KR20130047130A - Display device and method of fabricating the same - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A display device and a method for fabricating the same are provided to directly coat a transparent layer for electrostatic protection on a desired pattern without additional equipment. CONSTITUTION: A first substrate(200) controls a pixel region. A second substrate(100) faces the first substrate. The first substrate is boned to the second substrate. The second substrate is divided into a pixel region and a non-pixel region, and includes an outer black matrix region(122) formed in the edge region of a substrate in the non-pixel region. A transparent layer for electrostatic protection(400) is coated on the rear surface except the outer black matrix region. [Reference numerals] (AA) Roll coating method

Description

표시장치 및 그 제조방법{DISPLAY DEVICE AND METHOD OF FABRICATING THE SAME}DISPLAY DEVICE AND METHOD OF FABRICATING THE SAME}

본 발명은 표시장치에 관한 것으로서, 정전기 보호층을 효율적으로 형성하는 기술에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a display device, and more particularly to a technique for efficiently forming an electrostatic protection layer.

음극선관(Cathode Ray Tube, CRT)의 단점인 무게와 부피를 줄일 수 있는 각종 평판 표시 장치들이 대두되고 있다. 평판 표시 장치로는 액정 표시 장치(Liquid Crystal Display Device, LCD), 플라즈마 표시 패널(Plasma Display Panel, PDP) 및 유기발광 표시 장치(ORGANIC LIGHT EMITTING DISPLAY DEVICE, OLED) 등이 있다.Various flat panel display devices that can reduce weight and volume, which are disadvantages of cathode ray tubes (CRTs), are emerging. The flat panel display includes a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP), an organic light emitting display (ORGANIC LIGHT EMITTING DISPLAY DEVICE, OLED), and the like.

한편, 평판 표시 장치는 사람의 손과 같은 외부 물체의 접촉으로 정전기가 유입 될 경우, 정전기에 의해 발생하는 전계로 인하여 화질의 저하가 발생하기도 한다. 특히, IPS(In-Plane Switching) 모드로 구동되는 액정 표시장치는 횡전계를 통해서 액정층의 액정분자를 제어하여 화상을 표시하게 된다. 이때, 정전기가 유입될 경우, 액정패널과 수직한 방향으로 전계가 형성된다. 따라서 정전기로 인한 수직전계에 의해서 액정층 횡전계가 왜곡되는 현상이 발생할 수 있으며, 이로 인하여 액정 표시장치의 불량이 발생할 수 있다.
In the flat panel display, when static electricity is introduced by contact with an external object such as a human hand, image quality may be degraded due to an electric field generated by static electricity. In particular, a liquid crystal display device driven in an in-plane switching (IPS) mode displays an image by controlling liquid crystal molecules of the liquid crystal layer through a transverse electric field. At this time, when static electricity is introduced, an electric field is formed in a direction perpendicular to the liquid crystal panel. Therefore, the transverse electric field of the liquid crystal layer may be distorted by the vertical electric field due to static electricity, which may cause a defect of the liquid crystal display.

도 1은 액정 표시장치의 일반적인 정전기 방전 방식을 나타낸 도면이다.1 illustrates a general electrostatic discharge method of a liquid crystal display.

도 1을 참조하면, 정전기 방전용 ITO(Indium Tin Oxide)가 형성되지 않은 경우(11)와, 정전기 방전용 ITO(Indium Tin Oxide)가 기판의 전면에 형성된 경우(12)의 정전기로 인한 현상을 확인 할 수 있다. 즉, 제1 경우(11)에 정전기의 수직 전계로 인하여 액정분자가 수직 방향으로 틀어짐으로써, 백화현상이 발생할 수 있다. 반면에 제2 경우(12) 정전기 방전용 ITO(Indium Tin Oxide)에 의해서 정전기가 외부로 방전됨으로써, 백화현상이 발생하지 않는다.Referring to FIG. 1, the phenomenon due to static electricity when the indium tin oxide (ITO) for the electrostatic discharge is not formed (11) and when the indium tin oxide (ITO) for the electrostatic discharge is formed on the front surface of the substrate (12) You can check. That is, in the first case 11, the liquid crystal molecules are twisted in the vertical direction due to the vertical electric field of static electricity, so that whitening may occur. On the other hand, in the second case 12, since static electricity is discharged to the outside by ITO (Indium Tin Oxide) for electrostatic discharge, whitening does not occur.

일반적으로 정전기 방전용 ITO(Indium Tin Oxide)는 유리 기판의 배면에 스퍼터(Sputter) 방식으로 전면 증착된다. 또한, 정전기 방전용 ITO(Indium Tin Oxide)가 유리 기판의 배면에 증착된 후, 정전기 방전용 ITO(Indium Tin Oxide)가 증착된 반대쪽 면에 컬러필터, 블랙 매트릭스 등이 형성된다. 한편, 액정 표시장치에 RF 안테나가 실장될 경우, 유리 기판의 배면의 전면에 형성된 정전기 방전용 ITO(Indium Tin Oxide)를 일부 제거하는 공정이 필요하다, 즉, 정전기 방전용 ITO(Indium Tin Oxide)는 전도성 투명막이므로, RF 안테나의 수신율을 저하시킬 수 있다. 따라서 RF 안테나가 실장되는 영역의 정전기 방전용 ITO(Indium Tin Oxide)는 추가적인 공정을 통하여 제거되어야 한다.In general, indium tin oxide (ITO) for electrostatic discharge is deposited on the entire surface of the glass substrate by sputtering. In addition, after the indium tin oxide (ITO) for electrostatic discharge is deposited on the back surface of the glass substrate, a color filter, a black matrix, and the like are formed on the opposite side on which the indium tin oxide (ITO) for the electrostatic discharge is deposited. On the other hand, when the RF antenna is mounted on the liquid crystal display, a process of partially removing the indium tin oxide (ITO) for electrostatic discharge formed on the front surface of the rear surface of the glass substrate is necessary, that is, the indium tin oxide (ITO) for the electrostatic discharge Since is a conductive transparent film, it is possible to reduce the reception rate of the RF antenna. Therefore, indium tin oxide (ITO) for electrostatic discharge in the region where the RF antenna is mounted must be removed through an additional process.

본 발명은 상기와 같은 기술적 과제를 해결하기 위해 제안된 것으로, 정전기 보호용 투명막을 효율적으로 형성하여, 정전기 보호용 투명막으로 인한 RF 안테나의 수신율 저하를 방지할 수 있는 표시장치 및 그 제조방법을 제공한다.The present invention has been proposed to solve the above technical problem, and provides a display device and a method of manufacturing the same, which effectively prevent the reduction of the reception rate of the RF antenna due to the electrostatic protection transparent film by efficiently forming the transparent film. .

또한, 원하는 패턴대로 직접 도포하여 경화시킬 수 있는 정전기 보호용 투명막을 포함하는 표시장치 및 그 제조방법을 제공한다.The present invention also provides a display device including a transparent film for electrostatic protection that can be directly applied and cured in a desired pattern, and a method of manufacturing the same.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 화소 영역을 제어하는 제1 기판; 및 상기 제1 기판과 서로 대향하여 합착되며, 상기 화소 영역 및 비화소 영역으로 구분되고, 상기 비화소 영역 중 기판의 테두리 영역에 형성된 외곽 블랙 매트릭스 영역을 포함하며, 상기 외곽 블랙 매트릭스 영역을 제외한 배면에 정전기 보호용 투명막이 코팅된 제2 기판;을 포함하는 표시장치가 제공된다.According to one embodiment of the invention, the first substrate for controlling the pixel region; And an outer black matrix region which is bonded to the first substrate so as to face each other, divided into the pixel region and the non-pixel region, and formed in an edge region of the substrate among the non-pixel regions, and including the outer black matrix region. There is provided a display device comprising a; a second substrate coated with a transparent film for static electricity protection.

또한, 상기 제1 기판은, 복수의 게이트 배선 및 복수의 데이터 배선이 교차 형성되고, 각 교차지점마다 화소 스위칭 소자가 형성되며, 상기 제2 기판은, 상기 화소 스위칭 소자를 통해서 제어되는 상기 화소 영역에 대응하여 형성된 컬러필터와, 상기 컬러필터 사이의 비화소 영역에 형성된 블랙 매트릭스 영역과, 테두리 비화소 영역에 형성된 상기 외곽 블랙 매트릭스 영역을 포함하는 것을 특징으로 한다.In the first substrate, a plurality of gate lines and a plurality of data lines are formed to cross each other, and a pixel switching element is formed at each crossing point, and the second substrate is the pixel region controlled through the pixel switching element. And a black matrix region formed in correspondence with the color filter, a black matrix region formed in the non-pixel region between the color filters, and the outer black matrix region formed in the edge non-pixel region.

또한, 상기 제1 및 제2 기판 사이에 봉입된 액정층을 더 포함하는 것을 특징으로 한다.The liquid crystal layer may further include a liquid crystal layer encapsulated between the first and second substrates.

또한, 상기 정전기 보호용 투명막은 C,O,H,S 또는 C,O,H,N 으로 구성되는 전도성 고분자 물질을 포함하며, 예정된 패턴대로 직접 코팅 및 경화 되어 형성되는 것을 특징으로 한다.In addition, the electrostatic protection transparent film comprises a conductive polymer material consisting of C, O, H, S or C, O, H, N, characterized in that formed by direct coating and curing in a predetermined pattern.

또한, 상기 정전기 보호용 투명막이 코팅되지 않은 영역 주위에 RF 수신용 안테나가 실장되는 것을 특징으로 한다.In addition, the RF receiving antenna is mounted around the area that is not coated with the electrostatic protection transparent film.

또한, 본 발명의 다른 실시예에 따르면, 화소 영역을 제어하는 제1 기판을 형성하는 단계; 상기 화소 영역 및 비화소 영역으로 구분되고, 상기 비화소 영역 중 기판의 테두리 영역에 형성된 외곽 블랙 매트릭스 영역을 포함하는 제2 기판을 형성하는 단계; 및 상기 제1 기판 및 상기 제2 기판을 합착한 이후에, 상기 외곽 블랙 매트릭스 영역을 제외한 상기 제2 기판의 배면에 설정된 패턴대로 정전기 보호용 투명막을 코팅하는 단계;를 포함하는 표시장치의 제조방법이 제공된다.Further, according to another embodiment of the invention, forming a first substrate for controlling the pixel region; Forming a second substrate divided into the pixel region and the non-pixel region, the second substrate including an outer black matrix region formed in an edge region of the substrate among the non-pixel regions; And after the bonding of the first substrate and the second substrate, coating a transparent film for static electricity protection in a pattern set on the rear surface of the second substrate except for the outer black matrix region. Is provided.

또한, 상기 정전기 보호용 투명막이 코팅되지 않은 영역 주위에 RF 수신용 안테나를 실장하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.The method may further include mounting an RF receiving antenna around an area where the electrostatic protection transparent film is not coated.

또한, 상기 정전기 보호용 투명막을 코팅하는 단계는, 롤링 코팅방식을 통해서 설정된 패턴대로 C,O,H,S 또는 C,O,H,N 으로 구성되는 전도성 고분자 물질 및 Si,O,C,H 로 구성되는 베이스 물질을 도포하는 단계; 및 도포된 상기 전도성 고분자 물질 및 상기 베이스 물질을 경화시키는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.In addition, the step of coating the transparent film for static electricity protection, the conductive polymer material consisting of C, O, H, S or C, O, H, N and Si, O, C, H in a pattern set through a rolling coating method Applying a base material comprised; And curing the applied conductive polymer material and the base material.

또한, 상기 제1 기판을 형성하는 단계는, 복수의 게이트 배선 및 복수의 데이터 배선을 교차 형성하고, 각 교차지점마다 화소 스위칭 소자를 형성하는 단계를 포함하며, 상기 제2 기판을 형성하는 단계는, 상기 화소 스위칭 소자를 통해서 제어되는 상기 화소 영역에 대응하는 영역에 컬러필터를 형성하고, 상기 컬러필터 사이의 비화소 영역에 블랙 매트릭스 영역을 형성하며, 테두리 비화소 영역에 상기 외곽 블랙 매트릭스 영역을 형성하는 단계를 포함한다.The forming of the first substrate may include cross forming a plurality of gate lines and a plurality of data lines, and forming a pixel switching element at each crossing point, and forming the second substrate. And forming a color filter in a region corresponding to the pixel region controlled by the pixel switching element, forming a black matrix region in a non-pixel region between the color filters, and forming the outer black matrix region in a border non-pixel region. Forming a step.

또한, 상기 제1 기판 및 상기 제2 기판을 합착하는 단계는, 상기 제1 및 제2 기판 사이에 액정층을 봉입하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.In addition, the bonding of the first substrate and the second substrate may include sealing a liquid crystal layer between the first and second substrates.

본 발명에 따른 표시장치 및 그 제조방법은 다음과 같은 효과가 있다.A display device and a method of manufacturing the same according to the present invention have the following effects.

진공을 형성하기 위한 챔버 등의 부가적인 장비 없이 정전기 보호용 투명막을 원하는 패턴대로 직접 코팅할 수 있다. 또한, 정전기 보호용 투명막을 원하는 패턴대로 직접 코팅할 수 있으므로, 투명막을 제거하기 위한 추가적인 공정이 요구되지 않는다.The electrostatic protective transparent film can be directly coated in a desired pattern without additional equipment such as a chamber for forming a vacuum. In addition, since the electrostatic protective transparent film can be directly coated in a desired pattern, no additional process for removing the transparent film is required.

정전기 보호용 투명막이 코팅되지 않은 테두리 비화소 영역에 형성된 외곽 블랙 매트릭스 영역에 RF 안테나를 실장함으로써, RF 안테나의 수신율을 향상시킬 수 있다.The RF antenna reception rate may be improved by mounting the RF antenna on the outer black matrix area formed in the edge non-pixel area not coated with the static electricity protection transparent film.

또한, 외곽 프레임이 매우 좁고(Borderless), RF (3G, Wifi) 수신율이 높은 IPS 모드의 표시장치를 적용한 휴대용 장치를 개발할 수 있다.In addition, a portable device using an IPS mode display device having a very narrow border frame and a high RF (3G, Wifi) reception rate can be developed.

도 1은 액정 표시장치의 일반적인 정전기 방전 방식을 나타낸 도면이다.
도 2a 내지 도 2e는 본 발명의 실시예에 따른 표시장치의 제조방법을 나타낸 공정 단면도들이고, 도 3은 본 발명의 실시예에 따른 표시장치의 개략적인 사시도이다.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 표시장치에 적용한 정전기 보호용 투명막의 면저항에 대한 실험 결과를 나타낸 도면, 도 5는 정전기 보호용 투명막의 투과도에 대한 실험 결과를 나타낸 도면, 도 6은 정전기 보호용 투명막의 정전기 방전 실험 전후의 면저항 변화에 대한 실험 결과를 나타낸 도면이다.1 illustrates a general electrostatic discharge method of a liquid crystal display.
2A to 2E are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a display device according to an exemplary embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a schematic perspective view of the display device according to the exemplary embodiment.
4 is a view showing the test results of the sheet resistance of the electrostatic protection transparent film applied to the display device according to an embodiment of the present invention, FIG. 5 is a view showing the test results of the permeability of the transparent film for electrostatic protection, Figure 6 is a transparent film of the electrostatic protection Fig. 3 shows the test results of the sheet resistance change before and after the electrostatic discharge test.

이하, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명의 기술적 사상을 용이하게 실시할 수 있을 정도로 상세히 설명하기 위하여, 본 발명의 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 설명하기로 한다.
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings, in order to facilitate a person skilled in the art to easily carry out the technical idea of the present invention.

도 2a 내지 도 2e는 본 발명의 실시예에 따른 표시장치의 제조방법을 나타낸 공정 단면도들이고, 도 3은 본 발명의 실시예에 따른 표시장치(1)의 개략적인 사시도이다.2A to 2E are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a display device according to an exemplary embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a schematic perspective view of the display device 1 according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 2a 내지 도 2e와, 도 3을 참조하여, 본 발명의 실시예에 따른 표시장치 및 그 제조방법을 보다 구체적으로 살펴보면 다음과 같다.Referring to FIGS. 2A to 2E and FIG. 3, a display device and a method of manufacturing the same according to an exemplary embodiment of the present invention will be described in detail as follows.

우선, 화소 영역을 제어하는 제1 기판(200)을 형성한다. 제1 기판(200)을 형성하는 단계는, 제1 지지 기판(210) 상에 복수의 게이트 배선 및 복수의 데이터 배선을 교차 형성하고, 각 교차지점마다 화소 스위칭 소자(210)를 형성하는 단계를 포함할 수 있다. 화소 스위칭 소자(210)는 박막 트랜지스터(Thin Film Transistor, TFT)로 형성될 수 있다. 본 실시예에서는 제1 기판(200)을 형성하는 상세한 도면 및 과정의 설명은 생략하기로 하며, 제2 기판(100)이 생성되는 과정과, 제2 기판(100) 및 제1 기판(200)이 합착되고 정전기 보호용 투명막(400)이 코팅되는 과정 등을 상세히 설명하기로 한다.First, the first substrate 200 that controls the pixel region is formed. The forming of the first substrate 200 may include forming a plurality of gate lines and a plurality of data lines on the first support substrate 210 and forming a pixel switching element 210 at each intersection. It may include. The pixel switching element 210 may be formed of a thin film transistor (TFT). In the present embodiment, a detailed description of the drawings and processes for forming the first substrate 200 will be omitted. The process of generating the second substrate 100 and the second substrate 100 and the first substrate 200 will be omitted. This bonding and the process of coating the electrostatic protection transparent film 400 will be described in detail.

다음으로, 화소 영역 및 비화소 영역으로 구분되고, 비화소 영역 중 기판의 테두리 영역에 형성된 외곽 블랙 매트릭스 영역(122)을 포함하는 제2 기판(100)을 형성한다. 제2 기판(100)을 형성하는 단계는, 제2 지지 기판(110) 상에 화소 스위칭 소자를 통해서 제어되는 화소 영역에 대응하는 영역에 컬러필터(130)를 형성하고, 컬러필터(130) 사이의 비화소 영역에 블랙 매트릭스 영역(121)을 형성하며, 테두리 비화소 영역에 외곽 블랙 매트릭스 영역(122)을 형성하는 단계를 포함할 수 있다. 또한, 각 소자들의 단차를 없애기 위해서 오버코트층(140)이 추가적으로 형성될 수 있다. 제2 지지 기판(110)은 유리재질의 물질로 형성될 수 있다.Next, a second substrate 100 is formed, which is divided into a pixel region and a non-pixel region, and includes an outer black matrix region 122 formed in an edge region of the substrate among the non-pixel regions. The forming of the second substrate 100 may include forming the color filter 130 on the second support substrate 110 in a region corresponding to the pixel region controlled by the pixel switching element, and between the color filters 130. The method may include forming a black matrix region 121 in a non-pixel region of and forming an outer black matrix region 122 in an edge non-pixel region. In addition, the overcoat layer 140 may be additionally formed to eliminate the step difference of each device. The second support substrate 110 may be formed of a glass material.

이때, 블랙 매트릭스 영역(121) 및 외곽 블랙 매트릭스 영역(122)이 형성된 이후에, 컬러필터(130)가 형성되는 것이 일반적이다. 화소 영역에 형성된 컬러필터(130)는 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B)을 발광하는 물질로 형성될 수 있으며, 본 실시예에서는 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B)의 3개의 서브 픽셀로 구성되는 하나의 픽셀 영역을 대표적으로 도시하였다. 이와 같이 정의되는 화소 영역 이외의 영역을 비화소 영역으로 정의하는데, 비화소 영역은 각각의 컬러필터(130) 사이에 형성되는 블랙 매트릭스 영역(121)과, 기판의 테두리 비화소 영역에 형성되는 외곽 블랙 매트릭스 영역(122)으로 정의할 수 있다. 블랙 매트릭스 영역(121)은 각 서브 픽셀 사이의 빛샘 현상을 방지하기 위해 형성되며, 외곽 블랙 매트릭스 영역(122)은 외곽의 빛샘 현상을 방지하기 위해서 형성된다. 일반적으로 외곽 블랙 매트릭스 영역(122)은 기판 사면의 외곽 테두리 부분에 형성된다.In this case, after the black matrix region 121 and the outer black matrix region 122 are formed, the color filter 130 is generally formed. The color filter 130 formed in the pixel region may be formed of a material emitting red (R), green (G), and blue (B). In the present embodiment, red (R), green (G), and blue ( One pixel area composed of three subpixels of B) is representatively shown. Areas other than the pixel area defined as described above are defined as non-pixel areas, wherein the non-pixel areas are formed around the black matrix area 121 formed between each color filter 130 and the edge non-pixel area of the substrate. It may be defined as the black matrix region 122. The black matrix region 121 is formed to prevent light leakage between each subpixel, and the outer black matrix region 122 is formed to prevent light leakage between the subpixels. In general, the outer black matrix region 122 is formed at the outer edge portion of the slope of the substrate.

다음으로, 제1 기판(200) 및 제2 기판(100)을 합착 시키게 된다. 제1 기판(200) 및 제2 기판(100)을 합착하는 단계는, 제1 및 제2 기판(200,100) 사이에 액정층(300)을 봉입하는 단계 등을 포함할 수 있다.Next, the first substrate 200 and the second substrate 100 are bonded to each other. The bonding of the first substrate 200 and the second substrate 100 may include encapsulating the liquid crystal layer 300 between the first and second substrates 200 and 100.

다음으로, 제1 기판(200) 및 제2 기판(100)을 합착한 이후에, 외곽 블랙 매트릭스 영역(122)을 제외한 제2 기판(100)의 배면에, 설정된 패턴대로 정전기 보호용 투명막(400)을 코팅한다. 이때, 정전기 보호용 투명막(400)은, 사면의 외곽 블랙 매트릭스 영역(122)을 제외한 부분에 코팅될 수도 있으며, 사면의 외곽 블랙 매트릭스 영역(122) 중 어느 한면을 제외하고 코팅될 수도 있을 것이다.Next, after the first substrate 200 and the second substrate 100 are bonded together, the transparent film 400 for static electricity protection according to the set pattern on the back surface of the second substrate 100 except for the outer black matrix region 122. )). In this case, the electrostatic protection transparent film 400 may be coated on a portion except for the outer black matrix region 122 of the slope, and may be coated except for one surface of the outer black matrix region 122 of the slope.

여기에서 정전기 보호용 투명막(400)을 코팅하는 단계는, 롤링 코팅방식을 통해서 설정된 패턴대로 C,O,H,S 또는 C,O,H,N 으로 구성되는 전도성 고분자 물질 및 Si,O,C,H 로 구성되는 베이스 물질을 도포하는 단계와, 도포된 전도성 고분자 물질 및 베이스 물질을 경화시키는 단계를 포함한다. 즉, 정전기 보호용 투명막(400)은 전도성 고분자 물질 및 그 형태를 유지하기 위한 베이스 물질로 구성되며, 롤링 코팅법을 통해서 설정된 패턴대로 도포된 이후에 경화공정을 통해서 경화된다. 본 실시예에서는 120 도 내외의 열경화 방식을 적용하였으며, 경화 방식은 실시예에 따라 조절될 수 있다.Here, the step of coating the transparent film 400 for static electricity protection, conductive polymer material consisting of C, O, H, S or C, O, H, N and Si, O, C in a pattern set through a rolling coating method And applying a base material consisting of H and curing the applied conductive polymer material and the base material. That is, the electrostatic protection transparent film 400 is composed of a conductive polymer material and a base material for maintaining its shape, and is cured through a curing process after being applied in a pattern set through a rolling coating method. In this embodiment, a thermal curing method of about 120 degrees is applied, and the curing method may be adjusted according to the embodiment.

마지막으로, 정전기 보호용 투명막(400)이 코팅되지 않은 영역 주위에 RF 수신용 안테나(500)를 실장한다. RF 수신용 안테나(500)는 3G 및 Wifi 안테나를 모두 포함할 수 있다. RF 수신용 안테나(500)는 정전기 보호용 투명막(400)에 영향을 받지 않으므로, 수신율이 저하되지 않는다.
Finally, the RF receiving antenna 500 is mounted around the uncoated electrostatic protective transparent film 400. The RF receiving antenna 500 may include both 3G and Wifi antennas. Since the RF receiving antenna 500 is not affected by the electrostatic protection transparent film 400, the reception rate does not decrease.

상술한 바와 같이 본 발명의 실시예에 따른 표시장치(1)는, 제1 기판 및 제2 기판과, 제1 및 제2 기판 사이에 봉입된 액정층과, 제2 기판의 배면에 설정된 패턴대로 코팅된 정전기 보호용 투명막으로 구성된다.As described above, the display device 1 according to the exemplary embodiment of the present invention has a first substrate and a second substrate, a liquid crystal layer encapsulated between the first and second substrates, and a pattern set on a rear surface of the second substrate. It consists of a coated electrostatic protective transparent film.

여기에서, 제1 기판은, 복수의 게이트 배선 및 복수의 데이터 배선이 교차 형성되고, 각 교차지점마다 화소 스위칭 소자가 형성되어 화소영역을 제어한다.Here, in the first substrate, a plurality of gate lines and a plurality of data lines are formed to cross each other, and a pixel switching element is formed at each intersection to control the pixel region.

또한, 제2 기판은, 제1 기판과 서로 대향하여 합착되며, 화소 영역 및 비화소 영역으로 구분되고, 비화소 영역 중 기판의 테두리 영역에 형성된 외곽 블랙 매트릭스 영역을 포함하며, 외곽 블랙 매트릭스 영역을 제외한 배면에 정전기 보호용 투명막이 코팅된다. 이때, 정전기 보호용 투명막은 C,O,H,S 또는 C,O,H,N 으로 구성되는 전도성 고분자 물질을 포함하며, 예정된 패턴대로 직접 코팅되고 열경화 되어 형성된다. 또한, 정전기 보호용 투명막이 코팅되지 않은 영역 주위에 RF 수신용 안테나가 실장된다.
In addition, the second substrate may be bonded to the first substrate to be opposite to each other, may be divided into a pixel region and a non-pixel region, and may include an outer black matrix region formed in an edge region of the substrate among the non-pixel regions. Except for the backside is coated with an electrostatic protective transparent film. At this time, the electrostatic protection transparent film comprises a conductive polymer material consisting of C, O, H, S or C, O, H, N, is formed by direct coating and thermosetting in a predetermined pattern. In addition, an RF receiving antenna is mounted around an area where the electrostatic protective transparent film is not coated.

도 4는 본 발명의 실시예에 따른 표시장치에 적용한 정전기 보호용 투명막의 면저항에 대한 실험 결과를 나타낸 도면, 도 5는 정전기 보호용 투명막의 투과도에 대한 실험 결과를 나타낸 도면, 도 6은 정전기 보호용 투명막의 정전기 방전 실험 전후의 면저항 변화에 대한 실험 결과를 나타낸 도면이다.4 is a view showing the test results of the sheet resistance of the electrostatic protection transparent film applied to the display device according to an embodiment of the present invention, FIG. Fig. 3 shows the test results of the sheet resistance change before and after the electrostatic discharge test.

도 4를 참조하면 0.1 ~ 0.2 ㎛ 범위 주위의 두께에서 정전기 방지 범위(80M ~ 2G/sq)의 면저항을 만족하는 것을 확인 할 수 있다. 또한, 도 5를 참조하면, 해당 범위의 두께에 따른 투과율은 99% 이상을 유지하는 것을 확인할 수 있다. 또한, 도 6을 참조하면, 정전기 방전 실험 이후에도 정전기 보호용 투명막의 면저항이 동일하게 유지됨을 확인할 수 있다.Referring to Figure 4 it can be seen that the sheet resistance of the antistatic range (80M ~ 2G / sq) at a thickness around the 0.1 ~ 0.2 ㎛ range. In addition, referring to Figure 5, it can be seen that the transmittance according to the thickness of the corresponding range is maintained at 99% or more. In addition, referring to Figure 6, even after the electrostatic discharge experiment it can be seen that the sheet resistance of the transparent film for electrostatic protection is maintained the same.

결론적으로 본 발명의 실시예에 따른 표시장치 및 표시장치의 제조방법을 적용하는 경우, 진공을 형성하기 위한 챔버 등과 부가적인 장비 없이 정전기 보호용 투명막을 원하는 패턴대로 직접 코팅할 수 있다. 또한, 정전기 보호용 투명막을 원하는 패턴대로 직접 코팅할 수 있으므로, 투명막을 제거하기 위한 추가적인 공정이 요구되지 않는다. 또한, 정전기 보호용 투명막이 코팅되지 않은 테두리 비화소 영역에 형성된 외곽 블랙 매트릭스 영역에 RF 안테나를 실장함으로써, RF 안테나의 수신율을 향상시킬 수 있다. 또한, 외곽 프레임이 매우 좁고(Borderless), RF (3G, Wifi) 수신율이 높은 IPS 모드의 표시장치를 적용한 휴대용 장치를 개발할 수 있다.
In conclusion, when applying the display device and the manufacturing method of the display device according to an embodiment of the present invention, it is possible to directly coat the transparent film for the electrostatic protection in a desired pattern without the chamber and additional equipment for forming a vacuum. In addition, since the electrostatic protective transparent film can be directly coated in a desired pattern, no additional process for removing the transparent film is required. In addition, by mounting the RF antenna on the outer black matrix region formed in the edge non-pixel region not coated with the electrostatic protection transparent film, the reception ratio of the RF antenna can be improved. In addition, a portable device using an IPS mode display device having a very narrow border frame and a high RF (3G, Wifi) reception rate can be developed.

이상에서 설명한 본 발명은 상술한 실시예 및 첨부된 도면에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것이 본 발명이 속하는 기술분야에서 종래의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다.
The present invention described above is not limited to the above-described embodiment and the accompanying drawings, it is conventional in the art that various substitutions, modifications and changes are possible within the scope without departing from the technical spirit of the present invention. It will be evident to those who have knowledge of.

200 : 제1 기판
100 : 제2 기판
110 : 제2 지지 기판
121 : 블랙 매트릭스 영역
122 : 외곽 블랙 매트릭스 영역
130 : 컬러필터
210 : 제1 지지 기판
220 : 화소 스위칭 소자
300 : 액정층200: first substrate
100: second substrate
110: second support substrate
121: black matrix area
122: outer black matrix area
130: color filter
210: first support substrate
220: pixel switching element
300: liquid crystal layer

Claims (10)

화소 영역을 제어하는 제1 기판; 및
상기 제1 기판과 서로 대향하여 합착되며, 상기 화소 영역 및 비화소 영역으로 구분되고, 상기 비화소 영역 중 기판의 테두리 영역에 형성된 외곽 블랙 매트릭스 영역을 포함하며, 상기 외곽 블랙 매트릭스 영역을 제외한 배면에 정전기 보호용 투명막이 코팅된 제2 기판;을 포함하는 표시장치.A first substrate controlling the pixel region; And
It is bonded to the first substrate facing each other, divided into the pixel region and the non-pixel region, and includes an outer black matrix region formed in the edge region of the substrate of the non-pixel region, on the back except for the outer black matrix region And a second substrate coated with a transparent film for static electricity protection. 제1항에 있어서,
상기 제1 기판은, 복수의 게이트 배선 및 복수의 데이터 배선이 교차 형성되고, 각 교차지점마다 화소 스위칭 소자가 형성되며,
상기 제2 기판은, 상기 화소 스위칭 소자를 통해서 제어되는 상기 화소 영역에 대응하여 형성된 컬러필터와, 상기 컬러필터 사이의 비화소 영역에 형성된 블랙 매트릭스 영역과, 테두리 비화소 영역에 형성된 상기 외곽 블랙 매트릭스 영역을 포함하는 것을 특징으로 하는 표시장치.The method of claim 1,
In the first substrate, a plurality of gate lines and a plurality of data lines cross each other, and pixel switching elements are formed at each crossing point.
The second substrate may include a color filter formed corresponding to the pixel area controlled through the pixel switching element, a black matrix area formed in a non-pixel area between the color filters, and the outer black matrix formed in a border non-pixel area. A display device comprising an area. 제1항에 있어서,
상기 제1 및 제2 기판 사이에 봉입된 액정층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 표시장치.The method of claim 1,
And a liquid crystal layer encapsulated between the first and second substrates. 제1항에 있어서,
상기 정전기 보호용 투명막은 C,O,H,S 또는 C,O,H,N 으로 구성되는 전도성 고분자 물질을 포함하며, 예정된 패턴대로 직접 코팅 및 경화 되어 형성되는 것을 특징으로 하는 표시장치.The method of claim 1,
The electrostatic protection transparent film includes a conductive polymer material consisting of C, O, H, S or C, O, H, N, and is formed by directly coating and curing a predetermined pattern. 제1항에 있어서,
상기 정전기 보호용 투명막이 코팅되지 않은 영역 주위에 RF 수신용 안테나가 실장되는 것을 특징으로 하는 표시장치.The method of claim 1,
And an RF receiving antenna is mounted around an area where the electrostatic protection transparent film is not coated. 화소 영역을 제어하는 제1 기판을 형성하는 단계;
상기 화소 영역 및 비화소 영역으로 구분되고, 상기 비화소 영역 중 기판의 테두리 영역에 형성된 외곽 블랙 매트릭스 영역을 포함하는 제2 기판을 형성하는 단계; 및
상기 제1 기판 및 상기 제2 기판을 합착한 이후에, 상기 외곽 블랙 매트릭스 영역을 제외한 상기 제2 기판의 배면에 설정된 패턴대로 정전기 보호용 투명막을 코팅하는 단계;를 포함하는 표시장치의 제조방법.Forming a first substrate controlling the pixel region;
Forming a second substrate divided into the pixel region and the non-pixel region, the second substrate including an outer black matrix region formed in an edge region of the substrate among the non-pixel regions; And
After the bonding of the first substrate and the second substrate, coating an electrostatic protection transparent film in a pattern set on the rear surface of the second substrate except for the outer black matrix region. 제6항에 있어서,
상기 정전기 보호용 투명막이 코팅되지 않은 영역 주위에 RF 수신용 안테나를 실장하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 표시장치의 제조방법.The method according to claim 6,
And mounting an RF receiving antenna around an area where the electrostatic protection transparent film is not coated. 제6항에 있어서,
상기 정전기 보호용 투명막을 코팅하는 단계는,
롤링 코팅방식을 통해서 설정된 패턴대로 C,O,H,S 또는 C,O,H,N 으로 구성되는 전도성 고분자 물질 및 Si,O,C,H 로 구성되는 베이스 물질을 도포하는 단계; 및
도포된 상기 전도성 고분자 물질 및 상기 베이스 물질을 경화시키는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 표시장치의 제조방법.The method according to claim 6,
Coating the electrostatic protective transparent film,
Applying a conductive polymer material consisting of C, O, H, S or C, O, H, N and a base material consisting of Si, O, C, H in a pattern set by a rolling coating method; And
And curing the coated conductive polymer material and the base material. 제6항에 있어서,
상기 제1 기판을 형성하는 단계는, 복수의 게이트 배선 및 복수의 데이터 배선을 교차 형성하고, 각 교차지점마다 화소 스위칭 소자를 형성하는 단계를 포함하며,
상기 제2 기판을 형성하는 단계는, 상기 화소 스위칭 소자를 통해서 제어되는 상기 화소 영역에 대응하는 영역에 컬러필터를 형성하고, 상기 컬러필터 사이의 비화소 영역에 블랙 매트릭스 영역을 형성하며, 테두리 비화소 영역에 상기 외곽 블랙 매트릭스 영역을 형성하는 단계를 포함하는 표시장치의 제조방법.The method according to claim 6,
The forming of the first substrate may include cross forming a plurality of gate lines and a plurality of data lines, and forming a pixel switching element at each intersection point.
The forming of the second substrate may include forming a color filter in an area corresponding to the pixel area controlled through the pixel switching element, forming a black matrix area in a non-pixel area between the color filters, and forming a border ratio. And forming the outer black matrix region in a pixel region. 제6항에 있어서,
상기 제1 기판 및 상기 제2 기판을 합착하는 단계는,
상기 제1 및 제2 기판 사이에 액정층을 봉입하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 표시장치의 제조방법.The method according to claim 6,
Bonding the first substrate and the second substrate,
And encapsulating a liquid crystal layer between the first and second substrates.
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