KR101828545B1 - Methode for manufacturing touch screen panel - Google Patents

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KR101828545B1
KR101828545B1 KR1020140059307A KR20140059307A KR101828545B1 KR 101828545 B1 KR101828545 B1 KR 101828545B1 KR 1020140059307 A KR1020140059307 A KR 1020140059307A KR 20140059307 A KR20140059307 A KR 20140059307A KR 101828545 B1 KR101828545 B1 KR 101828545B1
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Abstract

본 발명은 박형의 터치스크린 패널을 용이하게 제조할 수 있는 터치스크린 패널 제조방법을 위하여, 기판의 제1면 상에 제1그래핀층을 전사하는 단계와, 제1그래핀층을 레이저빔을 이용해 패터닝하는 단계와, 패터닝된 제1그래핀층을 보호필름으로 덮는 단계와, 기판의 제2면 상에 제2그래핀층을 전사하는 단계와, 제2그래핀층을 플라즈마를 이용해 패터닝하는 단계와, 보호필름을 제거하는 단계를 포함하는, 터치스크린 패널 제조방법을 제공한다.The present invention relates to a method of manufacturing a touch screen panel capable of easily manufacturing a thin touch screen panel, comprising the steps of: transferring a first graphene layer onto a first side of a substrate; patterning the first graphene layer with a laser beam The method comprising: covering the patterned first graphene layer with a protective film; transferring the second graphene layer onto a second side of the substrate; patterning the second graphene layer with plasma; The method comprising the steps of:

Description

터치스크린 패널 제조방법{Methode for manufacturing touch screen panel}[0001] METHOD FOR MANUFACTURING TOUCH SCREEN PANEL [0002]

본 발명의 실시예들은 터치스크린 패널 제조방법에 관한 것으로서, 더 상세하게는 박형의 터치스크린 패널을 용이하게 제조할 수 있는 터치스크린 패널 제조방법에 관한 것이다.Embodiments of the present invention relate to a method of manufacturing a touch screen panel, and more particularly, to a method of manufacturing a touch screen panel capable of easily manufacturing a thin touch screen panel.

일반적으로 터치스크린 패널은 디스플레이 장치에 장착되어 사용자가 손 등으로 터치할 경우 해당 터치지점의 정보를 디스플레이 장치의 제어부 등에 전달하는 등의 역할을 할 수 있다.Generally, the touch screen panel is mounted on a display device and can transmit information of the touch point to a control unit of a display device when a user touches the touch screen with a hand or the like.

사용자의 터치지점의 정보를 획득하기 위해, 터치스크린 패널은 사전설정된 패턴의 도전층을 갖는 것이 일반적이다.In order to obtain information of a user's touch point, the touch screen panel generally has a predetermined pattern of conductive layers.

그러나 이러한 종래의 터치스크린 패널의 경우 그 두께가 두껍다는 문제점이 있었다. 그리고 도전층을 사전설정된 패턴으로 패터닝하는 과정이 복잡하다는 문제점이 있었다.However, such a conventional touch screen panel has a problem that its thickness is thick. And the process of patterning the conductive layer in a predetermined pattern is complicated.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 포함하여 여러 문제점들을 해결하기 위한 것으로서, 박형의 터치스크린 패널을 용이하게 제조할 수 있는 터치스크린 패널 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 그러나 이러한 과제는 예시적인 것으로, 이에 의해 본 발명의 범위가 한정되는 것은 아니다.It is another object of the present invention to provide a touch screen panel manufacturing method capable of easily manufacturing a thin touch screen panel. However, these problems are exemplary and do not limit the scope of the present invention.

본 발명의 일 관점에 따르면, 기판의 제1면 상에 제1그래핀층을 전사하는 단계와, 제1그래핀층을 레이저빔을 이용해 패터닝하는 단계와, 패터닝된 제1그래핀층을 보호필름으로 덮는 단계와, 기판의 제2면 상에 제2그래핀층을 전사하는 단계와, 제2그래핀층을 플라즈마를 이용해 패터닝하는 단계와, 보호필름을 제거하는 단계를 포함하는, 터치스크린 패널 제조방법이 제공된다.According to one aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a semiconductor device, comprising: transferring a first graphene layer onto a first side of a substrate; patterning the first graphene layer with a laser beam; , Transferring a second graphene layer onto a second side of the substrate, patterning the second graphene layer using plasma, and removing the protective film. do.

보호필름은, 상기 플라즈마를 이용해 패터닝하는 단계 중 손상되지 않는 물질을 포함할 수 있다.The protective film may include a material that is not damaged during the patterning using the plasma.

또는, 보호필름은 사전설정된 온도 이상의 분위기에서 접착력이 저하되는 물질을 포함할 수 있다. 이때, 보호필름은 아크릴계 필름을 포함할 수 있다.Alternatively, the protective film may include a material whose adhesive strength is lowered in an atmosphere of a predetermined temperature or higher. At this time, the protective film may include an acrylic film.

한편, 상기 플라즈마를 이용해 패터닝하는 단계는, 제2그래핀층의 사전설정된 부분을 포토리지스트로 덮은 상태에서 플라즈마를 이용해 패터닝하는 단계이고, 상기 보호필름을 제거하는 단계는, 보호필름과 포토리지스트를 동시에 제거하는 단계일 수 있다.The patterning using the plasma may include patterning a predetermined portion of the second graphene layer with a photoresist using plasma, and the step of removing the protective film may include a step of removing the protective film and the photoresist And can be removed simultaneously.

전술한 것 외의 다른 측면, 특징, 이점은 이하의 발명을 실시하기 위한 구체적인 내용, 특허청구범위 및 도면으로부터 명확해질 것이다.Other aspects, features, and advantages other than those described above will be apparent from the following detailed description, claims, and drawings.

상기한 바와 같이 이루어진 본 발명의 일 실시예에 따르면, 박형의 터치스크린 패널을 용이하게 제조할 수 있는 터치스크린 패널 제조방법을 구현할 수 있다. 물론 이러한 효과에 의해 본 발명의 범위가 한정되는 것은 아니다.According to an embodiment of the present invention as described above, a method of manufacturing a touch screen panel capable of easily manufacturing a thin touch screen panel can be realized. Of course, the scope of the present invention is not limited by these effects.

도 1 내지 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 터치스크린 패널 제조방법의 공정들을 개략적으로 도시하는 단면도들이다.
도 7 및 도 8은 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 터치스크린 패널 제조방법의 공정들을 개략적으로 도시하는 단면도들이다.1 to 6 are cross-sectional views schematically showing processes of a method of manufacturing a touch screen panel according to an embodiment of the present invention.
FIGS. 7 and 8 are cross-sectional views schematically showing processes of a method of manufacturing a touch screen panel according to another embodiment of the present invention.

본 발명은 다양한 변환을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 본 발명의 효과 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 다양한 형태로 구현될 수 있다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The present invention is capable of various modifications and various embodiments, and specific embodiments are illustrated in the drawings and described in detail in the detailed description. The effects and features of the present invention and methods of achieving them will be apparent with reference to the embodiments described in detail below with reference to the drawings. The present invention may, however, be embodied in many different forms and should not be construed as limited to the embodiments set forth herein.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 상세히 설명하기로 하며, 도면을 참조하여 설명할 때 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 도면부호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings, wherein like reference numerals refer to like or corresponding components throughout the drawings, and a duplicate description thereof will be omitted .

이하의 실시예에서 층, 막, 영역, 판 등의 각종 구성요소가 다른 구성요소 "상에" 있다고 할 때, 이는 다른 구성요소 "바로 상에" 있는 경우뿐 아니라 그 사이에 다른 구성요소가 개재된 경우도 포함한다. 또한 설명의 편의를 위하여 도면에서는 구성 요소들이 그 크기가 과장 또는 축소될 수 있다. 예컨대, 도면에서 나타난 각 구성의 크기 및 두께는 설명의 편의를 위해 임의로 나타내었으므로, 본 발명이 반드시 도시된 바에 한정되지 않는다.In the following embodiments, when various components such as layers, films, regions, plates, and the like are referred to as being " on " other components, . Also, for convenience of explanation, the components may be exaggerated or reduced in size. For example, the size and thickness of each component shown in the drawings are arbitrarily shown for convenience of explanation, and thus the present invention is not necessarily limited to those shown in the drawings.

도 1 내지 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 터치스크린 패널 제조방법의 공정들을 개략적으로 도시하는 단면도들이다. 본 실시예에 따른 터치스크린 패널 제조방법에 따르면, 먼저 도 1에 도시된 것과 같이 기판(10)의 제1면 상에 제1그래핀층(20)을 전사한다.1 to 6 are cross-sectional views schematically showing processes of a method of manufacturing a touch screen panel according to an embodiment of the present invention. According to the method of manufacturing a touch screen panel according to the present embodiment, the first graphene layer 20 is transferred onto the first surface of the substrate 10 as shown in FIG.

제1그래핀층(20)을 기판(10) 상에 전사하기 위해, 제1그래핀층(20)은 사전에 준비되거나 또는 기판(10)의 준비와 병행하여 준비될 수 있다. 제1그래핀층(20)은 다양한 방법으로 준비될 수 있다. 예컨대 그래핀 제조용 동박을 탄소를 포함하는 가스 분위기에서 1000℃ 이상으로 가열하여, 그래핀 제조용 동박 상에 제1그래핀층(20)이 형성되도록 할 수 있다. 이후 그래핀 제조용 동박을 냉각하고 제1그래핀층(20) 상에 폴리에틸렌이나 폴리우레탄 등을 포함하는 전사시트를 적층한 후 그래핀 제조용 동박을 에칭하여 제거하여, 전사시트 상에 제1그래핀층(20)만이 존재하도록 할 수 있다. 그래핀 제조용 동박을 에칭할 시에는 황산 용액, 과황산나트륨 용액, 과산화수소 및/또는 과황산나트륨 용액 등을 이용할 수 있다. 이와 같이 준비된 제1그래핀층(20)을 기판(10) 상에 적층한 후 전사시트를 박리하면, 제1그래핀층(20)이 적층된 기판(10)을 얻을 수 있다.To transfer the first graphene layer 20 onto the substrate 10, the first graphene layer 20 may be prepared in advance or in parallel with the preparation of the substrate 10. The first graphene layer 20 can be prepared in various ways. For example, the first graphene layer 20 may be formed on the copper foil for producing graphene by heating the copper foil for producing graphene to 1000 ° C or higher in a gas atmosphere containing carbon. Thereafter, the copper foil for producing graphene is cooled and a transfer sheet containing polyethylene, polyurethane or the like is laminated on the first graphene layer 20, and then the copper foil for producing graphene is etched and removed to form a first graphene layer 20) can be present. When copper foil for producing graphene is etched, a sulfuric acid solution, a sodium persulfate solution, a hydrogen peroxide solution and / or a sodium persulfate solution can be used. When the first graphene layer 20 thus prepared is laminated on the substrate 10 and then the transfer sheet is peeled off, the substrate 10 on which the first graphene layer 20 is laminated can be obtained.

이와 같이 기판(10)의 제1면 상에 제1그래핀층(20)을 전사한 후, 제1그래핀층(20)을 레이저빔을 이용해 도 2에 도시된 것과 같이 패터닝한다. 물론 도 2에서는 제1그래핀층(20)이 패터닝된다는 것을 개략적으로 보여주기 위한 것으로, 제1그래핀층(20)의 패터닝은 도 2에 도시된 것과 같은 두 개의 층(21, 22)들과 달리 상이한 사전설정된 패턴으로 이루어질 수 있다. 예컨대 제1그래핀층(20)은 일 방향으로 연장된 복수개의 스트라이프 패턴들을 포함하도록 패터닝될 수 있다. 물론 일 스트라이프 패턴은 다각형 형상의 부분들을 포함할 수 있으며, 그러한 다각형 형상은 마름모형, 사각형, 삼각형 또는 원형 등을 포함할 수 있다.After transferring the first graphene layer 20 onto the first surface of the substrate 10 as described above, the first graphene layer 20 is patterned using a laser beam as shown in Fig. Of course, FIG. 2 schematically illustrates that the first graphene layer 20 is patterned, and patterning of the first graphene layer 20 is different from the two layers 21 and 22 as shown in FIG. 2 Can be made in different preset patterns. For example, the first graphene layer 20 may be patterned to include a plurality of stripe patterns extending in one direction. Of course, one stripe pattern may include portions of polygonal shape, and such polygonal shapes may include rhombic, square, triangular, or circular, and the like.

이와 같은 제1그래핀층(20)의 패터닝은 다양한 방법을 통해 이루어질 수 있는데, 예컨대 제1그래핀층(20)에 레이저빔을 조사하여 레이저빔이 조사된 부분이 제거되도록 하는 방법을 이용할 수 있다. 그러한 레이저빔으로는 다양한 레이저빔을 이용할 수 있는데, 예컨대 CO2 레이저빔, YAG 레이저빔, 엑시머(Excimer) 레이저빔 등을 이용할 수 있다.The patterning of the first graphene layer 20 may be performed by various methods. For example, a method of irradiating the first graphene layer 20 with a laser beam to remove a portion irradiated with the laser beam may be used. As such a laser beam, various laser beams can be used. For example, a CO 2 laser beam, a YAG laser beam, an excimer laser beam, or the like can be used.

한편, 레이저빔을 정확하게 제어하여 제1그래핀층(20)을 정밀하게 패터닝할 수 있지만, 마스크(미도시)를 제1그래핀층(20)과 레이저원 사이에 배치한 후 레이저빔을 마스크의 개구를 통해 제1그래핀층(20)에 조사하여 제1그래핀층(20)을 패터닝할 수도 있다. 즉, 제1그래핀층(20) 중 마스크에 의해 차폐된 부분은 제거되지 않으므로, 마스크의 개구에 대응하도록 제1그래핀층(20)을 패터닝할 수 있다.The first graphene layer 20 can be precisely patterned by accurately controlling the laser beam. However, after a mask (not shown) is disposed between the first graphene layer 20 and the laser source, The first graphene layer 20 may be patterned by irradiating the first graphene layer 20 with the first graphene layer 20. That is, since the portion of the first graphene layer 20 shielded by the mask is not removed, the first graphene layer 20 can be patterned to correspond to the opening of the mask.

이후, 도 3에 도시된 것과 같이 패터닝된 제1그래핀층을 보호필름(30)으로 덮는다. 이 보호필름(30)은 후술하는 것과 같이 터치스크린 패널 제조 공정 중 패터닝된 제1그래핀층(20)을 보호하는 역할을 할 수 있다. 보호필름(30)에 대해서는 후술한다.Thereafter, the patterned first graphene layer is covered with the protective film 30 as shown in Fig. The protective film 30 may serve to protect the patterned first graphene layer 20 during the manufacturing process of the touch screen panel, as described later. The protective film 30 will be described later.

기판(10)의 제2면 상에는 도 4에 도시된 것과 같이 제2그래핀층(40)을 전사한다. 도 3 및 도 4에서는 패터닝된 제1그래핀층을 보호필름(30)으로 덮은 후 기판(10)의 제2면 상에 제2그래핀층(40)을 전사하는 것으로 도시하고 있지만, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다. 예컨대 기판(10)의 제2면 상에 제2그래핀층(40)을 전사한 후에 패터닝된 제1그래핀층을 보호필름(30)으로 덮을 수도 있다. 기판(10)의 제2면 상에 제2그래핀층(40)을 전사하는 것은 기판(10)의 제1면 상에 제1그래핀층(20)을 전사하는 것과 동일/유사한 과정을 통해 이루어질 수 있으므로, 이에 대한 설명은 생략한다.The second graphene layer 40 is transferred onto the second surface of the substrate 10 as shown in Fig. 3 and 4 illustrate that the patterned first graphene layer is covered with the protective film 30 and then the second graphene layer 40 is transferred onto the second side of the substrate 10. However, But is not limited thereto. For example, after transferring the second graphene layer 40 onto the second side of the substrate 10, the patterned first graphene layer may be covered with the protective film 30. Transferring the second graphene layer 40 onto the second side of the substrate 10 may be accomplished through the same / similar process as transferring the first graphene layer 20 onto the first side of the substrate 10 Therefore, a description thereof will be omitted.

이와 같이 패터닝된 제1그래핀층을 보호필름(30)으로 덮고 기판(10)의 제2면 상에 제2그래핀층(40)을 전사한 후, 제2그래핀층(40)을 도 5에 도시된 것과 같이 패터닝한다. 물론 도 5에서는 제2그래핀층(40)이 패터닝된다는 것을 개략적으로 보여주기 위한 것으로, 제2그래핀층(40)의 패터닝은 도 5에 도시된 것과 같은 두 개의 층(41, 42)들과 달리 상이한 사전설정된 패턴으로 이루어질 수 있다. 예컨대 일 방향으로 연장된 복수개의 스트라이프 패턴들을 포함하도록 패터닝된 제1그래핀층(20)과 달리, 제2그래핀층(40)은 타 방향으로 연장된 복수개의 스트라이프 패턴들을 포함하도록 패터닝하여, 패터닝된 제1그래핀층(20)과 상이한 패턴으로 패터닝될 수 있다. 물론 일 스트라이프 패턴은 다각형 형상의 부분들을 포함할 수 있으며, 그러한 다각형 형상은 마름모형, 사각형, 삼각형 또는 원형 등을 포함할 수 있다.After the patterned first graphene layer is covered with the protective film 30 and the second graphene layer 40 is transferred onto the second surface of the substrate 10, As shown in FIG. Of course, in order to illustrate that the second graphene layer 40 is patterned in FIG. 5, the patterning of the second graphene layer 40 is different from that of the two layers 41 and 42 as shown in FIG. 5 Can be made in different preset patterns. For example, unlike the first graphene layer 20 patterned to include a plurality of stripe patterns extending in one direction, the second graphene layer 40 may be patterned to include a plurality of stripe patterns extending in the other direction, May be patterned in a different pattern than the first graphene layer (20). Of course, one stripe pattern may include portions of polygonal shape, and such polygonal shapes may include rhombic, square, triangular, or circular, and the like.

제1그래핀층(20)을 패터닝할 시 레이저빔을 이용하여 패터닝한 것과 달리, 제2그래핀층(40)을 패터닝하는 것은 플라즈마를 이용한다. 만일 제2그래핀층(40)을 패터닝함에 있어서도 레이저빔을 이용하게 되면, 레이저빔이 기판(10)을 통과해 제1그래핀층(20)에도 도달하여, 패터닝이 완료된 제1그래핀층(20)을 손상시킬 수 있기 때문이다.Unlike the patterning using the laser beam when patterning the first graphene layer 20, the patterning of the second graphene layer 40 uses plasma. If the laser beam is used also in patterning the second graphene layer 40, the laser beam passes through the substrate 10 to reach the first graphene layer 20, and the first graphene layer 20, which has been patterned, As shown in FIG.

한편, 제2그래핀층(40)의 패터닝 과정에서 패터닝이 완료된 제1그래핀층(20)이 손상되는 것을 방지할 필요가 있는데, 전술한 것과 같이 패터닝이 완료된 제1그래핀층(20)을 덮는 보호필름(30)이 바로 패터닝이 완료된 제1그래핀층(20)을 보호하는 역할을 한다. 물론 이를 위해서 플라즈마를 이용해 제2그래핀층(40)을 패터닝하는 과정에서 손상되지 않는 물질을 보호필름(30)이 포함하도록 할 수 있다. 또는 플라즈마를 이용해 제2그래핀층(40)을 패터닝하는 과정에서 일부 손상되는 물질이라 하더라도, 플라즈마를 이용해 제2그래핀층(40)을 패터닝하는 과정에서 제1그래핀층(20)이 노출되지 않도록 만 한다면, 보호필름(30)이 그러한 물질을 포함하도록 할 수 있다.Meanwhile, it is necessary to prevent the first graphene layer 20, which has been patterned, from being damaged in the process of patterning the second graphene layer 40. As described above, when the protection of the first graphene layer 20 that has been patterned The film 30 serves to protect the first patterned graphene layer 20 immediately. Of course, the protection film 30 may be made of a material that is not damaged in the process of patterning the second graphene layer 40 by using the plasma. The first graphene layer 40 is patterned by using a plasma so that the first graphene layer 20 is not exposed in the process of patterning the second graphene layer 40 by using plasma even if the material is partially damaged in the process of patterning the second graphene layer 40 using plasma , The protective film 30 may include such a material.

이와 같이 제2그래핀층(40)을 패터닝한 후 보호필름(30)을 제거하면, 도 6에 도시된 것과 같이 기판(10)의 일측과 타측에 각각 패터닝된 제1그래핀층(20)과 패터닝된 제2그래핀층(40)을 갖는 터치스크린 패널을 획득할 수 있다.6, when the second graphene layer 40 is patterned and then the protective film 30 is removed, the first graphene layer 20 patterned on one side and the other side of the substrate 10 are patterned, To obtain a touch screen panel having a second graphene layer (40).

한편, 보호필름(30)은 사전설정된 제1온도 이상의 분위기에서 접착력이 저하되는 물질을 포함할 수 있다. 이 경우 제2그래핀층(40)의 패터닝을 완료한 후 보호필름(30)을 제거할 시, 사전설정된 제1온도 이상의 분위기에 두는 것만으로도 보호필름(30)을 용이하게 제거할 수 있으며, 이에 따라 보호필름(30)을 제거하는 과정에서 패터닝된 제1그래핀층(20)이나 패터닝된 제2그래핀층(40)이 손상되는 것을 효과적으로 방지할 수 있다. 예컨대 보호필름(30)은 아크릴계 필름을 포함할 수 있는데, 이 경우 보호필름(30)은 120℃ 내지 150℃에서 접착력을 상실할 수 있다. 또는 보호필름(30)은 실리콘계 필름을 포함할 수도 있는데, 이 경우에는 보호필름(30)은 50℃ 내지 80℃에서 접착력을 상실할 수 있다.On the other hand, the protective film 30 may include a material whose adhesive strength is lowered in an atmosphere of a predetermined temperature or higher. In this case, when the protective film 30 is removed after the patterning of the second graphene layer 40 is completed, the protective film 30 can be easily removed simply by setting it in an atmosphere of a predetermined temperature or higher, Accordingly, damage to the patterned first graphene layer 20 or the patterned second graphene layer 40 during the process of removing the protective film 30 can be effectively prevented. For example, the protective film 30 may include an acrylic film, in which case the protective film 30 may lose its adhesion at 120 ° C to 150 ° C. Alternatively, the protective film 30 may include a silicone-based film, in which case the protective film 30 may lose its adhesion at 50 ° C to 80 ° C.

이와 같은 보호필름(30)을 사용할 경우, 제2그래핀층(40)을 패터닝하기 위한 플라즈마 처리는 상온에서 이루어지는 플라즈마 처리일 수 있다. 플라즈마 처리 중 온도가 높아진다면 보호필름(30)이 접착력을 상실하여 제거됨에 따라 패터닝이 완료된 제1그래핀층(20)이 플라즈마에 노출될 수 있기 때문이다.When such a protective film 30 is used, the plasma treatment for patterning the second graphene layer 40 may be a plasma treatment at room temperature. If the temperature increases during the plasma treatment, the protective film 30 is removed due to the loss of adhesion, so that the first patterned graphene layer 20 can be exposed to the plasma.

한편, 도 4에 도시된 것과 같이 제2그래핀층(40)을 기판(10) 상에 전사할 시, 제2그래핀층(40)이 전사보호필름(미도시)으로 덮인 채로 기판(10) 상에 전사될 수 있다. 이 경우 기판(10)의 일면 상의 패터닝된 제1그래핀층(20)은 보호필름(30)으로 덮이고, 기판(10)의 타면 상의 제2그래핀층(40)은 전사보호필름(미도시)으로 덮인 상태일 수 있다. 이러한 상태에서 제2그래핀층(40)의 패터닝을 위해 전사보호필름을 제거해야 하며, 이 경우 패터닝된 제1그래핀층(20)을 덮는 보호필름(30)은 제거되지 않도록 해야 한다.On the other hand, when the second graphene layer 40 is transferred onto the substrate 10 as shown in FIG. 4, the second graphene layer 40 is coated on the substrate 10 while being covered with a transfer protecting film (not shown) Lt; / RTI > In this case, the patterned first graphene layer 20 on one side of the substrate 10 is covered with the protective film 30 and the second graphene layer 40 on the other side of the substrate 10 is covered with a transfer protective film (not shown) It may be covered. In this state, in order to pattern the second graphene layer 40, the transfer protection film must be removed. In this case, the protective film 30 covering the patterned first graphene layer 20 should not be removed.

이를 위해 전사보호필름과 보호필름(30)이 모두 사전설정된 온도 이상에서 접착력을 상실하는 물질을 포함하도록 하되, 전사보호필름이 접착력을 상실하는 제2온도보다 보호필름(30)이 접착력을 상실하는 제1온도가 더 높도록 할 수 있다. 예컨대 전사보호필름은 50℃ 내지 80℃에서 접착력을 상실하는 실리콘계 필름이고, 보호필름(30)은 120℃ 내지 150℃에서 접착력을 상실하는 아크릴계 필름일 수 있다.To this end, the protective film 30 and the transfer protective film 30 are made of materials that lose their adhesion at a predetermined temperature or higher. However, the protective film 30 loses its adhesive force more than the second temperature at which the transfer protective film loses its adhesive force The first temperature can be made higher. For example, the transfer protective film may be a silicone-based film that loses its adhesive strength at 50 ° C to 80 ° C, and the protective film 30 may be an acrylic film that loses its adhesive strength at 120 ° C to 150 ° C.

이 경우 온도를 50℃ 내지 80℃ 이상 120℃ 내지 150℃ 미만으로 유지하여 전사보호필름만 제거하고 제2그래핀층(40)을 패터닝하고, 이후 온도를 120℃ 내지 150℃ 이상으로 유지하여 보호필름(30)도 제거할 수 있다.In this case, the temperature is maintained at 50 占 폚 to 80 占 폚 or more and 120 占 폚 to less than 150 占 폚 to remove only the transfer protective film, pattern the second graphene layer 40, and then maintain the temperature at 120 占 폚 to 150 占 폚 or higher, (30) can also be removed.

한편, 보호필름(30)으로 드라이필름을 이용할 수도 있다. 이러한 드라이필름은 수용액에 침지시킴으로써 제거할 수 있는데, 예컨대 Na2CO3 수용액이나 NaOH 수용액에 침지시킴으로써 제거할 수 있다.On the other hand, the protective film 30 may be a dry film. Such a dry film can be removed by dipping in an aqueous solution, for example, by dipping in an aqueous solution of Na 2 CO 3 or an aqueous solution of NaOH.

도 7 및 도 8은 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 터치스크린 패널 제조방법의 공정들을 개략적으로 도시하는 단면도들이다.FIGS. 7 and 8 are cross-sectional views schematically showing processes of a method of manufacturing a touch screen panel according to another embodiment of the present invention.

본 실시예에 따른 터치스크린 패널 제조방법의 경우에도 기판(10)의 일면 상의 제1그래핀층(20)을 패터닝하고 이를 보호필름(30)을 덮은 후 기판(10)의 타면 상에 제2그래핀층(40)을 전사한다. 물론 전술한 것과 같이 제1그래핀층(20)을 패터닝하고 기판(10)의 타면 상에 제2그래핀층(40)을 전사한 후 제1그래핀층(20)을 보호필름(30)으로 덮을 수도 있다.In the method of manufacturing a touch screen panel according to the present embodiment, the first graphene layer 20 on one side of the substrate 10 is also patterned and covered with the protective film 30, The pinned layer 40 is transferred. Of course, the first graphene layer 20 may be patterned, the second graphene layer 40 may be transferred onto the other surface of the substrate 10, and then the first graphene layer 20 may be covered with the protective film 30 have.

이후, 도 7에 도시된 것과 같이 제2그래핀층(40)의 사전설정된 부분을 포토리지스트(50)로 덮은 상태에서 플라즈마를 이용해 제2그래핀층(40)을 패터닝하여 도 8에 도시된 것과 같이 되도록 한다. 이 과정에서 제2그래핀층(40)의 포토리지스트(50)로 덮이지 않은 부분이 제거됨에 따라 제2그래핀층(40)이 패터닝된다. 제2그래핀층(40)의 패터닝이 완료된 후, 보호필름(30)과 포토리지스트(50)를 제거한다. 이때 보호필름(30)과 포토리지스트(50)를 동시에 제거함으로써, 제조시간 및 제조공정을 단축할 수 있다. 이를 위해 보호필름(30)을 포토지리스트로 형성할 수도 있다.Thereafter, as shown in FIG. 7, the second graphene layer 40 is patterned using plasma in a state where a predetermined portion of the second graphene layer 40 is covered with the photoresist 50, Let's do it. In this process, the portion of the second graphene layer 40 not covered with the photoresist 50 is removed, and the second graphene layer 40 is patterned. After the patterning of the second graphene layer 40 is completed, the protective film 30 and the photoresist 50 are removed. At this time, by simultaneously removing the protective film 30 and the photoresist 50, the manufacturing time and the manufacturing process can be shortened. For this, the protective film 30 may be formed of a photogray list.

이와 같이 본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is evident that many alternatives, modifications and variations will be apparent to those skilled in the art . Accordingly, the true scope of the present invention should be determined by the technical idea of the appended claims.

10: 기판 20: 제1그래핀층
30: 보호필름 40: 제2그래핀층10: substrate 20: first graphene layer
30: protective film 40: second graphene layer

Claims (5)

기판의 제1면 상에 제1그래핀층을 전사하는 단계;
제1그래핀층을 레이저빔을 이용해 패터닝하는 단계;
패터닝된 제1그래핀층을, 사전설정된 제1온도 이상의 분위기에서 접착력이 저하되는 물질을 포함하는 보호필름으로 덮는 단계;
기판의 제2면 상에, 제1온도보다 낮은 사전설정된 제2온도 이상의 분위기에서 접착력이 저하되는 물질을 포함하는 전사보호필름이 덮인 채로 제2그래핀층을 전사하는 단계;
온도를 제2온도보다 높고 제1온도보다 낮게 유지하여, 전사보호필름의 접착력을 저하시켜 전사보호필름과 보호필름 중 전사보호필름만을 제거하는 단계;
제2그래핀층을 레이저빔이 아닌 플라즈마를 이용해, 패터닝된 제1그래핀층과 상이한 패턴으로 패터닝하는 단계; 및
제1온도 이상의 분위기에 두어, 보호필름의 접착력을 저하시켜 보호필름을 제거하는 단계;
를 포함하며, 보호필름은 상기 플라즈마를 이용해 패터닝하는 단계 중 손상되지 않는 물질을 포함하는, 터치스크린 패널 제조방법.Transferring a first graphene layer onto a first side of the substrate;
Patterning the first graphene layer using a laser beam;
Covering the patterned first graphene layer with a protective film comprising a material with reduced adhesion in an atmosphere above a predetermined first temperature;
Transferring a second graphene layer on a second side of the substrate with the transfer protective film covered with a material whose adhesion is lowered in an atmosphere of a predetermined second temperature or lower than the first temperature;
Maintaining the temperature higher than the second temperature and lower than the first temperature to lower the adhesion of the transfer protective film to remove only the transfer protective film from the transfer protective film and the protective film;
Patterning the second graphene layer in a pattern different from the patterned first graphene layer using a plasma other than a laser beam; And
Removing the protective film by lowering the adhesive force of the protective film by placing the protective film in an atmosphere at a temperature higher than the first temperature;
Wherein the protective film comprises a non-intrinsic material during the patterning using the plasma. 삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
보호필름은 아크릴계 필름을 포함하고 사전설정된 제1온도는 120℃ 내지 150℃인, 터치스크린 패널 제조방법.The method according to claim 1,
Wherein the protective film comprises an acrylic film and the preset first temperature is 120 [deg.] C to 150 [deg.] C. 삭제delete
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