KR101751372B1 - Photocurable resin composition and cured film thereof - Google Patents

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Abstract

투명성을 저하시키지 않고 내블로킹성이 향상되어 있고, 또한 뛰어난 인쇄성도 갖고 있는 하드 코트층을 형성하는 것이 가능한 광경화성 수지 조성물 및 그 경화막을 제공한다.
수산기가가 10∼350㎎KOH/g이고, (메타)아크릴 당량이 100∼800g/eq이고, 중량 평균 분자량이 10,000∼200,000이고, 유리전이점이 50∼110℃이고, 또한 측쇄에 광중합성기 및 수산기를 갖고 있는 (메타)아크릴계 폴리머(A)와, 평균 입자 지름이 10㎚∼500㎚인 무기 입자(B)와, 평균 입자 지름이 10㎚∼500㎚인 유기 입자(C)와, 1분자 중에 2개 이상의 광중합성기를 갖고 있는 광중합성 다관능 화합물(D)을 포함하고 있는 것을 특징으로 하는 광경화성 수지 조성물.
A photo-curable resin composition capable of forming a hard coat layer having improved blocking resistance without lowering transparency and having excellent printability, and a cured film thereof.
(Meth) acrylate equivalent weight of 100 to 800 g / eq, a weight average molecular weight of 10,000 to 200,000, a glass transition point of 50 to 110 占 폚, and a photopolymerizable group and a hydroxyl group (B) having an average particle diameter of 10 nm to 500 nm, organic particles (C) having an average particle diameter of 10 nm to 500 nm, and a (meth) acrylic polymer And a photopolymerizable polyfunctional compound (D) having at least two photopolymerizable groups.

Description

광경화성 수지 조성물 및 그 경화막{PHOTOCURABLE RESIN COMPOSITION AND CURED FILM THEREOF}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a photocurable resin composition and a cured film thereof,

본 발명은 하드 코트층의 형성에 바람직하게 사용되는 광경화성 수지 조성물 및 그 경화막에 관한 것이다.The present invention relates to a photo-curable resin composition and a cured film thereof suitably used for forming a hard coat layer.

종래부터, 휴대 전화, 휴대 정보 단말(PDA), 휴대형 게임기, 디지털 카메라, 퍼스널 컴퓨터, 및 텔레비전 등의 정보 단말 장치가 알려져 있다. 최근, 이러한 정보 단말 장치에서는 표시 패널의 앞면에 터치패널이 탑재되어 있다. 터치패널은 손가락이나 펜 등에 의해 표면 패널을 압박함으로써 데이터 정보 등 필요한 정보를 정보 단말 장치에 입력할 수 있다.BACKGROUND ART Conventionally, information terminal apparatuses such as a mobile phone, a portable information terminal (PDA), a portable game machine, a digital camera, a personal computer, and a television are known. Recently, in such an information terminal apparatus, a touch panel is mounted on the front surface of a display panel. The touch panel can input necessary information such as data information to the information terminal device by pressing the surface panel with a finger or a pen.

터치패널의 분류로서는 광학 방식, 초음파 방식, 정전 용량 방식, 및 저항막 방식 등을 들 수 있다. 정전 용량 방식의 터치패널에서는 투명 기재와, 이 투명 기재 상에 설치된 스트라이프 형상 등의 패턴 형상을 갖는 투명 도전층을 갖는 적층 필름이 사용되고 있다.Examples of the classification of the touch panel include an optical method, an ultrasonic method, a capacitance method, and a resistive film method. In a capacitive touch panel, a laminated film having a transparent substrate and a transparent conductive layer having a pattern shape such as a stripe pattern provided on the transparent substrate is used.

투명 기재 표면에 상처가 나면 투명성이 저하된다. 그 때문에, 투명 기재 표면에 코팅제를 도포함으로써 하드 코트층이 형성되어 있고, 이 하드 코트층 상에 투명 도전층이 설치되어 있다. 또한, 하드 코트층과 투명 도전층의 밀착성이 낮을 경우에는 투명 도전층은 하드 코트층 상에 접착층을 통해서 설치된다. 하드 코트층에 의하면, 투명 기재 표면에 내상처성을 부여할 수 있다. 이러한 하드 코트층에서는 터치패널의 시인성을 확보하기 위해서, 높은 투명성을 갖고 있는 것이 필요로 된다.If a transparent substrate surface is scratched, transparency is lowered. Therefore, a hard coat layer is formed by applying a coating agent to the surface of the transparent substrate, and a transparent conductive layer is provided on the hard coat layer. When the adhesion between the hard coat layer and the transparent conductive layer is low, the transparent conductive layer is provided on the hard coat layer through the adhesive layer. According to the hard coat layer, it is possible to impart scratch resistance to the surface of the transparent substrate. In such a hard coat layer, it is necessary to have high transparency in order to secure the visibility of the touch panel.

종래부터, 하드 코트층의 형성에 사용되는 코팅제에 대해서 여러 가지 검토가 되고 있다. 특허문헌 1에서는 (A) 아크릴 수지 3∼40질량%, (B) 폴리옥시에틸렌-폴리옥시프로필렌 블록 공중합체 0.1∼5질량%, 및 (C) 1분자 중에 2 이상의 광중합성기를 갖는 광중합성 다관능 화합물 55∼95질량%를 포함하는 수지 성분을 함유하는 광경화형 친수성 코팅제가 개시되어 있다.BACKGROUND ART Conventionally, various studies have been made on a coating agent used for forming a hard coat layer. Patent Document 1 discloses a photopolymerizable composition comprising (A) 3 to 40 mass% of an acrylic resin, (B) 0.1 to 5 mass% of a polyoxyethylene-polyoxypropylene block copolymer, and (C) Discloses a photocurable hydrophilic coating agent containing a resin component containing 55 to 95 mass% of a functional compound.

특허문헌 2에서는 분자 중에 에폭시기를 갖는 비닐 화합물을 함유하는 중합 성분(a1)을 중합해서 얻어진 중합체에 카르복실기 함유 (메타)아크릴 화합물(a2)을 부가 반응시켜서 이루어지는 반응 생성물(A), 콜로이달실리카(B), 분자 중에 1 또는 2개의 비닐기를 함유하는 인산 화합물(C), 및 다관능 (메타)아크릴 화합물(D)을 함유하는 활성 에너지선 경화형 수지 조성물이 개시되어 있다.Patent Document 2 discloses a reaction product (A) comprising an addition reaction of a carboxyl group-containing (meth) acrylic compound (a2) with a polymer obtained by polymerizing a polymerization component (a1) containing a vinyl compound having an epoxy group in a molecule, B), a phosphoric acid compound (C) containing one or two vinyl groups in the molecule, and a polyfunctional (meth) acrylic compound (D).

특허문헌 3에서는 투명 기재의 적어도 한쪽 면에 기능층을 갖고, 기능층이 투명 수지에 투광성 무기 입자 및/또는 투광성 유기 입자를 분산시켜서 이루어지는 광학 시트가 개시되어 있다.Patent Document 3 discloses an optical sheet having a functional layer on at least one surface of a transparent substrate and a functional layer in which transparent inorganic particles and / or translucent organic particles are dispersed in a transparent resin.

국제 공개 제 2011/013497호 명세서International Publication No. 2011/013497 specification 일본 특허 공개 2009-286972호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2009-286972 일본 특허 공개 2010-66549호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2010-66549

특허문헌 1의 광경화형 친수성 코팅제를 이용하여 형성된 하드 코트층은 내블로킹성이 낮다. 그 때문에, 하드 코트층을 갖는 투명 기재를 롤 형상으로 권취하거나, 겹치거나 해서 보관했을 경우, 투명 기재끼리가 밀착해서 박리되기 어려워진다.The hard coat layer formed using the photocurable hydrophilic coating agent of Patent Document 1 has low blocking resistance. Therefore, when the transparent substrate having the hard coat layer is rolled up or stored in the form of a roll, the transparent substrates are hardly peeled off from each other.

특허문헌 2의 활성 에너지선 경화형 수지 조성물은 무기 입자로서 콜로이달실리카를 포함하고 있다. 활성 에너지선 경화형 수지 조성물을 이용하여 형성된 하드 코트층의 표면에는 무기 입자에 의해 요철이 형성되어 있고, 이것에 의해 하드 코트층에 내블로킹성이 부여되어 있다. 그러나, 무기 입자만의 사용에서는 하드 코트층의 내블로킹성을 충분하게 향상시킬 수 없을 뿐만 아니라, 하드 코트층의 투명성을 저하시킨다.The active energy ray-curable resin composition of Patent Document 2 contains colloidal silica as inorganic particles. The surface of the hard coat layer formed by using the active energy ray-curable resin composition has irregularities formed by the inorganic particles, thereby imparting anti-blocking properties to the hard coat layer. However, the use of only the inorganic particles not only makes it impossible to sufficiently improve the blocking resistance of the hard coat layer, but also lowers the transparency of the hard coat layer.

특허문헌 3의 광학 시트에서는 기능층의 표면에 투광성 무기 입자 및/또는 투광성 유기 입자에 의해 요철이 형성된다. 그러나, 이러한 요철의 형성은 광학 시트에 방현성(防眩性)을 부여하기 위해서 행해지고 있고, 그것을 위해서는 큰 입자 지름을 갖는 투광성 무기 입자 및 투광성 유기 입자가 사용된다. 이러한 투광성 무기 입자 및 투광성 유기 입자의 사용은 기능층의 투명성을 저하시킨다.In the optical sheet of Patent Document 3, concaves and convexes are formed on the surface of the functional layer by translucent inorganic particles and / or light-transmitting organic particles. However, such unevenness is formed in order to impart antiglare property to the optical sheet. For this purpose, translucent inorganic particles and translucent organic particles having a large particle diameter are used. Use of such translucent inorganic particles and translucent organic particles lowers the transparency of the functional layer.

또한, 하드 코트층 상으로의 투명 도전층이나 접착층의 형성에는, 예를 들면 도전 페이스트나 접착제를 함유하는 조성물 등의 잉크를 하드 코트층에 도포함으로써 행할 수 있다. 그러나, 하드 코트층은 잉크와의 젖음성이 낮기 때문에, 하드 코트층 상에 잉크를 도포하면 하드 코트층이 잉크를 튀게 해 버린다. 그 때문에, 잉크를 정밀도 좋게 인쇄할 수 없고, 원하는 패턴 형상이나 균일한 두께를 갖는 투명 도전층이나 접착층을 하드 코트층 상에 형성할 수 없다. 따라서, 하드 코트층의 인쇄성의 향상도 필요로 되고 있다.The formation of the transparent conductive layer or the adhesive layer on the hard coat layer can be performed by applying an ink such as a composition containing a conductive paste or an adhesive to the hard coat layer. However, since the hard coat layer has low wettability with the ink, when the ink is applied onto the hard coat layer, the hard coat layer splashes the ink. Therefore, the ink can not be printed with high precision, and a transparent conductive layer or an adhesive layer having a desired pattern shape and uniform thickness can not be formed on the hard coat layer. Therefore, it is also necessary to improve the printability of the hard coat layer.

그래서, 본 발명의 목적은 투명성을 저하시키지 않고 내블로킹성이 향상되어 있고, 또한 뛰어난 인쇄성도 갖고 있는 하드 코트층을 형성하는 것이 가능한 광경화성 수지 조성물을 제공하는 것이다.Therefore, an object of the present invention is to provide a photo-curable resin composition capable of forming a hard coat layer having improved blocking resistance without deteriorating transparency and having excellent printability.

본 발명의 광경화성 수지 조성물은,The photo-curable resin composition of the present invention is a photo-

수산기가가 10∼350㎎KOH/g이고, (메타)아크릴 당량이 100∼800g/eq이고, 중량 평균 분자량이 10,000∼200,000이고, 유리전이점이 50∼110℃이고, 또한 측쇄에 광중합성기 및 수산기를 갖고 있는 (메타)아크릴계 폴리머(A)와,(Meth) acrylate equivalent weight of 100 to 800 g / eq, a weight average molecular weight of 10,000 to 200,000, a glass transition point of 50 to 110 占 폚, and a photopolymerizable group and a hydroxyl group (Meth) acryl-based polymer (A)

평균 입자 지름이 10㎚∼500㎚인 무기 입자(B)와,An inorganic particle (B) having an average particle diameter of 10 nm to 500 nm,

평균 입자 지름이 10㎚∼500㎚인 유기 입자(C)와,(C) having an average particle diameter of 10 nm to 500 nm,

1분자 중에 2개 이상의 광중합성기를 갖고 있는 광중합성 다관능 화합물(D)을 포함하고 있고, 또한,(D) having at least two photopolymerizable groups in one molecule, and the photopolymerizable polyfunctional compound

상기 (메타)아크릴계 폴리머(A), 상기 무기 입자(B), 상기 유기 입자(C), 및 상기 광중합성 다관능 화합물(D)의 총 중량에 대하여,Based on the total weight of the (meth) acrylic polymer (A), the inorganic particles (B), the organic particles (C), and the photopolymerizable polyfunctional compound (D)

상기 (메타)아크릴계 폴리머(A)의 함유량이 10∼40중량%이고,The content of the (meth) acrylic polymer (A) is 10 to 40% by weight,

상기 무기 입자(B)의 함유량이 5∼40중량%이고,, The content of the inorganic particles (B) is 5 to 40% by weight,

상기 유기 입자(C)의 함유량이 0.5∼10중량%이고,The content of the organic particles (C) is 0.5 to 10% by weight,

상기 광중합성 다관능 화합물(D)의 함유량이 20∼70중량%인 것을 특징으로 한다.The content of the photopolymerizable polyfunctional compound (D) is 20 to 70% by weight.

상기 (메타)아크릴계 폴리머(A)는 알킬(메타)아크릴레이트 성분을 10∼90중량% 함유하고 있는 것이 바람직하다.The (meth) acrylic polymer (A) preferably contains an alkyl (meth) acrylate component in an amount of 10 to 90% by weight.

상기 무기 입자(B)는 금속 입자 및 금속 산화물 입자 중 적어도 1종인 것이 바람직하다.The inorganic particles (B) are preferably at least one of metal particles and metal oxide particles.

상기 유기 입자(C)는 (메타)아크릴계 수지 입자인 것이 바람직하다.The organic particles (C) are preferably (meth) acrylic resin particles.

상기 광경화성 수지 조성물은 광중합 개시제를 포함하고 있는 것이 바람직하다.It is preferable that the photocurable resin composition contains a photopolymerization initiator.

또한, 본 발명의 경화막은 상기 광경화성 수지 조성물을 경화시켜서 이루어지는 것을 특징으로 한다.Further, the cured film of the present invention is characterized in that the photo-curable resin composition is cured.

(발명의 효과)(Effects of the Invention)

본 발명의 광경화성 수지 조성물에 의하면, 투명성을 저하시키지 않고 내블로킹성이 향상되어 있고, 또한 뛰어난 인쇄성도 갖고 있는 하드 코트층을 형성할 수 있다.According to the photocurable resin composition of the present invention, it is possible to form a hard coat layer having improved blocking resistance without deteriorating transparency and having excellent printability.

[광경화성 수지 조성물][Photocurable resin composition]

본 발명의 광경화성 수지 조성물은 측쇄에 광중합성기 및 수산기를 갖고 있는 (메타)아크릴계 폴리머(A), 무기 입자(B), 유기 입자(C), 및 1분자 중에 2개 이상의 광중합성기를 갖고 있는 광중합성 다관능 화합물(D)을 포함하고 있다.The photocurable resin composition of the present invention is a composition comprising a (meth) acrylic polymer (A), an inorganic particle (B), and an organic particle (C) each having a photopolymerizable group and a hydroxyl group in a side chain and at least two photopolymerizable groups And a photopolymerizable polyfunctional compound (D).

[(메타)아크릴계 폴리머(A)][(Meth) acryl-based polymer (A)]

본 발명의 광경화성 수지 조성물은 측쇄에 광중합성기 및 수산기를 갖고 있는 (메타)아크릴계 폴리머(A)를 적어도 1종 포함하고 있다. (메타)아크릴계 폴리머(A)를 사용함으로써, 투명성이 뛰어난 하드 코트층을 형성할 수 있다. 또한, (메타)아크릴계 폴리머(A)는 광중합성 다관능 화합물(D)과 광중합성기에 의해 라디칼 중합해서 가교 구조를 형성할 수 있다. 이에 따라, 높은 경도를 갖고, 내상처성에도 뛰어난 하드 코트층을 형성할 수 있다.The photo-curing resin composition of the present invention contains at least one (meth) acryl-based polymer (A) having a photopolymerizable group and a hydroxyl group in its side chain. By using the (meth) acrylic polymer (A), a hard coat layer having excellent transparency can be formed. Further, the (meth) acrylic polymer (A) can be subjected to radical polymerization by a photopolymerizable polyfunctional compound (D) and a photopolymerizable group to form a crosslinked structure. Thus, a hard coat layer having high hardness and excellent in scratch resistance can be formed.

(메타)아크릴계 폴리머(A)는 측쇄에 광중합성기 및 수산기를 각각 적어도 1개 갖고 있으면 좋지만, (메타)아크릴계 폴리머(A)는 측쇄에 광중합성기 및 수산기를 각각 2개 이상 갖고 있는 것이 바람직하다. 또한, 본 발명에 있어서 (메타)아크릴이란 아크릴 또는 메타크릴을 의미한다.The (meth) acrylic polymer (A) should have at least one photopolymerizable group and at least one hydroxyl group in the side chain, and the (meth) acrylic polymer (A) preferably has two or more photopolymerizable groups and a hydroxyl group in the side chain. In the present invention, (meth) acryl means acryl or methacryl.

(메타)아크릴계 폴리머(A)의 광중합성기는 후술하는 광중합성 다관능 화합물(D)의 광중합성기와 라디칼 중합 가능한 에틸렌성 불포화 이중 결합을 갖고 있으면 좋다. 광중합성기로서는 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 스티릴기, 비닐기, 알릴기 등을 들 수 있고, 아크릴로일기, 메타크릴로일기가 바람직하다.The photopolymerizable group of the (meth) acrylic polymer (A) may have a photopolymerizable group of a photopolymerizable polyfunctional compound (D) to be described later and a radically polymerizable ethylenically unsaturated double bond. Examples of the photopolymerizable group include an acryloyl group, a methacryloyl group, a styryl group, a vinyl group, and an allyl group, and an acryloyl group and a methacryloyl group are preferable.

(메타)아크릴계 폴리머(A)로서는 하기의 (메타)아크릴계 폴리머 (A1)∼(A3)을 바람직하게 들 수 있다.As the (meth) acrylic polymer (A), the following (meth) acrylic polymers (A1) to (A3) are preferably used.

글리시딜기를 갖는 라디칼 중합성 모노머, 및 필요에 따라서 글리시딜기를 갖고 있지 않은 알킬(메타)아크릴레이트를 함유하는 모노머 조성물(I)을 라디칼 중합시킴으로써 얻어지는 글리시딜기를 갖는 중합체(I')에, 카르복실기 및 광중합성기를 갖는 화합물을 부가함으로써 얻어지는 (메타)아크릴계 폴리머(A1);(I ') obtained by radical polymerization of a monomer composition (I) containing a radically polymerizable monomer having a glycidyl group and an alkyl (meth) acrylate not having a glycidyl group, if necessary, (A1) obtained by adding a compound having a carboxyl group and a photopolymerizable group to a (meth) acrylic polymer;

수산기를 갖는 라디칼 중합성 모노머, 및 필요에 따라서 수산기를 갖고 있지 않은 알킬(메타)아크릴레이트를 함유하는 모노머 조성물(II)을 라디칼 중합시킴으로써 얻어지는 수산기를 갖는 중합체(II')에, 이소시아네이트기 및 광중합성기를 갖는 화합물을 부가시킴으로써 얻어지는 (메타)아크릴계 폴리머(A2); 및,(II ') obtained by radical polymerization of a monomer composition (II) containing a radically polymerizable monomer having a hydroxyl group and an alkyl (meth) acrylate having no hydroxyl group, as the case requires, (Meth) acryl-based polymer (A2) obtained by adding a compound having a cyano group; And

카르복실기를 갖는 라디칼 중합성 모노머, 및 필요에 따라서 카르복실기를 갖고 있지 않은 알킬(메타)아크릴레이트를 함유하는 모노머 조성물(III)을 라디칼 중합시킴으로써 얻어지는 카르복실기를 갖는 중합체(III')에, 글리시딜기 및 광중합성기를 갖는 화합물을 부가시킴으로써 얻어지는 (메타)아크릴계 폴리머(A3).(III ') having a carboxyl group obtained by radical polymerization of a monomer composition (III) containing a radically polymerizable monomer having a carboxyl group and an alkyl (meth) acrylate having no carboxyl group if necessary, (Meth) acrylic polymer (A3) obtained by adding a compound having a photopolymerizable group.

(메타)아크릴계 폴리머 (A1)∼(A3)은, 예를 들면 하기 (1)∼(3)의 방법에 의해 제조할 수 있다.The (meth) acrylic polymers (A1) to (A3) can be produced, for example, by the following methods (1) to (3).

(1) 글리시딜기를 갖는 라디칼 중합성 모노머, 및 필요에 따라서 글리시딜기를 갖고 있지 않은 알킬(메타)아크릴레이트를 함유하는 모노머 조성물(I)을 라디칼 중합 개시제의 존재 하에서 라디칼 중합시킴으로써 글리시딜기를 갖는 중합체(I')를 얻는 공정과, 이 중합체(I')에 카르복실기 및 광중합성기를 갖는 화합물을 부가시킴으로써 (메타)아크릴계 폴리머(A1) 얻는 공정을 갖는 방법,(1) a monomer composition (I) containing a radically polymerizable monomer having a glycidyl group and an alkyl (meth) acrylate having no glycidyl group, if necessary, is subjected to radical polymerization in the presence of a radical polymerization initiator, (Meth) acrylic polymer (A1) by adding a compound having a carboxyl group and a photopolymerizable group to the polymer (I '), and a step of obtaining a (meth) acrylic polymer

(2) 수산기를 갖는 라디칼 중합성 모노머, 및 필요에 따라서 수산기를 갖고 있지 않은 알킬(메타)아크릴레이트를 함유하는 모노머 조성물(II)을 라디칼 중합 개시제의 존재 하에서 라디칼 중합시킴으로써 수산기를 갖는 중합체(II')를 얻는 공정과, 이 중합체(II')에 이소시아네이트기 및 광중합성기를 갖는 화합물을 부가시킴으로써 (메타)아크릴계 폴리머(A2) 얻는 공정을 갖는 방법, 및,(II) a radically polymerizable monomer having a hydroxyl group, and optionally a monomer composition (II) containing an alkyl (meth) acrylate having no hydroxyl group, in the presence of a radical polymerization initiator, (A2) by adding a compound having an isocyanate group and a photopolymerizable group to the polymer (II '), and a step of obtaining a (meth) acrylic polymer (A2)

(3) 카르복실기를 갖는 라디칼 중합성 모노머, 및 필요에 따라서 카르복실기를 갖고 있지 않은 알킬(메타)아크릴레이트를 함유하는 모노머 조성물(III)을 라디칼 중합 개시제의 존재 하에서 라디칼 중합시킴으로써 카르복실기를 갖는 중합체(III')를 얻는 공정과, 이 중합체(III')에 글리시딜기 및 광중합성기를 갖는 화합물을 부가시킴으로써 (메타)아크릴계 폴리머(A3) 얻는 공정을 갖는 방법.(III) a radically polymerizable monomer having a carboxyl group and, if necessary, a monomer composition (III) containing an alkyl (meth) acrylate having no carboxyl group, in the presence of a radical polymerization initiator, (Meth) acrylic polymer (A3) by adding a compound having a glycidyl group and a photopolymerizable group to the polymer (III ').

(메타)아크릴계 폴리머(A1)의 제조 방법(1)에 대해서 구체적인 일례를 이하에 설명한다. 글리시딜기를 갖는 라디칼 중합성 모노머, 및 필요에 따라서 글리시딜기를 갖고 있지 않은 알킬(메타)아크릴레이트를 함유하는 모노머 조성물(I)을 라디칼 중합 개시제의 존재 하에서 반응 용기 중에서 라디칼 중합함으로써, 글리시딜기를 갖는 중합체(I')를 제조한다. 이어서, 카르복실기 및 광중합성기를 갖는 화합물, 및 필요에 따라서 촉매를 반응 용기 중에 첨가한다. 또한, 필요에 따라서 반응 용기 중에 p-메톡시페놀, 하이드로퀴논(HQ) 등의 중합 금지제를 첨가해도 좋다. 그런 뒤, 반응 용기 중에 필요에 따라서 산소를 취입하면서, 예를 들면 반응액을 30∼150℃가 되도록 제어하면서 6∼12시간에 걸쳐서 반응시킴으로써, 측쇄에 광중합성기 및 수산기를 갖는 (메타)아크릴계 폴리머(A1)를 제조할 수 있다.A specific example of the production process (1) of the (meth) acrylic polymer (A1) will be described below. (I) containing a radically polymerizable monomer having a glycidyl group and an alkyl (meth) acrylate having no glycidyl group, if necessary, is subjected to radical polymerization in a reaction vessel in the presence of a radical polymerization initiator, To prepare a polymer (I ') having a silyl group. Then, a compound having a carboxyl group and a photopolymerizable group, and, if necessary, a catalyst are added to the reaction vessel. If necessary, polymerization inhibitors such as p-methoxyphenol and hydroquinone (HQ) may be added to the reaction vessel. Thereafter, the reaction solution is allowed to react for 6 to 12 hours while controlling the reaction liquid to be at 30 to 150 占 폚 while blowing oxygen into the reaction vessel if necessary, whereby a (meth) acrylic polymer having a photopolymerizable group and a hydroxyl group (A1) can be produced.

글리시딜기를 갖는 라디칼 중합성 모노머로서는, 글리시딜(메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메타)아크릴레이트글리시딜에테르, 및 알릴글리시딜에테르 등을 들 수 있지만, 글리시딜(메타)아크릴레이트가 바람직하다. 또한, 글리시딜기를 갖는 라디칼 중합성 모노머는 단독으로 사용되어도 좋고 2종 이상이 병용되어도 좋다. 또한, (메타)아크릴레이트란 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트를 의미한다.Examples of the radically polymerizable monomer having a glycidyl group include glycidyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate glycidyl ether, and allyl glycidyl ether. (Meth) acrylate. Further, the radically polymerizable monomers having a glycidyl group may be used alone, or two or more kinds thereof may be used in combination. Further, (meth) acrylate means acrylate or methacrylate.

모노머 조성물(I) 중에 있어서의 글리시딜기를 갖는 라디칼 중합성 모노머의 함유량은 10∼90중량%가 바람직하고, 20∼80중량%가 보다 바람직하다. 글리시딜기를 갖는 라디칼 중합성 모노머의 함유량을 상기 하한값 이상으로 함으로써, 가교 밀도가 높고 또한 뛰어난 경도를 갖는 하드 코트층을 형성할 수 있다. 또한, 글리시딜기를 갖는 라디칼 중합성 모노머의 함유량을 상기 상한값 이하로 함으로써, (메타)아크릴계 폴리머의 합성시에 있어서의 겔화를 억제할 수 있다.The content of the radically polymerizable monomer having a glycidyl group in the monomer composition (I) is preferably from 10 to 90% by weight, and more preferably from 20 to 80% by weight. By setting the content of the radically polymerizable monomer having a glycidyl group to the lower limit value or more, it is possible to form a hard coat layer having high crosslinking density and excellent hardness. By controlling the content of the radically polymerizable monomer having a glycidyl group to be not more than the upper limit value, it is possible to suppress gelation in the synthesis of the (meth) acrylic polymer.

모노머 조성물(I)은 글리시딜기를 갖고 있지 않은 알킬(메타)아크릴레이트를 포함하고 있는 것이 바람직하다. 글리시딜기를 갖고 있지 않은 알킬(메타)아크릴레이트는 수산기도 갖고 있지 않은 것이 바람직하다. 이러한 알킬(메타)아크릴레이트로서는, 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 프로필(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 펜틸(메타)아크릴레이트, 헥실(메타)아크릴레이트, 헵틸(메타)아크릴레이트, 옥틸(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트, 노닐(메타)아크릴레이트, 데실(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트, 디시클로펜타디에닐(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 그 중에서도 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 프로필(메타)아크릴레이트, 및 부틸(메타)아크릴레이트가 바람직하고, 메틸(메타)아크릴레이트가 보다 바람직하다. 또한, 알킬(메타)아크릴레이트는 단독으로 사용되어도 좋고 2종 이상이 병용되어도 좋다.The monomer composition (I) preferably contains an alkyl (meth) acrylate having no glycidyl group. It is preferable that the alkyl (meth) acrylate not having a glycidyl group does not have a hydroxyl group. Examples of such alkyl (meth) acrylates include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, (Meth) acrylate, heptyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, nonyl (Meth) acrylate, and the like. Among them, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate and butyl (meth) acrylate are preferable, and methyl (meth) acrylate is more preferable. The alkyl (meth) acrylate may be used singly or in combination of two or more.

모노머 조성물(I) 중에 있어서의 글리시딜기를 갖고 있지 않은 알킬(메타)아크릴레이트의 함유량은 10∼90중량%가 바람직하고, 20∼80중량%가 보다 바람직하다. 글리시딜기를 갖고 있지 않은 알킬(메타)아크릴레이트의 함유량을 상기 하한값 이상으로 함으로써, (메타)아크릴계 폴리머의 합성시에 있어서의 겔화를 억제할 수 있다. 또한, 글리시딜기를 갖고 있지 않은 알킬(메타)아크릴레이트의 함유량을 상기 상한값 이하로 함으로써, 가교 밀도가 높고 또한 뛰어난 경도를 갖는 하드 코트층을 형성할 수 있다.The content of the alkyl (meth) acrylate having no glycidyl group in the monomer composition (I) is preferably from 10 to 90% by weight, and more preferably from 20 to 80% by weight. When the content of the alkyl (meth) acrylate having no glycidyl group is set to the lower limit value or more, the gelation during the synthesis of the (meth) acrylic polymer can be suppressed. By setting the content of the alkyl (meth) acrylate having no glycidyl group to the upper limit value or less, a hard coat layer having a high crosslinking density and excellent hardness can be formed.

모노머 조성물(I)은 수산기를 갖는 알킬(메타)아크릴레이트를 포함하고 있어도 좋다. 수산기를 갖는 알킬(메타)아크릴레이트를 사용함으로써, (메타)아크릴계 폴리머(A1)의 수산기가를 조정할 수 있다. 수산기를 갖는 알킬(메타)아크릴레이트로서는, 예를 들면 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 3-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 2-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 6-히드록시헥실(메타)아크릴레이트, 8-히드록시옥틸(메타)아크릴레이트, 10-히드록시데실(메타)아크릴레이트, 12-히드록시라우릴(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 그 중에서도 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트가 바람직하다. 또한, 수산기를 갖는 알킬(메타)아크릴레이트는 단독으로 사용되어도 좋고 2종 이상이 병용되어도 좋다.The monomer composition (I) may contain an alkyl (meth) acrylate having a hydroxyl group. By using an alkyl (meth) acrylate having a hydroxyl group, the hydroxyl value of the (meth) acrylic polymer (A1) can be adjusted. Examples of the alkyl (meth) acrylate having a hydroxyl group include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) (Meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 6-hydroxyhexyl (meth) acrylate, 8-hydroxyoctyl Acrylate, and 12-hydroxylauryl (meth) acrylate. Among them, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate is preferable. The alkyl (meth) acrylate having a hydroxyl group may be used singly or in combination of two or more.

모노머 조성물(I) 중에 있어서의 수산기를 갖는 알킬(메타)아크릴레이트의 함유량은 80중량% 이하가 바람직하고, 60중량% 이하가 보다 바람직하다. 수산기를 갖는 알킬(메타)아크릴레이트의 함유량을 상기 상한값 이하로 함으로써, 무기 입자(B) 및 유기 입자(C)의 응집에 의한 하드 코트층의 투명성의 저하를 억제할 수 있다.The content of the alkyl (meth) acrylate having a hydroxyl group in the monomer composition (I) is preferably 80% by weight or less, more preferably 60% by weight or less. By controlling the content of the alkyl (meth) acrylate having a hydroxyl group to be not more than the upper limit value, deterioration of transparency of the hard coat layer due to aggregation of the inorganic particles (B) and the organic particles (C) can be suppressed.

모노머 조성물(I)은 지환기를 갖고 있는 (메타)아크릴레이트를 포함하고 있어도 좋다. 지환기를 갖고 있는 (메타)아크릴레이트로서는, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 4-부틸시클로헥실(메타)아크릴레이트, 디시클로펜타닐(메타)아크릴레이트, 디시클로펜테닐(메타)아크릴레이트, 디시클로펜타디에닐(메타)아크릴레이트, 이소보닐(메타)아크릴레이트, 트리시클로데카닐(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.The monomer composition (I) may contain (meth) acrylate having an alicyclic group. Examples of the (meth) acrylate having an alicyclic group include cyclohexyl (meth) acrylate, 4-butylcyclohexyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (Meth) acrylate, chloropentadienyl (meth) acrylate, isobonyl (meth) acrylate, and tricyclodecanyl (meth) acrylate.

모노머 조성물(I) 중에 있어서의 지환기를 갖고 있는 (메타)아크릴레이트의 함유량은 80중량% 이하가 바람직하고, 60중량% 이하가 보다 바람직하다. 지환기를 갖고 있는 (메타)아크릴레이트의 함유량을 상기 상한값 이하로 함으로써, (메타)아크릴계 폴리머(A1)의 분자량의 저하를 억제하고, 이것에 의해 내블로킹성이나 투명성이 뛰어난 하드 코트층을 형성할 수 있다.The content of the (meth) acrylate having an alicyclic group in the monomer composition (I) is preferably 80% by weight or less, and more preferably 60% by weight or less. By controlling the content of the (meth) acrylate having an alicyclic group to be not more than the upper limit, the lowering of the molecular weight of the (meth) acrylic polymer (A1) is suppressed and thereby the hard coat layer having excellent blocking resistance and transparency is formed .

글리시딜기를 갖는 중합체(I')에 카르복실기 및 광중합성기를 갖는 화합물을 부가한다. 카르복실기 및 광중합성기를 갖는 화합물로서는 에틸렌성 불포화 카르복실산 또는 그 무수물을 들 수 있다. 구체적으로는 아크릴산, 메타크릴산, ω-카르복시-폴리카프로락톤모노아크릴레이트, 프탈산 모노히드록시에틸아크릴레이트 등을 들 수 있고, 아크릴산, 메타크릴산이 바람직하다. 또한, 카르복실기 및 광중합성기를 갖는 화합물은 단독으로 사용되어도 좋고 2종 이상이 병용되어도 좋다. 이들 화합물이 갖고 있는 카르복실기와 중합체(I')가 갖고 있는 글리시딜기가 반응하여 에스테르 결합을 형성함과 아울러 새로운 수산기를 생성시킬 수 있다. 이것과 동시에 광중합성기의 도입을 행할 수 있다. 이에 따라, 측쇄에 광중합성기 및 수산기를 갖는 (메타)아크릴계 폴리머(A1)가 얻어진다.A compound having a carboxyl group and a photopolymerizable group is added to the polymer (I ') having a glycidyl group. Examples of the compound having a carboxyl group and a photopolymerizable group include an ethylenically unsaturated carboxylic acid or an anhydride thereof. Specific examples include acrylic acid, methacrylic acid, omega -carboxy-polycaprolactone monoacrylate, and phthalic acid monohydroxyethyl acrylate, and acrylic acid and methacrylic acid are preferable. The compounds having a carboxyl group and a photopolymerizable group may be used alone or in combination of two or more. The carboxyl group possessed by these compounds and the glycidyl group of the polymer (I ') react with each other to form an ester bond, and a new hydroxyl group can be produced. At the same time, the photopolymerizable group can be introduced. Thus, a (meth) acrylic polymer (A1) having a photopolymerizable group and a hydroxyl group in its side chain is obtained.

글리시딜기를 갖는 중합체(I')에 카르복실기 및 광중합성기를 갖는 화합물을 부가시킬 때, 중합체(I')의 제조에 사용한 글리시딜기를 갖는 라디칼 중합성 모노머 중의 글리시딜기에 대한, 카르복실기 및 광중합성기를 갖는 화합물 중의 카르복실기의 몰비(카르복실기의 몰수/글리시딜기의 몰수)는 0.3∼1.5가 바람직하고, 0.5∼1.2가 보다 바람직하고, 1.0이 특히 바람직하다. 몰비가 지나치게 낮으면 측쇄의 광중합성기가 적어지고, 그 때문에 하드 코트층의 경도가 저하될 우려가 있다. 몰비가 지나치게 높으면 미반응의 산이 잔존하고, 그 때문에 하드 코트층의 내수성이 저하되는 경우가 있다. 또한, 상술한 바와 같이 글리시딜기는 카르복실기와 반응해서 에스테르 결합을 형성함과 아울러 수산기를 생성한다. 따라서, 몰비를 조정함으로써 (메타)아크릴계 폴리머(A1)의 수산기가를 조정할 수 있다.When a compound having a carboxyl group and a photopolymerizable group is added to the polymer (I ') having a glycidyl group, the ratio of the carboxyl group and the glycidyl group to the glycidyl group in the radically polymerizable monomer having a glycidyl group used in the production of the polymer (I' The molar ratio of the carboxyl group (mole number of carboxyl group / mole number of glycidyl group) in the compound having a photopolymerizable group is preferably from 0.3 to 1.5, more preferably from 0.5 to 1.2, and particularly preferably 1.0. When the molar ratio is too low, the photopolymerizable group in the side chain is decreased, and the hardness of the hard coat layer may be lowered. If the molar ratio is excessively high, unreacted acid remains, and the water resistance of the hard coat layer may be lowered. Further, as described above, the glycidyl group reacts with the carboxyl group to form an ester bond, and also generates a hydroxyl group. Therefore, the hydroxyl value of the (meth) acrylic polymer (A1) can be adjusted by adjusting the molar ratio.

(메타)아크릴계 폴리머(A2)의 제조 방법(2)에 대해서 보다 구체적인 제조 방법의 일례를 설명한다. 수산기를 갖는 라디칼 중합성 모노머, 및 필요에 따라서 수산기를 갖고 있지 않은 알킬(메타)아크릴레이트를 함유하는 모노머 조성물(II)을 라디칼 중합 개시제의 존재 하에서 반응 용기 중에서 라디칼 중합함으로써, 수산기를 갖는 중합체(II')를 제조한다. 이어서, 이소시아네이트기 및 광중합성기를 갖는 화합물, 및 필요에 따라서 촉매를 반응 용기 중에 첨가한다. 또한, 필요에 따라서 반응 용기 중에 p-메톡시페놀, 하이드로퀴논(HQ) 등의 중합 금지제를 첨가해도 좋다. 그런 뒤, 반응 용기 중에 필요에 따라서 산소를 취입하면서, 예를 들면 반응액을 30∼150℃가 되도록 제어하면서 6∼12시간에 걸쳐서 반응시킴으로써, 측쇄에 광중합성기 및 수산기를 갖는 (메타)아크릴계 폴리머(A2)를 제조할 수 있다.An example of a more specific production method for the production method (2) of the (meth) acrylic polymer (A2) will be described. (II) containing a hydroxyl group-containing radical polymerizable monomer and, if necessary, an alkyl (meth) acrylate having no hydroxyl group, in a reaction vessel in the presence of a radical polymerization initiator to obtain a polymer having a hydroxyl group II '). Then, a compound having an isocyanate group and a photopolymerizable group, and, if necessary, a catalyst are added to the reaction vessel. If necessary, polymerization inhibitors such as p-methoxyphenol and hydroquinone (HQ) may be added to the reaction vessel. Thereafter, the reaction solution is allowed to react for 6 to 12 hours while controlling the reaction liquid to be at 30 to 150 占 폚 while blowing oxygen into the reaction vessel if necessary, whereby a (meth) acrylic polymer having a photopolymerizable group and a hydroxyl group (A2) can be produced.

수산기를 갖는 라디칼 중합성 모노머로서는, 수산기를 갖는 알킬(메타)아크릴레이트, 아크릴산 N-히드록시메틸아미드, 메타크릴산 N-히드록시메틸아미드, 4-히드록시메틸시클로헥실(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있고, 수산기를 갖는 알킬(메타)아크릴레이트가 바람직하고, 알킬기에 수산기를 갖는 알킬(메타)아크릴레이트가 보다 바람직하다. 수산기를 갖는 알킬(메타)아크릴레이트로서는, 예를 들면 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 3-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 2-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 6-히드록시헥실(메타)아크릴레이트, 8-히드록시옥틸(메타)아크릴레이트, 10-히드록시데실(메타)아크릴레이트, 12-히드록시라우릴(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 또한, 수산기를 갖는 라디칼 중합성 모노머는 단독으로 사용되어도 좋고 2종 이상이 병용되어도 좋다.Examples of the radically polymerizable monomer having a hydroxyl group include alkyl (meth) acrylates having a hydroxyl group, acrylic acid N-hydroxymethylamide, methacrylic acid N-hydroxymethylamide, 4-hydroxymethylcyclohexyl (meth) (Meth) acrylate having a hydroxyl group is preferable, and alkyl (meth) acrylate having a hydroxyl group in the alkyl group is more preferable. Examples of the alkyl (meth) acrylate having a hydroxyl group include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) (Meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 6-hydroxyhexyl (meth) acrylate, 8-hydroxyoctyl Acrylate, and 12-hydroxylauryl (meth) acrylate. The radically polymerizable monomer having a hydroxyl group may be used singly or two or more kinds thereof may be used in combination.

수산기를 갖는 라디칼 중합성 모노머로서는, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트가 바람직하고, 2-히드록시에틸메타크릴레이트(2-HEMA)가 보다 바람직하다. 수산기를 갖는 라디칼 중합성 모노머를 사용함으로써, (메타)아크릴계 폴리머(A2)의 수산기가를 용이하게 조정할 수 있다.As the radically polymerizable monomer having a hydroxyl group, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate is preferable, and 2-hydroxyethyl methacrylate (2-HEMA) is more preferable. By using a radically polymerizable monomer having a hydroxyl group, the hydroxyl value of the (meth) acrylic polymer (A2) can be easily adjusted.

모노머 조성물(II) 중에 있어서의 수산기를 갖는 라디칼 중합성 모노머의 함유량은 10∼90중량%가 바람직하고, 20∼80중량%가 보다 바람직하다. 수산기를 갖는 라디칼 중합성 모노머의 함유량을 상기 하한값 이상으로 함으로써, 가교 밀도가 높고 또한 뛰어난 경도를 갖는 하드 코트층을 형성할 수 있다. 또한, 수산기를 갖는 라디칼 중합성 모노머의 함유량을 상기 하한값 이상으로 함으로써, 무기 입자(B)나 유기 입자(C)를 고분산시키고, 이것에 의해 하드 코트층의 투명성이나 인쇄성을 향상시킬 수도 있다. 한편, 수산기를 갖는 라디칼 중합성 모노머의 함유량을 상기 상한값 이하로 함으로써, 무기 입자(B)나 유기 입자(C)의 응집에 의한 하드 코트층의 투명성의 저하를 억제할 수 있다.The content of the radically polymerizable monomer having a hydroxyl group in the monomer composition (II) is preferably from 10 to 90% by weight, and more preferably from 20 to 80% by weight. By setting the content of the radically polymerizable monomer having a hydroxyl group to the lower limit value or more, a hard coat layer having a high crosslinking density and excellent hardness can be formed. The inorganic particles (B) and the organic particles (C) are highly dispersed by setting the content of the radically polymerizable monomer having a hydroxyl group to the lower limit value or more, thereby improving the transparency and printing property of the hard coat layer . On the other hand, by setting the content of the radically polymerizable monomer having a hydroxyl group to be not more than the upper limit value, deterioration of transparency of the hard coat layer due to agglomeration of the inorganic particles (B) and the organic particles (C) can be suppressed.

모노머 조성물(II)은 수산기를 갖고 있지 않은 알킬(메타)아크릴레이트를 더 포함하고 있는 것이 바람직하다. 수산기를 갖고 있지 않은 알킬(메타)아크릴레이트로서 구체적으로는, 상술한 (1)의 방법에 있어서의 글리시딜기를 갖고 있지 않은 알킬(메타)아크릴레이트와 마찬가지인 것을 들 수 있다. 그 중에서도 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 프로필(메타)아크릴레이트, 및 부틸(메타)아크릴레이트가 바람직하다.It is preferable that the monomer composition (II) further contains an alkyl (meth) acrylate having no hydroxyl group. Specific examples of the alkyl (meth) acrylate not having a hydroxyl group include the same alkyl (meth) acrylates having no glycidyl group in the above-mentioned method (1). Among these, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, and butyl (meth) acrylate are preferable.

모노머 조성물(II) 중에 있어서의 수산기를 갖고 있지 않은 알킬(메타)아크릴레이트의 함유량은 10∼90중량%가 바람직하고, 20∼80중량%가 보다 바람직하다. 수산기를 갖고 있지 않은 알킬(메타)아크릴레이트의 함유량을 상기 하한값 이상으로 함으로써, 무기 입자(B)나 유기 입자(C)의 응집에 의한 하드 코트층의 투명성의 저하를 억제할 수 있다. 한편, 수산기를 갖고 있지 않은 알킬(메타)아크릴레이트의 함유량을 상기 상한값 이하로 함으로써, 무기 입자(B)나 유기 입자(C)를 고분산시켜서 하드 코트층의 투명성이나 인쇄성을 향상시킬 수 있다. 또한, 수산기를 갖고 있지 않은 알킬(메타)아크릴레이트의 함유량을 상기 상한값 이하로 함으로써, 가교 밀도가 높고 또한 뛰어난 경도를 갖는 하드 코트층을 형성할 수 있다.The content of the alkyl (meth) acrylate having no hydroxyl group in the monomer composition (II) is preferably from 10 to 90% by weight, and more preferably from 20 to 80% by weight. When the content of the alkyl (meth) acrylate having no hydroxyl group is set to the lower limit value or more, deterioration of transparency of the hard coat layer due to agglomeration of the inorganic particles (B) and the organic particles (C) can be suppressed. On the other hand, by setting the content of the alkyl (meth) acrylate having no hydroxyl group to the upper limit value or less, the inorganic particles (B) and the organic particles (C) are highly dispersed to improve the transparency and printability of the hard coat layer . By setting the content of the alkyl (meth) acrylate having no hydroxyl group to the upper limit value or less, a hard coat layer having a high crosslinking density and excellent hardness can be formed.

모노머 조성물(II)은 지환기를 갖고 있는 (메타)아크릴레이트를 포함하고 있어도 좋다. 지환기를 갖고 있는 (메타)아크릴레이트로서 구체적으로는, 상술한 (1)의 방법에 있어서의 지환기를 갖고 있는 (메타)아크릴레이트와 마찬가지인 것을 들 수 있다.The monomer composition (II) may contain (meth) acrylate having an alicyclic group. Specific examples of the (meth) acrylate having an alicyclic group include the same as those of the (meth) acrylate having an alicyclic group in the above-mentioned method (1).

모노머 조성물(II) 중에 있어서의 지환기를 갖고 있는 (메타)아크릴레이트의 함유량은 80중량% 이하가 바람직하고, 60중량% 이하가 보다 바람직하다. 지환기를 갖고 있는 (메타)아크릴레이트의 함유량을 상기 상한값 이하로 함으로써, (메타)아크릴계 폴리머(A2)의 분자량의 저하를 억제하고, 이것에 의해 내블로킹성이나 투명성이 뛰어난 하드 코트층을 형성할 수 있다.The content of the (meth) acrylate having an alicyclic group in the monomer composition (II) is preferably 80% by weight or less, and more preferably 60% by weight or less. By lowering the content of the (meth) acrylate having an alicyclic group to the upper limit value or less, the lowering of the molecular weight of the (meth) acrylic polymer (A2) is suppressed and thereby the hard coat layer having excellent blocking resistance and transparency is formed .

중합체(II')에 이소시아네이트기 및 광중합성기를 갖는 화합물을 부가시킨다. 중합체(II')가 갖고 있는 수산기의 일부에 이소시아네이트기 및 광중합성기를 갖는 화합물을 부가함으로써, 측쇄에 수산기 및 광중합성기를 갖고 있는 (메타)아크릴계 폴리머(A2)가 얻어진다.A compound having an isocyanate group and a photopolymerizable group is added to the polymer (II '). By adding a compound having an isocyanate group and a photopolymerizable group to a part of the hydroxyl groups of the polymer (II '), a (meth) acrylic polymer (A2) having a hydroxyl group and a photopolymerizable group in the side chain is obtained.

이소시아네이트기 및 광중합성기를 갖는 화합물로서는, 예를 들면 2-이소시아나토에틸메타크릴레이트[예를 들면, 쇼와 덴코(주) 제의 상품명 「카렌즈 MOI」 등], 1,1-(비스아크릴로일옥시메틸)에틸이소시아네이트[예를 들면, 쇼와 덴코(주) 제의 상품명 「카렌즈 BEI」 등), 2-이소시아나토에틸아크릴레이트[예를 들면, 쇼와 덴코(주) 제의 상품명 「카렌즈 AOI」 등], (메타)아크릴로일기가 탄소수 2∼6의 알킬렌기를 통해서 이소시아네이트기와 결합한 (메타)아크릴로일이소시아네이트, 및 이것들의 유도체 등을 들 수 있다. (메타)아크릴로일이소시아네이트로서는, 예를 들면 2-메타크릴로일옥시에틸이소시아네이트 등을 들 수 있다.Examples of the compound having an isocyanate group and a photopolymerizable group include 2-isocyanatoethyl methacrylate (for example, trade name "CALENSE MOI" manufactured by Showa Denko K.K.), 1,1- Acryloyloxymethyl) ethyl isocyanate (for example, trade name "CALENZ BEI" manufactured by Showa Denko K.K.), 2-isocyanatoethyl acrylate [for example, available from Showa Denko K.K. , (Meth) acryloyl isocyanate in which the (meth) acryloyl group is bonded to an isocyanate group through an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms, and derivatives thereof. Examples of the (meth) acryloyl isocyanate include 2-methacryloyloxyethyl isocyanate and the like.

유도체로서는, 예를 들면 블록제로 마스킹한 이소시아네이트기를 갖는 (메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 구체예로서는, 메타크릴산 2-(O-[1'-메틸프로필리덴아미노]카르복시아미노)에틸[예를 들면, 쇼와 덴코(주) 제의 상품명 「카렌즈 MOI-BM」 등], 2-[(3,5-디메틸피라졸릴)카르보닐아미노]에틸메타크릴레이트[예를 들면, 쇼와 덴코(주) 제의 상품명 「카렌즈 MOI-BP」 등] 등을 들 수 있다. 또한, 이소시아네이트기 및 광중합성기를 갖는 화합물은 단독으로 사용되어도 좋고 2종 이상이 병용되어도 좋다. 그 중에서도 2-이소시아나토에틸메타크릴레이트가 바람직하다.As the derivative, for example, (meth) acrylate having an isocyanate group masked with a block group can be given. Specific examples thereof include methacrylic acid 2- (O- [1'-methylpropylideneamino] carboxyamino) ethyl [for example, trade name "CALENSE MOI-BM" manufactured by Showa Denko Co., [(3,5-dimethylpyrazolyl) carbonylamino] ethyl methacrylate [for example, trade name "CALENS MOI-BP" manufactured by Showa Denko Co., Ltd.] and the like. The compounds having an isocyanate group and a photopolymerizable group may be used alone, or two or more of them may be used in combination. Among them, 2-isocyanatoethyl methacrylate is preferable.

수산기를 갖는 중합체(II')에 이소시아네이트기 및 광중합성기를 갖는 화합물을 첨가함에 있어서, 중합체(II')의 제조에 사용한 수산기를 갖는 라디칼 중합성 모노머 중의 수산기(-OH)의 몰수에 대한, 이소시아네이트기(-NCO)의 몰수의 비율(-NCO/-OH)은 0.05∼0.9가 바람직하고, 0.1∼0.9가 보다 바람직하다. 또한, 몰비를 조정함으로써도 (메타)아크릴계 폴리머(A2)의 수산기가를 조정할 수 있다.In the addition of the compound having an isocyanate group and a photopolymerizable group to the polymer (II ') having a hydroxyl group, the ratio of the number of moles of the hydroxyl group (-OH) in the radically polymerizable monomer having a hydroxyl group used in the production of the polymer (II' The ratio (-NCO / -OH) of the number of moles of the group (-NCO) is preferably 0.05 to 0.9, more preferably 0.1 to 0.9. The hydroxyl value of the (meth) acrylic polymer (A2) can also be adjusted by adjusting the molar ratio.

(메타)아크릴계 폴리머(A3)의 제조 방법(3)에 대해서 보다 구체적인 제조 방법의 일례를 설명한다. 카르복실기를 갖는 라디칼 중합성 모노머, 및 필요에 따라서 카르복실기를 갖고 있지 않은 알킬(메타)아크릴레이트를 함유하는 모노머 조성물(III)을 라디칼 중합 개시제의 존재 하에서 반응 용기 중에서 라디칼 중합함으로써, 중합체(III')를 제조한다. 이어서, 글리시딜기 및 광중합성기를 갖는 화합물, 및 필요에 따라서 촉매를 반응 용기 중에 첨가한다. 또한, 필요에 따라서 반응 용기 중에 p-메톡시페놀, 하이드로퀴논(HQ) 등의 중합 금지제를 첨가해도 좋다. 그런 뒤, 반응 용기 중에 필요에 따라서 산소를 취입하면서, 예를 들면 반응액을 30∼150℃가 되도록 제어하면서 6∼12시간에 걸쳐서 반응시킴으로써, 측쇄에 광중합성기 및 수산기를 갖는 (메타)아크릴계 폴리머(A3)를 제조할 수 있다.An example of a more specific production method for the production method (3) of the (meth) acrylic polymer (A3) will be described. (III ') by radical polymerization in the presence of a radical polymerization initiator in the presence of a radically polymerizable monomer having a carboxyl group and, if necessary, an alkyl (meth) acrylate having no carboxyl group, . Then, a compound having a glycidyl group and a photopolymerizable group, and, if necessary, a catalyst are added to the reaction vessel. If necessary, polymerization inhibitors such as p-methoxyphenol and hydroquinone (HQ) may be added to the reaction vessel. Thereafter, the reaction solution is allowed to react for 6 to 12 hours while controlling the reaction liquid to be at 30 to 150 占 폚 while blowing oxygen into the reaction vessel if necessary, whereby a (meth) acrylic polymer having a photopolymerizable group and a hydroxyl group (A3) can be produced.

상기 (3)의 방법에 있어서 사용되는 카르복실기를 갖는 라디칼 중합성 모노머로서는, 에틸렌성 불포화 카르복실산 또는 그 무수물을 들 수 있다. 구체적으로는 아크릴산, 메타크릴산, 이타콘산, 말레산, 푸말산 등의 α,β-불포화 카르복실산 또는 그 염; ω-카르복시-폴리카프로락톤모노아크릴레이트, 프탈산 모노히드록시에틸아크릴레이트 등을 들 수 있고, 아크릴산 및 메타크릴산이 바람직하다. 또한, 카르복실기를 갖는 라디칼 중합성 모노머는 단독으로 사용되어도 좋고 2종 이상이 병용되어도 좋다.Examples of the radically polymerizable monomer having a carboxyl group used in the method (3) include an ethylenically unsaturated carboxylic acid or an anhydride thereof. Specifically,?,? - unsaturated carboxylic acids or salts thereof such as acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, maleic acid, and fumaric acid; ω-carboxy-polycaprolactone monoacrylate, phthalic acid monohydroxyethyl acrylate, and the like, and acrylic acid and methacrylic acid are preferable. Further, the radical polymerizable monomer having a carboxyl group may be used alone, or two or more kinds thereof may be used in combination.

모노머 조성물(III) 중에 있어서의 카르복실기를 갖는 라디칼 중합성 모노머의 함유량은 10∼90중량%가 바람직하고, 20∼80중량%가 보다 바람직하다. 카르복실기를 갖는 라디칼 중합성 모노머의 함유량을 상기 하한값 이상으로 함으로써, 가교 밀도가 높고 또한 뛰어난 경도를 갖는 하드 코트층을 형성할 수 있다. 또한, 카르복실기를 갖는 라디칼 중합성 모노머의 함유량을 상기 상한값 이하로 함으로써, (메타)아크릴계 폴리머의 합성시에 있어서의 겔화를 억제할 수 있다.The content of the radically polymerizable monomer having a carboxyl group in the monomer composition (III) is preferably from 10 to 90% by weight, and more preferably from 20 to 80% by weight. By setting the content of the radically polymerizable monomer having a carboxyl group to the lower limit value or more, a hard coat layer having a high crosslinking density and an excellent hardness can be formed. In addition, gelation at the time of synthesis of the (meth) acrylic polymer can be suppressed by setting the content of the radically polymerizable monomer having a carboxyl group to the upper limit value or less.

모노머 조성물(III)은 카르복실기를 갖고 있지 않은 알킬(메타)아크릴레이트를 더 포함하고 있는 것이 바람직하다. 카르복실기를 갖고 있지 않은 알킬(메타)아크릴레이트로서 구체적으로는, 상술한 (1)의 방법에 있어서의 글리시딜기를 갖고 있지 않은 알킬(메타)아크릴레이트와 마찬가지인 것을 들 수 있다.The monomer composition (III) preferably further contains an alkyl (meth) acrylate having no carboxyl group. Specific examples of the alkyl (meth) acrylate having no carboxyl group include the same alkyl (meth) acrylates having no glycidyl group in the above-mentioned method (1).

모노머 조성물(III) 중에 있어서의 카르복실기를 갖고 있지 않은 알킬(메타)아크릴레이트의 함유량은 10∼90중량%가 바람직하고, 20∼80중량%가 보다 바람직하다. 카르복실기를 갖고 있지 않은 알킬(메타)아크릴레이트의 함유량을 상기 하한값 이상으로 함으로써, (메타)아크릴계 폴리머의 합성시에 있어서의 겔화를 억제할 수 있다. 또한, 카르복실기를 갖고 있지 않은 알킬(메타)아크릴레이트의 함유량을 상기 상한값 이하로 함으로써, 가교 밀도가 높고 또한 뛰어난 경도를 갖는 하드 코트층을 형성할 수 있다.The content of the alkyl (meth) acrylate having no carboxyl group in the monomer composition (III) is preferably from 10 to 90% by weight, and more preferably from 20 to 80% by weight. By setting the content of the alkyl (meth) acrylate having no carboxyl group to the lower limit value or more, the gelation in the synthesis of the (meth) acrylic polymer can be suppressed. By setting the content of the alkyl (meth) acrylate having no carboxyl group to the upper limit value or less, a hard coat layer having a high crosslinking density and excellent hardness can be formed.

모노머 조성물(III)은 수산기를 갖고 있는 알킬(메타)아크릴레이트를 포함하고 있어도 좋다. 수산기를 갖고 있는 알킬(메타)아크릴레이트로서 구체적으로는, 상술한 (1)의 방법에 있어서의 수산기를 갖는 알킬(메타)아크릴레이트와 마찬가지인 것을 들 수 있다. 수산기를 갖는 알킬(메타)아크릴레이트를 사용함으로써, (메타)아크릴계 폴리머(A3)의 수산기가를 조정할 수 있다.The monomer composition (III) may contain an alkyl (meth) acrylate having a hydroxyl group. Specific examples of the alkyl (meth) acrylate having a hydroxyl group include the same alkyl (meth) acrylates having a hydroxyl group in the above-mentioned method (1). By using an alkyl (meth) acrylate having a hydroxyl group, the hydroxyl value of the (meth) acrylic polymer (A3) can be adjusted.

모노머 조성물(III) 중에 있어서의 수산기를 갖는 알킬(메타)아크릴레이트의 함유량은 90중량% 이하가 바람직하고, 80중량% 이하가 보다 바람직하고, 10∼90중량%가 특히 바람직하고, 20∼80중량%가 가장 바람직하다. 수산기를 갖는 알킬(메타)아크릴레이트의 함유량을 상기 하한값 이상으로 함으로써, 무기 입자(B)나 유기 입자(C)를 고분산시켜서 하드 코트층의 투명성이나 인쇄성을 향상시킬 수 있다. 한편, 수산기를 갖는 알킬(메타)아크릴레이트의 함유량을 상기 상한값 이하로 함으로써, 무기 입자(B) 및 유기 입자(C)의 응집에 의한 하드 코트층의 투명성의 저하를 억제할 수 있다.The content of the alkyl (meth) acrylate having a hydroxyl group in the monomer composition (III) is preferably 90% by weight or less, more preferably 80% by weight or less, particularly preferably 10 to 90% by weight, % By weight is most preferred. By setting the content of the alkyl (meth) acrylate having a hydroxyl group to the lower limit value or more, the inorganic particles (B) and the organic particles (C) can be highly dispersed to improve the transparency and printability of the hard coat layer. On the other hand, by lowering the content of the alkyl (meth) acrylate having a hydroxyl group to the upper limit value or less, deterioration of transparency of the hard coat layer due to aggregation of the inorganic particles (B) and the organic particles (C) can be suppressed.

모노머 조성물(III)은 지환기를 갖고 있는 (메타)아크릴레이트를 포함하고 있어도 좋다. 지환기를 갖고 있는 (메타)아크릴레이트로서 구체적으로는, 상술한 (1)의 방법에 있어서의 지환기를 갖고 있는 (메타)아크릴레이트와 마찬가지인 것을 들 수 있다.The monomer composition (III) may contain (meth) acrylate having an alicyclic group. Specific examples of the (meth) acrylate having an alicyclic group include the same as those of the (meth) acrylate having an alicyclic group in the above-mentioned method (1).

모노머 조성물(III) 중에 있어서의 지환기를 갖고 있는 (메타)아크릴레이트의 함유량은 80중량% 이하가 바람직하고, 60중량% 이하가 보다 바람직하다. 지환기를 갖고 있는 (메타)아크릴레이트의 함유량을 상기 상한값 이하로 함으로써, (메타)아크릴계 폴리머(A3)의 분자량의 저하를 억제하고, 이것에 의해 내블로킹성이나 투명성이 뛰어난 하드 코트층을 형성할 수 있다.The content of the (meth) acrylate having an alicyclic group in the monomer composition (III) is preferably 80% by weight or less, and more preferably 60% by weight or less. By lowering the content of the (meth) acrylate having an alicyclic group to the upper limit value or less, the lowering of the molecular weight of the (meth) acrylic polymer (A3) is suppressed, thereby forming a hard coat layer excellent in blocking resistance and transparency .

중합체(III')에 글리시딜기 및 광중합성기를 갖는 화합물을 부가시킨다. 중합체(III')가 갖고 있는 카르복실기와, 상기 화합물이 갖고 있는 글리시딜기가 반응하여 에스테르 결합을 형성함과 아울러 새로운 수산기를 생성시킬 수 있다. 이것과 동시에 광중합성기의 도입을 행할 수 있다. 이에 따라, 측쇄에 비닐기 등의 광중합성기 및 수산기를 갖는 (메타)아크릴계 폴리머(A3)가 얻어진다.A compound having a glycidyl group and a photopolymerizable group is added to the polymer (III '). The carboxyl group of the polymer (III ') and the glycidyl group of the compound react with each other to form an ester bond, and a new hydroxyl group can be produced. At the same time, the photopolymerizable group can be introduced. Thus, a (meth) acryl-based polymer (A3) having a photopolymerizable group such as a vinyl group and a hydroxyl group in the side chain is obtained.

글리시딜기 및 광중합성기를 갖는 화합물로서, 구체적으로는 글리시딜(메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메타)아크릴레이트글리시딜에테르, 및 알릴글리시딜에테르 등을 들 수 있지만, 글리시딜(메타)아크릴레이트가 바람직하다. 또한, 글리시딜기 및 광중합성기를 갖는 화합물은 단독으로 사용되어도 좋고 2종 이상이 병용되어도 좋다.Specific examples of the compound having a glycidyl group and a photopolymerizable group include glycidyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate glycidyl ether, and allyl glycidyl ether. Glycidyl (meth) acrylate is preferred. The compounds having a glycidyl group and a photopolymerizable group may be used alone or in combination of two or more.

글리시딜기를 갖는 중합체(III')에 글리시딜기 및 광중합성기를 갖는 화합물을 부가시킬 때, 중합체(III')의 제조에 사용한 카르복실기를 갖는 라디칼 중합성 모노머 중의 카르복실기에 대한, 글리시딜기 및 광중합성기를 갖는 화합물 중의 글리시딜기의 몰비(글리시딜기의 몰수/카르복실기의 몰수)는 0.3∼1.5가 바람직하고, 0.5∼1.2가 보다 바람직하고, 1.0이 더욱 바람직하다. 상술한 바와 같이, 글리시딜기는 카르복실기와 반응하여 에스테르 결합을 형성함과 아울러 수산기를 생성한다. 따라서, 상기 몰비를 조정함으로써 (메타)아크릴계 폴리머(A3)의 수산기가를 조정할 수 있다.When a compound having a glycidyl group and a photopolymerizable group is added to the polymer (III ') having a glycidyl group, the glycidyl group and the glycidyl group for the carboxyl group in the radically polymerizable monomer having a carboxyl group used for preparing the polymer (III' The molar ratio of the glycidyl group (mole number of glycidyl group / mole number of carboxyl group) in the compound having a photopolymerizable group is preferably from 0.3 to 1.5, more preferably from 0.5 to 1.2, still more preferably 1.0. As described above, the glycidyl group reacts with the carboxyl group to form an ester bond, and also forms a hydroxyl group. Therefore, the hydroxyl value of the (meth) acrylic polymer (A3) can be adjusted by adjusting the molar ratio.

상술한 (1)∼(3)의 방법에서는 모노머 조성물 (I), (II) 또는 (III)을 라디칼 중합 개시제의 존재 하에서 라디칼 중합시킨다. 라디칼 중합 개시제로서는 라디칼 중합에 있어서 범용되는 것이 사용된다. 라디칼 중합 개시제로서, 예를 들면 벤조일퍼옥시드, 라우로일퍼옥시드, 카프로일퍼옥시드, t-헥실퍼옥시네오데카네이트, t-부틸퍼옥시피발레이트 등의 유기 과산화물; 2,2-아조비스-이소부티로니트릴, 2,2-아조비스-2,4-디메틸발레로니트릴, 2,2-아조비스-4-메톡시-2,4-디메틸발레로니트릴, 아조비스-2-메틸부티로니트릴[니혼히드라진 코교(주) 제의 상품명 「ABN-E」] 등의 아조 화합물을 들 수 있고, 아조 화합물이 바람직하다. 또한, 라디칼 중합 개시제는 단독으로 사용되어도 좋고 2종 이상이 병용되어도 좋다.In the above methods (1) to (3), the monomer composition (I), (II) or (III) is subjected to radical polymerization in the presence of a radical polymerization initiator. As the radical polymerization initiator, those generally used in radical polymerization are used. Examples of the radical polymerization initiator include organic peroxides such as benzoyl peroxide, lauroyl peroxide, caproyl peroxide, t-hexyl peroxyneodecanate and t-butyl peroxy pivalate; Azobis-isobutyronitrile, 2,2-azobis-2,4-dimethylvaleronitrile, 2,2-azobis-4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile, azo Azo compounds such as bis-2-methylbutyronitrile (trade name " ABN-E ", manufactured by Nihon Hydrazine Coatings Co., Ltd.) and azo compounds are preferable. The radical polymerization initiator may be used alone or in combination of two or more.

모노머 조성물 (I), (II) 및 (III)의 각 중합 방법으로서는 범용의 방법이 사용되지만, 유화 중합(현탁 중합을 포함함) 및 용액 중합이 바람직하다.As the polymerization methods of the monomer compositions (I), (II) and (III), a general method is used, but emulsion polymerization (including suspension polymerization) and solution polymerization are preferred.

유화 중합 및 용액 중합에서는 용제 중에서 모노머 조성물 (I), (II) 또는 (III)을 중합시킨다. 용제로서는 상기한 각 모노머에 대하여 안정적이면 특별하게 제한되지 않고, 예를 들면 헥산, 미네랄 스피릿 등의 석유계 탄화수소 용제; 벤젠, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소계 용제; 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 디이소부틸케톤, 시클로헥산온 등의 케톤계 용제; 아세트산 메틸, 아세트산 에틸, 아세트산 부틸, γ-부티로락톤, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 등의 에스테르계 용제; N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, 디메틸술폭시드, N-메틸피롤리돈, 피리딘 등의 비프로톤성 극성 용제 등을 들 수 있다. 용제는 단독으로 사용되어도 좋고, 2종 이상이 병용되어도 좋다. 또한, 용제의 배합 비율은 특별하게 제한되지 않고, 목적 및 용도에 따라서 적당하게 설정된다.In emulsion polymerization and solution polymerization, the monomer composition (I), (II) or (III) is polymerized in a solvent. The solvent is not particularly limited as long as it is stable with respect to each of the monomers described above, and examples thereof include petroleum hydrocarbon solvents such as hexane and mineral spirit; Aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene and xylene; Ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, diisobutyl ketone, and cyclohexanone; Ester solvents such as methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate,? -Butyrolactone and propylene glycol monomethyl ether acetate; And aprotic polar solvents such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, N-methylpyrrolidone and pyridine. The solvent may be used alone, or two or more solvents may be used in combination. The mixing ratio of the solvent is not particularly limited and is suitably set according to the purpose and use.

또한, 용제는 시판품을 사용할 수도 있다. 구체적으로는, 석유계 탄화수소 용제로서는 신니혼세키유사 제 AF 솔벤트 4∼7호 등을 들 수 있다. 방향족 탄화수소계 용제로서, 신니혼세키유사 제 잉크 솔벤트 0호, 엑슨 화학사 제의 솔벳소 100, 150, 200 등을 들 수 있다.Commercially available products may also be used as the solvent. Specific examples of the petroleum hydrocarbon solvent include Shin-Nippon Seki Chemical Co., Ltd., AF Solvent No. 4 to No. 7. Examples of the aromatic hydrocarbon solvents include Shin-Nippon Seki KK Ink Solvent No. 0, and Exxon Chemical Solvesso 100, 150, 200 and the like.

상술한 (1)∼(3)의 방법에서는 각 반응기 중에 촉매를 첨가하는 것이 바람직하다. 촉매로서는, 예를 들면 디부틸주석디라우레이트, 디옥틸주석라우레이트, 디옥틸주석디라우레이트, 트리페닐포스핀, 비스무트계 촉매 등을 들 수 있다.In the above-mentioned methods (1) to (3), it is preferable to add a catalyst in each reactor. Examples of the catalyst include dibutyltin dilaurate, dioctyltin laurate, dioctyltin dilaurate, triphenylphosphine, and bismuth-based catalysts.

(메타)아크릴계 폴리머(A)의 수산기가는 10∼350㎎KOH/g에 한정되지만, 30∼330㎎KOH/g이 바람직하고, 50∼300㎎KOH/g이 보다 바람직하다. 수산기가가 상기 하한값 이상인 (메타)아크릴계 폴리머(A)에 의하면, 하드 코트층이 뛰어난 인쇄성을 부여할 수 있다. 또한, 수산기가가 상기 범위 내인 (메타)아크릴계 폴리머(A)에 의하면, 무기 입자(B)나 유기 입자(C)를 높게 분산시킬 수 있고, 이것에 의해 무기 입자(B)나 유기 입자(C)의 첨가에 의한 하드 코트층의 투명성의 저하를 억제할 수 있다. 또한, (메타)아크릴계 폴리머(A)의 수산기가는 후술하는 실시예에 기재된 방법에 의해 측정할 수 있다.The hydroxyl group value of the (meth) acrylic polymer (A) is limited to 10 to 350 mgKOH / g, but is preferably 30 to 330 mgKOH / g, more preferably 50 to 300 mgKOH / g. (Meth) acrylic polymer (A) having a hydroxyl value of at least the lower limit value, the hard coat layer can provide excellent printability. The inorganic particles B and the organic particles C can be highly dispersed by the (meth) acrylic polymer (A) having a hydroxyl value within the above range, ) Can be suppressed from lowering the transparency of the hard coat layer. The hydroxyl value of the (meth) acryl-based polymer (A) can be measured by the method described in the following Examples.

(메타)아크릴계 폴리머(A)의 (메타)아크릴 당량은 100∼800g/eq에 한정되지만, 200∼700g/eq가 바람직하고, 300∼600g/eq가 보다 바람직하다. (메타)아크릴 당량이 상기 상한값 이하인 (메타)아크릴계 폴리머(A)에 의하면, 높은 경도를 갖는 하드 코트층을 형성할 수 있다. 또한, (메타)아크릴 당량이 상기 범위 내인 (메타)아크릴계 폴리머(A)에 의하면, 무기 입자(B)나 유기 입자(C)를 높게 분산시킬 수 있고, 이것에 의해 무기 입자(B)나 유기 입자(C)의 첨가에 의한 하드 코트층의 투명성의 저하를 억제할 수 있다.The (meth) acrylic equivalent of the (meth) acrylic polymer (A) is limited to 100 to 800 g / eq, but is preferably 200 to 700 g / eq, more preferably 300 to 600 g / eq. (A) having a (meth) acrylic equivalent of not more than the upper limit value can form a hard coat layer having a high hardness. The (meth) acrylic polymer (A) having a (meth) acryl equivalent in the above range can highly disperse the inorganic particles (B) and the organic particles (C) The deterioration of the transparency of the hard coat layer due to the addition of the particles (C) can be suppressed.

(메타)아크릴계 폴리머(A)의 (메타)아크릴 당량이란, (메타)아크릴계 폴리머(A)가 갖고 있는 (메타)아크릴로일기 1몰당의 (메타)아크릴계 폴리머(A)의 그램수를 의미한다.The (meth) acrylic equivalent of the (meth) acrylic polymer (A) means the number of grams of the (meth) acrylic polymer (A) per mole of the (meth) acryloyl group of the (meth) acrylic polymer .

(메타)아크릴계 폴리머(A)의 (메타)아크릴 당량은 (메타)아크릴계 폴리머(A)의 원료인 모노머 조성으로부터, 하기 식(I)에 의해 산출할 수 있다.(Meth) acrylic equivalent of the (meth) acrylic polymer (A) can be calculated from the monomer composition which is the raw material of the (meth) acrylic polymer (A) by the following formula (I).

Figure 112016025627193-pct00001
Figure 112016025627193-pct00001

[식 중,[Wherein,

(메타)아크릴계 폴리머(A)의 원료에 사용한 모노머의 전체 사용량(g)을 「W」라고 하고,(G) of the monomer used for the raw material of the (meth) acrylic polymer (A) is referred to as " W &

(메타)아크릴계 폴리머(A)의 합성시에 있어서, 최종적으로 얻어지는 (메타)아크릴계 폴리머(A)의 주쇄에 측쇄로서 (메타)아크릴로일기를 도입하기 위해서 사용된 모노머 중에서 임의로 선택된 모노머의 몰수(㏖)를 「M」이라고 하고, 임의로 선택된 상기 모노머 1분자당의 (메타)아크릴로일기의 개수를 「N」이라고 하고,(A) in the synthesis of the (meth) acrylic polymer (A), the number of moles of the monomer optionally selected from the monomers used for introducing the (meth) acryloyl group as the side chain Mol) is referred to as " M ", and the number of (meth) acryloyl groups per molecule of the monomer selected arbitrarily is referred to as "

(메타)아크릴계 폴리머(A)의 합성시에 있어서, 최종적으로 얻어지는 (메타)아크릴계 폴리머(A)의 주쇄에 측쇄로서 (메타)아크릴로일기를 도입하기 위해서 사용된 모노머종의 수를 「k」라고 한다.]The number of monomer species used for introducing a (meth) acryloyl group as a side chain in the main chain of the finally obtained (meth) acrylic polymer (A) in the synthesis of the (meth) acrylic polymer (A) It is said.]

(메타)아크릴계 폴리머(A)의 중량 평균 분자량은 10,000∼200,000에 한정되지만, 30,000∼170,000이 바람직하고, 50,000∼150,000이 보다 바람직하고, 65,000∼150,000이 특히 바람직하다. 중량 평균 분자량이 상기 범위 내인 (메타)아크릴계 폴리머(A)는 무기 입자(B) 및 유기 입자(C)를 높게 분산시킬 수 있어, 내블로킹성 및 투명성이 뛰어난 하드 코드층을 형성할 수 있다.The weight average molecular weight of the (meth) acrylic polymer (A) is limited to 10,000 to 200,000, but is preferably 30,000 to 170,000, more preferably 50,000 to 150,000, and particularly preferably 65,000 to 150,000. The (meth) acryl-based polymer (A) having a weight average molecular weight within the above range can disperse the inorganic particles (B) and the organic particles (C) in a highly dispersed state to form a hard-coded layer excellent in blocking resistance and transparency.

(메타)아크릴계 폴리머(A)의 중량 평균 분자량은 겔 퍼미에이션 크로마토그래프(GPC)를 이용하여 폴리스티렌 환산에 의해 측정할 수 있다. GPC를 사용한 중량 평균 분자량의 측정은, 구체적으로는 다음과 같이 해서 행할 수 있다. 우선, 시차 굴절률 검출기(RID)를 장비한 겔 퍼미에이션 크로마토그래프(GPC)에 의해, (메타)아크릴계 폴리머(A)의 분자량 분포를 측정해 크로마토그램(차트)을 얻는다. 그리고, 이 크로마토그램으로부터 표준 폴리스티렌을 검량선으로 해서 (메타)아크릴계 폴리머(A)의 중량 평균 분자량을 산출할 수 있다. 또한, (메타)아크릴계 폴리머(A)의 중량 평균 분자량은 후술하는 실시예에 기재된 방법에 의해 측정할 수 있다.The weight-average molecular weight of the (meth) acrylic polymer (A) can be measured by polystyrene conversion using a gel permeation chromatograph (GPC). The measurement of the weight average molecular weight using GPC can be carried out specifically as follows. First, the molecular weight distribution of the (meth) acrylic polymer (A) is measured by a gel permeation chromatograph (GPC) equipped with a differential refractive index detector (RID) to obtain a chromatogram (chart). From this chromatogram, the weight average molecular weight of the (meth) acrylic polymer (A) can be calculated using standard polystyrene as a calibration curve. The weight average molecular weight of the (meth) acrylic polymer (A) can be measured by the method described in the following Examples.

(메타)아크릴계 폴리머(A)의 유리전이점(Tg)은 50∼110℃에 한정되지만, 55∼107℃가 바람직하고, 60∼105℃가 보다 바람직하다. 유리전이점이 상기 하한값 이상인 (메타)아크릴계 폴리머(A)에 의하면, 경도가 높고, 내상처성 및 내블로킹성이 뛰어난 하드 코트층을 형성할 수 있다. 또한, 유리전이점이 상기 범위 내인 (메타)아크릴계 폴리머(A)에 의하면, 무기 입자(B) 및 유기 입자(C)를 높게 분산시킬 수 있어, 내블로킹성 및 투명성이 뛰어난 하드 코드층을 형성할 수 있다. (메타)아크릴계 폴리머(A)의 유리전이점은 폭스의 식에 의해 산출할 수 있다.The glass transition point (Tg) of the (meth) acrylic polymer (A) is limited to 50 to 110 占 폚, but is preferably 55 to 107 占 폚, more preferably 60 to 105 占 폚. (Meth) acrylic polymer (A) having a glass transition point of at least the lower limit value can form a hard coat layer having high hardness and excellent scratch resistance and blocking resistance. Further, according to the (meth) acrylic polymer (A) having a glass transition point within the above range, the inorganic particles (B) and the organic particles (C) can be highly dispersed to form a hard-coded layer excellent in blocking resistance and transparency . The glass transition point of the (meth) acrylic polymer (A) can be calculated by the formula of Fox.

(메타)아크릴계 폴리머(A)는 모노머 성분으로서 알킬(메타)아크릴레이트 성분을 10∼90중량% 함유하고 있는 것이 바람직하다. 이러한 (메타)아크릴계 폴리머(A)는 알킬(메타)아크릴레이트를 10∼90중량% 포함하는 모노머 조성물을 라디칼 중합시킴으로써 얻어진다. 알킬(메타)아크릴레이트 성분에 의하면, 유기 입자(C)를 고분산시킬 수 있고, 이것에 의해 하드 코트층의 투명성을 향상시킬 수 있다.The (meth) acrylic polymer (A) preferably contains 10 to 90% by weight of an alkyl (meth) acrylate component as a monomer component. The (meth) acrylic polymer (A) is obtained by radical polymerization of a monomer composition containing 10 to 90% by weight of an alkyl (meth) acrylate. According to the alkyl (meth) acrylate component, the organic particles (C) can be highly dispersed, whereby the transparency of the hard coat layer can be improved.

모노머 성분으로서 사용되는 알킬(메타)아크릴레이트는 글리시딜기나 수산기를 갖고 있지 않은 것이 바람직하다. 알킬(메타)아크릴레이트로서, 구체적으로는 에틸(메타)아크릴레이트, 메틸(메타)아크릴레이트, n-부틸(메타)아크릴레이트, 헥실아크릴레이트, 2-에틸부틸(메타)아크릴레이트, 이소옥틸(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트, 데실(메타)아크릴레이트, 도데실(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 그 중에서도 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 프로필(메타)아크릴레이트, 및 부틸(메타)아크릴레이트가 바람직하고, 메틸(메타)아크릴레이트가 보다 바람직하다. 메틸(메타)아크릴레이트에 의하면, 유기 입자(C)를 고분산시킬 수 있을 뿐 아니라, 높은 경도를 갖고 있는 하드 코트층을 형성할 수 있다.The alkyl (meth) acrylate used as the monomer component preferably has no glycidyl group or hydroxyl group. Specific examples of the alkyl (meth) acrylate include ethyl (meth) acrylate, methyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, hexyl acrylate, (Meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate and dodecyl (meth) acrylate. Among them, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate and butyl (meth) acrylate are preferable, and methyl (meth) acrylate is more preferable. According to the methyl (meth) acrylate, not only the organic particles (C) can be highly dispersed, but also a hard coat layer having high hardness can be formed.

(메타)아크릴계 폴리머(A) 중에 있어서의 알킬(메타)아크릴레이트 성분의 함유량은 10∼90중량%가 바람직하고, 20∼80중량%가 보다 바람직하고, 30∼80중량%가 특히 바람직하고, 40∼70중량%가 가장 바람직하다. 즉, 모노머 조성물 중에 있어서의 알킬(메타)아크릴레이트의 함유량은 10∼90중량%가 바람직하고, 20∼80중량%가 보다 바람직하고, 30∼80중량%가 특히 바람직하고, 40∼70중량%가 가장 바람직하다. 알킬(메타)아크릴레이트 성분의 함유량을 상기 범위 내로 함으로써, 투명성 및 경도가 뛰어난 하드 코트층을 형성할 수 있다.The content of the alkyl (meth) acrylate component in the (meth) acrylic polymer (A) is preferably 10 to 90 wt%, more preferably 20 to 80 wt%, particularly preferably 30 to 80 wt% Most preferably from 40 to 70% by weight. That is, the content of the alkyl (meth) acrylate in the monomer composition is preferably 10 to 90% by weight, more preferably 20 to 80% by weight, particularly preferably 30 to 80% Is most preferable. When the content of the alkyl (meth) acrylate component is within the above range, a hard coat layer having excellent transparency and hardness can be formed.

광경화성 수지 조성물 중에 있어서의 (메타)아크릴계 폴리머(A)의 함유량은 (메타)아크릴계 폴리머(A), 무기 입자(B), 유기 입자(C), 및 광중합성 다관능 화합물(D)의 총 중량에 대하여 10∼40중량%에 한정되지만, 12∼37중량%가 바람직하고, 15∼35중량%가 보다 바람직하다. (메타)아크릴계 폴리머(A)의 함유량을 상기 하한값 이상으로 함으로써, 무기 입자(B)나 유기 입자(C)를 높게 분산시킬 수 있고, 이것에 의해 내블로킹성 및 투명성이 뛰어난 하드 코드층을 형성할 수 있다. (메타)아크릴계 폴리머(A)의 함유량을 상기 상한값 이하로 함으로써, 하드 코트층의 높은 경도를 확보할 수 있다.The content of the (meth) acrylic polymer (A) in the photocurable resin composition is preferably such that the total amount of the (meth) acrylic polymer (A), the inorganic particles (B), the organic particles (C), and the photopolymerizable polyfunctional compound But is preferably 12 to 37% by weight, and more preferably 15 to 35% by weight. (B) and the organic particles (C) can be highly dispersed by setting the content of the (meth) acrylic polymer (A) to be not less than the lower limit value described above, thereby forming a hard-coded layer excellent in blocking resistance and transparency can do. By setting the content of the (meth) acrylic polymer (A) to the upper limit value or less, high hardness of the hard coat layer can be secured.

[무기 입자(B)][Inorganic Particles (B)]

본 발명의 광경화성 수지 조성물은 적어도 1종의 무기 입자(B)를 포함하고 있다. 무기 입자(B)에 의하면, 경도가 높고, 내상처성 및 내블로킹성이 뛰어난 하드 코트층을 형성할 수 있다. 또한, 무기 입자(B)의 표면에는 수산기 등의 극성기가 존재하고 있는 경우가 많다. 상술한 소정의 수산기가를 갖는 (메타)아크릴계 폴리머(A)도 측쇄에 수산기를 갖고 있다. 따라서, 무기 입자(B)와 (메타)아크릴계 폴리머(A)는 서로 극성이 가까워 정전기적인 반발이 억제되어 있다. 그 때문에, (메타)아크릴계 폴리머(A)를 사용함으로써 무기 입자(B)를 고도로 분산시킬 수 있고, 이것에 의해 무기 입자(B)의 첨가에 의한 하드 코트층의 투명성의 저하를 억제하면서 하드 코트층의 내상처성 및 내블로킹성을 향상시킬 수 있다. 또한, 상기 메커니즘은 본 발명자들에 의해 추측된 것이며, 따라서 본 발명은 상기 메커니즘에 한정되지 않는다.The photocurable resin composition of the present invention contains at least one kind of inorganic particles (B). According to the inorganic particles (B), a hard coat layer having high hardness and excellent scratch resistance and blocking resistance can be formed. On the surface of the inorganic particles (B), a polar group such as a hydroxyl group is often present. The above-mentioned (meth) acrylic polymer (A) having a predetermined hydroxyl value also has a hydroxyl group in the side chain. Therefore, the polarity of the inorganic particles (B) and the (meth) acrylic polymer (A) are close to each other, and electrostatic repulsion is suppressed. Therefore, it is possible to highly disperse the inorganic particles (B) by using the (meth) acrylic polymer (A), thereby suppressing the deterioration of the transparency of the hard coat layer by the addition of the inorganic particles The scratch resistance and blocking resistance of the layer can be improved. Further, the mechanism is presumed by the present inventors, and thus the present invention is not limited to the above mechanism.

무기 입자(B)로서는 금속 입자, 금속 산화물 입자, 금속 황산염 입자, 금속 규산염 입자, 금속 인산염 입자, 금속 탄산염 입자, 금속 수산화물 입자, 및 불소 화합물 입자 등을 들 수 있다. 그 중에서도 금속 입자 및 금속 산화물 입자가 바람직하고, 금속 산화물 입자가 보다 바람직하다. 금속 입자 및 금속 산화물 입자는 (메타)아크릴계 폴리머(A)와 극성이 가깝고, 따라서 (메타)아크릴계 폴리머(A)에 의해 고도로 분산시킬 수 있다. 무기 입자(B)는 1종 단독으로 사용되어도 좋고, 2종 이상이 병용되어도 좋다.Examples of the inorganic particles (B) include metal particles, metal oxide particles, metal sulfate particles, metal silicate particles, metal phosphate particles, metal carbonate particles, metal hydroxide particles, and fluorine compound particles. Among them, metal particles and metal oxide particles are preferable, and metal oxide particles are more preferable. The metal particles and the metal oxide particles are close to the polarity of the (meth) acrylic polymer (A) and can be highly dispersed by the (meth) acrylic polymer (A). The inorganic particles (B) may be used alone, or two or more kinds thereof may be used in combination.

금속 입자에 포함되어 있는 금속으로서는 Si, Ti, Mg, Ca, Zr, Sn, Sb, As, Zn, Nb, In, 및 Al 등을 들 수 있다. 금속 산화물 입자에 포함되어 있는 금속 산화물로서는 Si, Ti, Mg, Ca, Zr, Sn, Sb, As, Zn, Nb, In, 및 Al 등의 금속의 산화물을 들 수 있다. 금속 산화물 입자로서, 구체적으로는 산화규소 입자, 산화티탄 입자, 산화알루미늄 입자, 산화주석 입자, 산화인듐 입자, ITO 입자, 산화아연 입자, 산화지르코늄 입자, 및 산화마그네슘 입자를 들 수 있다. 또한, 이들 금속 산화물 입자에, 예를 들면 Ab, Sn, F, P, Al 등의 이종 원소가 도프된 이종 원소 도프 금속 산화물의 미립자 등도 들 수 있다.Examples of metals included in the metal particles include Si, Ti, Mg, Ca, Zr, Sn, Sb, As, Zn, Nb, In and Al. Examples of the metal oxide contained in the metal oxide particles include oxides of metals such as Si, Ti, Mg, Ca, Zr, Sn, Sb, As, Zn, Nb, In and Al. Specific examples of the metal oxide particles include silicon oxide particles, titanium oxide particles, aluminum oxide particles, tin oxide particles, indium oxide particles, ITO particles, zinc oxide particles, zirconium oxide particles and magnesium oxide particles. Further, fine particles of a hetero-element-doped metal oxide doped with a hetero element such as Ab, Sn, F, P, Al or the like can be mentioned for these metal oxide particles.

무기 입자(B)로서는 산화규소 입자, 산화알루미늄 입자, 산화지르코늄 입자, 및 산화티탄 입자가 바람직하고, 산화규소 입자가 보다 바람직하다.As the inorganic particles (B), silicon oxide particles, aluminum oxide particles, zirconium oxide particles, and titanium oxide particles are preferable, and silicon oxide particles are more preferable.

무기 입자(B)는 콜로이드상으로 분산되어 있는 무기 입자를 사용할 수 있다. 또한, 무기 입자(B)는 공지의 방법에 의해 표면 처리되어 있어도 좋다.The inorganic particles (B) may be inorganic particles dispersed in a colloidal form. The inorganic particles (B) may be surface-treated by a known method.

무기 입자(B)의 형상으로서는 특별하게 제한되지 않고, 예를 들면 괴상, 구상, 중공상, 다공질상, 막대 형상, 판 형상, 섬유상, 및 부정형상 등을 들 수 있다. 다른 형상의 무기 입자(B)를 조합시켜서 사용해도 좋다.The shape of the inorganic particles (B) is not particularly limited, and examples thereof include bulk, spherical, hollow, porous, rod, plate, fibrous, and irregular shapes. (B) having different shapes may be used in combination.

무기 입자(B)의 평균 입자 지름은 10㎚∼500㎚에 한정되지만, 10㎚∼400㎚가 바람직하고, 10㎚∼200㎚가 보다 바람직하다. 평균 입자 지름이 상기 하한값 미만인 무기 입자(B)에서는 고분산시키는 것이 곤란해져 하드 코트층의 투명성이나 내블로킹성을 저하시킬 우려가 있다. 또한, 평균 입자 지름이 상기 상한값을 초과하는 무기 입자(B)에서는 하드 코트층의 투명성, 경도, 내블로킹성 및 인쇄성을 저하시킬 우려가 있다. 또한, 광경화성 수지 조성물 중에서는 무기 입자(B)는 1차 입자 또는 2차 입자 등의 응집 입자로서 존재하고 있다. 따라서, 무기 입자(B)의 평균 입자 지름이란 후술하는 측정 방법에 의해 측정된 값으로 한다.The average particle diameter of the inorganic particles (B) is limited to 10 nm to 500 nm, preferably 10 nm to 400 nm, and more preferably 10 nm to 200 nm. It is difficult to highly disperse the inorganic particles (B) having an average particle diameter lower than the lower limit value, which may lower the transparency and antiblocking property of the hard coat layer. In addition, in the inorganic particles (B) having an average particle diameter exceeding the upper limit value, there is a fear of lowering the transparency, hardness, blocking resistance and printability of the hard coat layer. In the photocurable resin composition, the inorganic particles (B) exist as agglomerated particles such as primary particles or secondary particles. Therefore, the average particle diameter of the inorganic particles (B) is a value measured by a measuring method described later.

또한, 무기 입자(B)의 평균 입자 지름의 측정은 다음과 같이 해서 행할 수 있다. 우선, 광경화성 수지 조성물을 메틸이소부틸케톤으로 희석해서 희석액을 얻는다. 또한, 희석액 중에 있어서의 무기 입자(B)의 농도는 0.1∼1중량%로 한다. 이어서, 희석액을 이용하여 레이저광 회절·산란식 입도 분포 측정 장치(예를 들면, 니키소사 제 Nanotrac UPA-EX150)에 의해 무기 입자(B)의 체적 입도 분포를 측정하고, 이 체적 입도 분포의 누적 50%의 값을 무기 입자(B)의 평균 입자 지름으로서 산출할 수 있다. 구체적인 측정 조건은 하기에 나타내는 바와 같다. 하기 측정 조건에 의해 얻어진 무기 입자의 평균 입자 지름의 측정값을 무기 입자(B)의 평균 입자 지름으로 한다.The average particle diameter of the inorganic particles (B) can be measured in the following manner. First, the photo-curing resin composition is diluted with methyl isobutyl ketone to obtain a diluted solution. The concentration of the inorganic particles (B) in the diluent is 0.1 to 1% by weight. Subsequently, the volume particle size distribution of the inorganic particles (B) was measured by a laser diffraction / scattering type particle size distribution analyzer (Nanotrac UPA-EX150 manufactured by Nikkiso Co., Ltd.) using a diluent, and the cumulative cumulative volume particle size distribution And the value of 50% can be calculated as the average particle diameter of the inorganic particles (B). Specific measurement conditions are as follows. The measured value of the average particle diameter of the inorganic particles obtained by the following measurement conditions is taken as the average particle diameter of the inorganic particles (B).

측정 횟수: 1회Number of measurements: 1 time

측정 시간: 180초Measurement time: 180 seconds

측정 온도: 23℃Measuring temperature: 23 ° C

측정 용매: 메틸이소부틸케톤Measurement solvent: methyl isobutyl ketone

CI값: 0.4∼0.8CI value: 0.4-0.8

입자 투과성: 투과Particle permeability: permeation

감도: 스탠다드Sensitivity: Standard

필터: Stand: NormFilter: Stand: Norm

나노 레인지 보정: 무효Nano-range correction: invalid

광경화성 수지 조성물 중에 있어서의 무기 입자(B)의 함유량은 (메타)아크릴계 폴리머(A), 무기 입자(B), 유기 입자(C), 및 광중합성 다관능 화합물(D)의 총 중량에 대하여 5∼40중량%에 한정되지만, 6∼35중량%가 바람직하고, 7∼30중량%가 보다 바람직하다. 무기 입자(B)의 함유량이 상기 하한값 미만이면 하드 코트층에 뛰어난 내블로킹성을 부여할 수 없을 우려가 있다. 또한, 무기 입자(B)의 함유량이 상기 상한값을 초과하면 하드 코트층의 투명성이나 인쇄성이 저하될 우려가 있다. 또한, 무기 입자(B)의 함유량이 상기 상한값을 초과하면 하드 코트층이 지나치게 단단해져서 균열이 발생하기 쉬워질 우려도 있다.The content of the inorganic particles (B) in the photo-curing resin composition is preferably in the range of 1 to 20 parts by weight based on the total weight of the (meth) acrylic polymer (A), the inorganic particles (B), the organic particles (C), and the photopolymerizable polyfunctional compound But is preferably 6 to 35% by weight, more preferably 7 to 30% by weight. If the content of the inorganic particles (B) is less than the above lower limit value, there is a possibility that excellent blocking resistance can not be imparted to the hard coat layer. If the content of the inorganic particles (B) exceeds the upper limit value, the transparency and printability of the hard coat layer may deteriorate. If the content of the inorganic particles (B) exceeds the upper limit value, the hard coat layer becomes too hard and cracks may easily occur.

[유기 입자(C)][Organic Particles (C)]

본 발명의 광경화성 수지 조성물은 적어도 1종의 유기 입자(C)를 포함하고 있다. 본 발명에서는 (메타)아크릴계 폴리머(A)의 존재 하에 무기 입자(B) 및 유기 입자(C)를 조합시켜서 사용함으로써, 하드 코트층의 인쇄성을 향상시킬 수 있다. 이러한 효과가 얻어지는 메커니즘은 명확하지는 않지만, 이하와 같이 추측할 수 있다. 또한, 하기 메커니즘은 본 발명자들에 의해 추측된 것이며, 따라서 본 발명은 하기 메커니즘에 한정되지 않는다.The photocurable resin composition of the present invention contains at least one kind of organic particles (C). In the present invention, by using the inorganic particles (B) and the organic particles (C) in combination in the presence of the (meth) acrylic polymer (A), the printability of the hard coat layer can be improved. The mechanism by which such an effect is obtained is not clear, but can be estimated as follows. Further, the following mechanism is assumed by the present inventors, and therefore the present invention is not limited to the following mechanism.

상술한 바와 같이, (메타)아크릴계 폴리머(A)의 수산기에 의해 무기 입자(B)를 고분산시킬 수 있지만, 무기 입자(B)의 존재에 의해 (메타)아크릴계 폴리머(A)의 수산기의 대부분은 하드 코트층의 내측을 향해서 존재하게 된다. 유기 입자(C)는 소수성을 갖고 있고, 이러한 유기 입자(C)의 소수성에 의해 (메타)아크릴계 폴리머(A)의 수산기 중 무기 입자(B)의 분산에 기여하고 있지 않은 수산기를 하드 코트층의 외측을 향해서 존재시킬 수 있다. 따라서, (메타)아크릴계 폴리머(A)의 존재 하에 무기 입자(B) 및 유기 입자(C)를 조합시켜서 사용함으로써, 하드 코트층 표면에 그 외측을 향해서 존재하는 수산기를 많게 할 수 있다. 이러한 하드 코트층은 표면에 많은 수산기가 존재하고 있음으로써 잉크에 대한 젖음성이 향상되어 있고, 이것에 의해 잉크를 튀게 하지 않고 정밀도 좋게 인쇄하는 것이 가능해진다.As described above, the inorganic particles (B) can be highly dispersed by the hydroxyl groups of the (meth) acrylic polymer (A), but the majority of the hydroxyl groups of the (meth) acrylic polymer Is present toward the inside of the hard coat layer. The organic particles C have hydrophobicity and the hydroxyl groups which do not contribute to the dispersion of the inorganic particles B in the hydroxyl groups of the (meth) acrylic polymer (A) due to the hydrophobicity of the organic particles (C) It can be present toward the outside. Therefore, by using the inorganic particles (B) and the organic particles (C) in combination in the presence of the (meth) acrylic polymer (A), the number of hydroxyl groups present on the surface of the hard coat layer toward the outside can be increased. Such a hard coat layer has a large number of hydroxyl groups on the surface thereof, so that the wettability with respect to the ink is improved, whereby it is possible to perform printing with high precision without splashing the ink.

유기 입자(C)로서는 합성 수지를 포함하는 입자를 들 수 있다. 합성 수지로서는, 폴리아미드계 수지, 폴리아미드이미드계 수지, 폴리아세탈계 수지, (메타)아크릴계 수지, 멜라민 수지, (메타)아크릴-스티렌 공중합체, 폴리카보네이트계 수지, 스티렌계 수지, 폴리염화비닐계 수지, 벤조구아나민-멜라민포름알데히드, 실리콘계 수지, 불소계 수지, 폴리에스테르계 수지, 가교 (메타)아크릴계 수지, 가교 폴리스티렌계 수지, 가교 폴리우레탄계 수지, 및 에폭시 수지 등을 들 수 있다. 유기 입자(C)는 1종 단독으로 사용되어도 좋고, 2종 이상이 병용되어도 좋다.Examples of the organic particles (C) include particles containing a synthetic resin. Examples of the synthetic resin include polyamide resins, polyamideimide resins, polyacetal resins, (meth) acrylic resins, melamine resins, (meth) acryl-styrene copolymers, polycarbonate resins, styrene resins, Based resin, a fluororesin, a polyester resin, a cross-linked (meth) acrylic resin, a cross-linked polystyrene-based resin, a cross-linked polyurethane-based resin, and an epoxy resin. The organic particles (C) may be used singly or in combination of two or more.

그 중에서도 유기 입자(C)로서는 (메타)아크릴계 수지 입자가 바람직하고, 폴리알킬(메타)아크릴레이트 입자가 보다 바람직하다. (메타)아크릴계 수지 입자는 낮은 극성을 갖기 때문에, (메타)아크릴계 폴리머(A)가 갖는 수산기를 하드 코트층 표면에 많이 존재시킬 수 있다. 폴리알킬(메타)아크릴레이트 입자로서는 폴리메틸(메타)아크릴레이트 입자, 폴리에틸(메타)아크릴레이트 입자, 폴리프로필(메타)아크릴레이트 입자, 폴리부틸(메타)아크릴레이트 입자, 폴리펜틸(메타)아크릴레이트 입자, 폴리헥실(메타)아크릴레이트 입자, 폴리헵틸(메타)아크릴레이트 입자, 폴리옥틸(메타)아크릴레이트 입자, 폴리 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트 입자, 폴리노닐(메타)아크릴레이트 입자, 폴리데실(메타)아크릴레이트 입자, 폴리벤질(메타)아크릴레이트 입자, 및 폴리디시클로펜타디에닐(메타)아크릴레이트 입자를 들 수 있다. 그 중에서도 폴리메틸(메타)아크릴레이트 입자가 바람직하다.Among them, as the organic particles (C), (meth) acrylic resin particles are preferable, and polyalkyl (meth) acrylate particles are more preferable. (Meth) acrylic resin particles have low polarity, a large number of hydroxyl groups of the (meth) acrylic polymer (A) can be present on the surface of the hard coat layer. (Meth) acrylate particles, polyethyl (meth) acrylate particles, polypropyl (meth) acrylate particles, polybutyl (meth) acrylate particles, polypentyl (Meth) acrylate particles, polyhexyl (meth) acrylate particles, polyhexyl (meth) acrylate particles, polyhexyl (meth) acrylate particles, polyhexyl (Meth) acrylate particles, polybenzyl (meth) acrylate particles, and polydicyclopentadienyl (meth) acrylate particles. Among them, polymethyl (meth) acrylate particles are preferred.

유기 입자(C)의 평균 입자 지름은 10㎚∼500㎚에 한정되지만, 10㎚∼400㎚가 바람직하고, 50㎚∼300㎚가 보다 바람직하다. 평균 입자 지름이 상기 범위 내인 유기 입자(C)는 고도로 분산되어, (메타)아크릴계 폴리머(A)의 수산기 중 무기 입자(B)의 분산에 기여하고 있지 않은 수산기를 하드 코트층의 외측을 향해서 존재시킬 수 있다. 이에 따라, 표면에 수산기가 많이 존재하고 있는 하드 코트층을 형성할 수 있다. 또한, 평균 입자 지름이 상기 상한값을 초과하는 유기 입자(C)는 하드 코트층의 투명성, 경도를 저하시킬 우려가 있다.The average particle diameter of the organic particles (C) is limited to 10 nm to 500 nm, preferably 10 nm to 400 nm, and more preferably 50 nm to 300 nm. The organic particles (C) having an average particle diameter within the above range are highly dispersed, and a hydroxyl group which does not contribute to the dispersion of the inorganic particles (B) in the hydroxyl groups of the (meth) acrylic polymer . Thus, a hard coat layer having a large number of hydroxyl groups on its surface can be formed. In addition, the organic particles (C) having an average particle diameter exceeding the upper limit value may lower the transparency and hardness of the hard coat layer.

또한, 유기 입자(C)의 평균 입자 지름의 측정은 상술한 무기 입자(B)의 평균 입자 지름의 측정 방법과 마찬가지의 요령으로 행할 수 있다. 또한, 광경화성 수지 조성물 중에서는 유기 입자(C)는 1차 입자 또는 2차 입자 등의 응집 입자로서 존재하고 있다. 따라서, 유기 입자(C)의 평균 입자 지름이란 상술한 무기 입자(B)의 평균 입자 지름의 측정 방법과 같은 방법에 의해 측정된 값으로 한다. 또한, 희석액 중에 있어서의 유기 입자(C)의 농도는 0.1∼1중량%로 한다.The average particle diameter of the organic particles (C) can be measured in the same manner as the above-mentioned method of measuring the average particle diameter of the inorganic particles (B). Further, in the photo-curing resin composition, the organic particles (C) exist as agglomerated particles such as primary particles or secondary particles. Therefore, the average particle diameter of the organic particles (C) is a value measured by the same method as the above-mentioned method of measuring the average particle diameter of the inorganic particles (B). The concentration of the organic particles (C) in the diluted solution is 0.1 to 1% by weight.

광경화성 수지 조성물 중에 있어서의 유기 입자(C)의 함유량은 (메타)아크릴계 폴리머(A), 무기 입자(B), 유기 입자(C), 및 광중합성 다관능 화합물(D)의 총 중량에 대하여 0.5∼10중량%에 한정되지만, 0.7∼9중량%가 바람직하고, 1∼8중량%가 보다 바람직하다. 유기 입자(C)의 함유량을 상기 하한값 이상으로 함으로써, 내블로킹성 및 인쇄성이 뛰어난 하드 코트층을 형성할 수 있다. 또한, 유기 입자(C)의 함유량을 상기 상한값 이하로 함으로써, 하드 코트층의 뛰어난 투명성을 확보할 수 있다.The content of the organic particles (C) in the photo-curable resin composition is preferably such that the total weight of the (meth) acrylic polymer (A), the inorganic particles (B), the organic particles (C), and the photopolymerizable polyfunctional compound But is preferably from 0.7 to 9% by weight, more preferably from 1 to 8% by weight. By setting the content of the organic particles (C) to the lower limit value or more, a hard coat layer having excellent blocking resistance and printability can be formed. By setting the content of the organic particles (C) to the upper limit value or less, excellent transparency of the hard coat layer can be ensured.

[광중합성 다관능 화합물(D)][Photopolymerizable polyfunctional compound (D)]

본 발명의 광경화성 수지 조성물은 1분자 중에 2개 이상의 광중합성기를 갖는 광중합성 다관능 화합물(D)을 적어도 1종 포함하고 있다. 광중합성 다관능 화합물(D)은 (메타)아크릴계 폴리머(A)와 라디칼 중합할 수 있다. 이에 따라, 광중합성 다관능 화합물(D)이 (메타)아크릴계 폴리머(A)의 분자쇄간을 가교하여 치밀한 그물코 구조를 형성할 수 있다. 이러한 치밀한 그물코 구조 중에 무기 입자(B)나 유기 입자(C)를 도입할 수 있고, 이것에 의해 무기 입자(B)나 유기 입자(C)가 이것들의 응집을 억제하여 고분산되어 있는 하드 코트층을 형성할 수 있다. 이러한 하드 코트층은 무기 입자(B) 및 유기 입자(C)가 고분산되어 있음으로써, 투명성, 내블로킹성 및 인쇄성이 뛰어나다.The photocurable resin composition of the present invention contains at least one photopolymerizable polyfunctional compound (D) having two or more photopolymerizable groups in one molecule. The photopolymerizable polyfunctional compound (D) can be subjected to radical polymerization with the (meth) acrylic polymer (A). Thereby, the photopolymerizable polyfunctional compound (D) can cross-link molecular chains of the (meth) acrylic polymer (A) to form a dense network structure. The inorganic particles (B) and the organic particles (C) can be introduced into such a dense mesh structure, whereby the inorganic particles (B) and the organic particles (C) Can be formed. Such a hard coat layer is excellent in transparency, blocking resistance and printing property because the inorganic particles (B) and the organic particles (C) are highly dispersed.

광중합성 다관능 화합물(D)에 포함되어 있는 광중합성기로서는 (메타)아크릴계 폴리머(A)의 광중합성기와 라디칼 중합 가능한 에틸렌성 불포화 이중 결합을 갖고 있으면 좋고, 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 스티릴기, 비닐기, 알릴기 등을 들 수 있고, 아크릴로일기, 메타크릴로일기가 바람직하다.The photopolymerizable group contained in the photopolymerizable polyfunctional compound (D) is not particularly limited as long as it has a photopolymerizable group of the (meth) acrylic polymer (A) and an ethylenically unsaturated double bond capable of radical polymerization, and an acryloyl group, a methacryloyl group, A vinyl group, and an allyl group, and an acryloyl group and a methacryloyl group are preferable.

1분자 중에 2개의 광중합성기를 갖는 광중합성 다관능 화합물(D)로서는, 예를 들면 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트 등의 알킬렌글리콜디(메타)아크릴레이트; 디에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 디프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트 등의 폴리알킬렌글리콜디(메타)아크릴레이트; 1,4-부탄디올디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 1,9-노난디올디(메타)아크릴레이트, 디시클로펜타디엔디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜아디페이트디(메타)아크릴레이트, 히드록시피바린산 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리시클로데칸디메탄올디(메타)아크릴레이트, 디시클로펜타닐디(메타)아크릴레이트; 펜타에리스리톨디(메타)아크릴레이트, 비스페놀 AEO 부가 디아크릴레이트, 카프로락톤 변성 디시클로펜테닐디(메타)아크릴레이트, 에틸렌옥시드 변성 인산 디(메타)아크릴레이트, 알릴화 시클로헥실디(메타)아크릴레이트, 이소시아누레이트디(메타)아크릴레이트 또는 그것들의 알킬렌옥시드 변성체, 디비닐벤젠, 부탄디올-1,4-디비닐에테르, 시클로헥산디메탄올디비닐에테르, 디에틸렌글리콜디비닐에테르, 디프로필렌글리콜디비닐에테르디프로필렌글리콜디비닐에테르, 헥산디올디비닐에테르, 트리에틸렌글리콜디비닐에테르, 페닐글리시딜에테르아크릴레이트헥사메틸렌디이소시아네이트우레탄 올리고머[교에이샤 카가쿠(주) 제의 상품명 「AH-600」], 페닐글리시딜에테르아크릴레이트톨루엔디이소시아네이트우레탄 올리고머[교에이샤 카가쿠(주) 제의 상품명 「AT-600」] 등을 들 수 있다. 또한, 광중합성 다관능 화합물(D)은 단독으로 사용되어도 좋고 2종 이상이 병용되어도 좋다.Examples of the photopolymerizable polyfunctional compound (D) having two photopolymerizable groups in one molecule include ethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di Alkylene glycol di (meth) acrylate; (Meth) acrylates such as diethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate and tripropylene glycol di Rate; Acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol di (meth) acrylate, dicyclopentadienedi (meth) acrylate, neopentyl Glycol adipate di (meth) acrylate, hydroxypivalic acid neopentyl glycol di (meth) acrylate, tricyclodecane dimethanol di (meth) acrylate, dicyclopentanyl di (meth) acrylate; (Meth) acrylate, ethylene oxide modified di (meth) acrylate, allylated cyclohexyldi (meth) acrylate, bisphenol AEO added diacrylate, caprolactone modified dicyclopentenyl di (Meth) acrylate or an alkylene oxide modified product thereof, divinylbenzene, butanediol-1,4-divinyl ether, cyclohexanedimethanol divinyl ether, diethylene glycol divinyl ether, Dipropylene glycol divinyl ether, dipropylene glycol divinyl ether, hexanediol divinyl ether, triethylene glycol divinyl ether, phenylglycidyl ether acrylate hexamethylene diisocyanate urethane oligomer [manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd. Trade name " AH-600 "), phenylglycidyl ether acrylate, toluene diisocyanate urethane oligomer (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., The trade name can be given the "AT-600"] and the like. The photopolymerizable polyfunctional compound (D) may be used singly or in combination of two or more.

1분자 중에 3개의 광중합성기를 갖는 광중합성 다관능 화합물(D)로서는, 예를 들면 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 트리스(아크릴옥시에틸)이소시아누레이트, 또는 그것들의 알킬렌옥시드 변성체, 이소시아누르산 알킬렌옥시드 변성체의 트리(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.Examples of the photopolymerizable polyfunctional compound (D) having three photopolymerizable groups in one molecule include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tri , Tris (acryloxyethyl) isocyanurate, and tri (meth) acrylates of an alkylene oxide modified product thereof and an isocyanuric acid alkylene oxide modified product.

1분자 중에 4개의 광중합성기를 갖는 광중합성 다관능 화합물(D)로서는, 예를 들면 디트리메틸올프로판테트라(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트 또는 그것들의 알킬렌옥시드 변성체 등을 들 수 있다.Examples of the photopolymerizable polyfunctional compound (D) having four photopolymerizable groups in one molecule include ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, and alkylene oxide modified products thereof .

1분자 중에 5개의 광중합성기를 갖는 광중합성 다관능 화합물(D)로서는, 예를 들면 디펜타에리스리톨펜타(메타)아크릴레이트 또는 그것들의 알킬렌옥시드 변성체 등을 들 수 있다.Examples of the photopolymerizable polyfunctional compound (D) having 5 photopolymerizable groups in one molecule include dipentaerythritol penta (meth) acrylate or an alkylene oxide modified product thereof.

1분자 중에 6개의 광중합성기를 갖는 광중합성 다관능 화합물(D)로서는, 예를 들면 디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리아크릴레이트헥사메틸렌디이소시아네이트우레탄 올리고머[교에이샤 카가쿠(주) 제의 상품명 「UA-306H」], 카프로락톤 변성 디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트 또는 그것들의 알킬렌옥시드 변성체 등을 들 수 있다.Examples of the photopolymerizable polyfunctional compound (D) having six photopolymerizable groups in one molecule include dipentaerythritol hexa (metha) acrylate, pentaerythritol triacrylate hexamethylene diisocyanate urethane oligomer (available from Kyoeisha Chemical Co., (UA-306H), caprolactone-modified dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, and alkylene oxide-modified products thereof.

광중합성 다관능 화합물(D)로서는, 1분자 중에 2개 이상의 광중합성기를 갖는 올리고머가 바람직하다. 올리고머로서는 우레탄(메타)아크릴레이트, 폴리에스테르(메타)아크릴레이트, 에폭시(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 그 중에서도 우레탄(메타)아크릴레이트 올리고머가 보다 바람직하다. 우레탄(메타)아크릴레이트 올리고머는 폴리올류 및 폴리이소시아네이트를 반응시켜서 얻어지는 이소시아네이트기 말단 우레탄 프리폴리머를 1분자 중에 적어도 1개의 수산기를 갖는 (메타)아크릴레이트 모노머와 반응시킴으로써 얻어진다.As the photopolymerizable polyfunctional compound (D), an oligomer having two or more photopolymerizable groups in one molecule is preferable. Examples of the oligomer include urethane (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate, and epoxy (meth) acrylate. Of these, urethane (meth) acrylate oligomers are more preferable. The urethane (meth) acrylate oligomer is obtained by reacting an isocyanate-terminated urethane prepolymer obtained by reacting a polyol and a polyisocyanate with a (meth) acrylate monomer having at least one hydroxyl group in one molecule.

우레탄(메타)아크릴레이트 올리고머로서는, 페닐글리시딜에테르아크릴레이트헥사메틸렌디이소시아네이트우레탄 올리고머, 페닐글리시딜에테르아크릴레이트톨루엔디이소시아네이트우레탄 올리고머, 및 펜타에리스리톨트리아크릴레이트헥사메틸렌디이소시아네이트우레탄 올리고머 등을 들 수 있다.Examples of the urethane (meth) acrylate oligomer include phenylglycidyl ether acrylate hexamethylene diisocyanate urethane oligomer, phenyl glycidyl ether acrylate toluene diisocyanate urethane oligomer, and pentaerythritol triacrylate hexamethylene diisocyanate urethane oligomer. .

광중합성 다관능 화합물(D)이 1분자 중에 갖고 있는 광중합성기의 수는 3∼20개가 바람직하고, 4∼20개가 보다 바람직하고, 5∼15개가 특히 바람직하다. 광중합성기의 수가 상기 범위 내인 광중합성 다관능 화합물(D)에 의하면, 치밀한 가교 구조를 형성할 수 있고, 이것에 의해 투명성, 경도, 내블로킹성 및 인쇄성이 뛰어난 하드 코트층을 제공할 수 있다.The number of photopolymerizable groups contained in one molecule of the photopolymerizable polyfunctional compound (D) is preferably from 3 to 20, more preferably from 4 to 20, and particularly preferably from 5 to 15. The photopolymerizable polyfunctional compound (D) having the number of photopolymerizable groups within the above range can form a dense crosslinked structure, thereby providing a hard coat layer excellent in transparency, hardness, blocking resistance and printability .

광경화성 수지 조성물 중에 있어서의 광중합성 다관능 화합물(D)의 함유량은 (메타)아크릴계 폴리머(A), 무기 입자(B), 유기 입자(C), 및 광중합성 다관능 화합물(D)의 총 중량에 대하여 20∼70중량%에 한정되지만, 23∼65중량%가 바람직하고, 25∼60중량%가 보다 바람직하다. 광중합성 다관능 화합물(D)의 함유량을 상기 하한값 이상으로 함으로써, 하드 코트층의 뛰어난 경도를 확보할 수 있다. 또한, 광중합성 다관능 화합물(D)의 함유량을 상기 상한값 이하로 함으로써, 무기 입자(B) 및 유기 입자(C)가 고분산되어 있고, 이것에 의해 투명성, 내블로킹성 및 인쇄성이 뛰어난 하드 코트층을 형성할 수 있다.The content of the photopolymerizable polyfunctional compound (D) in the photocurable resin composition is preferably such that the sum of the (meth) acrylic polymer (A), the inorganic particles (B), the organic particles (C), and the photopolymerizable polyfunctional compound But is preferably from 23 to 65% by weight, and more preferably from 25 to 60% by weight. By setting the content of the photopolymerizable polyfunctional compound (D) to the lower limit value or more, excellent hardness of the hard coat layer can be secured. When the content of the photopolymerizable polyfunctional compound (D) is made not more than the upper limit value, the inorganic particles (B) and the organic particles (C) are highly dispersed, A coat layer can be formed.

(광중합 개시제)(Photopolymerization initiator)

본 발명의 광경화성 수지 조성물은 광중합 개시제를 더 포함하고 있는 것이 바람직하다. 광중합 개시제로서는, 예를 들면 벤조인에테르계 광중합 개시제, 벤조페논계 광중합 개시제, 티오크산톤계 광중합 개시제, 알킬페논계 광중합 개시제, 아실포스핀옥시드계 광중합 개시제, 티타노센계 광중합 개시제, 옥심에스테르계 광중합 개시제, 디아조디페닐아민계 광중합 개시제, 나프토퀴논디아조술폰산계 광중합 개시제, 디메틸아미노벤조산계 광중합 개시제 등을 들 수 있다. 또한, 광중합 개시제는 단독으로 사용되어도 좋고 2종 이상이 병용되어도 좋다.It is preferable that the photocurable resin composition of the present invention further comprises a photopolymerization initiator. As the photopolymerization initiator, for example, a benzoin ether photopolymerization initiator, a benzophenone photopolymerization initiator, a thioxanthone photopolymerization initiator, an alkylphenon photopolymerization initiator, an acylphosphine oxide photopolymerization initiator, a titanocene photopolymerization initiator, Initiators, diazodiphenylamine photopolymerization initiators, naphthoquinone diazosulfonic acid photopolymerization initiators, dimethylaminobenzoic acid photopolymerization initiators, and the like. The photopolymerization initiator may be used alone, or two or more thereof may be used in combination.

벤조인에테르계 광중합 개시제로서는, 예를 들면 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르 등을 들 수 있다.Examples of the benzoin ether photopolymerization initiator include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, and benzoin isobutyl ether.

벤조페논계 광중합 개시제로서는, 예를 들면 벤조페논, o-벤조일벤조산 메틸, 4-페닐벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸-디페닐술파이드, 2,4,6-트리메틸벤조페논 등을 들 수 있다.Examples of the benzophenone-based photopolymerization initiator include benzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, 4-benzoyl-4'-methyl-diphenylsulfide, 2,4,6- .

티오크산톤계 광중합 개시제로서는, 예를 들면 2-이소프로필티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤, 2,4-디클로로티오크산톤, 1-클로로-4-프로폭시티오크산톤 등을 들 수 있다.Examples of the thioxanthone photopolymerization initiator include 2-isopropylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, 1-chloro-4- .

알킬페논계 광중합 개시제로서는, 예를 들면 2-히드록시-2-메틸-1-페닐-프로판-1-온, 2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온, 1-히드록시-시클로헥실-페닐-케톤, 1-[4-(2-히드록시에톡시)-페닐]-2-히드록시-2-메틸-1-프로판-1-온, 2-히드록시-1-{4-[4-(2-히드록시-2-메틸-프로피오닐)-벤질]페닐}-2-메틸-프로판-1-온, 2-메틸-1-(4-메틸티오페닐)-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄온-1,2-(디메틸아미노)-2-[(4-메틸페닐)메틸]-1-[4-(4-모르폴리닐)페닐]-1-부탄온 등을 들 수 있다.Examples of the alkylphenon-based photopolymerization initiator include 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane- Hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, 2-hydroxy-1- Methyl-l- (4-methylthiophenyl) - < / RTI > 2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-l, 2- (dimethylamino) -2 - [(4-methylphenyl) ) Methyl] -1- [4- (4-morpholinyl) phenyl] -1-butanone.

아실포스핀옥시드계 광중합 개시제로서는, 예를 들면 2,4,6-트리메틸벤조일-디페닐-포스핀옥시드, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-페닐포스핀옥시드 등을 들 수 있다.Examples of the acylphosphine oxide photopolymerization initiator include 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide and bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide.

티타노센계 광중합 개시제로서는, 예를 들면 비스(η5-2,4-시클로펜타디엔-1-일)-비스(2,6-디플루오로-3-(1H-피롤-1-일)-페닐)티타늄 등을 들 수 있다.Examples of the titanocene photopolymerization initiator include bis (η5-2,4-cyclopentadien-1-yl) -bis (2,6-difluoro-3- (1H- Titanium, and the like.

옥심에스테르계 광중합 개시제로서는, 예를 들면 1,2-옥탄디온-1-[4-(페닐티오)-2-(O-벤조일옥심)], 에탄온-1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]-1-(O-아세틸옥심), 옥시-페닐-아세트산 2-[2-옥소-2-페닐아세톡시에톡시]에틸에스테르, 옥시-페닐-아세트산 2-(2-히드록시에톡시)에틸에스테르 등을 들 수 있다.Examples of the oxime ester photopolymerization initiator include 1,2-octanedione-1- [4- (phenylthio) -2- (O-benzoyloxime)], ethanone- 1- [ Oxo-2-phenylacetoxyethoxy] ethyl ester, oxy-phenyl-acetic acid 2- [2- Phenyl-acetic acid 2- (2-hydroxyethoxy) ethyl ester and the like.

광경화성 수지 조성물 중에 있어서의 광중합 개시제의 함유량은 (메타)아크릴계 폴리머(A) 100중량부에 대하여 0.1∼20중량부가 바람직하고, 0.1∼10중량부가 보다 바람직하고, 1∼5중량부가 특히 바람직하다. 광중합 개시제의 함유량을 상기 하한값 이상으로 함으로써, 광경화성 수지 조성물의 광경화를 충분하게 진행시킬 수 있다. 또한, 광중합 개시제의 함유량을 상기 상한값 이하로 함으로써, 광중합 개시제의 분해물에 의한 하드 코트층의 경도의 저하를 억제할 수 있다.The content of the photopolymerization initiator in the photocurable resin composition is preferably 0.1 to 20 parts by weight, more preferably 0.1 to 10 parts by weight, and particularly preferably 1 to 5 parts by weight per 100 parts by weight of the (meth) acrylic polymer (A) . By setting the content of the photopolymerization initiator to the lower limit value or more, the photocuring property of the photocurable resin composition can be sufficiently promoted. Further, by setting the content of the photopolymerization initiator to the upper limit value or less, it is possible to suppress the hardness of the hard coat layer caused by the decomposition product of the photopolymerization initiator from lowering.

(광중합성 단관능 화합물)(Photopolymerizable monofunctional compound)

본 발명의 광경화성 수지 조성물은 1분자 중에 광중합성기를 1개 갖는 광중합성 단관능 화합물을 포함하고 있어도 좋다. 광중합성 단관능 화합물은 광경화성 수지 조성물의 점도를 조정함과 아울러, 고형분 농도를 높임으로써 광경화성 수지 조성물의 건조성을 향상시키기 위해서 사용된다.The photocurable resin composition of the present invention may contain a photopolymerizable monofunctional compound having one photopolymerizable group in one molecule. The photopolymerizable monofunctional compound is used to adjust the viscosity of the photocurable resin composition and to improve the dryness of the photocurable resin composition by increasing the solid concentration.

광중합성 단관능 화합물로서는, 예를 들면 지방족계 (메타)아크릴레이트, 지환식계 (메타)아크릴레이트, 방향족계 (메타)아크릴레이트, 에테르계 (메타)아크릴레이트, 비닐계 모노머, (메타)아크릴아미드류 등을 들 수 있다. 또한, 본 발명에 있어서 (메타)아크릴아미드는 아크릴아미드 또는 메타크릴아미드를 의미한다.Examples of the photopolymerizable monofunctional compound include aliphatic (meth) acrylates, alicyclic (meth) acrylates, aromatic (meth) acrylates, ether (meth) acrylates, vinyl monomers, Amides and the like. In the present invention, (meth) acrylamide means acrylamide or methacrylamide.

광중합성 단관능 화합물로서는, 예를 들면 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시-3-아크릴로일옥시프로필(메타)아크릴레이트, 라우릴(메타)아크릴레이트, 스테아릴(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 이소옥틸(메타)아크릴레이트, 이소미리스틸(메타)아크릴레이트, 이소스테아릴(메타)아크릴레이트, 이소보닐(메타)아크릴레이트, 에톡시-디에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실-카르비톨(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜벤조에이트(메타)아크릴레이트, 노닐페녹시폴리에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, ECH 변성 페녹시(메타)아크릴레이트, 페녹시에틸(메타)아크릴레이트, 파라쿠밀페놀에틸렌옥시드 변성 (메타)아크릴레이트, 비닐피롤리돈, 비닐카프로락탐, 아크릴로일모르폴린 등을 들 수 있다.Examples of the photopolymerizable monofunctional compound include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-acryloyloxypropyl (meth) acrylate, lauryl (meth) (Meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, isomyristyl (Meth) acrylate, 2-ethylhexyl-carbitol (meth) acrylate, neopentyl glycol benzoate (meth) acrylate, nonylphenoxypolyethylene glycol (meth) acrylate, ECH-modified phenoxy ) Acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, para-cumylphenol ethylene oxide-modified (meth) acrylate, vinylpyrrolidone, vinylcaprolactam and acryloylmorpholine.

(계면활성제)(Surfactants)

본 발명의 광경화성 수지 조성물은 계면활성제를 포함하고 있어도 좋다. 계면활성제를 사용함으로써, 하드 코트층의 인쇄성을 향상시킬 수 있다.The photocurable resin composition of the present invention may contain a surfactant. By using a surfactant, the printability of the hard coat layer can be improved.

계면활성제로서는 음이온계 계면활성제, 양이온계 계면활성제, 비이온계 계면활성제, 및 양성 계면활성제를 들 수 있다. 계면활성제는 활성 수소를 갖는 관능기를 갖고 있는 것이 바람직하다. 활성 수소를 갖는 관능기로서는, 수산기, 카르복실기, 아미노기, 및 아미드기 등을 들 수 있다.Examples of the surfactant include anionic surfactants, cationic surfactants, nonionic surfactants, and amphoteric surfactants. It is preferable that the surfactant has a functional group having active hydrogen. Examples of the functional group having an active hydrogen include a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group, and an amide group.

음이온계 계면활성제로서는, 예를 들면 피마자유 모노설페이트, 피마자유 모노포스페이트, 소르비탄 지방산 에스테르설페이트, 소르비탄 지방산 에스테르포스페이트, 폴리옥시알킬렌글리세린에테르모노설페이트, 폴리옥시알킬렌글리세린에테르모노포스페이트, 퍼플루오로알킬에스테르포스페이트 등을 들 수 있다.As the anionic surfactant, there may be mentioned, for example, castor oil monosulfate, castor oil monophosphate, sorbitan fatty acid ester sulfate, sorbitan fatty acid ester phosphate, polyoxyalkylene glycerin ether monosulfate, polyoxyalkylene glycerin ether monophosphate, And a fluoroalkyl ester phosphate.

양이온계 계면활성제로서는, 예를 들면 디알카놀아민염, 폴리옥시알킬렌알킬아민에테르염, 폴리옥시알킬렌알킬암모늄염, 폴리옥시알킬렌디알카놀아민에테르염 등을 들 수 있다.Examples of the cationic surfactant include a dialkanolamine salt, a polyoxyalkylene alkylamine ether salt, a polyoxyalkylene alkylammonium salt, and a polyoxyalkylene dialkanolamine ether salt.

비이온계 계면활성제로서는, 예를 들면 폴리옥시에틸렌폴리옥시프로필렌 블록 폴리머, 소르비탄 지방산 에스테르, 폴리옥시알킬렌소르비탄 지방산 에스테르, 폴리글리세린 지방산 에스테르 등을 들 수 있다.Examples of the nonionic surfactant include polyoxyethylene polyoxypropylene block polymer, sorbitan fatty acid ester, polyoxyalkylene sorbitan fatty acid ester, polyglycerin fatty acid ester, and the like.

양성 계면활성제로서는, 예를 들면 N,N-디(β-히드록시알킬)N-히드록시에틸-N-카르복시알킬암모늄베타인, N,N-디(폴리옥시에틸렌)-N-알킬-N-술포알킬암모늄베타인, 퍼플루오로알킬베타인 등을 들 수 있다.Examples of the amphoteric surfactant include N, N-di (beta -hydroxyalkyl) N-hydroxyethyl-N-carboxyalkylammonium betaine, N, N-di (polyoxyethylene) - sulfoalkylammonium betaine, and perfluoroalkylbetaine.

(실란커플링제)(Silane coupling agent)

본 발명의 광경화성 수지 조성물은 실란커플링제를 포함하고 있어도 좋다. 실란커플링제를 사용함으로써, 하드 코트층의 인쇄성을 향상시킬 수 있다.The photocurable resin composition of the present invention may contain a silane coupling agent. By using a silane coupling agent, the printability of the hard coat layer can be improved.

실란커플링제로서는, 예를 들면 글리시독시프로필트리메톡시실란, 글리시독시프로필트리에톡시실란 등의 에폭시기 함유 실란커플링제; 아미노프로필트리메톡시실란, N-2-(아미노에틸)-3-아미노프로필트리에톡시실란, 아미노프로필트리에톡시실란 등의 아미노기 함유 실란커플링제; 메르캅토프로필트리메톡시실란 등의 메르캅토기 함유 실란커플링제; 우레이드프로필트리에톡시실란 등의 우레탄기 함유 실란커플링제; 이소시아네이트프로필트리에톡시실란 등의 이소시아네이트기 함유 실란커플링제 등을 들 수 있다.Examples of the silane coupling agent include epoxy group-containing silane coupling agents such as glycidoxypropyltrimethoxysilane and glycidoxypropyltriethoxysilane; Amino group-containing silane coupling agents such as aminopropyltrimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltriethoxysilane, and aminopropyltriethoxysilane; A mercapto group-containing silane coupling agent such as mercaptopropyltrimethoxysilane; A urethane group-containing silane coupling agent such as ureido propyl triethoxysilane; And isocyanate group-containing silane coupling agents such as isocyanatepropyltriethoxysilane.

본 발명의 광경화성 수지 조성물은 용제를 포함하고 있어도 좋다. 용제를 사용함으로써, 광경화성 수지 조성물의 점도를 조정할 수 있고, 이것에 의해 광경화성 수지 조성물의 취급성이나 도포성을 향상시킬 수 있다. 용제로서는 특별하게 제한되지 않고, 상술한 유화 중합 및 용액 중합에 있어서 모노머 조성물의 중합에 사용되는 용제와 마찬가지인 것을 들 수 있다.The photocurable resin composition of the present invention may contain a solvent. By using a solvent, the viscosity of the photo-curable resin composition can be adjusted, thereby improving the handling property and the coatability of the photo-curable resin composition. The solvent is not particularly limited and the same solvents as those used for the polymerization of the monomer composition in the emulsion polymerization and solution polymerization described above may be mentioned.

본 발명의 광경화성 수지 조성물은 그 물성을 손상하지 않는 범위 내에 있어서, 필요에 따라서 다른 첨가제가 첨가되어 있어도 좋다. 다른 첨가제로서는, 예를 들면 산화방지제, 광 안정제, 내열 안정제, 대전방지제, 소포제 등을 들 수 있다.The photo-curable resin composition of the present invention may contain other additives if necessary within the range not impairing its physical properties. Other additives include, for example, antioxidants, light stabilizers, heat stabilizers, antistatic agents, antifoaming agents and the like.

본 발명의 광경화성 조성물은 기재의 일면에 경화막을 형성하기 위해서 바람직하게 사용된다. 광경화성 조성물을 경화시켜서 이루어지는 경화막은 투명성, 경도, 내상처성, 내블로킹성, 및 인쇄성이 뛰어나다. 따라서, 이러한 경화막은 하드 코트층으로서 사용할 수 있다.The photocurable composition of the present invention is preferably used to form a cured film on one side of a substrate. The cured film obtained by curing the photo-curing composition has excellent transparency, hardness, scratch resistance, blocking resistance, and printability. Therefore, such a cured film can be used as a hard coat layer.

광경화성 수지 조성물의 경화막의 형성 방법으로서는 광경화성 수지 조성물을 기재의 적어도 일면에 도포하는 공정과, 도포한 광경화성 수지 조성물에 활성 에너지선을 조사함으로써 광경화시켜서 경화막을 얻는 공정을 갖는 방법이 사용된다. 활성 에너지선으로서는, 자외선, 전자선, α선, β선, 및 γ선 등을 들 수 있지만, 자외선 및 전자선이 바람직하다. 광중합 개시제를 포함하지 않는 광경화성 수지 조성물에 활성 에너지선을 조사할 경우, 활성 에너지선으로서 전자선이 바람직하게 사용된다.As a method of forming a cured film of the photo-curable resin composition, there is a method of applying a photo-curable resin composition to at least one surface of a base material and a method of obtaining a cured film by photo-curing the applied photo- do. Examples of the active energy ray include ultraviolet rays, electron rays, alpha rays, beta rays, and gamma rays, but ultraviolet rays and electron beams are preferable. When an active energy ray is irradiated to a photocurable resin composition not containing a photopolymerization initiator, an electron beam is preferably used as an active energy ray.

자외선의 조사는 크세논 램프, 고압 수은등, 및 메탈할라이드 램프 등의 광원을 갖는 자외선 조사 장치를 이용하여 행할 수 있다. 광원으로서 고압 수은등을 사용할 경우에는, 광경화성 수지 조성물이 도포된 기재를 고압 수은등 1등에 대하여 5∼50m/분의 반송 속도로 반송시켜서 자외선을 조사하는 것이 바람직하다. 이때, 고압 수은등의 광량은 80∼160W/㎝가 바람직하다.The irradiation with ultraviolet rays can be performed using an ultraviolet irradiation apparatus having a light source such as a xenon lamp, a high-pressure mercury lamp, and a metal halide lamp. When a high-pressure mercury lamp is used as the light source, it is preferable to irradiate ultraviolet light by transporting the substrate coated with the photo-curable resin composition to the high-pressure mercury lamp 1 at a conveying speed of 5 to 50 m / min. At this time, the light amount of the high-pressure mercury lamp is preferably 80 to 160 W / cm.

광원으로서 전자선을 사용할 경우에는, 광경화성 수지 조성물이 도포된 기재를 바람직하게는 10∼300㎸의 가속 전압을 갖는 전자선 가속 장치를 이용하여 5∼50m/분의 반송 속도로 반송시켜서 전자선을 조사하는 것이 바람직하다.When the electron beam is used as the light source, the substrate coated with the photo-curable resin composition is preferably transported at an electron beam accelerating device having an acceleration voltage of 10 to 300 kV at a transport speed of 5 to 50 m / min to irradiate an electron beam .

기재의 재질로서는 특별하게 한정되지 않고, 예를 들면 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트 등의 폴리에스테르계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 폴리아크릴계 수지, 스티렌계 수지, ABS 수지, 트리아세틸셀룰로오스, 및 올레핀계 수지 등의 합성 수지, 유리 등의 무기 재료, 스테인리스, 강, 알루미늄 등의 금속 등을 들 수 있다.The material of the base material is not particularly limited, and examples thereof include polyester resins such as polyethylene terephthalate and polybutylene terephthalate, polycarbonate resins, polyacrylic resins, styrene resins, ABS resins, triacetylcellulose, Synthetic resins such as olefin resins, inorganic materials such as glass, and metals such as stainless steel, steel and aluminum.

광경화성 수지 조성물을 기재에 도포하는 방법으로서는, 예를 들면 딥 코트법, 스프레이 코트법, 롤 코트법, 닥터블레이드법, 스크린 인쇄법 등에 의한 도포 방법, 바 코터, 애플리케이터 등을 사용한 캐스팅 등을 들 수 있다.Examples of the method of applying the photocurable resin composition to a substrate include a coating method using a dip coating method, a spray coating method, a roll coating method, a doctor blade method, a screen printing method, etc., a casting method using a bar coater, .

기재 상에 도포한 광경화성 수지 조성물의 건조 후의 도막의 막 두께는 특별하게 한정되지 않지만, 2∼90㎛가 바람직하고, 5∼50㎛가 보다 바람직하다.The thickness of the coating film after drying of the photocurable resin composition applied on the substrate is not particularly limited, but is preferably 2 to 90 占 퐉, more preferably 5 to 50 占 퐉.

도포된 광경화성 수지 조성물을 광조사 전에 가열함으로써 광경화성 수지 조성물에 포함되어 있는 용제 등을 제거해도 좋다.The applied photo-curable resin composition may be heated before light irradiation to remove the solvent and the like contained in the photo-curable resin composition.

광경화성 수지 조성물의 경화막은 상술한 바와 같이 무기 입자(B) 및 유기 입자(C)를 조합시켜서 사용함으로써, 경도, 내상처성, 내블로킹성, 투명성, 인쇄성 등의 물성이 향상되어 있다. 본래, 무기 입자와 유기 입자는 굴절률이 다르고, 또한 무기 입자와 유기 입자를 조합시켜서 사용하면 양자의 정전기적인 반발에 의해 무기 입자끼리 및 유기 입자끼리가 응집되기 쉬워진다. 그 결과, 무기 입자와 유기 입자의 병용은 경화막의 투명성을 저하시킨다. 그러나, 본 발명에서는 (메타)아크릴계 폴리머(A)를 이용하여 무기 입자(B) 및 유기 입자(C)를 고분산시킴으로써, 무기 입자(B)와 유기 입자(C)의 병용에 의한 경화막의 투명성의 저하를 크게 저감시킬 수 있다.The cured film of the photo-curing resin composition has improved physical properties such as hardness, scratch resistance, blocking resistance, transparency and printability by using the inorganic particles (B) and the organic particles (C) in combination as described above. Originally, when the inorganic particles and the organic particles have different refractive indices and are used in combination with the inorganic particles and the organic particles, the inorganic particles and the organic particles easily aggregate due to the electrostatic repulsion between them. As a result, the combined use of the inorganic particles and the organic particles lowers the transparency of the cured film. However, in the present invention, the inorganic particles (B) and the organic particles (C) are highly dispersed using the (meth) acrylic polymer (A) Can be greatly reduced.

광경화성 수지 조성물의 경화막은 뛰어난 투명성을 갖고 있다. 광경화성 수지 조성물의 경화막의 헤이즈는 1.0% 이하가 바람직하고, 0.8% 이하가 보다 바람직하다. 또한, 경화막의 헤이즈는 JIS K 7136(2000)에 준거해서 측정되는 값이다.The cured film of the photo-curing resin composition has excellent transparency. The haze of the cured film of the photocurable resin composition is preferably 1.0% or less, more preferably 0.8% or less. The haze of the cured film is a value measured in accordance with JIS K 7136 (2000).

광경화성 수지 조성물의 경화막은 뛰어난 경도를 갖고 있다. 광경화성 수지 조성물의 경화막의 경도는 연필 경도로서 H 이상이 바람직하고, 2H 이상이 보다 바람직하다. 또한, 연필 경도는 JIS K 5600-5-4(1999)에 준거하여, 연필 경도 시험에 의해 측정된 값을 말한다.The cured film of the photocurable resin composition has excellent hardness. The hardness of the cured film of the photocurable resin composition is preferably a pencil hardness of H or more, more preferably 2H or more. The pencil hardness refers to a value measured by a pencil hardness test according to JIS K 5600-5-4 (1999).

광경화성 수지 조성물의 경화막은 동마찰계수가 낮고, 뛰어난 내블로킹성을 갖고 있다. 광경화성 수지 조성물의 경화막의 동마찰계수는 0.6N 이하가 바람직하고, 0.5N 이하가 보다 바람직하다. 또한, 동마찰계수는 JIS K 7125(1999)에 준거해서 측정된 값을 말한다.The cured film of the photo-curing resin composition has a low dynamic friction coefficient and excellent blocking resistance. The coefficient of dynamic friction of the cured film of the photo-curable resin composition is preferably 0.6 N or less, more preferably 0.5 N or less. The coefficient of dynamic friction is a value measured in accordance with JIS K 7125 (1999).

광경화성 수지 조성물의 경화막은 잉크에 대한 젖음성이 뛰어나 인쇄성이 향상되어 있다. 광경화성 수지 조성물의 경화막 표면의 젖음 장력은 35dyn/㎝ 이상이 바람직하고, 40dyn/㎝ 이상이 보다 바람직하다. 또한, 광경화성 수지 조성물의 경화막 표면의 젖음 장력은 JIS K 6768(1999)에 준거해서 측정된 값으로 한다.The cured film of the photo-curable resin composition has excellent wettability with respect to ink, and printability is improved. The wet tension of the surface of the cured film of the photo-curable resin composition is preferably 35 dyn / cm or more, more preferably 40 dyn / cm or more. The wetting strength of the surface of the cured film of the photo-curing resin composition is measured in accordance with JIS K 6768 (1999).

광경화성 수지 조성물의 경화막의 두께는 경도, 내상처성, 내블로킹성, 및 인쇄성이 뛰어난 경화막을 얻는 관점으로부터 2∼90㎛가 바람직하고, 5∼50㎛가 보다 바람직하다.The thickness of the cured film of the photo-curable resin composition is preferably 2 to 90 占 퐉, more preferably 5 to 50 占 퐉, from the viewpoint of obtaining a cured film excellent in hardness, scratch resistance, blocking resistance and printability.

본 발명의 광경화성 수지 조성물의 경화막은 하드 코트층으로서 기재 표면을 보호하기 위해서 바람직하게 사용된다. 경화막 상에는 하드 코트층 이외의 기능층이 적층 일체화되어 있는 것이 바람직하다. 광경화성 수지 조성물의 경화막은 뛰어난 인쇄성을 갖고 있기 때문에, 경화막 상에 원하는 패턴 형상이나 균일한 두께를 갖는 기능층을 형성할 수 있다.The cured film of the photocurable resin composition of the present invention is preferably used as a hard coat layer in order to protect the substrate surface. It is preferable that functional layers other than the hard coat layer are laminated and integrated on the cured film. Since the cured film of the photo-curing resin composition has excellent printability, a functional layer having a desired pattern shape and uniform thickness can be formed on the cured film.

기능층으로서는, 예를 들면 전자파 실드층, 열선 반사층, 자외선 차폐층, 가스 배리어층, 반사 방지층, 도전층, 하드 코트 보호층, 방현층, 접착층, 대전 방지층 등을 들 수 있다. 이들 기능층은 공지의 방법에 의해 형성할 수 있다.Examples of the functional layer include an electromagnetic wave shielding layer, a heat ray reflective layer, an ultraviolet shielding layer, a gas barrier layer, an antireflection layer, a conductive layer, a hard coat protective layer, an antiglare layer, an adhesive layer and an antistatic layer. These functional layers can be formed by a known method.

예를 들면, 광경화성 수지 조성물의 경화막 상에 투명 도전층이 적층 일체화되어 있는 도전성 적층 필름은 터치패널에 바람직하게 사용된다. 본 발명의 광경화성 수지 조성물의 경화막은 인쇄성뿐만 아니라 투명성에도 뛰어나기 때문에, 이러한 경화막 상에 미세한 패턴 형상을 갖고 또한 뛰어난 투명성을 갖는 투명 도전층을 형성할 수 있고, 이것에 의해 투명 도전층이 시인되기 어렵고 또한 가시광의 투과율이 높은 도전성 적층 필름을 제공할 수 있다.For example, a conductive laminated film in which a transparent conductive layer is laminated and integrated on a cured film of a photo-curable resin composition is preferably used for a touch panel. Since the cured film of the photo-curable resin composition of the present invention has excellent transparency as well as printability, it is possible to form a transparent conductive layer having a fine pattern shape and excellent transparency on the cured film, It is possible to provide a conductive laminated film which is difficult to be visually recognized and has high transmittance of visible light.

도전성 적층 필름은 투명 기재와, 이 투명 기재의 일면에 적층 일체화되어 있는 광경화성 수지 조성물의 경화막과, 이 경화막의 일면에 적층 일체화되어 있는 투명 도전층을 포함하고 있다.The conductive laminated film includes a transparent substrate, a cured film of a photo-curable resin composition laminated and integrated on one surface of the transparent substrate, and a transparent conductive layer laminated and integrated on one surface of the cured film.

투명 기재는 투명 합성 수지를 포함하고 있다. 투명 합성 수지로서는 폴리에스테르계 수지, 아세테이트계 수지, 폴리에테르술폰계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리이미드계 수지, 폴리올레핀계 수지, (메타)아크릴계 수지, 폴리염화비닐계 수지, 폴리염화비닐리덴계 수지, 폴리스티렌계 수지, 폴리비닐알콜계 수지, 폴리아릴레이트계 수지, 폴리페닐렌술파이드계 수지 등을 들 수 있다. 투명 기재의 두께는 2∼200㎛가 바람직하고, 2∼100㎛가 보다 바람직하다.The transparent substrate includes a transparent synthetic resin. Examples of the transparent synthetic resin include a polyester resin, an acetate resin, a polyether sulfone resin, a polycarbonate resin, a polyamide resin, a polyimide resin, a polyolefin resin, a (meth) acrylic resin, a polyvinyl chloride resin, Polyvinylidene chloride resins, polystyrene resins, polyvinyl alcohol resins, polyarylate resins, polyphenylene sulfide resins, and the like. The thickness of the transparent substrate is preferably 2 to 200 mu m, more preferably 2 to 100 mu m.

투명 도전층은 광경화성 수지 조성물의 경화막 상에 접착층을 통해서 적층 일체화되어 있어도 좋다. 접착층은 공지의 접착제를 포함하고 있다. 접착제로서는, 예를 들면 아크릴계 접착제, 실리콘계 접착제, 폴리에스테르계 접착제 등이 사용된다. 경화막 상에 접착제를 함유하는 조성물을 도포함으로써, 균일한 두께를 갖는 접착제층을 형성할 수 있다.The transparent conductive layer may be laminated and integrated on the cured film of the photo-curing resin composition through the adhesive layer. The adhesive layer contains a known adhesive. As the adhesive, for example, an acrylic adhesive, a silicone adhesive, a polyester adhesive and the like are used. By applying a composition containing an adhesive on the cured film, an adhesive layer having a uniform thickness can be formed.

투명 도전층의 구성 재료로서는, 예를 들면 인듐, 주석, 아연, 갈륨, 안티몬, 티탄, 규소, 지르코늄, 마그네슘, 알루미늄, 금, 은, 구리, 팔라듐, 및 텅스텐으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 금속의 산화물을 들 수 있다. 투명 도전층은 도전성 적층 필름이 사용되는 용도에 따라서, 스트라이프상 등의 패턴 형상을 갖는다.Examples of the constituent material of the transparent conductive layer include at least one selected from the group consisting of indium, tin, zinc, gallium, antimony, titanium, silicon, zirconium, magnesium, aluminum, gold, silver, copper, palladium, and tungsten Of an oxide of a metal. The transparent conductive layer has a pattern shape such as a stripe shape depending on the application in which the conductive laminated film is used.

투명 도전층의 형성 방법으로서는 공지의 방법이 사용된다. 예를 들면, 도전 페이스트를 인쇄하는 방법이 바람직하다. 광경화성 수지 조성물의 경화막은 상술한 바와 같이 표면에 수산기가 많이 존재하고 있음으로써, 높은 극성을 갖고 있다. 이에 따라, 광경화성 수지 조성물의 경화막과 투명 도전층을 강고하게 적층 일체화시킬 수 있다. 따라서, 투명 도전층의 형성 방법으로서는 인쇄법에 한정되지 않고, 증착법이나 스퍼터링법 등도 바람직하게 사용된다.As a method for forming the transparent conductive layer, a known method is used. For example, a method of printing a conductive paste is preferable. The cured film of the photo-curable resin composition has a high polarity because a large number of hydroxyl groups exist on the surface as described above. Thus, the cured film of the photo-curable resin composition and the transparent conductive layer can be firmly laminated and integrated. Therefore, the method of forming the transparent conductive layer is not limited to the printing method, and a vapor deposition method, a sputtering method, and the like are also preferably used.

도전성 적층 필름은 정전 용량 방식의 터치패널에 바람직하게 사용된다. 터치패널은 특별하게 제한되지 않지만, 정보 단말 장치의 표시 패널의 앞면에 설치된다. 정보 단말 장치로서는, 예를 들면 휴대 전화, 휴대 정보 단말(PDA), 휴대형 게임기, 디지털 카메라, 퍼스널 컴퓨터, 및 텔레비전 등을 들 수 있다.The conductive laminated film is preferably used for a capacitive touch panel. The touch panel is not particularly limited, but is provided on the front surface of the display panel of the information terminal apparatus. Examples of the information terminal apparatus include a cellular phone, a portable information terminal (PDA), a portable game machine, a digital camera, a personal computer, a television, and the like.

실시예Example

이하에, 본 발명을 실시예를 이용하여 보다 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이것에 한정되지 않는다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited thereto.

(실시 합성예 1∼9 및 비교 합성예 1∼8)(Conducting Synthesis Examples 1 to 9 and Comparative Synthesis Examples 1 to 8)

(메타)아크릴계 폴리머의 합성Synthesis of (meth) acrylic polymer

반응 용기 중에, 용제로서 메틸이소부틸케톤(MIBK) 400중량부를 공급해서 90℃까지 가열하여 유지했다.400 parts by weight of methyl isobutyl ketone (MIBK) as a solvent was supplied into the reaction vessel, and the mixture was heated to 90 占 폚 and held.

메틸메타크릴레이트(MMA), 이소보닐메타크릴레이트(IBXMA), 글리시딜메타크릴레이트(GMA), 2-히드록시에틸메타크릴레이트(2-HEMA), 부틸아크릴레이트(BA), 및 라디칼 중합 개시제로서 아조비스-2-메틸부티로니트릴(ABN-E)을 표 1 및 2에 나타낸 배합량으로 혼합하여 모노머 조성물을 얻었다.(MMA), isobornyl methacrylate (IBXMA), glycidyl methacrylate (GMA), 2-hydroxyethyl methacrylate (2-HEMA), butyl acrylate (BA) Azobis-2-methylbutyronitrile (ABN-E) as a polymerization initiator was mixed in the amounts shown in Tables 1 and 2 to obtain a monomer composition.

이어서, 모노머 조성물을 2시간에 걸쳐서 서서히 반응 용기 중에 적하하면서 혼합하고, 4시간에 걸쳐서 방치한 후, 120℃로 1시간에 걸쳐서 가열함으로써, 라디칼 중합시킴으로써 중합체를 얻었다.Then, the monomer composition was slowly added dropwise to the reaction vessel over a period of 2 hours, and the mixture was allowed to stand over 4 hours, followed by heating at 120 占 폚 for 1 hour to obtain a polymer by radical polymerization.

이어서, 중합체를 60℃까지 냉각시킨 후, 중합체에 아크릴산(AA), 2-이소시아나토에틸메타크릴레이트(MOI), 중합 금지제로서 파라메톡시페놀(MQ), 촉매로서 트리페닐포스핀(TPP) 및 디부틸주석디라우레이트(DBTDL)를 각각 표 1 및 2에 나타낸 배합량으로 혼합하여 혼합물을 얻었다. 그 후에, 반응 용기 중에 산소를 취입하면서 혼합물을 110℃로 8시간에 걸쳐서 가열하고, 중합체에 아크릴산(AA) 또는 2-이소시아나토에틸메타크릴레이트(MOI)를 부가시키고, 이것에 의해 측쇄에 광중합성기 및 수산기를 갖고 있는 (메타)아크릴계 폴리머를 제조했다.Subsequently, the polymer was cooled to 60 DEG C, and then acrylic acid (AA), 2-isocyanatoethyl methacrylate (MOI), paramethoxyphenol (MQ) as a polymerization inhibitor and triphenylphosphine TPP) and dibutyltin dilaurate (DBTDL) were mixed in the amounts shown in Tables 1 and 2, respectively, to obtain a mixture. Thereafter, the mixture was heated to 110 DEG C over 8 hours while oxygen was blown into the reaction vessel to add acrylic acid (AA) or 2-isocyanatoethyl methacrylate (MOI) to the polymer, (Meth) acrylic polymer having a photopolymerizable group and a hydroxyl group.

얻어진 (메타)아크릴계 폴리머의 수산기가, (메타)아크릴 당량, 중량 평균 분자량, 및 유리전이점을 하기 요령으로 측정했다. 그 결과를 표 1 및 2에 나타냈다.The (meth) acrylic equivalent, the weight average molecular weight, and the glass transition point of the obtained (meth) acryl-based polymer were measured in the following manner. The results are shown in Tables 1 and 2.

(수산기가)(Hydroxyl group)

(메타)아크릴계 폴리머의 수산기가는 JIS K 1557-1: 2007(ISO 14900: 2001) 「플라스틱-폴리우레탄 원료 폴리올 시험 방법-제 1부: 수산기가를 구하는 방법」의 4.2 B법에 준거해서 측정했다. 또한, (메타)아크릴계 폴리머의 수산기가는 고형분의 수산기가를 말한다.The hydroxyl value of the (meth) acryl-based polymer is measured according to 4.2 B of JIS K 1557-1: 2007 (ISO 14900: 2001) "Plastics - Test method for polyurethane raw material polyol - Part 1: did. The hydroxyl value of the (meth) acryl-based polymer means the hydroxyl value of the solid content.

[(메타)아크릴 당량][(Meth) acryl equivalent]

(메타)아크릴계 폴리머의 (메타)아크릴 당량은 (메타)아크릴계 폴리머의 원료인 모노머 조성으로부터, 상기 식(I)에 의해 산출했다.The (meth) acrylic equivalent of the (meth) acrylic polymer was calculated from the monomer composition as the raw material of the (meth) acrylic polymer by the above formula (I).

(중량 평균 분자량)(Weight average molecular weight)

(메타)아크릴계 폴리머로부터 샘플로서 0.2㎎을 채취하고, 이것을 테트라히드로푸란 10밀리리터에 용해시켜, 시차 굴절률 검출기(RID)를 장비한 겔 퍼미에이션 크로마토그래피(GPC)에 의해 샘플의 분자량 분포를 측정하여 크로마토그램(차트)을 얻었다.A 0.2 mg sample was taken from a (meth) acrylic polymer, dissolved in 10 milliliters of tetrahydrofuran, and the molecular weight distribution of the sample was measured by gel permeation chromatography (GPC) equipped with a differential refractive index detector (RID) A chromatogram (chart) was obtained.

이어서, 얻어진 크로마토그램(차트)으로부터 표준 폴리스티렌을 검량선으로 해서 샘플의 중량 평균 분자량 및 수평균 분자량을 산출했다. 측정 장치 및 측정 조건을 이하에 나타낸다.Then, the weight average molecular weight and number average molecular weight of the sample were calculated from the obtained chromatogram (chart) using standard polystyrene as a calibration curve. The measurement apparatus and measurement conditions are shown below.

데이터 처리 장치: 제품명 HLC-8220GPC(토소사 제)Data processing apparatus: product name HLC-8220GPC (manufactured by Tosoh Corporation)

시차 굴절률 검출기: 제품명 HLC-8220GPC에 내장된 RI 검출기Differential Refractive Index Detector: RI detector embedded in HLC-8220GPC

컬럼: 제품명 TSKgel GMHXL(토소사 제) 3개Column: Product name TSKgel GMH XL (made by Tosoh Corporation) 3

이동상: 테트라히드로푸란Mobile phase: tetrahydrofuran

컬럼 유량: 0.5mL/minColumn flow rate: 0.5 mL / min

주입량: 20μLInjection volume: 20 μL

측정 온도: 40℃Measuring temperature: 40 ° C

표준 폴리스티렌 분자량: 1250, 3250, 9200, 28500, 68000, 165000, 475000, 950000, 1900000Standard polystyrene molecular weight: 1250, 3250, 9200, 28500, 68000, 165000, 475000, 950000, 1900000

(유리전이점)(Glass transition point)

(메타)아크릴계 폴리머의 유리전이점은 폭스의 식에 의해 산출했다.The glass transition point of the (meth) acrylic polymer was calculated by Fox's formula.

Figure 112016025627193-pct00002
Figure 112016025627193-pct00002

Figure 112016025627193-pct00003
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(실시예 1∼25 및 비교예 1∼20)(Examples 1 to 25 and Comparative Examples 1 to 20)

표 3∼7에 나타낸 배합량으로, 무기 입자(B)로서 평균 입자 지름(MD)이 10㎚인 산화규소 입자(B1), 평균 입자 지름이 100㎚인 산화규소 입자(B2), 평균 입자 지름이 400㎚인 산화규소 입자(B3), 평균 입자 지름이 100㎚인 산화티탄 입자(B4), 평균 입자 지름이 100㎚인 산화지르코늄 입자(B5), 평균 입자 지름이 1000㎚인 산화규소 입자(B6), 유기 입자(C)로서 평균 입자 지름이 20㎚인 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA) 입자(C1), 평균 입자 지름이 100㎚인 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA) 입자(C2), 평균 입자 지름이 400㎚인 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA) 입자(C3), 평균 입자 지름이 100㎚인 스티렌계 수지 입자(C4), 평균 입자 지름이 100㎚인 멜라민 수지 입자(C5), 평균 입자 지름이 1000㎚인 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA) 입자(C6), 광중합성 다관능 화합물(D)로서 펜타에리스리톨트리아크릴레이트헥사메틸렌디이소시아네이트우레탄 올리고머[교에이샤 카가쿠(주)의 상품명 「UA-306H」], 및 메틸이소부틸케톤을 균일하게 혼합해서 예비 혼합액을 제작했다.The silicon oxide particles (B1) having an average particle diameter (MD) of 10 nm, the silicon oxide particles (B2) having an average particle diameter of 100 nm as the inorganic particles (B) (B3) having a mean particle diameter of 100 nm, titanium oxide particles (B4) having an average particle diameter of 100 nm, zirconium oxide particles (B5) having an average particle diameter of 100 nm, and silicon oxide particles , Polymethyl methacrylate (PMMA) particles (C1) having an average particle diameter of 20 nm as the organic particles (C), polymethylmethacrylate (PMMA) particles (C2) having an average particle diameter of 100 nm, Polymethyl methacrylate (PMMA) particles (C3) having a diameter of 400 nm, styrene type resin particles (C4) having an average particle diameter of 100 nm, melamine resin particles (C5) having an average particle diameter of 100 nm, Polymethyl methacrylate (PMMA) particles (C6) having a particle size of 1000 nm, a pentaerythritol triacrylate Acrylate hexamethylene diisocyanate urethane oligomer a, and methyl isobutyl ketone [trade name: "UA-306H" of the T Ischia Kagaku Co., Ltd.] and uniformly mixed to prepare a pre-mixed solution.

예비 혼합액에 실시 합성예 1∼9 및 비교 합성예 1∼8에서 제조한 (메타)아크릴계 폴리머를 고형분 환산으로, 표 3∼7에 나타낸 배합량이 되도록 10분 걸쳐서 서서히 적하했다. 적하가 종료된 후, 예비 혼합액을 30℃로 30∼60분간에 걸쳐서 교반했다.The (meth) acrylic polymer prepared in Examples 1 to 9 and Comparative Synthesis Examples 1 to 8 was slowly added dropwise to the preliminary mixed solution over a period of 10 minutes so that the blend amount shown in Tables 3 to 7 was obtained in terms of solid content. After completion of the dropwise addition, the premix solution was stirred at 30 占 폚 for 30 to 60 minutes.

이어서, 교반한 예비 혼합액에 광중합 개시제로서 2-히드록시-2-메틸-1-페닐-프로판-1-온(BASF사의 제품명 「DAROCUR 1173」)을 표 3∼7에 나타낸 배합량으로 첨가하고, 이것들을 혼합함으로써 광경화성 수지 조성물을 얻었다. 또한, 얻어진 광경화성 수지 조성물 중의 무기 입자 (B1)∼(B6) 및 유기 입자 (C1)∼(C6)의 각 평균 입자 지름을 상술한 측정 방법에 의해 측정한 결과, 각 평균 입자 지름의 측정값은 예비 혼합액의 제작에 사용한 무기 입자 (B1)∼(B6) 및 유기 입자 (C1)∼(C6)의 상기한 각 평균 입자 지름과 동일한 값이었다.Then, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one (product name "DAROCUR 1173" manufactured by BASF) as a photopolymerization initiator was added to the preliminary mixed solution in the amounts shown in Tables 3 to 7, To obtain a photo-curable resin composition. The average particle diameters of the inorganic particles (B1) to (B6) and the organic particles (C1) to (C6) in the obtained photo-curable resin composition were measured by the measurement method described above. Was the same as the average particle diameter of the inorganic particles (B1) to (B6) and the organic particles (C1) to (C6) used for preparing the preliminary mixed solution.

광경화성 수지 조성물을 건조 막 두께가 5㎛가 되도록 바 코터를 이용하여 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름 상에 도포했다. 그 후에, 광경화성 수지 조성물을 80℃로 2분에 걸쳐서 가열하여 용제를 제거한 후, 광경화성 수지 조성물에 고압 수은등(광량 120W/㎝)을 이용하여 500mJ/㎠의 적산 광량으로 자외선을 조사하고, 광경화성 수지 조성물을 광경화시켜서 경화막(두께 5㎛)을 형성했다.The photo-curable resin composition was applied on a polyethylene terephthalate (PET) film using a bar coater so that the dry film thickness was 5 mu m. Thereafter, the photo-curing resin composition was heated at 80 占 폚 for 2 minutes to remove the solvent. Then, the photo-curable resin composition was irradiated with ultraviolet rays at a cumulative light quantity of 500 mJ / cm2 using a high-pressure mercury lamp (light amount 120 W / cm) The photo-curing resin composition was photo-cured to form a cured film (thickness: 5 m).

[평가][evaluation]

경화막의 외관, 연필 경도, 헤이즈, 내블로킹성, 및 인쇄성을 하기 요령에 따라서 평가했다. 이것들의 결과를 표 3∼7에 나타낸 배합량으로 나타냈다.The appearance of the cured film, pencil hardness, haze, blocking resistance, and printability were evaluated according to the following procedures. The results are shown in the formulations shown in Tables 3 to 7.

(외관)(Exterior)

경화막의 외관을 JIS K 5600-1-1의 4.4 「도막의 외관」의 시험법에 준거해서 평가했다. 표 3∼7에 있어서 「우」 및 「열」은 각각 하기에 나타내는 바와 같다.The appearance of the cured film was evaluated in accordance with the test method of 4.4 " Appearance of Coating Film " of JIS K 5600-1-1. In Tables 3 to 7, " right " and " column "

우: 경화막이 무색 투명이며 또한 크랙의 발생이 없었다.Right: The cured film was colorless transparent and had no cracks.

열 :경화막에 있어서 백탁의 발생 및 크랙의 발생 중 적어도 한쪽이 발생하고 있었다.Heat: At least one of occurrence of cloudiness and generation of cracks occurred in the cured film.

(연필 경도)(Pencil hardness)

경화막의 연필 경도를 JIS K 5600-5-4(1999)에 준거한 연필 경도 시험에 의해 측정했다.The pencil hardness of the cured film was measured by a pencil hardness test according to JIS K 5600-5-4 (1999).

(헤이즈)(Hayes)

경화막의 헤이즈(%)를 JIS K 7136(2000)에 준거하여, 헤이즈미터에 의해 측정했다.The haze (%) of the cured film was measured by a haze meter according to JIS K 7136 (2000).

(내블로킹성)(Blocking resistance)

경화막이 형성되어 있는 PET 필름을 2매 준비했다. 이들 PET 필름을 경화막이 대향하도록 해서 적층하여 적층체를 얻었다. 이 적층체 상에 5㎏ 하중을 가하면서, 적층체를 80℃로 12시간에 걸쳐서 가열했다. 그 후에, 한쪽 PET 필름을 경화막 표면에 대하여 평행 방향으로 인장 속도 10㎜/분으로 인장하고, 이때의 동마찰계수(N)를 JIS K 7125(1999)에 준거해서 측정했다.Two PET films on which a cured film was formed were prepared. These PET films were stacked so that the cured films were opposed to each other to obtain a laminate. The laminate was heated at 80 占 폚 for 12 hours while applying a load of 5 kg onto this laminate. Thereafter, one PET film was stretched in a direction parallel to the surface of the cured film at a tensile speed of 10 mm / min, and the coefficient of dynamic friction (N) at that time was measured in accordance with JIS K 7125 (1999).

(인쇄성)(Printability)

경화막의 인쇄성을, 경화막 표면의 젖음 장력(dyn/㎝)을 JIS K 6768(1999)에 준거해서 측정함으로써 평가했다.The printability of the cured film was evaluated by measuring the wet tension (dyn / cm) on the surface of the cured film in accordance with JIS K 6768 (1999).

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(산업상의 이용 가능성)(Industrial availability)

본 발명에 의하면, 투명성을 저하시키지 않고 내블로킹성이 향상되어 있고, 또한 뛰어난 인쇄성도 갖고 있는 하드 코트층을 형성하는 것이 가능한 광경화성 수지 조성물을 제공할 수 있다.According to the present invention, it is possible to provide a photo-curing resin composition capable of forming a hard coat layer having improved blocking resistance without deteriorating transparency and also having excellent printability.

Claims (6)

수산기가가 10∼350㎎KOH/g이고, (메타)아크릴 당량이 100∼800g/eq이고, 중량 평균 분자량이 10,000∼200,000이고, 유리전이점이 50∼110℃이고, 또한 측쇄에 광중합성기 및 수산기를 갖고 있는 (메타)아크릴계 폴리머(A)와,
평균 입자 지름이 10㎚∼500㎚인 무기 입자(B)와,
평균 입자 지름이 10㎚∼500㎚인 유기 입자(C)와,
1분자 중에 2개 이상의 광중합성기를 갖고 있는 광중합성 다관능 화합물(D)을 포함하고 있고, 또한
상기 (메타)아크릴계 폴리머(A), 상기 무기 입자(B), 상기 유기 입자(C), 및 상기 광중합성 다관능 화합물(D)의 총 중량에 대하여,
상기 (메타)아크릴계 폴리머(A)의 함유량이 10∼40중량%이고,
상기 무기 입자(B)의 함유량이 5∼40중량%이고,
상기 유기 입자(C)의 함유량이 0.5∼10중량%이고,
상기 광중합성 다관능 화합물(D)의 함유량이 20∼70중량%인 것을 특징으로 하는 광경화성 수지 조성물.
(Meth) acrylate equivalent weight of 100 to 800 g / eq, a weight average molecular weight of 10,000 to 200,000, a glass transition point of 50 to 110 占 폚, and a photopolymerizable group and a hydroxyl group (Meth) acryl-based polymer (A)
An inorganic particle (B) having an average particle diameter of 10 nm to 500 nm,
(C) having an average particle diameter of 10 nm to 500 nm,
(D) having at least two photopolymerizable groups in one molecule, and the photopolymerizable polyfunctional compound
Based on the total weight of the (meth) acrylic polymer (A), the inorganic particles (B), the organic particles (C), and the photopolymerizable polyfunctional compound (D)
The content of the (meth) acrylic polymer (A) is 10 to 40% by weight,
, The content of the inorganic particles (B) is 5 to 40% by weight,
The content of the organic particles (C) is 0.5 to 10% by weight,
Wherein the content of the photopolymerizable polyfunctional compound (D) is 20 to 70% by weight.
제 1 항에 있어서,
상기 (메타)아크릴계 폴리머(A)는 알킬(메타)아크릴레이트 성분을 10∼90중량% 함유하고 있는 것을 특징으로 하는 광경화성 수지 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein the (meth) acrylic polymer (A) contains 10 to 90% by weight of an alkyl (meth) acrylate component.
제 1 항에 있어서,
상기 무기 입자(B)는 금속 입자 및 금속 산화물 입자 중 적어도 1종인 것을 특징으로 하는 광경화성 수지 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein the inorganic particles (B) are at least one of metal particles and metal oxide particles.
제 1 항에 있어서,
상기 유기 입자(C)는 (메타)아크릴계 수지 입자인 것을 특징으로 하는 광경화성 수지 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein the organic particles (C) are (meth) acrylic resin particles.
제 1 항에 있어서,
광중합 개시제를 포함하고 있는 것을 특징으로 하는 광경화성 수지 조성물.
The method according to claim 1,
A photopolymerization initiator, and a photopolymerization initiator.
제 1 항에 기재된 광경화성 수지 조성물을 경화시켜서 이루어지는 것을 특징으로 하는 경화막.A cured film formed by curing the photo-curable resin composition according to claim 1.
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