KR101779624B1 - Antireflection film, polarizing plate and image display device - Google Patents

Antireflection film, polarizing plate and image display device Download PDF

Info

Publication number
KR101779624B1
KR101779624B1 KR1020120124580A KR20120124580A KR101779624B1 KR 101779624 B1 KR101779624 B1 KR 101779624B1 KR 1020120124580 A KR1020120124580 A KR 1020120124580A KR 20120124580 A KR20120124580 A KR 20120124580A KR 101779624 B1 KR101779624 B1 KR 101779624B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
refractive index
polymerizable compound
low refractive
hydroxyl group
index layer
Prior art date
Application number
KR1020120124580A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20130050247A (en
Inventor
마유 마사키
도모유키 호리오
마리코 하야시
Original Assignee
다이니폰 인사츠 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 filed Critical 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤
Publication of KR20130050247A publication Critical patent/KR20130050247A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101779624B1 publication Critical patent/KR101779624B1/en

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/30Polarising elements
    • G02B5/3025Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
    • G02B5/3033Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B23/00Layered products comprising a layer of cellulosic plastic substances, i.e. substances obtained by chemical modification of cellulose, e.g. cellulose ethers, cellulose esters, viscose
    • B32B23/04Layered products comprising a layer of cellulosic plastic substances, i.e. substances obtained by chemical modification of cellulose, e.g. cellulose ethers, cellulose esters, viscose comprising such cellulosic plastic substance as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B23/08Layered products comprising a layer of cellulosic plastic substances, i.e. substances obtained by chemical modification of cellulose, e.g. cellulose ethers, cellulose esters, viscose comprising such cellulosic plastic substance as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/02Physical, chemical or physicochemical properties
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/04Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11Anti-reflection coatings
    • G02B1/111Anti-reflection coatings using layers comprising organic materials

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

본 발명은 비누화 처리를 해도 저굴절률층을 기능이 손상되지 않도록 하여, 반사 방지성, 내찰상성, 방오성 등의 기능을 유지할 수 있는, 내비누화성을 갖는 반사 방지 필름과, 이것을 사용한 편광판, 화상 표시 장치를 제공한다.
본 발명의 반사 방지 필름(10)은, 트리아세틸셀룰로오스의 투명 기재 필름(1) 상에 형성하는 중공형 실리카 입자를 포함하는 전리방사선 경화성 수지로 이루어지는 저굴절률층(2)에 대해서, 전리방사선 경화성 수지의 중합성 화합물에, 분자 중에 히드록실기를 갖지 않는 다관능 중합성 화합물, 혹은 분자 중에 히드록실기를 갖는 중합성 화합물(혼합물은 전체로서)은 1 분자 중 히드록실기수를 분자량으로 나누어서 100배한 히드록실기 함유율이 0.2 이하인 다관능 중합성 화합물로, 관능기수 3 내지 9, 분자량 300 내지 1000의 화합물을 사용한다. 저굴절률층(2) 아래에 기능층, 예를 들어 하드 코트층(3) 등이 있어도 좋다.
The present invention relates to an antireflection film having anti-saponification property and capable of maintaining functions such as antireflection property, antiscratching property and antifouling property by preventing the function of the low refractive index layer from being impaired even by saponification treatment, a polarizing plate using the same, Device.
The antireflection film (10) of the present invention is an antireflection film (2) which is composed of an ionizing radiation curable resin containing hollow silica particles formed on a transparent base film (1) of triacetyl cellulose, A multifunctional polymerizable compound having no hydroxyl group in the molecule or a polymerizable compound having a hydroxyl group in the molecule (as a whole) in the polymerizable compound of the resin is obtained by dividing the number of hydroxyl groups in one molecule by the molecular weight A compound having a functional group number of 3 to 9 and a molecular weight of 300 to 1000 is used as the multifunctional polymerizable compound having a hydroxyl group content of 100 or less. A functional layer such as a hard coat layer 3 may be provided under the low refractive index layer 2.

Description

반사 방지 필름, 편광판 및 화상 표시 장치 {ANTIREFLECTION FILM, POLARIZING PLATE AND IMAGE DISPLAY DEVICE}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to an antireflection film, a polarizing plate,

본 발명은 반사 방지 필름, 편광판 및 화상 표시 장치에 관한 것이다. 특히, 알칼리 수용액에 의한 비누화 처리시의 성능 저하를 막을 수 있는 내비누화성을 갖는 반사 방지 필름과, 이를 사용한 편광판 및 화상 표시 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an antireflection film, a polarizing plate and an image display device. In particular, the present invention relates to an antireflection film having an anti-saponification property capable of preventing performance deterioration during saponification treatment with an aqueous alkali solution, a polarizing plate using the same, and an image display device.

액정 디스플레이, 플라즈마 디스플레이, 일렉트로루미네슨스 디스플레이, 터치 패널, 전자 페이퍼, 태블릿 PC 등의 화상 표시 장치에서는, 통상 화상 표시면의 흠집 발생, 오염, 광 반사 등을 방지하기 위한 광학 필름이 화상 표시면에 형성되어 있다. 예를 들어, 반사 방지 필름으로는, 투명 기재 필름 상에 전리방사선 경화성 수지에 저굴절률화제로서 중공형 실리카 입자를 첨가한 수지 조성물을 도포해서 저굴절률층을 형성한 광학 필름이 알려져 있다(일본 특허 공개 제2010-85983호 공보(특허문헌 1) 참조).In an image display apparatus such as a liquid crystal display, a plasma display, an electroluminescence display, a touch panel, an electronic paper, and a tablet PC, an optical film for preventing flaws, contamination, As shown in Fig. For example, as an antireflection film, there is known an optical film in which a low refractive index layer is formed by applying a resin composition obtained by adding hollow silica particles as a low refractive index agent to an ionizing radiation curable resin on a transparent base film Open Publication No. 2010-85983 (Patent Document 1)).

반사 방지 필름에는, 저굴절률층의 수지에 전리방사선 경화성 수지를 채용함으로써, 광 반사 방지 성능 이외에 내찰상성, 방오성도 부여할 수 있다. 또한, 저굴절률층과 투명 기재 필름 사이에, 하드 코트층을 형성하면 내찰상성을 보다 강화시킬 수 있다(상기 특허문헌 1 참조).By using an ionizing radiation curable resin in the resin of the low refractive index layer, antireflection and antifouling properties can be imparted to the antireflection film in addition to antireflection performance. Further, when the hard coat layer is formed between the low refractive index layer and the transparent base film, the scratch resistance can be further enhanced (see Patent Document 1).

또한, 액정 디스플레이에 있어서는, 액정 셀에 대하여 통상 편광판이 형성되어 있다. 편광판은, 통상 요오드를 흡착하여 배향 처리한 폴리비닐알코올 필름으로 이루어지는 편광자에 대하여, 그의 양면을 보호 필름으로 적층한 구성이다. 또한 보호 필름에는, 투명성, 광학적 무배향성 등의 점에서 통상 트리아세틸셀룰로오스 필름이 사용되고 있고, 편광자와의 밀착성을 높이기 위해 알칼리 수용액으로 표면을 비누화 처리한 후 편광자와 적층하고 있다.In a liquid crystal display, a polarizing plate is usually formed on a liquid crystal cell. The polarizing plate is constituted by laminating both sides of a polarizer made of a polyvinyl alcohol film, in which iodine is adsorbed and oriented, with a protective film. In addition, a triacetyl cellulose film is usually used in view of transparency, optical orientation and the like. The surface of the protective film is saponified with an aqueous alkaline solution in order to improve adhesion with the polarizer, and then laminated with a polarizer.

그런데, 화상 표시 장치에 있어서는 박형화는 성능에 있어서의 중요한 하나의 요소로, 광학 필름에 있어서도 박형화에 대한 대응이 요망되고 있다. 이로 인해, 편광판 이외에 반사 방지 필름을 더 형성하는 대신에, 편광판의 보호 필름에 반사 방지 필름을 사용하여 편광자에 반사 방지 필름을 적층하고, 편광판과 반사 방지 필름을 일체화한 편광판으로 하면, 그만큼 얇게 할 수 있게 된다. 또한, 편광자에 적층하는 보호 필름은, 편광자와의 밀착성 측면에서 접착 용이화 처리로서 알칼리 수용액에 의한 비누화 처리가 필요한 것으로 되어 있다.However, in the image display apparatus, thinning is an important factor in performance, and it is desired to respond to the thinning of optical films. Therefore, instead of forming an antireflection film in addition to the polarizing plate, an antireflection film is laminated on the protective film of the polarizing plate by using an antireflection film, and a polarizing plate in which the antireflection film and the polarizing plate are integrated is thinned . Further, the protective film laminated on the polarizer is required to be subjected to a saponification treatment with an aqueous alkaline solution as an adhesion facilitating treatment in terms of adhesion with a polarizer.

그러나, 저굴절률층을 갖는 반사 방지 필름을 비누화 처리하면, 저굴절률층 중 저굴절률화제가 탈락하거나 저굴절률층을 구성하는 수지가 용해되거나 누락되어, 내찰상성이나 방오성이 손상되는 경우가 있었다.However, when the antireflection film having a low refractive index layer is subjected to saponification treatment, the low refractive index agent in the low refractive index layer may fall off, or the resin constituting the low refractive index layer may be dissolved or omitted, and scratch resistance and antifouling property may be impaired.

이 내비누화성을 갖게 하기 위해, 상기 저굴절률층 위에 일시적으로 내비누화용 보호 필름을 부착하는 일도 행해지고 있지만, 비용 상승의 문제가 있었다.In order to have the saponification property, the saponification protective film is temporarily adhered onto the low refractive index layer, but there is a problem of an increase in cost.

따라서, 본 발명의 과제는, 내비누화용 보호 필름을 부착하지 않고 알칼리 수용액에 의해 비누화 처리를 해도, 저굴절률층의 기능이 손상되지 않도록 하여, 반사 방지성, 내찰상성, 방오성 등의 기능을 유지할 수 있는 내비누화성을 갖는 반사 방지 필름을 제공하는 것이다.Accordingly, it is an object of the present invention to provide an anti-saponification protective film which can prevent the function of the low refractive index layer from being deteriorated even if a saponification treatment is carried out with an aqueous alkali solution without attaching the saponification protective film to maintain the functions of antireflection property, scratch resistance and antifouling property And to provide an anti-reflection film having anti-saponification property.

또한, 이와 같은 반사 방지 필름을 사용한 편광판 및 화상 표시 장치를 제공하는 것이다. 또한, 본원에서 내찰상성 기능을 유지한다는 것은, 저굴절률층의 표면 경도 유지를 의미할 뿐 아니라, 저굴절률층과 그의 하층과의 계면 밀착성을 양호하게 유지할 수 있는 것을 말한다.Another object of the present invention is to provide a polarizing plate and an image display device using such an antireflection film. In addition, maintaining the scratch resistance function in the present invention means not only maintaining the surface hardness of the low refractive index layer but also maintaining good interfacial adhesion between the low refractive index layer and its underlying layer.

본 발명은 다음 구성의 반사 방지 필름, 편광판 및 화상 표시 장치로 하였다.The present invention provides an antireflection film, a polarizing plate and an image display device having the following constitutions.

(1) 트리아세틸셀룰로오스로 이루어지는 투명 기재 필름과, 상기 투명 기재 필름의 한쪽면 상에 형성되고 전리방사선 경화성 수지의 경화물층으로 이루어지며 중공형 실리카 입자를 함유하고 적층되는 하층보다 낮은 굴절률을 갖는 저굴절률층을 구비하는 반사 방지 필름으로서, (1) A transparent substrate film comprising triacetylcellulose, a transparent base material film formed on one side of the transparent base film and comprising a cured layer of an ionizing radiation curable resin and containing hollow silica particles and having a lower refractive index An antireflection film comprising a low refractive index layer,

상기 전리방사선 경화성 수지에 포함되는 중합성 화합물이The polymerizable compound contained in the ionizing radiation curable resin

(A) 분자 중에 히드록실기를 갖지 않는 다관능 중합성 화합물,(A) a multifunctional polymerizable compound having no hydroxyl group in the molecule,

(B) 분자 중에 히드록실기를 갖는 중합성 화합물인 경우에는, 1 분자 중에 포함되는 히드록실기의 수를 분자량으로 나누어서 100배한 값으로서 정의되는 히드록실기 함유율이 0.2 이하인 다관능 중합성 화합물, (B) a polymerizable compound having a hydroxyl group in the molecule, a multifunctional polymerizable compound having a hydroxyl group content defined as a value obtained by dividing the number of hydroxyl groups contained in one molecule by the molecular weight by 100,

(C) 복수 종류로, 분자 중에 히드록실기를 갖는 중합성 화합물을 1종 이상 포함하는 경우에는, 이 복수 종류의 중합성 화합물을 임의의 질량비로 포함하는 수지 조성물에 대해서, 이 수지 조성물 중 전체 중합성 화합물을 하나의 분자로 간주하고, 이 하나의 분자의 분자량으로 상기 전체 중합성 화합물의 중량 평균 분자량을 사용했을 때의 상기 히드록실기 함유율이 0.2 이하인 다관능 중합성 화합물(C) When the resin composition contains a plurality of kinds of polymerizable compounds having a hydroxyl group in the molecule, the resin composition containing the plural kinds of polymerizable compounds at an arbitrary mass ratio may be used. When the polymerizable compound is regarded as one molecule and the weight average molecular weight of the whole polymerizable compound is used as the molecular weight of the single polymer, the ratio of the hydroxyl group content of the multifunctional polymerizable compound

중 어느 하나이며,Lt; / RTI >

상기 (A), (B), (C)에 있어서의 다관능 중합성 화합물의 관능기수가 3 내지 9이고 분자량이 300 내지 1000인 반사 방지 필름.Wherein the number of functional groups of the polyfunctional polymerizable compound in (A), (B) and (C) is from 3 to 9 and the molecular weight is from 300 to 1000.

(2) 상기 (1)에 있어서, 투명 기재 필름과 저굴절률층 사이에 형성된 기능층을 더 갖는 반사 방지 필름. (2) The antireflection film as described in (1) above, further comprising a functional layer formed between the transparent base film and the low refractive index layer.

(3) 상기 (1) 또는 (2)에 기재된 반사 방지 필름과, 상기 반사 방지 필름에 있어서의 투명 기재 필름측의 면에 적층된 편광자를 구비하는 편광판. (3) A polarizer comprising the antireflection film described in (1) or (2) above and a polarizer laminated on the surface of the antireflection film on the side of the transparent base film.

(4) 상기 (1) 또는 (2)에 기재된 반사 방지 필름, 또는 상기 (3)에 기재된 편광판을 구비하는 화상 표시 장치.(4) An image display device comprising the antireflection film described in (1) or (2) or the polarizing plate described in (3) above.

(1) 본 발명에 의한 반사 방지 필름에 의하면, 비누화 처리에 대하여 반사 방지성, 내찰상성(표면 경도와, 저굴절률층과 그의 아래의 층간의 밀착성), 방오성 및 내백화성이 손상되지 않는 내비누화성을 갖는다.(1) According to the antireflection film of the present invention, the anti-reflection property, the anti-scratch property (surface hardness and adhesion between the low refractive index layer and the lower layer thereof), the antiseptic property and the whitening resistance are not impaired in the saponification treatment It has Mars.

(2) 본 발명에 의한 편광판에 의하면, 그것이 구비하는 반사 방지 필름에 의해 반사 방지성, 내찰상성(표면 경도와, 저굴절률층과 그의 아래의 층간의 밀착성), 방오성 및 내백화성을 갖는다.(2) The polarizing plate according to the present invention has anti-reflection properties, scratch resistance (surface hardness, adhesion between the low refractive index layer and its lower layer), antifouling property and whitening resistance by the antireflection film.

(3) 본 발명에 의한 화상 표시 장치에 의하면, 화상 표시면에 반사 방지성, 내찰상성(표면 경도와, 저굴절률층과 그의 아래의 층간의 밀착성), 방오성 및 내백화성을 부여할 수 있다.(3) According to the image display apparatus of the present invention, the image display surface can be provided with antireflective property, scratch resistance (surface hardness, adhesion between the low refractive index layer and the lower layer thereof), antifouling property and whitening resistance.

도 1은 본 발명에 의한 반사 방지 필름의 한 실시 형태를 설명하는 단면도이다.
도 2는 본 발명에 의한 편광판의 한 실시 형태를 설명하는 단면도이다.
1 is a cross-sectional view for explaining an embodiment of an antireflection film according to the present invention.
2 is a cross-sectional view illustrating one embodiment of a polarizing plate according to the present invention.

이하, 본 발명의 실시 형태를 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described.

A. 반사 방지 필름 A. Antireflection Film

본 발명에 의한 반사 방지 필름은, 트리아세틸셀룰로오스로 이루어지는 투명 기재 필름과, 상기 투명 기재 필름의 한쪽면에 형성되어, 전리방사선 경화성 수지의 경화물층으로 이루어지고, 중공형 실리카 입자를 함유하면서, 상기 투명 기재 필름의 굴절률보다도 낮은 굴절률을 갖는 저굴절률층을 구비하는 반사 방지 필름이다. 게다가 본 발명에서는, 상기 전리방사선 경화성 수지는 히드록실기가 분자 중에 소정량보다 적은 다관능 중합성 화합물을 포함하는 수지 조성물로 이루어진다.An antireflection film according to the present invention is a film comprising a transparent base film made of triacetyl cellulose and an antireflection film formed on one side of the transparent base film and composed of a cured layer of an ionizing radiation curable resin, And a low refractive index layer having a refractive index lower than that of the transparent base film. In addition, in the present invention, the ionizing radiation curable resin is composed of a resin composition containing a multifunctional polymerizable compound having a hydroxyl group in a molecule of less than a predetermined amount.

또한, 본 발명의 반사 방지 필름은, 저굴절률층과 투명 기재 필름 사이에 하드 코트층을 형성하는 것이 내찰상성을 보다 강화시킬 수 있다는 점에서 바람직하다. 여기서, 도 1은 본 발명에 의한 반사 방지 필름의 한 형태예를 도시하는 단면도이다. 동일한 도면의 반사 방지 필름(10)은, 투명 기재 필름(1)의 편면에, 저굴절률층(2)이 하드 코트층(3)을 개재해서 형성된 형태의 광학 필름이다. 하드 코트층(3)은 전리방사선 경화성 수지의 경화물층으로 이루어진다.Further, the antireflection film of the present invention is preferable in that a hard coat layer is formed between the low refractive index layer and the transparent base film in order to further enhance scratch resistance. Here, FIG. 1 is a sectional view showing an example of an anti-reflection film according to the present invention. The antireflection film 10 in the same drawing is an optical film in the form in which the low refractive index layer 2 is formed on one side of the transparent base film 1 with the hard coat layer 3 interposed therebetween. The hard coat layer 3 is composed of a cured layer of an ionizing radiation curable resin.

이하, 각 층마다 설명한다.Hereinafter, each layer will be described.

또한, 본 명세서에서는 (메트)아크릴로일기란 아크릴로일기 또는 메타크릴로일기를 의미하고, (메트)아크릴레이트란 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트를 의미하고, 간단히 아크릴레이트계라 할 때는 메타크릴레이트계도 포함한다.(Meth) acryloyl group means acryloyl group or methacryloyl group, (meth) acrylate means acrylate or methacrylate, and when it is simply acrylate, methacrylate group .

〔투명 기재 필름〕 [Transparent substrate film]

투명 기재 필름(1)은 트리아세틸셀룰로오스로 이루어지는 투명한 필름이다. 트리아세틸셀룰로오스 필름(TAC 필름)을 투명 기재 필름에 사용함으로써 우수한 투명성과, 액정 디스플레이 용도의 편광판의 보호 필름으로서 적합한 우수한 광학적 등방성이 얻어진다. 이로 인해, TAC 필름을 사용함으로써 액정 디스플레이 용도에 있어서 편광판과 함께 사용하거나, 편광판의 보호 필름으로서 사용할 때에 바람직한 광학 특성이 얻어진다.The transparent base film (1) is a transparent film made of triacetylcellulose. By using a triacetylcellulose film (TAC film) for a transparent base film, excellent transparency and excellent optical isotropy suitable as a protective film of a polarizing plate for liquid crystal displays can be obtained. Thus, by using the TAC film, it is possible to obtain favorable optical characteristics when used with a polarizing plate in a liquid crystal display or when used as a protective film of a polarizing plate.

투명 기재 필름의 투명성이란, 가시광 영역 380 내지 780nm에 있어서, 평균 광투과율이 적어도 70% 이상이며, 바람직하게는 85% 이상, 보다 바람직하게는 90% 이상인 것이 바람직하다. 투명 기재 필름의 굴절률은 트리아세틸셀룰로오스 필름의 경우, 약 1.49이다.The transparency of the transparent base film is preferably at least 70%, preferably at least 85%, more preferably at least 90% of the average light transmittance in the visible light region of 380 to 780 nm. The refractive index of the transparent base film is about 1.49 in the case of the triacetylcellulose film.

투명 기재 필름의 두께는, 통상 20 ㎛ 내지 300 ㎛, 바람직하게는 30 ㎛ 내지 200 ㎛이다.The thickness of the transparent base film is usually 20 m to 300 m, preferably 30 m to 200 m.

투명 기재 필름(1)을 구성하는 상기 트리아세틸셀룰로오스로는, 순수한 트리아세틸셀룰로오스 이외에, 셀룰로오스아세테이트프로피오네이트, 셀룰로오스아세테이트부티레이트처럼 셀룰로오스와 에스테르를 형성하는 지방산으로서 아세트산 이외의 성분을 병용한 수지여도 좋다. 투명 기재 필름에는, 필요에 따라 디아세틸셀룰로오스 등의 트리아세틸셀룰로오스 이외의 셀룰로오스 저급 지방산 에스테르계 수지를 포함하고 있어도 좋다.As the triacetyl cellulose constituting the transparent base film (1), a resin other than acetic acid may be used as a fatty acid which forms an ester with cellulose such as cellulose acetate propionate and cellulose acetate butyrate in addition to pure triacetyl cellulose . The transparent base film may contain cellulose lower fatty acid ester resin other than triacetyl cellulose, such as diacetyl cellulose, if necessary.

투명 기재 필름(1)은 가소제, 대전 방지제, 자외선 흡수제 등의 각종 첨가제를 포함하고 있어도 좋다. 투명 기재 필름(1)은, 필요에 따라, 예를 들어 글로우 방전 처리, 코로나 방전 처리, 자외선(UV) 처리, 화염 처리, 프라이머층 형성 등의 밀착 강화를 위한 표면 처리가 실시된 것이어도 좋다.The transparent base film (1) may contain various additives such as a plasticizer, an antistatic agent, and an ultraviolet absorber. The transparent base film 1 may be subjected to surface treatment for adhesion enhancement such as glow discharge treatment, corona discharge treatment, ultraviolet (UV) treatment, flame treatment, primer layer formation or the like, if necessary.

〔저굴절률층〕 [Low refractive index layer]

저굴절률층(2)은 저굴절률화제를 함유하는 수지의 경화물층으로 이루어지고, 저굴절률층이 직접 적층되는 바로 아래층보다도 굴절률이 낮은 것으로, 광 반사를 방지한다. 저굴절률층의 굴절률은, 바로 아래층의 굴절률 미만이지만, 저굴절률층과 그 바로 아래층과의 굴절률차는 0.02 내지 0.3이고, 보다 바람직하게는 0.05 내지 0.2인 것이 바람직하다.The low refractive index layer 2 is made of a cured layer of a resin containing a low refractive index agent and has a refractive index lower than that directly below the low refractive index layer. The refractive index of the low refractive index layer is less than the refractive index of the immediately lower layer. However, the refractive index difference between the low refractive index layer and the immediate lower layer is preferably 0.02 to 0.3, more preferably 0.05 to 0.2.

저굴절률층의 굴절률 자체는 1.45 이하가 충분한 반사 방지성이 얻어진다는 점에서 바람직하고, 보다 바람직하게는 1.40 이하, 더욱 바람직하게는 1.38 이하이다.The refractive index of the low refractive index layer is preferably 1.45 or less from the viewpoint of obtaining sufficient antireflection property, more preferably 1.40 or less, further preferably 1.38 or less.

저굴절률층(2)은 전리방사선 경화성 수지의 경화물층으로 이루어지고, 저굴절률화제로서 중공형 실리카 입자를 함유하고, 게다가 상기 전리방사선 경화성 수지는 히드록실기가 분자 중에 소정량보다 적은 다관능 중합성 화합물을 포함하는 수지 조성물의 경화물로 이루어지는 층이다. 전리방사선 경화성 수지는 중공형 실리카 입자에 대한 결합제 수지가 됨과 함께, 저굴절률층의 내찰상성을 향상시킨다. 이 전리방사선 경화성 수지에, 히드록실기가 분자 중에 소정량보다 적은 중합성 화합물을 사용함으로써 내비누화성이 얻어지고, 또한 저굴절률층에 전리방사선 경화성 수지를 사용하면서, 또한 다관능의 중합성 화합물을 사용함으로써 저굴절률층의 도막 강도를 강화시켜서 내찰상성이 얻어진다. 또한, 중공형 실리카 입자란, 예를 들어 외각을 갖고, 그 내부가 다공질 또는 공동이 되어 있는 미립자이며, 일본 특허 공개 (평)6-330606호 공보, 일본 특허 공개 (평)7-013137호 공보, 일본 특허 공개 (평)7-133105호 공보, 일본 특허 공개 제2001-233611호 공보 등에 기재된 다양한 제법으로 얻을 수 있다.The low refractive index layer (2) is composed of a cured layer of an ionizing radiation curable resin, and contains hollow silica particles as a low refractive index agent. Further, the ionizing radiation curable resin has a polyfunctional And a cured product of a resin composition containing a polymerizable compound. The ionizing radiation curable resin becomes a binder resin for the hollow silica particles and improves the scratch resistance of the low refractive index layer. The present radiation-curable resin is obtained by using a polymerizable compound having a hydroxyl group of less than a predetermined amount in a molecule to obtain saponification resistance, while using an ionizing radiation curable resin in the low refractive index layer, Refractive index layer is strengthened, scratch resistance is obtained. The hollow silica particles are, for example, fine particles having an outer shell and being porous or hollow in the inside thereof, as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-330606, Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-013137 , JP-A 7-133105, JP-A 2001-233611, and the like.

저굴절률층의 두께는 50 내지 150nm, 바람직하게는 80 내지 120nm이다.The thickness of the low refractive index layer is 50 to 150 nm, preferably 80 to 120 nm.

[전리방사선 경화성 수지] [Ionizing radiation curable resin]

상기 전리방사선 경화성 수지는, 자외선 및 전자선으로 대표되는 전리방사선에 의해 경화하는 수지이며, 전리방사선으로 중합 가능한 중합성 관능기를 갖는 단량체, 예비 중합체(올리고머 포함) 등의 중합성 화합물의 1종 또는 2종 이상을 적어도 갖는 수지 조성물이다. 전리방사선으로 중합 가능한 중합성 관능기의 대표예는 중합성 불포화기이며, 중합성 불포화기는 예를 들어, (메트)아크릴로일기, 비닐기, 알릴기 등의 라디칼 중합성의 에틸렌성 이중 결합을 갖는 기이다. 그 중에서도, (메트)아크릴로일기가 본 발명에는 바람직하게 사용할 수 있으며, 각종 아크릴레이트계의 전리방사선 경화성 수지가 알려져 있다.The ionizing radiation curable resin is a resin which is cured by ionizing radiation typified by ultraviolet rays and electron beams and is one or two kinds of polymerizable compounds such as a monomer having a polymerizable functional group capable of being polymerized by ionizing radiation and a prepolymer Or more. Representative examples of the polymerizable functional group capable of polymerization by ionizing radiation include polymerizable unsaturated groups, and the polymerizable unsaturated group includes, for example, a group having a radically polymerizable ethylenic double bond such as a (meth) acryloyl group, a vinyl group, to be. Among them, (meth) acryloyl groups can be preferably used in the present invention, and various acrylate ionizing radiation curable resins are known.

중합성 화합물로는, 내찰상성(표면 경도, 계면 밀착성) 면에서, 2관능 이상의 다관능 중합성 화합물이 바람직하고, 보다 바람직하게는 3관능 이상이고 9관능 이하의 다관능 중합성 화합물이 바람직하다.The polymerizable compound is preferably a bifunctional or higher polyfunctional polymerizable compound in terms of scratch resistance (surface hardness, interface adhesion), more preferably a multifunctional polymerizable compound having three or more functions and a functionality of nine or less .

다관능 중합성 화합물 중에서도 히드록실기를 분자 중에 갖지 않는 것이면 내비누화성이 얻어지고, 히드록실기를 분자 중에 갖는 화합물이면 내비누화성이 얻어지지 않는다. 그 이유로는, 히드록실기는 알칼리 수용액과 친화성이 좋고, 전리방사선에 의해 경화한 후에 형성된 삼차원의 가교 구조 내의 히드록실기에 알칼리 수용액이 어택함으로써, 가교 구조를 파괴해 버리기 때문으로 추측된다. 또한, 비누화액에 사용하는 수산화나트륨이 수용액 내에서 해리된 나트륨 이온이 매우 작기 때문에, 가교 구조 내에 침투되기 쉽기 때문인 것으로 추측된다.Of the multifunctional polymerizable compounds, those having no hydroxyl group in the molecule have saponification resistance and those having a hydroxyl group in the molecule can not obtain saponification resistance. The reason for this is presumably because the hydroxyl group has good affinity with the aqueous alkaline solution and destroys the crosslinked structure by attacking the alkali aqueous solution in the hydroxyl group in the three-dimensional crosslinked structure formed after curing by ionizing radiation. Further, it is presumed that the sodium hydroxide used in the saponification solution is easily infiltrated into the crosslinked structure because the sodium ion dissociated in the aqueous solution is very small.

여기서, 양호한 내비누화성이 얻어지는, 히드록실기를 분자 중에 갖지 않는 다관능 중합성 화합물의 한 구체예와, 내비누화성이 얻어지지 않는 히드록실기를 분자 중에 갖는 다관능 중합성 화합물의 한 구체예를 나타낸다.Here, a specific example of the multifunctional polymerizable compound having no hydroxyl group in the molecule and a specific example of the multifunctional polymerizable compound having a hydroxyl group in which the internal saponification property can not be obtained, in which good saponification property can be obtained, For example.

양호한 내비누화성이 얻어지는, 히드록실기를 분자 중에 갖지 않는 다관능 중합성 화합물의 구체예를 나타내면, 하기 화학식 1로 표시되는, 중합성 관능기로서 아크릴로일기를 3개 갖는 트리메틸올프로판트리아크릴레이트(TMPTA)를 들 수 있다. 화학식 1 중, Ac는 아크릴로일기이다.Specific examples of the multifunctional polymerizable compound having no hydroxyl group in the molecule and having good internal saponification properties include trimethylolpropane triacrylate having three acryloyl groups as a polymerizable functional group represented by the following formula (TMPTA). In the formula (1), Ac is an acryloyl group.

Figure 112012090854902-pat00001
Figure 112012090854902-pat00001

그러나, 상기 화학식 1로 표시되는 트리메틸올프로판트리아크릴레이트(TMPTA)에 대하여, 중합성 관능기로서 아크릴로일기는 3개 갖지만, 말단의 메틸기가 히드록실기로 치환되어, 총 1개의 히드록실기를 갖는 하기 화학식 2로 표시되는 펜타에리트리톨트리아크릴레이트(PETA)에서는 내비누화성이 얻어지지 않는다. 화학식 2 중, Ac는 아크릴로일기다. 이것이 내비누화성이 얻어지지 않는 히드록실기를 분자 중에 갖는 다관능 중합성 화합물의 구체예이다.However, in the case of trimethylolpropane triacrylate (TMPTA) represented by the general formula (1), three acryloyl groups as polymerizable functional groups are present, but the terminal methyl group is substituted with a hydroxyl group, (PETA) represented by the following formula (2) is not able to obtain saponification resistance. In the formula (2), Ac is an acryloyl group. This is a specific example of a multifunctional polymerizable compound having in its molecule a hydroxyl group in which no saponification property can be obtained.

Figure 112012090854902-pat00002
Figure 112012090854902-pat00002

또한 양호한 내비누화성이 얻어지는 히드록실기를 분자 중에 갖지 않는 다관능 중합성 화합물의 예로서, 아크릴레이트계의 전리방사선 경화성 수지의 다관능 단량체로 예시하면, 2관능의 중합성 화합물로는 헥산디올디(메트)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메트)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.As an example of a multifunctional monomer of an acrylate-based ionizing radiation curable resin, as an example of a multifunctional polymerizable compound having no hydroxyl group in the molecule to obtain good anti-saponification property, the bifunctional polymerizable compound includes hexanediol Acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate and the like .

3관능의 중합성 화합물로는, 상기 예시한 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트(약칭 TMPTA) 이외에, 이소시아누르산 변성 트리(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있고, 4관능의 중합성 화합물로는 펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판테트라아크릴레이트를 들 수 있고, 6관능의 중합성 화합물로는 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트(약칭 DPHA)를 들 수 있고, 7관능 이상의 중합성 화합물로는 V802(DPHA의 다량체, 오사까 유끼 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 제조) 등이 있다.Examples of the trifunctional polymerizable compound include trimethylolpropane tri (meth) acrylate (abbreviated as TMPTA), isocyanuric acid-modified tri (meth) acrylate, and the like, and the tetrafunctional polymerizable compound (Meth) acrylate and ditrimethylolpropane tetraacrylate. Examples of the hexafunctional polymerizable compound include dipentaerythritol hexa (meth) acrylate (abbreviated as DPHA) , And V802 (a polymer of DPHA, manufactured by Osaka Kikinagaku Kogyo Co., Ltd.) as the polymerizable compound having seven or more functionalities.

히드록실기를 분자 중에 갖지 않는 다관능 중합성 화합물의 예로서, 아크릴레이트계의 전리방사선 경화성 수지의 다관능 예비 중합체로 예시하면, 폴리에스테르계, 폴리에테르계, 우레탄계, 에폭시계, 실리콘계 등의 각종 아크릴레이트계 예비 중합체를 들 수 있다.Examples of the multifunctional prepolymer of an acrylate-based ionizing radiation-curable resin include polyesters, polyethers, urethanes, epoxies, and silicones, which are examples of polyfunctional polymerizable compounds having no hydroxyl group in the molecule And various acrylate prepolymers.

히드록실기를 분자 중에 갖지 않는 다관능 중합성 화합물의 예로서, 시판품을 들면, NK 에스테르(디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라아크릴레이트, 디트리메틸올프로판테트라아크릴레이트, 신나까무라 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 제조) 등이 있다.Examples of polyfunctional polymerizable compounds having no hydroxyl group in the molecule include NK esters (dipentaerythritol hexaacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, Shinnakamura) Manufactured by Kagaku Kogyo Co., Ltd.).

상기 히드록실기를 분자 중에 갖지 않는 다관능 중합성 화합물의 예 중에서, 본 발명에 바람직하게 사용할 수 있는 화합물로는 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트를 들 수 있다. 이 화합물은 비누화 처리에 대하여 특히 우수한 내찰상성을 나타낸다.Among the examples of the multifunctional polymerizable compound having no hydroxyl group in the molecule, trimethylolpropane tri (meth) acrylate is preferably used as the compound that can be preferably used in the present invention. This compound exhibits particularly excellent scratch resistance for the saponification treatment.

(히드록실기를 분자 중에 갖는 중합성 화합물의 사용) (Use of a polymerizable compound having a hydroxyl group in its molecule)

저굴절률층(2)의 형성에 사용하는 전리방사선 경화성 수지의 수지 조성물로는, 그의 중합성 화합물로서 히드록실기를 분자 중에 갖지 않는 다관능 중합성 화합물만으로 이루어지는 것이 내비누화성 측면에서 가장 바람직하다. 단, 내비누화성을 손상시키지 않는 범위 내이면, 내찰상성, 도포 시공 적성 등의 물성 조정 등을 위해, 히드록실기를 분자 중에 갖는 중합성 화합물을 사용할 수 있다. 이 경우, 내찰상성 측면에서, 히드록실기를 분자 중에 갖는 중합성 화합물로는 다관능 중합성 화합물이 바람직하다.As the resin composition of the ionizing radiation curable resin used for forming the low refractive index layer 2, it is most preferable that the polymerizable compound is composed of only the polyfunctional polymerizable compound having no hydroxyl group in the molecule . However, if it is within such a range as not to impair the saponification property, a polymerizable compound having a hydroxyl group in its molecule can be used for adjusting physical properties such as scratch resistance and application suitability. In this case, from the viewpoint of scratch resistance, a multifunctional polymerizable compound is preferable as the polymerizable compound having a hydroxyl group in the molecule.

히드록실기를 분자 중에 갖는 다관능 중합성 화합물의 예로서, 아크릴레이트계의 전리방사선 경화성 수지의 다관능 단량체로 예시하면, 분자 중에 1개의 히드록실기를 갖는 다관능 단량체로는, 트리메틸올프로판디(메트)아크릴레이트(약칭 TMPDA), 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트(약칭 PETA), 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트(약칭 DPPA) 등을 들 수 있고, 분자 중에 2개의 히드록실기를 갖는 다관능 단량체로는 디펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트(약칭 DPTA)를 들 수 있다.Examples of polyfunctional polymerizable compounds having a hydroxyl group in the molecule include polyfunctional monomers of an acrylate-based ionizing radiation curable resin. Examples of polyfunctional monomers having one hydroxyl group in the molecule include trimethylolpropane Acrylate (abbreviated as TMPDA), pentaerythritol tri (meth) acrylate (abbreviated as PETA) and dipentaerythritol penta (meth) acrylate (abbreviated as DPPA) Examples of the polyfunctional monomer having a carboxyl group include dipentaerythritol tetra (meth) acrylate (abbreviated as DPTA).

이와 같이 히드록실기를 분자 중에 갖는 다관능 중합성 화합물의 경우, 히드록실기가 분자 중에 차지하는 비율이 큰 것은 내비누화성 측면에서 바람직하지 않다. 가능한 한 저굴절률층을 형성하는 전리방사선 경화성 수지의 수지 조성물의 전량 중에 있어서의 히드록실기의 비율이 적은 쪽이, 보다 확실하게 내비누화성을 양호하게 할 수 있다는 점에서 바람직하다.In the case of the multifunctional polymerizable compound having a hydroxyl group in the molecule, a large proportion of the hydroxyl group in the molecule is not preferable from the viewpoint of the saponification resistance. It is preferable that the proportion of the hydroxyl group in the total amount of the resin composition of the ionizing radiation curing resin forming the low refractive index layer is as small as possible because the saponification resistance can be more surely improved.

(히드록실기 함유율) (Hydroxyl group content)

따라서, 본 발명에서는 히드록실기를 분자 중에 갖는 다관능 중합성 화합물의 경우, 히드록실기가 분자 중에 차지하는 비율의 지표로서, 1 분자 중에 포함되는 히드록실기(OH기)의 수를 분자량으로 나누어서 100배한 값을 「히드록실기 함유율」로서 정의한다. 여기서 히드록실기 함유율의 구체예를 나타내면, 상기 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트(약칭 PETA)는, OH기수 1 및 분자량 298이므로, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트의 히드록실기 함유율은 0.33이며, 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트(약칭 DPPA)는, OH기수 1 및 분자량 약 550이므로, 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트의 히드록실기 함유율은 0.18이다. 또한, 일반적으로 TMPTA, PETA, DPHA, DPPA 등의 화합물은, 완전히 구조식 그대로인 OH기수의 화합물이 아닌, 정확하게는 화합물 합성 중에 발생해 버려, 100% 제거할 수 없는 OH기가 구조식의 수와 상이한 분자도 약간 혼재되어 있지만, 본원에서 히드록실기 함유율을 산출하는 경우에는, 약간 혼재하는 것은 고려하지 않고, 구조식의 OH기수로 산출한다.Therefore, in the present invention, in the case of the multifunctional polymerizable compound having a hydroxyl group in the molecule, the number of hydroxyl groups (OH groups) contained in one molecule is divided by the molecular weight as an index of the proportion of the hydroxyl groups in the molecule The value obtained by multiplying 100 is defined as " hydroxyl group content ". As a specific example of the hydroxyl group content, the pentaerythritol tri (meth) acrylate (abbreviated as PETA) has an OH group number of 1 and a molecular weight of 298. Therefore, the hydroxyl group content of pentaerythritol tri (meth) 0.33, and the dipentaerythritol pentaacrylate (abbreviated as DPPA) has an OH number of 1 and a molecular weight of about 550, so that the hydroxyl group content of dipentaerythritol pentaacrylate is 0.18. In general, compounds such as TMPTA, PETA, DPHA, and DPPA are not completely OH-group compounds, but precisely occur during compound synthesis, so that the OH groups that can not be removed 100% However, in the case of calculating the hydroxyl group content in the present invention, the number of OH groups in the structural formula is calculated without taking into consideration a little.

히드록실기 함유율은 0.2 이하가 바람직하다. 다관능 중합성 화합물로서, 그 1 분자 중에 함유하는 히드록실기의 수가, 히드록실기 함유율로 0.2 이하인 화합물을 사용함으로써, 바람직한 내비누화성이 얻어진다.The hydroxyl group content is preferably 0.2 or less. As the polyfunctional polymerizable compound, a compound having a hydroxyl group content of 0.2 or less in the number of hydroxyl groups contained in one molecule is used, whereby the desired anti-saponification property is obtained.

히드록실기 함유율은 1 분자에 대한 지표이지만, 전리방사선 경화성 수지의 수지 조성물이 복수 종류의 중합성 화합물의 혼합물인 경우, 이들 복수 종류의 중합성 화합물의 전체로서, 히드록실기 함유율을 0.2 이하로 하는 것이 바람직하다. 또한, 중합성 화합물의 분자량이 단일이 아니라 분자량 분포를 갖는 경우에는, 상기 계산식 중 분자량에 중량 평균 분자량을 사용한다. 즉, 분자량 분포를 갖는 경우도 포함하여, 전리방사선 경화성 수지의 수지 조성물이 복수 종류의 중합성 화합물을 포함하는 경우에는, 이 수지 조성물에 포함되는 모든 중합성 화합물을 1개의 분자로 간주하여, 이 하나의 분자의 분자량으로 상기 모든 중합성 화합물의 중량 평균 분자량을 사용하고, 이 분자 중 히드록실기수로부터, 수지 조성물의 히드록실기 함유율을 계산한다. 히드록실기를 분자 중에 갖는 중합성 화합물과, 히드록실기를 분자 중에 갖지 않는 중합성 화합물을 포함하는 경우도 마찬가지이다. 예를 들어, 분자량 500의 중합성 화합물과 분자량 1000의 중합성 화합물을 질량비로 50:50으로 포함하고, 히드록실기를 한쪽 화합물이 1개 갖고, 다른쪽의 화합물이 갖지 않는 수지 조성물인 경우에는, 분자량 750의 화합물에 대하여 히드록실기가 1개 존재하는 것으로 해서, 히드록실기 함유율을 (1/750)×100=0.13으로 하여 계산한다.When the resin composition of the ionizing radiation curable resin is a mixture of plural kinds of polymerizable compounds, the content of the hydroxyl group is preferably 0.2 or less . When the molecular weight of the polymerizable compound is not a single but a molecular weight distribution, the weight average molecular weight is used for the molecular weight in the above formula. That is, in the case where the resin composition of the ionizing radiation curable resin includes a plurality of kinds of polymerizable compounds, including the case of having a molecular weight distribution, all of the polymerizable compounds contained in the resin composition are regarded as one molecule, The weight average molecular weight of all the above polymerizable compounds is used as the molecular weight of one molecule and the hydroxyl group content of the resin composition is calculated from the hydroxyl number of the molecules. The same applies to the case where a polymerizable compound having a hydroxyl group in the molecule and a polymerizable compound having no hydroxyl group in the molecule are included. For example, in the case of a resin composition containing a polymerizable compound having a molecular weight of 500 and a polymerizable compound having a molecular weight of 1000 in a mass ratio of 50:50 and having one hydroxyl group at one compound and no compound at the other , And the hydroxyl group content is calculated as (1/750) x 100 = 0.13, assuming that one hydroxyl group is present in the compound having the molecular weight of 750.

또한, 이러한 전리방사선 경화성 수지의 수지 조성물이 복수 종류의 중합성 화합물을 포함하는 경우의 다관능 중합성 화합물의 관능기수는, 상기한 히드록실기 함유율과 마찬가지로 하여 계산할 수 있다.The number of functional groups of the multifunctional polymerizable compound in the case where the resin composition of such an ionizing radiation curable resin contains plural kinds of polymerizable compounds can be calculated in the same manner as the above-mentioned hydroxyl group content.

히드록실기를 분자 중에 갖는 다관능 중합성 화합물이어도, 히드록실기 함유율이 0.2 이하이고, 바람직한 내비누화성이 얻어지는 화합물의 예시로서, 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트(DPPA) 및 디펜타에리트리톨펜타메타크릴레이트(DPPMA)가 본 발명에 있어서는 바람직하게 사용할 수 있다.Examples of the compound capable of obtaining the desired saponification resistance even when the multifunctional polymerizable compound having a hydroxyl group in the molecule has a hydroxyl group content of 0.2 or less include dipentaerythritol pentaacrylate (DPPA) and dipentaerythritol penta Methacrylate (DPPMA) is preferably used in the present invention.

저굴절률층(2)을 구성하는 전리방사선 경화성 수지의 경화물층을 형성하기 위한, 전리방사선 경화성 수지의 수지 조성물로는, 그 중합성 화합물로서 히드록실기를 분자 중에 갖지 않는 중합성 화합물로서, 다관능의 중합성 화합물이 바람직하지만, 물성 조정 등을 위해 단관능의 중합성 화합물을 병용해도 좋다.As the resin composition of the ionizing radiation curable resin for forming the cured layer of the ionizing radiation curable resin constituting the low refractive index layer (2), as the polymerizable compound, as the polymerizable compound having no hydroxyl group in the molecule, A multifunctional polymerizable compound is preferable, but a monofunctional polymerizable compound may be used in combination for physical property adjustment and the like.

예를 들어, 히드록실기를 분자 중에 갖지 않는 단관능의 중합성 화합물의 예로서, 아크릴레이트계의 전리방사선 경화성 수지의 단관능 단량체로 예시하면, 메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, 메틸헥실(메트)아크릴레이트, 에틸헥실(메트)아크릴레이트 등, 그 밖의 에틸렌성 중합성 화합물 등을 들 수 있다.Examples of the monofunctional monomer of an acrylate-based ionizing radiation curable resin include, for example, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate And other ethylenic polymerizable compounds such as methylhexyl (meth) acrylate, ethylhexyl (meth) acrylate, and the like.

(분자량) (Molecular Weight)

히드록실기를 갖지 않는 다관능 중합성 화합물 및 히드록실기를 갖는 다관능 중합성 화합물의 분자량은 2관능 이상, 보다 바람직하게는 3관능 이상의 다관능이라는 점에서 필연적으로 300 이상의 분자량이 바람직하다. 단, 분자량이 너무 크면, 50 내지 150nm라는 박막 조건하에서는, 층 내부 전체에서의 1 분자당 가교 반응 가능한 부분이 감소하게 되어 가교 밀도가 저하되고, 그 결과 내찰상성이 저하되므로, 최대라도 분자량은 1000 이하로 하는 것이 바람직하다. 이 때문에, 히드록실기를 갖지 않는 다관능 중합성 화합물 및 히드록실기를 갖는 다관능 중합성 화합물의 분자량은 300 내지 1000의 범위인 것을 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 분자량 분포를 갖는 중합성 화합물의 경우에는, 이 분자량이란 중량 평균 분자량의 의미이다.The molecular weight of the multifunctional polymerizable compound having no hydroxyl group and the multifunctional polymerizable compound having a hydroxyl group is preferably two or more, more preferably three or more, and is preferably 300 or more in molecular weight. If the molecular weight is too large, however, under the thin film condition of 50 to 150 nm, the cross-linkable portion per one molecule in the whole layer in the layer decreases and the crosslinking density is lowered. As a result, the scratch resistance is lowered. Or less. Therefore, it is preferable that the molecular weight of the multifunctional polymerizable compound having no hydroxyl group and the multifunctional polymerizable compound having hydroxyl group is in the range of 300 to 1000. In the case of a polymerizable compound having a molecular weight distribution, this molecular weight means the weight average molecular weight.

상기 중량 평균 분자량은, 겔 투과 크로마토그래피(GPC)에 의한 폴리스티렌 환산에 의해 구할 수 있다. GPC 이동상의 용제에는, 테트라히드로푸란이나 클로로포름을 사용할 수 있다. 측정용 칼럼은 테트라히드로푸란용 또는 클로로포름용 칼럼의 시판품 칼럼을 조합하여 사용하면 된다. 이 시판품 칼럼으로는, 예를 들어 Shodex(등록상표) GPC KF-801, GPC KF-800D(모두, 쇼와 덴꼬 가부시끼가이샤 제조) 등을 들 수 있다. 검출기에는 RI(시차 굴절률) 검출기 및 UV 검출기를 사용하면 된다. 이러한 용제, 칼럼, 검출기를 사용해서, 예를 들어 Shodex(등록상표) GPC-101(쇼와 덴꼬 가부시끼가이샤 제조) 등의 GPC 시스템에 의해 상기 중량 평균 분자량을 적절히 측정할 수 있다.The weight average molecular weight can be determined by polystyrene conversion by gel permeation chromatography (GPC). As the solvent for the GPC moving phase, tetrahydrofuran or chloroform may be used. For the measurement column, a commercially available column of tetrahydrofuran or chloroform column may be used in combination. Examples of commercially available columns include Shodex (registered trademark) GPC KF-801 and GPC KF-800D (both manufactured by Showa Denko K.K.). RI (differential refractive index) detector and UV detector may be used for the detector. The weight average molecular weight can be suitably measured by a GPC system such as Shodex (registered trademark) GPC-101 (manufactured by Showa Denko K.K.) using such a solvent, a column and a detector.

(전리방사선 비중합성 수지의 병용) (Combined use of ionizing radiation specific gravity resin)

전리방사선 경화성 수지에는, 전리방사선으로 경화 가능한 중합성 화합물 이외에, 전리방사선으로는 중합하지 않는 전리방사선 비중합성 수지를, 물성 조정을 위한 등 필요에 따라 내비누화 성능에 지장을 초래하지 않는 범위에서 병용해도 좋다. 전리방사선으로 경화 가능한 중합성 화합물 이외의 전리방사선 비중합성 수지는, 전리방사선 이외의 에너지로 경화 가능한 중합성 화합물, 예를 들어 전리방사선으로는 경화하지 않지만 열로 경화 가능한 열경화성 수지, 전리방사선으로도 열로도 경화하지 않는 열가소성 수지 등이다.The ionizing radiation curable resin may contain, in addition to the ionizing radiation-curable polymerizable compound, an ionizing radiation specific gravity synthetic resin which is not polymerized by ionizing radiation, Maybe. The ionizing radiation non-polymerizable resin other than the ionizing radiation-curable polymerizable compound may be a polymerizable compound that can be cured by energy other than ionizing radiation, for example, a thermosetting resin that does not cure by ionizing radiation but is heat curable, Or a thermoplastic resin that does not harden.

열경화성 수지로는 우레탄계 수지, 멜라민계 수지, 페놀계 수지, 실리콘 수지 등을 들 수 있다. 열가소성 수지로는 아크릴계 수지, 열가소성 우레탄계 수지, 폴리아미드계 수지, 스티렌계 수지, 셀룰로오스계 수지, 폴리카르보네이트계 수지, 비닐계 수지, 실리콘 수지 등을 들 수 있다. 셀룰로오스계 수지로는 니트로셀룰로오스, 아세틸셀룰로오스, 셀룰로오스아세테이트프로피오네이트, 에틸히드록시에틸셀룰로오스 등을 들 수 있다.Examples of the thermosetting resin include a urethane resin, a melamine resin, a phenol resin, and a silicone resin. Examples of the thermoplastic resin include an acrylic resin, a thermoplastic urethane resin, a polyamide resin, a styrene resin, a cellulose resin, a polycarbonate resin, a vinyl resin, and a silicone resin. Examples of the cellulose-based resin include nitrocellulose, acetylcellulose, cellulose acetate propionate, ethylhydroxyethylcellulose and the like.

(중합 개시제) (Polymerization initiator)

전리방사선 경화성 수지를 자외선으로 경화시키는 경우에는, 전리방사선 경화성 수지의 수지 조성물 중에, 추가로 중합 개시제를 함유시키는 것이 바람직하다. 중합 개시제로는 공지된 것, 예를 들어 라디칼 중합에 의해 경화시키는 경우에는, 아세토페논계, 벤조페논계, 티오크산톤계의 중합 개시제가 사용된다. 중합 개시제는 단독 사용 또는 병용해서 사용한다. 시판품에서는, 예를 들어 1-히드록시시클로헥실페닐케톤은, 이르가큐어(등록상표) 184(바스프(BASF) 재팬 가부시끼가이샤 제조), 이르가큐어(등록상표) 127(바스프 재팬 가부시끼가이샤 제조) 등이 입수 가능하다. 또한, 양이온 중합에 의해 경화시킨 경우에는, 메탈로센계, 방향족 술포늄계, 방향족 요오드늄계 등의 중합 개시제가 사용된다. 중합 개시제는 수지분 100질량부에 대하여 0.1 내지 10질량부 정도 첨가한다.When the ionizing radiation curable resin is cured by ultraviolet rays, it is preferable to further contain a polymerization initiator in the resin composition of the ionizing radiation curable resin. As the polymerization initiator, known polymerization initiators such as acetophenone, benzophenone and thioxanone polymerization initiators are used when curing is carried out by radical polymerization. The polymerization initiator is used alone or in combination. In the case of commercially available products, for example, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone is commercially available from Irgacure (registered trademark) 184 (BASF Japan Co., Ltd.), Irgacure 127 (BASF Japan Co., Manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.). When curing is carried out by cationic polymerization, a polymerization initiator such as a metallocene system, an aromatic sulfonium system or an aromatic iodonium system is used. The polymerization initiator is added in an amount of 0.1 to 10 parts by mass based on 100 parts by mass of the resin.

(용제) (solvent)

전리방사선 경화성 수지의 수지 조성물에는, 투명 기재 필름 상에 대한 도포 시공 적성 등의 물성 조정을 위해 용제를 포함시킬 수 있다. 용제로는, 예를 들어 이소프로필알코올, 메탄올, 에탄올, 부탄올, 이소부틸알코올 등의 알코올류, 메틸에틸케톤(MEK), 메틸이소부틸케톤(MIBK), 시클로헥사논 등의 케톤류, 프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGMEA) 등의 글리콜에테르류, 아세트산메틸, 아세트산에틸, 아세트산부틸, 아세트산프로필 등의 에스테르류, 클로로포름, 염화메틸렌, 테트라클로로에탄 등의 할로겐화 탄화수소류, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류이다. 용제는 이들의 단독 또는 혼합물로서 사용한다. 그 중에서도, 바람직한 것은 도포 시공 적성, 분산 안정성 등의 측면에서, 메틸에틸케톤(MEK), 메틸이소부틸케톤(MIBK), 프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGME), 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(PGMEA) 등이다.The resin composition of the ionizing radiation curable resin may contain a solvent for adjusting physical properties such as coating application suitability on the transparent base film. Examples of the solvent include alcohols such as isopropyl alcohol, methanol, ethanol, butanol and isobutyl alcohol, ketones such as methyl ethyl ketone (MEK), methyl isobutyl ketone (MIBK) and cyclohexanone, propylene glycol mono (PGMEA); esters such as methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate and propyl acetate; halogenated hydrocarbons such as chloroform, methylene chloride and tetrachloroethane; and aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene . Solvents may be used alone or as a mixture thereof. Among them, methyl ethyl ketone (MEK), methyl isobutyl ketone (MIBK), propylene glycol monomethyl ether (PGME), propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) and the like are preferable from the viewpoint of coating application suitability and dispersion stability to be.

(방오제) (Antifouling agent)

저굴절률층(2)은, 반사 방지 필름의 최외층이 되는 점에서, 오염에 대하여 방오성을 갖는 것이 바람직하다. 이 점에서, 저굴절률층에는 방오제를 포함시키는 것이 바람직하다. 방오제로는 공지된 것을 적절히 채용할 수 있다. 예를 들어, 방오제로는 실리콘계 화합물, 불소계 화합물 등을 들 수 있다. 또한, 방오제는 내비누화성이나 경화성의 성능 지속성을 위해 아크릴레이트계 화합물인 것이 바람직하다. 예를 들어, 실리콘 아크릴레이트계 화합물, 불소 함유 아크릴레이트 화합물, 불소와 실리콘을 함유하는 아크릴레이트 화합물 등이다.It is preferable that the low refractive index layer 2 has antifouling property against contamination in that it becomes the outermost layer of the antireflection film. In this respect, it is preferable to include an antifouling agent in the low refractive index layer. As the antifouling agent, known antifouling agents can be suitably employed. Examples of the antifouling agent include a silicon-based compound and a fluorine-based compound. In addition, the antifouling agent is preferably an acrylate-based compound for the purpose of persistence of saponification resistance and curability. For example, a silicon acrylate compound, a fluorine-containing acrylate compound, an acrylate compound containing fluorine and silicon, and the like.

(기타 첨가제) (Other additives)

전리방사선 경화성 수지의 수지 조성물에는, 도포 시공 적성, 저굴절률화제의 분산 안정성 등의 물성 조정을 위해, 공지된 각종 첨가제를 첨가할 수 있다. 예를 들어, 레벨링제, 분산 안정제, 대전 방지제, 자외선 흡수제, 산화 방지제, 굴절률 조정제 등이다.Various known additives may be added to the resin composition of the ionizing radiation curable resin for property adjustment such as coating application suitability and dispersion stability of the low refractive index agent. For example, a leveling agent, a dispersion stabilizer, an antistatic agent, an ultraviolet absorber, an antioxidant, a refractive index adjusting agent, and the like.

[중공형 실리카 입자] [Hollow silica particles]

중공형 실리카 입자는 저굴절률층의 도막 강도를 유지하면서, 그 굴절률을 낮추는 기능을 갖는 입자다. 본 발명에서 사용하는 중공형 실리카 입자는, 내부에 공동을 갖는 구조인 실리카 미립자다. 중공형 실리카 입자는, 실리카 미립자 본래의 굴절률(굴절률 n=1.46 정도)에 비하여, 내부의 공동의 점유율에 반비례해서 굴절률이 저하되는 실리카 미립자다. 이로 인해, 중공형 실리카 입자의 입자 전체로서의 굴절률은 1.20 내지 1.45가 된다.The hollow silica particles are particles having a function of lowering the refractive index while maintaining the film strength of the low refractive index layer. The hollow silica particles used in the present invention are fine silica particles having a structure having a cavity therein. The hollow silica particles are silica fine particles whose refractive index is lowered in inverse proportion to the occupancy of the internal cavity, as compared with the original refractive index (refractive index n = 1.46 or so) of the silica fine particles. As a result, the refractive index of the hollow silica particles as a whole particle is 1.20 to 1.45.

중공형 실리카 입자로는 내부에 공동을 갖는 실리카 미립자이면 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 외각을 갖고, 그 내부가 다공질 또는 공동으로 되어 있는 미립자이며, 일본 특허 공개 (평)6-330606, 일본 특허 공개 (평)7-013137호 공보, 일본 특허 공개 (평)7-133105호 공보, 일본 특허 공개 제2001-233611호 공보에서 개시되어 있는 기술을 이용해서 제조한 실리카 미립자를 들 수 있다.The hollow silica particles are not particularly limited as long as they are silica fine particles having cavities therein. For example, the hollow silica particles are fine particles having an outer shell and porous or hollow inside thereof, and are disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-330606, There may be mentioned silica fine particles prepared by using the technique disclosed in JP-A-7-013137, JP-A-7-133105, and JP-A-2001-233611.

중공형 실리카 입자의 평균 입자 직경은 바람직하게는 5 내지 300nm, 보다 바람직하게는 5nm 내지 200nm이다. 상기 평균 입자 직경이 이 범위 내에 있음으로써, 저굴절률층이 우수한 투명성을 부여할 수 있다. 또한, 상기 평균 입자 직경의 범위는, 보다 바람직한 하한은 8nm, 보다 바람직한 상한은 100nm, 더욱 바람직하는 하한은 10nm, 더욱 바람직하는 상한은 80nm이다.The average particle diameter of the hollow silica particles is preferably 5 to 300 nm, more preferably 5 to 200 nm. When the average particle diameter is within this range, the low refractive index layer can impart excellent transparency. The range of the average particle diameter is more preferably 8 nm, more preferably 100 nm, still more preferably 10 nm, still more preferably 80 nm.

저굴절률층 중 중공형 실리카 입자의 함유량은 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는 수지 고형분 100질량부에 대하여 20 내지 180질량부의 범위이다. 180질량부를 초과하면, 저굴절률층의 도막 강도가 불충분해지는 경우가 있고, 20질량부 미만이면 중공형 실리카 입자에 의한 저굴절률화의 효과를 충분히 저굴절률층에 부여할 수 없다.The content of the hollow silica particles in the low refractive index layer is not particularly limited, but is preferably in the range of 20 to 180 parts by mass based on 100 parts by mass of the resin solid content. If it exceeds 180 parts by mass, the film strength of the low refractive index layer may be insufficient. If it is less than 20 parts by mass, the effect of lowering the refractive index by the hollow silica particles can not be sufficiently imparted to the low refractive index layer.

또한, 중공형 실리카 입자의 표면은 실란 커플링제로 배합 전에 사전에 처리되어 있어도 좋다. 실란 커플링제는 시판품일 수 있고, 예를 들어 신에쯔 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 제조의 KBM-1003, KBE-1003, KBM-303, KBM-402, KBM-403, KBE-402, KBE-403, KBM-1403, KBM-502, KBM-503, KBE-502, KBE-503, KBM-5103, KBM-602, KBM-603, KBM-903, KBE-903, KBE-9103, KBM-573, KBM-575, KBE-585, KBM-802, KBM-803, KBE-846, KBE-9007 등이 있고, 바람직하게는 (메트)아크릴로일기를 함유하는 실란 커플링제인 KBM-502, KBM-503, KBE-502, KBE-503, KBM-5103이며, 가장 바람직한 것은 KBM-503이다.Further, the surface of the hollow silica particles may be previously treated with a silane coupling agent before compounding. The silane coupling agent may be a commercially available product, and examples thereof include KBM-1003, KBE-1003, KBM-303, KBM-402, KBM-403, KBE-402, KBE-403 manufactured by Shinetsu Chemical Industry Co., , KBM-1403, KBM-502, KBM-503, KBE-502, KBE-503, KBM-5103, KBM-602, KBM-603, KBM-903, KBE- KBM-502, KBM-503, and KBM-502, which are silane coupling agents containing a (meth) acryloyl group, KBE-502, KBE-503, KBM-5103, and most preferably KBM-503.

[저굴절률층의 형성] [Formation of low refractive index layer]

저굴절률층(2)은 상기한 전리방사선 경화성 수지의 수지 조성물을 도료 내지는 잉크로 하여 투명 기재 필름 상에 도포한 후, 전리방사선을 조사해서 수지를 경화시켜서 형성할 수 있다. 도포 방법은 특별히 한정은 없으며 공지된 도포법을 적절히 채용하면 좋다. 예를 들어, 롤 코트법, 그라비아 코트법, 침지법, 스프레이법, 다이드 코트법, 바 코트법, 스핀 코트법, 메니스커스 코트법 등의 도포법이다. 혹은 플렉소 인쇄법, 스크린 인쇄법 등의 인쇄법에 의해 형성해도 좋다. 또한, 전리방사선으로는 자외선 및 전자선이 대표적이다.The low refractive index layer 2 can be formed by applying the resin composition of the above ionizing radiation curable resin as a coating or an ink on a transparent base film and irradiating it with ionizing radiation to cure the resin. The coating method is not particularly limited and a well-known coating method may be suitably employed. Examples of the coating method include a roll coating method, a gravure coating method, a dipping method, a spraying method, a double coating method, a bar coating method, a spin coating method, and a meniscus coating method. Or by a printing method such as a flexo printing method or a screen printing method. As ionizing radiation, ultraviolet rays and electron beams are representative.

〔기능층〕 [Functional layer]

반사 방지 필름(10)에는, 투명 기재 필름(1)과 저굴절률층(2) 사이에, 본 발명의 주지를 일탈하지 않는 범위에서, 그 밖의 기능층(3)을 필요에 따라 형성할 수 있다. 예를 들어, 하드 코트층, 방현층, 대전 방지층, 고굴절률층, 프라이머층 등의 광학 필름으로서 공지된 투명층이다. 기능층(3)을 형성함으로써, 형성된 기능층(3)에 따른 기능을 부가할 수 있다. 예를 들어, 기능층(3)이 하드 코트층에서는 내찰상성 기능을, 방현층에서는 방현 기능을, 대전 방지층에서는 대전 방지 기능을, 고굴절률층에서는 반사 방지 기능의 강화를, 프라이머층에서는 밀착 강화 기능을 부여할 수 있다. 이 중, 하드 코트층에 대해서 이하 설명한다.Other functional layers 3 can be formed between the transparent substrate film 1 and the low refractive index layer 2 as needed within the scope of the present invention without departing from the spirit of the present invention . For example, it is a transparent layer known as an optical film such as a hard coat layer, an antiglare layer, an antistatic layer, a high refractive index layer, and a primer layer. By forming the functional layer 3, functions according to the functional layer 3 formed can be added. For example, the functional layer 3 has an antiscrasing function in a hard coat layer, an antiglare function in an antiglare layer, an antistatic function in an antistatic layer, an antireflection function in a high refractive layer, Function can be given. Of these, the hard coat layer will be described below.

[하드 코트층] [Hard coat layer]

본 명세서에서 「하드 코트층」이란, JIS K5600-5-4(1999년)로 규정되는 연필 경도 시험(하중 500g)에서 「H」이상의 경도를 나타내는 것을 말한다. 하드 코트층(3)을 저굴절률층(2)과 투명 기재 필름(1) 사이에 저굴절률층(2)의 바로 아래층으로서 형성하는 것이, 반사 방지 필름(10)으로서의 내찰상성을 보다 강화시킬 수 있다는 점에서 바람직하다.The term " hard coat layer " in this specification means a hardness of not less than " H " in a pencil hardness test (load of 500 g) prescribed by JIS K5600-5-4 (1999). It is preferable to form the hard coat layer 3 as a layer just below the low refractive index layer 2 between the low refractive index layer 2 and the transparent base film 1 to further enhance the scratch resistance of the antireflection film 10 .

하드 코트층은 경화성 수지, 보다 바람직하게는 전리방사선 경화성 수지를 사용하여, 전리방사선 경화성 수지의 경화물층으로서 형성한다. 하드 코트층의 두께는 0.1 내지 100 ㎛, 바람직하게는 0.8 내지 20 ㎛이다.The hard coat layer is formed as a cured layer of an ionizing radiation curable resin using a curable resin, more preferably an ionizing radiation curable resin. The thickness of the hard coat layer is 0.1 to 100 mu m, preferably 0.8 to 20 mu m.

하드 코트층(3)의 전리방사선 경화성 수지에는, 전리방사선 경화성 수지로서 공지된 각종 중합성 화합물을 사용할 수 있다. 예를 들어, 상기한 저굴절률층에서 열기한 전리방사선 경화성 수지를 바람직하게는 사용할 수 있다. 따라서, 하드 코트층에 사용하는 전리방사선 경화성 수지도 저굴절률층과 마찬가지로, 히드록실기가 분자 중에 소정량보다 적은 중합성 화합물을 포함하는 수지 조성물로 형성하는 것이 바람직하다. 바람직하게는 수지 조성물 중의 중합성 화합물을 모두 히드록실기를 분자 중에 갖지 않는 중합성 화합물로 하는 것이 좋다. 또한, 중합성 화합물은 적어도 2관능 이상, 보다 바람직하게는 3관능 이상의 전리방사선으로 경화 가능한 관능기를 갖는 중합성 화합물로 하는 것이 내찰상성을 향상시킨다는 점에서 바람직하다.As the ionizing radiation curable resin of the hard coat layer 3, various polymerizable compounds known as ionizing radiation curable resins can be used. For example, an ionizing radiation curable resin that has been heated in the above-described low refractive index layer can be preferably used. Therefore, similarly to the low refractive index layer, the ionizing radiation curable resin used in the hard coat layer is preferably formed of a resin composition containing a polymerizable compound having a hydroxyl group in a molecule smaller than a predetermined amount. Preferably, all the polymerizable compounds in the resin composition are polymerizable compounds having no hydroxyl group in the molecule. The polymerizable compound is preferably a polymerizable compound having at least two or more functional groups, more preferably three or more functional groups capable of being cured by ionizing radiation, from the viewpoint of improving scratch resistance.

다관능 중합성 화합물 중에서도 히드록실기를 분자 중에 갖지 않는 것이면 내비누화성이 얻어지고, 히드록실기를 분자 중에 갖는 화합물이면 저굴절률층에서 바람직한 형태여도, 비누화의 온도가 고온이거나, 장시간 비누화를 하는 등, 가혹한 조건인 경우에는 내비누화성이 약해지는 경우도 있다. 이는 저굴절률층의 란에서 고찰한 것과 마찬가지 이유에 의한 것이다.Of the multifunctional polymerizable compounds, those having no hydroxyl group in the molecule have saponification resistance. If the compound has a hydroxyl group in the molecule, even if it is a preferable form in the low refractive index layer, the saponification temperature is high, , The abrasion resistance may be weakened under severe conditions. This is for the same reason as discussed in the column of the low refractive index layer.

또한, 저굴절률층(2)에 사용하는 다관능 중합성 화합물은, 내찰상성의 측면에서 분자량이 300 내지 1000으로 하는 것이 좋지만, 하드 코트층(3)에 사용하는 다관능 중합성 화합물에서는, 분자량은 1000 초과된 중합성 화합물이어도 좋다.The multifunctional polymerizable compound used in the low refractive index layer 2 preferably has a molecular weight of 300 to 1000 in terms of scratch resistance. However, in the multifunctional polymerizable compound used for the hard coat layer 3, the molecular weight May be a polymerizable compound exceeding 1,000.

단, 하드 코트층(3)은 저굴절률층과 같이 최외층은 아니기 때문에, 비누화 처리시 알칼리 수용액에 직접 접촉하지 않으므로, 하드 코트층의 전리방사선 경화성 수지에는, 히드록실기를 분자 중에 갖는 중합성 화합물을 사용하는 것에 대하여 저굴절률층만큼 엄격하지 않다. 이 점에서는, 하드 코트층에 사용하는 전리방사선 경화성 수지로는, 수지 중에 차지하는 히드록실기를 분자 중에 갖는 중합성 화합물이, 저굴절률층에 사용하는 전리방사선 경화성 수지와 비교해서 많아도 좋다. 단, 저굴절률층은 두께가 50 내지 150nm로 얇기 때문에, 알칼리 수용액의 침투를 고려하면, 가능한 한 히드록실기를 분자 중에 갖지 않는 중합성 화합물을 사용하는 것이 바람직하다.However, since the hard coat layer 3 is not the outermost layer like the low refractive index layer, it is not in direct contact with the alkali aqueous solution during the saponification treatment. Therefore, the ionizing radiation curable resin of the hard coat layer is preferably a polymerizable Refractive index layer is not as strict as that of the compound. In this respect, as the ionizing radiation curable resin used for the hard coat layer, a polymerizable compound having a hydroxyl group in the molecule in the molecule may be more abundant than the ionizing radiation curable resin used for the low refractive index layer. However, since the low refractive index layer is as thin as 50 to 150 nm, it is preferable to use a polymerizable compound which does not have a hydroxyl group in the molecule as far as possible in consideration of penetration of an aqueous alkali solution.

하드 코트층에 히드록실기를 분자 중에 갖는 중합성 화합물을 사용하는 경우, 하드 코트층에 사용할 수 있는 바람직한 예로는, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트(약칭 PETA, 히드록실기 함유율 0.33), 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트(약칭 DPPA, 히드록실기 함유율 0.18) 등을 들 수 있다.In the case of using a polymerizable compound having a hydroxyl group in the molecule in the hard coat layer, preferred examples of the hard coat layer include pentaerythritol tri (meth) acrylate (abbreviated as PETA, hydroxyl group content: 0.33) Dipentaerythritol pentaacrylate (abbreviation: DPPA, hydroxyl group content: 0.18), and the like.

하드 코트층(3)에는, 공지된 각종 첨가제를 포함시켜도 좋다. 예를 들어, 대전 방지제, 방현제, 자외선 흡수제, 반응성기를 갖는 실리카 등이다. 예를 들어, 방현제를 첨가함으로써, 하드 코트층을 방현층과 겸용하여, 반사 방지 필름을 방현성 반사 방지 필름으로 할 수도 있다. 방현제에는 유기계나 무기계의 확산제 등을 사용할 수 있다.The hard coat layer 3 may contain various known additives. For example, antistatic agents, antistatic agents, ultraviolet absorbers, and silica having a reactive group. For example, by adding a flame retardant agent, the hard coat layer can be also used as the antiglare layer, and the antireflection film can be used as the antireflection film. Organic and inorganic dispersing agents may be used for the dispersion.

하드 코트층(3)은, 하드 코트층과 투명 기재 필름(1)과의 계면에서 발생하는 간섭 불균일을 방지하기 위해서는, 하드 코트층에 사용하는 도포액의 적어도 일부의 조성이 투명 기재 필름에 함침되는 것이 바람직하다.In order to prevent interference non-uniformity occurring at the interface between the hard coat layer and the transparent base film (1), the hard coat layer (3) is preferably such that the composition of at least part of the coating liquid used for the hard coat layer .

하드 코트층(3)의 형성은, 하드 코트층도 수지적으로는 저굴절률층과 마찬가지로 전리방사선 경화성 수지의 경화물층으로서 형성하므로, 저굴절률층과 마찬가지로, 그 수지 조성물을 도료 내지는 잉크로 하여 투명 기재 필름 상에 도포한 후, 전리방사선을 조사해서 수지를 경화시켜서 형성할 수 있다. 도포 방법은 특별히 한정은 없으며, 저굴절률층에서 열기한 바와 같은 공지된 도포법을 적절히 채용하면 된다.Since the hard coat layer 3 is formed as a hardened layer of an ionizing radiation curable resin in the same manner as the low refractive index layer, the hard coat layer 3 can be formed by using the resin composition as a coating material or ink It can be formed by applying it on a transparent base film and then curing the resin by irradiation with ionizing radiation. The coating method is not particularly limited, and a known coating method as disclosed in the low refractive index layer may be suitably employed.

또한, 하드 코트층(3)을 형성하는 경우, 저굴절률층은 하드 코트층 상에 형성하게 되지만, 저굴절률층 형성시에는 하드 코트층은 완전 경화시키지 않고, 저굴절률층의 수지 경화와 동시에 하드 코트층의 수지의 완전 경화를 행하는 것이 이들 양층의 밀착성 측면에서 바람직하다. 하드 코트층과 저굴절률층과의 계면간의 밀착성을 향상시킴으로써, 반사 방지 필름 최표면의 경도, 내찰상성도 향상시킬 수 있다.When the hard coat layer 3 is formed, the low refractive index layer is formed on the hard coat layer. However, when the low refractive index layer is formed, the hard coat layer is not completely cured, It is preferable that the resin of the coat layer is completely cured from the viewpoint of adhesion of both layers. By improving the adhesion between the interface between the hard coat layer and the low refractive index layer, the hardness and scratch resistance of the outermost surface of the antireflection film can be improved.

B. 편광판 B. Polarizer

본 발명에 의한 편광판은, 편광자 중 적어도 한쪽면 위에, 상기한 본 발명의 반사 방지 필름이 그 투명 기재 필름측을 상기 편광자를 향해 적층되어 있는 구성의 편광판이다. 여기서, 도 2는 편광판의 한 형태를 도시하는 단면도이다. 동일한 도면에 나타내는 편광판(20)은, 본 발명의 반사 방지 필름(10)이 저굴절률층면(2s)이 최외면이 되도록 투명 기재 필름(1)측의 면으로, 편광자(4)에 적층되어 있다. 반사 방지 필름(10)은 편광자(4)의 편면에 적층되고, 편광자(4)의 다른 쪽의 면은, 본 발명의 반사 방지 필름(10) 이외의 보호 필름(5)이 적층되어 있는 구성예다.The polarizing plate of the present invention is a polarizing plate in which the above-mentioned antireflection film of the present invention is laminated on at least one side of the polarizer toward the polarizer. Here, FIG. 2 is a sectional view showing one form of the polarizing plate. In the polarizing plate 20 shown in the same figure, the antireflection film 10 of the present invention is laminated on the polarizer 4 on the side of the transparent base film 1 so that the low refractive index layer surface 2s is the outermost surface . The antireflection film 10 is laminated on one side of the polarizer 4 and the other side of the polarizer 4 is a laminated structure of the protective film 5 other than the antireflection film 10 of the present invention .

편광판(20)의 반사 방지 필름(10)측의 면은 공기에 노출되어, 편광판에 입광하는 광의 반사를 방지한다. 한편, 편광판의 보호 필름(5)측의 면은, 액정 셀 등 다른 광학 부재에 점착제층 등으로 밀착 적층하는 것이 일반적이므로, 보호 필름측의 면은, 반사 방지 필름과 같이 반사 방지 처리할 필요가 없다. 단, 본 발명의 편광판으로는, 편광자의 양면에 상기한 본 발명의 반사 방지 필름이, 그 투명 기재 필름측을 상기 편광자를 향해 적층되어 있어도 좋다.The surface of the polarizing plate 20 on the side of the antireflection film 10 is exposed to air to prevent reflection of light entering the polarizing plate. On the other hand, since the surface of the polarizing plate on the side of the protective film 5 is generally laminated on another optical member such as a liquid crystal cell by a pressure sensitive adhesive layer or the like, the surface on the protective film side needs to be antireflection- none. In the polarizing plate of the present invention, the above-mentioned antireflection film of the present invention may be laminated on both sides of the polarizer toward the polarizer.

〔편광자〕 [Polarizer]

편광자(4)는 특별히 한정되지 않고 편광판에 있어서의 종래 공지된 편광자이면 된다. 예를 들어, 요오드 등에 의해 염색하고 연신한 폴리비닐알코올 필름을 들 수 있다. 또한, 염색·연신하는 필름은, 폴리비닐알코올 필름 이외에, 폴리비닐포르말 필름, 폴리비닐아세탈 필름, 에틸렌-아세트산 비닐 공중합체계 비누화 필름 등도 들 수 있다.The polarizer 4 is not particularly limited and may be any conventionally known polarizer in a polarizing plate. For example, a polyvinyl alcohol film which is dyed and stretched by iodine or the like. In addition to the polyvinyl alcohol film, the film to be dyed and stretched may be a polyvinyl formal film, a polyvinyl acetal film, or an ethylene-vinyl acetate copolymerization system saponified film.

〔보호 필름〕 [Protection film]

보호 필름(5)은 반사 방지 필름이 적층되어 있는 면과는 반대면의 편광자에 적층된다. 반사 방지 필름에 있어서의 투명 기재 필름과 마찬가지의 필름을 사용할 수 있다. 따라서, 보호 필름에는, 트리아세틸셀룰로오스로 이루어지는 투명한 필름을 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 컬링 방지 등의 측면에서, 동종의 필름이 바람직하다. 따라서, 추가적인 설명은 생략한다. 또한, 이 보호 필름은, 종래 기술 란에서 설명한 일시적으로 접착해 두는 내비누화용 보호 필름과는 달리, 영구적으로 접착 적층되어 있는 필름이다.The protective film 5 is laminated on a polarizer opposite to the surface on which the antireflection film is laminated. The same film as that of the transparent base film in the antireflection film can be used. Therefore, as the protective film, it is preferable to use a transparent film made of triacetylcellulose. In addition, from the viewpoint of preventing curling and the like, a film of the same kind is preferable. Therefore, further explanation is omitted. This protective film is a film which is permanently bonded and laminated, unlike the temporary saponification protective film which is temporarily adhered as described in the Background of the Related Art section.

〔편광자와 반사 방지 필름 및 보호 필름과의 적층〕 [Lamination of polarizer and antireflection film and protective film]

편광자(4)와 반사 방지 필름(10) 및 보호 필름(5)을 적층할 때는, 알칼리 수용액에 의한, 소위 비누화 처리를 행하는 것이, 편광자와 이들의 필름과의 밀착성을 강화시킬 수 있다는 점에서 바람직하다. 특히, 본 발명에 의한 반사 방지 필름은 내비누화성을 구비하고 있으므로, 그 이점을 발휘할 수 있다는 점에서도 바람직하다.In lamination of the polarizer 4, the antireflection film 10 and the protective film 5, it is preferable to conduct the so-called saponification treatment with an aqueous alkaline solution because the adhesion between the polarizer and the film can be enhanced Do. Particularly, the antireflection film of the present invention has anti-saponification property and is therefore also preferable in that it can exert its advantages.

C. 화상 표시 장치 C. Image display device

본 발명에 의한 화상 표시 장치는, 상기한 본 발명의 반사 방지 필름, 또는 상기한 본 발명의 편광판을 구비한 구성의 화상 표시 장치다. 상기 반사 방지 필름 또는 편광판은, 예를 들어 디스플레이 패널의 관찰자측에 구비한 구성으로 할 수 있다. 반사 방지 필름 혹은 편광판은, 디스플레이 패널에 밀착 적층되어 일체화된 것을 디스플레이 패널로 하는 경우도 있고, 디스플레이 패널의 관찰자측에 공기층을 개재하여 배치되는 경우도 있다.The image display apparatus according to the present invention is an image display apparatus having the above-described antireflection film of the present invention or the polarizing plate of the present invention. The antireflection film or the polarizing plate may be provided on the observer side of the display panel, for example. The antireflection film or the polarizing plate may be a display panel in which the display panel and the display panel are integrally laminated and integrated, or may be disposed on the observer side of the display panel with an air layer interposed therebetween.

디스플레이 패널은 특별히 한정은 없으며 공지된 디스플레이 패널이면 되고, 예를 들어 액정 패널, 플라즈마 디스플레이 패널, 일렉트로루미네슨스 패널, 터치 패널, 전자 페이퍼, 태블릿 PC 등의 각종 디스플레이 패널 이외에, 브라운관(CRT) 등이어도 좋다.The display panel is not particularly limited and may be a known display panel. For example, a display panel such as a cathode ray tube (CRT), a liquid crystal panel, a plasma display panel, an electro luminescence panel, a touch panel, .

반사 방지 필름과 편광판은, 화상 표시 장치가 구비하는 디스플레이 패널이 액정 패널인 경우에는, 통상 편광판을 구비한다. 편광판이 기본적으로 불필요한 디스플레이 패널, 예를 들어 플라즈마 디스플레이 패널, 일렉트로루미네슨스 패널, 브라운관(CRT), 터치 패널, 전자 페이퍼, 태블릿 PC 등인 경우에는, 화상 표시 장치는 반사 방지 필름을 구비한다.The antireflection film and the polarizing plate are usually provided with a polarizing plate when the display panel of the image display apparatus is a liquid crystal panel. When the polarizing plate is basically an unnecessary display panel, for example, a plasma display panel, an electroluminescence panel, a cathode ray tube (CRT), a touch panel, an electronic paper, a tablet PC, etc., the image display device is provided with an antireflection film.

본 발명의 화상 표시 장치는, 그 밖에 디스플레이 구동 회로, 배선, 섀시, 프레임, 입출력 부품, 캐비넷 등의 공지된 부품을 용도에 따라 구비하고 있어도 좋다.The image display apparatus of the present invention may include other known components such as a display drive circuit, a wiring, a chassis, a frame, an input / output component, and a cabinet, depending on the use.

〔용도〕 〔Usage〕

본 발명에 의한 화상 표시 장치의 용도는 특별히 제한은 없지만, 예를 들어 텔레비전 수상기, 모니터 디스플레이, 전자 간판, 휴대 정보 단말기, 디지털 포토 프레임, 의료용 기기 등이다.The use of the image display apparatus according to the present invention is not particularly limited, and examples thereof include a television receiver, a monitor display, an electronic signboard, a portable information terminal, a digital photo frame, and a medical apparatus.

[실시예][Example]

이하, 실시예, 비교예 및 참고예에 의해 본 발명을 더 설명한다. 또한, 이하에 있어서, 사용한 재료 내지는 그의 약칭은 다음과 같다. 또한, 「부」라는 것은, 모두 질량부의 의미이다.Hereinafter, the present invention will be further described with reference to Examples, Comparative Examples and Reference Examples. In the following, the materials used or abbreviations thereof are as follows. The term " part " means all of the parts by mass.

[중합성 화합물(모두 다관능 중합성 화합물)] [Polymerizable compound (all polyfunctional polymerizable compound)]

이하, 사용한 재료의 약칭과, 중합성 관능기(아크릴로일기)의 관능기수, 분자량, 히드록실기(OH기)의 유무 등에 대해서 기재한다.Hereinafter, abbreviations of the used materials, the number of functional groups of the polymerizable functional group (acryloyl group), the molecular weight, the presence or absence of the hydroxyl group (OH group), and the like will be described.

<히드록실기를 함유하지 않는 화합물> &Lt; Compound containing no hydroxyl group >

·TMPTA: 3관능, 분자량 296, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트(고형분 100%) TMPTA: trifunctional, molecular weight 296, trimethylolpropane triacrylate (100% solids)

·NK 에스테르: 6관능, Mw 578, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트; DPHA(신나까무라 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 제조)(고형분 100%)NK ester: hexafunctional, Mw 578, dipentaerythritol hexaacrylate; DPHA (Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.) (solid content: 100%)

·UV1700B: 10관능, 분자량 약 2000, 2관능의 IPDI(이소포론디이소시아네이트)의 이소시아네이트기에 DPPA를 반응시킨 10관능의 올리고머(닛본 고세이 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 제조, 고형분 100%) UV1700B: 10-functional oligomer (manufactured by Nippon Gosei Chemical Industry Co., Ltd., solids content: 100%) obtained by reacting DPPA with an isocyanate group of IPDI (isophorone diisocyanate) having a molecular weight of about 2000 and a molecular weight of about 2000;

<히드록실기를 함유하는 화합물> <Compounds Containing a Hydroxyl Group>

·PETA: 3관능, Mw 298, OH기수 1, OH 함유율 0.33, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트(히드록실기 1개 함유) · PETA: trifunctional, Mw 298, OH number 1, OH content 0.33, pentaerythritol triacrylate (containing one hydroxyl group)

·DPPA: 5관능, 분자량 약 550, OH기수 1, OH 함유율 0.18, 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트(품명 「카야래드(등록상표) DPHA」, 닛본 가야꾸 가부시끼가이샤 제조, 고형분 100%) DPPA: pentafunctional, molecular weight of about 550, OH group number of 1, OH content of 0.18, dipentaerythritol pentaacrylate (trade name: KAYALAD (registered trademark) DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha, solid content: 100%

·DPPMA: 6관능, Mw 약 550, 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트와 디펜타에리트리톨펜타메타크릴레이트의 혼합물 DPPMA: a 6-functional, Mw of about 550, a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol penta methacrylate

·V802: 7 내지 9관능, 분자량 700 내지 1000, OH기수 1, OH 함유율 0.10 내지 0.14, DPPA의 다량체(오사까 유끼 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 제조, 고형분 100%) · V802: 7 to 9 functional group, molecular weight 700 to 1000, OH group number 1, OH content 0.10 to 0.14, a polymer of DPPA (manufactured by Osaka Kikin Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha, solid content: 100%

[용제] [solvent]

·MIBK: 메틸이소부틸케톤 MIBK: methyl isobutyl ketone

·PGMEA: 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 PGMEA: Propylene glycol monomethyl ether acetate

·PGME: 프로필렌글리콜모노메틸에테르 PGME: Propylene glycol monomethyl ether

[표면 소수 처리한 중공형 실리카 입자] [Hollow silica particles treated with surface water]

·(평균 입자 직경 55nm로 내부에 공동을 갖고 표면을 소수 처리한 실리카 입자, 고형분 20%, MIBK 분산) (Silica particles having an average particle diameter of 55 nm and a surface treated with a hydrophobic treatment, 20% solids, MIBK dispersion)

[광중합 개시제] [Photopolymerization initiator]

·이르가큐어(등록상표) 127(바스프 재팬 가부시끼가이샤 제조): 2-히드록시-1-{4-[4-(2-히드록시-2-메틸-프로피오닐)-벤질]페닐}-2-메틸-프로판-1-온 (2-hydroxy-2-methyl-propionyl) -benzyl] phenyl} - (2-hydroxy- 2-methyl-propan-1-one

[방오제] [Antifouling agent]

·TU2225(불소 함유 실리콘계 방오제, JSR 가부시끼가이샤 제조, 고형분 15%) TU2225 (fluorine-containing silicone antifouling agent, manufactured by JSR Corporation, solid content: 15%)

상기 화합물의 분자량의 측정은, 상기 [전리방사선 경화성 수지]의 (분자량)의 란에서 설명한 바와 같지만, 분자량이 1000 초과인 것에 대해서는, 사용하는 칼럼으로서, 예를 들어 Shodex(등록상표) GPC KF-801, GPC KF-802, GPC KF-803, GPC KF-804, GPC KF-805, GPC KF-800D(모두, 쇼와 덴꼬 가부시끼가이샤 제조) 등을 들 수 있다.The measurement of the molecular weight of the above compound is the same as that described in the column of (ionic weight) of the above [ionizing radiation curable resin], but for those having a molecular weight of more than 1000, for example, Shodex (registered trademark) GPC KF- 801, GPC KF-802, GPC KF-803, GPC KF-804, GPC KF-805 and GPC KF-800D (all manufactured by Showa Denko K.K.).

[시험 평가 방법] [Test evaluation method]

내비누화성에 대해서 내찰상성, 방오성, 반사 방지성, 내백화성, 외관의 4가지 성능에 대해서, 비누화 처리 전후의 성능을 측정 평가하였다.The performance before and after the saponification treatment was measured and evaluated with respect to four kinds of abrasion resistance, antifouling property, antireflection property, whitening resistance, and appearance.

[내찰상성] [Scratch resistance]

내찰상성은 내스틸울성으로 평가하였다. 이 평가에 의해, 표면의 경도뿐만 아니라, 동시에 저굴절률층과 하지층과의 밀착성, 도막의 박리도 평가도 가능하다. 구체적으로는, 저굴절률층의 표면을 #0000번의 스틸울을 사용하여, 소정의 마찰 하중 300g/㎠로 10회 왕복 마찰하고, 그 후 도막의 박리 유무를 육안 관찰하여, 하기 기준으로 평가하였다.The scratch resistance was evaluated by the hardness of the steel. By this evaluation, not only the hardness of the surface but also the adhesion between the low refractive index layer and the ground layer and the peeling of the coating film can be evaluated at the same time. Specifically, the surface of the low refractive index layer was subjected to reciprocating rubbing 10 times using a steel wool # 0000 at a predetermined friction load of 300 g / cm 2, and thereafter the presence or absence of peeling of the coating film was visually observed and evaluated according to the following criteria.

○; 흠집 없음(도막의 박리가 전혀 없음) ○; No scratches (No peeling of coating film at all)

×; 흠집 있음(도막의 박리가 있음) ×; Scratches (peeling of coating film is present)

[방오성] [Antifouling property]

방오성은 저굴절률층의 표면에 유성 마킹 펜으로 쓴 후, 셀룰로오스계 부직포 와이퍼로 20회 닦아내기를 시도하여, 하기 기준으로 평가하였다.The antifouling property was evaluated by the following criteria after wiping with the oil-based marking pen on the surface of the low refractive index layer and then wiping 20 times with the cellulose-based nonwoven fabric wiper.

○; 닦임 ○; Wipe

×: 닦이지 않음X: Not wiped

[반사 방지성] [Antireflection property]

반사 방지성은, 저굴절률층이 형성되어 있지 않은 측의 투명 기재 필름면에 이면 반사를 방지하기 위한 흑색 테이프를 부착하고, 저굴절률층 표면을 광원측으로 해서, 분광 반사율 측정기(가부시끼가이샤 시마즈 세이사꾸쇼제, PC-3100)를 사용하고, 파장 영역 380 내지 780nm에서의 최저 반사율을 광 반사율로서 측정하고, 하기 기준으로 평가하였다.In order to prevent reflection, a black tape for preventing the reflection of the back surface was attached to the surface of the transparent base film on the side where the low refractive index layer was not formed, and the surface of the low refractive index layer was set as the light source side, and a spectral reflectance meter (Shimazu Seisaku Co., PC-3100) was used, and the lowest reflectance in a wavelength region of 380 to 780 nm was measured as a light reflectance, and evaluated by the following criteria.

○; 광 반사율이 1.0 내지 2.0% ○; When the light reflectance is 1.0 to 2.0%

×; 광 반사율이 비누화 처리 후에 상기 범위보다 반사율이 악화되거나(2.0% 초과), 비누화 처리 전이라도 2.0% 초과×; (2.0% or more) or more than 2.0% even before the saponification treatment after the saponification treatment,

[내백화성] [White Mars]

비누화 처리 전후의 내백화성으로서, 제작한 반사 방지 필름이 하얗게 보이는 상태가 되지 않는 비누화 내구성을 평가하였다. 내백화성은 저굴절률층이 형성되어 있지 않은 측의 투명 기재 필름면에 이면 반사를 방지하기 위한 흑색 테이프를 부착하고, 암실에서 저굴절률층의 표면에, 표면으로부터 1m 떨어진 위치의 형광등의 광을 쪼여 반사시키고, 백화가 발생했는지의 여부를 표면으로부터 45도 위치로부터 육안 관찰해서 하기의 기준으로 평가하였다.As a whitening resistance before and after the saponification treatment, the anti-saponification durability was evaluated so that the produced antireflection film did not show a whitish appearance. In the whitening agent, a black tape for preventing the reflection of the back surface was attached to the surface of the transparent base film on the side where the low refractive index layer was not formed, and the surface of the low refractive index layer in the dark room was irradiated with the light of a fluorescent lamp And whether or not whitening occurred was visually observed from the 45-degree position from the surface, and evaluated according to the following criteria.

○; 백화 없음○; No bleaching

×; 백화 있음 ×; With white papers

[외관] [Exterior]

외관은, 제작한 반사 방지 필름의 저굴절률층이 형성되어 있지 않은 측의 투명 기재 필름 표면에 흑색 테이프를 붙이고, 저굴절률층이 형성되어 있는 면 쪽으로부터, 삼파장형의 형광등의 광을 쪼여 도포 시공면을 육안으로 관찰하고, 하기의 기준으로 평가하였다.The outer appearance of the antireflection film was evaluated by attaching a black tape to the surface of the transparent base film on the side where the low refractive index layer of the produced antireflection film was not formed and irradiating the light of the tri-wavelength type fluorescent lamp from the side where the low refractive index layer was formed The surface was visually observed and evaluated according to the following criteria.

○: 비누화 처리 전후에 색미에 변화가 없음○: No change in color before and after saponification treatment

×: 비누화 처리 전후에 색미에 변화가 있음X: Change in color before and after saponification

[비누화 처리] [Saponification treatment]

비누화 처리는 다음 2가지 조건으로 행하였다. 통상, 비누화 처리는 저농도 저온 알칼리 용액으로 천천히 침지하거나, 또는 고농도 고온 알칼리 용액으로 재빠르게 침지한다. 후자 조건이 침지 시간은 짧지만, 반사 방지 필름에는 가혹한 처리이므로, 이하 조건 B가 양호한 것은, 조건 A에서 양호한 것보다도 우수하다.The saponification treatment was performed under the following two conditions. Usually, the saponification treatment is slowly immersed in a low-concentration low-temperature alkali solution, or rapidly immersed in a high-concentration, high-temperature alkali solution. The latter condition has a shorter immersion time, but since the antireflection film is a severe treatment, the condition B below is better than that under condition A.

조건 A: 2 규정의 NaOH 수용액에 온도 50℃, 3분간 침지 처리하였다.Condition A: The substrate was immersed in an aqueous 2N NaOH solution at a temperature of 50 ° C for 3 minutes.

조건 B: 4 규정의 NaOH 수용액에 온도 60℃, 30초 침지 처리하였다.Condition B: The substrate was immersed in an aqueous 4 NaOH solution at 60 캜 for 30 seconds.

〔실시예 1〕 [Example 1]

투명 기재 필름으로서 두께 80 ㎛의 투명한 트리아세틸셀룰로오스 필름(TAC 필름, 굴절률 1.48)의 편면에, 하기의 전리방사선 경화성 수지를 포함하는 하드 코트층용 조성물(A)을 도포한 후, 자외선 조사로 수지를 (반)경화시켜서, 두께 10 ㎛의 하드 코트층을 형성하였다.The composition for a hard coat layer (A) containing the following ionizing radiation curable resin was applied to one side of a transparent triacetyl cellulose film (TAC film, refractive index: 1.48) having a thickness of 80 탆 as a transparent base film, (Semi-cured) to form a hard coat layer having a thickness of 10 mu m.

이어서, 형성한 하드 코트층 상에 하기의 저굴절률층용 조성물 (1)을 도포한 후, 자외선 조사로 수지를 경화시켜서, 두께 100nm의 저굴절률층을 형성함과 함께, 하드 코트층도 완전히 경화시켜서 반사 방지 필름을 제작하였다. 계속해서, 비누화 처리 조건 A에서 비누화 처리를 하였다.Subsequently, the following composition (1) for a low refractive index layer was coated on the formed hard coat layer, and then the resin was cured by ultraviolet irradiation to form a low refractive index layer having a thickness of 100 nm and the hard coat layer was completely cured An antireflection film was produced. Subsequently, saponification treatment was carried out under the saponification treatment condition A.

[하드 코트층용 조성물(A)] [Composition (A) for hard coat layer]

디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트(DPHA, 6관능) 100부 Dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, 6-functional) 100 parts

용제; MIBK 70부 solvent; MIBK 70

용제; PGMEA 30부 solvent; PGMEA 30 copies

광중합 개시제 0.4부 Photopolymerization initiator 0.4 part

[저굴절률층용 조성물 (1)] [Composition (1) for low refractive index layer]

TMPTA 100부 TMPTA 100 parts

중공형 실리카 입자(고형분으로서, 이하 마찬가지임) 100부 Hollow silica particles (solid content, the same applies hereinafter) 100 parts

용제; MIBK 70부 solvent; MIBK 70

용제; PGMEA 30부 solvent; PGMEA 30 copies

방오제 4부 Antifouling Part 4

광중합 개시제 7부 Photopolymerization initiator 7 parts

〔실시예 2〕 [Example 2]

실시예 1에서 제작한 반사 방지 필름을 비누화 처리 조건 B에서 비누화 처리하였다.The anti-reflection film produced in Example 1 was subjected to saponification treatment under the saponification treatment condition B.

〔실시예 3〕 [Example 3]

실시예 1에 있어서, 저굴절률층의 형성에, 수지 성분이 상이한 하기의 저굴절률층용 조성물 (2)를 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 반사 방지 필름을 제작하고, 실시예 1과 동일한 조건에서 비누화 처리하였다.An antireflection film was produced in the same manner as in Example 1 except that the following composition (2) for a low refractive index layer, which had different resin components, was used to form the low refractive index layer in Example 1, Lt; / RTI &gt;

[저굴절률층용 조성물 (2)] [Composition (2) for a low refractive index layer]

DPPA 100부 DPPA 100 parts

중공형 실리카 입자 100부 Hollow silica particles 100 parts

용제; MIBK 70부 solvent; MIBK 70

용제; PGMEA 30부 solvent; PGMEA 30 copies

방오제 4부 Antifouling Part 4

광중합 개시제 7부 Photopolymerization initiator 7 parts

〔실시예 4〕 [Example 4]

실시예 1에 있어서, 저굴절률층의 형성에, 수지 성분이 상이한 하기의 저굴절률층용 조성물 (3)을 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 반사 방지 필름을 제작하고, 실시예 1과 동일한 조건에서 비누화 처리하였다. An antireflection film was produced in the same manner as in Example 1 except that the following composition for a low refractive index layer (3) having different resin components was used to form the low refractive index layer in Example 1, Lt; / RTI &gt;

[저굴절률층용 조성물 (3)] [Composition (3) for a low refractive index layer]

NK 에스테르(6관능 DPHA) 100부 NK ester (6-functional DPHA) 100 parts

중공형 실리카 입자 100부 Hollow silica particles 100 parts

용제; MIBK 70부 solvent; MIBK 70

용제; PGMEA 30부 solvent; PGMEA 30 copies

방오제 4부 Antifouling Part 4

광중합 개시제 7부 Photopolymerization initiator 7 parts

〔실시예 5〕 [Example 5]

실시예 1에 있어서, 저굴절률층의 형성에, 수지 성분이 상이한 하기의 저굴절률층용 조성물 (4)를 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 반사 방지 필름을 제작하고, 실시예 1과 동일한 조건에서 비누화 처리하였다.An antireflection film was produced in the same manner as in Example 1 except that the following composition for low refractive index layer (4) having different resin components was used to form the low refractive index layer in Example 1, Lt; / RTI &gt;

[저굴절률층용 조성물 (4)] [Composition (4) for a low refractive index layer]

V802 100부 V802 100 parts

중공형 실리카 입자 100부 Hollow silica particles 100 parts

용제; MIBK 70부 solvent; MIBK 70

용제; PGMEA 30부 solvent; PGMEA 30 copies

방오제 4부 Antifouling Part 4

광중합 개시제 7부 Photopolymerization initiator 7 parts

〔실시예 6〕 [Example 6]

실시예 1에 있어서, 저굴절률층의 형성에, 수지 성분이 상이한 하기의 저굴절률층용 조성물 (5)를 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 반사 방지 필름을 제작하고, 실시예 1과 동일한 조건에서 비누화 처리하였다.An antireflection film was produced in the same manner as in Example 1 except that the following composition for a low refractive index layer (5) having different resin components was used for forming the low refractive index layer in Example 1, Lt; / RTI &gt;

[저굴절률층용 조성물 (5)] [Composition (5) for low refractive index layer]

DPPMA 100부 DPPMA 100 parts

중공형 실리카 입자 100부 Hollow silica particles 100 parts

용제; MIBK 70부 solvent; MIBK 70

용제; PGMEA 30부 solvent; PGMEA 30 copies

방오제 4부 Antifouling Part 4

광중합 개시제 7부 Photopolymerization initiator 7 parts

〔실시예 7〕 [Example 7]

실시예 1에 있어서, 저굴절률층의 형성에, 수지 성분이 혼합 수지로 상이한 하기의 저굴절률층용 조성물 (6)을 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 반사 방지 필름을 제작하고, 실시예 1과 동일한 조건에서 비누화 처리하였다.An antireflection film was produced in the same manner as in Example 1 except that the following composition for a low refractive index layer 6 in which the resin component was different from the mixed resin was used for forming the low refractive index layer in Example 1, Was saponified under the same conditions.

[저굴절률층용 조성물 (6)] [Composition (6) for low refractive index layer]

TMPTA 75부 TMPTA 75 parts

DPPA 25부 DPPA 25 pts

중공형 실리카 입자 100부 Hollow silica particles 100 parts

용제; MIBK 70부 solvent; MIBK 70

용제; PGMEA 30부 solvent; PGMEA 30 copies

방오제 4부 Antifouling Part 4

광중합 개시제 7부 Photopolymerization initiator 7 parts

〔실시예 8〕 [Example 8]

실시예 1에 있어서, 저굴절률층의 형성에, 수지 성분이 혼합 수지로 상이한 하기의 저굴절률층용 조성물 (7)을 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 반사 방지 필름을 제작하고, 실시예 1과 동일한 조건에서 비누화 처리하였다.An antireflection film was produced in the same manner as in Example 1 except that the following composition for a low refractive index layer (7) having different resin components as the mixed resin was used for forming the low refractive index layer in Example 1, Was saponified under the same conditions.

[저굴절률층용 조성물 (7)] [Composition (7) for a low refractive index layer]

V802 75부 V802 75 parts

DPPA 25부 DPPA 25 pts

중공형 실리카 입자 100부 Hollow silica particles 100 parts

용제; MIBK 70부 solvent; MIBK 70

용제; PGMEA 30부 solvent; PGMEA 30 copies

방오제 4부 Antifouling Part 4

광중합 개시제 7부 Photopolymerization initiator 7 parts

〔실시예 9〕 [Example 9]

실시예 1에 있어서, 저굴절률층의 형성에, 수지 및 용제가 상이한 하기의 저굴절률층용 조성물 (8)을 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 반사 방지 필름을 제작하고, 실시예 1과 동일한 조건에서 비누화 처리하였다.An antireflection film was produced in the same manner as in Example 1 except that the following composition for a low refractive index layer (8) having different resins and solvents was used for forming the low refractive index layer in Example 1, Lt; / RTI &gt;

[저굴절률층용 조성물 (8)] [Composition (8) for a low refractive index layer]

TMPTA 75부 TMPTA 75 parts

DPPA 25부 DPPA 25 pts

중공형 실리카 입자 100부 Hollow silica particles 100 parts

용제: MIBK 70부 Solvent: MIBK 70 parts

용제: PGME 30부 Solvent: PGME 30 parts

방오제 4부 Antifouling Part 4

광중합 개시제 7부 Photopolymerization initiator 7 parts

〔실시예 10〕 [Example 10]

실시예 1에 있어서, 저굴절률층의 형성에, 중공형 실리카 입자의 배합량이 상이한 하기의 저굴절률층용 조성물 (9)를 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 반사 방지 필름을 제작하고, 실시예 1과 동일한 조건에서 비누화 처리하였다.An antireflection film was produced in the same manner as in Example 1 except that the following composition for low refractive index layer (9) having different amounts of hollow silica particles was used for forming the low refractive index layer in Example 1, 1 under the same conditions.

[저굴절률층용 조성물 (9)] [Composition (9) for a low refractive index layer]

TMPTA 100부 TMPTA 100 parts

중공형 실리카 입자 120부 Hollow silica particles 120 parts

용제: MIBK 70부 Solvent: MIBK 70 parts

용제; PGMEA 30부 solvent; PGMEA 30 copies

방오제 4부 Antifouling Part 4

광중합 개시제 7부 Photopolymerization initiator 7 parts

〔비교예 1〕 [Comparative Example 1]

실시예 1에 있어서, 저굴절률층의 형성에, 히드록실기 함유율이 0.2 초과인 다관능 중합성 화합물을 포함하는 하기의 저굴절률층용 조성물 (10)을 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 반사 방지 필름을 제작하고, 실시예 1과 동일한 조건에서 비누화 처리하였다. Except that the following composition for a low refractive index layer (10) containing a polyfunctional polymerizable compound having a hydroxyl group content of more than 0.2 was used in the formation of the low refractive index layer in Example 1, And a saponification treatment was carried out under the same conditions as in Example 1. Then,

[저굴절률층용 조성물 (10)] [Composition (10) for a low refractive index layer]

PETA 100부 PETA 100 parts

중공형 실리카 입자 100부 Hollow silica particles 100 parts

용제; MIBK 70부 solvent; MIBK 70

용제; PGMEA 30부 solvent; PGMEA 30 copies

방오제 4부 Antifouling Part 4

광중합 개시제 7부 Photopolymerization initiator 7 parts

〔비교예 2〕 [Comparative Example 2]

비교예 1에서 제작한 반사 방지 필름을 비누화 처리 조건 B로 비누화 처리하였다.The anti-reflection film produced in Comparative Example 1 was subjected to saponification treatment under the saponification treatment condition B.

〔비교예 3〕 [Comparative Example 3]

실시예 1에 있어서, 저굴절률층의 형성에, 히드록실기 함유율이 0.2 초과인 다관능 중합성 화합물을 포함하고, 용제 성분이 상이한 하기의 저굴절률층용 조성물 (11)을 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 반사 방지 필름을 제작하고, 실시예 1과 동일한 조건에서 비누화 처리하였다.Except that the following composition for a low refractive index layer (11) containing a multifunctional polymerizable compound having a hydroxyl group content of more than 0.2 and having different solvent components was used in the formation of the low refractive index layer in Example 1, 1, an antireflection film was prepared and subjected to a saponification treatment under the same conditions as in Example 1.

[저굴절률층용 조성물 (11)] [Composition (11) for a low refractive index layer]

PETA 100부 PETA 100 parts

중공형 실리카 입자 100부 Hollow silica particles 100 parts

용제; MIBK 85부solvent; MIBK 85

용제; PGME 15부 solvent; PGME 15 part

방오제 4부 Antifouling Part 4

광중합 개시제 7부 Photopolymerization initiator 7 parts

〔비교예 4〕 [Comparative Example 4]

실시예 1에 있어서, 저굴절률층의 형성에, 히드록실기 함유율이 0.2 초과인 다관능 중합성 화합물과, 히드록실기 함유율이 0.2 이하인 다관능 중합성 화합물을 포함하여 전자가 수지분 전량의 50질량% 이상인, 하기의 저굴절률층용 조성물 (12)를 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 반사 방지 필름을 제작하고, 실시예 1과 동일한 조건에서 비누화 처리하였다.In Example 1, in the formation of the low refractive index layer, the ratio of the total number of electrons to the total amount of the resin components was 50, including the multifunctional polymerizable compound having a hydroxyl group content of more than 0.2 and the multifunctional polymerizable compound having a hydroxyl group content of 0.2 or less An antireflection film was produced in the same manner as in Example 1 except that the following composition (12) for a low refractive index layer was used in an amount of not less than 1 mass% and saponified under the same conditions as in Example 1.

[저굴절률층용 조성물 (12)] [Composition (12) for a low refractive index layer]

PETA 75부 PETA 75 parts

DPPA 25부 DPPA 25 pts

중공형 실리카 입자 100부 Hollow silica particles 100 parts

용제; MIBK 70부 solvent; MIBK 70

용제; PGME 30부 solvent; PGME 30 parts

방오제 4부 Antifouling Part 4

광중합 개시제 7부 Photopolymerization initiator 7 parts

〔비교예 5〕 [Comparative Example 5]

실시예 1에 있어서, 저굴절률층의 형성에, 히드록실기 함유율이 0.2 초과인 다관능 중합성 화합물과, 히드록실기 함유율이 0.2 이하인 다관능 중합성 화합물을 포함하여 전자가 수지분 전량의 50질량% 이상인, 하기의 저굴절률층용 조성물 (13)을 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 반사 방지 필름을 제작하고, 실시예 1과 동일한 조건에서 비누화 처리하였다.In Example 1, in the formation of the low refractive index layer, the ratio of the total number of electrons to the total amount of the resin components was 50, including the multifunctional polymerizable compound having a hydroxyl group content of more than 0.2 and the multifunctional polymerizable compound having a hydroxyl group content of 0.2 or less An antireflection film was produced in the same manner as in Example 1 except that the composition (13) for a low refractive index layer described below was used in an amount of not less than 1 mass% and saponified under the same conditions as in Example 1.

[저굴절률층용 조성물 (13)] [Composition (13) for a low refractive index layer]

PETA 75부 PETA 75 parts

V802 25부 V802 25

중공형 실리카 입자 100부 Hollow silica particles 100 parts

용제; MIBK 70부 solvent; MIBK 70

용제; PGME 30부 solvent; PGME 30 parts

방오제 4부 Antifouling Part 4

광중합 개시제 7부 Photopolymerization initiator 7 parts

〔비교예 6〕 [Comparative Example 6]

실시예 1에 있어서, 저굴절률층의 형성에, 수지 성분이 상이하고 분자량이 1000 초과인 다관능 중합성 화합물을 포함하는, 하기의 저굴절률층용 조성물 (14)를 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 반사 방지 필름을 제작하고, 실시예 1과 동일한 조건에서 비누화 처리하였다.The procedure of Example 1 was repeated except that the following composition for a low refractive index layer (14) was used, which contained a multifunctional polymerizable compound having a different resin component and a molecular weight of more than 1000 in the formation of the low refractive index layer. Similarly, an antireflection film was prepared and subjected to saponification under the same conditions as in Example 1.

[저굴절률층용 조성물 (14)] [Composition (14) for a low refractive index layer]

UV1700B 100부 UV1700B 100 parts

중공형 실리카 입자 100부 Hollow silica particles 100 parts

용제; MIBK 70부 solvent; MIBK 70

용제; PGMEA 30부 solvent; PGMEA 30 copies

방오제 4부 Antifouling Part 4

광중합 개시제 7부 Photopolymerization initiator 7 parts

〔성능 평가 결과〕 [Performance evaluation result]

상기 실시예 및 비교예에서 사용한 중합성 화합물의 내용을 하기 표 1 및 표 2에 나타내고, 성능 평가 결과를 하기 표 2와 표 3에 나타내었다.The contents of the polymerizable compounds used in the above Examples and Comparative Examples are shown in Tables 1 and 2, and the performance evaluation results are shown in Tables 2 and 3 below.

Figure 112012090854902-pat00003
Figure 112012090854902-pat00003

Figure 112012090854902-pat00004
Figure 112012090854902-pat00004

Figure 112012090854902-pat00005
Figure 112012090854902-pat00005

표 1에 나타낸 바와 같이, 저굴절률층의 전리방사선 경화성 수지를 구성하는 중합성 화합물에, 히드록실기를 갖는 다관능 중합성 화합물을 사용하지 않고, 전량을 히드록실기를 함유하지 않는 다관능 중합성 화합물로서 3관능의 TMPTA를 사용한 실시예 1 내지 실시예 2와 실시예 10 및 전량을 히드록실기를 함유하지 않는 다관능 중합성 화합물로서 6관능의 NK 에스테르(DPHA)를 사용한 실시예 4는, 모두 내찰상성, 방오성, 반사 방지성, 내백화성 및 외관이 모두 ○로, 내비누화성을 만족할만한 것이었다. 또한, 비누화 처리를 변경해서 조건 B로 행한 실시예 2도 마찬가지로 내비누화성이 만족할만한 것이었다.As shown in Table 1, in the polymerizable compound constituting the ionizing radiation curable resin of the low refractive index layer, the total amount of the multifunctional polymerizable monomer not containing a hydroxyl group Example 4, which used trifunctional TMPTA as a functional compound in Examples 1 to 2 and Example 10, and 6-functional NK ester (DPHA) as a polyfunctional polymerizable compound containing no hydroxyl group in all, , All of scratch resistance, antifouling property, antireflection property, whitening resistance, and appearance were all satisfactory. Also, Example 2 in which the saponification treatment was carried out under Condition B was also satisfactory in the saponification resistance.

저굴절률층의 전리방사선 경화성 수지를 구성하는 중합성 화합물에 히드록실기를 갖는 다관능 중합성 화합물을 사용했지만, 1 분자 중 히드록실기수가 1개 이하이고 히드록실기 함유율이 0.2 이하인 것을 사용한, DPPA의 실시예 3, V802의 실시예 4, DPPMA의 실시예 6에서도, 모두 내찰상성, 방오성, 반사 방지성, 내백화성 및 외관이 모두 ○로, 내비누화성을 만족할만한 것이었다.A multifunctional polymerizable compound having a hydroxyl group in the polymerizable compound constituting the ionizing radiation curable resin of the low refractive index layer is used. However, when the number of hydroxyl groups per molecule is 1 or less and the hydroxyl group content is 0.2 or less, In Example 3 of DPPA, Example 4 of V802, and Example 6 of DPPMA, all of scratch resistance, antifouling property, antireflection property, whitening resistance and appearance were all satisfactory.

히드록실기를 갖는 다관능 중합성 화합물을 사용했지만, 1 분자 중 히드록실기수가 1개 이하이고 히드록실기 함유율이 0.2 이하인 것을 사용하면서, 또한 히드록실기를 갖지 않는 다관능 중합성 화합물과 병용한, 실시예 7 내지 9도 모두 내찰상성, 방오성, 반사 방지성, 내백화성 및 외관이 모두 ○로, 내비누화성을 만족할만한 것이었다.A multifunctional polymerizable compound having a hydroxyl group is used but it is also possible to use a compound having a hydroxyl group content of not more than 1 and a hydroxyl group content of not more than 0.2 in one molecule, In all of Examples 7 to 9, scratch resistance, antifouling property, antireflection property, whitening resistance, and appearance were both satisfactory.

이상, 실시예 1 내지 실시예 10은 모든 평가에서 내비누화성은 ○로 만족할만한 것으로, 저굴절률층의 수지가 비누화 처리에서 용해나 탈락하지 않고 잔존하고 있기 때문이라고 생각된다.As described above, in Examples 1 to 10, it is considered that the saponification resistance is satisfactory in all the evaluations, and that the resin of the low refractive index layer remains without dissolving or falling off in the saponification treatment.

한편, 저굴절률층의 전리방사선 경화성 수지를 구성하는 중합성 화합물에, 히드록실기를 갖고 히드록실기 함유량이 0.2 초과인 다관능 중합성 화합물인 PETA를 사용한 비교예 1 내지 비교예 5는, 반사 방지성, 내백화성 및 외관은 비누화 처리 후에도 모두 ○로, 내비누화성은 만족할만한 것이었다. 그러나, 비교예 1 내지 비교예 5는, 내찰상성과 방오성과 외관이 비누화 처리 후에 ×로, 내비누화성은 만족할만한 것은 아니었다. 히드록실기를 갖는 다관능 중합성 화합물과 함께, 히드록실기를 갖지 않는 다관능 중합성 화합물을 부성분(수지분 전량의 50질량% 미만)의 범위에서 병용한 비교예 4 및 비교예 5는, 히드록실기를 갖지 않는 중합성 화합물의 사용량이 적고 수지 조성물 전체로서 히드록실기의 양이 많기 때문에, 내찰상성과 방오성과 외관이 비누화 처리 후에 ×가 되었다.On the other hand, in Comparative Examples 1 to 5 using PETA which is a polyfunctional polymerizable compound having a hydroxyl group and a hydroxyl group content of more than 0.2 in the polymerizable compound constituting the ionizing radiation curable resin of the low refractive index layer, The antimicrobial resistance, whitening resistance and appearance were all after the saponification treatment, and the saponification resistance was satisfactory. However, in Comparative Examples 1 to 5, scratch resistance, antifouling property and appearance were not satisfactory after the saponification treatment, and the saponification resistance was not satisfactory. Comparative Example 4 and Comparative Example 5 in which a multifunctional polymerizable compound having no hydroxyl group together with a multifunctional polymerizable compound having a hydroxyl group were used together in the range of the subcomponent (less than 50% by mass of the entire resin component) Since the amount of the polymerizable compound having no hydroxyl group was small and the amount of the hydroxyl group as a whole was large in the resin composition, scratch resistance, antifouling property and appearance became X after the saponification treatment.

다관능 중합성 화합물에 히드록실기는 갖지 않고 히드록실기 함유율이 0이지만, 히드록실기를 갖는 우레탄계 올리고머 타입의 화합물을 사용한 비교예 6은, 아크릴로일기의 관능기수가 10과 9를 초과하고 있는 데다가, (중량 평균)분자량이 2000으로 1000을 크게 초과하고 있기 때문에, 방오성이야말로 비누화 처리 후에도 ○였지만, 내찰상성과 반사 방지성과 내백화성과 외관은 비누화 처리 후에 ×가 되어, 만족할만한 것은 아니었다.In Comparative Example 6 in which the hydroxyl group was not contained in the polyfunctional polymerizable compound and the content of the hydroxyl group was 0, but the urethane type oligomer type compound having a hydroxyl group was used, the number of functional groups of the acryloyl group exceeded 10 and 9 In addition, since the molecular weight (weight average) exceeded 1000 by 1000, the antifouling property was ○ even after the saponification treatment, but the scratch resistance, antireflection property, whitening property and appearance were unsatisfactory after the saponification treatment.

내찰상성은 마찰 하중을 300g/㎠로부터 600g/㎠로 증가시켜서 평가하면, 비누화 후에 실시예 1 내지 2는 하중 증가 전과 마찬가지로 양호하지만, 실시예 3 내지 10은 허용 범위 내이지만 조금 저하된다. 따라서, 수지는 TMPTA 100%인 경우가 가장 양호하였다.When the frictional load is evaluated by increasing the frictional load from 300 g / cm 2 to 600 g / cm 2, Examples 1 and 2 after saponification are as good as before the load increase, but Examples 3 to 10 fall within the permissible range but slightly decrease. Therefore, the resin had the best TMPTA of 100%.

표 1에는 기재하지 않았지만, 투명 기재 필름과 하드 코트층과의 밀착성은 각 실시예 및 각 비교예 모두 양호하였다. 이 밀착성은 JIS K5400의 격자 테이프법에 준해서 행하여, 격자의 모눈은 모두 박리되지 않았다.Although not shown in Table 1, the adhesiveness between the transparent base film and the hard coat layer was good in both Examples and Comparative Examples. This adhesion was performed in accordance with the lattice tape method of JIS K5400, and the gratings were not peeled off.

1: 투명 기재 필름
2: 저굴절률층
2s: 저굴절률층면
3: 하드 코트층(기능층)
4: 편광자
5: 보호 필름
10: 반사 방지 필름
20: 편광판
1: transparent substrate film
2: low refractive index layer
2s: low refractive index layer surface
3: Hard coat layer (functional layer)
4: Polarizer
5: Protective film
10: Antireflection film
20: polarizer

Claims (4)

트리아세틸셀룰로오스로 이루어지는 투명 기재 필름과,
상기 투명 기재 필름의 한쪽면 상에 형성되고, 제1 전리방사선 경화성 수지의 경화물층으로 이루어지며 중공형 실리카 입자를 함유하고 적층되는 하층보다 낮은 굴절률을 갖는 저굴절률층과,
상기 투명 기재 필름과 상기 저굴절률층 사이에 설치된 기능층
을 구비하는 반사 방지 필름에 있어서,
상기 기능층이, 제2 전리 방사선 경화성 수지의 경화물층으로 이루어지는 하드 코팅층이고,
상기 제1 전리 방사선 경화성 수지에 포함되는 중합성 화합물이, 다음 (A), (B) 중 어느 하나이고,
(A) 분자 중에 히드록실기를 갖지 않는 다관능 중합성 화합물이며, 디에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 이소시아누르산 변성 트리(메트)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판테트라아크릴레이트 중 어느 하나를 포함하는 다관능 중합성 화합물,
(B) 분자 중에 히드록실기를 갖는 중합성 화합물이며, 1분자 중에 포함되는 히드록실기의 수를 분자량으로 나누어서 100배한 값으로서 정의되는 히드록실기 함유율이 0.2 이하인 다관능 중합성 화합물,
상기 (A), (B)에 있어서의 다관능 중합성 화합물의 관능기수가 3 내지 9이고 분자량이 300 내지 1000이고,
상기 제2 전리 방사선 경화성 수지에 포함되는 중합성 화합물이, 분자 중에 히드록실기를 갖지 않는 다관능 중합성 화합물인, 반사 방지 필름.
A transparent base film made of triacetyl cellulose,
A low refractive index layer which is formed on one side of the transparent base film and has a refractive index lower than that of the lower layer which is composed of a cured layer of the first ionizing radiation curable resin and contains hollow silica particles,
And a functional layer provided between the transparent base film and the low refractive index layer
The anti-reflection film according to claim 1,
Wherein the functional layer is a hard coating layer comprising a cured layer of a second ionizing radiation curable resin,
Wherein the polymerizable compound contained in the first ionizing radiation curable resin is any one of the following (A) and (B)
(A) a multifunctional polymerizable compound having no hydroxyl group in the molecule, and at least one of diethylene glycol di (meth) acrylate, isocyanuric acid-modified tri (meth) acrylate and ditrimethylolpropane tetraacrylate A polyfunctional polymerizable compound,
(B) a multifunctional polymerizable compound having a hydroxyl group in a molecule and having a hydroxyl group content defined as a value obtained by dividing the number of hydroxyl groups contained in one molecule by the molecular weight by 100,
The polyfunctional polymerizable compound in the above (A) and (B) has a functional group number of 3 to 9, a molecular weight of 300 to 1000,
Wherein the polymerizable compound contained in the second ionizing radiation curable resin is a polyfunctional polymerizable compound having no hydroxyl group in the molecule.
편광자의 적어도 한쪽면 상에, 제1항에 기재된 반사 방지 필름이 그의 투명 기재 필름측을 상기 편광자를 향하여 적층되어 있는, 편광판.Wherein the antireflection film according to claim 1 is laminated on at least one side of the polarizer with its transparent base film side facing the polarizer. 제1항에 기재된 반사 방지 필름, 또는 제2항에 기재된 편광판을 구비한, 화상 표시 장치.An image display device comprising the antireflection film according to claim 1 or the polarizing plate according to claim 2. 삭제delete
KR1020120124580A 2011-11-07 2012-11-06 Antireflection film, polarizing plate and image display device KR101779624B1 (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011243818A JP6089392B2 (en) 2011-11-07 2011-11-07 Antireflection film, polarizing plate and image display device
JPJP-P-2011-243818 2011-11-07

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20130050247A KR20130050247A (en) 2013-05-15
KR101779624B1 true KR101779624B1 (en) 2017-09-18

Family

ID=48621866

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020120124580A KR101779624B1 (en) 2011-11-07 2012-11-06 Antireflection film, polarizing plate and image display device

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP6089392B2 (en)
KR (1) KR101779624B1 (en)
TW (1) TWI541530B (en)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6636069B2 (en) * 2017-09-08 2020-01-29 株式会社ダイセル Anti-reflection film
KR102280262B1 (en) * 2018-05-18 2021-07-21 주식회사 엘지화학 Anti-reflective film, polarizing plate, and display apparatus
CN113613885B (en) * 2019-03-29 2023-12-22 株式会社Lg化学 Optical laminate
WO2021106788A1 (en) * 2019-11-26 2021-06-03 日東電工株式会社 Antireflection film, method for producing same, and image display device

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006030881A (en) 2004-07-21 2006-02-02 Fuji Photo Film Co Ltd Antireflective film, polarizing plate and liquid crystal display device
JP2007011323A (en) 2005-06-03 2007-01-18 Bridgestone Corp Antireflection film, antireflective light-transmitting window material having the antireflection film, and display filter having the antireflective light-transmitting window material
JP2010085985A (en) 2008-09-04 2010-04-15 Dainippon Printing Co Ltd Optical laminate, method for producing the same, polarizing plate and image display apparatus

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006030881A (en) 2004-07-21 2006-02-02 Fuji Photo Film Co Ltd Antireflective film, polarizing plate and liquid crystal display device
JP2007011323A (en) 2005-06-03 2007-01-18 Bridgestone Corp Antireflection film, antireflective light-transmitting window material having the antireflection film, and display filter having the antireflective light-transmitting window material
JP2010085985A (en) 2008-09-04 2010-04-15 Dainippon Printing Co Ltd Optical laminate, method for producing the same, polarizing plate and image display apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
TW201331612A (en) 2013-08-01
TWI541530B (en) 2016-07-11
JP6089392B2 (en) 2017-03-08
JP2013101187A (en) 2013-05-23
KR20130050247A (en) 2013-05-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101747488B1 (en) Antistatic hardcoat film, polarizing plate and image display device
KR101787131B1 (en) Hard coat film, polarizing film, image display device, and hard coat film manufacturing method
KR101381530B1 (en) Method for producing optical film, optical film, polarizing plate and display
JP4746863B2 (en) Anti-glare hard coat layer forming material and anti-glare hard coat film
JP5441056B2 (en) Hard coat layer forming composition, hard coat film, optical element and image display device
JP5412735B2 (en) Optical laminate manufacturing method, optical laminate, polarizing plate, and image display device
JP3515447B2 (en) Antireflection material and polarizing film using the same
KR20180082631A (en) Optical laminate, polarizing plate and image display device
JP5954173B2 (en) Optical laminate, polarizing plate, and image display device
JP6330881B2 (en) Method for improving saponification resistance of antireflection film
JP4266623B2 (en) Hard coat film
KR101779624B1 (en) Antireflection film, polarizing plate and image display device
KR101466520B1 (en) Curable resin composition for antistatic layer, optical film, polarizing plate, and display panel
JP2007233320A (en) Antiglare film
JP5490487B2 (en) Optical laminate
JP2014128978A (en) Optical laminate
JP2002006109A (en) Antireflecting material and polarising film using it
JP2009066757A (en) Antiglare film
JP7480532B2 (en) Films and Laminates
JP2011107335A (en) Optical laminate

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
A302 Request for accelerated examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant