KR101850204B1 - Multi-layer wiring board and method for manufacturing thereof - Google Patents

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Abstract

본 발명은 잉크젯 인쇄 방식으로 배선 패턴과 절연층을 번갈아 적층하여 이루어진 다층 배선 기판 및 그 제조방법에 관한 것으로, 기판과, 상기 기판의 일면 상에 은(Ag) 나노입자 잉크로 잉크젯 인쇄 방식에 의해 형성된 제1 배선 패턴과, 상기 제1 배선 패턴이 외부로 노출되지 않게 덮이도록 상기 기판의 일면 상에 SU-8 잉크로 잉크젯 인쇄 방식에 의해 형성된 절연층과, 상기 절연층의 외면 상에 은 나노입자 잉크로 잉크젯 인쇄 방식에 의해 형성된 제2 배선 패턴을 포함하는 다층 배선 기판 및 그 제조 방법을 개시한다.The present invention relates to a multilayer wiring board in which wiring patterns and insulating layers are alternately laminated by an inkjet printing method and a method of manufacturing the multilayer wiring board and a multilayer wiring board comprising a substrate and an inkjet printing method using silver (Ag) An insulating layer formed on the one surface of the substrate by SU-8 ink by an inkjet printing method so that the first wiring pattern is covered so as not to be exposed to the outside; A multilayer wiring board comprising a second wiring pattern formed by an inkjet printing method with particle ink and a manufacturing method thereof are disclosed.

Description

다층 배선 기판 및 그 제조방법{MULTI-LAYER WIRING BOARD AND METHOD FOR MANUFACTURING THEREOF}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a multi-

본 발명은 다층 배선 기판 및 그 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 잉크젯을 비롯한 비접촉 인쇄 방식으로 배선 패턴과 절연층을 번갈아 적층하여 이루어진 다층 배선 기판 및 그 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a multilayer wiring board and a method of manufacturing the same, and more particularly, to a multilayer wiring board in which wiring patterns and an insulating layer are alternately laminated by a non-contact printing method including inkjet and a method of manufacturing the multilayer wiring board.

전자 기기나 부품의 소형화, 경량화가 요구됨에 따라 전자 부품을 실장하기 위한 배선 기판의 고밀도화도 요구되고 있다. 배선 기판을 고밀도화하기 위해서는 기판상의 배선 밀도를 높이는 방법과 배선을 복수로 적층하여 다층 구조로 만드는 방법이 사용된다.As the size and weight of electronic devices and components are required to be reduced, it is also required to increase the density of wiring boards for mounting electronic components. In order to increase the density of the wiring board, a method of increasing the wiring density on the substrate and a method of laminating a plurality of wirings to form a multilayer structure are used.

다층 구조의 배선 기판을 제조하기 위해서는 복수의 기재에 배선을 형성한 뒤 절연 시트를 사이에 두고 이들 기재를 접합하는 이른바 접합방식과, 배선 패턴이 형성된 기재 상에 절연층을 적층하고, 이 절연층 위에 배선 패턴을 형성하는 과정을 반복함으로써 적층구조를 발전시켜 나가는 빌드업 방식(build-up method)이 알려져 있다.In order to manufacture a wiring substrate of a multilayer structure, a so-called joining method in which wirings are formed on a plurality of substrates and these substrates are bonded together with an insulating sheet interposed therebetween and an insulating layer are laminated on a substrate on which wiring patterns are formed, A build-up method is known in which a multilayer structure is developed by repeating the process of forming a wiring pattern on the substrate.

배선 기판의 고밀도화에는 후자의 방식이 더 유리하여 널리 활용되고 있는 바, 예컨대 공개특허 제10-2014-0147894호와 같은 것을 들 수 있다.The latter method is more advantageous for increasing the densification of the wiring board and widely used, for example, the same as that of Published Unexamined Patent Application No. 10-2014-0147894.

한편, 빌드업 방식에서 배선 패턴을 형성하기 위해 잉크젯 인쇄 방식이 종종 채택된다. 이러한 인쇄 기술에 의한 빌드업 방식은 배선, 전극, 안테나 코일 등이 차지하는 바닥 면적을 줄여서 소자의 크기를 줄일 수 있고 한 기판에 여러 가지 소자를 집적이 가능하여 다양한 소자 제작의 기반기술로 활용이 가능하다.On the other hand, an inkjet printing method is often adopted to form a wiring pattern in a build-up method. The build-up method using this printing technology can reduce the size of the device by reducing the floor area occupied by wiring, electrodes, antenna coil, etc., and it is possible to integrate various devices on one substrate, so that it can be used as a base technology for manufacturing various devices. Do.

잉크젯 인쇄 방식으로 다층 배선 기판을 제조하기 위해서는 도전성 소재의 액적(drop)을 절연선 소재인 기판 또는 절연층 상에 일정한 간격으로 떨어뜨리게 되는데, 이들이 불연속적인 도트(dot)로 남을지, 서로 연결되어 하나의 라인(line)을 이룰지는 절연층을 이루고 있는 절연성 소재와 잉크젯 액적을 형성하는 도전성 소재 사이의 표면에너지와 같은 물리적 특성에 의해 결정된다. 따라서 두 소재 사이의 물리적 특성에 따라 필요한 배선 패턴의 선폭과 두께를 적절하게 얻는 것이 어려운 경우가 생기는데, 이는 특히 마이크로미터 단위의 배선 패턴을 형성하고자 할 때 중대한 장애물이 된다. 아울러, 절연층을 형성하는 소재의 표면에너지가 높은 경우 절연층 상에 절연층을 다시 적층할 때 퍼짐성이 불량하여 적층되는 절연층이 배선 패턴을 완전히 덮지 못함으로써 배선의 가장자리가 단락될 수도 있다. 한편으로는, 도전성 소재와 절연성 소재 사이의 상호적인 물리적, 화학적 영향에 따라 두 소재 중 한 편이 손상되는 문제도 있다.In order to manufacture a multilayer wiring board using an ink-jet printing method, a drop of a conductive material is dropped on a substrate or an insulating layer, which is a material of an insulating line, at regular intervals. These drops are left as discrete dots, The line is determined by physical properties such as the surface energy between the insulating material forming the insulating layer and the conductive material forming the inkjet droplet. Accordingly, it may be difficult to appropriately obtain the line width and thickness of the necessary wiring pattern depending on the physical characteristics between the two materials, which becomes a serious obstacle especially when forming a micrometer-scale wiring pattern. In addition, when the surface energy of the material forming the insulating layer is high, when the insulating layer is laminated again on the insulating layer, the spreadability is poor, and the insulating layer that is stacked does not completely cover the wiring pattern, so that the edge of the wiring may be short-circuited. On the other hand, there is a problem that one of the two materials is damaged due to mutual physical and chemical effects between the conductive material and the insulating material.

공개특허 제10-2014-0147894호Published Japanese Patent Application No. 10-2014-0147894

본 발명은 상기한 문제점을 해소하기 위해 안출된 것으로, 배선 패턴과 절연층을 각각 형성하는 소재들 사이의 물리적 특성을 조절하여 필요한 배선 패턴의 선폭과 두께를 확보할 수 있는 다층 배선 기판 및 그 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been conceived to solve the problems described above, and it is an object of the present invention to provide a multilayer wiring board capable of adjusting the physical characteristics between materials for forming a wiring pattern and an insulating layer, And a method thereof.

본 발명의 다른 목적은 도전성 소재와 절연성 소재 사이의 물리적, 화학적인 영향을 최소화함으로써 각 소재가 손상되는 것을 억제할 수 있는 다층 배선 기판 및 그 제조방법을 제공하는 데에 있다.Another object of the present invention is to provide a multilayer wiring board capable of suppressing damage to each material by minimizing physical and chemical influences between the conductive material and the insulating material and a method of manufacturing the same.

본 발명의 그 밖의 목적, 특정한 장점들 및 신규한 특징들은 첨부된 도면들과 연관된 이하의 상세한 설명과 바람직한 실시예들로부터 더욱 분명해질 것이다.Other objects, specific advantages and novel features of the present invention will become more apparent from the following detailed description and preferred embodiments with reference to the accompanying drawings.

상기한 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 다층 배선 기판은, 기판과, 상기 기판의 일면 상에 은(Ag) 나노입자 잉크로 잉크젯 인쇄 방식에 의해 형성된 제1 배선 패턴과, 상기 제1 배선 패턴이 외부로 노출되지 않게 덮이도록 상기 기판의 일면 상에 SU-8 잉크로 비접촉 인쇄 방식에 의해 형성된 절연층과, 상기 절연층의 외면 상에 은 나노입자 잉크로 비접촉 인쇄 방식에 의해 형성된 제2 배선 패턴을 포함하여 이루어질 수 있다.In order to achieve the above object, a multilayer wiring board according to the present invention comprises a substrate, a first wiring pattern formed on the first surface of the substrate by an inkjet printing method with silver (Ag) nano-particle ink, An insulating layer formed on one surface of the substrate by a non-contact printing method with SU-8 ink so that the pattern is covered so as not to be exposed to the outside, and a second electrode formed on the outer surface of the insulating layer with silver nanoparticle ink by non- And a wiring pattern.

본 발명에 따른 다층 배선 기판에 있어서, 상기 제1 배선 패턴 및 제2 배선 패턴은 건조 및 베이킹될 수 있다. 이때 상기 제1 배선 패턴 및 제2 배선 패턴은 50℃에서 건조되고 200℃에서 베이킹될 수 있다.In the multilayer wiring board according to the present invention, the first wiring pattern and the second wiring pattern may be dried and baked. At this time, the first wiring pattern and the second wiring pattern may be dried at 50 ° C and baked at 200 ° C.

본 발명에 따른 다층 배선 기판에 있어서, 상기 절연층은 베이킹될 수 있으며, 이때 상기 절연층은 200℃에서 베이킹될 수 있다.In the multilayer wiring board according to the present invention, the insulating layer may be baked, and the insulating layer may be baked at 200 ° C.

본 발명에 따른 다층 배선 기판에 있어서, 상기 절연층은 자외선 및 오존 처리될 수 있다.In the multilayer wiring board according to the present invention, the insulating layer may be treated with ultraviolet rays and ozone.

본 발명에 따른 다층 배선 기판에 있어서, 상기 절연층과 제2 배선 패턴이 순차로 반복하여 적층될 수 있다.In the multilayer wiring board according to the present invention, the insulating layer and the second wiring pattern may be sequentially and repeatedly laminated.

본 발명에 따른 다층 배선 기판 제조 방법은, 절연성 재질로 된 기판을 준비하는 기판준비단계와, 상기 기판의 일면에 은(Ag) 나노입자 잉크로 비접촉 인쇄 방식에 의해 제1 배선 패턴을 형성하는 제1 인쇄단계와, 상기 제1 배선 패턴이 외부로 노출되지 않게 덮이도록 상기 기판의 일면상에 SU-8 잉크로 비접촉 인쇄 방식에 의해 절연층을 형성하는 제2 인쇄단계와, 상기 절연층의 외면에 은(Ag) 나노입자 잉크로 잉크젯 인쇄 방식에 의해 제2 배선 패턴을 형성하는 제3 인쇄단계를 포함하여 이루어질 수 있다.A method for manufacturing a multilayer wiring board according to the present invention includes the steps of preparing a substrate made of an insulating material and forming a first wiring pattern by a non-contact printing method using silver (Ag) nanoparticle ink on one surface of the substrate A second printing step of forming an insulating layer by a non-contact printing method with SU-8 ink on one surface of the substrate so that the first wiring pattern is covered so as not to be exposed to the outside, And a third printing step of forming a second wiring pattern by an inkjet printing method with silver (Ag) nanoparticle ink.

본 발명에 따른 다층 배선 기판 제조 방법에 있어서, 상기 제1 인쇄단계 이후, 제2 인쇄단계 이전에 상기 제1 배선 패턴을 건조 및 베이킹하는 제1 베이킹단계를 더 포함할 수 있다. 이때 상기 제1 베이킹단계는 50℃에서 건조하고 200℃에서 베이킹할 수 있다.In the method for manufacturing a multilayer wiring board according to the present invention, the method may further include a first baking step of drying and baking the first wiring pattern after the first printing step and before the second printing step. The first baking step may be performed at 50 < 0 > C and baked at 200 < 0 > C.

본 발명에 따른 다층 배선 기판 제조 방법에 있어서, 상기 제2 인쇄단계 이후, 제3 인쇄단계 이전에 상기 절연층을 베이킹하는 제2 베이킹단계를 더 포함할 수 있다. 이때 상기 제2 베이킹단계는 200도에서 베이킹할 수 있다.In the method for manufacturing a multilayer wiring board according to the present invention, the method may further include a second baking step of baking the insulating layer after the second printing step and before the third printing step. At this time, the second baking step may be baked at 200 degrees.

본 발명에 따른 다층 배선 기판 제조 방법에 있어서, 상기 제2 인쇄단계 이후, 제3 인쇄단계 이전에 상기 절연층에 자외선 및 오존 처리를 하는 표면처리단계를 더 포함할 수 있다.In the method for manufacturing a multilayer wiring board according to the present invention, the method may further include a surface treatment step of subjecting the insulating layer to ultraviolet rays and ozone treatment after the second printing step and before the third printing step.

본 발명에 따른 다층 배선 기판 제조 방법에 있어서, 상기 제3 인쇄단계 이후에 상기 제2 인쇄단계와 제3 인쇄단계가 순차로 반복될 수 있다.In the method of manufacturing a multilayer wiring board according to the present invention, after the third printing step, the second printing step and the third printing step may be sequentially repeated.

한편, 본 발명에 따른 다층 배선 기판 제조 방법에 있어서, 상기 비접촉 인쇄 방식은 잉크젯, EHD젯, 노즐젯 중 적어도 한 가지 방식을 포함할 수 있다.Meanwhile, in the method for manufacturing a multilayer wiring board according to the present invention, the non-contact printing method may include at least one of ink jet, EHD jet, and nozzle jet.

본 발명에 따르면 SU-8로 된 절연층 상에 은(Ag) 나노입자 잉크로 배선 패턴을 형성하는 과정에서 SU-8의 표면에너지를 조절함으로써 은 나노입자 잉크의 퍼짐성을 양호한 수준으로 얻을 수 있다. 절연층 상에 다시 절연층을 적층할 때 두 절연층 사이의 퍼짐성에 대해서도 마찬가지의 결과를 얻을 수 있다.According to the present invention, the spread of the silver nanoparticle ink can be obtained at a satisfactory level by controlling the surface energy of SU-8 in the process of forming the wiring pattern with the silver (Ag) nanoparticle ink on the insulating layer made of SU-8 . Similar results can be obtained with respect to spreadability between two insulating layers when the insulating layer is again laminated on the insulating layer.

또한, 은 나노입자로 된 배선 패턴 위에 SU-8로 된 절연층을, 절연층 위에 배선 패턴을 순차 적층할 때, 건조도, 용제 등의 영향에 따른 두 소재간의 물리적, 화학적 침투를 억제하여 배선 패턴이나 절연층이 손상되는 것을 최소화할 수 있다.In addition, when the insulating layer made of SU-8 is formed on the wiring pattern made of silver nanoparticles and the wiring pattern is sequentially formed on the insulating layer, the physical and chemical penetration between the two materials due to the influence of the drying degree, Damage to the pattern or insulating layer can be minimized.

본 발명에 따른 다층 배선 기판은 스마트라벨용 안테나 코일, RFID 시스템용안테나 코일, Flexible printed circuit board(FPCB), 인쇄 전자(배선), 사물 인터넷(IoT) 제품 등에 두루 응용될 수 있어서 산업적인 파급 효과도 크다.The multilayer wiring board according to the present invention can be applied to an antenna coil for a smart label, an antenna coil for an RFID system, a flexible printed circuit board (FPCB), a printed electronic (wiring), Internet (IoT) It is big.

도 1은 본 발명에 따른 다층 배선 기판의 일실시예의 제조 단계별 단면도이다.
도 2는 본 발명에 따른 다층 배선 기판 제조방법의 일실시예의 순서도이다.
도 3은 도 2의 실시예에서 SU-8 상에 은 나노입자 잉크를 잉크젯 인쇄할 때, SU-8을 베이킹하는 온도에 따른 은 나노입자 액적의 접촉각, 직경 및 선폭의 변화를 각각 도시한 그래프이다.
도 4는 도 2의 실시예에서 SU-8 상에 은 나노입자 잉크를 잉크젯 인쇄할 때, SU-8을 베이킹하는 온도에 따른 실제 배선 패턴의 형상 변화를 촬영하여 나타낸 이미지이다.
도 5는 도 2의 실시예에서 SU-8 상에 은 나노입자 잉크를 잉크젯 인쇄할 때, SU-8을 표면처리하는 시간에 따른 은 나노입자 액적의 접촉각 및 선폭의 변화를 각각 도시한 그래프이다.
도 6은 도 2의 실시예에서 SU-8 상에 은 나노입자 잉크를 잉크젯 인쇄할 때, SU-8을 표면처리하는 시간에 따른 실제 배선 패턴의 형상 변화를 촬영하여 나타낸 이미지이다.
도 7은 본 발명에 따른 다층 배선 기판의 일실시예의 단면 프로파일을 도시한 그래프이다.
도 8은 본 발명에 따른 다층 배선 기판의 다른 실시예의 실제 단면을 촬영한 이미지이다.
1 is a cross-sectional view of a multilayer wiring board according to an embodiment of the present invention.
2 is a flowchart of one embodiment of a method for manufacturing a multilayer wiring board according to the present invention.
Fig. 3 is a graph showing changes in contact angle, diameter, and linewidth of silver nanoparticle droplets according to the temperature for baking the SU-8 when ink-jet printing silver nano-particle ink on SU-8 in the embodiment of Fig. 2 to be.
Fig. 4 is an image showing a change in shape of an actual wiring pattern according to a temperature at which the SU-8 is baked when ink-jet printing silver nano-particle ink on SU-8 in the embodiment of Fig.
5 is a graph showing changes in the contact angle and linewidth of silver nanoparticle droplets with time for surface treatment of SU-8 when ink-jet printing silver nanoparticle ink on SU-8 in the embodiment of FIG. 2 .
Fig. 6 is an image showing the change in shape of an actual wiring pattern according to the time of surface treatment of SU-8 when ink-jet printing of silver nanoparticle ink on SU-8 in the embodiment of Fig.
7 is a graph showing a cross-sectional profile of an embodiment of a multilayer wiring board according to the present invention.
8 is an image of an actual cross-section of another embodiment of the multilayer wiring board according to the present invention.

이하에서는 첨부의 도면을 참조로 본 발명에 따른 다층 배선 기판 및 그 제조 방법의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다. BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, preferred embodiments of a multilayer wiring board and a manufacturing method thereof according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명에 따른 다층 배선 기판의 일실시예의 제조 단계별 단면도이고, 도 2는 본 발명에 따른 다층 배선 기판 제조 방법의 일실시예의 순서도이다.FIG. 1 is a sectional view of a multilayer wiring board according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a flowchart of an embodiment of a method for manufacturing a multilayer wiring board according to the present invention.

먼저, 본 발명의 다른 구성들을 지지할 기판(10)을 준비한다(S10, 기판준비단계). 이 기판(10)은 절연성 재질로 만들어지되, 임의의 적절한 재료를 선택하여 통상적인 방법으로 제조될 수 있으나, 실리콘(Si)을 주재료로 하는 것이 바람직하다.First, a substrate 10 to support other structures of the present invention is prepared (S10, substrate preparation step). The substrate 10 is made of an insulating material, and any suitable material can be selected and manufactured in a conventional manner, but silicon (Si) is preferably used as the main material.

기판(10)의 일면(도면방향을 기준으로 상면)에 은 나노입자 잉크(Ag nanoparticle ink)를 사용하여 잉크젯 인쇄 방식으로 제1 배선 패턴(11)을 인쇄한다(S20, 제1 인쇄단계). 잉크젯 인쇄 방식이란 잉크를 미세한 방울(drop)의 상태로 기판 상에 분사하는 것을 뜻한다. 따라서 은 나노입자 잉크는 액상이거나 유동성 있는 페이스트상이어야 한다. 이와 같이 형성된 제1 배선 패턴(11)은 최종 제품에서는 전도층이 된다.The first wiring pattern 11 is printed by inkjet printing using silver nanoparticle ink on one surface (upper surface with reference to the drawing direction) of the substrate 10 (S20, first printing step). Inkjet printing means ejecting ink onto a substrate in a fine drop state. Thus, the silver nanoparticle ink should be in a liquid or fluid paste state. The first wiring pattern 11 thus formed becomes a conductive layer in the final product.

제1 인쇄단계(S20)에서 인쇄된 은 나노입자 잉크는 액상 성분을 포함하고 있으므로, 건조하는 과정이 필요하다(S30, 건조단계). 아래에서 설명할 실험예와 같은 조건에서 이 건조단계(30)는 50℃에서 30분간 이루어지는 것이 바람직하다.Since the silver nanoparticle ink printed in the first printing step S20 contains a liquid component, a drying process is required (S30, drying step). It is preferable that this drying step (30) is performed at 50 캜 for 30 minutes under the same condition as the experimental example described below.

한편, 이어지는 제2 인쇄단계(S30)를 진행하는 과정에서 SU-8 잉크의 성분이 은 나노입자 잉크로 침투하여 제1 배선 패턴에 손상을 줄 수도 있다. 예컨대 SU-8이 은 나노입자과 혼합되면 전기저항이 증가된다. 따라서 건조단계(S30)를 거친 제1 배선 패턴을 적절한 온도로 베이킹하는 것이 바람직하다(S40, 제1 베이킹단계). 아래에서 설명할 실험예와 같은 조건에서 이 제1 베이킹단계(S40)는 200℃에서 30분간 이루어지는 것이 바람직하다. 제1 베이킹단계를 거친 제1 배선 패턴(11)은 경화됨으로써 SU-8 잉크에 의한 침투 및 그에 따른 제1 배선 패턴(11)의 손상을 최소화할 수 있다.On the other hand, in the course of the subsequent second printing step S30, the component of the SU-8 ink penetrates into the silver nanoparticle ink and may damage the first wiring pattern. For example, when SU-8 is mixed with silver nanoparticles, the electrical resistance is increased. Therefore, it is preferable to bake the first wiring pattern having undergone the drying step S30 at an appropriate temperature (S40, first baking step). It is preferable that the first baking step (S40) is performed at 200 DEG C for 30 minutes under the same condition as the experimental example described below. The first wiring pattern 11 having undergone the first baking step is cured, so that penetration by the SU-8 ink and thus damage of the first wiring pattern 11 can be minimized.

이후에 제1 배선 패턴(11) 상에 절연성 소재인 SU-8 잉크를 역시 잉크젯 인쇄 방식으로 도포하여 절연층(21)을 형성하되, 제1 배선 패턴(11)이 절연층(21)에 의해 완전히 덮여 외부로 노출되지 않도록 한다(S50, 제2 인쇄단계).Thereafter, the insulating layer 21 is formed by applying the SU-8 ink, which is an insulating material, on the first wiring pattern 11 by the inkjet printing method. The first wiring pattern 11 is formed by the insulating layer 21 Is completely covered and is not exposed to the outside (S50, second printing step).

제2 인쇄단계(S50)에서 사용된 SU-8 잉크 역시 유동성을 가지고 있으며, 이어지는 제3 인쇄단계(S80)에서 인쇄되는 은 나노입자 잉크와의 상호작용에 따라 은 나노입자 잉크에 의해 손상될 수도 있다. 따라서 제2 인쇄단계(S50)에서 형성된 절연층(21)에 대해 베이킹을 실시하여 경화되도록 한다(S60, 제2 베이킹단계). 아래에서 설명할 실험예와 같은 조건에서 이 제2 베이킹단계(S60)는 200℃에서 30분간 이루어지는 것이 바람직하다.The SU-8 ink used in the second printing step (S50) also has fluidity and may be damaged by the silver nanoparticle ink depending on the interaction with the silver nanoparticle ink printed in the subsequent third printing step (S80) have. Therefore, the insulating layer 21 formed in the second printing step (S50) is baked and cured (S60, second baking step). It is preferable that the second baking step (S60) is performed at 200 DEG C for 30 minutes under the same conditions as the experimental example described below.

한편, SU-8 잉크는 소수성을 가지므로, 절연층(21) 위에 은 나노입자 잉크를 인쇄할 경우 각각의 잉크 액적이 서로 연결되지 못하는 경우도 있으며, 서로 연결되어 라인을 형성하더라도 필요한 선폭으로 라인이 형성되지 못할 수 있다. 이는 SU-8의 표면에너지를 조절함으로써 대응할 수 있는 바, 절연층(21)의 표면에 대해 자외선(UV)을 조사하고 오존(O3)과 접촉시킴으로써 표면처리를 한다(S70, 표면처리단계). 아래에서 설명할 실험예와 같은 조건에서 이 표면처리단계(S70)는 15초간 이루어지는 것이 바람직하다. 이 과정을 통해 SU-8의 표면에너지를 바꿈으로써 소수성으로부터 친수성으로 개질이 가능하다.On the other hand, since the SU-8 ink has hydrophobicity, when the silver nanoparticle ink is printed on the insulating layer 21, the respective ink droplets may not be connected to each other. Even if they are connected to each other to form a line, May not be formed. This can be coped with by controlling the surface energy of the SU-8, so that the surface of the insulating layer 21 is subjected to surface treatment by irradiating ultraviolet rays (UV) and bringing them into contact with ozone (O 3 ) (S 70, surface treatment step) . It is preferable that this surface treatment step (S70) is performed for 15 seconds under the same condition as the experimental example described below. Through this process, it is possible to modify from hydrophobic to hydrophilic by changing the surface energy of SU-8.

표면처리단계(S70)를 거친 절연층(21) 위에 은 나노입자 잉크를 재차 잉크젯 인쇄하여 제2 배선 패턴(12)을 형성한다(S80, 제3 인쇄단계). 그러면 제1 배선 패턴(11)과 제2 배선 패턴(12)이 절연층(21)을 사이에 두고 복층으로 형성된 기판을 얻을 수 있다. 이후에 건조단계(S30)부터 제3 인쇄단계(S80)를 순차 반복하면 3층 이상의 다층 배선 기판을 얻게 된다. 예컨대 도 1에서는 제2 배선 패턴(12) 위에 제2 절연층(22), 제2 절연층(22) 위에 제3 배선 패턴(13)을 형성함으로써 3층으로 만들어진 배선 기판을 예시하고 있다.The second wiring pattern 12 is formed by inkjet printing of the silver nanoparticle ink on the insulating layer 21 having undergone the surface treatment step S70 (S80, third printing step). Thereby, a substrate in which the first wiring pattern 11 and the second wiring pattern 12 are formed in a multilayer with the insulating layer 21 therebetween can be obtained. Thereafter, the drying step (S30) to the third printing step (S80) are repeated in order to obtain a multilayer wiring board having three or more layers. For example, FIG. 1 illustrates a wiring board made of three layers by forming a second insulating layer 22 on the second wiring pattern 12 and a third wiring pattern 13 on the second insulating layer 22.

이하에서는 구체적인 실험예를 통해 본 발명에 따른 다층 배선 기판 및 그 제조방법의 일실시예를 상세히 설명한다.Hereinafter, a multilayer wiring board and a method of manufacturing the same according to the present invention will be described in detail with reference to specific experimental examples.

먼저 실리콘 베이스의 기판과, 은 나노입자 잉크와 SU-8 잉크를 준비한다. 이 실험예에서 은 나노입자 잉크는 ANP사의 DGP 40LT-15C이고, SU-8 잉크는 MicroChem사의 PriElex® SU-8이며, 잉크젯 프린터는 Fujifilm사의 Dimatix materials printer DMP-2381(카트리지 DMP-11610)로서, 인쇄되는 액적의 부피는 10pL이다. 한편, 이 잉크젯 프린터는 각 액적의 간격을 5~40㎛의 범위에서 조절할 수 있는데, 이 실험예에서 은 나노입자 잉크는 20㎛의 간격으로, SU-8 잉크는 5㎛ 간격으로 각각 인쇄된다.First, a silicon-based substrate, silver nanoparticle ink, and SU-8 ink are prepared. In this example, the silver nanoparticle ink is DGP 40LT-15C from ANP, the SU-8 ink is PriElex® SU-8 from MicroChem, and the inkjet printer is a Dimatix materials printer DMP-2381 from Fujifilm (cartridge DMP- The volume of the droplet to be printed is 10 pL. Meanwhile, in this ink-jet printer, the interval of each liquid droplet can be adjusted within a range of 5 to 40 mu m. In this experimental example, the nanoparticle ink is printed at an interval of 20 mu m and the SU-8 ink is printed at an interval of 5 mu m.

SU-8 잉크는 완전 경화시 소수성을 가지고 있으므로, 그 위에 인쇄된 은 나노입자 잉크의 퍼짐성을 저해한다. 도 3에서, SU-8로 된 절연층에 대해 베이킹 온도를 변화시키면서 절연층 상에 인쇄된 은 나노입자 잉크의 단일한 액적(Deposited single droplet)의 직경(diameter), 계산된 접촉각(Calculated contact angle), 선폭(Line width)의 각 변화를 순차로 도표화하고 있다. 이에 따르면 155℃ 이하에서는 은 나노입자 잉크 액적의 직경이 변하지 않다가 156℃에서 급격히 증가한 후, 157℃에서 급격히 감소하여 155℃ 이하에서보다 작은 직경이 된다. 접촉각은 헤미 스페리컬 모델(hemi-spherical model)로 계산된 것으로서, 직경 변화와는 대체적으로 상반되는 거동을 보인다. 이들 직경과 접촉각 변화 그래프로부터, SU-8은 156℃ 근처에서 그 표면 성질이 친수성에서 소수성으로 전환되는 것임을 추정할 수 있다. 선폭의 변화 그래프에서 보인 바와 같이 157℃ 이상에서는 라인이 형성되지 못하고 은 나노입자 잉크의 액적들이 단속적으로 남아 있게 된다. 이와 같은 변화는 도 4의 실제 촬영 이미지로부터도 확인할 수 있다.The SU-8 ink has hydrophobicity when fully cured, thereby impairing the spreadability of the silver nanoparticle ink printed thereon. In FIG. 3, the diameter of a single droplet of silver nanoparticle ink printed on the insulating layer, the calculated contact angle ), And the line width are sequentially plotted. According to this, the diameter of the silver nano-particle ink droplet does not change at 155 ° C or less, but rapidly increases at 156 ° C, then rapidly decreases at 157 ° C and becomes smaller at 155 ° C or less. The contact angle is calculated by a hemi-spherical model, which shows a generally opposite behavior to the diameter change. From these diameters and contact angle change graphs, it can be assumed that SU-8 has its surface properties changed from hydrophilic to hydrophobic near 156 ° C. As shown in the graph of the line width change, the line can not be formed at 157 ° C or more and the droplets of the silver nanoparticle ink remain intermittently. Such a change can also be confirmed from the actual photographed image in Fig.

한편, SU-8의 표면에너지는 베이킹 온도 뿐만 아니라 자외선(UV) 및 오존(O3) 처리의 영향을 받는다는 것도 확인할 수 있다. 도 5는 UV/O3 처리 시간에 따라 SU-8 상에 도포된 은 나노입자 잉크의 계산된 접촉각(Calculated contact angle), 선폭(Line width)의 각 변화를 도표화한 것이다. 이에 따르면 UV/O3 처리 시간이 길어질수록 접촉각은 작아지고 선폭이 증가하므로 SU-8의 표면 성질이 소수성으로부터 친수성으로 전환되어 간다는 것을 알 수 있다. 이에 따라 SU-8 상에 인쇄된 은 나노입자 잉크의 실제 이미지가 도 6에 나타나 있다. 표면처리를 하지 않은 상태에서는 은 나노입자 잉크의 액적들이 단속적으로 배열되어 있지만, 표면처리 15초가 경과하면 서로 연결되어 선폭이 76㎛인 라인을 형성하며, 표면처리 30초 시점에서 선폭 83㎛, 표면처리 45초에서 선폭 92㎛를 거쳐, 표면처리 60초이면 선폭이 140㎛에 이르게 된다.On the other hand, it can be seen that the surface energy of SU-8 is influenced not only by the baking temperature but also by ultraviolet (UV) and ozone (O 3 ) treatment. FIG. 5 is a table showing changes in calculated contact angle and line width of silver nano-particle ink applied on SU-8 according to UV / O 3 treatment time. According to the results, as the UV / O 3 treatment time becomes longer, the contact angle becomes smaller and the line width increases, so that the surface property of SU-8 is changed from hydrophobic to hydrophilic. Thus, an actual image of the silver nanoparticle ink printed on SU-8 is shown in Fig. In the state of no surface treatment, the droplets of the silver nanoparticle ink are intermittently arranged. However, when 15 seconds of the surface treatment are elapsed, they are connected to form a line having a line width of 76 m, The treatment took 45 seconds and the line width was 92 占 퐉. When the surface treatment was carried out for 60 seconds, the line width reached 140 占 퐉.

도 7은 이상과 같은 실험예에 의해 제조된 다층 배선 기판의 일례의 단면 프로파일을 도표화한 것이다. 측방향 폭(Lateral distance)의 스케일이 높이(Height)의 스케일과 다르다는 점에 유의하여야 한다. 도 8은 위 실험예에 의해 제조된 다층 배선 기판의 다른 예의 실제 단면 이미지이다. 이와 같이 본 발명에 따르면 절연층을 SU-8 잉크로, 도전층을 은 나노입자 잉크로 각각 형성하면서도 양자간의 소수성을 조절함으로써 절연층의 두께, 배선 패턴의 두께 및 폭을 다양하게 제조할 수 있음을 알 수 있다.Fig. 7 is a diagram showing a cross-sectional profile of an example of the multilayer wiring board manufactured by the above-described experimental example. It should be noted that the scale of the lateral distance is different from the scale of the height. 8 is an actual sectional image of another example of the multilayer wiring board manufactured by the above experimental example. As described above, according to the present invention, it is possible to variously manufacture the thickness of the insulating layer and the thickness and width of the wiring pattern by controlling the hydrophobicity between the insulating layer and the conductive layer, respectively, while forming the insulating layer with the SU-8 ink and the conductive layer with the silver nanoparticle ink. .

이상에서 인쇄 방식에 대해 잉크젯 인쇄 방식을 예로 들어 설명하였으나, EHD(Electrohydrodynamic)젯, 노즐젯 등 비접촉 인쇄 방식이라면 어느 하나 또는 그 이상을 조합하여 적용할 수 있음은 물론이다.Although the ink jet printing method has been described as an example of the printing method, any one or more of the non-contact printing methods such as EHD (Electrohydrodynamic) jet, nozzle jet, and the like may be applied.

앞에서 설명되고, 도면에 도시된 본 발명의 실시예들은, 본 발명의 기술적 사상을 한정하는 것으로 해석되어서는 안된다. 본 발명의 보호범위는 청구범위에 기재된 사항에 의하여만 제한되고, 본 발명의 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상을 다양한 형태로 개량 변경하는 것이 가능하다. 따라서 이러한 개량 및 변경은 통상의 지식을 가진 자에게 자명한 것인 한 본 발명의 보호범위에 속하게 될 것이다.The embodiments of the present invention described above and shown in the drawings should not be construed as limiting the technical idea of the present invention. The scope of protection of the present invention is limited only by the matters described in the claims, and those skilled in the art will be able to modify the technical idea of the present invention in various forms. Accordingly, such improvements and modifications will fall within the scope of the present invention as long as they are obvious to those skilled in the art.

Claims (16)

기판과,
상기 기판의 일면 상에 은(Ag) 나노입자 잉크로 비접촉 인쇄 방식에 의해 형성된 제1 배선 패턴과,
상기 제1 배선 패턴이 외부로 노출되지 않게 덮이도록 상기 기판의 일면 상에 SU-8 잉크로 비접촉 인쇄 방식에 의해 형성된 절연층과,
상기 절연층의 외면 상에 은 나노입자 잉크로 비접촉 인쇄 방식에 의해 형성된 제2 배선 패턴을 포함하고,
상기 절연층은 200℃에서 베이킹되고 15초 이상 60초 이하의 시간 동안 자외선 및 오존 처리되는 다층 배선 기판.
A substrate;
A first wiring pattern formed by a non-contact printing method using silver (Ag) nano-particle ink on one surface of the substrate,
An insulating layer formed on one surface of the substrate by a non-contact printing method with SU-8 ink so that the first wiring pattern is covered so as not to be exposed to the outside,
And a second wiring pattern formed on the outer surface of the insulating layer by a non-contact printing method using silver nanoparticle ink,
Wherein the insulating layer is baked at 200 DEG C and subjected to ultraviolet ray and ozone treatment for a time of 15 seconds or more and 60 seconds or less.
제1항에 있어서,
상기 제1 배선 패턴 및 제2 배선 패턴은 건조 및 베이킹되는 다층 배선 기판.
The method according to claim 1,
Wherein the first wiring pattern and the second wiring pattern are dried and baked.
제2항에 있어서,
상기 제1 배선 패턴 및 제2 배선 패턴은 50℃에서 건조되고 200℃에서 베이킹되는 다층 배선 기판.
3. The method of claim 2,
Wherein the first wiring pattern and the second wiring pattern are dried at 50 캜 and baked at 200 캜.
삭제delete 삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 절연층과 제2 배선 패턴이 순차로 반복하여 적층된 다층 배선 기판.
The method according to claim 1,
Wherein the insulating layer and the second wiring pattern are repeatedly laminated in order.
절연성 재질로 된 기판을 준비하는 기판준비단계와,
상기 기판의 일면에 은(Ag) 나노입자 잉크로 비접촉 인쇄 방식에 의해 제1 배선 패턴을 형성하는 제1 인쇄단계와,
상기 제1 배선 패턴이 외부로 노출되지 않게 덮이도록 상기 기판의 일면상에 SU-8 잉크로 비접촉 인쇄 방식에 의해 절연층을 형성하는 제2 인쇄단계와,
상기 절연층의 외면에 은(Ag) 나노입자 잉크로 비접촉 인쇄 방식에 의해 제2 배선 패턴을 형성하는 제3 인쇄단계를 포함하고,
상기 제2 인쇄단계 이후, 제3 인쇄단계 이전에 상기 절연층을 200℃에서 베이킹하는 제2 베이킹 단계와,
상기 제2 인쇄단계 이후, 제3 인쇄단계 이전에 상기 절연층에 15초 이상 60초 이하의 시간 동안 자외선 및 오존 처리를 하는 표면처리단계를 더 포함하는 다층 배선 기판의 제조 방법.
A substrate preparation step of preparing a substrate made of an insulating material,
A first printing step of forming a first wiring pattern by a non-contact printing method using silver (Ag) nanoparticle ink on one surface of the substrate;
A second printing step of forming an insulating layer by non-contact printing with SU-8 ink on one surface of the substrate so that the first wiring pattern is covered so as not to be exposed to the outside,
And a third printing step of forming a second wiring pattern by a non-contact printing method using silver (Ag) nanoparticle ink on the outer surface of the insulating layer,
A second baking step of baking the insulating layer at 200 DEG C before the third printing step after the second printing step;
Further comprising a surface treatment step of subjecting the insulating layer to ultraviolet rays and ozone treatment for not less than 15 seconds and not longer than 60 seconds after the second printing step and before the third printing step.
제8항에 있어서,
상기 제1 인쇄단계 이후, 제2 인쇄단계 이전에 상기 제1 배선 패턴을 건조 및 베이킹하는 제1 베이킹단계를 더 포함하는 다층 배선 기판의 제조 방법.
9. The method of claim 8,
Further comprising a first baking step of drying and baking the first wiring pattern after the first printing step and before the second printing step.
제9항에 있어서,
상기 제1 베이킹단계는 50℃에서 건조하고 200℃에서 베이킹하는 다층 배선 기판의 제조 방법.
10. The method of claim 9,
Wherein the first baking step comprises drying at 50 캜 and baking at 200 캜.
삭제delete 삭제delete 삭제delete 제8항에 있어서,
상기 제3 인쇄단계 이후에 상기 제2 인쇄단계와 제3 인쇄단계가 순차로 반복되는 다층 배선 기판의 제조 방법.
9. The method of claim 8,
Wherein the second printing step and the third printing step are sequentially repeated after the third printing step.
제8항에 있어서,
상기 비접촉 인쇄 방식은 잉크젯, EHD젯, 노즐젯 중 적어도 한 가지 방식을 포함하는 다층 배선 기판의 제조 방법.
9. The method of claim 8,
Wherein the non-contact printing method includes at least one of ink jet, EHD jet, and nozzle jet.
제1항에 있어서,
상기 비접촉 인쇄 방식은 잉크젯, EHD젯, 노즐젯 중 적어도 한 가지 방식을 포함하는 다층 배선 기판.
The method according to claim 1,
The non-contact printing method includes at least one of ink jet, EHD jet, and nozzle jet.
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