KR101766210B1 - Cleaning solution composition for offset-printing cliche - Google Patents

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Abstract

본 발명은 오프셋 인쇄용 요판 세정액 조성물에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 알칼리금속 하이드록사이드 1 내지 20중량%; 4급 암모늄 화합물 0.1 내지 10중량%; 수용성 극성 용매 0.5 내지 30중량%; 및 잔량의 물을 포함함으로써 미세 패턴이 형성된 요판에 손상을 가하지 않으면서 인쇄 후 요판에 잔류하는 고형화된 잉크, 즉 BM뿐만 아니라 RGB용 잉크 모두를 균일하 빠른 속도로 동시 제거할 수 있어 인쇄 패턴의 재현성을 확보하고 공정 수율과 생산성을 향상시킬 수 있는 오프셋 인쇄용 요판 세정액 조성물에 관한 것이다.More particularly, the present invention relates to an offset printing offset cleaning liquid composition comprising: 1 to 20% by weight of an alkali metal hydroxide; 0.1 to 10% by weight of quaternary ammonium compound; 0.5 to 30% by weight of a water-soluble polar solvent; It is possible to simultaneously remove the solidified ink remaining in the intaglio plate, that is, both the ink for RGB and the ink for RGB, uniformly and at a high speed, without damaging the intaglio plate in which the fine pattern is formed, To an offset printing plate precursor cleaning liquid composition capable of securing reproducibility and improving process yield and productivity.

Description

오프셋 인쇄용 요판 세정액 조성물 {CLEANING SOLUTION COMPOSITION FOR OFFSET-PRINTING CLICHE}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a cleaning solution composition for offset printing,

본 발명은 오프셋 인쇄 후 요판에 잔류하는 고형화된 잉크를 빠른 속도로 제거할 수 있는 오프셋 인쇄용 요판 세정액 조성물에 관한 것이다.
The present invention relates to an offset printing plate precursor cleaning composition capable of rapidly removing solidified ink remaining on an intaglio after offset printing.

오프셋 인쇄법(offset-printing)은 인쇄하고자 하는 패턴이 형성된 요판에 잉크를 충진하고, 이 충진된 잉크를 패턴 모양대로 원통 모양의 블랭킷(blanket)으로 전사한 후 피인쇄체 위에서 상기 블랭킷을 회전시켜 전사된 패턴이 인쇄되도록 하는 인쇄 방법이다.In the offset printing method, ink is filled in an intaglio plate on which a pattern to be printed is formed, the filled ink is transferred to a cylindrical blanket in a pattern shape, and then the blanket is rotated on the printed body to transfer So that the printed pattern is printed.

이러한 오프셋 인쇄법은 유해한 폐액이 발생되지 않고 저비용으로 수십-수백 ㎛ 크기의 미세 패턴을 정밀하게 인쇄할 수 있다는 장점이 있어, 포토리소그래피 공정을 대체할 수 있는 기술로 부각되고 있다.Such an offset printing method is advantageous in that it can precisely print fine patterns having a size of several tens to several hundreds of microns at a low cost without generating harmful waste liquid, and has become a technology capable of replacing the photolithography process.

오프셋 인쇄법 중에서도 요판 오프셋 인쇄법은 선 폭이 200㎛ 이하로 얇고 높이도 비교적 높은 미세 패턴의 형성에 용이하여 높은 전기전도성이 요구되는 배선용 미세 패턴의 형성에 적합한 기술로서 검토되고 있다.Of the offset printing methods, the intaglio offset printing method has been studied as a technique suitable for forming a fine pattern for wiring which is easy to form a fine pattern having a line width of 200 mu m or less and a relatively high height and is required to have high electrical conductivity.

요판 오프셋 인쇄법은 평탄한 기재의 일면에 인쇄하고자 하는 패턴이 음각으로 새겨진 요판의 음각 부분에 잉크를 충진하고, 이 충진된 잉크를 블랭킷에 전사한 후 이를 다시 피인쇄체에 재전사하는 방법으로 수행된다. 이와 같은 요판 오프셋 인쇄법에 의해 형성된 미세 패턴의 형상은 잉크의 유동성, 요판에 가해지는 압력 등에 의해 영향 받기 쉬우며, 요판에 충진된 잉크의 일부가 블랭킷에 전사되지 않고 잔류하게 되면 변형되기도 한다. 이로 인하여 미세 패턴의 재현성을 확보하기 어렵다는 단점이 있다.In the intaglio offset printing method, ink is filled in an engraved part of an intaglio plate engraved with a pattern to be printed on a flat surface of a base material, the transferred ink is transferred to a blanket, and then re-transferred to the blanket . The shape of the fine pattern formed by the intaglio offset printing method is easily influenced by the fluidity of the ink, the pressure applied to the intaglio plate, or the like. When the ink filled in the intaglio plate is not transferred to the blanket, it is deformed. This is disadvantageous in that it is difficult to ensure the reproducibility of the fine pattern.

이를 해결하기 위하여, 요판 오프셋 인쇄 후 1회 내지 수회 요판을 정기적으로 세정하여 잔류하는 잉크를 제거하는 방법이 제안되었다. 그러나, 고형화된 잉크는 빠른 시간 내에 제거하기 어렵고 요판 오프셋 인쇄 속도보다 잉크의 제거 속도가 늦어 생산성의 저하를 야기할 수 있다.To solve this problem, a method has been proposed in which residual ink is removed by regularly washing the intaglio plate once or several times after intaglio offset printing. However, the solidified ink is difficult to remove in a short period of time, and the removal rate of the ink is slower than the intaglio offset printing speed, which may cause a decrease in productivity.

또한, 블랙매트릭스(BM)와 알지비(RGB)용 잉크의 제거 속도가 상이할 뿐만 아니라 요판으로부터 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B)의 잉크가 제거되는 속도도 각각 다르다. 따라서, 요판을 세정하기 위하여 통상의 레지스트 박리액 또는 세정액을 적용하는 경우에는 잉크의 각 색상을 동시에 제거하기 어렵고, 세정에 의해 용해된 잉크가 세정이 완료된 후에도 요판 표면에 잔류하여 재흡착되는 문제가 발생할 수 있다.
Not only the removal rates of the inks for the black matrix (BM) and the algae ratio (RGB) are different, but also the rates at which the red (R), green (G) and blue (B) inks are removed from the intaglio. Therefore, when applying a conventional resist stripping liquid or cleaning liquid to clean the intaglio plate, it is difficult to simultaneously remove each color of the ink, and the problem is that the ink dissolved by cleaning remains on the intaglio plate surface and is reabsorbed Lt; / RTI >

본 발명은 미세 패턴이 형성된 요판에 잔류하는 BM뿐만 아니라 RGB용 고형화된 잉크 모두를 빠른 속도로 제거할 수 있는 오프셋 인쇄용 요판 세정액 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.
An object of the present invention is to provide an offset printing plate cleaning liquid composition capable of rapidly removing not only BM remaining on the intaglio plate having a fine pattern but also solidified ink for RGB at high speed.

1. 알칼리금속 하이드록사이드 1 내지 20중량%; 4급 암모늄 화합물 0.1 내지 10중량%; 수용성 극성 용매 0.5 내지 30중량%; 및 잔량의 물을 포함하는 오프셋 인쇄용 요판 세정액 조성물.1. 1 to 20% by weight alkali metal hydroxide; 0.1 to 10% by weight of quaternary ammonium compound; 0.5 to 30% by weight of a water-soluble polar solvent; And a remaining amount of water.

2. 위 1에 있어서, 알칼리금속 하이드록사이드 1 내지 10중량%; 4급 암모늄 화합물 0.1 내지 5중량%; 수용성 극성 용매 1 내지 20중량%; 및 잔량의 물을 포함하는 오프셋 인쇄용 요판 세정액 조성물.2. The composition of claim 1, wherein 1 to 10% by weight of an alkali metal hydroxide; 0.1 to 5% by weight of quaternary ammonium compound; 1 to 20% by weight of a water-soluble polar solvent; And a remaining amount of water.

3. 위 1에 있어서, 알칼리금속 하이드록사이드는 리튬하이드록사이드, 나트륨하이드록사이드 및 칼륨하이드록사이드로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상인 오프셋 인쇄용 요판 세정액 조성물.3. The offset pressure-sensitive adhesive patch cleaning composition according to 1 above, wherein the alkali metal hydroxide is at least one selected from the group consisting of lithium hydroxide, sodium hydroxide and potassium hydroxide.

4. 위 1에 있어서, 4급 암모늄 화합물은 하기 화학식 1로 표시되는 화합물인 오프셋 인쇄용 요판 세정액 조성물:4. The offset printing plate precursor cleaning composition according to 1 above, wherein the quaternary ammonium compound is a compound represented by the following formula (1)

Figure 112010081605263-pat00001
Figure 112010081605263-pat00001

(식 중, R1 내지 R4는 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1-6인 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기 또는 하이드록시알킬기임).(Wherein R 1 to R 4 are independently a hydrogen atom, a straight-chain or branched-chain alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a hydroxyalkyl group).

5. 위 4에 있어서, 화학식 1로 표시되는 화합물은 테트라메틸암모늄하이드록사이드, 테트라에틸암모늄하이드록사이드, 테트라프로필암모늄하이드록사이드, 테트라부틸암모늄하이드록사이드, 모노메틸트리프로필암모늄하이드록사이드, 트리메틸에틸암모늄하이드록사이드, (2-하이드록시에틸)트리프로필암모늄하이드록사이드 및 (1-하이드록시프로필)트리메틸암모늄하이드록사이드로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상인 오프셋 인쇄용 요판 세정액 조성물.5. The composition of claim 4, wherein the compound represented by formula (1) is at least one selected from the group consisting of tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, tetrapropylammonium hydroxide, tetrabutylammonium hydroxide, monomethyltripropylammonium hydroxide , (1-hydroxypropyl) trimethylammonium hydroxide, trimethylethylammonium hydroxide, (2-hydroxyethyl) tripropylammonium hydroxide and (1-hydroxypropyl) trimethylammonium hydroxide.

6. 위 1에 있어서, 수용성 극성 용매는 에테르계 화합물, 알코올계 화합물, 피롤리돈계 화합물, 아미드계 화합물, 이미다졸리디논계 화합물, 락톤계 화합물, 술폭사이드계 화합물, 포스페이트계 화합물, 카보네이트계 화합물 및 크레졸계 화합물로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상인 오프셋 인쇄용 요판 세정액 조성물.
6. The water-soluble polar solvent as described in 1 above, wherein the water-soluble polar solvent is selected from the group consisting of ether compounds, alcohol compounds, pyrrolidone compounds, amide compounds, imidazolidinone compounds, lactone compounds, sulfoxide compounds, phosphate compounds, A compound and a cresol-based compound.

본 발명에 따른 오프셋 인쇄용 요판 세정액 조성물은 미세 패턴이 형성된 요판에 손상을 가하지 않으면서 인쇄 후 요판에 잔류하는 고형화된 잉크를 빠른 속도로 제거할 수 있어 인쇄 패턴의 재현성을 확보할 수 있을 뿐만 아니라 공정 수율과 생산성을 향상시킬 수 있다.The offset printing plate cleaning liquid composition according to the present invention can remove the solidified ink remaining on the intaglio plate at a high speed without damaging the intaglio plate having the fine pattern formed thereon so that the reproducibility of the printing pattern can be ensured, The yield and productivity can be improved.

또한, 본 발명의 세정액 조성물은 BM뿐만 아니라 RGB용 잉크 모두를 균일하고 빠른 속도로 동시에 제거할 수 있고, 용해가 아닌 탈착(lift-off)으로 잉크를 제거함으로써 세정에 의해 제거된 잉크가 요판 표면에 재흡착되어 요판을 재오염시키는 것을 방지할 수 있다.
Further, the cleaning liquid composition of the present invention can simultaneously remove both the BM and the RGB inks uniformly and at a high speed, and removes ink by lift-off rather than dissolution, So that it is possible to prevent the intaglio plate from being re-contaminated.

도 1은 미세 패턴이 형성된 오프셋 인쇄용 요판의 광학 현미경 사진이고,
도 2는 본 발명의 실시예 1에 따른 세정액 조성물을 이용하여 60초 동안 세정된 시편(BM)의 광학 현미경 사진이며,
도 3은 비교예 3에 따른 세정액 조성물을 이용하여 60초 동안 세정된 시편(BM)의 광학 현미경 사진이다.
1 is an optical microscope photograph of an offset printing intaglio plate having a fine pattern formed thereon,
2 is an optical microscope photograph of a specimen (BM) cleaned for 60 seconds using the cleaning composition according to Example 1 of the present invention,
3 is an optical microscope photograph of a specimen (BM) cleaned for 60 seconds using the cleaning composition according to Comparative Example 3. Fig.

본 발명은 오프셋 인쇄 후 요판에 잔류하는 고형화된 잉크를 빠른 속도로 제거할 수 있는 오프셋 인쇄용 요판 세정액 조성물에 관한 것이다.
The present invention relates to an offset printing plate precursor cleaning composition capable of rapidly removing solidified ink remaining on an intaglio after offset printing.

이하 본 발명을 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail.

본 발명의 오프셋 인쇄용 요판 세정액 조성물은 알칼리금속 하이드록사이드 1 내지 20중량%; 4급 암모늄 화합물 0.1 내지 10중량%; 수용성 극성 용매 0.5 내지 30중량%; 및 잔량의 물을 포함하는 것을 특징으로 한다.The offset printing offset cleaning composition of the present invention comprises 1 to 20% by weight of an alkali metal hydroxide; 0.1 to 10% by weight of quaternary ammonium compound; 0.5 to 30% by weight of a water-soluble polar solvent; And water in a remaining amount.

알칼리금속 하이드록사이드는 미세 패턴이 형성된 요판과 상기 요판에 잔류하는 잉크의 계면에 침투하여 잔류 잉크를 요판의 표면으로부터 탈착시키기 위한 성분이다.The alkali metal hydroxide is a component for desorbing the residual ink from the surface of the intaglio plate by penetrating the interface between the intaglio plate in which the fine pattern is formed and the ink remaining in the intaglio plate.

알칼리금속 하이드록사이드로는 리튬하이드록사이드, 나트륨하이드록사이드, 칼륨하이드록사이드 등을 들 수 있으며, 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.Examples of the alkali metal hydroxide include lithium hydroxide, sodium hydroxide and potassium hydroxide. These alkali metal hydroxides may be used alone or in admixture of two or more.

알칼리금속 하이드록사이드는 오프셋 인쇄용 요판 세정액 조성물 총 함량 100중량%에 대하여 1 내지 20중량%로 포함되는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1 내지 10중량%인 것이 좋다. 함량이 1중량% 미만인 경우 요판과 잔류 잉크 사이로 침투하는 능력이 저하되어 잉크 제거력이 떨어질 수 있고, 20중량% 초과인 경우 세정 공정 중 알칼리금속이 석출되어 2차 오염을 유발시킬 수 있으며 세정액 조성물의 장기 보관 시 층분리 현상이 발생할 수 있다.The alkali metal hydroxide is preferably contained in an amount of from 1 to 20% by weight, more preferably from 1 to 10% by weight, based on 100% by weight of the total amount of the offset printing plate precursor cleaning composition. When the content is less than 1% by weight, the ability to penetrate between the intaglio plate and the residual ink is lowered to deteriorate the ink removing ability. If the content is more than 20% by weight, alkali metal may be precipitated during the cleaning process to cause secondary contamination. Layer separation may occur during long-term storage.

4급 암모늄 화합물은 상기 알칼리금속 하이드록사이드와 함께 요판과 잔류하는 잉크의 계면에 침투하여 상기 요판과 잉크 간의 점착력 약화를 촉진시켜 서로 다른 수지를 사용하는 BM뿐만 아니라 RGB용 잉크 모두를 요판으로부터 탈착시키는 성분이다.The quaternary ammonium compound penetrates the interface between the intaglio plate and the residual ink together with the alkali metal hydroxide to promote the weakening of the adhesion between the intaglio and the ink so that not only the BM using different resins but also all the inks for RGB can be detached It is an ingredient.

4급 암모늄 화합물로는 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 들 수 있다:Examples of the quaternary ammonium compound include compounds represented by the following formula (1): < EMI ID =

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure 112010081605263-pat00002
Figure 112010081605263-pat00002

(식 중, R1 내지 R4는 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1-6인 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기 또는 하이드록시알킬기임).(Wherein R 1 to R 4 are independently a hydrogen atom, a straight-chain or branched-chain alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a hydroxyalkyl group).

화학식 1로 표시되는 화합물은 염의 형태로 수용성 용매에 대한 용해도가 좋아 본 발명의 효과 달성에 더 유리하다. 구체적인 예로는, 테트라메틸암모늄하이드록사이드, 테트라에틸암모늄하이드록사이드, 테트라프로필암모늄하이드록사이드, 테트라부틸암모늄하이드록사이드, 모노메틸트리프로필암모늄하이드록사이드, 트리메틸에틸암모늄하이드록사이드, (2-하이드록시에틸)트리프로필암모늄하이드록사이드, (1-하이드록시프로필)트리메틸암모늄하이드록사이드 등을 들 수 있으며, 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다. 이 중에서 테트라메틸암모늄하이드록사이드가 보다 바람직하다.The compound represented by the general formula (1) has a solubility in the form of a salt in a water-soluble solvent, and is more advantageous in achieving the effect of the present invention. Specific examples include tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, tetrapropylammonium hydroxide, tetrabutylammonium hydroxide, monomethyltripropylammonium hydroxide, trimethylethylammonium hydroxide, (2 -Hydroxyethyl) tripropylammonium hydroxide, and (1-hydroxypropyl) trimethylammonium hydroxide. These may be used alone or in admixture of two or more. Of these, tetramethylammonium hydroxide is more preferable.

4급 암모늄 화합물은 오프셋 인쇄용 요판 세정액 조성물 총 함량 100중량%에 대하여 0.1 내지 10중량%로 포함되는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.1 내지 5중량%인 것이 좋다. 함량이 0.1중량% 미만인 경우 요판과 잔류 잉크 사이로 침투하는 능력이 저하되어 잉크 제거력이 떨어질 수 있고, 10중량% 초과인 경우 더 이상의 향상 효과가 없어 공정 및 비용 면에서 경제적이지 못하다.The quaternary ammonium compound is preferably contained in an amount of 0.1 to 10% by weight, more preferably 0.1 to 5% by weight, based on 100% by weight of the total amount of the offset printing plate precursor cleaning composition. When the content is less than 0.1% by weight, the ability to penetrate between the intaglio and the residual ink is lowered and the ink removing ability may be lowered. If the content is more than 10% by weight, further improvement effect is not obtained.

수용성 극성 용매는 요판에 잔류하는 잉크의 탈리에 도움을 주는 성분으로서 오프셋 인쇄용 요판 세정액 조성물에 포함되는 다른 성분들 및 물과 혼화성이 있는 화합물이라면 그 종류가 특별히 한정되지 않으며, 양자성 또는 비양자성 극성 용매를 모두 사용할 수 있다.The water-soluble polar solvent is not particularly limited as long as it is a component that helps dissolve the ink remaining on the intaglio plate and is miscible with other components contained in the offset printing separator cleaning liquid composition and water, Any polar solvent may be used.

양자성 극성 용매로는 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노메틸에테르, 폴리에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노부틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르 등의 에테르계 화합물; 프로판올, 부탄올, 이소프로판올, 테트라하이드로퍼푸릴알코올 등의 알코올계 화합물 등을 들 수 있으며, 비양자성 극성 용매로는 N-메틸피롤리돈, N-에틸피롤리돈 등의 피롤리돈계 화합물; N-메틸포름아미드, N,N-디메틸포름아미드 등의 아미드계 화합물; 1,3-디메틸-2-이미다졸리디논, 1,3-디프로필-2-이미다졸리디논 등의 이미다졸리디논계 화합물; γ-부티로락톤 등의 락톤계 화합물; 디메틸술폭사이드, 술폴란 등의 술폭사이드계 화합물; 트리에틸포스페이트, 트리부틸포스페이트 등의 포스페이트계 화합물; 디메틸카보네이트, 에틸렌카보네이트 등의 카보네이트계 화합물; ο-크레졸, m-크레졸, ρ-크레졸 등의 크레졸계 화합물 등을 들 수 있다. 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.Examples of the protonic polar solvent include ethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, polyethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether , Diethylene glycol monobutyl ether, triethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, and dipropylene glycol monomethyl ether; And alcoholic compounds such as propanol, butanol, isopropanol, and tetrahydroperfuryl alcohol. Examples of aprotic polar solvents include pyrrolidone compounds such as N-methylpyrrolidone and N-ethylpyrrolidone; Amide compounds such as N-methylformamide and N, N-dimethylformamide; Imidazolidinone compounds such as 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone and 1,3-dipropyl-2-imidazolidinone; lactone-based compounds such as? -butyrolactone; Sulfoxide compounds such as dimethyl sulfoxide and sulfolane; Phosphate-based compounds such as triethyl phosphate, tributyl phosphate and the like; Carbonate-based compounds such as dimethyl carbonate and ethylene carbonate; cresol compounds such as 慣 -cresol, m-cresol and ρ-cresol, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

수용성 극성 용매는 오프셋 인쇄용 요판 세정액 조성물 총 함량 100중량%에 대하여 0.5 내지 30중량%로 포함되는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1 내지 20중량%인 것이 좋다. 함량이 0.5중량% 미만인 경우 요판에 잔류하는 잉크뿐만 아니라 공정 중에 발생된 요판 표면의 유기물에 대한 제거 능력이 저하될 수 있고, 30중량% 초과인 경우 잔류 잉크에 함유된 수지 성분을 부분적으로 용해시킬 수 있으며 용해된 수지가 요판 표면에 재흡착하여 세정이 완료된 후에도 완전 제거되지 않고 남아 요판을 재오염시킬 수 있다.The water-soluble polar solvent is preferably contained in an amount of 0.5 to 30% by weight, more preferably 1 to 20% by weight, based on 100% by weight of the total amount of the offset printing plate precursor cleaning composition. If the content is less than 0.5% by weight, the ability to remove not only ink remaining on the intaglio plate but also organic matters on the intaglio surface generated during the process may be deteriorated. If the content exceeds 30% by weight, the resin component contained in the residual ink may be partially dissolved And the molten resin is reabsorbed on the intaglio plate surface, so that the remnant plate can be re-contaminated without being completely removed even after the cleaning is completed.

물의 종류는 특별히 한정되지 않으나, 탈이온 증류수인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 반도체 공정용 탈이온 증류수로서 비저항값이 18㏁/㎝ 이상인 것이 좋다.The kind of water is not particularly limited, but it is preferably deionized distilled water. More preferably, it is deionized distilled water for semiconductor processing and has a resistivity value of 18 M OMEGA. / Cm or more.

물은 오프셋 인쇄용 요판 세정액 조성물에 포함되는 다른 성분들의 함량을 제외한 잔량으로 포함될 수 있으며, 바람직하게는 수용성 극성 용매에 의한 잉크의 재흡착을 고려하여 65중량% 이상, 보다 바람직하게는 65 내지 95중량%인 것이 좋다.Water may be included as the balance except for the content of other components contained in the offset printing offset cleaning liquid composition, and preferably 65 wt% or more, more preferably 65 to 95 wt% or less, in consideration of re- %.

이와 같은 성분을 포함하는 본 발명의 오프셋 인쇄용 요판 세정액 조성물은 요판에 잔류하는 잉크, 즉 BM뿐만 아니라 RGB용 잉크 모두를 균일하고 빠른 속도로 동시에 제거할 수 있다. 특히, 잉크를 용해하는 것이 아닌 탈착시켜 제거함으로써 요판에 어떠한 손상도 가하지 않으면서 고형화된 잉크를 빠른 속도로 제거할 수 있으며, 잉크를 용해시키지 않아 용해된 잉크가 요판에 재흡착되어 요판을 오염시키는 것도 방지할 수 있다. 이를 통하여 인쇄 패턴의 재현성을 확보할 수 있고 공정 수율과 생산성을 향상시킬 수 있다.The offset printing plate cleaning liquid composition of the present invention containing such components can simultaneously remove both ink for RGB and ink for RGB remaining in the intaglio plate uniformly and at a high speed. Particularly, it is possible to rapidly remove the solidified ink without any damage to the intaglio plate by desorbing and removing the ink other than dissolving the ink, and when the dissolved ink does not dissolve the ink, Can be prevented. This makes it possible to ensure the reproducibility of the print pattern and improve the process yield and productivity.

상기한 본 발명의 오프셋 인쇄용 요판 세정액 조성물은 통상의 방법으로 제조될 수 있으며, 본 발명의 세정액 조성물을 이용하는 방법 또한 한정되지 않는다.The offset printing plate precursor cleaning composition of the present invention can be produced by a conventional method, and the method of using the cleaning composition of the present invention is also not limited.

본 발명의 세정액 조성물을 이용하여 오프셋 인쇄용 요판을 세정하는 방법으로는, 예컨대 형성된 미세 패턴에 잔류하는 잉크가 포함된 요판을 세정액 조성물에 직접 침지시키는 방법, 요판에 세정액 조성물을 스프레이하는 방법, 요판에 세정액 조성물을 도포한 후 브러싱하는 방법 등을 들 수 있으며, 이들 방법을 조합하여 사용할 수도 있다. 또한, 세정 효과를 높이기 위하여 버블 또는 초음파를 가할 수도 있다.As a method for cleaning the offset printing intaglio plate using the cleaning liquid composition of the present invention, for example, there are a method of directly dipping the intaglio plate containing the ink remaining in the formed fine pattern into the cleaning liquid composition, a method of spraying the cleaning liquid composition onto the intaglio plate, And a method of brushing after applying the cleaning liquid composition, and these methods may be used in combination. Further, bubbles or ultrasonic waves may be applied to enhance the cleaning effect.

또한, 세정액 조성물의 사용 조건(온도, 시간 등)은 특별히 한정되지 않는다. 구체적으로, 요판에 잔류하는 잉크의 함량 및 농도 등에 따라 적절히 선택될 수 있으며 요판에 잔류하는 잉크에 함유된 수지가 용해되지 않고 쉽게 탈리될 수 있는 정도의 온도 및 시간 범위 내에서 수행되는 것이 바람직하다. 예컨대, 20 내지 45℃에서 15초 내지 3분 동안 수행될 수 있다.The conditions of use (temperature, time, etc.) of the cleaning liquid composition are not particularly limited. Specifically, it can be selected appropriately according to the content and concentration of the ink remaining on the intaglio plate, and it is preferably carried out within a temperature and time range such that the resin contained in the ink remaining on the intaglio can not be dissolved and can be easily desorbed . for example, 20 to 45 < 0 > C for 15 seconds to 3 minutes.

본 발명의 세정액 조성물로 요판을 처리한 후에는 필요에 따라 물 또는 알코올계 용매로 린스하는 공정이 더 수행될 수 있다.After the intaglio plate is treated with the cleaning liquid composition of the present invention, a step of rinsing with water or an alcohol-based solvent may be further performed if necessary.

이하, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 실시예를 제시하나, 이들 실시예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐 첨부된 특허청구범위를 제한하는 것이 아니며, 본 발명의 범주 및 기술사상 범위 내에서 실시예에 대한 다양한 변경 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속하는 것도 당연한 것이다.
It is to be understood that both the foregoing general description and the following detailed description of the present invention are exemplary and explanatory and are intended to be illustrative of the invention and are not intended to limit the scope of the claims. It will be apparent to those skilled in the art that such variations and modifications are within the scope of the appended claims.

실시예Example

실시예 1Example 1

칼륨하이드록사이드 5중량%, 테트라메틸암모늄하이드록사이드(TMAH) 2중량%, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르(BDG) 15중량% 및 반도체 공정용 탈이온 증류수 78중량%를 혼합 및 교반하여 오프셋 인쇄용 요판 세정액 조성물을 제조하였다.
5 wt% of potassium hydroxide, 2 wt% of tetramethylammonium hydroxide (TMAH), 15 wt% of diethylene glycol monobutyl ether (BDG), and 78 wt% of deionized distilled water for semiconductor processing were mixed and stirred to prepare offset printing An intaglio washing liquid composition was prepared.

실시예 2-11, 비교예 1-4Examples 2-11 and 1-4

상기 실시예 1과 동일하게 실시하되, 하기 표 1에서와 같은 성분 및 함량을 사용하여 세정액 조성물을 제조하였다. 이때, 함량은 중량%를 나타낸다.
The cleaning liquid composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the components and the contents as shown in Table 1 below were used. Here, the content represents weight%.

구분division 알칼리금속 하이드록사이드Alkali metal hydroxide 4급 암모늄
화합물
Quaternary ammonium
compound
수용성 극성 용매Water soluble polar solvent water
KOHKOH NaOHNaOH TMAHTMAH TEAHTEAH BDGBDG THFATHFA NMPNMP 실시예1Example 1 55 -- 22 -- 1515 -- -- 7878 실시예2Example 2 22 -- 22 -- 1515 -- -- 8181 실시예3Example 3 1515 -- 22 -- 1515 -- -- 6868 실시예4Example 4 -- 55 22 -- 1515 -- -- 7878 실시예5Example 5 -- 55 -- 22 1515 -- -- 7878 실시예6Example 6 55 -- 0.50.5 -- 1515 -- -- 79.579.5 실시예7Example 7 55 -- 88 -- 1515 -- -- 7272 실시예8Example 8 55 -- 22 -- -- 1515 -- 7878 실시예9Example 9 55 -- 22 -- -- -- 1515 7878 실시예10Example 10 55 -- 22 -- 55 -- -- 8888 실시예11Example 11 55 -- 22 -- 2525 -- -- 6868 비교예1Comparative Example 1 55 -- -- -- 1515 -- -- 8080 비교예2Comparative Example 2 -- -- 55 -- 1515 -- -- 8080 비교예3Comparative Example 3 55 -- 22 -- 6060 -- -- 3333 비교예4Comparative Example 4 55 -- 22 -- 0.20.2 -- -- 92.892.8 KOH: 칼륨하이드록사이드
NaOH: 나트륨하이드록사이드
TMAH: 테트라메틸암모늄하이드록사이드
TEAH: 테트라에틸암모늄하이드록사이드
BDG: 디에틸렌글리콜모노부틸에테르
THFA: 테트라하이드로퍼푸릴알코올
NMP: N-메틸피롤리돈
KOH: Potassium hydroxide
NaOH: sodium hydroxide
TMAH: tetramethylammonium hydroxide
TEAH: tetraethylammonium hydroxide
BDG: diethylene glycol monobutyl ether
THFA: tetrahydroperfuryl alcohol
NMP: N-methylpyrrolidone

시험예Test Example

1. 세정능력1. Cleaning ability

오프셋 인쇄에 사용되는 RGB용 적색, 녹색 및 청색 잉크와 BM용 흑색잉크의 세정능력을 평가하기 위해, 도 1에 나타낸 바와 같이 장변이 130㎛, 단변 30㎛, 높이 20-30㎛의 컬러필터의 픽셀 모양의 미세 패턴을 유리 기판 상에 형성시켜 요판 오프셋 인쇄용 요판에서와 유사한 시험 평가용 요판을 제작하였다. 제작된 요판에 닥터 블레이드법을 이용하여 적색 잉크(PCF-R-001, 동우화인켐㈜), 녹색 잉크(PCF-G-001, 동우화인켐㈜), 청색 잉크(PCF-B-001, 동우화인켐㈜) 및 흑색 잉크(PCF-BM-001, 동우화인켐㈜)를 각각 미세 패턴 안에 충진되도록 코팅시킨 후 100℃에서 3분 동안 건조하여 시편을 제작하였다.In order to evaluate the cleaning ability of the red, green and blue inks used for offset printing and the black ink for BM, as shown in Fig. 1, a color filter having a long side of 130 mu m, a short side of 30 mu m, and a height of 20-30 mu m A pixel-shaped fine pattern was formed on a glass substrate to produce a test board for test evaluation similar to that of an intaglio offset printing intaglio. (PCF-R-001, Dongwoo Fine-Chem), green ink (PCF-G-001, Dongwoo Fine-Chem Co., Ltd.), blue ink (PCF-B- (PCF-BM-001, Dongwoo Fine-Chem Co., Ltd.) were coated in a fine pattern and then dried at 100 ° C for 3 minutes to prepare specimens.

제작된 시편을 상온의 세정액 조성물에 일정 시간(30초, 60초) 동안 침지시킨 후 시편을 꺼내어 탈이온 증류수로 20초 동안 린스하였다. 린스가 완료된 후에는 질소를 이용하여 시편을 완전히 건조시켰다.The specimens were immersed in a cleaning composition at room temperature for 30 seconds and 60 seconds. Then, the specimens were taken out and rinsed with deionized distilled water for 20 seconds. After the rinse was completed, the specimen was completely dried using nitrogen.

건조된 시편의 광학 현미경 사진을 촬영하고, 이를 이용하여 하기 기준에 의거하여 세정능력을 평가하였다.Optical microscope photographs of the dried specimens were taken and evaluated for their cleaning ability based on the following criteria.

<평가기준><Evaluation Criteria>

◎: 잉크가 완전히 제거됨.◎: ink is completely removed.

○: 잉크가 우수하게 제거됨.○: Excellent removal of ink.

△: 잉크가 미량 잔존함.?: A small amount of ink remained.

×: 잉크가 다량 잔존함.X: A large amount of ink remains.

2. 요판 손상2. Scab injury

위 1에서 제작된 시편을 상온의 세정액 조성물에 일정 시간(1시간, 6시간) 동안 침지시킨 후 시편을 꺼내어 탈이온 증류수로 20초 동안 린스하였다. 린스가 완료된 후에는 질소를 이용하여 시편을 완전히 건조시켰다.The specimens prepared in 1 above were immersed in a cleaning composition at room temperature for a certain period of time (1 hour, 6 hours), and then the specimens were taken out and rinsed with deionized distilled water for 20 seconds. After the rinse was completed, the specimen was completely dried using nitrogen.

건조된 시편의 주사전자현미경(SEM, Hitach S-4700) 사진을 촬영하고, 이를 이용하여 하기 기준에 의거하여 요판의 손상 여부를 평가하였다.Scanning electron microscopy (SEM, Hitach S-4700) photographs of the dried specimens were taken and evaluated for damage to the intact plaques based on the following criteria.

<평가기준><Evaluation Criteria>

◎: 요판 손상 전혀 없음.◎: no intaglio damage at all.

○: 요판 손상 거의 없음.○: Almost no intaglio damage.

△: 요판 손상 일부 있음.△: Some scratches damaged.

×: 요판 손상 다량 있음.
X: There is a large amount of intaglio damage.

구분division 세정능력Cleaning ability 요판 손상Scab injury 적색 잉크Red ink 녹색 잉크Green ink 청색 잉크Blue ink 흑색 잉크Black ink 30초30 seconds 60초60 seconds 30초30 seconds 60초60 seconds 30초30 seconds 60초60 seconds 30초30 seconds 60초60 seconds 1시간1 hours 6시간6 hours 실시예1Example 1 실시예2Example 2 실시예3Example 3 실시예4Example 4 실시예5Example 5 실시예6Example 6 실시예7Example 7 실시예8Example 8 실시예9Example 9 실시예10Example 10 실시예11Example 11 비교예1Comparative Example 1 ×× ×× 비교예2Comparative Example 2 ×× 비교예3Comparative Example 3 ×× ×× ×× ×× ×× ×× 비교예4Comparative Example 4 ×× ×× ××

위 표 2와 같이, 본 발명에 따라 알칼리금속 하이드록사이드, 4급 암모늄 화합물, 수용성 극성 용매 및 물이 일정 함량으로 포함된 실시예 1 내지 11의 세정액 조성물은 비교예 1 내지 4의 세정액 조성물에 비해 장시간 침지 시에도 요판에 손상을 가하지 않으면서도 요판에 잔존하는 잉크에 대하여 전반적으로 우수한 제거력을 나타내었다.As shown in Table 2, the cleaning liquid compositions of Examples 1 to 11, in which alkali metal hydroxide, quaternary ammonium compound, water-soluble polar solvent and water were contained in a certain amount in accordance with the present invention, Compared with the ink remaining on the intaglio board, the ink was excellent in removing power over the entire intaglio without damaging the intaglio.

실시예들 중에서 특히, 알칼리금속 하이드록사이드 1-10중량%, 4급 암모늄 화합물 0.1-5중량%, 수용성 극성 용매 1-20중량% 및 잔량의 물을 포함하여 구성된 세정액 조성물이 적색, 녹색, 청색 및 흑색 잉크에 대하여 전반적으로 균일하고 빠른 세정능력을 나타내어 보다 바람직하였다.Among the examples, a cleaning liquid composition comprising 1-10 wt% of an alkali metal hydroxide, 0.1-5 wt% of a quaternary ammonium compound, 1-20 wt% of a water-soluble polar solvent, and a residual amount of water, More uniform and fast cleaning ability for blue and black inks was more preferable.

도 2에 본 발명의 실시예 1의 세정액 조성물을 이용하여 60초 동안 세정된 시편의 광학 현미경 사진을 나타내었다. 이를 통하여, 본 발명에 따른 세정액 조성물을 이용하는 경우 시편에 존재, 특히 미세 패턴 안에 존재하는 BM용 흑색 잉크가 제거되어 도 1에서와 같은 시편의 형상이 명확하게 확인되었다.FIG. 2 shows an optical microscope photograph of a specimen cleaned for 60 seconds using the cleaning composition of Example 1 of the present invention. Accordingly, in the case of using the cleaning liquid composition according to the present invention, the black ink present in the specimen, especially in the fine pattern, was removed, and the shape of the specimen as shown in Fig. 1 was clearly confirmed.

또한, 도 3에 비교예 3의 세정액 조성물을 이용하여 60초 동안 세정된 시편의 광학 현미경 사진을 나타내었다. 비교예 3의 세정액 조성물을 이용하는 경우 시편의 미세 패턴 내부뿐만 아니라 외부에 존재하는 BM용 흑색 잉크가 제거되지 않은 것을 알 수 있었다.FIG. 3 shows an optical microscope photograph of the specimen cleaned for 60 seconds using the cleaning composition of Comparative Example 3. FIG. When the cleaning liquid composition of Comparative Example 3 was used, it was found that not only the inside of the fine pattern of the test piece but also the black ink for BM present outside was removed.

Claims (6)

RGB 잉크 및 블랙매트릭스(BM)용 흑색 잉크의 세정 조성물로서,
알칼리금속 하이드록사이드 1 내지 20중량%; 4급 암모늄 화합물 0.1 내지 10중량%; 수용성 극성 용매 0.5 내지 30중량%; 및 잔량의 물을 포함하는 오프셋 인쇄용 요판 세정액 조성물.
As cleaning compositions for RGB inks and black inks for black matrix (BM)
1 to 20% by weight of an alkali metal hydroxide; 0.1 to 10% by weight of quaternary ammonium compound; 0.5 to 30% by weight of a water-soluble polar solvent; And a remaining amount of water.
청구항 1에 있어서, 알칼리금속 하이드록사이드 1 내지 10중량%; 4급 암모늄 화합물 0.1 내지 5중량%; 수용성 극성 용매 1 내지 20중량%; 및 잔량의 물을 포함하는 오프셋 인쇄용 요판 세정액 조성물.
The composition of claim 1, further comprising 1 to 10% by weight of an alkali metal hydroxide; 0.1 to 5% by weight of quaternary ammonium compound; 1 to 20% by weight of a water-soluble polar solvent; And a remaining amount of water.
청구항 1에 있어서, 알칼리금속 하이드록사이드는 리튬하이드록사이드, 나트륨하이드록사이드 및 칼륨하이드록사이드로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상인 오프셋 인쇄용 요판 세정액 조성물.
The offset printing puddle washing liquid composition according to claim 1, wherein the alkali metal hydroxide is at least one selected from the group consisting of lithium hydroxide, sodium hydroxide and potassium hydroxide.
청구항 1에 있어서, 4급 암모늄 화합물은 하기 화학식 1로 표시되는 화합물인 오프셋 인쇄용 요판 세정액 조성물:
[화학식 1]
Figure 112010081605263-pat00003

(식 중, R1 내지 R4는 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1-6인 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기 또는 하이드록시알킬기임).
The offset printing plate precursor cleaning composition according to claim 1, wherein the quaternary ammonium compound is a compound represented by the following formula (1)
[Chemical Formula 1]
Figure 112010081605263-pat00003

(Wherein R 1 to R 4 are independently a hydrogen atom, a straight-chain or branched-chain alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a hydroxyalkyl group).
청구항 4에 있어서, 화학식 1로 표시되는 화합물은 테트라메틸암모늄하이드록사이드, 테트라에틸암모늄하이드록사이드, 테트라프로필암모늄하이드록사이드, 테트라부틸암모늄하이드록사이드, 모노메틸트리프로필암모늄하이드록사이드, 트리메틸에틸암모늄하이드록사이드, (2-하이드록시에틸)트리프로필암모늄하이드록사이드 및 (1-하이드록시프로필)트리메틸암모늄하이드록사이드로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상인 오프셋 인쇄용 요판 세정액 조성물.
[Claim 4] The method according to claim 4, wherein the compound represented by Formula (1) is at least one selected from the group consisting of tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, tetrapropylammonium hydroxide, tetrabutylammonium hydroxide, monomethyltripropylammonium hydroxide, Wherein the composition is at least one selected from the group consisting of ethyl ammonium hydroxide, (2-hydroxyethyl) tripropylammonium hydroxide, and (1-hydroxypropyl) trimethylammonium hydroxide.
청구항 1에 있어서, 수용성 극성 용매는 에테르계 화합물, 알코올계 화합물, 피롤리돈계 화합물, 아미드계 화합물, 이미다졸리디논계 화합물, 락톤계 화합물, 술폭사이드계 화합물, 포스페이트계 화합물, 카보네이트계 화합물 및 크레졸계 화합물로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상인 오프셋 인쇄용 요판 세정액 조성물.The water-soluble polar solvent according to claim 1, wherein the water-soluble polar solvent is selected from the group consisting of ether compounds, alcohol compounds, pyrrolidone compounds, amide compounds, imidazolidinone compounds, lactone compounds, sulfoxide compounds, phosphate compounds, Cresol-based compound, and a cresol-based compound.
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WO2009064336A1 (en) 2007-11-16 2009-05-22 Ekc Technology, Inc. Compositions for removal of metal hard mask etching residues from a semiconductor substrate
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