KR101781096B1 - Cleaning apparatus of exhaust gas - Google Patents
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Abstract
본 발명은 배출 가스 정화 장치에 관한 것으로서, 이물질이 포함된 배출 가스를 제1방향으로 유도하는 제1덕트부 상기 제1덕트부의 저면에 형성되고, 상기 배출 가스에 포함된 이물질을 수용하는 이물질 수용부 상기 제1덕트부의 측면에 형성되는 정화 가스 배출구와 연통되고, 이물질이 분리된 정화 가스를 제2방향으로 유도하는 제2덕트부 및 상기 제1덕트부의 내부로 돌출되게 설치되고, 상기 제1덕트부로 유입된 배출 가스의 기류 방향이 상기 제2덕트부 방향의 제2방향으로 급격하게 변화되도록 유도하는 제1배플을 포함하고, 상기 제1덕트부는, 상기 제2덕트부로부터 상대적으로 가까운 위치에 설치되는 제1유입부 및 상기 제1유입부와 이웃하여 설치되고 상기 제2덕트부로부터 상대적으로 먼 위치에 설치되는 제2유입부를 포함할 수 있다.The present invention relates to an exhaust gas purifying apparatus, and more particularly, to an exhaust gas purifying apparatus which includes a first duct portion for guiding exhaust gas containing foreign matter in a first direction, a foreign matter receiving portion for receiving foreign matter contained in the exhaust gas, A second duct portion communicating with a purge gas outlet formed on a side surface of the first duct portion and guiding the purified gas separated in a second direction, and a second duct portion protruding into the first duct portion, And a first baffle for guiding the airflow direction of the exhaust gas flowing into the duct portion to abruptly change in a second direction toward the second duct portion, wherein the first duct portion is located at a position relatively close to the second duct portion And a second inflow portion provided adjacent to the first inflow portion and installed at a position relatively far from the second duct portion.
Description
본 발명은 배출 가스 정화 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 화석연료의 사용으로 발생되는 각종 재나 부유물과 같은 이물질의 제거가 필수적인 설비에 사용할 수 있는 배출 가스 정화 장치 및 이의 배플에 관한 것이다.The present invention relates to an exhaust gas purifying apparatus, and more particularly, to an exhaust gas purifying apparatus and baffle thereof that can be used in a facility where removal of foreign matters such as various materials and floating matters generated by the use of fossil fuels is essential.
일반적으로 화력 발전소, 소각로, 산업용 보일러와 같은 연소설비에서는 석탄, 중유, 천연가스 등과 같은 화석 연료를 연소시켜서 에너지를 생성한다. 이러한 화석 연료의 연소 시에는 연소 후 발생되는 분말이나 고형물 형태의 재(Ash)나 미연소된 상태의 연료 물질이나 타지 않는 불연물질이나 질소 결합물, 탄소 결합물 등 다량의 이물질이 포함된다. 이러한 이물질을 포함하는 가스가 대기 중으로 배출되는 경우에는 대기오염을 일으킬 수 있으며, 경우에 따라 연소설비와 연결되어 연소시 발생된 가스를 처리하는 설비에도 악영향을 줄 수 있다. 예를 들어, 각종 연소설비에서 발생되는 NOx, CO, Dioxine 등과 같은 유해물질에 대해 촉매를 이용하여 무해하게 처리하는 배연기술인 선택적 촉매 환원 공정에서는 이러한 이물질들이 촉매층에 끼이게 되면서 촉매층의 기능 및 특성을 현저하게 열화시키게 된다. 따라서 연소로 인해 발생된 가스 내에 포함되는 이물질을 분리하여 제거시키는 기술이 필요하다.Generally, in combustion plants such as thermal power plants, incinerators, and industrial boilers, fossil fuels such as coal, heavy oil, and natural gas are burned to generate energy. These fossil fuels are burned after combustion, including ashes in the form of solid ash, unburned fuel materials, non-burning non-combustible materials, nitrogen compounds, carbon bonds, and other large amounts of foreign substances. When the gas containing such a foreign substance is discharged into the air, it may cause air pollution, and in some cases, it may be adversely affected by a device connected to the combustion device and treating the gas generated in the combustion. For example, in a selective catalytic reduction process, which is a flue gas treating technology that harmlessly treats harmful substances such as NOx, CO, and dioxine generated in various combustion facilities using a catalyst, the foreign substances are trapped in the catalyst layer, And is significantly deteriorated. Therefore, there is a need for a technique for separating and removing foreign substances contained in the gas generated by the combustion.
본 발명의 사상은, 이물질을 포함하는 배출 가스를 이물질 수용부 방향으로 안내하여 이물질 분리 성능을 향상시키고, 급격한 기류의 방향 변화를 유도할 수 있는 제1배플 및 제2배플을 설치하여 배출 가스와 이물질의 분리를 촉진시키며, 기류 유도홈을 이용하여 기류의 배출 방향으로의 방향 변화를 가속시킬 수 있는 배출 가스 정화 장치를 제공함에 있다.The idea of the present invention is to provide a first baffle and a second baffle for guiding exhaust gas containing foreign matter toward a foreign matter receiving portion to improve foreign matter separation performance and to induce a change in direction of a sudden airflow, The present invention provides an exhaust gas purifying apparatus capable of accelerating the separation of foreign matter and accelerating a directional change in an exhaust direction of an airflow by using an airflow guiding groove.
상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 사상에 따른 배출 가스 정화 장치는, 이물질이 포함된 배출 가스를 제1방향으로 유도하는 제1덕트부, 상기 제1덕트부의 저면에 형성되고, 상기 배출 가스에 포함된 이물질을 수용하는 이물질 수용부, 상기 제1덕트부의 측면에 형성되는 정화 가스 배출구와 연통되고, 이물질이 분리된 정화 가스를 제2방향으로 유도하는 제2덕트부 및 상기 제1덕트부의 내부로 돌출되게 설치되고, 상기 제1덕트부로 유입된 배출 가스의 기류 방향이 상기 제2덕트부 방향의 제2방향으로 급격하게 변화되도록 유도하는 제1배플을 포함하고, 상기 제1덕트부는, 상기 제2덕트부로부터 상대적으로 가까운 위치에 설치되는 제1유입부 및 상기 제1유입부와 이웃하여 설치되고 상기 제2덕트부로부터 상대적으로 먼 위치에 설치되는 제2유입부를 포함할 수 있다.According to an aspect of the present invention, there is provided an apparatus for purifying exhaust gas, comprising: a first duct section for guiding exhaust gas containing foreign matter in a first direction; a first duct section formed on a bottom surface of the first duct section, A second duct portion communicating with a purge gas outlet formed on a side surface of the first duct portion and guiding the purge gas separated from the foreign matter in a second direction, and a second duct portion communicating with the inside of the first duct portion, And a first baffle installed so as to protrude from the first duct portion and guide the air flow direction of the exhaust gas flowing into the first duct portion to abruptly change in a second direction toward the second duct portion, A first inflow portion provided at a position relatively close to the second duct portion and a second inflow portion provided adjacent to the first inflow portion and installed at a position relatively far from the second duct portion, It can hamhal.
상기 제1배플은, 선단이 상기 이물질 수용부를 향하여 수평면을 기준으로 아래로 제1하향각도로 경사지게 돌출되고 후단이 상기 정화 가스 배출구의 상방에 고정되는 것일 수 있다. The first baffle may have a tip projecting obliquely downward at a first downward angle with respect to a horizontal plane toward the foreign matter receiving portion and a rear end fixed at a position above the purge gas outlet.
상기 제1하향각도는, 30도 내지 50도일 수 있다.The first downward angle may be between 30 degrees and 50 degrees.
상기 제1배플은, 상기 이물질 수용부 방향으로 경사지게 돌출된 제1돌출길이가 상기 정화 가스 배출구의 연결지점에서부터 상기 이물질 수용부 상의 제1연장지점까지의 제1지향거리에 33퍼센트 내지 42퍼센트일 수 있다.Wherein the first baffle has a first projecting length obliquely projecting toward the foreign matter receiving portion from 33 to 42 percent of the first projecting distance from the connection point of the purge gas outlet to the first extending point on the foreign matter receiving portion .
상기 제2덕트부는, 상기 정화 가스가 배출되는 유로의 높이인 유로높이를 갖고, 상기 제1지향거리에서 상기 제1돌출길이를 차감한 제1통과거리는 상기 유로높이 이상일 수 있다.The second duct portion may have a channel height that is the height of the channel through which the purge gas is discharged, and the first passing distance obtained by subtracting the first projection length from the first directing distance may be equal to or greater than the channel height.
상기 제1덕트부는, 상기 제1유입부와 상기 제2유입부를 분할할 수 있는 분리벽을 더 포함할 수 있다.The first duct portion may further include a separating wall capable of dividing the first inlet portion and the second inlet portion.
상기 제2유입부의 내부로 돌출되게 설치되고, 상기 제2유입부로 유입된 배출 가스의 기류 방향이 제2덕트부 방향의 제2방향으로 급격하게 변화되도록 유도하는 제2배플을 더 포함할 수 있다.And a second baffle installed so as to protrude into the second inlet and guide the air flow direction of the exhaust gas flowing into the second inlet to abruptly change in a second direction toward the second duct portion .
상기 제2배플은, 선단이 상기 이물질 수용부를 향하여 수평면을 기준으로 아래로 제2하향각도로 경사지게 돌출되고 후단이 상기 분리벽의 하단부에 고정되는 것일 수 있다.The second baffle may have a tip projecting obliquely downward at a second downward angle with respect to a horizontal plane toward the foreign matter receiving portion and a rear end fixed to a lower end of the separating wall.
상기 제2하향각도는, 30도 내지 50도일 수 있다.The second downward angle may be between 30 degrees and 50 degrees.
상기 제2배플은, 상기 이물질 수용부 방향으로 경사지게 돌출된 제2돌출길이가 상기 분리벽의 연결지점에서부터 상기 이물질 수용부 상의 제2연장지점까지의 제2지향거리에 33퍼센트 내지 42퍼센트일 수 있다.The second baffle may have a second projecting length obliquely projecting toward the foreign matter receiving portion from 33 to 42 percent of a second directed distance from a connecting point of the separating wall to a second extending point on the foreign matter receiving portion have.
상기 이물질 수용부는, 아래로 오목한 깔때기 형상의 호퍼이고, 상기 제1덕트부와 상기 이물질 수용부 사이에 그 표면이 평면을 이루는 유도 평면부가 형성되는 것일 수 있다.The foreign matter receiving portion may be a funnel-shaped hopper concaved downward, and an induction plane portion having a flat surface formed between the first duct portion and the foreign matter receiving portion may be formed.
상기한 바와 같이 이루어진 본 발명의 실시예에 따르면, 배출 가스 정화 장치는 배출 가스의 급격한 기류의 방향변화를 통해 배출 가스에 포함된 이물질을 이물질 수용부로 분리시키는 분리 성능을 향상시킬 수 있다.According to the embodiment of the present invention as described above, the exhaust gas purifier can improve the separation performance of separating the foreign matter contained in the exhaust gas into the foreign matter receiving portion through the change of the direction of the sudden air flow of the exhaust gas.
또한, 여러 위치에서 흡기된 배출 가스들을 하나의 장치를 사용하여 정화할 수 있으며, 배플의 각도나 길이를 변화할 뿐 별도의 장치나 제작 방법의 변화를 주지 않고 효율을 높일 수 있어 설비 또는 제작이 용이한 효과를 가질 수 있다. 물론 이러한 효과에 의해 본 발명의 범위가 한정되는 것은 아니다.In addition, it is possible to purify exhaust gases drawn in from various positions by using a single device, change the angle or length of the baffle, and increase the efficiency without changing the apparatus or manufacturing method. It can have an easy effect. Of course, the scope of the present invention is not limited by these effects.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 배출 가스 정화 장치를 나타내는 사시도이다.
도 2 내지 도 7은 본 발명의 여러 실시예들에 따른 배출 가스 정화 장치를 나타내는 도면들이다.
도 8은 도 1의 배출 가스 정화 장치를 나타내는 작동 상태도이다.
도 9는 도 2의 배출 가스 정화 장치의 배플 각도에 따른 공기 흐름 변화를 나타내는 속도 분포도이다.
도 10은 도 2의 배출 가스 정화 장치의 배플 각도에 따른 공기 흐름 변화를 나타내는 압력 분포도이다.
도 11은 도 2의 배출 가스 정화 장치의 배플 각도에 따른 이물질 제거율과 압력차를 나타내는 비교표이다.
도 12는 도 3의 배출 가스 정화 장치의 배플 길이에 따른 공기 흐름 변화를 나타내는 속도 분포도이다.
도 13은 도 3의 배출 가스 정화 장치의 배플 길이에 따른 공기 흐름 변화를 나타내는 압력 분포도이다.
도 14는 도 3의 배출 가스 정화 장치의 배플 길이에 따른 이물질 제거율과 압력차를 나타내는 비교표이다.1 is a perspective view showing an exhaust gas purifying apparatus according to an embodiment of the present invention.
2 to 7 are views showing an exhaust gas purifying apparatus according to various embodiments of the present invention.
8 is an operational state view showing the exhaust gas purifying apparatus of Fig.
Fig. 9 is a velocity distribution diagram showing changes in air flow according to baffle angles of the exhaust gas purifying apparatus of Fig. 2; Fig.
Fig. 10 is a pressure distribution diagram showing changes in air flow according to the baffle angle of the exhaust gas purifying apparatus of Fig. 2; Fig.
11 is a comparison chart showing the foreign matter removal rate and the pressure difference according to the baffle angle of the exhaust gas purifying apparatus of FIG.
FIG. 12 is a velocity distribution diagram showing changes in air flow along the baffle length of the exhaust gas purifying apparatus of FIG. 3; FIG.
FIG. 13 is a pressure distribution diagram showing the air flow change according to the baffle length of the exhaust gas purifying apparatus of FIG. 3; FIG.
14 is a comparison chart showing the foreign matter removal rate and the pressure difference according to the baffle length of the exhaust gas purifying apparatus of Fig.
본 발명의 실시예들은 당해 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위하여 제공되는 것이며, 하기 실시예는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다. 오히려 이들 실시예들은 본 개시를 더욱 충실하고 완전하게 하고, 당업자에게 본 발명의 사상을 완전하게 전달하기 위하여 제공되는 것이다. 또한, 도면에서 각 층의 두께나 크기는 설명의 편의 및 명확성을 위하여 과장된 것이다.The embodiments of the present invention are described in order to more fully explain the present invention to those skilled in the art, and the following embodiments may be modified into various other forms, It is not limited to the embodiment. Rather, these embodiments are provided so that this disclosure will be more thorough and complete, and will fully convey the concept of the invention to those skilled in the art. In the drawings, the thickness and size of each layer are exaggerated for convenience and clarity of explanation.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 배출 가스 정화 장치(100)를 나타내는 사시도이다.1 is a perspective view showing an exhaust
도 1에 도시된 바와 같이, 제1덕트부(10), 제2덕트부(20), 이물질 수용부(30), 제1배플(40)을 포함할 수 있다.A
도 1에 도시된 바와 같이, 제1덕트부(10)는 이물질(1)이 포함된 배출 가스(G1)를 제1방향으로 유도할 수 있도록 형성될 수 있다. 예를 들면, 제1덕트부(10)는 연소 후 발생되는 분말이나 고형물 형태의 재(Ash)나 미연소된 상태의 연료 물질이나 타지 않는 불연물질이나 질소 결합물, 탄소 결합물 등의 이물질(1)이 포함된 배출 가스(G1)를 제1방향(도 1의 하방)으로 유도하는 것으로서, 제1덕트부(10)는 사각통 형상인 것이나 이외에도 원통, 파이프 형상 등 다양하게 덕트 형상으로 형성될 수 있다.As shown in FIG. 1, the
도 1에 도시된 바와 같이, 제1덕트부(10)는 제2덕트부(20)로부터 상대적으로 가까운 위치에 설치되는 제1유입부(11) 및 제1유입부(11)와 이웃하여 설치되고 제2덕트부(20)로부터 상대적으로 먼 위치에 설치되는 제2유입부(12)를 포함할 수 있다. 예컨대. 제1덕트부(10)는 제1유입부(11)와 제2유입부(12)를 분할할 수 있는 분리벽(50)을 더 포함할 수 있다.1, the
예컨대, 도 1에 도시된 바와 같이, 제1덕트부(10)는 서로 다른 위치에서 연결된 덕트들이 결합되어 형성된 것일 수 있으며, 이물질(1)을 더욱 효율적으로 정화할 수 있도록 하나의 덕트를 분리한 것일 수도 있다.For example, as shown in FIG. 1, the
도 1에 도시된 바와 같이, 분리벽(50)은 덕트들이 결합되어 형성되거나, 또는, 덕트를 분리하기 위하여 설치될 수 있다. 분리벽(50)은 판형상으로 설치될 수 있고, 유입된 배출 가스(G1)이 유입되는 압력을 높이기 위하여 가로로 길게 뻗은 다각기둥 형상으로 설치될 수 있다. 예컨대, 도 1에 도시된 바와 같이, 분리벽(50)이 가로로 누운 오각기둥 형상으로 설치되어 배출 가스(G1)가 유입되는 제1유입부(11) 및 제2유입부(12)의 상부에 형성된 유입관 보다 하부에 형성된 유입부가 더욱 좁아 유입되는 배출 가스(G1)의 압력이 더욱 높을 수 있다. 그리하여, 유입된 배출 가스(G1)는 보다 넓은 이물질 수용부(30)에서 급격하게 낮아진 압력으로 인하여 이물질(1)이 급격하게 느려진 유속과 중력에 의하여 운동량을 잃어 이물질 수용부(30)로 정화될 수 있다.As shown in FIG. 1, the
도 1에 도시된 바와 같이, 제1유입부(11)는 제2덕트부(20)에서 가까운 위치에 설치될 수 있고, 제1유입부(11)에서 유입된 배출 가스(G1)는 보다 빨리 제2덕트부(20)로 유출될 수 있으나 후술될 분리벽으로 인하여 기류의 방향이 바뀌어 제2덕트부(20)로 유출될 수 있다.1, the
도 1에 도시된 바와 같이, 제2유입부(12)는 제2덕트부(20)에서 제1유입부(11) 보다 상대적으로 먼 위치에 설치될 수 있고, 제2유입부(12)에서 유입된 배출 가스(G1)는 제1유입부에서 유입된 배출 가스(G1) 보다 상대적으로 느리게 제2덕트부(20)로 유출될 수 있으나 후술될 분리벽으로 인하여 관성 또는 원심력에 의하여 정화되어 제2덕트부(20)로 유출될 수 있다.1, the
이외에도 도시되지 않았지만, 제1유입부(11), 제2유입부(12) 이외에도 서로 다른 위치에서 연결된 복수개의 덕트들이 결합되어 형성될 수 있다.In addition to the
도 1에 도시된 바와 같이, 제2덕트부(20)는 제1덕트부(10)의 측면에 형성되는 정화 가스 배출구(H)와 연통되고, 이물질(1)이 분리된 정화 가스(G2)를 제2방향(도 1의 후방)으로 유도할 수 있다. 예컨대, 제2덕트부(20)는 사각통 형상인 것이나 이외에도 원통, 파이프 형상 등 다양하게 형성될 수 있다.1, the
여기서, 상기 제2방향은 제1덕트부(10)를 통해 유입되는 배출 가스(G1)를 최종적으로 외부로 배출하기 전에 배출 가스(G1)의 유해한 성분을 처리하기 위한 처리장치로 유입되는 방향일 수 있다. 이때 상기 처리장치는 선택적 촉매 환원 설비일 수 있으며, 상기 제2방향으로 유입된 배출 가스(G1)는 선택적 촉매 환원 설비를 구성하는 촉매층으로 유도될 수 있다. Here, the second direction is a direction in which the exhaust gas G1 flowing through the
도 1에 도시된 바와 같이, 이물질 수용부(30)는 제1덕트부(10)의 저면에 형성되고, 상기 제1방향으로 유도되어 낙하된 배출 가스(G1)에 포함된 이물질(1)을 수용할 수 있다. 이물질 수용부(30)는, 이물질(1)들이 하방으로 적층되도록 아래로 오목한 깔때기 형상의 호퍼(hopper)일 수 있다.1, the foreign
도 1에 도시된 바와 같이, 제1배플(40)은 제1덕트부(10)의 내부로 돌출되게 설치되고, 제1덕트부(10)로 유입된 배출 가스(G1)의 기류 방향이 제2덕트부 방향의 제2방향으로 급격하게 변화되도록 유도할 수 있다.1, the
도 1에 도시된 바와 같이, 제1배플(40)은 제1덕트부(10)의 배출 가스(G1)가 이물질 수용부(30)를 거쳐서 제2덕트부(20)로 방향 전환 될 수 있도록 제1덕트부(10)의 내부로 돌출되게 설치될 수 있다. 또한, 제1배플(40)은 배출 가스(G1)의 방향 전환을 촉진하기 위하여 둥근 표면이 형성될 수도 있으나 반드시 이에 한정되지는 않는다.1, the
도 1에 도시된 바와 같이, 제1배플(40)은 선단이 이물질 수용부(30)를 향하여 수평면을 기준으로 아래로 제1하향각도(A1)로 경사지게 돌출되고 후단이 정화 가스 배출구(H)의 상방에 고정되는 것일 수 있다.As shown in FIG. 1, the
도 1에 도시된 바와 같이, 제1배플(40)은 제1덕트부(10)를 통해 상기 제1방향으로 유입된 배출 가스(G1)의 방향을 제2덕트부(20) 방향으로 급격하게 변화되도록 유도할 수 있다. 즉, 제1덕트부(10)를 통하여 유입된 배출 가스(G1)는 상기 제1방향(도 1의 하방)으로 유입된 후 제1배플(40)에 의해 기류의 방향이 제2덕트부(20)로의 방향인 상기 제2방향으로 급격하게 전환될 수 있다. 이러한 급격한 기류의 방향 전환이 발생될 때 배출 가스(G1)에 포함되어 있는 소정의 질량을 가진 이물질(1)은 관성(혹은 원심력)에 의하여 상기 제1방향으로 계속 이동하려는 경향을 가지며, 이러한 급격한 기류방향의 전환에 대응하지 못하고 이물질 수용부(30)쪽으로 이동됨에 따라 배출 가스(G1)로부터 분리될 수 있다.1, the
그러므로, 제1배플(40)에 의해 유도된 급격한 기류의 변화에 의해 대부분의 이물질(1)은 이물질 수용부(30)에 수용될 수 있고, 제2덕트부(20)로는 이물질(1)이 제거되어 정화된 정화 가스(G2)만 외부로 배출될 수 있다.Therefore, most of the
도 2 내지 도 7은 본 발명의 여러 실시예들에 따른 배출 가스 정화 장치(200, 300, 400, 500, 600, 700)를 나타내는 도면들이다.FIGS. 2-7 illustrate
도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 다른 실시예에 따른 배출 가스 정화 장치(200)의 제1배플(40)은 정화 가스 배출구(H)의 상방에 고정되어 이물질 수용부(30)를 향하여 수평면을 기준으로 아래로 경사지게 설치될 수 있다. 예컨대, 제1배플(40)은 제1덕트부(10)에서 유입된 배출 가스(G1)를 제2덕트부(20)로 배출할 수 있도록 제1덕트부(10)에서 배출 가스(G1)의 유입을 방해하지 않으며, 제2덕트부(20)에서 정화 가스(G2)의 배출을 방해하지 않도록 설치될 수 있고, 수평면을 기준으로 제1하향각도(A1)로 경사지게 설치하여 정화효율을 최대한으로 높일 수 있다. 예컨대, 제1하향각도(A1)가 일정 각도 이상이 되거나 또는 이하가 될 경우에 유입구는 넓어지고 배출구는 좁아져 유입구와 배출구의 압력차이가 너무 커지게 되며 정화 효율이 낮아질 수 있으며, 이에 따라, 제1하향각도(A1)는 30도 내지 50도일 수 있다.2, the
도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명의 다른 실시예에 따른 배출 가스 정화 장치(300)의 제1배플(40)은 소정거리 돌출되어 설치될 수 있다. 예컨대, 제1배플(40)의 이물질 수용부(30) 방향으로 경사지게 돌출된 길이는 제1돌출길이(B1)일 수 있다. 또한, 이물질 수용부(30) 상에 위치한 제1배플(40)의 가상 연장점은 제1연장지점(41)일 수 있으며, 제1배플(40)과 정화 가스 배출구(H)의 연결지점에서부터 제1연장지점(41)까지의 거리는 제1지향거리(C1)일 수 있다.As shown in FIG. 3, the
도 3에 도시된 바와 같이, 제1배플(40)은 정화효율을 최대화할 수 있도록 제1돌출길이(B1)가 제1지향거리(C1)의 33퍼센트 내지 42퍼센트일 수 있다. 예컨대, 제1돌출길이(B1)가 너무 길어지면 유입구와 배출구가 좁아지며 이물질(1)의 배출이 느려지고 정화효율이 낮아질 수 있으며, 제1돌출길이(B1)가 너무 짧아지면 이물질(1)의 회전력이 낮아져 정화효율이 낮아질 수 있다.As shown in FIG. 3, the
도 3에 도시된 바와 같이, 제2덕트부(20)는 유로높이(E)를 포함할 수 있으며, 제1덕트부(10)에서 유입된 배출 가스(G1)가 유입되어 제1배플(40)을 통과할 때의 거리는 유로높이(E) 이상일 수 있다. 예컨대, 제1지향거리(C1)에서 제1돌출길이(B1)를 차감한 제1통과거리(D1)는 유로높이(E) 이상일 수 있다.3, the
즉, 제1돌출길이(B1)는 제1덕트부(10)에서 유입된 배출 가스(G1)가 통과하는 제1통과거리(D1)가 제2덕트부(20)에 형성된 유로높이(E) 이상일 수 있도록 형성되어 정화효율을 최대한으로 높일 수 있다.That is, the first protruding length B1 is set such that the first passing distance D1 through which the exhaust gas G1 flowing in the
도 4에 도시된 바와 같이, 본 발명의 다른 실시예에 따른 배출 가스 정화 장치(400)는 제2유입부(12)의 내부로 돌출되게 설치되고, 제2유입부(12)로 유입된 배출 가스(G1)의 기류 방향이 제2덕트부(20) 방향의 제2방향으로 급격하게 변화되도록 유도하는 제2배플(60)을 더 포함할 수 있다. 4, the
도 4에 도시된 바와 같이, 제2배플(60)은 분리벽(50)의 하부에 고정되어 이물질 수용부(30)를 향하여 수평면을 기준으로 아래로 경사지게 설치될 수 있다. 예컨대, 제2배플(60)은 제1덕트부(10)에서 유입된 배출 가스(G1)를 제2덕트부(20)로 배출할 수 있도록 제1덕트부(10)에서 배출 가스(G1)의 유입을 방해하지 않으며, 제2덕트부(20)에서 정화 가스(G2)의 배출을 방해하지 않도록 설치될 수 있고, 수평면을 기준으로 제2하향각도(A2)로 경사지게 설치하여 정화효율을 최대한으로 높일 수 있다. 예컨대, 제2하향각도(A2)가 일정 각도 이상이 되거나 또는 이하가 될 경우에 유입구는 넓어지고 배출구는 좁아져 유입구와 배출구의 압력차이가 너무 커지게 되며 정화 효율이 낮아질 수 있으며, 이에 따라, 제2하향각도(A2)는 30도 내지 50도일 수 있다.4, the
도 6에 도시된 바와 같이, 본 발명의 다른 실시예에 따른 배출 가스 정화 장치(600)의 제2배플(60)은 소정거리 돌출되어 설치될 수 있다. 예컨대, 제2배플(60)의 이물질 수용부(30) 방향으로 경사지게 돌출된 길이는 제2돌출길이(B2)일 수 있다. 또한, 이물질 수용부(30) 상에 위치한 제2배플(60)의 가상 연장점은 제2연장지점(42)일 수 있으며, 제2배플(60)과 정화 가스 배출구(H)의 연결지점에서부터 제2연장지점(42)까지의 거리는 제2지향거리(C2)일 수 있다.As shown in FIG. 6, the
도 6에 도시된 바와 같이, 제2배플(60)은 정화효율을 최대화할 수 있도록 제2돌출길이(B2)가 제2지향거리(C2)의 33퍼센트 내지 42퍼센트일 수 있다. 예컨대, 제2돌출길이(B2)가 너무 길어지면 유입구와 배출구가 좁아지며 이물질(1)의 배출이 느려지고 정화효율이 낮아질 수 있으며, 제2돌출길이(B2)가 너무 짧아지면 이물질(1)의 회전력이 낮아져 정화효율이 낮아질 수 있다.As shown in FIG. 6, the
도 7에 도시된 바와 같이, 본 발명의 다른 실시예에 따른 배출 가스 정화 장치(700)의 이물질 수용부(30)는 아래로 오목한 깔때기 형상의 호퍼이고, 제1덕트부(10)와 이물질 수용부(30) 사이에 그 표면이 평면을 이루는 유도 평면부(70)가 형성되는 것일 수 있다.7, the foreign
도 7에 도시된 바와 같이, 유도 평면부(70)는 기류 방향이 급격하게 변화되도록 상기 제1방향과 다른 방향으로 유도하는 것으로서, 특히 일종의 경사면을 형성하여 급격한 와류를 더욱 쉽게 유도할 수 있다. 유도 평면부(70)는 이물질 수용부(30)에서 유속이 현저하게 떨어지는 대신, 유도 평면부(70) 및 상기 배플(40, 60)에 의해 빠른 유속의 급격한 와류가 발생되면서 이물질(1)이 원심력에 의해 이물질 수용부(30) 방향으로 낙하될 수 있다.As shown in FIG. 7, the
반면에, 유도 평면부(70)는 곡면으로 형성되어 제1배플(40)로부터 유도 평면부(70)에 이르는 거리에 비해 더 길어지게 되고 이러한 거리의 차이만큼 제1배플(40)의 길이가 더 길게 형성될 수 있으며, 제1배플(40)의 길이가 더 길어질 경우에는 제1배플(40)에 의한 기류의 방향전환 효과를 증진시킬 수 있다.On the other hand, the
도 8은 도 1의 배출 가스 정화 장치(100)를 나타내는 작동 상태도이다.8 is an operational state diagram showing the exhaust
도 8에 도시된 바와 같이, 배출 가스 정화 장치(100)는 제1유입부(11) 및 제2유입부(12)를 포함하는 제1덕트부(10)에서 배출 가스(G1)를 상기 제1방향으로 유도하여, 제1덕트부(10)를 통하여 제1배플(40)에 의해 기류의 방향이 제2덕트부(20) 방향인 상기 제2방향으로 급격하게 전환될 수 있다.8, the exhaust
이때, 이물질(1)은 깔때기 형상의 호퍼(hopper)인 이물질 수용부(30)로 적층되고, 제2덕트부(20)로 이물질(1)이 제거되어 정화된 정화 가스(G2)만 외부로 배출될 수 있다.At this time, the
이하, 본 발명의 이해를 돕기 위해서 상술한 기술적 사상을 적용한 실험예를 설명한다. 다만, 하기의 실험예는 본 발명의 이해를 돕기 위한 것일 뿐, 본 발명이 아래의 실험예에 의해서 한정되는 것은 아니다. Hereinafter, an experimental example to which the technical idea described above is applied will be described in order to facilitate understanding of the present invention. It should be understood, however, that the following examples are for the purpose of promoting understanding of the present invention and are not intended to limit the scope of the present invention.
[실험예][Experimental Example]
본 실험은 배플의 각도 변경에 따라 변화하는 이물질제거율을 확인하기 위하여 모든 해석 조건은 동일하고 배플의 각도 또는 배플의 길이의 변경에 따른 차이를 확인 하였다.In this experiment, all the analysis conditions are the same and the difference in the angle of the baffle or the length of the baffle is confirmed in order to check the foreign matter removal rate which changes according to the angle change of the baffle.
도 9 내지 도 11은 제1실험에 대한 해석 결과이다.9 to 11 show the results of analysis for the first experiment.
제1실험은 상기 배플의 각도에 따른 유속 및 압력의 변화를 실험하였으며, 상기 배플의 각도는 수평면을 기준으로 30도, 38도, 45도, 60도 및 75도 이다. 제1실험에서 배플의 각도가 30도인 실험은 Type1, 38도는 Type2, 45도는 Type3, 60도는 Type4 및 75도는 Type5이다.In the first experiment, the change of the flow velocity and the pressure according to the angle of the baffle was examined. The angle of the baffle was 30 degrees, 38 degrees, 45 degrees, 60 degrees and 75 degrees based on the horizontal plane. In the first experiment, the baffle angle of 30 degrees is Type1, 38 degrees Type2, 45 degrees Type3, 60 degrees Type4 and 75 degrees Type5.
도 9는 도 2의 배출 가스 정화 장치(200)의 배플 각도에 따른 공기 흐름 변화를 나타내는 속도 분포도이다.9 is a velocity distribution diagram showing an air flow change according to the baffle angle of the exhaust
도 9에 도시된 바와 같이, 상기 배플의 각도에 따른 유입구 방향(A)과 배출구 방향(B)의 속도차이는 Type1(30도)에서 Type5(75도)로 배플의 각도가 하향됨에 따라 현저히 커지는 것을 확인할 수 있다. 즉, 상기 배플의 각도가 증가함에 따라 점차 유입구 방향(A)의 유속이 감소하고 배출구 방향(B)의 유속이 증가하여 차이가 커지는 것을 확인할 수 있다.9, the velocity difference between the inlet direction A and the outlet direction B with respect to the angle of the baffle is significantly increased as the angle of the baffle is down from Type 1 (30 degrees) to Type 5 (75 degrees) . That is, it can be seen that as the angle of the baffle increases, the flow velocity in the inlet direction A gradually decreases and the flow velocity in the outlet direction B increases, thereby increasing the difference.
도 10은 도 2의 배출 가스 정화 장치(200)의 배플 각도에 따른 공기 흐름 변화를 나타내는 압력 분포도이다.10 is a pressure distribution diagram showing the change in air flow according to the baffle angle of the exhaust
도 10에 도시된 바와 같이, 상기 배플의 각도에 따른 유입구와 배출구의 압력의 차이는 Type1(30도)에서 Type4(60도)로 배플의 각도가 하향됨에 따라 두 개로 분리된 유입구의 압력이 낮아지는 것을 확인할 수 있으며, 특히 Type1(30도)은 배출구에 가까운 위치에 설치된 유입구에서 높은 압력을 확인할 수 있으나 Type4(60도)에서는 압력이 낮아져 배출구와 먼 위치에 설치된 유입구와 비슷해진 것을 확인할 수 있다.As shown in FIG. 10, the difference between the inlet and outlet pressures according to the angle of the baffle is Type 1 (30 degrees) to Type 4 (60 degrees). As the angle of the baffle is lowered, In Type 1 (30 degrees), it is possible to confirm high pressure at the inlet located close to the outlet, but in Type 4 (60 degrees), the pressure is low and it becomes similar to the outlet installed at the outlet and the distant position .
Type1(30도)에서 Type5(75도)로 배플의 각도가 하향됨에 따라 배출구의 압력이 낮아지는 것을 확인할 수 있다. 특히, Type1(30도)은 배출구의 상부와 하부의 압력차이가 나타남을 확인할 수 있으나, 상기 배플의 각도가 Type5(75도)로 변화됨에 따라 배출구의 상부와 하부의 압력차이가 거의 없으며 전체적인 압력이 낮아진 것을 확일할 수 있다.As the angle of the baffle is decreased from Type 1 (30 degrees) to Type 5 (75 degrees), the pressure at the outlet is lowered. Particularly, it can be seen that the pressure difference between the upper part and the lower part of the discharge port is Type 1 (30 degrees). However, as the baffle angle is changed to Type 5 (75 degrees), there is almost no pressure difference between the upper and lower parts of the discharge port, Can be confirmed.
이는, 배플의 각도가 하향됨에 따라, 유입구는 두 개로 분리된 유입구의 압력이 유사한 수치까지 모두 낮아지며, 배출구의 압력은 배출구의 모든 부분의 압력이 유사한 수치까지 낮아진 것을 확인할 수 있다.This means that as the angle of the baffle is lowered, the inlet is lowered to a similar value for the two separate inlets, and the pressure at the outlet is lowered to a similar value at all portions of the outlet.
[표 1]은 실험1에 대한 유입구와 배출구의 평균압력의 차이를 나타내는 표이다.Table 1 shows the difference in average pressure between inlet and outlet for
상기 [표 1]에서 제1유입구는 배출구에서 먼 위치에 설치된 유입구이고, 제2유입구는 배출구에서 가까운 위치의 유입구이다.In Table 1, the first inlet is an inlet provided at a position far from the outlet, and the second inlet is an inlet near the outlet.
상기 [표 1]에 나타난 바와 같이, 유입구의 평균압력과 배출구의 압력은 Type1(30도)에서 Type5(75도)로 배플의 각도가 하향됨에 따라 감소하는 것을 확인할 수 있으나, 유입구와 배출구의 압력차이는 Type1(30도)에서 Type3(45도)까지 감소하다가 다시 증가하여 Type5(75도)에서 압력차이가 가장 큰 것으로 확인할 수 있다.As shown in Table 1, it can be seen that the average pressure of the inlet and the pressure of the outlet decrease with Type 1 (30 degrees) to Type 5 (75 degrees) as the angle of the baffle is downward, but the pressure of the inlet and outlet The difference is decreased from Type 1 (30 degrees) to Type 3 (45 degrees), and then increases again, and it can be confirmed that the pressure difference is the largest in Type 5 (75 degrees).
이에 따라, 유입구와 배출구의 압력차이를 유지하기 위한 상기 배플의 각도가 존재하는 것을 확인할 수 있다.Thus, it can be confirmed that the angle of the baffle for maintaining the pressure difference between the inlet and the outlet exists.
[표 2]은 실험1에 대한 이물질의 크기에 따른 제거율을 나타내는 표이다.[Table 2] is a table showing the removal rate according to the size of the foreign substance for
상기 [표 2]에서 제1유입구는 배출구에서 먼 위치에 설치된 유입구이고, 제2유입구는 배출구에서 가까운 위치의 유입구이다.In Table 2, the first inlet is an inlet provided at a position far from the outlet, and the second inlet is an inlet near the outlet.
상기 [표 2]에 나타난 바와 같이, 이물질의 크기가 100㎛, 140㎛, 200㎛에서의 상기 배플 각도를 변화하여 제거율을 실험하였다. 이에 따라, 이물질 제거율은 Type1(30도)에서 Type5(75도)로 배플의 각도가 하향됨에 따라 감소하는 것을 확인할 수 있었으며, 평균적으로 Type1(30도)에서 Type3(45도)에서 전체 제거율이 70퍼센트 이상인 것을 확인할 수 있다.As shown in Table 2, the baffle angle was varied at 100 mu m, 140 mu m, and 200 mu m in size of foreign matter to test the removal rate. As a result, it was confirmed that the foreign matter removal rate decreased as the baffle angle decreased from Type 1 (30 degrees) to Type 5 (75 degrees). On the average, the total removal rate from Type 1 (30 degrees) Percents.
도 11은 도 2의 배출 가스 정화 장치(200)의 배플 각도에 따른 이물질 제거율과 압력차를 나타내는 비교표이다.11 is a comparison chart showing the foreign matter removal rate and the pressure difference according to the baffle angle of the exhaust
도 11에 도시된 바와 같이, 상기 배플의 각도가 Type1(30도)에서 Type5(75도)로 하향됨에 따라 유입구와 배출구의 압력차이(△P)는 증가하는 것을 확인할 수 있으며, 이물질의 크기가 100㎛, 140㎛ 및 200㎛에서의 제거율이 감소하는 것을 확인할 수 있다. 따라서, 상기 배플의 각도에 따른 유입구와 배출구의 압력의 차이가 낮게 나타고 이물질 제거율이 높은 상기 배플의 설치각도는 30도 내지 50도일 때 효과적이다.As shown in FIG. 11, as the angle of the baffle is reduced from Type 1 (30 degrees) to Type 5 (75 degrees), it can be seen that the pressure difference? P between the inlet and the outlet increases, It can be confirmed that the removal rate at 100 탆, 140 탆 and 200 탆 decreases. Therefore, the difference between the pressures of the inlet and outlet depending on the angle of the baffle is low, and the installation angle of the baffle having a high removal rate of the foreign material is effective when the angle is from 30 degrees to 50 degrees.
도 12 내지 도 14는 제2실험에 대한 해석 결과이다.Figs. 12 to 14 show the results of analysis for the second experiment.
제2실험은 상기 배플의 길이에 따른 유속 및 압력의 변화를 실험하였으며, 지향거리에 대한 상기 배플의 길이의 비율을 변화하여 실험하였다. 여기서, 상기 지향거리는 상기 배플과 정화 가스 배출구의 연결지점에서부터 상기 배플의 가상 연장지점까지의 거리이다. 상기 지향거리에 대한 상기 배플의 길이의 비율이 1:0.54인 실험은 Type6, 1:0.49는 Type7, 1:0.43은 Type8, 1:0.38은 Type9, 1:0.32는 Type10 및 1:0.27은 Type11이다.In the second experiment, the change of the flow velocity and the pressure according to the length of the baffle was experimented, and the ratio of the baffle length to the baffle distance was experimented. Here, the directing distance is the distance from the connection point of the baffle to the purge gas outlet to the virtual extension point of the baffle. In the experiment where the ratio of the length of the baffle to the directing distance is 1: 0.54, Type 6, 1: 0.49 is Type 7, 1: 0.43 is
도 12는 도 3의 배출 가스 정화 장치(300)의 배플 길이에 따른 공기 흐름 변화를 나타내는 속도 분포도이다.FIG. 12 is a velocity distribution diagram showing changes in air flow along the baffle length of the exhaust
도 12에 도시된 바와 같이, 상기 배플의 길이에 따른 통과영역(A)의 속도변화는 Type6(1:0.54)에서 Type11(1:0.27)로 배플의 길이가 짧아짐에 따라 유동이 현저히 약해지는 것을 확인할 수 있다.12, the velocity change of the passage area A according to the length of the baffle is Type 6 (1: 0.54) to Type 11 (1: 0.27), and the flow is remarkably weakened as the length of the baffle becomes shorter Can be confirmed.
도 13은 도 3의 배출 가스 정화 장치(300)의 배플 길이에 따른 공기 흐름 변화를 나타내는 압력 분포도이다.FIG. 13 is a pressure distribution diagram showing an air flow change according to the baffle length of the exhaust
도 13에 도시된 바와 같이, 상기 배플의 길이에 따른 유입구와 배출구의 압력의 차이는 Type6(1:0.54)에서 Type11(1:0.27)로 배플의 길이가 짧아짐에 따라 두 개로 분리된 유입구의 압력이 낮아지는 것을 확인할 수 있으며, 특히 Type6(1:0.54)은 배출구에 가까운 위치에 설치된 유입구에서 높은 압력을 확인할 수 있으나 Type11(1:0.27)에서는 압력이 낮아져 배출구와 먼 위치에 설치된 유입구와 비슷해진 것을 확인할 수 있다.13, the difference between the inlet and outlet pressures according to the baffle length is Type 6 (1: 0.54) to Type 11 (1: 0.27). As the length of the baffle becomes shorter, (1: 0.54), especially in Type 11 (1: 0.27), is similar to the inlet installed at a distance from the outlet due to the lower pressure at the outlet. .
Type6(1:0.54)에서 Type11(1:0.27)로 배플의 길이가 짧아짐에 따라 배출구의 압력이 높아지는 것을 확인할 수 있다. 특히, Type6(1:0.54)은 배출구의 상부와 하부의 압력차이가 나타남을 확인할 수 있으나, 상기 배플의 길이가 Type11(1:0.27)로 변화됨에 따라 배출구의 상부와 하부의 압력차이가 거의 없으며 전체적인 압력이 높아진 것을 확일할 수 있다.As the length of the baffle becomes shorter from Type 6 (1: 0.54) to Type 11 (1: 0.27), it can be seen that the pressure at the outlet increases. Particularly, Type 6 (1: 0.54) shows a difference in pressure between the upper and lower portions of the discharge port. However, as the length of the baffle changes to Type 11 (1: 0.27), there is almost no pressure difference between the upper and lower portions of the discharge port It can be seen that the overall pressure has increased.
이는, 배플의 길이가 짧아짐에 따라, 유입구는 두 개로 분리된 유입구의 압력이 유사한 수치까지 모두 낮아지며, 배출구의 압력은 배출구의 모든 부분의 압력이 유사한 수치까지 높아져 유입구와 유출구의 압력차이는 작아진 것을 확인할 수 있다.This is because as the length of the baffle becomes shorter, the inlet is lowered to a similar value for the two separate inlets, the pressure at the outlet increases to a similar value at all portions of the outlet, and the pressure difference between the inlet and outlet becomes smaller .
[표 3]은 실험2에 대한 유입구와 배출구의 평균압력의 차이를 나타내는 표이다.Table 3 shows the difference in average pressure between inlet and outlet for
(1:0.54)Type6
(1: 0.54)
(1:0.49)Type7
(1: 0.49)
(1:0.43)Type8
(1: 0.43)
(1:0.38)Type9
(1: 0.38)
(1:0.32)Type10
(1: 0.32)
(1:0.27)Type11
(1: 0.27)
상기 [표 3]에서 제1유입구는 배출구에서 먼 위치에 설치된 유입구이고, 제2유입구는 배출구에서 가까운 위치의 유입구이다.In Table 3, the first inlet is an inlet provided at a position far from the outlet, and the second inlet is an inlet near the outlet.
상기 [표 3]에 나타난 바와 같이, 유입구의 평균압력과 배출구의 압력은 Type6(1:0.54)에서 Type11(1:0.27)로 배플의 길이가 짧아짐에 따라 감소하는 것을 확인할 수 있으며, 유입구와 배출구의 압력차이도 Type6(1:0.54)에서 Type11(1:0.27)로 배플의 길이가 짧아짐에 따라 압력차이도 낮아지는 것을 확인할 수 있다.As shown in Table 3, it can be seen that the average pressure of the inlet and the pressure of the outlet decrease with Type 6 (1: 0.54) to Type 11 (1: 0.27) as the length of the baffle becomes shorter, The pressure difference of Type6 (1: 0.54) to Type11 (1: 0.27) is also decreased as the baffle length becomes shorter.
[표 4]은 실험1에 대한 이물질의 크기에 따른 제거율을 나타내는 표이다.[Table 4] is a table showing the removal rate according to the size of the foreign substance for
(1:0.54)Type6
(1: 0.54)
(1:0.49)Type7
(1: 0.49)
(1:0.43)Type8
(1: 0.43)
(1:0.38)Type9
(1: 0.38)
(1:0.32)Type10
(1: 0.32)
(1:0.27)Type11
(1: 0.27)
상기 [표 4]에서 제1유입구는 배출구에서 먼 위치에 설치된 유입구이고, 제2유입구는 배출구에서 가까운 위치의 유입구이다.In Table 4, the first inlet is an inlet installed far from the outlet, and the second inlet is an inlet near the outlet.
상기 [표 2]에 나타난 바와 같이, 이물질의 크기가 100㎛, 140㎛, 200㎛에서의 상기 배플의 길이를 변화하여 제거율을 실험하였다. 이에 따라, 이물질 제거율은 이물질의 크기가 100㎛일 때 Type6(1:0.54)에서 제거율이 가장 높은 것을 확인할 수 있다.As shown in Table 2, the removal rate was experimented by varying the length of the baffle at the size of foreign matter of 100 mu m, 140 mu m, and 200 mu m. As a result, it can be seen that the removal rate of the foreign material is the highest at Type 6 (1: 0.54) when the size of foreign matter is 100 μm.
또한, 이물질의 크기가 200㎛일 때는 Type6(1:0.54), Type7(1:0.49), Type8(1:0.43) 및 Type9(1:0.38)에서 높은 제거율을 보였으며 상기 배플의 길이가 더 짧은 Type10(1:0.32) 및 Type11(1:0.27)에서는 비교적 낮은 제거율을 확인할 수 있다.When the size of the foreign object is 200 μm, the removal efficiency is high in Type 6 (1: 0.54), Type 7 (1: 0.49), Type 8 (1: 0.43) and Type 9 (1: 0.38) In Type 10 (1: 0.32) and Type 11 (1: 0.27), relatively low removal rates can be observed.
도 14는 도 3의 배출 가스 정화 장치(300)의 배플 길이에 따른 이물질 제거율과 압력차를 나타내는 비교표이다.14 is a comparison chart showing the foreign matter removal rate and the pressure difference according to the baffle length of the exhaust
도 14에 도시된 바와 같이, 상기 배플의 길이가 Type6(1:0.54)에서 Type11(1:0.27)로 짧아짐에 따라 유입구와 배출구의 압력차이(△P)와 이물질의 크기가 100㎛, 140㎛ 및 200㎛에서의 제거율이 감소하는 것을 확인할 수 있다. As shown in FIG. 14, as the length of the baffle becomes shorter from Type 6 (1: 0.54) to Type 11 (1: 0.27), the pressure difference ΔP between the inlet and the outlet and the size of the foreign matter become 100 μm and 140 μm And the removal rate at 200 m decreased.
이에 따라, 상기 배플의 길이가 짧아지면 상기 유입구와 상기 유출구의 압력차이는 감소하지만 제거율을 낮아지는 것을 확인할 수 있으며, 따라서, 상기 지향거리에 대한 상기 배플의 길이의 비율은 상기 유입구와 상기 유출구의 압력차이가 비교적 낮게 형성되면서 높은 이물질 제거율을 유지하도록 하기 위하여 1:0.38 이상으로 설치하여야 효과적이다.Thus, it can be seen that if the length of the baffle is shortened, the pressure difference between the inlet and the outlet is reduced, but the removal rate is reduced, so that the ratio of the length of the baffle to the directing distance, It is effective to install more than 1: 0.38 in order to maintain the high foreign matter removal rate while the pressure difference is relatively low.
본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.While the present invention has been described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments, but, on the contrary, is intended to cover various modifications and equivalent arrangements included within the spirit and scope of the appended claims. Accordingly, the true scope of the present invention should be determined by the technical idea of the appended claims.
1: 이물질 10: 제1덕트부
11: 제1유입부 12: 제2유입부
20: 제2덕트부 30: 이물질 수용부
40: 제1배플 41: 제1연장지점
42: 제2연장지점 50: 분리벽
60: 제2배플 70: 유도 평면부
A1: 제1하향각도 A2: 제2하향각도
G1: 배출 가스 G2: 정화 가스
H: 정화 가스 배출구
100, 200, 300, 400, 500, 600, 700: 배출 가스 정화 장치1: foreign matter 10: first duct part
11: first inflow part 12: second inflow part
20: second duct part 30: foreign matter receiving part
40: first baffle 41: first extension point
42: second extension point 50: separating wall
60: second baffle 70: guide plane portion
A1: first downward angle A2: second downward angle
G1: Exhaust gas G2: Purification gas
H: purge gas outlet
100, 200, 300, 400, 500, 600, 700: Exhaust gas purifier
Claims (11)
상기 제1덕트부의 저면에 형성되고, 상기 배출 가스에 포함된 이물질을 수용하는 이물질 수용부;
상기 제1덕트부의 측면에 형성되는 정화 가스 배출구와 연통되고, 이물질이 분리된 정화 가스를 제2방향으로 유도하는 제2덕트부; 및
상기 제1덕트부의 내부로 돌출되게 설치되고, 상기 제1덕트부로 유입된 배출 가스의 기류 방향이 상기 제2덕트부 방향의 제2방향으로 급격하게 변화되도록 유도하는 제1배플;
을 포함하고,
상기 제1덕트부는,
상기 제2덕트부로부터 상대적으로 가까운 위치에 설치되는 제1유입부; 및
상기 제1유입부와 이웃하여 설치되고 상기 제2덕트부로부터 상대적으로 먼 위치에 설치되는 제2유입부;
를 포함하고,
상기 제1배플은,
선단이 상기 이물질 수용부를 향하여 수평면을 기준으로 아래로 제1하향각도로 경사지게 돌출되고 후단이 상기 정화 가스 배출구의 상방에 고정되는 것이고,
상기 제1하향각도는, 30도 내지 45도이고,
상기 제1덕트부는,
상기 제1유입부와 상기 제2유입부를 분할할 수 있는 분리벽;
을 더 포함하고,
상기 분리벽은, 상기 제1유입부와 제2유입부를 분리하고 유입구가 좁아질 수 있도록 가로지르는 기둥형상으로 형성되는, 배출 가스 정화 장치.A first duct part for guiding the exhaust gas containing foreign matter in a first direction;
A foreign matter receiving portion formed on a bottom surface of the first duct portion and containing a foreign substance contained in the exhaust gas;
A second duct portion communicating with a purge gas outlet formed on a side surface of the first duct portion and guiding the purge gas separated from the foreign matter in a second direction; And
A first baffle protruding into the first duct and guiding the direction of air flow of the exhaust gas flowing into the first duct to be abruptly changed in a second direction toward the second duct;
/ RTI >
Wherein the first duct portion includes:
A first inlet disposed at a position relatively close to the second duct portion; And
A second inflow portion provided adjacent to the first inflow portion and installed at a position relatively far from the second duct portion;
Lt; / RTI >
Wherein the first baffle comprises:
And a rear end thereof is fixed to the upper portion of the purge gas discharge port, the front end of the discharge port being protruded downward at a first downward angle with respect to a horizontal plane toward the foreign substance receiving portion,
Wherein the first downward angle is from 30 degrees to 45 degrees,
Wherein the first duct portion includes:
A separating wall capable of dividing the first inlet and the second inlet;
Further comprising:
Wherein the separating wall is formed in a columnar shape that separates the first inlet portion and the second inlet portion and crosses the inlet port so as to narrow the inlet port.
상기 제1배플은,
상기 이물질 수용부 방향으로 경사지게 돌출된 제1돌출길이가 상기 정화 가스 배출구의 연결지점에서부터 상기 이물질 수용부 상의 제1연장지점까지의 제1지향거리에 33퍼센트 내지 42퍼센트인, 배출 가스 정화 장치.The method according to claim 1,
Wherein the first baffle comprises:
Wherein the first projecting length obliquely projecting toward the foreign matter receiving portion is 33% to 42% of the first projecting distance from the connection point of the purge gas outlet to the first extension point on the foreign matter receiving portion.
상기 제2덕트부는,
상기 정화 가스가 배출되는 유로의 높이인 유로높이를 갖고,
상기 제1지향거리에서 상기 제1돌출길이를 차감한 제1통과거리는 상기 유로높이 이상인, 배출 가스 정화 장치.5. The method of claim 4,
The second duct part
And a flow path height that is the height of the flow path through which the purge gas is discharged,
Wherein a first passing distance obtained by subtracting the first projecting length from the first directing distance is equal to or greater than the flow passage height.
상기 제2유입부의 내부로 돌출되게 설치되고, 상기 제2유입부로 유입된 배출 가스의 기류 방향이 제2덕트부 방향의 제2방향으로 급격하게 변화되도록 유도하는 제2배플;
을 더 포함하는, 배출 가스 정화 장치.The method according to claim 1,
A second baffle installed so as to protrude into the second inlet and directing the direction of air flow of the exhaust gas flowing into the second inlet to be abruptly changed in a second direction toward the second duct;
Further comprising an exhaust gas purifying device.
상기 제2배플은,
선단이 상기 이물질 수용부를 향하여 수평면을 기준으로 아래로 제2하향각도로 경사지게 돌출되고 후단이 상기 분리벽의 하단부에 고정되는 것인, 배출 가스 정화 장치.8. The method of claim 7,
Wherein the second baffle comprises:
Wherein a distal end of the first protrusion protrudes downward at a second downward angle with respect to a horizontal plane toward the foreign matter receiving portion, and a rear end thereof is fixed to a lower end of the separating wall.
상기 제2하향각도는, 30도 내지 50도인, 배출 가스 정화 장치.9. The method of claim 8,
Wherein the second downward angle is 30 degrees to 50 degrees.
상기 제2배플은,
상기 이물질 수용부 방향으로 경사지게 돌출된 제2돌출길이가 상기 분리벽의 연결지점에서부터 상기 이물질 수용부 상의 제2연장지점까지의 제2지향거리에 33퍼센트 내지 42퍼센트인, 배출 가스 정화 장치.9. The method of claim 8,
Wherein the second baffle comprises:
And the second projection length obliquely projecting toward the foreign matter receiving portion is 33% to 42% of the second projection distance from the connection point of the separation wall to the second extension point on the foreign matter receiving portion.
상기 이물질 수용부는,
아래로 오목한 깔때기 형상의 호퍼이고, 상기 제1덕트부와 상기 이물질 수용부 사이에 그 표면이 평면을 이루는 유도 평면부가 형성되는 것인, 배출 가스 정화 장치.The method according to claim 1,
The foreign substance receiving portion
Wherein a funnel-shaped hopper concave downward is formed between the first duct portion and the foreign substance receiving portion, and an induction plane portion having a flat surface is formed between the first duct portion and the foreign substance receiving portion.
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