피그먼트 옐로우 100, C.I. 피그먼트 옐로우 104, C.I. 피그먼트 옐로우 133, C.I. 피그먼트 옐로우 168, C.I. 피그먼트 옐로우 169, C.I. 피그먼트 옐로우 183, C.I. 피그먼트 옐로우 191, C.I. 피그먼트 옐로우 191:1, C.I. 피그먼트 옐로우 206, C.I. 피그먼트 옐로우 209, C.I. 피그먼트 옐로우 209:1 및 C.I. 피그먼트 옐로우 212. C.I. Pigment Yellow 61, C.I. Pigment Yellow 61: 1, C.I. Pigment Yellow 62, C.I. Pigment Yellow 100, C.I. Pigment Yellow 104, C.I. Pigment Yellow 133, C.I. Pigment Yellow 168, C.I. Pigment Yellow 169, C.I. Pigment Yellow 183, C.I. Pigment Yellow 191, C.I. Pigment Yellow 191: 1, C.I. Pigment Yellow 206, C.I. Pigment Yellow 209, C.I. Pigment Yellow 209: 1 and C.I. Pigment Yellow 212.

이들 레이크 안료 중, C.I. 피그먼트 블루 1, C.I. 피그먼트 블루 2, C.I. 피그먼트 블루 3, C.I. 피그먼트 블루 9, C.I. 피그먼트 블루 10, C.I. 피그먼트 블루 14, C.I. 피그먼트 블루 62, C.I. 피그먼트 바이올렛 1, C.I. 피그먼트 바이올렛 2, C.I. 피그먼트 바이올렛 3, C.I. 피그먼트 바이올렛 27, C.I. 피그먼트 바이올렛 39 등의 트리아릴메탄계 레이크 안료가, 본 발명의 화소 패턴의 형성 방법에 있어서 특히 우수한 효과가 얻어진다는 점에서 바람직하다. 이소폴리산 또는 헤테로폴리산을 침전제로 하는 트리아릴메탄계 레이크 안료는, 예를 들면 일본 특허 공개 제2011-150195호 공보, 일본 특허 공개 제2011-186043호 공보 등에도 개시되어 있다.Among these lake pigments, C.I. Pigment Blue 1, C.I. Pigment Blue 2, C.I. Pigment Blue 3, C.I. Pigment Blue 9, C.I. Pigment Blue 10, C.I. Pigment Blue 14, C.I. Pigment Blue 62, C.I. Pigment Violet 1, C.I. Pigment violet 2, C.I. Pigment violet 3, C.I. Pigment Violet 27, C.I. Triarylmethane type lake pigments, such as pigment violet 39, are preferable at the point which the especially excellent effect is acquired in the formation method of the pixel pattern of this invention. Triaryl methane lake pigments having isopoly acid or heteropoly acid as a precipitating agent are disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2011-150195, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2011-186043, and the like.

본 발명에서 레이크 안료는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.Lake pigments in the present invention can be used alone or in combination of two or more.

본 발명에서는 착색제로서 상기 염료 및 레이크 안료와 함께 다른 착색제를 사용할 수도 있다. 다른 착색제로는 특별히 한정되는 것은 아니고, 컬러 필터의 용도에 따라 색채나 재질을 적절하게 선택할 수 있다. 구체적으로는, 유기 안료, 무기 안료 및 천연 색소가 모두 착색제로서 사용될 수 있지만, 높은 색순도, 휘도 및 콘트라스트가 요구되기 때문에, 유기 안료가 바람직하게 사용된다.In the present invention, other colorants may be used together with the dye and the lake pigment as the colorant. It does not specifically limit as another coloring agent, A color and a material can be selected suitably according to the use of a color filter. Specifically, organic pigments, inorganic pigments and natural pigments can all be used as colorants, but organic pigments are preferably used because high color purity, brightness and contrast are required.

유기 안료의 바람직한 구체예로는, 컬러 인덱스(C.I.)명으로, C.I. 피그먼트 레드 166, C.I. 피그먼트 레드 177, C.I. 피그먼트 레드 224, C.I. 피그먼트 레드 242, C.I. 피그먼트 레드 254, C.I. 피그먼트 그린 7, C.I. 피그먼트 그린 36, C.I. 피그먼트 그린 58, C.I. 피그먼트 블루 1, C.I. 피그먼트 블루 15:6, C.I. 피그먼트 블루 80, C.I. 피그먼트 옐로우 83, C.I. 피그먼트 옐로우 138, C.I. 피그먼트 옐로우 139, C.I. 피그먼트 옐로우 150, C.I. 피그먼트 옐로우 180, C.I. 피그먼트 옐로우 211, C.I. 피그먼트 오렌지 38, C.I. 피그먼트 바이올렛 23 등을 들 수 있다. As a specific example of the organic pigment, the color index (C.I.) name, C.I. Pigment Red 166, C.I. Pigment Red 177, C.I. Pigment Red 224, C.I. Pigment Red 242, C.I. Pigment Red 254, C.I. Pigment Green 7, C.I. Pigment Green 36, C.I. Pigment Green 58, C.I. Pigment Blue 1, C.I. Pigment Blue 15: 6, C.I. Pigment Blue 80, C.I. Pigment Yellow 83, C.I. Pigment Yellow 138, C.I. Pigment Yellow 139, C.I. Pigment Yellow 150, C.I. Pigment Yellow 180, C.I. Pigment Yellow 211, C.I. Pigment Orange 38, C.I. Pigment violet 23, and the like.

착색제의 함유 비율은 휘도가 높고 색순도가 우수한 화소를 형성한다는 점에서, 통상 착색 감방사선성 조성물의 고형분 중에 5 내지 70 질량%, 바람직하게는 5 내지 60 질량%이다. 여기서 말하는 고형분이란, 후술하는 용매 이외의 성분이다.Since the content rate of a coloring agent forms the pixel which is high in luminance and excellent in color purity, it is 5-70 mass% normally in solid content of a colored radiation-sensitive composition, Preferably it is 5-60 mass%. Solid content here is components other than the solvent mentioned later.

또한, 염료 및 레이크 안료로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 합계 함유 비율은 전체 착색제 중에 바람직하게는 5 질량% 이상, 특히 바람직하게는 10 질량% 이상이다.In addition, the sum total content ratio of at least 1 sort (s) chosen from the group which consists of a dye and a lake pigment becomes like this. Preferably it is 5 mass% or more, Especially preferably, it is 10 mass% or more in all the coloring agents.

착색 감방사선성 조성물에 있어서의 결합제 수지로는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 산성 관능기를 갖는 중합체를 함유하는 것이 바람직하다. 산성 관능기로는, 예를 들면 카르복실기, 페놀성 수산기, 이미드산기, 술포기, 술피노기 또는 술페노기 등을 들 수 있다. 이들 중 카르복실기가 바람직하게 이용된다.Although it does not specifically limit as binder resin in colored radiation-sensitive composition, It is preferable to contain the polymer which has an acidic functional group. As an acidic functional group, a carboxyl group, a phenolic hydroxyl group, an imid acid group, a sulfo group, a sulfino group, or a sulfeno group etc. are mentioned, for example. Of these, carboxyl groups are preferably used.

카르복실기를 갖는 중합체로는, 예를 들면 일본 특허 공개 (평)5-19467호 공보, 일본 특허 공개 (평)6-230212호 공보, 일본 특허 공개 (평)7-140654호 공보, 일본 특허 공개 (평)7-207211호 공보, 일본 특허 공개 (평)8-259876호 공보, 일본 특허 공개 (평)09-325494호 공보, 일본 특허 공개 (평)10-31308호 공보, 일본 특허 공개 (평)10-300922호 공보, 일본 특허 공개 (평)11-140144호 공보, 일본 특허 공개 (평)11-174224호 공보, 일본 특허 공개 (평)11-231523호 공보, 일본 특허 공개 (평)11-258415호 공보, 일본 특허 공개 제2000-56118호 공보, 일본 특허 공개 제2002-296778호 공보, 일본 특허 공개 제2004-101728호 공보 및 일본 특허 공개 제2008-181095호 공보 등에 개시되어 있는 중합체를 들 수 있다.As a polymer which has a carboxyl group, For example, Unexamined-Japanese-Patent No. 5-19467, Unexamined-Japanese-Patent No. 6-230212, Unexamined-Japanese-Patent No. 7-140654, Japanese Patent Laid-Open ( Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 7-207211, Japanese Patent Laid-Open No. 8-259876, Japanese Patent Laid-Open No. 09-325494, Japanese Patent Laid-Open No. 10-31308, Japanese Patent Laid-Open Japanese Patent Laid-Open No. 10-300922, Japanese Patent Laid-Open No. 11-140144 Japanese Patent Laid-Open No. 11-174224 Japanese Patent Laid-Open No. 11-231523 Japanese Patent Laid-Open Polymers disclosed in 258415, Japanese Patent Laid-Open No. 2000-56118, Japanese Patent Laid-Open No. 2002-296778, Japanese Patent Laid-Open No. 2004-101728, and Japanese Patent Laid-Open No. 2008-181095. Can be.

결합제 수지의 산가는 바람직하게는 10 내지 200 KOH/mg, 보다 바람직하게는 30 내지 270 KOH/mg, 더욱 바람직하게는 50 내지 250 KOH/mg이다. 여기서 "산가"란, 결합제 수지의 고형분 1 g을 중화시키는 데에 필요한 KOH의 mg수를 나타낸다. 본 발명에서 결합제 수지는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.The acid value of the binder resin is preferably 10 to 200 KOH / mg, more preferably 30 to 270 KOH / mg, still more preferably 50 to 250 KOH / mg. The "acid value" herein refers to the number of mg of KOH necessary to neutralize 1 g of the solid content of the binder resin. In this invention, binder resin can be used individually or in mixture of 2 or more types.

착색 감방사선성 조성물에 있어서의 가교제는, 2개 이상의 중합 가능한 기를 갖는 화합물이면 특별히 한정되는 것은 아니다. 중합 가능한 기로는, 예를 들면 에틸렌성 불포화기, 옥시라닐기, 옥세타닐기 또는 N-알콕시메틸아미노기 등을 들 수 있다.The crosslinking agent in the colored radiation-sensitive composition is not particularly limited as long as it is a compound having two or more polymerizable groups. As a group which can superpose | polymerize, an ethylenically unsaturated group, an oxiranyl group, an oxetanyl group, or an N-alkoxy methylamino group etc. are mentioned, for example.

본 발명에서 가교제로는 2개 이상의 (메트)아크릴로일기를 갖는 화합물, 또는 2개 이상의 N-알콕시메틸아미노기를 갖는 화합물이 바람직하게 이용된다.As the crosslinking agent in the present invention, a compound having two or more (meth) acryloyl groups or a compound having two or more N-alkoxymethylamino groups is preferably used.

특히 바람직한 가교제로는, 예를 들면 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트와 무수 숙신산을 반응시켜 얻어지는 화합물, 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트와 무수 숙신산을 반응시켜 얻어지는 화합물, 일본 특허 공개 (평)11-44955호 공보의 단락〔0015〕내지 단락〔0018〕에 기재되어 있는 카프로락톤 변성된 다관능 (메트)아크릴레이트, N,N,N',N',N",N"-헥사(알콕시메틸)멜라민 또는 N,N,N',N'-테트라(알콕시메틸)벤조구아나민 등을 들 수 있다.As a particularly preferable crosslinking agent, for example, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, pentaerythritol triacrylate and succinic anhydride are reacted. Compound obtained by reacting dipentaerythritol pentaacrylate with succinic anhydride, and caprolactone modified in paragraphs [0015] to [0018] of JP-A-11-44955 Functional (meth) acrylate, N, N, N ', N', N ", N" -hexa (alkoxymethyl) melamine or N, N, N ', N'-tetra (alkoxymethyl) benzoguanamine Can be mentioned.

본 발명에서 가교제는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.In this invention, a crosslinking agent can be used individually or in mixture of 2 or more types.

착색 감방사선성 조성물에 있어서의 광중합 개시제는 특정 방사선의 노광에 의해, 상술한 가교제의 경화 반응을 개시시킬 수 있는 활성종을 발생할 수 있는 화합물이다.The photoinitiator in a colored radiation-sensitive composition is a compound which can generate | occur | produce the active species which can start the hardening reaction of the crosslinking agent mentioned above by exposure of specific radiation.

바람직한 광중합 개시제로는, 예를 들면 티오크산톤계 화합물, 아세토페논계 화합물, 비이미다졸계 화합물, 트리아진계 화합물, O-아실옥심계 화합물, 오늄염계 화합물, 벤조인계 화합물, 벤조페논계 화합물, α-디케톤계 화합물, 다핵 퀴논계 화합물, 디아조계 화합물 또는 이미드술포네이트계 화합물 등을 들 수 있다.As a preferable photoinitiator, a thioxanthone type compound, an acetophenone type compound, a biimidazole type compound, a triazine type compound, O-acyl oxime type compound, an onium salt type compound, a benzoin type compound, a benzophenone type compound, α-diketone compounds, polynuclear quinone compounds, diazo compounds or imidesulfonate compounds.

본 발명에서 광중합 개시제는 공지된 증감제나 수소 공여체와 병용할 수 있다. 또한, 광중합 개시제는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.In this invention, a photoinitiator can be used together with a well-known sensitizer and a hydrogen donor. In addition, a photoinitiator can be used individually or in mixture of 2 or more types.

착색 감방사선성 조성물에 있어서의 용매는 착색 감방사선성 조성물을 구성하는 각 성분을 분산 또는 용해시키고, 또한 이들 성분과 반응하지 않으며, 적당한 휘발성을 갖는 것인 한 적절히 선택하여 사용할 수 있다.The solvent in the colored radiation-sensitive composition can be appropriately selected and used as long as it disperses or dissolves the components constituting the colored radiation-sensitive composition and does not react with these components and has suitable volatility.

본 발명에서 바람직한 용매로는, 예를 들면 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 3-메톡시부틸아세테이트, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜메틸에틸에테르, 시클로헥사논, 2-헵타논, 3-헵타논, 1,3-부틸렌글리콜디아세테이트, 1,6-헥산디올디아세테이트, 락트산에틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산메틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 3-메틸-3-메톡시부틸프로피오네이트, 아세트산 n-부틸, 아세트산 i-부틸, 포름산 n-아밀, 아세트산 i-아밀, 프로피온산 n-부틸, 부티르산에틸, 부티르산 i-프로필, 부티르산 n-부틸 또는 피루브산에틸 등을 들 수 있다.Preferred solvents in the present invention include propylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, 3-methoxybutyl acetate and diethylene glycol dimethyl ether. , Diethylene glycol methyl ethyl ether, cyclohexanone, 2-heptanone, 3-heptanone, 1,3-butylene glycol diacetate, 1,6-hexanediol diacetate, ethyl lactate, ethyl 3-methoxypropionate , Methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, 3-methyl-3-methoxybutyl propionate, n-butyl acetate, i-butyl acetate, n-amyl acetate, i-amyl acetate, propionic acid n -Butyl, ethyl butyrate, i-propyl butyrate, n-butyl butyrate, ethyl pyruvate, etc. are mentioned.

본 발명에서 용매는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.In this invention, a solvent can be used individually or in mixture of 2 or more types.

착색 감방사선성 조성물은 그 밖의 성분을 더 함유할 수도 있다. 그 밖의 성분으로서, 예를 들면 우레탄계 분산제, 폴리에틸렌이민계 분산제, 폴리옥시에틸렌알킬에테르계 분산제, 폴리옥시에틸렌알킬페닐에테르계 분산제, 폴리에틸렌글리콜디에스테르계 분산제, 소르비탄 지방산 에스테르계 분산제, 폴리에스테르계 분산제, 아크릴계 분산제 등의 분산제; 불소계 계면활성제, 실리콘계 계면활성제 등의 계면활성제; 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리스(2-메톡시에톡시)실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, 3-메타크릴로일옥시프로필트리메톡시실란, 3-메르캅토프로필트리메톡시실란 등의 밀착 촉진제 등을 들 수 있다.The colored radiation-sensitive composition may further contain other components. As other components, for example, a urethane dispersant, a polyethyleneimine dispersant, a polyoxyethylene alkyl ether dispersant, a polyoxyethylene alkyl phenyl ether dispersant, a polyethylene glycol diester dispersant, a sorbitan fatty acid ester dispersant, a polyester type Dispersants such as dispersants and acrylic dispersants; Surfactants such as fluorine-based surfactants and silicone-based surfactants; Vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (2-methoxyethoxy) silane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 3-methacryl Adhesion promoters, such as a loyloxypropyl trimethoxysilane and 3-mercaptopropyl trimethoxysilane, etc. are mentioned.

<표시 소자> <Display element>

본 발명의 표시 소자는 상술한 방법에 의해 제조된 컬러 필터를 구비하는 것이다. 표시 소자의 구체예로는, 컬러 액정 표시 소자, 유기 EL 표시 소자 또는 전자페이퍼 등을 들 수 있다.The display element of this invention is equipped with the color filter manufactured by the method mentioned above. As a specific example of a display element, a color liquid crystal display element, an organic electroluminescence display element, an electronic paper, etc. are mentioned.

본 발명의 방법에 의해 제조된 컬러 필터를 구비하는 컬러 액정 표시 소자는, 예를 들면 박막 트랜지스터(Thin Film Transistor: TFT)가 배치된 구동용 기판과, 본 실시 형태의 컬러 필터가 설치된 별도의 기판이 액정층을 개재하여 대향하는 구조로 할 수 있다. 또는, 컬러 액정 표시 소자는 박막 트랜지스터(TFT)가 배치된 구동용 기판의 표면 상에 본 실시 형태의 컬러 필터를 형성한 기판과, ITO(Indium Tin Oxide: 주석을 도핑한 산화인듐) 전극을 형성한 기판이 액정층을 개재하여 대향한 구조로 할 수도 있다. 후자의 구조는 개구율을 현저히 향상시킬 수 있어, 밝고 고정밀한 액정 표시 소자가 얻어진다는 이점을 갖는다.The color liquid crystal display element provided with the color filter manufactured by the method of this invention is a drive board | substrate with which the thin film transistor (TFT) was arrange | positioned, for example, and the other board | substrate with which the color filter of this embodiment was provided. It can be set as the structure which opposes through this liquid crystal layer. Or a color liquid crystal display element forms the board | substrate with which the color filter of this embodiment was formed on the surface of the drive board | substrate with which the thin-film transistor (TFT) was arrange | positioned, and the indium tin oxide (ITO) electrode which is doped with tin. It is also possible to have a structure in which one substrate opposes through the liquid crystal layer. The latter structure can remarkably improve the aperture ratio, and has the advantage that a bright and high precision liquid crystal display element is obtained.

컬러 액정 표시 소자는 백 라이트 유닛을 구비한다. 백 라이트 유닛으로는, 예를 들면 냉음극 형광관(CCFL: Cold Cathode Fluorescent Lamp) 등의 형광관과, 산란판이 조합된 구조인 것을 사용할 수 있다. 또한, 백색 LED를 광원으로 하는 백 라이트 유닛을 이용할 수도 있다. 백색 LED로는, 예를 들면 적색 LED와 녹색 LED와 청색 LED를 조합하여 혼색에 의해 백색광을 얻는 백색 LED, 청색 LED와 적색 LED와 녹색 형광체를 조합하여 혼색에 의해 백색광을 얻는 백색 LED, 청색 LED와 적색 발광 형광체와 녹색 발광 형광체를 조합하여 혼색에 의해 백색광을 얻는 백색 LED, 청색 LED와 YAG계 형광체의 혼색에 의해 백색광을 얻는 백색 LED, 청색 LED와 오렌지색 발광 형광체와 녹색 발광 형광체를 조합하여 혼색에 의해 백색광을 얻는 백색 LED, 자외선 LED와 적색 발광 형광체와 녹색 발광 형광체와 청색 발광 형광체를 조합하여 혼색에 의해 백색광을 얻는 백색 LED 등을 들 수 있다.The color liquid crystal display element includes a backlight unit. As the backlight unit, for example, a structure in which a fluorescent tube such as a Cold Cathode Fluorescent Lamp (CCFL) and a scattering plate are combined may be used. It is also possible to use a backlight unit having a white LED as a light source. As a white LED, for example, a white LED which combines a red LED, a green LED, and a blue LED to obtain white light by mixing, and a white LED and a blue LED which combines a blue LED, a red LED and a green phosphor to obtain white light by mixing White LED that obtains white light by mixing by combining red light emitting phosphor and green light emitting phosphor, white LED which obtains white light by mixing of blue LED and YAG fluorescent material, and blue LED, orange light emitting phosphor and green light emitting phosphor in combination The white LED which obtains white light, the ultraviolet-ray LED, the red light emitting fluorescent substance, the green light emitting fluorescent substance, and the blue light emitting fluorescent substance are combined, and the white LED etc. which obtain white light by mixing are mentioned.

본 발명의 방법에 의해 제조된 컬러 필터를 구비하는 컬러 액정 표시 소자에는, TN(Twisted Nematic)형, STN(Super Twisted Nematic)형, IPS(In-Planes Switching)형, VA(Vertical Alignment)형, OCB(Optically Compensated Birefringence)형 등의 적절한 액정 모드를 적용할 수 있다.The color liquid crystal display device including the color filter manufactured by the method of the present invention includes a twisted nematic (TN) type, a super twisted nematic (STN) type, an in-plane switching switching (IPS) type, a vertical alignment (VA) type, Appropriate liquid crystal modes such as OCB (Optically Compensated Birefringence) type can be applied.

본 발명의 방법에 의해 제조된 컬러 필터를 갖는 유기 EL 표시 소자는 적절한 구조를 채용하는 것이 가능하고, 예를 들면 일본 특허 공개 (평)11-307242호 공보에 개시되어 있는 구조를 들 수 있다.The organic EL display element having the color filter manufactured by the method of the present invention can adopt an appropriate structure, and examples thereof include a structure disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 11-307242.

본 발명의 방법에 의해 제조된 컬러 필터를 갖는 전자페이퍼는 적절한 구조를 채용하는 것이 가능하고, 예를 들면 일본 특허 공개 제2007-41169호 공보에 개시되어 있는 구조를 들 수 있다.The electronic paper having the color filter manufactured by the method of the present invention can adopt an appropriate structure, and examples thereof include a structure disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 2007-41169.

이상, 본 실시 형태에 대해서 설명했지만 본 발명이 상기 실시 형태로 한정되는 것은 아니고, 요지를 일탈하지 않은 범위에서 다양하게 변형하여 실시할 수 있다.As mentioned above, although this embodiment was described, this invention is not limited to the said embodiment, It can variously deform and implement in the range which does not deviate from the summary.

[실시예][Example]

이하, 실시예를 들어 본 발명을 더욱 구체적으로 설명한다. 단, 본 발명이 하기 실시예로 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, an Example is given and this invention is demonstrated further more concretely. However, the present invention is not limited to the following examples.

〔안료 염료 혼합액 등의 제조〕[Production of pigment dye mixture liquids]

제조예 1Production Example 1

착색제로서 C.I. 피그먼트 그린 58/C.I. 솔벤트 옐로우 179=60/40(질량비) 혼합물 15 질량부, 분산제로서 BYK-LPN21116(빅케미(BYK)사 제조) 10 질량부(불휘발 성분=40 질량%), 용매로서 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 75 질량부를 비드밀에 의해 12시간 동안 혼합?분산시켜 안료 염료 혼합액 (A1)을 제조하였다.As a colorant, C.I. Pigment Green 58 / C.I. 15 parts by mass of solvent yellow 179 = 60/40 (mass ratio) mixture, 10 parts by mass of BYK-LPN21116 (BYK Co., Ltd.) as a dispersant (non-volatile components = 40 mass%), and propylene glycol monomethyl ether acetate as a solvent. 75 mass parts was mixed and dispersed for 12 hours using a bead mill to prepare a pigment dye mixed solution (A1).

제조예 2Production Example 2

착색제로서 C.I. 피그먼트 블루 15:6/C.I. 베이직 블루 7=60/40(질량비) 혼합물 15 질량부, 분산제로서 BYK-LPN21116(빅케미(BYK)사 제조) 10 질량부(불휘발 성분=40 질량%), 용매로서 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 75 질량부를 비드밀에 의해 12시간 동안 혼합?분산시켜 안료 염료 혼합액 (A2)를 제조하였다.As a colorant, C.I. Pigment Blue 15: 6 / C.I. 15 parts by mass of a basic blue 7 = 60/40 (mass ratio) mixture, 10 parts by mass of BYK-LPN21116 (manufactured by BYK Corporation) as a dispersant (nonvolatile components = 40 mass%), and a propylene glycol monomethyl ether acetate as a solvent. 75 mass parts was mixed and dispersed for 12 hours using a bead mill to prepare a pigment dye mixture (A2).

제조예 3Production Example 3

착색제로서 C.I. 피그먼트 그린 58/하기 화학식으로 표시되는 황색 염료(바르비투르산 아조계 염료)=70/30(질량비) 혼합물 15 질량부, 분산제로서 BYK-LPN21116(빅케미(BYK)사 제조) 10 질량부(불휘발 성분=40 질량%), 용매로서 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 75 질량부를 비드밀에 의해 12시간 동안 혼합?분산시켜 안료 염료 혼합액 (A3)을 제조하였다.As a colorant, C.I. Pigment Green 58/15 parts by mass of a yellow dye (barbituric acid azo dye) represented by the following formula: 70 parts by mass / 30 (mass ratio) mixture, 10 parts by mass of BYK-LPN21116 (manufactured by BYK Corporation) as a dispersant Non-volatile component = 40 mass%) and 75 mass parts of propylene glycol monomethyl ether acetates as a solvent were mixed and dispersed for 12 hours using a bead mill to prepare a pigment dye mixture (A3).

Figure pat00001
Figure pat00001

제조예 4Production Example 4

착색제로서 C.I. 피그먼트 그린 58/C.I. 피그먼트 옐로우 150=60/40(질량비) 혼합물 15 질량부, 분산제로서 BYK-LPN21116(빅케미(BYK)사 제조) 10 질량부(불휘발 성분=40 질량%), 용매로서 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 75 질량부를 비드밀에 의해 12시간 동안 혼합?분산시켜 안료 분산액 (A4)를 제조하였다.As a colorant, C.I. Pigment Green 58 / C.I. Pigment Yellow 150 = 60/40 (mass ratio) 15 parts by mass of a mixture, 10 parts by mass of BYK-LPN21116 (manufactured by BYK Co., Ltd.) as a dispersant (non-volatile component = 40% by mass), and propylene glycol monomethyl ether as a solvent. 75 parts by mass of acetate was mixed and dispersed for 12 hours using a bead mill to prepare a pigment dispersion (A4).

제조예 5Production Example 5

착색제로서 C.I. 피그먼트 블루 15:6/크산텐계 염료인 C.I. 로다민 6G=60/40(질량비) 혼합물 15 질량부, 분산제로서 BYK-LPN21116(빅케미(BYK)사 제조) 10 질량부(불휘발 성분=40 질량%), 용매로서 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 75 질량부를 비드밀에 의해 12시간 동안 혼합?분산시켜 안료 염료 혼합액 (A5)를 제조하였다.As a colorant, C.I. Pigment Blue 15: 6 / Xanthene-based dyes C.I. Rhodamine 6G = 60/40 (mass ratio) 15 parts by mass of a mixture, 10 parts by mass of BYK-LPN21116 (by Chemie Co., Ltd.) as a dispersant (non-volatile components = 40 mass%), and propylene glycol monomethyl ether acetate as a solvent 75 mass parts was mixed and dispersed for 12 hours with a bead mill to prepare a pigment dye mixture (A5).

제조예 6Production Example 6

착색제로서 C.I. 피그먼트 블루 15:6/하기 화학식으로 표시되는 트리아릴메탄계 레이크 안료(식 중, x=1 내지 2)=60/40(질량비) 혼합물 15 질량부, 분산제로서 BYK-LPN21116(빅케미(BYK)사 제조) 10 질량부(불휘발 성분=40 질량%), 용매로서 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 75 질량부를 비드밀에 의해 12시간 동안 혼합?분산시켜 안료 분산액 (A6)을 제조하였다.As a colorant, C.I. Pigment Blue 15: 6 / triarylmethane-based lake pigment represented by the following formula (wherein, x = 1 to 2) = 60/40 (mass ratio) 15 parts by mass of the mixture, BYK-LPN21116 (Bikke (BYK Corporation) 10 mass parts (non-volatile component = 40 mass%) and 75 mass parts of propylene glycol monomethyl ether acetates as a solvent were mixed and dispersed for 12 hours with the bead mill, and the pigment dispersion (A6) was produced.

Figure pat00002
Figure pat00002

〔결합제 수지의 합성〕Synthesis of Binder Resin

합성예 1 Synthesis Example 1

냉각관, 교반기를 구비한 플라스크에 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 2 질량부 및 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 200 질량부를 투입하고, 계속해서 메타크릴산 15 질량부, N-페닐말레이미드 20 질량부, 벤질메타크릴레이트 55 질량부, 스티렌 10 질량부 및 분자량 조절제로서 2,4-디페닐-4-메틸-1-펜텐(닛본 유시(주) 제조, 상품명: 노프마 MSD) 3 질량부를 투입하고, 질소 치환하였다. 그 후 완만히 교반하고 반응 용액의 온도를 80 ℃로 상승시키고, 이 온도를 5시간 동안 유지하여 중합함으로써, 수지 용액(고형분 농도=33 질량%)을 얻었다. 얻어진 수지는 Mw=16,000, Mn=7,000이었다. 이 수지 용액을 "결합제 수지 용액 (B1)"로 한다.2 parts by mass of 2,2'-azobisisobutyronitrile and 200 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether acetate were added to a flask equipped with a cooling tube and a stirrer, followed by 15 parts by mass of methacrylic acid and N-phenylmaleimide. 3 masses of 2,4-diphenyl-4-methyl-1-pentene (manufactured by Nippon Yushi Co., Ltd., trade name: Nova MSD) as 20 parts by mass, 55 parts by mass of benzyl methacrylate, 10 parts by mass of styrene, and a molecular weight regulator. Part was added and nitrogen-substituted. Thereafter, the mixture was stirred gently, the temperature of the reaction solution was raised to 80 ° C, and the temperature was maintained for 5 hours to polymerize, thereby obtaining a resin solution (solid content concentration = 33 mass%). Obtained resin was Mw = 16,000 and Mn = 7,000. This resin solution is referred to as "binder resin solution (B1)".

합성예 2 Synthesis Example 2

냉각관과 교반기를 구비한 플라스크에 p-비닐벤질글리시딜에테르 44 질량부, N-페닐말레이미드 40 질량부, 벤질메타크릴레이트 16 질량부를 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 300 질량부에 용해시키고, 추가로 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 8 질량부 및 2,4-디페닐-4-메틸-1-펜텐 8 질량부를 투입하고, 질소 치환하였다. 그 후, 완만히 교반하면서, 질소 버블링하면서 반응 용액을 80 ℃로 승온시키고, 이 온도를 유지하여 5시간 동안 중합하였다.In a flask equipped with a cooling tube and a stirrer, 44 parts by mass of p-vinyl benzyl glycidyl ether, 40 parts by mass of N-phenylmaleimide, and 16 parts by mass of benzyl methacrylate were dissolved in 300 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether acetate, Further, 8 parts by mass of 2,2'-azobisisobutyronitrile and 8 parts by mass of 2,4-diphenyl-4-methyl-1-pentene were added and nitrogen-substituted. Thereafter, with gentle stirring, the reaction solution was heated to 80 ° C with nitrogen bubbling, and maintained at this temperature to polymerize for 5 hours.

이어서, 이 반응 용액에 메타크릴산 17 질량부, p-메톡시페놀 0.5 질량부 및 테트라부틸암모늄브로마이드 4.4 질량부를 첨가하고, 120 ℃의 온도에서 9시간 동안 반응을 행하였다. 또한, 무수 숙신산 18.5 질량부를 첨가하고, 100 ℃의 온도에서 6시간 동안 반응을 행한 후, 반응 용액 온도를 85 ℃로 유지한 상태에서 2회 수세하고, 감압 농축을 행함으로써 결합제 수지 용액(고형분 농도=33 질량%)을 얻었다. 얻어진 결합제 수지는 Mw=7,800, Mn=5,000이었다. 이 결합제 수지 용액을 "결합제 수지 용액 (B2)"로 한다.Subsequently, 17 mass parts of methacrylic acid, 0.5 mass part of p-methoxyphenol, and 4.4 mass parts of tetrabutylammonium bromide were added to this reaction solution, and reaction was performed at the temperature of 120 degreeC for 9 hours. Further, 18.5 parts by mass of succinic anhydride was added, the reaction was carried out at a temperature of 100 ° C. for 6 hours, followed by washing with water twice while maintaining the reaction solution temperature at 85 ° C., followed by concentration under reduced pressure, to obtain a binder resin solution (solid content concentration). = 33 mass%). Obtained binder resin was Mw = 7,800 and Mn = 5,000. This binder resin solution is referred to as "binder resin solution (B2)".

실시예 1Example 1

〔착색 감방사선성 조성물의 제조〕[Production of colored radiation-sensitive composition]

안료 염료 혼합액 (A1) 100 질량부, 결합제 수지로서 결합제 수지 용액 (B1) 18 질량부(고형분 농도=33 질량%), 가교제로서 닛본 가야꾸 가부시끼가이샤 제조 카야라드(KAYARAD) MAX-3510(디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트와 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트의 혼합물) 8 질량부와 닛본 가야꾸 가부시끼가이샤 제조 카야라드 DPCA-60(카프로락톤 변성 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트) 4 질량부, 광중합 개시제로서 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온 1 질량부와 에타논,1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]-,1-(O-아세틸옥심) 3 질량부, 불소계 계면활성제로서 DIC 가부시끼가이샤 제조 메가팩 F-554를 0.2 질량부 및 용제로서 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트를 혼합하여 고형분 농도 15 질량%의 녹색 감방사선성 조성물을 제조하였다.100 parts by mass of the pigment dye mixture (A1), 18 parts by mass of the binder resin solution (B1) as a binder resin (solid content concentration = 33% by mass), and Nippon Kayaku Co., Ltd. (KAYARAD) MAX-3510 (D 8 parts by mass of a mixture of pentaerythritol hexaacrylate and dipentaerythritol pentaacrylate) and 4 parts by mass of kayarrad DPCA-60 (caprolactone-modified dipentaerythritol hexaacrylate) manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. 1 part by mass of 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one and ethanone, 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9H as an initiator -Carbazol-3-yl]-, 1- (O-acetyl oxime) 3 parts by mass, propylene glycol monomethyl ether acetate as 0.2 parts by mass of Megapack F-554 manufactured by DIC Corporation Mixing to prepare a green radiation-sensitive composition having a solid content concentration of 15% by mass The.

〔화소 패턴의 형성 및 색 안정성의 평가〕[Formation of pixel pattern and evaluation of color stability]

얻어진 녹색 감방사선성 조성물을 유리 기판 상에 슬릿다이 코터를 이용하여 도포한 후, 90 ℃의 핫 플레이트로 4 분간 프리베이킹을 행하여 막 두께 2 ㎛의 도막을 형성하였다.After apply | coating the obtained green radiation sensitive composition on a glass substrate using the slit die coater, it prebaked for 4 minutes with the 90 degreeC hotplate, and formed the coating film of 2 micrometers in film thicknesses.

이어서, 도막이 형성된 기판을 실온으로 냉각시킨 후, 초고압 수은등으로부터 방사된 방사선에 자외선 차단 필터 1(UV-31(도시바 가라스사 제조))을 개재시켜 얻어진 도 2의 분광 특성을 나타내는 방사선을 이용하여, 스트라이프상 포토마스크를 통해 2,000 J/㎡의 노광량으로 도막을 노광하였다. 그 후, 얻어진 기판에 대하여 23 ℃의 0.04 질량% 수산화칼륨 수용액을 포함하는 현상액을 현상압 1 kgf/㎠(노즐 직경 1 mm)로 토출시킴으로써, 1 분간 샤워 현상을 행하였다. 그 후, 이 기판을 초순수로 세정, 풍건하고, 기판 상에 녹색의 스트라이프상 화소 패턴을 형성하였다.Subsequently, after cooling the board | substrate with a coating film to room temperature, using the radiation which shows the spectral characteristic of FIG. The coating film was exposed by the exposure amount of 2,000 J / m <2> through the stripe-shaped photomask. Then, shower development was performed for 1 minute by discharging the developing solution containing the 0.04 mass% potassium hydroxide aqueous solution of 23 degreeC with the developing pressure of 1 kgf / cm <2> (nozzle diameter 1mm) with respect to the obtained board | substrate. Thereafter, the substrate was washed with ultrapure water and air dried to form a green striped pixel pattern on the substrate.

노광 전의 도막 및 형성된 화소 패턴에 대해서, 컬러 분석기(오오쓰카 덴시(주) 제조 MCPD2000)를 이용하여 분광 특성을 측정하고, 색차(ΔE*ab)를 구하였다. 평가 결과를 하기 표 1에 나타내었다.About the coating film and the formed pixel pattern before exposure, the spectral characteristic was measured using the color analyzer (MCPD2000 by Otsuka Denshi Co., Ltd.), and color difference ((DELTA) E * ab) was calculated | required. The evaluation results are shown in Table 1 below.

실시예 2 내지 11, 비교예 1 내지 5 및 참고예 1 내지 2Examples 2 to 11, Comparative Examples 1 to 5 and Reference Examples 1 to 2

실시예 1에 있어서, 각 성분의 종류와 함유량을 표 1에 나타낸 바와 같이 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 각 착색 감방사선성 조성물을 제조하였다. 이어서, 얻어진 착색 감방사선성 조성물을 이용하고, 노광 방사선을 표 1에 나타낸 바와 같이 선택한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 화소 패턴을 형성하고, 색 안정성의 평가를 행하였다. 평가 결과를 표 1에 나타내었다. 또한, 도 3의 분광 특성을 나타내는 방사선은 초고압 수은등으로부터 방사된 방사선에 자외선 차단 필터 2(UV-33(도시바 가라스사 제조))를 개재시켜 얻어지는 것이고, 도 4의 분광 특성을 나타내는 방사선은 초고압 수은등으로부터 방사된 방사선에 자외선 차단 필터 3(UV-35(도시바 가라스사 제조))을 개재시켜 얻어지는 것이다.In Example 1, each colored radiation sensitive composition was produced like Example 1 except having changed the kind and content of each component as shown in Table 1. Subsequently, using the obtained colored radiation-sensitive composition, a pixel pattern was formed in the same manner as in Example 1 except that the exposure radiation was selected as shown in Table 1, and color stability was evaluated. The evaluation results are shown in Table 1. In addition, the radiation which shows the spectral characteristic of FIG. 3 is obtained through the ultraviolet-ray filter 2 (UV-33 (made by Toshiba Glass Co., Ltd.)) to the radiation radiated | emitted from an ultrahigh pressure mercury lamp, The radiation which shows the spectral characteristic of FIG. It is obtained through the ultraviolet-ray filter 3 (UV-35 (made by Toshiba Glass Co., Ltd.)) through the radiation radiated | emitted from the radiation.

Figure pat00003
Figure pat00003

표 1에 있어서, 각 성분은 하기와 같다.In Table 1, each component is as follows.

C1: 카프로락톤 변성 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트(닛본 가야꾸 가부시끼가이샤 제조, 상품명 카야라드 DPCA-60) C1: caprolactone modified dipentaerythritol hexaacrylate (made by Nippon Kayaku Co., Ltd., brand name Kayarrad DPCA-60)

C2: 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트와 숙신산의 모노에스테르화물, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트 및 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트의 혼합물(도아 고세이 가부시끼가이샤 제조, 상품명 TO-1382)C2: A mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and succinic acid monoester, dipentaerythritol hexaacrylate and dipentaerythritol pentaacrylate (manufactured by Toago Kosei Co., Ltd., trade name TO-1382)

C3: 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트와 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트의 혼합물(닛본 가야꾸 가부시끼가이샤 제조, 상품명 카야라드 MAX-3510) C3: A mixture of dipentaerythritol hexaacrylate and dipentaerythritol pentaacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., trade name Kayarard MAX-3510)

C4: 에틸렌옥시드 올리고머 변성 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트(닛본 가야꾸 가부시끼가이샤 제조, 상품명 카야라드 DPEA-12) C4: ethylene oxide oligomer-modified dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., brand name Kayarade DPEA-12)

D1: 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온(시바 스페셜티 케미컬즈사 제조, 상품명 이르가큐어 369) D1: 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one (manufactured by Ciba Specialty Chemicals, product name Irgacure 369)

D2: 에타논,1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]-,1-(O-아세틸옥심)(시바 스페셜티 케미컬즈사 제조, 상품명 이르가큐어 OXE02) D2: ethanone, 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9H-carbazol-3-yl]-, 1- (O-acetyloxime) (manufactured by Ciba Specialty Chemicals, product name Irga Cure OXE02)

D3: 2-메르캅토벤조티아졸 D3: 2-mercaptobenzothiazole

D4: 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸(호도가야 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 제조, 상품명 B-CIM) D4: 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl- 1,2'-biimidazole (made by Hodogaya Chemical Co., Ltd. make, brand name B- CIM)

D5: 2,4-디에틸티오크산톤(닛본 가야꾸 가부시끼가이샤 제조, 상품명 카야큐어(CAYACURE) DETX-S) D5: 2,4-diethyl thioxanthone (made by Nippon Kayaku Co., Ltd., brand name CAYACURE DETX-S)

D6: 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논 D6: 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone

D7: 아데카 제조『상품명 NCI930』 D7: Made by Adeka (brand name NCI930)

Claims (3)

(1) 기판 상에, 염료 및 레이크 안료로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 함유하는 착색 감방사선성 조성물의 도막을 형성하는 공정, 및 (2) 상기 도막의 적어도 일부에 방사선을 조사하는 공정을 포함하고,
상기 방사선의 분광 분포가 350 nm 내지 450 nm의 범위에 복수개의 피크를 가지며, 상기 방사선의 350 nm 미만에서의 최대 강도가 350 nm 내지 450 nm에서의 최대 피크 강도의 50 % 이하인 것을 특징으로 하는 화소 패턴의 형성 방법.
(1) forming a coating film of a colored radiation-sensitive composition containing at least one member selected from the group consisting of dyes and lake pigments on a substrate, and (2) irradiating radiation to at least a portion of the coating film. Including,
Wherein the spectral distribution of the radiation has a plurality of peaks in the range of 350 nm to 450 nm, and the maximum intensity at less than 350 nm of the radiation is 50% or less of the maximum peak intensity at 350 nm to 450 nm. How to form a pattern.
제1항에 기재된 방법에 의해 형성된 화소 패턴을 구비하여 이루어지는 컬러 필터.The color filter provided with the pixel pattern formed by the method of Claim 1. 제2항에 기재된 컬러 필터를 구비하는 표시 소자.The display element provided with the color filter of Claim 2.
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