JP2015131741A - Manufacturing method of glass substrate with end surface protective layer - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method of a glass substrate with a protective layer which makes it possible to easily form a protective layer capable of effectively preventing brittle fracture, and a glass substrate with a protective layer.SOLUTION: The manufacturing method includes a processing protective layer forming step, a parting step, an end surface protective agent supply step, and a processing protective layer removal step. In the processing protective layer forming step, etching resistant layers 22 on which a processing pattern is formed are formed on a first principal plane and a second principal plane of a mother glass substrate 20. In the parting step, the mother glass substrate 20 is parted into a plurality of the glass substrates 10 while the etching resistant layers 22 are left in a state where the layers extend from end surfaces of a glass substrate 10. In the end surface protective agent supply step, end surface protective agent is supplied between the etching resistant layer 22 and the end surfaces of the glass substrates 10. In the processing protective layer removal step, the etching resistant layers 22 are removed from the glass substrates 10 after filling the end surface protective agent.

Description

本発明は、フラットパネルディスプレイ等に適用可能なガラス基板に関し、特に、外傷によって破損することを効果的に防止することが可能なガラス基板に関する。   The present invention relates to a glass substrate that can be applied to a flat panel display or the like, and more particularly, to a glass substrate that can effectively prevent breakage due to damage.

近年、液晶ディスプレイ、有機ELディスプレイ、タッチパネル等に薄板状のガラス基板が広く用いられている。ガラス基板は、透明性が高く、質感や意匠性にも優れている。その一方で、脆性物質からなっているため予測よりも小さい外力によって破壊してしまうというリスクを有している。このため、従来からガラス基板に対して物理強化処理や化学強化処理を施すことによって2つの主面や、これらの両主面に挟まれる端面に圧縮応力層のような強化層を形成し、外力による破壊を予防する手段が講じられてきた。   In recent years, thin glass substrates have been widely used for liquid crystal displays, organic EL displays, touch panels and the like. The glass substrate is highly transparent and excellent in texture and design. On the other hand, since it is made of a brittle substance, it has a risk of being broken by an external force smaller than predicted. For this reason, conventionally, a reinforcing layer such as a compressive stress layer is formed on the two main surfaces or the end surfaces sandwiched between these two main surfaces by subjecting the glass substrate to a physical strengthening treatment or a chemical strengthening treatment. Measures have been taken to prevent destruction by.

ところが、生産効率を向上させるために、大きなマザーガラス基板における所定の位置に必要な構成(タッチセンサ、透明電極等)を付加した上で、このマザーガラス基板を所望の形状の複数のガラス基板に分断するための加工パターンを形成し、この加工パターンに沿ってマザーガラス基板を加工することによって、マザーガラス基板を所望の形状に切断加工する手法が用いられることが多くなっている。このような手法を用いた場合、マザーガラス基板の主面および端面に形成された強化層のうち、端面の強化層が喪失することになる。   However, in order to improve production efficiency, a necessary configuration (touch sensor, transparent electrode, etc.) is added to a predetermined position on a large mother glass substrate, and then this mother glass substrate is formed into a plurality of glass substrates having desired shapes. A method of cutting a mother glass substrate into a desired shape is often used by forming a processing pattern for cutting and processing the mother glass substrate along the processing pattern. When such a method is used, the reinforcing layer on the end surface is lost among the reinforcing layers formed on the main surface and the end surface of the mother glass substrate.

そこで、従来技術の中には、ガラス基板の端面に樹脂を塗布して破壊を防止するための端面保護層を形成する技術が存在する(例えば、特許文献1)。このような従来技術においては、図1(A)に示すように、主面に対して直角な端面を有するガラス基板110の端面に端面保護層102を塗布するものや、図1(B)に示すように、湾曲化した端面を有するガラス基板110の端面に端面保護層112を塗布するものが存在する。そして、これらのような構成を備えることによって、ガラス基板の端面から割れが発生することを防止できるとされていた。   Therefore, there is a technique in the prior art for forming an end face protective layer for preventing breakage by applying a resin to the end face of a glass substrate (for example, Patent Document 1). In such a conventional technique, as shown in FIG. 1A, an end face protective layer 102 is applied to the end face of a glass substrate 110 having an end face perpendicular to the main face, or FIG. As shown, there is one in which an end face protective layer 112 is applied to an end face of a glass substrate 110 having a curved end face. And by having such a structure, it was supposed that it could prevent that a crack generate | occur | produces from the end surface of a glass substrate.

特表2012−527399号公報Special table 2012-527399 gazette

しかしながら、出願人が実験を行った結果、上述の従来技術の構成(特に、図1(A)に示す構成)においては、端面と主面との境界付近(角付近)に外力が作用した場合に、端面保護層があるにもかかわらず端面の角付近から割れが発生することがあった。その理由は、保護層をどのように塗布した場合であっても、端面の角付近の保護層が薄くなるからと考えられる。   However, as a result of the experiment conducted by the applicant, in the above-described prior art configuration (particularly, the configuration shown in FIG. 1A), when an external force acts near the boundary between the end surface and the main surface (near the corner) In addition, despite the presence of the end face protective layer, cracks may occur from the corners of the end face. The reason is considered to be that the protective layer near the corner of the end face becomes thin no matter how the protective layer is applied.

フラットパネルディスプレイに適用されるような薄型のガラス基板の端面にポリマー等を塗布するのは困難であるため、端面に所望の厚みを有する保護層を形成することは極めて困難であった。さらには、もともと端面に傷等の汚損がある状態においては、たとえ保護層によって被覆したとしても、この端面から脆性破壊が生じることがあった。そして、たとえ面取り加工等を行って角を取り除いた場合であっても面取り加工時のキズに起因してガラス基板が割れてしまう可能性があった。   Since it is difficult to apply a polymer or the like to an end face of a thin glass substrate that is applied to a flat panel display, it is extremely difficult to form a protective layer having a desired thickness on the end face. Furthermore, in a state where the end face is originally fouled such as scratches, even if the end face is covered with a protective layer, brittle fracture may occur from the end face. And even if it was a case where a chamfering process etc. were performed and the corner was removed, there existed a possibility that a glass substrate might be cracked by the crack at the time of a chamfering process.

この発明の目的は、脆性破壊を効果的に予防可能な端面保護層を容易に形成することを可能にする保護層付きガラス基板の製造方法、および端面保護層付きガラス基板を提供することである。   The objective of this invention is providing the manufacturing method of the glass substrate with a protective layer which makes it possible to form easily the end surface protective layer which can prevent a brittle fracture effectively, and the glass substrate with an end surface protective layer. .

この発明に係る端面保護層付きガラス基板の製造方法は、加工保護層形成ステップ、分断ステップ、端面保護剤供給ステップ、および加工保護層除去ステップを含む。加工保護層形成ステップでは、所望の形状を形成するための加工パターンが形成された加工保護層をマザーガラス基板の第1の主面および第2の主面にそれぞれ形成する。加工保護層は、切断加工処理の種類の適したものが適宜選択される。例えば、エッチングによって切断を行う場合には、耐酸性フィルムや耐酸性レジスト等の耐エッチング層が加工保護層として用いられる。また、ブラストによって切断を行う場合には、耐ブラスト層が加工保護層として用いられる。   The manufacturing method of the glass substrate with an end surface protective layer according to the present invention includes a processing protective layer forming step, a cutting step, an end surface protective agent supplying step, and a processing protective layer removing step. In the processing protective layer forming step, a processing protective layer on which a processing pattern for forming a desired shape is formed is formed on each of the first main surface and the second main surface of the mother glass substrate. As the processing protective layer, a layer suitable for the type of cutting processing is appropriately selected. For example, when cutting by etching, an etching resistant layer such as an acid resistant film or an acid resistant resist is used as the processing protective layer. In the case of cutting by blasting, a blast resistant layer is used as a processing protective layer.

分断ステップでは、加工パターンに沿ってマザーガラス基板を切断加工処理することによって、ガラス基板の端面から延び出すような状態で加工保護層を残しつつ、マザーガラス基板を所望の形状の複数のガラス基板に分断する。   In the cutting step, by cutting the mother glass substrate along the processing pattern, the mother glass substrate is formed into a plurality of glass substrates in a desired shape while leaving the processing protective layer in a state of extending from the end surface of the glass substrate. Divide into

ガラス基板の端面から延び出すような状態で加工保護層を残すために適した処理の代表例としては、エッチングが挙げられる。等方性または異方性のいずれの場合であっても、加工保護層の開口幅からサイドエッチングが入るため、分断後にガラス基板の端面から延び出すような状態で加工保護層が残ることになる。また、ブラスト処理や一部のレーザ加工においても、サイドエッチングと同様の作用により、分断後にガラス基板の端面から延び出すような状態で加工保護層が残る。   Etching is a typical example of a process suitable for leaving the processing protective layer in a state of extending from the end face of the glass substrate. In either case of isotropic or anisotropic, side etching enters from the opening width of the processing protection layer, so that the processing protection layer remains in a state of extending from the end face of the glass substrate after the division. . In the blasting process and part of the laser processing, the processing protective layer remains in a state of extending from the end face of the glass substrate after the division by the same action as the side etching.

端面保護剤供給ステップでは、分断によって得られたガラス基板の端面から延び出した加工保護層とガラス基板の端面との間に、端面保護層を構成するための端面保護剤を供給する。端面保護剤の例としては、ガラスと同様の外観および性質を有するUV硬化性樹脂や熱硬化性樹脂等のポリマー材料が挙げられる。加工保護層とガラス基板の端面との間に端面保護剤をより多く充填することにより、端面保護層の厚みを増すことが可能になる。   In the end surface protective agent supplying step, an end surface protective agent for forming the end surface protective layer is supplied between the processing protective layer extended from the end surface of the glass substrate obtained by the division and the end surface of the glass substrate. Examples of the end face protecting agent include polymer materials such as UV curable resins and thermosetting resins having the same appearance and properties as glass. It becomes possible to increase the thickness of the end face protective layer by filling more end face protective agent between the processing protective layer and the end face of the glass substrate.

加工保護層除去ステップでは、端面保護剤の充填後に加工保護層をガラス基板から除去する。加工保護層の除去の例としては、端面から延び出した部分に力を加えて剥離したり、粘着テープや粘着シートを用いて剥離したり、剥離性を有する化学薬品(アルカリ性の剥離液等)を用いて剥離したりすることが挙げられる。   In the process protective layer removing step, the process protective layer is removed from the glass substrate after the end face protective agent is filled. Examples of the removal of the processing protective layer include peeling by applying force to the portion extending from the end face, peeling using an adhesive tape or an adhesive sheet, and chemicals having peelability (such as alkaline stripping solution). And peeling with the use of.

この構成においては、敢えて加工保護層を残した状態で、この加工保護層を利用しつつ、ガラス基板の端面に端面保護剤を供給することにより、端面保護層が効果的にかつ精度良く形成される。特に、エッチングにおけるサイドエッチングやこれに類する作用を利用することにより、端面と主面との境界付近により厚みのある端面保護層を形成することが可能になる。このため、外力の作用によって破損する可能性が高い部位に対して十分な厚みのある端面保護層を形成することが可能になり、外傷に対する端面保護層の効果を十分に発揮させることが可能になる。   In this configuration, the end surface protective layer is effectively and accurately formed by supplying the end surface protective agent to the end surface of the glass substrate while using the process protective layer with the process protective layer remaining. The In particular, it is possible to form a thick end face protective layer near the boundary between the end face and the main surface by utilizing side etching in etching or a similar action. For this reason, it becomes possible to form an end face protective layer having a sufficient thickness for a portion that is highly likely to be damaged by the action of an external force, and to fully exert the effect of the end face protective layer against an injury. Become.

さらに、切断加工処理と一連の流れで端面保護層が形成されるため、作業効率が良く作業コストが低減する。また、端面保護層形成時には、加工保護層によって主面が保護されているため、主面の表面の安全を確保しつつ端面保護層形成処理が実行される。   Furthermore, since the end face protective layer is formed by a cutting process and a series of flows, the work efficiency is good and the work cost is reduced. Moreover, since the main surface is protected by the processing protective layer when forming the end surface protective layer, the end surface protective layer forming process is executed while ensuring the safety of the surface of the main surface.

本発明によれば、ガラス基板において脆性破壊を効果的に予防可能な端面保護層を容易に形成することが可能になる。   According to the present invention, it is possible to easily form an end face protective layer capable of effectively preventing brittle fracture in a glass substrate.

従来の端面保護層付きガラス基板の例を示す図である。It is a figure which shows the example of the conventional glass substrate with an end surface protective layer. 本願発明の一実施形態に係る端面保護層付きガラス基板の概略を示す図である。It is a figure which shows the outline of the glass substrate with an end surface protective layer which concerns on one Embodiment of this invention. マザーガラス基板からガラス基板を分断する工程の概略を示す図である。It is a figure which shows the outline of the process of parting a glass substrate from a mother glass substrate. マザーガラス基板からガラス基板を分断する工程の概略を示す図である。It is a figure which shows the outline of the process of parting a glass substrate from a mother glass substrate. マザーガラス基板からガラス基板を分断する工程の概略を示す図である。It is a figure which shows the outline of the process of parting a glass substrate from a mother glass substrate. ガラス基板の端面に端面保護層を塗布する工程の概略を示す図である。It is a figure which shows the outline of the process of apply | coating an end surface protective layer to the end surface of a glass substrate. 本願発明の他の実施形態に係る端面保護層付きガラス基板の概略を示す図である。It is a figure which shows the outline of the glass substrate with an end surface protective layer which concerns on other embodiment of this invention. ガラス基板の端面に端面保護層を塗布する工程の概略を示す図である。It is a figure which shows the outline of the process of apply | coating an end surface protective layer to the end surface of a glass substrate.

図2(A)および図2(B)は、本願発明の一実施形態に係るガラス基板10の概略構成を示している。本実施形態に係るガラス基板10は、フラットパネルディスプレイのタッチパネル用に用いられる。このガラス基板10は、薄板状を呈しており、その厚みが1mm以下、多くの場合0.3mm〜0.7mm程度になるように構成されている。ガラス基板10は、第1の主面10A(紙面上側)および第2の主面10B(紙面下側)を有しており、これらの第1の主面10Aおよび第2の主面10Bに挟まれるように4つの端面10C,10D,10E,10Fを有している。   2A and 2B show a schematic configuration of the glass substrate 10 according to an embodiment of the present invention. The glass substrate 10 according to the present embodiment is used for a touch panel of a flat panel display. The glass substrate 10 has a thin plate shape and is configured to have a thickness of 1 mm or less, and in many cases, about 0.3 mm to 0.7 mm. The glass substrate 10 has a first main surface 10A (upper side in the drawing) and a second main surface 10B (lower side in the drawing), and is sandwiched between the first main surface 10A and the second main surface 10B. As shown, it has four end faces 10C, 10D, 10E, and 10F.

第1の主面10Aおよび第2の主面10Bの表面には、タッチセンサ等のセンサや透明電極が形成されるとともに、化学強化処理によって圧縮応力層(図示省略)が形成されている。4つの端面10C,10D,10E,10Fには、端面保護用ポリマーからなる端面保護層12が形成されている。このため、ガラス基板10は、6面(主面2つ、端面4つ)のすべてが脆性破壊防止のための強化層が形成されていると言える。   Sensors such as touch sensors and transparent electrodes are formed on the surfaces of the first main surface 10A and the second main surface 10B, and a compressive stress layer (not shown) is formed by a chemical strengthening process. On the four end faces 10C, 10D, 10E, and 10F, an end face protective layer 12 made of an end face protecting polymer is formed. For this reason, it can be said that the glass substrate 10 has a reinforcing layer for preventing brittle fracture on all six surfaces (two main surfaces and four end surfaces).

続いて、図3〜図6を用いて、ガラス基板10の生産方法について説明する。図3(A)〜図3(C)に示すように、ガラス基板10は、大判のマザーガラス基板20を分断することによって形成される。マザーガラス基板20には、予め化学強化処理が施されるとともに、所定の位置にタッチセンサや透明電極等の必要な構成要素が配置されている。   Then, the production method of the glass substrate 10 is demonstrated using FIGS. As shown in FIGS. 3A to 3C, the glass substrate 10 is formed by dividing a large mother glass substrate 20. The mother glass substrate 20 is subjected to a chemical strengthening process in advance, and necessary components such as a touch sensor and a transparent electrode are arranged at predetermined positions.

図3(A)に示すように、マザーガラス基板20には、その両面に耐エッチング層22が形成される。この実施形態では、耐エッチング層22として、有色(例えば、黒色)の耐酸性フィルムが用いられているが、これには限定されない。例えば、耐エッチング層22として、耐酸性レジスト剤やその他のマスキング剤を用いることも可能である。この実施形態では、耐エッチング層22が本発明の加工保護層に対応する。   As shown in FIG. 3A, an etching resistant layer 22 is formed on both sides of the mother glass substrate 20. In this embodiment, a colored (for example, black) acid-resistant film is used as the etching-resistant layer 22, but is not limited thereto. For example, an acid resistant resist agent or other masking agent can be used as the etching resistant layer 22. In this embodiment, the etching resistant layer 22 corresponds to the processing protective layer of the present invention.

耐エッチング層22には、図3(B)および図3(C)に示すように、所望するガラス基板10の形状に適合する加工パターンが形成される。本実施形態では、赤外線を発振するレーザ装置24によって、耐エッチング層22にパターニングをしている。ただし、パターニングの手法はこれに限定されるものではなく、ビーム径、加工精度、パワー等を総合的に勘案してピコレーザー等の他のレーザ装置を適宜選択することが可能である。さらには、露光および現像等のフォトリソグラフィ技術によってパターニングを行うことも可能である。   As shown in FIGS. 3B and 3C, a processed pattern that matches the desired shape of the glass substrate 10 is formed on the etching resistant layer 22. In this embodiment, the etching resistant layer 22 is patterned by the laser device 24 that oscillates infrared rays. However, the patterning method is not limited to this, and other laser devices such as a pico laser can be appropriately selected in consideration of the beam diameter, processing accuracy, power, and the like. Furthermore, patterning can also be performed by photolithography techniques such as exposure and development.

耐エッチング層22に加工パターンが形成された後、マザーガラス基板20は、フッ酸を含むエッチング液によってエッチング処理が施される。図4(A)および図4(B)に示すように、耐エッチング層22に形成された加工パターンに沿って両側からエッチング液が進入し、この部分がエッチングされることによって、マザーガラス基板20が所望の形状に切断され、複数のガラス基板10が得られる。両側からのエッチングにより加工パターンが貫通した後、図5(A)および図5(B)に示すように、ガラス基板10を構成する部分以外が取り除かれる。   After the processing pattern is formed on the etching resistant layer 22, the mother glass substrate 20 is subjected to an etching process with an etching solution containing hydrofluoric acid. As shown in FIGS. 4A and 4B, an etchant enters from both sides along the processing pattern formed in the etching-resistant layer 22, and this portion is etched, whereby the mother glass substrate 20 Are cut into a desired shape to obtain a plurality of glass substrates 10. After the processing pattern penetrates by etching from both sides, portions other than those constituting the glass substrate 10 are removed as shown in FIGS. 5 (A) and 5 (B).

この結果、耐エッチング層22が付着した状態の複数のガラス基板10が得られる。これらのガラス基板10は、水洗処理や、必要に応じてアルカリ液を用いた洗浄処理が施される。エッチング処理においては、第1の主面10Aおよび第2の主面10Bに垂直な方向にガラスを溶解させていくと同時に、サイドエッチングの作用により、第1の主面10Aおよび第2の主面10Bに平行な方向にもガラスを溶解させていく。このため、マザーガラス基板20を分断したときには、ガラス基板10にはその各端面から延びだすような状態で耐エッチング層22が残ることになる。   As a result, a plurality of glass substrates 10 with the etching resistant layer 22 attached thereto are obtained. These glass substrates 10 are subjected to a washing treatment or a washing treatment using an alkaline liquid as necessary. In the etching process, the glass is melted in a direction perpendicular to the first main surface 10A and the second main surface 10B, and at the same time, the first main surface 10A and the second main surface are caused by side etching. The glass is also melted in the direction parallel to 10B. For this reason, when the mother glass substrate 20 is divided, the etching-resistant layer 22 remains on the glass substrate 10 so as to extend from the respective end faces.

続いて、図6(A)および図6(B)に示すように、加工されたガラス基板10の端面から延び出した耐エッチング層22とガラス基板10の端面とに囲まれる空間に端面保護層12を構成するための端面保護用ポリマー剤が充填される。この実施形態では、ディスペンサ26によって端面保護用ポリマー剤の充填が行われている。ただし、ディスペンサ26に代えて、コーティングロール、スプレー、浸漬等の手段によって端面保護用ポリマーの塗布を行うことも可能である。   Subsequently, as shown in FIGS. 6A and 6B, the end face protective layer is formed in a space surrounded by the etching resistant layer 22 extending from the end face of the processed glass substrate 10 and the end face of the glass substrate 10. 12 is filled with a polymer agent for protecting the end surface. In this embodiment, the dispenser 26 fills the end surface protecting polymer agent. However, in place of the dispenser 26, it is also possible to apply the end face protecting polymer by means such as a coating roll, spray, or dipping.

端面保護用ポリマーは、外観上ガラスに近い透過性を有し、ガラスに近い屈折率を備え、容易に硬化させることが可能な性質を有することが好ましい。この実施形態では、端面保護層12としてUV硬化性樹脂(積水化学工業株式会社製フォトレック、ヘンケルジャパン製の紫外線硬化型光学透明接着剤等)が用いられているが、端面保護層12の構成はこれに限定はされない。   It is preferable that the polymer for protecting an end surface has a property that can be easily cured by having a permeability close to that of glass in appearance and having a refractive index close to that of glass. In this embodiment, a UV curable resin (Shotsui Chemical Co., Ltd. Photorec, Henkel Japan UV curable optical transparent adhesive, etc.) is used as the end face protective layer 12. Is not limited to this.

端面保護剤の充填後には、図6(C)に示すように、ガラス基板10から耐エッチング層22が剥離される。この結果、端面保護層12が設けられた複数のガラス基板10が得られる。このガラス基板10は、エッチングにより端面の傷が消滅した状態で即座に端面保護層12が形成されるため、端面に汚損のない状態を保つことが可能になる。また、端面保護層12はエッチング工程と一連の工程において形成されるため、作業性の向上および作業コストの削減が実現する。さらに、後段の工程のためにガラス基板10を搬送する際には、既に端面保護層12が形成されており、強化層がない端面が露出した状態で外力が作用する環境にさらされることがない。   After the end face protective agent is filled, the etching resistant layer 22 is peeled from the glass substrate 10 as shown in FIG. As a result, a plurality of glass substrates 10 provided with the end face protective layer 12 are obtained. Since this glass substrate 10 is immediately formed with the end face protective layer 12 in a state where the scratches on the end face have disappeared by etching, it becomes possible to keep the end face free from contamination. Moreover, since the end surface protective layer 12 is formed in an etching process and a series of processes, the workability is improved and the work cost is reduced. Furthermore, when the glass substrate 10 is transported for the subsequent process, the end face protective layer 12 is already formed, and the end face without the reinforcing layer is exposed to an environment in which an external force acts. .

エッチング工程によって傷やピット等が除去され、かつ、このエッチング工程と一連の流れの中で即座に端面保護層が形成されるため、実質上、2つの主面10A,10B、および4つの端面10C,10D,10E,10Fの6面すべてに強化層が形成されている状態と遜色のない強度が得られ、かつ、6面すべてに強化層を形成する場合に比較して圧倒的に有利な作業効率性を実現することが可能になる。   Since the scratches, pits and the like are removed by the etching process, and the end face protective layer is formed immediately in this etching process and a series of flows, the two main faces 10A and 10B and the four end faces 10C are substantially formed. , 10D, 10E, 10F The strength is comparable to the state in which the reinforcing layer is formed on all six surfaces, and it is overwhelmingly advantageous compared to the case where the reinforcing layer is formed on all six surfaces. Efficiency can be realized.

しかも、端面保護層12を形成する際には、第1の主面10Aまたは第2の主面10Bに形成されたタッチセンサ等の構成要素が耐エッチング層22によって保護されているため、タッチセンサ等の安全を確保することも可能になる。   In addition, when the end surface protective layer 12 is formed, the components such as the touch sensor formed on the first main surface 10A or the second main surface 10B are protected by the etching-resistant layer 22, so that the touch sensor It is also possible to ensure safety.

続いて、図7および図8を用いて、本発明の他の実施形態について説明する。この実施形態に係るガラス基板14は、図7(A)〜図7(C)に示すように、概略長方形の薄板状を呈しており、スロット142および切欠部144を有している。ガラス基板14は、スロット142および切欠部144を含めて端面に端面保護層16が形成されている。   Subsequently, another embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 7 and 8. As shown in FIGS. 7A to 7C, the glass substrate 14 according to this embodiment has a substantially rectangular thin plate shape and includes a slot 142 and a notch 144. The glass substrate 14 has an end face protective layer 16 formed on the end face including the slots 142 and the notches 144.

スロット142および切欠部144については、上述の端面10C,10D,10E,10Fに比較して、端面保護用ポリマーの塗布がより困難となる。このため、本実施形態では、図8(A)および図8(B)に示す手法を用いることによって、スロット142および切欠部144に端面保護層16を形成している。   About slot 142 and notch part 144, compared with the above-mentioned end face 10C, 10D, 10E, and 10F, application of a polymer for end face protection becomes more difficult. For this reason, in this embodiment, the end surface protective layer 16 is formed in the slot 142 and the notch 144 by using the method shown in FIGS. 8A and 8B.

図8(A)に示すように、スロット142および切欠部144においては、耐エッチング層22の端面から延び出す量を第1の主面14Aおよび第2の主面14Bにおいて異ならせている。この実施形態では、第1の主面14Aにおける耐エッチング層22の延び出し量の方が、第2の主面14Bにおける耐エッチング層22の延び出し量よりも短くなりように構成されている。この構成においては、第1の主面14A側の方が第2の主面14B側よりもエッチング量が多くなる結果、第1の主面14A側に比較的大きな湾曲面が形成される。   As shown in FIG. 8A, in the slot 142 and the notch portion 144, the amounts of the first main surface 14A and the second main surface 14B differ from each other in the amounts extending from the end surfaces of the etching resistant layer 22. In this embodiment, the extension amount of the etching resistant layer 22 on the first main surface 14A is configured to be shorter than the extension amount of the etching resistant layer 22 on the second main surface 14B. In this configuration, the amount of etching on the first main surface 14A side is larger than that on the second main surface 14B side. As a result, a relatively large curved surface is formed on the first main surface 14A side.

この湾曲面は、第1の主面14A側の耐エッチング層22よりも外側まで延び出すため、第1の主面14A側からこの湾曲面に向って垂直に端面保護用ポリマーを供給することが可能になる。この湾曲面に所定量以上の端面保護用ポリマーが供給されると、第1の主面14A側の耐エッチング層22と端面との間に端面保護用ポリマーが充填され、かつ、第2の主面側の耐エッチング層22の上に流れた端面保護用ポリマーが第2の主面側の耐エッチング層22と端面との間に充填される。   Since this curved surface extends to the outside of the etching resistant layer 22 on the first main surface 14A side, the end surface protecting polymer can be supplied perpendicularly from the first main surface 14A side toward the curved surface. It becomes possible. When a predetermined amount or more of the end surface protecting polymer is supplied to the curved surface, the end surface protecting polymer is filled between the etching resistant layer 22 on the first main surface 14A side and the end surface, and the second main surface protecting polymer is filled. The polymer for end face protection that has flowed on the etching-resistant layer 22 on the surface side is filled between the etching-resistant layer 22 on the second main surface side and the end face.

このとき、必要に応じて風力等を利用することによって端面保護用ポリマーに対して所望の方向に力を作用させても良い。この実施形態ではディスペンサ28を用いて、端面保護用ポリマーの充填を行っているが、上述の実施形態と同様、ディスペンサ28以外の方法によっても端面保護層12を形成することは可能である。   At this time, a force may be applied to the end face protecting polymer in a desired direction by using wind force or the like as necessary. In this embodiment, the dispenser 28 is used to fill the polymer for protecting the end face. However, the end face protective layer 12 can be formed by a method other than the dispenser 28 as in the above-described embodiment.

以上の実施形態では、エッチング加工することを前提に加工保護層として耐エッチング層22を用いる例を説明したが、加工の種類はエッチングに限定されるものではない。例えば、ブラスト処理を用いる場合でもマザーガラス基板20を分断した時において、サイドエッチングに類する作用によりガラス基板10の各端面から延びだすような状態で対加工層が残ることになる。また、レーザ加工においても、レーザ発振装置を選択することにより、ガラス基板10の各端面から延びだすような状態で対加工層を残すことが可能となる。   In the above embodiment, the example in which the etching resistant layer 22 is used as the processing protection layer on the premise that etching processing is performed has been described, but the type of processing is not limited to etching. For example, even when blasting is used, when the mother glass substrate 20 is divided, the counter-processed layer remains in a state of extending from each end face of the glass substrate 10 by an action similar to side etching. Also in laser processing, by selecting a laser oscillation device, it is possible to leave a pair of processing layers in a state of extending from each end face of the glass substrate 10.

また、マザーガラス基板20を切断加工する処理は、必ずしも単一の処理で構成される必要はない。例えば、スクライブ処理とエッチング処理とのコンビネーションを採用したり、ブラスト処理とエッチング処理とのコンビネーションを採用したりと、少なくともエッチング処理を含む複合加工を採用する場合であっても、上述の実施形態の同様の作用効果が好適に奏することになるのは言うまでもない。   Moreover, the process which cuts the mother glass substrate 20 does not necessarily need to be comprised by a single process. For example, even when adopting a combination of scribe processing and etching processing, adopting a combination of blast processing and etching processing, or adopting complex processing including at least etching processing, Needless to say, the same effects can be achieved.

なお、加工保護層について、エッチング処理に対しては耐エッチング層(耐酸性レジスト、耐酸性フィルム等)を用いるが、ブラスト処理に対しては耐ブラスト層を用い、その他の加工処理においてはその加工処理に適した加工用保護層が選択されることになる。   As for the processing protective layer, an etching resistant layer (acid resistant resist, acid resistant film, etc.) is used for the etching process, but a blast resistant layer is used for the blasting process, and the processing is performed in other processing processes. A protective layer for processing suitable for processing is selected.

上述の実施形態に係る方法によって生産されたガラス基板は、その端面が、厚み方向の中央部から外側に向って厚みが大きくなるように構成された端面保護層によって覆われることになる。このため、第1の主面または第2の主面と端面と境界付近のような外傷に対して脆弱な部分が効果的に保護されることになる。さらに、端面の厚み方向の中間位置に頂点部を有し、かつ、この頂点部から第1の主面および第2の主面のそれぞれに対して湾曲面が形成されることになる。このような形状は、エッチング処理による切断において顕著に表れることになるが、ブラスト処理による切断やレーザ加工処理等のその他の切断処理においても実現される。   The glass substrate produced by the method according to the above-described embodiment is covered with an end surface protective layer that has an end surface that increases in thickness from the center in the thickness direction toward the outside. For this reason, a part vulnerable to an injury like the 1st main surface or the 2nd main surface, an end surface, and a boundary vicinity will be protected effectively. Furthermore, a vertex portion is provided at an intermediate position in the thickness direction of the end surface, and a curved surface is formed from the vertex portion to each of the first main surface and the second main surface. Such a shape appears remarkably in the cutting by the etching process, but can also be realized in other cutting processes such as a blast process and a laser processing process.

この発明はフラットパネルディスプレイを用途するガラス基板において最も好適に作用効果を奏するが、ショーケース用や窓等の建築部材用のガラス基板に対しても好適に作用効果を奏する。   The present invention is most effective in a glass substrate using a flat panel display, but is also effective in a glass substrate for a building member such as a showcase or a window.

上述の実施形態の説明は、すべての点で例示であって、制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上述の実施形態ではなく、特許請求の範囲によって示される。さらに、本発明の範囲には、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。   The above description of the embodiment is to be considered in all respects as illustrative and not restrictive. The scope of the present invention is shown not by the above embodiments but by the claims. Furthermore, the scope of the present invention is intended to include all modifications within the meaning and scope equivalent to the scope of the claims.

10,14−ガラス基板
12,16−端面保護層
20−マザーガラス基板
22−耐エッチング層
24−レーザ装置
26、28−ディスペンサ
142−スロット
144−切欠部
10,14-Glass substrate 12,16-End face protective layer 20-Mother glass substrate 22-Etching-resistant layer 24-Laser device 26, 28-Dispenser 142-Slot 144-Notch

Claims (4)

所望の形状を形成するための加工パターンが形成された加工保護層をマザーガラス基板の第1の主面および第2の主面にそれぞれ形成するステップと、
前記加工パターンに沿ってマザーガラス基板を切断加工処理することによって、ガラス基板の端面から延び出すような状態で加工保護層を残しつつ、マザーガラス基板を所望の形状の複数のガラス基板に分断するステップと、
分断により得られたガラス基板の端面から延び出した加工保護層とガラス基板の端面との間に、端面保護層を構成するための端面保護剤を供給するステップと、
前記端面保護剤の充填後に前記加工保護層をガラス基板から除去するステップと、
を含む端面保護層付きガラス基板の製造方法。
Forming a processing protective layer formed with a processing pattern for forming a desired shape on each of the first main surface and the second main surface of the mother glass substrate;
By cutting the mother glass substrate along the processing pattern, the mother glass substrate is divided into a plurality of glass substrates having a desired shape while leaving the processing protective layer in a state of extending from the end surface of the glass substrate. Steps,
Supplying an end surface protective agent for constituting the end surface protective layer between the processing protective layer extending from the end surface of the glass substrate obtained by the division and the end surface of the glass substrate;
Removing the processing protective layer from the glass substrate after filling with the end face protective agent;
The manufacturing method of the glass substrate with an end surface protective layer containing this.
前記切断加工処理が少なくともエッチング処理を含んでおり、前記加工保護層が耐エッチング層であることを特徴とする請求項1に記載の端面保護層付きガラス基板の製造方法。   The method for producing a glass substrate with an end face protective layer according to claim 1, wherein the cutting process includes at least an etching process, and the process protective layer is an etching resistant layer. 板状を呈するガラス基板であって、
第1の主面、第2の主面、およびこれらに挟まれる端面を有しており、
前記端面は、厚み方向の中央部から外側に向って厚みが大きくなるように構成された端面保護層によって覆われることを特徴とする端面保護層付きガラス基板。
A glass substrate having a plate shape,
A first main surface, a second main surface, and an end surface sandwiched between them;
The said end surface is covered with the end surface protective layer comprised so that thickness might become large toward the outer side from the center part of the thickness direction, The glass substrate with an end surface protective layer characterized by the above-mentioned.
前記端面の厚み方向の中間位置に頂点部を有し、かつ、この頂点部から第1の主面および第2の主面のそれぞれに対して湾曲面が形成されたことを特徴とする請求項3に記載の端面保護層付きガラス基板。   The end face has an apex at an intermediate position in the thickness direction, and a curved surface is formed from the apex to each of the first main surface and the second main surface. 3. A glass substrate with an end face protective layer according to 3.
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