KR101765233B1 - 유도결합 플라즈마 처리장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 유도결합 플라즈마 처리장치에 관한 것이다.
본 발명은 상측에 개구부가 형성된 챔버본체와; 상기 챔버본체와 함께 처리공간을 형성하도록 상기 개구부를 복개하는 하나 이상의 유전체와; 상기 챔버본체에 설치되어 기판을 지지하는 기판지지대와; 상기 유전체의 상측에 설치되어 상기 처리공간에 유도전계를 형성하는 안테나를 포함하며, 상기 안테나는 복수의 플레이트부를 포함하며, 상기 플레이트부의 판면에 대한 각 법선은 상기 챔버본체의 수평면에 대하여 평행, 수직 및 경사 중 2개 이상의 조합을 이루는 것을 특징으로 유도결합 플라즈마 처리장치를 개시한다.

Description

유도결합 플라즈마 처리장치 {Inductively coupled plasma processing apparatus}
본 발명은 유도결합 플라즈마 처리장치에 관한 것이다.
유도결합 플라즈마 처리장치는 증착공정, 식각공정 등 기판처리를 수행하는 장치로서, 밀폐된 처리공간을 형성하는 챔버본체와 챔버본체의 천정에 유전체를 설치하고 유전체의 상측에 고주파(RF) 안테나를 설치하여 안테나에 전원을 인가하여 처리공간에 유도전계를 형성하고 유도전계에 의하여 처리가스를 플라즈마화하여 기판처리를 수행한다.
여기서 상기 유도결합 플라즈마 처리장치의 기판처리의 대상에는 LCD 패널용 기판, 웨이퍼 등 증착, 식각 등 기판처리가 필요한 대상이면 어떠한 기판도 가능하다.
한편 종래의 유도결합 플라즈마 처리장치에 사용되는 안테나는 발열저항에 의하여 전력손실을 방지하기 위하여 수냉이 가능하도록 금속관으로 이루어지는 것이 일반적이었다.
그런데 대형기판에 대한 수요의 증가, 보다 많은 수의 기판처리에 의한 생산속도의 증가의 요구에 부응하여 기판처리를 수행하는 유도결합 플라즈마 처리장치 또한 대형화되고 있다.
그리고 상기 유도결합 플라즈마 처리장치가 대형화되면서, 유도결합 플라즈마 처리장치에 설치되는 부재들, 특히 유전체의 크기 또한 대형화될 필요가 있다.
이에 처리대상인 기판의 대면적화 및 플라즈마의 균일도 향상을 위하여 안테나 구조가 다중 복잡화되는 경향에 있는데 금속관 형태의 안테나는 복잡한 구조에 적용하기에는 적합하지 않은 문제점이 있다.
그리고 상기와 같은 문제점을 해결하고자, 유전체에 대하여 수직으로 설치, 즉 판면이 유전체의 상면과 수평을 이루도록 설치된 플레이트구조(판상구조)의 안테나가 대한민국 특허출원 제1997-0023671호에 제시된 바 있다.
대한민국 특허출원 제1997-0023671호에 제시된 안테나 구조는 안테나를 이루는 플레이트가 유전체의 상면에 대하여 수직으로 설치됨으로써 전기장이 유전체를 통하여 전달되는 것을 방지하여, 플라즈마로부터 스퍼터링되는 것을 방지할 수 있은 장점을 가지고 있다.
그러나 대한민국 특허출원 제1997-0023671호에 제시된 안테나 구조는 유전체를 통한 처리공간으로의 전자기장의 전달이 약해 플라즈마 방전을 개시하는데 불리한 구조이며, 균일한 플라즈마 형성을 위해서는 안테나 구조가 복잡해지는 문제점을 가지고 있다.
본 발명의 목적은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여, 플레이트 구조를 가지는 안테나를 판면이 유전체의 상면에 대하여 수직, 경사 및 평행 중 2개 이상의 조합으로 이룸으로써 플라즈마 방전 개시가 용이하며 균일한 플라즈마 형성을 위한 안테나 구조를 최적화할 수 있는 유도결합 플라즈마 처리장치를 제공하는 데 있다.
본 발명은 상기와 같은 본 발명의 목적을 달성하기 위하여 창출된 것으로서, 본 발명은 상측에 개구부가 형성된 챔버본체와; 상기 챔버본체와 함께 처리공간을 형성하도록 상기 개구부를 복개하는 하나 이상의 유전체와; 상기 챔버본체에 설치되어 기판을 지지하는 기판지지대와; 상기 유전체의 상측에 설치되어 상기 처리공간에 유도전계를 형성하는 안테나를 포함하며, 상기 안테나는 복수의 플레이트부를 포함하며, 상기 플레이트부의 판면에 대한 각 법선은 상기 챔버본체의 수평면에 대하여 평행, 수직 및 경사 중 2개 이상의 조합을 이루는 것을 특징으로 유도결합 플라즈마 처리장치를 개시한다.
상기 안테나는 상기 플레이트부들 중 적어도 일부가 연결브라켓에 의하여 서로 연결될 수 있다.
상기 연결브라켓은 상기 플레이트부의 표면에 볼팅, 리벳팅 및 용접 중 적어도 어느 하나의 방법에 의하여 이웃하는 플레이트부들을 연결할 수 있다.
상기 연결브라켓은 적어도 일부면에 상기 플레이트부의 끝단이 삽입되는 하나 이상의 삽입홈이 형성될 수 있다.
상기 연결브라켓은 적어도 일부면에 상기 플레이트부의 끝단이 삽입되는 복수개의 삽입홈들이 형성되며, 상기 유전체의 상면에 대하여 각 플레이트부의 설치높이를 변화시킬 수 있도록 상기 복수의 삽입홈들이 간격을 두고 형성될 수 있다.
또한 상기 연결브라켓은 적어도 일부면에 상기 플레이트부의 끝단이 삽입되는 복수개의 삽입홈들이 형성되며, 상기 플레이트부와 이웃하는 플레이트부와의 설치간격을 변화시킬 수 있도록 상기 복수의 삽입홈들이 간격을 두고 형성될 수 있다.
상기 안테나는 법선이 상기 챔버본체의 수평면에 대하여 평행인 하나 이상의 제1플레이트부와, 법선이 상기 챔버본체의 수평면에 대하여 수직인 하나 이상의 제2플레이트부를 포함할 수 있다.
상기 제1플레이트부는 상기 챔버본체의 수평면을 기준으로 중앙부에 설치되고, 상기 제2플레이트부는 외곽부에 설치될 수 있다.
상기 복수의 플레이트부들의 적어도 일부는 일체로 형성될 수 있다.
본 발명에 따른 유도결합 플라즈마 처리장치는 안테나를 유전체의 상면, 즉 챔버본체의 수평면에 대하여 팽행을 이루는 제1플레이트부 및 수직을 이루는 제2플레이트부로 구성하여, 스퍼터링에 의한 전사를 방지할 수 있는 구조의 제1플레이트부 및 초기 방전에 유리한 구조의 제2플레이트부를 적절하게 조합함으로써 처리공간에서의 균일한 플라즈마 형성은 물론 초기 방전이 용이하게 할 수 있는 이점이 있다.
또한 본 발명에 따른 유도결합 플라즈마 처리장치는 복수의 플레이트부들로 안테나를 구성하고, 플레이트부들의 법선을 챔버본체의 수평면에 대하여 수직, 경사, 평행 중 2개 이상의 조합으로 이룸으로써 처리공간 내에서 균일한 플라즈마 형상 및 초기 방전이 용이한 안테나 구조를 제공할 수 있는 이점이 있다.
도 1은 본 발명에 따른 유도결합 플라즈마 처리장치를 보여주는 단면도이다.
도 2는 도 1의 유도결합 플라즈마 처리장치에서 안테나 구조를 보여주는 평면도이다.
도 3a 및 도 3b는 각각 도 1의 유도결합 플라즈마 처리장치의 안테나를 구성하는 플레이트부들이 연결되는 예들을 보여주는 개념도들이다.
도 4a 및 도 4b는 각각 플레이트부의 법선이 챔버본체의 수평면과 평행을 이루는 경우 및 수직을 이루는 플레이트부 구조의 안테나에서의 전기장 및 자기장의 분포를 보여주는 개념도이다.
도 5a 및 도 5b는 각각 도 1의 유도결합 플라즈마 처리장치의 안테나를 구성하는 플레이트부들이 연결브라켓에 의하여 연결되는 예들을 보여주는 개념도들이다.
도 6은 도 5a 및 도 5b에 사용되는 연결브라켓의 다른 예를 보여주는 개념도이다.
이하 본 발명에 따른 유도결합 플라즈마 처리장치에 관하여 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
도 1은 본 발명에 따른 유도결합 플라즈마 처리장치를 보여주는 단면도이고, 도 2는 도 1의 유도결합 플라즈마 처리장치에서 안테나 구조를 보여주는 평면도이고, 도 3a 및 도 3b는 각각 도 1의 유도결합 플라즈마 처리장치의 안테나를 구성하는 플레이트부들이 연결되는 예들을 보여주는 개념도들이고, 도 4a 및 도 4b는 각각 플레이트부의 법선이 챔버본체의 수평면과 평행을 이루는 경우 및 수직을 이루는 플레이트부 구조의 안테나에서의 전기장 및 자기장의 분포를 보여주는 개념도이고, 도 5a 및 도 5b는 각각 도 1의 유도결합 플라즈마 처리장치의 안테나를 구성하는 플레이트부들이 연결브라켓에 의하여 연결되는 예들을 보여주는 개념도들이고, 도 6은 도 5a 및 도 5b에 사용되는 연결브라켓의 다른 예를 보여주는 개념도이다.
본 발명에 따른 유도결합 플라즈마 처리장치(100)는 도 1에 도시된 바와 같이, 상측에 개구부가 형성된 챔버본체(110)와; 챔버본체(110)의 개구부를 복개하도록 설치되는 하나 이상의 유전체(150)와; 챔버본체(110)에 설치되어 기판(10)을 지지하는 기판지지대(130)와; 유전체(150)의 상측에 설치되어 처리공간(S)에 유도전계를 형성하는 안테나(200)를 포함한다.
상기 챔버본체(110)는 처리공간(S)을 형성하기 위한 구성으로서 공정수행에 필요한 소정의 진공압을 견딜 수 있는 구성이면 어떠한 구성도 가능하다.
상기 챔버본체(110)는 처리되는 기판(10)의 형상에 대응되는 형상을 이룸이 바람직하며, 기판(10)의 입출을 위한 하나 이상의 게이트(111)가 형성되며 처리공간(S) 내의 압력제어 및 부산물을 제거하기 위하여 진공펌프(미도시)와 연결되는 배기관(180)이 연결될 수 있다.
또한 상기 챔버본체(110)는 개구부에 후술하는 유전체(150), 실링플레이트부(190), 등의 설치를 보조하기 위한 보조부재(112)가 설치될 수 있다.
상기 보조부재(112)는 오링(미도시) 등이 개재된 상태로 챔버본체(110) 상에 설치될 수 있으며, 유전체(150) 등의 설치를 위하여 단차 등이 형성될 수 있다.
또한 상기 챔버본체(110)는 공정수행을 위하여 가스공급장치와 연결되어 처리공간(S)으로 가스를 분사하는 가스분사부(140)가 설치될 수 있다.
상기 가스분사부(140)는 도 1에 도시된 바와 같이, 챔버본체(110)의 측벽에 설치되거나 유전체(150)의 하측에 설치되는 등 다양하게 설치될 수 있다.
특히 상기 가스분사부(140)는 도 1과는 달리 유전체(150)를 지지하는 지지프레임(미도시)이 설치된 경우에 지지프레임에 설치될 수도 있다.
상기 기판지지대(130)는 기판(10)이 안착되는 구성으로서 기판(10)을 지지할 수 있는 구성이면 어떠한 구성도 가능하며 공정에 따라서 전원이 인가되거나 접지될 수 있으며, 냉각 또는 가열을 위한 열전달부재가 설치될 수 있다.
상기 유전체(150)는 안테나(200)에 의하여 처리공간(S) 내에 유도전계를 형성할 수 있도록 처리공간(S)과 안테나(200) 사이에 개재되는 구성으로서 다양한 구조를 가질 수 있으며 그 재질은 석영, 세라믹 등이 사용될 수 있다.
상기 유전체(150)는 대형기판의 처리를 위하여 단일의 유전체(150)로 구성되지 않고 복수개의 유전체(150)들로 구성될 수도 있다.
상기 안테나(200)는 유전체(150)의 상측에 설치되어 처리공간(S)에 유도전계를 형성하는 구성으로서, 전기 전도성 재질을 가지며 두께와 폭을 가지는 복수의 플레이트부들(210, 220)을 포함한다.
상기 안테나(200)를 형성하는 플레이트부(210, 220)는 RF전원인가에 의하여 전자기장을 형성할 수 있도록 전기 전도성이 좋은 재질이 사용되며, 단면형상이 두께에 비하여 폭이 큰 판면을 가지는 플레이트, 즉 판상형태를 가진다.
그리고 상기 안테나(200)를 형성하는 플레이트부(210, 220)는 복수개로 구성되어 용접, 연결브라켓(240)에 의하여 서로 연결될 수 있다. 여기서 상기 플레이트부(210, 220)들은 적어도 일부가 일체로 형성될 수도 있음은 물론이다.
한편 상기 플레이트부(210, 220)는 판면에 대한 법선(N)이 챔버본체(110)의 수평면에 대하여 평행, 수직 및 경사 중 2개 이상의 조합으로 이루는 것을 특징으로 한다.
즉, 본 발명에 따른 유도결합 플라즈마 처리장치는 안테나(200)를 구성하는 플레이트부(210, 220)들의 판면에 대한 법선(N)을 평행, 수직 및 경사 중 2개 이상의 조합으로 이룸으로써 플라즈마 방전 개시가 용이하며 균일한 플라즈마 형성을 위한 안테나 구조를 최적화할 수 있다.
예를 들면, 상기 안테나(200)는 법선(N)이 챔버본체(110)의 수평면에 대하여 평행(도 4a에 도시된 바와 같이)인 하나 이상의 제1플레이트부(210)와, 법선(N)이 챔버본체(110)의 수평면에 대하여 수직(도 4b에 도시된 바와 같이)인 하나 이상의 제2플레이트부(220)를 포함할 수 있다.
상기와 같은 구성을 가지는 안테나(200)는 스퍼터링에 의한 전사를 방지할 수 있는 구조의 제1플레이트부(210) 및 초기 방전에 유리한 구조의 제2플레이트부(220)를 적절하게 조합함으로써 처리공간(S)에서의 균일한 플라즈마 형성은 물론 초기 방전이 용이하게 할 수 있는 이점이 있다.
그리고 상기 제1플레이트부(210) 및 제2플레이트부(220)의 조합에 있어서, 챔버본체(110)의 수평면을 기준으로 중앙부가 외곽부에 비하여 상대적으로 플라즈마 밀도가 높음을 고려하여, 제1플레이트부(210)는 챔버본체(110)의 수평면을 기준으로 중앙부에 설치되고, 제2플레이트부(220)는 외곽부에 설치됨이 바람직하다.
한편 플레이트부(210, 220)는 법선(N)이 다른 이웃하는 플레이트부와 다양한 형태로 연결될 수 있다.
즉, 도 3a에 도시된 바와 같이, 상기 복수개의 플레이트부(210, 220)들은 그 일부가 용접에 의하여 연결될 수 있다.
또한 도 3b에 도시된 바와 같이, 상기 안테나(200)는 복수의 플레이트부(210, 220)들 중 적어도 일부가 일체를 이루며 서로 비틀어져 연결될 수 있다.
즉, 상기 제1플레이트부(210) 및 제2플레이트부(220)는 제1플레이트부(210) 및 제2플레이트부(220)는 비틀어져 형성될 수 있다.
한편 상기 복수개의 플레이트부(210, 220)들은 설치의 용이성을 위하여, 도 5a 및 도 5b에 도시된 바와 같이, 연결브라켓(240)에 의하여 서로 연결될 수 있다.
그리고 상기 연결브라켓(240)은 플레이트부(210, 220)의 표면에 볼팅, 리벳팅 및 용접 중 적어도 어느 하나의 방법에 의하여 이웃하는 플레이트부(210, 220)들을 연결할 수 있다.
상기 연결브라켓(240)은 도 5a 및 도 5b에 도시된 바와 같이, 그 조립이 편리하도록 플레이트부(210, 220)의 끝단이 삽입되는 하나 이상의 삽입홈(241)이 형성될 수 있다.
상기 삽입홈(241)는 각 플레이트부(210, 220, 230)의 끝단이 삽입되어 조립될 수 있도록 플레이트부(210, 220, 230)의 끝단에 대응되는 형상을 가진다.
특히 상기 연결브라켓(240)은 직육면체, 원기둥, 다각기둥 등 다양한 형상을 가질 수 있으며, 적어도 일부면에 하나 이상의 삽입홈(241)이 형성될 수 있다.
여기서 상기 연결브라켓(240)은 도 6에 도시된 바와 같이, 삽입홈(241)이 각 면에 복수개로 형성될 수 있으며, 특히 복수의 삽입홈(241)들이 간격을 두고 형성됨으로써 유전체(150)의 상면에 대하여 각 플레이트부(210, 220)의 설치높이를 다양하게 변화시킬 수 있다.
상기와 같이 유전체(150)의 상면에 대하여 각 플레이트부(210, 220)의 설치높이를 변화시킬 수 있게 되면 플라즈마 강도(밀도)의 조절이 용이하여, 처리될 기판의 종류, 공정조건 등의 변화 등의 요구조건에 따라 최적의 처리환경을 조성할 수 있는 이점이 있다.
또한 상기 연결브라켓(240)은 플레이트부(210, 220)와 이웃하는 플레이트부(210, 220)와의 설치간격을 변화시킬 수 있도록 복수의 삽입홈(241)들이 간격을 두고 형성될 수 있다.
즉, 복수의 삽입홈(241)들이 다양한 패턴으로 형성된 연결브라켓(240)은 법선(N)을 변화시키거나, 유전체(150)의 상면에 대한 설치높이를 변화시키거나, 플레이트부(210, 220)가 간격을 두고 설치된 이웃하는 플레이트부(210, 220) 사이의 설치간격을 변화시키는 등 플레이트부(210, 220)들의 결합태양을 다양하게 변화시킬 수 있다.
상기와 같이 이웃하는 플레이트부(210, 220) 사이의 설치간격을 변화시킬 수 있게 되면 처리공간(S) 내의 처리환경의 최적화가 가능하여 플라즈마 강도(밀도)의 조절이 용이하여, 처리될 기판의 종류, 공정조건 등의 변화 등의 요구조건에 능동적으로 대응할 수 있는 이점이 있다.
또한 상기 연결브라켓(240)은 복수의 삽입홈(241)들이 각 면에서 다양한 형태로 형성됨으로써 이웃하는 플레이트부(210, 220)들 사이에서 법선(N)이 유전체(150)에 대한 다양한 각도로 플레이트부(210, 220)들이 결합되도록 할 수 있다.
또한 상기 복수의 플레이트부(210, 220)들은 연결브라켓(240)에 의하여 연결되지 않는 경우 용접 등에 의하여 연결되거나 일체로 형성되어 비틀어져 유전체(150) 상면에 대한 법선(N)을 변화시킬 수 있다.
이상은 본 발명에 의해 구현될 수 있는 바람직한 실시예의 일부에 관하여 설명한 것에 불과하므로, 주지된 바와 같이 본 발명의 범위는 위의 실시예에 한정되어 해석되어서는 안 될 것이며, 위에서 설명된 본 발명의 기술적 사상과 그 근본을 함께 하는 기술적 사상은 모두 본 발명의 범위에 포함된다고 할 것이다.
100 : 기판처리장치 110 : 챔버본체
130 : 기판지지대 150 : 유전체
200 : 안테나
210 : 제1플레이트부 220 : 제2플레이트부

Claims (10)

  1. 상측에 개구부가 형성된 챔버본체와;
    상기 챔버본체와 함께 처리공간을 형성하도록 상기 개구부를 복개하는 하나 이상의 유전체와;
    상기 챔버본체에 설치되어 기판을 지지하는 기판지지대와;
    상기 유전체의 상측에 설치되어 상기 처리공간에 유도전계를 형성하는 안테나를 포함하며,
    상기 안테나는 단면형상이 일정 폭과 일정 두께를 가지며 상기 두께에 비하여 상기 폭이 큰 판면을 가지는 판상형태로 이루어진 플레이트부를 복수개 포함하며,
    상기 플레이트부의 판면에 대한 각 법선은 상기 챔버본체의 수평면에 대하여 평행, 수직 및 경사 중 2개 이상의 조합을 이루는 것을 특징으로하는 유도결합 플라즈마 처리장치.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 안테나는 상기 플레이트부들의 적어도 일부가 서로 비틀어져 연결된 것을 특징으로 하는 유도결합 플라즈마 처리장치.
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 안테나는 상기 플레이트부들 중 적어도 일부가 연결브라켓에 의하여 서로 연결된 것을 특징으로 하는 유도결합 플라즈마 처리장치.
  4. 청구항 3에 있어서,
    상기 연결브라켓은 상기 플레이트부의 표면에 볼팅, 리벳팅 및 용접 중 적어도 어느 하나의 방법에 의하여 이웃하는 플레이트부들을 연결하는 것을 특징으로 하는 유도결합 플라즈마 처리장치.
  5. 청구항 3에 있어서,
    상기 연결브라켓은 적어도 일부면에 상기 플레이트부의 끝단이 삽입되는 하나 이상의 삽입홈이 형성된 것을 특징으로 하는 유도결합 플라즈마 처리장치.
  6. 상측에 개구부가 형성된 챔버본체와;
    상기 챔버본체와 함께 처리공간을 형성하도록 상기 개구부를 복개하는 하나 이상의 유전체와;
    상기 챔버본체에 설치되어 기판을 지지하는 기판지지대와;
    상기 유전체의 상측에 설치되어 상기 처리공간에 유도전계를 형성하는 안테나를 포함하며,
    상기 안테나는 복수의 플레이트부를 포함하며,
    상기 플레이트부의 판면에 대한 각 법선은 상기 챔버본체의 수평면에 대하여 평행, 수직 및 경사 중 2개 이상의 조합을 이루며,
    상기 안테나는 상기 플레이트부들 중 적어도 일부가 연결브라켓에 의하여 서로 연결되며,
    상기 연결브라켓은 적어도 일부면에 상기 플레이트부의 끝단이 삽입되는 복수개의 삽입홈들이 형성되며,
    상기 유전체의 상면에 대하여 각 플레이트부의 설치높이를 변화시킬 수 있도록 상기 복수의 삽입홈들이 간격을 두고 형성된 것을 특징으로 하는 유도결합 플라즈마 처리장치.
  7. 상측에 개구부가 형성된 챔버본체와;
    상기 챔버본체와 함께 처리공간을 형성하도록 상기 개구부를 복개하는 하나 이상의 유전체와;
    상기 챔버본체에 설치되어 기판을 지지하는 기판지지대와;
    상기 유전체의 상측에 설치되어 상기 처리공간에 유도전계를 형성하는 안테나를 포함하며,
    상기 안테나는 복수의 플레이트부를 포함하며,
    상기 플레이트부의 판면에 대한 각 법선은 상기 챔버본체의 수평면에 대하여 평행, 수직 및 경사 중 2개 이상의 조합을 이루며,
    상기 안테나는 상기 플레이트부들 중 적어도 일부가 연결브라켓에 의하여 서로 연결되며,
    상기 연결브라켓은 적어도 일부면에 상기 플레이트부의 끝단이 삽입되는 복수개의 삽입홈들이 형성되며,
    상기 플레이트부와 이웃하는 플레이트부와의 설치간격을 변화시킬 수 있도록 상기 복수의 삽입홈들이 간격을 두고 형성된 것을 특징으로 하는 유도결합 플라즈마 처리장치.
  8. 청구항 1 내지 청구항 7 중 어느 하나의 항에 있어서,
    상기 안테나는 법선이 상기 챔버본체의 수평면에 대하여 평행인 하나 이상의 제1플레이트부와, 법선이 상기 챔버본체의 수평면에 대하여 수직인 하나 이상의 제2플레이트부를 포함하는 것을 특징으로 하는 유도결합 플라즈마 처리장치.
  9. 청구항 8에 있어서,
    상기 제1플레이트부는 상기 챔버본체의 수평면을 기준으로 중앙부에 설치되고, 상기 제2플레이트부는 외곽부에 설치된 것을 특징으로 하는 유도결합 플라즈마 처리장치.
  10. 청구항 1에 있어서,
    상기 복수의 플레이트부들의 적어도 일부는 일체로 형성된 것을 특징으로 하는 유도결합 플라즈마 처리장치.
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