KR101764473B1 - Pressure sensitive adhesive composition - Google Patents

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Abstract

본 출원은 점착제 조성물, 도전성 적층체, 터치 패널 및 디스플레이 장치에 관한 것이다. 본 출원의 점착제 조성물은 특정 범위 이하의 분자량 분포를 가지고, 가교 구조를 구현한 후 저온 및 고온에서 특정 범위 이상의 저장 탄성률을 나타내는 점착제층을 구현할 수 있어, 이를 적용한 점착제층이 도전성 적층체에 포함되어 제조될 경우, 제조 시 도전성 기능층의 결정화를 위한 열처리 공정으로부터 발생되는 기포를 방지할 수 있을 뿐만 아니라, 이에 따라 상기 기포에 의해 발생되는 시인성 문제를 해결하여 보다 우수한 시인성이 확보된 터치 패널 또는 디스플레이 장치를 제공할 수 있다.The present application relates to a pressure-sensitive adhesive composition, a conductive laminate, a touch panel, and a display device. The pressure-sensitive adhesive composition of the present application has a molecular weight distribution below a specific range and can realize a pressure-sensitive adhesive layer showing a storage elastic modulus in a specific range or more at a low temperature and a high temperature after implementing a crosslinked structure, and the pressure- It is possible to prevent air bubbles generated from the heat treatment process for crystallizing the conductive functional layer during manufacturing and to solve the visibility problem caused by the air bubbles thereby to provide a touch panel or display Device can be provided.

Description

점착제 조성물{PRESSURE SENSITIVE ADHESIVE COMPOSITION}[0001] PRESSURE SENSITIVE ADHESIVE COMPOSITION [0002]

본 출원은 점착제 조성물, 도전성 적층체, 터치 패널 및 디스플레이 장치에 관한 것이다.
The present application relates to a pressure-sensitive adhesive composition, a conductive laminate, a touch panel, and a display device.

터치 패널 또는 터치 스크린은 이동 통신 단말기 또는 ATM 등과 같은 각종 정보 처리용 단말기나, TV 및 모니터 등의 표시 장치에 다양하게 적용되고 있다. 또한, 소형 휴대용 전자 기기로의 적용이 증가하면서 보다 소형이고 경량화된 터치 패널 또는 스크린에 대한 요구가 증가하는 추세이다.BACKGROUND ART [0002] A touch panel or a touch screen is variously applied to various information processing terminals such as a mobile communication terminal or an ATM, or a display device such as a TV and a monitor. In addition, as the application to small portable electronic devices increases, there is an increasing tendency for a smaller and lighter touch panel or screen.

상기 터치 패널 또는 스크린의 구성 시에는 예를 들면 특허문헌 1 또는 2에 개시된 것과 같은 도전성 필름이 사용된다. 이러한 도전성 필름은 도전성 기능층이 구비되어 있는 방식에 따라 일면 도전성 필름 또는 양면 도전성 필름으로 구분될 수 있다.A conductive film such as the one disclosed in, for example, Patent Document 1 or 2 is used for constituting the touch panel or the screen. Such a conductive film may be classified into a one-side conductive film or a both-side conductive film depending on the manner in which the conductive functional layer is provided.

상기 도전성 필름을 제조할 경우 최외각에 도전성층이 위치하여 열처리 공정에서 기포가 발생할 수 있다. 상기 발생된 기포는 시인성을 낮게 하여 디스플레이 장치 등의 투명성 등이 요구되는 분야에 대한 적용을 가로막는 문제점이 있다. When the conductive film is produced, the conductive layer is located at the outermost periphery, and bubbles may be generated in the heat treatment process. The generated bubbles have low visibility, which hinders the application of the display device or the like to fields requiring transparency and the like.

특허문헌 1 및 2는 도전성 필름에 사용되는 점착제 조성물이 제안되어 있다.
Patent Documents 1 and 2 have proposed a pressure-sensitive adhesive composition for use in a conductive film.

특허 문헌 1: 대한민국 공개특허 제2013-0096147호Patent Document 1: Korean Patent Publication No. 2013-0096147 특허 문헌 2: 대한민국 공개특허 제2009-0113669호Patent Document 2: Korean Patent Publication No. 2009-0113669

본 출원은 점착제 조성물, 도전성 적층체, 터치 패널 및 디스플레이 장치를 제공한다.
The present application provides a pressure-sensitive adhesive composition, a conductive laminate, a touch panel, and a display device.

본 출원은 점착제 조성물에 관한 것이다.The present application relates to a pressure-sensitive adhesive composition.

예시적인 점착제 조성물은 도전성 적층체에 적용되는 점착제 조성물일 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 점착제 조성물은 일면 또는 양면 도전성 적층체에 포함된 점착제층을 형성할 수 있는 점착제 조성물일 수 있다.An exemplary tackifier composition may be a tackifier composition applied to a conductive laminate. More specifically, the pressure-sensitive adhesive composition may be a pressure-sensitive adhesive composition capable of forming a pressure-sensitive adhesive layer contained in a one-sided or double-sided conductive laminate.

하나의 예시에서, 상기 점착제 조성물은 점착성 중합체를 포함할 수 있다. In one example, the pressure sensitive adhesive composition may comprise a tacky polymer.

상기 점착성 중합체는 알킬 (메타)아크릴레이트의 중합 단위 및 가교성 관능기 함유 공중합성 단량체의 중합 단위를 포함할 수 있다. 본 명세서에서, 「소정 단량체의 중합 단위」라는 것은, 상기 소정 단량체가 상기 점착성 중합체를 제조하기 위한 중합 공정에 사용되어, 중합 후에 상기 점착성 중합체의 주쇄 또는 측쇄 등과 같은 골격을 형성하고 있는 형태를 의미할 수 있다.The tacky polymer may include polymerized units of alkyl (meth) acrylate and copolymerizable monomers containing a crosslinkable functional group. In the present specification, the term " polymerization unit of a predetermined monomer " means a form in which the above-mentioned predetermined monomer is used in a polymerization process for producing the adhesive polymer to form a skeleton such as a main chain or side chain of the adhesive polymer after polymerization can do.

상기에서 알킬 (메타)아크릴레이트의 종류는 특별히 제한되지 않으며, 응집력과 후술하는 저장 탄성률 등의 물성을 고려하여, 탄소수 1 내지 20, 탄소수 1 내지 16, 탄소수 1 내지 12 또는 탄소수 4 내지 12인 알킬기를 가지는 알킬 (메타)아크릴레이트를 사용할 수 있다. 상기 알킬기는, 직쇄상, 분지쇄상 또는 고리상일 수 있고, 하나 이상의 치환기에 의해 치환되어 있거나 또는 비치환된 상태일 수 있다. 이러한 알킬 (메타)아크릴레이트의 예로는, 메틸 (메타)아크릴레이트, 에틸 (메타)아크릴레이트, n-프로필 (메타)아크릴레이트, 이소프로필 (메타)아크릴레이트, n-부틸 (메타)아크릴레이트, 이소부틸 (메타)아크릴레이트, t-부틸 (메타)아크릴레이트, 펜틸 (메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실 (메타)아크릴레이트, n-옥틸 (메타)아크릴레이트, 이소옥틸 (메타)아크릴레이트, 이소노닐 (메타)아크릴레이트, 라우릴 (메타)아크릴레이트, 이소보닐 (메타)아크릴레이트 및 테트라 데실 (메타)아크릴레이트 등을 들 수 있고, 이 중 1종 또는 2종 이상이 중합체에 중합된 형태로 포함될 수 있다.The type of the alkyl (meth) acrylate is not particularly limited, and an alkyl (meth) acrylate having a carbon number of 1 to 20, a carbon number of 1 to 16, a carbon number of 1 to 12, or a carbon number of 4 to 12 is selected in consideration of physical properties such as cohesive strength and storage elastic modulus (Meth) acrylate. The alkyl group may be straight-chain, branched or cyclic, substituted by one or more substituents, or may be unsubstituted. Examples of such alkyl (meth) acrylates include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) (Meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, pentyl (Meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, isobonyl (meth) acrylate, and tetradecyl (meth) acrylate. Of these, May be included in polymerized form.

상기 가교성 관능기 함유 공단량체는 상기 점착성 중합체가 후술하는 다관능성 가교제와 반응할 수 있는 가교성 관능기를 제공할 수 있다. 본 명세서에서, 용어 「가교성 관능기 함유 공단량체」는 가교성 관능기와 공중합성 부위를 동시에 가지는 단량체를 포함하는 의미이다. 이와 같은 가교성 관능기의 예로는, 히드록시기, 카복실기, 에폭시기 또는 이소시아네이트기 등을 들 수 있으며, 바람직하게는 히드록시기일 수 있다. 점착성 중합체의 제조 분야에서는 상기와 같은 가교성 관능기를 상기 점착성 중합체에 제공할 수 있는 다양한 단량체가 공지되어 있고, 본 출원에서는 상기와 같은 단량체를 제한 없이 사용할 수 있다. 예를 들어, 히드록시기를 가지는 단량체로는, 히드록시메틸 (메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸 (메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필 (메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸 (메타)아크릴레이트, 6-히드록시헥실 (메타)아크릴레이트, 8-히드록시옥틸 (메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸렌글리콜 (메타)아크릴레이트 또는 2-히드록시프로필렌글리콜 (메타)아크릴레이트 등을 사용할 수 있다.The cross-linkable functional group-containing comonomer can provide a crosslinkable functional group capable of reacting with the multifunctional crosslinking agent described later. In the present specification, the term " crosslinkable functional group-containing comonomer " is meant to include monomers having both a crosslinkable functional group and a copolymerization site simultaneously. Examples of such a crosslinkable functional group include a hydroxyl group, a carboxyl group, an epoxy group or an isocyanate group, and preferably a hydroxy group. In the production of sticky polymers, various monomers capable of providing the above-mentioned crosslinkable functional groups to the sticky polymer are known, and in the present application, such monomers can be used without limitation. Examples of the monomer having a hydroxyl group include hydroxymethyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (Meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyleneglycol (meth) acrylate, Can be used.

하나의 예시에서, 상기 점착성 중합체는 알킬 (메타)아크릴레이트의 중합 단위 70 중량부 내지 99 중량부 및 가교성 관능기 함유 단량체의 중합 단위 1 중량부 내지 30 중량부를 포함할 수 있다. 본 명세서에서, 단위 「중량부」는, 각 성분간의 중량의 비율을 의미할 수 있다. 또 다른 예시에서, 상기 점착성 중합체는 알킬 (메타)아크릴레이트의 중합 단위 80 중량부 내지 95 중량부 및 가교성 관능기 함유 단량체 중합 단위 5 중량부 내지 20 중량부를 포함할 수 있다. 상기 점착성 중합체에 포함되는 단량체 중합 단위들의 함량을 전술한 범위에서 조절하여 상기 점착제 조성물의 점착력 및 저장 탄성률을 목적하는 수준에서 적절하게 조절할 수 있다.In one example, the tacky polymer may comprise from 70 parts by weight to 99 parts by weight of polymerized units of alkyl (meth) acrylate and from 1 to 30 parts by weight of polymerized units of monomer containing a crosslinkable functional group. In the present specification, the unit " part by weight " may mean the ratio of the weight between each component. In another example, the viscous polymer may comprise 80 to 95 parts by weight of polymerized units of alkyl (meth) acrylate and 5 to 20 parts by weight of monomeric units containing a crosslinkable functional group. The content of the monomeric polymerization units in the tacky polymer may be controlled within the range described above, so that the tackiness and the storage modulus of the tacky composition can be appropriately controlled at desired levels.

상기 점착성 중합체는 상기 언급한 단량체 외에도, 예를 들면, (메타)아크릴로니트릴, (메타)아크릴아미드, N-메틸 (메타)아크릴아미드, N-부톡시메틸 (메타)아크릴아미드, N-비닐 피롤리돈 또는 N-비닐 카프로락탐 등과 같은 질소 함유 단량체; 스티렌 또는 메틸 스티렌과 같은 스티렌계 단량체; 글리시딜 (메타)아크릴레이트와 같은 글리시딜기 함유 단량체; 또는 비닐 아세테이트와 같은 카르복실산 비닐 에스테르 등의 다른 단량체의 중합 단위도 포함할 수 있다. 이러한 공단량체들은 필요에 따라 적정한 종류가 일종 또는 이종 이상 선택되어 점착성 중합체에 포함될 수 있다. 이러한 공단량체는, 예를 들면, 다른 전체 단량체의 중량 대비 20 중량부 이하, 또는 0.1 중량부 내지 15 중량부의 비율로 점착성 중합체에 포함될 수 있다.In addition to the above-mentioned monomers, the tacky polymer may include, for example, (meth) acrylonitrile, (meth) acrylamide, N-methyl (meth) acrylamide, N-butoxymethyl Nitrogen-containing monomers such as pyrrolidone or N-vinylcaprolactam; Styrene-based monomers such as styrene or methylstyrene; Glycidyl group-containing monomers such as glycidyl (meth) acrylate; Or other monomeric units such as carboxylic acid vinyl esters such as vinyl acetate. These comonomers may be included in the tacky polymer, if necessary, by selecting one or more suitable types. Such comonomers may be included in the adhesive polymer in a proportion of, for example, 20 parts by weight or less, or 0.1 parts by weight to 15 parts by weight, based on the weight of the other total monomers.

본 출원에서 상기와 같은 점착성 중합체는 이 분야의 통상의 중합 방식을 통하여 제조할 수 있다. 예를 들면, 목적하는 단량체 조성에 따라 필요한 단량체를 배합하여 제조되는 단량체 혼합물을 용액 중합(Solution polymerization), 광중합(Photo polymerization), 괴상 중합(Bulk polymerization), 현탁 중합(Suspension polymerization) 또는 유화 중합(Emulsion polymerization) 등과 같은 방식으로 제조할 수 있고, 바람직하게는 용액 중합 방식으로 제조할 수 있다. 또한, 상기 제조 과정에서 필요한 경우, 적합한 중합 개시제 또는 분자량 조절제나 사슬 이동제 등이 함께 사용될 수 있다.The tacky polymer as described above in the present application can be prepared through conventional polymerization methods in this field. For example, a monomer mixture prepared by blending necessary monomers according to the desired monomer composition may be subjected to solution polymerization, photo polymerization, bulk polymerization, suspension polymerization or emulsion polymerization Emulsion polymerization, and the like, preferably by a solution polymerization method. In addition, when necessary in the above-mentioned production process, suitable polymerization initiators, molecular weight regulators, chain transfer agents and the like may be used together.

하나의 예시에서, 상기 점착성 중합체는 예를 들면, 100만 이상, 105만 이상, 110만 이상 또는 115만 이상 정도의 중량평균분자량(Mw; Weight Average Molecular Weight)을 가질 수 있다. 본 명세서에서, 용어 「중량평균분자량」은, GPC(Gel Permeation Chromatograph)로 측정된 표준 폴리스티렌에 대한 환산 수치를 의미할 수 있다. 특별히 달리 규정하지 않는 한, 본 명세서에서, 용어 「분자량」은, 전술한 「중량평균분자량」을 의미할 수 있다. In one example, the tacky polymer may have a weight average molecular weight (Mw) of, for example, greater than or equal to 1 million, greater than or equal to 1.05 million, or greater than or equal to 1.15 million. As used herein, the term " weight average molecular weight " may refer to a value converted to a standard polystyrene measured by GPC (Gel Permeation Chromatograph). Unless otherwise specified otherwise, the term " molecular weight " in this specification may mean the above-mentioned " weight average molecular weight ".

상기 점착성 중합체의 분자량은 높을수록 응집력 및 점착력이 우수하여 상한은 특별히 제한되지 않으며, 예를 들어 500만, 400만, 300만 또는 200만 정도일 수 있다. 이러한 범위의 분자량을 가지는 점착성 중합체를 포함하면 점착 물성, 응집력 및 후술하는 저장 탄성률 등의 물성을 목적하는 수준에서 적절하게 확보한 점착제 조성물을 제공할 수 있다.The higher the molecular weight of the adhesive polymer is, the higher the cohesive force and the adhesive force are, and the upper limit is not particularly limited, and may be, for example, 5,000,000, 4,000,000, 3,000,000 or 2,000,000. When a pressure-sensitive adhesive polymer having such a molecular weight within such a range is included, a pressure-sensitive adhesive composition can be provided which is appropriately secured at desired levels of physical properties such as adhesive property, cohesive force and storage elastic modulus to be described later.

하나의 예시에서, 상기 점착성 중합체는 분자량 분포(PDI; Mw/Mn), 즉 중량평균분자량(Mw)과 수평균분자량(Mn)의 비율(Mw/Mn)이 5.0 이하, 4.5 이하, 4.0 이하 또는 3.0 이하일 수 있다. 또 다른 예시에서, 상기 점착성 중합체의 분자량 분포는 1.0 내지 3.0, 1.5 내지 3.0 또는 2.0 내지 3.0일 수 있다. 상기 분자량 분포를 갖는 점착성 중합체를 포함함으로써 기포 발생 억제력이 보다 우수한 점착제 조성물 또는 점착제층이 제공될 수 있다.In one example, the tacky polymer has a molecular weight distribution (PDI; Mw / Mn), that is, a ratio (Mw / Mn) of a weight average molecular weight (Mw) to a number average molecular weight (Mn) of 5.0 or less, 4.5 or less, May be 3.0 or less. In another example, the molecular weight distribution of the tacky polymer may be 1.0 to 3.0, 1.5 to 3.0, or 2.0 to 3.0. By including the pressure-sensitive adhesive polymer having the above-mentioned molecular weight distribution, a pressure-sensitive adhesive composition or a pressure-sensitive adhesive layer having better bubble-generation inhibiting ability can be provided.

본 출원의 점착제 조성물은 다관능성 가교제를 포함할 수 있다.The pressure-sensitive adhesive composition of the present application may comprise a multifunctional crosslinking agent.

상기 다관능성 가교제는 상기 가교성 관능기와 반응하는 관능기를 2개 이상, 예를 들면 2개 내지 6개를 가지는 것이라면 제한 없이 사용될 수 있다.The multifunctional crosslinking agent may be used without limitation as long as it has two or more functional groups, for example, two to six functional groups reacting with the crosslinkable functional group.

상기 점착제 조성물에 포함되는 상기 다관능성 가교제는, 예를 들어 이소시아네이트 가교제, 다가 금속 화합물, 아지리딘 화합물, 옥사졸린 수지, 카르보디이미드 화합물, 에폭시 화합물 및 멜라민 화합물로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상의 가교제를 사용할 수 있다.The multifunctional crosslinking agent contained in the pressure-sensitive adhesive composition may be at least one crosslinking agent selected from the group consisting of an isocyanate crosslinking agent, a polyvalent metal compound, an aziridine compound, an oxazoline resin, a carbodiimide compound, an epoxy compound and a melamine compound Can be used.

상기 이소시아네이트 화합물로는, 특별히 제한되는 것은 아니나, 예를 들어 2,2-디메틸펜탄디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 2,2,4-트리메틸헥산디이소시아네이트, 부텐디이소시아네이트, 1,3-부타디엔-1,4-디이소시아네이트, 2,4,4-트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 1,6,11-운데카트리이소시아네이트, 1,3,6-헥사메틸렌트리이소시아네이트, 1,8-디이소시아네이트-4-이소시아네이토메틸옥탄, 비스(이소시아네이토에틸)카보네이트, 비스(이소시아네이토에틸)에테르 등의 지방족 이소시아네이트 화합물; 이소포론디이소시아네이트, 1,2-비스(이소시아네이토메틸)시클로헥산, 1,3-비스(이소시아네이토메틸)시클로헥산, 1,4-비스(이소시아네이토메틸)시클로헥산, 디시클로헥실메탄디이소시아네이트, 시클로헥산디이소시아네이트, 메틸시클로헥산디이소시아네이트, 디시클로헥실디메틸메탄이소시아네이트, 2,2-디메틸디시클로헥실메탄이소시아네이트 등의 지환족 이소시아네이트 화합물; 자일릴렌디이소시아네이트(XDI), 비스(이소시아네이토에틸)벤젠, 비스(이소시아네이토프로필)벤젠, 비스(이소시아네이토부틸)벤젠, 비스(이소시아네이토메틸)나프탈렌, 비스(이소시아네이토메틸)디페닐에테르, 페닐렌디이소시아네이트, 에틸페닐렌디이소시아네이트, 이소프로필페닐렌디이소시아네이트, 디메틸페닐렌디이소시아네이트, 디에틸페닐렌디이소시아네이트, 디이소프로필페닐렌디이소시아네이트, 트리메틸벤젠트리이소시아네이트, 벤젠트리이소시아네이트, 비페닐디이소시아네이트, 톨루이딘디이소시아네이트, 4,4-디페닐메탄디이소시아네이트, 3,3-디메틸디페닐메탄-4,4-디이소시아네이트, 비벤질-4,4-디이소시아네이트, 비스(이소시아네이토페닐)에틸렌, 3,3-디메톡시비페닐-4,4-디이소시아네이트, 헥사히드로벤젠디이소시아네이트, 헥사히드로디페닐메탄-4,4-디이소시아네이트 등의 방향족 이소시아네이트 화합물; 비스(이소시아네이토에틸)술피드, 비스(이소시아네이토프로필)술피드, 비스(이소시아네이토헥실)술피드, 비스(이소시아네이토메틸)설폰, 비스(이소시아네이토메틸)디술피드, 비스(이소시아네이토프로필)디술피드, 비스(이소시아네이토메틸티오)메탄, 비스(이소시아네이토에틸티오)메탄, 비스(이소시아네이토에틸티오)에탄, 비스(이소시아네이토메틸티오)에탄, 1,5-디이소시아네이토-2-이소시아네이토메틸-3-티아펜탄 등의 함황 지방족 이소시아네이트 화합물; 디페닐술피드-2,4-디이소시아네이트, 디페닐술피드-4,4-디이소시아네이트, 3,3-디메톡시-4,4-디이소시아네이토디벤질티오에테르, 비스(4-이소시아네이토메틸벤젠)술피드, 4,4-메톡시벤젠티오에틸렌글리콜-3,3-디이소시아네이트, 디페닐디술피드-4,4-디이소시아네이트, 2,2-디메틸디페닐디술피드-5,5-디이소시아네이트, 3,3-디메틸디페닐디술피드-5,5-디이소시아네이트, 3,3-디메틸디페닐디술피드-6,6-디이소시아네이트, 4,4-디메틸디페닐디술피드-5,5-디이소시아네이트, 3,3-디메톡시 디페닐디술피드-4,4-디이소시아네이트, 4,4-디메톡시디페닐디술피드-3,3-디이소시아네이트 등의 함황 방향족 이소시아네이트 화합물; 2,5-디이소시아네이토티오펜, 2,5-비스(이소시아네이토메틸)티오펜, 2,5-디이소시아네이토테트라히드로티오펜, 2,5-비스(이소시아네이토메틸)테트라히드로티오펜, 3,4-비스(이소시아네이토메틸)테트라히드로티오펜, 2,5-디이소시아네이토-1,4-디티안, 2,5-비스(이소시아네이토메틸)-1,4-디티안, 4,5-디이소시아네이토-1,3-디티오란, 4,5-비스(이소시아네이토메틸)-1,3-디티오란, 4,5-비스(이소시아네이토메틸)-2-메틸-1,3-디티오란 등의 함황 복소환 이소시아네이트 화합물 중에서 선택된 1종 또는 2종 이상이 사용될 수 있다. Examples of the isocyanate compound include, but are not limited to, 2,2-dimethylpentane diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, 2,2,4-trimethylhexane diisocyanate, butene diisocyanate, 1,3- 1,4-diisocyanate, 2,4,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, 1,6,11-undecatriisocyanate, 1,3,6-hexamethylene triisocyanate, 1,8-diisocyanate- Aliphatic isocyanate compounds such as cyanatomethyloctane, bis (isocyanatoethyl) carbonate and bis (isocyanatoethyl) ether; (Isocyanatomethyl) cyclohexane, 1,3-bis (isocyanatomethyl) cyclohexane, 1,4-bis (isocyanatomethyl) cyclohexane, isophorone diisocyanate, Alicyclic isocyanate compounds such as dicyclohexylmethane diisocyanate, cyclohexane diisocyanate, methylcyclohexane diisocyanate, dicyclohexyldimethylmethane isocyanate, and 2,2-dimethyldicyclohexylmethane isocyanate; (Isocyanatoethyl) benzene, bis (isocyanatopropyl) benzene, bis (isocyanatobutyl) benzene, bis (isocyanatomethyl) naphthalene, bis (isocyanatoethyl) Isocyanatomethyl) diphenyl ether, phenylenediisocyanate, ethylphenylenediisocyanate, isopropylphenylenediisocyanate, dimethylphenylenediisocyanate, diethylphenylenediisocyanate, diisopropylphenylenediisocyanate, trimethylbenzene triisocyanate, benzene tri Isocyanate, biphenyl diisocyanate, toluidine diisocyanate, 4,4-diphenylmethane diisocyanate, 3,3-dimethyldiphenylmethane-4,4-diisocyanate, bibenzyl-4,4-diisocyanate, bis Cyanatophenyl) ethylene, 3,3-dimethoxybiphenyl-4,4-diisocyanate, hexahydrobenzene diisocyanate, hexa Aromatic isocyanate compounds such as hydroiodiphenylmethane-4,4-diisocyanate; Bis (isocyanatoethyl) sulfide, bis (isocyanatoethyl) sulfide, bis (isocyanatopropyl) sulfide, bis (isocyanatohexyl) sulfide, bis Bis (isocyanatoethylthio) methane, bis (isocyanatoethylthio) methane, bis (isocyanatoethylthio) ethane, bis (isocyanatoethylthio) Aliphatic isocyanate compounds such as isocyanatomethylthio) ethane and 1,5-diisocyanato-2-isocyanatomethyl-3-thiapentane; Diphenylsulfide-2,4-diisocyanate, diphenylsulfide-4,4-diisocyanate, 3,3-dimethoxy-4,4-diisocyanatodibenzylthioether, bis (4- Diisocyanate, diphenyldisulfide-4,4-diisocyanate, 2,2-dimethyl diphenyldisulfide-5,5 Diisocyanate, 3,3-dimethyldiphenyldisulfide-5,5-diisocyanate, 3,3-dimethyldiphenyldisulfide-6,6-diisocyanate, 4,4- A sulfided aromatic isocyanate compound such as 5-diisocyanate, 3,3-dimethoxy diphenyl disulfide-4,4-diisocyanate and 4,4-dimethoxydiphenyl disulfide-3,3-diisocyanate; 2,5-bis (isocyanatomethyl) thiophene, 2,5-diisocyanatotetrahydrothiophene, 2,5-bis (isocyanatomethyl) (Isocyanatomethyl) tetrahydrothiophene, 2,5-diisocyanato-1,4-dithiane, 2,5-bis (isocyanatomethyl) Dithiane, 4,5-diisocyanato-1,3-dithiolane, 4,5-bis (isocyanatomethyl) -1,3-dithiolane, 4,5-bis Isocyanatomethyl) -2-methyl-1,3-dithiolane, and the like can be used.

또한, 다가 금속 화합물로는, 특별히 제한되는 것은 아니나, 다가 금속이 아세틸 아세톤이나 아세토초산에틸 등에 배위한 상태로 존재하는 화합물을 사용할 수 있고, 상기에서 다가 금속의 종류로는, 알루미늄, 철, 아연, 주석, 티탄, 안티몬, 마그네슘 또는 바나듐 등이 있으며, 상기 아지리딘 화합물로는, 예를 들어 N,N'-톨루엔-2,4-비스(1-아지리딘카르복사미드), N,N'-디페닐메탄-4,4'-비스(1-아지리딘카르복사미드), 트리에틸렌멜라민, 비스이소프로탈로일-1-(2-메틸아지리딘) 또는 트리-1-아지리디닐포스핀옥사이드 등의 일종 또는 이종 이상을 사용할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.The polyvalent metal compound is not particularly limited but a compound in which a polyvalent metal exists in a state of being fed to acetylacetone or ethyl acetonate can be used. As the polyvalent metal, there can be used aluminum, iron, zinc N, N'-toluene-2,4-bis (1-aziridinecarboxamide), N, N'-diphenylmethane diisocyanate, -Diphenylmethane-4,4'-bis (1-aziridine carboxamide), triethylene melamine, bisisopropanoyl-1- (2-methyl aziridine) Oxides, and the like, but they are not limited thereto.

상기 옥사졸린 수지로는, 예를 들면, 2-비닐-2-옥사졸린, 2-비닐-4-메틸-2-옥사졸린, 2-비닐-5-메틸-2-옥사졸린, 2-이소프로페닐-2-옥사졸린, 2-이소프로페닐-4-메틸-2-옥사졸린 또는 2-이소프로페닐-5-에틸-2-옥사졸린 등의 화합물이 사용될 수 있으며, 상기 카르보디이미드 화합물로는 예를 들어, 1,3-디사이클로헥실카르보디이미드, 일본의 니신보(NISSHINBO)사에서 판매하는 HMV-8CA, HMV-10B, 비스-(2,6-디이소프로필-페닐린-2,4-카르보디이미드), 폴리-(1,3,5-트리이소프로필-페닐리-2,4-카르보디이미드) 등을 사용할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.Examples of the oxazoline resin include 2-vinyl-2-oxazoline, 2-vinyl-4-methyl-2-oxazoline, Phenyl-2-oxazoline, 2-isopropenyl-4-methyl-2-oxazoline or 2-isopropenyl-5-ethyl-2-oxazoline may be used. As the carbodiimide compound For example, 1,3-dicyclohexylcarbodiimide, HMV-8CA sold by NISSHINBO, HMV-10B, bis- (2,6-diisopropyl- Carbodiimide), poly- (1,3,5-triisopropyl-phenyl-2,4-carbodiimide), and the like, but the present invention is not limited thereto.

또한, 상기 에폭시 화합물로는, 예를 들어 에틸렌글리콜 디글리시딜에테르, 트리글리시딜에테르, 트리메틸올프로판 트리글리시딜에테르, N,N,N',N'-테트라글리시딜 에틸렌디아민 또는 글리세린 디글리시딜에테르 등을 사용할 수 있고, 상기 멜라민 화합물로는, 예를 들어 아미노기 또는 부톡시기를 함유하는 멜라민 화합물 또는 메톡시기를 함유하는 멜라민 화합물을 사용할 수 있으며, 구체적으로는, 사이텍(CYTEC)사의 CYMEL 325, CYMEL327; 빕(BIP)사의 BE3748, BE 3040; 몬산토(MONSANTO)사의 RESIMENE 717; 유나이티드 카비드(UNITED CARBIDE)사의 CYMEL 303, 아메리칸 시안아미드(AMERICAN CYANAMID)사의 CYMEL 1130 등을 사용할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.Examples of the epoxy compound include ethylene glycol diglycidyl ether, triglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, N, N, N ', N'-tetraglycidylethylenediamine or glycerin A melamine compound containing an amino group or a butoxy group or a melamine compound containing a methoxy group can be used as the melamine compound. Specific examples of the melamine compound include CYTEC, CYMEL 325, CYMEL 327; BE 3748, BE 3040 from BIP; RESIMENE 717 from MONSANTO; CYMEL 303 manufactured by UNITED CARBIDE, and CYMEL 1130 manufactured by AMERICAN CYANAMID. However, the present invention is not limited thereto.

상기 다관능성 가교제는 점착성 중합체 100 중량부 대비 0.01 중량부 내지 10 중량부, 0.05 중량부 내지 5 중량부 또는 0.1 중량부 내지 1 중량부의 범위 내에서 점착제 조성물에 포함될 수 있다. 상기 점착제 조성물에 포함되는 다관능성 가교제의 함량을 전술한 범위에서 적절하게 조절하여 상기 점착제 조성물 또는 그로부터 형성되는 점착제층의 점착력이나, 저장 탄성률 등의 물성을 목적하는 수준으로 우수하게 확보할 수 있다.The multifunctional crosslinking agent may be included in the pressure-sensitive adhesive composition in a range of 0.01 to 10 parts by weight, 0.05 to 5 parts by weight, or 0.1 to 1 part by weight based on 100 parts by weight of the pressure-sensitive adhesive polymer. The content of the multifunctional crosslinking agent contained in the pressure-sensitive adhesive composition can be suitably controlled within the above-mentioned range to ensure excellent properties such as the adhesive strength of the pressure-sensitive adhesive composition or the pressure-sensitive adhesive layer formed therefrom, and the storage elastic modulus.

하나의 예시에서, 상기 점착제 조성물은 가교 구조를 구현한 상태에서 150℃ 온도 및 1rad/sec의 주파수에서 측정한 저장 탄성률이 0.03MPa 이상, 0.0325MPa 이상 또는 0.035MPa 이상일 수 있다. 또 다른 예시에서, 상기 점착제 조성물은 가교 구조를 구현한 상태에서 150℃ 온도 및 1rad/sec의 주파수에서 측정한 저장 탄성률이 0.04MPa 이상일 수 있다. 상기 150℃ 온도 및 1rad/sec의 주파수에서 측정된 저장 탄성률의 상한은 특별히 제한되지 않으며, 예를 들면 0.10MPa, 0.09MPa 또는 0.08MPa 정도일 수 있다. In one example, the pressure-sensitive adhesive composition may have a storage modulus of 0.03 MPa or more, 0.0325 MPa or more, or 0.035 MPa or more as measured at a temperature of 150 캜 and a frequency of 1 rad / sec in a crosslinked structure. In another example, the pressure-sensitive adhesive composition may have a storage modulus of 0.04 MPa or more measured at a temperature of 150 캜 and a frequency of 1 rad / sec in a state of implementing a crosslinked structure. The upper limit of the storage elastic modulus measured at the temperature of 150 DEG C and the frequency of 1 rad / sec is not particularly limited, and may be, for example, about 0.10 MPa, 0.09 MPa, or 0.08 MPa.

다른 예시에서, 상기 점착제 조성물은 가교 구조를 구현한 상태에서 30℃ 온도 및 1rad/sec의 주파수에서 저장 탄성률이 0.04MPa 이상, 0.0425MPa 이상, 0.045MPa 이상 또는 0.0475MPa 이상일 수 있다. 상기 점착제 조성물을 30℃ 온도 및 1rad/sec의 주파수에서 측정된 저장 탄성률의 상한은 특별히 제한되지 않으며, 예를 들면 0.10MPa, 0.0975MPa, 0.095MPa 또는 0.0925MPa 정도일 수 있다.In another example, the pressure-sensitive adhesive composition may have a storage elastic modulus of 0.04 MPa or more, 0.0425 MPa or more, 0.045 MPa or more, or 0.0475 MPa or more at a temperature of 30 캜 and a frequency of 1 rad / sec in a state of realizing a crosslinked structure. The upper limit of the storage elastic modulus of the pressure-sensitive adhesive composition measured at a temperature of 30 DEG C and a frequency of 1 rad / sec is not particularly limited and may be, for example, about 0.10 MPa, 0.0975 MPa, 0.095 MPa, or 0.0925 MPa.

상기 점착제 조성물의 저장 탄성률을 저온 및 고온의 조건에서 전술한 범위 내에서 조절하여 상기 점착제 조성물로부터 형성된 점착제층을 포함하는 도전성 적층체의 제조에서 열처리 공정으로 인한 기포 발생을 방지할 수 있으며, 이로 인하여 보다 시인성이 우수한 도전성 적층체를 제공할 수 있다.The storage elastic modulus of the pressure-sensitive adhesive composition can be controlled within the above-described range at low temperature and high temperature to prevent the occurrence of bubbles due to the heat treatment process in the production of the conductive laminate including the pressure-sensitive adhesive layer formed from the pressure-sensitive adhesive composition, It is possible to provide an electrically conductive laminate excellent in visibility.

하나의 예시에서, 본 출원의 점착제 조성물은 가교 구조를 구현한 후의 겔(gel) 분율이 75 중량% 이상 또는 80 중량% 이상일 수 있다. 상기 겔 분율은 하기 일반식 1로 계산될 수 있다.In one example, the pressure-sensitive adhesive composition of the present application may have a gel fraction of at least 75 wt% or at least 80 wt% after implementing the crosslinked structure. The gel fraction can be calculated by the following general formula (1).

[일반식 1][Formula 1]

겔 분율(%) = B/A × 100Gel fraction (%) = B / A x 100

일반식 1에서, A는 가교 구조를 구현하고 있는 상기 점착제 조성물의 질량이고, B는, 상기 질량 A의 점착제 조성물을 200 메쉬(mesh)의 크기의 망에 넣은 상태로 상온에서 에틸 아세테이트에 72시간 침적시킨 후에 채취한 불용해분의 120℃의 온도에서 1시간 동안 건조시킨 후의 질량을 나타낸다.In the general formula (1), A represents the mass of the pressure-sensitive adhesive composition which implements the crosslinked structure, and B represents the mass of the pressure-sensitive adhesive composition of mass A in a net of 200 mesh, The mass of the insoluble fractions collected after immersion was measured after drying for 1 hour at a temperature of 120 ° C.

다른 예시에서, 상기 점착제 조성물은 하기 일반식 2의 탄성률 특성을 가질 수 있다.In another example, the pressure-sensitive adhesive composition may have an elastic modulus characteristic represented by the following general formula (2).

[일반식 2][Formula 2]

GL/GH<1.7G L / G H < 1.7

일반식 2에서, GL은 가교 구조를 구현한 상태에서 30℃ 및 1rad/sec에서의 저장 탄성률을 나타내고, GH는 가교 구조를 구현한 상태에서 150℃ 및 1rad/sec에서의 저장 탄성률을 나타낸다.In the general formula 2, G L represents the storage elastic modulus at 30 ° C and 1 rad / sec in the state of implementing the crosslinked structure, and G H represents the storage elastic modulus at 150 ° C and 1 rad / sec in the state of implementing the crosslinked structure .

본 명세서에서, 「가교 구조를 구현한 상태」라는 것은 가교 반응이 충분히 진행된 상태를 의미할 수 있고, 하나의 구체적인 예에서 상술한 점착성 중합체와 가교제를 반응시킨 조성물을 소정량 채취하여 약 40℃의 온도에서 약 48시간 내지 약 72시간 정도 숙성(aging)한 후의 조성물 또는 시료 상태를 의미할 수 있다.In the present specification, "a state in which a crosslinking structure is realized" may mean a state in which the crosslinking reaction is sufficiently advanced. In one specific example, a predetermined amount of the composition obtained by reacting the above- May refer to the composition or sample state after aging for about 48 hours to about 72 hours at a temperature.

상기 점착제 조성물의 겔 분율 및/또는 탄성률의 특성을 상기 범위로 제어하는 경우, 상기 점착제 조성물로부터 형성된 점착제층을 포함하는 도전성 적층체의 제조에서 열처리 공정으로 인한 기포 발생을 방지할 수 있으며, 이로 인하여 보다 시인성이 우수한 도전성 적층체를 제공할 수 있다.
When the properties of the gel fraction and / or the elastic modulus of the pressure-sensitive adhesive composition are controlled within the above ranges, bubbles due to the heat treatment process can be prevented in the production of the conductive laminate including the pressure-sensitive adhesive layer formed from the pressure- It is possible to provide an electrically conductive laminate excellent in visibility.

본 출원은 또한 도전성 적층체에 관한 것이다.The present application also relates to a conductive laminate.

하나의 예시에서, 상기 도전성 적층체는 기재층; 상기 기재층의 적어도 일면에 형성되어 있는 전술한 점착제 조성물의 가교층을 포함하는 점착제층; 및 상기 점착제층상에 형성되어 있는 도전층을 포함할 수 있다.In one example, the conductive laminate comprises a substrate layer; A pressure-sensitive adhesive layer comprising a crosslinked layer of the aforementioned pressure-sensitive adhesive composition formed on at least one side of the base layer; And a conductive layer formed on the pressure-sensitive adhesive layer.

본 출원에 따른 도전성 적층체를 도 1에 예시적으로 나타내었다.The conductive laminate according to the present application is exemplarily shown in Fig.

도 1에 나타난 바와 같이, 상기 도전성 적층체는 기재층(10); 상기 기재층(10)의 적어도 일면에 형성되어 있는 전술한 점착제 조성물의 가교층을 포함하는 점착제층(20); 및 상기 점착제층(20)상에 형성되어 있는 도전층(30)을 포함할 수 있다.As shown in Fig. 1, the conductive laminate includes a base layer 10; A pressure-sensitive adhesive layer (20) comprising a crosslinked layer of the aforementioned pressure-sensitive adhesive composition formed on at least one side of the base layer (10); And a conductive layer 30 formed on the pressure-sensitive adhesive layer 20.

도 2는, 본 출원에 따른 도전성 적층체의 또 다른 예시를 나타낸 도이다. 본 출원의 도전성 적층체는 도 2에 나타난 바와 같이, 기재층(10); 상기 기재층(10)의 양면에 형성되어 있는 전술한 점착제 조성물의 가교층을 포함하는 점착제층(20); 및 상기 기재층(10)의 양면에 형성된 점착제층(20)상에 각각 형성되어 있는 도전층(30)을 포함하는 양면 도전성 적층체일 수 있다.2 is a view showing still another example of the conductive laminate according to the present application. As shown in Fig. 2, the conductive laminate of the present application comprises a base layer 10; A pressure-sensitive adhesive layer (20) comprising a crosslinked layer of the aforementioned pressure-sensitive adhesive composition formed on both sides of the base layer (10); And a conductive layer 30 formed on the pressure-sensitive adhesive layer 20 formed on both sides of the base layer 10, respectively.

또한, 도 3은 상기 도전층(30)을 보다 구체적으로 나타낸 도면이다. 도 3에 나타낸 바와 같이, 상기 도전층(30)은 도전용 기재층(50); 상기 도전용 기재층(50)의 일면에 형성되어 있는 언더코팅층(40); 및 상기 언더코팅층(40)상에 형성되어 있는 도전성 기능층(60)을 포함할 수 있다.3 is a view showing the conductive layer 30 in more detail. As shown in FIG. 3, the conductive layer 30 includes a conductive base layer 50; An undercoat layer 40 formed on one surface of the conductive base layer 50; And an electrically conductive functional layer 60 formed on the undercoat layer 40.

상기 기재층(10) 또는 도전용 기재층(50)으로는, 예를 들면, 광학적으로 투명한 플라스틱 필름을 사용할 수 있다. 상기 플라스틱 필름으로는 예를 들면, PET(poly(ethylene terephthalate)) 필름과 같은 폴리에스테르 필름; 폴리아미드 필름; 폴리염화비닐 필름; 폴리스티렌 필름; 또는 폴리에틸렌 또는 폴리프로필렌 등의 폴리올레핀 필름으로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상 등이 예시될 수 있다. 상기 플라스틱 필름은, 무연신 또는 일축 또는 이축 연신 필름일 수 있다. 상기 도전용 기재층에는 도전성 기능층과의 밀착성의 향상의 관점에서 표면에 코로나 방전 처리, 자외선 조사 처리, 플라즈마 처리 또는 스퍼터 에칭 등의 처리가 수행되어 있을 수 있다. 이러한 기재층 또는 도전용 기재층은, 예를 들면, 약 10㎛ 내지 300㎛, 50㎛ 내지 200㎛ 또는 100㎛ 내지 150㎛ 정도의 두께를 가질 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.As the base layer 10 or the conductive base layer 50, for example, an optically transparent plastic film can be used. The plastic film includes, for example, a polyester film such as a PET (poly (ethylene terephthalate) film; Polyamide film; Polyvinyl chloride films; Polystyrene film; Or a polyolefin film such as polyethylene or polypropylene, and the like. The plastic film may be an unoriented or uniaxially or biaxially stretched film. The surface of the conductive substrate layer may be subjected to a treatment such as corona discharge treatment, ultraviolet ray irradiation treatment, plasma treatment, or sputter etching on the surface from the viewpoint of improving adhesion with the conductive functional layer. The base layer or the conductive base layer may have a thickness of, for example, from about 10 탆 to 300 탆, from 50 탆 to 200 탆, or from 100 탆 to 150 탆, but is not limited thereto.

하나의 예시에서, 본 출원의 도전성 적층체는 상기 기재층 및 점착제층 사이에 하드코팅층을 추가로 포함할 수 있다.In one example, the conductive laminate of the present application may further include a hard coat layer between the base layer and the pressure-sensitive adhesive layer.

도 4는, 상기 하드코팅층(70)을 추가로 포함하는 도전성 적층체의 구조를 모식적으로 나타낸 도면이다.4 is a diagram schematically showing the structure of a conductive laminate further comprising the hard coat layer 70. [

다른 예시에서, 본 출원의 도전성 적층체는 기재층; 상기 기재층의 양면에 형성되어 있는 점착제층; 상기 점착제층상에 각각 형성되어 있는 도전층을 포함하고, 상기 기재층의 양면은 하드코팅층이 형성되어 있으며, 상기 도전층은 상기 점착제층과 접촉하는 도전용 기재층; 상기 도전용 기재층상에 형성되어 있는 언더코팅층; 및 상기 언더코팅층상에 형성되어 있는 도전성 기능층을 포함하고, 상기 점착제층은 전술한 점착제 조성물의 가교층을 포함하는 합지형 양면 도전성 3매형 적층체일 수 있다.In another example, the conductive laminate of the present application comprises a base layer; A pressure-sensitive adhesive layer formed on both surfaces of the base layer; And a conductive layer formed on the pressure-sensitive adhesive layer, wherein a hard coating layer is formed on both surfaces of the base layer, the conductive layer being in contact with the pressure-sensitive adhesive layer; An undercoat layer formed on the conductive base layer; And a conductive functional layer formed on the undercoat layer, and the pressure-sensitive adhesive layer may be a double-sided conductive three-ply laminate including the crosslinked layer of the pressure-sensitive adhesive composition described above.

보다 구체적으로, 이러한 본 출원의 하나의 예시적인 양면 도전성 적층체의 구조를 도 5에 도시하였다.More specifically, the structure of one exemplary double-sided conductive laminate of this application is shown in Fig.

본 출원의 도전성 적층체는, 도 5에 나타낸 바와 같이, 도 5에 나타낸 바와 같이, 기재층(10); 상기 기재층(10)의 양면에 형성되어 있는 하드코팅층(70); 상기 하드코팅층(70)상에 각각 형성되어 있는 전술한 점착제 조성물의 가교층을 포함하는 점착제층(20); 상기 점착제층(20)상에 각각 형성되어 있는 도전용 기재층(50); 상기 도전용 기재층(50)상에 형성되어 있는 언더코팅층(40); 및 상기 언더코팅층(40)상에 각각 형성되어 있는 도전성 기능층(60)을 포함하는 구조일 수 있다.As shown in Fig. 5, the conductive laminate of the present application comprises a base layer 10; A hard coating layer 70 formed on both sides of the substrate layer 10; A pressure-sensitive adhesive layer (20) comprising a crosslinked layer of the aforementioned pressure-sensitive adhesive composition formed on the hard coat layer (70); A conductive base layer (50) formed on the pressure sensitive adhesive layer (20); An undercoat layer 40 formed on the conductive base layer 50; And a conductive functional layer 60 formed on the undercoat layer 40, respectively.

상기 하드코팅층은, 통상의 소재로 형성할 수 있으며, 예를 들어 아크릴 우레탄계 수지 또는 실록산계 수지 등의 경질 수지를 도포 및 경화 처리하는 하드코트 처리 방법 등에 의해 형성할 수 있다. 하드코트 처리에 있어서는, 상기 아크릴 우레탄계 수지나 실록산계 수지 등의 경질 수지에 실리콘 수지 등을 배합하여 표면을 조면화하고, 터치 패널 등에 적용되었을 경우에 거울 작용에 의한 반사를 방지할 수 있는 논글레어면을 동시에 형성할 수도 있다. 이러한 하드코팅층은 경도 특성, 내크렉성, 및 컬(curl) 방지 특성 등을 고려하여, 약 0.1㎛ 내지 약 30㎛ 정도의 두께로 형성할 수 있다.The hard coat layer can be formed of a common material and can be formed by, for example, a hard coat treatment method of applying and hardening a hard resin such as an acrylic urethane resin or a siloxane resin. In the hard coat treatment, a silicone resin or the like is mixed with a hard resin such as the acryl urethane-based resin or siloxane-based resin to roughen the surface of the hard resin, and when it is applied to a touch panel or the like, Plane can be formed at the same time. Such a hard coat layer can be formed to a thickness of about 0.1 to 30 占 퐉 in consideration of hardness characteristics, anti-creep properties, curl prevention properties, and the like.

상기 점착제층은 전술한 점착제 조성물로부터 형성되어 있는 한 특별히 제한되는 것은 아니나, 예를 들어 약 1㎛ 내지 50㎛, 1㎛ 내지 40㎛ 또는 1㎛ 내지 30㎛ 정도의 두께를 가질 수 있고, 이러한 범위의 두께 또한 필요한 경우 적절하게 조절될 수 있다.The pressure-sensitive adhesive layer is not particularly limited as long as it is formed from the above-described pressure-sensitive adhesive composition, but it may have a thickness of, for example, about 1 탆 to 50 탆, 1 탆 to 40 탆 or 1 탆 to 30 탆, Can also be adjusted appropriately if necessary.

상기 언더코팅층(40)은, 예를 들면 후술하는 도전성 기능층(60) 및 도전용 기재층(50)의 밀착성을 향상시킬 수 있다.The undercoat layer 40 can improve the adhesion of the conductive functional layer 60 and the conductive base layer 50 to be described later, for example.

언더코팅층은, 무기 재료, 유기 재료 또는 유무기 복합 재료를 포함할 수 있다. 무기 재료로는, 예를 들어, SiO2, MgF2 또는 Al2O3 등이 예시될 수 있고, 유기 재료로는, 아크릴 폴리머, 우레탄 폴리머, 멜라민 폴리머, 알키드 폴리머 또는 실록산 폴리머 등이 예시될 수 있으며, 유무기 복합 재료로는, 상기 중 1종 이상의 무기 재료와 1종 이상의 유기 재료의 복합물이 예시될 수 있다. 하나의 예시에서 상기 언더코팅층은, 유기 실란을 포함하는 혼합물의 졸겔 반응물 또는 유기 재료로 멜라민 수지, 알키드 폴리머 및 유기 실란 축합물의 혼합물을 포함하는 열경화성 수지를 사용하여 형성할 수 있다.The undercoat layer may include an inorganic material, an organic material, or an organic composite material. As the inorganic material, for example, SiO 2 , MgF 2 or Al 2 O 3 can be exemplified. As the organic material, an acrylic polymer, a urethane polymer, a melamine polymer, an alkyd polymer or a siloxane polymer can be exemplified As the organic-inorganic composite material, a composite of at least one kind of inorganic material and at least one kind of organic material can be exemplified. In one example, the undercoat layer can be formed using a thermosetting resin comprising a mixture of a melamine resin, an alkyd polymer and an organosilane condensate as a sol-gel reaction product of an organic silane-containing mixture or an organic material.

상기 언더코팅층은, 예를 들면, 진공 증착, 스퍼터링, 이온 플레이팅 또는 도공 방식 등으로 형성될 수 있다. 또한, 상기 언더 코팅층은, 통상 100 nm 이하, 15 nm 내지 100 nm 또는 20 nm 내지 60 nm의 두께로 형성할 수 있다.The undercoat layer may be formed by, for example, vacuum deposition, sputtering, ion plating or coating. The undercoat layer may be formed to a thickness of usually 100 nm or less, 15 nm to 100 nm, or 20 nm to 60 nm.

상기 도전성 기능층은 금, 은, 백금, 팔라듐, 구리, 알루미늄, 니켈, 크롬, 티탄, 철, 코발트, 주석 및 상기 중 2종 이상의 합금 등과 같은 금속, 산화 인듐, 산화 주석, 산화 티탄, 산화 카드뮴 또는 상기 중 2종 이상의 혼합물로 구성되는 금속 산화물, 요오드화 구리 등으로 이루어지는 다른 금속 산화물로 형성될 수 있고, 상기 도전성 기능층은 결정층 또는 비결정층일 수 있다. 바람직하게는, 인듐 주석 산화물(ITO; Indium Tin Oxide)을 사용하여 도전성 기능층을 형성할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 또한, 상기와 같은 도전성 기능층의 두께는, 연속 피막의 형성 가능성, 도전성 및 투명성 등을 고려하여, 약 10nm 내지 300nm, 바람직하게는 약 10nm 내지 200nm로 조절할 수 있다.The conductive functional layer may be formed of a metal such as gold, silver, platinum, palladium, copper, aluminum, nickel, chromium, titanium, iron, cobalt, tin and two or more kinds of alloys thereof, indium oxide, tin oxide, Or a metal oxide composed of a mixture of two or more of the above, or another metal oxide composed of copper iodide, etc., and the conductive functional layer may be a crystalline layer or an amorphous layer. Preferably, indium tin oxide (ITO) may be used to form the conductive functional layer, but the present invention is not limited thereto. The thickness of the conductive functional layer may be adjusted to about 10 nm to 300 nm, preferably about 10 nm to 200 nm, in consideration of the possibility of formation of a continuous film, conductivity, transparency, and the like.

상기 도전성 기능층은, 예를 들면, 진공 증착법, 스퍼터링법, 이온 플레이팅법, 스프레이 열분해법, 화학 도금법, 전기 도금법 또는 상기 중 2종 이상의 방법을 조합한 통상의 박막 형성법으로 형성할 수 있고, 바람직하게는 진공 증착법 또는 스퍼터링법으로 형성할 수 있다.The conductive functional layer can be formed by, for example, a vacuum evaporation method, a sputtering method, an ion plating method, a spray pyrolysis method, a chemical plating method, an electroplating method, or a general thin film formation method combining two or more of the above methods, May be formed by a vacuum evaporation method or a sputtering method.

본 출원의 도전성 적층체에 대한 제조 방법은 특별히 제한되는 것은 아니나, 하기 실시예 부분에 기재된 것과 같이 직도공 방식으로 제조되는 것이 바람직하다. 또한, 본 출원의 도전성 적층체의 효과가 저해되지 않는 범위 내에서, 상기 직도공 방식 이외에 non-carrier film을 도입한 제조 방법으로도 제조될 수 있다. 상기 non-carrier film을 도입한 제조 방법의 경우, 예를 들어 이형 필름의 이형 면에 상기 점착제 조성물로부터 형성된 점착제를 코팅하고, 100℃에서 약 90초간 건조한 후, 이형력이 낮은 이형 필름으로 라미네이션하여 non-carrier film 형식의 점착 필름을 제조한 후, 상기 점착 필름의 이형 필름을 제거하여 하드 코팅 처리된 기재의 양면에 라미네이션 및 ITO 필름을 추가로 라미네이션하는 방식으로 수행할 수 있다.
The method for producing the conductive laminate of the present application is not particularly limited, but it is preferable that the conductive laminate is produced in a straight-through manner as described in the following example section. In addition, within the range where the effect of the conductive laminate of the present application is not hindered, the non-carrier film can be manufactured by a manufacturing method in which a non-carrier film is introduced. In the case of the above production method using the non-carrier film, for example, a releasing film of the releasing film is coated with a pressure-sensitive adhesive formed from the pressure-sensitive adhesive composition, dried at 100 ° C for about 90 seconds, laminated with a releasing film having a low releasing force a non-carrier film type adhesive film may be manufactured, and the release film of the adhesive film may be removed to laminate and laminate an ITO film on both sides of the hard coated substrate.

본 출원은, 또한 터치 패널 또는 그 터치 패널을 포함하는 디스플레이 장치에 관한 것이다. The present application also relates to a touch panel or a display device including the touch panel.

예시적인 터치 패널은 상기 도전성 적층체를 예를 들면, 터치 패널용 전극판으로 포함할 수 있다.The exemplary touch panel may include the conductive laminate as an electrode plate for a touch panel, for example.

본 출원에서 터치 패널은 상기 도전성 적층체 또는 전극판을 포함하는 한, 정전용량 방식 또는 저항막 방식 등을 포함한 공지의 구조로 형성될 수 있고, 그러한 터치 패널의 적용되는 디스플레이 장치의 구조 등도 공지의 방식이 그대로 적용될 수 있다.
The touch panel in the present application can be formed in a known structure including an electrostatic capacity type or a resistive type as long as the conductive laminated body or the electrode plate is included, and the structure of a display device to which such a touch panel is applied is also known The method can be applied as it is.

본 출원의 점착제 조성물은 특정 범위 이하의 분자량 분포를 가지고, 가교 구조를 구현한 후 저온 및 고온에서 특정 범위 이상의 저장 탄성률을 나타내는 점착제층을 구현할 수 있어, 이를 적용한 점착제층이 도전성 적층체에 포함되어 제조될 경우, 제조 시 도전성 기능층의 결정화를 위한 열처리 공정으로부터 발생되는 기포를 방지할 수 있을 뿐만 아니라, 이에 따라 상기 기포에 의해 발생되는 시인성 문제를 해결하여 보다 우수한 시인성이 확보된 터치 패널 또는 디스플레이 장치를 제공할 수 있다.
The pressure-sensitive adhesive composition of the present application has a molecular weight distribution below a specific range and can realize a pressure-sensitive adhesive layer showing a storage elastic modulus in a specific range or more at a low temperature and a high temperature after implementing a crosslinked structure, and the pressure- It is possible to prevent air bubbles generated from the heat treatment process for crystallizing the conductive functional layer during manufacturing and to solve the visibility problem caused by the air bubbles thereby to provide a touch panel or display Device can be provided.

도 1 및 2는, 본 출원에 따른 도전성 적층체 예시적으로 나타낸 도면이다.
도 3은, 본 출원의 도전성 적층체에 포함된 도전층을 예시적으로 나타낸 도면이다.
도 4 및 5는, 본 출원의 하나의 예시에 도전성 적층체의 구조를 모식적으로 나타낸 도면이다.
Figs. 1 and 2 are views exemplarily showing a conductive laminate according to the present application. Fig.
Fig. 3 is a view showing an exemplary conductive layer included in the conductive laminate of the present application. Fig.
Figs. 4 and 5 are diagrams schematically showing the structure of the conductive laminate in one example of the present application. Fig.

이하, 본 출원에 따르는 실시예 및 본 출원에 따르지 않는 비교예를 통하여 본 출원을 보다 상세히 설명하나, 본 출원의 범위가 하기 제시된 실시예에 의해 제한되는 것은 아니다.
Hereinafter, the present application will be described in more detail by way of examples according to the present application and comparative examples not complying with the present application, but the scope of the present application is not limited by the following examples.

이하, 실시예 및 비교예에서의 물성은 하기의 방식으로 평가하였다.
Hereinafter, physical properties in Examples and Comparative Examples were evaluated in the following manner.

1. 분자량 및 분자량 분포 측정1. Molecular weight and molecular weight distribution measurement

중량평균분자량(Mw) 및 분자량 분포(PDI)는 GPC를 사용하여 이하의 조건으로 측정하였으며, 검량선의 제작에는 Agilent system의 표준 폴리스티렌을 사용하여 측정 결과를 환산하여 표 2에 나타내었다.The weight average molecular weight (Mw) and the molecular weight distribution (PDI) were measured using GPC under the following conditions, and the measurement results were converted using the standard polystyrene of the Agilent system for the calibration curve.

<측정 조건><Measurement Conditions>

측정기: Agilent GPC (Agilent 1200 series, U.S.)Measuring instrument: Agilent GPC (Agilent 1200 series, U.S.)

컬럼: PL Mixed B 2개 연결Column: Two PL Mixed B connections

컬럼 온도: 40℃Column temperature: 40 ° C

용리액: THF(Tetrahydrofuran)Eluent: THF (Tetrahydrofuran)

유속: 1.0 mL/minFlow rate: 1.0 mL / min

농도: ~ 1 mg/mL (100μL injection)
Concentration: ~ 1 mg / mL (100 μL injection)

2. 겔 2. Gel 분율의Fractional 평가 evaluation

실시예 또는 비교예에서 제조된 숙성된 점착제 조성물을 소정량 채취하여 23℃의 온도 및 60%의 상대 습도가 유지된 항온 항습 챔버에 넣고 7일 동안 유지한 후에 스테인리스 철망(200 메쉬)에 넣고, 100mL의 에틸 아세테이트에 점착제 조성물이 모두 잠길 정도로 투입하고, 상온의 암실에서 3일 동안 보관하였다. 보관 후에 에틸 아세테이트에 녹지 않은 점착제 조성물을 채취하여 무게(A, 단위: g)를 측정한 후에 그 점착제 조성물을 120℃의 온도의 건조기에 1시간 동안 유지한 후에 다시 무게를 측정하였다(B, 단위: g). 이어서 측정된 무게 A 및 B를 하기 일반식 1에 대입하여 겔 분율 값을 구하여 표 2에 나타내었다.A predetermined amount of the aged pressure-sensitive adhesive composition prepared in Examples or Comparative Examples was collected and placed in a constant-temperature and constant humidity chamber maintained at a temperature of 23 ° C and a relative humidity of 60% for 7 days, placed in a stainless steel wire mesh (200 mesh) 100 mL of ethyl acetate was added thereto so that all of the pressure-sensitive adhesive composition was locked, and kept in a dark room at room temperature for 3 days. After the storage, the pressure-sensitive adhesive composition which was not soluble in ethyl acetate was sampled and the weight (A, unit: g) was measured. The pressure-sensitive adhesive composition was kept in a dryer at 120 ° C for 1 hour and then weighed again : g). Subsequently, the measured weights A and B were substituted into the following general formula 1, and the gel fraction values were obtained and shown in Table 2.

[일반식 1][Formula 1]

겔 분율(중량%) = 100 × B/A
Gel fraction (% by weight) = 100 x B / A

3. 저장 탄성률(3. Storage elasticity ( GG LL  And GG HH ) 측정) Measure

실시예 및 비교예에서 제조된 점착제 조성물의 저장 탄성률은 유변 물성 측정기(Advanced Rheometric Expansion System G2, TA사)를 이용하여 측정하였다. 상기 점착제 조성물의 가교 구조가 구현된 상태의 점착제층을 두께가 1mm인 시편으로 재단한 후, 직경이 8mm인 패러랠 프레이트 픽스처 (parallel plate fixture)를 이용하여, 변형율을 10% 및 주파수 1rad/sec로 고정한 뒤, 30℃ 내지 150℃ 사이의 온도에서 20℃/min의 속도로 승온하면서 저장 탄성률을 측정하였다. 이 때 30℃의 온도에서 측정된 저장 탄성률(GL) 및 150℃의 온도에서 측정된 저장 탄성률(GH)의 값 및 탄성률 특성을 나타내는 지표로서 GL /GH의 값을 표 2에 나타내었다.
The storage elastic moduli of the pressure-sensitive adhesive compositions prepared in Examples and Comparative Examples were measured using a Rheometer (Advanced Rheometric Expansion System G2, TA). The pressure-sensitive adhesive layer having the crosslinked structure of the pressure-sensitive adhesive composition was cut into a specimen having a thickness of 1 mm, and then a parallel plate fixture having a diameter of 8 mm was used to measure the strain at a rate of 10% and a frequency of 1 rad / sec And then the storage elastic modulus was measured while raising the temperature at a rate of 20 DEG C / min at a temperature between 30 DEG C and 150 DEG C. The values of G L / G H are shown in Table 2 as the storage elastic modulus (G L ) measured at a temperature of 30 ° C and the storage elastic modulus (G H ) measured at a temperature of 150 ° C and the elastic modulus characteristic .

4. 열처리 후 기포 발생 여부 평가4. Evaluation of bubble formation after heat treatment

실시예 및 비교예에서 제조된 양면 도전성 적층체를 가로 21㎝ × 세로 29㎝인 시편으로 재단한 후, 각각 150℃의 오븐에서 1시간(열처리 후 기포 평가 (1)), 170℃의 오븐에서 30분(열처리 후 기포 평가 (2)) 및 190℃의 오븐에서 15분(열처리 후 기포 평가 (3))간 각각 열처리를 수행한 후 상기 양면 도전성 적층체의 표면에 기포가 발생된 정도를 육안으로 관찰하여 하기 기준으로 평가하였고, 이를 표 3에 각각 나타내었다.Each of the double-sided conductive laminates prepared in Examples and Comparative Examples was cut into specimens having a width of 21 cm and a length of 29 cm, and then each of the specimens was heated in an oven at 150 ° C for 1 hour (evaluation of bubbles after heat treatment) The degree of generation of air bubbles on the surface of the double-sided conductive laminate after heat treatment was performed for 30 minutes (bubble evaluation (2) after heat treatment) and 15 minutes (temperature evaluation after bake evaluation (3)) in an oven at 190 deg. And evaluated according to the following criteria, which are shown in Table 3, respectively.

<평가 기준><Evaluation Criteria>

○: 열처리 수행 후 양면 도전성 적층체 표면에 기포가 발생된 것이 육안에 의해 확인되지 않음.?: No visible bubbles were formed on the surface of the double-sided conductive laminate after heat treatment.

×: 열처리 수행 후 양면 도전성 적층체 표면에 기포가 발생된 것이 육안으로 현저하게 관찰됨.
X: Bubbles were observed on the surface of the double-sided electroconductive laminate after the heat treatment.

제조예Manufacturing example 1. 점착성 중합체(A)의 제조 1. Preparation of adhesive polymer (A)

내부에 질소가스가 환류되고, 온도 조절이 용이하도록 냉각 장치를 설치한 1L 반응기에 2-에틸헥실 아크릴레이트(EHA) 50 중량부, 메타아크릴레이트(MA) 40 중량부 및 2-히드록시에틸아크릴레이트(HEA) 10 중량부를 투입하였다. 이어서, 에틸아세테이트(EAc) 100 중량부를 용제로 투입하고, 산소 제거를 위하여 질소 가스를 60분 동안 퍼지(purging)한 후, 온도를 60℃로 유지한 상태에서 반응 개시제인 아조비스이소부티로니트릴(AIBN) 0.06 중량부를 투입하여 반응을 개시시켰다. 이 후, 약 5시간 반응을 시킨 반응물을 에틸아세테이트(EAc)로 희석하여 점착성 중합체(A)를 제조하였다.
50 parts by weight of 2-ethylhexyl acrylate (EHA), 40 parts by weight of methacrylate (MA) and 2 parts by weight of 2-hydroxyethyl acrylate (EA) were added to a 1 L reactor equipped with a cooling device for refluxing nitrogen gas, 10 parts by weight of HEA were added. Subsequently, 100 parts by weight of ethyl acetate (EAc) was poured into a solvent, and nitrogen gas was purged for 60 minutes to remove oxygen. Then, while maintaining the temperature at 60 占 폚, azobisisobutyronitrile (AIBN) were added to initiate the reaction. Thereafter, the reaction product which had been reacted for about 5 hours was diluted with ethyl acetate (EAc) to prepare a sticky polymer (A).

제조예Manufacturing example 2 및  2 and 제조예Manufacturing example 3. 점착성 중합체(B 및 C)의 제조 3. Preparation of sticky polymers (B and C)

점착성 중합체 중합 시에 사용된 원료 및 첨가제 등의 종류 및/또는 비율을 하기 표 1과 같이 조절한 것을 제외하고는 제조예 1의 경우와 동일하게 점착성 중합체(B 및 C)를 제조하였다.(B and C) were prepared in the same manner as in Production Example 1, except that the types and / or ratios of raw materials and additives used in the polymerizing the adhesive polymer were controlled as shown in Table 1 below.

구분division 원료Raw material EAEA V-65V-65 EHAEHA MAMA HEAHEA BABA IBOAIBOA 점착성
중합체
Stickiness
polymer
AA 5050 4040 10-10- -- -- 100100 0.060.06
BB -- -- 1515 5555 3030 100100 0.060.06 CC 5050 -- 1010 -- 4040 100100 0.060.06 함량 단위:g
EHA : 2-ethylhexyl acrylate
MA: (meth)acrylate
HEA: 2-hydroxyethyl acrylate
BA: n-butyl acrylate
IBOA: isobornyl acrylate
EA: ethyl acetate
V-65: 2,2'-azobis(2,4-dimethyl valeronitrile)
Content Unit: g
EHA: 2-ethylhexyl acrylate
MA: (meth) acrylate
HEA: 2-hydroxyethyl acrylate
BA: n-butyl acrylate
IBOA: isobornyl acrylate
EA: ethyl acetate
V-65: 2,2'-azobis (2,4-dimethyl valeronitrile)

실시예Example 1 One

점착제 조성물의 제조Preparation of pressure-sensitive adhesive composition

제조예 1에서 제조된 중합체(A) 100 중량부에 대하여 가교제로서 크실렌디이소시아네이트(Takenate D110N, (주)미쯔이 화학) 0.25 중량부를 균일하게 혼합한 후, 점착제 조성물(코팅액)을 제조하였다.
0.25 parts by weight of xylene diisocyanate (Takenate D110N, Mitsui Chemicals, Inc.) as a cross-linking agent was uniformly mixed with 100 parts by weight of the polymer (A) prepared in Preparation Example 1 to prepare a pressure-sensitive adhesive composition (coating solution).

양면 도전성 Double-sided conductivity 적층체의Of the laminate 제조 Produce

상기 제조된 점착제 조성물을 양면이 하드 코팅되어 있는 두께 125㎛의 기재 필름상에 코팅하여 100℃에서 약 90초간 건조한 후, 이형 필름으로 라미네이션 하였다. 그 후, 상기 기재 필름의 다른 면에 동일한 조건 및 코팅액으로 코팅 및 건조하고 이형 필름으로 라미네이션 하였다. 이어서, 40℃에서 약 72시간 동안 숙성(aging)시킨 후, 기재 필름 양쪽 점착 필름의 이형 필름들을 제거한 후, 두께 23㎛의 ITO 필름을 라미네이션하여 양면 도전성 적층체를 제조하였다.
The pressure-sensitive adhesive composition prepared above was coated on a base film having a thickness of 125 탆 and hard coated on both sides, dried at 100 캜 for about 90 seconds, and then laminated with a release film. Thereafter, the other surface of the base film was coated with the same conditions and coating solution, dried, and laminated with a release film. Subsequently, aging was carried out at 40 DEG C for about 72 hours. After removing the release films of the adhesive films on both sides of the substrate film, an ITO film having a thickness of 23 mu m was laminated to prepare a double-side conductive laminate.

실시예Example 2 2

점착성 중합체를 A를 사용하되, 하기 표 2에 나타난 물성을 갖도록 방식만을 달리하고 실시예 1과 동일한 방법으로 점착제 조성물 및 양면 도전성 적층체를 제조하였다.
A pressure-sensitive adhesive composition and a double-sided electroconductive laminate were prepared in the same manner as in Example 1 except that the adhesive polymer A was used but the properties shown in Table 2 were varied.

실시예Example 3 3

점착성 중합체를 A 대신 B를 사용한 점 및 하기 표 2에 나타난 물성을 갖도록 방식만을 달리하고 실시예 1과 동일한 방법으로 점착제 조성물 및 양면 도전성 적층체를 제조하였다.
A pressure-sensitive adhesive composition and a double-sided conductive laminate were prepared in the same manner as in Example 1, except that B was used instead of A as a tacky polymer and the manner of having the physical properties shown in Table 2 was changed.

실시예Example 4 4

점착성 중합체를 A 대신 C를 사용한 점 및 하기 표 2에 나타난 물성을 갖도록 방식만을 달리하고 실시예 1과 동일한 방법으로 점착제 조성물 및 양면 도전성 적층체를 제조하였다.
A pressure-sensitive adhesive composition and a double-sided conductive laminate were prepared in the same manner as in Example 1, except that C was used instead of A as a tacky polymer and the manner of having the properties shown in Table 2 was changed.

비교예Comparative Example 1 One

점착성 중합체를 A를 사용하되, 하기 표 2에 나타난 물성을 갖도록 방식만을 달리하고 실시예 1과 동일한 방법으로 점착제 조성물 및 양면 도전성 적층체를 제조하였다.
A pressure-sensitive adhesive composition and a double-sided electroconductive laminate were prepared in the same manner as in Example 1 except that the adhesive polymer A was used but the properties shown in Table 2 were varied.

비교예Comparative Example 2 2

점착성 중합체를 A를 사용하되, 하기 표 2에 나타난 물성을 갖도록 방식만을 달리하고 실시예 1과 동일한 방법으로 점착제 조성물 및 양면 도전성 적층체를 제조하였다.
A pressure-sensitive adhesive composition and a double-sided electroconductive laminate were prepared in the same manner as in Example 1 except that the adhesive polymer A was used but the properties shown in Table 2 were varied.

비교예Comparative Example 3 3

점착성 중합체를 A 대신 B를 사용하되, 하기 표 2에 나타난 물성을 갖도록 방식만을 달리하고 실시예 1과 동일한 방법으로 점착제 조성물 및 양면 도전성 적층체를 제조하였다.
A pressure-sensitive adhesive composition and a double-sided conductive laminate were prepared in the same manner as in Example 1 except that B was used instead of A as the adhesive polymer, but the properties were changed so as to have physical properties shown in Table 2 below.

상기 각 실시예 및 비교예에 대하여 측정한 물성에 대한 결과는 하기 표 2에 나타난 바와 같다.The results of physical properties measured for the above Examples and Comparative Examples are shown in Table 2 below.

구분division 실시예Example 비교예Comparative Example 1One 22 33 44 1One 22 33 점착성 중합체Sticky polymer AA AA BB CC AA AA BB 분자량(단위:만)Molecular weight (unit: million) 130130 171171 148148 120120 129129 9393 7272 분자량 분포Molecular weight distribution 2.782.78 2.552.55 2.982.98 2.842.84 8.968.96 2.952.95 5.945.94 겔 분율(중량%)Gel fraction (% by weight) 8181 8484 8282 8787 8585 8383 81.681.6 저장 탄성률(GL)
(×104)
(단위: pa)
The storage elastic modulus (G L )
(× 10 4 )
(Unit: pa)
7.57.5 8.28.2 9.29.2 4.84.8 6.36.3 7.87.8 7.87.8
저장 탄성률(GH)
(×104)
(단위: pa)
Storage modulus (G H )
(× 10 4 )
(Unit: pa)
4.64.6 5.45.4 7.17.1 4.04.0 2.82.8 3.53.5 4.44.4
탄성률 특성
(GL/GH)
Elastic modulus characteristic
(G L / G H )
1.631.63 1.521.52 1.301.30 1.201.20 2.252.25 2.232.23 1.731.73

상기 각 실시예 및 비교예에 대하여 평가에 대한 결과는 하기 표 3에 나타난 바와 같다.The results of the evaluation for each of the above Examples and Comparative Examples are shown in Table 3 below.

구분division 실시예Example 비교예Comparative Example 1One 22 33 44 1One 22 33 열처리 기포 평가 (1)Evaluation of Heat Treatment Bubble (1) ×× ×× ×× 열처리 기포 평가 (2)Heat treatment bubble evaluation (2) ×× ×× ×× 열처리 기포 평가 (3)Evaluation of Heat Treatment Bubble (3) ×× ×× ×× 열처리 기포 평가 (1): 150℃에서 1시간 동안 열처리 후 기포 평가
열처리 기포 평가 (2): 170℃에서 30분 동안 열처리 후 기포 평가
열처리 기포 평가 (3): 190℃에서 15분 동안 열처리 후 기포 평가
Heat treatment bubble evaluation (1): Evaluation of bubble after heat treatment at 150 ° C for 1 hour
Evaluation of Heat Treatment Bubble (2): Evaluation of Bubble after Heat Treatment at 170 ° C for 30 minutes
Heat treatment bubble evaluation (3): Evaluation of bubble after heat treatment at 190 ° C for 15 minutes

상기 표 2 및 3으로부터 확인되는 바와 같이, 본 출원의 양면 도전성 적층체의 경우, 그에 포함된 점착제층은 특정 범위 이하의 분자량 분포를 가지는 점착제 조성물에 의해 형성되고, 가교 구조를 구현한 후 저온 및 고온에서 특정 범위 이상의 저장 탄성률을 가지도록 조절함으로써, 열처리 공정으로 인한 기포 발생을 방지할 수 있을 뿐만 아니라, 이에 따라 우수한 시인성을 확보하여 터치 패널 또는 디스플레이 장치에 유용하게 적용될 수 있다.
As can be seen from Tables 2 and 3, in the case of the double-sided conductive laminate of the present application, the pressure-sensitive adhesive layer contained therein is formed by a pressure-sensitive adhesive composition having a molecular weight distribution below a specific range, By controlling the storage elastic modulus to be higher than a specific range at a high temperature, it is possible to prevent the occurrence of bubbles due to the heat treatment process, thereby securing excellent visibility and thus being usefully applied to a touch panel or a display device.

10: 기재층
20: 점착제층
30: 도전층
40: 언더코팅층
50: 도전용 기재층
60: 도전성 기능층
70: 하드코팅층
10: substrate layer
20: pressure-sensitive adhesive layer
30: conductive layer
40: undercoat layer
50: conductive substrate layer
60: conductive functional layer
70: Hard coating layer

Claims (17)

분자량 분포가 5.0 이하인 점착성 중합체를 포함하고,
가교 구조를 구현한 상태에서 150℃ 및 1rad/sec에서의 저장 탄성률이 0.03MPa 이상이며, 하기 일반식 2의 탄성률 특성을 가지는 점착제 조성물.
[일반식 2]
GL/GH < 1.7
일반식 2에서, GL은 가교 구조를 구현한 상태에서 30℃ 및 1rad/sec에서의 저장 탄성률을 나타내고, GH는 가교 구조를 구현한 상태에서 150℃ 및 1rad/sec에서의 저장 탄성률을 나타낸다.
A molecular weight distribution of not more than 5.0,
Wherein a storage elastic modulus at 150 ° C and 1 rad / sec is 0.03 MPa or more in a state of realizing a crosslinked structure, and has an elastic modulus characteristic of the following general formula (2).
[Formula 2]
G L / G H < 1.7
In the general formula 2, G L represents the storage elastic modulus at 30 ° C and 1 rad / sec in the state of implementing the crosslinked structure, and G H represents the storage elastic modulus at 150 ° C and 1 rad / sec in the state of implementing the crosslinked structure .
제 1 항에 있어서, 가교 구조를 구현한 상태에서 150℃ 및 1rad/sec에서의 저장 탄성률이 0.04MPa 이상인 점착제 조성물.The pressure-sensitive adhesive composition according to claim 1, wherein a storage elastic modulus at 150 ° C and 1 rad / sec is 0.04 MPa or more in a state of realizing a crosslinked structure. 제 1 항에 있어서, 가교 구조를 구현한 상태에서 30℃ 및 1rad/sec에서의 저장 탄성률이 0.04MPa 이상인 점착제 조성물.The pressure-sensitive adhesive composition according to claim 1, wherein the storage elastic modulus at 30 DEG C and 1 rad / sec is 0.04 MPa or more in a state of realizing a crosslinked structure. 제 1 항에 있어서, 점착성 중합체는 알킬 (메타)아크릴레이트의 중합 단위 및 가교성 관능기 함유 공중합성 단량체의 중합 단위를 포함하는 점착제 조성물.The pressure-sensitive adhesive composition according to claim 1, wherein the pressure-sensitive adhesive polymer comprises polymerized units of an alkyl (meth) acrylate and a copolymerizable monomer having a crosslinkable functional group. 제 4 항에 있어서, 점착성 중합체는 알킬 (메타)아크릴레이트의 중합 단위 70 중량부 내지 99 중량부 및 가교성 관능기 함유 공중합성 단량체의 중합 단위 1 중량부 내지 30 중량부를 포함하는 점착제 조성물.The pressure-sensitive adhesive composition according to claim 4, wherein the pressure-sensitive adhesive polymer comprises 70 to 99 parts by weight of polymerized units of alkyl (meth) acrylate and 1 to 30 parts by weight of polymerized units of the crosslinkable functional group-containing copolymerizable monomer. 삭제delete 제 1 항에 있어서, 분자량 분포가 3.0 이하인 점착제 조성물.The pressure-sensitive adhesive composition according to claim 1, wherein the molecular weight distribution is 3.0 or less. 제 1 항에 있어서, 다관능성 가교제를 추가로 포함하는 점착제 조성물.The pressure-sensitive adhesive composition according to claim 1, further comprising a polyfunctional crosslinking agent. 제 8 항에 있어서, 다관능성 가교제는 점착성 중합체 100 중량부 대비 0.01 중량부 내지 10 중량부로 포함되는 점착제 조성물.The pressure-sensitive adhesive composition according to claim 8, wherein the multifunctional crosslinking agent is contained in an amount of 0.01 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the pressure-sensitive adhesive polymer. 기재층;
상기 기재층의 적어도 일면에 형성되어 있는 제 1 항에 따른 점착제 조성물의 가교층을 포함하는 점착제층; 및
상기 점착제층상에 형성되어 있는 도전층을 포함하는 도전성 적층체.
A base layer;
A pressure-sensitive adhesive layer comprising a crosslinked layer of the pressure-sensitive adhesive composition according to claim 1 formed on at least one side of the base layer; And
And a conductive layer formed on the pressure-sensitive adhesive layer.
제 10 항에 있어서, 도전층은 도전용 기재층; 상기 도전용 기재층의 일면에 형성되어 있는 언더코팅층; 및 상기 언더코팅층상에 형성되어 있는 도전성 기능층을 포함하는 도전성 적층체.11. The method of claim 10, wherein the conductive layer comprises a conductive base layer; An undercoat layer formed on one surface of the conductive substrate layer; And an electrically conductive functional layer formed on the undercoat layer. 제 10 항 또는 제 11 항에 있어서, 기재층 또는 도전용 기재층은 폴리에스테르 필름, 폴리아미드 필름, 폴리염화비닐 필름, 폴리스티렌 필름 및 폴리올레핀 필름으로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상인 도전성 적층체.12. The conductive laminate according to claim 10 or 11, wherein the base layer or the conductive base layer is at least one selected from the group consisting of a polyester film, a polyamide film, a polyvinyl chloride film, a polystyrene film and a polyolefin film. 제 10 항에 있어서, 기재층 및 점착제층 사이에 하드코팅층을 추가로 포함하는 도전성 적층체.The conductive laminate according to claim 10, further comprising a hard coat layer between the base layer and the pressure-sensitive adhesive layer. 제 10 항에 있어서, 점착제층의 두께는 1㎛ 내지 50㎛의 범위 내인 도전성 적층체.The conductive laminate according to claim 10, wherein the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is in the range of 1 탆 to 50 탆. 기재층; 상기 기재층의 양면에 형성되어 있는 점착제층; 상기 점착제층상에 각각 형성되어 있는 도전층을 포함하고,
상기 기재층의 양면은 하드코팅층이 형성되어 있으며,
상기 도전층은 상기 점착제층과 접촉하는 도전용 기재층; 상기 도전용 기재층상에 형성되어 있는 언더코팅층; 및 상기 언더코팅층상에 형성되어 있는 도전성 기능층을 포함하고,
상기 점착제층은 제 1 항에 따른 점착제 조성물의 가교층을 포함하는 양면 도전성 적층체.
A base layer; A pressure-sensitive adhesive layer formed on both surfaces of the base layer; And a conductive layer formed on the pressure-sensitive adhesive layer,
On both sides of the base layer, a hard coating layer is formed,
The conductive layer includes a conductive base layer in contact with the pressure-sensitive adhesive layer; An undercoat layer formed on the conductive base layer; And an electrically conductive functional layer formed on the undercoat layer,
Wherein the pressure-sensitive adhesive layer comprises a crosslinked layer of the pressure-sensitive adhesive composition according to claim 1.
제 10 항 또는 제 15 항의 도전성 적층체 또는 양면 도전성 적층체를 포함하는 터치 패널.A touch panel comprising the conductive laminate or the double-sided conductive laminate of claim 10 or 15. 제 16 항의 터치 패널을 포함하는 디스플레이 장치.
A display device comprising the touch panel of claim 16.
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