KR101831774B1 - Lighting source module, and fabrication method therefor - Google Patents

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Abstract

본 발명에 따른 광원모듈에는, 빛을 제공하는 적어도 하나의 광원; 상기 광원을 지지하는 몸체가 포함되고, 상기 몸체에는, 상기 광원으로부터의 열을 흡수하여 외부로 발산하는 히트싱크; 상기 히트싱크의 적어도 일부 표면에 제공되는 전기적 절연 성질을 가지는 절연층; 및 상기 절연층에 제공되어 전류가 흐를 수 있는 도전층이 포함되고, 상기 도전층에는, 상기 광원으로 전기를 인가하는 통로영역을 제공하는 전도 도전층; 및 상기 광원에서 기인하는 열을 확산하는 방열 도전층이 포함된다. 본 발명에 따르면, 신속한 제조공정, 저렴한 제조비용, 대량생산의 용이성, 제품수율의 향상, 방열문제의 해소라는 효과를 얻을 수 있다. 나아가서, 발명의 구체적인 실시예에 제시되는 각각의 구성에 의해서 이해될 수 있는 다양한 효과를 얻을 수 있는 것도 물론이다. The light source module according to the present invention includes at least one light source for providing light; A body for supporting the light source, the body including a heat sink for absorbing heat from the light source and emitting the light to the outside; An insulating layer having electrical insulation properties provided on at least a part of the surface of the heat sink; And a conductive layer provided on the insulating layer to allow a current to flow therethrough, the conductive layer being provided with a conductive region for providing a passage region for applying electricity to the light source; And a heat radiation conductive layer for diffusing heat caused by the light source. According to the present invention, it is possible to obtain an effect of quick manufacturing process, low manufacturing cost, ease of mass production, improvement of product yield, and resolution of heat radiation problem. Furthermore, it is needless to say that various effects that can be understood by the respective constitutions shown in the specific embodiments of the invention can be obtained.

Description

광원모듈, 및 광원모듈의 제조방법{Lighting source module, and fabrication method therefor}[0001] The present invention relates to a light source module and a fabrication method thereof,

본 발명은 광원모듈, 및 광원모듈의 제조방법에 관한 것이다. The present invention relates to a light source module and a method of manufacturing the light source module.

실내 또는 실외의 조명기기로는 백열등 및 형광등 등이 많이 사용된다. 상기 백열등 및 형광등은 수명이 짧아 자주 교환해야 하는 문제가 있다. 상기 형광등은 백열등에 비해서는 장시간을 사용할 수 있지만, 환경에 해로운 문제점이 있고, 사용시간이 지남에 따라 열화가 발생하여 조도가 점차 떨어지는 현상이 과도하게 발생할 수 있다. As indoor or outdoor lighting equipment, incandescent lamps and fluorescent lamps are widely used. The incandescent lamps and fluorescent lamps have a short lifetime and therefore require frequent replacement. The fluorescent lamp can use a longer time than an incandescent lamp, but has a problem of being harmful to the environment, and deterioration may occur over time, and the illuminance may gradually decrease.

상기 문제를 해결한 광원으로서, 우수한 제어성, 빠른 응답속도, 높은 전기/광 변환효율, 긴 수명, 작은 소비전력, 높은 휘도, 및 감성 조명을 구현할 수 있는 발광 다이오드(LED : Light Emitting Diode)가 소개되었다. 상기 발광 다이오드를 채용하는 여러 가지 형태의 조명모듈 및 조명기기가 개발되고 있다. As a light source that solves the above problems, a light emitting diode (LED) capable of realizing excellent controllability, fast response speed, high electricity / light conversion efficiency, long life, small power consumption, high brightness, Was introduced. Various types of lighting modules and lighting devices employing the light emitting diodes have been developed.

상기 발광 다이오드(LED)는 전기 에너지를 빛으로 변환하는 반도체 소자의 일종이다. 상기 발광 다이오드는 형광등, 백열등 등 기존의 광원에 비해 저소비전력, 반영구적인 수명, 빠른 응답속도, 안전성, 및 환경친화적이라는 장점을 가진다. 이에 기존의 광원을 발광 다이오드로 대체하기 위한 많은 연구가 진행되고 있으며, 이미 발광 다이오드는 실내 외에서 사용되는 각종 액정표시장치, 전광판, 및 가로등 등의 조명기기의 광원으로서 사용되고 있다.The light emitting diode (LED) is a type of semiconductor device that converts electrical energy into light. The light emitting diode has advantages such as low power consumption, semi-permanent lifetime, quick response speed, safety, and environmental friendliness compared to conventional light sources such as fluorescent lamps and incandescent lamps. Accordingly, much research has been conducted to replace an existing light source with a light emitting diode, and a light emitting diode has already been used as a light source for various liquid crystal display devices, an electric signboard, and a streetlight.

상기 발광소자(이하에서 발광소자는 주로 발광 다이오드를 언급하지만, 이에 제한되지는 아니한다)는 고휘도의 구현을 위하여 다수 개가 집적되는 형태로 사용된다. 따라서, 상기 발광소자는 조립의 편의성, 외부의 충격 및 수분으로부터 보호하기 위하여 광원모듈 형태로 제작된다. 상기 광원모듈은 다수의 발광소자가 높은 밀도로 집적되어있기 때문에 한층 더 높은 휘도를 구현할 수는 있지만, 부작용으로 높은 열이 발생하는 문제가 있다. 상기 열을 효과적으로 방출하기 위한 연구가 많이 진행되고 있다.The light emitting element (hereinafter, the light emitting element mainly refers to a light emitting diode, but is not limited thereto) is used in a form in which a plurality of light emitting diodes are integrated for high luminance implementation. Therefore, the light emitting device is fabricated in the form of a light source module in order to protect from the convenience of assembly, external impact and moisture. In the light source module, since a plurality of light emitting devices are integrated at a high density, higher luminance can be realized, but there is a problem that high heat is generated due to a side effect. Researches for effectively releasing the heat have been conducted.

이러한 배경하에서 방열문제를 해소하는 종래 기술로는 본 발명 출원인이 특허등록한 등록번호 10-1472403을 예로 들 수 있다. As a conventional technique for solving the heat dissipation problem under such a background, the registration number 10-1472403 in which the applicant of the present invention is patented is exemplified.

상기 인용발명에 따른 광원모듈은, 다수의 발광소자가 실장된 인쇄회로기판이 히트싱크에 결합되어 제조된다. 그러나, 이러한 제조공정은 다수의 공정이 소요되기 때문에 제조시간이 길어지고 많은 비용이 소요되는 단점이 있다. 또한, 방열효율을 높이기 위하여, 상기 인쇄회로기판과 상기 히트싱크 사이에 써멀 패드(thermal pad)가 더 삽입된다. 그러나, 인쇄회로기판 자체의 열 전달이 뛰어나지 않기 때문에 효과적으로 히트싱크에 열이 전달되는 못하고, 결국 고휘도의 광원모듈에 대한 방열문제를 해소하지 못하는 문제점이 있다. 또한, 별도로 써멀 패드를 삽입해야 하기 때문에, 비용과 시간이 더 소요되는 문제점이 있다. In the light source module according to the present invention, a printed circuit board having a plurality of light emitting devices mounted thereon is coupled to a heat sink. However, since such a manufacturing process requires a plurality of processes, it takes a long time to manufacture and a large cost is required. In addition, a thermal pad is further inserted between the printed circuit board and the heat sink to increase the heat radiation efficiency. However, since the heat transfer of the printed circuit board itself is not excellent, the heat can not be effectively transferred to the heat sink, and the problem of heat dissipation to the light source module with high luminance can not be solved. Further, since the thermal pad must be inserted separately, there is a problem that it takes more time and cost.

조명기기는 더 밝은 빛을 낼 수 있도록 하는 것이 중요하다. 그러나, 광원모듈이 더 밝은 빛을 제공하면 할수록 더 많은 열이 발생하고, 그 열을 방출하지 못하면 조명기기의 수명을 떨어뜨리는 문제로 발생한다. It is important that the lighting device be able to emit brighter light. However, as the light source module provides brighter light, more heat is generated, and if the heat is not emitted, the life of the lighting device is lowered.

대한민국등록특허 10-1472403의 도 2 및 관련설명2 of Korean Patent Registration No. 10-1472403 and related description

본 발명은 상기되는 문제점을 해소하여, 신속한 제조공정, 및 저렴한 제조비용으로 구현할 수 있는 광원모듈, 광원모듈의 제조방법을 제안한다. The present invention proposes a light source module and a method of manufacturing a light source module that can solve the above-described problems and can be realized with a rapid manufacturing process and a low manufacturing cost.

본 발명은 고휘도를 구현하면서도 방열문제를 해소할 수 있는 광원모듈, 광원모듈의 제조방법을 제안한다. The present invention proposes a light source module and a method of manufacturing a light source module that can solve the heat dissipation problem while realizing high brightness.

본 발명은 단락, 단선, 부품 탈락 등의 문제로 발생할 수 있는 제품 수율의 문제점을 개선하는 광원모듈, 광원모듈의 제조방법을 제안한다. The present invention proposes a light source module and a method of manufacturing a light source module that can solve the problem of product yield that may occur due to a short circuit, a disconnection, a component dropout, or the like.

본 발명은 대량생산에 적합한 공정으로 구현할 수 있는 광원모듈, 광원모듈의 제조방법을 제안한다. The present invention proposes a light source module and a method of manufacturing a light source module that can be implemented in a process suitable for mass production.

본 발명에 따른 광원모듈에는 빛을 제공하는 적어도 하나의 광원; 및 상기 광원을 지지하는 몸체가 포함되고, 상기 몸체에는, 상기 광원으로부터의 열을 흡수하여 외부로 발산하는 히트싱크 본체; 상기 히트싱크 본체의 표면에 얇게 제공되는 제 1 금속층; 상기 제 1 금속층의 적어도 일부 표면에 제공되는 전기적 절연 성질을 가지는 절연층; 상기 절연층이 함몰되는 함몰부; 및 상기 함몰부 안에 제공되어 전류가 흐를 수 있는 도전층이 포함되고, 상기 도전층에는, 상기 함몰부의 바닥에 접하고, 구리를 재질로 하는 구리재질층; 및 상기 구리재질층 상에 제공되는 니켈을 재질로 하는 니켈재질층이 포함된다. 본 발명에 따르면, 히트싱크와 졀연층의 박리가 방지되는 효과를 얻을 수 있다.The light source module according to the present invention includes at least one light source for providing light; And a body for supporting the light source, wherein the body absorbs heat from the light source and emits the heat to the outside; A first metal layer thinly provided on a surface of the heat sink body; An insulating layer having electrical insulation property provided on at least a surface of the first metal layer; A depression for depressing the insulating layer; And a conductive layer provided in the depression to allow current to flow therethrough, wherein the conductive layer includes a copper material layer which is in contact with the bottom of the depression and made of copper; And a nickel material layer made of nickel provided on the copper material layer. INDUSTRIAL APPLICABILITY According to the present invention, it is possible to obtain an effect of preventing peeling of the heat sink and the softened layer.

상기 구리재질층에는, 상기 함몰부의 바닥에 접하는 제 2 금속층; 및 상기 제 2 금속층 상의 제 3 금속층이 포함된다. 이에 따르면, 도금공정의 공정효율성을 높이고, 도금층의 성막을 안정적으로 수행할 수 있다.The copper material layer includes a second metal layer in contact with the bottom of the depression; And a third metal layer on the second metal layer. According to this, the process efficiency of the plating process can be improved and the deposition of the plating layer can be performed stably.

상기 제 5 금속층이 상기 도전층 내의 다른 금속층에 비하여 가장 얇게 제공되어, 제조비를 절약하고, 니켈에 의한 본딩의 효율성을 향상시킬 수 있다.The fifth metal layer is provided to be thinnest as compared with other metal layers in the conductive layer, so that the manufacturing cost can be saved and the bonding efficiency by nickel can be improved.

상기 제 3 금속층과 상기 제 4 금속층의 계면은 다른 금속층의 계면에 비하여 표면이 거칠게 제공되어, 이종금속의 접합성능을 향상시킬 수 있다.The interface between the third metal layer and the fourth metal layer is rough compared to the interface between the other metal layers, so that the bonding performance of the dissimilar metals can be improved.

상기 제 1 도금층이 다른 금속층에 비하여 가장 얇게 제공되어, 수지 접합성을 향상시키고, 절연층의 박리를 방지할 수 있다.The first plating layer is provided at the thinnest portion as compared with the other metal layers, so that the resin bonding property can be improved and the peeling of the insulating layer can be prevented.

상기 제 2 금속층은 상기 제 3 금속층에 비하여 얇게 제공되어, 고농도 도금액의 사용을 최대한 억제하여, 도금불균일 현상을 방지할 수 있다.The second metal layer is provided thinner than the third metal layer, so that the use of the high-concentration plating solution can be suppressed to the utmost, and plating unevenness can be prevented.

본 발명에 따르면, 도전층에 광원으로 전기를 인가하는 전도 도전층과, 열을 확산하는 방열 도전층이 포함됨으로써, 절연층이 제공되더라도 발열성능이 증가될 수 있다.According to the present invention, since the conductive layer that applies electricity to the light source and the heat radiation conductive layer that diffuses heat are provided on the conductive layer, the heat generating performance can be increased even if the insulating layer is provided.

본 발명에 따르면, 방열 도전층을 전체가 한 몸으로 제공함으로써, 열의 확산이 더욱 효과적으로 수행될 수 있다. According to the present invention, by providing the heat radiation conductive layer as a whole, the diffusion of heat can be performed more effectively.

본 발명에 따르면, 도전층과 광원이 접속되는 부분에 네크부가 포함됨으로써, 광원본딩에 기인하는 제품불량을 방지할 수 있다. 또한, 대량생산공정에서 제품의 수율을 향상시킬 수 있다.According to the present invention, since the neck portion is included in the portion to which the conductive layer and the light source are connected, it is possible to prevent a product defect due to the light source bonding. In addition, the yield of the product can be improved in a mass production process.

본 발명에 따르면, 도전층의 내부영역에 절연층과 일체로 제공되는 아일랜드가 포함됨으로써, 제품의 사용에 따른 박리현상을 방지할 수 있다. 또한, 제품의 신뢰성이 향상될 수 있다.According to the present invention, an island provided integrally with the insulating layer in the inner region of the conductive layer is included, so that the peeling phenomenon caused by use of the product can be prevented. In addition, the reliability of the product can be improved.

본 발명에 따르면, 히트싱크의 적어도 일부 표면에 수지 재질의 절연층이 얇게 도포하고, 상기 절연층에 금속접합면을 제공하고, 상기 금속접합면에 서로 이격되는 적어도 두 개의 도전층을 제공함으로써, 신속한 제조공정을 수행할 수 있다. 또한, 열확산이 부족한 것을 해소할 수 있다.According to the present invention, by thinly applying an insulating layer made of a resin to at least a part of the surface of a heat sink, providing a metal bonding surface to the insulating layer, and providing at least two conductive layers spaced apart from each other on the metal bonding surface, A rapid manufacturing process can be performed. In addition, it is possible to solve the problem of lack of thermal diffusion.

즉, 본 발명에 따르면, 신속한 제조공정, 저렴한 제조비용, 대량생산의 용이성, 제품수율의 향상, 방열문제의 해소라는 효과를 얻을 수 있다. 나아가서, 발명의 구체적인 실시예에 제시되는 각각의 구성에 의해서 이해될 수 있는 다양한 효과를 얻을 수 있는 것도 물론이다. That is, according to the present invention, it is possible to obtain an effect of speedy manufacturing process, low manufacturing cost, ease of mass production, improvement of product yield, and resolution of heat radiation problem. Furthermore, it is needless to say that various effects that can be understood by the respective constitutions shown in the specific embodiments of the invention can be obtained.

도 1 은 실시예에 따른 광원모듈의 사시도.
도 2는 광원모듈의 분해 사시도.
도 3은 상기 광원모듈의 정면도.
도 4는 상기 광원모듈의 측면도.
도 5는 상기 광원모듈의 저면도.
도 6은 도 1의 A-A'의 단면도.
도 7은 도 6에서 상기 광원이 놓이는 부분을 확대하여 나타내는 도면.
도 8 내지 도 12는 상기 광원모듈의 제조방법을 순차적으로 보이는 도면.
도 13은 도 13을 상기 광원모듈의 평면도.
도 14는 도 13에서 상기 광원이 놓이는 어느 일 부분을 확대하여 나타내는 도면.
도 15는 도 14의 B-B'의 단면도.
도 16은 광원모듈을 포함하는 조명기기의 사시도.
도 17은 상기되는 제조방법으로 제공되는 도전층의 주변을 단면도로 나타내었다.
도 18은 광원모듈의 제조방법을 설명하는 흐름도.
도 19는 히트싱크의 제조방법을 상세하게 설명하는 도면.
도 20은 절연층의 표면에 패턴을 형성하는 과정을 설명하는 흐름도.
도 21은 도전층을 제공하는 흐름도.
1 is a perspective view of a light source module according to an embodiment.
2 is an exploded perspective view of the light source module.
3 is a front view of the light source module.
4 is a side view of the light source module.
5 is a bottom view of the light source module.
6 is a cross-sectional view taken along line A-A 'in Fig.
FIG. 7 is an enlarged view of a portion where the light source is placed in FIG. 6; FIG.
8 to 12 are views sequentially showing a manufacturing method of the light source module.
FIG. 13 is a plan view of the light source module of FIG. 13;
FIG. 14 is an enlarged view of a part of the light source in FIG. 13; FIG.
15 is a sectional view taken along the line B-B 'in Fig.
16 is a perspective view of a lighting apparatus including a light source module.
17 is a cross-sectional view of the periphery of the conductive layer provided by the above-described manufacturing method.
18 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a light source module.
19 is a view for explaining a method of manufacturing a heat sink in detail;
20 is a flow chart illustrating a process of forming a pattern on the surface of an insulating layer;
21 is a flow chart for providing a conductive layer;

이하에서는 도면을 참조하여 본 발명의 구체적인 실시예를 상세하게 설명한다. 그러나 본 발명의 사상은 이하에 제시되는 실시예에 제한되지 아니하고, 본 발명의 사상을 이해하는 당업자는 동일한 사상의 범위 내에 포함되는 다른 실시예를 구성요소의 부가, 변경, 삭제, 및 추가 등에 의해서 용이하게 구현할 수 있을 것이나, 이 또한 본 발명 사상의 범위 내에 포함된다고 할 것이다. Hereinafter, specific embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. However, it will be understood by those of ordinary skill in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims, It will be easily understood that the present invention is not limited thereto.

이하의 실시예에 첨부되는 도면은, 같은 발명 사상의 실시예이지만, 발명 사상이 훼손되지 않는 범위 내에서, 용이하게 이해될 수 있도록 하기 위하여, 미세한 부분의 표현에 있어서는 도면별로 서로 다르게 표현될 수 있고, 도면에 따라서 특정 부분이 표시되지 않거나, 도면에 따라서 과장되게 표현되어 있을 수 있다. The drawings attached to the following embodiments are embodiments of the same invention. However, in order to facilitate understanding of the invention within the scope of the invention, And a specific portion may not be displayed in accordance with the drawings, or may be exaggerated in accordance with the drawings.

도 1 은 실시예에 따른 광원모듈의 사시도이고, 도 2는 광원모듈의 분해 사시도이다. FIG. 1 is a perspective view of a light source module according to an embodiment, and FIG. 2 is an exploded perspective view of a light source module.

도 1 및 도 2를 참조하면, 실시예에 따른 광원모듈(100)은 빛을 생성하는 적어도 하나의 광원(11)과, 상기 광원(11)을 지지하는 몸체를 포함할 수 있다. Referring to FIGS. 1 and 2, the light source module 100 according to the embodiment may include at least one light source 11 for generating light, and a body for supporting the light source 11.

상기 광원(11)은 전기적 에너지를 공급받아 빛을 생성하는 모든 수단을 포함할 수 있다. 예를 들면, 광원(11)은 점광원 형태의 광원을 포함할 수 있다. 구체적으로, 광원(11)은 발광 다이오드, 및 레이저 다이오드 중 어느 하나를 포함할 수 있다. 또한, 광원(11)은 서로 다른 색을 방출하는 다수의 점광원이 인접하여 배치되어 서로 혼색되어 백색 또는 다른 색상의 광을 방출할 수 있다. The light source 11 may include all means for generating light by receiving electrical energy. For example, the light source 11 may include a light source in the form of a point light source. Specifically, the light source 11 may include any one of a light emitting diode and a laser diode. Also, the light source 11 may emit light of a different color or a white color by intermingling a plurality of point light sources emitting different colors.

상기 몸체는 상기 광원(11)의 물리적 전기적 작용을 허용하는 부분으로서 제공되어, 상기 광원(11)이 안정적으로 동작될 수 있도록 한다. 상기 몸체는 상기 광원(11)에서 생성된 열이 효과적으로 방출되도록 할 수 있다. 상기 몸체는 광원(11)과 전기적으로 연결되어 광원(11)에 전원을 공급할 수 있다. The body is provided as a part that allows the physical and electrical action of the light source 11 so that the light source 11 can be stably operated. The body can effectively dissipate the heat generated by the light source 11. The body may be electrically connected to the light source 11 to supply power to the light source 11.

상기 몸체에는 히트싱크(120)가 포함될 수 있다. 상기 광원(11)은 상기 히트싱크(120)에 다른 부재를 매개하여 체결되거나 직접 체결될 수 있다. 바람직하게, 상기 광원(11)은, 그 자중을 지지하는 등의 물리적인 결합을 위하여 상기 히트싱크(120)에 체결될 수 있다. 다만, 상기 광원(11)은 상기 히트싱크(120)와의 절연을 위하여 소정의 절연층이 개입된 상태로 상기 히트싱크(120)에 체결될 수 있다. The body may include a heat sink 120. The light source 11 may be fastened or directly fastened to the heat sink 120 through another member. Preferably, the light source 11 may be fastened to the heat sink 120 for physical coupling, such as supporting its own weight. However, the light source 11 may be fastened to the heat sink 120 with a predetermined insulation layer interposed therebetween in order to insulate the heat sink 120 from the heat sink 120.

상기 히트싱크(120)의 일면에는 광원(11)이 안착되는 안착부(121)가 제공될 수 있다. 상기 안착부(121)는 상기 광원(11)에서 발생된 열은 신속히 상기 히트싱크(120)로 흡수되도록 한다. 상기 히트싱크(120)의 타면에 방열핀(130)이 연결되는 경우에는, 상기 히트싱크(120)는 광원(11) 및 광원에서 방출된 빛에 의한 열을 방열핀(130)에 전달할 수 있다. 물론, 상기 방열핀(130)은 신속하게 외부로 열을 방출할 수 있다. 또한, 상기 히트싱크(120)도 자체적으로 신속하게 외부로 열을 방출할 수 있다. A mounting portion 121 on which the light source 11 is mounted may be provided on one surface of the heat sink 120. The heat generated by the light source 11 is rapidly absorbed into the heat sink 120 by the seating part 121. The heat sink 120 may transmit the heat generated by the light source 11 and the light emitted from the light source to the heat dissipation fin 130 when the heat dissipation fin 130 is connected to the other surface of the heat sink 120. [ Of course, the heat dissipation fin 130 can rapidly dissipate heat to the outside. Also, the heat sink 120 itself can quickly release heat to the outside.

상기 히트싱크(120)는 열방사 및 열전달 효율이 뛰어난 금속 재질 또는 수지 재질로 형성될 수 있다. 이에 대해 한정하지는 않는다. 예를 들어, 히트싱크(120)는 알루미늄(Al), 금(Au), 은(Ag), 구리(Cu), 니켈(Ni), 주석(Sn), 아연(Zn), 텡스텐(W) 및 철(Fe)로 이루어진 군중에서 선택된 하나 또는 2 이상의 합금일 수 있다. 다른 예를 들어, 히트싱크(120)는 폴리프탈아미드(PPA:Polyphthalamide)와 같은 수지 재질, 실리콘(Si), 알루미늄 나이트라이드(AlN), 액정폴리머(PSG, photo sensitive glass), 폴리아미드9T(PA9T), 신지오택틱폴리스티렌(SPS), 금속 재질, 사파이어(Al2O3), 베릴륨 옥사이드(BeO), 세라믹 중 적어도 하나로 형성될 수 있다. 상기 히트싱크(120)는 사출 성형, 및 에칭 공정 등에 의해 형성될 수 있다. 이에 대해 한정하는 않는다.The heat sink 120 may be formed of a metal material or a resin material having excellent heat radiation and heat transfer efficiency. It is not limited thereto. For example, the heat sink 120 may be formed of a metal such as Al, Au, Ag, Cu, Ni, Sn, Zn, And iron (Fe). For example, the heat sink 120 may be made of a resin material such as polyphthalamide (PPA), silicon (Si), aluminum nitride (AlN), photo sensitive glass (PSG), polyamide 9T PA9T), syndiotactic polystyrene (SPS), metal materials, sapphire (Al2O3), beryllium oxide (BeO), ceramics. The heat sink 120 may be formed by injection molding, etching, or the like. It is not limited thereto.

상기 히트싱크(120)는 플레이트 형상이고, 평면형상은 사각형으로 제공될 수 있다. 상세하게, 상기 안착부(121)는 히트싱크(120)의 일면(예를 들면, 상부면)이 함몰되어 형성될 수 있다. 상기 안착부(121)에는 렌즈 커버(142)가 안착될 수 있다. 상기 안착부(121)는 외부와 렌즈 커버(142)에 의해 수밀구조로 제공될 수 있다. 상기 광원(11)은 안착부(121)와 렌즈 커버(142)의 결합에 의해 외부환경에 대하여 방수될 수 있다.The heat sink 120 may have a plate shape and a planar shape may be a square shape. In detail, the seating part 121 may be formed by recessing one surface (for example, an upper surface) of the heat sink 120. The lens cover 142 may be seated on the seating part 121. The seating part 121 may be provided in a watertight structure by the outside and the lens cover 142. The light source 11 can be protected against the external environment by the combination of the seating part 121 and the lens cover 142.

상기 히트싱크(120)의 모서리에는, 광원모듈이 조명기기 등에 결합될 때, 체결부재가 관통하는 체결홀(126)이 형성될 수 있다. A coupling hole 126 through which the coupling member passes may be formed at an edge of the heat sink 120 when the light source module is coupled to an illumination device or the like.

상기 몸체에는 상기 히트싱크(120)의 방열 효율을 향상시키는 방열핀(130)이 포함될 수 있다. 상기 방열핀(130)은 공기와 접촉되는 면적을 극대화하기 위한 형상을 가질 수 있다. 상기 방열핀(130)은 히트싱크(120)의 열을 전달받아 외기와 열교환할 수 있다. 구체적으로, 상기 방열핀(130)은 히트싱크(120)의 타면(하면)에서 하측방향으로 더 연장되는 다수의 판 형상으로 제공될 수 있다. 더욱 구체적으로, 상기 방열핀(130)은 일정한 피치를 가지고 다수 개가 배치될 수 있다. 또한, 상기 방열핀(130)의 폭은 히트싱크(120)의 열을 효과적으로 전달받을 수 있도록, 히트싱크(120)의 폭과 같거나 유사한 영역에 형성될 수 있다. 방열핀(130)은 히트싱크(120)와 한 몸으로 형성될 수도 있고, 별도의 부품으로 제작될 수도 있다. 상기 방열핀(130)은 열전달이 우수한 물질, 예를 들면, 알루미늄(Al), 니켈(Ni), 구리(Cu), 은(Ag), 주석(Sn) 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 바람직하게는, 방열핀(130)은 히트싱크(120)와 동일한 재질로 일체로 제공될 수 있다.The body may include a heat dissipation fin 130 for improving the heat dissipation efficiency of the heat sink 120. The radiating fin 130 may have a shape for maximizing an area of contact with the air. The heat dissipation fin 130 may receive heat from the heat sink 120 and exchange heat with the ambient air. In detail, the heat radiating fin 130 may be provided in a plurality of plate shapes extending further downward from the other surface (bottom surface) of the heat sink 120. More specifically, the heat radiating fins 130 may be disposed at a plurality of positions with a constant pitch. The width of the heat dissipation fin 130 may be equal to or the same as the width of the heat sink 120 so that the heat of the heat sink 120 can be effectively transmitted. The radiating fin 130 may be formed as one body with the heat sink 120, or may be manufactured as a separate component. The radiating fin 130 may include at least one of a material having excellent heat transfer properties such as aluminum (Al), nickel (Ni), copper (Cu), silver (Ag), and tin (Sn). Preferably, the heat radiating fins 130 may be integrally provided with the same material as the heat sink 120.

도 3은 상기 광원모듈의 정면도이고, 도 4는 상기 광원모듈의 측면도이다. 3 is a front view of the light source module, and FIG. 4 is a side view of the light source module.

도 3 및 도 4를 참조하면, 상기 방열핀(130)은 히트싱크(120)의 폭 방향(짧은 모서리의 방향)으로 길게 배치될 수 있다. 또한, 상기 방열핀(130)은 히트싱크(120)의 길이방향(긴 모서리의 방향)으로 일정한 피치를 가지며 다수 개가 설치될 수 있다. 상기 방열핀(130)의 중앙부(131)는 방열핀(130)의 양단부(133)보다 히트싱크(120)를 향하여 함몰될 수 있다. 상기 광원(11)은 방열핀(130)의 양단부(133)와 수직방향으로 중첩되게 위치할 수 있다. 상기 방열핀(130)의 양단부(133)는 방열핀(130)의 중앙부(131)보다 높게 형성될 수 있다. 이에 따르면, 방열핀(130)의 여러 부분 중에서 고열이 전달되는 부분이, 더 많은 공기와 접하도록 하여 방열효율을 향상시킬 수 있다. 또한, 방열핀(130)의 중앙부(131)는 제조비용을 절약할 수 있다.Referring to FIGS. 3 and 4, the heat radiating fins 130 may be arranged long in the width direction (short corner direction) of the heat sink 120. Also, the heat radiating fins 130 may have a predetermined pitch in the longitudinal direction (long edge direction) of the heat sink 120, and a plurality of heat radiating fins 130 may be installed. The central portion 131 of the heat dissipation fin 130 may be recessed toward the heat sink 120 more than the both end portions 133 of the heat dissipation fin 130. [ The light source 11 may be positioned so as to overlap the both ends 133 of the heat radiating fin 130 in the vertical direction. Both end portions 133 of the radiating fin 130 may be formed higher than the center portion 131 of the radiating fin 130. [ According to this structure, the portion where the high heat is transmitted among the various portions of the heat dissipation fin 130 can contact the more air, thereby improving the heat radiation efficiency. In addition, the central portion 131 of the radiating fin 130 can save manufacturing costs.

상기 히트싱크(120)에는 에어홀(122)이 형성될 수 있다. 상기 에어홀(122)은 히트싱크(120)를 상하방향으로 관통하여 형성될 수 있다. 구체적으로, 상기 에어홀(122)은 안착부(121)에서 방열핀(130)방향으로 히트싱크(120)를 관통하여 형성될 수 있다. 이러한 구성에 의하면, 공기가 유동되는 공간을 제공할 수 있다. 상기 에어홀(122)은 히트싱크(120)의 중앙 부위에서 히트싱크(120)의 길이방향으로 길게 형성될 수 있다. 상기 에어홀(122)은 렌즈 커버(142)에 형성되는 커버홀(143)과 수직방향으로 중첩되며 서로 연통할 수 있다.An air hole 122 may be formed in the heat sink 120. The air hole 122 may be formed to penetrate the heat sink 120 in a vertical direction. Specifically, the air hole 122 may be formed through the heat sink 120 in the direction of the heat dissipation fin 130 from the seating part 121. With this configuration, it is possible to provide a space in which air flows. The air holes 122 may be formed long in the longitudinal direction of the heat sink 120 at a central portion of the heat sink 120. The air holes 122 overlap the cover holes 143 formed in the lens cover 142 in the vertical direction and can communicate with each other.

상기 광원(11)은 에어홀(122)의 주변에 위치할 수 있다. 구체적으로, 광원(11)은 에어홀(122)의 주변을 형성하는 히트싱크(120)의 일면 상에서 에어홀(122)과 인접하여 배치될 수 있다. 따라서, 광원(11)에서 생성된 열에 의해 에어홀(122)이 먼저 가열될 수 있다. 상기 에어홀(122)은 에어홀(122)의 내측과 외측 사이의 온도차에 의해 공기를 순환시킬 수 있다. 이 순환되는 공기는 방열핀(130) 및 히트싱크(120)의 냉각을 가속화할 수 있다. 구체적으로, 상기 에어홀(122)은 방열핀(130)의 중앙부(131)와 수직으로 중첩되게 위치될 수 있다. 광원(11)은 방열핀(130)의 양단부(133)와 수직으로 중첩되게 위치될 수 있다. The light source 11 may be positioned around the air hole 122. Specifically, the light source 11 may be disposed adjacent to the air hole 122 on one side of the heat sink 120 forming the periphery of the air hole 122. Therefore, the air holes 122 can be heated first by the heat generated in the light source 11. [ The air hole 122 can circulate the air by the temperature difference between the inside and the outside of the air hole 122. This circulated air can accelerate the cooling of the heat radiating fin 130 and the heat sink 120. Specifically, the air hole 122 may be vertically overlapped with the central portion 131 of the heat dissipation fin 130. The light source 11 may be positioned so as to be vertically overlapped with both ends 133 of the heat radiating fin 130.

도 5는 상기 광원모듈의 저면도이다. 5 is a bottom view of the light source module.

*도 5를 참조하면, 상기 에어홀(122)의 테두리에서 히트싱크(120)의 하측 방향으로 연장되고, 에어홀(122)과 연통되어 공기가 안내되는 공기 안내부(160)를 더 포함할 수 있다. 상기 공기 안내부(160)는 내부에 공간을 가지는 기둥형상으로 제공될 수 있다. 다시 말하면, 상기 공기 안내부(160)의 테두리가 에어홀(122)의 테두리와 중첩되게 구성될 수 있다. 다른 표현으로는, 상기 공기 안내부(160)는 에어홀(122)을 감싸는 굴뚝 형상을 가질 수 있다. 상기 공기 안내부(160)의 단면은 대략 직사각형으로 제공될 수 있다. 그리고, 그 직사각형의 꼭지점 부위는 만곡되는 형상으로 제공될 수 있다. 5, the air conditioner further includes an air guide 160 extending downward from the rim of the air hole 122 and communicating with the air hole 122 to guide the air . The air guide 160 may be provided in a columnar shape having a space therein. In other words, the rim of the air guide part 160 may be configured to overlap with the rim of the air hole 122. In other words, the air guide part 160 may have a shape of a chimney surrounding the air hole 122. The air guide 160 may have a substantially rectangular cross section. The vertex portion of the rectangle may be provided in a curved shape.

상기 공기 안내부(160)는 열전달 효율이 우수한 재질로 이루어질 수 있다. 예를 들면, 공기 안내부(160)의 재질은 알루미늄(Al), 니켈(Ni), 구리(Cu), 은(Ag), 주석(Sn) 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 또한, 공기 안내부(160)는 폴리프탈아미드(PPA:Polyphthalamide)와 같은 수지 재질, 실리콘(Si), 알루미늄(Al), 알루미늄 나이트라이드(AlN), 액정폴리머(PSG, photo sensitive glass), 폴리아미드9T(PA9T), 신지오택틱폴리스티렌(SPS), 금속 재질, 사파이어(Al2O3), 베릴륨 옥사이드(BeO), 세라믹 중 적어도 어느 하나로 형성될 수 있다. 상기 공기 안내부(160)는 히트싱크(120), 및 방열핀(130)과 동일한 재료로 같은 공정으로 일체로 제공될 수 있다. 상기 부품들의 제조공정은 다이캐스팅공정이 적용될 수 있다.The air guide unit 160 may be made of a material having a high heat transfer efficiency. For example, the material of the air guide 160 may include at least one of aluminum (Al), nickel (Ni), copper (Cu), silver (Ag), and tin (Sn). The air guide 160 may be formed of a resin material such as polyphthalamide (PPA), silicon (Si), aluminum (Al), aluminum nitride (AlN), liquid crystal polymer Amide 9T (PA9T), syndiotactic polystyrene (SPS), metal material, sapphire (Al2O3), beryllium oxide (BeO), ceramics. The air guide 160 may be integrally provided with the same material as the heat sink 120 and the radiating fin 130 by the same process. A die casting process may be applied to the manufacturing process of the parts.

상기 공기 안내부(160)의 외면은 다수의 방열핀(130) 중 적어도 일부와 연결될 수 있다. 또한, 상기 공기 안내부(160)의 외면은 광원(11)에서 히트싱크(120) 및 방열핀(130)으로 전달된 열이 공기 안내부(160)로 전달될 수 있다. 공기 안내부(160)는 에어홀(122)로 유동되는 공기를 더욱 가속화할 수 있다. 또한, 히트싱크(120)에는 광원(11)에 전원을 공급하는 커넥터(190)가 통과하는 커넥터홀(도 2의 124참조)이 형성될 수 있다.The outer surface of the air guide 160 may be connected to at least a part of the plurality of radiating fins 130. The heat transmitted from the light source 11 to the heat sink 120 and the heat dissipation fin 130 may be transmitted to the air guide 160 through the outer surface of the air guide 160. The air guide portion 160 can further accelerate the air flowing into the air hole 122. A connector hole (see 124 in FIG. 2) through which the connector 190 for supplying power to the light source 11 passes may be formed in the heat sink 120.

도 6은 도 1의 A-A'의 단면도이다. 도 6은 광원(11)이 놓이는 부분, 상세하게는, 광원에 전원이 인가는 부분을 따라서 절단한 단면도이다. 6 is a cross-sectional view taken along line A-A 'in Fig. 6 is a cross-sectional view of the portion where the light source 11 is placed, specifically, the portion where the light source is applied with power.

도 6을 참조하면, 상기 히트싱크(120)의 표면에는 절연층(20)이 제공될 수 있다. 상기 절연층(20)은 상기 히트싱크(120)의 표면 전체에 제공될 수 있지만, 이제 제한되지는 않아서 일부분에만 제공될 수도 있다. 상기 방열핀(130) 및 공기 안내부(160)가 상기 히트싱크(120)와 한 몸으로 제공되는 경우에는 상기 방열핀(130) 및 상기 공기 안내부(160)의 표면에도 절연층(20)이 제공될 수 있다. 이때에도 각 부품의 전체 표면에 절연층이 제공될 수도 있고 일부분에만 제공될 수도 있다. Referring to FIG. 6, an insulating layer 20 may be provided on the surface of the heat sink 120. The insulating layer 20 may be provided over the entire surface of the heat sink 120, but may be provided only partially, but not limited to now. When the heat radiating fin 130 and the air guiding portion 160 are provided as one body with the heat sink 120, an insulating layer 20 is provided on the surface of the heat radiating fin 130 and the air guiding portion 160 . At this time, the entire surface of each component may be provided with an insulating layer or only a part thereof.

바람직한 일 경우에 따르면, 상기 히트싱크(120), 상기 방열핀(130), 및 상기 히트싱트(120)는 다이캐스팅법에 의해서 함께 제공될 수도 있고, 그 다음에 절연층(20)이 제공될 수 있다. According to a preferred embodiment, the heat sink 120, the radiating fin 130, and the heat sink 120 may be provided together by a die casting method, and then an insulating layer 20 may be provided .

상기 절연층(20)은 분체도장법에 의해서 도포되어 제공될 수 있다. 상기 분체도장법은, 정전 스프레이방법, 정전 브러시 방법, 및 유동침적법 중의 어느 한 방법에 의해서 수행될 수 있다. 따라서 상기 절연층(20)은 도장절연층 또는 도포절연층이라고 할 수도 있다. 이에 따르면 신속하고 저렴하게 공정의 수행이 가능하고 제품의 수율이 높아지는 장점이 있다.The insulating layer 20 may be applied by powder coating. The powder coating method can be carried out by any one of an electrostatic spraying method, an electrostatic brushing method, and a fluidized deposition method. Therefore, the insulating layer 20 may be referred to as a coating insulating layer or a coating insulating layer. According to this, the process can be performed quickly and inexpensively and the yield of the product is increased.

상기 절연층(20)은 상기 히트싱크(120)와 추후에 설명될 도전층(40)과의 사이를 절연할 수 있다. 상기 도전층(40)은 전기 전도성을 가져 상기 광원(11)과 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 도전층(40)은 광원(11)에 전기를 공급하는 통로가 될 수도 있다. 또한, 상기 도전층(40)은 열을 신속히 확산시키는 기능을 수행할 수도 있다. 이를 위하여 상기 도전층(40)은 금속재질로 제공될 수 있다. 예를 들어 Ag(은), Au(금), Cu(구리), 및 Ni(니켈) 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다. 여기서 Ag(은), Au(금)은 외부에 노출되더라도 산화가 방지될 수 있기 때문에 도전층(40)의 가장 바깥쪽 층으로 사용될 수 있다. 실시예의 경우에도 마찬가지이다. The insulating layer 20 may insulate the heat sink 120 from the conductive layer 40 to be described later. The conductive layer 40 is electrically conductive and may be electrically connected to the light source 11. The conductive layer 40 may be a path for supplying electricity to the light source 11. Also, the conductive layer 40 may perform a function of rapidly diffusing heat. For this, the conductive layer 40 may be formed of a metal material. For example, at least one of Ag (silver), Au (gold), Cu (copper), and Ni (nickel). Here, Ag (silver) and Au (gold) can be used as the outermost layer of the conductive layer 40 because oxidation can be prevented even if they are exposed to the outside. The same is true in the case of the embodiment.

상기 광원(11)은 2개의 전극이 하방에 형성되는 수직형 발광다이오드로 제공될 수 있다. 도 6에는 하나의 전극이 광원(11)과 접속되는 것을 나타내고 지면 아래 또는 지면 위에 더 하나의 전극이 제공되는 것은 쉽게 예상할 수 있다. 상기 도전층(40)에 수직형 발광 다이오드가 실장되면, 별도의 와이어 본딩이 필요 없는 장점이 있다. The light source 11 may be provided as a vertical type light emitting diode in which two electrodes are formed below. 6 that one electrode is connected to the light source 11 and it is easily anticipated that one electrode is provided below the ground or above the ground. When the vertical light emitting diode is mounted on the conductive layer 40, wire bonding is not necessary.

상기 도전층(40)은 도전층(40)이 제공되어야 하는 위치에 미리 제공되는 함몰부(21)에 제공될 수 있다. 상기 함몰부(21)는 상기 절연층(20)이 레이저 직접 구조화 공정(LDS: Laser Direct Structuring)에 의해서 식각되어 제공될 수 있다. 상기 함몰부(21)는 내부영역의 적어도 저면에는 금속 핵을 포함하는 표면이 거친 구조로 제공될 수 있다. 상기 함몰부(21)는 상기 광원(11)에 접속되는 도전층(40) 별로 서로 이격되어 제공될 수 있다. 다시 말하면, 상기 광원(11)에 접속되는 전극 간의 단락을 방지할 수 있도록, 한 쌍의 전극을 제공하게 될 한 쌍의 도전층(40)은 서로 다른 함몰부(21)의 내부에 놓이도록 할 수 있다.The conductive layer 40 may be provided in a depression 21 previously provided at a position where the conductive layer 40 is to be provided. The recesses 21 may be provided by etching the insulating layer 20 by laser direct structuring (LDS). The depressed portion 21 may be provided with at least a bottom surface of the inner region with a rough surface having a metal nucleus. The depressions 21 may be spaced apart from one another by the conductive layers 40 connected to the light sources 11. In other words, in order to prevent a short circuit between the electrodes connected to the light source 11, a pair of conductive layers 40 to be provided with a pair of electrodes may be placed inside different depressions 21 .

상기 함몰부(21)에는 도전층(40)이 제공될 수 있다. 상기 도전층(40)은 적어도 2회 이상의 도금공정이 반복하여 수행되는 것에 의해서 제공될 수 있다. 실시예에서는 상기 도전층(40)으로는 Cu(구리), Ni(니켈), 및 Au(금)이 순차적으로 적층되어 각각 제 1 도금층(41), 제 2 도금층(42), 및 제 3 도금층(43)을 제공하였다.The depression 21 may be provided with a conductive layer 40. The conductive layer 40 may be provided by performing at least two or more plating processes repeatedly. In the embodiment, Cu (copper), Ni (nickel), and Au (gold) are successively laminated as the conductive layer 40 to form the first plating layer 41, the second plating layer 42, (43).

상기 절연층(20), 상기 함몰부(21), 및 상기 도전층(40)을 제공하는 방법으로는, 절연층(20)에 구리 등의 도전성 물질을 스퍼터링, 및 전해/무전해 도금 등의 방법으로 전도성 막을 형성한 후, 이를 에칭하는 방법에 의해서 형성할 수 있을 것이다. 이때 함몰부(21)는 단락 등을 방지하기 위하여 미리 절연층(20)에 제공할 수 있다. 이제 제한되지는 않는다. 그러나, 저렴한 제조비가 구현가능하고, 신속하고 정밀한 공정의 수행이 가능하고, 레이저 설비를 이용하여 대량생산에 적합하기 때문에 레이저 직접 구조화 공정이 더욱 바람직하게 고려될 수 있다. As a method of providing the insulating layer 20, the depressions 21 and the conductive layer 40, a conductive material such as copper is sputtered on the insulating layer 20 and a conductive material such as electrolytic / electroless plating And then forming a conductive film thereon and etching it. At this time, the depressed portion 21 may be provided to the insulating layer 20 in advance to prevent a short circuit or the like. It is not limited in any way. However, a laser direct structuring process can be more preferably considered because it is possible to realize an inexpensive manufacturing ratio, perform a rapid and precise process, and is suitable for mass production using laser equipment.

상기 광원(11)을 차폐하고, 광원(11)에서 생성된 광을 굴절시키는 다수의 렌즈(141)를 더 포함할 수 있다. 렌즈(141)는 광원(11)에서 생성된 광을 확산시킬 수 있다. 상기 렌즈(141)는 그 형상에 따라 광원(11)에서 생성된 빛의 확산각이 결정될 수 있다. 예를 들면, 렌즈(141)는 볼록한 형태로 광원(11)을 몰딩할 수 있다. 구체적으로, 렌즈(141)는 광을 투과하는 재질을 포함할 수 있다. 예를 들면, 렌즈(141)는 투명한 실리콘, 에폭시, 및 기타 수지 재질로 형성될 수 있다. 또한, 렌즈(141)는 외부의 수분 및 충격에서 광원(11)을 보호하도록 광원(11)이 외부와 격리되게 광원(11)을 감싸게 배치될 수 있다.The light source 11 may further include a plurality of lenses 141 for shielding the light source 11 and refracting the light generated by the light source 11. The lens 141 can diffuse the light generated by the light source 11. The diffusion angle of the light generated by the light source 11 can be determined according to the shape of the lens 141. For example, the lens 141 can mold the light source 11 in a convex shape. Specifically, the lens 141 may include a material that transmits light. For example, the lens 141 may be formed of transparent silicone, epoxy, and other resin materials. In addition, the lens 141 may be disposed so as to surround the light source 11 so that the light source 11 is isolated from the outside so as to protect the light source 11 from external moisture and impact.

더욱 구체적으로, 조립의 편의성을 위해, 렌즈(141)는 절연층(20)과 대응되게 형성된 렌즈 커버(142)에 제공될 수 있다. 렌즈 커버(142)는 절연층(20)의 상면에 절연층(20)과 대응되게 형성될 수 있다. 렌즈 커버(142)에 위치되는 렌즈(141)는 광원(11)과 중첩되는 위치에 배치될 수 있다. 렌즈 커버(142)는 안착부(121)에 삽입 안착되어 광원(11)과 외부를 수밀할 수 있다. More specifically, for ease of assembly, the lens 141 may be provided on the lens cover 142 formed to correspond to the insulating layer 20. The lens cover 142 may be formed on the upper surface of the insulating layer 20 to correspond to the insulating layer 20. The lens 141 located in the lens cover 142 may be disposed at a position overlapping with the light source 11. [ The lens cover 142 is inserted and seated in the seating part 121, and the light source 11 and the outside can be watertight.

상기 렌즈 커버(142)에는 에어홀(122)과 연통되는 커버홀(143)이 형성될 수 있다. 구체적으로, 커버홀(143)은 렌즈 커버(142)의 중앙에 상하방향으로 관통되어 형성될 수 있다.A cover hole 143 communicating with the air hole 122 may be formed in the lens cover 142. Specifically, the cover hole 143 may be formed through the lens cover 142 in the vertical direction.

상기 절연층(20)은 광을 효율적으로 반사할 수 있는 재질을 포함할 수 있다. 이 경우에는 상기 광원(11)에서 출사한 광, 및 상기 렌즈(141)를 포함하는 렌즈 커버(142)로부터 반사되는 광을 다시 외부로 반사하여 광의 사용효율을 더 높일 수 있다. 또한, 열로 소실되는 광을 줄여서 높은 냉각효율을 구현할 수도 있다. The insulating layer 20 may include a material capable of efficiently reflecting light. In this case, the light emitted from the light source 11 and the light reflected from the lens cover 142 including the lens 141 may be reflected to the outside to further increase the light utilization efficiency. In addition, a high cooling efficiency can be achieved by reducing the light lost by heat.

이하에서는 실시예에 포함될 수 있는 절연층, 함몰부, 및 도전층이 제공되는 방법에 대하여 더 상세하게 설명한다. Hereinafter, an insulating layer, a depression, and a method of providing a conductive layer which can be included in the embodiment will be described in more detail.

도 7은 도 6에서 상기 광원이 놓이는 부분을 확대하여 나타내는 도면이다. FIG. 7 is an enlarged view of a portion where the light source is placed in FIG. 6. FIG.

도 7을 참조하면, 상기 함몰부(21)의 내면에는 금속접합면(22)이 가공될 수 있다. 상기 금속접합면(22)은 상기 절연층(20)의 표면이 도전층이 적층되기에 적합한 성질을 가지는 면으로 가공되는 것을 말할 수 있다. 상기 금속접합면은 도전층이 제공되는 영역에 레이저를 조사함으로써 제공될 수 있다. Referring to FIG. 7, a metal bonding surface 22 may be formed on the inner surface of the depressed portion 21. It can be said that the metal bonding surface 22 is processed into a surface having a property suitable for the surface of the insulating layer 20 to be laminated with the conductive layer. The metal bonding surface may be provided by irradiating a laser to an area where a conductive layer is provided.

상기 금속접합면(22)에는, 도전층(40)의 금속이 붙을 수 있는 금속 핵이 제공될 수 있다. 또한, 금속접합면의 표면이 격자모양의 트랜치로 가공되어 제공될 수 있다. 상기 금속접합면(22)에는 적어도 상기 함몰부(21)의 바닥면이 포함될 수 있다. 상기 트랜치를 불규칙하게 제공될 수 있다. 상기 금속 핵이 절연층에 제공됨으로써, 절연층을 통한 열전달을 촉진할 수 있는 효과를 더 얻을 수 있다. The metal bonding surface 22 may be provided with a metal nucleus to which the metal of the conductive layer 40 may adhere. Further, the surface of the metal bonding surface can be provided by being processed into a lattice-like trench. The metal bonding surface 22 may include at least the bottom surface of the depression 21. The trenches may be provided irregularly. By providing the metal nuclei in the insulating layer, it is possible to further promote the effect of promoting heat transfer through the insulating layer.

상기 금속접합면(22)에는 도전층(40)이 적층될 수 있다. 상기 도전층(40)에는 적어도 하나의 도금층이 적층될 수 있다. 예를 들어, 구리를 재질로 하는 제 1 도금층(41), 니켈을 재질로 하는 제 2 도금층(42), 및 금 또는 은을 재질로 하는 제 3 도금층(43)이 포함될 수 있다. 상기 제 1 도금층(41)은 10~20마이크로미터의 두께로 적층될 수 있다. 상기 제 2 도금층(42)은 5~15마이크로미터의 두께로 적층될 수 있다. 상기 제 3 도금층(43)은 0.1~0.01마이크로미터 내외로 적층될 수 있다. 상기 제 3 도금층(43)은 재료비의 상승을 초래할 수 있으므로 적층되지 않을 수도 있다. 다만, 상기 제 3 도금층(43)은 산화방지 및 보호를 위하여 얇은 두께의 막으로 제공되는 것이 바람직하다. A conductive layer 40 may be laminated on the metal bonding surface 22. At least one plating layer may be laminated on the conductive layer 40. For example, the first plating layer 41 made of copper, the second plating layer 42 made of nickel, and the third plating layer 43 made of gold or silver may be included. The first plating layer 41 may be deposited to a thickness of 10 to 20 micrometers. The second plating layer 42 may be deposited to a thickness of 5 to 15 micrometers. The third plating layer 43 may be deposited to a thickness of about 0.1 to 0.01 micrometer. The third plating layer 43 may cause an increase in material cost and may not be stacked. However, it is preferable that the third plating layer 43 is provided as a thin film for preventing oxidation and protection.

상기 도전층(40) 중에 가장 하측에 놓이는 상기 제 1 도금층(41)은, 전기저항을 줄여 발열량을 줄일 수 있도록 하는 전기전도역할층으로서 작용한다. 이를 위하여 상기 제 1 도금층(41)은 구리를 재질로 할 수 있다. 충분한 전기전도특성을 확보할 수 있도록, 상기 제 1 도금층(41)은 도금층 중에서 가장 두껍게 제작할 수 있다. 구리 외에 전기전도도가 높은 금속을 사용할 수도 있다. The first plating layer 41 located on the lowermost side of the conductive layer 40 serves as an electrically conductive role layer for reducing the electric resistance to reduce the amount of heat generated. For this, the first plating layer 41 may be made of copper. The first plating layer 41 can be made thickest among the plating layers so as to secure sufficient electric conduction characteristics. In addition to copper, metals with high electrical conductivity may be used.

상기 도전층(40) 중에 가운데 놓이는 상기 제 2 도금층(42)은, 솔더링의 품질을 향상시키는 솔더링역할층으로서 작용한다. 솔더링을 위해서는, 용융 솔더가 모재의 전체 표면에 잘 퍼져나가고(wettability), 솔더가 모재의 표면에 잘 확산하여야 한다. 상기 솔더링의 특성을 확보하기 위한 금속으로서 니켈을 사용할 수 있다.The second plating layer 42 lying in the middle of the conductive layer 40 serves as a soldering role layer for improving the quality of soldering. For soldering, the molten solder is well spread over the entire surface of the base material and the solder must diffuse well on the surface of the base material. Nickel can be used as a metal for securing the characteristics of the soldering.

상기 도전층(40) 중에 가장 바깥쪽에 놓이는 상기 제 3 도금층(43)은, 내부의 도금층(41)(42)을 보호하기 위한 보호역할층으로서 작용한다. 상기 제 3 도금층(43)은 산화되거나 변색되지 않는 금을 사용할 수 있다. 은의 경우에는 변색의 우려가 있으므로 바람직하지는 않고, 추후에 은이 엘이디 패키지 내부로 침투하여 발광부의 내부 부품과 화학적으로 반응하여 발광효율을 저하시킬 수 있으므로 바람직하지 않다. 상기 제 3 도금층(43)은 보호의 기능을 수행하기 때문에 가장 얇은 층으로 제공할 수 있다. 상기 제 2 도금층(42)을 제공하지 않고, 상기 제 3 도금층(43)만을 제공할 수도 있으나, 비용면에서 바람직하지 않다. 상기 제 3 도금층(43)은 굉장히 얇은 층으로 제공되기 때문에 솔더링 시에 제 2 도금층(42)의 역할을 방해하지 않는다. The outermost third plating layer 43 of the conductive layer 40 functions as a protective role layer for protecting the plating layers 41 and 42 therein. The third plating layer 43 may use gold that is not oxidized or discolored. In the case of silver, there is a risk of discoloration, which is undesirable because it can penetrate into the silver LED package later and chemically react with the internal parts of the light emitting portion to lower the luminous efficiency. Since the third plating layer 43 performs the function of protection, it can be provided as the thinnest layer. It is possible to provide only the third plating layer 43 without providing the second plating layer 42, but it is not preferable from the viewpoint of cost. Since the third plating layer 43 is provided in a very thin layer, the second plating layer 42 does not interfere with the third plating layer 43 during soldering.

상기 제 3 도금층(43)은 수지로 제공될 수도 있다. 이 경우에는 도금이 아닌 다른 방식으로 수지를 적층할 수 있을 것다. 상기 수지는 솔더링되는 부분에는 덮히지 않도록 함으로써 솔더링에 방해가 되지 않도록 할 수 있다. The third plating layer 43 may be provided with a resin. In this case, the resin may be laminated in a manner other than plating. The resin is not covered with the soldered portion, so that the soldering can be prevented from being hindered.

상기 제 3 도금층으로 제공되는 금, 은, 및 수지는 내부의 금속들을 보호하기 위한 층이다. 따라서, 상기 제 3 도금층(43)을 보호층이라고 이름할 수도 있다. The gold, silver, and resin provided to the third plating layer are layers for protecting the metals inside. Therefore, the third plating layer 43 may be called a protective layer.

상기 도전층(40)의 상측에는 본딩층(50)이 제공될 수 있다. 상기 본딩층(50)의 상측에는 광원(11)이 놓일 수 있다. 상기 본딩층(50)은 저온에서 솔더링이 가능한 저온 솔더 페이스트를 이용할 수 있다. 예를 들어, OM525를 이용할 수 있다. 상기 본딩층은 상기 저온 솔더 페이스트가 도포된 상측에 발광소자가 재치된 상태에서, 리플로우 머신을 통과시키는 것에 의해서 수행될 수 있다. 저온에서 솔더링이 수행됨으로써 히트싱크(120)와 절연층(20) 간의 박리현상 및 절연층(20)과 도전층(40) 간의 박리현상을 방지할 수 있다. 이에 따라서 제품의 신뢰성 및 제품의 수율이 향상되고 장시간 사용에 따른 물질 열화를 방지할 수 있다. A bonding layer 50 may be provided on the conductive layer 40. The light source 11 may be disposed on the bonding layer 50. The bonding layer 50 may be a low temperature solder paste which can be soldered at a low temperature. For example, the OM525 can be used. The bonding layer may be formed by passing a reflow machine in a state where the light emitting device is mounted on the upper side to which the low temperature solder paste is applied. Soldering at a low temperature can prevent peeling between the heat sink 120 and the insulating layer 20 and peeling between the insulating layer 20 and the conductive layer 40. Accordingly, the reliability of the product and the yield of the product are improved, and deterioration of the material due to use over a long period of time can be prevented.

도 8 내지 도 12는 상기 광원모듈의 제조방법을 순차적으로 상세하게 설명하는 도면이다. 8 to 12 are views for explaining the manufacturing method of the light source module in detail in order.

도 8을 참조하면, 예시적으로 다이캐스팅 방법으로 제조된 몸체에 상기 절연층(20)이 제공될 수 있다. 상기 절연층(20)은 분체도장법에 의해서 도포되어 제공될 수 있다. 상기 절연층은 수지가 포함되는 재료로서 성형이 완성된 다음에 수지 성형체로 제공될 수 있다. 상기 분체도장법은 더 상세하게 정전 스프레이방법, 정전 브러시 방법, 및 유동침적법 중의 어느 한 방법에 의해서 수행될 수 있다. 따라서 상기 절연층(20)은 도장절연층 또는 도포절연층이라고 할 수도 있다. 상기 도장절연층의 두께는 60~80마이크로미터로 제공될 수 있다. 그러나, 두께는 이에 제한되지 않고, 절연성능, 방열성능, 및 공정변수에 따라서 다양한 수치로 선택할 수 있다. 실시예에서는 광원이 발광 다이오드이고, 상용전원이 연결되고, 외부환경에 적합하게 사용하는 경우에 절연 및 방열을 확보하고, 저렴한 공정으로 수행할 수 있는 조건을 찾은 것이다. Referring to FIG. 8, the insulating layer 20 may be provided on a body manufactured by way of example, a die-casting method. The insulating layer 20 may be applied by powder coating. The insulating layer may be provided as a resin-containing material after the molding is completed. The powder coating method can be carried out in more detail by any one of electrostatic spraying method, electrostatic brush method, and fluidized deposition method. Therefore, the insulating layer 20 may be referred to as a coating insulating layer or a coating insulating layer. The thickness of the coating insulation layer may be 60 to 80 micrometers. However, the thickness is not limited to this, and various values can be selected according to the insulation performance, heat radiation performance, and process variables. In the embodiment, the light source is a light-emitting diode, a commercial power source is connected, and insulation and heat dissipation are secured in a case where the light source is suitably used in an external environment.

상기 절연층(20)은, 그 표면의 적어도 일부에 도전층(40)을 적층하기 위하여 레이저 직접 구조화 공정(Laser Direct Structuring)이 적용될 수 있다. 상기 레이저 직접 구조화 공정은, 도금 단계 이전에 수행되는 공정으로서, 상기 절연층(20) 표면에서 도전층이 도금되어야 하는 영역에 레이저를 조사함으로써 수행될 수 있다. 상기 레이저 조사에 의해서 상기 수지 성형체 표면의 도금 대상 영역이 개질되고, 도금에 적합한 성질을 가지게 될 수 있다. 이를 위하여, 상기 절연층(20)에는 레이저에 의하여 금속 핵을 형성할 수 있는 '레이저 직접 구조화용 핵 생성제(이하에는 간단히 '핵 생성제'라 한다)'를 함유하거나, 상기 함몰부(21)의 내면에 도금층이 제공되도록 하기 위하여 소정의 패턴이 형성될 수 있다. The insulating layer 20 may be subjected to a laser direct structuring process to laminate the conductive layer 40 on at least a part of its surface. The direct laser structuring process may be performed before the plating step, and may be performed by irradiating a laser beam onto the surface of the insulating layer 20 where the conductive layer is to be plated. The area to be plated on the surface of the resin molded article is modified by the laser irradiation, and it can have properties suitable for plating. For this purpose, the insulating layer 20 may contain a nucleating agent for direct laser structuring (hereinafter, simply referred to as a nucleating agent) capable of forming metal nuclei by a laser, A predetermined pattern may be formed in order to provide a plating layer on the inner surface of the substrate.

먼저, 상기 절연층(20)에 핵 생성제가 함유되는 경우에 대하여 설명한다. First, a case where a nucleating agent is contained in the insulating layer 20 will be described.

상기 절연층(20)을 제공하는 수지 성형체에는 핵 생성제가 함유될 수 있다. 상기 핵 생성제가 레이저를 받으면 핵 생성제가 분해되면서 금속 핵을 생성할 수 있다. 또한, 레이저가 조사된 도금 대상 영역은 표면이 거칠기를 갖게 될 수 있다. 이러한 금속 핵 및 표면 거칠기의 존재로 인하여, 레이저로 개질된 도금 대상 영역은 도금에 적합하게 될 수 있다. 상기 금속 핵은 추후의 도금 단계에서 금속이 붙는 핵을 의미할 수 있다. The resin molding providing the insulating layer 20 may contain a nucleating agent. When the nucleating agent receives the laser, the nucleating agent decomposes and the metal nucleus can be generated. Further, the area to be plated to which the laser is irradiated may have a rough surface. Due to the presence of such metallic nuclei and surface roughness, the area to be plated which is laser modified can be adapted for plating. The metal nucleus may refer to a nucleus to which the metal is attached in a subsequent plating step.

상기 핵 생성제로서는, 스피넬 구조를 갖는 금속 산화물, 구리 크롬 옥사이드 스피넬과 같은 중금속 복합 산화물 스피넬, 구리 하이드록사이드 포스페이트, 인산구리, 황산구리 또는 티오시안산제1구리와 같은 구리 염 등이 사용될 수 있다. 상기 절연층(20)의 재질로는 폴리에스테르계열의 수지가 사용될 수 있다. 그 이유는 금속과의 더 좋은 밀착성을 얻을 수 있어서, 이후의 공정인 광원(11)의 본딩공정에서 가하여지는 열에 의해서 발생할 수 있는, 히트싱크(120), 절연층(20), 및 도전층(40) 중 어느 사이 경계면의 박리현상을 방지할 수 있다. As the nucleating agent, a metal oxide having a spinel structure, a heavy metal complex oxide spinel such as copper chromium oxide spinel, a copper salt such as copper hydroxide, phosphate, copper sulfate, copper sulfate or cuprous thiocyanate can be used . As the material of the insulating layer 20, a polyester-based resin may be used. This is because the heat sink 120, the insulating layer 20, and the conductive layer (not shown), which can be generated by the heat applied in the bonding process of the light source 11, 40 can be prevented from being peeled off.

다음으로, 상기 함몰부(21)의 내면에 소정의 패턴이 형성되는 경우에 대하여 설명한다. 상기 절연층을 제공하는 상기 수지 구조체가 핵 생성제를 함유하지 않더라도, 절연층(20)에서 도금 대상 영역에 격자 무늬로 예시되는 소정의 패턴으로 트렌치 라인을 형성하는 것에 의해서 도전층(40)을 형성할 수 있다. 상기 트렌치 라인은, 금속이 수지 구조체 표면의 도금 대상 영역에 부착하는 것을 효과적으로 촉진할 수 있고, 도금공정이 수행되도록 할 수 있다. 상기 트렌치 라인은 교차하는 적어도 두 종류의 트렌치로 제공될 수 있다. Next, a case where a predetermined pattern is formed on the inner surface of the depression 21 will be described. Even if the resin structure providing the insulating layer does not contain a nucleating agent, the conductive layer 40 is formed in the insulating layer 20 by forming a trench line in a predetermined pattern exemplified by a lattice pattern in the region to be plated . The trench line can effectively promote adhesion of the metal to the plating target region on the surface of the resin structure, and can perform the plating process. The trench line may be provided with at least two types of intersecting trenches.

상기 절연층(20) 표면의 도금 대상 영역에 레이저를 조사하여 소정의 패턴의 트렌치 라인을 형성하는 단계는, 절연층 표면의 도금 대상 영역에 레이저를 조사함으로써 수행될 수 있다.The step of forming a trench line of a predetermined pattern by irradiating a laser beam onto a region to be plated on the surface of the insulating layer 20 may be performed by irradiating a laser beam onto a region to be plated on the surface of the insulating layer.

도 9는 상기 절연층에 상기 함몰부가 제공되는 것을 나타내는 도면이다. 9 is a view showing that the depression is provided in the insulating layer.

도 9를 참조하면, 이미 설명한 바와 같이, 상기 절연층(20)에 상기 함몰부(21)를 제공하는 수단으로서는 레이저가 사용될 수 있다. 이때 레이저를 제공하는 매질로는, 예를 들어, YAG(yttrium aluminum garnet), YVO4(yttrium or thovanadate), YB(ytterbium), CO2, 등이 사용될 수 있다. 상기 레이저의 파장은, 예를 들면, 532nm, 1064nm, 1090nm, 9.3㎛, 10.6㎛ 등이 사용될 수 있다. 레이저로 가공시 삼차원 형상을 인식하여 가공하는 알고리즘이 사용될 수 있다. 예를 들어, 적어도 히트싱크(120)가 포함되는 몸체를 삼차원 인식 프로그램으로 인식하여 높이에 따라서 여러 단계로 분리하여 레이저의 가공 높이를 제어하는 방식이 적용될 수 있다. 상기 레이저의 출력치는, 예를 들면, 약 2W 내지 약 30W일 수 있다.Referring to FIG. 9, as described above, a laser may be used as a means for providing the depression 21 in the insulating layer 20. For example, YAG (yttrium aluminum garnet), YVO4 (yttrium or thovanadate), YB (ytterbium), CO 2 , etc. may be used as the medium for providing the laser. The wavelength of the laser may be, for example, 532 nm, 1064 nm, 1090 nm, 9.3 μm, 10.6 μm, or the like. An algorithm for recognizing and processing a three-dimensional shape when machining with a laser can be used. For example, at least a body including the heat sink 120 may be recognized as a three-dimensional recognition program, and the processing height of the laser may be controlled by dividing the body into several steps according to the height. The output value of the laser may be, for example, about 2W to about 30W.

이미 설명한 바와 같이, 레이저에 의해서 가공되는 상기 금속접합면(22)에는 금속 핵, 거친 표면, 및 트렌치 중에서 적어도 하나를 가짐으로써, 이후 공정에서 도전층(40)이 도금될 수 있도록 한다. As described above, the metal bonding surface 22 processed by the laser has at least one of a metal core, a rough surface, and a trench so that the conductive layer 40 can be plated in a subsequent process.

도 10은 상기 함몰부에 상기 도전층이 제공되는 것을 나타내는 도면이다. 10 is a view showing that the conductive layer is provided in the depression.

도 10을 참조하면, 상기 금속접합면(22)에 무전해 방식으로 금속을 도금하여 상기 도전층(40)을 제공하는 단계가 수행될 수 있다. 물론, 다른 도금 방식이 수행될 수도 있다. 상기 도전층(40)은, 구리, 니켈, 금, 은 또는 이들의 조합일 수 있다. 도전층은 단층 또는 적층 구조일 수 있다. 적층 구조에 있어서, 각 층은 서로 다른 금속이거나 서로 같은 금속일 수도 있다. 실시예에서는 구리, 니켈, 및 금이 순차적으로 적층되는 것으로 예시하였다. Referring to FIG. 10, a step of plating the metal on the metal bonding surface 22 in an electroless manner to provide the conductive layer 40 may be performed. Of course, other plating methods may be performed. The conductive layer 40 may be copper, nickel, gold, silver, or a combination thereof. The conductive layer may be a single layer or a laminated structure. In the laminated structure, each layer may be a different metal or may be the same metal. In the examples, copper, nickel, and gold were sequentially laminated.

일 예시로서, 구리로 제공되는 제 1 도금층(41)을 제공하는 경우를 상세하게 설명한다. As an example, a case where a first plating layer 41 provided with copper is provided will be described in detail.

무전해 구리 도금액에, 금속접합면(22)이 제공되는 히트싱크(120)를 담근다. 이때 방열핀(130), 및 공기 안내부(160)가 함께 침지될 수 있다. 예를 들어, 무전해 구리용 수계 도금액은, 탈이온수 1 리터를 기준으로 하여, 동 건욕/보충제 약 55 ml 내지 약 65 ml, 알칼리 보충제 약 55 ml 내지 약 65 ml, 착화제 약 15 ml 내지 약 20 ml, 안정제 약 0.1 ml 내지 약 0.2 ml, 및 포름알데히드 약 8 ml 내지 약 10 ml를 함유할 수 있다. The heat sink 120 provided with the metal bonding surface 22 is immersed in the electroless copper plating solution. At this time, the radiating fin 130 and the air guide 160 can be immersed together. For example, the aqueous electroless plating solution for electroless copper may contain, based on 1 liter of deionized water, about 55 ml to about 65 ml of copper bath / supplements, about 55 ml to about 65 ml of alkali supplement, about 15 ml 20 ml, stabilizer about 0.1 ml to about 0.2 ml, and formaldehyde about 8 ml to about 10 ml.

동 건욕/보충제는, 예를 들면, 황산구리 약 6 중량부 내지 약 12 중량부, 폴리에틸렌글리콜 약 1 중량부 내지 약 1.5 중량부, 안정제 약 0.01 중량부 내지 약 0.02 중량부, 및 물 약 78 중량부 내지 약 80 중량부를 함유할 수 있다. From about 6 parts by weight to about 12 parts by weight of copper sulfate, from about 1 part by weight to about 1.5 parts by weight of polyethylene glycol, from about 0.01 to about 0.02 part by weight of stabilizer, and from about 78 parts by weight of water, To about 80 parts by weight.

알칼리 보충제는, 예를 들면, 수산화나트륨 약 40 중량부 내지 약 50 중량부, 안정제 약 0.01 중량부 내지 약 0.02 중량부, 및 물 약 50 중량부 내지 약 60 중량부를 함유할 수 있다. The alkali supplements may contain, for example, from about 40 parts by weight to about 50 parts by weight of sodium hydroxide, from about 0.01 part by weight to about 0.02 part by weight of stabilizer, and from about 50 parts by weight to about 60 parts by weight of water.

착화제는, 예를 들면, 수산화나트륨 약 49 내지 약 50 중량부, 안정제 약 0.01 중량부 내지 약 0.02 중량부, 및 물 약 50 내지 약 51 중량부를 함유할 수 있다. The complexing agent may contain, for example, from about 49 to about 50 parts by weight of sodium hydroxide, from about 0.01 to about 0.02 part by weight of stabilizer, and from about 50 to about 51 parts by weight of water.

안정제는, 예를 들면, 포타슘셀레노시아네이트 약 0.2 중량부 내지 약 0.3 중량부, 시안화칼륨 약 5 중량부 내지 약 6 중량부, 수산화나트륨 약 0.3 중량부 내지 약 0.4 중량부, 및 물 약 92 중량부 내지 약 93 중량부를 함유할 수 있다. The stabilizer may include, for example, from about 0.2 parts by weight to about 0.3 parts by weight of potassium selenocyanate, from about 5 parts by weight to about 6 parts by weight of potassium cyanide, from about 0.3 to about 0.4 parts by weight of sodium hydroxide, Parts by weight to about 93 parts by weight.

예를 들어, 구리를 재질로 하는 제 1 도금층(410)을 제공하기 위하여, 촉매가 부여된 수지 구조체를, 무전해 구리 도금액에, 약 41도 내지 약 55도에서, 약 0.5 내지 약 0.7 ㎛/10min 의 석출 속도로 침지한 후 수세할 수 있다. For example, in order to provide the first plated layer 410 made of copper, the catalyst-imparted resin structure is coated on the electroless copper plating solution at a temperature of about 41 degrees to about 55 degrees, It can be washed with water after soaking at a deposition rate of 10 min.

이후에는 반복적으로 다른 도금층을 도금액을 제공하여 도금 공정이 더 수행될 수 있다. Thereafter, the plating process can be further performed by repeatedly providing another plating layer with a plating solution.

상기 도전층(40)은 함몰부(21)의 깊이를 넘어서는 범위로 까지 적층될 수 있다. 이에 따르면 통전되는 면적을 크게 하여 도전층(40)의 저항을 줄일 수 있고, 저항에 의한 발열량을 줄일 수 있다. 물론, 이 같은 구성에 본 발명의 사상이 제한되지는 않는다. The conductive layer 40 may be deposited to a depth exceeding the depth of the depression 21. According to this, it is possible to reduce the resistance of the conductive layer 40 by increasing the area to be energized, and reduce the amount of heat generated by the resistance. Of course, the scope of the present invention is not limited to such a configuration.

도 11은 상기 본딩층이 제공되는 것을 나타내는 도면이다. 11 is a view showing that the bonding layer is provided.

도 11을 참조하면, 상기 본딩층(50)은, 도전층(40)의 상측에 저온 솔더 페이스트를 도포할 수 있다. 또한, 상기 저온 솔더 페이스트에 전극이 정렬되는 위치로 광원(11)을 재치한 다음에, 리플로우 머신을 통과시키는 것에 의해서 제공될 수 있다. 상기 리플로우 공정 중에 상기 저온 솔더 페이스트에서 불필요한 부분은 제거되고, 도전성분이 남아 도전층(40)과 광원(11)이 통전될 수 있다. Referring to FIG. 11, the bonding layer 50 may be coated with a low-temperature solder paste on the conductive layer 40. Also, it can be provided by placing the light source 11 at a position where electrodes are aligned on the low-temperature solder paste, and then passing the reflow machine. During the reflow process, unnecessary portions of the low-temperature solder paste are removed, and conductive components remain, so that the conductive layer 40 and the light source 11 can be energized.

상기 저온 솔더 페이스트는, 160도 정도에서 사용이 가능한 OM525를 사용할 수 있다. 상기 리플로우 공정 중에 상대적으로 저온 분위기가 조성되기 때문에, 절연층(20)과 히트싱크(120)의 박리, 및 도전층(40)과 절연층(20)의 박리가 억제될 수 있다. 이는 제품 수율 및 신뢰성을 향상시킬 수 있다. As the low-temperature solder paste, OM525 which can be used at about 160 degrees can be used. A relatively low-temperature atmosphere is formed during the reflow process, so that the peeling of the insulating layer 20 and the heat sink 120 and the peeling of the conductive layer 40 and the insulating layer 20 can be suppressed. This can improve product yield and reliability.

도 12는 상기 광원의 상측에 렌즈가 더 설치되는 것을 도시한다. 12 shows that a lens is further provided on the upper side of the light source.

상기 광원(11)의 상측에 렌즈(141)가 제공된다. 상기 렌즈(141)는 광원(11)을 차폐하고, 광원(11)에서 생성된 광을 굴절 및 확산시킬 수 있다. 렌즈(141)는 그 형상에 따라 광원(11)에서 생성된 빛의 확산각이 결정될 수 있다. 예를 들면, 렌즈(141)는 볼록한 형태로 광원(11)을 몰딩할 수 있다. 구체적으로, 렌즈(141)는 광을 투과하는 재질을 포함할 수 있다. 예를 들면, 렌즈(141)는 투명한 실리콘, 에폭시, 및 기타 수지 재질로 형성될 수 있다. 또한, 렌즈(141)는 외부의 수분 및 충격에서 광원(11)을 보호할 수 있도록, 광원(11)이 외부환경과 격리되게 광원(11)을 감싸게 배치될 수 있다.A lens 141 is provided above the light source 11. The lens 141 shields the light source 11 and can refract and diffuse the light generated by the light source 11. The diffuse angle of the light generated by the light source 11 can be determined according to the shape of the lens 141. For example, the lens 141 can mold the light source 11 in a convex shape. Specifically, the lens 141 may include a material that transmits light. For example, the lens 141 may be formed of transparent silicone, epoxy, and other resin materials. The lens 141 may be arranged so as to surround the light source 11 so that the light source 11 is isolated from the external environment so as to protect the light source 11 from external moisture and impact.

더욱 구체적으로, 조립의 편의성을 위해, 렌즈(141)는 절연층(20)과 대응되게 형성된 렌즈 커버(142)에 배치될 수 있다. 렌즈 커버(142)는 절연층(20)의 상면에 절연층(20)과 대응되게 형성될 수 있다. 렌즈 커버(142)에 위치되는 렌즈(141)는 광원(11)과 중첩되는 위치에 배치될 수 있다. 렌즈 커버(142)는 안착부(121)에 내부에 안착되어 광원(11)과 외부를 수밀할 수 있다.More specifically, for ease of assembly, the lens 141 may be disposed on the lens cover 142 formed to correspond to the insulating layer 20. The lens cover 142 may be formed on the upper surface of the insulating layer 20 to correspond to the insulating layer 20. The lens 141 located in the lens cover 142 may be disposed at a position overlapping with the light source 11. [ The lens cover 142 is seated inside the seat part 121 and can tightly seal the light source 11 and the outside.

도 13을 상기 광원모듈의 평면도이다. 도 13에서는 렌즈 커버(142)가 없는 상태로 나타낸 것으로서, 다른 도면에서는 표시되지 않는 도전층의 평면구조에 대하여 더 상세하게 설명한다. 13 is a plan view of the light source module. 13 shows the planar structure of the conductive layer which is shown without the lens cover 142 and which is not shown in the other drawings in more detail.

도 13을 참조하면, 이미 설명한 바와 같이, 실시예에 따른 광원모듈(100)에는 도전층(40)이 제공될 수 있다. 상기 도전층(40)이 광원(11)으로 전기를 인가하는 통로의 역할을 수행하는 것은 이미 살펴본 바와 같고, 실시예에 따른 도전층(40)은 열 방출의 효과를 증진할 수 있도록 열을 확산시키는 기능을 더 수행할 수 있다. 이러한 기술 사상에 따르면 광원모듈의 방열효율을 더욱 증진시킬 수 있고, 절연층(20)이 두껍게 제공되는 경우에도 방열 성능에 문제가 없도록 할 수 있다. Referring to FIG. 13, as described above, the light source module 100 according to the embodiment may be provided with a conductive layer 40. As described above, the conductive layer 40 plays a role of a path for applying electricity to the light source 11, and the conductive layer 40 according to the embodiment diffuses heat to enhance the effect of heat emission. Can be performed. According to this technical idea, the heat radiation efficiency of the light source module can be further improved, and even when the insulating layer 20 is provided thick, heat radiation performance can be prevented from being a problem.

상세하게 설명하면, 상기 도전층(40)에는, 광원(11)이 연결되는 경로를 따라서 전기가 흐를 수 있는 전도 도전층(45)과, 히트싱크(120)의 표면을 따라서 열이 신속하게 확산되어 방열효과를 증진할 수 있는 방열 도전층(44)이 포함될 수 있다. In detail, the conductive layer 40 is provided with a conductive conductive layer 45 through which electricity can flow along the path of the light source 11, And a heat dissipation conductive layer 44 that can enhance the heat dissipation effect.

상기 전도 도전층(45)은 외부에서 인가되는 전기가 흐르는 패스를 제공할 수 있다. 광원(11)을 서로 연결할 수 있는 도전 단위체(49, 도 14 참조)가 광원(11)의 사이를 이어주는 역할을 수행할 수 있다. 상기 도전 단위체(49)는 커넥터 및 광원을 서로 이어주는 하나의 단위체로서 작용을 수행할 수 있다. 또한, 상기 도전 단위체(49)는 전기가 흐르는 통로를 제공할 수 있는 소정의 두께와 폭으로 제공될 수 있다. The conductive conductive layer 45 may provide a path through which electricity is externally applied. The conductive unit body 49 (see FIG. 14), which can connect the light sources 11 to each other, can play a role of connecting between the light sources 11. The conductive unit body 49 may function as a single unit that connects the connector and the light source to each other. In addition, the conductive unit body 49 may be provided with a predetermined thickness and width to provide a passage through which electricity flows.

상기 방열 도전층(44)은 전기가 흐르는 패스를 제공하는 것이 아니라, 광원(11)으로 인한 열을 히트싱크(120)의 표면을 따라 신속하게 확산시키는 역할을 수행할 수 있다. 상기 절연층(20)은 수지 성형체로 제공되는 것으로서 절연성질을 가질 수 있다. 상기 절연층(20)은 전기전도뿐만이 아니라 열전달에 있어서도 금속에 비해 낮을 수 있다. 이 경우라 할지라도 열을 신속하게 방출시키기 위해서는 방열 도전층(44)을 따라서 열이 확산되도록 할 수 있다. 상기 방열 도전층(44)은 열의 확산뿐만 아니라 방출에 있어서도 마찬가지의 효과를 얻을 수 있다. The heat dissipation conductive layer 44 may serve to rapidly diffuse the heat generated by the light source 11 along the surface of the heat sink 120, The insulating layer 20 is provided as a resin molded body and may have insulating properties. The insulating layer 20 may be lower in electrical conductivity as well as in heat transfer compared to metal. Even in this case, the heat can be diffused along the heat radiation conductive layer 44 in order to release the heat quickly. The same effect can be obtained in the heat radiation conductive layer 44 as well as the heat diffusion.

상기 방열 도전층(44)에는, 상기 전도 도전층(45)의 바깥쪽에 놓이는 외부 방열 도전층(442)과 상기 전도 도전층(45)의 안쪽에 놓이는 내부 방열 도전층(441)이 포함될 수 있다. 상기 내부 방열 도전층(441)과 외부 방열 도전층(442)은 열 확산 및 열 방출을 더욱 증진시키기 위하여 브릿지(46)로 연결될 수 있다. 상기 외부 방열 도전층(442)는 전체가 서로 연결되는 단일 구조물로 제공될 수 있다. 상기 내부 방열 도전층(441)은 전체가 서로 연결되는 단일 구조물로 제공될 수 있다. 이에 따르면 열의 확산을 촉진시킬 수 있는 장점이 있다. 상기 외부 방열 도전층(442)과 상기 내부 방열 도전층(441)은 서로 브릿지에 의해서 단일체로 연결될 수 있다. 따라서, 상기 방열 도전층(44)은 전도 도전층(45)과는 다르게, 전체가 하나의 구조물로서 서로 연결될 수 있다. 이에 따르면, 상기 광원(11)에서 발생한 열의 확산이 더욱 촉진될 수 있다. 다시 말하면, 어느 뜨거운 위치, 예를 들어 광원(11)의 인접위치에서, 어느 차가운 위치, 예를 들어 에어홀(122)의 인접위치로 열의 확산이 촉진되는 효과를 얻을 수 있다. 열의 확산이 촉진되면 그에 대응하여 열 방출의 효과가 증진되는 것을 쉽게 예상할 수 있다. The heat dissipation conductive layer 44 may include an external heat dissipation conductive layer 442 disposed outside the conductive conductive layer 45 and an internal heat dissipation conductive layer 441 disposed inside the conductive conductive layer 45 . The internal heat-dissipating conductive layer 441 and the external heat-dissipating conductive layer 442 may be connected to each other by a bridge 46 to further enhance heat diffusion and heat dissipation. The external heat-dissipating conductive layer 442 may be provided as a single structure in which the entire external heat-dissipating conductive layers 442 are connected to each other. The internal heat-dissipating conductive layer 441 may be provided as a single structure in which all of the internal heat-dissipating conductive layers 441 are connected to each other. According to this, there is an advantage that diffusion of heat can be promoted. The external heat radiation conductive layer 442 and the internal heat radiation conductive layer 441 may be connected to each other by a bridge. Therefore, unlike the conductive conductive layer 45, the heat-radiating conductive layer 44 can be connected to each other as a single structure. According to this, diffusion of heat generated in the light source 11 can be further promoted. In other words, it is possible to obtain the effect of promoting the diffusion of heat to a certain hot position, for example, the adjacent position of the light source 11, to any cold position, for example, the adjacent position of the air hole 122. It can be easily predicted that the effect of heat emission is correspondingly enhanced if diffusion of heat is promoted.

상기 방열 도전층(44)은 전도 도전층(45)과의 간격을 제외하고는, 실질적으로 히트싱크(120)의 거의 전체 면에 제공될 수 있다. 이에 따라서 수지 재질의 절연층(20)에 의해서 발생할 수 있는 히트싱크(120)의 열 흡수 효과 및 열 방출 효과의 저하현상을 개선할 수 있다. The heat radiation conductive layer 44 may be provided substantially on the entire surface of the heat sink 120, except for the space between the heat radiation conductive layer 44 and the conductive conductive layer 45. Accordingly, the heat absorbing effect of the heat sink 120, which may be caused by the insulating layer 20 made of a resin material, and the phenomenon of deterioration of the heat releasing effect can be improved.

도 14는 도 13에서 상기 광원이 놓이는 어느 일 부분을 확대하여 나타내는 도면이다. FIG. 14 is an enlarged view of a part of the light source in FIG. 13; FIG.

도 14를 참조하면, 어느 도전 단위체(49)의 어느 일 단부는 상기 브릿지(46)를 개입한 상태로 다른 도전 단위체(49)의 다른 일 단부와 마주볼 수 있다. 여기서 마주본다는 의미는 어느 광원(11)의 서로 다른 전극에 전류를 공급하도록 대응하여 위치한다는 의미를 포함할 수 있다. Referring to Fig. 14, one end of one of the conductive unit bodies 49 may face the other end of the other conductive unit body 49 with the bridge 46 interposed therebetween. Here, the meaning of confronting may include meaning that the light source 11 is correspondingly positioned to supply current to different electrodes.

상기 도전 단위체(49)의 단부가 서로 마주볼 수 있도록 하기 위하여, 상기 도전 단위체(49)에는, 한 쌍의 광원(11) 사이를 이어주는 방향으로 연장되는 연장부(452)와, 상기 광원(11)의 전극과 통전되는 상태로 접속되는 접속부(451)와, 상기 접속부(451)와 상기 연장부(452)의 사이에 제공되는 네크부(453)가 포함될 수 있다. 상기 네크부(453)는 연장부(452)의 폭이 축소되어 오목하게 제공되는 요입홈(454)이 형성되는 부분으로 정의할 수 있다. 상기 네크부(453)는, 광원(11)과 접속부(451)의 접속 공정 중에 솔더 페이스트 등의 유동성 물질이 흘러서 단락 등의 문제를 일으키는 것을 방지할 수 있다. 이는 광원(11)이 히트 싱크(120)에 안착된 상태로 리플로우 공정을 수행하기 때문에 발생할 수 있는 제품의 수율 감소 문제를 미연에 방지할 수 있는 장점을 얻을 수 있다. The conductive unit body 49 is provided with an extension 452 extending in a direction to connect between the pair of light sources 11 so that the ends of the conductive unit body 49 can face each other, And a neck portion 453 provided between the connecting portion 451 and the extending portion 452. The connecting portion 451 is connected to the electrode of the first electrode 451 in a state of being energized. The neck portion 453 can be defined as a portion where the groove 454 is formed to be concave by reducing the width of the extended portion 452. The neck portion 453 can prevent a problem such as a short circuit due to flow of a fluid material such as solder paste during the connection process of the light source 11 and the connection portion 451. [ This is advantageous in that the yield reduction of the product, which may occur due to the reflow process in which the light source 11 is mounted on the heat sink 120, can be prevented in advance.

상기 접속부(451)의 폭(w1)은 상기 연장부(452)의 폭(w2)에 비하여 넓게 제공될 수 있다. 상기 네크부(453)의 폭(w3)은 상기 연장부(452)의 폭에 비하여 좁게 제공될 수 있다. The width w1 of the connecting portion 451 may be wider than the width w2 of the extending portion 452. [ The width w3 of the neck portion 453 may be narrower than the width of the extending portion 452. [

상기 접속부(451)의 폭이 가장 큰 것은, 광원(11)과 도전 단위체(49) 간의 접속불량을 막을 수 있다. 또한, 부품 간의 연결부위는 고저항을 유발하는 것을 감안하여 가급적 발열량을 줄이는 효과를 달성할 수 있다. The largest width of the connection portion 451 can prevent the connection failure between the light source 11 and the conductive unit body 49. In addition, considering that the connecting portion between the parts induces a high resistance, it is possible to achieve the effect of reducing the heat generation amount as much as possible.

상기 네크부(453)는 본딩층(50)에 도포되는 솔더 페이스트가 도포 공정 중이나 리플로우 공정 중에 도전층(40)을 타고 흐르지 않도록 할 수 있다. 이로써 도전층(40)의 성능 저하를 막을 수 있다. 또한, 광원(11)의 하측에 집중적으로 본딩이 수행되도록 하여 본딩층(50)의 성능을 확보할 수 있다. 또한, 솔더 페이스트가 방열 도전층(44)으로 넘어가지 않도록 하여 단락을 방지할 수 있다. The neck portion 453 can prevent the solder paste applied to the bonding layer 50 from flowing through the conductive layer 40 during the application process or during the reflow process. As a result, performance deterioration of the conductive layer 40 can be prevented. In addition, the bonding of the bonding layer 50 can be secured by intensively bonding to the lower side of the light source 11. Further, the solder paste can be prevented from being transferred to the heat radiation conductive layer 44, thereby preventing a short circuit.

상기 도전층(40)과 상기 절연층(20)은 금속접합면(22)의 작용에 의해서 서로 결합될 수 있다. 그러나, 리플로우 공정 중에 가하여지는 고온환경, 공정 조건의 부적합, 및 가혹한 사용환경 등의 요인으로 인하여 도전층(40)이 절연층(20)에서 박리할 수 있다. 이 경우에는 방열효율이 급격히 떨어지는 문제를 야기할 수 있다. 이 문제를 해소할 수 있는 방편으로서 실시예에서는 넓은 평면으로 제공되는 도전층에는 서로 이격되는 복수의 아일랜드(47)를 제공할 수 있다. 상기 아일랜드(47)는 도전층(40)과 절연층(20) 및 절연층(20)과 히트싱크(120)간의 박리를 방지하여 제품 수율의 향상, 수명연장 등의 기능을 수행할 수 있다. The conductive layer 40 and the insulating layer 20 may be bonded to each other by the action of the metal bonding surface 22. [ However, the conductive layer 40 can be peeled off from the insulating layer 20 due to factors such as high temperature environment applied during the reflow process, inadequate process conditions, and severe use environment. In this case, there is a problem that the heat radiation efficiency drops sharply. As a means for solving this problem, in the embodiment, a plurality of islands 47 which are spaced apart from each other can be provided on the conductive layer provided in a wide plane. The island 47 can prevent peeling between the conductive layer 40 and the insulating layer 20 and between the insulating layer 20 and the heat sink 120 to improve product yield and prolong life.

도 15는 도 14의 B-B'의 단면도이다. 15 is a sectional view taken along the line B-B 'in Fig.

도 15를 참조하면, 상기 함몰부(21)가 형성되는 곳에서는 도전층(40)이 제공될 수 있다. 그리고, 상기 함몰부(21)가 제공되지 않은 곳에서는 도전층(40)이 제공되지 않고, 상기 함몰부(21)와 대비하여 상대적인 개념으로서 함몰부(21)에 비하여 상방으로 돌출될 수 있다. 상기 상방으로 돌출되는 영역을 아일랜드(47)라고 칭할 수 있다. 상기 아일랜드(47)는 평면에서 관찰할 때 함몰부(21)의 내부 영역에 산재할 수 있다. 상기 아일랜드(47)는, 이차원 평면구조에서 살펴볼 때, 폐곡선의 내부 영역으로 정의할 수 있는 도전층(40)에서 도전층이 제공되지 않는 절연층(20)이 외부로 드러나는 영역으로서, 소정의 간격을 가지고 위치할 수 있다. Referring to FIG. 15, a conductive layer 40 may be provided where the depression 21 is formed. The conductive layer 40 is not provided at the portion where the depression 21 is not provided and may protrude upward relative to the depression 21 as a relative concept as compared with the depression 21. The upwardly protruding region may be referred to as an island 47. The islands 47 may be interspersed in the inner region of the depression 21 when viewed in plan. The island 47 is a region in which a conductive layer is not provided in the conductive layer 40 which can be defined as an inner region of a closed curve when the insulating layer 20 is exposed to the outside, As shown in FIG.

상기 아일랜드(47)에 의해서 상기 히트싱크(120)와 상기 절연층(20)의 박리현상, 및 상기 절연층(20)과 상기 도전층(40)의 박리현상이 방지되는 이유를 더 상세하게 설명한다. The reason why the peeling phenomenon of the heat sink 120 and the insulating layer 20 and the peeling of the insulating layer 20 and the conductive layer 40 are prevented by the island 47 will be described in more detail do.

상기 리플로우 공정에서는 비록 저온이라 하더라도 수백도의 분위기에 이른다. 이때 상기 도전층(40)은 소정의 정하여진 열팽창율에 따라서 팽창하게 된다. 따라서 2차원 평면으로 관찰할 때, 상기 도전층(40)은 면적이 증가한다. 상기 도전층의 면적이 증가하더라도, 상기 도전층(40)이 옆으로 휘거나 아래쪽으로 휘어지지는 않기 때문에 결국 윗쪽으로 들어 올려지는 방향-즉, 도전층(40)이 절연층(20)에서 떨어지는 방향-으로 힘을 받게 된다. 이 힘을 박리힘이라고 할 수 있다. In the reflow process, even at low temperatures, the atmosphere reaches several hundreds of degrees. At this time, the conductive layer 40 expands according to a predetermined thermal expansion rate. Therefore, when viewed in a two-dimensional plane, the area of the conductive layer 40 increases. Even if the area of the conductive layer is increased, the conductive layer 40 is not bent sideways or bent downward, so that the conductive layer 40 is lifted upwards, that is, Direction. This force can be called the peeling force.

상기 박리힘은, 상기 도전층(40)과 상기 절연층(30) 사이의 제 1 접촉면 및 상기 절연층(30)과 상기 히트싱크(120)의 제 2 접촉면에 모두 가하여진다. 상기 제 1 접촉면 또는 상기 제 2 접촉면의 접촉힘이 상기 박리힘보다 작아지면 해당하는 어느 접촉면이 박리할 수 있다. The peeling force is applied to both the first contact surface between the conductive layer 40 and the insulating layer 30 and the second contact surface of the insulating layer 30 and the heat sink 120. [ When the contact force between the first contact surface and the second contact surface is smaller than the peeling force, any corresponding contact surface can be peeled off.

이러한 기구적인 작용을 발명자들은 유심히 관찰하고, 상기 박리힘을 해소할 수 있는 방법을 연구하였다. 그 결과로서, 상기 도전층(40)이 팽창할 때 상기 도전층(40)의 팽창을 수용할 수 있는 구성을 제공한다면, 상기 박리힘은 줄어들 수 있는 것을 알아 내었다. The inventors of the present invention closely observed such mechanism and studied a method of solving the peeling force. As a result, it has been found that if the conductive layer 40 is allowed to accommodate the expansion of the conductive layer 40 when it expands, the peeling force can be reduced.

상세하게 설명하면, 상기 도전층(40)이 열팽창할 때, 상기 아일랜드(47)가 수축하여 상기 도전층(40)이 늘어나는 면적을 수용할 수 있다. 그러면, 일차원으로 관찰할 때, 어느 한 쌍의 아일랜드(47) 사이에서 상기 도전층(40)의 늘어나는 길이는 수지재로 제공되는 아일랜드(47)의 수축변형에 의해서 수용될 수 있고, 상기 박리힘은 줄어들 수 있다. In detail, when the conductive layer 40 thermally expands, the island 47 contracts to accommodate the extended area of the conductive layer 40. Then, when viewed in one dimension, the elongated length of the conductive layer 40 between a pair of the islands 47 can be accommodated by the shrinkage deformation of the island 47 provided to the resin material, Can be reduced.

상기되는 작용에 의해서, 상기 도전층(40)과 상기 절연층(30) 사이의 제 1 접촉면 및 상기 절연층(30)과 상기 히트싱크(120)의 제 2 접촉면에 가하여지는 박리힘은 모두 줄어들 수 있다. 따라서, 상기 도전층(40)과 상기 절연층(30)의 박리현상, 및 상기 절연층(30)과 상기 히트싱크(120)의 박리현상은 그 모두가 줄어들 수 있다. The peeling force applied to the first contact surface between the conductive layer 40 and the insulating layer 30 and the second contact surface between the insulating layer 30 and the heat sink 120 is reduced . Therefore, the peeling of the conductive layer 40 and the insulating layer 30 and the peeling of the insulating layer 30 and the heat sink 120 can all be reduced.

상기 아일랜드(47)는, 상기 도전층(40)이라면 모든 곳에 제공될 수 있다. 예를 들어, 전도 도전층(45) 및 방열 도전층(44)의 어느 곳이라도 제공될 수 있다. 또한, 상기 아일랜드(47)는 삼각형, 사각형, 및 오각형 등 다각형의 형상으로 제공될 수 있다. 실시예에서는 사각형의 단면을 바람직한 일 형태로 제시하였다. The island 47 may be provided anywhere, if it is the conductive layer 40. For example, any of the conductive conductive layer 45 and the heat radiation conductive layer 44 may be provided. In addition, the islands 47 may be provided in the form of polygons such as triangles, squares, and pentagons. In the examples, a cross section of a rectangle is shown as a preferred form.

상기 아일랜드(47)의 크기가 크고 상기 아일랜드(47) 사이의 간격이 작면, 상기 도전층(40)을 통한 열 확산능력이 떨어지고 상기 도전층(40)의 전기저항이 커지는 문제점이 있다. 상기 아일랜드(47)의 크기가 크고 상기 아일랜드(47) 사이의 간격이 크면, 도전층(40)의 열 확산능력은 개선되고 전기저항은 작지만 상기 박리힘은 여전히 큰 문제점이 있다. 따라서, 상기 아일랜드(47)의 크기는 작고 상기 아일랜드(47) 사이의 간격은 작게 제공되는 것이, 열 확산능력은 개선되고, 전기저항은 작아지고, 상기 박리힘이 작아지도록 하여 전체로서 장점을 얻을 수 있다. If the size of the island 47 is large and the interval between the islands 47 is small, there is a problem that the thermal diffusion ability through the conductive layer 40 is lowered and the electrical resistance of the conductive layer 40 is increased. If the size of the island 47 is large and the interval between the islands 47 is large, the heat spreading ability of the conductive layer 40 is improved and the electric resistance is small, but the peeling force still has a problem. Therefore, the size of the island 47 is small and the interval between the islands 47 is small, so that the heat spreading ability is improved, the electric resistance is reduced, and the peeling force is reduced, .

도 16은 광원모듈을 포함하는 조명기기의 사시도이다.16 is a perspective view of a lighting apparatus including a light source module.

도 16을 참조하면, 실시예의 조명기기(1000)는 광원모듈(100)이 결합되는 공간을 제공하고 외관을 형성하는 본체(1100)와, 본체의 일측에 결합되어 본체에 전원을 공급하는 전원부(미도시)가 내장되고, 지지부와 연결하는 연결부(1200)를 포함할 수 있다. 실시예의 조명기기(1000)는 실내 또는 실외에 설치될 수 있다. 예를 들면, 실시예의 조명기기(1000)는 가로등으로 사용될 수 있다. 본체(1100)는 적어도 2개의 광원모듈(100)이 위치하는 공간을 제공할 수 있는 다수의 프레임(1110)이 형성될 수 있다. 연결부(1200)는 내부에 전원부가 내장되고, 외부에 본체를 고정하는 지지부(미도시)와 본체를 연결한다. Referring to FIG. 16, the lighting apparatus 1000 of the embodiment includes a main body 1100 for providing a space in which the light source module 100 is coupled and forming an outer appearance, a power source unit coupled to one side of the main body, (Not shown), and may include a connection portion 1200 connecting to the support portion. The lighting apparatus 1000 of the embodiment can be installed indoors or outdoors. For example, the lighting apparatus 1000 of the embodiment can be used as a street lamp. The main body 1100 may be formed with a plurality of frames 1110 capable of providing space in which at least two light source modules 100 are located. The connection unit 1200 has a built-in power supply unit, and connects the support unit (not shown) for fixing the main unit to the main unit.

실시예의 조명기기(1000)를 사용하면, 굴뚝효과로 인해 광원모듈(100)에서 발생되는 열을 효과적으로 냉각할 수 있고, 별도의 팬을 사용하지 않아서 제조비용을 줄일 수 있는 효과가 있다. The use of the lighting apparatus 1000 of the embodiment can effectively cool the heat generated in the light source module 100 due to the chimney effect and does not use a separate fan, thereby reducing the manufacturing cost.

이하에서는 광원모듈의 제조방법을 더 상세하게 설명한다. 설명의 편의를 위하여 다른 도면번호를 부여하여 설명을 하지만, 이상에 언급되는 각 상세구성 및 부분의 작용은 동일한 것으로 이해할 수 있다. Hereinafter, a manufacturing method of the light source module will be described in more detail. For convenience of explanation, different reference numerals are given to explain them, but it is to be understood that the functions of the detailed configurations and portions mentioned above are the same.

상기 광원모듈을 제작함에 있어서는, 박막공정으로 제공되는 실시예에 따른 광원모듈에서 각 층의 박리를 방지할 수 있어야 한다. 각 막의 박리는 먼저 히트싱크와 절연층 간의 박리, 및 절연층과 도금층의 박리가 있다. 상기 박리를 억제하여 제품의 수율을 향상시킬 수 있는 제조방법 및 그와 같은 방법으로 제조되는 광원모듈의 구성에 대하여 상세하게 설명한다. In manufacturing the light source module, it is necessary to prevent peeling of each layer in the light source module according to the embodiment provided in the thin film process. The peeling of each film includes peeling between the heat sink and the insulating layer and peeling of the insulating layer and the plating layer. The manufacturing method capable of suppressing the peeling and improving the yield of the product and the structure of the light source module manufactured by such a method will be described in detail.

도 18은 광원모듈의 제조방법을 설명하는 흐름도이다.18 is a flowchart illustrating a manufacturing method of the light source module.

도 18을 참조하면, 먼저 히크싱크(도 17의 1200)를 제작한다(S1). 상기 히트싱크는 알루미늄을 재질로 하고, 다이캐스팅으로 제작될 수 있다. 상기 히트싱크(1200)의 표면에 절연층(200)을 형성한다(S2). 상기 절연층은 광원의 열이 히트싱크로 잘 전달될 수 있도록 얇게 제공될 수 있다. 상기 절연층(200)은 수지를 재질로 하고, 광원으로 인가되는 전기가 히트싱크로 흐르지 않도록 한다. 상기 절연층에는 소정의 구조로 패턴이 제공된다(S3). 상기 패턴은 상기 도전단위체를 포함하고, 상기 함몰부(21)에 의해서 관찰되는 것이라고 할 수 있다. 상기 패턴에는 전기가 도전되는 도전층을 제공할 수 있다(S4). 상기 도전층으로는 전기가 흐르는 전도도전층을 제공할 수 있다. 상기 도전층으로는 열이 흐르는 방열도전층을 제공할 수 있다. 상기 패턴은 레이저 가공에 의해서 상기 절연층이 소정의 깊이로 제거되는 것에 의해서 제공될 수 있다. 이후에 상기 패턴에는 도전층이 적층될 수 있다. 상기 도전층은 금속막이 도금방식에 의해서 상기 패턴에만 적층되고, 상기 절연층에는 적층되지 않는 방식으로 제공될 수 있다. Referring to Fig. 18, first, a helix (1200 in Fig. 17) is fabricated (S1). The heat sink may be made of aluminum and die cast. An insulating layer 200 is formed on the surface of the heat sink 1200 (S2). The insulating layer may be provided thin so that the heat of the light source can be well transmitted to the heat sink. The insulating layer 200 is made of resin so that electricity applied to the light source does not flow to the heat sink. The insulating layer is provided with a pattern having a predetermined structure (S3). The pattern includes the conductive unit, and can be said to be observed by the depression 21. The pattern may be provided with an electrically conductive layer (S4). The conductive layer may be provided with a conductive layer through which electricity flows. The conductive layer may be provided with a heat-radiating conductive layer through which heat flows. The pattern may be provided by laser processing to remove the insulating layer to a predetermined depth. Thereafter, the conductive layer may be laminated on the pattern. The conductive layer may be provided in such a manner that the metal film is laminated only on the pattern by a plating method and is not laminated on the insulating layer.

상기 광원모듈의 제조방법을 더 상세하게 설명한다. The manufacturing method of the light source module will be described in more detail.

먼저, 도 19는 히트싱크의 제조방법을 상세하게 설명하는 도면이다. First, Fig. 19 is a view for explaining the manufacturing method of the heat sink in detail.

도 19를 참조하면, 다이캐스팅방법으로 제조된 히트싱크를 세척한다(S11). 세척공정 중에는 히트싱크의 표면에 부착되는 유지 등의 기름성분이 제거될 수 있도록 알카라인 수조에 히트싱크를 담그는 방법으로 수행될 수 있다. 상기 기름성분을 제거하는 공정은 다른 방법에 의해서도 수행될 수 있을 것이다. 세척된 히트싱크는 알칼리 성분을 깨끗이 제거하기 위하여 세척한다(12). 세척된 히트싱크의 표면에는 추후 공정에서 상기 절연층(200)의 접착력을 높이기 위하여, 크로메이트처리를 수행하여 제 1 금속층(도 17의 201참조)을 형성한다(S13) .Referring to FIG. 19, the heat sink manufactured by the die casting method is washed (S11). During the cleaning process, the heat sink may be immersed in an alkaline water tank so that oil components such as oil and the like attached to the surface of the heat sink can be removed. The process of removing the oil component may be performed by other methods. The cleaned heat sink is cleaned to remove the alkaline components (12). A chromate treatment is performed on the surface of the cleaned heat sink to increase the adhesive force of the insulating layer 200 in a subsequent step to form a first metal layer (see 201 in FIG. 17) (S13).

상기 크로메이트처리는, 크롬산염처리라고도 하는 것으로서, 히트싱크(1200)을 크롬산염 중에 침지하여 표면에 함수산화 크롬의 피막을 생기게 한다. 상기 피막은 기공이 없기 때문에, 상기 피막에 제공되는 절연층(200)의 추후 박리를 방지할 수 있다. 또한, 상기 피막 위에 형성되는 도료의 밀착성을 향상시킬 수 있다. 따라서 상기 제 1 금속층(201)은 크롬을 주성분으로 할 수 있다. The chromate treatment is also referred to as a chromate treatment, in which the heat sink 1200 is immersed in a chromate so that a film of hydrous chrome oxide is formed on the surface. Since the coating film has no pores, further peeling of the insulating layer 200 provided on the coating film can be prevented. Further, the adhesion of the paint formed on the coating film can be improved. Therefore, the first metal layer 201 may contain chromium as a main component.

상기 제 1 금속층(201)은 히트싱크(1200)의 표면에 0.1㎛내외로 제공되는 얇은 층으로서, 히트싱크(1200)의 일부를 이루는 것으로 해석할 수 있다. 상기 히트싱크(1200)는 상기 제 1 금속층(201)과는 다른 재질의 히트싱크 본체에 상기 제 1 금속층(201)이 제공되는 것으로 이해할 수 있다. 따라서, 편의상 상기 제 1 금속층(201)이 제공되거나 제공되지 않은 상태 모두를 히트싱크라고 지칭하기도 하지만, 특징적으로 상기 제 1 금속층(201)이 제공되지 않은 상태의 히트싱크는 히트싱크 본체라고 지칭할 수도 있다. The first metal layer 201 may be a thin layer provided on the surface of the heat sink 1200 to have a thickness of about 0.1 탆 and can be interpreted as a part of the heat sink 1200. It is understood that the heat sink 1200 is provided with the first metal layer 201 in a heat sink body different from the first metal layer 201. Thus, for the sake of convenience, both the state in which the first metal layer 201 is provided and the state in which the first metal layer 201 is not provided may be referred to as a heat sink, but the heat sink in a state where the first metal layer 201 is not provided is called a heat sink body It is possible.

이후에는 수세(S14), 및 건조(S15)를 거친다. 상기 제 1 건조공정(S15)는 180도씨에서 20분 정도 수행되는데, 이는 히트싱크(더 구체적으로는 제 1 금속층) 표면의 기공이 수분이나 공기를 제거하기 위한 것이다. Thereafter, it is washed (S14) and dried (S15). The first drying step (S15) is performed for about 20 minutes at 180 degrees, which is for removing moisture and air from the pores on the surface of the heat sink (more specifically, the first metal layer).

이후에는 도료를 도포한다(S16). 도료도포단계(S16)는 분체도장방식을 적용할 수 있다. 상기 분체도장방식은 고온 처리가 수행되므로 열에 강하다. 따라서, 본딩공정 중의 고온환경에서도 절연층이 손상되는 것을 방지할 수 있다. 솔더링 공정에서 저온으로 수행되는 경우에는 액체 도장의 방식을 적용하거나 전도성 에폭시 본딩을 수행할 수도 있을 것이다. 이때 절연층의 두께는 80~120㎛의 두께로 제공될 수 있다. Thereafter, the coating material is applied (S16). The powder coating method can be applied to the paint application step (S16). The powder coating method is resistant to heat since high temperature treatment is performed. Therefore, it is possible to prevent the insulating layer from being damaged even in a high temperature environment in the bonding step. If the soldering process is performed at a low temperature, a liquid coating method or a conductive epoxy bonding may be performed. At this time, the thickness of the insulating layer may be 80 to 120 탆.

상기 절연층(200)은 제조비가 비싸기 때문에 상기 제 1 금속층(201)의 일부 표면에 제공되도록 할 수 있다. 상기 제 1 금속층(201)은 도금 공정에 의해서 수행이 되므로 상기 히트싱크(1200)의 전체 표면에 제공되도록 할 수 있다. The insulating layer 200 may be provided on a part of the surface of the first metal layer 201 because the manufacturing cost is high. Since the first metal layer 201 is formed by a plating process, the first metal layer 201 may be provided on the entire surface of the heat sink 1200.

이후에는 제 2 건조공정(S17)이 수행된다. 상기 제 2 건조공정은 상기 제 1 건조공정과 동일한 온도로 수행될 수 있다. 이는 상기 제 1 건조공정보다 높은 온도에서 제 2 건조공정이 수행되는 경우에는, 제 1 건조공정에서 배출되지 못한 가스가 추가로 생성되어 절연층(200)의 접착력을 방해할 수 있기 때문이다. Thereafter, the second drying step (S17) is performed. The second drying process may be performed at the same temperature as the first drying process. This is because, when the second drying process is performed at a higher temperature than the first drying process, a gas that can not be discharged in the first drying process is further generated, which may interfere with the adhesive force of the insulating layer 200.

도 20은 상기 절연층의 표면에 패턴을 형성하는 과정을 설명하는 흐름도이다. 20 is a flowchart illustrating a process of forming a pattern on the surface of the insulating layer.

도 20을 참조하면, 절연층(200)이 제공되는 히트싱크를 지그에 고정한다(S31). 고정된 히트싱크(1200)에 레이저 가공을 수행하여 패턴을 형성한다(S32). 이때 레이저는 중첩되어 조사될 수 있다. 즉, 레이저가 조사된 부분이 다시금 조사되도록 할 수 있는 것이다. 레이저 스팟의 에너지 밀도에 따른 불균일 식각에 의한 문제점을 완화시킬 수 있다. Referring to FIG. 20, the heat sink provided with the insulating layer 200 is fixed to the jig (S31). Laser processing is performed on the fixed heat sink 1200 to form a pattern (S32). At this time, the lasers can be overlapped and irradiated. That is, the laser irradiated portion can be irradiated again. It is possible to alleviate the problem caused by the non-uniform etching depending on the energy density of the laser spot.

실시예에서는 7W의 출력, 50kHz의 주파수, 50%의 헤칭을 이용하였다. In the embodiment, an output of 7 W, a frequency of 50 kHz, and a hearing of 50% are used.

이후에는 세척(S33), 및 건조(S34)를 거쳐서 히트싱크의 표면에 절연층을 제공할 수 있다. Thereafter, the insulating layer may be provided on the surface of the heat sink through the cleaning (S33) and the drying (S34).

도 21은 도전층을 제공하는 흐름도이다. 21 is a flow chart for providing a conductive layer.

먼저, 상기 도전층은 도금공정으로 제공되는 것임과, 상기 도전층은 다수의 도금층으로 제공되는 것임을 이미 설명한 바가 있다. First, the conductive layer is provided in a plating process, and the conductive layer is provided as a plurality of plating layers.

더 상세하게, 레이저 공정으로부터 이송된 히트싱크(이때에는 절연층이 히트싱크의 표면에 있는 것은 물론이다)는 먼저 탈지공정(S41) 및 수세공정(S42)을 거친다. 이 공정은 이송과정에서 있을 수 있는 히트싱크의 표면을 정화하여, 도금 공정에서 연이어 발생하는 문제점을 없애도록 하기 위한 것이다. More specifically, the heat sink (not to mention the insulating layer on the surface of the heat sink) transferred from the laser process first undergoes the degreasing step (S41) and the water washing step (S42). This process is to purify the surface of the heat sink which may be present during the transfer process, thereby eliminating the problems that arise in the plating process.

이후에는 제 1 차 동도금(S43), 수세(S44), 제 2 차 동도금(S45), 및 수세(S46)을 수행하여 전기가 흐르는 도금층을 제공한다. 상기 제 1 차 동도금(S43)은, 상기 함몰부(21) 내부의 금속핵 또는 트렌치에 동입자가 잘 붙을 수 있도록 고 농도 구리가 포함되는 도금액에서 수행된다. 상기 제 1 차 동도금(S43)에 의해서 제공된 막을 제 2 금속층(도 17의 202참조)이라고 할 수 있다. Thereafter, the first copper plating (S43), the water wash (S44), the second copper plating (S45), and the water wash (S46) are performed to provide a plating layer through which electricity flows. The first copper plating (S43) is performed in a plating solution containing high-concentration copper so that copper particles adhere well to metal nuclei or trenches inside the depression (21). The film provided by the first copper plating (S43) may be referred to as a second metal layer (see 202 in Fig. 17).

상기 제 1 차 동도금(S43)에 의해서 구리성분의 입자가 상기 함몰부(21) 안에 도금된 다음에는 상기 제 1 차 동고금(S43)에 비해서는 저농도의 도금액에서 제 2 차 동도금(S45)을 수행한다. 상기 제 2 차 동도금(S45)은 상기 제 2 금속층(202)에 추가적으로 도금이 되기 때문에, 상기 제 1 차 동도금(S43)에 비해서는 저농도의 도금액에서 수행될 수 있다. 이로써 제 3 금속층(도 17의 203참조)이 제공될 수 있다. 상기 제 2,3 금속층(202)(203)은 제 1 도금층(41)과 대응된다고 할 수 있다. After the copper particles are plated in the depression 21 by the first copper plating S43, the secondary copper plating S45 is performed in the plating solution having a lower concentration than that of the first primary copper alloy S43 . Since the second copper plating (S45) is additionally plated on the second metal layer (202), it can be performed in a plating solution having a lower concentration than the first copper plating (S43). This allows a third metal layer (see 203 in FIG. 17) to be provided. The second and third metal layers 202 and 203 correspond to the first plating layer 41.

이후에는 제 3 금속층(203)를 표면개질하는 과정이 수행된다(S47). 상기 표면개질은 동의 표면에 니켈이 잘 도금되도록 하기 위한 공정이다. Thereafter, a process of surface-modifying the third metal layer 203 is performed (S47). The surface modification is a process for allowing nickel to be well plated on the copper surface.

상기 표면개질은, 센시타이징(sensitizing)이라고도 하는 것으로서, 염산등을 이용하여 제 3 금속층(203)의 표면을 거칠게 만든 후에, 주석이온을 함유하는 용액에 침지시켜 주석을 흡착시키는 공정 및, 염화파라듐용액에 침지시켜서 수행될 수 있다. 이로써, 니켈이 제 3 금속층(203)의 표면에 잘 도금될 수 있다. The surface modification is also referred to as sensitizing, and includes a step of making the surface of the third metal layer 203 roughened with hydrochloric acid or the like, and then dipping the surface of the third metal layer 203 in a solution containing tin ions to adsorb tin, Palladium < / RTI > solution. Thereby, nickel can be plated well on the surface of the third metal layer 203.

이후에 수세공정(S48)을 거친 후에, 니켈도금공정(S49)을 수행한다. 이로써 제 제 3 금속층(203) 상에 제 4 금속층(204)이 제공될 수 있다. 상기 제 4 금속층(204)의 니켈은 솔더링이 원활하게 수행되도록 하기 위한 것임은 이미 설명한 바가 있다. 상기 제 4 금속층(204)는 제 2 도금층(42)과 대응된다고 할 수 있다. After the water washing step (S48), the nickel plating step (S49) is performed. A fourth metal layer 204 may then be provided on the third metal layer 203. It has been already described that the nickel of the fourth metal layer 204 is intended to facilitate soldering. And the fourth metal layer 204 corresponds to the second plating layer 42.

이후에 수세공정(S50)을 거친 다음에 얇은 막으로 금을 도금하고(S51)하고 수세 공정을 수행한다. 상기 금도금공정(S51)에 의해서 제 5 금속층(203)이 제공될 수 있다. 상기 제 5 금속층(205)은 0.05㎛로 제공될 수 있다. 상기 제 5 도금층(205)은 제 3 도금층(43)과 대응된다고 할 수 있다. Thereafter, after the water washing step (S50), gold is plated with a thin film (S51), and the water washing step is performed. The fifth metal layer 203 may be provided by the gold plating step S51. The fifth metal layer 205 may be provided at 0.05 [mu] m. The fifth plating layer 205 corresponds to the third plating layer 43.

상기되는 제조공정을 거친 완성품으로서의 히트싱크에 광원(10)을 솔더링하고, 전선을 연결한 다음에, 렌즈커버를 체결하여 광원모듈을 완성할 수 있다. The light source module can be completed by soldering the light source 10 to the heat sink as a finished product through the above-described manufacturing process, connecting the electric wires, and then tightening the lens cover.

도 17은 상기되는 제조방법으로 제공되는 도전층의 주변을 단면도로 나타내었다. 17 is a cross-sectional view of the periphery of the conductive layer provided by the above-described manufacturing method.

상기 히트싱크(1200)의 표면에 크롬을 주성분으로 하는 제 1 금속층(201)이 제공되고, 상기 제 1 금속층(201)의 표면에 절연층(200)이 제공된다. 상기 절연층(200)에 레이저 가공에 의해서 함몰부(21)가 제공되고, 상기 함몰부(21)의 내부에만 선택적으로 상기 구리를 성분으로 하는 제 2 금속층(202) 및 제 3 금속층(203)이 적층된다. A first metal layer 201 mainly composed of chromium is provided on the surface of the heat sink 1200 and an insulating layer 200 is provided on the surface of the first metal layer 201. A recessed portion 21 is provided in the insulating layer 200 by laser processing and a second metal layer 202 and a third metal layer 203 selectively constituting the copper only in the recessed portion 21, .

상기 제 3 금속층(203)의 표면은 표면개질공정에 의해서 거칠게 가공된다. 상기 제 3 금속층(203)의 거친 표면에는 니켈을 성분으로 하는 제 4 금속층(204)이 적층되고, 상기 제 4 금속층(204)의 표면에는 금성분의 제 4 금속층(204)가 적층된다. The surface of the third metal layer 203 is roughly processed by a surface modification process. A fourth metal layer 204 made of nickel is laminated on the rough surface of the third metal layer 203 and a fourth metal layer 204 made of gold is laminated on the surface of the fourth metal layer 204.

본 발명에 따르면, 신속한 제조공정, 저렴한 제조비용, 대량생산의 용이성, 제품수율의 향상이라는 효과로 인하여, 조명기기의 생산에 있어서 많은 장점을 기대할 수 있고, 특히 저렴하고 고속으로 제품을 제작할 수 있기 때문에 발광 다이오드를 사용하는 조명기기의 확산에 널리 기여하는 계기를 제공할 수 있다. According to the present invention, it is possible to expect many advantages in the production of a lighting device owing to the effect of a rapid manufacturing process, an inexpensive manufacturing cost, an ease of mass production, and an improvement of a product yield, Therefore, it is possible to provide an instrument widely contributing to the diffusion of a lighting apparatus using a light emitting diode.

11: 광원
40: 도전층
44: 방열 도전층
45: 전도 도전층
120, 1200: 히트싱크
201: 제 1 금속층
202: 제 2 금속층
203: 제 3 금속층
204: 제 4 금속층
11: Light source
40: conductive layer
44: heat radiating conductive layer
45: Conducting conductive layer
120, 1200: Heat sink
201: first metal layer
202: second metal layer
203: third metal layer
204: fourth metal layer

Claims (18)

빛을 제공하는 적어도 하나의 광원; 및
상기 광원을 지지하는 몸체가 포함되고,
상기 몸체에는,
상기 광원으로부터의 열을 흡수하여 외부로 발산하는 히트싱크 본체;
상기 히트싱크 본체의 표면에 얇게 제공되는 제 1 금속층;
상기 제 1 금속층의 적어도 일부 표면에 제공되는 전기적 절연 성질을 가지는 절연층;
상기 절연층이 함몰되는 함몰부; 및
상기 함몰부 안에 제공되어 전류가 흐를 수 있는 도전층이 포함되고,
상기 도전층에는,
상기 함몰부의 바닥에 접하고, 구리를 재질로 하는 구리재질층; 및
상기 구리재질층 상에 제공되는 니켈을 재질로 하는 니켈재질층이 포함되고,
상기 구리재질층에는,
상기 함몰부의 바닥에 접하는 제 2 금속층; 및
상기 제 2 금속층 상의 제 3 금속층이 포함되는 광원모듈.
At least one light source for providing light; And
And a body for supporting the light source,
In the body,
A heat sink body that absorbs heat from the light source and emits the heat to the outside;
A first metal layer thinly provided on a surface of the heat sink body;
An insulating layer having electrical insulation property provided on at least a surface of the first metal layer;
A depression for depressing the insulating layer; And
A conductive layer provided in the depression and capable of flowing an electric current,
In the conductive layer,
A copper material layer contacting the bottom of the depression and made of copper; And
And a nickel material layer made of nickel provided on the copper material layer,
In the copper material layer,
A second metal layer contacting the bottom of the depression; And
And a third metal layer on the second metal layer.
삭제delete 제 1 항에 있어서,
상기 니켈재질층은 제 4 금속층이고,
상기 제 4 금속층 상에 제공되는 금을 재질로 하는 제 5 금속층이 포함되는 광원모듈.
The method according to claim 1,
The nickel material layer is a fourth metal layer,
And a fifth metal layer made of gold and provided on the fourth metal layer.
제 3 항에 있어서,
상기 제 5 금속층이 상기 도전층 내의 다른 금속층에 비하여 가장 얇은 광원모듈.
The method of claim 3,
Wherein the fifth metal layer is thinner than other metal layers in the conductive layer.
제 4 항에 있어서,
상기 제 3 금속층과 상기 제 4 금속층의 계면은 다른 금속층의 계면에 비하여 표면이 거친 광원모듈.
5. The method of claim 4,
Wherein the interface between the third metal layer and the fourth metal layer is roughened as compared with an interface between the third metal layer and the fourth metal layer.
제 1 항에 있어서,
상기 제 1 금속층이 다른 금속층에 비하여 가장 얇은 광원모듈.
The method according to claim 1,
Wherein the first metal layer is thinner than the other metal layers.
제 1 항에 있어서,
상기 제 2 금속층은 상기 제 3 금속층에 비하여 얇은 광원모듈.
The method according to claim 1,
Wherein the second metal layer is thinner than the third metal layer.
제 1 항에 있어서,
상기 제 1 금속층은 적어도 크롬을 포함하는 광원모듈.
The method according to claim 1,
Wherein the first metal layer comprises at least chromium.
제 1 재질의 히트싱크 본체를 제공하는 것;
상기 히트싱크 본체의 표면에 제 2 재질의 제 1 금속층을 제공하는 것;
상기 제 1 금속층의 적어도 일부 표면에 수지 재질의 절연층이 도포되는 것;
상기 절연층이 함몰되는 소정의 패턴을 제공하는 것;
상기 패턴에 도전층을 적층하는 것; 및
상기 도전층에 광원을 전기적으로 연결하는 것이 포함되고,
상기 도전층을 제공하는 것에는,
상기 패턴의 바닥면에 구리를 재질로 하는 제 1 도금층을 제공하는 것;
상기 제 1 도금층의 표면을 개질하는 것; 및
상기 표면개질된 상기 제 1 도금층에 제 2 도금층을 제공하는 것이 포함되는 광원모듈의 제조방법.
Providing a heat sink body of a first material;
Providing a first metal layer of a second material on the surface of the heat sink body;
Applying an insulating layer of a resin material to at least a part of the surface of the first metal layer;
Providing a predetermined pattern in which the insulating layer is recessed;
Laminating a conductive layer on the pattern; And
And electrically connecting the light source to the conductive layer,
To provide the conductive layer,
Providing a first plating layer of copper on the bottom surface of the pattern;
Modifying a surface of the first plating layer; And
And providing the second plating layer to the first plating layer having been surface-modified.
제 9 항에 있어서,
상기 도전층을 제공하는 것에는,
종류가 다른 금속을 재질로 하는 다른 금속층을 적어도 두 개 적층하는 것이 포함되는 광원모듈의 제조방법.
10. The method of claim 9,
To provide the conductive layer,
A method of manufacturing a light source module, comprising: stacking at least two different metal layers made of different kinds of metals.
제 9 항에 있어서,
상기 제 1 금속층은 상기 히트싱크의 전체표면에 제공되는 광원모듈의 제조방법.
10. The method of claim 9,
Wherein the first metal layer is provided on the entire surface of the heat sink.
삭제delete 제 9 항에 있어서,
상기 제 1 도금층을 제공하는 것에는,
제 2 금속층을 도금하는 것;
수세하는 것; 및
제 3 금속층을 도금하는 것이 포함되는 광원모듈의 제조방법.
10. The method of claim 9,
In providing the first plating layer,
Plating the second metal layer;
Washing; And
And plating the third metal layer.
빛을 제공하는 적어도 하나의 광원;
상기 광원을 지지하는 몸체; 및
상기 광원에서 출사된 광이 투과되도록, 상기 몸체의 상면에 체결되는 렌즈커버가 포함되고,
상기 광원으로부터의 열을 흡수하여 외부로 발산하는 히트싱크;
상기 히트싱크의 표면에 제공되는 내부와는 재질이 다른 제 1 금속층;
상기 히트싱크의 표면에 제공되는 전기적 절연 성질을 가지는 절연층; 및
상기 절연층의 함몰되는 부분에 제공되어 상기 광원으로 전기를 인가하는 통로 영역에 적어도 제공되는 도전층이 포함되고,
상기 도전층에는,
적어도 상기 함몰부의 바닥에 접하고 구리를 재질로 하는 제 1 도금층;
상기 제 1 도금층 상에 제공되는 니켈을 재질로 하는 제 2 도금층; 및
상기 제 2 도금층 상에 제공되는 보호층이 포함되는 광원모듈.
At least one light source for providing light;
A body supporting the light source; And
A lens cover coupled to an upper surface of the body so as to transmit light emitted from the light source,
A heat sink that absorbs heat from the light source and emits the heat to the outside;
A first metal layer having a material different from that of the inside provided on the surface of the heat sink;
An insulating layer provided on the surface of the heat sink and having electrical insulation properties; And
And a conductive layer provided at least at a recessed portion of the insulating layer and provided at least in a passage region for applying electricity to the light source,
In the conductive layer,
A first plating layer contacting at least the bottom of the depression and made of copper;
A second plating layer made of nickel provided on the first plating layer; And
And a protective layer provided on the second plating layer.
제 14 항에 있어서,
상기 1 도금층과 상기 제 2 도금층의 개면은 표면개질되어 거친 광원모듈.
15. The method of claim 14,
Wherein the first plated layer and the second plated layer are surface-modified.
제 14 항에 있어서,
상기 제 1 도금층에는 순차적으로 도금되는 제 2 금속층 및 제 3 금속층이 포함되는 광원모듈.
15. The method of claim 14,
Wherein the first plating layer includes a second metal layer and a third metal layer that are sequentially plated.
제 1 재질의 히트싱크 본체를 제공하는 것;
상기 히트싱크 본체의 표면에 제 2 재질의 제 1 금속층을 제공하는 것;
상기 제 1 금속층이 제공된 상기 히트싱크를 수세하는 것;
수세된 상기 히트싱크 본체를 건조하는 제 1 건조공정을 수행하는 것;
상기 제 1 금속층의 적어도 일부 표면에 수지 재질의 절연층이 도포되는 것;
상기 절연층을 건조하는 제 2 건조공정을 수행하는 것;
상기 절연층이 제공된 히트싱크를 탈지하는 것;
상기 절연층이 함몰되는 소정의 패턴을 제공하는 것;
상기 패턴에 도전층을 적층하는 것; 및
상기 도전층에 광원을 전기적으로 연결하는 것이 포함되는 광원모듈의 제조방법.
Providing a heat sink body of a first material;
Providing a first metal layer of a second material on the surface of the heat sink body;
Washing the heat sink provided with the first metal layer;
Performing a first drying step of drying the washed water of the heat sink main body;
Applying an insulating layer of a resin material to at least a part of the surface of the first metal layer;
Performing a second drying step of drying the insulating layer;
Degreasing the heat sink provided with the insulating layer;
Providing a predetermined pattern in which the insulating layer is recessed;
Laminating a conductive layer on the pattern; And
And electrically connecting the light source to the conductive layer.
제 17 항에 있어서,
상기 제 1 건조공정의 온도는 상기 제 2 건조공정의 온도에 비하여 높은 광원모듈의 제조방법.
18. The method of claim 17,
Wherein the temperature of the first drying step is higher than the temperature of the second drying step.
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