JP6089392B2 - Antireflection film, polarizing plate and image display device - Google Patents

Antireflection film, polarizing plate and image display device Download PDF

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Description

本発明は、反射防止フィルム、偏光板及び画像表示装置に関する。特に、アルカリ水溶液による鹸化処理時の性能低下を防げる耐鹸化性を有する反射防止フィルムと、それを用いた、偏光板及び画像表示装置に関する。   The present invention relates to an antireflection film, a polarizing plate, and an image display device. In particular, the present invention relates to a saponification-resistant antireflection film capable of preventing performance degradation during saponification treatment with an alkaline aqueous solution, and a polarizing plate and an image display device using the same.

液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、エレクトロルミネッセンスディスプレイ、タッチパネル、電子ペーパー、タブレットPC等の画像表示装置では、通常、画像表示面の傷付き、汚れ、光反射等を防ぐ為の光学フィルムが、画像表示面に設けられている。例えば、反射防止フィルムとしては、透明基材フィルム上に、電離放射線硬化性樹脂に低屈折率化剤として中空状シリカ粒子を添加した樹脂組成物を塗布して低屈折率層を形成した光学フィルムが知られている(特許文献1)。
反射防止フィルムには、低屈折率層の樹脂に電離放射線硬化性樹脂を採用することで、光反射防止性能に加えて、耐擦傷性、防汚性も付与することができる。また、低屈折率層と透明基材フィルムとの間に、ハードコート層を設ければ耐擦傷性をより強化できる(特許文献1)。
In an image display device such as a liquid crystal display, plasma display, electroluminescence display, touch panel, electronic paper, tablet PC, etc., an optical film for preventing scratches, dirt, light reflection, etc. on the image display surface is usually provided on the image display surface. Is provided. For example, as an antireflection film, an optical film in which a low refractive index layer is formed by applying a resin composition obtained by adding hollow silica particles as a low refractive index agent to an ionizing radiation curable resin on a transparent base film. Is known (Patent Document 1).
By using an ionizing radiation curable resin for the resin of the low refractive index layer, the antireflection film can be provided with scratch resistance and antifouling property in addition to the antireflection performance. Further, if a hard coat layer is provided between the low refractive index layer and the transparent substrate film, the scratch resistance can be further enhanced (Patent Document 1).

また、液晶ディスプレイにおいては、液晶セルに対して通常偏光板が設けられている。偏光板は、通常、ヨウ素を吸着し配向処理したポリビニルアルコールフィルムからなる偏光子に対して、その両面を保護フィルムで積層した構成である。また保護フィルムには、透明性、光学的無配向性等の点で通常トリアセチルセルロースフィルムが使用されており、偏光子との密着性を高める為にアルカリ水溶液で表面を鹸化処理してから偏光子と積層している。   In a liquid crystal display, a polarizing plate is usually provided for a liquid crystal cell. The polarizing plate usually has a structure in which both surfaces of a polarizer made of a polyvinyl alcohol film that has been adsorbed with iodine and subjected to orientation treatment are laminated with a protective film. In addition, a triacetyl cellulose film is usually used as the protective film in terms of transparency, optical non-orientation, etc., and the surface is saponified with an aqueous alkaline solution to enhance the adhesion with the polarizer and then polarized. Laminated with a child.

特開2010−85983号公報JP 2010-85983 A

ところで、画像表示装置においては薄型化は性能に於ける重要な一要素であり、光学フィルムにおいても、薄型化への対応が望まれている。このため、偏光板に加えて反射防止フィルムをさらに設ける代わりに、偏光板の保護フィルムに反射防止フィルムを使用して、偏光子に反射防止フィルムを積層し偏光板と反射防止フィルムとを一体化した偏光板とすれば、その分薄く出来ることになる。また、偏光子に積層する保護フィルムは、偏光子との密着性の観点から易接着処理としてアルカリ水溶液による鹸化処理が必要とされている。
しかしながら、低屈折率層を有する反射防止フィルムを鹸化処理すると、低屈折率層中の低屈折率化剤が脱落したり低屈折率層を構成する樹脂が溶解したり欠落したりして、耐擦傷性や防汚性が損なわれることがあった。
この耐鹸化性を持たせるために、前記低屈折率層上に一時的に耐鹸化用の保護フィルムを貼り付けることもなされているが、コストアップの問題があった。
Incidentally, thinning is an important factor in performance in an image display device, and it is desired to cope with thinning in an optical film. For this reason, instead of providing an antireflection film in addition to the polarizing plate, an antireflection film is used as the protective film for the polarizing plate, the antireflection film is laminated on the polarizer, and the polarizing plate and the antireflection film are integrated. If a polarizing plate is used, the thickness can be reduced accordingly. Moreover, the protective film laminated | stacked on a polarizer requires the saponification process by aqueous alkali solution as an easily bonding process from an adhesive viewpoint with a polarizer.
However, when the antireflective film having the low refractive index layer is saponified, the low refractive index agent in the low refractive index layer is dropped or the resin constituting the low refractive index layer is dissolved or missing, resulting in resistance to resistance. Abrasion and antifouling properties may be impaired.
In order to give this saponification resistance, a protective film for saponification is temporarily attached on the low refractive index layer, but there is a problem of cost increase.

そこで、本発明の課題は、耐鹸化用の保護フィルムを貼り付けることなしにアルカリ水溶液によって鹸化処理をしても、低屈折率層の機能が損なわれない様にして、反射防止性、耐擦傷性、防汚性等の機能を維持できる、耐鹸化性を有する反射防止フィルムを提供することである。
また、この様な反射防止フィルムを用いた、偏光板及び画像表示装置を提供することである。なお、本願において耐擦傷性機能を維持するとは、低屈折率層の表面硬度維持を意味するだけではなく、低屈折率層とその下層との界面密着性が良好に維持できることをいう。
Therefore, the object of the present invention is to prevent the function of the low refractive index layer from being impaired even if saponification treatment is performed with an alkaline aqueous solution without attaching a protective film for saponification resistance. It is to provide an antireflection film having saponification resistance capable of maintaining functions such as property and antifouling property.
Moreover, it is providing the polarizing plate and image display apparatus using such an antireflection film. In this application, maintaining the scratch resistance function not only means maintaining the surface hardness of the low refractive index layer, but also means that the interfacial adhesion between the low refractive index layer and its lower layer can be maintained well.

本発明は、次の構成の反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置とした。
(1)トリアセチルセルロースからなる透明基材フィルムの一方の面上に、電離放射線硬化性樹脂の硬化物層からなり、中空状シリカ粒子を含有し、積層される下層よりも低い屈折率である低屈折率層を有する、反射防止フィルムにおいて、
前記電離放射線硬化性樹脂に含まれる重合性化合物が、次の(A),(B),(C)のいずれかであり、
(A)分子中にヒドロキシル基を有さない多官能重合性化合物であって、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸変性トリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、のいずれかを含む多官能重合性化合物、
(B)分子中にヒドロキシル基を有する重合性化合物であって、1分子中に含まれるヒドロキシル基の数を分子量で除して100倍した値として定義したヒドロキシル基含有率が、0.2以下である多官能重合性化合物、
(C)複数種類で、分子中にヒドロキシル基を有する重合性化合物を1種類以上含む場合は、この複数種類の重合性化合物を任意の質量比で含む樹脂組成物について、この樹脂組成物中の全重合性化合物を1つの分子と見なし、この1つの分子の分子量に前記全重合性化合物の重量平均分子量を用いたときの前記ヒドロキシル基含有率が0.2以下である多官能重合性化合物、
前記(A),(B),(C)における多官能重合性化合物の官能基数が3〜9であり、分子量が300〜1000である、反射防止フィルム。
The present invention provides an antireflection film, a polarizing plate, and an image display device having the following configurations.
(1) On one surface of a transparent substrate film made of triacetylcellulose, it consists of a cured product layer of an ionizing radiation curable resin, contains hollow silica particles, and has a lower refractive index than the lower layer to be laminated. In an antireflection film having a low refractive index layer,
The polymerizable compound contained in the ionizing radiation curable resin is any of the following (A), (B), and (C):
(A) A polyfunctional polymerizable compound having no hydroxyl group in the molecule and comprising any of diethylene glycol di (meth) acrylate, isocyanuric acid-modified tri (meth) acrylate, and ditrimethylolpropane tetraacrylate Polymerizable compounds,
(B) a polymerizable compound having a hydroxyl group in the molecule, the hydroxyl group content defined as dividing by 100 times the value of the number of hydroxyl groups in the molecular weight contained in one molecule, 0.2 A polyfunctional polymerizable compound,
(C) In the case where one or more kinds of polymerizable compounds having a hydroxyl group in the molecule are contained, the resin composition containing the plural kinds of polymerizable compounds at an arbitrary mass ratio is contained in the resin composition. A polyfunctional polymerizable compound wherein the total polymerizable compound is regarded as one molecule, and the hydroxyl group content is 0.2 or less when the weight average molecular weight of the total polymerizable compound is used as the molecular weight of the one molecule,
The antireflection film whose number of functional groups of the polyfunctional polymerizable compound in said (A), (B), (C) is 3-9, and whose molecular weight is 300-1000.

(2)透明基材フィルムと低屈折率層との間に、機能層を有する、上記(1)の反射防止フィルム。
(3)偏光子の少なくとも一方の面上に、上記(1)又は(2)の反射防止フィルムがその透明基材フィルム側を前記偏光子に向けて積層されている、偏光板。
(2) The antireflection film according to (1) above, which has a functional layer between the transparent base film and the low refractive index layer.
(3) A polarizing plate in which the antireflection film of (1) or (2) is laminated on at least one surface of the polarizer with the transparent base film side facing the polarizer.

(4)上記(1)若しくは(2)の反射防止フィルム、又は、上記(3)の偏光板を備えた、画像表示装置。 (4) An image display device comprising the antireflection film of (1) or (2) or the polarizing plate of (3).

(1)本発明による反射防止フィルムによれば、鹸化処理に対して、反射防止性、耐擦傷性(表面硬度と、低屈折率層とその下の層間の密着性)、防汚性、及び耐白化性が損なわれない、耐鹸化性を有する。
(2)本発明による偏光板によれば、それが備える反射防止フィルムによって、反射防止性、耐擦傷性(表面硬度と、低屈折率層とその下の層間の密着性)、防汚性、及び耐白化性を有する。
(3)本発明による画像表示装置によれば、画像表示面に、反射防止性、耐擦傷性(表面硬度と、低屈折率層とその下の層間の密着性)、防汚性、及び耐白化性を付与することができる。
(1) The antireflection film according to the present invention has antireflection properties, scratch resistance (surface hardness and adhesion between the low refractive index layer and the underlying layer), antifouling properties, It has saponification resistance that does not impair whitening resistance.
(2) According to the polarizing plate of the present invention, the antireflection film provided therein provides antireflection properties, scratch resistance (surface hardness and adhesion between the low refractive index layer and the underlying layer), antifouling properties, And whitening resistance.
(3) According to the image display device of the present invention, the image display surface is provided with antireflection properties, scratch resistance (surface hardness and adhesion between the low refractive index layer and the lower layer), antifouling properties, and antiresistance properties. Whitening property can be imparted.

本発明による反射防止フィルムの一実施形態を説明する断面図。Sectional drawing explaining one Embodiment of the antireflection film by this invention. 本発明による偏光板の一実施形態を説明する断面図。Sectional drawing explaining one Embodiment of the polarizing plate by this invention.

以下、本発明の実施の形態を説明する。   Embodiments of the present invention will be described below.

A.反射防止フィルム
本発明による反射防止フィルムは、トリアセチルセルロースからなる透明基材フィルムの一方の面に、電離放射線硬化性樹脂の硬化物層からなり中空状シリカ粒子を含有し前記透明基材フィルムの屈折率よりも低い屈折率の低屈折率層を有する、反射防止フィルムである。しかも、本発明では、上記電離放射線硬化性樹脂はヒドロキシル基が分子中に所定量より少ない多官能重合性化合物を含む樹脂組成物からなる。
A. Antireflective film The antireflective film according to the present invention comprises hollow silica particles composed of a cured product layer of an ionizing radiation curable resin on one surface of a transparent substrate film made of triacetylcellulose. An antireflection film having a low refractive index layer having a refractive index lower than the refractive index. Moreover, in the present invention, the ionizing radiation curable resin is composed of a resin composition containing a polyfunctional polymerizable compound having less than a predetermined amount of hydroxyl groups in the molecule.

また、本発明の反射防止フィルムは、低屈折率層と透明基材フィルムとの間にハードコート層を設けることが、耐擦傷性をより強化できる点で好ましい。
ここで、図1は、本発明による反射防止フィルムの一形態例を示す断面図である。同図の反射防止フィルム10は、透明基材フィルム1の片面に、低屈折率層2がハードコート層3を介して形成された形態の光学フィルムである。ハードコート層3は電離放射線硬化性樹脂の硬化物層からなる。
In the antireflection film of the present invention, it is preferable that a hard coat layer is provided between the low refractive index layer and the transparent substrate film because the scratch resistance can be further enhanced.
Here, FIG. 1 is a cross-sectional view showing one embodiment of the antireflection film according to the present invention. The antireflection film 10 in the figure is an optical film in which a low refractive index layer 2 is formed on one side of a transparent substrate film 1 via a hard coat layer 3. The hard coat layer 3 is composed of a cured layer of an ionizing radiation curable resin.

以下、各層毎に説明する。   Hereinafter, each layer will be described.

なお、本明細書では、(メタ)アクリロイル基とはアクリロイル基又はメタクリロイル基を意味し、(メタ)アクリレートとはアクリレート又はメタクリレートを意味し、単にアクリレート系と言うときはメタクリレート系も含む。   In the present specification, the (meth) acryloyl group means an acryloyl group or a methacryloyl group, the (meth) acrylate means an acrylate or a methacrylate, and a simple acrylate system includes a methacrylate system.

〔透明基材フィルム〕
透明基材フィルム1は、トリアセチルセルロースからなる透明なフィルムである。トリアセチルセルロースフィルム(TACフィルム)を透明基材フィルムに用いることで、優れた透明性と、液晶ディスプレイ用途の偏光板の保護フィルムとして好適な優れた光学的等方性が得られる。このため、TACフィルムを用いることで、液晶ディスプレイ用途に於いて、偏光板と共に使用したり、偏光板の保護フィルムとして使用したりするときに、好ましい光学特性が得られる。
透明基材フィルムの透明性とは、可視光域380〜780nmにおいて、平均光透過率が少なくとも70%以上であり、好ましくは85%以上、より好ましくは90%以上であることが望ましい。透明基材フィルムの屈折率は、トリアセチルセルロースフィルムの場合、約1.49である。
透明基材フィルムの厚さは、通常20μm〜300μm、好ましくは30μm〜200μmである。
[Transparent substrate film]
The transparent substrate film 1 is a transparent film made of triacetyl cellulose. By using a triacetyl cellulose film (TAC film) as a transparent substrate film, excellent transparency and excellent optical isotropy suitable as a protective film for a polarizing plate for liquid crystal displays can be obtained. For this reason, by using a TAC film, preferable optical characteristics can be obtained when it is used with a polarizing plate or used as a protective film for a polarizing plate in a liquid crystal display application.
The transparency of the transparent substrate film means that the average light transmittance is at least 70% or more in the visible light region of 380 to 780 nm, preferably 85% or more, more preferably 90% or more. The refractive index of the transparent substrate film is about 1.49 in the case of a triacetyl cellulose film.
The thickness of the transparent substrate film is usually 20 μm to 300 μm, preferably 30 μm to 200 μm.

透明基材フィルム1を構成する上記トリアセチルセルロースとしては、純粋なトリアセチルセルロース以外に、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートの如くセルロースとエステルを形成する脂肪酸として酢酸以外の成分を併用した樹脂でも良い。透明基材フィルムには、必要に応じて、ジアセチルセルロース等のトリアセチルセルロース以外のセルロース低級脂肪酸エステル系樹脂を含んでいても良い。   As the triacetyl cellulose constituting the transparent substrate film 1, in addition to pure triacetyl cellulose, components other than acetic acid are used in combination as a fatty acid that forms an ester with cellulose, such as cellulose acetate propionate and cellulose acetate butyrate. Resin may be used. The transparent substrate film may contain a cellulose lower fatty acid ester-based resin other than triacetyl cellulose such as diacetyl cellulose, if necessary.

透明基材フィルム1は、可塑剤、帯電防止剤、紫外線吸收剤等の各種添加剤を含んでいても良い。
透明基材フィルム1は、必要に応じて、例えば、グロー放電処理、コロナ放電処理、紫外線(UV)処理、火炎処理、プライマー層形成などの密着強化の為の表面処理が施されたものでも良い。
The transparent substrate film 1 may contain various additives such as a plasticizer, an antistatic agent, and an ultraviolet absorber.
The transparent base film 1 may be subjected to surface treatment for adhesion enhancement such as glow discharge treatment, corona discharge treatment, ultraviolet (UV) treatment, flame treatment, and primer layer formation, if necessary. .

〔低屈折率層〕
低屈折率層2は、低屈折率化剤を含有する樹脂の硬化物層からなり、低屈折率層が直接積層される、直下の層よりも屈折率が低いことで、光反射を防止する。低屈折率層の屈折率は、直下の層の屈折率未満であるが、低屈折率層とその直下の層との屈折率差は0.02〜0.3であり、より好ましくは0.05〜0.2であることが好ましい。
低屈折率層の屈折率自体は、1.45以下が充分な反射防止性が得られる点で好ましく、より好ましくは1.40以下、さらに好ましくは1.38以下である。
(Low refractive index layer)
The low refractive index layer 2 is formed of a cured resin layer containing a low refractive index agent and prevents light reflection by having a lower refractive index than the layer directly below, on which the low refractive index layer is directly laminated. . The refractive index of the low refractive index layer is less than the refractive index of the layer immediately below, but the difference in refractive index between the low refractive index layer and the layer immediately below is 0.02 to 0.3, more preferably 0. It is preferable that it is 05-0.2.
The refractive index itself of the low refractive index layer is preferably 1.45 or less in view of obtaining sufficient antireflection properties, more preferably 1.40 or less, and further preferably 1.38 or less.

低屈折率層2は、電離放射線硬化性樹脂の硬化物層からなり、低屈折率化剤として中空状シリカ粒子を含有し、しかも該電離放射線硬化性樹脂はヒドロキシル基が分子中に所定量より少ない多官能重合性化合物を含む樹脂組成物の硬化物からなる層である。電離放射線硬化性樹脂は中空状シリカ粒子に対するバインダ樹脂となると共に、低屈折率層の耐擦傷性を向上させる。この電離放射線硬化性樹脂に、ヒドロキシル基が分子中に所定量より少ない重合性化合物を用いることで、耐鹸化性が得られ、また、低屈折率層に電離放射線硬化性樹脂を用い且つ多官能の重合性化合物を用いることで、低屈折率層の塗膜強度を強めて耐擦傷性が得られる。なお、中空状シリカ粒子とは、例えば、外殻を有し、その内部が多孔質または空洞になっている微粒子であり、特開平6−330606、特開平7−013137、特開平7−133105、特開2001−233611等に記載された様々な製法で得ることができる。
低屈折率層の厚みは、50〜150nm、好ましくは80〜120nmである。
The low refractive index layer 2 is composed of a cured layer of an ionizing radiation curable resin, contains hollow silica particles as a low refractive index agent, and the ionizing radiation curable resin has a hydroxyl group in a molecule in a predetermined amount. It is a layer made of a cured product of a resin composition containing a small amount of a polyfunctional polymerizable compound. The ionizing radiation curable resin becomes a binder resin for the hollow silica particles and improves the scratch resistance of the low refractive index layer. By using a polymerizable compound having a hydroxyl group less than a predetermined amount in the molecule for this ionizing radiation curable resin, saponification resistance can be obtained, and the ionizing radiation curable resin is used for the low refractive index layer and is multifunctional. By using this polymerizable compound, the coating strength of the low refractive index layer is increased and scratch resistance is obtained. The hollow silica particles are, for example, fine particles having an outer shell and porous or hollow inside, and disclosed in JP-A-6-330606, JP-A-7-013137, JP-A-7-133105, It can be obtained by various production methods described in JP-A-2001-233611.
The thickness of the low refractive index layer is 50 to 150 nm, preferably 80 to 120 nm.

[電離放射線硬化性樹脂]
上記電離放射線硬化性樹脂は、紫外線及び電子線に代表される電離放射線により硬化する樹脂であり、電離放射線で重合可能な重合性官能基を有する、モノマー、プレポリマー(含むオリゴマー)等の重合性化合物の1種又は2種以上を少なくとも有する樹脂組成物である。電離放射線で重合可能な重合性官能基の代表例は重合性不飽和基であり、重合性不飽和基は例えば、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のラジカル重合性のエチレン性二重結合である。なかでも、(メタ)アクリロイル基が本発明には好ましく用いることができ、各種アクリレート系の電離放射線硬化性樹脂が知られている。
[Ionizing radiation curable resin]
The ionizing radiation curable resin is a resin that is cured by ionizing radiation typified by ultraviolet rays and electron beams, and has a polymerizable functional group that can be polymerized by ionizing radiation, such as monomers and prepolymers (including oligomers). It is a resin composition having at least one compound or two or more compounds. A representative example of a polymerizable functional group that can be polymerized by ionizing radiation is a polymerizable unsaturated group. Examples of the polymerizable unsaturated group include radically polymerizable ethylenic divalent groups such as (meth) acryloyl group, vinyl group, and allyl group. It is a double bond. Among these, a (meth) acryloyl group can be preferably used in the present invention, and various acrylate-based ionizing radiation curable resins are known.

重合性化合物としては、耐擦傷性(表面硬度、界面密着性)の点で、2官能以上の多官能重合性化合物が好ましく、より好ましくは3官能以上で9官能以下の多官能重合性化合物が好ましい。   As the polymerizable compound, a polyfunctional polymerizable compound having 2 or more functional groups is preferable from the viewpoint of scratch resistance (surface hardness, interfacial adhesion), more preferably a polyfunctional polymerizable compound having 3 to 9 functional groups. preferable.

多官能重合性化合物の中でもヒドロキシル基を分子中に有さないものであると耐鹸化性が得られ、ヒドロキシル基を分子中に有する化合物であると耐鹸化性が得られない。
この理由としては、ヒドロキシル基はアルカリ水溶液と親和性がよく、電離放射線により硬化した後に形成された三次元の架橋構造内のヒドロキシル基にアルカリ水溶液がアタックすることで、架橋構造を壊してしまうためと推測される。また、鹸化液に使用する水酸化ナトリウムが水溶液中で解離したナトリウムイオンが非常に小さいため、架橋構造内に染み込みやすいためと推測される。
Among the polyfunctional polymerizable compounds, those having no hydroxyl group in the molecule can provide saponification resistance, and those having a hydroxyl group in the molecule cannot provide saponification resistance.
The reason for this is that the hydroxyl group has a good affinity with the aqueous alkali solution, and the aqueous alkaline solution attacks the hydroxyl group in the three-dimensional crosslinked structure formed after curing by ionizing radiation, thereby destroying the crosslinked structure. It is guessed. Further, it is presumed that sodium hydroxide used in the saponification solution has very small sodium ions dissociated in an aqueous solution, so that it easily penetrates into the crosslinked structure.

ここで、良好なる耐鹸化性が得られるヒドロキシル基を分子中に有さない多官能重合性化合物の一具体例と、耐鹸化性が得られないヒドロキシル基を分子中に有する多官能重合性化合物の一具体例を示す。
良好なる耐鹸化性が得られるヒドロキシル基を分子中に有さない多官能重合性化合物の具体例を示せば、下記式[1]で表わされる、重合性官能基としてアクリロイル基を3個有する、トリメチロールプロパントリアクリレート(TMPTA)が挙げられる。式中、Acはアクリロイル基である。
Here, a specific example of a polyfunctional polymerizable compound that does not have a hydroxyl group in the molecule that provides good saponification resistance, and a polyfunctional polymerizable compound that has a hydroxyl group in the molecule that does not provide saponification resistance A specific example is shown.
If the specific example of the polyfunctional polymerizable compound which does not have the hydroxyl group in a molecule | numerator from which favorable saponification resistance is obtained is shown, it has three acryloyl groups as a polymeric functional group represented by following formula [1]. An example is trimethylolpropane triacrylate (TMPTA). In the formula, Ac is an acryloyl group.

Figure 0006089392
Figure 0006089392

しかし、上記[式1]で表わされる、トリメチロールプロパントリアクリレート(TMPTA)に対して、重合性官能基としてアクリロイル基は3個有するが、末端のメチル基がヒドロキシル基に置き換わり、都合1個のヒドロキシル基を有する、下記式[2]で表わされる、ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA)では、耐鹸化性が得られない。式中、Acはアクリロイル基である。これが耐鹸化性が得られないヒドロキシル基を分子中に有する多官能重合性化合物の具体例である。   However, the trimethylolpropane triacrylate (TMPTA) represented by the above [Formula 1] has three acryloyl groups as polymerizable functional groups, but the terminal methyl group is replaced with a hydroxyl group, so that Pentaerythritol triacrylate (PETA) represented by the following formula [2] having a hydroxyl group cannot provide saponification resistance. In the formula, Ac is an acryloyl group. This is a specific example of a polyfunctional polymerizable compound having a hydroxyl group in the molecule for which saponification resistance cannot be obtained.

Figure 0006089392
Figure 0006089392

更に良好なる耐鹸化性が得られる、ヒドロキシル基を分子中に有さない多官能重合性化合物の例として、アクリレート系の電離放射線硬化性樹脂の多官能モノマーで例示すれば、
2官能の重合性化合物では、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート等が挙げられる。
As an example of a polyfunctional polymerizable compound that does not have a hydroxyl group in the molecule, which can achieve better saponification resistance, an example of a polyfunctional monomer of an acrylate ionizing radiation curable resin is as follows:
Bifunctional polymerizable compounds include hexanediol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) ) Acrylate and the like.

3官能の重合性化合物では、上記例示したトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート(略称TMPTA)の他に、イソシアヌル酸変性トリ(メタ)アクリレート等が挙げられ、
4官能の重合性化合物では、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレートが挙げられ、
6官能の重合性化合物では、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート(略称DPHA)が挙げられ、
7官能以上の重合性化合物としては、V802(DPHAの多量体、大阪有機化学工業株式会社製)などがある。
In the trifunctional polymerizable compound, in addition to the above-exemplified trimethylolpropane tri (meth) acrylate (abbreviated as TMPTA), isocyanuric acid-modified tri (meth) acrylate, and the like,
Examples of tetrafunctional polymerizable compounds include pentaerythritol tetra (meth) acrylate and ditrimethylolpropane tetraacrylate,
The hexafunctional polymerizable compound includes dipentaerythritol hexa (meth) acrylate (abbreviation DPHA),
Examples of the polymerizable compound having 7 or more functional groups include V802 (DPHA multimer, manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.).

ヒドロキシル基を分子中に有さない多官能重合性化合物の例として、アクリレート系の電離放射線硬化性樹脂の多官能プレポリマーで例示すれば、ポリエステル系、ポリエーテル系、ウレタン系、エポキシ系、シリコーン系などの各種アクリレート系プレポリマーが挙げられる。   As an example of a polyfunctional polymerizable compound having no hydroxyl group in the molecule, a polyfunctional prepolymer of an acrylate ionizing radiation curable resin, for example, polyester, polyether, urethane, epoxy, silicone Examples include various acrylate-based prepolymers such as those.

ヒドロキシル基を分子中に有さない多官能重合性化合物の例として、市販品を挙げれば、NKエステル(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、新中村化学工業株式会社製)、などがある。   Examples of polyfunctional polymerizable compounds having no hydroxyl group in the molecule include NK esters (dipentaerythritol hexaacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.). Made).

上記ヒドロキシル基を分子中に有さない多官能重合性化合物の例の中で、本発明に好ましく用いることが出来る化合物はトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレートが挙げられる。この化合物は、鹸化処理に対して特に優れた耐擦傷性を示す。   Among the examples of the polyfunctional polymerizable compound having no hydroxyl group in the molecule, a compound that can be preferably used in the present invention is trimethylolpropane tri (meth) acrylate. This compound exhibits particularly excellent scratch resistance against saponification.

(ヒドロキシル基を分子中に有する重合性化合物の使用)
低屈折率層2の形成に用いる電離放射線硬化性樹脂の樹脂組成物としては、その重合性化合物としてヒドロキシル基を分子中に有さない多官能重合性化合物のみからなることが、耐鹸化性の点で最も好ましい。ただ、耐鹸化性を損なわない範囲内であれば、耐擦傷性、塗工適性などの物性調整等の為に、ヒドロキシル基を分子中に有する重合性化合物を使用することができる。この場合、耐擦傷性の点で、ヒドロキシル基を分子中に有する重合性化合物としては、多官能重合性化合物が好ましい。
(Use of a polymerizable compound having a hydroxyl group in the molecule)
The resin composition of the ionizing radiation curable resin used for forming the low refractive index layer 2 is composed of only a polyfunctional polymerizable compound having no hydroxyl group in the molecule as its polymerizable compound. Most preferred in terms. However, within the range not impairing the saponification resistance, a polymerizable compound having a hydroxyl group in the molecule can be used for adjusting physical properties such as scratch resistance and coating suitability. In this case, from the viewpoint of scratch resistance, the polymerizable compound having a hydroxyl group in the molecule is preferably a polyfunctional polymerizable compound.

ヒドロキシル基を分子中に有する多官能重合性化合物の例として、アクリレート系の電離放射線硬化性樹脂の多官能モノマーで例示すれば、分子中に1個のヒドロキシル基を有する多官能モノマーでは、トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート(略称TMPDA)、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート(略称PETA)、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート(略称DPPA)等が挙げられ、分子中に2個のヒドロキシル基を有する多官能モノマーでは、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート(略称DPTA)が挙げられる。   As an example of a polyfunctional polymerizable compound having a hydroxyl group in the molecule, an example of a polyfunctional monomer of an acrylate ionizing radiation curable resin, a polyfunctional monomer having one hydroxyl group in the molecule is trimethylol. Examples include propanedi (meth) acrylate (abbreviation TMPDA), pentaerythritol tri (meth) acrylate (abbreviation PETA), dipentaerythritol penta (meth) acrylate (abbreviation DPPA), etc., and has two hydroxyl groups in the molecule. As the polyfunctional monomer, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate (abbreviation DPTA) can be given.

このように、ヒドロキシル基を分子中に有する多官能重合性化合物の場合、ヒドロキシル基が分子中に占める割合が大きいものは、耐鹸化性の点で好ましくない。なるべく、低屈折率層を形成する電離放射線硬化性樹脂の樹脂組成物の全量中に於ける、ヒドロキシル基の割合が少ない方が、より確実に耐鹸化性をよくできる点で好ましい。   Thus, in the case of a polyfunctional polymerizable compound having a hydroxyl group in the molecule, a compound having a large proportion of the hydroxyl group in the molecule is not preferable in terms of saponification resistance. As much as possible, it is preferable that the proportion of hydroxyl groups in the total amount of the resin composition of the ionizing radiation curable resin forming the low refractive index layer is smaller in that the saponification resistance can be improved more reliably.

(ヒドロキシル基含有率)
そこで、本発明では、ヒドロキシル基を分子中に有する多官能重合性化合物の場合、ヒドロキシル基が分子中に占める割合の指標として、1分子中に含まれるヒドロキシル基(OH基)の数を分子量で除して100倍した値を「ヒドロキシル基含有率」として定義する。
ここで、ヒドロキシル基含有率の具体例を示せば、前記ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート(略称PETA)は、OH基数1で分子量298で0.33、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(略称DPPA)は、OH基数1で分子量約550で0.18である。
なお、一般的にTMPTA、PETA、DPHA、DPPA等の化合物は、完全に構造式どおりのOH基数の化合物ではなく、正確には化合物合成中に生じてしまい、100%除去できないようなOH基が構造式の数と異なる分子もわずかに混在しているが、本願においてヒドロキシル基含有率を算出する場合には、わずかに混在するものは考えず、構造式のOH基数にて算出する。
(Hydroxyl group content)
Therefore, in the present invention, in the case of a polyfunctional polymerizable compound having a hydroxyl group in the molecule, the number of hydroxyl groups (OH groups) contained in one molecule is expressed as a molecular weight as an index of the proportion of the hydroxyl group in the molecule. The value obtained by dividing by 100 is defined as “hydroxyl group content”.
Here, if a specific example of the hydroxyl group content is shown, the pentaerythritol tri (meth) acrylate (abbreviated as PETA) has an OH group number of 1 and a molecular weight of 298, 0.33, and dipentaerythritol pentaacrylate (abbreviated as DPPA) The number of OH groups is 1, and the molecular weight is about 550 and 0.18.
In general, compounds such as TMPTA, PETA, DPHA, and DPPA are not completely OH groups according to the structural formula, but are generated accurately during compound synthesis and have OH groups that cannot be removed 100%. Although molecules different from the number of structural formulas are also slightly mixed, when calculating the hydroxyl group content in the present application, it is calculated by the number of OH groups in the structural formula without considering what is slightly mixed.

ヒドロキシル基含有率は、0.2以下が好ましい。多官能重合性化合物として、その1分子中に含有するヒドロキシル基の数が、ヒドロキシル基含有率で0.2以下の化合物を用いることによって、好ましい耐鹸化性が得られる。   The hydroxyl group content is preferably 0.2 or less. A preferred saponification resistance can be obtained by using a compound having a hydroxyl group content of 0.2 or less as a polyfunctional polymerizable compound.

ヒドロキシル基含有率は1分子に対する指標であるが、電離放射線硬化性樹脂の樹脂組成物が、複数種類の重合性化合物の混合物である場合、これら複数種類の重合性化合物の全体として、ヒドロキシル基含有率を0.2以下とするのが好ましい。また、重合性化合物の分子量が単一ではなく分子量分布を有する場合は、前記計算式中の分子量に重量平均分子量を使う。
つまり、分子量分布を有する場合も含めて、電離放射線硬化性樹脂の樹脂組成物が、複数種類の重合性化合物を含む場合は、この樹脂組成物に含まれる全ての重合性化合物を1つの分子と見なして、この1つの分子の分子量に前記全ての重合性化合物の重量平均分子量を用い、この分子中のヒドロキシル基数から、樹脂組成物のヒドロキシル基含有率を計算する。ヒドロキシル基を分子中に有する重合性化合物と、ヒドロキシル基を分子中に有さない重合性化合物とを含む場合も同様である。例えば、分子量500の重合性化合物と分子量1000の重合性化合物とを質量比で50:50で含み、ヒドロキシル基を一方の化合物が1個有し、他方の化合物が有さない樹脂組成物の場合は、分子量750の化合物に対してヒドロキシル基が1個存在するとして、ヒドロキシル基含有率を(1/750)×100=0.13として計算する。
Although the hydroxyl group content is an index for one molecule, when the ionizing radiation curable resin composition is a mixture of plural kinds of polymerizable compounds, the plural kinds of polymerizable compounds as a whole contain hydroxyl groups. The rate is preferably 0.2 or less. When the molecular weight of the polymerizable compound is not single but has a molecular weight distribution, the weight average molecular weight is used as the molecular weight in the calculation formula.
That is, in the case where the resin composition of the ionizing radiation curable resin includes a plurality of types of polymerizable compounds including the case of having a molecular weight distribution, all the polymerizable compounds contained in the resin composition are regarded as one molecule. Accordingly, the weight average molecular weight of all the polymerizable compounds is used as the molecular weight of this one molecule, and the hydroxyl group content of the resin composition is calculated from the number of hydroxyl groups in this molecule. The same applies to the case where a polymerizable compound having a hydroxyl group in the molecule and a polymerizable compound having no hydroxyl group in the molecule are included. For example, in the case of a resin composition containing a polymerizable compound having a molecular weight of 500 and a polymerizable compound having a molecular weight of 1000 in a mass ratio of 50:50, one compound having one hydroxyl group and no other compound. Is calculated assuming that one hydroxyl group is present for a compound having a molecular weight of 750, and that the hydroxyl group content is (1/750) × 100 = 0.13.

なお、こうした電離放射線硬化性樹脂の樹脂組成物が複数種類の重合性化合物を含む場合の多官能重合性化合物の官能基数は、上記したヒドロキシル基含有率と同様にして計算することができる。   The number of functional groups of the polyfunctional polymerizable compound in the case where the resin composition of the ionizing radiation curable resin includes a plurality of types of polymerizable compounds can be calculated in the same manner as the hydroxyl group content described above.

ヒドロキシル基を分子中に有する多官能重合性化合物であっても、ヒドロキシル基含有率が0.2以下で、好ましい耐鹸化性が得られる化合物の例示として、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(DPPA)及びジペンタエリスリトールペンタメタクリレート(DPPMA)が、本発明においては好ましく用いることができる。   As an example of a compound having a hydroxyl group content of 0.2 or less and preferable saponification resistance even if it is a polyfunctional polymerizable compound having a hydroxyl group in the molecule, dipentaerythritol pentaacrylate (DPPA) and di Pentaerythritol pentamethacrylate (DPPMA) can be preferably used in the present invention.

低屈折率層2を構成する電離放射線硬化性樹脂の硬化物層を形成する為の、電離放射線硬化性樹脂の樹脂組成物としては、その重合性化合物としてヒドロキシル基を分子中に有さない重合性化合物として、多官能の重合性化合物が好ましいが、物性調整等の為に、単官能の重合性化合物を併用しても良い。
例えば、ヒドロキシル基を分子中に有さない単官能の重合性化合物の例として、アクリレート系の電離放射線硬化性樹脂の単官能モノマーで例示すれば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、メチルヘキシル(メタ)アクリレート、エチルヘキシル(メタ)アクリレート等、その他のエチレン性重合性化合物等が挙げられる。
As a resin composition of an ionizing radiation curable resin for forming a cured product layer of an ionizing radiation curable resin constituting the low refractive index layer 2, polymerization having no hydroxyl group in the molecule as the polymerizable compound As the functional compound, a polyfunctional polymerizable compound is preferable, but a monofunctional polymerizable compound may be used in combination for adjusting physical properties.
For example, as an example of a monofunctional polymerizable compound having no hydroxyl group in the molecule, a monofunctional monomer of an acrylate-based ionizing radiation curable resin, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, Other ethylenically polymerizable compounds such as methylhexyl (meth) acrylate, ethylhexyl (meth) acrylate, and the like can be mentioned.

(分子量)
ヒドロキシル基を有さない多官能重合性化合物、及びヒドロキシル基を有する多官能重合性化合物の分子量は、2官能以上、より好ましくは3官能以上の多官能であることから必然的に300以上の分子量が好ましい。ただ、分子量が大きすぎると、50〜150nmという薄膜条件下では、層内部全体での1分子あたりの架橋反応可能な部分が減少することになり架橋密度が低下し、結果、耐擦傷性が低下するので、最大でも分子量は1000以下とするのが好ましい。この為、ヒドロキシル基を有さない多官能重合性化合物、及びヒドロキシル基を有する多官能重合性化合物の分子量は、300〜1000の範囲のものを使用するのが好ましい。なお、分子量分布を有する重合性化合物の場合は、この分子量とは重量平均分子量の意味である。
(Molecular weight)
The molecular weight of the polyfunctional polymerizable compound having no hydroxyl group and the polyfunctional polymerizable compound having a hydroxyl group is necessarily a molecular weight of 300 or more because it is a bifunctional or more, more preferably a trifunctional or more polyfunctional. Is preferred. However, if the molecular weight is too large, under the thin film condition of 50 to 150 nm, the number of crosslinkable portions per molecule in the whole layer decreases, resulting in a decrease in crosslinking density, resulting in a decrease in scratch resistance. Therefore, the molecular weight is preferably 1000 or less at the maximum. For this reason, it is preferable that the molecular weight of the polyfunctional polymerizable compound which does not have a hydroxyl group, and the polyfunctional polymerizable compound which has a hydroxyl group uses the thing of the range of 300-1000. In the case of a polymerizable compound having a molecular weight distribution, this molecular weight means a weight average molecular weight.

上記重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)によるポリスチレン換算により求めることができる。GPC移動相の溶剤には、テトラヒドロフランやクロロホルムを使用することができる。測定用カラムは、テトラヒドロフラン用又はクロロホルム用のカラムの市販品カラムを組み合わせて使用するとよい。この市販品カラムとしては、例えば、Shodex(登録商標)GPC KF−801、GPC KF−800D(いずれも、昭和電工株式会社製)等を挙げることができる。検出器には、RI(示差屈折率)検出器及びUV検出器を使用するとよい。このような溶剤、カラム、検出器を使用して、例えば、Shodex(登録商標)GPC−101(昭和電工株式会社製)等のGPCシステムにより、上記重量平均分子量を適宜測定することができる。   The said weight average molecular weight can be calculated | required by polystyrene conversion by a gel permeation chromatography (GPC). Tetrahydrofuran or chloroform can be used as the solvent for the GPC mobile phase. The measurement column may be used in combination with a commercially available column such as a column for tetrahydrofuran or a column for chloroform. As this commercial item column, Shodex (trademark) GPC KF-801, GPC KF-800D (all are the Showa Denko KK make) etc. can be mentioned, for example. As the detector, an RI (differential refractive index) detector and a UV detector may be used. Using such a solvent, a column, and a detector, the weight average molecular weight can be appropriately measured by a GPC system such as Shodex (registered trademark) GPC-101 (manufactured by Showa Denko KK).

(電離放射線非重合性樹脂の併用)
電離放射線硬化性樹脂には、電離放射線で硬化可能な重合性化合物以外に、電離放射線では重合しない電離放射線非重合性樹脂を、物性調整の為など必要に応じて、耐鹸化性能に支障を来たさない範囲で、併用しても良い。電離放射線で硬化可能な重合性化合物以外の電離放射線非重合性樹脂は、電離放射線以外のエネルギーで硬化可能な重合性化合物、例えば電離放射線では硬化しないが熱で硬化可能な熱硬化性樹脂、電離放射線でも熱でも硬化しない熱可塑性樹脂などである。
熱硬化性樹脂としては、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、フェノール系樹脂、シリコーン樹脂等が挙げられ、熱可塑性樹脂としては、アクリル系樹脂、熱可塑性ウレタン系樹脂、ポリアミド系樹脂、スチレン系樹脂、セルロース系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ビニル系樹脂、シリコーン樹脂等である。セルロース系樹脂としては、ニトロセルロース、アセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、エチルヒドロキシエチルセルロース等が挙げられる。
(Combination with ionizing radiation non-polymerizable resin)
For ionizing radiation curable resins, in addition to polymerizable compounds that can be cured with ionizing radiation, ionizing radiation non-polymerizable resins that do not polymerize with ionizing radiation can interfere with saponification resistance when necessary, such as for adjusting physical properties. They may be used in combination as long as they do not. Ionizing radiation non-polymerizable resins other than polymerizable compounds curable by ionizing radiation are polymerizable compounds curable by energy other than ionizing radiation, for example, thermosetting resins that are not cured by ionizing radiation but can be cured by heat, ionization For example, a thermoplastic resin that is not cured by radiation or heat.
Examples of thermosetting resins include urethane resins, melamine resins, phenolic resins, silicone resins, etc., and thermoplastic resins include acrylic resins, thermoplastic urethane resins, polyamide resins, styrene resins, Cellulosic resins, polycarbonate resins, vinyl resins, silicone resins and the like. Examples of the cellulose-based resin include nitrocellulose, acetylcellulose, cellulose acetate propionate, and ethylhydroxyethylcellulose.

(重合開始剤)
電離放射線硬化性樹脂を紫外線で硬化させる場合は、電離放射線硬化性樹脂の樹脂組成物中に、さらに、重合開始剤を含有させることが好ましい。重合開始剤としては公知のもの、例えば、ラジカル重合により硬化させる場合は、アセトフェノン系、ベンゾフェノン系、チオキサントン系の重合開始剤が用いられる。重合開始剤は単独使用又は併用して用いる。市販品では、例えば、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンは、イルガキュア(登録商標)184(BASFジャパン株式会社製)、イルガキュア(登録商標)127(BASFジャパン株式会社製)等が入手可能である。また、カチオン重合により硬化させる場合は、メタロセン系、芳香族スルホニウム系、芳香族ヨードニウム系等の重合開始剤が用いられる。重合開始剤は、樹脂分100質量部に対して、0.1〜10質量部程度添加する。
(Polymerization initiator)
When the ionizing radiation curable resin is cured with ultraviolet rays, it is preferable to further include a polymerization initiator in the resin composition of the ionizing radiation curable resin. As the polymerization initiator, a known one, for example, when curing by radical polymerization, an acetophenone-based, benzophenone-based, or thioxanthone-based polymerization initiator is used. The polymerization initiator is used alone or in combination. In the commercial product, for example, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone is available as Irgacure (registered trademark) 184 (manufactured by BASF Japan Ltd.), Irgacure (registered trademark) 127 (manufactured by BASF Japan Ltd.), and the like. . In the case of curing by cationic polymerization, a polymerization initiator such as metallocene, aromatic sulfonium or aromatic iodonium is used. About 0.1 to 10 parts by mass of the polymerization initiator is added to 100 parts by mass of the resin content.

(溶剤)
電離放射線硬化性樹脂の樹脂組成物には、透明基材フィルム上への塗工適性等の物性調整の為に、溶剤を含ませることができる。
溶剤としては、例えば、イソプロピルアルコール、メタノール、エタノール、ブタノール、イソブチルアルコール等のアルコール類、メチルエチルケトン(MEK)、メチルイソブチルケトン(MIBK)、シクロヘキサノン等のケトン類、プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGMEA)等のグリコールエーテル類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸プロピル等のエステル類、クロロホルム、塩化メチレン、テトラクロルエタン等のハロゲン化炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類である。溶剤は、これらの単独又は混合物として用いる。なかでも、好ましいのは、塗工適性、分散安定性等の点で、メチルエチルケトン(MEK)、メチルイソブチルケトン(MIBK)、プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME)、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)、等である。
(solvent)
The resin composition of the ionizing radiation curable resin can contain a solvent for adjusting physical properties such as coating suitability on the transparent substrate film.
Examples of the solvent include alcohols such as isopropyl alcohol, methanol, ethanol, butanol, and isobutyl alcohol, ketones such as methyl ethyl ketone (MEK), methyl isobutyl ketone (MIBK), and cyclohexanone, and glycols such as propylene glycol monomethyl ether (PGMEA). Ethers, esters such as methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, and propyl acetate; halogenated hydrocarbons such as chloroform, methylene chloride, and tetrachloroethane; and aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene. These solvents are used alone or as a mixture thereof. Among them, preferred are methyl ethyl ketone (MEK), methyl isobutyl ketone (MIBK), propylene glycol monomethyl ether (PGME), propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA), etc. in terms of coating suitability and dispersion stability. is there.

(防汚剤)
低屈折率層2は、反射防止フィルムの最外層となる点で、汚れに対して防汚性を有することが好ましい。この点で、低屈折率層には防汚剤を含ませることが好ましい。防汚剤としては、公知のものを適宜採用することができる。例えば、防汚剤としては、シリコーン系化合物、フッ素系化合物などが挙げられる。また、防汚剤は耐鹸化性や硬化性の性能持続性のためにアクリレート系化合物であるのが好ましい。例えば、シリコーンアクリレート系化合物、フッ素含有アクリレート化合物、フッ素とシリコーンを含有するアクレート化合物などである。
(Anti-fouling agent)
The low refractive index layer 2 preferably has an antifouling property against dirt in that it is the outermost layer of the antireflection film. In this respect, it is preferable to include an antifouling agent in the low refractive index layer. A well-known thing can be suitably employ | adopted as an antifouling agent. For example, examples of the antifouling agent include silicone compounds and fluorine compounds. Further, the antifouling agent is preferably an acrylate compound for maintaining saponification resistance and curability performance. For example, silicone acrylate compounds, fluorine-containing acrylate compounds, and acrylate compounds containing fluorine and silicone.

(その他添加剤)
電離放射線硬化性樹脂の樹脂組成物には、塗工適性、低屈折率化剤の分散安定性等の物性調整の為に、公知の各種添加剤を添加することができる。例えば、レベリング剤、分散安定剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、屈折率調整剤等である。
(Other additives)
Various known additives can be added to the resin composition of the ionizing radiation curable resin in order to adjust physical properties such as coating suitability and dispersion stability of the low refractive index agent. For example, a leveling agent, a dispersion stabilizer, an antistatic agent, an ultraviolet absorber, an antioxidant, a refractive index adjusting agent and the like.

[中空状シリカ粒子]
中空状シリカ粒子は、低屈折率層の塗膜強度を保持しつつ、その屈折率を下げる機能を有する粒子である。本発明で用いる中空状シリカ粒子は、内部に空洞を有する構造のシリカ微粒子である。中空状シリカ粒子は、シリカ微粒子本来の屈折率(屈折率n=1.46程度)に比べて、内部の空洞の占有率に反比例して屈折率が低下しているシリカ微粒子である。このため、中空状シリカ粒子の粒子全体としての屈折率は1.20〜1.45となる。
[Hollow silica particles]
The hollow silica particles are particles having a function of lowering the refractive index while maintaining the coating strength of the low refractive index layer. The hollow silica particles used in the present invention are silica fine particles having a structure having a cavity inside. The hollow silica particles are silica fine particles having a refractive index that is inversely proportional to the occupation ratio of the internal cavity as compared with the original refractive index (refractive index n = 1.46) of the silica fine particles. For this reason, the refractive index of the hollow silica particles as a whole is 1.20 to 1.45.

中空状シリカ粒子としては、内部に空洞を有するシリカ微粒子であれば、特に限定されず、例えば、外殻を有し、その内部が多孔質または空洞になっている微粒子であり、特開平6−330606、特開平7−013137、特開平7−133105、特開2001−233611号公報で開示されている技術を用いて調製したシリカ微粒子が挙げられる。   The hollow silica particle is not particularly limited as long as it is a silica fine particle having a cavity inside, and is, for example, a fine particle having an outer shell and having a porous or hollow inside. 330606, JP-A-7-013137, JP-A-7-133105, and silica fine particles prepared by using the technique disclosed in JP-A-2001-233611.

中空状シリカ粒子の平均粒子径は好ましくは5〜300nm、より好ましくは5nm〜200nmである。該平均粒子径がこの範囲内にあることにより、低屈折率層に優れた透明性を付与することができる。また、該平均粒子径の範囲は、より好ましい下限は8nm、より好ましい上限は100nm、更に好ましい下限は10nm、更に好ましい上限は80nmである。   The average particle diameter of the hollow silica particles is preferably 5 to 300 nm, more preferably 5 nm to 200 nm. When the average particle diameter is within this range, excellent transparency can be imparted to the low refractive index layer. Further, the range of the average particle diameter is more preferably a lower limit of 8 nm, a more preferable upper limit of 100 nm, a still more preferable lower limit of 10 nm, and a still more preferable upper limit of 80 nm.

低屈折率層中の中空状シリカ粒子の含有量は特に限定されないが、好ましくは、樹脂固形分100質量部に対して、20〜180質量部の範囲である。180質量部を超えると、低屈折率層の塗膜強度が不充分となることがあり、20質量部未満であると、中空状シリカ粒子による低屈折率化の効果を充分に低屈折率層に付与できない。   Although content of the hollow silica particle in a low-refractive-index layer is not specifically limited, Preferably, it is the range of 20-180 mass parts with respect to 100 mass parts of resin solid content. If it exceeds 180 parts by mass, the coating strength of the low refractive index layer may be insufficient, and if it is less than 20 parts by mass, the effect of lowering the refractive index by the hollow silica particles is sufficiently low. Cannot be granted.

また、中空状シリカ粒子の表面はシランカップリング剤で配合前に事前に処理されていてもよい。シランカップリング剤は市販品でよく、例えば信越化学工業株式会社製のKBM−1003、KBE−1003、KBM−303、KBM−402、KBM−403、KBE−402、KBE−403、KBM−1403、KBM−502、KBM−503、KBE−502、KBE−503、KBM−5103、KBM−602、KBM−603、KBM−903、KBE−903、KBE−9103、KBM−573、KBM−575、KBE−585、KBM−802、KBM−803、KBE−846、KBE−9007などがあり、好ましくは(メタ)アクリロイル基を含有するシランカップリング剤である、KBM−502、KBM−503、KBE−502、KBE−503、KBM−5103であり、最も好ましいのはKBM−503である。   Further, the surface of the hollow silica particles may be treated in advance with a silane coupling agent before compounding. The silane coupling agent may be a commercially available product such as KBM-1003, KBE-1003, KBM-303, KBM-402, KBM-403, KBE-402, KBE-403, KBM-1403, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. KBM-502, KBM-503, KBE-502, KBE-503, KBM-5103, KBM-602, KBM-603, KBM-903, KBE-903, KBE-9103, KBM-573, KBM-575, KBE- 585, KBM-802, KBM-803, KBE-846, KBE-9007, etc., and preferably a silane coupling agent containing a (meth) acryloyl group, KBM-502, KBM-503, KBE-502, KBE-503 and KBM-5103, most preferred is KB It is -503.

[低屈折率層の形成]
低屈折率層2は上記した電離放射線硬化性樹脂の樹脂組成物を塗料乃至はインキとして、透明基材フィルム上に塗布後、電離放射線を照射して樹脂を硬化させて、形成することができる。塗布方法は特に限定はなく公知の塗布法を適宜採用すれば良い。例えば、ロールコート法、グラビアコート法、ディップ法、スプレー法、ダイドコート法、バーコート法、スピンコート法、メニスカスコート法等の塗布法である。或いは、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法等の印刷法によって形成しても良い。なお、電離放射線としては、紫外線、及び電子線が代表的である。
[Formation of low refractive index layer]
The low refractive index layer 2 can be formed by applying the ionizing radiation curable resin resin composition described above as a paint or ink on a transparent substrate film, and then irradiating the ionizing radiation to cure the resin. . A coating method is not particularly limited, and a known coating method may be appropriately employed. Examples of the coating method include a roll coating method, a gravure coating method, a dip method, a spray method, a dye coating method, a bar coating method, a spin coating method, and a meniscus coating method. Alternatively, it may be formed by a printing method such as a flexographic printing method or a screen printing method. Typical examples of the ionizing radiation include ultraviolet rays and electron beams.

〔機能層〕
反射防止フィルム10には、透明基材フィルム1と低屈折率層2との間に、本発明の主旨を逸脱しない範囲で、その他の機能層3を必要に応じて設けることができる。例えば
、ハードコート層、防眩層、帯電防止層、高屈折率層、プライマ層等の光学フィルムとして公知の透明層である。機能層3を設けることによって、設けた機能層3に応じた機能を付加することができる。例えば、機能層3が、ハードコート層では耐擦傷性機能を、防眩層では防眩機能を、帯電防止層では帯電防止機能を、高屈折率層では反射防止機能の強化を、プライマ層では密着強化機能を、付与することができる。このうち、ハードコート層について、以下説明する。
[Functional layer]
In the antireflection film 10, other functional layers 3 can be provided between the transparent base film 1 and the low refractive index layer 2 as necessary without departing from the gist of the present invention. For example, a transparent layer known as an optical film such as a hard coat layer, an antiglare layer, an antistatic layer, a high refractive index layer, and a primer layer. By providing the functional layer 3, a function corresponding to the provided functional layer 3 can be added. For example, the functional layer 3 has a scratch resistance function in the hard coat layer, an antiglare function in the antiglare layer, an antistatic function in the antistatic layer, an enhanced antireflection function in the high refractive index layer, and an antireflection function in the primer layer. An adhesion strengthening function can be imparted. Among these, the hard coat layer will be described below.

[ハードコート層]
本明細書において、「ハードコート層」とは、JIS K5600−5−4(1999年)で規定される鉛筆硬度試験(荷重500g)で「H」以上の硬度を示すものをいう。
ハードコート層3を、低屈折率層2と透明基材フィルム1との間に低屈折率層2の直下の層として設けるのが、反射防止フィルム10としての耐擦傷性をより強化できる点で好ましい。
ハードコート層は、硬化性樹脂、より好ましくは電離放射線硬化性樹脂を用い、電離放射線硬化性樹脂の硬化物層として形成する。
ハードコート層の厚みは、0.1〜100μm、好ましくは0.8〜20μmである。
[Hard coat layer]
In the present specification, the “hard coat layer” refers to a layer having a hardness of “H” or higher in a pencil hardness test (load 500 g) defined by JIS K5600-5-4 (1999).
Providing the hard coat layer 3 as a layer immediately below the low refractive index layer 2 between the low refractive index layer 2 and the transparent base film 1 is capable of further enhancing the scratch resistance as the antireflection film 10. preferable.
The hard coat layer is formed as a cured product layer of an ionizing radiation curable resin using a curable resin, more preferably an ionizing radiation curable resin.
The thickness of the hard coat layer is 0.1 to 100 μm, preferably 0.8 to 20 μm.

ハードコート層3の電離放射線硬化性樹脂には、電離放射線硬化性樹脂として公知の各種重合性化合物を用いることができる。例えば、上記した低屈折率層で列記した電離放射線硬化性樹脂を好ましくは用いることができる。従って、ハードコート層に用いる電離放射線硬化性樹脂も、低屈折率層と同様に、ヒドロキシル基が分子中に所定量より少ない重合性化合物を含む樹脂組成物で形成するのが望ましい。好ましくは樹脂組成物中の重合性化合物の全てをヒドロキシル基を分子中に有さない重合性化合物とするのがよい。また、重合性化合物は、少なくとも2官能以上、より好ましくは3官能以上の電離放射線で硬化可能な官能基を有する重合性化合物とするのが耐擦傷性を向上させる点で好ましい。   For the ionizing radiation curable resin of the hard coat layer 3, various known polymerizable compounds can be used as the ionizing radiation curable resin. For example, ionizing radiation curable resins listed in the above-described low refractive index layer can be preferably used. Therefore, it is desirable that the ionizing radiation curable resin used for the hard coat layer is formed of a resin composition containing a polymerizable compound having a hydroxyl group less than a predetermined amount in the molecule, similarly to the low refractive index layer. Preferably, all of the polymerizable compound in the resin composition is a polymerizable compound having no hydroxyl group in the molecule. In addition, the polymerizable compound is preferably a polymerizable compound having a functional group curable with ionizing radiation having at least two functions or more, more preferably three functions or more, from the viewpoint of improving the scratch resistance.

多官能重合性化合物の中でもヒドロキシル基を分子中に有さないものであると耐鹸化性が得られ、ヒドロキシル基を分子中に有する化合物であると低屈折率層において好ましい態様であっても、鹸化の温度が高温であったり、長時間鹸化をするなど、厳しい条件の場合には耐鹸化性が弱まる場合もある。これは、低屈折率層の欄で考察したのと同様の理由による。   Among the polyfunctional polymerizable compounds, those having no hydroxyl group in the molecule can provide saponification resistance, and those having a hydroxyl group in the molecule are preferable in the low refractive index layer. In severe conditions such as high saponification temperature or prolonged saponification, the saponification resistance may be weakened. This is due to the same reason as discussed in the column of the low refractive index layer.

なお、低屈折率層2に用いる多官能重合性化合物は、耐擦傷性の点から分子量が300〜1000とするのが良いが、ハードコート層3に用いる多官能重合性化合物では、分子量は1000超過の重合性化合物でもよい。   The polyfunctional polymerizable compound used for the low refractive index layer 2 preferably has a molecular weight of 300 to 1000 from the viewpoint of scratch resistance, but the polyfunctional polymerizable compound used for the hard coat layer 3 has a molecular weight of 1000. Excess polymerizable compounds may be used.

但し、ハードコート層3は低屈折率層の様に最外層ではないため、鹸化処理時のアルカリ水溶液に直接接触しないので、ハードコート層の電離放射線硬化性樹脂には、ヒドロキシル基を分子中に有する重合性化合物を用いる事に対して、低屈折率層ほど厳しくない。この点では、ハードコート層に用いる電離放射線硬化性樹脂としては、樹脂中に占める、ヒドロキシル基を分子中に有する重合性化合物が、低屈折率層に用いる電離放射線硬化性樹脂に比べて多くても良い。ただ、低屈折率層は厚みが50〜150nmと薄い為、アルカリ水溶液の浸透を考慮すると、なるべくヒドロキシル基を分子中に有さない重合性化合物を用いるのが好ましい。   However, since the hard coat layer 3 is not the outermost layer like the low refractive index layer, it does not come into direct contact with the alkaline aqueous solution during the saponification treatment. Therefore, the ionizing radiation curable resin of the hard coat layer has hydroxyl groups in the molecule. The use of the polymerizable compound is not as severe as the low refractive index layer. In this respect, as the ionizing radiation curable resin used for the hard coat layer, there are more polymerizable compounds having hydroxyl groups in the molecule in the resin than the ionizing radiation curable resin used for the low refractive index layer. Also good. However, since the low refractive index layer is as thin as 50 to 150 nm, it is preferable to use a polymerizable compound that does not have a hydroxyl group in the molecule as much as possible in consideration of the penetration of the alkaline aqueous solution.

ハードコート層にヒドロキシル基を分子中に有する重合性化合物を用いる場合、ハードコート層に用いることが出来る好ましい例としては、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート(略称PETA、ヒドロキシル基含有率0.33)、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(略称DPPA、ヒドロキシル基含有率0.18)などが挙げられる。   When a polymerizable compound having a hydroxyl group in the molecule is used for the hard coat layer, a preferred example that can be used for the hard coat layer is pentaerythritol tri (meth) acrylate (abbreviated as PETA, hydroxyl group content 0.33). And dipentaerythritol pentaacrylate (abbreviation DPPA, hydroxyl group content 0.18).

ハードコート層3には、公知の各種添加剤を含ませても良い。例えば、帯電防止剤、防眩剤、紫外線吸収剤、反応性基を有するシリカなどである。例えば、防眩剤を添加することにより、ハードコート層を防眩層と兼用して、反射防止フィルムを防眩性反射防止フィルムとすることも出来る。防眩剤には、有機系や無機系の拡散剤などを用いることができる。   The hard coat layer 3 may contain various known additives. For example, antistatic agents, antiglare agents, ultraviolet absorbers, silica having reactive groups, and the like. For example, by adding an antiglare agent, the hard coat layer can also be used as an antiglare layer, and the antireflection film can be used as an antiglare antireflection film. As the antiglare agent, an organic or inorganic diffusing agent can be used.

ハードコート層3は、ハードコート層と透明基材フィルム1との界面で生じる干渉班を防止する為には、ハードコート層に用いる塗液の少なくとも一部の組成が透明基材フィルムに含浸するものであることが好ましい。   The hard coat layer 3 impregnates the transparent substrate film with at least a part of the composition of the coating liquid used for the hard coat layer in order to prevent interference spots generated at the interface between the hard coat layer and the transparent substrate film 1. It is preferable.

ハードコート層3の形成は、ハードコート層も樹脂的には、低屈折率層と同様に電離放射線硬化性樹脂の硬化物層として形成するので、低屈折率層と同様に、その樹脂組成物を塗料乃至はインキとして、透明基材フィルム上に塗布後、電離放射線を照射して樹脂を硬化させて、形成することができる。塗布方法は特に限定はなく、低屈折率層で列記した様な、公知の塗布法を適宜採用すれば良い。   Since the hard coat layer 3 is formed as a cured product layer of an ionizing radiation curable resin in the same manner as the low refractive index layer, the resin composition of the hard coat layer 3 is the same as the low refractive index layer. Can be formed by applying ionizing radiation to the resin after being applied as a paint or ink on a transparent substrate film. The coating method is not particularly limited, and a known coating method such as listed in the low refractive index layer may be adopted as appropriate.

なお、ハードコート層3を設ける場合、低屈折率層はハードコート層上に形成することになるが、低屈折率層形成時はハードコート層は完全硬化させずに、低屈折率層の樹脂硬化と同時にハードコート層の樹脂の完全硬化を行うのが、これら両層の密着性の点で好ましい。ハードコート層と低屈折率層との界面間の密着性を向上させることで、反射防止フィルム最表面の硬度、耐擦傷性も向上させることができる。   When the hard coat layer 3 is provided, the low refractive index layer is formed on the hard coat layer. When the low refractive index layer is formed, the hard coat layer is not completely cured, and the resin of the low refractive index layer is formed. It is preferable from the viewpoint of adhesion between these two layers that the resin of the hard coat layer is completely cured simultaneously with the curing. By improving the adhesion between the interface of the hard coat layer and the low refractive index layer, the hardness and scratch resistance of the antireflection film outermost surface can also be improved.

B.偏光板
本発明による偏光板は、偏光子の少なくとも一方の面上に、上記した本発明の反射防止フィルムがその透明基材フィルム側を前記偏光子に向けて積層されている構成の偏光板である。
ここで、図2は、偏光板の一形態を示す断面図である。同図に示す偏光板20は、本発明の反射防止フィルム10が、低屈折率層面2sが最外面となる様に透明基材フィルム1側の面で、偏光子4に積層されている。反射防止フィルム10は、偏光子4の片面に積層され、偏光子4の他方の面は、本発明の反射防止フィルム10以外の保護フィルム5が積層されている構成例である。
偏光板20の反射防止フィルム10側の面は、空気に露出し、偏光板へ入光する光の反射を防止する。一方、偏光板の保護フィルム5側の面は、液晶セルなど他の光学部材に粘着剤層などで密着積層するのが普通なので、保護フィルム側の面は、反射防止フィルムの様に反射防止処理の必要がない。
ただ、本発明の偏光板としては、偏光子の両面に上記した本発明の反射防止フィルムが、その透明基材フィルム側を前記偏光子に向けて積層されていても良い。
B. Polarizing plate The polarizing plate according to the present invention is a polarizing plate having a structure in which the above-described antireflection film of the present invention is laminated on at least one surface of the polarizer with the transparent base film side facing the polarizer. is there.
Here, FIG. 2 is a cross-sectional view showing one embodiment of a polarizing plate. In the polarizing plate 20 shown in the figure, the antireflection film 10 of the present invention is laminated on the polarizer 4 on the surface of the transparent base film 1 so that the low refractive index layer surface 2s is the outermost surface. The antireflection film 10 is laminated on one surface of the polarizer 4, and the other surface of the polarizer 4 is a configuration example in which a protective film 5 other than the antireflection film 10 of the present invention is laminated.
The surface of the polarizing plate 20 on the antireflection film 10 side is exposed to air and prevents reflection of light entering the polarizing plate. On the other hand, the surface on the protective film 5 side of the polarizing plate is usually adhered and laminated to another optical member such as a liquid crystal cell with an adhesive layer or the like, so the surface on the protective film side is antireflection treated like an antireflection film. There is no need for.
However, as the polarizing plate of the present invention, the antireflection film of the present invention described above may be laminated on both sides of the polarizer with the transparent base film side facing the polarizer.

〔偏光子〕
偏光子4は、特に限定されず、偏光板における従来公知の偏光子でよい。例えば、ヨウ素等により染色し延伸したポリビニルアルコールフィルムが挙げられる。また、染色・延伸するフィルムは、ポリビニルアルコールフィルム以外に、ポリビニルホルマールフィルム、ポリビニルアセタールフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体系ケン化フィルム等も挙げられる。
[Polarizer]
The polarizer 4 is not particularly limited, and may be a conventionally known polarizer in a polarizing plate. For example, the polyvinyl alcohol film dye | stained with iodine etc. and extended | stretched is mentioned. In addition to the polyvinyl alcohol film, examples of the film to be dyed / stretched include a polyvinyl formal film, a polyvinyl acetal film, and an ethylene-vinyl acetate copolymer saponified film.

〔保護フィルム〕
保護フィルム5は、反射防止フィルムが積層されている面とは反対面の偏光子に積層される。反射防止フィルムにおける透明基材フィルムと同様のフィルムを使用することができる。従って、保護フィルムには、トリアセチルセルロースからなる透明なフィルムを用いるのが好ましい。また、カール防止等の観点から、同種のフィルムが好ましい。よって、更なる説明は省略する。
なお、この保護フィルムは、従来技術の欄で述べた一時的に接着しておく耐鹸化用の保護フィルムとは異なり、永久的に接着積層されているフィルムである。
〔Protective film〕
The protective film 5 is laminated | stacked on the polarizer of the surface on the opposite side to the surface where the antireflection film is laminated | stacked. A film similar to the transparent base film in the antireflection film can be used. Therefore, it is preferable to use a transparent film made of triacetyl cellulose as the protective film. Moreover, the same kind of film is preferable from the viewpoint of curling prevention. Therefore, further explanation is omitted.
This protective film is a film that is permanently bonded and laminated, unlike the protective film for saponification that is temporarily bonded as described in the section of the prior art.

〔偏光子と反射防止フィルム及び保護フィルムとの積層〕
偏光子4と反射防止フィルム10及び保護フィルム5とを積層する際は、アルカリ水溶液による、いわゆる鹸化処理を行うことが、偏光子とこれらのフィルムとの密着性を強化できる点で好ましい。特に、本発明による反射防止フィルムは耐鹸化性を備えているので、その利点を発揮できる点でも好ましい。
[Lamination of polarizer, antireflection film and protective film]
When laminating the polarizer 4, the antireflection film 10 and the protective film 5, it is preferable to perform a so-called saponification treatment with an alkaline aqueous solution in terms of enhancing the adhesion between the polarizer and these films. In particular, since the antireflection film according to the present invention has saponification resistance, it is also preferable in that its advantages can be exhibited.

C.画像表示装置
本発明による画像表示装置は、前記した本発明の反射防止フィルム、又は、上記した本発明の偏光板を備えた構成の画像表示装置である。前記反射防止フィルム又は偏光板は、例えば、ディスプレイパネルの観察者側に備えた構成とすることができる。反射防止フィルム或いは偏光板は、ディスプレイパネルに密着積層され一体化したものをディスプレイパネルとすることもあるし、ディスプレイパネルの観察者側に空気層を介して配置されることもある。
C. Image Display Device An image display device according to the present invention is an image display device having a configuration including the above-described antireflection film of the present invention or the above-described polarizing plate of the present invention. For example, the antireflection film or the polarizing plate may be provided on the viewer side of the display panel. The antireflection film or polarizing plate may be a display panel that is closely laminated and integrated with the display panel, or may be disposed on the viewer side of the display panel via an air layer.

ディスプレイパネルは、特に限定はなく公知のディスプレイパネルで良く、例えば、液晶パネル、プラズマディスプレイパネル、エレクトロルミネッセンスパネル、タッチパネル、電子ペーパー、タブレットPC等の各種ディスプレイパネルの他、ブラウン管(CRT)等でも良い。
反射防止フィルムと偏光板は、画像表示装置が備えるディスプレイパネルが液晶パネルの場合は、通常偏光板を備える。偏光板が基本的に不要なディスプレイパネル、例えば、プラズマディスプレイパネル、エレクトロルミネッセンスパネル、ブラウン管(CRT)、タッチパネル、電子ペーパー、タブレットPC等の場合は、画像表示装置は反射防止フィルムを備える。
本発明の画像表示装置は、この他、ディスプレイ駆動回路、配線、シャーシ、フレーム、入出力部品、キャビネット、等の公知の部品を用途に応じて備えていても良い。
The display panel is not particularly limited and may be a known display panel. For example, in addition to various display panels such as a liquid crystal panel, a plasma display panel, an electroluminescence panel, a touch panel, electronic paper, and a tablet PC, a cathode ray tube (CRT) may be used. .
When the display panel provided in the image display device is a liquid crystal panel, the antireflection film and the polarizing plate usually include a polarizing plate. In the case of a display panel that basically does not require a polarizing plate, such as a plasma display panel, an electroluminescence panel, a cathode ray tube (CRT), a touch panel, electronic paper, or a tablet PC, the image display device includes an antireflection film.
In addition to this, the image display apparatus of the present invention may include known components such as a display driving circuit, wiring, chassis, frame, input / output components, cabinet, and the like depending on the application.

〔用途〕
本発明による画像表示装置の用途は特に制限はないが、例えば、テレビジョン受像機、モニターディスプレイ、電子看板、携帯情報端末、デシタルフォトフレーム、医療用機器などである。
[Use]
The application of the image display device according to the present invention is not particularly limited, and examples thereof include a television receiver, a monitor display, an electronic signboard, a portable information terminal, a digital photo frame, and a medical device.

以下、実施例、比較例及び参考例によって、本発明を更に説明する。また、以下において、使用した材料乃至はその略称は次の通りである。また、「部」とあるのは、全て質量部の意味である。   Hereinafter, the present invention will be further described by way of examples, comparative examples and reference examples. In the following, the materials used or their abbreviations are as follows. Further, “part” means all parts by mass.

[重合性化合物(いずれも多官能重合性化合物)]
以下、使用した材料の略称と、重合性官能基(アクリロイル基)の官能基数、分子量、ヒドロキシル基(OH基)の有無等について記載する。
[Polymerizable compound (both polyfunctional polymerizable compounds)]
Hereinafter, the abbreviations of the materials used, the number of functional groups of the polymerizable functional group (acryloyl group), the molecular weight, the presence or absence of a hydroxyl group (OH group), and the like are described.

<ヒドロキシル基を含有しない化合物>
・TMPTA:3官能、分子量296、トリメチロールプロパントリアクリレート(固形分100%)
・NKエステル:6官能、Mw578、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート;DPHA(新中村化学工業株式会社製)(固形分100%)
・UV1700B:10官能、分子量約2000、2官能のIPDI(イソホロンジイソシアネート)のイソシアネート基にDPPAを反応させた10官能のオリゴマー(日本合成化学工業株式会社製、固形分100%)
<Compound not containing hydroxyl group>
TMPTA: trifunctional, molecular weight 296, trimethylolpropane triacrylate (solid content 100%)
NK ester: hexafunctional, Mw578, dipentaerythritol hexaacrylate; DPHA (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) (solid content 100%)
UV1700B: 10-functional oligomer having a molecular weight of about 2000, a bifunctional IPDI (isophorone diisocyanate), and a 10-functional oligomer obtained by reacting DPPA with an isocyanate group (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., solid content 100%)

<ヒドロキシル基を含有する化合物>
・PETA:3官能、Mw298、OH基数1、OH含有率0.33、ペンタエリスリトールトリアクリレート(ヒドロキシル基1個含有)
・DPPA:5官能、分子量約550、OH基数1、OH含有率0.18、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(品名「カヤラッド(登録商標)DPHA」、日本化薬株式会社製、固形分100%)
・DPPMA:6官能、Mw約550、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールペンタメタクリレートの混合物
・V802:7〜9官能、分子量700〜1000、OH基数1、OH含有率0.10〜0.14、DPPAの多量体(大阪有機化学工業株式会社製、固形分100%)
<Compound containing hydroxyl group>
PETA: trifunctional, Mw298, OH group number 1, OH content 0.33, pentaerythritol triacrylate (containing one hydroxyl group)
DPPA: pentafunctional, molecular weight of about 550, OH group number 1, OH content 0.18, dipentaerythritol pentaacrylate (product name “Kayarad (registered trademark) DPHA”, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., solid content 100%)
DPPMA: 6 functional, Mw about 550, a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol pentamethacrylate V802: 7-9 functional, molecular weight 700-1000, OH group number 1, OH content 0.10-0.14 , DPPA multimer (Osaka Organic Chemical Co., Ltd., solid content 100%)

[溶剤]
・MIBK :メチルイソブチルケトン
・PGMEA:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
・PGME :プロピレングリコールモノメチルエーテル
[表面疎水処理した中空状シリカ粒子]
・(平均粒子径55nmで内部に空洞を有し表面を疎水処理したシリカ粒子、固形分20%、MIBK分散)
[光重合開始剤]
・イルガキュア(登録商標)127(BASFジャパン株式会社製):
2−ヒロドキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−ベンジル]フェニル}−2−メチル−プロパン−1−オン
[防汚剤]
・TU2225(フッ素含有シリコーン系防汚剤、JSR株式会社製、固形分15%)
[solvent]
MIBK: methyl isobutyl ketone PGMEA: propylene glycol monomethyl ether acetate PGME: propylene glycol monomethyl ether [hollow silica particles treated with hydrophobic surface]
・ (Silica particles having an average particle diameter of 55 nm and voids inside and having a hydrophobic surface, solid content 20%, MIBK dispersion)
[Photopolymerization initiator]
・ Irgacure (registered trademark) 127 (manufactured by BASF Japan Ltd.):
2-Hydroxy-1- {4- [4- (2-hydroxy-2-methyl-propionyl) -benzyl] phenyl} -2-methyl-propan-1-one [antifouling agent]
TU2225 (fluorine-containing silicone antifouling agent, manufactured by JSR Corporation, solid content 15%)

上記化合物の分子量の測定は、前記[電離放射線硬化性樹脂]の(分子量)の欄で説明したとおりであるが、分子量が1000超過のものについては、使用するカラムとして、例えば、Shodex(登録商標)GPC KF−801、GPC KF−802、GPC KF−803、GPC KF−804、GPC KF−805 GPC KF−800D(いずれも、昭和電工株式会社製)等を挙げることができる。   Measurement of the molecular weight of the above compound is as described in the column of (Molecular weight) of [Ionizing radiation curable resin]. For those having a molecular weight exceeding 1000, as a column to be used, for example, Shodex (registered trademark) ) GPC KF-801, GPC KF-802, GPC KF-803, GPC KF-804, GPC KF-805 GPC KF-800D (all manufactured by Showa Denko KK) and the like.

〔試験評価方法〕
耐鹸化性について、耐擦傷性、防汚性、反射防止性、耐白化性、外観の4性能について、鹸化処理前後の性能を測定評価した。
[Test evaluation method]
Regarding the saponification resistance, the performance before and after the saponification treatment was measured and evaluated for the four performances of scratch resistance, antifouling property, antireflection property, whitening resistance and appearance.

[耐擦傷性]
耐擦傷性は耐スチールウール性で評価した。この評価によって、表面の硬度だけではなく、同時に、低屈折率層と下地の層との密着性、塗膜の剥がれも評価も可能である。
具体的には、低屈折率層の表面を、#0000番のスチールウールを用いて、所定の摩擦荷重300g/cm2で10往復摩擦し、その後の塗膜の剥がれの有無を目視観察して、下記基準にて評価した。
○;傷無し(塗膜の剥がれが全くなかった)
×;傷有り(塗膜の剥がれがあった)
[Abrasion resistance]
The scratch resistance was evaluated by steel wool resistance. By this evaluation, it is possible to evaluate not only the surface hardness but also the adhesion between the low refractive index layer and the underlying layer and the peeling of the coating film at the same time.
Specifically, the surface of the low refractive index layer was rubbed back and forth 10 times with a predetermined friction load of 300 g / cm 2 using # 0000 steel wool, and then the presence or absence of peeling of the coating film was visually observed. Evaluation was made according to the following criteria.
○: No scratch (There was no peeling of the coating film)
×: Scratched (There was peeling of the coating film)

[防汚性]
防汚性は、低屈折率層の表面に油性マーキングペンで書いた後、セルロース系不織布ワイパーで20回拭き取りを試み、下記基準で評価した。
○;拭き取れる
×;拭き取れない
[Anti-fouling]
The antifouling property was evaluated based on the following criteria by writing on the surface of the low refractive index layer with an oil-based marking pen, then wiping with a cellulose-based nonwoven wiper 20 times.
○: Can be wiped off ×: Can not be wiped off

[反射防止性]
反射防止性は、低屈折率層が形成されていない側の透明基材フィルム面に裏面反射を防止するための黒色テープを貼り付け、低屈折率層表面を光源側にして、分光反射率測定機(株式会社島津製作所製、PC−3100)を用い、波長域380〜780nmでの最低反射率を、光反射率として測定し、下記基準で評価した。
○;光反射率が1.0〜2.0%
×;光反射率が鹸化処理後に上記範囲より反射率が悪化する(2.0%超過)か、鹸化処理前でも2.0%超過。
[Antireflection]
Anti-reflective properties are measured by applying a black tape to prevent back reflection on the transparent substrate film side on which the low refractive index layer is not formed, and measuring the spectral reflectance with the low refractive index layer surface facing the light source. Using a machine (manufactured by Shimadzu Corporation, PC-3100), the minimum reflectance in the wavelength range of 380 to 780 nm was measured as light reflectance, and evaluated according to the following criteria.
○: Light reflectance is 1.0 to 2.0%
X: The light reflectivity deteriorates from the above range after saponification treatment (exceeds 2.0%), or exceeds 2.0% even before saponification treatment.

[耐白化性]
鹸化処理前後の耐白化性として、作成した反射防止フィルムが、白く見える状態にならない鹸化耐久性を評価した。耐白化性は低屈折率層が形成されていない側の透明基材フィルム面に裏面反射を防止するための黒色テープを貼り付け、暗室にて低屈折率層の表面に、表面から1mはなれた位置の蛍光灯の光を当てて反射させ、白化が生じたか否かを、表面から45度位置より目視観察して下記の基準にて評価した。
○;白化なし。
×;白化あり。
[Whitening resistance]
As the whitening resistance before and after the saponification treatment, the saponification durability at which the prepared antireflection film did not appear white was evaluated. The whitening resistance was 1 m from the surface of the surface of the low refractive index layer in the dark room by applying a black tape for preventing back reflection on the transparent base film surface on which the low refractive index layer was not formed. Whether or not whitening occurred by reflecting the light of the fluorescent lamp at the position was visually observed from a position of 45 degrees from the surface and evaluated according to the following criteria.
○: No whitening.
X: There is whitening.

[外観]
外観は、作成した反射防止フィルムの低屈折率層が形成されていない側の透明基材フィルム表面に黒色テープを貼り、低屈折率層が形成されている面の側から、三波長型の蛍光灯の光を当てて塗工面を目視で観察し、下記の基準にて評価した。
○:鹸化処理前後で色味に変化がない
×:鹸化処理前後で色味に変化がある
[appearance]
Appearance is a three-wavelength type fluorescence from the side of the surface where the low refractive index layer is formed by applying black tape to the surface of the transparent substrate film on the side where the low refractive index layer is not formed. The coated surface was visually observed under the light of a lamp and evaluated according to the following criteria.
○: No change in color before and after saponification treatment ×: Change in color before and after saponification treatment

[鹸化処理]
鹸化処理は、次の2条件で行った。通常、鹸化処理は、低濃度低温アルカリ溶液で、ゆっくり浸漬するか、または、高濃度高温アルカリ溶液で、すばやく浸漬する。
後者条件のほうが浸漬時間は短いが、反射防止フィルムには厳しい処理であるので、以下条件Bが良好であるものは、条件Aで良好であるものよりも優れている。
条件A:2規定のNaOH水溶液に温度50℃、3min浸漬処理した。
条件B:4規定のNaOH水溶液に温度60℃、30s浸漬処理した。
[Saponification]
The saponification treatment was performed under the following two conditions. Usually, the saponification treatment is slowly immersed in a low-concentration low-temperature alkaline solution or quickly immersed in a high-concentration high-temperature alkaline solution.
Although the immersion time is shorter under the latter condition, since the antireflection film is a harsh treatment, those having better condition B below are better than those having better condition A.
Condition A: It was immersed in a 2N NaOH aqueous solution at a temperature of 50 ° C. for 3 minutes.
Condition B: It was immersed in a 4N NaOH aqueous solution at a temperature of 60 ° C. for 30 seconds.

〔実施例1〕
透明基材フィルムとして厚み80μmの透明なトリアセチルセルロースフィルム(TACフィルム、屈折率1.48)の片面に、下記の電離放射線硬化性樹脂を含むハードコート層用組成物(A)を塗布した後、紫外線照射で樹脂を(半)硬化させて、厚み10μmのハードコート層を形成した。
次に、形成したハードコート層の上に、下記の低屈折率層用組成物(1)を塗布した後、紫外線照射で樹脂を硬化させて、厚み100nmの低屈折率層を形成すると共に、ハードコート層も完全に硬化させて、反射防止フィルムを作製した。次いで、鹸化処理条件Aで鹸化処理をした。
[Example 1]
After applying the composition for hard coat layer (A) containing the following ionizing radiation curable resin to one side of a transparent triacetyl cellulose film (TAC film, refractive index: 1.48) having a thickness of 80 μm as a transparent substrate film The resin was (semi) cured by ultraviolet irradiation to form a hard coat layer having a thickness of 10 μm.
Next, after applying the following composition for low refractive index layer (1) on the formed hard coat layer, the resin is cured by ultraviolet irradiation to form a low refractive index layer having a thickness of 100 nm, The hard coat layer was also completely cured to produce an antireflection film. Next, saponification treatment was performed under saponification treatment condition A.

[ハードコート層用組成物(A)]
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA、6官能) 100部
溶剤;MIBK 70部
溶剤;PGMEA 30部
光重合開始剤 0.4部
[Composition for hard coat layer (A)]
Dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, hexafunctional) 100 parts Solvent; MIBK 70 parts Solvent; PGMEA 30 parts Photopolymerization initiator 0.4 parts

[低屈折率層用組成物(1)]
TMPTA 100部
中空状シリカ粒子(固形分として、以下同様) 100部
溶剤;MIBK 70部
溶剤;PGMEA 30部
防汚剤 4部
光重合開始剤 7部
[Composition for low refractive index layer (1)]
TMPTA 100 parts Hollow silica particles (Solid content, hereinafter the same) 100 parts Solvent; MIBK 70 parts Solvent; PGMEA 30 parts Antifouling agent 4 parts Photopolymerization initiator 7 parts

〔実施例2〕
実施例1において作製し反射防止フィルムを、鹸化処理条件Bで鹸化処理した。
[Example 2]
The antireflection film produced in Example 1 was saponified under saponification condition B.

〔実施例3〕
実施例1において、低屈折率層の形成に、樹脂成分が異なる下記の低屈折率層用組成物(2)を用いた他は、実施例1同様にして、反射防止フィルムを作製し、実施例1と同じ条件で鹸化処理した。
[低屈折率層用組成物(2)]
DPPA 100部
中空状シリカ粒子 100部
溶剤;MIBK 70部
溶剤;PGMEA 30部
防汚剤 4部
光重合開始剤 7部
Example 3
In Example 1, an antireflection film was prepared in the same manner as in Example 1 except that the following low refractive index layer composition (2) having a different resin component was used to form the low refractive index layer. Saponification was performed under the same conditions as in Example 1.
[Composition for low refractive index layer (2)]
DPPA 100 parts Hollow silica particles 100 parts Solvent; MIBK 70 parts Solvent; PGMEA 30 parts Antifouling agent 4 parts Photopolymerization initiator 7 parts

〔実施例4〕
実施例1において、低屈折率層の形成に、樹脂成分が異なる下記の低屈折率層用組成物(3)を用いた他は、実施例1同様にして、反射防止フィルムを作製し、実施例1と同じ条件で鹸化処理した。
[低屈折率層用組成物(3)]
NKエステル(6官能DPHA) 100部
中空状シリカ粒子 100部
溶剤;MIBK 70部
溶剤;PGMEA 30部
防汚剤 4部
光重合開始剤 7部
Example 4
In Example 1, an antireflection film was prepared in the same manner as in Example 1 except that the following low refractive index layer composition (3) having a different resin component was used to form the low refractive index layer. Saponification was performed under the same conditions as in Example 1.
[Composition for low refractive index layer (3)]
NK ester (hexafunctional DPHA) 100 parts Hollow silica particles 100 parts Solvent; MIBK 70 parts Solvent; PGMEA 30 parts Antifouling agent 4 parts Photopolymerization initiator 7 parts

〔実施例5〕
実施例1において、低屈折率層の形成に、樹脂成分が異なる下記の低屈折率層用組成物(4)を用いた他は、実施例1同様にして、反射防止フィルムを作製し、実施例1と同じ条件で鹸化処理した。
[低屈折率層用組成物(4)]
V802 100部
中空状シリカ粒子 100部
溶剤;MIBK 70部
溶剤;PGMEA 30部
防汚剤 4部
光重合開始剤 7部
Example 5
In Example 1, an antireflection film was prepared in the same manner as in Example 1 except that the following low refractive index layer composition (4) having a different resin component was used to form the low refractive index layer. Saponification was performed under the same conditions as in Example 1.
[Composition for low refractive index layer (4)]
V802 100 parts Hollow silica particles 100 parts Solvent; MIBK 70 parts Solvent; PGMEA 30 parts Antifouling agent 4 parts Photopolymerization initiator 7 parts

〔実施例6〕
実施例1において、低屈折率層の形成に、樹脂成分が異なる下記の低屈折率層用組成物(5)を用いた他は、実施例1同様にして、反射防止フィルムを作製し、実施例1と同じ条件で鹸化処理した。
[低屈折率層用組成物(5)]
DPPMA 100部
中空状シリカ粒子 100部
溶剤;MIBK 70部
溶剤;PGMEA 30部
防汚剤 4部
光重合開始剤 7部
Example 6
In Example 1, an antireflection film was prepared in the same manner as in Example 1 except that the following low refractive index layer composition (5) having a different resin component was used to form the low refractive index layer. Saponification was performed under the same conditions as in Example 1.
[Composition for low refractive index layer (5)]
DPPMA 100 parts Hollow silica particles 100 parts Solvent; MIBK 70 parts Solvent; PGMEA 30 parts Antifouling agent 4 parts Photopolymerization initiator 7 parts

参考
実施例1において、低屈折率層の形成に、樹脂成分が混合樹脂で異なる下記の低屈折率層用組成物(6)を用いた他は、実施例1同様にして、反射防止フィルムを作製し、実施例1と同じ条件で鹸化処理した。
[低屈折率層用組成物(6)]
TMPTA 75部
DPPA 25部
中空状シリカ粒子 100部
溶剤;MIBK 70部
溶剤;PGMEA 30部
防汚剤 4部
光重合開始剤 7部
[ Reference Example 1 ]
In Example 1, an antireflection film was produced in the same manner as in Example 1 except that the low refractive index layer was formed by using the following low refractive index layer composition (6) having a different resin component mixed resin. The saponification treatment was performed under the same conditions as in Example 1.
[Composition for low refractive index layer (6)]
TMPTA 75 parts DPPA 25 parts Hollow silica particles 100 parts Solvent; MIBK 70 parts Solvent; PGMEA 30 parts Antifouling agent 4 parts Photopolymerization initiator 7 parts

参考
実施例1において、低屈折率層の形成に、樹脂成分が混合樹脂で異なる下記の低屈折率層用組成物(7)を用いた他は、実施例1同様にして、反射防止フィルムを作製し、実施例1と同じ条件で鹸化処理した。
[低屈折率層用組成物(7)]
V802 75部
DPPA 25部
中空状シリカ粒子 100部
溶剤;MIBK 70部
溶剤;PGMEA 30部
防汚剤 4部
光重合開始剤 7部
[ Reference Example 2 ]
In Example 1, an antireflection film was produced in the same manner as in Example 1 except that the low refractive index layer was formed by using the following low refractive index layer composition (7) in which the resin component was a mixed resin. The saponification treatment was performed under the same conditions as in Example 1.
[Composition for low refractive index layer (7)]
V802 75 parts DPPA 25 parts Hollow silica particles 100 parts Solvent; MIBK 70 parts Solvent; PGMEA 30 parts Antifouling agent 4 parts Photopolymerization initiator 7 parts

参考
実施例1において、低屈折率層の形成に、樹脂及び溶剤が異なる下記の低屈折率層用組成物(8)を用いた他は、実施例1同様にして、反射防止フィルムを作製し、実施例1と同じ条件で鹸化処理した。
[低屈折率層用組成物(8)]
TMPTA 75部
DPPA 25部
中空状シリカ粒子 100部
溶剤;MIBK 70部
溶剤;PGME 30部
防汚剤 4部
光重合開始剤 7部
[ Reference Example 3 ]
In Example 1, an antireflection film was produced in the same manner as in Example 1 except that the following low refractive index layer composition (8) having a different resin and solvent was used to form the low refractive index layer. The saponification treatment was performed under the same conditions as in Example 1.
[Composition for low refractive index layer (8)]
TMPTA 75 parts DPPA 25 parts Hollow silica particles 100 parts Solvent; MIBK 70 parts Solvent; PGME 30 parts Antifouling agent 4 parts Photopolymerization initiator 7 parts

〔実施例
実施例1において、低屈折率層の形成に、中空状シリカ粒子の配合量が異なる下記の低屈折率層用組成物(9)を用いた他は、実施例1同様にして、反射防止フィルムを作製し、実施例1と同じ条件で鹸化処理した。
[低屈折率層用組成物(9)]
TMPTA 100部
中空状シリカ粒子 120部
溶剤;MIBK 70部
溶剤;PGMEA 30部
防汚剤 4部
光重合開始剤 7部
[Example 7 ]
In Example 1, an antireflection film was formed in the same manner as in Example 1 except that the low refractive index layer was formed using the following composition (9) for a low refractive index layer in which the amount of hollow silica particles was different. And saponified under the same conditions as in Example 1.
[Composition for low refractive index layer (9)]
TMPTA 100 parts Hollow silica particles 120 parts Solvent; MIBK 70 parts Solvent; PGMEA 30 parts Antifouling agent 4 parts Photopolymerization initiator 7 parts

〔比較例1〕
実施例1において、低屈折率層の形成に、ヒドロキシル基含有率が0.2超過の多官能重合性化合物を含む下記の低屈折率層用組成物(10)を用いた他は、実施例1同様にして、反射防止フィルムを作製し、実施例1と同じ条件で鹸化処理した。
[低屈折率層用組成物(10)]
PETA 100部
中空状シリカ粒子 100部
溶剤;MIBK 70部
溶剤;PGMEA 30部
防汚剤 4部
光重合開始剤 7部
[Comparative Example 1]
In Example 1, except that the following composition for low refractive index layer (10) containing a polyfunctional polymerizable compound having a hydroxyl group content of more than 0.2 was used for forming the low refractive index layer, Example 1, an antireflection film was prepared and saponified under the same conditions as in Example 1.
[Composition for low refractive index layer (10)]
PETA 100 parts Hollow silica particles 100 parts Solvent; MIBK 70 parts Solvent; PGMEA 30 parts Antifouling agent 4 parts Photopolymerization initiator 7 parts

〔比較例2〕
比較例1において作製し反射防止フィルムを、鹸化処理条件Bで鹸化処理した。
[Comparative Example 2]
The antireflection film produced in Comparative Example 1 was saponified under saponification condition B.

〔比較例3〕
実施例1において、低屈折率層の形成に、ヒドロキシル基含有率が0.2超過の多官能重合性化合物を含み、溶剤成分が異なる下記の低屈折率層用組成物(11)を用いた他は、実施例1同様にして、反射防止フィルムを作製し、実施例1と同じ条件で鹸化処理した。
[低屈折率層用組成物(11)]
PETA 100部
中空状シリカ粒子 100部
溶剤;MIBK 85部
溶剤;PGME 15部
防汚剤 4部
光重合開始剤 7部
[Comparative Example 3]
In Example 1, the following low refractive index layer composition (11) containing a polyfunctional polymerizable compound having a hydroxyl group content of more than 0.2 and having a different solvent component was used to form the low refractive index layer. Otherwise, an antireflection film was produced in the same manner as in Example 1, and saponified under the same conditions as in Example 1.
[Composition for low refractive index layer (11)]
PETA 100 parts Hollow silica particles 100 parts Solvent; MIBK 85 parts Solvent; PGME 15 parts Antifouling agent 4 parts Photopolymerization initiator 7 parts

〔比較例4〕
実施例1において、低屈折率層の形成に、ヒドロキシル基含有率が0.2超過の多官能重合性化合物と、ヒドロキシル基含有率が0.2以下の多官能重合性化合物とを含み前者が樹脂分全量の50質量%以上の、下記の低屈折率層用組成物(12)を用いた他は、実施例1同様にして、反射防止フィルムを作製し、実施例1と同じ条件で鹸化処理した。
[低屈折率層用組成物(12)]
PETA 75部
DPPA 25部
中空状シリカ粒子 100部
溶剤;MIBK 70部
溶剤;PGME 30部
防汚剤 4部
光重合開始剤 7部
[Comparative Example 4]
In Example 1, the formation of the low refractive index layer includes a polyfunctional polymerizable compound having a hydroxyl group content of more than 0.2 and a polyfunctional polymerizable compound having a hydroxyl group content of 0.2 or less. An antireflection film was prepared in the same manner as in Example 1 except that the following composition for low refractive index layer (12) having a resin content of 50% by mass or more was used, and saponified under the same conditions as in Example 1. Processed.
[Composition for low refractive index layer (12)]
PETA 75 parts DPPA 25 parts Hollow silica particles 100 parts Solvent; MIBK 70 parts Solvent; PGME 30 parts Antifouling agent 4 parts Photopolymerization initiator 7 parts

〔比較例5〕
実施例1において、低屈折率層の形成に、ヒドロキシル基含有率が0.2超過の多官能重合性化合物と、ヒドロキシル基含有率が0.2以下の多官能重合性化合物とを含み前者が樹脂分全量の50質量%以上の、下記の低屈折率層用組成物(13)を用いた他は、実施例1同様にして、反射防止フィルムを作製し、実施例1と同じ条件で鹸化処理した。
[低屈折率層用組成物(13)]
PETA 75部
V802 25部
中空状シリカ粒子 100部
溶剤;MIBK 70部
溶剤;PGME 30部
防汚剤 4部
光重合開始剤 7部
[Comparative Example 5]
In Example 1, the formation of the low refractive index layer includes a polyfunctional polymerizable compound having a hydroxyl group content of more than 0.2 and a polyfunctional polymerizable compound having a hydroxyl group content of 0.2 or less. An antireflection film was prepared in the same manner as in Example 1 except that the following composition for low refractive index layer (13) having a resin content of 50% by mass or more was used, and saponified under the same conditions as in Example 1. Processed.
[Composition for low refractive index layer (13)]
PETA 75 parts V802 25 parts Hollow silica particles 100 parts Solvent; MIBK 70 parts Solvent; PGME 30 parts Antifouling agent 4 parts Photopolymerization initiator 7 parts

〔比較例6〕
実施例1において、低屈折率層の形成に、樹脂成分が異なり分子量が1000超過の多官能重合性化合物を含む、下記の低屈折率層用組成物(14)を用いた他は、実施例1同様にして、反射防止フィルムを作製し、実施例1と同じ条件で鹸化処理した。
[低屈折率層用組成物(14)]
UV1700B 100部
中空状シリカ粒子 100部
溶剤;MIBK 70部
溶剤;PGMEA 30部
防汚剤 4部
光重合開始剤 7部
[Comparative Example 6]
In Example 1, the low refractive index layer was formed using the following low refractive index layer composition (14) containing a polyfunctional polymerizable compound having a different resin component and a molecular weight exceeding 1000. 1, an antireflection film was prepared and saponified under the same conditions as in Example 1.
[Composition for low refractive index layer (14)]
UV1700B 100 parts Hollow silica particles 100 parts Solvent; MIBK 70 parts Solvent; PGMEA 30 parts Antifouling agent 4 parts Photopolymerization initiator 7 parts

〔性能評価結果〕
上記実施例及び比較例で使用した重合性化合物の内容を表1及び表2に示し、性能評価結果を表2と表3に示す。
[Performance evaluation results]
The contents of the polymerizable compounds used in the above Examples and Comparative Examples are shown in Tables 1 and 2, and the performance evaluation results are shown in Tables 2 and 3.

Figure 0006089392
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Figure 0006089392
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表1に示す様に、低屈折率層の電離放射線硬化性樹脂を構成する重合性化合物に、ヒドロキシル基を有する多官能重合性化合物を用いず、全量をヒドロキシル基を含有しない多官能重合性化合物として3官能のTMPTAを用いた実施例1〜実施例2と実施例、及び、全量をヒドロキシル基を含有しない多官能重合性化合物として6官能のNKエステル(DPHA)を用いた実施例4は、いずれも、耐擦傷性、防汚性、反射防止性、耐白化性及び外観の全てが○で、耐鹸化性が満足できるものであった。また、鹸化処理を変更して条件Bで行った実施例2も同様に、耐鹸化性が満足できるものであった。
As shown in Table 1, a polyfunctional polymerizable compound which does not contain a hydroxyl group in its entirety without using a polyfunctional polymerizable compound having a hydroxyl group as a polymerizable compound constituting an ionizing radiation curable resin of a low refractive index layer Example 1 to Example 2 and Example 7 using trifunctional TMPTA as Example 4 and Example 4 using hexafunctional NK ester (DPHA) as a polyfunctional polymerizable compound not containing a hydroxyl group as a whole In all cases, the scratch resistance, antifouling property, antireflection property, whitening resistance and appearance were all good, and the saponification resistance was satisfactory. In addition, Example 2 which was performed under the condition B by changing the saponification treatment was also satisfactory in saponification resistance.

低屈折率層の電離放射線硬化性樹脂を構成する重合性化合物に、ヒドロキシル基を有する多官能重合性化合物を用いたが、1分子中のヒドロキシル基数が1個以下でヒドロキシル基含有率が0.2以下のものを用いた、DPPAの実施例3、V802の実施例4、DPPMAの実施例6でも、いずれも、耐擦傷性、防汚性、反射防止性、耐白化性及び外観の全てが○で、耐鹸化性が満足できるものであった。
ヒドロキシル基を有する多官能重合性化合物を用いたが、1分子中のヒドロキシル基数が1個以下でヒドロキシル基含有率が0.2以下のものを用い、且つヒドロキシル基を有さない多官能重合性化合物と併用した、参考も、いずれも、耐擦傷性、防汚性、反射防止性、耐白化性及び外観の全てが○で、耐鹸化性が満足できるものであった。
以上、実施例1〜実施例7および参考例1〜3は全ての評価で耐鹸化性は○で満足できるものであり、低屈折率層の樹脂が鹸化処理で溶解や脱落せずに残存している為と思われる。
A polyfunctional polymerizable compound having a hydroxyl group was used as the polymerizable compound constituting the ionizing radiation curable resin of the low refractive index layer, but the number of hydroxyl groups in one molecule was 1 or less and the hydroxyl group content was 0.00. In DPPA Example 3, V802 Example 4, and DPPMA Example 6 using the following two, all of scratch resistance, antifouling property, antireflection property, whitening resistance and appearance are all exhibited. ○, saponification resistance was satisfactory.
A polyfunctional polymerizable compound having a hydroxyl group was used, but a polyfunctional polymerizable compound having a hydroxyl group number of 1 or less and a hydroxyl group content of 0.2 or less in one molecule and having no hydroxyl group In each of Reference Examples 1 to 3 used in combination with the compound, all of scratch resistance, antifouling property, antireflection property, whitening resistance and appearance were good, and the saponification resistance was satisfactory.
As described above, Examples 1 to 7 and Reference Examples 1 to 3 are satisfactory in all evaluations with saponification resistance being good, and the resin of the low refractive index layer remains without being dissolved or dropped by the saponification treatment. It seems to be because.

一方、低屈折率層の電離放射線硬化性樹脂を構成する重合性化合物に、ヒドロキシル基を有しヒドロキシル基含有量が0.2超過の多官能重合性化合物であるPETAを用いた比較例1〜比較例5は、反射防止性、耐白化性及び外観は鹸化処理後も全て○で、耐鹸化性は満足できるものであった。しかし、比較例1〜比較例5は、耐擦傷性と防汚性と外観が鹸化処理後に×で、耐鹸化性は満足できるものではなかった。ヒドロキシル基を有する多官能重合性化合物と共に、ヒドロキシル基を有さない多官能重合性化合物を副成分(樹脂分全量の50質量%未満)の範囲で併用した比較例4及び比較例5は、ヒドロキシル基を有さない重合性化合物の使用量が少なく樹脂組成物全体としてヒドロキシル基の量が多いために、耐擦傷性と防汚性と外観が鹸化処理後に×となった。   On the other hand, Comparative Examples 1 to 1 using PETA, which is a polyfunctional polymerizable compound having a hydroxyl group and a hydroxyl group content exceeding 0.2, as the polymerizable compound constituting the ionizing radiation curable resin of the low refractive index layer. In Comparative Example 5, the antireflection property, the whitening resistance, and the appearance were all good after the saponification treatment, and the saponification resistance was satisfactory. However, in Comparative Examples 1 to 5, the scratch resistance, antifouling property and appearance were x after the saponification treatment, and the saponification resistance was not satisfactory. Comparative Example 4 and Comparative Example 5 in which a polyfunctional polymerizable compound having no hydroxyl group is used together with a polyfunctional polymerizable compound having a hydroxyl group in the range of subcomponents (less than 50% by mass of the total resin content) Since the amount of the polymerizable compound having no group was small and the amount of hydroxyl groups as a whole in the resin composition was large, the scratch resistance, antifouling property and appearance became x after the saponification treatment.

多官能重合性化合物にヒドロキシル基は有さずヒドロキシル基含有率が0であるが、ヒドロキシル基を有するウレタン系オリゴマータイプの化合物を用いた比較例6は、アクリロイル基の官能基数が10と9を超過しているうえ、(重量平均)分子量が2000と大きく1000を超過している為、防汚性こそ鹸化処理後も○であったが、耐擦傷性と反射防止性と耐白化性と外観は鹸化処理後に×となり、満足できるものではなかった。   Although the polyfunctional polymerizable compound has no hydroxyl group and the hydroxyl group content is 0, Comparative Example 6 using a urethane-based oligomer type compound having a hydroxyl group has 10 and 9 functional groups of acryloyl group. In addition, the (weight average) molecular weight was over 2000 and was over 1000, so the antifouling property was ○ even after saponification treatment, but scratch resistance, antireflection, whitening resistance and appearance Was x after saponification treatment, and was not satisfactory.

耐擦傷性は、摩擦荷重を300g/cm2から600g/cm2に増やして評価すると、鹸化後において実施例1〜2は荷重増加前と同様に良いが、実施例3〜7および参考例1〜3は許容範囲内であるが少し低下する。したがって、樹脂はTMPTA100%の場合が一番良好であった。
When scratch resistance is evaluated by increasing the friction load from 300 g / cm 2 to 600 g / cm 2 , Examples 1 to 2 are good as before load increase after saponification. Examples 3 to 7 and Reference Example 1 Although -3 is within an allowable range, it is slightly lowered. Therefore, the resin was best when TMPTA was 100%.

表1には記載していないが、透明基材フィルムとハードコート層との密着性は、各実施例、及び各比較例共に良好であった。この密着性はJIS K5400の碁盤目テープ法に準じて行い、碁盤目の桝目は全て剥がれなかった。   Although not described in Table 1, the adhesion between the transparent substrate film and the hard coat layer was good in each Example and each Comparative Example. This adhesion was performed according to the cross-cut tape method of JIS K5400, and all the cross-cut grids were not peeled off.

1 透明基材フィルム
2 低屈折率層
2s 低屈折率層面
3 ハードコート層(機能層)
4 偏光子
5 保護フィルム
10 反射防止フィルム
20 偏光板
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Transparent base film 2 Low refractive index layer 2s Low refractive index layer surface 3 Hard-coat layer (functional layer)
4 Polarizer 5 Protective film 10 Antireflection film 20 Polarizing plate

Claims (3)

トリアセチルセルロースからなる透明基材フィルムの一方の面上に、第1の電離放射線硬化性樹脂の硬化物層からなり、中空状シリカ粒子を含有し、積層される下層よりも低い屈折率である低屈折率層を有し、かつ前記透明基材フィルムと前記低屈折率層との間に、機能層を有する、反射防止フィルムにおいて、
前記機能層が、第2の電離放射線硬化性樹脂の硬化物層からなるハードコート層であり、
前記第1の電離放射線硬化性樹脂に含まれる重合性化合物が、次の(A),(B)のいずれかであり、
(A)分子中にヒドロキシル基を有さない多官能重合性化合物であって、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸変性トリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、のいずれかを含む多官能重合性化合物、
(B)分子中にヒドロキシル基を有する重合性化合物であって、1分子中に含まれるヒドロキシル基の数を分子量で除して100倍した値として定義したヒドロキシル基含有率が、0.2以下である多官能重合性化合物、
記(A),(B)における多官能重合性化合物の官能基数が3〜9であり、分子量が300〜1000であり、
前記第2の電離放射線硬化性樹脂に含まれる重合性化合物が、分子中にヒドロキシル基を有さない多官能重合性化合物である、反射防止フィルム。
On one surface of a transparent substrate film made of triacetyl cellulose, is composed of a cured product layer of a first ionizing radiation curable resin, contains hollow silica particles, and has a lower refractive index than the lower layer to be laminated. have a low refractive index layer, and between the transparent substrate film and the low refractive index layer to have a functional layer, anti-reflection film,
The functional layer is a hard coat layer made of a cured layer of a second ionizing radiation curable resin,
The polymerizable compound contained in the first ionizing radiation-curable resin is any of the following (A) and (B ) :
(A) A polyfunctional polymerizable compound having no hydroxyl group in the molecule and comprising any of diethylene glycol di (meth) acrylate, isocyanuric acid-modified tri (meth) acrylate, and ditrimethylolpropane tetraacrylate Polymerizable compounds,
(B) A polymerizable compound having a hydroxyl group in the molecule, the hydroxyl group content defined as a value obtained by dividing the number of hydroxyl groups contained in one molecule by the molecular weight and multiplying by 100, is 0.2 or less A polyfunctional polymerizable compound,
Before SL (A), a functional group number of 3-9 of the polyfunctional polymerizable compound definitive (B), the molecular weight of Ri der 300-1000,
The antireflection film , wherein the polymerizable compound contained in the second ionizing radiation curable resin is a polyfunctional polymerizable compound having no hydroxyl group in the molecule .
偏光子の少なくとも一方の面上に、請求項1に記載の反射防止フィルムがその透明基材フィルム側を前記偏光子に向けて積層されている、偏光板。 A polarizing plate in which the antireflection film according to claim 1 is laminated on at least one surface of a polarizer with the transparent base film side facing the polarizer. 請求項1に記載の反射防止フィルム、又は、請求項2に記載の偏光板を備えた、画像表示装置。 The antireflection film according to claim 1, or, with a polarizing plate according to claim 2, the image display device.
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