KR101755115B1 - Cliche for offset printing and method for preparing the same - Google Patents
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Abstract
본 출원은 오프셋 인쇄용 클리쉐 및 이의 제조방법에 관한 것이다. 본 출원의 일 실시상태에 따른 오프셋 인쇄용 클리쉐는, 홈부 패턴을 포함하는 오프셋 인쇄용 클리쉐이고, 상기 오프셋 인쇄용 클리쉐는 터치패널의 화면부 전극 영역 및 배선부 전극 영역을 동시에 형성하기 위한 것이며, 상기 화면부 전극 영역에 대응되는 홈부 패턴과 상기 배선부 전극 영역에 대응되는 홈부 패턴은 동일한 깊이를 가지며, 상기 배선부 전극 영역의 개구율은 0 초과 80% 이하인 것을 특징으로 한다.The present application relates to an offset printing cliche and a method of making the same. The offset printing cliche according to an embodiment of the present application is an offset printing cliche including a groove pattern and the offset printing cliche is for simultaneously forming a screen side electrode region and a wiring side electrode region of a touch panel, The groove portion pattern corresponding to the electrode region and the groove portion pattern corresponding to the wiring portion electrode region have the same depth and the aperture ratio of the wiring portion electrode region is more than 0 and less than 80%.
Description
본 출원은 2014년 9월 29일에 한국특허청에 제출된 한국 특허 출원 제 10-2014-0130596호의 출원일의 이익을 주장하며, 그 내용 전부는 본 명세서에 포함된다.The present application claims the benefit of Korean Patent Application No. 10-2014-0130596 filed on September 29, 2014 with the Korean Intellectual Property Office, the entire contents of which are incorporated herein by reference.
본 발명은 오프셋 인쇄용 클리쉐 및 이의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to an offset printing cliche and a method of manufacturing the same.
액정 디스플레이(liquid crystal display: LCD)나 플라즈마 디스플레이(plasma display panel: PDP)와 같은 평면 패널 디스플레이(flat panel display: FPD)의 제조에는 전극이나 블랙 매트릭스, 컬러필터, 격벽, 박막 트랜지스터 등 다양한 종류의 패턴을 형성하는 공정들이 요구된다.BACKGROUND OF THE INVENTION [0002] Flat panel displays (FPDs) such as liquid crystal displays (LCDs) and plasma display panels (PDPs) are manufactured using various types of electrodes, such as electrodes, black matrixes, color filters, Processes for forming a pattern are required.
이러한 패턴 형성 공정으로는 감광성 레지스트와 포토마스크를 이용하여 노광과 현상을 통해 선택적으로 제거된 감광성 레지스트 패턴을 얻고 이를 이용하여 패턴을 형성하는 방법이 많이 사용되고 있다. 이러한 포토마스크 공정은 감광성 레지스트나 현상액 같은 재료의 사용이 많고 고가의 포토마스크를 사용하여야 하며 공정 수행 단계가 복잡하거나 공정 시간이 길어지는 문제점이 있다.In such a pattern forming process, a method of forming a pattern by using a photosensitive resist and a photomask to obtain a photosensitive resist pattern selectively removed through exposure and development is widely used. Such a photomask process requires a lot of materials such as a photosensitive resist or a developer, requires a costly photomask, has a complicated process step or has a long process time.
이러한 문제점을 해결하여 위하여, 감광성 레지스트를 사용하지 않고 잉크젯 프린팅이나 레이저 전사에 의한 방법과 같이 패턴을 형성할 물질을 바로 인쇄하는 방법들이 제시되고 있다. 이러한 방법들 중 한가지로 클리쉐(cliche)를 이용하여 블랭킷에 패턴된 재료를 전사하고 이 블랭킷의 패턴을 기판상에 전사하는 오프셋 인쇄법이 있다.In order to solve such a problem, methods for directly printing a material to be patterned, such as a method using inkjet printing or laser transfer, without using a photosensitive resist, have been proposed. One such method is an offset printing method in which a patterned material is transferred to a blanket using a cliche and the pattern of the blanket is transferred onto a substrate.
클리쉐를 사용하는 오프셋 인쇄법은 종래의 감광성 레지스트를 사용하는 공정에 비해 재료 소비가 적고 공정이 간단하며 잉크젯 프린팅이나 레이저 전사에 비해 공정속도가 빠른 장점을 가진다. 그러나, 패턴이 다른 기판에 대한 각각의 클리쉐가 있어야 하며, 보통 유리로 제작되는 클리쉐의 제작공정이 복잡하고 고가인 단점이 있다.The offset printing method using a cliche has advantages in that the material consumption is low and the process is simple and the process speed is faster than that of the inkjet printing or the laser transfer, compared with a process using a conventional photosensitive resist. However, there is a disadvantage in that each cliche has to have a different pattern on the substrate, and the manufacturing process of the cliche usually made of glass is complicated and expensive.
기존의 클리쉐(리버스 오프셋 및 그라비아 오프셋의 경우)의 경우 패터닝 후 단일 식각방법을 이용하여 제조하는 것이 일반적인 클리쉐의 제조방법으로, 이러한 제조방법을 이용하는 경우 인쇄시 인압 및 블랭킷의 러프니스 등에 따라 넓은 패턴을 구현하는데 있어서 바닥닿음이라는 문제점이 발생하는 단점을 지니고 있다.In the case of a conventional cliche (in the case of reverse offset and gravure offset), it is a general cliche manufacturing method to be manufactured by using a single etching method after patterning. When such a manufacturing method is used, There is a disadvantage in that a problem of floor contact occurs.
따라서, 기존에는 이러한 문제점을 해결하기 위하여 넓은 영역에 해당되는 선폭을 미세한 선으로 해칭(hatching)을 하거나 혹은 드라이 에칭공정을 통해서 이를 해결하려는 노력이 주로 이루어져 왔으나, 이 경우에 있어서도 마찬가지로 미세선 해칭(hatching)의 경우 원하는 전도도의 손실을, 드라이 에칭공정을 이용하는 경우에 있어서는 제조비용의 상승이라는 문제점을 지니고 있다.Therefore, in order to solve such problems, efforts have been made to hatch line widths corresponding to a wide area by fine lines or to solve them by a dry etching process. However, in this case as well, fine line hatching hatching, there is a problem of a loss of a desired conductivity and an increase in manufacturing cost when a dry etching process is used.
당 기술분야에서는, 단일 식각에 의한 클리쉐의 제조시 구현 선폭의 넓어짐에 따라 나타나는 바닥닿음 현상을 해결할 수 있고, 다양한 선폭 및 식각 깊이를 지니는 오프셋 인쇄용 클리쉐 및 이의 제조방법에 대한 기술개발이 요구되고 있다.There is a need in the art to develop an offset printing cliche having a wide line width and an etching depth and a method for manufacturing the cliche which can solve a bottoming phenomenon caused by widening of an actual line width in manufacturing a cliche by a single etching .
본 출원의 일 실시상태는,In one embodiment of the present application,
홈부 패턴을 포함하는 오프셋 인쇄용 클리쉐이고,An offset printing cliche comprising a groove pattern,
상기 오프셋 인쇄용 클리쉐는 터치패널의 화면부 전극 영역 및 배선부 전극 영역을 동시에 형성하기 위한 것이며,The offset printing cliche is for simultaneously forming a screen side electrode region and a wiring side electrode region of a touch panel,
상기 화면부 전극 영역에 대응되는 홈부 패턴과 상기 배선부 전극 영역에 대응되는 홈부 패턴은 동일한 깊이를 가지며,The groove portion pattern corresponding to the screen sub-electrode region and the groove portion pattern corresponding to the wiring portion electrode region have the same depth,
상기 배선부 전극 영역에 대응되는 클리쉐 영역의 개구율은 0 초과 80% 이하인 것을 특징으로 하는 오프셋 인쇄용 클리쉐를 제공한다.And an aperture ratio of the cliche region corresponding to the wiring sub-electrode region is from 0 to 80%.
또한, 본 출원의 다른 실시상태는,Further, another embodiment of the present application,
기재 상에 마스크 패턴을 형성하는 단계, 및Forming a mask pattern on the substrate, and
상기 마스크 패턴을 이용하여 기재를 식각하여 홈부 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 오프셋 인쇄용 클리쉐의 제조방법이고,And etching the base material by using the mask pattern to form a groove portion pattern, the method comprising the steps of:
상기 오프셋 인쇄용 클리쉐는 터치패널의 화면부 전극 영역 및 배선부 전극 영역을 동시에 형성하기 위한 것이며,The offset printing cliche is for simultaneously forming a screen side electrode region and a wiring side electrode region of a touch panel,
상기 화면부 전극 영역에 대응되는 홈부 패턴과 상기 배선부 전극 영역에 대응되는 홈부 패턴은 동일한 깊이를 가지며,The groove portion pattern corresponding to the screen sub-electrode region and the groove portion pattern corresponding to the wiring portion electrode region have the same depth,
상기 배선부 전극 영역에 대응되는 클리쉐 영역의 개구율은 0 초과 80% 이하인 것을 특징으로 하는 오프셋 인쇄용 클리쉐의 제조방법을 제공한다.And the opening ratio of the cliche region corresponding to the wiring sub-electrode region is from 0 to 80%.
또한, 본 출원의 다른 실시상태는 상기 오프셋 인쇄용 클리쉐를 이용하여 인쇄한 인쇄물을 제공한다.Further, another embodiment of the present application provides a printed matter printed using the offset printing cliche.
또한, 본 출원의 다른 실시상태는 상기 인쇄물을 포함하는 터치패널을 제공한다.Another embodiment of the present application provides a touch panel including the printed matter.
본 출원의 일 실시상태에 따르면, 터치패널의 화면부 전극 영역과 배선부 전극 영역에 대응되는 홈부 패턴이 동일한 식각 깊이를 가질 수 있다. 이에 따라, 종래의 식각 단차에 의한 화면부 전극 영역과 배선부 전극 영역 간의 연결부의 단선 현상을 개선할 수 있는 특징이 있다. 또한, 본 출원의 일 실시상태에 따르면, 터치패널의 화면부 전극 영역과 배선부 전극 영역이 연결되는 영역의 디자인을 간략화할 수 있고, 내로우 베잴(narrow bezel)을 구현할 수 있으며, 설계상의 편의성을 확보할 수 있는 특징이 있다.According to one embodiment of the present application, the groove portion pattern corresponding to the screen sub-electrode region of the touch panel and the wiring sub-electrode region can have the same etch depth. Accordingly, there is a feature that the disconnection phenomenon of the connecting portion between the screen electrode region and the wiring electrode region due to the conventional etching step can be improved. According to an embodiment of the present application, it is possible to simplify the design of the area where the screen sub-electrode area and the wiring sub-electrode area of the touch panel are connected, to realize a narrow bezel, Can be secured.
도 1은 종래의 전도성 패턴을 형성하기 위한 클리쉐 및 이를 이용하여 제조한 전도성 패턴을 개략적으로 나타낸 도이다.
도 2는 본 출원의 일 실시상태로서, 터치패널의 배선부 전극 영역을 형성하기 위한, 오프셋 인쇄용 클리쉐의 홈부 패턴을 개략적으로 나타낸 도이다.
도 3은 본 출원의 일 실시상태로서, 터치패널의 화면부 전극 영역과 배선부 전극 영역을 동시에 형성하기 위한, 오프셋 인쇄용 클리쉐 및 이를 이용하여 제조한 인쇄물을 개략적으로 나타낸 도이다.
도 4는 본 출원의 일 실시상태로서, 터치패널의 배선부 전극 영역을 형성하기 위한 홈부 패턴으로서, 메쉬 패턴을 포함하는 오프셋 인쇄용 클리쉐를 개략적으로 나타낸 도이다.
도 5는 본 출원의 일 실시상태로서, 터치패널의 배선부 전극 영역을 형성하기 위한 홈부 패턴의 채널 폭에 대한 저항값을 개략적으로 나타낸 도이다.
도 6은 본 출원의 일 실시상태로서, 터치패널의 배선부 전극 영역에 대응되는 오프셋 인쇄용 클리쉐의 개구율에 대한 저항값을 개략적으로 나타낸 도이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a schematic view of a conventional conductive pattern formed using a cliche.
Fig. 2 schematically shows a groove pattern of an offset printing cliche for forming a wiring-side electrode region of a touch panel as one embodiment of the present application. Fig.
FIG. 3 is a schematic view showing an offset printing cliche and a printed product manufactured using the offset printing cliche for simultaneously forming a screen electrode region and a wiring-side electrode region of a touch panel according to one embodiment of the present application.
FIG. 4 schematically shows an offset printing cliche including a mesh pattern as a groove pattern for forming a wiring-side electrode region of a touch panel according to one embodiment of the present application. FIG.
5 is a diagram schematically showing a resistance value with respect to a channel width of a groove pattern for forming a wiring-side electrode region of a touch panel as an embodiment of the present application.
6 is a diagram schematically showing a resistance value against an aperture ratio of an offset printing cliche corresponding to a wiring-side electrode region of a touch panel as an embodiment of the present application.
이하 본 발명에 대하여 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail.
일반적으로, 터치패널의 화면부 전극 및 배선부(route) 전극의 저항 확보를 위하여 일정 두께 및 선폭을 가지는 전도성 패턴의 구성이 필요하다. 이를 위하여, 상기 화면부 전극 및 배선부 전극에 적용되는 금속의 종류에 따라, 회로 구성이 가능한 최소한의 저항을 확보할 수 있는 전도성 패턴의 선폭의 구현에 그 목표를 두고 있다.Generally, a conductive pattern having a certain thickness and line width is required to secure the resistance of the screen electrode and the route electrode of the touch panel. For this purpose, the present invention aims at realizing a line width of a conductive pattern that can secure a minimum resistance capable of circuit configuration according to the kind of metal applied to the screen electrode and the wiring electrode.
보다 구체적으로, 종래에는 클리쉐의 이중식각의 방법을 이용하여 화면부 전극 및 배선부 전극의 선폭을 확보하거나, 인쇄 공정, 증착 공정, 포토 공정 등의 별도의 공정을 도입하여 이를 구현하고 있다. 그러나, 이러한 종래의 방식은 공정을 복잡하게 하고 생산단가를 상승시키는 원인이 되고 있다.More specifically, conventionally, a line width of a screen electrode and a wiring electrode is secured by using a double etching method of a cliche, or a separate process such as a printing process, a deposition process, and a photolithography process is introduced to realize this. However, this conventional method complicates the process and increases the production cost.
종래의 이중식각 방식의 클리쉐는, 한 번의 인쇄로 2가지 이상의 선폭을 구현할 수 있으며, 이는 터치패널의 화면부 전극 및 배선부 전극의 선폭을 다르게 가져갈 수 있다는 의미로 해석할 수 있다. 즉, 낮은 저항이 필요한 배선부 전극은 깊은 식각으로 충분한 선폭을 확보할 수 있고, 미세 식각이 필요한 화면부 전극은 낮은 식각 깊이를 가짐으로써 미세 선폭을 구현할 수 있다. 그러나, 이 과정에서 2가지의 서로 다른 식각 깊이에 의하여 발생하는 국소 영역에서의 식각 편차의 발생은, 특정 영역 즉 식각 단차 발생부의 단선 문제를 야기시킬 수 있다. 이는 결국 인쇄 마진의 감소를 야기하게 되고, 양품 수율의 감소에 영향을 주게 된다.The conventional double etching type cliche can realize two or more line widths in one printing, which can be interpreted as meaning that the line widths of the screen side electrode and the wiring side electrode of the touch panel can be taken differently. That is, a wiring line electrode requiring a low resistance can secure a sufficient line width by deep etching, and a screen electrode having a fine etching can have a low etching depth to realize a fine line width. However, the occurrence of the etching variations in the local region caused by the two different etching depths in this process may cause the disconnection problem of the specific region, that is, the etching step occurrence portion. This results in a decrease in the printing margin and a decrease in the yield of the good product.
종래의 전도성 패턴을 형성하기 위한 클리쉐 및 이를 이용하여 제조한 전도성 패턴을 하기 도 1에 개략적으로 나타내었다. 하기 도 1과 같이, 종래의 이중식각 방식의 클리쉐는, 인쇄 마진이 감소하여, 실제 인쇄물에서 단선 현상이 빈번하게 발생하는 것을 확인할 수 있다.A cliché for forming a conventional conductive pattern and a conductive pattern made using the same are schematically shown in FIG. As shown in FIG. 1, it can be seen that the conventional double-etching type cliche has a reduced printing margin, and a frequent occurrence of disconnection in an actual printed matter can be confirmed.
본 출원에서는 종래의 추가 공정으로 진행되던 배선부 전극의 구성을 한 번의 인쇄로 구현할 수 있는 방식으로, 기존의 이중식각 공정에 의하여 형성되는 클리쉐가 가지고 있는 국부 영역의 단선 현상을 극복할 수 있는 방안을 개발하였다.In this application, a method capable of overcoming the disconnection phenomenon of a local region of a cliche formed by a conventional double etching process in a manner that can realize the configuration of a wiring electrode, which has been a conventional additional process, .
보다 구체적으로, 본 출원에서는 터치패널의 화면부 전극에 비해 낮은 저항이 필요한 배선부 전극을 구현하기 위하여, 터치패널의 화면부 전극과 배선부 전극에 대응되는 영역이 동일한 식각 깊이를 가질 수 있고, 종래의 식각 단차에 의한 연결부의 단선 현상을 개선할 수 있는 오프셋 인쇄용 클리쉐 및 이의 제조방법을 제공하고자 한다.More specifically, in the present application, in order to realize a wiring-side electrode which requires a lower resistance than the screen-side electrode of the touch panel, regions corresponding to the screen-side electrode and the wiring-side electrode of the touch panel can have the same etching depth, And an object of the present invention is to provide a cliche for offset printing which can improve the disconnection of a connecting portion due to a conventional etching step and a manufacturing method thereof.
본 출원의 일 실시상태에 따른 오프셋 인쇄용 클리쉐는, 홈부 패턴을 포함하는 오프셋 인쇄용 클리쉐이고, 상기 오프셋 인쇄용 클리쉐는 터치패널의 화면부 전극 영역 및 배선부 전극 영역을 동시에 형성하기 위한 것이며, 상기 화면부 전극 영역에 대응되는 홈부 패턴과 상기 배선부 전극 영역에 대응되는 홈부 패턴은 동일한 깊이를 가지며, 상기 배선부 전극 영역에 대응되는 클리쉐 영역의 개구율은 0 초과 80% 이하인 것을 특징으로 한다.The offset printing cliche according to an embodiment of the present application is an offset printing cliche including a groove pattern and the offset printing cliche is for simultaneously forming a screen side electrode region and a wiring side electrode region of a touch panel, The groove pattern corresponding to the electrode region and the groove pattern corresponding to the wiring sub-electrode region have the same depth, and the opening ratio of the cliche region corresponding to the wiring sub-electrode region is more than 0 and less than 80%.
본 명세서에 있어서, 상기 클리쉐 영역의 개구율은 클리쉐의 상부면적을 기준으로 홈부 패턴이 구비되지 않은 영역의 상부면적의 비율인 것으로 정의한다.In this specification, the opening ratio of the cliche region is defined as the ratio of the upper area of the region where the groove pattern is not provided, based on the upper area of the cliche.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 배선부 전극 영역에 대응되는 클리쉐 영역은 개구율이 서로 상이한 영역을 적어도 2개 포함할 수 있고, 적어도 3개 포함할 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.In one embodiment of the present application, the cliche regions corresponding to the wiring sub-electrode regions may include at least two regions having different opening ratios, and may include at least three regions, but the present invention is not limited thereto.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 오프셋 인쇄용 클리쉐는 터치패널의 화면부 전극 영역 및 배선부 전극 영역의 전도성 패턴을 동시에 형성하기 위한 용도로 적용될 수 있다.According to one embodiment of the present application, the offset printing cliche can be applied to simultaneously form conductive patterns of the screen sub-electrode region and the wiring sub-electrode region of the touch panel.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 배선부 전극 영역에 대응되는 클리쉐 영역의 개구율은 0 초과 80% 이하일 수 있고, 10 내지 70%일 수 있으며, 40 내지 70%일 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.In one embodiment of the present application, the opening ratio of the cliche region corresponding to the wiring sub-electrode region may be more than 0 to 80%, may be 10 to 70%, and may be 40 to 70% It is not.
상기 홈부 패턴에 있어서, 터치패널의 화면부 전극 영역에 대응되는 클리쉐 영역의 개구율보다 터치패널의 배선부 전극 영역에 대응되는 클리쉐 영역의 개구율이 더 낮을 수 있다. 예컨대, 상기 터치패널의 화면부 전극 영역에 대응되는 클리쉐 영역의 개구율은 90% 이상일 수 있고, 상기 터치패널의 배선부 전극 영역에 대응되는 클리쉐 영역의 개구율은 70% 이하일 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.The aperture ratio of the cliche region corresponding to the wiring electrode region of the touch panel may be lower than the aperture ratio of the cliche region corresponding to the screen electrode region of the touch panel in the groove pattern. For example, the aperture ratio of the cliche region corresponding to the screen electrode region of the touch panel may be 90% or more, and the aperture ratio of the cliche region corresponding to the wiring electrode region of the touch panel may be 70% or less It is not.
또한, 상기 터치패널의 화면부 전극 영역에 대응되는 홈부 패턴의 피치 : 상기 터치패널의 배선부 전극 영역에 대응되는 홈부 패턴의 피치의 비는 1 : 5 내지 1 : 50 일 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.The pitch of the groove pattern corresponding to the screen electrode area of the touch panel may be 1: 5 to 1:50, It is not.
본 출원의 일 실시상태에 따르면, 오프셋 인쇄용 클리쉐에 있어서, 터치패널의 화면부 전극 영역 및 배선부 전극 영역에 대응되는 클리쉐 영역의 개구율을 조절함으로써 홈부 패턴의 깊이가 동일하고 인쇄 마진이 높은 클리쉐를 제조할 수 있다. 또한, 오프셋 인쇄용 클리쉐 제조시, 한 번의 노광과 식각으로, 서로 상이한 저항 특성이 부여되는 2 가지 이상의 영역을 동시에 구현할 수 있으므로, 제조공정이 단순하고 생산단가를 낮출 수 있다는 특징이 있다.According to the embodiment of the present application, in the offset printing cliche, by adjusting the opening ratio of the cliche region corresponding to the screen electrode region and the wiring-side electrode region of the touch panel, a cliche having the same depth of groove pattern and a high printing margin Can be manufactured. Further, in manufacturing the offset printing cliche, it is possible to simultaneously realize two or more regions having different resistance characteristics by a single exposure and etching, so that the manufacturing process is simple and the production cost can be lowered.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 홈부 패턴의 선폭은 홈부 패턴의 깊이 대비 20배 이하일 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.In one embodiment of the present application, the line width of the groove pattern may be 20 times or less than the depth of the groove pattern, but is not limited thereto.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 홈부 패턴은 선형 패턴 또는 폐쇄 도형의 테두리 패턴을 포함할 수 있다. 상기 선형 패턴은 직선 및 곡선 중 1종 이상을 포함할 수 있다. 또한, 상기 폐쇄 도형은 원형, 타원형, 삼각형 및 사각형 중 1종 이상 포함할 수 있다.In one embodiment of the present application, the groove pattern may include a linear pattern or a closed pattern edge pattern. The linear pattern may include at least one of a straight line and a curved line. In addition, the closed figure may include at least one of a circle, an ellipse, a triangle, and a square.
본 출원의 일 실시상태로서, 터치패널의 배선부 전극 영역을 형성하기 위한, 오프셋 인쇄용 클리쉐의 홈부 패턴의 형태를 하기 도 2에 개략적으로 나타내었다.As an embodiment of the present application, the shape of the groove pattern of the offset printing cliche for forming the wiring electrode area of the touch panel is schematically shown in Fig.
또한, 본 출원의 일 실시상태로서, 터치패널의 화면부 전극 영역과 배선부 전극 영역을 동시에 형성하기 위한, 오프셋 인쇄용 클리쉐 및 이를 이용하여 제조한 인쇄물을 하기 도 3에 개략적으로 나타내었다.An offset printing cliche and a printed product manufactured using the offset printing cliche for simultaneously forming a screen electrode region and a wiring electrode region of a touch panel as an embodiment of the present application are schematically shown in Fig.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 홈부 패턴은 선폭이 상이한 적어도 2종의 패턴을 포함하고, 상기 적어도 2종의 패턴 간의 선폭의 차이는 15㎛ 이상일 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다. 이 때, 상기 선폭의 차이가 15㎛ 이상인 적어도 2종의 패턴은 서로 연결되어 있을 수 있다.In one embodiment of the present application, the groove pattern includes at least two kinds of patterns having different line widths, and the difference in line width between the at least two kinds of patterns may be 15 탆 or more, but the present invention is not limited thereto. At this time, at least two kinds of patterns having a difference in line width of 15 mu m or more may be connected to each other.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 배선부 전극 영역에 대응되는 홈부 패턴은 메쉬 패턴을 포함하고, 하기 수학식 1을 만족할 수 있다.In one embodiment of the present application, the groove pattern corresponding to the wiring sub-electrode region includes a mesh pattern and may satisfy the following expression (1).
[수학식 1][Equation 1]
P / W > 1.428P / W> 1.428
상기 수학식 1에서, P는 메쉬 패턴의 피치이고, W는 메쉬 패턴의 선폭이며, 이들의 단위는 모두 마이크로미터이다.In the above Equation (1), P is the pitch of the mesh pattern, W is the line width of the mesh pattern, and their units are all micrometers.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 일정한 면적에 규칙적인 선폭을 가지는 반복적인 메쉬 패턴을 구현하였을 때, 일정 선폭에서 일정 메쉬 피치 크기 및 개구율의 변화에 따라, 실제 인쇄 구현 가능 여부가 결정될 수 있다. 특히, 본 발명자들은 선폭 2.8㎛ 수준의 클리쉐의 경우에는 메쉬 패턴의 피치가 5㎛ 이상인 경우 인쇄가 가능함을 밝혀내었고, 상기 수학식 1을 도출하였다.In an embodiment of the present invention, when a repetitive mesh pattern having a regular line width on a certain area is implemented, it is possible to determine whether or not actual printing can be implemented according to a change in the mesh pitch size and the aperture ratio at a certain line width. In particular, the present inventors have found that printing is possible when the pitch of the mesh pattern is 5 μm or more in the case of a cliché having a line width of 2.8 μm, and the above formula (1) is derived.
본 출원의 일 실시상태로서, 터치패널의 배선부 전극 영역을 형성하기 위한 홈부 패턴으로서, 메쉬 패턴을 포함하는 오프셋 인쇄용 클리쉐를 하기 도 4에 개략적으로 나타내었다.As an embodiment of the present application, an offset printing cliche including a mesh pattern is schematically shown in Fig. 4 as a groove pattern for forming a wiring electrode area of a touch panel.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 클리쉐로부터 제조되는 터치패널의 화면부 전극 및 배선부 전극의 전도성 패턴이 규칙적인 패턴인 경우에는, 상기 규칙적인 패턴에 대한 저항값의 변화는 정해진 채널 폭 내부에 채워지는 인쇄 면적에 비례하게 된다. 대표적으로 메쉬 패턴의 경우에는, 하기 도 4와 같이 이중식각 공정을 이용한 채널 폭(b)과 단일식각 공정을 이용한 채널 폭(b')의 비로 계산할 수 있다.In one embodiment of the present invention, when the conductive pattern of the screen electrode and the wiring sub-electrode of the touch panel manufactured from the cliche is a regular pattern, the change of the resistance value with respect to the regular pattern is within a predetermined channel width interior Is proportional to the print area to be filled in. Typically, in the case of the mesh pattern, the ratio of the channel width b using the double etching process to the channel width b 'using the single etching process can be calculated as shown in FIG.
보다 구체적으로, 채널 폭 b와 길이 c를 가지고 d 피치로 이루어진 외곽 라인이 있는 채널의 총 선의 길이의 합은 아래의 관계식으로 표시될 수 있다.More specifically, the sum of the lengths of the total lines of the channel having the channel width b and the length c and the outline line having the d pitch can be expressed by the following relational expression.
또한, 인쇄선의 선폭 a를 감안한 총 선의 면적은 아래의 관계식으로 표시될 수 있다.The area of the total line considering the line width a of the printed line can be expressed by the following relational expression.
또한, (b × c) 영역에서의 개구율은 아래의 관계식으로 표시될 수 있다.Further, the aperture ratio in the (bxc) region can be expressed by the following relational expression.
따라서, 이중식각 공정을 이용한 채널 폭(b)과 동일한 저항을 가지는 단일식각형 채널을 구성하고자 하는 경우의 b' 값은 하기 관계식으로부터 계산할 수 있다.Therefore, the value of b 'in the case of forming a monolithic rectangular channel having the same resistance as the channel width b using the double etching process can be calculated from the following relational expression.
즉, 본 출원의 일 실시상태에 따르면, 터치패널의 화면부 전극 영역 및 배선부 전극 영역에 대응되는 클리쉐 영역의 개구율을 조절함으로써, 상기 터치패널의 화면부 전극 영역 및 배선부 전극 영역의 전도성 패턴의 저항을 조절할 수 있는 특징이 있다.That is, according to one embodiment of the present application, by adjusting the aperture ratio of the cleavage region corresponding to the screen side electrode region and the wiring side electrode region of the touch panel, the conductive pattern of the screen side electrode region and the wiring side electrode region of the touch panel The resistance can be controlled.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 터치패널의 화면부 전극 영역에 대응되는 홈부 패턴의 선폭이 10㎛ 이하일 수 있고, 7㎛ 이하일 수 있고, 5㎛ 이하일 수 있으며, 4㎛ 이하일 수 있고, 2㎛ 이하일 수 있으며, 0.1㎛ 이상일 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 터치패널의 화면부 전극 영역에 대응되는 홈부 패턴은 선폭이 0.1 ~ 1㎛, 1 ~ 2㎛, 2 ~ 4㎛, 4 ~ 5㎛, 5 ~ 7㎛ 등일 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.In one embodiment of the present application, the line width of the groove pattern corresponding to the screen electrode area of the touch panel may be 10 占 퐉 or less, 7 占 퐉 or less, 5 占 퐉 or less, 4 占 퐉 or less, Mu m or less, and may be 0.1 mu m or more. More specifically, the groove pattern corresponding to the screen electrode area of the touch panel may have a line width of 0.1 to 1 탆, 1 to 2 탆, 2 to 4 탆, 4 to 5 탆, 5 to 7 탆, But is not limited thereto.
또한, 상기 터치패널의 화면부 전극 영역에 대응되는 홈부 패턴의 선폭은 10㎛ 이하 및 두께는 10㎛ 이하일 수 있고, 선폭은 7㎛ 이하 및 두께는 1㎛ 이하일 수 있으며, 전도성 패턴의 선폭은 5㎛ 이하 및 두께는 0.5㎛ 이하일 수 있다.The line width of the groove pattern corresponding to the screen electrode area of the touch panel may be 10 mu m or less and the thickness may be 10 mu m or less, the line width may be 7 mu m or less and the thickness may be 1 mu m or less, Mu m or less and the thickness may be 0.5 mu m or less.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 배선부 전극 영역에 대응되는 홈부 패턴의 선폭은 상기 화면부 전극 영역에 대응되는 홈부 패턴의 선폭 대비 1 내지 2배일 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.In one embodiment of the present application, the line width of the groove pattern corresponding to the wiring sub-electrode region may be 1 to 2 times the line width of the groove pattern corresponding to the screen electrode region, but is not limited thereto.
또한, 본 출원의 일 실시상태에 따른 오프셋 인쇄용 클리쉐의 제조방법은, 기재 상에 마스크 패턴을 형성하는 단계, 및 상기 마스크 패턴을 이용하여 기재를 식각하여 홈부 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 오프셋 인쇄용 클리쉐의 제조방법이고, 상기 오프셋 인쇄용 클리쉐는 터치패널의 화면부 전극 영역 및 배선부 전극 영역을 동시에 형성하기 위한 것이며, 상기 화면부 전극 영역에 대응되는 홈부 패턴과 상기 배선부 전극 영역에 대응되는 홈부 패턴은 동일한 깊이를 가지며, 상기 배선부 전극 영역에 대응되는 클리쉐 영역의 개구율은 0 초과 80% 이하인 것을 특징으로 한다.According to an embodiment of the present invention, there is provided a method of producing an offset printing cliche comprising the steps of: forming a mask pattern on a substrate; and etching the substrate using the mask pattern to form a groove pattern, Wherein the offset printing cliche is for forming a screen electrode region and a wiring sub electrode region of the touch panel at the same time, and the groove pattern corresponding to the screen sub electrode region and the groove portion corresponding to the wiring sub electrode region, The pattern has the same depth, and the aperture ratio of the cliche region corresponding to the wiring sub-electrode region is more than 0% and not more than 80%.
본 출원의 일 실시상태에 따르면, 오프셋 인쇄용 클리쉐 제조시, 한 번의 노광과 식각으로, 서로 상이한 저항 특성이 부여되는 2 가지 이상의 영역을 동시에 구현할 수 있으므로, 제조공정이 단순하고 생산단가를 낮출 수 있다는 특징이 있다.According to one embodiment of the present application, two or more regions having resistance characteristics different from each other can be simultaneously realized by one exposure and etching at the time of manufacturing the offset printing cliche, so that the manufacturing process is simple and the production cost can be lowered Feature.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 기재와 마스크 패턴 사이에, 크롬, 니켈, 이들의 산화물 및 이들의 질화물로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 층을 형성하는 단계를 추가로 포함할 수 있다.In one embodiment of the present application, the method further includes the step of forming a layer containing at least one selected from the group consisting of chromium, nickel, oxides thereof, and nitrides thereof between the substrate and the mask pattern .
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 기재로는 투명 유리 기재, 플라스틱 필름 기재 등을 이용할 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.In one embodiment of the present application, a transparent glass substrate, a plastic film substrate, or the like can be used as the substrate, but the substrate is not limited thereto.
또한, 본 발명은 상기 오프셋 인쇄용 클리쉐를 이용하여 인쇄한 인쇄물을 제공한다.Further, the present invention provides a printed matter printed using the offset printing cliche.
상기 인쇄물은 선폭이 서로 상이한 적어도 2종의 패턴을 포함할 수 있고, 상기 적어도 2종의 패턴의 선폭 차이는 15㎛ 이상일 수 있다.The printed matter may include at least two kinds of patterns having different line widths, and the difference in linewidth of the at least two kinds of patterns may be 15 mu m or more.
또한, 본 발명은 상기 인쇄물을 포함하는 터치패널을 제공한다.Further, the present invention provides a touch panel including the printed matter.
상기 터치패널은 본 발명에 따른 오프셋 인쇄용 클리쉐를 이용하여 인쇄한 인쇄물을 포함하는 것 이외에는 당 기술분야에 알려진 재료, 제조방법 등을 이용할 수 있다.The touch panel may include a printed material printed using an offset printing cliche according to the present invention, and other materials, manufacturing methods, and the like known in the art may be used.
이하 실시예를 통하여 본 발명을 더욱 상세히 설명한다. 그러나, 이하의 실시예는 본 발명을 예시하기 위한 것이며, 본 발명의 범위가 이에 의하여 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. However, the following examples are intended to illustrate the present invention, and the scope of the present invention is not limited thereto.
<< 실시예Example >>
<< 실시예Example 1> 1>
터치패널의 배선부 전극 영역을 형성하기 위한 것으로서, 선폭 2.8㎛를 가지는 메쉬패턴에서의 피치 및 채널 폭에 대한 실측값을 정리하여 하기 표 1 내지 표 4에 나타내었다.Measured values for pitch and channel width in a mesh pattern having a line width of 2.8 mu m for forming a wiring sub-electrode region of a touch panel are summarized in Tables 1 to 4 below.
[표 1][Table 1]
[표 2][Table 2]
[표 3][Table 3]
[표 4][Table 4]
상기 표 1 내지 표 4에서, D-14는 이중식각을 통해 14㎛의 선폭을 구현한 것을 의미하고, D-30은 이중식각을 통해 30㎛의 선폭을 구현한 것을 의미한다. 또한, 본 출원의 일 실시상태로서 5P-10은 피치가 5㎛이고 채널 폭이 10㎛인 것을 의미하고, 13P-40은 피치가 13㎛이고 채널 폭이 40㎛인 것을 의미한다. 나머지도 이와 유사하게 해석될 수 있다.In Tables 1 to 4, D-14 means that a line width of 14 占 퐉 is realized through a double etching, and D-30 means that a line width of 30 占 퐉 is realized through a double etching. As an embodiment of the present application, 5P-10 means that the pitch is 5 mu m and the channel width is 10 mu m, and 13P-40 means that the pitch is 13 mu m and the channel width is 40 mu m. The rest can be similarly interpreted.
전술한 이론식과 연결하여, 대표적으로 D-30(이중식각을 통해 30㎛의 선폭을 구현한 경우)의 경우에는 8㎛ 피치에서는 채널 폭이 34.86㎛, 10㎛ 피치에서는 43.57㎛의 확보가 필요하다는 계산결과가 나오며, 이는 상기 실측값과 비교하여 10% 이내의 오차범위를 가지고 있음을 알 수 있다.In the case of D-30 (when a line width of 30 μm is implemented through the double etching), it is necessary to secure a channel width of 34.86 μm at a pitch of 8 μm and 43.57 μm at a pitch of 10 μm in connection with the above- The result of the calculation is shown, and it can be seen that this has an error range within 10% as compared with the measured value.
본 출원의 일 실시상태로서, 터치패널의 배선부 전극 영역을 형성하기 위한 홈부 패턴의 채널 폭에 대한 저항값을 하기 도 5에 개략적으로 나타내었다. 보다 구체적으로, 하기 도 5는 상기 오프셋 인쇄용 클리쉐의 홈부 패턴의 피치와 채널 폭에 따른 저항값 변화를 나타낸 도이다.In one embodiment of the present application, the resistance value of the groove pattern for forming the wiring electrode area of the touch panel with respect to the channel width is schematically shown in Fig. More specifically, FIG. 5 is a diagram showing a resistance value change according to the pitch and channel width of the groove pattern of the offset printing cliche.
<< 실시예Example 2> 2>
상기 실시예 1의 오프셋 인쇄용 클리쉐의 채널 폭, 개구율 및 저항값을 정리하여 하기 표 5에 나타내었다.The channel width, the aperture ratio, and the resistance value of the offset printing cliche of Example 1 are summarized in Table 5 below.
[표 5][Table 5]
또한, 본 출원의 일 실시상태로서, 터치패널의 배선부 전극 영역에 대응되는 오프셋 인쇄용 클리쉐의 개구율에 대한 저항값을 하기 도 6에 개략적으로 나타내었다. 보다 구체적으로, 하기 도 6은 각각의 채널을 개구율로 환산하여 이를 저항과 연계하여 나타낸 도이다. 하기 도 6에서 서로 연결된 선은 동일한 채널 폭을 기준으로 한 것이다.6, the resistance value of the offset printing cliche corresponding to the wiring-side electrode region of the touch panel is shown in FIG. 6 as an embodiment of the present application. More specifically, FIG. 6 is a diagram showing each channel in terms of an aperture ratio and connecting it with a resistance. The lines connected to each other in FIG. 6 are based on the same channel width.
상기 결과와 같이, 본 출원의 일 실시상태에 따르면, 터치패널의 화면부 전극 영역과 배선부 전극 영역에 대응되는 홈부 패턴이 동일한 식각 깊이를 가질 수 있고, 종래의 식각 단차에 의한 연결부의 단선 현상을 개선할 수 있는 특징이 있다. 또한, 본 출원의 일 실시상태에 따르면, 터치패널의 화면부 전극 영역과 배선부 전극 영역이 연결되는 영역의 디자인을 간략화할 수 있고, 내로우 베잴(narrow bezel)을 구현할 수 있으며, 설계상의 편의성을 확보할 수 있는 특징이 있다.According to one embodiment of the present application, the groove portion pattern corresponding to the screen sub-electrode region and the wiring sub-electrode region of the touch panel can have the same etch depth, and the disconnection phenomenon of the connection portion due to the conventional etching step Can be improved. According to an embodiment of the present application, it is possible to simplify the design of the area where the screen sub-electrode area and the wiring sub-electrode area of the touch panel are connected, to realize a narrow bezel, Can be secured.
Claims (15)
상기 오프셋 인쇄용 클리쉐는 터치패널의 화면부 전극 영역 및 배선부 전극 영역을 동시에 형성하기 위한 것이며,
상기 화면부 전극 영역에 대응되는 홈부 패턴과 상기 배선부 전극 영역에 대응되는 홈부 패턴은 동일한 깊이를 가지며,
상기 배선부 전극 영역에 대응되는 클리쉐 영역의 개구율은 0 초과 80% 이하이고,
상기 배선부 전극 영역에 대응되는 홈부 패턴의 선폭은 상기 화면부 전극 영역에 대응되는 홈부 패턴의 선폭 대비 1 내지 2배인 것을 특징으로 하는 오프셋 인쇄용 클리쉐.An offset printing cliche comprising a groove pattern,
The offset printing cliche is for simultaneously forming a screen side electrode region and a wiring side electrode region of a touch panel,
The groove portion pattern corresponding to the screen sub-electrode region and the groove portion pattern corresponding to the wiring portion electrode region have the same depth,
The opening ratio of the cliche region corresponding to the wiring sub-electrode region is from 0 to 80%
And the line width of the groove pattern corresponding to the wiring sub-electrode region is 1 to 2 times the line width of the groove pattern corresponding to the screen electrode region.
[수학식 1]
P / W > 1.428
상기 수학식 1에서, P는 메쉬 패턴의 피치이고, W는 메쉬 패턴의 선폭이며, 이들의 단위는 모두 마이크로미터이다.2. The offset printing cliche according to claim 1, wherein the groove pattern corresponding to the wiring sub-electrode region includes a mesh pattern and satisfies the following expression (1)
[Equation 1]
P / W> 1.428
In the above Equation (1), P is the pitch of the mesh pattern, W is the line width of the mesh pattern, and their units are all micrometers.
상기 마스크 패턴을 이용하여 기재를 식각하여 홈부 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 오프셋 인쇄용 클리쉐의 제조방법이고,
상기 오프셋 인쇄용 클리쉐는 터치패널의 화면부 전극 영역 및 배선부 전극 영역을 동시에 형성하기 위한 것이며,
상기 화면부 전극 영역에 대응되는 홈부 패턴과 상기 배선부 전극 영역에 대응되는 홈부 패턴은 동일한 깊이를 가지며,
상기 배선부 전극 영역에 대응되는 클리쉐 영역의 개구율은 10 초과 70% 이하인 것을 특징으로 하는 오프셋 인쇄용 클리쉐의 제조방법.Forming a mask pattern on the substrate, and
And etching the base material by using the mask pattern to form a groove portion pattern, the method comprising the steps of:
The offset printing cliche is for simultaneously forming a screen side electrode region and a wiring side electrode region of a touch panel,
The groove portion pattern corresponding to the screen sub-electrode region and the groove portion pattern corresponding to the wiring portion electrode region have the same depth,
Wherein the opening ratio of the cliche region corresponding to the wiring sub-electrode region is from 10 to 70% inclusive.
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