KR101824944B1 - Colored photosensitive resin composition, pattern forming method, method of producing color filter, color filter, and display device having the same - Google Patents

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Abstract

(A) 착색제, (B-1)일반식(Ⅰ)으로 나타내어지고, 산성기를 갖는 바인더 수지, (B-2)일반식(Ⅱ)으로 나타내어지는 구조단위와 산성기를 갖는 구조단위를 포함하는 바인더 수지, (C) 중합성 화합물, (D) 옥심계 광중합 개시제, 및 (E) 용제를 함유하고, (B-1):(B-2)의 함유비가 3:7∼7:3인 착색 감광성 수지 조성물. 식(Ⅰ) 중, R3은 (m+n)가의 유기 연결기를, R4, R5는 단결합 또는 2가의 유기 연결기를 나타낸다. A2는 유기 색소 구조, 산성기 등의 흡착성기를 포함하는 1가의 유기기를 나타낸다. m은 1∼8, n은 2∼9를 나타내고, m+n은 3∼10을 충족시킨다. P2는 고분자 골격을 나타낸다. 식(Ⅱ) 중, R11∼R15는 수소원자, 할로겐 원자, 시아노기, 알킬기 또는 아릴기를 나타내고, R16은 수소원자 또는 메틸기를 나타낸다.

Figure 112011028945611-pat00048
(A) a colorant, (B-1) a binder resin represented by the general formula (I) and having an acidic group, (B-2) a binder containing a structural unit represented by the general formula (II) (B-1) :( B-2) in a ratio of 3: 7 to 7: 3, wherein the photosensitive resin composition (B) Resin composition. In the formula (I), R 3 represents an organic linking group of (m + n), and R 4 and R 5 represent a single bond or a divalent organic linking group. A 2 represents a monovalent organic group including an adsorptive group such as an organic dye structure or an acidic group. m represents 1 to 8, n represents 2 to 9, and m + n satisfies 3 to 10. P 2 represents a polymer skeleton. In the formula (II), R 11 to R 15 represent a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group or an aryl group, and R 16 represents a hydrogen atom or a methyl group.
Figure 112011028945611-pat00048

Description

착색 감광성 수지 조성물, 패턴 형성 방법, 컬러필터의 제조방법, 컬러필터 및 그것을 구비한 표시장치{COLORED PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD, METHOD OF PRODUCING COLOR FILTER, COLOR FILTER, AND DISPLAY DEVICE HAVING THE SAME}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a colored photosensitive resin composition, a pattern forming method, a method of manufacturing a color filter, a color filter, and a display device having the color filter.

본 발명은 착색 감광성 수지 조성물, 패턴 형성 방법, 컬러필터의 제조방법, 컬러필터 및 그것을 구비한 표시장치에 관한 것이다.The present invention relates to a colored photosensitive resin composition, a pattern forming method, a method of manufacturing a color filter, a color filter, and a display device having the same.

최근, 액정표시장치의 개발은 화면이 비교적 소면적인 퍼서널컴퓨터, 모니터의 용도로부터 화면이 대형이며 또한 고도의 화질이 요구되는 텔레비젼 용도로도 전개되고 있다.In recent years, the development of a liquid crystal display device has been developed for use in televisions in which a screen is large and a high image quality is required, from the use of a parser computer and a monitor whose screen is relatively small.

텔레비젼 용도에서는 종래의 모니터 용도에 비하여 보다 고도한 화질, 즉, 콘트라스트, 및 색순도의 향상이 요구되고 있다. 콘트라스트 향상을 위해서 컬러필터의 형성에 사용하는 착색 감광성 수지 조성물에 사용하는 착색제(유기 안료 등)의 입자 사이즈가 보다 미소한 것이 요구되어 있다. 또한, 색순도 향상을 위해서 상기 착색 감광성 수지 조성물의 고형분 중에 차지하는 착색제(유기 안료)의 함유율로서는 보다 높은 것이 요구되고 있다.In the case of television applications, it is required to improve image quality, that is, contrast and color purity, in comparison with the conventional monitor applications. In order to improve the contrast, the colorant (organic pigment or the like) used in the colored photosensitive resin composition used for forming the color filter is required to have a smaller particle size. In order to improve the color purity, the content of the colorant (organic pigment) in the solid content of the colored photosensitive resin composition is required to be higher.

상기와 같은 요구에 대하여, 안료의 입자지름을 보다 미세화함과 아울러 분산성이 보다 높은 안료 분산 조성물이 필요하게 된다. 안료의 분산성을 높이기 위해서는, 통상, 예를 들면 프탈로시아닌 안료의 표면에 그 유도체 화합물로 안료 표면을 개질하고, 개질된 표면에 흡착하기 쉬운 극성 관능기를 갖는 저분자량의 수지 등의 분산제를 이용하여 안료의 분산성 및 분산 안정성을 꾀하면서 안료, 표면 개질제, 분산제를 포함하는 안료 분산 조성물을 얻고 있다. 그리고, 얻어진 안료 분산 조성물에 알칼리 가용성 수지, 중합성 화합물, 광중합 개시제 및 기타 성분을 더 함유시켜서 감광성 조성물로 하고, 이것을 이용하여 포토리소그래피법 등에 의해 컬러필터를 얻고 있다.With respect to the above-mentioned requirement, a pigment dispersion composition having a smaller particle diameter of the pigment and a higher dispersibility is required. In order to improve the dispersibility of the pigment, it is usually necessary to modify the surface of the pigment with the derivative compound on the surface of the phthalocyanine pigment, and use a dispersing agent such as a low-molecular-weight resin having a polar functional group, A surface modifier, and a dispersing agent while obtaining dispersibility and dispersibility of the pigment. Then, an alkali-soluble resin, a polymerizable compound, a photopolymerization initiator, and other components are further contained in the obtained pigment dispersion composition to obtain a photosensitive composition, and a color filter is obtained by photolithography or the like using the photosensitive composition.

안료가 미세화하고, 또한 안료의 함유율이 높아지면 포토리소그래피법으로 화상 패턴을 형성했을 때에 선폭 감도가 낮아지는(선폭이 가늘어지는) 등의 문제가 있었다. TV 용도에서는 특히 저렴하게 컬러필터를 제공하는 것이 요구되고 있지만, 상기한 현상 공정을 중심으로 한 문제에 의해 노광 공정에 있어서 노광량을 높일, 즉 노광 시간을 길게 할 필요성이 생겼다. 이것에 의해 수율을 낮추고, 생산성을 악화시키므로 개량이 요구되고 있었다.If the pigment becomes finer and the content of the pigment becomes higher, there is a problem that when the image pattern is formed by the photolithography method, the line width sensitivity is lowered (line width becomes narrow). It is required to provide a color filter at a particularly low cost in TV applications. However, there is a need to increase the amount of exposure in the exposure process, that is, to increase the exposure time, due to the problem centering on the above-described development process. As a result, the yield is lowered and the productivity is deteriorated, so that improvement has been demanded.

상기의 문제점을 해결하기 위해서, 컬러필터용의 광감광성 수지 조성물에 사용하는 광중합 개시제의 개량에 의해 선폭 감도를 향상시키는 시도가 수많이 제안되어 있다. 예를 들면, 특정 구조의 트리아진계 화합물을 사용한 광중합성 조성물(예를 들면, 특허문헌 1 참조.)이나, 벤조페논계, 아세토페논계, 티오크산톤계 화합물을 1개 또는 2개 이상 혼합 사용한 컬러필터용 포토레지스트(예를 들면, 특허문헌 2 참조.) 등이 개시되어 있다.In order to solve the above problems, many attempts have been made to improve the line width sensitivity by improving the photopolymerization initiator used in the photosensitive resin composition for a color filter. For example, a photopolymerizable composition using a triazine-based compound having a specific structure (see, for example, Patent Document 1), a benzophenone-based compound, an acetophenone-based compound, and a thioxanthone compound- And a photo-resist for a color filter (see, for example, Patent Document 2).

또한, 다른 제안으로서 착색 감광성 수지 조성물 중의 바인더 수지와 중합성 화합물을 합계해서 이루어지는 유기 화합물에 있어서의 평균 이중결합 당량을 규정하고, 또한 바인더 수지의 분자량을 특정함으로써 소성에 의하여 순테이퍼 형상을 형성하는 기술이 개시되어 있다(특허문헌 3 참조).As another proposal, the average double bond equivalent in the organic compound which is the total of the binder resin and the polymerizable compound in the colored photosensitive resin composition is specified, and the molecular weight of the binder resin is specified, thereby forming a net taper shape by firing (See Patent Document 3).

또한, 자외광 레이저에 의한 노광용의 착색 감광성 수지 조성물은 아니지만, 알릴기를 포함하는 바인더 수지를 사용함으로써 고감도이고 현상 래티튜드가 넓은 착색 수지 조성물을 조제하는 것이 제안되어 있다(예를 들면, 특허문헌 4, 5 참조.). 또한, N-페닐말레이미드 공중합체를 결착 수지로 사용함으로써 색재현이 양호한 청색 컬러필터용 감방사선성 조성물을 제공하는 것이 제안되어 있다(예를 들면, 특허문헌 6참조.). 그러나, 이들 기술에서는 자외광 레이저에 의한 노광 공정, 현상 공정에서의 생산성이 떨어져서 충분한 생산성을 확보할 수 없고, 따라서 컬러필터의 가격을 저감할 수 없는 것이었다.Further, although not a colored photosensitive resin composition for exposure by an ultraviolet laser, it has been proposed to prepare a colored resin composition with high sensitivity and wide latitude of development by using a binder resin containing an allyl group (see, for example, Patent Document 4, 5). It has also been proposed to provide a radiation sensitive composition for a blue color filter having good color reproducibility by using an N-phenylmaleimide copolymer as a binder resin (for example, refer to Patent Document 6). However, in these techniques, the productivity in the exposure process and the development process by the ultraviolet laser is reduced, so that sufficient productivity can not be ensured, and therefore, the cost of the color filter can not be reduced.

노광 공정, 현상 공정의 생산성을 높이기 위해서 레이저광으로 노광하고, 패턴 성형하는 것이 제안되어 있다(예를 들면, 특허문헌 7 참조). 레이저는 통상 사용되고 있는 수은램프와 달리, 직진성이 높고, 출력도 크고, 또한 초점을 좁히는 것도 가능하며, 노광 공정에서의 패턴 형성의 마스크가 불필하다는 특징을 가지는 것으로서 기대되고 있다. 그러나, 상기한 선행 기술을 가졌다 해도 현상 공정에서 화소 표면이 거칠어지거나, 패턴의 선폭 감도가 충분하지 않거나 등, 착색 감광성 수지 조성물에 요구되는 특성을 만족하는 것은 아니었다. 또한, 컬러필터의 토털로서의 비용을 낮춘다고 하는 점에서, 노광 장치로서는 큰 포토마스크를 사용하지 않는 것이 제안되어 있다.(예를 들면, 특허문헌 8, 9 참조.). 그러나, 구체적인 재료의 제시는 없어, 그것들의 장치에 적합한 재료의 제안이 요망되고 있었다.In order to improve the productivity of the exposure process and the development process, it has been proposed to expose with laser light and perform pattern formation (see, for example, Patent Document 7). Unlike mercury lamps which are generally used, lasers are expected to have high linearity, high output, narrow focus, and no mask for pattern formation in the exposure process. However, even when the above-described prior art is employed, the surface of the pixel becomes rough in the developing process, the line width sensitivity of the pattern is insufficient, and the like, which does not satisfy the characteristics required for the colored photosensitive resin composition. In addition, it has been proposed that a large photomask is not used as an exposure apparatus in terms of lowering the cost as a total of color filters (see, for example, Patent Documents 8 and 9). However, there is no specific material presentation, and a proposal of a material suitable for these devices has been desired.

특히, 청색의 착색 감광성 수지 조성물에 있어서는 바인더 수지에 기인해서 포스트베이킹 후에 본래 가시광에 대하여 투명인 바인더 수지가 발색하고, 이것을 컬러필터의 착색 패턴에 사용할 경우 휘도가 저하한다고 하는 문제가 있어, 포스트베이킹한 경우에도 착색이 없는 바인더 수지가 요망되고 있었다. Particularly, in a blue colored photosensitive resin composition, there is a problem that the binder resin which is inherently transparent to visible light after post baking due to the binder resin develops color, and when the binder resin is used for the coloring pattern of the color filter, A binder resin having no coloring has been desired.

또한, 청색의 착색제는 355㎚나 365㎚의 흡수가 크고, 자외선 레이저에 의한 노광에서는 착색층의 심부까지 충분하게 광경화가 진행되지 않고, 포스트베이킹 후에 주름이 발생한다고 하는 문제가 있어, 자외선 레이저에 의해 심부까지 충분하게 경화되는 경화 감도가 양호한 청색 착색 감광성 수지 조성물이 갈망되고 있었다.Further, the blue colorant has a large absorption at 355 nm or 365 nm. When exposed by an ultraviolet laser, the photopolymerization does not progress sufficiently to the deep portion of the colored layer, and wrinkles occur after postbaking. There has been a desire for a blue-colored photosensitive resin composition which is sufficiently cured to a deep portion and has good curing sensitivity.

일본 특허공개 평 6-289611호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-289611 일본 특허공개 평 9-80225호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-80225 일본 특허공개 2007-93811호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-93811 일본 특허공개 평 10-20496호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 10-20496 국제공개 2007/29871호 팜플릿International Publication No. 2007/29871 일본 특허 제3632532호 공보Japanese Patent No. 3632532 일본 특허공개 2003-287614호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-287614 일본 특허공개 2008-76709호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-76709 일본 특허공개 2008-51866호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-51866

본 발명은 선폭 감도가 높고, 형성된 착색 패턴의 직선성과 내열성이 우수하며, 포스트베이킹 후에 있어서도 발색이나 주름의 발생이 억제된 착색 패턴을 형성할 수 있는, 자외광 레이저 노광에 적합하게 사용되는 착색 감광성 수지 조성물을 제공하는 것을 과제로 한다.The present invention relates to a color photographic light-sensitive material which is high in line width sensitivity, excellent in linearity and heat resistance of a formed color pattern, capable of forming a colored pattern in which the occurrence of color development or wrinkling is suppressed even after post- It is an object of the present invention to provide a resin composition.

또한, 본 발명의 새로운 과제는 상기 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물을 사용하여 이루어지는 형상과 휘도가 우수한 착색 패턴이 형성되는 패턴 형성 방법, 및 컬러필터의 제조방법, 또한 패턴 형상과 휘도가 양호한 착색 패턴을 갖는 컬러필터, 상기 컬러필터를 구비한 표시장치를 제공하는 것에 있다.A new object of the present invention is to provide a method of forming a pattern in which a colored pattern excellent in shape and luminance is formed using the colored photosensitive resin composition of the present invention and a method of producing a color filter and a method of forming a coloring pattern And a display device including the color filter.

본 발명자는 예의 검토한 결과, 이하의 방법에 의해 상기 과제를 해결하는 것을 찾아냈다.As a result of intensive studies, the present inventors have found that the above problems can be solved by the following methods.

<1> 적어도 (A) 착색제, (B-1) 하기 일반식(Ⅰ)으로 나타내어지고, 분자 내에 산성기를 갖는 바인더 수지, (B-2) 하기 일반식(Ⅱ)으로 나타내어지는 구조단위와 산성기를 갖는 구조단위를 포함하는 바인더 수지, (C) 중합성 화합물, (D) 옥심계 광중합 개시제, 및 (E) 용제를 함유하고, 상기 (B-1) 바인더 수지와 (B-2) 바인더 수지의 질량 기준에 의한 함유 비율이 3:7∼7:3인 착색 감광성 수지 조성물.(B-1) a binder resin represented by the following general formula (I) and having an acidic group in the molecule, (B-2) a resin composition comprising a structural unit represented by the following general formula (II) (B-1) binder resin and (B-2) a binder resin containing a structural unit having a group (B-1), a polymerizable compound (D), an oxime-based photopolymerization initiator, and By weight based on the weight of the photosensitive resin composition is 3: 7 to 7: 3.

Figure 112011028945611-pat00001
Figure 112011028945611-pat00001

일반식(Ⅰ) 중, R3은 (m+n)가의 유기 연결기를 나타내고, R4 및 R5는 각각 독립적으로 단결합 또는 2가의 유기 연결기를 나타낸다. A2는 유기 색소 구조, 복소환 구조, 산성기, 염기성 질소원자를 갖는 기, 우레아기, 우레탄기, 배위성 산소원자를 갖는 기, 탄소수 4 이상의 탄화수소기, 알콕시실릴기, 에폭시기, 이소시아네이트기, 및 수산기로부터 선택되는 부분구조를 적어도 1종 포함하는 1가의 유기기를 나타낸다. n개의 A2, R4는 동일하여도 좋고 달라도 좋다. m은 1∼8, n은 2∼9를 나타내고, m+n은 3∼10을 충족시킨다. P2는 고분자 골격을 나타낸다. m개의 P2, R5는 동일하여도 좋고 달라도 좋다.In the general formula (I), R 3 represents an organic linking group of (m + n), and R 4 and R 5 each independently represent a single bond or a divalent organic linking group. A 2 represents an organic dye structure, a heterocyclic structure, an acidic group, a group having a basic nitrogen atom, a urea group, a urethane group, a group having a saturated oxygen atom, a hydrocarbon group having 4 or more carbon atoms, an alkoxysilyl group, And a monovalent organic group containing at least one partial structure selected from a hydroxyl group. n A 2 and R 4 may be the same or different. m represents 1 to 8, n represents 2 to 9, and m + n satisfies 3 to 10. P 2 represents a polymer skeleton. m P 2 and R 5 may be the same or different.

Figure 112011028945611-pat00002
Figure 112011028945611-pat00002

일반식(Ⅱ) 중, R11∼R15는 각각 독립적으로 수소원자, 할로겐 원자, 시아노기, 알킬기 또는 아릴기를 나타내고, R16은 수소원자 또는 메틸기를 나타낸다.In the general formula (II), R 11 to R 15 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group or an aryl group, and R 16 represents a hydrogen atom or a methyl group.

<2> <1>에 있어서, 상기 (D) 옥심계 광중합 개시제가 하기 일반식(Ⅲ)으로 나타내어지는 케토옥심계 광중합 개시제인 것을 특징으로 하는 착색 감광성 수지 조성물.<2> The colored photosensitive resin composition according to <1>, wherein the oxime-based photopolymerization initiator (D) is a ketoxime-based photopolymerization initiator represented by the following general formula (III).

Figure 112011028945611-pat00003
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일반식(Ⅲ) 중, R 및 X는 각각 독립적으로 1가의 치환기를 나타내고, A는 2가의 유기기를 나타내고, Ar은 아릴기를 나타낸다. n은 0∼5의 정수이다. X가 복수 존재할 경우, 복수의 X는 각각 독립적으로 1가의 치환기를 나타내고, 동일하여도 좋고 달라도 좋다.In the general formula (III), R and X each independently represent a monovalent substituent, A represents a divalent organic group, and Ar represents an aryl group. n is an integer of 0 to 5; When a plurality of Xs exist, a plurality of Xs each independently represents a monovalent substituent, and may be the same or different.

<3> <1> 또는 <2>에 있어서, 자외광 레이저 노광용인 것을 특징으로 하는 착색 감광성 수지 조성물.<3> The colored photosensitive resin composition according to <1> or <2>, which is for ultraviolet laser exposure.

<4> <1>∼<3> 중 어느 하나에 기재된 착색 감광성 수지 조성물을 기판 상에 부여해서 착색층을 형성하는 착색층 형성 공정과, 상기 착색층에 대하여 패턴 모양의 자외광 레이저에 의한 노광을 행해서 노광부를 경화시키는 노광 공정과, 상기 착색층의 미경화부를 현상에 의해 제거해서 패턴을 형성하는 현상 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴 형성 방법.&Lt; 4 > A process for producing a colored layer, comprising the steps of: forming a colored layer by applying a colored photosensitive resin composition according to any one of < 1 > And a developing step of removing the un-hardened portion of the colored layer by development to form a pattern.

<5> <4>에 있어서, 상기 자외광 레이저의 노광 파장이 300㎚∼380㎚의 범위인 것을 특징으로 하는 패턴 형성 방법.<5> The pattern forming method according to <4>, wherein the ultraviolet laser has an exposure wavelength in a range of 300 nm to 380 nm.

<6> <4> 또는 <5>에 있어서, 상기 자외광 레이저가 20㎐∼2000㎐의 주파수에서 발진하는 펄스 레이저인 것을 특징으로 하는 패턴 형성 방법.<6> The pattern forming method according to <4> or <5>, wherein the ultraviolet laser is a pulsed laser oscillating at a frequency of 20 Hz to 2000 Hz.

<7> <4>∼<6> 중 어느 하나에 기재된 패턴 형성 방법에 의해 기판 상에 착색 패턴을 형성하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조방법.<7> A method of manufacturing a color filter, comprising the step of forming a colored pattern on a substrate by a pattern forming method according to any one of <4> to <6>.

<8> <7>에 기재된 제조방법에 의해 제조된 것을 특징으로 하는 컬러필터.&Lt; 8 > A color filter produced by the manufacturing method according to < 7 >.

<9> <8>에 기재된 컬러필터를 구비한 것을 특징으로 하는 표시장치.<9> A display device comprising the color filter according to <8>.

(발명의 효과)(Effects of the Invention)

본 발명에 의하면, 선폭 감도가 높고, 형성된 착색 패턴의 직선성과 내열성이 뛰어나며, 포스트베이킹 후에 있어서도 발색이나 주름의 발생이 억제된 착색 패턴을 형성할 수 있는, 자외광 레이저 노광에 적합하게 사용되는 착색 감광성 수지 조성물을 제공할 수 있다.According to the present invention, it is possible to provide a coloring pattern which is high in line width sensitivity, excellent in the linearity and heat resistance of the formed coloring pattern and capable of forming a colored pattern in which color development and wrinkling are suppressed even after post- A photosensitive resin composition can be provided.

또한, 상기 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물을 사용함으로써 형상과 휘도 가 우수한 착색 패턴이 형성되는 패턴 형성 방법, 및 컬러필터의 제조방법, 또한 패턴 형상과 휘도가 양호한 착색 패턴을 갖는 컬러필터, 상기 컬러필터를 구비한 표시장치를 제공할 수 있다.Further, a method of forming a pattern in which a colored pattern having excellent shape and luminance is formed by using the colored photosensitive resin composition of the present invention, a method of manufacturing a color filter, a color filter having a pattern shape and a coloring pattern with good luminance, A display device provided with a filter can be provided.

이하, 본 발명을 실시하기 위한 형태에 대해서 상세하게 설명한다.Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described in detail.

≪착색 감광성 수지 조성물≫«Colored photosensitive resin composition»

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은 적어도 (A) 착색제, (B-1) 하기 일반식(Ⅰ)으로 나타내어지고, 분자 내에 산성기를 갖는 바인더 수지[이하, 적당하게 (B-1) 바인더 수지라고 칭함], (B-2) 하기 일반식(Ⅱ)으로 나타내어지는 구조단위와 산성기를 갖는 구조단위를 포함하는 바인더 수지[이하, 적당하게 (B-2) 바인더 수지라고 칭함], (C) 중합성 화합물, (D) 옥심계 광중합 개시제, 및 (E) 용제를 함유하고, 상기 (B-1) 바인더 수지와 (B-2) 바인더 수지의 질량 기준에 의한 함유 비율이 3:7∼7:3인 것을 특징으로 한다.The colored photosensitive resin composition of the present invention comprises at least (A) a colorant, (B-1) a binder resin represented by the following general formula (I) and having an acidic group in the molecule (hereinafter appropriately referred to as (B- , (B-2) a binder resin comprising a structural unit represented by the following general formula (II) and a structural unit having an acidic group [hereinafter referred to as "binder resin (B-2) (B-1) binder resin and (B-2) binder resin, based on the mass of the binder resin, of from 3: 7 to 7: 3 .

이하에 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물의 각 구성 성분에 대해서 상세히 설명한다.Each constituent component of the colored photosensitive resin composition of the present invention will be described in detail below.

<(A) 착색제><(A) Colorant>

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은 (A) 착색제의 적어도 1종을 포함한다.The colored photosensitive resin composition of the present invention comprises (A) at least one colorant.

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물에 있어서의 (A) 착색제의 함유량은 착색 감광성 수지 조성물의 고형분에 대하여 질량 분률로 15질량%∼60질량%인 것이 바람직하다. (A) 착색제의 함유량이 15질량% 미만이면 소망의 색상으로 하기 위해서는 막두께를 두껍게 설정하지 않으면 안되어 현상하기 어려워지거나, 택트타임이 늘어나 버리거나 하는 문제가 발생하는 경우가 있다. 한편, (A) 착색제의 함유량이 60질량%를 초과하면 현상 시간이 길어지고, 또한 프로파일 형상도 역 엣지 형상으로 되어 바람직하지 못한 경우가 있다.The content of the colorant (A) in the colored photosensitive resin composition of the present invention is preferably 15 mass% to 60 mass% with respect to the solid content of the colored photosensitive resin composition. If the content of the colorant (A) is less than 15% by mass, it is necessary to set the film thickness to be large in order to achieve a desired hue, which makes it difficult to develop the film, or the tact time may increase. On the other hand, when the content of the colorant (A) exceeds 60% by mass, the development time becomes longer and the profile shape also becomes an inverted edge shape, which is not preferable.

본 발명에 있어서의 착색 감광성 수지 조성물의 「고형분」이란, 착색 감광성 수지 조성물을 알루미늄제 용기에 1g 칭량하여 160℃에서 60분간 건조해서 남은 가열 잔부를 의미하고, 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물에서는 (E) 용제를 제외한 착색 감광성 수지 조성물의 전체 성분을 포함한다.The term "solid content" of the colored photosensitive resin composition in the present invention refers to the amount of residual heating after 1 g of the colored photosensitive resin composition is weighed in an aluminum container and dried at 160 ° C. for 60 minutes. In the colored photosensitive resin composition of the present invention E) solvent. &Lt; / RTI &gt;

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물에 있어서의 (A) 착색제의 함유량은 착색 감광성 수지 조성물의 전체 고형분에 대하여 20질량%∼50질량%가 보다 바람직하고, 25질량%∼40질량%가 더욱 바람직하다.The content of the colorant (A) in the colored photosensitive resin composition of the present invention is preferably 20% by mass to 50% by mass, more preferably 25% by mass to 40% by mass, based on the total solid content of the colored photosensitive resin composition.

(A) 착색제로서는 염료, 및 안료를 적당하게 선택해서 사용할 수 있다. 내열성 등의 관점으로부터는 안료가 보다 바람직하다.As the colorant (A), a dye and a pigment can be suitably selected and used. From the viewpoint of heat resistance and the like, a pigment is more preferable.

(A) 착색제로서 사용되는 안료는 무기 안료이여도 유기 안료이여도 좋지만, 고투과율이라고 하는 관점으로부터 되도록이면 입자 사이즈가 작은 것의 사용이 바람직하다. 1차 입자지름의 평균은 0.01㎛∼0.1㎛인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 0.01㎛∼0.05㎛의 범위이다.The pigment used as the (A) coloring agent may be either an inorganic pigment or an organic pigment, but from the viewpoint of high transmittance, it is preferable to use a pigment having a small particle size. The average of the primary particle diameter is preferably 0.01 탆 to 0.1 탆, more preferably 0.01 탆 to 0.05 탆.

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물에 있어서는 후술하는 고분자 분산제를 사용함으로써 안료의 사이즈가 작은 경우이여도 안료 분산성, 분산 안정성이 양호하게 되기 때문에 막두께가 얇아도 색순도가 우수한 착색 화소를 형성할 수 있다.In the colored photosensitive resin composition of the present invention, by using the polymer dispersant described later, even when the size of the pigment is small, the pigment dispersibility and the dispersion stability become good, so that a colored pixel excellent in color purity can be formed even if the film thickness is thin .

또한, 본 발명에 있어서는 착색 감광성 수지 조성물에 함유되는 안료 중, 1차 입자지름이 0.02㎛ 미만인 안료의 비율이 상기 안료의 전량 중 10% 미만이며, 또한, 1차 입자지름이 0.08㎛를 초과하는 안료의 비율이 상기 안료의 전량 중 5% 미만인 것이 바람직하다.In the present invention, the proportion of the pigment having a primary particle diameter of less than 0.02 탆 in the pigment contained in the colored photosensitive resin composition is less than 10% of the total amount of the pigment, and the primary particle diameter exceeds 0.08 탆 The proportion of the pigment is preferably less than 5% of the total amount of the pigment.

1차 입자지름이 0.02㎛ 미만인 안료의 비율이 10% 미만임으로써 내열성이 좋고, 색도 변화를 방지할 수 있으며, 1차 입자지름이 0.08㎛를 초과하는 안료의 비율이 5% 미만임으로써 콘트라스트가 좋고, 착색 감광성 수지 조성물의 경시 안정성이 좋으며, 또한 이물 고장을 방지할 수 있다.The ratio of the pigment having a primary particle diameter of less than 0.02 占 퐉 is less than 10%, heat resistance is good and chromaticity change can be prevented, and the ratio of the pigment whose primary particle diameter exceeds 0.08 占 퐉 is less than 5% Good stability with time of the colored photosensitive resin composition, and prevention of foreign matter breakage.

1차 입자지름이 0.02㎛ 미만인 안료의 비율은 내열성, 및 색도 변화 방지의 관점으로부터 5% 미만인 것이 보다 바람직하다.From the viewpoint of heat resistance and prevention of chromaticity change, it is more preferable that the proportion of the pigment having a primary particle diameter of less than 0.02 탆 is less than 5%.

1차 입자지름이 0.08㎛를 초과하는 안료의 비율은 콘트라스트를 좋게 하는 관점으로부터 3% 미만인 것이 바람직하다.The proportion of the pigment having a primary particle diameter exceeding 0.08 탆 is preferably less than 3% from the viewpoint of improving the contrast.

안료의 1차 입자지름은 TEM(투과형 전자현미경)을 이용하여 측정할 수 있다. 즉, TEM 사진을 화상 해석함으로써 입경 분포를 조사할 수 있다. 예를 들면, 3∼10만배에서의 관찰 시료 중의 전체 입자수와, 0.02㎛ 미만, 및 0.08㎛를 초과하는 안료의 입자수를 계측함으로써 입도분포를 파악할 수 있다. 보다 구체적으로는, 안료분체를 투과형 전자현미경에 의해 3∼10만배로 관찰하여 사진을 찍고, 1000개의 1차 입자의 장지름을 측정하여 0.02㎛ 미만, 및 0.08㎛를 초과하는 1차 입자의 비율을 산출한다. 이 조작을 안료 분체의 부위를 바꾸어서 합계로 3개소에 대해서 행하고, 결과를 평균한다.The primary particle diameter of the pigment can be measured using a TEM (transmission electron microscope). That is, it is possible to investigate the particle size distribution by image analysis of the TEM photograph. For example, the particle size distribution can be grasped by measuring the total number of particles in an observation sample at 3 to 100,000 times, and the number of particles of less than 0.02 占 퐉 and 0.08 占 퐉. More specifically, the pigment powder was observed by a transmission electron microscope at a magnification of 3 to 1000000 and photographed. The long diameter of 1000 primary particles was measured to find that the ratio of the primary particles exceeding 0.02 탆 and exceeding 0.08 탆 . This operation is carried out for three portions in total by changing the portions of the pigment powder, and the results are averaged.

(A) 착색제로서 사용할 수 있는 무기 안료로서는 금속 산화물, 금속 착염 등의 금속 화합물을 들 수 있고, 구체적으로는 철, 코발트, 알루미늄, 카드뮴, 납, 구리, 티타늄, 마그네슘, 크롬, 아연, 안티몬 등의 금속의 산화물, 및 상기 금속의 복합 산화물 등을 들 수 있다.Examples of the inorganic pigments that can be used as the colorant (A) include metallic compounds such as metal oxides and metal complex salts. Specific examples of the inorganic pigments include iron, cobalt, aluminum, cadmium, lead, copper, titanium, magnesium, chromium, An oxide of a metal of the above metal, and a composite oxide of the above metal.

상기 유기 안료로서는, 예를 들면As the organic pigment, for example,

C. I. Pigment Red 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 9, 10, 14, 17, 22, 23, 31, 38, 41, 48:1, 48:2, 48:3, 48:4, 49, 49:1, 49:2, 52:1, 52:2, 53:1, 57:1, 60:1, 63:1, 66, 67, 81:1, 81:2, 81:3, 83, 88, 90, 105, 112, 119, 122, 123, 144, 146, 149, 150, 155, 166, 168, 169, 170, 171, 172, 175, 176, 177, 178, 179, 184, 185, 187, 188, 190, 200, 202, 206, 207, 208, 209, 210, 216, 220, 224, 226, 242, 246, 254, 255, 264, 270, 272, 279,CI Pigment Red 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 9, 10, 14, 17, 22, 23, 31, 38, 41, 48: , 81: 2, 81: 2, 53: 1, 57: 1, 60: 1, 63: 1, 66, 67, 81: , 83, 88, 90, 105, 112, 119, 122, 123, 144, 146, 149, 150, 155, 166, 168, 169, 170, 171, 172, 175, 176, 177, 178, 179, 184 , 185, 187, 188, 190, 200, 202, 206, 207, 208, 209, 210, 216, 220, 224, 226, 242, 246, 254, 255, 264, 270, 272, 279,

C. I. Pigment Yellow 1, 2, 3, 4, 5, 6, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 20, 24, 31, 32, 34, 35, 35:1, 36, 36:1, 37, 37:1, 40, 42, 43, 53, 55, 60, 61, 62, 63, 65, 73, 74, 77, 81, 83, 86, 93, 94, 95, 97, 98, 100, 101, 104, 106, 108, 109, 110, 113, 114, 115, 116, 117, 118, 119, 120, 123, 125, 126, 127, 128, 129, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 151, 152, 153, 154, 155, 156, 161, 162, 164, 166, 167, 168, 169, 170, 171, 172, 173, 174, 175, 176, 177, 179, 180, 181, 182, 185, 187, 188, 193, 194, 199, 213, 214CI Pigment Yellow 1, 2, 3, 4, 5, 6, 10, 11, 12,13,14,15,16,17,18,20,24,31,32,34,35,35,136 , 36: 1, 37, 37: 1, 40, 42, 43, 53, 55, 60, 61, 62, 63, 65, 73, 74, 77, 81, 83, 86, 93, 94, 95, 97 , 98, 100, 101, 104, 106, 108, 109, 110, 113, 114, 115, 116, 117, 118, 119, 120, 123, 125, 126, 127, 128, 129, 137, 138, 139 , 147, 148, 150, 151, 152, 153, 154, 155, 156, 161, 162, 164, 166, 167, 168, 169, 170, 171, 172, 173, 174, 175, 176, 177, 179 , 180, 181, 182, 185, 187, 188, 193, 194, 199, 213, 214

C. I. Pigment Orange 2, 5, 13, 16, 17:1, 31, 34, 36, 38, 43, 46, 48, 49, 51, 52, 55, 59, 60, 61, 62, 64, 71, 73,CI Pigment Orange 2, 5, 13, 16, 17: 1, 31, 34, 36, 38, 43, 46, 48, 49, 51, 52, 55, 59, 60, 61, 62, 64, 71, 73 ,

C. I. Pigment Green 7, 10, 36, 37, 58C. I. Pigment Green 7, 10, 36, 37, 58

C. I. Pigment Blue 1, 2, 15, 15:1, 15:2, 15:3, 15:4, 15:6, 16, 22, 60, 64, 66, 79, 79의 Cl 치환기를 OH로 변경한 것, 80,CI Pigment Blue 1, 2, 15, 15: 1, 15: 2, 15: 3, 15: 4, 15: 6, 16, 22, 60, 64, 66, Things, 80,

C. I. Pigment Violet 1, 19, 23, 27, 32, 37, 42,C. I. Pigment Violet 1, 19, 23, 27, 32, 37, 42,

C. I. Pigment Brown 25, 28 등을 들 수 있다.C. I. Pigment Brown 25, 28, and the like.

이들 중에서 바람직하게 사용할 수 있는 안료로서 이하의 것을 들 수 있다. 단, 본 발명에 있어서는 이것들에 한정되는 것은 아니다.Among them, the following pigments can be preferably used. However, the present invention is not limited to these.

C. I. Pigment Yellow 11, 24, 108, 109, 110, 138, 139, 150, 151, 154, 167, 180, 185,C. I. Pigment Yellow 11, 24, 108, 109, 110, 138, 139, 150, 151, 154, 167, 180, 185,

C. I. Pigment Orange 36, 71,C. I. Pigment Orange 36, 71,

C. I. Pigment Red 122, 150, 171, 175, 177, 209, 224, 242, 254, 255, 264,C. I. Pigment Red 122, 150, 171, 175, 177, 209, 224, 242, 254, 255, 264,

C. I. Pigment Violet 19, 23, 32, 58C. I. Pigment Violet 19, 23, 32, 58

C. I. Pigment Blue 15:1, 15:3, 15:6, 16, 22, 60, 66,C. I. Pigment Blue 15: 1, 15: 3, 15: 6, 16, 22, 60, 66,

C. I. Pigment Green 7, 36, 37.C. I. Pigment Green 7, 36, 37.

이들 유기 안료는 단독 또는, 색순도를 높이기 위해서 여러 가지 조합시켜서 사용할 수 있다. 조합의 구체예를 이하에 나타낸다.These organic pigments may be used alone or in various combinations in order to increase color purity. Specific examples of combinations are shown below.

예를 들면, 적색층(R)용의 안료로서는 안트라퀴논계 안료, 페릴렌계 안료, 디케토피롤로피롤계 안료 단독 또는 그것들의 적어도 1종과 디스아조계 안료, 이소인돌린계 안료, 퀴노프탈론계 안료 등의 황색 안료의 혼합, 또는 안트라퀴논계 안료, 페릴렌계 안료, 디케토피롤로피롤계 안료 중 적어도 1종과 페릴렌계 안료, 안트라퀴논계 안료, 축합 디스계 안료, 디케토피롤로피롤계 안료 등의 적색 안료의 혼합 등을 사용할 수 있다. 예를 들면, 안트라퀴논계 안료로서는 C. I. 피그먼트 레드 177을 들 수 있고, 페릴렌계 안료로서는 C. I. 피그먼트 레드 155, C. I. 피그먼트 레드 224를 들 수 있고, 축합 디스계 적색 안료로서는 C. I. 피그먼트 레드 242를 들 수 있고, 디케토피롤로피롤계 안료로서는 C. I. 피그먼트 레드 254를 들 수 있고, 색재현성의 점에서 C. I. 피그먼트 레드 254와 C. I. 피그먼트 옐로우 139 또는 C. I. 피그먼트 레드 177의 혼합이 바람직하다.For example, as the pigment for the red layer (R), an anthraquinone pigment, a perylene pigment, a diketopyrrolopyrrole pigment alone or at least one thereof and a disazo pigment, an isoindoline pigment, a quinophthalone pigment Or a mixture of at least one of an anthraquinone pigment, a perylene pigment and a diketopyrrolopyrrole pigment with a yellow pigment such as a perylene pigment, an anthraquinone pigment, a condensed disc pigment, a diketopyrrolopyrrole pigment And the like may be used. Examples of the anthraquinone-based pigment include CI Pigment Red 177, the perylene pigments include CI Pigment Red 155 and CI Pigment Red 224, and the condensed-disintegrative red pigment includes CI Pigment Red 242 And diketopyrrolopyrrole pigments include CI Pigment Red 254. From the viewpoint of color reproducibility, a mixture of CI Pigment Red 254 and CI Pigment Yellow 139 or CI Pigment Red 177 is preferable.

또한, 적색 안료와 타안료의 질량비(적색 안료:타안료)는 100:5∼100:80이 바람직하다. 100:4 이하에서는 400㎚로부터 500㎚의 광투과율을 억제하는 것이 곤란해서 색순도를 높일 수 없을 경우가 있다. 또한 100:81 이상에서는 발색력이 낮아질 경우가 있다. 특히, 상기 질량비로서는 100:10∼100:65의 범위가 최적이다. 또한, 적색 안료끼리의 조합의 경우에는 색도에 맞춰서 조정할 수 있다.The mass ratio of the red pigment and the other pigment (red pigment: other pigment) is preferably 100: 5 to 100: 80. When the ratio is 100: 4 or less, it is difficult to suppress the light transmittance of 400 nm to 500 nm, and the color purity may not be increased. In addition, the coloring power may be lowered at a ratio of 100: 81 or more. Particularly, the mass ratio is preferably in the range of 100: 10 to 100: 65. In the case of a combination of red pigments, it can be adjusted in accordance with the chromaticity.

또한, 녹색층(G)용의 안료로서는 할로겐화 프탈로시아닌계 안료를 단독으로,또는 이것과 디스아조계 황색 안료, 퀴노프탈론계 황색 안료, 아조메틴계 황색 안료 또는 이소인돌린계 황색 안료의 혼합을 사용할 수 있다. 예를 들면, 이러한 예로서는 C. I. 피그먼트 그린 7, 36, 37, 58과 C. I. 피그먼트 옐로우 138, C. I. 피그먼트 옐로우 139, C. I. 피그먼트 옐로우 150, C. I. 피그먼트 옐로우 180 또는 C. I. 피그먼트 옐로우 185의 혼합이 바람직하다.As the pigment for the green layer (G), a halogenated phthalocyanine pigment may be used singly or in combination with a disazo yellow pigment, a quinophthalone yellow pigment, an azomethine yellow pigment or an isoindoline yellow pigment Can be used. For example, a mixture of CI Pigment Green 7, 36, 37, 58 and CI Pigment Yellow 138, CI Pigment Yellow 139, CI Pigment Yellow 150, CI Pigment Yellow 180, or CI Pigment Yellow 185, desirable.

녹색 안료와 황색 안료의 질량비는 충분한 색순도를 얻는 것, 및 NTSC 목표색상으로부터의 어긋남을 억제하는 관점으로부터 100:5∼100:150이 바람직하다. 질량비로서는 100:30∼100:120의 범위가 특히 바람직하다.The mass ratio of the green pigment to the yellow pigment is preferably from 100: 5 to 100: 150 from the viewpoint of obtaining sufficient color purity and suppressing deviation from the NTSC target hue. The mass ratio is particularly preferably in the range of 100: 30 to 100: 120.

청색층(B)용의 안료로서는 프탈로시아닌계 안료를 단독으로, 또는 이것과 디옥사진계 자색 안료의 혼합을 사용할 수 있다. 예를 들면, C. I. 피그먼트 블루 15:6과 C. I. 피그먼트 바이올렛 23의 혼합이 바람직하다. 청색 안료와 자색 안료의 질량비는 100:0∼100:50이 바람직하고, 보다 바람직하게는 100:5∼100:30이다.As the pigment for the blue layer (B), a phthalocyanine-based pigment may be used alone, or a mixture of the phthalocyanine-based pigment and a dioxazine-based purple pigment may be used. For example, a mixture of C. I. Pigment Blue 15: 6 and C. I. Pigment Violet 23 is preferred. The mass ratio of the blue pigment to the purple pigment is preferably 100: 0 to 100: 50, and more preferably 100: 5 to 100: 30.

본 발명의 착색 감광성 조성물은, 특히 청색의 착색 감광성 조성물에 적용했을 때에 착색층이 포스트베이킹 등에 의해 가열되어도 황색으로 착색되지 않으므로 특히 효과적이다.The colored photosensitive composition of the present invention is particularly effective since it is not colored yellow when the colored layer is heated by post-baking or the like when applied to a blue colored photosensitive composition.

본 발명에서는 특히 착색제로서 유기 안료를 사용하고, 또한 안료의 미세화 공정 또는 분산 공정에서 안료를 고분자 화합물로 피복한 것을 사용하는 것이 바람직하다. 안료를 고분자 화합물로 피복함으로써 미세화된 안료에 있어서도 2차 응집체의 형성이 억제되고, 1차 입자의 상태에서 분산시킬 수 있는, 분산성이 향상된 피복 안료, 분산시킨 1차 입자가 안정적으로 유지되는 분산 안정성이 우수한 피복 안료를 사용하는 것이 보다 바람직하다.In the present invention, it is particularly preferable to use an organic pigment as a coloring agent and a pigment coated with a polymer compound in a step of finishing or dispersing the pigment. A coated pigment having improved dispersibility and capable of being dispersed in the state of primary particles while suppressing the formation of secondary agglomerates even in a finely dispersed pigment by coating the pigment with a polymer compound, It is more preferable to use a coating pigment excellent in stability.

본 발명에서 바람직한 형태인 피복 안료란 고분자 화합물로 안료가 피복된 것이지만, 피복에서는 미세화로 생긴 표면활성이 높은 안료의 신계면에 고분자 화합물과의 강한 정전적 작용에 의해 상기 고분자 화합물의 강고한 피복층이 형성되기 때문에, 보다 높은 분산 안정성을 갖는 피복 안료가 얻어지는 것이라 생각된다. 즉, 본 발명에 있어서는 피복 처리 후의 안료는 고분자 화합물을 용해하는 유기용제로 세정해도 피복한 고분자 화합물은 거의 유리되지 않는다.The coated pigment, which is a preferable form in the present invention, is a pigment coated with a polymer compound. In the coating, a strong coat of the polymer compound is formed on the new interface of the pigment having a high surface activity caused by micronization by a strong electrostatic action with the polymer compound It is considered that a coating pigment having higher dispersion stability can be obtained. That is, in the present invention, the coated polymer is hardly released when the coated pigment is washed with an organic solvent dissolving the polymer compound.

본 발명에서 말하는 피복 안료는 유기 안료 등의 안료 입자가 측쇄에 복소환 등의 극성기를 갖는 고분자 화합물로 피복되어 있는 것이며, 상기 고분자 화합물이 안료입자 표면의 일부 또는 전부를 강고하게 피복함으로써 보다 높은 분산 안정성의 효과를 이루는 것이며, 일반적인 고분자 분산제가 안료에 흡착되어 이루어지는 것과는 다른 것이다. 이 피복 상태는 이하에 나타내는 유기용제에 의한 세정으로 고분자 화합물의 유리량(유리율)을 측정함으로써 확인할 수 있다. 즉, 단지 흡착해서 이루어지는 고분자 화합물은 유기용제에 의한 세정에 의해 그 대부분, 구체적으로는 65% 이상이 유리, 제거되지만, 본 발명과 같이 표면 피복된 안료의 경우에는 유리율은 매우 적어 30% 이하이다.The coating pigment referred to in the present invention is a pigment in which pigment particles such as organic pigments are coated with a polymer compound having a polar group such as a heterocycle on the side chain and the polymer compound strongly covers a part or all of the surface of the pigment particle, Stability effect, and is different from a case where a general polymer dispersant is adsorbed on a pigment. This coated state can be confirmed by measuring the amount of the polymer (free ratio) by washing with the organic solvent shown below. That is, most of the polymer compounds formed by just adsorption are removed by cleaning with an organic solvent, specifically, at least 65% of the glass is removed. However, in the case of the surface-coated pigment as in the present invention, to be.

상기 유리량(유리율)은 피복 처리 후의 안료를 1-메톡시-2-프로판올로 세정해서 산출한다. 즉, 안료 10g을 1-메톡시-2-프로판올 100ml 중에 투입하고, 진탕기를 이용하여 실온에서 3시간 진탕시키고, 그 후 원심분리기에서 80,000rpm으로 8시간 걸쳐서 안료를 침강시키며, 상청액 부분의 고형분의 질량을 건조법에 의해 구한다. 이 고형분의 질량과, 안료의 피복 처리에 사용한 고분자 화합물의 질량의 비로부터 유리율(%)을 산출한다.The amount of the glass (the glass ratio) is calculated by washing the pigment after the coating treatment with 1-methoxy-2-propanol. That is, 10 g of the pigment was added to 100 ml of 1-methoxy-2-propanol, shaken at room temperature for 3 hours using a shaker, and then the pigment was precipitated at 80,000 rpm for 8 hours in a centrifugal separator. The mass is determined by the drying method. The free ratio (%) is calculated from the ratio of the mass of the solid content to the mass of the polymer compound used in the coating process of the pigment.

시판 등의 안료에 대한 상기 유리량(유리율)은 이하의 방법으로 측정할 수 있다. 즉, 안료를 용해하는 용제(예를 들면 디메틸술폭시드, 디메틸포름아미드, 포름산, 황산 등)로 안료 전체를 용해한 후에, 고분자 화합물과 안료에 용해성의 차이를 이용해서 유기용제로 분리하고, 「안료의 피복 처리에 사용한 고분자 화합물의 질량」을 산출한다. 별도, 안료를 1-메톡시-2-프로판올로 세정해서 얻어진 고분자 화합물의 유리량을 이 「안료의 피복 처리에 사용한 고분자 화합물의 질량」으로 나누어서 유리율(%)을 구한다.The above-mentioned amount of free glass (free ratio) for commercially available pigments can be measured by the following method. That is, after the entire pigment is dissolved with a solvent (for example, dimethylsulfoxide, dimethylformamide, formic acid, sulfuric acid, etc.) dissolving the pigment, the pigment is separated into an organic solvent using a difference in solubility between the polymer and the pigment, Quot; mass of the polymer compound used in the coating process &quot; Separately, the glass ratio (%) is obtained by dividing the glass amount of the polymer compound obtained by washing the pigment with 1-methoxy-2-propanol by the "mass of the polymer compound used for coating the pigment".

유리율은 작을수록 안료로의 피복이 강고하고, 분산성, 분산 안정성이 양호하다. 유리율의 바람직한 범위는 30% 이하, 보다 바람직하게는 20% 이하, 가장 바람직하게는 15% 이하이다. 이상적으로는 0%이다.The smaller the free ratio, the stronger the coating on the pigment, the better the dispersibility and the dispersion stability. The preferred range of the free rate is 30% or less, more preferably 20% or less, and most preferably 15% or less. Ideally it is 0%.

피복 처리는 안료의 미세화 공정과 동시에 행하는 것이 바람직하고, 구체적으로는 (ⅰ) 안료, (ⅱ) 수용성의 무기염, (ⅲ) 실질적으로 (ⅱ)를 용해하지 않는 소량의 수용성의 유기용제, 및 (ⅳ) 고분자 화합물을 첨가하고, 니더 등으로 기계적으로 혼련해서 혼합물을 얻는 공정(솔트밀링 공정이라고 칭함), 이 혼합물을 수중에 투입하고 하이스피드 믹서 등으로 교반하여 슬러리 형상으로 하는 공정, 및 이 슬러리를 여과, 수세해서 필요에 따라 건조하는 공정을 거쳐서 실시된다.The coating treatment is preferably carried out simultaneously with the fineness of the pigment, and concretely, it is preferable that the coating treatment is carried out simultaneously with (i) a pigment, (ii) a water-soluble inorganic salt, (iii) a small amount of a water-soluble organic solvent which does not substantially dissolve (Iv) a step of adding a polymer compound, mechanically kneading the mixture with a kneader to obtain a mixture (referred to as a salt milling step), putting this mixture into water and stirring it with a high speed mixer or the like to form a slurry, The slurry is filtered, washed with water, and dried if necessary.

상기한 솔트밀링에 대해서 더욱 구체적으로 설명한다. 우선, (ⅰ) 유기 안료와 (ⅱ) 수용성의 무기염의 혼합물에 습윤제로서 소량의 (ⅲ) 수용성의 유기용제를 첨가하고, 니더 등으로 강하게 혼련한 후 이 혼합물을 수중에 투입하고, 하이스피드 믹서 등으로 교반하여 슬러리 형상으로 한다. 이어서, 이 슬러리를 여과, 수세 해서 필요에 따라 건조함으로써 미세화된 안료가 얻어진다. 또한, 유성의 바니시에 분산하여 사용할 경우에는, 건조 전의 처리 안료(여과 케이크라고 부름)를 일반적으로 플래싱이라고 불리는 방법으로 물을 제거하면서 유성의 바니시에 분산하는 것도 가능하다. 또한 수계의 바니시에 분산하는 경우에는 처리 안료는 건조할 필요가 없고, 여과 케이크를 그대로 바니시에 분산할 수 있다.The above-mentioned salt milling will be described in more detail. First, a small amount of (iii) water-soluble organic solvent is added as a wetting agent to a mixture of (i) an organic pigment and (ii) a water-soluble inorganic salt, and the mixture is strongly kneaded with a kneader or the like, Or the like to obtain a slurry. Subsequently, this slurry is filtered, washed with water, and dried as necessary to obtain a finely divided pigment. In addition, when dispersed and used in an oil-based varnish, it is also possible to disperse the treated pigment (called a filter cake) before drying in a solvent-based varnish while removing water by a method commonly called flashing. In the case of dispersing in the varnish of the water system, the treated pigment does not need to be dried, and the filter cake can be directly dispersed in the varnish.

솔트밀링시에 상기 (ⅳ) 고분자 화합물로서 (ⅲ) 유기용제에 적어도 일부 가용인 수지를 병용함으로써 더욱 미세하고, 표면이 상기 수지에 의해 피복된, 건조시의 안료의 응집이 적은 것이 얻어진다.When (iii) a resin which is at least partially soluble in (iii) an organic solvent is used in combination with the above-mentioned (iv) polymer compound during salt milling, it is obtained that the surface is coated with the resin and the aggregation of the pigment during drying is small.

또한, (ⅳ) 고분자 화합물은 솔트밀링 공정의 초기에 전부를 첨가해도 좋고, 분할해서 첨가해도 좋다. 또한 분산 공정에서 첨가하는 것도 가능하다.Further, (iv) the polymer compound may be added all at the beginning of the salt milling step or may be added in portions. It is also possible to add it in a dispersion process.

안료의 피복에 사용하는 고분자 화합물은 안료에의 흡착성 기를 갖는 것이면 어떤 것이라도 좋다. 특히, 측쇄에 복소환을 갖는 고분자 화합물이 바람직하다. 본 발명에 있어서의 후술하는 (B-1) 바인더 수지도 또한, 안료의 피복에 사용하는 고분자 화합물로서 바람직한 것이다.The polymer compound used for covering the pigment may be any as long as it has an adsorptive group to the pigment. Particularly, a polymer compound having a heterocycle in its side chain is preferable. The binder resin (B-1) described later in the present invention is also preferable as a polymer compound used for coating a pigment.

안료의 피복에 사용할 수 있는 고분자 화합물로서는, 예를 들면 일본 특허공개 2008-83089호 공보의 단락번호 [0029]∼[0030], 일본 특허공개 2009-62457호 공보의 단락번호 [0044]∼[0047]에 개시되어 있는 것을 사용할 수 있다.Examples of polymer compounds that can be used for coating pigments include those described in paragraphs [0029] to [0030] of JP-A No. 2008-83089 and paragraphs [0044] to [0044] of JP-A No. 2009-62457 ] Can be used.

상기한 피복 처리한 안료를 사용하는 경우에도 분산제의 적어도 1종을 사용해서 안료를 분산하고, 안료 분산 조성물로서 사용하는 것이 더욱 바람직하다. 이 분산제의 함유에 의해 안료의 분산성을 더욱 향상시킬 수 있다.Even when the above-mentioned coated pigment is used, it is more preferable to disperse the pigment using at least one kind of dispersant and use it as a pigment dispersion composition. The dispersibility of the pigment can be further improved by the inclusion of the dispersant.

분산제로서는, 예를 들면 공지의 안료 분산제나 계면활성제를 적당하게 선택해서 사용할 수 있다.As the dispersant, for example, a known pigment dispersant or a surfactant can be suitably selected and used.

구체적으로는, 많은 종류의 화합물을 사용 가능하며, 예를 들면 오르가노실록산 폴리머 KP341[신에쓰 카가쿠 고교(주) 제], (메타)아크릴산계 (공)중합체 폴리플로우 No. 75, No. 90, No. 95[교에이샤 카가쿠 고교(주) 제], W001[유쇼(주)사 제] 등의 양이온계 계면활성제; 폴리옥시에틸렌라우릴에테르, 폴리옥시에틸렌스테아릴에테르, 폴리옥시에틸렌올레일에테르, 폴리옥시에틸렌옥틸페닐에테르, 폴리옥시에틸렌노닐페닐에테르, 폴리에틸렌글리콜디라울레이트, 폴리에틸렌글리콜디스테아레이트, 소르비탄 지방산 에스테르 등의 비이온계 계면활성제; W004, W005, W017[유쇼(주)사 제] 등의 음이온계 계면활성제; EFKA-46, EFKA-47, EFKA-47EA, EFKA 폴리머 100, EFKA 폴리머 400, EFKA 폴리머 401, EFKA 폴리머 450(모두 치바 스페셜티 케미컬사 제), 디스퍼스에이드 6, 디스퍼스에이드 8, 디스퍼스에이드 15, 디스퍼스에이드 9100(모두 산노프코사 제) 등의 고분자 분산제;Specifically, many kinds of compounds can be used, and examples thereof include organosiloxane polymer KP341 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), (meth) acrylic acid-based (co) polymer polyflow No. 75, No. 90, No. 95 cationic surfactant such as [manufactured by Kyoeisha Kagaku Kogyo K.K. and W001 (manufactured by Yuso Co., Ltd.); Polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene stearyl ether, polyoxyethylene oleyl ether, polyoxyethylene octyl phenyl ether, polyoxyethylene nonyl phenyl ether, polyethylene glycol dilaurate, polyethylene glycol distearate, sorbitan fatty acid Nonionic surfactants such as esters; Anionic surfactants such as W004, W005 and W017 (manufactured by Yuso Co., Ltd.); EFKA Polymer 400, EFKA Polymer 401, EFKA Polymer 450 (all manufactured by Ciba Specialty Chemicals), Disperse AID 6, Disperse AID 8, Disperse A 15, EFKA-47, EFKA-47, EFKA-47EA, EFKA Polymer 100, , Disperse Aid 9100 (all available from Sanofco), and the like;

솔스퍼스 3000, 5000, 9000, 12000, 13240, 13940, 17000, 24000, 26000, 28000 등의 각종 솔스퍼스 분산제[니혼 루브리졸(주) 제]; 아데카 플루로닉 L31, F38, L42, L44, L61, L64, F68, L72, P95, F77, P84, F87, P94, L101, P103, F108, L121, P-123[아사히 덴카(주) 제] 및 이소네트 S-20[산요 카세이(주) 제], Disperbyk 101, 103, 106, 108, 109, 111, 112, 116, 130, 140, 142, 161, 162, 163, 164, 166, 167, 170, 171, 174, 176, 180, 182, 2000, 2001, 2050, 2150[빅케미(주)사 제]을 들 수 있다. 기타, 아크릴계 공중합체 등, 분자 말단 또는 측쇄에 극성기를 갖는 올리고머 또는 폴리머를 들 수 있다.(Manufactured by Nippon Lubrizol Corporation) such as Sol Spurs 3000, 5000, 9000, 12000, 13240, 13940, 17000, 24000, 26000 and 28000; (Manufactured by Asahi Denka Kogyo K.K.), and the like were added to the reaction mixture, and the reaction was carried out in the same manner as in Example 1, And Disperbyk 101, 103, 106, 108, 109, 111, 112, 116, 130, 140, 142, 161, 162, 163, 164, 166, 167, 170, 171, 174, 176, 180, 182, 2000, 2001, 2050, 2150 (manufactured by Big Chem Co., Ltd.). And an oligomer or polymer having a polar group at the molecular end or side chain, such as an acrylic copolymer.

분산제의 안료 분산 조성물 중에 있어서의 함유량으로서는, 상술의 안료 질량에 대하여 1∼100질량%가 바람직하고, 3∼70질량%가 보다 바람직하다.The content of the dispersant in the pigment dispersion composition is preferably 1 to 100 mass%, more preferably 3 to 70 mass%, based on the pigment mass.

안료 유도체는 안료의 피복에 사용하는 고분자 화합물의 하나이며, 필요에 따라서 안료 분산 조성물에 첨가된다. 분산제와 친화성이 있는 부분 또는 극성기를 도입한 안료 유도체를 안료 표면에 흡착시키고, 이것을 분산제의 흡착점으로서 사용함으로써 안료를 미세한 입자로 해서 감광성 수지 조성물 중에 분산시키고, 그 재응집을 방지할 수 있어 콘트라스트가 높고, 투명성이 우수한 컬러필터를 구성하는데에 유효하다.The pigment derivative is one of the polymer compounds used for covering the pigment, and is added to the pigment dispersion composition as required. The pigment can be dispersed in the photosensitive resin composition as fine particles by adsorbing the pigment derivative having the affinity with the dispersing agent or the pigment derivative having the affinity with the dispersing agent to the surface of the pigment as the adsorption point of the dispersing agent, This is effective for forming a color filter having high contrast and excellent transparency.

안료 유도체는, 구체적으로는 유기 안료를 모체 골격으로 하고, 측쇄에 산성기나 염기성기, 방향족기를 치환기로서 도입한 화합물이다. 유기 안료로서는, 구체적으로는 퀴나크리돈계 안료, 프탈로시아닌계 안료, 아조계 안료, 퀴노프탈론계 안료, 이소인돌린계 안료, 이소인돌리논계 안료, 퀴놀린 안료, 디케토피롤로피롤 안료, 벤즈이미다졸론 안료 등을 들 수 있다. 일반적으로 색소라고 부르고 있지 않은 나프탈렌계, 안트라퀴논계, 트리아진계, 퀴놀린계 등의 담황색의 방향족 다환 화합물도 상기 유기 안료에 포함된다. 안료 유도체로서는, 예를 들면 일본 특허공개 평 11-49974호 공보, 일본 특허공개 평 11-189732호 공보, 일본 특허공개 평 10-245501호 공보, 일본 특허공개 2006-265528호 공보, 일본 특허공개 평 8-295810호 공보, 일본 특허공개 평 11-199796호 공보, 일본 특허공개 2005-234478호 공보, 일본 특허공개 2003-240938호 공보, 일본 특허공개 2001-356210호 공보 등에 기재되어 있는 것을 사용할 수 있다.Specifically, the pigment derivative is a compound having an organic pigment as a parent skeleton and an acid group, a basic group and an aromatic group as substituents introduced into the side chain. Specific examples of the organic pigments include quinacridone pigments, phthalocyanine pigments, azo pigments, quinophthalone pigments, isoindolin pigments, isoindolinone pigments, quinoline pigments, diketopyrrolopyrrole pigments, benzimidas A zeolite pigment and the like. The organic pigments also include pale yellow aromatic polycyclic compounds such as naphthalene-based, anthraquinone-based, triazine-based, and quinoline-based pigments, which are not generally referred to as pigments. As the pigment derivative, for example, JP-A-11-49974, JP-A-11-189732, JP-A-10-245501, JP-A-2006-265528, JP- 8-295810, 11-199796, 2005-234478, 2003-240938, 2001-356210, and the like can be used. .

안료 유도체의 안료 분산 조성물 중에 있어서의 함유량으로서는, 안료의 질량에 대하여 1질량%∼30질량%가 바람직하고, 3질량%∼20질량%가 보다 바람직하다. 상기 함유량이 상기 범위 내이면 점도를 낮게 억제하면서 분산을 양호하게 행할 수 있음과 아울러 분산 후의 분산 안정성을 향상시킬 수 있고, 투과율이 높고 뛰어난 색특성이 얻어지며, 컬러필터를 제작할 때에는 양호한 색특성을 갖는 고콘트라스트로 구성할 수 있다.The content of the pigment derivative in the pigment dispersion composition is preferably 1% by mass to 30% by mass, and more preferably 3% by mass to 20% by mass, based on the mass of the pigment. When the content is within the above range, dispersion can be satisfactorily performed while suppressing the viscosity to be low, dispersion stability after dispersion can be improved, high transmittance and excellent color characteristics can be obtained, and good color characteristics can be obtained Can be configured with high contrast.

분산의 방법은, 예를 들면 안료와 분산제를 미리 혼합해서 호모지나이저 등으로 미리 분산하여 둔 것을 지르코니아 비드 등을 사용한 비드 분산기 등을 이용하여 미분산시킴으로써 행할 수 있다.The dispersing method can be carried out, for example, by finely dispersing a pigment and a dispersant in advance by mixing them in advance with a homogenizer or the like using a bead dispersing machine using zirconia beads or the like.

본 발명에 있어서 (A) 착색제로서 염료를 사용하는 경우에는 균일하게 용해된 착색 감광성 수지 조성물이 얻어진다.In the present invention, when a dye is used as the (A) coloring agent, a colored photosensitive resin composition that is uniformly dissolved can be obtained.

(A) 착색제로서 사용 가능한 염료로서는 특별히 제한은 없고, 종래 컬러필터 용도로 사용되고 있는 공지의 염료를 사용할 수 있다. 예를 들면, 일본 특허공개 소 64-90403호 공보, 일본 특허공개 소 64-91102호 공보, 일본 특허공개 평 1-94301호 공보, 일본 특허공개 평 6-11614호 공보, 일본 특허등록 2592207호, 미국 특허 제4,808,501호 명세서, 미국 특허 제5,667,920호 명세서, 미국 특허 제5,059,500호 명세서, 일본 특허공개 평 5-333207호 공보, 일본 특허공개 평 6-35183호 공보, 일본 특허공개 평 6-51115호 공보, 일본 특허공개 평 6-194828호 공보, 일본 특허공개 평 8-211599호 공보, 일본 특허공개 평 4-249549호 공보, 일본 특허공개 평 10-123316호 공보, 일본 특허공개 평 11-302283호 공보, 일본 특허공개 평 7-286107호 공보, 일본 특허공개 2001-4823호 공보, 일본 특허공개 평 8-15522호 공보, 일본 특허공개 평 8-29771호 공보, 일본 특허공개 평 8-146215호 공보, 일본 특허공개 평 11-343437호 공보, 일본 특허공개 평 8-62416호 공보, 일본 특허공개 2002-14220호 공보, 일본 특허공개 2002-14221호 공보, 일본 특허공개 2002-14222호 공보, 일본 특허공개 2002-14223호 공보, 일본 특허공개 평 8-302224호 공보, 일본 특허공개 평 8-73758호 공보, 일본 특허공개 평 8-179120호 공보, 일본 특허공개 평 8-151531호 공보 등에 기재된 색소이다.The dyes usable as the (A) coloring agent are not particularly limited, and known dyes conventionally used for color filters can be used. For example, JP-A-64-90403, JP-A-64-91102, JP-A-1-94301, JP-A-6-11614, U.S. Patent No. 4,808,501, U.S. Patent No. 5,667,920, U.S. Patent No. 5,059,500, JP-A-5-333207, JP-A-6-35183, and JP-A-6-51115 , Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 6-194828, 8-211599, 4-249549, 10-123316, and 11-302283 , Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 7-286107, 2001-4823, 8-15522, 8-29771, 8-146215, Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-343437, Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-62416, Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2002-14220, Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2002-14221, Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2002-14222, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2002-14223, Japanese Unexamined Patent Publication No. 8-302224, 8-73758, JP-A-8-179120, JP-A-8-151531, etc.

화학 구조로서는 피라졸아조계, 아닐리노아조계, 트리페닐메탄계, 안트라퀴논계, 안트라피리돈계, 벤질리덴계, 옥소놀계, 피라졸로트리아졸아조계, 피리돈아조계, 시아닌계, 페노티아진계, 피롤로피라졸아조메틴계, 크산텐계, 프탈로시아닌계, 벤조피란계, 인디고계 등의 염료를 사용할 수 있다.Examples of the chemical structure include a pyrazole group, anilino group, triphenylmethane group, anthraquinone group, anthrapyridone group, benzilidene group, oxolin group, pyrazolotriazole group, pyridazo group, cyanine group, phenothiazine group, Dyes such as pyrazolomethane, xanthane, phthalocyanine, benzopyran, indigo and the like can be used.

<(B-1) 일반식(Ⅰ)으로 나타내어지고, 분자 내에 산성기를 갖는 바인더 수지>&Lt; (B-1) Binder resin represented by the general formula (I) and having an acidic group in the molecule &

본 발명에 사용하는 (B-1) 바인더 수지는 하기 일반식(Ⅰ)으로 나타내어지고, 분자 내에 산성기를 갖는 고분자 화합물이다.The binder resin (B-1) used in the present invention is a polymer compound represented by the following general formula (I) and having an acidic group in the molecule.

본 발명에 의한 (B-1) 바인더 수지는 분자 내에 적어도 1종의 산성기를 갖는다. 산성기는 하기 일반식(Ⅰ)에 있어서의 치환기 A2에 포함되어도 좋고, 또한 P2로 나타내어지는 고분자 골격 중에 포함되어도 좋지만, 효과의 관점으로부터는 P2로 나타내어지는 고분자 골격 중에 포함되는 것이 바람직하고, A2와 P2의 쌍방에 산성기가 포함되는 것이 보다 바람직하다.The binder resin (B-1) according to the present invention has at least one acidic group in the molecule. The acid group may be contained in the substituent A 2 in the general formula (I) and may be contained in the polymer skeleton represented by P 2 , but from the viewpoint of the effect, the acid group is preferably contained in the polymer skeleton represented by P 2 , And it is more preferable that both of A 2 and P 2 contain an acidic group.

Figure 112011028945611-pat00004
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상기 일반식(Ⅰ) 중, R3은 (m+n)가의 유기 연결기를 나타내고, R4 및 R5는 각각 독립적으로 단결합 또는 2가의 유기 연결기를 나타낸다. A2는 유기 색소 구조, 복소환 구조, 산성기, 염기성 질소원자를 갖는 기, 우레아기, 우레탄기, 배위성 산소원자를 갖는 기, 탄소수 4 이상의 탄화수소기, 알콕시실릴기, 에폭시기, 이소시아네이트기, 및 수산기로부터 선택되는 부분 구조를 적어도 1종 포함하는 1가의 유기기를 나타낸다. n개의 A2, R4는 동일하여도 좋고 달라도 좋다. m은 1∼8, n은 2∼9를 나타내고, m+n은 3∼10을 충족시킨다. P2는 고분자 골격을 나타낸다. m개의 P2, R5는 동일하여도 좋고 달라도 좋다.In the general formula (I), R 3 represents an organic linking group of (m + n), and R 4 and R 5 each independently represent a single bond or a divalent organic linking group. A 2 represents an organic dye structure, a heterocyclic structure, an acidic group, a group having a basic nitrogen atom, a urea group, a urethane group, a group having a saturated oxygen atom, a hydrocarbon group having 4 or more carbon atoms, an alkoxysilyl group, And a monovalent organic group containing at least one partial structure selected from a hydroxyl group. n A 2 and R 4 may be the same or different. m represents 1 to 8, n represents 2 to 9, and m + n satisfies 3 to 10. P 2 represents a polymer skeleton. m P 2 and R 5 may be the same or different.

상기 일반식(Ⅰ)에 있어서 A2는 유기 색소 구조, 복소환 구조, 산성기, 염기성 질소원자를 갖는 기, 우레아기, 우레탄기, 배위성 산소원자를 갖는 기, 탄소수 4 이상의 탄화수소기, 알콕시실릴기, 에폭시기, 이소시아네이트기, 및 수산기로부터 선택되는 부분 구조를 적어도 1종 포함하는 1가의 유기기를 나타낸다. n개의 A2는 동일하여도 좋고 달라도 좋다.A 2 in the general formula (I) represents an organic dye structure, a heterocyclic structure, an acidic group, a group having a basic nitrogen atom, a urea group, a urethane group, a group having a saturated oxygen atom, a hydrocarbon group having 4 or more carbon atoms, A silyl group, an epoxy group, an isocyanate group, and a hydroxyl group. n A 2 may be the same or different.

즉, 상기 A2는 유기 색소 구조, 복소환 구조와 같은 안료에 대한 흡착능을 갖는 구조나, 산성기, 염기성 질소원자를 갖는 기, 우레아기, 우레탄기, 배위성 산소원자를 갖는 기, 탄소수 4 이상의 탄화수소기, 알콕시실릴기, 에폭시기, 이소시아네이트기, 및 수산기와 같이 안료에 대한 흡착능을 갖는 관능기를 적어도 1종 포함하는 1가의 유기기를 나타낸다.That is, A 2 is a structure having an adsorptive ability to a pigment such as an organic dye structure or a heterocyclic structure, a group having an acidic group, a basic nitrogen atom, a urea group, a urethane group, a group having a saturated oxygen atom, Represents a monovalent organic group containing at least one functional group capable of adsorbing to a pigment such as a hydrocarbon group, an alkoxysilyl group, an epoxy group, an isocyanate group, and a hydroxyl group.

또한, 이하에 이 안료에 대한 흡착능을 갖는 부분 구조(상기 구조 및 관능기)를, 적당하게 「흡착 부위」라고 총칭하여 설명한다.Hereinafter, the partial structure (structure and functional group) having adsorptivity to this pigment will be collectively referred to as &quot; adsorption site &quot;

상기 흡착 부위는 1개의 A2 중에 적어도 1종 포함되어 있으면 좋고, 2종 이상을 포함하고 있어도 좋다.The adsorption site may contain at least one of A 2 , and may include two or more species.

또한, 본 발명에 있어서 「흡착 부위를 적어도 1종 포함하는 1가의 유기기」는, 상술의 흡착 부위와, 1∼200개의 탄소원자, 0개∼20개의 질소원자, 0개∼100개의 산소원자, 1개∼400개의 수소원자, 및 0개∼40개의 유황원자로 성립되는 유기 연결기가 결합해서 되는 1가의 유기기이면 좋다. 또한, 흡착 부위 자체가 1가의 유기기를 구성할 수 있을 경우에는 흡착 부위 바로 그것이 A2로 나타내어지는 1가의 유기기라도 좋다.In the present invention, the "monovalent organic group containing at least one adsorption site" is a monovalent organic group containing at least one selected from the group consisting of 1 to 200 carbon atoms, 0 to 20 nitrogen atoms, 0 to 100 oxygen atoms , 1 to 400 hydrogen atoms, and 0 to 40 sulfur atom-forming organic linking groups. In addition, when the adsorption site itself can constitute a monovalent organic group, it may be a monovalent organic group in which the adsorption site is represented by A 2 .

우선, 상기 A2를 구성하는 흡착 부위에 대해서 이하에 설명한다.First, the adsorption sites constituting A 2 will be described below.

상기 「유기 색소 구조」로서는, 예를 들면 프탈로시아닌계, 불용성 아조계, 아조레이크계, 안트라퀴논계, 퀴나크리돈계, 디옥사진계, 디케토피롤로피롤계, 안트라피리딘계, 안스안트론계, 인단트론계, 플라반트론계, 페리논계, 페릴렌계, 티오인디고계의 색소 구조가 바람직한 예로서 들 수 있고, 프탈로시아닌계, 아조레이크계, 안트라퀴논계, 디옥사진계, 디케토피롤로피롤계의 색소 구조가 보다 바람직하며, 프탈로시아닌계, 안트라퀴논계, 디케토피롤로피롤계의 색소 구조가 특히 바람직하다.Examples of the organic pigment structure include phthalocyanine, insoluble azo, azo lake, anthraquinone, quinacridone, dioxazine, diketopyrrolopyrrole, anthrapyridine, anthanthrone, indanthrone, Preferred examples of the dye structure of the phthalocyanine-based, azo lake-based, anthraquinone-based, dioxazine-based, and diketopyrrolopyrrole-based pigments are And a dye structure of phthalocyanine type, anthraquinone type, and diketopyrrolopyrrole type is particularly preferable.

또한, 상기 「복소환 구조」로서는, 예를 들면 티오펜, 푸란, 크산텐, 피롤, 피롤린, 피롤리딘, 디옥소란, 피라졸, 피라졸린, 피라졸리딘, 이미다졸, 옥사졸, 티아졸, 옥사디아졸, 트리아졸, 티아디아졸, 피란, 피리딘, 피페리딘, 디옥산, 모르폴린, 피리다진, 피리미딘, 피페라진, 트리아진, 트리티안, 이소인돌린, 이소인돌리논, 벤즈이마다졸론, 벤조티아졸, 숙신이미드, 프탈이미드, 나프탈이미드, 히단토인, 인돌, 퀴놀린, 카르바졸, 아크리딘, 아크리돈, 안트라퀴논이 바람직한 예 로서 들 수 있고, 피롤린, 피롤리딘, 피라졸, 피라졸린, 피라졸리딘, 이미다졸, 트리아졸, 피리딘, 피페리딘, 모르폴린, 피리다진, 피리미딘, 피페라진, 트리아진, 이소인돌린, 이소인돌리논, 벤즈이마다졸론, 벤조티아졸, 숙신이미드, 프탈이미드, 나프탈이미드, 히단토인, 카르바졸, 아크리딘, 아크리돈, 안트라퀴논이 보다 바람직하다.Examples of the "heterocyclic structure" include thiophene, furan, xanthene, pyrrole, pyrroline, pyrrolidine, dioxolane, pyrazole, pyrazoline, pyrazolidine, imidazole, Wherein the heterocyclic ring is selected from the group consisting of thiazole, oxadiazole, triazole, thiadiazole, pyran, pyridine, piperidine, dioxane, morpholine, pyridazine, pyrimidine, piperazine, triazine, Preferable examples include pyridine, benzimidazolone, benzothiazole, succinimide, phthalimide, naphthalimide, hydantoin, indole, quinoline, carbazole, acridine, acridone and anthraquinone , Pyrrole, pyrrolidine, pyrrolidine, pyrazole, pyrazoline, pyrazolidine, imidazole, triazole, pyridine, piperidine, morpholine, pyridazine, pyrimidine, piperazine, triazine, isoindoline, Indolinone, benzimadazolone, benzothiazole, succinimide, phthalimide, naphthalimide, hydantoin, Sol, acridine, acridine money, anthraquinone is more preferable.

또한, 상기 「유기 색소 구조」 또는 「복소환 구조」는 치환기를 더 갖고 있어도 좋고, 상기 치환기로서는, 예를 들면 메틸기, 에틸기 등의 탄소수 1∼20의 알킬기, 페닐기, 나프틸기 등의 탄소수 6∼16의 아릴기, 수산기, 아미노기, 카르복시기, 술폰아미드기, N-술포닐아미드기, 아세톡시기 등의 탄소수 1∼6의 아실옥시기, 메톡시기, 에톡시기 등의 탄소수 1∼20의 알콕시기, 염소, 브롬 등의 할로겐 원자, 메톡시카르보닐기, 에톡시카르보닐기, 시클로헥실옥시카르보닐기 등의 탄소수 2∼7의 알콕시카르보닐기, 시아노기, t-부틸카보네이트 등의 탄산 에스테르기 등을 들 수 있다. 여기에서, 이들 치환기는 하기의 구조단위 또는 상기 구조단위가 조합되어서 구성되는 연결기를 통해서 유기 색소 구조 또는 복소환과 결합되어 있어도 좋다.The above "organic dye structure" or "heterocyclic structure" may further have a substituent. Examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms such as a methyl group and an ethyl group, a phenyl group, a naphthyl group, An alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms such as a methoxy group and an ethoxy group, such as a methoxy group, an ethoxy group and the like, an aryloxy group having 1 to 16 carbon atoms, a hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group, a sulfonamide group, an N-sulfonylamide group, , Halogen atoms such as chlorine and bromine, carbonic ester groups such as an alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms such as a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group and a cyclohexyloxycarbonyl group, a cyano group and t-butylcarbonate. Here, these substituents may be bonded to an organic pigment structure or a heterocyclic ring through a linking group composed of the following structural units or a combination of the structural units.

Figure 112011028945611-pat00005
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상기 「산성기」로서는, 예를 들면 카르복실산기, 술폰산기, 모노황산 에스테르기, 인산기, 모노인산 에스테르기, 붕산기가 바람직한 예로서 들 수 있고, 카르복실산기, 술폰산기, 모노황산 에스테르기, 인산기, 모노인산 에스테르기가 보다 바람직하며, 카르복실산기, 술폰산기, 인산기가 특히 바람직하다.Preferable examples of the "acidic group" include a carboxylic acid group, a sulfonic acid group, a mono sulfuric acid ester group, a phosphoric acid group, a monophosphoric acid ester group and a boric acid group, A phosphoric acid group and a monophosphate ester group are more preferable, and a carboxylic acid group, a sulfonic acid group and a phosphoric acid group are particularly preferable.

또한, 상기 「염기성 질소원자를 갖는 기」로서는, 예를 들면 아미노기(-NH2), 치환 아미노기(-NHR8, -NR9R10, 여기에서, R8, R9, 및 R10은 각각 독립적으로 탄소수 1∼20의 알킬기, 탄소수 6 이상의 아릴기, 탄소수 7 이상의 아랄킬기를 나타낸다.), 하기 식(a1)으로 나타내어지는 구아니딜기, 하기 식(a2)으로 나타내어지는 아미디닐기 등이 바람직한 예로서 들 수 있다.Examples of the "group having a basic nitrogen atom" include an amino group (-NH 2 ), a substituted amino group (-NHR 8 , -NR 9 R 10 , wherein R 8 , R 9 , and R 10 are A guanidyl group represented by the following formula (a1), an amidinyl group represented by the following formula (a2), or the like, As a preferable example.

Figure 112011028945611-pat00006
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식(a1) 중, R11 및 R12는 각각 독립적으로 탄소수 1∼20의 알킬기, 탄소수 6 이상의 아릴기, 탄소수 7 이상의 아랄킬기를 나타낸다.In formula (a1), R 11 and R 12 each independently represent an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 or more carbon atoms, or an aralkyl group having 7 or more carbon atoms.

식(a2) 중, R13 및 R14는 각각 독립적으로 탄소수 1∼20의 알킬기, 탄소수 6 이상의 아릴기, 탄소수 7 이상의 아랄킬기를 나타낸다.In formula (a2), R 13 and R 14 each independently represent an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 or more carbon atoms, or an aralkyl group having 7 or more carbon atoms.

이들 중에서도 아미노기(-NH2), 치환 아미노기(-NHR8, -NR9R10, 여기에서 R8, R9, 및 R10은 각각 독립적으로 탄소수 1∼10의 알킬기, 페닐기, 벤질기를 나타낸다.), 상기 식(a1)으로 나타내어지는 구아니딜기[식(a1) 중, R11 및 R12는 각각 독립적으로 탄소수 1∼10의 알킬기, 페닐기, 벤질기를 나타낸다.], 상기 식(a2)으로 나타내어지는 아미디닐기[식(a2) 중, R13 및 R14는 각각 독립적으로 탄소수 1∼10의 알킬기, 페닐기, 벤질기를 나타낸다.] 등이 보다 바람직하다.Among them, an amino group (-NH 2 ), a substituted amino group (-NHR 8 , -NR 9 R 10 , wherein R 8 , R 9 and R 10 each independently represent an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a phenyl group or a benzyl group. (Wherein R 11 and R 12 each independently represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a phenyl group or a benzyl group), the formula (a1) It indicated that an amidinyl group [in the formula (a2), R 13 and R 14 each independently represents an alkyl group, a phenyl group, a benzyl group of 1 to 10 carbon atoms.] and so this is more preferable.

특히, 아미노기(-NH2), 치환 아미노기(-NHR8, -NR9R10, 여기에서 R8, R9, 및 R10은 각각 독립적으로 탄소수 1∼5의 알킬기, 페닐기, 벤질기를 나타낸다.), 상기 식(a1)으로 나타내어지는 구아니딜기[식(a1) 중, R11 및 R12는 각각 독립적으로 탄소수 1∼5의 알킬기, 페닐기, 벤질기를 나타낸다.], 상기 식(a2)으로 나타내어지는 아미디닐기[식(a2) 중, R13 및 R14는 각각 독립적으로 탄소수 1∼5의 알킬기, 페닐기, 벤질기를 나타낸다.] 등이 바람직하게 사용된다.Particularly, an amino group (-NH 2 ), a substituted amino group (-NHR 8 , -NR 9 R 10 , wherein R 8 , R 9 , and R 10 each independently represent an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a phenyl group or a benzyl group. (Wherein R 11 and R 12 each independently represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a phenyl group, or a benzyl group), a compound represented by the formula (a1) (In the formula (a2), R 13 and R 14 each independently represent an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a phenyl group or a benzyl group], and the like are preferably used.

상기 「우레아기」로서는, 예를 들면 -NR15CONR16R17(여기에서 R15, R16, 및 R17은 각각 독립적으로 수소원자 또는 탄소수 1∼20의 알킬기, 탄소수 6 이상의 아릴기, 탄소수 7 이상의 아랄킬기를 나타낸다.)이 바람직한 예로서 들 수 있고, -NR15CONHR17(여기에서 R15 및 R17은 각각 독립적으로 수소원자 또는 탄소수 1∼10의 알킬기, 탄소수 6 이상의 아릴기, 탄소수 7 이상의 아랄킬기를 나타낸다.)이 보다 바람직하며, -NHCONHR17(여기에서 R17은 수소원자 또는 탄소수 1∼10의 알킬기, 탄소수 6 이상의 아릴기, 탄소수 7 이상의 아랄킬기를 나타낸다.)이 특히 바람직하다.Examples of the "urea" include -NR 15 CONR 16 R 17 wherein R 15 , R 16 and R 17 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 or more carbon atoms, -NR 15 CONHR 17 wherein R 15 and R 17 are each independently a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 or more carbon atoms, a carbon number And more preferably -NHCONHR 17 (wherein R 17 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 or more carbon atoms, or an aralkyl group having 7 or more carbon atoms), particularly preferably an aralkyl group having 7 or more carbon atoms Do.

상기 「우레탄기」로서는, 예를 들면 -NHCOOR18, -NR19COOR20, -OCONHR21, -OCONR22R23(여기에서 R18, R19, R20, R21, R22 및 R23은 각각 독립적으로 탄소수 1∼20의 알킬기, 탄소수 6 이상의 아릴기, 탄소수 7 이상의 아랄킬기를 나타낸다.) 등이 바람직한 예로서 들 수 있고, -NHCOOR18, -OCONHR21(여기에서 R18, R21은 각각 독립적으로 탄소수 1∼20의 알킬기, 탄소수 6 이상의 아릴기, 탄소수 7 이상의 아랄킬기를 나타낸다.) 등이 보다 바람직하며, -NHCOOR18, -OCONHR21(여기에서 R18, R21은 각각 독립적으로 탄소수 1∼10의 알킬기, 탄소수 6 이상의 아릴기, 탄소수 7 이상의 아랄킬기를 나타낸다.) 등이 특히 바람직하다.Examples of the "urethane group", for example, -NHCOOR 18, -NR 19 COOR 20, -OCONHR 21, -OCONR 22 R 23 ( where R 18, R 19, R 20 , R 21, R 22 and R 23 is Each independently represent an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 or more carbon atoms, or an aralkyl group having 7 or more carbon atoms), and the like are exemplified, and -NHCOOR 18 , -OCONHR 21 (wherein R 18 and R 21 are An aryl group having 6 or more carbon atoms, or an aralkyl group having 7 or more carbon atoms), and more preferably -NHCOOR 18 , -OCONHR 21 (wherein R 18 and R 21 each independently represent an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, An alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 or more carbon atoms, or an aralkyl group having 7 or more carbon atoms).

상기 「배위성 산소원자를 갖는 기」로서는, 예를 들면 아세틸아세토네이트기, 크라운에테르 등을 들 수 있다.Examples of the "group having a radial oxygen atom" include an acetylacetonate group and a crown ether.

상기 「탄소수 4 이상의 탄화수소기」로서는, 탄소수 4 이상의 알킬기, 탄소수 6 이상의 아릴기, 탄소수 7 이상의 아랄킬기 등이 바람직한 예로서 들 수 있고, 탄소수 4∼20의 알킬기, 탄소수 6∼20의 아릴기, 탄소수 7∼20의 아랄킬기 등이 보다 바람직하며, 탄소수 4∼15의 알킬기(예를 들면 옥틸기, 도데실기 등), 탄소수 6∼15의 아릴기(예를 들면 페닐기, 나프틸기 등), 탄소수 7∼15의 아랄킬기(예를 들면 벤질기 등) 등이 특히 바람직하다.Examples of the "hydrocarbon group having 4 or more carbon atoms" include an alkyl group having 4 or more carbon atoms, an aryl group having 6 or more carbon atoms, an aralkyl group having 7 or more carbon atoms, an aralkyl group having 7 or more carbon atoms, More preferably an alkyl group having from 4 to 15 carbon atoms (e.g., an octyl group or a dodecyl group), an aryl group having from 6 to 15 carbon atoms (e.g., a phenyl group or a naphthyl group) An aralkyl group having 7 to 15 carbon atoms (e.g., benzyl group) and the like are particularly preferable.

상기 「알콕시실릴기」로서는, 예를 들면 트리메톡시실릴기, 트리에톡시실릴기 등을 들 수 있다.Examples of the "alkoxysilyl group" include a trimethoxysilyl group, a triethoxysilyl group, and the like.

상기 흡착 부위가 유기 연결기와 결합할 경우의 유기 연결기로서는, 1개∼100개의 탄소원자, 0개∼10개의 질소원자, 0개∼50개의 산소원자, 1개∼200개의 수소원자, 및 0개∼20개의 유황원자로부터 성립되는 유기 연결기가 바람직하고, 이 유기 연결기는 무치환이어도 치환기를 더 갖고 있어도 좋다.The organic linking group when the adsorption site binds to the organic linking group includes 1 to 100 carbon atoms, 0 to 10 nitrogen atoms, 0 to 50 oxygen atoms, 1 to 200 hydrogen atoms, and 0 An organic linking group formed from up to 20 sulfur atoms is preferable, and the organic linking group may be unsubstituted or may further have a substituent.

이 유기 연결기의 구체적인 예로서, 하기의 구조단위 또는 상기 구조단위가 조합되어 구성되는 기를 들 수 있다.Specific examples of the organic linking group include the following structural units or groups in which the structural units are combined.

Figure 112011028945611-pat00007
Figure 112011028945611-pat00007

상기 유기 연결기가 치환기를 가질 경우, 상기 치환기로서는 예를 들면 메틸기, 에틸기 등의 탄소수 1∼20의 알킬기, 페닐기, 나프틸기 등의 탄소수 6∼16의 아릴기, 수산기, 아미노기, 카르복시기, 술폰아미드기, N-술포닐아미드기, 아세톡시기 등의 탄소수 1∼6의 아실옥시기, 메톡시기, 에톡시기 등의 탄소수 1∼6의 알콕시기, 염소, 브롬 등의 할로겐 원자, 메톡시카르보닐기, 에톡시카르보닐기, 시클로헥실옥시카르보닐기 등의 탄소수 2∼7의 알콕시카르보닐기, 시아노기, t-부틸카보네이트 등의 탄산 에스테르기 등을 들 수 있다.When the organic linking group has a substituent, examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms such as methyl and ethyl, an aryl group having 6 to 16 carbon atoms such as a phenyl group and a naphthyl group, a hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group, , An N-sulfonylamide group and an acetoxy group; an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms such as a methoxy group and an ethoxy group; a halogen atom such as chlorine or bromine; a methoxycarbonyl group; Alkoxycarbonyl groups having 2 to 7 carbon atoms such as a methoxycarbonyl group and a cyclohexyloxycarbonyl group, carbonic ester groups such as cyano group and t-butylcarbonate, and the like.

상기 중에서는, 상기 A2로서는 유기 색소 구조, 복소환 구조, 산성기, 염기성 질소원자를 갖는 기, 우레아기, 및 탄소수 4 이상의 탄화수소기로부터 선택되는 부위를 적어도 1종 포함하는 1가의 유기기인 것이 바람직하다.Among them, A 2 is a monovalent organic group containing at least one site selected from an organic dye structure, a heterocyclic structure, an acidic group, a group having a basic nitrogen atom, a urea group, and a hydrocarbon group having 4 or more carbon atoms desirable.

상기 A2로서는 하기 일반식(4)으로 나타내어지는 1가의 유기기인 것이 보다 바람직하다.The A 2 is more preferably a monovalent organic group represented by the following general formula (4).

Figure 112011028945611-pat00008
Figure 112011028945611-pat00008

상기 일반식(4) 중, B1은 상기 흡착 부위(즉 유기 색소 구조, 복소환 구조, 산성기, 염기성 질소원자를 갖는 기, 우레아기, 우레탄기, 배위성 산소원자를 갖는 기, 탄소수 4 이상의 탄화수소기, 알콕시실릴기, 에폭시기, 이소시아네이트기, 및 수산기로부터 선택되는 부위)를 나타내고, R24는 단결합 또는 (a+1)가의 유기 연결기를 나타낸다. a는 1∼10의 정수를 나타내고, a개의 B1은 동일하여도 좋고 달라도 좋다.In the general formula (4), B 1 represents an oxygen atom, an oxygen atom, an oxygen atom, an oxygen atom, an oxygen atom, an oxygen atom, an oxygen atom, And R &lt; 24 &gt; represents a single bond or an organic linking group of (a + 1) valency. a represents an integer of 1 to 10, a B 1 may be the same or different.

상기 B1로 나타내어지는 흡착 부위로서는 상술의 일반식(1)의 A2를 구성하는 흡착 부위와 같은 것을 들 수 있고, 바람직한 예도 같다.The adsorption site represented by B 1 may be the same as the adsorption site constituting A 2 in the above-mentioned general formula (1), and preferable examples are also the same.

그 중에서도 유기 색소 구조, 복소환 구조, 산성기, 염기성 질소원자를 갖는 기, 우레아기, 및 탄소수 4 이상의 탄화수소기로부터 선택되는 부위가 바람직하다.Among them, a moiety selected from an organic dye structure, a heterocyclic structure, an acidic group, a group having a basic nitrogen atom, urea, and a hydrocarbon group having 4 or more carbon atoms is preferable.

R24는 단결합 또는 (a+1)가의 유기 연결기를 나타내고, a는 1∼10을 나타낸다. 바람직하게는 a는 1∼7이며, 보다 바람직하게는 a는 1∼5이며, 특히 바람직하게는 a는 1∼3이다.R 24 represents a single bond or (a + 1) -valent organic linking group, and a represents 1 to 10. Preferably, a is 1 to 7, more preferably a is 1 to 5, and particularly preferably a is 1 to 3.

(a+1)가의 유기 연결기로서는 1개∼100개의 탄소원자, 0개∼10개의 질소원자, 0개∼50개의 산소원자, 1개∼200개의 수소원자, 및 0개∼20개의 유황원자로부터 성립되는 기를 들 수 있고, 무치환이어도 치환기를 더 갖고 있어도 좋다.(a + 1) -valent organic linking groups may be selected from 1 to 100 carbon atoms, 0 to 10 nitrogen atoms, 0 to 50 oxygen atoms, 1 to 200 hydrogen atoms, and 0 to 20 sulfur atoms Or a group to be formed, and may be unsubstituted or may further have a substituent.

상기 (a+1)가의 유기 연결기로서는, 구체적인 예로서 하기의 구조단위 또는 상기 구조단위가 조합되어서 구성되는 기(환 구조를 형성하고 있어도 좋다)를 들 수 있다.Specific examples of the (a + 1) -valent organic linking group include the following structural units, or groups formed by combining the structural units (which may form a ring structure).

Figure 112011028945611-pat00009
Figure 112011028945611-pat00009

R24로서는 단결합, 또는 1개∼50개의 탄소원자, 0개∼8개의 질소원자, 0개∼25개의 산소원자, 1개∼100개의 수소원자, 및 0개∼10개의 유황원자로부터 성립되는 (a+1)가의 유기 연결기가 바람직하고, 단결합, 또는 1개∼30개의 탄소원자, 0개∼6개의 질소원자, 0개∼15개의 산소원자, 1개∼50개의 수소원자, 및 0개∼7개의 유황원자로부터 성립되는 (a+1)가의 유기 연결기가 보다 바람직하며, 단결합, 또는 1개∼10개의 탄소원자, 0개∼5개의 질소원자, 0개∼10개의 산소원자, 1개∼30개의 수소원자, 및 0개∼5개의 유황원자로부터 성립되는 (a+1)가의 유기 연결기가 특히 바람직하다.R 24 is a single bond or a monovalent organic group consisting of 1 to 50 carbon atoms, 0 to 8 nitrogen atoms, 0 to 25 oxygen atoms, 1 to 100 hydrogen atoms, and 0 to 10 sulfur atoms (a + 1), and is preferably a single bond, or a single bond, or a single bond, or a single bond, or an alkylene group having 1 to 30 carbon atoms, 0 to 6 nitrogen atoms, 0 to 15 oxygen atoms, 1 to 50 hydrogen atoms, More preferably 1 to 10 carbon atoms, 0 to 5 nitrogen atoms, 0 to 10 oxygen atoms, 1 to 5 carbon atoms, (A + 1) -valent organic linking group formed from 1 to 30 hydrogen atoms and 0 to 5 sulfur atoms is particularly preferable.

상기 중, (a+1)가의 유기 연결기가 치환기를 가질 경우, 상기 치환기로서는 예를 들면, 메틸기, 에틸기 등의 탄소수 1∼20의 알킬기, 페닐기, 나프틸기 등의 탄소수 6∼16의 아릴기, 수산기, 아미노기, 카르복시기, 술폰아미드기, N-술포닐아미드기, 아세톡시기 등의 탄소수 1∼6의 아실옥시기, 메톡시기, 에톡시기 등의 탄소수 1∼6의 알콕시기, 염소, 브롬 등의 할로겐 원자, 메톡시카르보닐기, 에톡시카르보닐기, 시클로헥실옥시카르보닐기 등의 탄소수 2∼7의 알콕시카르보닐기, 시아노기, t-부틸카보네이트 등의 탄산 에스테르기 등을 들 수 있다.When the (a + 1) -valent organic linking group has a substituent, examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms such as a methyl group and an ethyl group, an aryl group having 6 to 16 carbon atoms such as a phenyl group and a naphthyl group, An alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms such as a methoxy group and an ethoxy group, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms such as an amino group, a carboxyl group, a sulfonamide group, an N-sulfonylamide group and an acetoxy group, An alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms such as a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group and a cyclohexyloxycarbonyl group, a carbonic ester group such as a cyano group and t-butylcarbonate, and the like.

상기 일반식(Ⅰ)에 있어서, R4, R5는 각각 독립적으로 단결합 또는 2가의 유기 연결기를 나타낸다. n개의 R4는 동일하여도 좋고 달라도 좋다. 또한, m개의 R5는 동일하여도 좋고 달라도 좋다.In the general formula (I), R 4 and R 5 each independently represent a single bond or a divalent organic linking group. n R 4 may be the same or different. In addition, m is different or different R 5 may be the same.

2가의 유기 연결기로서는 1개∼100개의 탄소원자, 0개∼10개의 질소원자, 0개∼50개의 산소원자, 1개∼200개의 수소원자, 및 0개∼20개의 유황원자로부터 성립되는 기를 들 수 있고, 무치환이어도 치환기를 더 갖고 있어도 된다.Examples of the divalent organic linking group include a group formed from 1 to 100 carbon atoms, 0 to 10 nitrogen atoms, 0 to 50 oxygen atoms, 1 to 200 hydrogen atoms, and 0 to 20 sulfur atoms And may be unsubstituted or may further have a substituent.

상기 2가의 유기 연결기의 구체적인 예로서는, 하기의 구조단위 또는 상기 구조단위가 조합되어서 구성되는 기를 들 수 있다.Specific examples of the divalent organic linking group include groups in which the following structural units or the structural units are combined.

Figure 112011028945611-pat00010
Figure 112011028945611-pat00010

R4, R5로서는, 단결합, 또는 1개∼50개의 탄소원자, 0개∼8개의 질소원자, 0개∼25개의 산소원자, 1개∼100개의 수소원자, 및 0개∼10개의 유황원자로부터 성립되는 2가의 유기 연결기가 바람직하고, 단결합, 또는 1개∼30개의 탄소원자, 0개∼6개의 질소원자, 0개∼15개의 산소원자, 1개∼50개의 수소원자, 및 0개∼7개의 유황원자로부터 성립되는 2가의 유기 연결기가 보다 바람직하며, 단결합, 또는 1개∼10개의 탄소원자, 0개∼5개의 질소원자, 0개∼10개의 산소원자, 1개∼30개의 수소원자, 및 0개∼5개의 유황원자로부터 성립되는 2가의 유기 연결기가 특히 바람직하다.R 4 and R 5 are each a single bond or a single bond or an alkylene group having 1 to 50 carbon atoms, 0 to 8 nitrogen atoms, 0 to 25 oxygen atoms, 1 to 100 hydrogen atoms, and 0 to 10 sulfur atoms A divalent organic linking group formed from an atom is preferable and a single bond or a divalent organic linking group consisting of 1 to 30 carbon atoms, 0 to 6 nitrogen atoms, 0 to 15 oxygen atoms, 1 to 50 hydrogen atoms, and 0 More preferably 1 to 10 carbon atoms, 0 to 5 nitrogen atoms, 0 to 10 oxygen atoms, 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 10 carbon atoms, And most preferably a divalent organic connecting group formed from 0 to 5 sulfur atoms.

상기 중, 2가의 유기 연결기가 치환기를 가질 경우, 상기 치환기로서는 예를 들면, 메틸기, 에틸기 등의 탄소수 1∼20의 알킬기, 페닐기, 나프틸기 등의 탄소수 6∼16의 아릴기, 수산기, 아미노기, 카르복시기, 술폰아미드기, N-술포닐아미드기, 아세톡시기 등의 탄소수 1∼6의 아실옥시기, 메톡시기, 에톡시기 등의 탄소수 1∼6의 알콕시기, 염소, 브롬 등의 할로겐 원자, 메톡시카르보닐기, 에톡시카르보닐기, 시클로헥실옥시카르보닐기 등의 탄소수 2∼7의 알콕시카르보닐기, 시아노기, t-부틸카보네이트 등의 탄산 에스테르기 등을 들 수 있다.When the divalent organic connecting group has a substituent, examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms such as a methyl group and an ethyl group, an aryl group having 6 to 16 carbon atoms such as a phenyl group and a naphthyl group, An alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms such as a methoxy group and an ethoxy group, a halogen atom such as chlorine or bromine, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms such as a methoxy group or an ethoxy group, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms such as a carboxy group, An alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms such as a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group and a cyclohexyloxycarbonyl group, a carbonic ester group such as a cyano group and t-butylcarbonate, and the like.

상기 일반식(Ⅰ)에 있어서 R3은 (m+n)가의 유기 연결기를 나타낸다. m+n은 3∼10을 충족시킨다.In the general formula (I), R 3 represents (m + n) an organic linking group. m + n satisfies 3 to 10.

상기 R3으로 나타내어지는 (m+n)가의 유기 연결기로서는, 1개∼60개의 탄소원자, 0개∼10개의 질소원자, 0개∼50개의 산소원자, 1개∼100개의 수소원자, 및 0개∼20개의 유황원자로부터 성립되는 기를 들 수 있고, 무치환이어도 치환기를 더 갖고 있어도 된다.The (m + n) organic linking group represented by R 3 includes 1 to 60 carbon atoms, 0 to 10 nitrogen atoms, 0 to 50 oxygen atoms, 1 to 100 hydrogen atoms, and 0 Or a group formed from two to twenty sulfur atoms, and may be unsubstituted or may further have a substituent.

상기 (m+n)가의 유기 연결기의 구체적인 예로서는, 하기의 구조단위 또는 상기 구조단위가 조합되어 구성되는 기(환 구조를 형성하고 있어도 됨)를 들 수 있다.Specific examples of the (m + n) -valent organic linking group include the following structural units or groups in which the structural units are combined (may form a ring structure).

Figure 112011028945611-pat00011
Figure 112011028945611-pat00011

(m+n)가의 유기 연결기로서는 1개∼60개의 탄소원자, 0개∼10개의 질소원자, 0개∼40개의 산소원자, 1개∼120개의 수소원자, 및 0개∼10개의 유황원자로부터 성립되는 기가 바람직하고, 1개∼50개의 탄소원자, 0개∼10개의 질소원자, 0개∼30개의 산소원자, 1개∼100개의 수소원자, 및 0개∼7개의 유황원자로부터 성립되는 기가 보다 바람직하며, 1개∼40개의 탄소원자, 0개∼8개의 질소원자, 0개∼20개의 산소원자, 1개∼80개의 수소원자, 및 0개∼5개의 유황원자로부터 성립되는 기가 특히 바람직하다.(m + n) is an organic linking group having from 1 to 60 carbon atoms, from 0 to 10 nitrogen atoms, from 0 to 40 oxygen atoms, from 1 to 120 hydrogen atoms, and from 0 to 10 sulfur atoms And a group formed from 1 to 50 carbon atoms, 0 to 10 nitrogen atoms, 0 to 30 oxygen atoms, 1 to 100 hydrogen atoms, and 0 to 7 sulfur atoms More preferably a group formed from 1 to 40 carbon atoms, 0 to 8 nitrogen atoms, 0 to 20 oxygen atoms, 1 to 80 hydrogen atoms, and 0 to 5 sulfur atoms Do.

상기 중, (m+n)가의 유기 연결기가 치환기를 가질 경우, 상기 치환기로서는 예를 들면, 메틸기, 에틸기 등의 탄소수 1∼20의 알킬기, 페닐기, 나프틸기 등의 탄소수 6∼16의 아릴기, 수산기, 아미노기, 카르복시기, 술폰아미드기, N-술포닐아미드기, 아세톡시기 등의 탄소수 1∼6의 아실옥시기, 메톡시기, 에톡시기 등의 탄소수 1∼6의 알콕시기, 염소, 브롬 등의 할로겐 원자, 메톡시카르보닐기, 에톡시카르보닐기, 시클로헥실옥시카르보닐기 등의 탄소수 2∼7의 알콕시카르보닐기, 시아노기, t-부틸카보네이트 등의 탄산 에스테르기 등을 들 수 있다.When the (m + n) -valent organic linking group has a substituent, examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms such as a methyl group and an ethyl group, an aryl group having 6 to 16 carbon atoms such as a phenyl group and a naphthyl group, An alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms such as a methoxy group and an ethoxy group, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms such as an amino group, a carboxyl group, a sulfonamide group, an N-sulfonylamide group and an acetoxy group, An alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms such as a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group and a cyclohexyloxycarbonyl group, a carbonic ester group such as a cyano group and t-butylcarbonate, and the like.

상기 R3으로 나타내어지는 (m+n)가의 유기 연결기의 구체적인 예[구체예(1)∼(17)]를 이하에 나타낸다. 단, 본 발명에 있어서는 이것들에 제한되는 것은 아니다.Specific examples (specific examples (1) to (17)) of the (m + n) -valent organic linking group represented by R 3 are shown below. However, the present invention is not limited to these.

Figure 112011028945611-pat00012
Figure 112011028945611-pat00012

Figure 112011028945611-pat00013
Figure 112011028945611-pat00013

상기 구체예 중에서도 원료의 입수성, 합성의 쉬움, 각종 용매에의 용해성의 관점으로부터 가장 바람직한 (m+n)가의 유기 연결기는 하기의 기이다.Of the above specific examples, the most preferable (m + n) organic linking groups from the viewpoints of availability of raw materials, ease of synthesis, and solubility in various solvents are as follows.

Figure 112011028945611-pat00014
Figure 112011028945611-pat00014

상기 일반식(Ⅰ) 중, m은 1∼8을 나타낸다. m으로서는 1∼5가 바람직하고, 1∼4가 보다 바람직하며, 1∼3이 특히 바람직하다.In the general formula (I), m represents 1 to 8. m is preferably 1 to 5, more preferably 1 to 4, and particularly preferably 1 to 3.

또한, 상기 일반식(Ⅰ) 중 n은 2∼9를 나타낸다. n으로서는 2∼8이 바람직하고, 2∼7이 보다 바람직하며, 3∼6이 특히 바람직하다.In the general formula (I), n represents 2 to 9. n is preferably from 2 to 8, more preferably from 2 to 7, and particularly preferably from 3 to 6.

또한, 일반식(Ⅰ) 중의 P2는 고분자 골격을 나타내고, 공지의 폴리머 등으로부터 목적 등에 따라 선택할 수 있다. m개의 P2는 동일하여도 좋고 달라도 좋다.Further, P 2 in the general formula (I) represents a polymer skeleton and can be selected from known polymers and the like according to the purpose. The m &lt; 2 &gt; P &lt; 2 &gt; may be the same or different.

폴리머 중에서도 고분자 골격을 구성하기 위해서는 비닐 모노머의 중합체 또는 공중합체, 에스테르계 폴리머, 에테르계 폴리머, 우레탄계 폴리머, 아미드계 폴리머, 에폭시계 폴리머, 실리콘계 폴리머, 및 이것들의 변성물 또는 공중합체[예를 들면, 폴리에테르/폴리우레탄 공중합체, 폴리에테르/비닐 모노머 중합체의 공중합체 등(랜덤 공중합체, 블록 공중합체, 그래프트 공중합체의 어느 것이라도 좋다.)을 포함한다.]로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종이 바람직하고, 비닐 모노머의 중합체 또는 공중합체, 에스테르계 폴리머, 에테르계 폴리머, 우레탄계 폴리머, 및 이것들의 변성물 또는 공중합체로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종이 보다 바람직하며, 비닐 모노머의 중합체 또는 공중합체가 특히 바람직하다.In order to form a polymer skeleton among the polymers, a polymer or copolymer of a vinyl monomer, an ester polymer, an ether polymer, a urethane polymer, an amide polymer, an epoxy polymer, a silicone polymer and their modified products or copolymers , A polyether / polyurethane copolymer, a copolymer of a polyether / vinyl monomer polymer (any of random copolymers, block copolymers and graft copolymers), etc.) And more preferably at least one member selected from the group consisting of polymers or copolymers of vinyl monomers, ester polymers, ether polymers, urethane polymers, and modified products or copolymers thereof, Copolymers are particularly preferred.

또한, 상기 폴리머는 유기용매에 가용인 것이 바람직하다. 유기용매와의 친화성이 낮으면, 예를 들면 안료 분산제로서 사용했을 경우에 분산매와의 친화성이 약해지고, 분산 안정화에 충분한 흡착층을 확보할 수 없게 될 경우가 있다.The polymer is preferably soluble in an organic solvent. When the affinity with an organic solvent is low, for example, when used as a pigment dispersant, the affinity with the dispersion medium becomes weak, and it may become impossible to secure a sufficient adsorption layer for dispersion stabilization.

본 발명에 있어서는 P2로 나타내어지는 고분자 골격에 적어도 1종의 산성기를 갖는 것이 바람직하다.In the present invention, it is preferable that the polymer skeleton represented by P 2 has at least one acidic group.

고분자 골격 중에 산성기를 도입하는 수단에는 특별히 제한은 없고, 산성기를 갖는 비닐 모노머에 의해 도입하는 수단, 가교성 측쇄를 이용해서 산성기를 부가시킴으로써 도입하는 수단 등을 취할 수 있지만, 후술하는 바와 같이, 고분자 골격이 산성기를 갖는 비닐 모노머 유래의 구조단위를 포함해서 구성됨으로써 산성기가 도입되는 형태가, 산성기의 도입량의 제어가 용이한 점, 합성 비용의 점으로부터 바람직하다.The means for introducing an acidic group into the polymer skeleton is not particularly limited and means can be taken by means of a vinyl monomer having an acidic group or a means of introducing an acidic group by using a crosslinkable side chain. The structure in which the skeleton is composed of a structural unit derived from a vinyl monomer having an acidic group and thus an acidic group is introduced is preferable from the viewpoint of ease of control of the amount of introduction of the acidic group and synthesis cost.

여기에서, 「산성기」란 상기 A2의 설명에 있어서 「산성기」로서 열거한 것을 마찬가지로 들 수 있고, 바람직하게는 카르복시기이다.Here, the &quot; acidic group &quot; includes those exemplified as &quot; acidic group &quot; in the description of A 2 above, and is preferably a carboxyl group.

상기 비닐 모노머로서는 특별히 제한되지 않지만, 예를 들면, (메타)아크릴산 에스테르류, 크로톤산 에스테르류, 비닐에스테르류, 말레산 디에스테르류, 푸말산 디에스테르류, 이타콘산 디에스테르류, (메타)아크릴아미드류, 스티렌류, 비닐에테르류, 비닐케톤류, 올레핀류, 말레이미드류, (메타)아크릴로니트릴, 산성기를 갖는 비닐 모노머 등이 바람직하다.Examples of the vinyl monomer include, but not limited to, (meth) acrylic acid esters, crotonic acid esters, vinyl esters, maleic acid diesters, fumaric acid diesters, itaconic acid diesters, Acrylamides, styrenes, vinyl ethers, vinyl ketones, olefins, maleimides, (meth) acrylonitrile, and vinyl monomers having an acidic group.

이하, 이들 비닐 모노머의 바람직한 예에 대하여 설명한다.Hereinafter, preferred examples of these vinyl monomers will be described.

(메타)아크릴산 에스테르류의 예로서는, (메타)아크릴산 메틸, (메타)아크릴산 에틸, (메타)아크릴산 n-프로필, (메타)아크릴산 이소프로필, (메타)아크릴산 n-부틸, (메타)아크릴산 이소부틸, (메타)아크릴산 t-부틸, (메타)아크릴산 아밀, (메타)아크릴산 n-헥실, (메타)아크릴산 시클로헥실, (메타)아크릴산 t-부틸시클로헥실, (메타)아크릴산 2-에틸헥실, (메타)아크릴산 t-옥틸, (메타)아크릴산 도데실, (메타)아크릴산 옥타데실, (메타)아크릴산 아세톡시에틸, (메타)아크릴산 페닐, (메타)아크릴산 2-히드록시에틸, (메타)아크릴산-2-히드록시프로필, (메타)아크릴산-3-히드록시프로필, (메타)아크릴산-4-히드록시부틸, (메타)아크릴산 2-메톡시에틸, (메타)아크릴산 2-에톡시에틸, (메타)아크릴산 2-(2-메톡시에톡시)에틸, (메타)아크릴산 3-페녹시-2-히드록시프로필, (메타)아크릴산-2-클로로에틸, (메타)아크릴산 글리시딜, (메타)아크릴산-3,4-에폭시시클로헥실메틸, (메타)아크릴산 비닐, (메타)아크릴산-2-페닐비닐, (메타)아크릴산-1-프로페닐, (메타)아크릴산 알릴, (메타)아크릴산-2-알릴옥시에틸, (메타)아크릴산 프로파르길, (메타)아크릴산 벤질, (메타)아크릴산 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, (메타)아크릴산 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, (메타)아크릴산 트리에틸렌글리콜모노메틸에테르, (메타)아크릴산 트리에틸렌글리콜모노에틸에테르, (메타)아크릴산 폴리에틸렌글리콜모노메틸에테르, (메타)아크릴산 폴리에틸렌글리콜모노에틸에테르, (메타)아크릴산 β-페녹시에톡시에틸, (메타)아크릴산 노닐페녹시폴리에틸렌글리콜, (메타)아크릴산 디시클로펜테닐, (메타)아크릴산 디시클로펜테닐옥시에틸, (메타)아크릴산 트리플루오로에틸, (메타)아크릴산 옥타플루오로펜틸, (메타)아크릴산 퍼플루오로옥틸에틸, (메타)아크릴산 디시클로펜타닐, (메타)아크릴산 트리브로모페닐, (메타)아크릴산 트리브로모페닐옥시에틸, (메타)아크릴산-γ-부티로락톤 등을 들 수 있다.Examples of the (meth) acrylic esters include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, n-butyl (Meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, amyl (meth) acrylate, n-hexyl (meth) acrylate, cyclohexyl (Meth) acrylic acid dodecyl, octadecyl (meth) acrylate, acetoxyethyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, (Meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl ) 2- (2-methoxyethoxy) ethyl acrylate, 3-phenoxy-2-hydroxypropyl (meth) Methacrylic acid-2-chloroethyl, glycidyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid-3,4-epoxycyclohexylmethyl, (meth) acrylate, Acrylate, propyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, diethylene glycol monomethyl ether (meth) acrylate, (meth) acrylate, (Meth) acrylic acid diethylene glycol monoethyl ether, (meth) acrylic acid triethylene glycol monomethyl ether, (meth) acrylic acid triethylene glycol monoethyl ether, (meth) acrylic acid polyethylene glycol monomethyl ether, (meth) acrylic acid polyethylene glycol monoethyl (Meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, nonylphenyl (meth) acrylate, (Meth) acrylate, trifluorobutyl (meth) acrylate, perfluorooctylethyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, tribromophenyl Oxyethyl, (meth) acrylic acid-gamma -butyrolactone, and the like.

크로톤산 에스테르류의 예로서는 크로톤산 부틸, 및 크로톤산 헥실 등을 들 수 있다.Examples of the crotonic acid esters include butyl crotonate, hexyl crotonate, and the like.

비닐에스테르류의 예로서는 비닐아세테이트, 비닐클로로아세테이트, 비닐프로피오네이트, 비닐부틸레이트, 비닐메톡시아세테이트, 및 벤조산 비닐 등을 들 수 있다.Examples of the vinyl esters include vinyl acetate, vinyl chloroacetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, vinyl methoxy acetate, and vinyl benzoate.

말레산 디에스테르류의 예로서는 말레산 디메틸, 말레산 디에틸, 및 말레산 디부틸 등을 들 수 있다.Examples of the maleic acid diesters include dimethyl maleate, diethyl maleate, and dibutyl maleate.

푸말산 디에스테르류의 예로서는 푸말산 디메틸, 푸말산 디에틸, 및 푸말산 디부틸 등을 들 수 있다.Examples of the fumaric acid diesters include dimethyl fumarate, diethyl fumarate, and dibutyl fumarate.

이타콘산 디에스테르류의 예로서는 이타콘산 디메틸, 이타콘산 디에틸, 및 이타콘산 디부틸 등을 들 수 있다.Examples of itaconic acid diesters include dimethyl itaconate, diethyl itaconate, dibutyl itaconate, and the like.

(메타)아크릴아미드류로서는 (메타)아크릴아미드, N-메틸(메타)아크릴아미드, N-에틸(메타)아크릴아미드, N-프로필(메타)아크릴아미드, N-이소프로필(메타)아크릴아미드, N-n-부틸(메타)아크릴아미드, N-t-부틸(메타)아크릴아미드, N-시클로헥실(메타)아크릴아미드, N-(2-메톡시에틸)(메타)아크릴아미드, N,N-디메틸(메타)아크릴아미드, N,N-디에틸(메타)아크릴아미드, N-페닐(메타)아크릴아미드, N-니트로페닐아크릴아미드, N-에틸-N-페닐아크릴아미드, N-벤질(메타)아크릴아미드, (메타)아크릴로일모르폴린, 디아세톤아크릴아미드, N-메티롤아크릴아미드, N-히드록시에틸아크릴아미드, 비닐(메타)아크릴아미드, N,N-디알릴(메타)아크릴아미드, N-알릴(메타)아크릴아미드 등을 들 수 있다.Examples of the (meth) acrylamides include (meth) acrylamide, N-methyl (meth) acrylamide, N-ethyl (meth) acrylamide, N-propyl (meth) acrylamide, N- (Meth) acrylamide, N, N-butyl (meth) acrylamide, Nt-butyl Acrylamide, N, N-diethyl (meth) acrylamide, N-phenyl (meth) acrylamide, N-nitrophenyl acrylamide, N- (Meth) acryloylmorpholine, diacetone acrylamide, N-methylol acrylamide, N-hydroxyethyl acrylamide, vinyl (meth) acrylamide, N, (Meth) acrylamide, and the like.

스티렌류의 예로서는, 스티렌, 메틸스티렌, 디메틸스티렌, 트리메틸스티렌, 에틸스티렌, 이소프로필스티렌, 부틸스티렌, 히드록시스티렌, 메톡시스티렌, 부톡시스티렌, 아세톡시스티렌, 클로로스티렌, 디클로로스티렌, 브로모스티렌, 클로로메틸스티렌, 산성 물질에 의해 탈보호 가능한 기(예를 들면 t-Boc 등)로 보호된 히드록시스티렌, 비닐벤조산 메틸, 및 α-메틸스티렌 등을 들 수 있다.Examples of the styrene include styrene, methylstyrene, dimethylstyrene, trimethylstyrene, ethylstyrene, isopropylstyrene, butylstyrene, hydroxystyrene, methoxystyrene, butoxystyrene, acetoxystyrene, chlorostyrene, dichlorostyrene, bromo Styrene, chloromethylstyrene, hydroxystyrene protected with a group capable of being deprotected by an acidic substance (e.g., t-Boc), methyl vinylbenzoate, and? -Methylstyrene.

비닐에테르류의 예로서는, 메틸비닐에테르, 에틸비닐에테르, 2-클로로에틸비닐에테르, 히드록시에틸비닐에테르, 프로필비닐에테르, 부틸비닐에테르, 헥실비닐에테르, 옥틸비닐에테르, 메톡시에틸비닐에테르 및 페닐비닐에테르 등을 들 수 있다.Examples of the vinyl ethers include methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, butyl vinyl ether, hexyl vinyl ether, octyl vinyl ether, methoxyethyl vinyl ether and phenyl Vinyl ether, and the like.

비닐케톤류의 예로서는, 메틸비닐케톤, 에틸비닐케톤, 프로필비닐케톤, 페닐비닐케톤 등을 들 수 있다.Examples of the vinyl ketones include methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, propyl vinyl ketone, and phenyl vinyl ketone.

올레핀류의 예로서는, 에틸렌, 프로필렌, 이소부틸렌, 부타디엔, 이소프렌 등을 들 수 있다.Examples of the olefins include ethylene, propylene, isobutylene, butadiene, and isoprene.

말레이미드류의 예로서는, 말레이미드, 부틸말레이미드, 시클로헥실말레이미드, 페닐말레이미드 등을 들 수 있다.Examples of the maleimide include maleimide, butyl maleimide, cyclohexyl maleimide, phenyl maleimide and the like.

(메타)아크릴로니트릴, 비닐기가 치환된 복소환식 기(예를 들면 비닐피리딘, N-비닐피롤리돈, 비닐카르바졸 등), N-비닐포름아미드, N-비닐아세트아미드, N-비닐이미다졸, 비닐카프로락톤 등도 사용할 수 있다.(Meth) acrylonitrile, a vinyl group-substituted heterocyclic group (e.g., vinylpyridine, N-vinylpyrrolidone, vinylcarbazole and the like), N-vinylformamide, N-vinylacetamide, Dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, and the like.

상기 화합물 이외에도, 예를 들면 우레탄기, 우레아기, 술폰아미드기, 페놀 기, 이미드기 등의 관능기를 갖는 비닐 모노머도 사용할 수 있다. 이러한 우레탄기 또는 우레아기를 갖는 단량체는, 예를 들면 이소시아네이트기와 수산기 또는 아미노기의 부가반응을 이용하여 적당하게 합성하는 것이 가능하다. 구체적으로는, 이소시아네이트기 함유 모노머와 수산기를 1개 함유하는 화합물 또는 1급 또는 2급 아미노기를 1개 함유하는 화합물의 부가반응, 또는 수산기 함유 모노머 또는 1급 또는 2급 아미노기 함유 모노머와 모노이소시아네이트의 부가반응 등에 의해 적당하게 합성할 수 있다.In addition to the above compounds, vinyl monomers having functional groups such as urethane groups, urea groups, sulfonamide groups, phenol groups and imide groups can also be used. Such a urethane group or urea group-containing monomer can be suitably synthesized, for example, by using an addition reaction between an isocyanate group and a hydroxyl group or an amino group. Specifically, an addition reaction of an isocyanate group-containing monomer with a compound containing one hydroxyl group or a compound containing one primary or secondary amino group, or an addition reaction between a hydroxyl group-containing monomer or a monomer containing a primary or secondary amino group and a monoisocyanate And can be suitably synthesized by an addition reaction or the like.

이어서, 고분자 골격 P2에 산성기를 도입하기 위해서 사용되는 산성기를 갖는 비닐 모노머에 대하여 설명한다.Next, a vinyl monomer having an acidic group used for introducing an acid group into the polymer skeleton P 2 will be described.

상기 산성기를 갖는 비닐 모노머의 예로서는 카르복시기를 갖는 비닐 모노머나 술폰산기를 갖는 비닐 모노머를 들 수 있다.Examples of the vinyl monomer having an acidic group include vinyl monomers having a carboxyl group and vinyl monomers having a sulfonic acid group.

카르복시기를 갖는 비닐 모노머로서 (메타)아크릴산, 비닐벤조산, 말레산, 말레산 모노알킬에스테르, 푸말산, 이타콘산, 크로톤산, 계피산, 아크릴산 다이머 등을 들 수 있다. 또한, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트 등의 수산기를 갖는 단량체와 무수 말레산이나 무수 프탈산, 시클로헥산디카르복실산 무수물과 같은 환상 무수물의 부가반응물, ω-카르복시-폴리카프로락톤모노(메타)아크릴레이트 등도 이용할 수 있다. 또한, 카르복시기의 전구체로서 무수 말레산, 무수 이타콘산, 무수 시트라콘산 등의 무수물 함유 모노머를 사용해도 좋다. 또한 이들 중에서는 공중합성이나 비용, 용해성 등의 관점으로부터 (메타)아크릴산이 특히 바람직하다.Examples of the vinyl monomer having a carboxyl group include (meth) acrylic acid, vinylbenzoic acid, maleic acid, maleic acid monoalkyl ester, fumaric acid, itaconic acid, crotonic acid, cinnamic acid and acrylic acid dimer. Further, an addition reaction product of a monomer having a hydroxyl group such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate and a cyclic anhydride such as maleic anhydride or phthalic anhydride or cyclohexanedicarboxylic acid anhydride, ω-carboxy-polycaprolactone mono Methacrylate) can also be used. Further, an anhydride-containing monomer such as maleic anhydride, itaconic anhydride, or citraconic anhydride may be used as a precursor of the carboxyl group. Among them, (meth) acrylic acid is particularly preferable from the viewpoint of copolymerization, cost, solubility and the like.

또한, 술폰산기를 갖는 비닐 모노머로서 2-아크릴아미드-2-메틸프로판술폰산 등을 들 수 있고, 인산기를 갖는 비닐 모노머로서 인산 모노(2-아크릴로일옥시에틸에스테르), 인산 모노(1-메틸-2-아크릴로일옥시에틸에스테르) 등을 들 수 있다.As vinyl monomers having sulfonic acid group, 2-acrylamide-2-methylpropane sulfonic acid and the like can be given. As vinyl monomers having a phosphoric acid group, mono (2-acryloyloxyethyl ester) phosphate, mono (1- 2-acryloyloxyethyl ester) and the like.

또한, 산성기를 갖는 비닐 모노머로서 페놀성 히드록시기를 함유하는 비닐 모노머나 술폰아미드기를 함유하는 비닐 모노머 등도 이용할 수 있다.As the vinyl monomer having an acidic group, a vinyl monomer containing a phenolic hydroxyl group or a vinyl monomer containing a sulfonamide group may also be used.

고분자 골격 P2가 산성기를 포함하는 비닐 모노머 유래의 구조단위를 포함할 경우, 산성기를 갖는 비닐 모노머 유래의 구조단위의 고분자 골격 중의 함유량은 3몰%∼40몰%인 것이 바람직하고, 5몰%∼20몰%의 범위인 것이 보다 바람직하다.When the polymer skeleton P 2 contains a structural unit derived from a vinyl monomer containing an acidic group, the content of the structural unit derived from a vinyl monomer having an acidic group in the polymer skeleton is preferably from 3 mol% to 40 mol%, more preferably from 5 mol% By mole to 20% by mole.

상기 일반식(Ⅰ)으로 나타내어지는 고분자 화합물 중, 이하에 나타내는 R3, R4, R5, P2, m, 및 n을 모두 만족시키는 것이 가장 바람직하다.Most preferably all of R 3 , R 4 , R 5 , P 2 , m, and n shown below among the polymer compounds represented by the general formula (I).

R3: 상기 구체예 (1), (2), (10), (11), (16), 또는 (17)R 3 : In the above Examples (1), (2), (10), (11), (16)

R4: 단결합 또는, 하기의 구조단위 또는 상기 구조단위가 조합되어서 구성되는 「1개∼10개의 탄소원자, 0개∼5개의 질소원자, 0개∼10개의 산소원자, 1개∼30개의 수소원자, 및 0개∼5개의 유황원자」로부터 성립되는 2가의 유기 연결기(치환기를 갖고 있어도 좋고, 상기 치환기로서는 예를 들면, 메틸기, 에틸기 등의 탄소수 1∼20의 알킬기, 페닐기, 나프틸기 등의 탄소수 6∼16의 아릴기, 수산기, 아미노기, 카르복시기, 술폰아미드기, N-술포닐아미드기, 아세톡시기 등의 탄소수 1∼6의 아실옥시기, 메톡시기, 에톡시기 등의 탄소수 1∼6의 알콕시기, 염소, 브롬 등의 할로겐 원자, 메톡시카르보닐기, 에톡시카르보닐기, 시클로헥실옥시카르보닐기 등의 탄소수 2∼7의 알콕시카르보닐기, 시아노기, t-부틸카보네이트 등의 탄산 에스테르기 등을 들 수 있다.)R 4 represents a single bond or a "single bond consisting of 1 to 10 carbon atoms, 0 to 5 nitrogen atoms, 0 to 10 oxygen atoms, 1 to 30 carbon atoms, (Which may have a substituent, and examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms such as a methyl group and an ethyl group, a phenyl group, a naphthyl group, etc.) having 1 to 20 carbon atoms An aryl group having 6 to 16 carbon atoms, an acyloxy group having 1 to 6 carbon atoms such as a hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group, a sulfonamide group, an N-sulfonylamide group and an acetoxy group, An alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms such as a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group and a cyclohexyloxycarbonyl group, a carbonic ester group such as a cyano group and t-butylcarbonate, etc., You can.

Figure 112011028945611-pat00015
Figure 112011028945611-pat00015

R5: 단결합, 에틸렌기, 프로필렌기, 하기 기(a), 또는 하기 기(b)R 5 represents a single bond, an ethylene group, a propylene group, the following group (a), or the following group (b)

또한, 하기 기 중 R12는 수소원자 또는 메틸기를 나타내고, l은 1 또는 2를 나타낸다.In the following groups, R 12 represents a hydrogen atom or a methyl group, and 1 represents 1 or 2.

Figure 112011028945611-pat00016
Figure 112011028945611-pat00016

P2: 카르복시기를 갖는 비닐 모노머와 다른 비닐 모노머의 공중합체; 산성기를 갖지 않는 비닐 모노머의 중합체 또는 공중합체; 에스테르계 폴리머, 에테르계 폴리머, 및 우레탄계 폴리머 및 이것들의 변성물로부터 선택되고, 적어도 1종의 산성기를 포함하고 있어도 되는 폴리머P 2 : a copolymer of a vinyl monomer having a carboxyl group and another vinyl monomer; Polymers or copolymers of vinyl monomers without acid groups; A polymer which is selected from ester polymers, ether polymers, urethane polymers and modified products thereof and which may contain at least one acidic group

m: 1∼3m: 1-3

n: 3∼6n: 3 to 6

본 발명에 있어서의 (B-1) 바인더 수지에 있어서의 산성기의 함유량은 (B-1) 바인더 수지가 갖는 산가에 의해 적당하게 결정된다. (B-1) 바인더 수지의 산가로서는 30∼200(mgKOH/g)인 것이 바람직하고, 40∼160(mgKOH/g)이 보다 바람직하며, 50∼120(mgKOH/g)이 특히 바람직하다. 산가가 30(mgKOH/g) 미만인 경우에 착색 감광성 수지 조성물의 알칼리 현상성이 불충분이 될 경우가 있고, 산가가 200(mgKOH/g)을 초과하면 (A) 착색제로서 안료를 사용했을 경우에 안료의 분산성, 분산 안정성에 악영향을 줄 우려가 있다.The content of the acidic group in the binder resin (B-1) in the present invention is suitably determined by the acid value of the (B-1) binder resin. The acid value of the binder resin (B-1) is preferably from 30 to 200 (mgKOH / g), more preferably from 40 to 160 (mgKOH / g) and most preferably from 50 to 120 (mgKOH / g). When the acid value is less than 30 (mgKOH / g), the alkali developability of the colored photosensitive resin composition may be insufficient. When the acid value exceeds 200 (mgKOH / g), (A) when the pigment is used as the colorant, There is a possibility that the dispersibility and the dispersion stability of the resin composition may be adversely affected.

(B-1) 바인더 수지의 분자량으로서는, 중량 평균 분자량으로 3000∼100000이 바람직하고, 5000∼80000이 보다 바람직하며, 7000∼60000이 특히 바람직하다. 중량 평균 분자량이 상기 범위 내이면 폴리머의 말단에 도입된 복수의 상기 흡착 부위의 효과가 충분하게 발휘되고, 고체 표면으로의 흡착성, 미셀 형성능, 계면활성성에 우수한 성능을 발휘한다.The molecular weight of the binder resin (B-1) is preferably from 3,000 to 100,000, more preferably from 5,000 to 80,000, and particularly preferably from 7,000 to 60,000 as the weight average molecular weight. When the weight average molecular weight is within the above range, the effect of a plurality of the adsorption sites introduced at the ends of the polymer is sufficiently exerted, and the adsorbent exhibits excellent adsorption on the solid surface, micelle formation ability, and surface activity.

이하에, 본 발명에 의한 (B-1) 바인더 수지의 예시 화합물을 들지만, 본 발명은 이것에 한정되지 않고, 일반식(Ⅰ)에 포함되는 한에 있어서 임의의 구조를 채용할 수 있다.Exemplary compounds of the binder resin (B-1) according to the present invention are exemplified below, but the present invention is not limited thereto, and any structure may be employed as long as it is included in the general formula (I).

Figure 112011028945611-pat00017
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Figure 112011028945611-pat00018
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Figure 112011028945611-pat00019
Figure 112011028945611-pat00019

상기 (B-1) 바인더 수지의 예시 화합물 중, 고분자 골격에 있어서의 카르복실산 에스테르를 갖는 구조단위와 카르복시기를 갖는 구조단위의 함유비(p1:p2)는, 질량 환산으로 95:5∼80:20의 범위인 것이 바람직하다.The content ratio (p 1 : p 2 ) of the structural unit having a carboxylic acid ester and the structural unit having a carboxyl group in the polymer skeleton in the exemplified compounds of the binder resin (B-1) is 95: To 80: 20.

이들 예시 화합물 중에서도 상기 B-1-22로 나타내어지는 구조를 갖고, 고분자 골격에 있어서의 카르복실산 에스테르를 갖는 구조단위와 카르복시기를 갖는 구조단위의 함유비가 질량 환산으로 90:10이며, 분자량 20,000, 산가가 82인 화합물이 특히 바람직하다.Among these exemplified compounds, the content ratio of the structural unit having a carboxylic acid ester and the structural unit having a carboxyl group in the polymer skeleton is 90:10 in terms of mass, and the molecular weight is 20,000, Compounds having an acid value of 82 are particularly preferred.

상기 일반식(Ⅰ)으로 나타내어지는 (B-1) 바인더 수지는, 예를 들면 일본 특허공개 2006-278118 공보에 기재된 방법을 참조해서 합성할 수 있다.The binder resin (B-1) represented by the general formula (I) can be synthesized by referring to the method described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-278118.

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물에 있어서의 (B-1) 바인더 수지의 함유량은 착색 감광성 수지 조성물의 고형분에 대하여 5질량%∼70질량%의 범위가 바람직하고, 10질량%∼50질량%의 범위가 보다 바람직하다.The content of the binder resin (B-1) in the colored photosensitive resin composition of the present invention is preferably in the range of 5% by mass to 70% by mass, more preferably in the range of 10% by mass to 50% by mass relative to the solid content of the colored photosensitive resin composition Is more preferable.

<(B-2) 일반식(Ⅱ)으로 나타내어지는 구조단위와 산성기를 갖는 구조단위를 포함하는 바인더 수지>&Lt; (B-2) Binder resin comprising a structural unit represented by the general formula (II) and a structural unit having an acidic group &

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은 (B-2) 하기 일반식(Ⅱ)으로 나타내어지는 구조단위와 산성기를 갖는 구조단위를 포함하는 바인더 수지를 포함한다.The colored photosensitive resin composition of the present invention comprises (B-2) a binder resin comprising a structural unit represented by the following general formula (II) and a structural unit having an acidic group.

[일반식(Ⅱ)으로 나타내어지는 구조단위][Structural unit represented by general formula (II)

Figure 112011028945611-pat00020
Figure 112011028945611-pat00020

일반식(Ⅱ) 중, R11∼R15는 각각 독립적으로 수소원자, 할로겐 원자, 시아노기, 알킬기 또는 아릴기를 나타내고, R16은 수소원자 또는 메틸기를 나타낸다.In the general formula (II), R 11 to R 15 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group or an aryl group, and R 16 represents a hydrogen atom or a methyl group.

일반식(Ⅱ)에 있어서의 R11∼R15로서는 각각 독립적으로 수소원자, 할로겐 원자, 시아노기, 탄소수 1∼12의 알킬기 또는 탄소수 5∼14의 아릴기가 바람직하고, 그 중에서도 수소원자, 브롬원자, 염소원자, 시아노기, 탄소수 1∼7의 알킬기 또는 탄소수 5∼10의 아릴기가 보다 바람직하다.In the general formula (II), R 11 to R 15 are each independently preferably a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or an aryl group having 5 to 14 carbon atoms, , A chlorine atom, a cyano group, an alkyl group having 1 to 7 carbon atoms or an aryl group having 5 to 10 carbon atoms.

상기 알킬기는 치환기를 갖고 있어도 좋고, 치환기로서는 직쇄, 분기, 또는 환상이어도 좋으며, 메틸기, n-프로필기, iso-프로필기, t-부틸기 등을 들 수 있고, 탄소수 1∼7의 알킬기가 바람직하다. 또한, 상기 아릴기는 치환기를 갖고 있어도 좋고, 치환기로서는 탄소수 1∼7의 알킬기 또는 탄소수 5∼14의 아릴기 등을 들 수 있으며, 바람직하게는 페닐기, 푸릴기, 나프틸기이다.The alkyl group may have a substituent. The substituent may be linear, branched or cyclic, and examples thereof include a methyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, and a t-butyl group. An alkyl group having 1 to 7 carbon atoms is preferable Do. The aryl group may have a substituent, and examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 7 carbon atoms or an aryl group having 5 to 14 carbon atoms, preferably a phenyl group, a furyl group or a naphthyl group.

이들 중, 일반식(Ⅱ)으로서 바람직한 것은 R11∼R15가 각각 독립적으로 수소원자, 메틸기, 페닐기 또는 할로겐 원자이고, R16이 수소원자 또는 메틸기인 것이다.Of these, preferred as the general formula (II) are those wherein R 11 to R 15 are each independently a hydrogen atom, a methyl group, a phenyl group or a halogen atom, and R 16 is a hydrogen atom or a methyl group.

(B-2) 바인더 수지는 복수종의 상기 일반식(Ⅱ)으로 나타내어지는 구조단위를 포함하고 있어도 된다.The binder resin (B-2) may contain a plurality of structural units represented by the above general formula (II).

(B-2) 바인더 수지에 있어서의 상기 일반식(Ⅱ)으로 나타내어지는 구조단위는 분자 내에 20몰% 이상 90몰% 이하 함유하는 것이 바람직하고, 50몰% 이상 80몰% 이하 함유하는 것이 보다 바람직하며, 60몰% 이상 80몰% 이하 함유하는 것이 더욱 바람직하다. 바인더 수지에 있어서의 상기 각 구조단위의 총량이 상기 범위 내에 있으면, 현상 래티튜드가 양호하게 되고, 노광 후의 현상시에 있어서의 막 감소가 적어지며, 얻어진 경화막의 표면 평활성이 양호해진다.The structural unit represented by the formula (II) in the binder resin (B-2) is preferably contained in the molecule in an amount of 20 mol% or more and 90 mol% or less, more preferably 50 mol% or more and 80 mol% or less , And more preferably from 60 mol% to 80 mol%. When the total amount of the respective structural units in the binder resin is within the above range, the development latitude is improved, the reduction of the film at the time of development after exposure is reduced, and the surface smoothness of the obtained cured film becomes good.

[산성기를 갖는 구조단위][Structural unit having an acidic group]

또한, (B-2) 바인더 수지는 분자 내에 산성기를 갖는 구조단위를 갖는다. The binder resin (B-2) has a structural unit having an acidic group in the molecule.

산성기를 갖는 구조단위로서는 카르복시기 함유 불포화 단량체 유래의 구조단위를 들 수 있다. 카르복시기 함유 불포화 단량체로서는 아크릴산, 메타크릴산, 크로톤산, α-클로로아크릴산, 계피산 등의 불포화 모노카르복실산류; 말레산, 무수 말레산, 푸말산, 이타콘산, 무수 이타콘산, 시트라콘산, 무수 시트라콘산, 메사콘산 등의 불포화 디카르복실산 또는 그 무수물류; 3가 이상의 불포화 다가 카르복실산 또는 그 무수물류; 숙신산 모노[2-(메타)아크릴로일옥시에틸], 프탈산 모노[2-(메타)아크릴로일옥시에틸] 등의 2가 이상의 다가 카르복실산의 모노[(메타)아크릴로일옥시알킬]에스테르류; ω-카르복시폴리카프로락톤모노(메타)아크릴레이트 등의 양 말단에 카르복시기와 수산기를 갖는 폴리머의 모노(메타)아크릴레이트류 등을 들 수 있다.Examples of the structural unit having an acidic group include a structural unit derived from a carboxyl group-containing unsaturated monomer. Examples of the carboxyl group-containing unsaturated monomer include unsaturated monocarboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid,? -Chloroacrylic acid and cinnamic acid; Unsaturated dicarboxylic acids or anhydrides thereof such as maleic acid, maleic anhydride, fumaric acid, itaconic acid, itaconic anhydride, citraconic acid, citraconic anhydride, and mesaconic acid; An unsaturated polycarboxylic acid having three valencies or more or anhydrides thereof; Mono [(meth) acryloyloxyalkyl] monovalent monocarboxylic acids such as mono [2- (meth) acryloyloxyethyl] succinate and mono [2- (meth) acryloyloxyethyl] Esters; (meth) acrylates of a polymer having a carboxyl group and a hydroxyl group at both terminals such as ω-carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate, and the like.

이들 카르복시기 함유 불포화 단량체 중, 숙신산 모노(2-아크릴로일옥시에틸) 및 프탈산 모노(2-아크릴로일옥시에틸)은 각각 M-5300 및 M-5400[도아 고세이(주) 제]의 상품명으로 시판되고 있다.Of these carboxyl group-containing unsaturated monomers, succinic acid mono (2-acryloyloxyethyl) and phthalic acid mono (2-acryloyloxyethyl) are each referred to as M-5300 and M-5400 [manufactured by Doagosei Co., And is commercially available.

상기 카르복시기 함유 불포화 단량체는 단독으로 또는 2종 이상을 수지에 포함해도 좋다.The carboxyl group-containing unsaturated monomer may be contained singly or two or more kinds in the resin.

이들 중에서 바람직한 산성기를 갖는 구조단위로서는 카르복실산, 카르복실산의 칼코겐(chalcogen) 유사체, 카르보히드라존산[RC(=NNH2)OH], 카르복시미드산[RC(=NH)OH], 술폰산[RS(O)2OH], 술핀산[RS(O)OH], 술펜산[RSOH], 셀레논산[RSe(O)2OH], 셀레닌산[RSe(O)OH], 셀레넨산[RSeOH], 인산과 그 산성 관련 화합물, 규산, 붕산의 유사체로부터 유래되는 구조단위이며, 특히 바람직한 것은 아크릴산, 메타크릴산, 및 인산으로부터 유래되는 구조단위이다.Among these structural units, preferable structural units having an acidic group include carboxylic acid, a chalcogen analog of a carboxylic acid, a carbohydralic acid [RC (= NNH 2 ) OH], a carboximide acid [RC (= NH) acid [RS (O) 2 OH] , sulfinic acid [RS (O) OH], alcohol pensan [RSOH], celecoxib acid [RSe (O) 2 OH] , cell renin acid [RSe (O) OH], celecoxib nensan [RSeOH], structural units derived from phosphoric acid and its acid-related compounds, silicic acid and boric acid analogs, and particularly preferred are structural units derived from acrylic acid, methacrylic acid, and phosphoric acid.

(B-2) 바인더 수지에 있어서의 산성기를 갖는 구조단위의 함유량은 5몰% 이상 50몰% 이하인 것이 바람직하고, 10몰% 이상 30몰% 이하가 보다 바람직하다. 이 범위 내에 있으면 현상시의 표면 평활도와 내열성이 양호하다.The content of the structural unit having an acidic group in the binder resin (B-2) is preferably from 5 mol% to 50 mol%, more preferably from 10 mol% to 30 mol%. Within this range, the surface smoothness and heat resistance at the time of development are good.

(B-2) 바인더 수지는 상술의 각 구조단위에 추가해서 다른 구조단위를 포함하고 있어도 된다. 다른 구조단위로서는 하기의 불포화 단량체로부터 유래되는 구조단위를 들 수 있다.(B-2) The binder resin may contain other structural units in addition to the structural units described above. Examples of other structural units include structural units derived from the following unsaturated monomers.

스티렌, α-메틸스티렌, o-비닐톨루엔, m-비닐톨루엔, p-비닐톨루엔, p-클로로스티렌, o-메톡시스티렌, m-메톡시스티렌, p-메톡시스티렌, o-비닐벤질메틸에테르, m-비닐벤질메틸에테르, p-비닐벤질메틸에테르, o-비닐벤질글리시딜에테르, m-비닐벤질글리시딜에테르, p-비닐벤질글리시딜에테르 등의 방향족 비닐 화합물;Styrene,? -Methylstyrene, o-vinyltoluene, m-vinyltoluene, p-vinyltoluene, p-chlorostyrene, o-methoxystyrene, m-methoxystyrene, p- Aromatic vinyl compounds such as ether, m-vinylbenzyl methyl ether, p-vinylbenzyl methyl ether, o-vinyl benzyl glycidyl ether, m-vinyl benzyl glycidyl ether and p-vinyl benzyl glycidyl ether;

인덴, 1-메틸인덴 등의 인덴류;Indene such as indene and 1-methylindene;

메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, n-프로필(메타)아크릴레이트, i-프로필(메타)아크릴레이트, n-부틸(메타)아크릴레이트, i-부틸(메타)아크릴레이트, sec-부틸(메타)아크릴레이트, t-부틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 3-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 2-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 3-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 알릴(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 페닐(메타)아크릴레이트, 2-메톡시에틸(메타)아크릴레이트, 2-페녹시에틸(메타)아크릴레이트, 메톡시디에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 메톡시트리에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 메톡시프로필렌글리콜(메타)아크릴레이트, 메톡시디프로필렌글리콜(메타)아크릴레이트, 이소보르닐(메타)아크릴레이트, 트리시클로[5.2.1.02,6]데칸-8-일(메타)아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필(메타)아크릴레이트, 글리세롤모노(메타)아크릴레이트 등의 불포화 카르복실산 에스테르류;Propyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, i-butyl (meth) acrylate, (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, (Meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 3-hydroxybutyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (Meth) acrylate, methoxyethyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, 2-methoxyethyl (meth) (Meth) acrylate, methoxypropylene glycol (meth) acrylate, Messenger CD propylene glycol (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, tricyclo [5.2.1.0 2,6] decane-8-yl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl Unsaturated carboxylic acid esters such as (meth) acrylate and glycerol mono (meth) acrylate;

2-아미노에틸(메타)아크릴레이트, 2-디메틸아미노에틸(메타)아크릴레이트, 2-아미노프로필(메타)아크릴레이트, 2-디메틸아미노프로필(메타)아크릴레이트, 3-아미노프로필(메타)아크릴레이트, 3-디메틸아미노프로필(메타)아크릴레이트 등의 불포화 카르복실산 아미노알킬에스테르류; 글리시딜(메타)아크릴레이트 등의 불포화 카르복실산 글리시딜에스테르류; 옥세타닐(메타)아크릴레이트 등의 불포화 카르복실산 옥세타닐에스테르류; 아세트산 비닐, 프로피온산 비닐, 부티르산 비닐, 벤조산 비닐 등의 카르복실산 비닐에스테르류;Acrylate, 2-aminopropyl (meth) acrylate, 2-dimethylaminopropyl (meth) acrylate, 3-aminopropyl (meth) acrylate, Unsaturated carboxylic acid aminoalkyl esters such as 3-dimethylaminopropyl (meth) acrylate; Unsaturated carboxylic acid glycidyl esters such as glycidyl (meth) acrylate; Unsaturated carboxylic acid oxetanyl esters such as oxetanyl (meth) acrylate; Carboxylic acid vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate and vinyl benzoate;

비닐메틸에테르, 비닐에틸에테르, 알릴글리시딜에테르 등의 불포화 에테르류;Unsaturated ethers such as vinyl methyl ether, vinyl ethyl ether and allyl glycidyl ether;

(메타)아크릴로니트릴, α-클로로아크릴로니트릴, 시안화 비닐리덴 등의 시안화 비닐 화합물;(Meth) acrylonitrile,? -Chloroacrylonitrile, and vinylidene cyanide;

(메타)아크릴아미드, α-클로로아크릴아미드, N-2-히드록시에틸(메타)아크릴아미드 등의 불포화 아미드류;Unsaturated amides such as (meth) acrylamide,? -Chloroacrylamide and N-2-hydroxyethyl (meth) acrylamide;

말레이미드, N-페닐말레이미드, N-시클로헥실말레이미드 등의 불포화 이미드류;Unsaturated imides such as maleimide, N-phenylmaleimide and N-cyclohexylmaleimide;

1,3-부타디엔, 이소프렌, 클로로프렌 등의 지방족 공역 디엔류;Aliphatic conjugated dienes such as 1,3-butadiene, isoprene and chloroprene;

폴리스티렌, 폴리메틸(메타)아크릴레이트, 폴리-n-부틸(메타)아크릴레이트, 폴리실록산 등의 중합체 분자쇄의 말단에 모노(메타)아크릴로일기를 갖는 매크로모노머류;Macromonomers having a mono (meth) acryloyl group at the end of a polymer molecular chain such as polystyrene, polymethyl (meth) acrylate, poly-n-butyl (meth) acrylate and polysiloxane;

이들의 불포화 단량체 유래의 구조단위는 단독으로 또는 2종 이상을 포함해도 좋다.These structural units derived from unsaturated monomers may be used singly or in combination of two or more kinds.

이하에, (B-2) 바인더 수지의 예시 화합물 1-1∼1-8 및 2∼20을 나타낸다. (B-2) 바인더 수지는 이들 예시 화합물에 한정되는 것은 아니다.Exemplary compounds 1-1 to 1-8 and 2 to 20 of the binder resin (B-2) are shown below. (B-2) The binder resin is not limited to these exemplified compounds.

Figure 112011028945611-pat00021
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Figure 112011028945611-pat00022
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Figure 112011028945611-pat00023
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Figure 112011028945611-pat00024
Figure 112011028945611-pat00024

(B-2) 바인더 수지의 중량 평균 분자량으로서는 10000∼100000의 범위인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 10000∼50000의 범위, 더욱 바람직하게는 10000∼40000의 범위이다. 이 범위 내에 있으면 형성되는 패턴의 현상성, 직선성이 양호하게 된다.The weight average molecular weight of the binder resin (B-2) is preferably in the range of 10,000 to 100,000, more preferably in the range of 10,000 to 50,000, and still more preferably in the range of 10,000 to 400,000. Within this range, developability and linearity of the formed pattern are improved.

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물에 있어서의 (B-2) 바인더 수지의 함유량은, 착색 감광성 수지 조성물의 고형분에 대하여 10질량%∼50질량%의 범위가 바람직하고, 15질량%∼40질량%의 범위가 보다 바람직하다.The content of the binder resin (B-2) in the colored photosensitive resin composition of the present invention is preferably in the range of 10% by mass to 50% by mass, more preferably 15% by mass to 40% by mass relative to the solid content of the colored photosensitive resin composition The range is more preferable.

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은, 상술한 바와 같이, (B-1) 바인더 수지와 (B-2) 바인더 수지의 2종의 바인더 수지를 함유하지만, (B-1) 바인더 수지와 (B-2) 바인더 수지의 질량 기준에 의한 함유 비율은 3:7∼7:3인 것을 요하고, 함유 비율이 4:6∼6:4인 것이 바람직하다. 함유비가 상기 범위 내이면 형성되는 경화막의 내열성이 양호하게 되고, 포스트베이킹 후의 주름의 발생이 효과적으로 억제된다고 하는 효과를 갖는다.The colored photosensitive resin composition of the present invention contains two kinds of binder resins, (B-1) a binder resin and (B-2) a binder resin, 2) the content of the binder resin on a mass basis is 3: 7 to 7: 3, and the content of the binder resin is preferably 4: 6 to 6: 4. When the content ratio is within the above range, heat resistance of the cured film formed becomes good, and the occurrence of wrinkles after post-baking is effectively suppressed.

따라서, 상기한 각각의 바인더 수지의 함유량의 범위 내에 있어서, (B-1) 바인더 수지와 (B-2) 바인더 수지의 질량 기준에 의한 함유 비율이 3:7∼7:3의 범위가 되도록 조제된다.Therefore, the content ratio of the binder resin (B-1) and the binder resin (B-2) based on the mass basis is within the range of the content of each of the binder resins described above in the range of 3: 7 to 7: do.

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은 본 발명에 있어서의 특정 성분인 상기 (B-1) 바인더 수지 및 (B-2) 바인더 수지 이외의 다른 구조의 수지를 포함해도 좋다. (B-1) 바인더 수지 및 (B-2) 바인더 수지 이외의 다른 구조의 수지로서는, 착색제에 대하여 바인더로서 작용하고, 또한 컬러필터를 제조할 때에 그 현상 처리 공정에 있어서 사용되는 현상액, 특히 바람직하게는 알칼리성 현상액에 대하여 가용성을 갖는 것이면 특별히 한정되는 것은 아니지만, 카르복시기를 갖는 아크릴계 공중합체가 바람직하고, 특히, 1개 이상의 카르복시기를 갖는 에틸렌성 불포화 단량체와 다른 공중합 가능한 에틸렌성 불포화 단량체의 공중합체가 바람직하다.The colored photosensitive resin composition of the present invention may contain a resin having a structure other than the above-mentioned (B-1) binder resin and (B-2) binder resin which are specific components in the present invention. The resin having a structure other than the binder resin (B-1) and the binder resin (B-2) is preferably a developer used as a binder for the colorant and used in the developing process when the color filter is produced, Is not particularly limited as far as it is soluble in an alkaline developing solution. However, an acrylic copolymer having a carboxyl group is preferable, and a copolymer of an ethylenically unsaturated monomer having at least one carboxyl group and a copolymerizable ethylenically unsaturated monomer desirable.

본 발명에 있어서 상기 (B-1) 바인더 수지 및 (B-2) 바인더 수지 이외의 다른 구조를 갖는 병용 가능한 수지의 구체예로서는,As specific examples of the resins usable in combination with the binder resin (B-1) and the binder resin (B-2) in the present invention,

(메타)아크릴산/메틸(메타)아크릴레이트 공중합체,(Meth) acrylic acid / methyl (meth) acrylate copolymer,

(메타)아크릴산/벤질(메타)아크릴레이트 공중합체,(Meth) acrylic acid / benzyl (meth) acrylate copolymer,

(메타)아크릴산/2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트/벤질(메타)아크릴레이트 공중합체,(Meth) acrylic acid / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate copolymer,

(메타)아크릴산/메틸(메타)아크릴레이트/폴리스티렌 매크로모노머 공중합체,(Meth) acrylic acid / methyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer copolymer,

(메타)아크릴산/메틸(메타)아크릴레이트/폴리메틸메타크릴레이트 매크로모노머 공중합체,(Meth) acrylic acid / methyl (meth) acrylate / polymethyl methacrylate macromonomer copolymer,

(메타)아크릴산/벤질(메타)아크릴레이트/폴리스티렌 매크로모노머 공중합체,(Meth) acrylic acid / benzyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer copolymer,

(메타)아크릴산/벤질(메타)아크릴레이트/폴리메틸메타크릴레이트 매크로모노머 공중합체,(Meth) acrylic acid / benzyl (meth) acrylate / polymethyl methacrylate macromonomer copolymer,

(메타)아크릴산/2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트/벤질(메타)아크릴레이트/폴리스티렌 매크로모노머 공중합체,(Meth) acrylic acid / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer copolymer,

(메타)아크릴산/2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트/벤질(메타)아크릴레이트/폴리메틸메타크릴레이트 매크로모노머 공중합체 등을 들 수 있다.(Meth) acrylic acid / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate / polymethyl methacrylate macromonomer copolymer.

또한, 하기와 같은 에폭시환, 옥세탄환을 포함하는 수지도 사용할 수 있다.Resins containing an epoxy ring and an oxetane ring as described below may also be used.

스티렌/메타크릴산/메타크릴산 트리시클로[5.2.1.02,6]데칸-8-일/메타크릴산 글리시딜 공중합체,Styrene / methacrylic acid / methacrylic acid tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decan-8-yl / methacrylic acid glycidyl copolymer,

스티렌/아크릴산/아크릴산 트리시클로[5.2.1.02,6]데칸-8-일/아크릴산 글리시딜 공중합체,Styrene / acrylic acid / tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane-8-yl acrylate / glycidyl acrylate copolymer,

벤질메타크릴레이트/메타크릴산/3-(메타크릴로일옥시메틸)옥세탄/t-부틸메타크릴레이트 공중합체,Benzyl methacrylate / methacrylic acid / 3- (methacryloyloxymethyl) oxetane / t-butyl methacrylate copolymer,

벤질메타크릴레이트/메타크릴산/3-(메타크릴로일옥시메틸)-3-에틸옥세탄/스티렌 공중합체,Benzyl methacrylate / methacrylic acid / 3- (methacryloyloxymethyl) -3-ethyloxetane / styrene copolymer,

부타디엔/스티렌/메타크릴산/메타크릴산 트리시클로[5.2.1.02,6]데칸-8-일/메타크릴산 글리시딜 공중합체,Butadiene / styrene / methacrylic acid / tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane-8-yl methacrylate / glycidyl methacrylate copolymer,

부타디엔/메타크릴산/메타크릴산 트리시클로[5.2.1.02,6]데칸-8-일/메타크릴산 글리시딜 공중합체,Butadiene / methacrylic acid / methacrylic acid tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decan-8-yl / methacrylic acid glycidyl copolymer,

스티렌/메타크릴산/메타크릴산 트리시클로[5.2.1.02,6]데칸-8-일/메타크릴산-6,7-에폭시헵틸 공중합체,Styrene / methacrylic acid / tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane-8-yl methacrylate / methacrylic acid-6,7-epoxyheptyl copolymer,

스티렌/아크릴산/무수 말레산/메타크릴산-6,7-에폭시헵틸 공중합체,Styrene / acrylic acid / maleic anhydride / methacrylic acid-6,7-epoxyheptyl copolymer,

t-부틸메타크릴레이트/아크릴산/무수 말레산/메타크릴산-6,7-에폭시헵틸 공중합체,t-butyl methacrylate / acrylic acid / maleic anhydride / methacrylic acid-6,7-epoxyheptyl copolymer,

스티렌/메타크릴산/메타크릴산 메틸/메타크릴산 글리시딜 공중합체,Styrene / methacrylic acid / methyl methacrylate / glycidyl methacrylate copolymer,

p-메톡시스티렌/메타크릴산/시클로헥실아크릴레이트/메타크릴산 글리시딜 공중합체.p-methoxystyrene / methacrylic acid / cyclohexyl acrylate / glycidyl methacrylate copolymer.

<(C) 중합성 화합물>&Lt; (C) Polymerizable compound >

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은 (C) 중합성 화합물을 함유한다.The colored photosensitive resin composition of the present invention contains (C) a polymerizable compound.

본 발명에 사용할 수 있는 중합성 화합물은 적어도 1개의 에틸렌성 불포화 이중결합을 갖는 부가중합성 화합물이며, 말단 에틸렌성 불포화 결합을 적어도 1개, 바람직하게는 2개 이상 갖는 화합물로부터 선택된다. 이러한 화합물군은 해당 산업분야에 있어서 널리 알려진 것이며, 본 발명에 있어서는 이것들을 특별하게 한정 없이 사용할 수 있다. 이것들은, 예를 들면 모노머, 프레폴리머, 즉 2량체, 3량체 및 올리고머, 또는 그것들의 혼합물 및 그것들의 공중합체 등의 화학적 형태를 가진다. 모노머 및 그 공중합체의 예로서는 불포화 카르복실산(예를 들면 아크릴산, 메타크릴산, 이타콘산, 크로톤산, 이소크로톤산, 말레산 등)이나, 그 에스테르류, 아미드류를 들 수 있고, 바람직하게는 불포화 카르복실산과 지방족 다가 알코올 화합물의 에스테르, 불포화 카르복실산과 지방족 다가 아민 화합물의 아미드류가 사용된다.The polymerizable compound usable in the present invention is an addition-polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated double bond, and is selected from compounds having at least one terminal ethylenic unsaturated bond, preferably at least two terminal ethylenic unsaturated bonds. Such a group of compounds is widely known in the relevant industrial field, and in the present invention, these compounds can be used without any particular limitation. They have chemical forms such as, for example, monomers, prepolymers, i.e. dimers, trimer and oligomers, or mixtures thereof and copolymers thereof. Examples of monomers and copolymers thereof include unsaturated carboxylic acids (e.g., acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), esters thereof and amides thereof, An ester of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyhydric alcohol compound, and an amide of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyvalent amine compound are used.

또한, 히드록시기나 아미노기, 메르캅토기 등의 구핵성 치환기를 갖는 불포화 카르복실산 에스테르 또는 아미드류와 단관능 또는 다관능 이소시아네이트류 또는 에폭시류와의 부가반응 생성물, 및 단관능 또는 다관능의 카르복실산과의 탈수 축합반응 생성물 등도 적합하게 사용된다. 또한, 이소시아네이트기나, 에폭시기 등의 친전자성 치환기를 갖는 불포화 카르복실산 에스테르 또는 아미드류와 단관능 또는 다관능의 알코올류, 아민류, 티올류의 부가반응물, 또한 할로겐기나, 토실옥시기 등의 탈리성 치환기를 갖는 불포화 카르복실산 에스테르 또는 아미드류와 단관능 또는 다관능의 알코올류, 아민류, 티올류의 치환 반응물도 바람직하다. 또한, 별도의 예로서 상기 불포화 카르복실산 대신에 불포화 포스폰산, 스티렌, 비닐에테르 등을 사용한 화합물군을 사용하는 것도 가능하다.Further, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a nucleophilic substituent such as a hydroxyl group, an amino group or a mercapto group with a monofunctional or polyfunctional isocyanate or an epoxide, and a monofunctional or polyfunctional carboxyl A dehydration condensation reaction product with an acid, and the like are also suitably used. In addition, an unsaturated carboxylic acid ester or amide having an electrophilic substituent such as an isocyanate group or an epoxy group, an addition reaction product of a monofunctional or polyfunctional alcohol, an amine or a thiol, or a halogen group, Unsaturated carboxylic acid esters or amides having a sex substituent and substitution reaction products of mono- or polyfunctional alcohols, amines and thiols are also preferable. As another example, it is also possible to use a group of compounds using unsaturated phosphonic acid, styrene, vinyl ether or the like instead of the unsaturated carboxylic acid.

또한, 본 명세서에서는 아크릴레이트와 메타크릴레이트를 총칭하여 (메타)아크릴레이트라 기재한다.In the present specification, acrylate and methacrylate are collectively referred to as (meth) acrylate.

지방족 다가 알코올 화합물과 불포화 카르복실산의 에스테르 모노머의 구체예로서는, (메타)아크릴산 에스테르로서 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 1,3-부탄디올디(메타)아크릴레이트, 테트라메틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리메티롤프로판트리(메타)아크릴레이트, 트리메티롤프로판트리((메타)아크릴로일옥시프로필)에테르, 트리메티롤에탄트리(메타)아크릴레이트, 헥산디올디(메타)아크릴레이트, 1,4-시클로헥산디올디(메타)아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨디(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨디(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트, 소르비톨트리아크릴레이트, 소르비톨테트라(메타)아크릴레이트, 소르비톨펜타(메타)아크릴레이트, 소르비톨헥사(메타)아크릴레이트, 트리((메타)아크릴로일옥시에틸)이소시아누레이트, 폴리에스테르(메타)아크릴레이트 올리고머, 이소시아누르산 EO 변성 트리(메타)아크릴레이트,Specific examples of the ester monomer of the aliphatic polyhydric alcohol compound and the unsaturated carboxylic acid include ethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, 1,3-butanediol di (meth) acrylate, Acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tetramethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di Acrylate, trimethylol ethane tri (meth) acrylate, hexanediol di (meth) acrylate, 1,4-cyclohexanediol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di ) Acrylate, pentaerythritol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol (Meth) acrylate, sorbitol tetra (meth) acrylate, sorbitol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, sorbitol tri (Meth) acrylate oligomer, isocyanuric acid EO-modified tri (meth) acrylate, tri (meth) acryloyloxyethyl isocyanurate, polyester (meth)

비스페놀A 디(메타)아크릴레이트, 비스페놀A 디(메타)아크릴레이트 EO 변성체, 트리메티롤프로판트리(메타)아크릴레이트, 트리메티롤프로판트리((메타)아크릴로일옥시프로필)에테르, 트리메티롤에탄트리(메타)아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨디아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라아크릴레이트 EO 변성체, 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트 EO 변성체 등이 바람직한 것으로서 들 수 있다.(Meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylol propane tri (meth) acryloyloxypropyl ether, bisphenol A di (meth) acrylate, Acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (metha) acrylate, pentaerythritol tri ) Acrylate, pentaerythritol tetraacrylate EO-modified product, and dipentaerythritol hexaacrylate EO-modified product.

이타콘산 에스테르로서는 에틸렌글리콜디이타코네이트, 프로필렌글리콜디이타코네이트, 1,3-부탄디올디이타코네이트, 1,4-부탄디올디이타코네이트, 테트라메틸렌글리콜디이타코네이트, 펜타에리스리톨디이타코네이트, 소르비톨테트라이타코네이트 등이 있다. 크로톤산 에스테르로서는 에틸렌글리콜디크로토네이트, 테트라메틸렌글리콜디크로토네이트, 펜타에리스리톨디크로토네이트, 소르비톨테트라디크로토네이트 등이 있다. 이소크로톤산 에스테르로서는 에틸렌글리콜디이소크로토네이트, 펜타에리스리톨디이소크로토네이트, 소르비톨테트라이소크로토네이트 등이 있다. 말레산 에스테르로서는 에틸렌글리콜디말레이트, 트리에틸렌글리콜디말레이트, 펜타에리스리톨디말레이트, 소르비톨테트라말레이트 등이 있다.Examples of itaconic acid esters include ethylene glycol diacetonate, propylene glycol diacetonate, 1,3-butanediol diacetonate, 1,4-butanediol diacetonate, tetramethylene glycol diacetonate, pentaerythritol diacetonate, sorbitol tetra- And Nate. Examples of the crotonic acid ester include ethylene glycol dichlonate, tetramethylene glycol dichlonate, pentaerythritol dichlonate, and sorbitol tetradecrhotonate. Examples of isocrotonic acid esters include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate, and sorbitol tetraisocrotonate. Examples of the maleic acid ester include ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate, and sorbitol tetramaleate.

기타 에스테르의 예로서, 예를 들면 일본 특허공고 소 51-47334호 공보, 일본 특허공개 소 57-196231호 공보에 기재된 지방족 알코올계 에스테르류나, 일본 특허공개 소 59-5240호 공보, 일본 특허공개 소 59-5241호 공보, 일본 특허공개 평 2-226149호 공보에 기재된 방향족계 골격을 갖는 것, 일본 특허공개 평 1-165613호 공보에 기재된 아미노기를 함유하는 것 등도 바람직하게 사용된다.Examples of other esters include aliphatic alcohol esters described in JP-A-51-47334 and JP-A-57-196231, JP-A 59-5240, JP-A- Those having an aromatic skeleton described in JP-A-59-5241, JP-A-2-226149 and those containing an amino group described in JP-A-1-165613 are preferably used.

또한, 지방족 다가 아민 화합물과 불포화 카르복실산의 아미드 모노머의 구체예로서는, 메틸렌비스-아크릴아미드, 메틸렌비스-메타크릴아미드, 1,6-헥사메틸렌비스-아크릴아미드, 1,6-헥사메틸렌비스-메타크릴아미드, 디에틸렌트리아민트리스아크릴아미드, 크실릴렌비스아크릴아미드, 크실릴렌비스메타크릴아미드 등이 있다. 그 밖의 바람직한 아미드계 모노머의 예로서는, 일본 특허공고 소 54-21726호 공보에 기재된 시클로헥실렌 구조를 갖는 것을 들 수 있다.Specific examples of the amide monomer of the aliphatic polyvalent amine compound and the unsaturated carboxylic acid include methylenebisacrylamide, methylenebis-methacrylamide, 1,6-hexamethylenebis-acrylamide, 1,6-hexamethylenebis- Methacrylamide, diethylenetriamintris acrylamide, xylylene bisacrylamide, xylylene bismethacrylamide, and the like. Examples of other preferable amide-based monomers include those having a cyclohexylene structure described in Japanese Patent Publication No. 54-21726.

또한, 이소시아네이트와 수산기의 부가반응을 이용하여 제조되는 우레탄계 부가중합성 화합물도 바람직하고, 그러한 구체예로서는, 예를 들면 일본 특허공고 소 48-41708호 공보 중에 기재되어 있는 1분자에 2개 이상의 이소시아네이트기를 갖는 폴리이소시아네이트 화합물에, 하기 일반식(Ⅴ)으로 나타내어지는 수산기를 함유하는 비닐 모노머를 부가시킨 1분자 중에 2개 이상의 중합성 비닐기를 함유하는 비닐우레탄 화합물 등을 들 수 있다.Also, urethane-based addition polymerizable compounds prepared by the addition reaction of isocyanate and hydroxyl group are also preferable. As specific examples thereof, there can be mentioned, for example, compounds having two or more isocyanate groups in one molecule described in Japanese Patent Publication No. 48-41708 , A vinyl urethane compound having two or more polymerizable vinyl groups in a molecule to which a vinyl monomer having a hydroxyl group represented by the following general formula (V) is added, and the like can be given.

일반식(Ⅴ)In general formula (V)

CH2=C(R4)COOCH2CH(R5)OH (Ⅴ)CH 2 = C (R 4 ) COOCH 2 CH (R 5 ) OH (V)

(단, R4 및 R5는 각각 독립적으로 H 또는 CH3을 나타낸다.)(Provided that R 4 and R 5 each independently represent H or CH 3 )

또한, 일본 특허공개 소 51-37193호 공보, 일본 특허공고 평 2-32293호 공보, 일본 특허공고 평 2-16765호 공보에 기재되어 있는 우레탄아크릴레이트류나, 일본 특허공고 소 58-49860호 공보, 일본 특허공고 소 56-17654호 공보, 일본 특허공고 소 62-39417호 공보, 일본 특허공고 소 62-39418호 공보에 기재된 에틸렌옥사이드계 골격을 갖는 우레탄 화합물류도 바람직하다. 또한, 일본 특허공개 소 63-277653호 공보, 일본 특허공개 소 63-260909호 공보, 일본 특허공개 평 1-105238호 공보에 기재되는 분자 내에 아미노 구조나 술피드 구조를 갖는 부가중합성 화합물류를 사용함으로써는 매우 감광 스피드가 우수한 광중합성 조성물을 얻을 수 있다.Also, urethane acrylates described in JP-A-51-37193, JP-A-2-32293, JP-A-2-16765, JP-A-58-49860, The urethane compounds having an ethylene oxide skeleton described in JP-A-56-17654, JP-A-62-39417 and JP-A-62-39418 are also preferable. Further, addition-polymerizable compounds having an amino structure or sulfide structure in the molecule described in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 63-277653, 63-260909, and 1-105238 A photopolymerizable composition having a very high sensitivity can be obtained.

그 밖의 예로서는, 일본 특허공개 소 48-64183호 공보, 일본 특허공고 소 49-43191호 공보, 일본 특허공고 소 52-30490호 공보의 각 공보에 기재되어 있는 폴리에스테르아크릴레이트류, 에폭시 수지와 (메타)아크릴산을 반응시킨 에폭시아크릴레이트류 등의 다관능의 아크릴레이트나 메타크릴레이트를 들 수 있다. 또한, 일본 특허공고 소 46-43946호 공보, 일본 특허공고 평 1-40337호 공보, 일본 특허공고 평 1-40336호 공보에 기재된 특정의 불포화 화합물이나, 일본 특허공개 평 2-25493호 공보에 기재된 비닐포스폰산계 화합물 등도 들 수 있다. 또한, 어느 경우에는 일본 특허공개 소 61-22048호 공보에 기재된 퍼플루오로알킬기를 함유하는 구조가 바람직하게 사용된다.Other examples include polyester acrylates, epoxy resins, and epoxy resins described in JP-A-48-64183, JP-A-49-43191, JP-A-52-30490 Epoxy acrylates obtained by reacting methacrylic acid with methacrylic acid, and the like. Specific unsaturated compounds described in JP-B-46-43946, JP-A-1-40337 and JP-A-1-40336, and those disclosed in JP-A-2-25493 Vinyl phosphonic acid-based compounds and the like. In addition, in either case, a structure containing the perfluoroalkyl group described in JP-A-61-22048 is preferably used.

또한, 시판품으로서는 우레탄 올리고머 UAS-10, UAB-140(산요 고쿠사쿠 펄프사 제), DPHA(니혼카야쿠사 제), UA-306H, UA-306T, UA-306I, AH-600, T-600, AI-600(교에샤 제)이 바람직하다.UA-306, UA-306T, UA-306I, AH-600, T-600, UA- AI-600 (Kyocera Corporation) is preferred.

또한, 일본 접착 협회지 vol. 20, No.7, 300∼308페이지(1984년)에 광경화성 모노머 및 올리고머로서 소개되어 있는 것도 사용할 수 있다.Also, 20, No. 7, pages 300 to 308 (1984), which are incorporated herein by reference, as photo-curable monomers and oligomers.

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물에 있어서의 (C) 중합성 화합물의 바람직한 형태는, 분자 내에 중합성기를 5 이상 15 이하 포함하는 화합물과 분자 내에 중합성기를 1 이상 4 이하 포함하는 화합물의 혼합물을 사용하는 것이다. 분자 내에 중합성기를 5 이상 15 이하 포함하는 화합물, 및 분자 내에 중합성기를 1 이상 4 이하 포함하는 화합물로서는 바람직하게는 이하의 화합물이다.The preferred form of the polymerizable compound (C) in the colored photosensitive resin composition of the present invention is a mixture of a compound containing 5 to 15 polymerizable groups in the molecule and a compound containing 1 to 4 polymerizable groups in the molecule . The compounds containing 5 or more and 15 or less polymerizable groups in the molecule and the compounds containing 1 to 4 or less polymerizable groups in the molecule are preferably the following compounds.

분자 내에 중합성기를 5 이상 15 이하 포함하는 화합물의 예로서는, 디펜타에리스리톨펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트, 소르비톨펜타(메타)아크릴레이트, 소르비톨헥사(메타)아크릴레이트, 및 U-6HA, U-15HA, UA-32P, UA-7200(이상, 신나카무라 카가쿠사 제), TO-2248, 2349, 1382(이상, 도아 고세이사 제) 등이다. 또한, 네오펜틸글리콜올리고(메타)아크릴레이트, 1,4-부탄디올올리고(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올올리고(메타)아크릴레이트, 트리메티롤프로판올리고(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨올리고(메타)아크릴레이트, 우레탄(메타)아크릴레이트, 및 에폭시(메타)아크릴레이트 등의 분자 내에 (메타)아크릴기를 5 이상 15 이하 포함하는 화합물을 들 수 있지만, 이러한 올리고머의 경우에는 분자량으로서 1000∼5000의 범위인 것이 바람직하다.Examples of the compound containing 5 or more and 15 or less polymerizable groups in the molecule include dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, sorbitol penta (meth) acrylate, sorbitol hexa (meth) , U-6HA, U-15HA, UA-32P, UA-7200 (manufactured by Shin Nakamura Kagaku Co., Ltd.) and TO-2248, 2349 and 1382 (manufactured by Doagosei Co., Ltd.). Further, it is also possible to use at least one monomer selected from the group consisting of neopentyl glycol oligo (meth) acrylate, 1,4-butanediol oligo (meth) acrylate, 1,6-hexanediol oligomer (meth) acrylate, trimethylol propane oligo (Meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, and epoxy (meth) acrylate. Examples of such oligomers include compounds having a molecular weight of 1000 To 5,000.

분자 내에 중합성기를 1 이상 4 이하 포함하는 화합물로서는 트리메티롤프로판트리(메타)아크릴레이트, 트리메티롤프로판 PO(프로필렌옥사이드) 변성 트리(메타)아크릴레이트, 트리메티롤프로판 EO(에틸렌옥사이드) 변성 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 테트라메티롤메탄테트라(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디트리메티롤프로판테트라(메타)아크릴레이트, 에톡시화 펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.(Meth) acrylate, trimethylol propane PO (propylene oxide) modified tri (meth) acrylate, trimethylolpropane EO (ethylene oxide), and the like. (Meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, tetramethylol methane tetra Propane tetra (meth) acrylate, ethoxylated pentaerythritol tetra (meth) acrylate, and the like.

분자 내에 중합성기를 5 이상 15 이하 포함하는 화합물과 분자 내에 중합성기를 1 이상 4 이하 포함하는 화합물의 혼합물을 사용할 경우, 분자 내에 중합성기를 5 이상 15 이하 포함하는 화합물과 분자 내에 중합성기를 1 이상 4 이하 포함하는 화합물의 비는, 분자 내에 중합성기를 5 이상 15 이하 포함하는 화합물:분자 내에 중합성기를 1 이상 4 이하 포함하는 화합물이 질량 환산으로 60:40∼95:5의 범위가 바람직하고, 70:30∼90:10의 범위가 보다 바람직하다.When a mixture of a compound containing 5 or more and 15 or less polymerizable groups in the molecule and a compound containing 1 to 4 polymerizable groups in the molecule is used, a compound containing 5 or more and 15 or less polymerizable groups in the molecule and 1 Or more and 4 or less is preferably a compound containing 5 or more and 15 or less polymerizable groups in the molecule and a compound containing 1 to 4 or less polymerizable groups in the molecule in a ratio of 60:40 to 95: , And more preferably in the range of from 70:30 to 90:10.

(C) 중합성 화합물의 함유량의 합계는 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물층 중의 전체 고형분 중, 10질량%∼60질량%인 것이 바람직하고, 15질량%∼50질량%인 것이 보다 바람직하고, 18질량%∼40질량%인 것이 더욱 바람직하다. The content of the polymerizable compound (C) is preferably 10% by mass to 60% by mass, more preferably 15% by mass to 50% by mass, and most preferably 18% by mass, based on the total solid content in the colored photosensitive resin composition layer of the invention. And more preferably from 40% by mass to 40% by mass.

이 범위로 함으로써 얻어지는 경화막의 내열성이 양호해지고, 현상 후의 표면 거침, 포스트베이킹 후의 주름의 발생이 효과적으로 억제된다.When the curing temperature is in the range, the heat resistance of the cured film becomes good, and surface roughness after development and generation of wrinkles after post-baking are effectively suppressed.

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물에 있어서, (C) 중합성 화합물과 후술하는 (D) 옥심계 광중합 개시제의 질량비「(D) 광중합 개시제/(C) 중합성 화합물」는 0.1 이상 2.0 이하이면 좋고, 바람직하게는 0.1 이상 1.0 이하이며, 특히 바람직하게는 0.3 이상 0.9 이하이다. 상기 범위 내로 함으로써 패턴 형성성이 양호하고, 기판과의 밀착성이 우수하다. 또한, 노광·현상 후의 마스크 굵기량이 충분해서 패턴 박리가 억제된다.In the colored photosensitive resin composition of the present invention, the mass ratio of the (D) photopolymerization initiator / (C) polymerizable compound to the polymerizable compound (C) and the oxime-based photopolymerization initiator (D) Preferably 0.1 or more and 1.0 or less, and particularly preferably 0.3 or more and 0.9 or less. Within the above range, the pattern forming property is good and the adhesion with the substrate is excellent. Further, the thickness of the mask after exposure and development is sufficient, and pattern separation is suppressed.

<(D) 옥심계 광중합 개시제><(D) Oxime-based photopolymerization initiator>

본 발명에 있어서의 (D) 옥심계 광중합 개시제로서는 옥심에스테르 구조를 갖고, 상기 (C) 중합성 화합물의 중합을 개시, 촉진하는 화합물이면 종래 공지의 것을 제한 없이 사용할 수 있고, 옥심에스테르 화합물, 및 케토옥심 화합물 등을 들 수 있다. 구체적으로는, 예를 들면 하기 일반식(Ⅲ)으로 나타내어지는 케토옥심계 광중합 개시제, 일본 특허공개 2005-220097 공보에 기재된 하기 일반식(D-1)으로 나타내어지는 옥심계 광중합 개시제, 일본 특허공개 2006-516246 공보에 기재된 옥심계 광중합 개시제 등을 들 수 있고, 경화 감도나 포스트베이킹 후의 착색 억제의 관점으로부터는 하기 일반식(Ⅲ)으로 나타내어지는 케토옥심계 광중합 개시제가 바람직하다.As the oxime-based photopolymerization initiator (D) in the present invention, any of conventionally known compounds having an oxime ester structure and initiating and promoting polymerization of the above-mentioned (C) polymerizable compound can be used without any limitation, and oxime ester compounds and Keto oxime compounds and the like. Specific examples thereof include a ketoxime photopolymerization initiator represented by the following general formula (III), a oxime-based photopolymerization initiator represented by the following general formula (D-1) described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-220097, Oxime-based photopolymerization initiator described in JP-A-2006-516246, etc. From the viewpoint of curing sensitivity and inhibition of coloring after post-baking, a ketoxime photopolymerization initiator represented by the following general formula (III) is preferable.

Figure 112011028945611-pat00025
Figure 112011028945611-pat00025

일반식(D-1) 중, X1은 수소원자, 할로겐 원자, 또는 알킬기를 나타내고, R1은 -R, -OR, -COR, -SR, -CONRR', 또는 -CN을 나타내고, R2 및 R3은 각각 독립적으로 -R, -OR, -COR, -SR, 또는 -NRR'를 나타낸다. R 및 R'는 각각 독립적으로 알킬기, 아릴기, 아랄킬기, 또는 복소환기를 나타내고, 이들 기는 할로겐 원자 및 복소환기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 이상으로 치환되어 있어도 좋고, 상기 알킬기, 및 아랄킬기에 있어서의 알킬쇄를 구성하는 탄소원자의 1 이상이 불포화 결합, 에테르 결합, 또는 에스테르 결합으로 치환되어 있어도 좋으며, R 및 R'는 서로 결합해서 환을 형성하고 있어도 좋다.In the general formula (D-1), X 1 is a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group, R 1 is -R, -OR, -COR, -SR, -CONRR represents a ', or -CN, R 2 And R 3 each independently represent -R, -OR, -COR, -SR, or -NRR '. R and R 'each independently represents an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, or a heterocyclic group, which may be substituted with at least one group selected from the group consisting of a halogen atom and a heterocyclic group, At least one of carbon atoms constituting the alkyl chain in the alkyl group may be substituted by an unsaturated bond, an ether bond or an ester bond, and R and R 'may be bonded to each other to form a ring.

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일반식(Ⅲ) 중, R 및 X는 각각 독립적으로 1가의 치환기를 나타내고, A는 2가의 유기기를 나타내고, Ar은 아릴기를 나타낸다. n은 0∼5의 정수이다. X가 복수존재할 경우, 복수의 X는 각각 독립적으로 1가의 치환기를 나타낸다.In the general formula (III), R and X each independently represent a monovalent substituent, A represents a divalent organic group, and Ar represents an aryl group. n is an integer of 0 to 5; When a plurality of X's are present, a plurality of X's each independently represent a monovalent substituent.

상기 R로 나타내어지는 1가의 치환기로서는, 이하에 나타내는 1가의 비금속원자단인 것이 바람직하다.The monovalent substituent represented by R is preferably a monovalent non-metallic atom shown below.

R로 나타내어지는 1가의 비금속 원자단으로서는, 치환기를 가져도 좋은 알킬기, 치환기를 가져도 좋은 아릴기, 치환기를 가져도 좋은 알케닐기, 치환기를 가져도 좋은 알키닐기, 치환기를 가져도 좋은 알킬술피닐기, 치환기를 가져도 좋은 아릴술피닐기, 치환기를 가져도 좋은 알킬술포닐기, 치환기를 가져도 좋은 아릴술포닐기, 치환기를 가져도 좋은 아실기, 치환기를 가져도 좋은 알콕시카르보닐기, 치환기를 가져도 좋은 아릴옥시카르보닐기, 치환기를 가져도 좋은 포스피노일기, 치환기를 가져도 좋은 복소환기, 치환기를 가져도 좋은 알킬티오카르보닐기, 치환기를 가져도 좋은 아릴티오카르보닐기, 치환기를 가져도 좋은 디알킬아미노카르보닐기, 치환기를 가져도 좋은 디알킬아미노티오카르보닐기 등을 들 수 있다.Examples of the monovalent nonmetal atomic group represented by R include an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, an alkenyl group which may have a substituent, an alkynyl group which may have a substituent, an alkylsulfinyl group which may have a substituent, An arylsulfinyl group which may have a substituent, an alkylsulfonyl group which may have a substituent, an arylsulfonyl group which may have a substituent, an acyl group which may have a substituent, an alkoxycarbonyl group which may have a substituent, A carbonyl group, a phosphinoyl group which may have a substituent, a heterocyclic group which may have a substituent, an alkylthiocarbonyl group which may have a substituent, an arylthiocarbonyl group which may have a substituent, a dialkylaminocarbonyl group which may have a substituent, And a dialkylaminothiocarbonyl group which may have a substituent.

치환기를 가져도 좋은 알킬기로서는 탄소수 1∼30의 알킬기가 바람직하고, 예를 들면 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 헥실기, 옥틸기, 데실기, 도데실기, 옥타데실기, 이소프로필기, 이소부틸기, sec-부틸기, t-부틸기, 1-에틸펜틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 트리플루오로메틸기, 2-에틸헥실기, 페나실기, 1-나프토일메틸기, 2-나프토일메틸기, 4-메틸술파닐페나실기, 4-페닐술파닐페나실기, 4-디메틸아미노페나실기, 4-시아노페나실기, 4-메틸페나실기, 2-메틸페나실기, 3-플루오로페나실기, 3-트리플루오로메틸페나실기, 3-니트로페나실기 등을 들 수 있다.The alkyl group which may have a substituent is preferably an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, and examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a hexyl group, an octyl group, a decyl group, a dodecyl group, N-butyl, isobutyl, sec-butyl, t-butyl, 1-ethylpentyl, cyclopentyl, 4-methylphenacyl group, 2-methylphenacyl group, 3-fluoro-4-methylphenacyl group, 4-methylphenoxyphenacyl group, Phenanthryl group, phenacyl group, 3-trifluoromethylphenacyl group and 3-nitrophenacyl group.

치환기를 가져도 좋은 아릴기로서는 탄소수 6∼30의 아릴기가 바람직하고, 예를 들면 페닐기, 비페닐기, 1-나프틸기, 2-나프틸기, 9-안트릴기, 9-페난트릴기, 1-피레닐기, 5-나프타세닐기, 1-인데닐기, 2-아줄레닐기, 9-플루오레닐기, 터페닐기, 쿼터페닐기, o-, m-, 및 p-톨릴기, 크실릴기, o-, m-, 및 p-쿠메닐기, 메시틸기, 펜타레닐기, 비나프타레닐기, 터나프타닐기, 쿼터나프타레닐기, 헵타레닐기, 비페닐레닐기, 인다세닐기, 플루오란테닐기, 아세나프틸레닐기, 아세안트릴레닐기, 페나레닐기, 플루오레닐기, 안트릴기, 비안트라세닐기, 터안트라세닐기, 쿼터안트라세닐기, 안트라퀴놀릴기, 페난트릴기, 트리페닐레닐기, 피레닐기, 클리세닐기, 나프타세닐기, 플레이아데닐기, 피세닐기, 페릴레닐기, 펜타페닐기, 펜타세닐기, 테트라페닐레닐기, 헥사페닐기, 헥사세닐기, 루비세닐기, 코로네닐기, 트리나프틸레닐기, 헵타페닐기, 헵타세닐기, 피란트레닐기, 오발레닐기 등을 들 수 있다.The aryl group which may have a substituent is preferably an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, and examples thereof include a phenyl group, a biphenyl group, a 1-naphthyl group, a 2-naphthyl group, a 9-anthryl group, A naphthacenyl group, a 5-naphthacenyl group, a 1-indenyl group, a 2-azulenyl group, a 9-fluorenyl group, a terphenyl group, a quaterphenyl group, o-, m- and p- , m-, and p-cumenyl group, mesityl group, pentarenyl group, binaphthalenyl group, teraphthanyl group, quaternaphthalenyl group, heptarenyl group, biphenylenyl group, indacenyl group, fluoranthenyl group, A phenanthryl group, a phenanthryl group, an anthryl group, a biantracenyl group, a teranthracenyl group, a quateranthracenyl group, an anthraquinolyl group, a phenanthryl group, a triphenylenyl group, A naphthacenyl group, a naphthacenyl group, a pheadenyl group, a picenyl group, a perylenyl group, a pentaphenyl group, a pentacenyl group, a tetraphenylenyl group, a hexaphenyl group, a hexyl group Hexenyl group, ruby and the like hexenyl group, a co-Ro group, tri tilre naphthyl group, a heptadecyl group, a heptadecyl hexenyl group, a pyran group Trail, Oh ballet group.

치환기를 가져도 좋은 알케닐기로서는 탄소수 2∼10의 알케닐기가 바람직하고, 예를 들면 비닐기, 알릴기, 스티릴기 등을 들 수 있다.The alkenyl group which may have a substituent is preferably an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, and examples thereof include a vinyl group, an allyl group and a styryl group.

치환기를 가져도 좋은 알키닐기로서는 탄소수 2∼10의 알키닐기가 바람직하고, 예를 들면 에티닐기, 프로피닐기, 프로파르길기 등을 들 수 있다.The alkynyl group which may have a substituent is preferably an alkynyl group having 2 to 10 carbon atoms, and examples thereof include an ethynyl group, a propynyl group, and a propargyl group.

치환기를 가져도 좋은 알킬술피닐기로서는 탄소수 1∼20의 알킬술피닐기가 바람직하고, 예를 들면 메틸술피닐기, 에틸술피닐기, 프로필술피닐기, 이소프로필술피닐기, 부틸술피닐기, 헥실술피닐기, 시클로헥실술피닐기, 옥틸술피닐기, 2-에틸헥실술피닐기, 데카노일술피닐기, 도데카노일술피닐기, 옥타데카노일술피닐기, 시아노메틸술피닐기, 메톡시메틸술피닐기 등을 들 수 있다.The alkylsulfinyl group which may have a substituent is preferably an alkylsulfinyl group having 1 to 20 carbon atoms, and examples thereof include a methylsulfinyl group, an ethylsulfinyl group, a propylsulfinyl group, an isopropylsulfinyl group, a butylsulfinyl group, a hexylsulfinyl group, Hexylsulfinyl group, octylsulfinyl group, 2-ethylhexylsulfinyl group, decanoylsulfinyl group, dodecanoylsulfinyl group, octadecanoylsulfinyl group, cyanomethylsulfinyl group, methoxymethylsulfinyl group and the like.

치환기를 가져도 좋은 아릴술피닐기로서는 탄소수 6∼30의 아릴술피닐기가 바람직하고, 예를 들면 페닐술피닐기, 1-나프틸술피닐기, 2-나프틸술피닐기, 2-클로로페닐술피닐기, 2-메틸페닐술피닐기, 2-메톡시페닐술피닐기, 2-부톡시페닐술피닐기, 3-클로로페닐술피닐기, 3-트리플루오로메틸페닐술피닐기, 3-시아노페닐술피닐기, 3-니트로페닐술피닐기, 4-플루오로페닐술피닐기, 4-시아노페닐술피닐기, 4-메톡시페닐술피닐기, 4-메틸술파닐페닐술피닐기, 4-페닐술파닐페닐술피닐기, 4-디메틸아미노페닐술피닐기 등을 들 수 있다.The arylsulfinyl group which may have a substituent is preferably an arylsulfinyl group having 6 to 30 carbon atoms, and examples thereof include a phenylsulfinyl group, a 1-naphthylsulfinyl group, a 2-naphthylsulfinyl group, a 2-chlorophenylsulfinyl group, A 2-methoxyphenylsulfinyl group, a 2-methoxyphenylsulfinyl group, a 3-chlorophenylsulfinyl group, a 3-trifluoromethylphenylsulfinyl group, a 3-cyanophenylsulfinyl group, a 3-nitrophenylsulfinyl group, Phenylphenylsulfinyl group, 4-fluorophenylsulfinyl group, 4-fluorophenylsulfinyl group, 4-fluorophenylsulfinyl group, 4-fluorophenylsulfinyl group, 4-fluorophenylsulfinyl group, Nylon and the like.

치환기를 가져도 좋은 알킬술포닐기로서는 탄소수 1∼20의 알킬술포닐기가 바람직하고, 예를 들면 메틸술포닐기, 에틸술포닐기, 프로필술포닐기, 이소프로필술포닐기, 부틸술포닐기, 헥실술포닐기, 시클로헥실술포닐기, 옥틸술포닐기, 2-에틸헥실술포닐기, 데카노일술포닐기, 도데카노일술포닐기, 옥타데카노일술포닐기, 시아노메틸술포닐기, 메톡시메틸술포닐기, 퍼플루오로알킬술포닐기 등을 들 수 있다.The alkylsulfonyl group which may have a substituent is preferably an alkylsulfonyl group having 1 to 20 carbon atoms, and examples thereof include a methylsulfonyl group, an ethylsulfonyl group, a propylsulfonyl group, an isopropylsulfonyl group, a butylsulfonyl group, a hexylsulfonyl group, A hexylsulfonyl group, an octylsulfonyl group, a 2-ethylhexylsulfonyl group, a decanoylsulfonyl group, a dodecanoylsulfonyl group, an octadecanoylsulfonyl group, a cyanomethylsulfonyl group, a methoxymethylsulfonyl group, a perfluoroalkylsulfonyl group And the like.

치환기를 가져도 좋은 아릴술포닐기로서는 탄소수 6∼30의 아릴술포닐기가 바람직하고, 예를 들면 페닐술포닐기, 1-나프틸술포닐기, 2-나프틸술포닐기, 2-클로로페닐술포닐기, 2-메틸페닐술포닐기, 2-메톡시페닐술포닐기, 2-부톡시페닐술포닐기, 3-클로로페닐술포닐기, 3-트리플루오로메틸페닐술포닐기, 3-시아노페닐술포닐기, 3-니트로페닐술포닐기, 4-플루오로페닐술포닐기, 4-시아노페닐술포닐기, 4-메톡시페닐술포닐기, 4-메틸술파닐페닐술포닐기, 4-페닐술파닐페닐술포닐기, 4-디메틸아미노페닐술포닐기 등을 들 수 있다.The arylsulfonyl group which may have a substituent is preferably an arylsulfonyl group having 6 to 30 carbon atoms, and examples thereof include a phenylsulfonyl group, a 1-naphthylsulfonyl group, a 2-naphthylsulfonyl group, a 2-chlorophenylsulfonyl group, A 2-methoxyphenylsulfonyl group, a 3-chlorophenylsulfonyl group, a 3-trifluoromethylphenylsulfonyl group, a 3-cyanophenylsulfonyl group, a 3-nitrophenylsulfone group, 4-fluorophenylsulfinyl group, 4-fluorophenylsulfinyl group, 4-fluorophenylsulfinyl group, 4-fluorophenylsulfinyl group, 4-fluorophenylsulfinyl group, Nylon and the like.

치환기를 가져도 좋은 아실기로서는 탄소수 2∼20의 아실기가 바람직하고, 예를 들면 아세틸기, 프로파노일기, 부타노일기, 트리플루오로메틸카르보닐기, 펜타노일기, 벤조일기, 1-나프토일기, 2-나프토일기, 4-메틸술파닐벤조일기, 4-페닐술파닐벤조일기, 4-디메틸아미노벤조일기, 4-디에틸아미노벤조일기, 2-클로로벤조일기, 2-메틸벤조일기, 2-메톡시벤조일기, 2-부톡시벤조일기, 3-클로로벤조일기, 3-트리플루오로메틸벤조일기, 3-시아노벤조일기, 3-니트로벤조일기, 4-플루오로벤조일기, 4-시아노벤조일기, 4-메톡시벤조일기 등을 들 수 있다.The acyl group which may have a substituent is preferably an acyl group having 2 to 20 carbon atoms, and examples thereof include an acetyl group, a propanoyl group, a butanoyl group, a trifluoromethylcarbonyl group, a pentanoyl group, a benzoyl group, a 1-naphthoyl group, A 2-chlorobenzoyl group, a 2-methylbenzoyl group, a 2-methylbenzoyl group, a 2-methylbenzoyl group, a 2-methylbenzoyl group, a 2- A 2-butoxybenzoyl group, a 3-chlorobenzoyl group, a 3-trifluoromethylbenzoyl group, a 3-cyanobenzoyl group, a 3-nitrobenzoyl group, a 4-fluorobenzoyl group, Norbornyl group, 4-methoxybenzoyl group and the like.

치환기를 가져도 좋은 알콕시카르보닐기로서는 탄소수 2∼20의 알콕시카르보닐기가 바람직하고, 예를 들면 메톡시카르보닐기, 에톡시카르보닐기, 프로폭시카르보닐기, 부톡시카르보닐기, 헥실옥시카르보닐기, 옥틸옥시카르보닐기, 데실옥시카르보닐기, 옥타데실옥시카르보닐기, 트리플루오로메틸옥시카르보닐기 등을 들 수 있다.The alkoxycarbonyl group which may have a substituent is preferably an alkoxycarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms, and examples thereof include a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, a propoxycarbonyl group, a butoxycarbonyl group, a hexyloxycarbonyl group, an octyloxycarbonyl group, a decyloxycarbonyl group, An octadecyloxycarbonyl group, and a trifluoromethyloxycarbonyl group.

치환기를 가져도 좋은 아릴옥시카르보닐기로서는 페녹시카르보닐기, 1-나프틸옥시카르보닐기, 2-나프틸옥시카르보닐기, 4-메틸술파닐페닐옥시카르보닐기, 4-페닐술파닐페닐옥시카르보닐기, 4-디메틸아미노페닐옥시카르보닐기, 4-디에틸아미노페닐옥시카르보닐기, 2-클로로페닐옥시카르보닐기, 2-메틸페닐옥시카르보닐기, 2-메톡시페닐옥시카르보닐기, 2-부톡시페닐옥시카르보닐기, 3-클로로페닐옥시카르보닐기, 3-트리플루오로메틸페닐옥시카르보닐기, 3-시아노페닐옥시카르보닐기, 3-니트로페닐옥시카르보닐기, 4-플루오로페닐옥시카르보닐기, 4-시아노페닐옥시카르보닐기, 4-메톡시페닐옥시카르보닐기 등을 들 수 있다.Examples of the aryloxycarbonyl group which may have a substituent include a phenoxycarbonyl group, a 1-naphthyloxycarbonyl group, a 2-naphthyloxycarbonyl group, a 4-methylsulfanylphenyloxycarbonyl group, a 4- phenylsulfanylphenyloxycarbonyl group, Butoxycarbonyl group, 3-chlorophenyloxycarbonyl group, 3-chlorophenyloxycarbonyl group, 3-chlorophenyloxycarbonyl group, 2-methoxyphenyloxycarbonyl group, 2- A 3-nitrophenyloxycarbonyl group, a 4-fluorophenyloxycarbonyl group, a 4-cyanophenyloxycarbonyl group, a 4-methoxyphenyloxycarbonyl group and the like can be given .

치환기를 가져도 좋은 포스피노일기로서는 총탄소수 2∼50의 포스피노일기가 바람직하고, 예를 들면 디메틸포스피노일기, 디에틸포스피노일기, 디프로필포스피노일기, 디페닐포스피노일기, 디메톡시포스피노일기, 디에톡시포스피노일기, 디벤조일포스피노일기, 비스(2,4,6-트리메틸페닐)포스피노일기 등을 들 수 있다.As the phosphinoyl group which may have a substituent, a phosphinoyl group having 2 to 50 carbon atoms in total is preferable, and examples thereof include a dimethylphosphinoyl group, a diethylphosphinoyl group, a dipropylphosphinoyl group, a diphenylphosphinoyl group, A phosphinoyl group, a diethoxyphosphinoyl group, a dibenzoylphosphinoyl group, and a bis (2,4,6-trimethylphenyl) phosphinoyl group.

치환기를 가져도 좋은 복소환기로서는 질소원자, 산소원자, 유황원자, 인원자를 포함한 방향족 또는 지방족의 복소환이 바람직하다. 예를 들면, 티에닐기, 벤조[b]티에닐기, 나프토[2,3-b]티에닐기, 티안트레닐기, 푸릴기, 피라닐기, 이소벤조푸라닐기, 쿠로메닐기, 크산테닐기, 페녹사티이닐기, 2H-피롤릴기, 피롤릴기, 이미다졸릴기, 피라졸릴기, 피리딜기, 피라지닐기, 피리미디닐기, 피리다지닐기, 인돌리지닐기, 이소인돌릴기, 3H-인돌릴기, 인돌릴기, 1H-인다졸릴기, 푸리닐기, 4H-퀴놀리지닐기, 이소퀴놀릴기, 퀴놀릴기, 프탈라지닐기, 나프티리디닐기, 퀴녹사니릴기, 퀴나졸리닐기, 시놀리닐기, 프테리디닐기, 4aH-카르바졸릴기, 카르바졸릴기, β-카르보리닐기, 페난트리디닐기, 아크리디닐기, 페리미디닐기, 페난트롤리닐기, 페나지닐기, 페나르사지닐기, 이소티아졸릴기, 페노티아지닐기, 이속사졸릴기, 푸라자닐기, 페녹사지닐기, 이소크로마닐기, 크로마닐기, 피롤리디닐기, 피롤리닐기, 이미다졸리디닐기, 이미다졸리닐기, 피라졸리디닐기, 피라졸리닐기, 피페리딜기, 피페라지닐기, 인돌리닐기, 이소인돌리닐기, 키누클리디닐기, 모르폴리닐기, 티옥산트릴기 등을 들 수 있다.The heterocyclic group which may have a substituent is preferably an aromatic or aliphatic heterocycle including a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom, and a phosphorus atom. For example, thienyl, benzo [b] thienyl, naphtho [2,3-b] thienyl, thienyl, furyl, An imidazolyl group, a pyrazolyl group, a pyridyl group, a pyrazinyl group, a pyrimidinyl group, a pyridazinyl group, an indolizinyl group, an isoindolyl group, a 3H-indole group A quinolinyl group, a quinolinyl group, a quinolinyl group, a quinolinyl group, a quinolinyl group, a quinolyl group, a quinolyl group, a quinolyl group, a quinolyl group, , A pyrimidinyl group, a phenanthrolinyl group, a phenazinyl group, a phenarsaazinyl group, a pyrimidinyl group, a pyrimidinyl group, a pyrimidinyl group, a pyrimidinyl group, , Isothiazolyl group, phenothiazinyl group, isoxazolyl group, furazanyl group, phenoxazinyl group, isochromanyl group, chromanyl group, pyrrolidinyl group, pyrrolinyl , Imidazolidinyl group, imidazolinyl group, pyrazolidinyl group, pyrazolinyl group, piperidyl group, piperazinyl group, indolinyl group, isoindolinyl group, quinuclidinyl group, morpholinyl group, And a trityl group.

치환기를 가져도 좋은 알킬티오카르보닐기로서는, 예를 들면 메틸티오카르보닐기, 프로필티오카르보닐기, 부틸티오카르보닐기, 헥실티오카르보닐기, 옥틸티오카르보닐기, 데실티오카르보닐기, 옥타데실티오카르보닐기, 트리플루오로메틸티오카르보닐기 등을 들 수 있다.Examples of the alkylthiocarbonyl group which may have a substituent include a methylthiocarbonyl group, a propylthiocarbonyl group, a butylthiocarbonyl group, a hexylthiocarbonyl group, an octylthiocarbonyl group, a decylthiocarbonyl group, an octadecylthiocarbonyl group, a trifluoromethylthiocarbonyl group and the like .

치환기를 가져도 좋은 아릴티오카르보닐기로서는 1-나프틸티오카르보닐기, 2-나프틸티오카르보닐기, 4-메틸술파닐페닐티오카르보닐기, 4-페닐술파닐페닐티오카르보닐기, 4-디메틸아미노페닐티오카르보닐기, 4-디에틸아미노페닐티오카르보닐기, 2-클로로페닐티오카르보닐기, 2-메틸페닐티오카르보닐기, 2-메톡시페닐티오카르보닐기, 2-부톡시페닐티오카르보닐기, 3-클로로페닐티오카르보닐기, 3-트리플루오로메틸페닐티오카르보닐기, 3-시아노페닐티오카르보닐기, 3-니트로페닐티오카르보닐기, 4-플루오로페닐티오카르보닐기, 4-시아노페닐티오카르보닐기, 4-메톡시페닐티오카르보닐기 등을 들 수 있다.Examples of the arylthiocarbonyl group which may have a substituent include a 1-naphthylthiocarbonyl group, a 2-naphthylthiocarbonyl group, a 4-methylsulfanylphenylthiocarbonyl group, a 4-phenylsulfanylphenylthiocarbonyl group, a 4-dimethylaminophenylthiocarbonyl group, A 2-chlorophenylthiocarbonyl group, a 2-chlorophenylthiocarbonyl group, a 2-methoxyphenylthiocarbonyl group, a 2-butoxyphenylthiocarbonyl group, a 3- chlorophenylthiocarbonyl group, Thiocarbonyl group, 3-cyanophenylthiocarbonyl group, 3-nitrophenylthiocarbonyl group, 4-fluorophenylthiocarbonyl group, 4-cyanophenylthiocarbonyl group and 4-methoxyphenylthiocarbonyl group.

치환기를 가져도 좋은 디알킬아미노카르보닐기로서는 디메틸아미노카르보닐기, 디에틸아미노카르보닐기, 디프로필아미노카르보닐기, 디부틸아미노카르보닐기 등을 들 수 있다.Examples of the dialkylaminocarbonyl group which may have a substituent include a dimethylaminocarbonyl group, a diethylaminocarbonyl group, a dipropylaminocarbonyl group and a dibutylaminocarbonyl group.

치환기를 가져도 좋은 디알킬아미노티오카르보닐기로서는 디메틸아미노티오카르보닐기, 디프로필아미노티오카르보닐기, 디부틸아미노티오카르보닐기 등을 들 수 있다.Examples of the dialkylaminothiocarbonyl group which may have a substituent include a dimethylaminothiocarbonyl group, a dipropylaminothiocarbonyl group and a dibutylaminothiocarbonyl group.

상기 R로서는 고감도화의 점으로부터 무치환의 또는 치환기를 갖는 아실기가 보다 바람직하고, 구체적으로는 무치환의 또는 치환기를 갖는 아세틸기, 프로피오닐기, 벤조일기, 톨루일기가 바람직하다.The R is preferably an unsubstituted or substituted acyl group from the viewpoint of high sensitivity, and specifically, an acetyl group, a propionyl group, a benzoyl group or a toluyl group having an unsubstituted or substituted group is preferable.

상기 치환기로서는, 예를 들면 하기 구조식으로 나타내어지는 기를 들 수 있고, 그 중에서도 (d-1), (d-4) 및 (d-5) 중 어느 하나가 바람직하다.Examples of the substituent include groups represented by the following structural formulas, and among them, any one of (d-1), (d-4) and (d-5) is preferable.

Figure 112011028945611-pat00027
Figure 112011028945611-pat00027

상기 A로 나타내어지는 2가의 유기기로서는 치환기를 가져도 좋은 탄소수 1∼12의 알킬렌, 치환기를 가져도 좋은 시클로헥실렌, 치환기를 가져도 좋은 알키닐렌을 들 수 있다.Examples of the divalent organic group represented by A include alkylene having 1 to 12 carbon atoms, which may have a substituent, cyclohexylene which may have a substituent, and alkynylene which may have a substituent.

이들 기에 도입할 수 있는 치환기로서는, 예를 들면 불소원자, 염소원자, 브롬원자, 요오드원자 등의 할로겐 원자, 메톡시기, 에톡시기, tert-부톡시기 등의 알콕시기, 페녹시기, p-톨릴옥시기 등의 아릴옥시기, 메톡시카르보닐기, 부톡시카르보닐기, 페녹시카르보닐기 등의 알콕시카르보닐기 또는 아릴옥시카르보닐기, 아세톡시기, 프로피오닐옥시기, 벤조일옥시기 등의 아실옥시기, 아세틸기, 벤조일기, 이소부티릴기, 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 메톡살릴기 등의 아실기, 메틸술파닐기, tert-부틸술파닐기 등의 알킬술파닐기, 페닐술파닐기, p-톨릴술파닐기 등의 아릴술파닐기, 메틸아미노기, 시클로헥실아미노기 등의 알킬아미노기, 디메틸아미노기, 디에틸아미노기, 모르폴리노기, 피페리디노기 등의 디알킬아미노기, 페닐아미노기, p-톨릴아미노기 등의 아릴아미노기, 메틸기, 에틸기, tert-부틸기, 도데실기 등의 알킬기, 페닐기, p-톨릴기, 크실릴기, 쿠메닐기, 나프틸기, 안트릴기, 페난트릴기 등의 아릴기 등 외에, 히드록시기, 카르복시기, 포르밀기, 메르캅토기, 술포기, 메실기, p-톨루엔술포닐기, 아미노기, 니트로기, 시아노기, 트리플루오로메틸기, 트리클로로메틸기, 트리메틸실릴기, 포스피니코기, 포스포노기, 트리메틸암모늄일기, 디메틸술포늄일기, 트리페닐페나실포스포늄일기 등을 들 수 있다.Examples of the substituent that can be introduced into these groups include a halogen atom such as a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom, an alkoxy group such as a methoxy group, an ethoxy group and a tert-butoxy group, An alkoxycarbonyl group such as a methoxycarbonyl group, a butoxycarbonyl group or a phenoxycarbonyl group or an acyloxy group such as an aryloxycarbonyl group, an acetoxy group, a propionyloxy group or a benzoyloxy group, an acetyl group, a benzoyl group , An alkylsulfanyl group such as an isobutyryl group, an acryloyl group, a methacryloyl group or a methoxyl group, an alkylsulfanyl group such as a methylsulfanyl group or a tert-butylsulfanyl group, an arylsulfanyl group such as a phenylsulfanyl group or a p- An alkylamino group such as a methylamino group and a cyclohexylamino group, a dialkylamino group such as a dimethylamino group, a diethylamino group, a morpholino group and a piperidino group, a phenylamino group, a p-tolylamino group An alkyl group such as methyl group, ethyl group, tert-butyl group and dodecyl group, an aryl group such as phenyl group, p-tolyl group, xylyl group, cumenyl group, naphthyl group, anthryl group, and phenanthryl group A hydroxyl group, a carboxy group, a formyl group, a mercapto group, a sulfo group, a mesyl group, a p-toluenesulfonyl group, an amino group, a nitro group, a cyano group, a trifluoromethyl group, a trichloromethyl group, a trimethylsilyl group, A phosphono group, a trimethylammonium group, a dimethylsulfonium group, and a triphenylphenacylphosphonium group.

그 중에서도, 상기 A로서는 감도를 높이고, 가열 경시에 의한 착색을 억제하는 점으로부터 무치환의 알킬렌기, 알킬기(예를 들면 메틸기, 에틸기, tert-부틸기, 도데실기)로 치환된 알킬렌기, 알케닐기(예를 들면 비닐기, 알릴기)로 치환된 알킬렌기, 아릴기(예를 들면 페닐기, p-톨릴기, 크실릴기, 쿠메닐기, 나프틸기, 안트릴기, 페난트릴기, 스티릴기)로 치환된 알킬렌기가 바람직하다.Above all, A is preferably an alkylene group substituted by an unsubstituted alkylene group, an alkyl group (e.g., methyl group, ethyl group, tert-butyl group or dodecyl group) from the viewpoint of increasing the sensitivity and inhibiting coloration by heating, An alkyl group substituted with a vinyl group (e.g., a vinyl group or an allyl group), an aryl group (e.g., a phenyl group, a p-tolyl group, a xylyl group, a cumenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a phenanthryl group, ) Is preferable.

상기 Ar로 나타내어지는 아릴기로서는 탄소수 6∼30의 아릴기가 바람직하고, 또한 치환기를 갖고 있어도 좋다.The aryl group represented by Ar is preferably an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, and may have a substituent.

구체적으로는, Ar은 페닐기, 비페닐기, 1-나프틸기, 2-나프틸기, 9-안트릴기, 9-페난트릴기, 1-피레닐기, 5-나프타세닐기, 1-인데닐기, 2-아줄레닐기, 9-플루오레닐기, 터페닐기, 쿼터페닐기, o-, m-, 및 p-톨릴기, 크실릴기, o-, m-, 및 p-쿠메닐기, 메시틸기, 펜타레닐기, 비나프타레닐기, 터나프타닐기, 쿼터나프타레닐기, 헵타레닐기, 비페닐레닐기, 인다세닐기, 플루오란테닐기, 아세나프틸레닐기, 아세안트릴레닐기, 페나레닐기, 플루오레닐기, 안트릴기, 비안트라세닐기, 터안트라세닐기, 쿼터안트라세닐기, 안트라퀴놀릴기, 페난트릴기, 트리페닐레닐기, 피레닐기, 클리세닐기, 나프타세닐기, 플레이아데닐기, 피세닐기, 페릴레닐기, 펜타 페닐기, 펜타세닐기, 테트라페닐레닐기, 헥사페닐기, 헥사세닐기, 루비세닐기, 코로네닐기, 트리나프틸레닐기, 헵타페닐기, 헵타세닐기, 피란트레닐기, 오발레닐기 등을 들 수 있다. 그 중에서도 감도를 높이고, 가열 경시에 의한 착색을 억제하는 점에서 치환 또는 무치환의 페닐기가 바람직하다.Specifically, Ar represents a phenyl group, a biphenyl group, a 1-naphthyl group, a 2-naphthyl group, a 9-anthryl group, a 9-phenanthryl group, a 1-pyrenyl group, a 5-naphthacenyl group, An azulenyl group, a 9-fluorenyl group, a terphenyl group, a quaterphenyl group, o-, m- and p-tolyl groups, a xylyl group, o-, m-, and p- An acenaphthyl group, an acenaphthyl group, an acenaphthyl group, a phenanthrenyl group, a phenanthrenyl group, a phenanthrenyl group, an acenaphthyl group, a phenanthryl group, A phenanthryl group, a phenanthryl group, a pyrenyl group, a clicenyl group, a naphthacenyl group, a playadenyl group, a naphthacenyl group, a naphthacenyl group, a thienyl group, A phenanthryl group, a phenanthryl group, a perynyl group, a perylenyl group, a pentaphenyl group, a pentacenyl group, a tetraphenylenyl group, a hexaphenyl group, a hexacenyl group, a rubicenyl group, a coronenyl group, a trinaphthylenyl group, , And the like cyclohepta hexenyl group, a pyran group Trail, Oh ballet group. Of these, a substituted or unsubstituted phenyl group is preferred in view of increasing the sensitivity and inhibiting coloration due to heating over time.

상기 페닐기가 치환기를 갖고 있을 경우, 그 치환기로서는 예를 들면 불소원자, 염소원자, 브롬원자, 요오드원자 등의 할로겐 원자, 메톡시기, 에톡시기, tert-부톡시기 등의 알콕시기, 페녹시기, p-톨릴옥시기 등의 아릴옥시기, 메틸티오옥시기, 에틸티오옥시기, tert-부틸티오옥시기 등의 알킬티오옥시기, 페닐티오옥시기, p-톨릴티오옥시기 등의 아릴티오옥시기, 메톡시카르보닐기, 부톡시카르보닐기, 페녹시카르보닐기 등의 알콕시카르보닐기 또는 아릴옥시카르보닐기, 아세톡시기, 프로피오닐옥시기, 벤조일옥시기 등의 아실옥시기, 아세틸기, 벤조일기, 이소부티릴기, 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 메톡살릴기 등의 아실기, 메틸술파닐기, tert-부틸술파닐기 등의 알킬술파닐기, 페닐술파닐기, p-톨릴술파닐기 등의 아릴술파닐기, 메틸아미노기, 시클로헥실아미노기 등의 알킬아미노기, 디메틸아미노기, 디에틸아미노기, 모르폴리노기, 피페리디노기 등의 디알킬아미노기, 페닐아미노기, p-톨릴아미노기 등의 아릴아미노기, 에틸기, tert-부틸기, 도데실기 등의 알킬기, 히드록시기, 카르복시기, 포르밀기, 메르캅토기, 술포기, 메실기, p-톨루엔술포닐기, 아미노기, 니트로기, 시아노기, 트리플루오로메틸기, 트리클로로메틸기, 트리메틸실릴기, 포스피니코기, 포스포노기, 트리메틸암모늄일기, 디메틸술포늄일기, 트리페닐페나실포스포늄일기 등을 들 수 있다.When the phenyl group has a substituent, examples of the substituent include a halogen atom such as a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom, an alkoxy group such as a methoxy group, an ethoxy group or a tert- Aryloxy groups such as methylthioxy, ethylthioxy and tert-butylthioxy, arylthioxy groups such as phenylthioxy, p-tolylthioxy and the like , An alkoxycarbonyl group such as a methoxycarbonyl group, a butoxycarbonyl group and a phenoxycarbonyl group, or an aryloxycarbonyl group, an acyloxy group such as an acetoxy group, a propionyloxy group or a benzoyloxy group, an acetyl group, a benzoyl group, an isobutyryl group, An alkylsulfanyl group such as a methylsulfanyl group and a tert-butylsulfanyl group, an arylsulfanyl group such as a phenylsulfanyl group and a p-tolylsulfanyl group, a methylamino group, a cyclopentyl group A dialkylamino group such as a dimethylamino group, a diethylamino group, a morpholino group and a piperidino group, an arylamino group such as a phenylamino group and a p-tolylamino group, an ethylamino group, an ethylamino group, a tert-butylamino group and a dodecylamino group An alkyl group, a hydroxyl group, a carboxy group, a formyl group, a mercapto group, a sulfo group, a mesyl group, a p-toluenesulfonyl group, an amino group, a nitro group, a cyano group, a trifluoromethyl group, a trichloromethyl group, a trimethylsilyl group, , A phosphono group, a trimethylammonium group, a dimethylsulfonium group, and a triphenylphenacylphosphonium group.

일반식(Ⅲ)에 있어서는 상기 Ar과 인접하는 S로 형성되는 「SAr」의 구조가 이하에 나타내는 구조이면 감도의 점에서 바람직하다.In the general formula (III), the structure of "SAr" formed of S adjacent to Ar is preferable from the viewpoint of sensitivity as long as it has the structure shown below.

Figure 112011028945611-pat00028
Figure 112011028945611-pat00028

상기 X로 나타내어지는 1가의 치환기로서는 치환기를 가져도 좋은 알킬기, 치환기를 가져도 좋은 아릴기, 치환기를 가져도 좋은 알케닐기, 치환기를 가져도 좋은 알키닐기, 치환기를 가져도 좋은 알콕시기, 치환기를 가져도 좋은 아릴옥시기, 치환기를 가져도 좋은 알킬티오옥시기, 치환기를 가져도 좋은 아릴티오옥시기, 치환기를 가져도 좋은 할로겐화 알킬기, N 상에 치환기를 가져도 좋은 아미드기, 치환기를 가져도 좋은 아실옥시기, 치환기를 가져도 좋은 알킬술파닐기, 치환기를 가져도 좋은 아릴술파닐기, 치환기를 가져도 좋은 알킬술피닐기, 치환기를 가져도 좋은 아릴술피닐기, 치환기를 가져도 좋은 알킬술포닐기, 치환기를 가져도 좋은 아릴술포닐기, 치환기를 가져도 좋은 아실기, 치환기를 가져도 좋은 알콕시카르보닐기 또는 아릴옥시카르보닐기, 치환기를 가져도 좋은 카르바모일기, 치환기를 가져도 좋은 술파모일기, 치환기를 가져도 좋은 아미노기, 치환기를 가져도 좋은 포스피노일기, 치환기를 가져도 좋은 복소환기, 할로겐 원자 등을 들 수 있다.Examples of the monovalent substituent represented by X include an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, an alkenyl group which may have a substituent, an alkynyl group which may have a substituent, an alkoxy group which may have a substituent, An alkylthio group which may have a substituent, an arylthio group which may have a substituent, a halogenated alkyl group which may have a substituent, an amide group which may have a substituent on the N-atom, An alkylsulfinyl group which may have a substituent, an arylsulfinyl group which may have a substituent, an alkylsulfinyl group which may have a substituent, an arylsulfinyl group which may have a substituent, an alkylsulfonyl group which may have a substituent, An arylsulfonyl group which may have a substituent, an acyl group which may have a substituent, an alkoxycarbonyl group which may have a substituent, A carbonyl group which may have a substituent, a sulfamoyl group which may have a substituent, an amino group which may have a substituent, a phosphinoyl group which may have a substituent, a heterocyclic group which may have a substituent, .

치환기를 가져도 좋은 알킬기로서는 탄소수 1∼30의 알킬기가 바람직하고, 예를 들면 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 헥실기, 옥틸기, 데실기, 도데실기, 옥타데실기, 이소프로필기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 1-에틸펜틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 트리플루오로메틸기, 2-에틸헥실기, 페나실기, 1-나프토일메틸기, 2-나프토일메틸기, 4-메틸술파닐페나실기, 4-페닐술파닐페나실기, 4-디메틸아미노페나실기, 4-시아노페나실기, 4-메틸페나실기, 2-메틸페나실기, 3-플루오로페나실기, 3-트리플루오로메틸페나실기, 3-니트로페나실기 등을 들 수 있다.The alkyl group which may have a substituent is preferably an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, and examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a hexyl group, an octyl group, a decyl group, a dodecyl group, Butyl group, 1-ethylpentyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, trifluoromethyl group, 2-ethylhexyl group, phenacyl group, 1-naphthoylmethyl group, 2- 4-methylphenacyl group, 2-methylphenacyl group, 3-fluoro-4-methylphenacyl group, 4-methylphenoxyphenacyl group, Phenanthryl group, phenacyl group, 3-trifluoromethylphenacyl group and 3-nitrophenacyl group.

치환기를 가져도 좋은 아릴기로서는 탄소수 6∼30의 아릴기가 바람직하고, 예를 들면 페닐기, 비페닐기, 1-나프틸기, 2-나프틸기, 9-안트릴기, 9-페난트릴기, 1-피레닐기, 5-나프타세닐기, 1-인데닐기, 2-아줄레닐기, 9-플루오레닐기, 터페닐기, 쿼터페닐기, o-, m-, 및 p-톨릴기, 크실릴기, o-, m-, 및 p-쿠메닐기, 메시틸기, 펜타레닐기, 비나프타레닐기, 터나프타닐기, 쿼터나프타레닐기, 헵타레닐기, 비페닐레닐기, 인다세닐기, 플루오란테닐기, 아세나프틸레닐기, 아세안트릴레닐기, 페나레닐기, 플루오레닐기, 안트릴기, 비안트라세닐기, 터안트라세닐기, 쿼터안트라세닐기, 안트라퀴놀릴기, 페난트릴기, 트리페닐레닐기, 피레닐기, 클리세닐기, 나프타세닐기, 플레이아데닐기, 피세닐기, 페릴레닐기, 펜타 페닐기, 펜타세닐기, 테트라페닐레닐기, 헥사페닐기, 헥사세닐기, 루비세닐기, 코로네닐기, 트리나프틸레닐기, 헵타페닐기, 헵타세닐기, 피란트레닐기, 오발레닐기 등이 있다.The aryl group which may have a substituent is preferably an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, and examples thereof include a phenyl group, a biphenyl group, a 1-naphthyl group, a 2-naphthyl group, a 9-anthryl group, A naphthacenyl group, a 5-naphthacenyl group, a 1-indenyl group, a 2-azulenyl group, a 9-fluorenyl group, a terphenyl group, a quaterphenyl group, o-, m- and p- , m-, and p-cumenyl group, mesityl group, pentarenyl group, binaphthalenyl group, teraphthanyl group, quaternaphthalenyl group, heptarenyl group, biphenylenyl group, indacenyl group, fluoranthenyl group, A phenanthryl group, a phenanthryl group, an anthryl group, a biantracenyl group, a teranthracenyl group, a quateranthracenyl group, an anthraquinolyl group, a phenanthryl group, a triphenylenyl group, A naphthacenyl group, a naphthacenyl group, a pheadenyl group, a picenyl group, a perylenyl group, a pentaphenyl group, a pentacenyl group, a tetraphenylenyl group, a hexaphenyl group, a hexyl group Hexenyl and the like groups, ruby hexenyl group, a nose Ro group, tri tilre naphthyl group, a heptadecyl group, a heptadecyl hexenyl group, a pyran group Trail, Oh ballet group.

치환기를 가져도 좋은 알케닐기로서는 탄소수 2∼10의 알케닐기가 바람직하고, 예를 들면 비닐기, 알릴기, 스티릴기 등을 들 수 있다.The alkenyl group which may have a substituent is preferably an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, and examples thereof include a vinyl group, an allyl group and a styryl group.

치환기를 가져도 좋은 알키닐기로서는 탄소수 2∼10의 알키닐기가 바람직하고, 예를 들면 에티닐기, 프로피닐기, 프로파르길기 등을 들 수 있다.The alkynyl group which may have a substituent is preferably an alkynyl group having 2 to 10 carbon atoms, and examples thereof include an ethynyl group, a propynyl group, and a propargyl group.

치환기를 가져도 좋은 알콕시기로서는 탄소수 1∼30의 알콕시기가 바람직하고, 예를 들면 메톡시기, 에톡시기, 프로필옥시기, 이소프로필옥시기, 부톡시기, 이소부톡시기, sec-부톡시기, tert-부톡시기, 펜틸옥시기, 이소펜틸옥시기, 헥실옥시기, 헵틸옥시기, 옥틸옥시기, 2-에틸헥실옥시기, 데실옥시기, 도데실옥시기, 옥타데실옥시기, 에톡시카르보닐메틸기, 2-에틸헥실옥시카르보닐메틸옥시기, 아미노카르보닐메틸옥시기, N,N-디부틸아미노카르보닐메틸옥시기, N-메틸아미노카르보닐메틸옥시기, N-에틸아미노카르보닐메틸옥시기, N-옥틸아미노카르보닐메틸옥시기, N-메틸-N-벤질아미노카르보닐메틸옥시기, 벤질옥시기, 시아노메틸옥시기 등을 들 수 있다.The alkoxy group which may have a substituent is preferably an alkoxy group having 1 to 30 carbon atoms, and examples thereof include a methoxy group, ethoxy group, propyloxy group, isopropyloxy group, butoxy group, isobutoxy group, sec- A butoxy group, a butoxy group, a pentyloxy group, an isopentyloxy group, a hexyloxy group, a heptyloxy group, an octyloxy group, a 2-ethylhexyloxy group, a decyloxy group, a dodecyloxy group, an octadecyloxy group, A 2-ethylhexyloxycarbonylmethyloxy group, an aminocarbonylmethyloxy group, an N, N-dibutylaminocarbonylmethyloxy group, an N-methylaminocarbonylmethyloxy group, An N-octylaminocarbonylmethyloxy group, an N-methyl-N-benzylaminocarbonylmethyloxy group, a benzyloxy group, and a cyanomethyloxy group.

치환기를 가져도 좋은 아릴옥시기로서는 탄소수 6∼30의 아릴옥시기가 바람직하고, 예를 들면 페닐옥시기, 1-나프틸옥시기, 2-나프틸옥시기, 2-클로로페닐옥시기, 2-메틸페닐옥시기, 2-메톡시페닐옥시기, 2-부톡시페닐옥시기, 3-클로로페닐옥시기, 3-트리플루오로메틸페닐옥시기, 3-시아노페닐옥시기, 3-니트로페닐옥시기, 4-플루오로페닐옥시기, 4-시아노페닐옥시기, 4-메톡시페닐옥시기, 4-디메틸아미노페닐옥시기, 4-메틸술파닐페닐옥시기, 4-페닐술파닐페닐옥시기 등을 들 수 있다.The aryloxy group which may have a substituent is preferably an aryloxy group having 6 to 30 carbon atoms, and examples thereof include a phenyloxy group, a 1-naphthyloxy group, a 2-naphthyloxy group, a 2-chlorophenyloxy group, A 2-methoxyphenyloxy group, a 3-chlorophenyloxy group, a 3-trifluoromethylphenyloxy group, a 3-cyanophenyloxy group, a 3-nitrophenyloxy group, a 4 A 4-methoxyphenyloxy group, a 4-dimethylaminophenyloxy group, a 4-methylsulfanylphenyloxy group, a 4-phenylsulfanylphenyloxy group, or the like can be used. .

치환기를 가져도 좋은 알킬티오옥시기로서는 탄소수 1∼30의 알킬티오옥시기가 바람직하고, 예를 들면 메틸티오옥시기, 에틸티오옥시기, 프로필티오옥시기, 이소프로필티오옥시기, 부틸티오옥시기, 이소부틸티오옥시기, sec-부틸티오옥시기, tert-부틸티오옥시기, 펜틸티오옥시기, 이소펜틸티오옥시기, 헥실티오옥시기, 헵틸티오옥시기, 옥틸티오옥시기, 2-에틸헥실티오옥시기, 데실티오옥시기, 도데실티오옥시기, 옥타데실티오옥시기, 벤질티오옥시기 등을 들 수 있다.The alkylthioxy group which may have a substituent is preferably an alkylthioxy group having 1 to 30 carbon atoms, and examples thereof include a methylthioxy group, an ethylthioxy group, a propylthioxy group, an isopropylthioxy group, a butylthioxy group Butylthioxy group, a tert-butylthioxy group, a pentylthioxy group, an isopentylthioxy group, a hexylthioxy group, a heptylthioxy group, an octylthioxy group, a 2-ethyl Hexylthio group, decylthio group, dodecylthio group, octadecylthio group, benzylthio group and the like.

치환기를 가져도 좋은 아릴티오옥시기로서는 탄소수 6∼30의 아릴티오옥시기가 바람직하고, 예를 들면 페닐티오옥시기, 1-나프틸티오옥시기, 2-나프틸티오옥시기, 2-클로로페닐티오옥시기, 2-메틸페닐티오옥시기, 2-메톡시페닐티오옥시기, 2-부톡시페닐티오옥시기, 3-클로로페닐티오옥시기, 3-트리플루오로메틸페닐티오옥시기, 3-시아노페닐티오옥시기, 3-니트로페닐티오옥시기, 4-플루오로페닐티오옥시기, 4-시아노페닐티오옥시기, 4-메톡시페닐티오옥시기, 4-디메틸아미노페닐티오옥시기, 4-메틸술파닐페닐티오옥시기, 4-페닐술파닐페닐티오옥시기 등이 있다.The arylthioxy group which may have a substituent is preferably an arylthioxy group having 6 to 30 carbon atoms, and examples thereof include a phenylthioxy group, a 1-naphthylthioxy group, a 2-naphthylthioxy group, A 2-methoxyphenylthioxy group, a 2-methoxyphenylthioxy group, a 3-chlorophenylthioxy group, a 3-trifluoromethylphenylthioxy group, a 3-cyano A 4-fluorophenylthioxy group, a 4-methoxyphenylthioxy group, a 4-dimethylaminophenylthioxy group, a 3-nitrophenylthioxy group, 4-methylsulfanylphenylthioxy group, 4-phenylsulfanylphenylthioxy group, and the like.

치환기를 가져도 좋은 아실옥시기로서는 탄소수 2∼20의 아실옥시기가 바람직하고, 예를 들면 아세틸옥시기, 프로파노일옥시기, 부타노일옥시기, 펜타노일옥시기, 트리플루오로메틸카르보닐옥시기, 벤조일옥시기, 1-나프틸카르보닐옥시기, 2-나프틸카르보닐옥시기 등을 들 수 있다.The acyloxy group which may have a substituent is preferably an acyloxy group having 2 to 20 carbon atoms, and examples thereof include an acetyloxy group, a propanoyloxy group, a butanoyloxy group, a pentanoyloxy group, a trifluoromethylcarbonyloxy group, Oxo group, 1-naphthylcarbonyloxy group, 2-naphthylcarbonyloxy group and the like.

치환기를 가져도 좋은 알킬술파닐기로서는 탄소수 1∼20의 알킬술파닐기가 바람직하고, 예를 들면 메틸술파닐기, 에틸술파닐기, 프로필술파닐기, 이소프로필술파닐기, 부틸술파닐기, 헥실술파닐기, 시클로헥실술파닐기, 옥틸술파닐기, 2-에틸헥실술파닐기, 데카노일술파닐기, 도데카노일술파닐기, 옥타데카노일술파닐기, 시아노메틸술파닐기, 메톡시메틸술파닐기 등을 들 수 있다.The alkylsulfanyl group which may have a substituent is preferably an alkylsulfanyl group having 1 to 20 carbon atoms, and examples thereof include a methylsulfanyl group, an ethylsulfanyl group, a propylsulfanyl group, an isopropylsulfanyl group, a butylsulfanyl group, a hexylsulfanyl group, Hexylsulfanyl group, octylsulfanyl group, 2-ethylhexylsulfanyl group, decanoylsulfanyl group, dodecanoylsulfanyl group, octadecanoylsulfanyl group, cyanomethylsulfanyl group, methoxymethylsulfanyl group and the like.

치환기를 가져도 좋은 아릴술파닐기로서는 탄소수 6∼30의 아릴술파닐기가 바람직하고, 예를 들면 페닐술파닐기, 1-나프틸술파닐기, 2-나프틸술파닐기, 2-클로로페닐술파닐기, 2-메틸페닐술파닐기, 2-메톡시페닐술파닐기, 2-부톡시페닐술파닐기, 3-클로로페닐술파닐기, 3-트리플루오로메틸페닐술파닐기, 3-시아노페닐술파닐기, 3-니트로페닐술파닐기, 4-플루오로페닐술파닐기, 4-시아노페닐술파닐기, 4-메톡시페닐술파닐기, 4-메틸술파닐페닐술파닐기, 4-페닐술파닐페닐술파닐기, 4-디메틸아미노페닐술파닐기 등을 들 수 있다.The arylsulfanyl group which may have a substituent is preferably an arylsulfanyl group having 6 to 30 carbon atoms, and examples thereof include phenylsulfanyl group, 1-naphthylsulfanyl group, 2-naphthylsulfanyl group, 2-chlorophenylsulfanyl group, 2 A 2-methoxyphenylsulfanyl group, a 3-chlorophenylsulfanyl group, a 3-trifluoromethylphenylsulfanyl group, a 3-cyanophenylsulfanyl group, a 3-nitrophenylsulfanyl group, Phenylphenylsulfanyl group, 4-fluorophenylsulfanyl group, 4-cyanophenylsulfanyl group, 4-methoxyphenylsulfanyl group, 4-methylsulfanylphenylsulfanyl group, Nylon and the like.

치환기를 가져도 좋은 알킬술피닐기로서는 탄소수 1∼20의 알킬술피닐기가 바람직하고, 예를 들면 메틸술피닐기, 에틸술피닐기, 프로필술피닐기, 이소프로필술피닐기, 부틸술피닐기, 헥실술피닐기, 시클로헥실술피닐기, 옥틸술피닐기, 2-에틸헥실술피닐기, 데카노일술피닐기, 도데카노일술피닐기, 옥타데카노일술피닐기, 시아노메틸술피닐기, 메톡시메틸술피닐기 등을 들 수 있다.The alkylsulfinyl group which may have a substituent is preferably an alkylsulfinyl group having 1 to 20 carbon atoms, and examples thereof include a methylsulfinyl group, an ethylsulfinyl group, a propylsulfinyl group, an isopropylsulfinyl group, a butylsulfinyl group, a hexylsulfinyl group, Hexylsulfinyl group, octylsulfinyl group, 2-ethylhexylsulfinyl group, decanoylsulfinyl group, dodecanoylsulfinyl group, octadecanoylsulfinyl group, cyanomethylsulfinyl group, methoxymethylsulfinyl group and the like.

치환기를 가져도 좋은 아릴술피닐기로서는 탄소수 6∼30의 아릴술피닐기가 바람직하고, 예를 들면 페닐술피닐기, 1-나프틸술피닐기, 2-나프틸술피닐기, 2-클로로페닐술피닐기, 2-메틸페닐술피닐기, 2-메톡시페닐술피닐기, 2-부톡시페닐술피닐기, 3-클로로페닐술피닐기, 3-트리플루오로메틸페닐술피닐기, 3-시아노페닐술피닐기, 3-니트로페닐술피닐기, 4-플루오로페닐술피닐기, 4-시아노페닐술피닐기, 4-메톡시페닐술피닐기, 4-메틸술파닐페닐술피닐기, 4-페닐술파닐페닐술피닐기, 4-디메틸아미노페닐술피닐기 등을 들 수 있다.The arylsulfinyl group which may have a substituent is preferably an arylsulfinyl group having 6 to 30 carbon atoms, and examples thereof include a phenylsulfinyl group, a 1-naphthylsulfinyl group, a 2-naphthylsulfinyl group, a 2-chlorophenylsulfinyl group, A 2-methoxyphenylsulfinyl group, a 2-methoxyphenylsulfinyl group, a 3-chlorophenylsulfinyl group, a 3-trifluoromethylphenylsulfinyl group, a 3-cyanophenylsulfinyl group, a 3-nitrophenylsulfinyl group, Phenylphenylsulfinyl group, 4-fluorophenylsulfinyl group, 4-fluorophenylsulfinyl group, 4-fluorophenylsulfinyl group, 4-fluorophenylsulfinyl group, 4-fluorophenylsulfinyl group, Nylon and the like.

치환기를 가져도 좋은 알킬술포닐기로서는 탄소수 1∼20의 알킬술포닐기가 바람직하고, 예를 들면 메틸술포닐기, 에틸술포닐기, 프로필술포닐기, 이소프로필술포닐기, 부틸술포닐기, 헥실술포닐기, 시클로헥실술포닐기, 옥틸술포닐기, 2-에틸헥실술포닐기, 데카노일술포닐기, 도데카노일술포닐기, 옥타데카노일술포닐기, 시아노메틸술포닐기, 메톡시메틸술포닐기 등을 들 수 있다.The alkylsulfonyl group which may have a substituent is preferably an alkylsulfonyl group having 1 to 20 carbon atoms, and examples thereof include a methylsulfonyl group, an ethylsulfonyl group, a propylsulfonyl group, an isopropylsulfonyl group, a butylsulfonyl group, a hexylsulfonyl group, A hexylsulfonyl group, an octylsulfonyl group, a 2-ethylhexylsulfonyl group, a decanoylsulfonyl group, a dodecanoylsulfonyl group, an octadecanoylsulfonyl group, a cyanomethylsulfonyl group, and a methoxymethylsulfonyl group.

치환기를 가져도 좋은 아릴술포닐기로서는 탄소수 6∼30의 아릴술포닐기가 바람직하고, 예를 들면 페닐술포닐기, 1-나프틸술포닐기, 2-나프틸술포닐기, 2-클로로페닐술포닐기, 2-메틸페닐술포닐기, 2-메톡시페닐술포닐기, 2-부톡시페닐술포닐기, 3-클로로페닐술포닐기, 3-트리플루오로메틸페닐술포닐기, 3-시아노페닐술포닐기, 3-니트로페닐술포닐기, 4-플루오로페닐술포닐기, 4-시아노페닐술포닐기, 4-메톡시페닐술포닐기, 4-메틸술파닐페닐술포닐기, 4-페닐술파닐페닐술포닐기, 4-디메틸아미노페닐술포닐기 등을 들 수 있다.The arylsulfonyl group which may have a substituent is preferably an arylsulfonyl group having 6 to 30 carbon atoms, and examples thereof include a phenylsulfonyl group, a 1-naphthylsulfonyl group, a 2-naphthylsulfonyl group, a 2-chlorophenylsulfonyl group, A 2-methoxyphenylsulfonyl group, a 3-chlorophenylsulfonyl group, a 3-trifluoromethylphenylsulfonyl group, a 3-cyanophenylsulfonyl group, a 3-nitrophenylsulfone group, 4-fluorophenylsulfinyl group, 4-fluorophenylsulfinyl group, 4-fluorophenylsulfinyl group, 4-fluorophenylsulfinyl group, 4-fluorophenylsulfinyl group, Nylon and the like.

치환기를 가져도 좋은 아실기로서는 탄소수 2∼20의 아실기가 바람직하고, 예를 들면 아세틸기, 프로파노일기, 부타노일기, 트리플루오로메틸카르보닐기, 펜타노일기, 벤조일기, 1-나프토일기, 2-나프토일기, 4-메틸술파닐벤조일기, 4-페닐술파닐벤조일기, 4-디메틸아미노벤조일기, 4-디에틸아미노벤조일기, 2-클로로벤조일기, 2-메틸벤조일기, 2-메톡시벤조일기, 2-부톡시벤조일기, 3-클로로벤조일기, 3-트리플루오로메틸벤조일기, 3-시아노벤조일기, 3-니트로벤조일기, 4-플루오로벤조일기, 4-시아노벤조일기, 4-메톡시벤조일기 등을 들 수 있다.The acyl group which may have a substituent is preferably an acyl group having 2 to 20 carbon atoms, and examples thereof include an acetyl group, a propanoyl group, a butanoyl group, a trifluoromethylcarbonyl group, a pentanoyl group, a benzoyl group, a 1-naphthoyl group, A 2-chlorobenzoyl group, a 2-methylbenzoyl group, a 2-methylbenzoyl group, a 2-methylbenzoyl group, a 2-methylbenzoyl group, a 2- A 2-butoxybenzoyl group, a 3-chlorobenzoyl group, a 3-trifluoromethylbenzoyl group, a 3-cyanobenzoyl group, a 3-nitrobenzoyl group, a 4-fluorobenzoyl group, Norbornyl group, 4-methoxybenzoyl group and the like.

치환기를 가져도 좋은 알콕시카르보닐기 또는 아릴옥시카르보닐기로서는 탄소수 2∼20의 알콕시카르보닐기 또는 아릴옥시카르보닐기가 바람직하고, 예를 들면 메톡시카르보닐기, 에톡시카르보닐기, 프로폭시카르보닐기, 부톡시카르보닐기, 헥실옥시카르보닐기, 옥틸옥시카르보닐기, 데실옥시카르보닐기, 옥타데실옥시카르보닐기, 페녹시카르보닐기, 트리플루오로메틸옥시카르보닐기, 1-나프틸옥시카르보닐기, 2-나프틸옥시카르보닐기, 4-메틸술파닐페닐옥시카르보닐기, 4-페닐술파닐페닐옥시카르보닐기, 4-디메틸아미노페닐옥시카르보닐기, 4-디에틸아미노페닐옥시카르보닐기, 2-클로로페닐옥시카르보닐기, 2-메틸페닐옥시카르보닐기, 2-메톡시페닐옥시카르보닐기, 2-부톡시페닐옥시카르보닐기, 3-클로로페닐옥시카르보닐기, 3-트리플루오로메틸페닐옥시카르보닐기, 3-시아노페닐옥시카르보닐기, 3-니트로페닐옥시카르보닐기, 4-플루오로페닐옥시카르보닐기, 4-시아노페닐옥시카르보닐기, 4-메톡시페닐옥시카르보닐기 등을 들 수 있다.The alkoxycarbonyl group or aryloxycarbonyl group which may have a substituent is preferably an alkoxycarbonyl group or an aryloxycarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms, and examples thereof include a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, a propoxycarbonyl group, a butoxycarbonyl group, a hexyloxycarbonyl group, A 2-naphthyloxycarbonyl group, a 4-methylsulfanylphenyloxycarbonyl group, a 4-phenylsulfanyloxycarbonyl group, a 4-methylsulfanyloxycarbonyl group, a 4-methylsulfanyloxycarbonyl group, A 4-dimethylaminophenyloxycarbonyl group, a 2-chlorophenyloxycarbonyl group, a 2-methylphenyloxycarbonyl group, a 2-methoxyphenyloxycarbonyl group, a 2-butoxyphenyloxy Carbonyl group, 3-chlorophenyloxycarbonyl group, 3-trifluoromethylphenyl Oxycarbonyl group, and 3-cyano-phenyl-oxy group, a 3-nitrophenyl oxycarbonyl group, 4-fluoro-phenyl-oxy group, a 4-cyanophenyl-oxy group, a 4-methoxy phenyloxy group.

치환기를 가져도 좋은 카르바모일기로서는 총탄소수 1∼30의 카르바모일기가 바람직하고, 예를 들면 N-메틸카르바모일기, N-에틸카르바모일기, N-프로필카르바모일기, N-부틸카르바모일기, N-헥실카르바모일기, N-시클로헥실카르바모일기, N-옥틸카르바모일기, N-데실카르바모일기, N-옥타데실카르바모일기, N-페닐카르바모일기, N-2-메틸페닐카르바모일기, N-2-클로로페닐카르바모일기, N-2-이소프로폭시페닐카르바모일기, N-2-(2-에틸헥실)페닐카르바모일기, N-3-클로로페닐카르바모일기, N-3-니트로페닐카르바모일기, N-3-시아노페닐카르바모일기, N-4-메톡시페닐카르바모일기, N-4-시아노페닐카르바모일기, N-4-메틸술파닐페닐카르바모일기, N-4-페닐술파닐페닐카르바모일기, N-메틸-N-페닐카르바모일기, N,N-디메틸카르바모일기, N,N-디부틸카르바모일기, N,N-디페닐카르바모일기 등을 들 수 있다.The carbamoyl group which may have a substituent is preferably a carbamoyl group having 1 to 30 carbon atoms in total, and examples thereof include N-methylcarbamoyl group, N-ethylcarbamoyl group, N-propylcarbamoyl group, N-hexylcarbamoyl group, N-cyclohexylcarbamoyl group, N-octylcarbamoyl group, N-decylcarbamoyl group, N-octadecylcarbamoyl group, N-phenylcarbamoyl group, N-2 (2-ethylhexyl) phenylcarbamoyl group, N-3-chlorophenylcarbamoyl group, N-2-chlorophenylcarbamoyl group, N-4-methoxyphenylcarbamoyl group, N-4-cyanophenylcarbamoyl group, N-4-cyanophenylcarbamoyl group, N-phenylcarbamoyl group, N, N-dimethylcarbamoyl group, N, N-dibutylcarbamoyl group, N, N, N-diep And the like can be a carbamoyl group.

치환기를 가져도 좋은 술파모일기로서는 총탄소수 0∼30의 술파모일기가 바람직하고, 예를 들면 술파모일기, N-알킬술파모일기, N-아릴술파모일기, N,N-디알킬술파모일기, N,N-디아릴술파모일기, N-알킬-N-아릴술파모일기 등을 들 수 있다. 보다 구체적으로는, N-메틸술파모일기, N-에틸술파모일기, N-프로필술파모일기, N-부틸술파모일기, N-헥실술파모일기, N-시클로헥실술파모일기, N-옥틸술파모일기, N-2-에틸헥실술파모일기, N-데실술파모일기, N-옥타데실술파모일기, N-페닐술파모일기, N-2-메틸페닐술파모일기, N-2-클로로페닐술파모일기, N-2-메톡시페닐술파모일기, N-2-이소프로폭시페닐술파모일기, N-3-클로로페닐술파모일기, N-3-니트로페닐술파모일기, N-3-시아노페닐술파모일기, N-4-메톡시페닐술파모일기, N-4-시아노페닐술파모일기, N-4-디메틸아미노페닐술파모일기, N-4-메틸술파닐페닐술파모일기, N-4-페닐술파닐페닐술파모일기, N-메틸-N-페닐술파모일기, N,N-디메틸술파모일기, N,N-디부틸술파모일기, N,N-디페닐술파모일기 등을 들 수 있다.The sulfamoyl group which may have a substituent is preferably a sulfamoyl group having 0 to 30 carbon atoms in total, and examples thereof include sulfamoyl group, N-alkylsulfamoyl group, N-arylsulfamoyl group, N, A pamoyl group, an N, N-diarylsulfamoyl group, an N-alkyl-N-arylsulfamoyl group and the like. More specifically, there may be mentioned N-methylsulfamoyl, N-ethylsulfamoyl, N-propylsulfamoyl, N-butylsulfamoyl, N-hexylsulfamoyl, N-cyclohexylsapamoyl, N- N-phenylsulfamoyl group, N-2-methylphenylsulfamoyl group, N-2-methylphenylsulfamoyl group, N-2-ethylhexylsulfamoyl group, N- N-2-methoxyphenylsulfamoyl group, N-2-methoxyphenylsulfamoyl group, N-2-isopropoxyphenylsulfamoyl group, N-3- N-4-methoxyphenylsulfamoyl group, N-4-cyanophenylsulfamoyl group, N-4-dimethylaminophenylsulfamoyl group, N-4-methylsulfanyl group Phenylsulfamoyl group, N, N-dimethylsulfamoyl group, N, N-dibutylsulfamoyl group, N, N - diphenylsulfamoyl group and the like.

치환기를 가져도 좋은 아미노기로서는 총탄소수 0∼50의 아미노기가 바람직하고, 예를 들면 -NH2, N-알킬아미노기, N-아릴아미노기, N-아실아미노기, N-술포닐아미노기, N,N-디알킬아미노기, N,N-디아릴아미노기, N-알킬-N-아릴아미노기, N,N-디술포닐아미노기 등을 들 수 있다. 보다 구체적으로는, N-메틸아미노기, N-에틸아미노기, N-프로필아미노기, N-이소프로필아미노기, N-부틸아미노기, N-tert-부틸아미노기, N-헥실아미노기, N-시클로헥실아미노기, N-옥틸아미노기, N-2-에틸헥실아미노기, N-데실아미노기, N-옥타데실아미노기, N-벤질아미노기, N-페닐아미노기, N-2-메틸페닐아미노기, N-2-클로로페닐아미노기, N-2-메톡시페닐아미노기, N-2-이소프로폭시페닐아미노기, N-2-(2-에틸헥실)페닐아미노기, N-3-클로로페닐아미노기, N-3-니트로페닐아미노기, N-3-시아노페닐아미노기, N-3-트리플루오로메틸페닐아미노기, N-4-메톡시페닐아미노기, N-4-시아노페닐아미노기, N-4-트리플루오로메틸페닐아미노기, N-4-메틸술파닐페닐아미노기, N-4-페닐술파닐페닐아미노기, N-4-디메틸아미노페닐아미노기, N-메틸-N-페닐아미노기, N,N-디메틸아미노기, N,N-디에틸아미노기, N,N-디부틸아미노기, N,N-디페닐아미노기, N,N-디아세틸아미노기, N,N-디벤조일아미노기, N,N-(디부틸카르보닐)아미노기, N,N-(디메틸술포닐)아미노기, N,N-(디에틸술포닐)아미노기, N,N-(디부틸술포닐)아미노기, N,N-(디페닐술포닐)아미노기, 모르폴리노기, 3,5-디메틸모르폴리노기, 카르바졸기 등을 들 수 있다.The amino group which may have a substituent is preferably an amino group having 0 to 50 carbon atoms in total and includes, for example, -NH 2 , N-alkylamino group, N-arylamino group, N-acylamino group, N-sulfonylamino group, Dialkylamino group, N, N-diarylamino group, N-alkyl-N-arylamino group, N, N-disulfonylamino group and the like. More specifically, it is preferable to use N-methylamino, N-ethylamino, N-propylamino, N-isopropylamino, N-butylamino, N-tert- butylamino, N-hexylamino, N-cyclohexylamino, N N-benzylamino group, N-phenylamino group, N-2-methylphenylamino group, N-2-chlorophenylamino group, N-2-ethylhexylamino group, N- (2-ethylhexyl) phenylamino group, N-3-chlorophenylamino group, N-3-nitrophenylamino group, N-3- N-4-methylphenylamino group, N-4-trifluoromethylphenylamino group, N-4-methylphenylamino group, N-4- Phenylamino group, an N, N-dimethylamino group, an N, N-dimethylamino group, N, N-dibenzylamino, N, N-dibutylcarbonylamino, N, N-dibenzylamino, (Dibutylsulfonyl) amino group, N, N- (diphenylsulfonyl) amino group, morpholino group, 3, A 5-dimethyl morpholino group, and a carbazole group.

치환기를 가져도 좋은 포스피노일기로서는 총탄소수 2∼50의 포스피노일기가 바람직하고, 예를 들면 디메틸포스피노일기, 디에틸포스피노일기, 디프로필포스피노일기, 디페닐포스피노일기, 디메톡시포스피노일기, 디에톡시포스피노일기, 디벤조일포스피노일기, 비스(2,4,6-트리메틸페닐)포스피노일기 등을 들 수 있다.As the phosphinoyl group which may have a substituent, a phosphinoyl group having 2 to 50 carbon atoms in total is preferable, and examples thereof include a dimethylphosphinoyl group, a diethylphosphinoyl group, a dipropylphosphinoyl group, a diphenylphosphinoyl group, A phosphinoyl group, a diethoxyphosphinoyl group, a dibenzoylphosphinoyl group, and a bis (2,4,6-trimethylphenyl) phosphinoyl group.

치환기를 가져도 좋은 복소환기로서는 질소원자, 산소원자, 유황원자, 인원자를 포함한 방향족 또는 지방족의 복소환이 바람직하다. 예를 들면, 티에닐기, 벤조[b]티에닐기, 나프토[2,3-b]티에닐기, 티안트레닐기, 푸릴기, 피라닐기, 이소벤조푸라닐기, 쿠로메닐기, 크산테닐기, 페녹사티이닐기, 2H-피롤릴기, 피롤릴기, 이미다졸릴기, 피라졸릴기, 피리딜기, 피라지닐기, 피리미디닐기, 피리다지닐기, 인돌리지닐기, 이소인돌릴기, 3H-인돌릴기, 인돌릴기, 1H-인다졸릴기, 푸리닐기, 4H-퀴놀리지닐기, 이소퀴놀릴기, 퀴놀릴기, 프탈라지닐기, 나프티리디닐기, 퀴녹사니릴기, 퀴나졸리닐기, 시놀리닐기, 프테리디닐기, 4aH-카르바졸릴기, 카르바졸릴기, β-카르보리닐기, 페난트리디닐기, 아크리디닐기, 페리미디닐기, 페난트롤리닐기, 페나지닐기, 페나르사지닐기, 이소티아졸릴기, 페노티아지닐기, 이속사졸릴기, 푸라자닐기, 페녹사지닐기, 이소크로마닐기, 크로마닐기, 피롤리디닐기, 피롤리닐기, 이미다졸리디닐기, 이미다졸리닐기, 피라졸리디닐기, 피라졸리닐기, 피페리딜기, 피페라지닐기, 인돌리닐기, 이소인돌리닐기, 키누클리디닐기, 모르폴리닐기, 티옥산트릴기 등이 있다.The heterocyclic group which may have a substituent is preferably an aromatic or aliphatic heterocycle including a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom, and a phosphorus atom. For example, thienyl, benzo [b] thienyl, naphtho [2,3-b] thienyl, thienyl, furyl, An imidazolyl group, a pyrazolyl group, a pyridyl group, a pyrazinyl group, a pyrimidinyl group, a pyridazinyl group, an indolizinyl group, an isoindolyl group, a 3H-indole group A quinolinyl group, a quinolinyl group, a quinolinyl group, a quinolinyl group, a quinolinyl group, a quinolyl group, a quinolyl group, a quinolyl group, a quinolyl group, , A pyrimidinyl group, a phenanthrolinyl group, a phenazinyl group, a phenarsaazinyl group, a pyrimidinyl group, a pyrimidinyl group, a pyrimidinyl group, a pyrimidinyl group, , Isothiazolyl group, phenothiazinyl group, isoxazolyl group, furazanyl group, phenoxazinyl group, isochromanyl group, chromanyl group, pyrrolidinyl group, pyrrolinyl , Imidazolidinyl group, imidazolinyl group, pyrazolidinyl group, pyrazolinyl group, piperidyl group, piperazinyl group, indolinyl group, isoindolinyl group, quinuclidinyl group, morpholinyl group, And a trityl group.

할로겐 원자로서는 불소원자, 염소원자, 브롬원자, 요오드원자 등이 있다.Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.

치환기를 가져도 좋은 할로겐화 알킬기로서는 모노플루오로메틸기, 디플루오로메틸기, 트리플루오로메틸기, 디클로로메틸기, 트리클로로메틸기, 모노브로모메틸기, 디브로모메틸기, 트리브로모메틸기 등을 들 수 있다.Examples of the halogenated alkyl group which may have a substituent include a monofluoromethyl group, a difluoromethyl group, a trifluoromethyl group, a dichloromethyl group, a trichloromethyl group, a monobromomethyl group, a dibromomethyl group, and a tribromomethyl group.

N 상에 치환기를 가져도 좋은 아미드기로서는 N,N-디메틸아미드기, N,N-디에틸아미드기 등을 들 수 있다.Examples of the amide group which may have a substituent on the N-phase include an N, N-dimethyl amide group and an N, N-diethyl amide group.

또한, 상술한 치환기를 가져도 좋은 알킬기, 치환기를 가져도 좋은 아릴기, 치환기를 가져도 좋은 알케닐기, 치환기를 가져도 좋은 알키닐기, 치환기를 가져도 좋은 알콕시기, 치환기를 가져도 좋은 아릴옥시기, 치환기를 가져도 좋은 알킬티오옥시기, 치환기를 가져도 좋은 아릴티오옥시기, 치환기를 가져도 좋은 아실옥시기, 치환기를 가져도 좋은 알킬술파닐기, 치환기를 가져도 좋은 아릴술파닐기, 치환기를 가져도 좋은 알킬술피닐기, 치환기를 가져도 좋은 아릴술피닐기, 치환기를 가져도 좋은 알킬술포닐기, 치환기를 가져도 좋은 아릴술포닐기, 치환기를 가져도 좋은 아실기, 치환기를 가져도 좋은 알콕시카르보닐기 또는 아릴옥시카르보닐기, 치환기를 가져도 좋은 카르바모일기, 치환기를 가져도 좋은 술파모일기, 치환기를 가져도 좋은 아미노기, 치환기를 가져도 좋은 복소환기는 또 다른 치환기로 치환되어 있어도 좋다.Examples of the alkyl group which may have a substituent, the aryl group which may have a substituent, the alkenyl group which may have a substituent, the alkynyl group which may have a substituent, the alkoxy group which may have a substituent, An alkylthio group which may have a substituent, an arylthio group which may have a substituent, an acyloxy group which may have a substituent, an alkylsulfanyl group which may have a substituent, an arylsulfanyl group which may have a substituent, An arylsulfinyl group which may have a substituent, an alkylsulfonyl group which may have a substituent, an arylsulfonyl group which may have a substituent, an acyl group which may have a substituent, an alkoxycarbonyl group which may have a substituent Or an aryloxycarbonyl group, a carbamoyl group which may have a substituent, a sulfamoyl group which may have a substituent, an amino which may have a substituent Or a heterocyclic group which may have a substituent may be substituted with another substituent.

그러한 치환기로서는, 예를 들면 불소원자, 염소원자, 브롬원자, 요오드원자등의 할로겐 원자, 메톡시기, 에톡시기, tert-부톡시기 등의 알콕시기, 페녹시기, p-톨릴옥시기 등의 아릴옥시기, 메톡시카르보닐기, 부톡시카르보닐기, 페녹시카르보닐기 등의 알콕시카르보닐기 또는 아릴옥시카르보닐기, 아세톡시기, 프로피오닐옥시기, 벤조일옥시기 등의 아실옥시기, 아세틸기, 벤조일기, 이소부티릴기, 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 메톡살릴기 등의 아실기, 메틸술파닐기, tert-부틸술파닐기 등의 알킬술파닐기, 페닐술파닐기, p-톨릴술파닐기 등의 아릴술파닐기, 메틸아미노기, 시클로헥실아미노기 등의 알킬아미노기, 디메틸아미노기, 디에틸아미노기, 모르폴리노기, 피페리디노기 등의 디알킬아미노기, 페닐아미노기, p-톨릴아미노기 등의 아릴아미노기, 메틸기, 에틸기, tert-부틸기, 도데실기 등의 알킬기, 페닐기, p-톨릴기, 크실릴기, 쿠메닐기, 나프틸기, 안트릴기, 페난트릴기 등의 아릴기 등 외에, 히드록시기, 카르복시기, 포르밀기, 메르캅토기, 술포기, 메실기, p-톨루엔술포닐기, 아미노기, 니트로기, 시아노기, 트리플루오로메틸기, 트리클로로메틸기, 트리메틸실릴기, 포스피니코기, 포스포노기, 트리메틸암모늄일기, 디메틸술포늄일기, 트리페닐페나실포스포늄일기 등을 들 수 있다.Examples of such a substituent include a halogen atom such as a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom, an alkoxy group such as a methoxy group, an ethoxy group or a tert-butoxy group, an aryloxy group such as a phenoxy group or a p- An alkoxycarbonyl group such as a methoxycarbonyl group, a butoxycarbonyl group or a phenoxycarbonyl group or an acyloxy group such as an aryloxycarbonyl group, an acetoxy group, a propionyloxy group or a benzoyloxy group, an acetyl group, a benzoyl group, An alkylsulfanyl group such as a methylsulfanyl group and a tert-butylsulfanyl group, an arylsulfanyl group such as a phenylsulfanyl group and a p-tolylsulfanyl group, an alkylsulfinyl group such as a methylamino group, Alkylamino groups such as cyclohexylamino group, dialkylamino groups such as dimethylamino group, diethylamino group, morpholino group and piperidino group, arylamino group such as phenylamino group and p-tolylamino group , An alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a tert-butyl group or a dodecyl group, an aryl group such as a phenyl group, a p-tolyl group, a xylyl group, a cumenyl group, a naphthyl group, an anthryl group or a phenanthryl group, A sulfonyl group, a phosphino group, a sulfonyl group, a sulfonyl group, a sulfonyl group, a sulfonyl group, a sulfonyl group, a sulfonyl group, A trimethylammonium group, a dimethylsulfonium group, a triphenylphenacylphosphonium group and the like.

이들 중에서도 X로서는 용제 용해성과 장파장 영역의 흡수 효율 향상의 점으로부터 치환기를 가져도 좋은 알킬기, 치환기를 가져도 좋은 아릴기, 치환기를 가져도 좋은 알케닐기, 치환기를 가져도 좋은 알키닐기, 치환기를 가져도 좋은 알콕시기, 치환기를 가져도 좋은 아릴옥시기, 치환기를 가져도 좋은 알킬티오옥시기, 치환기를 가져도 좋은 아릴티오옥시기, 치환기를 가져도 좋은 할로겐화 알킬기, 치환기를 가져도 좋은 아미노기, 또는 N 상에 치환기를 가져도 좋은 아미드기가 바람직하고, 그 중에서도 치환기를 가져도 좋은 알킬기가 보다 바람직하다.Among them, X preferably has an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, an alkenyl group which may have a substituent, an alkynyl group which may have a substituent, a substituent An aryloxy group which may have a substituent, an alkylthioxy group which may have a substituent, an arylthioxy group which may have a substituent, a halogenated alkyl group which may have a substituent, an amino group which may have a substituent, or An amide group which may have a substituent on the N-phase is preferable, and among these, an alkyl group which may have a substituent is more preferable.

또한, 일반식(Ⅲ)에 있어서의 n은 0∼5의 정수를 나타내지만, 합성의 용이함의 관점에서 0∼3의 정수가 바람직하고, 0∼2의 정수가 보다 바람직하다.In the general formula (III), n represents an integer of 0 to 5, but from the viewpoint of ease of synthesis, an integer of 0 to 3 is preferable, and an integer of 0 to 2 is more preferable.

일반식(Ⅲ)에 있어서 X가 복수 존재할 경우, 복수의 X는 같아도 좋고 달라도 좋다.When a plurality of Xs exist in the general formula (III), the plurality of Xs may be the same or different.

상기한 일반식(Ⅲ)으로 나타내어지는 광중합 개시제의 구체예를 이하에 나타낸다.Specific examples of the photopolymerization initiator represented by the above general formula (III) are shown below.

Figure 112011028945611-pat00029
Figure 112011028945611-pat00029

Figure 112011028945611-pat00030
Figure 112011028945611-pat00030

본 발명에 사용하는 일반식(Ⅲ)으로 나타내어지는 화합물은 250㎚∼500㎚의 파장 영역에 흡수 파장을 갖는 것이다. 보다 바람직하게는 300㎚∼380㎚의 파장 영역에 흡수 파장을 갖는 것을 들 수 있다. 특히, 308㎚ 및 355㎚의 흡광도가 높은 것이 바람직하다.The compound represented by the general formula (III) used in the present invention has an absorption wavelength in a wavelength range of 250 nm to 500 nm. And more preferably an absorption wavelength in a wavelength range of 300 nm to 380 nm. Particularly, it is preferable that the absorbance at 308 nm and 355 nm is high.

본 발명에서 사용하는 (D) 옥심계 광중합 개시제의 함유량은 착색 감광성 수지 조성물의 전체 고형분에 대하여 3질량% 이상 20질량% 이하인 것이 바람직하고, 5질량% 이상 15질량% 이하의 범위가 바람직하고, 10질량% 이상 15질량% 이하의 범위가 더욱 바람직하다.The content of the oxime-based photopolymerization initiator (D) used in the present invention is preferably 3 mass% or more and 20 mass% or less, more preferably 5 mass% or more and 15 mass% or less based on the total solid content of the colored photosensitive resin composition, And more preferably in the range of 10% by mass or more and 15% by mass or less.

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물에는 상기 (D) 옥심계 광중합 개시제에 추가하여, 본 발명의 범위를 손상하지 않는 한에 있어서 (D) 옥심계 광중합 개시제와는 구조가 틀린 다른 광중합 개시제[이하, (D-2) 다른 광중합 개시제라고 칭한다]를 함유해도 좋다.The colored photosensitive resin composition of the present invention may contain, in addition to the oxime-based photopolymerization initiator (D) described above, another photopolymerization initiator (hereinafter referred to as (D) a photopolymerization initiator D-2) other photopolymerization initiator].

(D) 옥심계 광중합 개시제와는 구조가 다른 (D-2) 다른 광중합 개시제로서는, 상기 (C) 중합성 화합물의 중합을 개시, 촉진하는 화합물이면 종래 공지의 것을 제한 없이 사용할 수 있다. 구체적으로는 예를 들면, 로핀계 광중합 개시제, 유기 할로겐화 화합물, 옥시디아졸 화합물, 카르보닐 화합물, 케탈 화합물, 벤조인 화합물, 아크리딘 화합물, 유기과산화 화합물, 아조 화합물, 쿠마린 화합물, 아지드 화합물, 메탈로센 화합물, 유기붕산 화합물, 디술폰산 화합물, 오늄염 화합물, 아실포스핀(옥사이드) 화합물 등을 들 수 있다.As the other photopolymerization initiator (D-2) having a different structure from the (D) oxime-based photopolymerization initiator, those conventionally known can be used as long as they are compounds which initiate and accelerate the polymerization of the polymerizable compound (C). Specifically, there may be mentioned, for example, a photopolymerization initiator such as a ropin type photopolymerization initiator, an organic halogenated compound, an oxydiazole compound, a carbonyl compound, a ketal compound, a benzoin compound, an acridine compound, an organic peroxide compound, an azo compound, a coumarin compound, , Metallocene compounds, organic boric acid compounds, disulfonic acid compounds, onium salt compounds, acylphosphine (oxide) compounds and the like.

(D-2) 다른 광중합 개시제로서 사용할 수 있는 로핀계 광중합 개시제로서는, 예를 들면 헥사아릴비이미다졸 화합물을 들 수 있다. 헥사아릴비이미다졸계 화합물로서는, 예를 들면 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라키스(4-에톡시카르보닐페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라키스(4-페녹시카르보닐페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(2,4-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라키스(4-에톡시카르보닐페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(2,4-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라키스(4-페녹시카르보닐페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(2,4,6-트리클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라키스(4-에톡시카르보닐페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(2,4,6-트리클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라키스(4-페녹시카르보닐페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(2-시아노페닐)-4,4',5,5'-테트라키스(4-에톡시카르보닐페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(2-시아노페닐)-4,4',5,5'-테트라키스(4-페녹시카르보닐페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(2-메틸페닐)-4,4',5,5'-테트라키스(4-메톡시카르보닐페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(2-메틸페닐)-4,4',5,5'-테트라키스(4-에톡시카르보닐페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(2-메틸페닐)-4,4',5,5'-테트라키스(4-페녹시카르보닐페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(2-에틸페닐)-4,4',5,5'-테트라키스(4-메톡시카르보닐페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(2-에틸페닐)-4,4',5,5'-테트라키스(4-에톡시카르보닐페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(2-에틸페닐)-4,4',5,5'-테트라키스(4-페녹시카르보닐페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(2-페닐페닐)-4,4',5,5'-테트라키스(4-메톡시카르보닐페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(2-페닐페닐)-4,4',5,5'-테트라키스(4-에톡시카르보닐페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(2-페닐페닐)-4,4',5,5'-테트라키스(4-페녹시카르보닐페닐)비이미다졸,(D-2) As the ropin-based photopolymerization initiator that can be used as another photopolymerization initiator, for example, a hexaaryl biimidazole compound can be mentioned. Examples of the hexaarylbimidazole-based compound include 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbimidazole, 2,2'-bis (2- (4-ethoxycarbonylphenyl) imidazole, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5 (4-phenoxycarbonylphenyl) imidazole, 2,2'-bis (2,4-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetrakis (2,4-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetrakis (4-phenoxycarbonylphenyl) biimidazole, 2,2'-bis (2,4,6-trichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) biimidazole, 2,2'-bis , 6-trichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetrakis (4-phenoxycarbonylphenyl) biimidazole, 2,2'-bis (2-cyanophenyl) Bis (4-ethoxycarbonylphenyl) imidazole, 2,2'-bis (2-cyanophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetrakis - phenoxycarbonylphenyl) biimidazole, (2-methylphenyl) -4,4 ', 5,5'-tetrakis (4-methoxycarbonylphenyl) biimidazole, 2,2'-bis , 4 ', 5,5'-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) biimidazole, 2,2'-bis (2-methylphenyl) -4,4', 5,5'-tetrakis (2-ethylphenyl) -4,4 ', 5,5'-tetrakis (4-methoxycarbonylphenyl) bimidazole, 2'- (2-ethylphenyl) -4,4 ', 5,5'-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) biimidazole, 2,2'-bis 4,4 ', 5,5'-tetrakis (4-phenoxycarbonylphenyl) biimidazole, 2,2'-bis (2-phenylphenyl) (4-methoxycarbonylphenyl) imidazole, 2,2'-bis (2-phenylphenyl) -4,4 ', 5,5'-tetrakis , 2,2'-bis (2-phenylphenyl) -4,4 ', 5,5'-tetrakis (4-phenoxycarbonylphenyl)

2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라-(4-메톡시페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라-(3-메톡시페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라-(3,4-디메톡시페닐)비이미다졸,Bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetra- (4-methoxyphenyl) biimidazole, 2,2'-bis , 4 ', 5,5'-tetra- (3-methoxyphenyl) imidazole, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) 4-dimethoxyphenyl) bimidazole,

2,2'-비스(2,4-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2,4,6-트리클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2,4-디브로모페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2,4,6-트리브로모페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2,4-디시아노페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2,4,6-트리시아노페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2,4-디메틸페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2,4,6-트리메틸페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2,4-디에틸페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2,4,6-트리에틸페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2,4-디페닐페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2,4,6-트리페닐페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2-플루오로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸 등을 들 수 있다.Bis (2,4-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (2,4,6-trichlorophenyl) -4 , 4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (2,4-dibromophenyl) -4,4' Bis (2,4,6-tribromophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (2,4-dicyanophenyl) -4 , 4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (2,4,6-tricyanophenyl) -4,4', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2 , 2'-bis (2,4-dimethylphenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (2,4,6-trimethylphenyl) ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (2,4-diethylphenyl) -4,4', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'- Bis (2,4,6-triethylphenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (2,4-diphenylphenyl) Tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (2,4,6-triphenylphenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'- Bis (2-fluorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetra And the like can be mentioned phenyl biimidazole.

상기 중에서도 특히 바람직한 화합물로서는, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸(예를 들면 호도가야 카가쿠 고교 제 B-CIM), 2,2'-비스(o-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라-(3,4-디메톡시페닐)비이미다졸(예를 들면 니혼 시벨헤구나 제 HABI1311), 2,2'-비스(2-메틸페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸(예를 들면 쿠로가네 카세이)을 들 수 있다.Particularly preferred compounds among them include 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole (for example, B-CIM manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.) Bis (o-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetra- (3,4-dimethoxyphenyl) biimidazole (for example, HABI 1311 produced by Nihon Sibel Hegnana), 2 , 2'-bis (2-methylphenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole (for example, Kurogane Kasei).

또한, 유기 할로겐화 화합물, 옥시디아졸 화합물, 카르보닐 화합물, 케탈 화합물, 벤조인 화합물, 아크리딘 화합물, 유기과산화 화합물, 아조 화합물, 쿠마린 화합물, 아지드 화합물, 메탈로센 화합물, 유기붕산 화합물, 디술폰산 화합물, 오늄염 화합물, 아실포스핀(옥사이드) 화합물의 구체예로서는, 와카바야시 등, 「Bull Chem. Soc. Japan」 42, 2924(1969), 미국 특허 제3,905,815호 명세서, 일본 특허공고 소 46-4605호 공보, 일본 특허공개 소 48-36281호 공보, 일본 특허공개 소 55-32070호 공보, 일본 특허공개 소 60-239736호 공보, 일본 특허공개 소 61-169835호 공보, 일본 특허공개 소 61-169837호 공보, 일본 특허공개 소 62-58241호 공보, 일본 특허공개 소 62-212401호 공보, 일본 특허공개 소 63-70243호 공보, 일본 특허공개 소 63-298339호 공보, M. P. Hutt "Journal of Heterocyclic Chemistry" 1(No3), (1970), 일본 특허공고 평 6-29285호 공보, 미국 특허 제3,479,185호, 동 제4,311,783호, 동 제4,622,286호 등의 각 명세서, 일본 특허공개 소 62-143044호 공보, 일본 특허공개 소 62-150242호 공보, 일본 특허공개 평 9-188685호 공보, 일본 특허공개 평 9-188686호 공보, 일본 특허공개 평 9-188710호 공보, 일본 특허공개 2000-131837호 공보, 일본 특허공개 2002-107916호 공보, 일본 특허 제2764769호 공보, 일본 특허출원 2000-310808호 공보 등의 각 공보, 및, Kunz, Martin "Rad Tech'98. Proceeding April 19-22, 1998, Chicago" 등에 기재되는 유기 붕산염, 일본 특허공개 평 6-157623호 공보, 일본 특허공개 평 6-175564호 공보, 일본 특허공개 평 6-175561호 공보, 일본 특허공개 평 6-175554호 공보, 일본 특허공개 평 6-175553호 공보, 일본 특허공개 평 9-188710호 공보, 일본 특허공개 평 6-348011호 공보, 일본 특허공개 평 7-128785호 공보, 일본 특허공개 평 7-140589호 공보, 일본 특허공개 평 7-306527호 공보, 일본 특허공개 평 7-292014호 공보, J. C. S. Perkin Ⅱ(1979) 1653-1660, J. C. S. Perkin Ⅱ(1979) 156-162, Journal of Photopolymer Science and Technology(1995) 202-232, 일본 특허공개 2000-66385호 공보, 일본 특허공개 2000-80068호 공보, 일본 특허공표 2004-534797호 공보 등에 기재된 광중합 개시제가 구체예로서 들 수 있다.It is also possible to use organic halogenated compounds, oxydiazole compounds, carbonyl compounds, ketal compounds, benzoin compounds, acridine compounds, organic peroxide compounds, azo compounds, coumarin compounds, azide compounds, metallocene compounds, Specific examples of the disulfonic acid compound, onium salt compound and acylphosphine (oxide) compound are described in Wakabayashi et al., "Bull Chem. Soc. Japanese Patent Publication No. 48-36281, Japanese Patent Application Laid-open No. Sho 55-32070, Japanese Patent Application Laid-open No. Hei 11 60-239736, 61-169835, 61-169837, 62-58241, 62-212401 and 62-212401, Japanese Patent Application Laid-Open JP-A-63-70243, JP-A-63-298339, MP Hutt "Journal of Heterocyclic Chemistry" 1 (No 3), (1970), Japanese Patent Publication No. 6-29285, US Pat. No. 3,479,185 4,311,783, 4,622,286, etc., JP-A-62-143044, JP-A-62-150242, JP-A-9-188685, JP-A-9-188686 JP-A-9-188710, JP-A-2000-131837, JP-A- And Japanese Patent Application No. 2000-310808 and Kunz, Martin, "Rad Tech'98. Proceeding April 19-22, 1998, Chicago &quot;, etc., , Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 6-157623, 6-175564, 6-175561, 6-175554, 6-175553 , Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 9-188710, 6-348011, 7-128785, 7-140589, and 7-306527 , JCS Perkin II (1979) 1653-1660, JCS Perkin II (1979) 156-162, Journal of Photopolymer Science and Technology (1995) 202-232, JP 2000-66385 JP-A-2000-80068, JP-A-2004-534797, etc., I can be given as specific examples.

본 발명에 있어서 (D-2) 다른 광중합 개시제를 병용할 때의 함유량은, 상기 (D) 옥심계 광중합 개시제의 함유량 100질량부에 대하여 100질량부 이하인 것이 바람직하다. 또한, 착색 감광성 수지 조성물의 전체 고형분에 대한 광중합 개시제의 총량[(D)+(D-2)]으로서는, 5질량%∼20질량%의 범위가 바람직하고, 5질량%∼15질량%의 범위가 보다 바람직하고, 10질량%∼15질량%의 범위가 더욱 바람직하다.In the present invention, the content of the other photopolymerization initiator (D-2) in combination is preferably 100 parts by mass or less based on 100 parts by mass of the oxime photopolymerization initiator (D). The total amount [(D) + (D-2)] of the photopolymerization initiator relative to the total solid content of the colored photosensitive resin composition is preferably in the range of 5 mass% to 20 mass%, more preferably in the range of 5 mass% By mass, and more preferably in the range of 10% by mass to 15% by mass.

또한, (D) 특정 중합 개시제 또는 (D-2) 다른 광중합 개시제로서 노광 파장에 흡수를 갖지 않는 화합물을 사용할 경우에는 노광 파장에 흡수를 갖는 화합물을 증감제로서 사용하는 것이 바람직하다. 증감제에 대해서는 후술한다.When a specific polymerization initiator (D) or other photopolymerization initiator (D-2) is used as the photopolymerization initiator, a compound having absorption at the exposure wavelength is preferably used as the sensitizer. The sensitizer will be described later.

<(E) 용제><(E) Solvent>

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은 (E) 용제를 포함하고, (E) 용제를 이용하여 조제할 수 있다. 또한 상술한 안료 분산 조성물도 (E) 용제를 이용하여 조제한다.The colored photosensitive resin composition of the present invention can be prepared using (E) a solvent and (E) a solvent. The above-mentioned pigment dispersion composition is also prepared by using (E) a solvent.

(E) 용제로서는 에스테르류, 예를 들면 아세트산 에틸, 아세트산-n-부틸, 아세트산 이소부틸, 포름산 아밀, 아세트산 이소아밀, 아세트산 이소부틸, 프로피온산 부틸, 부티르산 이소프로필, 부티르산 에틸, 부티르산 부틸, 알킬에스테르류, 락트산 메틸, 락트산 에틸, 옥시아세트산 메틸, 옥시아세트산 에틸, 옥시아세트산 부틸, 메톡시아세트산 메틸, 메톡시아세트산 에틸, 메톡시아세트산 부틸, 에톡시아세트산 메틸, 에톡시아세트산 에틸, 및 3-옥시프로피온산 메틸, 3-옥시프로피온산 에틸 등의 3-옥시프로피온산 알킬에스테르류(예를 들면 3-메톡시프로피온산 메틸, 3-메톡시프로피온산 에틸, 3-에톡시프로피온산 메틸, 및 3-에톡시프로피온산 에틸등), 2-옥시프로피온산 메틸, 2-옥시프로피온산 에틸, 2-옥시프로피온산 프로필 등의 2-옥시프로피온산 알킬에스테르류(예를 들면 2-메톡시프로피온산 메틸, 2-메톡시프로피온산 에틸, 2-메톡시프로피온산 프로필, 2-에톡시프로피온산 메틸, 2-에톡시프로피온산 에틸, 2-옥시-2-메틸프로피온산 메틸, 2-옥시-2-메틸프로피온산 에틸, 2-메톡시-2-메틸프로피온산 메틸, 및 2-에톡시-2-메틸프로피온산 에틸 등), 피루브산 메틸, 피루브산 에틸, 피루브산 프로필, 아세토아세트산 메틸, 아세토아세트산 에틸, 2-옥소부탄산 메틸, 2-옥소부탄산 에틸, 1,3-부탄디올디아세테이트 등;Examples of the solvent (E) include esters such as ethyl acetate, n-butyl acetate, isobutyl acetate, amyl formate, isoamyl acetate, isobutyl acetate, butyl propionate, isopropyl butyrate, butyl butyrate, And examples thereof include methyl lactate, methyl lactate, methyl oxyacetate, ethyl oxyacetate, butyl oxyacetate, methyl methoxyacetate, ethyl methoxyacetate, butyl methoxyacetate, ethoxyacetate, ethoxyacetate, 3-oxypropionic acid alkyl esters (e.g., methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate and ethyl 3-ethoxypropionate) , Methyl 2-oxypropionate, ethyl 2-oxypropionate, propyl 2-oxypropionate and the like (For example, methyl 2-methoxypropionate, ethyl 2-methoxypropionate, propyl 2-methoxypropionate, methyl 2-ethoxypropionate, ethyl 2-ethoxypropionate, Methyl propionate, ethyl 2-oxy-2-methylpropionate, methyl 2-methoxy-2-methylpropionate and ethyl 2-ethoxy-2-methylpropionate), methyl pyruvate, ethyl pyruvate, propyl pyruvate, methyl acetoacetate, Ethyl acetoacetate, methyl 2-oxobutanoate, ethyl 2-oxobutanoate, 1,3-butanediol diacetate and the like;

에테르류, 예를 들면 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 테트라히드로푸란, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르, 프로필렌글리콜메틸에테르, 프로필렌글리콜모노n-프로필에테르, 프로필렌글리콜모노n-부틸에테르, 트리프로필렌글리콜모노n-부틸에테르, 프로필렌글리콜페닐에테르,Ethers such as diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, tetrahydrofuran, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, di Ethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol methyl ether, propylene glycol mono n-propyl ether, propylene glycol mono n-butyl ether, tripropylene glycol mono n-butyl ether, propylene glycol phenyl ether,

메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트, 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜 프로필에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜 n-프로필에테르아세테이트, 프로필렌글리콜디아세테이트, 프로필렌글리콜 n-부틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜페닐에테르아세테이트, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 디프로필렌글리콜 n-프로필에테르아세테이트, 디프로필렌글리콜 n-부틸에테르아세테이트, 트리프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트 등;Methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, propylene glycol methyl ether acetate, propylene glycol ethyl ether acetate, propylene glycol propyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monobutyl ether acetate, propylene glycol n- Butyl ether acetate, dipropylene glycol monomethyl ether acetate, dipropylene glycol n-propyl ether acetate, dipropylene glycol n-butyl ether acetate, dipropylene glycol n-butyl ether acetate, dipropylene glycol n-propyl ether acetate, Propylene glycol methyl ether acetate and the like;

알콕시알킬아세테이트류, 예를 들면 3-메톡시부틸아세테이트, 4-메톡시부틸아세테이트, 2-메틸-3-메톡시부틸아세테이트, 3-메틸-3-메톡시부틸아세테이트, 3-메틸-3-메톡시부틸아세테이트, 2-에톡시부틸아세테이트, 4-에톡시부틸아세테이트, 2-메톡시펜틸아세테이트, 3-메톡시펜틸아세테이트, 4-메톡시펜틸아세테이트, 2-메틸-3-메톡시펜틸아세테이트, 3-메틸-3-메톡시펜틸아세테이트, 3-메틸-4-메톡시펜틸아세테이트 등;Alkoxyalkyl acetates such as 3-methoxybutyl acetate, 4-methoxybutyl acetate, 2-methyl-3-methoxybutyl acetate, 3-methyl- Methoxybutyl acetate, 2-ethoxybutyl acetate, 4-ethoxybutyl acetate, 2-methoxypentyl acetate, 3-methoxypentyl acetate, 4-methoxypentyl acetate, 2-methyl- , 3-methyl-3-methoxypentyl acetate, 3-methyl-4-methoxypentyl acetate and the like;

케톤류, 예를 들면 아세톤, 메틸에틸케톤, 시클로헥사논, 2-헵타논, 3-헵타논 등;Ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 2-heptanone, 3-heptanone and the like;

알코올류, 예를 들면 에탄올, 이소프로필알코올 등;Alcohols such as ethanol, isopropyl alcohol and the like;

방향족 탄화수소류, 예를 들면 톨루엔, 크실렌 등을 들 수 있다.Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene.

이들 중, 3-에톡시프로피온산 메틸, 3-에톡시프로피온산 에틸, 에틸셀로솔브아세테이트, 락트산 에틸, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 아세트산 부틸, 3-메톡시프로피온산 메틸, 2-헵타논, 시클로헥사논, 에틸카르비톨아세테이트, 부틸카르비톨아세테이트, 프로필렌글리콜메틸에테르, 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜에틸에테르아세테이트, 3-메톡시부틸아세테이트, 3-메틸-3-메톡시부틸아세테이트 등이 바람직하다.Of these, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethylcellosolve acetate, ethyl lactate, diethylene glycol dimethyl ether, butyl acetate, methyl 3-methoxypropionate, 2-heptanone, , Ethylcarbitol acetate, butyl carbitol acetate, propylene glycol methyl ether, propylene glycol methyl ether acetate, propylene glycol ethyl ether acetate, 3-methoxybutyl acetate, 3-methyl-3-methoxybutyl acetate and the like are preferable.

(E) 용제는 단독으로 사용하는 이외에 2종 이상을 조합시켜서 사용해도 좋다.The solvent (E) may be used alone or in combination of two or more.

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물에는, 필요에 따라서 (F) 증감제, 계면활성제, 열경화성 수지 등의 기타 성분을 더 포함할 수 있다.The colored photosensitive resin composition of the present invention may further contain (F) other components such as a sensitizer, a surfactant, and a thermosetting resin, if necessary.

<(F) 증감제><(F) sensitizer>

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물에는 노광 파장에 흡수를 갖는 화합물을 증감제로서 사용하여 (D) 옥심계 광중합 개시제의 개시 효율을 높이는 것이 바람직하다. 이 증감제가 흡수할 수 있는 파장의 노광에 의해 (D) 옥심계 광중합 개시제 성분의 라디칼 발생 반응이나, 그것에 의한 중합성 화합물의 중합 반응이 촉진된다.In the colored photosensitive resin composition of the present invention, it is preferable to increase the initiation efficiency of the (D) oxime-based photopolymerization initiator by using a compound having absorption at the exposure wavelength as a sensitizer. The radical generation reaction of the oxime-based photopolymerization initiator component (D) and the polymerization reaction of the polymerizable compound thereby are promoted by the exposure of the wavelength capable of being absorbed by the sensitizer.

이러한 증감제로서는 공지의 분광 증감 색소 또는 염료, 또는 광을 흡수해서 광중합 개시제와 상호작용하는 염료 또는 안료를 들 수 있다.Such sensitizers include known spectral sensitizing dyes or dyes, or dyes or pigments which absorb light to interact with photopolymerization initiators.

본 발명에 사용할 수 있는 증감제로서 바람직한 분광 증감 색소 또는 염료는, 다핵 방향족류(예를 들면 피렌, 페릴렌, 트리페닐렌), 크산텐류(예를 들면 플루오레세인, 에오신, 에리스로신, 로다민B, 로즈벵갈), 시아닌류(예를 들면 티아카르보시아닌, 옥사카르보시아닌), 멜로시아닌류 (예를 들면 멜로시아닌, 카르보멜로시아닌), 티아진류(예를 들면 티오닌, 메틸렌 블루, 톨루이딘 블루), 아크리딘류(예를 들면 아크리딘 오렌지, 클로로플라빈, 아크리플라빈), 프탈로시아닌류(예를 들면 프탈로시아닌, 메탈프탈로시아닌), 포르피린류(예를 들면 테트라페닐포르피린, 중심금속 치환 포르피린), 클로로필류(예를 들면 클로로필, 클로로피린, 중심금속 치환 클로로필), 금속 착체, 안트라퀴논류(예를 들면 안트라퀴논), 스쿠아릴리움류(예를 들면 스쿠아릴리움) 등을 들 수 있지만, 그 중에서도 이하에 상세하게 설명하는 티올 화합물이 바람직하다.Preferred spectral sensitizing dyes or dyes which can be used in the present invention include, but are not limited to, polynuclear aromatic compounds (e.g., pyrene, perylene, triphenylene), xanthines (such as fluorescein, eosine, erythrosine, (For example, meloxicans, carbomeric rings), thiazines (for example, thiocarbons such as thiocarbamates Naphthalene, naphthalene, methylene blue, toluidine blue), acridines (e.g., acridine orange, chloroflavin, acriflavine), phthalocyanines (e.g., phthalocyanine, metal phthalocyanine), porphyrins (Such as chloropyridine, central metal substituted chlorophyll), metal complexes, anthraquinones (for example, anthraquinone), squaryliums (for example, squarylium ), And among them, a thiol compound to be described in detail below is preferable.

티올 화합물은 광중합 개시제의 활성 방사선에 대한 감도를 한층 더 향상시키거나, 또는 산소에 의한 중합성 화합물의 중합 저해를 억제하는 등의 작용을 갖는다.The thiol compound has an action of further improving the sensitivity to the active radiation of the photopolymerization initiator or inhibiting polymerization inhibition of the polymerizable compound by oxygen.

티올 화합물로서는 에틸렌글리콜비스티오프로피오네이트(EGTP), 부탄디올비스티오프로피오네이트(BDTP), 트리메티롤프로판트리스티오프로피오네이트(TMTP), 펜타에리스리톨테트라키스티오프로피오네이트(PETP) 등의 각 다관능 티올 화합물, 2-메르캅토벤조티아졸, 2-메르캅토벤조옥사졸, 2-메르캅토벤조이미다졸, 2-메르캅토-4(3H)-퀴나졸린, β메르캅토나프탈렌, N-페닐-메르캅토벤즈이미다졸 등의 단관능 티올 화합물을 들 수 있다.Examples of the thiol compound include ethylene glycol bis (thio) propionate (EGTP), butanediol bisthiourethionate (BDTP), trimethylolpropane tris (thio) propionate (TMTP), pentaerythritol tetrakisthiopropionate (3H) -quinazoline,? -Mercaptonaphthalene,? - mercapto naphthalene, N-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzoimidazole, Phenyl-mercaptobenzimidazole, and the like.

특히, 경시 안정성, 용제에의 용해성의 관점으로부터 단관능의 티올 화합물이 바람직하다.Particularly, monofunctional thiol compounds are preferable from the viewpoints of stability with time and solubility in solvents.

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물에 있어서의 티올 화합물의 함유량은 중합 성장 속도와 연쇄 이동의 밸런스에 의한 경화 속도의 향상의 관점으로부터, 감광성 수지 조성물의 전체 고형분 질량에 대하여 0.5질량%∼10질량%의 범위가 바람직하고, 0.5질량%∼5질량%의 범위가 더욱 바람직하다.The content of the thiol compound in the colored photosensitive resin composition of the present invention is preferably 0.5% by mass to 10% by mass, based on the total solid content of the photosensitive resin composition, from the viewpoint of improvement in the curing rate due to the polymerization growth rate and balance of chain transfer , And more preferably in the range of 0.5% by mass to 5% by mass.

<그 밖의 첨가제><Other additives>

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은 필수 성분인 (A)성분∼(E)성분 및 바람직한 병용 성분인 (F)성분에 추가하여, 필요에 따라서 다른 첨가제를 포함하고 있어도 좋다. 이하, 임의의 첨가제에 대하여 설명한다.The colored photosensitive resin composition of the present invention may contain other additives as necessary in addition to the essential components (A) to (E) and the preferred combination component (F). Hereinafter, optional additives will be described.

(계면활성제)(Surfactants)

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은 계면활성제를 포함할 수 있다.The colored photosensitive resin composition of the present invention may contain a surfactant.

안료 농도를 크게 하면 도포액의 틱소성이 일반적으로 커지기 때문에 기판 상에 착색 감광성 수지 조성물을 도포 또는 전사해서 착색 감광성 수지 조성물층 (착색층 도막) 형성 후의 막두께 편차를 발생시키기 쉽다. 또 특히, 슬릿 코팅법에 의한 착색 감광성 수지 조성물층(착색층 도막) 형성에서는, 건조까지 착색 감광성 수지 조성물층 형성용의 도포액이 레벨링해서 균일한 두께의 도막을 형성하는 것이 중요하다. 이 때문에, 상기 착색 감광성 수지 조성물 중에 적절한 계면활성제를 함유시키는 것이 바람직하다. 상기 계면활성제로서는 일본 특허공개 2003-337424호 공보, 일본 특허공개 평 11-133600호 공보에 개시되어 있는 계면활성제가 바람직한 것으로서 들 수 있다.If the pigment concentration is increased, the tin-firing of the coating liquid generally becomes large, so that the colored photosensitive resin composition is applied or transferred onto the substrate, which tends to cause a film thickness deviation after formation of the colored photosensitive resin composition layer (colored layer coating film). Particularly, in forming the colored photosensitive resin composition layer (colored layer coating film) by the slit coating method, it is important that the coating liquid for forming the colored photosensitive resin composition layer is leveled to form a coating film having a uniform thickness until drying. Therefore, it is preferable to add a suitable surfactant to the colored photosensitive resin composition. As the surfactant, surfactants disclosed in JP-A-2003-337424 and JP-A-11-133600 are preferable.

도포성을 향상시키기 위한 계면활성제로서는 비이온계 계면활성제, 불소계 계면활성제, 규소계 계면활성제 등이 첨가된다.As the surfactant for improving the coating property, a nonionic surfactant, a fluorinated surfactant, a silicon surfactant and the like are added.

비이온계 계면활성제로서는, 예를 들면 폴리옥시에틸렌글리콜류, 폴리옥시프로필렌글리콜류, 폴리옥시에틸렌알킬에테르류, 폴리옥시에틸렌알킬아릴에테르류, 폴리옥시에틸렌알킬에스테르류, 폴리옥시프로필렌알킬에테르류, 폴리옥시프로필렌알킬아릴에테르류, 폴리옥시프로필렌알킬에스테르류, 소르비탄 알킬에스테르류, 모노글리세리드알킬에스테르류 등의 비이온계 계면활성제가 바람직하다.Examples of the nonionic surfactant include polyoxyethylene glycols, polyoxypropylene glycols, polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl aryl ethers, polyoxyethylene alkyl esters, polyoxypropylene alkyl ethers , Polyoxypropylene alkyl aryl ethers, polyoxypropylene alkyl esters, sorbitan alkyl esters, and monoglyceride alkyl esters.

구체적으로는, 폴리옥시에틸렌글리콜, 폴리옥시프로필렌글리콜 등의 폴리옥시알킬렌글리콜류; 폴리옥시에틸렌라우릴에테르, 폴리옥시프로필렌스테아릴에테르, 폴리옥시에틸렌올레일에테르 등의 폴리옥시알킬렌알킬에테르류; 폴리옥시에틸렌옥틸페닐에테르, 폴리옥시에틸렌폴리스티릴화 에테르, 폴리옥시에틸렌트리벤질페닐에테르, 폴리옥시에틸렌-프로필렌폴리스티릴화 에테르, 폴리옥시에틸렌노닐페닐에테르 등의 폴리옥시에틸렌아릴에테르류; 폴리옥시에틸렌디라울레이트, 폴리옥시에틸렌디스테아레이트 등의 폴리옥시알킬렌디알킬에스테르, 소르비탄 지방산 에스테르, 폴리옥시알킬렌 소르비탄 지방산 에스테르류 등의 비이온계 계면활성제가 있다.Specific examples include polyoxyalkylene glycols such as polyoxyethylene glycol and polyoxypropylene glycol; Polyoxyalkylene alkyl ethers such as polyoxyethylene lauryl ether, polyoxypropylene stearyl ether, and polyoxyethylene oleyl ether; Polyoxyethylene aryl ethers such as polyoxyethylene octyl phenyl ether, polyoxyethylene polystyryl ether, polyoxyethylene tribenzyl phenyl ether, polyoxyethylene-propylene polystyryl ether and polyoxyethylene nonyl phenyl ether; And nonionic surfactants such as polyoxyalkylene dialkyl esters such as polyoxyethylene distearate and polyoxyethylene distearate, sorbitan fatty acid esters and polyoxyalkylene sorbitan fatty acid esters.

이들의 구체예는, 예를 들면 아데카 플루로닉 시리즈, 아데카놀 시리즈, 테트로닉 시리즈[이상, ADEKA(주) 제], 에뮬겐 시리즈, 레오돌 시리즈[이상, 카오(주) 제], 엘레미놀 시리즈, 노니폴 시리즈, 옥타폴 시리즈, 도데카폴 시리즈, 뉴폴 시리즈[이상, 산요 카세이(주) 제], 파이오닌 시리즈[타케모토 유시(주) 제], 닛산 비이온 시리즈[니혼 유시(주) 제] 등이다. 이들의 시판되고 있는 것을 적당하게 사용할 수 있다. 바람직한 HLB값은 8∼20, 더욱 바람직하게는 10∼17이다.Specific examples of these are, for example, adekafluronic series, adecanol series, Tetronic series (manufactured by ADEKA Co., Ltd.), Emulgen series, Leodol series (manufactured by Kao Corporation) (Manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd.), Pionin series [manufactured by Takemoto Yushi Co., Ltd.], Nissan Nonion series [manufactured by Nippon Oil & Fats Co., Ltd. And so on. Those commercially available can be suitably used. The preferred HLB value is 8-20, more preferably 10-17.

불소계 계면활성제로서는 말단, 주쇄 및 측쇄 중 적어도 어느 하나의 부위에 플루오로알킬 또는 플루오로알킬렌기를 갖는 화합물을 적합하게 사용할 수 있다.As the fluorine-based surfactant, a compound having a fluoroalkyl or fluoroalkylene group in at least one of a terminal, a main chain and a side chain may be suitably used.

구체적 시판품으로서는, 예를 들면 메가팩 F142D, 동 F172, 동 F173, 동 F176, 동 F177, 동 F183, 동 F780, 동 F781, 동 F782, 동 F784, 동 F552, 동 F554, 동 R30, 동 R08[이상, DIC(주) 제], 플루오라드 FC-135, 동 FC-170C, 동 FC-430, 동 FC-431[이상, 스미토모스리엠(주) 제], 써플론 S-112, 동 S-113, 동 S-131, 동 S-141, 동 S-145, 동 S-382, 동 SC-101, 동 SC-102, 동 SC-103, 동 SC-104, 동 SC-105, 동 SC-106[이상, 아사히가라스(주) 제], 에프톱 EF351, 동 352, 동 801, 동 802[이상, JEMCO(주) 제] 등이다.Specific examples of commercially available products include Mega Pack F142D, Copper F172, Copper F173, Copper F176, Copper F177, Copper F183, Copper F780, Copper F781, Copper F782, Copper F784, Copper F552, Copper F554, Copper R30, (Manufactured by Sumitomo 3M Ltd.), SURFLON S-112, S-FC-431 (manufactured by Sumitomo 3M Ltd.), Fluorad FC-135, FC-170C, 113, S-131, S-141, S-145, S-382, SC-101, SC-102, 106 or more, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd., Epson EF351, E 352, E 801, E 802 (manufactured by JEMCO Co., Ltd.).

규소계 계면활성제로서는, 예를 들면 도레이 실리콘 DC3PA, 동 DC7PA, 동 SH11PA, 동 SH21PA, 동 SH28PA, 동 SH29PA, 동 SH30PA, 동 SH-190, 동 SH-193, 동 SZ-6032, 동 SF-8428, 동 DC-57, 동 DC-190[이상, 도레이 다우코닝 실리콘(주) 제], TSF-4440, TSF-4300, TSF-4445, TSF-4446, TSF-4460, TSF-4452[이상, GE 도시바 실리콘(주) 제] 등을 들 수 있다.Examples of the silicon-based surfactant include TORAY Silicon DC3PA, Copper DC7PA, Copper SH11PA, Copper SH21PA, Copper SH28PA, Copper SH29PA, Copper SH30PA, Copper SH-190, Copper SH-193, Copper SZ- (Manufactured by Toray Dow Corning Silicone Co., Ltd.), TSF-4440, TSF-4300, TSF-4445, TSF-4446, TSF-4460, TSF- (Manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd.).

이들 중에서 본 발명에 바람직한 계면활성제로서는 메가팩 F780, 동 F781, 동 F782, 동 F784, 동 F552, 및 동 F554[이상, DIC(주) 제]이다.Among them, Megafac F780, F781, F782, F784, F552, and F554 [manufactured by DIC Corporation] are preferable surfactants for the present invention.

이들 계면활성제는 착색 감광성 수지 조성물 100질량부에 대하여 바람직하게는 5질량부 이하, 보다 바람직하게는 2질량부 이하이며, 더욱 바람직하게는 0.5질량부 이하로 사용된다. 계면활성제의 양이 5질량부를 초과하는 경우에는 도포 건조에서의 줄무늬나 표면 거침이 발생하기 쉽고, 평활성이 악화되기 쉬워진다.These surfactants are used in an amount of preferably 5 parts by mass or less, more preferably 2 parts by mass or less, and even more preferably 0.5 parts by mass or less based on 100 parts by mass of the colored photosensitive resin composition. When the amount of the surfactant is more than 5 parts by mass, stripe or surface roughness in the coating and drying tends to occur, and smoothness tends to deteriorate.

(열경화성 수지)(Thermosetting resin)

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은 소망에 의해 에폭시 수지, 옥세탄 수지 등의 열경화성 수지를 함유할 수 있다.The colored photosensitive resin composition of the present invention may optionally contain a thermosetting resin such as an epoxy resin and an oxetane resin.

에폭시 수지로서는 비스페놀A형, 크레졸 노볼락형, 비페닐형, 지환식 에폭시 화합물 등이다.Examples of the epoxy resin include bisphenol A type, cresol novolak type, biphenyl type, and alicyclic epoxy compound.

예를 들면 비스페놀A형으로서는 에포토토 YD-115, YD-118T, YD-127, YD-128, YD-134, YD-8125, YD-7011R, ZX-1059, YDF-8170, YDF-170 등(이상, 도토 카세이 제), 데나콜 EX-1101, EX-1102, EX-1103등(이상, 나가세 카세이 제), 프락셀 GL-61, GL-62, G101, G102(이상, 다이셀 카가쿠 제) 등을 들 수 있다. 그 외에, 이것들에 유사의 비스페놀F형, 비스페놀S형도 들 수 있다. 또한 Ebecryl 3700, 3701, 600(이상, 다이셀 유씨비 제) 등의 에폭시아크릴레이트도 사용 가능하다.Examples of the bisphenol A type include Eptotol YD-115, YD-118T, YD-127, YD-128, YD-134, YD-8125, YD-7011R, ZX-1059, YDF- (Manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), Fraxel GL-61, GL-62, G101 and G102 (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), DENACOL EX-1101, EX-1102 and EX- ) And the like. In addition to these, bisphenol F-type and bisphenol-S-type resembles to these. Epoxy acrylates such as Ebecryl 3700, 3701, 600 (available from Daicel Chemical Industries, Ltd.) can also be used.

크레졸 노볼락형으로서는 에포토토 YDPN-638, YDPN-701, YDPN-702, YDPN-703, YDPN-704 등(이상, 도토 카세이 제), 데나콜 EM-125 등(이상, 나가세 카세이 제), 비페닐형으로서는 3,5,3',5'-테트라메틸-4,4'디글리시딜비페닐 등을 들 수 있다.Examples of the cresol novolak type include Epotho YDPN-638, YDPN-701, YDPN-702, YDPN-703 and YDPN-704 (manufactured by Toko Kasei Co., Examples of the biphenyl type include 3,5,3 ', 5'-tetramethyl-4,4'-diglycidylbiphenyl.

지환식 에폭시 화합물로서는 셀록사이드 2021, 2081, 2083, 2085, 에포리드GT-301, GT-302, GT-401, GT-403, EHPE-3150(이상, 다이셀 카가쿠 제), 산토토 ST-3000, ST-4000, ST-5080, ST-5100 등(이상, 도토 카세이 제) 등을 들 수 있다. 그 외에 아민형 에폭시 수지인 에포토토 YH-434, YH-434L, 비스페놀A형 에폭시 수지의 골격을 다이머산으로 변성한 글리시딜에스테르 등도 사용할 수 있다.Examples of the alicyclic epoxy compounds include Celloxides 2021, 2081, 2083 and 2085, Epolide GT-301, GT-302, GT-401, GT-403 and EHPE- 3150 3000, ST-4000, ST-5080, ST-5100 and the like (manufactured by TOKO KASEI). In addition, epoxy type YH-434, YH-434L which is amine type epoxy resin, glycidyl ester which is modified with dimer acid of skeleton of bisphenol A type epoxy resin, and the like can also be used.

이들 에폭시 수지 중에서, 바람직하게는 노볼락형 에폭시 화합물, 지환식 에폭시 화합물이 바람직하고, 에폭시 당량이 180∼250인 것이 특히 바람직하다. 이러한 소재로서는 에피클론 N-660, N-670, N-680, N-690, YDCN-704L[이상, DIC(주) 제], EHPE3150(다이셀 카가쿠 제)을 들 수 있다.Of these epoxy resins, novolak-type epoxy compounds and alicyclic epoxy compounds are preferable, and epoxy equivalents of 180 to 250 are particularly preferable. Examples of such materials include Epiclon N-660, N-670, N-680, N-690 and YDCN-704L (manufactured by DIC Corporation) and EHPE3150 (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.).

옥세탄 수지로서 아론옥세탄 OXT-101, OXT-121, OXT-211, OXT-221, OXT-212, OXT-610, OX-SQ, PNOX(이상, 도아 고세이 제)를 사용할 수 있다.As the oxetane resin, Aromoxetane OXT-101, OXT-121, OXT-211, OXT-221, OXT-212, OXT-610, OX-SQ and PNOX (available from Doagosei Co., Ltd.) can be used.

또한 옥세탄 수지는 단독으로 또는 아크릴계 공중합체, 에폭시 수지 및 말레이미드 수지와 혼합해서 사용할 수 있다. 특히, 에폭시 수지와의 병용으로 사용했을 경우에는 자외광 레이저 노광에 의해 발생한 열에 대한 반응성이 높고, 기판과의 밀착성의 관점으로부터 바람직하다.The oxetane resin can be used alone or in combination with an acrylic copolymer, an epoxy resin and a maleimide resin. In particular, when used in combination with an epoxy resin, it is highly reactive with heat generated by ultraviolet laser exposure and is preferable from the viewpoint of adhesion with a substrate.

본 발명에 의한 에폭시 수지, 및 옥세탄 수지의 착색 감광성 수지 조성물 중에 있어서의 함유량으로서는, 착색 감광성 수지 조성물의 전체 고형분에 대하여 0.5∼15질량%가 바람직하고, 1∼10질량%가 알칼리에 대한 용해성과 기판과의 밀착성의 양립의 관점으로부터 바람직하다.The content of the epoxy resin and the oxetane resin in the colored photosensitive resin composition according to the present invention is preferably 0.5 to 15% by mass, more preferably 1 to 10% by mass, based on the total solid content of the colored photosensitive resin composition, And adhesion between the substrate and the substrate.

(유기 카르복실산)(Organic carboxylic acid)

미경화부의 알칼리 용해성을 촉진하고, 착색 감광성 수지 조성물의 현상성의 더나은 향상을 꾀할 경우에는 유기 카르복실산, 바람직하게는 분자량 1000 이하의 저분자량 유기 카르복실산의 첨가를 행할 수 있다. 구체적으로는, 예를 들면 포름산, 아세트산, 프로피온산, 부티르산, 발레르산, 피발산, 카프로산, 디에틸아세트산, 에난트산, 카프릴산 등의 지방족 모노카르복실산; 옥살산, 말론산, 숙신산, 글루타르산, 아디프산, 피멜산, 스베린산, 아제라인산, 세바신산, 브라실릭산, 메틸말론산, 에틸말론산, 디메틸말론산, 메틸숙신산, 테트라메틸숙신산, 시트라콘산 등의 지방족 디카르복실산; 트리카르발릴산, 아코니트산, 캄포론산 등의 지방족 트리카르복실산; 벤조산, 톨루산, 쿠민산, 헤멜리트산, 메시틸렌산 등의 방향족 모노카르복실산; 프탈산, 이소프탈산, 테레프탈산, 트리멜리트산, 트리메신산, 멜로판산, 피로멜리트산 등의 방향족 폴리카르복실산; 페닐아세트산, 페녹시아세트산, 메톡시페녹시아세트산, 히드라트로프산, 히드로계피산, 만델산, 페닐숙신산, 아트로프산, 계피산, 신나밀리덴아세트산, 쿠말산, 움벨산 등의 기타의 카르복실산을 들 수 있다.When accelerating the alkali solubility of the uncured portion and improving the developability of the colored photosensitive resin composition, it is possible to add an organic carboxylic acid, preferably a low molecular weight organic carboxylic acid having a molecular weight of 1000 or less. Specific examples thereof include aliphatic monocarboxylic acids such as formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, pivalic acid, caproic acid, diethylacetic acid, enanthic acid and caprylic acid; There may be mentioned oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, brassylic acid, methylmalonic acid, ethylmalonic acid, dimethylmalonic acid, methylsuccinic acid, , Aliphatic dicarboxylic acids such as citraconic acid; Aliphatic tricarboxylic acids such as tricarballylic acid, aconitic acid and camphoronic acid; Aromatic monocarboxylic acids such as benzoic acid, toluic acid, cuminic acid, hemellitic acid and mesitylene acid; Aromatic polycarboxylic acids such as phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, trimellitic acid, trimesic acid, melotropic acid and pyromellitic acid; Other carboxylic acids such as phenylacetic acid, phenoxyacetic acid, methoxyphenoxyacetic acid, hydrathropic acid, hydrocipic acid, mandelic acid, phenylsuccinic acid, atropic acid, cinnamic acid, cinnamylideneacetic acid, .

(실란커플링제)(Silane coupling agent)

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물에는 더나은 기판과의 밀착성 향상의 관점으로부터 실란커플링제를 사용할 수 있다.A silane coupling agent can be used in the colored photosensitive resin composition of the present invention from the viewpoint of better adhesion with a substrate.

실란커플링제로서는 무기재료와 화학 결합 가능한 가수분해성기로서 알콕시실릴기를 갖는 것이 바람직하다. 또한 유기수지와의 사이에서 상호작용 또는 결합 형성해서 친화성을 나타내는 기를 갖는 것이 바람직하고, 그러한 기로서 (메타)아크릴로일기, 페닐기, 메르캅토기, 글리시딜기, 옥세타닐기를 갖는 것이 바람직하고, 그 중에서도 (메타)아크릴로일기 또는 글리시딜기를 갖는 것이 바람직하다.The silane coupling agent preferably has an alkoxysilyl group as a hydrolyzable group capable of chemically bonding with an inorganic material. (Meth) acryloyl group, a phenyl group, a mercapto group, a glycidyl group, and an oxetanyl group are preferable as such groups Among them, those having a (meth) acryloyl group or a glycidyl group are preferable.

즉, 본 발명에 사용하는 실란커플링제로서는 알콕시실릴기와, (메타)아크릴로일기 또는 에폭시기를 갖는 화합물인 것이 바람직하고, 구체적으로는 하기 구조의 (메타)아크릴로일-트리메톡시실란 화합물, 글리시딜-트리메톡시실란 화합물 등을 들 수 있다.That is, the silane coupling agent used in the present invention is preferably a compound having an alkoxysilyl group and a (meth) acryloyl group or an epoxy group, and more specifically, a (meth) acryloyl-trimethoxysilane compound having the following structure, Glycidyl-trimethoxysilane compounds, and the like.

Figure 112011028945611-pat00031
Figure 112011028945611-pat00031

실란커플링제를 사용할 경우의 첨가량으로서는, 본 발명에 사용되는 착색 감광성 수지 조성물 중의 전체 고형분 중 0.2질량%∼5.0질량%의 범위인 것이 바람직하고, 0.5질량%∼3.0질량%가 보다 바람직하다.When the silane coupling agent is used, the addition amount is preferably in the range of 0.2% by mass to 5.0% by mass, more preferably 0.5% by mass to 3.0% by mass in the total solid content in the colored photosensitive resin composition used in the present invention.

(중합금지제)(Polymerization inhibitor)

본 발명에 있어서는 착색 감광성 수지 조성물의 제조 중 또는 보존 중에 있어서 중합성 화합물의 불필요한 열중합을 저지하기 위해서 소량의 열중합 방지제를 첨가하는 것이 바람직하다.In the present invention, it is preferable to add a small amount of a thermal polymerization inhibitor in order to prevent unnecessary thermal polymerization of the polymerizable compound during or during the production of the colored photosensitive resin composition.

본 발명에 사용할 수 있는 열중합 방지제로서는 하이드로퀴논, p-메톡시페놀, 디-t-부틸-p-크레졸, 피로갈롤, t-부틸카테콜, 벤조퀴논, 4,4'-티오비스(3-메틸-6-t-부틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-t-부틸페놀), N-니트로소페닐히드록시아민 제1세륨염, 페녹사진, 페노티아진 등을 들 수 있다.Examples of the thermal polymerization inhibitor usable in the present invention include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis Methyl-6-t-butylphenol), 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol), N-nitrosophenylhydroxyamine cetylium salt, phenoxazine, phenothiazine And the like.

열중합 방지제의 첨가량은 착색 감광성 수지 조성물에 대하여 0.01질량%∼5질량%가 바람직하다.The addition amount of the thermal polymerization inhibitor is preferably 0.01% by mass to 5% by mass with respect to the colored photosensitive resin composition.

또한 필요에 따라, 산소에 의한 중합 저해를 방지하기 위해서 베헨산이나 베헨산 아미드와 같은 고급 지방산 유도체 등을 첨가하고, 도포 후의 건조의 과정에서 감광층의 표면에 편재시킬 수도 있다. 고급 지방산 유도체의 첨가량은 착색 감광성 수지 조성물의 0.5질량%∼10질량%가 바람직하다.If necessary, a higher fatty acid derivative such as behenic acid or behenic acid amide may be added to prevent polymerization inhibition by oxygen, and it may be localized on the surface of the photosensitive layer during drying after application. The addition amount of the higher fatty acid derivative is preferably 0.5% by mass to 10% by mass of the colored photosensitive resin composition.

(가소제)(Plasticizer)

또한, 본 발명에 있어서는 착색 감광성 수지 조성물의 물성을 개량하기 위해서 무기충전제나, 가소제 등을 첨가해도 좋다.In the present invention, an inorganic filler, a plasticizer and the like may be added to improve the physical properties of the colored photosensitive resin composition.

가소제로서는 예를 들면 디옥틸프탈레이트, 디도데실프탈레이트, 트리에틸렌글리콜디카프릴레이트, 디메틸글리콜프탈레이트, 트리크레실포스페이트, 디옥틸아디페이트, 디부틸세바케이트, 트리아세틸글리세린 등이 있고, (C) 중합성 화합물과 바인더 수지의 합계 질량에 대하여 10질량% 이하의 양으로 첨가할 수 있다.Examples of the plasticizer include dioctyl phthalate, didodecyl phthalate, triethylene glycol dicaprylate, dimethyl glycol phthalate, tricresyl phosphate, dioctyl adipate, dibutyl sebacate and triacetyl glycerin. (C) Polymerization Based on the total mass of the positive-working compound and the binder resin, in an amount of 10 mass% or less.

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은 종래 공지의 노광 수단에 의해 경화시킬 수 있지만, 그 중에서도 자외광의 노광에 의해 고감도로 경화하고, 또한 기판으로 높은 밀착성을 나타낸다. 자외광의 노광 수단으로서는 레이저 노광법 및 프록시미티 노광법의 어느 것이라도 좋지만, 표면 레티큘레이션을 억제하는 관점으로부터 레이저 노광법이 바람직하다. 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은 컬러필터의 착색 패턴 형성에 바람직하게 사용할 수 있다.The colored photosensitive resin composition of the present invention can be cured by conventionally known exposure means. Among them, the colored photosensitive resin composition cures with high sensitivity by exposure to ultraviolet light and exhibits high adhesion to the substrate. As the exposure means for the ultraviolet light, any of the laser exposure method and the proxyimate exposure method may be used, but from the viewpoint of suppressing the surface reticulation, the laser exposure method is preferable. The colored photosensitive resin composition of the present invention can be preferably used for forming a coloring pattern of a color filter.

≪패턴 형성 방법, 컬러필터 및 그 제조방법≫«Pattern formation method, color filter and method of manufacturing the same»

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물 및 패턴 형성 방법은 액정표시장치용 컬러필터에 바람직하다. 이하, 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물을 사용한 패턴 형성 방법을 액정표시장치용 컬러필터의 제조방법에 있어서의 패턴의 형성방법으로서 설명하지만, 본 발명은 이 방법에 한정되는 것은 아니다.The colored photosensitive resin composition and the pattern forming method of the present invention are preferable for a color filter for a liquid crystal display. Hereinafter, the pattern forming method using the colored photosensitive resin composition of the present invention will be described as a pattern forming method in the method for producing a color filter for a liquid crystal display device, but the present invention is not limited to this method.

본 발명의 패턴 형성 방법은 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물을 기판 상에 부여해서 착색층을 형성하는 착색층 형성 공정과, 상기 착색층에 대하여 패턴 모양의 자외광 레이저에 의한 노광을 하고, 잠상을 형성하는 노광 공정과, 상기 잠상이 형성된 착색층을 현상해서 패턴을 형성하는 현상 공정을 포함하는 것을 특징으로 한다. 또한, 필요에 따라, 상기 착색층을 베이킹하는 공정(프리베이킹 공정), 및 현상된 상기 착색층을 베이킹하는 공정(베이킹 공정)을 형성해도 된다. 이들 공정을 합쳐서 패턴 형성 공정이라 하는 경우가 있다.The pattern forming method of the present invention comprises a colored layer forming step of applying a colored photosensitive resin composition of the present invention to a substrate to form a colored layer, a step of exposing the colored layer to ultraviolet light in a pattern shape, And a developing step of developing the colored layer on which the latent image is formed to form a pattern. If necessary, a step of baking the colored layer (prebaking step) and a step of baking the developed colored layer (baking step) may be formed. These processes may be collectively referred to as a pattern forming process.

[착색층 형성 공정][Coloring layer forming step]

본 발명에 있어서의 착색층 형성 공정은 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물을 기판 상에 부여해서 착색층을 형성하는 공정이다.The coloring layer forming step in the present invention is a step of forming a colored layer by providing the colored photosensitive resin composition of the present invention on a substrate.

기판으로서는, 예를 들면 액정표시장치 등에 사용되는 무알칼리 유리, 소다유리, 붕규산 유리, 석영 유리 및 이것들에 투명도전막을 부착시킨 것이나, 고체 촬상소자 등에 사용되는 광전 변환소자 기판을 들 수 있다. 또한, 플라스틱 기판도 사용 가능하다. 이들 기판을 이용하여 격자 형상 등으로 블랙매트릭스를 형성하고, 격자의 빈 부분에 착색 패턴이 형성되는 것이 바람직하다.Examples of the substrate include a non-alkali glass used for a liquid crystal display device, a soda glass, a borosilicate glass, a quartz glass and a photoelectric conversion element substrate to which a transparent conductive film is attached and a solid-state image pickup element. A plastic substrate can also be used. It is preferable that a black matrix is formed in a lattice shape or the like using these substrates, and a colored pattern is formed in a vacant portion of the lattice.

이들 기판 상에는, 필요에 따라 상부의 층과의 밀착 개량, 물질의 확산 방지 또는 기판 표면의 평탄화를 위해서 밑칠층을 형성해도 된다. 기판은 대형(대체로 1변 1m 이상)인 쪽이 본 발명의 효과를 보다 이루는 점에서 바람직하다.On the substrate, a subbing layer may be formed, if necessary, in order to improve adhesion with the upper layer, prevent diffusion of the material, or planarize the substrate surface. It is preferable that the substrate is large (approximately 1 m or more on one side) in order to achieve the effect of the present invention.

기판 상에 착색층을 형성하기 위해서 상기 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물을 부여하는 방법으로서는, 슬릿 도포, 잉크젯법, 회전 도포, 유연 도포, 롤 도포, 스크린 인쇄법 등의 각종의 도포에 의한 부여 방법을 적용할 수 있다. 도포법 중에서는 슬릿 도포가 정밀도와 속도의 관점에서 바람직하다.Examples of the method of imparting the colored photosensitive resin composition of the present invention for forming a colored layer on a substrate include a method of applying by various application such as slit coating, inkjet method, spin coating, pouring, roll coating, Can be applied. In the coating method, slit coating is preferable from the viewpoints of precision and speed.

또한, 미리 가지지체 상에 상기 도포법에 의해 형성한 도막을, 기판 상에 전사하는 부여 방법을 적용할 수도 있다.It is also possible to apply a method of transferring a coated film formed by the above coating method onto a substrate in advance on a substrate.

전사 방법에 관해서는 일본 특허공개 2006-23696호 공보의 단락번호 [0023], [0036]∼[0051]이나, 일본 특허공개 2006-47592호 공보의 단락번호 [0096]∼[0108]에 기재된 제작 방법을 본 발명에 있어서도 적합하게 사용할 수 있다.The transfer method is described in detail in paragraphs [0023], [0036] to [0051] of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-23696 or in paragraphs [0096] to [0108] of Japanese Patent Application Laid- Method can be suitably used in the present invention.

본 발명에 있어서의 착색층은 충분한 색재현 영역을 얻고, 또한 충분한 패널의 휘도를 얻기 위해서, 건조 후의 막두께가 0.5㎛∼3.0㎛가 되도록 형성하는 것이 바람직하고, 1.5㎛∼2.5㎛로 하는 것이 보다 바람직하다.The colored layer in the present invention is preferably formed so as to have a film thickness after drying of 0.5 to 3.0 탆 in order to obtain a sufficient color reproduction area and sufficient panel brightness, More preferable.

[건조 공정][Drying process]

상기와 같은 착색 감광성 수지 조성물의 부여가 종료된 후, 진공건조(VCD)에 의해 용제를 건조시키는 건조 공정을 행해도 좋다. 또한, 기판 상의 도막을 가열 건조(프리베이킹)시켜서 착색층을 얻어도 좋다.After the application of the colored photosensitive resin composition is completed, a drying step of drying the solvent by vacuum drying (VCD) may be performed. Further, the colored layer may be obtained by heating and drying (prebaking) the coating film on the substrate.

도막의 프리베이킹 온도는 60℃∼140℃가 바람직하고, 80℃∼120℃가 보다 바람직하다. 또한, 프리베이킹 시간은 30초∼300초가 바람직하고, 80초∼200초가 보다 바람직하다.The prebaking temperature of the coating film is preferably 60 ° C to 140 ° C, more preferably 80 ° C to 120 ° C. The prebaking time is preferably 30 seconds to 300 seconds, more preferably 80 seconds to 200 seconds.

[노광 공정][Exposure step]

본 발명에 있어서의 노광 공정은 상기 착색층에 대하여 패턴 모양의 자외광 레이저에 의한 노광을 행하고, 노광 영역을 경화시켜서 잠상을 형성하는 공정이다. 본 발명의 노광 공정에 의해 착색 감광성 수지 조성물에 있어서의 패턴 형상의 노광 영역에서, (D) 특정 중합 개시제로부터 발생한 개시종에 의해 (C) 중합성 화합물의 중합 경화 반응이 발생, 진행되어 경화 영역과 미경화 영역으로 이루어지는 패턴이 형성된다.The exposure process in the present invention is a process for forming a latent image by exposing the colored layer with a patterned ultraviolet laser and curing the exposed area. By the exposure process of the present invention, the polymerization curing reaction of the polymerizable compound (C) occurs and proceeds in the exposed region of the pattern shape in the colored photosensitive resin composition, (D) And a non-cured area is formed.

레이저의 여기매체로서는 결정, 유리, 액체, 색소, 기체 등이 있고, 고체 레이저, 액체 레이저, 기체 레이저, 반도체 레이저 등의 공지의 자외 영역에 발진 파장을 갖는 레이저를 사용할 수 있다. 그 중에서도 레이저의 출력 및 발진 파장의 관점으로부터 고체 레이저, 가스 레이저가 바람직하다.As the excitation medium of the laser, a crystal, a glass, a liquid, a coloring matter, a gas and the like can be used, and a laser having an oscillation wavelength in a known ultraviolet region such as a solid laser, a liquid laser, a gas laser and a semiconductor laser can be used. Among them, a solid laser and a gas laser are preferable from the viewpoints of the output of the laser and the oscillation wavelength.

본 발명에 사용하는 자외광 레이저의 노광 파장으로서는 착색 감광성 수지 조성물의 감광 파장에 합치하여 감도가 좋은 점에서 300㎚∼380㎚의 범위가 바람직하고, 310㎚∼360㎚의 범위가 보다 바람직하고, 특히 355㎚ 파장 레이저 노광법이 바람직하다.The exposure wavelength of the ultraviolet laser used in the present invention is preferably in the range of 300 nm to 380 nm, more preferably in the range of 310 nm to 360 nm, Particularly, a 355 nm wavelength laser exposure method is preferable.

구체적으로는, 특히 출력이 크고, 비교적 저렴한 고체 레이저인 Nd:YAG 레이저의 제3고조파(355㎚)나, 엑시머 레이저의 XeCl(308㎚), XeF(353㎚)를 적합하게 사용할 수 있다.Concretely, the third harmonic (355 nm) of a Nd: YAG laser which is a relatively inexpensive solid laser with a large output, XeCl (308 nm) and XeF (353 nm) of an excimer laser can be suitably used.

또한, 피노광물(패턴)의 노광량으로서는 1mJ/㎠∼100mJ/㎠의 범위이어도 좋고, 1mJ/㎠∼50mJ/㎠의 범위가 보다 바람직하다. 노광량이 이 범위이면 패턴 형성의 생산성의 점에서 바람직하다.The exposed amount of the exposed object (pattern) may be in the range of 1 mJ / cm 2 to 100 mJ / cm 2, and more preferably in the range of 1 mJ / cm 2 to 50 mJ / cm 2. When the exposure dose is within this range, it is preferable from the viewpoint of productivity of pattern formation.

본 발명에 사용하는 자외광 레이저는 생산성의 관점으로부터 20㎐∼2000㎐의 주파수에서 발진하는 펄스 레이저인 것이 바람직하다.The ultraviolet laser used in the present invention is preferably a pulse laser oscillating at a frequency of 20 Hz to 2000 Hz from the viewpoint of productivity.

본 발명에 사용 가능한 노광 장치로서는 특별히 제한은 없지만, 시판되고 있는 것으로서는 EGIS(브이 테크놀로지 가부시키가이샤 제)나 DF2200G(다이니폰 스크린 가부시키가이샤 제) 등이 사용 가능하다. 상기 이외의 장치도 바람직하게 사용된다.The exposure apparatus usable in the present invention is not particularly limited, and examples of commercially available exposure apparatuses include EGIS (V-Technology Corporation) and DF2200G (Dainippon Screen Corporation). Devices other than those described above are also preferably used.

자외광 레이저는 광의 평행도가 양호하고, 노광시에 마스크를 사용하지 않고 패턴 노광을 할 수 있지만, 패턴 형상이 출력광의 형상, 프로파일의 영향을 받는다. 그 때문에 마스크를 이용하여 패턴을 노광한 쪽이 패턴의 직선성이 높아지므로 바람직하다.The ultraviolet laser has good parallelism of light, and pattern exposure can be performed without using a mask at the time of exposure, but the pattern shape is affected by the shape and profile of the output light. Therefore, exposure of the pattern using a mask is preferable because the linearity of the pattern is increased.

[현상 공정][Development process]

본 발명에 있어서의 현상 공정은 상기 노광 영역에 있어서 경화에 의해 잠상이 형성된 착색층을 현상하여 미노광부를 제거하고, 패턴을 형성하는 공정이다. 자외광 레이저에 의한 노광 영역은 패턴 형상으로 경화되어 있고, 현상 처리에서는 알칼리 현상 처리를 행함으로써 상기 노광 공정에서의 미조사 부분(미경화 부분)을 알카리 수용액에 용출시켜서 제거하고, 광경화한 부분만을 남김으로써 패턴을 형성시킬 수 있다.The developing step in the present invention is a step of developing the colored layer in which the latent image is formed by the curing in the exposure area to remove the unexposed portion and form a pattern. The exposed area by the ultraviolet laser is cured in a pattern shape, and in the developing process, the alkali developing process is performed to elute and remove the unirradiated area (uncured area) in the alkaline aqueous solution in the above exposure process, The pattern can be formed.

현상액으로서는 유기 알칼리 현상액이나 무기 알칼리 현상액 또는 그 혼합 액이 사용된다.As the developer, an organic alkali developer, an inorganic alkali developer, or a mixture thereof is used.

현상액에 사용하는 알칼리제로서는, 예를 들면 수산화나트륨, 수산화칼륨, 탄산나트륨, 탄산수소나트륨, 규산나트륨, 메타규산나트륨, 암모니아수, 에틸아민, 디에틸아민, 디메틸에탄올아민, 테트라메틸암모늄히드록시드, 테트라에틸암모늄히드록시드, 콜린, 피롤, 피페리딘, 1,8-디아자비시클로-[5.4.0]-7-운데센 등의 유기 알칼리성 화합물을 들 수 있고, 이들 알칼리성 화합물을 농도가 0.001∼10질량%, 바람직하게는 0.01∼1질량%가 되도록 순수로 희석한 알칼리성 수용액이 현상액으로서 바람직하게 사용된다. 또한, 이러한 알칼리성 수용액으로 이루어지는 현상액을 사용했을 경우에는 일반적으로 현상 후에 순수로 세정(린스)한다.Examples of the alkali agent for use in the developing solution include sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium hydrogencarbonate, sodium silicate, sodium metasilicate, aqueous ammonia, ethylamine, diethylamine, dimethylethanolamine, tetramethylammonium hydroxide, tetra And organic alkaline compounds such as ethyl ammonium hydroxide, choline, pyrrole, piperidine and 1,8-diazabicyclo- [5.4.0] -7-undecene. 10% by mass, preferably 0.01 to 1% by mass, of an alkaline aqueous solution is preferably used as the developer. When a developer comprising such an alkaline aqueous solution is used, it is generally rinsed with pure water after development.

현상 온도로서는 20℃∼35℃가 바람직하고, 23℃∼30℃가 보다 바람직하다. 현상 시간은 30초∼120초가 바람직하고, 40초∼90초가 보다 바람직하다. 이들 중, 현상 온도와 현상 시간의 바람직한 조합은, 예를 들면 온도 25℃에서는 50초∼100초이며, 온도 30℃에서는 40초∼80초인 것을 들 수 있다.The development temperature is preferably 20 占 폚 to 35 占 폚, and more preferably 23 占 폚 to 30 占 폚. The developing time is preferably 30 seconds to 120 seconds, more preferably 40 seconds to 90 seconds. Among these, a preferable combination of the developing temperature and developing time is, for example, from 50 seconds to 100 seconds at a temperature of 25 占 폚, and from 40 seconds to 80 seconds at a temperature of 30 占 폚.

또한, 샤워압은 0.01㎫∼0.5㎫가 바람직하고, 0.05㎫∼0.3㎫가 바람직하고, 0.1㎫∼0.3㎫가 바람직하다. 이들 조건을 선택함으로써 패턴의 형상을 직사각형으로 하거나, 순테이퍼로 하거나 임의로 설계할 수 있다.The shower pressure is preferably 0.01 MPa to 0.5 MPa, preferably 0.05 MPa to 0.3 MPa, and more preferably 0.1 MPa to 0.3 MPa. By selecting these conditions, the shape of the pattern can be made rectangular or can be designed as a net taper or arbitrarily.

[포스트베이킹 공정][Post baking process]

본 발명에 있어서는 착색 감광성 수지 조성물의 경화를 완전한 것으로 하기 위해서, 현상된 상기 착색층을 베이킹하는 포스트베이킹 공정을 설치하는 것이 바람직하다. 베이킹하는 방법은 현상·린스 후의 패턴을 갖는 기판을 핫플레이트나 컨벡션 오븐(열풍 순환식 건조기), 고주파 가열기 등의 가열 수단을 이용하여 연속식 또는 배치식으로 가열함으로써 행할 수 있다.In the present invention, it is preferable to provide a post-baking step of baking the developed colored layer in order to complete curing of the colored photosensitive resin composition. The baking can be carried out by continuously or batchwise heating the substrate having the pattern after developing and rinsing by using a heating means such as a hot plate, a convection oven (hot-air circulation type drier), or a high-frequency heater.

베이킹의 조건으로서는, 온도는 150℃∼260℃가 바람직하고, 180℃∼260℃가 보다 바람직하고, 200℃∼240℃가 가장 바람직하다. 베이킹 시간은 10분간∼150분간이 바람직하고, 20분간∼120분간이 보다 바람직하고, 20분간∼90분간이 가장 바람직하다.The baking condition is preferably a temperature of 150 to 260 캜, more preferably 180 to 260 캜, and most preferably 200 to 240 캜. The baking time is preferably from 10 minutes to 150 minutes, more preferably from 20 minutes to 120 minutes, most preferably from 20 minutes to 90 minutes.

또한, RGB 3색상, 차광층 등, 복수 색상의 착색 패턴을 형성할 때는 착색층의 형성, 노광, 현상, 및 베이킹의 사이클을 소망의 색상수만큼 반복해도 좋고, 색상마다 착색층의 형성, 노광, 및 현상을 행하고나서 최후에 전체 색상분을 한꺼번에 베이킹을 행해도 좋다. 이것에 의해, 소망의 색상으로 이루어지는 착색 화소를 구비한 컬러필터가 제작된다.Further, when forming a coloring pattern of a plurality of colors such as RGB three colors or a light-shielding layer, the cycle of formation of the coloring layer, exposure, development, and baking may be repeated for a desired number of colors, , And the baking may be performed all at once after the developing process. Thus, a color filter having colored pixels of a desired color is produced.

≪액정표시장치≫&Quot; Liquid crystal display device &

본 발명의 컬러필터는 액정표시장치의 제작에 바람직하며, 본 발명의 패턴 형성 방법으로 제작한 컬러필터를 사용한 액정표시장치는 고품위의 화상을 표시할 수 있다.The color filter of the present invention is preferable for manufacturing a liquid crystal display device, and a liquid crystal display device using the color filter manufactured by the pattern forming method of the present invention can display a high-quality image.

표시장치의 정의나 각 표시장치의 설명은 예를 들면 「전자 디스플레이 디바이스(사사키 아키오 저, (주)고교 조사카이 1990년 발행)」, 「디스플레이 디바이스(이부키 스미아키 저, 산교 도쇼(주) 1989년 발행)」등에 기재되어 있다. 또한, 액정표시장치에 대해서는 예를 들면 「차세대 액정 디스플레이 기술(우치다 타쯔오 편집, (주)고교 조사카이 1994년 발행)」에 기재되어 있다. 본 발명을 적용할 수 있는 액정표시장치에 특별히 제한은 없고, 예를 들면 상기 「차세대 액정 디스플레이 기술」에 기재되어 있는 여러 가지 방식의 액정표시장치에 적용할 수 있다.The definition of the display device and the description of each display device are described in, for example, &quot; Electronic display device (Sasaki Akio Kogyo Co., Quot; issued &quot; The liquid crystal display device is described in, for example, &quot; Next Generation Liquid Crystal Display Technology (edited by Utsuda Tatsuo, published by Kogyo Kogyo K. 1994) &quot;. The liquid crystal display device to which the present invention can be applied is not particularly limited. For example, the present invention can be applied to various liquid crystal display devices described in the &quot; next generation liquid crystal display technology &quot;.

액정표시장치용 컬러필터는 그 중에서도 특히, 컬러 TFT 방식의 액정표시장치에 대하여 유효하다. 컬러 TFT 방식의 액정표시장치에 대해서는 예를 들면 「컬러 TFT 액정 디스플레이(쿄리츠 슛판(주) 1996년 발행)」에 기재되어 있다. 또한, 본 발명은 IPS 등의 횡전계 구동방식, MVA 등의 화소분할 방식 등의 시야각이 확대된 액정표시장치나, STN, TN, VA, IPS, OCS, FFS, 및 R-OCB 등에도 적용할 수 있다. 이들 방식에 대해서는 예를 들면 「EL, PDP, LCD 디스플레이-기술과 시장의 최신동향-(도레이 리서치 센터 조사 연구 부문 2001년 발행)」의 43페이지에 기재되어 있다.The color filter for a liquid crystal display device is particularly effective for a color TFT type liquid crystal display device. The color TFT type liquid crystal display device is described in, for example, "Color TFT liquid crystal display (published by Kyoritsu Shotpan Co., Ltd. 1996)". The present invention can also be applied to a liquid crystal display device such as a transverse electric field driving system such as IPS, a pixel division system such as MVA or the like, or a STN, TN, VA, IPS, OCS, FFS and R-OCB . These methods are described, for example, on page 43 of "EL, PDP, LCD DISPLAY - Latest Trends in Technology and Market - (issued by Toray Research Center Research Division, 2001)".

액정표시장치는 컬러필터 이외에 전극 기판, 편광 필름, 위상차 필름, 백라이트, 스페이서, 시야각 보상 필름 등 여러 가지 부재로 구성된다. 본 발명의 액정표시소자용 컬러필터는 이들 공지의 부재로 구성되는 액정표시장치에 적용할 수 있다.The liquid crystal display device is composed of various members such as an electrode substrate, a polarizing film, a retardation film, a backlight, a spacer, and a viewing angle compensation film in addition to a color filter. The color filter for a liquid crystal display element of the present invention can be applied to a liquid crystal display apparatus constituted by these known members.

이들 부재에 대해서는 예를 들면 「'94 액정 디스플레이 주변 재료·케미컬의 시장(시마 켄타로, (주)CMC 1994년 발행)」, 「2003 액정 관련 시장의 현재의 상태와 장래 전망(하권) (오모테 료키치, (주)후지 키메라 소우켄 2003년 발행)」에 기재되어 있다.These members are described in, for example, "Market of materials and chemicals around '94 liquid crystal displays (CMC Shimada, published by CMC in 1994)", "2003 Current condition and future prospects of LCD related markets Kichi, Fuji Chimera &lt; / RTI &gt; Suken 2003).

백라이트에 관해서는, SID meeting Digest 1380(2005)(A. Konno et. al)이나, 월간 디스플레이 2005년 12월호의 18∼24페이지(시마 야스히로), 동 25∼30페이지(야기 타카아키) 등에 기재되어 있다.Regarding the backlight, it is described in the SID meeting Digest 1380 (2005) (A. Konno et al), Monthly Display December 2005, pages 18-24 (Yamazaki Shimaya), 25-30 pages (Yagi Takaaki) have.

본 발명의 패턴 형성 방법에 의해 제작된 컬러필터를 액정표시장치에 사용하고, 종래 공지의 냉음극관의 삼파장관과 조합시켰을 때에 높은 콘트라스트를 실현할 수 있지만, 또한 적색, 녹색, 청색의 LED 광원(RGB-LED)을 백라이트로 함으로써 휘도가 높고, 또한 색순도가 높은 색재현성이 양호한 액정표시장치를 제공할 수 있다.The color filter fabricated by the pattern forming method of the present invention is used in a liquid crystal display device and can realize high contrast when combined with a conventionally known three-wavelength tube of a cold cathode tube. In addition, a red, green, and blue LED light source RGB -LED) as a backlight, it is possible to provide a liquid crystal display device having high luminance, high color purity, and good color reproducibility.

(실시예)(Example)

이하, 본 발명을 실시예에 의해 더욱 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 그 주지를 넘지 않는 한 이하의 실시예에 한정되는 것은 아니다. 또한, 특별히 기재하지 않는 한 「%」 및 「부」는 질량 기준이다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of examples, but the present invention is not limited to the following examples unless the scope of the present invention is exceeded. Unless otherwise stated, "%" and "parts" are on a mass basis.

<합성예 1: 알릴기를 포함하는 알칼리 가용성 수지 1[(B-2) 바인더 수지]의 합성>Synthesis Example 1: Synthesis of alkali-soluble resin 1 [(B-2) binder resin containing allyl group]

교반 날개를 구비한 교반봉, 환류 냉각관, 온도계를 구비한 200mL 3구 플라스크에 1-메톡시-2-프로판올 54g을 넣고, 질소기류 하에서 70℃로 가열했다. 알릴메타크릴레이트 10.07g, 메타크릴산 1.93g, 중합 개시제로서 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴) 0.185g을 1-메톡시-2-프로판올 54g에 용해한 용액을 플런저(plunger) 펌프를 이용하여 2.5시간에 걸쳐서 3구 플라스크 내에 적하했다. 적하 종료 후, 70℃에서 2시간 더 교반했다. 가열 종료 후, 물 1L에 투입하여 재침했다. 석출물을 여과 후 진공 건조시켜 9g(수율 75%)의 폴리머 화합물을 얻었다. A 200-mL three-necked flask equipped with a stirring rod equipped with a stirring blade, a reflux condenser and a thermometer was charged with 54 g of 1-methoxy-2-propanol and heated to 70 캜 under a nitrogen stream. A solution of 10.07 g of allyl methacrylate, 1.93 g of methacrylic acid and 0.185 g of 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) as a polymerization initiator in 54 g of 1-methoxy-2- was added dropwise into a three-necked flask over a period of 2.5 hours using a plunger pump. After completion of the dropwise addition, the mixture was further stirred at 70 DEG C for 2 hours. After the completion of the heating, the reaction mixture was poured into 1 L of water and refolded. The precipitate was filtered and vacuum dried to obtain 9 g (yield 75%) of a polymer compound.

중량 평균 분자량의 측정 시료로서 얻어진 폴리머 0.01g을 10mL 메스플라스크에 칭량하고, 테트라히드로푸란 약 8mL를 첨가해서 실온에서 용해한 후에 전량을 10mL로 했다. 이 용액을 겔 투과 크로마토그래피(GPC)를 이용하여 측정했다. 알칼리 가용성 수지 1(알릴메타크릴레이트/메타크릴산 공중합체, 몰비=80/20, 하기 구조)의 중량 평균 분자량은 35000이었다.Measurement of weight average molecular weight 0.01 g of the obtained polymer was weighed into a 10 mL volumetric flask, and about 8 mL of tetrahydrofuran was added and dissolved at room temperature to make the total volume to 10 mL. This solution was measured by gel permeation chromatography (GPC). The weight average molecular weight of the alkali-soluble resin 1 (allyl methacrylate / methacrylic acid copolymer, molar ratio = 80/20, the structure shown below) was 35,000.

Figure 112011028945611-pat00032
Figure 112011028945611-pat00032

<합성예 2: 바인더 수지 B-1-1>&Lt; Synthesis Example 2: Binder Resin B-1-1 >

디펜타에리스리톨헥사키스(3-메르캅토프로피오네이트)[DPMP; 사카이 카가쿠 고교(주) 제, 하기 구조] 7.83부, 및 하기의 흡착 부위를 갖고 또한 탄소-탄소 이중결합을 갖는 화합물(A-1) 15.57부를 디메틸포름아미드 93.60부에 용해시켜 질소기류 하, 70℃로 가열했다. 이것에 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴)[V-65, 와코쥰야쿠 고교(주) 제] 0.06부를 첨가해서 3시간 가열했다. 또한, V-65를 0.06부 첨가하고, 질소기류 하, 70℃에서 3시간 반응시켰다. 이어서, 실온까지 냉각함으로써 DPMP와 화합물 A-1의 반응생성물의 20% 용액을 얻었다.Dipentaerythritol hexakis (3-mercaptopropionate) [DPMP; 7.83 parts of the following structure, manufactured by Sakaikagaku Kogyo Co., Ltd., and 15.57 parts of a compound (A-1) having a carbon-carbon double bond and the following adsorption sites were dissolved in 93.60 parts of dimethylformamide, And heated to 70 ° C. To this was added 0.06 part of 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) [V-65, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.], and the mixture was heated for 3 hours. Further, 0.06 part of V-65 was added, and the mixture was reacted at 70 DEG C for 3 hours under a nitrogen stream. Subsequently, the solution was cooled to room temperature to obtain a 20% solution of the reaction product of DPMP and Compound A-1.

Figure 112011028945611-pat00033
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또한, 상기 반응생성물의 20% 용액 23.4부, 및 메타크릴산 메틸(MMA; 모노머) 18부, 메타크릴산 2부의 혼합 용액을 질소기류 하, 80℃로 가열했다. 이것에 2,2'-아조비스(이소부티로니트릴)[AIBN, 와코 쥰야쿠 고교(주) 제] 0.007부를 첨가해서 3시간 가열 후, 다시 AIBN 0.007부를 첨가하고, 질소기류 하, 80℃에서 3시간 반응시켰다. 그 후에 실온까지 냉각하여 아세톤으로 희석했다. 다량의 메탄올을 이용하여 재침전시킨 후, 진공 건조시킴으로써 이하에 나타내는 본 발명의 고분자 화합물(B-1-1: 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량 32000)의 고체 19부를 얻었다. 또한, 하기 식(B-1-1) 중, 고분자 골격에 포함되는 구조단위의 함유비는 질량 환산으로 p1:p2=90:10이다.Further, a mixed solution of 23.4 parts of a 20% solution of the reaction product, 18 parts of methyl methacrylate (MMA; monomer) and 2 parts of methacrylic acid was heated to 80 占 폚 in a nitrogen stream. Then, 0.007 part of 2,2'-azobis (isobutyronitrile) (AIBN, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added, and after heating for 3 hours, 0.007 parts of AIBN was further added and the mixture was heated at 80 ° C And reacted for 3 hours. The mixture was then cooled to room temperature and diluted with acetone. Reprecipitated with a large amount of methanol, and then vacuum-dried to obtain 19 parts of a solid of the polymer compound (B-1-1: weight average molecular weight of 32000 in terms of polystyrene) of the present invention shown below. In the following formula (B-1-1), the content ratio of the structural unit contained in the polymer skeleton is p 1 : p 2 = 90: 10 in terms of mass.

Figure 112011028945611-pat00034
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[실시예 1][Example 1]

(착색 감광성 수지 조성물의 조제)(Preparation of colored photosensitive resin composition)

(1-1. 안료 분산액 1의 조제)(1-1 Preparation of Pigment Dispersion 1)

안료 분산액 1을 다음과 같이 해서 조제했다. 즉, 하기에 기재된 조성의 성분을, 호모지나이저를 이용하여 회전수 3,000r.p.m.으로 3시간 교반해서 혼합하여 혼합 용액을 조제하고, 또한 0.1mmφ 지르코니아 비드를 사용한 비드 분산기 울트라 아펙스 밀(고토부키 고교사 제)로 8시간 분산 처리를 행했다.The pigment dispersion 1 was prepared as follows. That is, the components of the composition described below were mixed and stirred for 3 hours at a rotation speed of 3,000 rpm using a homogenizer to prepare a mixed solution. Further, a mixed solution was prepared using a bead dispersing machine Ultra Apex mill using 0.1 mm phi zirconia beads ) For 8 hours.

·C. I. 피그먼트 블루 15:6 [(A) 착색제] 11.8부C. I. Pigment Blue 15: 6 [(A) Colorant] 11.8 parts

·C. I. 피그먼트 바이올렛 23[(A) 착색제] 1.0부C. I. Pigment Violet 23 [(A) Colorant] 1.0 part

·Disperbyk 161 빅케미사 제(30% 용액) 24부· Disperbyk 161 made by Bigukemasa (30% solution) 24 parts

·프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트(이하, PGMEA라고 칭한다.) 63.2부Propylene glycol methyl ether acetate (hereinafter referred to as PGMEA) 63.2 parts

합계 100부                                                            A total of 100 copies

(1-2. 감광성 수지 조성물의 조제)(1-2. Preparation of Photosensitive Resin Composition)

얻어진 안료 분산액 1 39.2부에 이하의 조성의 성분을 더 첨가하고, 교반 혼합해서 청색(B)용 감광성 수지 조성물을 조제했다.To the resulting Pigment Dispersion 1 (39.2 parts), the following components were further added and stirred to prepare a photosensitive resin composition for blue (B).

·알칼리 가용성 수지 1[(B-2) 바인더 수지] 8.2부Alkali-soluble resin 1 [(B-2) binder resin] 8.2 parts

·알칼리 가용성 수지(B-1-1)[(B-1) 바인더 수지] 8.2부Alkali-soluble resin (B-1-1) [(B-1) binder resin] 8.2 parts

·(C) 중합성 화합물: 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트(C) Polymerizable compound: dipentaerythritol hexaacrylate

(니혼카야쿠(주) 제, KAYARAD DPHA) 3.9부     (KAYARAD DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 3.9 parts

·(C) 중합성 화합물: 테트라메티롤메탄테트라아크릴레이트(C) Polymerizable compound: tetramethylol methane tetraacrylate

(신나카무라 카가쿠(주) 제, NK 에스테르 A-TMMT) 0.69부     (NK Ester A-TMMT, manufactured by Shin-Nakamura Kagaku Co., Ltd.) 0.69 part

·(D) 옥심계 광중합 개시제: 화합물 A(하기 구조) 2.74부(D) Oxime photopolymerization initiator: Compound A (the following structure) 2.74 parts

·(F) 증감제[단관능 티올 화합물 SH-1(하기 구조)] 0.55부(F) sensitizer [monofunctional thiol compound SH-1 (the following structure)] 0.55 part

·에폭시 화합물: (다이셀 카가쿠(주) 제, EHPE3150) 0.60부Epoxy compound: 0.60 part (EHPE3150, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.)

·(E) 용제: 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트와 에틸 3-에톡시프로피오네이트(=80/20 [질량비])의 혼합 용액 35.9부(E) Solvent: 35.9 parts of a mixed solution of propylene glycol methyl ether acetate and ethyl 3-ethoxypropionate (= 80/20 (mass ratio))

·중합금지제: p-메톡시페놀 0.001부Polymerization inhibitor: 0.001 part of p-methoxyphenol

·계면활성제 1: 메가팩 F-554(DIC사 제) 0.02부Surfactant 1: Megafack F-554 (manufactured by DIC) 0.02 part

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Figure 112011028945611-pat00036
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[실시예 2∼15, 비교예 1∼6][Examples 2 to 15, Comparative Examples 1 to 6]

상기 실시예 1의 착색 감광성 수지 조성물의 조정에 있어서의 (B-1) 바인더 수지, (A) 착색제, (D) 옥심계 광중합 개시제의 종류 및 함유량, 및 (B-2) 바인더 수지의 함유비를, 하기 표 1∼표 7의 기재와 같이 변경한 이외는 마찬가지로 해서 실시예 2∼15, 비교예 1∼6의 착색 감광성 수지 조성물을 조제했다.The kind and content of (B-1) the binder resin, (A) the colorant, (D) the oxime-based photopolymerization initiator and (B-2) the content ratio of the binder resin in the adjustment of the colored photosensitive resin composition of Example 1 Were changed as shown in the following Tables 1 to 7, the colored photosensitive resin compositions of Examples 2 to 15 and Comparative Examples 1 to 6 were prepared.

또한, 하기 표에 있어서 (C) 중합성 화합물에 기재된 수치는 사용되는 중합성 화합물의 관능기수를 나타내고, 「비율」은 5관능 이상의 중합성 화합물과, 1∼4관능의 중합성 화합물의 함유 비율을 나타낸다.In the following table, the numerical values described in the polymerizable compound (C) show the number of functional groups of the polymerizable compound used, and the "ratio" is the ratio of the polymerizable compound having five or more functional groups and the polymerizable compound having one to four functional groups .

Figure 112011028945611-pat00037
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Figure 112011028945611-pat00038
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Figure 112011028945611-pat00039
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Figure 112011028945611-pat00040
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Figure 112011028945611-pat00041
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Figure 112011028945611-pat00042
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Figure 112011028945611-pat00043
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-착색 감광성 수지 조성물의 평가-- Evaluation of colored photosensitive resin composition -

(패턴 형상 화소의 형성)(Formation of pattern shape pixel)

상기한 바와 같이 해서 얻어진 실시예 1∼15, 및 비교예 1∼6의 착색 감광성 수지 조성물을, 무알칼리 유리 기판(Corning사, 1737, 550㎜×660㎜)의 표면 상에 슬릿 코터(히라타 키코(주), HC-6000)를 사용해서 도포한 뒤, 90℃의 클린 오븐 내에서 120초간 프리베이킹을 행하여 막두께 2.0㎛의 도막(착색층)을 형성하고, 도막이 형성된 기판을 얻었다(착색층 형성 공정).The colored photosensitive resin compositions of Examples 1 to 15 and Comparative Examples 1 to 6 obtained as described above were coated on a surface of a non-alkali glass substrate (Corning, 1737, 550 mm x 660 mm) with a slit coater (Coloring layer) having a thickness of 2.0 탆 was formed by baking for 120 seconds in a clean oven at 90 캜 to obtain a substrate on which a coating film was formed (coloring Layer forming process).

이어서, 레이저 노광 장치로서 EGIS[브이 테크놀로지(주), YAG 레이저의 제3고조파(355㎚), 펄스폭 6ns]를 사용하고, 감광성 수지 조성물층(착색층) 표면에 대하여 약 1mJ/㎠의 펄스 조사를 20회, 포토마스크를 통해서 행하여 노광 부분을 경화시켰다(노광 공정).Subsequently, a pulse of about 1 mJ / cm 2 was applied to the surface of the photosensitive resin composition layer (colored layer) by using EGIS (V-Technology Co., Ltd., third harmonic (355 nm) The irradiation was performed 20 times through a photomask to cure the exposed portion (exposure step).

그 후에 이 기판을, 현상 장치(히타치 하이 테크놀러지즈사 제)를 이용하여 수산화칼륨계 현상액 CDK-1[후지 필름 일렉트로닉스 마테리알즈(주) 제]의 1.0% 현상액(CDK-1 1질량부를 순수 99질량부로 희석한 액, 25℃)으로 샤워압을 0.20㎫로 설정하여 50초 현상하고, 순수로 세정한 후 풍건했다(현상 공정). 그 후에 230℃의 클린 오븐 내에서 30분간 포스트베이킹을 행하여 기판 상에 청색의 스트라이프 형상 화소 어레이를 형성했다.Thereafter, this substrate was immersed in a 1.0% developer (CDK-1, 1 part by mass) of a potassium hydroxide-based developer CDK-1 (manufactured by Fuji Film Electronics Matrix Co., Ltd.) (25 占 폚) at a pressure of 0.20 MPa for 50 seconds, washed with pure water and then air-dried (developing step). Thereafter, post-baking was performed in a clean oven at 230 캜 for 30 minutes to form a blue stripe-shaped pixel array on the substrate.

(선폭 감도의 평가)(Evaluation of line width sensitivity)

20㎛폭의 라인 앤드 스페이스를 가지는 마스크를 이용하여, 도막이 형성된 기판 상의 감광성 수지 조성물층 표면과 마스크의 간극(갭)을 200㎛로 하고, 노광량 20mJ/㎠로 노광했다. 이렇게 하여 얻어진 노광완료 기판에 상기의 현상, 세정, 풍건, 포스트베이킹 처리를 실시했다. 얻어진 라인 패턴을 광학 현미경에 의해 관찰하고, 선폭을 측정하여 하기 기준으로 평가했다.Using a mask having a line-and-space of 20 mu m width, the gap (gap) between the surface of the photosensitive resin composition layer on the substrate on which the coating film was formed and the mask was 200 mu m and exposure was performed at an exposure dose of 20 mJ / cm2. The thus-obtained exposed substrate was subjected to development, cleaning, air drying, and post-baking treatment. The obtained line pattern was observed with an optical microscope, and the line width was measured and evaluated according to the following criteria.

A: 30㎛ 이상A: 30 탆 or more

B: 27㎛ 이상 30㎛ 미만B: 27 탆 or more and less than 30 탆

C: 25㎛ 이상 27㎛ 미만C: 25 탆 or more and less than 27 탆

D: 25㎛ 미만D: less than 25 탆

E: 패턴이 형성되지 않는다. 또는 박리되어 평가할 수 없다.E: No pattern is formed. Or peeled off and can not be evaluated.

(직선성의 평가)(Evaluation of linearity)

선폭 감도의 평가에서 얻어진 라인 패턴을 광학 현미경(200배)에 의해 관찰하고, 선폭의 직선성(흔들림 상태)을 하기 기준으로 평가했다.The line pattern obtained in the evaluation of the line width sensitivity was observed with an optical microscope (200 times), and the linearity (shaking state) of the line width was evaluated based on the following criteria.

평가 기준Evaluation standard

A: 흔들림이 없고, 깨짐도 없고, 라인이 똑바르다.A: There is no shaking, no break, and the line is straight.

B: 흔들림이 몇군데 있지만, 라인이 거의 똑바르다.B: There are some shakes, but the lines are almost straight.

C: 구불구불하고 2㎛ 정도의 라인 불균일이 발생되어 있다.C: Line unevenness of about 2 占 퐉 is generated in a twisted state.

D: 구불구불하고 5㎛ 정도의 라인 불균일이 발생되어 있다.D: Line unevenness of 5 占 퐉 or so is generated.

E: 패턴이 형성되지 않는다. 또는 박리되어 평가할 수 없다.E: No pattern is formed. Or peeled off and can not be evaluated.

(내열성의 평가)(Evaluation of heat resistance)

선폭 감도의 평가에서 얻어진 기판을, 240℃의 클린 오븐 내에서 60분간 추가 베이킹하고, 추가 베이킹 전후에서의 색변화(ΔE*ab)를 오츠카 덴시(주) 제 분광측광기 MCPD-2000을 사용해서 측정했다. 여기에서 ΔE*ab란 L*a*b* 표색계에 있어서의 색차를 의미한다. 색변화 ΔE*ab를 하기 기준으로 평가했다.The substrate obtained in the evaluation of the line width sensitivity was further baked in a 240 ° C clean oven for 60 minutes and the color change (ΔE * ab) before and after the additional baking was measured using a spectrophotometer MCPD-2000 manufactured by Otsuka Denshi Co., Ltd. Respectively. Here,? E * ab means a color difference in the L * a * b * color system. The color change? E * ab was evaluated based on the following criteria.

평가 기준Evaluation standard

5: ΔE*ab가 0 이상 1.0 미만.5: ΔE * ab is 0 or more and less than 1.0.

4.5: ΔE*ab가 1.0 이상 2.0 미만4.5: DELTA E * ab is 1.0 or more and less than 2.0

4: ΔE*ab가 2.0 이상∼3.0 미만.4:? E * ab is 2.0 or more and less than 3.0.

3.5: ΔE*ab가 3.0 이상∼3.5 미만.3.5:? E * ab is not less than 3.0 and less than 3.5.

3: ΔE*ab가 3.5 이상∼4.0 미만.3:? E * ab is not less than 3.5 and less than 4.0.

2.5: ΔE*ab가 4.0 이상∼5.0 미만.2.5:? E * ab of not less than 4.0 and less than 5.0.

2: ΔE*ab가 5.0 이상2:? E * ab is 5.0 or more

1: 박리가 있다.1: There is peeling.

(주름의 평가)(Evaluation of wrinkles)

선폭 감도의 평가에서 얻어진 기판을, 230℃의 클린 오븐 내에서 30분간 베이킹하고, 베이킹 전후에서의 착색 패턴의 주름 유무를 광학현미경(배율:200배)으로 관찰하여 이하의 기준으로 평가했다.The substrate obtained in the evaluation of the line width sensitivity was baked in a clean oven at 230 캜 for 30 minutes and the presence or absence of wrinkles of the colored pattern before and after baking was observed with an optical microscope (magnification: 200 times).

평가 기준Evaluation standard

○: 주름의 발생이 보이지 않는다.○: No occurrence of wrinkles was observed.

△: 주름이 약하게 발생.△: Creation of wrinkles is weak.

×: 주름이 강하게 발생.X: Wrinkles occur strongly.

(종합 평가)(Comprehensive evaluation)

선폭 감도, 직선성, 내열성을 종합적으로 하기 기준으로 평가했다. 결과를 표 8에 정리해서 나타냈다.Line width sensitivity, linearity, and heat resistance. The results are summarized in Table 8.

평가 기준Evaluation standard

5: 매우 우수하다.5: Very good.

4.5: 우수하다.4.5: Excellent.

4: 보통 사용에서는 문제 없는 레벨.4: No problem level in normal use.

3.5: 약간 떨어지는 성능이지만, 문제 없는 레벨.3.5: A slight drop in performance, but no problem level.

3: 보통 사용에서 최저의 레벨.3: lowest level in normal use.

2.5: 한계보다 약간 낮아 문제 있음.2.5: There is a problem because it is slightly lower than the limit.

2: 성능 불충분으로 사용할 수 없다.2: It can not be used because of insufficient performance.

1: 평가를 할 수 없는 레벨.1: Levels that can not be evaluated.

Figure 112011028945611-pat00044
Figure 112011028945611-pat00044

표 8에 분명하게 나타나 있는 바와 같이, 본 발명에 의한 실시예 1∼15의 착색 감광성 수지 조성물은 선폭 감도가 양호하고, 얻어진 패턴은 직선성이 뛰어나며, 또한 착색 패턴을 가열해도 색변화가 작고, 포스트베이킹 후의 주름의 발생도 억제되며, 양호한 착색 패턴이 얻어졌다.As clearly shown in Table 8, the colored photosensitive resin compositions of Examples 1 to 15 according to the present invention had good line width sensitivity, the obtained patterns were excellent in linearity, and the color change was small even when the coloring pattern was heated, The generation of wrinkles after the post-baking was suppressed, and a good coloring pattern was obtained.

한편, 본 발명에 있어서의 (B-1) 바인더 수지를 포함하지 않는 비교예 1, (D) 옥심계 광중합 개시제 이외의 개시제를 사용한 비교예 2는, 선폭 감도, 패턴의 직선성, 내열성, 주름 중 어디에나 떨어지는 것이며, (B-2) 바인더 수지의 함유량이 지나치게 많은 비교예 3은 포스트베이킹 후의 주름의 발생이 현저하고, (B-1) 바인더 수지의 함유량이 지나치게 많은 비교예 4, (B-2) 바인더 수지를 함유하지 않는 비교예 5는 모두 선폭 감도, 직선성, 주름의 어느 것이나, 실시예와 비교해서 떨어지는 것이었다. 또한, (D) 옥심계 광중합 개시제 이외의 개시제를 사용하고, 또한 증감제를 병용한 비교예 6은 선폭 감도, 패턴의 직선성이 떨어지는 것으로 되었다.On the other hand, Comparative Example 1, which did not contain the binder resin (B-1) in the present invention, and Comparative Example 2, which used an initiator other than the oxime-based photopolymerization initiator (D), exhibited line width sensitivity, pattern linearity, Comparative Example 3 in which the content of the binder resin is too large, the occurrence of wrinkles after the post-baking is remarkable, and the content of the binder resin in (B-1) is too large, 2) Comparative Example 5 containing no binder resin were all inferior in line width sensitivity, linearity and wrinkle, compared with the examples. Further, in Comparative Example 6 using an initiator other than the oxime-based photopolymerization initiator (D) and a sensitizer in combination, the line width sensitivity and the linearity of the pattern were inferior.

Claims (9)

적어도 (A) 착색제, (B-1) 하기 일반식(Ⅰ)으로 나타내어지고, 1종 이상의 산성기를 갖는 바인더 수지, (B-2) 하기 일반식(Ⅱ)으로 나타내어지는 구조단위와 산성기를 갖는 구조단위를 포함하는 바인더 수지, (C) 중합성 화합물, (D) 옥심계 광중합 개시제, 및 (E) 용제를 함유하고; 상기 (B-1) 바인더 수지와 (B-2) 바인더 수지의 질량 기준에 의한 함유 비율이 3:7∼7:3인 것을 특징으로 하는 착색 감광성 수지 조성물.
Figure 112011028945611-pat00045

[일반식(Ⅰ) 중, R3은 (m+n)가의 유기 연결기를 나타내고, R4 및 R5는 각각 독립적으로 단결합 또는 2가의 유기 연결기를 나타낸다. A2는 유기 색소 구조, 복소환 구조, 산성기, 염기성 질소원자를 갖는 기, 우레아기, 우레탄기, 배위성 산소원자를 갖는 기, 탄소수 4 이상의 탄화수소기, 알콕시실릴기, 에폭시기, 이소시아네이트기, 및 수산기로부터 선택되는 부분구조를 1종 이상 포함하는 1가의 유기기를 나타낸다. n개의 A2, R4는 동일하여도 좋고 달라도 좋다. m은 1∼8, n은 2∼9를 나타내고, m+n은 3∼10을 충족시킨다. P2는 고분자 골격을 나타낸다. m개의 P2, R5는 동일하여도 좋고 달라도 좋다.]
Figure 112011028945611-pat00046

[일반식(Ⅱ) 중, R11∼R15는 각각 독립적으로 수소원자, 할로겐 원자, 시아노기, 알킬기 또는 아릴기를 나타내고, R16은 수소원자 또는 메틸기를 나타낸다.]
(B-1) a binder resin having at least one acidic group represented by the following general formula (I), (B-2) a binder resin having a structural unit represented by the following general formula (II) A binder resin containing a structural unit, (C) a polymerizable compound, (D) an oxime-based photopolymerization initiator, and (E) a solvent; Wherein the content ratio by mass of the binder resin (B-1) and the binder resin (B-2) is 3: 7 to 7: 3.
Figure 112011028945611-pat00045

[In the general formula (I), R 3 represents an organic linking group of (m + n), and R 4 and R 5 each independently represent a single bond or a divalent organic linking group. A 2 represents an organic dye structure, a heterocyclic structure, an acidic group, a group having a basic nitrogen atom, a urea group, a urethane group, a group having a saturated oxygen atom, a hydrocarbon group having 4 or more carbon atoms, an alkoxysilyl group, And a hydroxyl group. The term &quot; monovalent organic group &quot; n A 2 and R 4 may be the same or different. m represents 1 to 8, n represents 2 to 9, and m + n satisfies 3 to 10. P 2 represents a polymer skeleton. m P &lt; 2 &gt; and R &lt; 5 &gt; may be the same or different.]
Figure 112011028945611-pat00046

[In the formula (II), R 11 to R 15 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group or an aryl group, and R 16 represents a hydrogen atom or a methyl group.
제 1 항에 있어서,
상기 (D) 옥심계 광중합 개시제는 하기 일반식(Ⅲ)으로 나타내어지는 케토옥심계 광중합 개시제인 것을 특징으로 하는 착색 감광성 수지 조성물.
Figure 112011028945611-pat00047

[일반식(Ⅲ) 중, R 및 X는 각각 독립적으로 1가의 치환기를 나타내고, A는 2가의 유기기를 나타내고, Ar은 아릴기를 나타낸다. n은 0∼5의 정수이다. X가 복수 존재할 경우에 복수의 X는 동일하여도 좋고 달라도 좋다.]
The method according to claim 1,
Wherein the oxime-based photopolymerization initiator (D) is a ketoxime-based photopolymerization initiator represented by the following general formula (III).
Figure 112011028945611-pat00047

[In the formula (III), each of R and X independently represents a monovalent substituent, A represents a divalent organic group, and Ar represents an aryl group. n is an integer of 0 to 5; When there are a plurality of X's, the plurality of X's may be the same or different.]
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
자외광 레이저 노광용인 것을 특징으로 하는 착색 감광성 수지 조성물.
3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the photosensitive resin composition is for ultraviolet laser exposure.
제 1 항 또는 제 2 항에 기재된 착색 감광성 수지 조성물을 기판 상에 부여해서 착색층을 형성하는 착색층 형성 공정과, 상기 착색층에 패턴 모양의 자외광 레이저 노광을 행해서 노광 영역을 경화시키는 노광 공정과, 상기 착색층의 미노광부를 현상, 제거해서 패턴을 형성하는 현상 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴 형성 방법.A colored layer forming step of applying the colored photosensitive resin composition according to claim 1 or 2 on a substrate to form a colored layer; and an exposure step of curing the exposed area by subjecting the colored layer to pattern ultraviolet laser exposure And a developing step of developing and removing the unexposed portion of the colored layer to form a pattern. 제 4 항에 있어서,
상기 자외광 레이저의 노광 파장은 300㎚∼380㎚의 범위인 것을 특징으로 하는 패턴 형성 방법.
5. The method of claim 4,
Wherein an exposure wavelength of said ultraviolet laser is in the range of 300 nm to 380 nm.
제 4 항에 있어서,
상기 자외광 레이저는 20㎐∼2000㎐의 주파수에서 발진하는 펄스 레이저인 것을 특징으로 하는 패턴 형성 방법.
5. The method of claim 4,
Wherein the ultraviolet laser is a pulsed laser oscillating at a frequency of 20 Hz to 2000 Hz.
제 4 항에 기재된 패턴 형성 방법에 의해 기판 상에 착색 패턴을 형성하는 공정을 갖는 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조방법.A method of manufacturing a color filter, comprising the step of forming a colored pattern on a substrate by the pattern forming method according to claim 4. 제 7 항에 기재된 컬러필터의 제조방법에 의해 제조된 것을 특징으로 하는 컬러필터.A color filter produced by the method of manufacturing a color filter according to claim 7. 제 8 항에 기재된 컬러필터를 구비한 것을 특징으로 하는 표시장치.A display device comprising the color filter according to claim 8.
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Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI567500B (en) * 2014-04-30 2017-01-21 奇美實業股份有限公司 Composition, thin film and method for forming the same, protection film, spacer, and display device
JP6279745B2 (en) * 2014-08-29 2018-02-14 富士フイルム株式会社 COLORING COMPOSITION, COLOR FILTER, PATTERN FORMING METHOD, COLOR FILTER MANUFACTURING METHOD, SOLID-STATE IMAGING DEVICE, IMAGE DISPLAY DEVICE, AND DYE MULTIMER MANUFACTURING METHOD
KR20180012313A (en) * 2015-05-29 2018-02-05 스미또모 베이크라이트 가부시키가이샤 A colored photosensitive resin composition, a coloring pattern or a black matrix, a color filter, a liquid crystal display device, or a solid-state imaging device and a method of manufacturing a color filter
KR20170065111A (en) * 2015-12-03 2017-06-13 동우 화인켐 주식회사 Colored photosensitive resin composition, color filter and image display device produced using the same
KR102364788B1 (en) * 2016-03-24 2022-02-18 동우 화인켐 주식회사 A photosensitive resin composition, color filter and display device comprising the same
KR102654596B1 (en) * 2016-03-30 2024-04-04 동우 화인켐 주식회사 Negative-type Photosensitive Resin Composition
KR102302380B1 (en) 2017-03-07 2021-09-15 후지필름 가부시키가이샤 Compositions, Films, Optical Sensors and Dispersants
JP6921208B2 (en) * 2017-08-31 2021-08-18 富士フイルム株式会社 Curable composition, cured product, color filter, manufacturing method of color filter, solid-state image sensor and image display device
KR102363119B1 (en) * 2018-03-15 2022-02-14 동우 화인켐 주식회사 Colored photosensitive resin composition, color filter, and image display apparatus comprising the same
KR20200122356A (en) * 2018-03-26 2020-10-27 후지필름 가부시키가이샤 Photosensitive composition
JP7193401B2 (en) * 2019-03-28 2022-12-20 日東電工株式会社 Adhesive composition, adhesive layer, and adhesive sheet
WO2020262687A1 (en) * 2019-06-28 2020-12-30 富士フイルム株式会社 Planographic printing original plate, method for producing planographic printing plate, and planographic printing method
WO2020262694A1 (en) * 2019-06-28 2020-12-30 富士フイルム株式会社 Lithographic printing plate precursor, method for producing lithographic printing plate, and lithographic printing method
EP4201932A4 (en) * 2020-08-21 2024-02-28 Fujifilm Corp Polymerizable composition, polymer, ultraviolet shielding material, laminate, compound, ultraviolet absorbing agent, and method for producing compound

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009244736A (en) * 2008-03-31 2009-10-22 Fujifilm Corp Photosensitive resin composition, light-shielding color filter and method of producing the same, and solid-state imaging device

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006251364A (en) * 2005-03-10 2006-09-21 Fuji Photo Film Co Ltd Pattern forming material, pattern forming apparatus and pattern forming method
JP2006251390A (en) * 2005-03-10 2006-09-21 Fuji Photo Film Co Ltd Pattern forming material, pattern forming apparatus and pattern forming method
JP5171005B2 (en) * 2006-03-17 2013-03-27 富士フイルム株式会社 Polymer compound, method for producing the same, and pigment dispersant

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009244736A (en) * 2008-03-31 2009-10-22 Fujifilm Corp Photosensitive resin composition, light-shielding color filter and method of producing the same, and solid-state imaging device

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