KR101745441B1 - 연속생산공정 적용이 가능한 이물질 검사장치 - Google Patents
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Abstract
본 발명에 따른 연속생산공정 적용이 가능한 이물질 검사장치는 측정대상물을 일방향으로 이동시키는 이송모듈, 상기 이송모듈의 상부에 이격되어 위치하고, 상기 측정대상물의 검사대상 영역에서 상기 측정대상물의 이동방향에 교차하는 방향으로 일정 간격으로 이격된 띠 형태의 빛을 조사하는 조사모듈, 상기 이송모듈의 상부에 이격되어 위치하고, 상기 검사대상 영역 내에서 측정대상물의 이동 과정에 따라 상기 조사모듈에서 조사되어 상기 측정대상물로부터 반사되는 빛의 광도 변화를 측정하여 광도곡선을 도출하는 측정모듈 및 상기 조사모듈에서 조사된 빛의 이격된 간격 값에 기초하여 상기 측정모듈에서 도출된 상기 광도곡선을 통해 상기 측정대상물에 존재하는 이물질의 유무 및 크기를 도출하는 분석모듈을 포함한다.
따라서, 크기를 달리하는 다수의 이물질로부터 반사되는 빛의 광도변화에 대한 일정 패턴의 광도곡선에 대한 데이터를 규격한 후, 상기 광도곡선에 대한 데이터로부터 검사되는 이물질의 유무 및 크기를 역으로 파악할 수 있다.
따라서, 크기를 달리하는 다수의 이물질로부터 반사되는 빛의 광도변화에 대한 일정 패턴의 광도곡선에 대한 데이터를 규격한 후, 상기 광도곡선에 대한 데이터로부터 검사되는 이물질의 유무 및 크기를 역으로 파악할 수 있다.
Description
본 발명은 연속생산공정 적용이 가능한 이물질 검사장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 이물질로부터 반사되는 빛의 광도 변화에 대한 데이터를 규격화하여, 상기 데이터로부터 이물질이 어떤 크기를 가지는지 역으로 파악할 수 있는 연속생산공정 적용이 가능한 이물질 검사장치에 관한 것이다.
회로 패턴이 형성되는 기판에 약간이라도 먼지나 이물질이 존재하면, 제조과정에서 불량품이 생산될 수 있으므로, 기판 위에 먼지나 이물질이 존재하는지에 대한 검사는 필수적으로 요구된다. 이러한 이물질 검사는, 일반적으로 적외선 대역의 광을 기판 표면에 조사하여, 이물질로부터 반사되는 산란광을 수광 센서로 검출하는 방법이 일반적으로 이용된다.
상기 광원은 일반적으로 적외선 대역의 광을 조사하는데, 위와 같은 이물질 검사방법은 이물질의 입자크기가 10㎛ 이상인 경우, 이물질의 유무, 크기를 파악할 수 있으나, 이물질의 입자크기가 10㎛ 이하인 경우, 이물질의 유무에 대한 판단은 가능하나, 이물질의 크기는 구별하지 못하는 문제점이 있었다.
따라서 이와 같은 문제점들을 해결하기 위한 방법이 요구된다.
본 발명은 상술한 종래 기술의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 발명으로서, 조사모듈은 마스크 또는 홀로그램시트를 포함하며, 일정 너비의 줄무늬가 반복적으로 형성된 빛을 측정대상물에 조사한다.
그리고, 크기를 달리하는 다수의 이물질로부터 반사되는 빛의 광도변화에 대한 일정 패턴의 최대값, 최소값 및 너비값을 나타내는 광도곡선에 대한 데이터를 규격화한 후, 상기 광도곡선에 대한 데이터로부터 검사되는 이물질의 유무 및 크기를 역으로 파악할 수 있게 하고자 한다.
또한, 대면적의 측정대상물의 검사대상 영역에 빛을 조사하고, 상기 측정대상물에서 반사되는 빛을 감지하여 광도의 변화를 측정함으로써, 연속적으로 다량 생산되는 공정 상에서 이물질을 검사할 때, 본 발명에 따른 검사장치를 사용하여, 제조공정 및 이물질 검사 과정의 효율성을 높일 수 있는 연속생산공정 적용이 가능한 이물질 검사장치를 제공하기 위함이다.
본 출원의 과제들은 이상에서 언급한 과제들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 연속생산공정 적용이 가능한 이물질 검사장치는, 측정대상물을 일방향으로 이동시키는 이송모듈, 상기 이송모듈의 상부에 이격되어 위치하고, 상기 측정대상물의 검사대상 영역에서 상기 측정대상물의 이동방향에 교차하는 방향으로 일정 간격으로 이격된 띠 형태의 빛을 조사하는 조사모듈, 상기 이송모듈의 상부에 이격되어 위치하고, 상기 검사대상 영역 내에서 측정대상물의 이동 과정에 따라 상기 조사모듈에서 조사되어 상기 측정대상물로부터 반사되는 빛의 광도 변화를 측정하여 광도곡선을 도출하는 측정모듈 및 상기 조사모듈에서 조사된 빛의 이격된 간격 값에 기초하여 상기 측정모듈에서 도출된 상기 광도곡선을 통해 상기 측정대상물에 존재하는 이물질의 유무 및 크기를 도출하는 분석모듈을 포함할 수 있다.
측정대상물을 일방향으로 이동시키는 이송모듈, 상기 이송모듈의 상부에 이격되어 병렬적으로 위치하고, 상기 측정대상물의 검사대상 영역에서 상기 측정대상물의 이동방향에 교차하는 방향으로 일정 간격으로 이격된 띠 형태의 빛을 조사하는 조사모듈, 상기 이송모듈의 상부에 이격되어 위치하고, 상기 검사대상 영역 내에서 측정대상물의 이동 과정에 따라 상기 병렬적으로 위치한 조사모듈에서 조사되어 상기 측정대상물로부터 반사되는 빛의 광도 변화를 측정하여 광도곡선을 도출하는 측정모듈 및 상기 조사모듈에서 조사된 빛의 이격된 간격 값에 기초하여 상기 측정모듈에서 도출된 상기 광도곡선을 통해 상기 측정대상물에 존재하는 이물질의 유무 및 크기를 도출하는 분석모듈을 포함할 수 있다.
조사모듈은 일정 세기의 빛을 조사하는 광원부 및 상기 광원부로부터 조사되는 빛을 투과하며, 일정 너비의 줄무늬가 반복적으로 형성된 마스크 또는 홀로그램시트를 구비하는 투광부를 포함하며, 상기 줄무늬와 동일한 형상의 반복적인 줄무늬가 형성된 빛을 상기 측정대상물에 조사할 수 있다.
측정모듈은 상기 측정대상물로부터 반사되는 빛의 광도 변화를 촬영하는 촬영부 및 상기 촬영된 광도 변화를 수치값으로 환산하여 일정 패턴의 광도곡선을 도출하는 측정부를 포함할 수 있다.
측정모듈은 상기 측정대상물로부터 반사되는 빛의 광도 변화를 촬영하는 촬영부 및 상기 촬영된 광도 변화를 수치값으로 환산하여 일정 패턴의 광도곡선을 도출하는 측정부를 포함할 수 있다.
분석모듈은 상기 측정부가 도출한 광도곡선에 대한 데이터를 저장하며, 검사되는 이물질의 유무 및 크기를 상기 데이터로부터 도출할 수 있다.
측정대상물에 조사되는 상기 줄무늬의 너비 및 상기 줄무늬 간의 너비는 상호 동일할 수 있다.
줄무늬의 너비 및 상기 줄무늬 간의 너비는 1㎛ 이상 2㎛ 이하일 수 있다.
검사되는 이물질의 너비는 0.1㎛ 이상 10㎛ 이하일 수 있다.
상기한 과제를 해결하기 위한 본 발명의 연속생산공정 적용이 가능한 이물질 검사장치는 다음과 같은 효과가 있다.
첫째, 크기를 달리하는 다수의 이물질로부터 반사되는 빛의 광도변화에 대한 일정 패턴의 최대값, 최소값 및 너비값을 나타내는 광도곡선을 얻을 수 있는 이점이 있다.
둘째, 광도곡선에 대한 데이터를 규격한 후, 상기 광도곡선에 대한 데이터로부터 검사되는 이물질의 유무 및 크기를 역으로 파악할 수 있는 이점이 있다.
셋째, 연속적으로 다량 생산되는 공정 상에서 이물질을 검사할 때, 본 발명에 따른 검사장치를 사용하여, 제조공정 및 이물질 검사 과정의 효율성을 높일 수 있는 이점이 있다.
본 발명의 효과들은 이상에서 언급한 효과들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 효과들은 청구범위의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
아래에서 설명하는 본 출원의 실시예의 상세한 설명뿐만 아니라 위에서 설명한 요약은 첨부된 도면과 관련해서 읽을 때에 더 잘 이해될 수 있을 것이다. 본 출원을 예시하기 위한 목적으로 도면에는 실시예들이 도시되어 있다. 그러나, 본 출원은 도시된 정확한 배치와 수단에 한정되는 것이 아님을 이해해야 한다
도 1은 종래의 이물질 검사장치의 모습을 나타낸 도면;
도 2 내지 도 3은 본 발명의 제1실시예에 따른 연속생산공정 적용이 가능한 이물질 검사장치의 사용상태를 나타낸 도면;
도 4 내지 도 6은 이물질의 크기를 달리하는 경우의, 본 발명의 제1실시예에 따른 연속생산공정 적용이 가능한 이물질 검사장치의 이물질 이동경로 및 광도곡선을 나타낸 도면;
도 7은 본 발명의 제1실시예에 따른 연속생산공정 적용이 가능한 이물질 검사장치의 조사모듈을 나타낸 도면이다.
도 1은 종래의 이물질 검사장치의 모습을 나타낸 도면;
도 2 내지 도 3은 본 발명의 제1실시예에 따른 연속생산공정 적용이 가능한 이물질 검사장치의 사용상태를 나타낸 도면;
도 4 내지 도 6은 이물질의 크기를 달리하는 경우의, 본 발명의 제1실시예에 따른 연속생산공정 적용이 가능한 이물질 검사장치의 이물질 이동경로 및 광도곡선을 나타낸 도면;
도 7은 본 발명의 제1실시예에 따른 연속생산공정 적용이 가능한 이물질 검사장치의 조사모듈을 나타낸 도면이다.
이하 본 발명의 목적이 구체적으로 실현될 수 있는 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 설명한다. 본 실시예를 설명함에 있어서, 동일 구성에 대해서는 동일 명칭 및 동일 부호가 사용되며 이에 따른 부가적인 설명은 생략하기로 한다. 또한, 본 발명의 실시예를 설명함에 있어서 도면에 도시된 구성은 상세한 설명에 대한 이해를 돕기 위한 예시일 뿐, 그 형상에 대하여는 제한 없이 다양할 수 있으며 이로 인해 권리범위가 제한되지 않음을 명시한다.
도 1 내지 도 2를 참조하여 본 발명의 제1 실시예에 따른 연속생산공정 적용이 가능한 이물질 검사장치에 대하여 설명한다.
도 1은 종래 기술에 따른 광원을 이용한 회로기판의 이물질 검사장치의 사용상태도이고,
도 2 내지 도 3은 본 발명의 제1 실시예에 따른 연속생산공정 적용이 가능한 이물질 검사장치의 사용상태도이다.
도 1에 도시된 바와 같이, 종래 기술에 따른 광원을 이용한 회로측정대상물의 이물질 검사장치는 상면에 안착된 측정대상물(70)을 일방향으로 이동시키는 이송모듈(50), 상기 측정대상물의 일정한 검사대상 영역에 빛을 조사(照射)하는 조사모듈(22), 상기 측정대상물로부터 반사되는 빛의 광도(luminous intensity, 光度)를 감지하는 측정모듈(33)으로 구성되어 있다.
도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제1 실시예에 따른 연속생산공정 적용이 가능한 이물질 검사장치는 상면에 안착된 측정대상물(70)을 일방향으로 이동시키는 이송모듈(50), 상기 측정대상물(70)의 상부에 이격되어 위치되며, 상기 측정대상물(70)의 검사대상 영역(80)에 균일한 패턴을 가지며, 상기 측정대상물(70)의 이동방향을 따라 연속한 형태의 빛을 조사(照射)하는 조사모듈(200), 상기 조사모듈(200)과 일체로 구성되며, 상기 측정대상물(70)에서 반사되는 빛을 감지하여 광도의 변화를 측정하는 측정모듈(300) 및 상기 조사모듈(200)에서 조사된 빛의 이격간격 및 세기에 대응하여 상기 측정모듈(300)에서 측정된 빛의 광도 변화를 분석하고 상기 측정모듈(300)에 존재하는 이물질(100)의 유무 및 크기를 도출하는 분석모듈(400)로 구성되어 있다.
도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제1 실시예에 따른 연속생산공정 적용이 가능한 이물질 검사장치는 상면에 안착된 대면적의 측정대상물(70)을 일방향으로 이동시키는 이송모듈(50), 상기 대면적의 측정대상물(70)의 상부에 이격되어 병렬적으로 위치되며, 상기 측정대상물(70)의 검사대상 영역(80)에 균일한 패턴을 가지며, 상기 측정대상물(70)의 이동방향을 따라 연속한 형태의 빛을 조사(照射)하는 조사모듈(200), 상기 다수의 조사모듈(200)과 일체로 구성되며, 상기 측정대상물(70)에서 반사되는 빛을 감지하여 광도의 변화를 측정하는 다수의 측정모듈(300) 및 상기 조사모듈(200)에서 조사된 빛의 이격간격 및 세기에 대응하여 상기 측정모듈(300)에서 측정된 빛의 광도 변화를 분석하고 상기 측정모듈(300)에 존재하는 이물질(100)의 유무 및 크기를 도출하는 분석모듈(400)로 구성되어 있다.
따라서, 도 2에 도시된 구성만으로도 이물질(100)의 유무 및 크기를 도출하는 본 발명의 목적 및 효과를 달성할 수 있으나, 도 3에 도시된 바와 같이 본 발명을 구성함으로써, 대면적의 측정대상물(70)의 검사대상 영역(80)에 빛을 조사하고, 상기 측정대상물(70)에서 반사되는 빛을 감지하여 광도의 변화를 측정함으로써, 회로기판의 제작과 같이, 연속적으로 다량 생산되는 공정 상에서 이물질(100)을 검사할 때, 본 발명에 따른 검사장치를 사용하여, 제조공정 및 이물질(100) 검사 과정의 효율성을 높일 수 있게 된다.
본 발명은 종래기술에 비해 조사모듈(200)이 반복적인 패턴을 가지는 줄무늬(100)가 형성된 빛을 조사한다는 구성 및 측정대상물에 존재하는 이물질(100)의 유무 및 크기를 도출하는 분석모듈(400)을 더 포함하는 구성상 차이점이 있다. 상기 부가된 구성으로 인해 본 발명이 나타내는 효과는 후술한다.
도 2 및 도 3을 참조하면,
일방향으로 이동되는 이송모듈(50)의 상면에는 이물질(100)이 묻어 있는 측정대상물(70)이 안착되어 있다. 상기 측정대상물(70)의 예로 이물질이 존재하는지 여부에 대한 검사가 필수적으로 요구되는 회로기판, 디스플레이패널, 웨이퍼 등을 들 수 있다.
조사모듈(200)은 이물질(100)이 묻어 있는 측정대상물(70)의 검사대상 영역(80)에 수직방향으로 빛을 조사하도록 측정대상물(70), 즉, 이송모듈(50)의 상측에 위치된다.
측정모듈(300)은 상기 조사모듈(200)과 일체로 구성되어, 상기 이물질(100)로부터 반사되는 빛의 광도 변화를 측정한다.
상기 조사모듈(200)은 이물질(100)이 묻어 있는 측정대상물(70)의 일정한 검사대상 영역(80)에 반복적인 패턴을 가지는 줄무늬(500)가 형성된 빛을 조사(照射)한다. 그리고, 상기 빛은 줄무늬(500)의 길이방향이 상기 측정대상물의 이동방향과 수직을 이루도록 조사된다. 이는 일방향으로 이동되는 측정대상물(70)의 이물질(100)로부터 반사되는 빛이 상기 줄무늬(500)가 형성된 영역을 통과하면서 광도를 달리하면서 반사되기 위함이다. 이에 대한 자세한 설명은 후술한다.
도 7-a 및 도 7-b를 참조하면,
조사모듈(200)은 빛을 조사하는 광원부(210) 및 상기 광원부(210)의 전방에 설치되며, 상기 광원부(210)로부터 방출되는 빛을 투과하는 투광부(215)로 구성되어 있다.
상기 투광부(215)에는 빛이 통과될 수 없는 일정 너비의 반복적인 줄무늬가 형성된 마스크(220) 또는 홀로그램시트(240)가 포함된다.
따라서, 빛이 마스크(220) 또는 홀로그램시트(240)를 투과하면서 상기 줄무늬와 같은 형상의 줄무늬(500)가 형성된 빛이 측정대상물(70)에 조사된다.
상기 조사되는 빛의 줄무늬(500)의 너비는 1㎛ 이상 2㎛ 이하인 것이 바람직하다.
또한, 도 7-c 에 도시된 바와 같이, 조사모듈(200)에는 일정 너비의 줄무늬(500)가 반복적으로 형성된 빛을 조사할 수 있는 간섭장치(260)가 포함될 수 있으며, 빛이 상기 간섭장치(260)를 투과하면서 줄무늬(500)가 형성된 빛이 측정대상물(70)에 조사된다.
도 2 내지 도 4를 참조하면,
측정모듈(300)은 측정대상물(70)로부터 반사되는 빛의 광도(luminous intensity, 光度) 변화를 촬영하는 촬영부(310)를 포함한다.
측정대상물(70)은 이송모듈(50)에 의해 일정한 속도록 이동되며, 상기 측정대상물(70)의 상면에 묻어 있는 이물질(100)이 검사대상 영역(80)에서 줄무늬(500)가 형성된 영역과 상기 줄무늬(500)가 형성되지 않은 영역(600)을 통과하면서 광도값이 변화되는 빛을 반사하게 되고, 촬영부(310)가 위 광도 변화를 촬영한다.
다수의 이물질(100)은 서로 그 크기를 달리하며, 상기 이물질(100)로부터 반사되는 빛의 광도는 이물질(100)의 크기가 클수록 증가한다.
측정모듈(300)은 촬영부(310)와 연결된 측정부(320)를 포함한다.
상기 측정부(320)는 상기 촬영부(310)가 촬영한 광도 변화를 수치값으로 환산하여 일정 패턴의 광도곡선으로 디스플레이한다.
즉, 측정부(320)는 크기를 달리하는 다수의 이물질(100)이 줄무늬(500)가 형성된 영역과 상기 줄무늬(500)가 형성되지 않은 영역(600)을 통과하면서 변화하는 광도값에 대한 데이터를 획득하여, 상기 데이터로부터 일정 패턴의 최대값, 최소값 및 너비값을 나타내는 광도곡선으로 그래프화한다.
이하, 도 4 내지 도 6에 도시된 줄무늬(500)의 너비(B) 및 상기 줄무늬(500)간의 너비(D)는 모두 1㎛인 것을 기준으로 설명한다.
도 4-c 및 도 4-d에는 검사대상 영역(80)에 줄무늬(500)가 형성된 빛을 조사(照射)하고 이송모듈(50)에 안착된 측정대상물(70)이 일정한 속도로 일방향으로 이동할 때, 이물질(100)의 크기가 1㎛ 이하인 경우의 이물질(100)의 이동경로(4-c)와 상기 이물질(100)이 이동하면서 반사되는 빛의 광도변화를 나타내는 그래프(4-d)가 도시되어 있다.
도 4-a 및 도 4-b에는 줄무늬(500)가 형성되지 않은 종래 방식의 광원을 조사하는 경우 1㎛ 이하 크기의 이물질(100)이 검사대상 영역(80)에 진입하여 통과할 때까지의 이동경로(4-a)와 광도 그래프(4-b)를 나타낸다.
도 4-d를 참조하면,
이물질(100)의 크기가 1㎛ 이하인 경우, 이물질(100)의 크기가 줄무늬(500)의 너비(B)보다 작으므로, 이물질(100)이 줄무늬(500)가 형성된 영역 내에 위치하는 경우에 그래프는 최소 수치(거의 0에 수렴하는)의 광도값(L1)을 가진다. 그리고, 이물질(100)이 이동하면서, 빛이 반사되는 영역(600)에 진입하게 되면서 광도값이 점점 증가하게 되고, 이물질(100)이 상기 줄무늬(500)가 형성되지 않은 즉, 빛이 반사되는 영역(600) 내에 위치하게 되는 경우, 그래프는 최대 수치의 광도값(H1)을 가진다. 이 경우, 광도가 최대일 때의 광도곡선의 평균너비값(E1) 및 광도가 최소일 때 광도곡선의 평균너비값(F1) 또한 알 수 있게 된다.
도 5-c 및 도 5-d에는 이물질(100)의 크기가 3㎛인 경우 검사대상 영역(80)에서의 이물질(100)의 이동경로(5-c)와 상기 이물질(100)이 이동하면서 반사되는 빛의 광도 변화를 나타내는 그래프(5-d)가 도시되어 있다.
도 5-a 및 도 5-b에는 줄무늬(500)가 형성되지 않은 종래 방식의 광원을 조사하는 경우 3㎛ 크기의 이물질(100)이 검사대상 영역(80)에 진입하여 통과할 때까지의 이동경로(5-a)와 광도 그래프(5-b)를 나타낸다.
도 5-c 및 5-d를 참조하면,
3㎛ 크기의 이물질(100)의 중심부분이 빛이 반사되는 영역(600)에 위치한 경우, 그래프는 최소 수치의 광도값(L3)을 가지고, 상기 이물질(100)의 중심부분이 줄무늬(500)이 형성된 영역에 위치한 경우, 최대 수치의 광도값(H3)을 가진다. 그리고, 광도가 최대일 때 광도곡선의 평균너비값(E3) 및 광도가 최소일 때 광도곡선의 평균너비값(F3) 또한 도시된다.
도 5-d를 참조하면, 줄무늬(500)의 너비(B) 및 줄무늬(500)간의 너비(D)는 1㎛이고, 이물질(100) 크기가 3㎛인 경우, 이물질(100)의 일정 부분이 항상 빛이 반사되는 영역(600)에 노출되어 있으므로, 광도 최소값(L3)은 상대적으로 상승하게 되고, 광도가 최대일 때의 광도곡선의 평균너비값(E3) 및 광도가 최소일 때의 광도곡선의 평균너비값(F3) 역시, 상대적으로 증가하게 된다.
여기서, 위 그래프상의 수치값은 이물질(100)의 크기가 다른 경우의 최대, 최소, 너비값의 증감 추이의 변화 상태만을 나타낼 뿐, 이물질(100)의 크기가 클수록 광도값은 증가하므로, 이물질(100)이 3㎛인 경우의 수치값은 당연히 이물질(100)이 1㎛ 인 경우의 수치값보다 절대적으로 크다. 즉, H1<H3, L1<L3, E1<E3, F1<F3 이다.
도 6-c 및 도 6-d에는 이물질(100)의 크기가 7㎛인 경우 검사대상 영역(80)에서의 이물질(100)의 이동경로(6-c)와 상기 이물질(100)이 이동하면서 반사되는 빛의 광도 변화를 나타내는 그래프(6-d)가 도시되어 있다.
도 6-a 및 도 6-b에는 줄무늬(500)가 형성되지 않은 종래 방식의 광원을 조사하는 경우 7㎛ 크기의 이물질(100)이 검사대상 영역(80)에 진입하여 통과할 때까지의 이동경로(6-a)와 광도 그래프(6-b)를 나타낸다.
도 6-c 및 6-d를 참조하면,
줄무늬(500)의 너비(B) 및 줄무늬(500)간의 너비(D)는 1㎛이고, 이물질(100)의 크기가 7㎛인 경우, 이물질(100)이 빛이 반사되는 영역(600)에 노출되어 있는 면적이 이물질(100)이 3㎛인 경우보다 커지므로, 광도 최소값(L7)은 이물질(100)이 3㎛인 경우 보다도 상승하게 되고, 광도가 최대일 때의 광도곡선의 평균너비값(E7) 및 광도가 최소일 때의 광도곡선의 평균너비값(F7) 역시, 더욱 증가하게 된다.
앞서 설명한 바와 같이, 위 그래프상의 수치값은 이물질(100)의 크기가 다른 경우의 최대, 최소, 너비값의 증감 추이의 변화 상태만을 나타낼 뿐, 이물질(100)이 크기가 클수록 광도값은 증가하므로, 이물질(100)이 7㎛인 경우의 수치값은 당연히 이물질(100)이 3㎛인 경우의 수치값보다 절대적으로 크다. 즉, H3<H7, L3<L7, E3<E7, F3<F7 이다.
일반적인 이물질 검사장치의 경우(도 4-b 내지 도 6-b 참조)에 이물질(100)이 각각 1㎛, 3㎛, 7㎛인 경우, 즉, 이물질(100)의 크기가 10㎛ 이하인 경우에는, 하나의 최대값을 나타내는 곡선으로만 그래프가 도시되므로, 이물질(100) 각각의 크기를 알 수 없다.
이와 달리, 본 발명에 따른 연속생산공정 적용이 가능한 이물질 검사장치는 10㎛ 이하 크기의 이물질(100) 각각에 대해 일정 패턴의 최대값, 최소값 및 너비값이 반복적으로 도시되는 그래프(도 4-d 내지 도 6-d)에 대한 데이터를 얻어서, 후술할 분석모듈(400)을 통해 이물질(100)의 크기를 파악할 수 있다.
도 2 및 도 3을 참조하면,
분석모듈(400)은 측정부(320)와 연결되어 있으며, 상기 측정부(320)가 도출한 광도곡선에 대한 데이터를 저장하고, 검사되는 이물질(100)의 유무 및 크기를 상기 데이터를 통하여 역으로 도출한다.
즉, 크기를 달리하는 다수의 이물질(100)이 줄무늬(500)가 형성된 영역과 상기 줄무늬(500)가 형성되지 않은 영역(600)을 통과하면서 도출되는 광도곡선에 대한 최대값, 최소값 및 너비값에 대한 데이터를 사용자가 규격화하면, 본 발명에 따른 이물질 검사장치를 이용하여 이물질을 검사한 후 도시되는 광도곡선에 대한 데이터로부터 이물질(100)의 유무뿐만 아니라 상기 이물질(100)이 어떤 크기를 가지는지 역으로 파악할 수 있게 된다.
위 데이터는 특정 크기의 이물질(100)에 줄무늬(500)가 형성된 빛을 조사하여 실험적으로 구할 수 있으며, 규격화된 최대값, 최소값 및 너비값을 나타내는 그래프에 대한 데이터를 얻기 위하여 일정한 파장의 광(10±0.3㎛ 즉, 9.7㎛ 이상 10.3㎛ 이하)을 조사하는 것이 바람직하다.
전술한 도 4 내지 도 6에 도시된 줄무늬(500)의 너비(B) 및 상기 줄무늬(500)간의 너비(D)는 모두 1㎛인 것을 기준으로 설명하였다. 이는 본 발명이 10㎛ 이하 크기의 이물질(100)을 측정하기 위한 장치이므로, 줄무늬(500)의 너비를 1㎛로 최소화하는 것이 바람직하기 때문이다.
물론, 도면에는 도시되지 않았지만, 줄무늬(500)의 너비(B) 및 상기 줄무늬(500)간의 너비(D)가 모두 2㎛가 되도록 마스크(220), 홀로그램시트(240) 및 간섭장치(260)를 구성할 수도 있다. 이 경우, 그래프는 이물질(100)의 크기가 2㎛ 이하인 경우, 도 4-d과 같이 도시될 것이고, 이물질(100)의 크기가 2㎛ 이상인 경우는 도 5-d 내지 도 6-d 와 같은 형태의 그래프가 도시될 것이다.
이상과 같이 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 살펴보았으며, 앞서 설명된 실시예 이외에도 본 발명이 그 취지나 범주에서 벗어남이 없이 다른 특정 형태로 구체화될 수 있다는 사실은 해당 기술에 통상의 지식을 가진 이들에게는 자명한 것이다. 그러므로, 상술된 실시예는 제한적인 것이 아니라 예시적인 것으로 여겨져야 하고, 이에 따라 본 발명은 상술한 설명에 한정되지 않고 첨부된 청구항의 범주 및 그 동등 범위 내에서 변경될 수도 있다.
50: 이송모듈 70: 측정대상물
80: 검사대상영역 100: 이물질
200: 조사모듈 210: 광원부
215: 투광부 220: 마스크
240: 홀로그램시트 260: 간섭장치
300: 측정모듈 310: 촬영부
320: 측정부 400: 분석모듈
500: 줄무늬
80: 검사대상영역 100: 이물질
200: 조사모듈 210: 광원부
215: 투광부 220: 마스크
240: 홀로그램시트 260: 간섭장치
300: 측정모듈 310: 촬영부
320: 측정부 400: 분석모듈
500: 줄무늬
Claims (8)
- 측정대상물을 일방향으로 이동시키는 이송모듈;
상기 이송모듈의 상부에 이격되어 위치하고, 상기 측정대상물의 검사대상 영역에서 상기 측정대상물의 이동방향에 교차하는 방향으로 일정 간격으로 이격된 띠 형태의 빛을 조사하는 조사모듈;
상기 이송모듈의 상부에 이격되어 위치하고, 상기 검사대상 영역 내에서 측정대상물의 이동 과정에 따라 상기 조사모듈에서 조사되어 상기 측정대상물로부터 반사되는 빛의 광도 변화를 측정하여 광도곡선을 도출하는 측정모듈; 및
상기 조사모듈에서 조사된 빛의 이격된 간격 값에 기초하여 상기 측정모듈에서 도출된 상기 광도곡선을 통해 상기 측정대상물에 존재하는 이물질의 유무 및 크기를 도출하는 분석모듈;
을 포함하는 연속생산공정 적용이 가능한 이물질 검사장치. - 측정대상물을 일방향으로 이동시키는 이송모듈;
상기 이송모듈의 상부에 이격되어 병렬적으로 위치하고, 상기 측정대상물의 검사대상 영역에서 상기 측정대상물의 이동방향에 교차하는 방향으로 일정 간격으로 이격된 띠 형태의 빛을 조사하는 조사모듈;
상기 이송모듈의 상부에 이격되어 위치하고, 상기 검사대상 영역 내에서 측정대상물의 이동 과정에 따라 상기 병렬적으로 위치한 조사모듈에서 조사되어 상기 측정대상물로부터 반사되는 빛의 광도 변화를 측정하여 광도곡선을 도출하는 측정모듈; 및
상기 조사모듈에서 조사된 빛의 이격된 간격 값에 기초하여 상기 측정모듈에서 도출된 상기 광도곡선을 통해 상기 측정대상물에 존재하는 이물질의 유무 및 크기를 도출하는 분석모듈;
을 포함하는 연속생산공정 적용이 가능한 이물질 검사장치. - 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
상기 조사모듈은
일정 세기의 빛을 조사하는 광원부; 및
상기 광원부로부터 조사되는 빛을 투과하며, 일정 너비의 줄무늬가 반복적으로 형성된 마스크 또는 홀로그램시트를 구비하는 투광부;
를 포함하며,
상기 줄무늬와 동일한 형상의 반복적인 줄무늬가 형성된 빛을 상기 측정대상물에 조사하는 연속생산공정 적용이 가능한 이물질 검사장치. - 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
상기 측정모듈은
상기 측정대상물로부터 반사되는 빛의 광도 변화를 촬영하는 촬영부; 및
상기 촬영된 광도 변화를 수치값으로 환산하여 일정 패턴의 광도곡선을 도출하는 측정부;
를 포함하는 연속생산공정 적용이 가능한 이물질 검사장치. - 제 4항에 있어서,
상기 분석모듈은
상기 측정부가 도출한 광도곡선에 대한 데이터를 저장하며, 검사되는 이물질의 유무 및 크기를 상기 데이터로부터 도출하는 연속생산공정 적용이 가능한 이물질 검사장치. - 제 3항에 있어서,
상기 측정대상물에 조사되는 상기 줄무늬의 너비 및 상기 줄무늬 간의 너비는 상호 동일한 연속생산공정 적용이 가능한 이물질 검사장치. - 제 6항에 있어서,
상기 줄무늬의 너비 및 상기 줄무늬 간의 너비는 1㎛ 이상 2㎛ 이하인 연속생산공정 적용이 가능한 이물질 검사장치. - 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
검사되는 상기 이물질의 너비는 0.1㎛ 이상 10㎛ 이하인 연속생산공정 적용이 가능한 이물질 검사장치.
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KR101471984B1 (ko) * | 2014-05-09 | 2014-12-16 | 주식회사 미루시스템즈 | 조도 조절이 가능한 발광모듈이 구비되는 검사대상물 이송장치 |
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