KR101849581B1 - Display device and method of fabricating the same - Google Patents

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Abstract

표시장치의 제조방법은, 화소 영역을 제어하는 제1 기판을 형성하는 단계; 상기 화소 영역 및 비화소 영역으로 구분되고, 상기 비화소 영역 중 기판의 테두리 영역에 형성된 외곽 블랙 매트릭스 영역을 포함하는 제2 기판을 형성하는 단계; 및 상기 제1 기판 및 상기 제2 기판을 합착한 이후에, 상기 외곽 블랙 매트릭스 영역을 제외한 상기 제2 기판의 배면에 설정된 패턴대로 정전기 보호용 투명막을 코팅하는 단계;를 포함한다.A manufacturing method of a display device includes: forming a first substrate for controlling a pixel region; Forming a second substrate including an outer black matrix region which is divided into the pixel region and the non-pixel region and which is formed in an edge region of the substrate among the non-pixel regions; And coating the electrostatic protection transparent film in a pattern set on the back surface of the second substrate except for the outer black matrix area after the first substrate and the second substrate are bonded together.

Description

표시장치 및 그 제조방법{DISPLAY DEVICE AND METHOD OF FABRICATING THE SAME}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a display device and a method of manufacturing the same.

본 발명은 표시장치에 관한 것으로서, 정전기 보호층을 효율적으로 형성하는 기술에 관한 것이다.TECHNICAL FIELD The present invention relates to a display device, and more particularly, to a technique for efficiently forming an electrostatic protection layer.

음극선관(Cathode Ray Tube, CRT)의 단점인 무게와 부피를 줄일 수 있는 각종 평판 표시 장치들이 대두되고 있다. 평판 표시 장치로는 액정 표시 장치(Liquid Crystal Display Device, LCD), 플라즈마 표시 패널(Plasma Display Panel, PDP) 및 유기발광 표시 장치(ORGANIC LIGHT EMITTING DISPLAY DEVICE, OLED) 등이 있다.Various flat panel display devices that can reduce weight and volume, which are disadvantages of cathode ray tubes (CRTs), are emerging. Examples of flat panel display devices include a liquid crystal display device (LCD), a plasma display panel (PDP), and an organic light emitting display device (OLED).

한편, 평판 표시 장치는 사람의 손과 같은 외부 물체의 접촉으로 정전기가 유입 될 경우, 정전기에 의해 발생하는 전계로 인하여 화질의 저하가 발생하기도 한다. 특히, IPS(In-Plane Switching) 모드로 구동되는 액정 표시장치는 횡전계를 통해서 액정층의 액정분자를 제어하여 화상을 표시하게 된다. 이때, 정전기가 유입될 경우, 액정패널과 수직한 방향으로 전계가 형성된다. 따라서 정전기로 인한 수직전계에 의해서 액정층 횡전계가 왜곡되는 현상이 발생할 수 있으며, 이로 인하여 액정 표시장치의 불량이 발생할 수 있다.
On the other hand, when static electricity is introduced into the flat panel display device due to the contact of an external object such as a human hand, the image quality may be deteriorated due to an electric field generated by static electricity. Particularly, in a liquid crystal display device driven in an IPS (In-Plane Switching) mode, an image is displayed by controlling liquid crystal molecules of the liquid crystal layer through a transverse electric field. At this time, when static electricity flows, an electric field is formed in a direction perpendicular to the liquid crystal panel. Therefore, a phenomenon that the liquid crystal layer transverse electric field is distorted by the vertical electric field due to the static electricity may occur, which may lead to a failure of the liquid crystal display device.

도 1은 액정 표시장치의 일반적인 정전기 방전 방식을 나타낸 도면이다.1 is a view showing a general electrostatic discharge method of a liquid crystal display device.

도 1을 참조하면, 정전기 방전용 ITO(Indium Tin Oxide)가 형성되지 않은 경우(11)와, 정전기 방전용 ITO(Indium Tin Oxide)가 기판의 전면에 형성된 경우(12)의 정전기로 인한 현상을 확인 할 수 있다. 즉, 제1 경우(11)에 정전기의 수직 전계로 인하여 액정분자가 수직 방향으로 틀어짐으로써, 백화현상이 발생할 수 있다. 반면에 제2 경우(12) 정전기 방전용 ITO(Indium Tin Oxide)에 의해서 정전기가 외부로 방전됨으로써, 백화현상이 발생하지 않는다.Referring to FIG. 1, a case 11 in which no indium tin oxide (ITO) is formed for electrostatic discharge and a case 12 in which an ITO (Indium Tin Oxide) Can be confirmed. That is, in the first case (11), due to the vertical electric field of the static electricity, the liquid crystal molecules are distorted in the vertical direction, so that whitening may occur. On the other hand, in the second case (12), static electricity is discharged to the outside by the ITO (Indium Tin Oxide) for electrostatic discharge, so that whitening does not occur.

일반적으로 정전기 방전용 ITO(Indium Tin Oxide)는 유리 기판의 배면에 스퍼터(Sputter) 방식으로 전면 증착된다. 또한, 정전기 방전용 ITO(Indium Tin Oxide)가 유리 기판의 배면에 증착된 후, 정전기 방전용 ITO(Indium Tin Oxide)가 증착된 반대쪽 면에 컬러필터, 블랙 매트릭스 등이 형성된다. 한편, 액정 표시장치에 RF 안테나가 실장될 경우, 유리 기판의 배면의 전면에 형성된 정전기 방전용 ITO(Indium Tin Oxide)를 일부 제거하는 공정이 필요하다, 즉, 정전기 방전용 ITO(Indium Tin Oxide)는 전도성 투명막이므로, RF 안테나의 수신율을 저하시킬 수 있다. 따라서 RF 안테나가 실장되는 영역의 정전기 방전용 ITO(Indium Tin Oxide)는 추가적인 공정을 통하여 제거되어야 한다.In general, ITO (Indium Tin Oxide) for electrostatic discharge is deposited on the back surface of a glass substrate by a sputter method. In addition, after the ITO (Indium Tin Oxide) for electrostatic discharge is deposited on the back surface of the glass substrate, a color filter, a black matrix, and the like are formed on the opposite side of the ITO (Indium Tin Oxide) deposited on the electrostatic discharge. Meanwhile, when the RF antenna is mounted on the liquid crystal display device, a step of partially removing the ITO (Indium Tin Oxide) formed on the entire rear surface of the glass substrate is required. That is, the ITO (Indium Tin Oxide) Is a conductive transparent film, it can lower the reception ratio of the RF antenna. Therefore, the ITO (Indium Tin Oxide) in the area where the RF antenna is mounted should be removed through an additional process.

본 발명은 상기와 같은 기술적 과제를 해결하기 위해 제안된 것으로, 정전기 보호용 투명막을 효율적으로 형성하여, 정전기 보호용 투명막으로 인한 RF 안테나의 수신율 저하를 방지할 수 있는 표시장치 및 그 제조방법을 제공한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been proposed in order to solve the above technical problems and provides a display device capable of efficiently forming a transparent film for protection of static electricity and preventing a decrease in the reception ratio of the RF antenna due to the transparent film for protecting the static electricity, .

또한, 원하는 패턴대로 직접 도포하여 경화시킬 수 있는 정전기 보호용 투명막을 포함하는 표시장치 및 그 제조방법을 제공한다.The present invention also provides a display device including a transparent film for electrostatic protection that can be directly applied and cured in a desired pattern, and a method of manufacturing the same.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 화소 영역을 제어하는 제1 기판; 및 상기 제1 기판과 서로 대향하여 합착되며, 상기 화소 영역 및 비화소 영역으로 구분되고, 상기 비화소 영역 중 기판의 테두리 영역에 형성된 외곽 블랙 매트릭스 영역을 포함하며, 상기 외곽 블랙 매트릭스 영역을 제외한 배면에 정전기 보호용 투명막이 코팅된 제2 기판;을 포함하는 표시장치가 제공된다.According to an embodiment of the present invention, there is provided a liquid crystal display comprising: a first substrate for controlling a pixel region; And an outer black matrix region formed in the edge region of the substrate among the non-pixel regions, the outer black matrix region being divided into the pixel region and the non-pixel region, And a second substrate on which an electrostatic protection transparent film is coated.

또한, 상기 제1 기판은, 복수의 게이트 배선 및 복수의 데이터 배선이 교차 형성되고, 각 교차지점마다 화소 스위칭 소자가 형성되며, 상기 제2 기판은, 상기 화소 스위칭 소자를 통해서 제어되는 상기 화소 영역에 대응하여 형성된 컬러필터와, 상기 컬러필터 사이의 비화소 영역에 형성된 블랙 매트릭스 영역과, 테두리 비화소 영역에 형성된 상기 외곽 블랙 매트릭스 영역을 포함하는 것을 특징으로 한다.In the first substrate, a plurality of gate wirings and a plurality of data wirings are formed to intersect with each other, and a pixel switching element is formed at each intersection, and the second substrate is connected to the pixel region A black matrix region formed in the non-pixel region between the color filters, and an outer black matrix region formed in the frame non-pixel region.

또한, 상기 제1 및 제2 기판 사이에 봉입된 액정층을 더 포함하는 것을 특징으로 한다.The liquid crystal display device may further include a liquid crystal layer sealed between the first and second substrates.

또한, 상기 정전기 보호용 투명막은 C,O,H,S 또는 C,O,H,N 으로 구성되는 전도성 고분자 물질을 포함하며, 예정된 패턴대로 직접 코팅 및 경화 되어 형성되는 것을 특징으로 한다.Also, the electrostatic protection transparent film includes a conductive polymer material composed of C, O, H, S or C, O, H and N, and is formed by directly coating and curing according to a predetermined pattern.

또한, 상기 정전기 보호용 투명막이 코팅되지 않은 영역 주위에 RF 수신용 안테나가 실장되는 것을 특징으로 한다.Further, an RF receiving antenna is mounted around the region where the transparent film for protecting static electricity is not coated.

또한, 본 발명의 다른 실시예에 따르면, 화소 영역을 제어하는 제1 기판을 형성하는 단계; 상기 화소 영역 및 비화소 영역으로 구분되고, 상기 비화소 영역 중 기판의 테두리 영역에 형성된 외곽 블랙 매트릭스 영역을 포함하는 제2 기판을 형성하는 단계; 및 상기 제1 기판 및 상기 제2 기판을 합착한 이후에, 상기 외곽 블랙 매트릭스 영역을 제외한 상기 제2 기판의 배면에 설정된 패턴대로 정전기 보호용 투명막을 코팅하는 단계;를 포함하는 표시장치의 제조방법이 제공된다.According to another embodiment of the present invention, there is provided a method of manufacturing a liquid crystal display, comprising: forming a first substrate for controlling a pixel region; Forming a second substrate including an outer black matrix region which is divided into the pixel region and the non-pixel region and which is formed in an edge region of the substrate among the non-pixel regions; And coating a transparent conductive film for electrostatic protection according to a pattern set on a back surface of the second substrate except for the outer black matrix region after the first substrate and the second substrate are bonded together, / RTI >

또한, 상기 정전기 보호용 투명막이 코팅되지 않은 영역 주위에 RF 수신용 안테나를 실장하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.Further, the method may further include mounting an RF receiving antenna around the region where the transparent film for protecting static electricity is not coated.

또한, 상기 정전기 보호용 투명막을 코팅하는 단계는, 롤링 코팅방식을 통해서 설정된 패턴대로 C,O,H,S 또는 C,O,H,N 으로 구성되는 전도성 고분자 물질 및 Si,O,C,H 로 구성되는 베이스 물질을 도포하는 단계; 및 도포된 상기 전도성 고분자 물질 및 상기 베이스 물질을 경화시키는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.The step of coating the electrostatic protection transparent film may include a step of coating a conductive polymer material composed of C, O, H, S or C, O, H, N and Si, O, C and H Applying a base material to be formed; And curing the coated conductive polymer material and the base material.

또한, 상기 제1 기판을 형성하는 단계는, 복수의 게이트 배선 및 복수의 데이터 배선을 교차 형성하고, 각 교차지점마다 화소 스위칭 소자를 형성하는 단계를 포함하며, 상기 제2 기판을 형성하는 단계는, 상기 화소 스위칭 소자를 통해서 제어되는 상기 화소 영역에 대응하는 영역에 컬러필터를 형성하고, 상기 컬러필터 사이의 비화소 영역에 블랙 매트릭스 영역을 형성하며, 테두리 비화소 영역에 상기 외곽 블랙 매트릭스 영역을 형성하는 단계를 포함한다.The forming of the first substrate may include crossing a plurality of gate wirings and a plurality of data wirings and forming a pixel switching element at each crossing point, , A color filter is formed in an area corresponding to the pixel area controlled through the pixel switching element, a black matrix area is formed in the non-pixel area between the color filters, and the outer black matrix area is formed in the edge non- .

또한, 상기 제1 기판 및 상기 제2 기판을 합착하는 단계는, 상기 제1 및 제2 기판 사이에 액정층을 봉입하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.The step of bonding the first substrate and the second substrate may include sealing the liquid crystal layer between the first and second substrates.

본 발명에 따른 표시장치 및 그 제조방법은 다음과 같은 효과가 있다.The display device and the manufacturing method thereof according to the present invention have the following effects.

진공을 형성하기 위한 챔버 등의 부가적인 장비 없이 정전기 보호용 투명막을 원하는 패턴대로 직접 코팅할 수 있다. 또한, 정전기 보호용 투명막을 원하는 패턴대로 직접 코팅할 수 있으므로, 투명막을 제거하기 위한 추가적인 공정이 요구되지 않는다.The transparent film for electrostatic protection can be directly coated in a desired pattern without any additional equipment such as a chamber for forming a vacuum. Further, since the electrostatic protection transparent film can be directly coated with a desired pattern, no additional process for removing the transparent film is required.

정전기 보호용 투명막이 코팅되지 않은 테두리 비화소 영역에 형성된 외곽 블랙 매트릭스 영역에 RF 안테나를 실장함으로써, RF 안테나의 수신율을 향상시킬 수 있다.The reception ratio of the RF antenna can be improved by mounting the RF antenna in the outer black matrix area formed in the edge non-pixel area not coated with the static electricity protection transparent film.

또한, 외곽 프레임이 매우 좁고(Borderless), RF (3G, Wifi) 수신율이 높은 IPS 모드의 표시장치를 적용한 휴대용 장치를 개발할 수 있다.In addition, it is possible to develop a portable device to which a display device of IPS mode with a very narrow outer frame (borderless) and high RF (3G, Wifi) reception ratio is applied.

도 1은 액정 표시장치의 일반적인 정전기 방전 방식을 나타낸 도면이다.
도 2a 내지 도 2e는 본 발명의 실시예에 따른 표시장치의 제조방법을 나타낸 공정 단면도들이고, 도 3은 본 발명의 실시예에 따른 표시장치의 개략적인 사시도이다.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 표시장치에 적용한 정전기 보호용 투명막의 면저항에 대한 실험 결과를 나타낸 도면, 도 5는 정전기 보호용 투명막의 투과도에 대한 실험 결과를 나타낸 도면, 도 6은 정전기 보호용 투명막의 정전기 방전 실험 전후의 면저항 변화에 대한 실험 결과를 나타낸 도면이다.1 is a view showing a general electrostatic discharge method of a liquid crystal display device.
FIGS. 2A to 2E are process sectional views illustrating a method of manufacturing a display device according to an embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a schematic perspective view of a display device according to an embodiment of the present invention.
FIG. 4 is a graph showing experimental results on the sheet resistance of the electrostatic protection transparent film applied to the display device according to the embodiment of the present invention, FIG. 5 is a graph showing the experimental results on the transparency of the electrostatic protection transparent film, FIG. 5 is a graph showing experimental results on changes in sheet resistance before and after an electrostatic discharge test. FIG.

이하, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명의 기술적 사상을 용이하게 실시할 수 있을 정도로 상세히 설명하기 위하여, 본 발명의 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 설명하기로 한다.
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings, in order to facilitate a person skilled in the art to easily carry out the technical idea of the present invention.

도 2a 내지 도 2e는 본 발명의 실시예에 따른 표시장치의 제조방법을 나타낸 공정 단면도들이고, 도 3은 본 발명의 실시예에 따른 표시장치(1)의 개략적인 사시도이다.FIGS. 2A to 2E are process sectional views showing a manufacturing method of a display device according to an embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a schematic perspective view of a display device 1 according to an embodiment of the present invention.

도 2a 내지 도 2e와, 도 3을 참조하여, 본 발명의 실시예에 따른 표시장치 및 그 제조방법을 보다 구체적으로 살펴보면 다음과 같다.2A to 2E and FIG. 3, a display device and a method of manufacturing the same according to an embodiment of the present invention will be described in detail.

우선, 화소 영역을 제어하는 제1 기판(200)을 형성한다. 제1 기판(200)을 형성하는 단계는, 제1 지지 기판(210) 상에 복수의 게이트 배선 및 복수의 데이터 배선을 교차 형성하고, 각 교차지점마다 화소 스위칭 소자(210)를 형성하는 단계를 포함할 수 있다. 화소 스위칭 소자(210)는 박막 트랜지스터(Thin Film Transistor, TFT)로 형성될 수 있다. 본 실시예에서는 제1 기판(200)을 형성하는 상세한 도면 및 과정의 설명은 생략하기로 하며, 제2 기판(100)이 생성되는 과정과, 제2 기판(100) 및 제1 기판(200)이 합착되고 정전기 보호용 투명막(400)이 코팅되는 과정 등을 상세히 설명하기로 한다.First, a first substrate 200 for controlling the pixel region is formed. The step of forming the first substrate 200 may include a step of forming a plurality of gate wirings and a plurality of data wirings on the first supporting substrate 210 and forming the pixel switching elements 210 at each of the intersections . The pixel switching element 210 may be formed of a thin film transistor (TFT). In the present embodiment, the detailed description of the process of forming the first substrate 200 will be omitted and the process of forming the second substrate 100 and the processes of forming the second substrate 100 and the first substrate 200, And the process of coating the electrostatic protection transparent film 400 will be described in detail.

다음으로, 화소 영역 및 비화소 영역으로 구분되고, 비화소 영역 중 기판의 테두리 영역에 형성된 외곽 블랙 매트릭스 영역(122)을 포함하는 제2 기판(100)을 형성한다. 제2 기판(100)을 형성하는 단계는, 제2 지지 기판(110) 상에 화소 스위칭 소자를 통해서 제어되는 화소 영역에 대응하는 영역에 컬러필터(130)를 형성하고, 컬러필터(130) 사이의 비화소 영역에 블랙 매트릭스 영역(121)을 형성하며, 테두리 비화소 영역에 외곽 블랙 매트릭스 영역(122)을 형성하는 단계를 포함할 수 있다. 또한, 각 소자들의 단차를 없애기 위해서 오버코트층(140)이 추가적으로 형성될 수 있다. 제2 지지 기판(110)은 유리재질의 물질로 형성될 수 있다.Next, the second substrate 100, which is divided into the pixel region and the non-pixel region and includes the outer black matrix region 122 formed in the edge region of the substrate of the non-pixel region, is formed. The step of forming the second substrate 100 may include forming a color filter 130 on the second support substrate 110 in a region corresponding to the pixel region controlled through the pixel switching element, And forming an outer black matrix region 122 in the border non-pixel region. In addition, an overcoat layer 140 may be additionally formed to eliminate steps of the elements. The second support substrate 110 may be formed of a glass material.

이때, 블랙 매트릭스 영역(121) 및 외곽 블랙 매트릭스 영역(122)이 형성된 이후에, 컬러필터(130)가 형성되는 것이 일반적이다. 화소 영역에 형성된 컬러필터(130)는 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B)을 발광하는 물질로 형성될 수 있으며, 본 실시예에서는 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B)의 3개의 서브 픽셀로 구성되는 하나의 픽셀 영역을 대표적으로 도시하였다. 이와 같이 정의되는 화소 영역 이외의 영역을 비화소 영역으로 정의하는데, 비화소 영역은 각각의 컬러필터(130) 사이에 형성되는 블랙 매트릭스 영역(121)과, 기판의 테두리 비화소 영역에 형성되는 외곽 블랙 매트릭스 영역(122)으로 정의할 수 있다. 블랙 매트릭스 영역(121)은 각 서브 픽셀 사이의 빛샘 현상을 방지하기 위해 형성되며, 외곽 블랙 매트릭스 영역(122)은 외곽의 빛샘 현상을 방지하기 위해서 형성된다. 일반적으로 외곽 블랙 매트릭스 영역(122)은 기판 사면의 외곽 테두리 부분에 형성된다.At this time, after the black matrix region 121 and the outer black matrix region 122 are formed, the color filter 130 is generally formed. The color filter 130 formed in the pixel region may be formed of a material that emits red (R), green (G), and blue (B) B) of the sub-pixel region. The non-pixel region is defined by the black matrix region 121 formed between each color filter 130 and the outer periphery formed in the frame non-pixel region of the substrate. And a black matrix region 122, as shown in FIG. The black matrix region 121 is formed to prevent a light leakage phenomenon between subpixels, and the outer black matrix region 122 is formed in order to prevent outward light leakage. In general, the outer black matrix region 122 is formed at the outer rim portion of the substrate slope.

다음으로, 제1 기판(200) 및 제2 기판(100)을 합착 시키게 된다. 제1 기판(200) 및 제2 기판(100)을 합착하는 단계는, 제1 및 제2 기판(200,100) 사이에 액정층(300)을 봉입하는 단계 등을 포함할 수 있다.Next, the first substrate 200 and the second substrate 100 are bonded together. The step of attaching the first substrate 200 and the second substrate 100 may include sealing the liquid crystal layer 300 between the first and second substrates 200 and 100.

다음으로, 제1 기판(200) 및 제2 기판(100)을 합착한 이후에, 외곽 블랙 매트릭스 영역(122)을 제외한 제2 기판(100)의 배면에, 설정된 패턴대로 정전기 보호용 투명막(400)을 코팅한다. 이때, 정전기 보호용 투명막(400)은, 사면의 외곽 블랙 매트릭스 영역(122)을 제외한 부분에 코팅될 수도 있으며, 사면의 외곽 블랙 매트릭스 영역(122) 중 어느 한면을 제외하고 코팅될 수도 있을 것이다.After the first substrate 200 and the second substrate 100 are bonded to each other, an electrostatic protection transparent film 400 (not shown) is formed on the back surface of the second substrate 100 except for the outer black matrix region 122, ). At this time, the electrostatic protection transparent film 400 may be coated on a portion except for the outer black matrix region 122 of the slope, and may be coated except for one of the outer black matrix regions 122 on the slope.

여기에서 정전기 보호용 투명막(400)을 코팅하는 단계는, 롤링 코팅방식을 통해서 설정된 패턴대로 C,O,H,S 또는 C,O,H,N 으로 구성되는 전도성 고분자 물질 및 Si,O,C,H 로 구성되는 베이스 물질을 도포하는 단계와, 도포된 전도성 고분자 물질 및 베이스 물질을 경화시키는 단계를 포함한다. 즉, 정전기 보호용 투명막(400)은 전도성 고분자 물질 및 그 형태를 유지하기 위한 베이스 물질로 구성되며, 롤링 코팅법을 통해서 설정된 패턴대로 도포된 이후에 경화공정을 통해서 경화된다. 본 실시예에서는 120 도 내외의 열경화 방식을 적용하였으며, 경화 방식은 실시예에 따라 조절될 수 있다.The step of coating the electrostatic protection transparent film 400 may include a step of coating a conductive polymer material composed of C, O, H, S or C, O, H, N and Si, O, C , ≪ / RTI > H, and curing the applied conductive polymeric material and the base material. That is, the electrostatic protection transparent film 400 is composed of a conductive polymer material and a base material for retaining the conductive polymer material, and is applied in a predetermined pattern through a rolling coating method, followed by curing through a curing process. In this embodiment, a thermal curing method of about 120 degrees is applied, and the curing method can be adjusted according to the embodiment.

마지막으로, 정전기 보호용 투명막(400)이 코팅되지 않은 영역 주위에 RF 수신용 안테나(500)를 실장한다. RF 수신용 안테나(500)는 3G 및 Wifi 안테나를 모두 포함할 수 있다. RF 수신용 안테나(500)는 정전기 보호용 투명막(400)에 영향을 받지 않으므로, 수신율이 저하되지 않는다.
Finally, the RF receiving antenna 500 is mounted around the region where the electrostatic protection transparent film 400 is not coated. The RF receiving antenna 500 may include both a 3G and a Wifi antenna. Since the antenna 500 for receiving RF is not affected by the electrostatic protection transparent film 400, the reception ratio is not lowered.

상술한 바와 같이 본 발명의 실시예에 따른 표시장치(1)는, 제1 기판 및 제2 기판과, 제1 및 제2 기판 사이에 봉입된 액정층과, 제2 기판의 배면에 설정된 패턴대로 코팅된 정전기 보호용 투명막으로 구성된다.As described above, the display device 1 according to the embodiment of the present invention includes the first substrate and the second substrate, the liquid crystal layer sealed between the first and second substrates, and the liquid crystal layer sealed between the first substrate and the second substrate, And a transparent electrostatic protective film.

여기에서, 제1 기판은, 복수의 게이트 배선 및 복수의 데이터 배선이 교차 형성되고, 각 교차지점마다 화소 스위칭 소자가 형성되어 화소영역을 제어한다.Here, in the first substrate, a plurality of gate wirings and a plurality of data wirings are cross-formed, and a pixel switching element is formed at each intersection point to control the pixel region.

또한, 제2 기판은, 제1 기판과 서로 대향하여 합착되며, 화소 영역 및 비화소 영역으로 구분되고, 비화소 영역 중 기판의 테두리 영역에 형성된 외곽 블랙 매트릭스 영역을 포함하며, 외곽 블랙 매트릭스 영역을 제외한 배면에 정전기 보호용 투명막이 코팅된다. 이때, 정전기 보호용 투명막은 C,O,H,S 또는 C,O,H,N 으로 구성되는 전도성 고분자 물질을 포함하며, 예정된 패턴대로 직접 코팅되고 열경화 되어 형성된다. 또한, 정전기 보호용 투명막이 코팅되지 않은 영역 주위에 RF 수신용 안테나가 실장된다.
The second substrate includes an outermost black matrix region formed in a border region of the substrate among the non-pixel regions, which is divided into a pixel region and a non-pixel region, And the back surface excepting is coated with a transparent film for protecting static electricity. At this time, the electrostatic protection transparent film includes a conductive polymer material composed of C, O, H, S or C, O, H, N and is formed by directly coating and thermosetting in a predetermined pattern. Further, the RF receiving antenna is mounted around the region where the transparent film for electrostatic protection is not coated.

도 4는 본 발명의 실시예에 따른 표시장치에 적용한 정전기 보호용 투명막의 면저항에 대한 실험 결과를 나타낸 도면, 도 5는 정전기 보호용 투명막의 투과도에 대한 실험 결과를 나타낸 도면, 도 6은 정전기 보호용 투명막의 정전기 방전 실험 전후의 면저항 변화에 대한 실험 결과를 나타낸 도면이다.FIG. 4 is a graph showing the experimental results of the sheet resistance of the electrostatic protection transparent film applied to the display device according to the embodiment of the present invention, FIG. 5 is a graph showing the experimental results on the transparency of the electrostatic protection transparent film, FIG. 5 is a graph showing experimental results on changes in sheet resistance before and after an electrostatic discharge test. FIG.

도 4를 참조하면 0.1 ~ 0.2 ㎛ 범위 주위의 두께에서 정전기 방지 범위(80M ~ 2G/sq)의 면저항을 만족하는 것을 확인 할 수 있다. 또한, 도 5를 참조하면, 해당 범위의 두께에 따른 투과율은 99% 이상을 유지하는 것을 확인할 수 있다. 또한, 도 6을 참조하면, 정전기 방전 실험 이후에도 정전기 보호용 투명막의 면저항이 동일하게 유지됨을 확인할 수 있다.Referring to FIG. 4, it can be confirmed that the sheet resistance of the antistatic range (80M to 2G / sq) is satisfied at a thickness in the range of 0.1 to 0.2 μm. Referring to FIG. 5, it can be seen that the transmittance according to the thickness of the range is maintained at 99% or more. Also, referring to FIG. 6, it can be seen that the sheet resistance of the electrostatic protection transparent film is kept the same after the electrostatic discharge test.

결론적으로 본 발명의 실시예에 따른 표시장치 및 표시장치의 제조방법을 적용하는 경우, 진공을 형성하기 위한 챔버 등과 부가적인 장비 없이 정전기 보호용 투명막을 원하는 패턴대로 직접 코팅할 수 있다. 또한, 정전기 보호용 투명막을 원하는 패턴대로 직접 코팅할 수 있으므로, 투명막을 제거하기 위한 추가적인 공정이 요구되지 않는다. 또한, 정전기 보호용 투명막이 코팅되지 않은 테두리 비화소 영역에 형성된 외곽 블랙 매트릭스 영역에 RF 안테나를 실장함으로써, RF 안테나의 수신율을 향상시킬 수 있다. 또한, 외곽 프레임이 매우 좁고(Borderless), RF (3G, Wifi) 수신율이 높은 IPS 모드의 표시장치를 적용한 휴대용 장치를 개발할 수 있다.
As a result, when a display device and a display device manufacturing method according to an embodiment of the present invention are applied, a transparent film for electrostatic protection can be directly coated in a desired pattern without a chamber or the like for forming a vacuum and additional equipment. Further, since the electrostatic protection transparent film can be directly coated with a desired pattern, no additional process for removing the transparent film is required. In addition, the reception ratio of the RF antenna can be improved by mounting the RF antenna in the outer black matrix area formed in the frame non-pixel area where the transparent protective film for static electricity is not coated. In addition, it is possible to develop a portable device to which a display device of IPS mode with a very narrow outer frame (borderless) and high RF (3G, Wifi) reception ratio is applied.

이상에서 설명한 본 발명은 상술한 실시예 및 첨부된 도면에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것이 본 발명이 속하는 기술분야에서 종래의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다.
It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or scope of the invention. Will be clear to those who have knowledge of.

200 : 제1 기판
100 : 제2 기판
110 : 제2 지지 기판
121 : 블랙 매트릭스 영역
122 : 외곽 블랙 매트릭스 영역
130 : 컬러필터
210 : 제1 지지 기판
220 : 화소 스위칭 소자
300 : 액정층200: first substrate
100: second substrate
110: second supporting substrate
121: black matrix area
122: outer black matrix area
130: Color filter
210: first supporting substrate
220: pixel switching element
300: liquid crystal layer

Claims (10)

화소 영역을 제어하는 제1 기판;
상기 제1 기판과 서로 대향하여 합착되며, 상기 화소 영역 및 비화소 영역으로 구분되고, 상기 비화소 영역 중 기판의 테두리 영역에 형성된 외곽 블랙 매트릭스 영역을 포함하며, 상기 외곽 블랙 매트릭스 영역을 제외한 배면에 정전기 보호용 투명막이 코팅된 제2 기판; 및
상기 정전기 보호용 투명막이 코팅되지 않은 영역 주위에 실장되는 RF 수신용 안테나를 구비하며,
상기 RF 수신용 안테나는 상기 외곽 블랙 매트릭스 영역과 중첩되도록 상기 제2 기판의 배면에 실장되는 표시장치.A first substrate for controlling a pixel region;
Pixel region, and an outer black matrix region formed in the edge region of the substrate among the non-pixel regions, the outer black matrix region being separated from the pixel region and the non-pixel region, A second substrate coated with a transparent film for electrostatic protection; And
And an RF receiving antenna mounted around the region where the transparent film for protecting static electricity is not coated,
And the RF receiving antenna is mounted on the back surface of the second substrate so as to overlap with the outer black matrix region. 제1항에 있어서,
상기 제1 기판은, 복수의 게이트 배선 및 복수의 데이터 배선이 교차 형성되고, 각 교차지점마다 화소 스위칭 소자가 형성되며,
상기 제2 기판은, 상기 화소 스위칭 소자를 통해서 제어되는 상기 화소 영역에 대응하여 형성된 컬러필터와, 상기 컬러필터 사이의 비화소 영역에 형성된 블랙 매트릭스 영역과, 테두리 비화소 영역에 형성된 상기 외곽 블랙 매트릭스 영역을 포함하는 표시장치.The method according to claim 1,
In the first substrate, a plurality of gate wirings and a plurality of data wirings are formed crossing each other, pixel switching elements are formed at each crossing point,
The second substrate includes a color filter formed corresponding to the pixel region controlled through the pixel switching element, a black matrix region formed in the non-pixel region between the color filters, and a black matrix region formed in the outer- A display comprising an area. 제1항에 있어서,
상기 제1 및 제2 기판 사이에 봉입된 액정층을 더 포함하는 표시장치.The method according to claim 1,
And a liquid crystal layer sealed between the first and second substrates. 제1항에 있어서,
상기 정전기 보호용 투명막은 C,O,H,S 또는 C,O,H,N 으로 구성되는 전도성 고분자 물질을 포함하며, 예정된 패턴대로 직접 코팅 및 경화 되어 형성되는 표시장치.The method according to claim 1,
Wherein the electrostatic protection transparent film includes a conductive polymer material composed of C, O, H, S or C, O, H, N and is formed by directly coating and curing according to a predetermined pattern. 삭제delete 화소 영역을 제어하는 제1 기판을 형성하는 단계;
상기 화소 영역 및 비화소 영역으로 구분되고, 상기 비화소 영역 중 기판의 테두리 영역에 형성된 외곽 블랙 매트릭스 영역을 포함하는 제2 기판을 형성하는 단계; 및
상기 제1 기판 및 상기 제2 기판을 합착한 이후에, 상기 외곽 블랙 매트릭스 영역을 제외한 상기 제2 기판의 배면에 설정된 패턴대로 정전기 보호용 투명막을 코팅하는 단계; 및
상기 정전기 보호용 투명막이 코팅되지 않은 영역 주위에 RF 수신용 안테나를 실장하는 단계를 포함하며,
상기 RF 수신용 안테나는 상기 외곽 블랙 매트릭스 영역과 중첩되도록 상기 제2 기판의 배면에 실장되는 표시장치의 제조방법.Forming a first substrate for controlling a pixel region;
Forming a second substrate including an outer black matrix region which is divided into the pixel region and the non-pixel region and which is formed in an edge region of the substrate among the non-pixel regions; And
Coating a transparent conductive film for electrostatic protection according to a pattern set on the back surface of the second substrate except for the outer black matrix region after the first substrate and the second substrate are bonded together; And
And mounting an RF receiving antenna around the area where the electrostatic protection transparent film is not coated,
Wherein the RF receiving antenna is mounted on a rear surface of the second substrate so as to overlap the outer black matrix region. 삭제delete 제6항에 있어서,
상기 정전기 보호용 투명막을 코팅하는 단계는,
롤링 코팅방식을 통해서 설정된 패턴대로 C,O,H,S 또는 C,O,H,N 으로 구성되는 전도성 고분자 물질 및 Si,O,C,H 로 구성되는 베이스 물질을 도포하는 단계; 및
도포된 상기 전도성 고분자 물질 및 상기 베이스 물질을 경화시키는 단계;를 포함하는 표시장치의 제조방법.The method according to claim 6,
Wherein the step of coating the electrostatic protection transparent film comprises:
Applying a conductive polymer material consisting of C, O, H, S or C, O, H, and N and a base material composed of Si, O, C, and H according to a pattern set through a rolling coating method; And
And curing the coated conductive polymer material and the base material. 제6항에 있어서,
상기 제1 기판을 형성하는 단계는, 복수의 게이트 배선 및 복수의 데이터 배선을 교차 형성하고, 각 교차지점마다 화소 스위칭 소자를 형성하는 단계를 포함하며,
상기 제2 기판을 형성하는 단계는, 상기 화소 스위칭 소자를 통해서 제어되는 상기 화소 영역에 대응하는 영역에 컬러필터를 형성하고, 상기 컬러필터 사이의 비화소 영역에 블랙 매트릭스 영역을 형성하며, 테두리 비화소 영역에 상기 외곽 블랙 매트릭스 영역을 형성하는 단계를 포함하는 표시장치의 제조방법.The method according to claim 6,
The step of forming the first substrate includes crossing a plurality of gate wirings and a plurality of data wirings and forming a pixel switching element at each crossing point,
Wherein forming the second substrate includes forming a color filter in a region corresponding to the pixel region controlled through the pixel switching element, forming a black matrix region in a non-pixel region between the color filters, And forming the outer black matrix region in the pixel region. 제6항에 있어서,
상기 제1 기판 및 상기 제2 기판을 합착하는 단계는,
상기 제1 및 제2 기판 사이에 액정층을 봉입하는 단계를 포함하는 표시장치의 제조방법.The method according to claim 6,
Wherein the step of bonding the first substrate and the second substrate comprises:
And sealing the liquid crystal layer between the first and second substrates.
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