KR101734170B1 - 그라파이트 방열시트의 제조방법 - Google Patents

그라파이트 방열시트의 제조방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 그라파이트 방열시트의 제조방법에 관한 것으로，권취된 금속 박판을 로드 챔버의 와인더에 장착하는 단계와, 상기 금속 박판을 전처리 챔버에서 플라즈마 처리하는 단계와, 증착 챔버의 메인 드럼을 통과하는 상기 프라즈마 처리된 금속 박판에 증발 방법이나 스퍼터링 방법으로 그라파이트층을 증착하는 단계와, 상기 그라파이트층을 증착하는 단계에서 이온 건을 조사하는 단계, 및 상기 금속 박판에 그라파이트층이 증착된 그라파이트 방열시트를 언로드 챔버의 리와인더에 감는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.

Description

그라파이트 방열시트의 제조방법{METHOD FOR MANUFACTURING GRAPHITE HEAT-SPREADING SHEET}
본 발명은 전자 기기 등의 내부에서 발생되는 열을 빠르게 확산시켜 효과적으로 방출하기 위한 방열시트에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 열전달이 우수한 그라파이트 방열시트의 제조방법에 관한 것이다.
전자 제품에 포함된 소자들의 구동으로 기기 내에서 발생되는 열을 적절하게 외부로 방출시키지 못할 경우 내부 온도 상승에 의해 제품의 성능이 저하되고, 과도한 발열에 의해 오작동 또는 시스템 다운이 일어나거나 기기의 수명이 감소될 수 있으며，심한 경우 고장에 이르게 될 수 있다.
이와 같은 발열 문제의 해소 방법으로는 이전부터 히트 싱크，냉각팬，히트 파이프 등 다양한 방열 기구들이 사용되어 왔으나，이들 방식의 경우 기본적으로 상당 부피를 가지므로 최근 슬럼화되고 소형화되어 가는 전자 제품들에 적용되기에는 적합하지 않은 문제가 있었다.
따라서, 최근 들어 스마트 폰，태블릿 PC, 박막형 디스플레이 제품 퉁을 중심으로 방열패드，방열시트 또는 방열도료 등이 냉각 수단으로서 널리 사용되고 있다.
이 중 방열시트는 열원으로부터 열을 시트로 확산시켜 냉각 성능을 증대시키는 것으로 그라파이트(Graphite) 재료를 이용한 제품이 급속히 적용되어지고 있다.
그러나, 그라파이트는 천연 그라파이트와 인조 그라파이트로 나뉘어 시장에서 사용되고 있으나 인조 그라파이트의 경우 성능은 우수하나 그 제조공정에 따른 비용으로 인해 고가로 확대 적용에 한계가 있다.
또한, 최근 들어 금속 박판(Foil)에 그라파이트 분말이 압축되어 굳어진 그라파이트층을 적층하거나 그라파이트 슬러리를 도포하여 그라파이트층을 적층하여 제작된 그라파이트 방열시트도 출시되고 있다.
그러나, 종래의 그라파이트 방열시트는 그라파이트의 함량이 전체 시트 중 80 중량%를 넘기기 어려우며 그라파이트 적층의 두께도 20㎛이하로 구현하기 어려운 한계로 인하여 열전도율을 개선하는 제한 요인이 되고, 금속 박판과 적층된 그라파이트층의 계면에 에어 버블(Air Bubble)이 발생하거나 불순물이 존재하여 금속 박판으로부터 그라파이트층으로의 빠른 열전달을 저해하는 문제점이 있었다.
한국공개특허 제10-2014-0104757호(2014.08.29) 한국등록특허 제10-1457914호(2014.10.24)
상기와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 목적은 전도율이 높은 고밀도 그라파이트층을 구현하여 금속 박판의 열을 그라파이트층으로 빠르게 전달하는 그라파이트 방열시트의 제조방법을 제공하는 데 있다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 그라파이트 방열시트의 제조방법은, 권취된 금속 박판을 로드 챔버의 와인더에 장착하는 단계와; 상기 금속 박판 표면을 전처리 챔버에서 플라즈마 처리하는 단계와; 증착 챔버의 메인 드럼을 통과하는 상기 프라즈마 처리된 금속 박판 표면에 증발 방법이나 스퍼터링 방법으로 그라파이트층을 증착하는 단계와; 상기 그라파이트층을 증착하는 단계에서 이온 건을 조사하는 단계; 및 상기 금속 박판 표면에 그라파이트층이 증착된 그라파이트 방열시트를 언로드 챔버의 리와인더에 감는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 있어서, 상기 금속 박판의 두께는 1~200㎛인 것을 특징으로 한다.
본 발명에 있어서, 상기 금속 박판은 동, 알루미늄, 니켈, 서스 중 어느 하나인 것을 특징으로 한다.
본 발명에 있어서, 상기 금속 박판 표면에 그라파이트층을 0.1~10㎛ 두께로 증착하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 있어서, 상기 금속 박판을 0.5~50m/min 속도로 진행하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 있어서, 상기 그라파이트층을 증착하는 단계에서 동(Cu), 은(Ag), 금(Au) 중 어느 하나 이상을 혼합하여 증착하는 것을 특징으로 한다.
이상에서 살펴본 바와 같이, 본 발명은 금속 박판에 플라즈마 전처리로 그라파이트층이 좋은 밀착력으로 금속 박판과 결합하는 효과가 있다.
또한, 본 발명은 증발 방법이나 스퍼티링 방법으로 금속 박판에 그라파이트층을 증착하므로 금속 박판과 그라파이트층 계면에 에어 버블이나 기타 불순물이 존재하지 않으며, 그라파이트층 증착 시 이온 건 조사로 그라파이트층의 밀도와 구조를 개선시켜 금속 박판에서 그라파이트층으로 열이 빨리 전달됨은 물론 그라파이트층에서의 신속한 열 방출 효과가 있다.
또한, 본 발명은 롤투롤 증착 방식으로 인해 연속적 그라파이트 시트 생산이 가능하여 제품 디자인에 따른 그라파이트 시트의 손실율을 절감할 수 있는 효과가 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 그라파이트 방열시트의 제조 장치를 나타낸 것이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 그라파이트 방열시트를 제조하는 공정 순서도를 나타낸 것이다.
이하 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명을 용이하게 이해하고 실시할 수 있도록 첨부한 도면을 참조하여 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다.
이하에서는 본 발명의 일실시예에 따른 그라파이트 방열시트의 제조장치 및 제조방법에 대하여 상세히 설명한다.
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 그라파이트 방열시트의 제조 장치를 나타낸 것이다.
도 1을 참조하면, 본 발명의 그라파이트 방열시트 제조장치는 로드 챔버(10), 전처리 챔버(20), 증착 챔버(30), 언로드 챔버(40)를 포함하여 구성된다. 여기서, 상기 챔버(10, 20, 30, 40)는 일반적으로 케이트 밸브(미도시)를 통해 연결된다.
상기 로드 챔버(10)는 10-6 torr 정도의 진공 상태로 유지하고 1~200㎛ 두께로 권취된 금속 박판(12)을 로드 챔버(10) 내의 와인더(Winder 11)에 장착한다.
여기서, 상기 금속 박판(12)은 동박(Copper Foil)이 바람직하게 사용될 수 있으며，그 외에도 알루미늄, 니켈, 서스 등과 같은 다른 종류의 열 전도성 금속이나 이들의 합금도 사용할 수 있다.
상기 전처리 챔버(20)는 10-3~10-5 torr의 진공 상태로 유지하고 질소(N2), 아르곤(Ar) 또는 산소(O2) 중 어느 하나의 가스 분위기나 이들을 혼합한 가스 분위기에서 금속 박판(12) 표면에 플라즈마 처리를 실시하여 금속 박판(12) 표면을 개질한다. 즉 금속 박판(12) 표면의 이물질 및 유기물이 제거되며 증착될 그라파이트층과의 부착력이 개선된다.
상기 증착 챔버(30)는 10-2~10-6 torr의 진공 상태에서 증발(Evaporation) 방법으로 메인 드럼(Main Drum, 31)을 통과하는 금속 박판(12) 표면에 그라파이트층을 0.1~10㎛ 두께로 증착하거나, 10-2~10-5 torr의 진공 상태에서 캐리어(Carrier) 가스인 아르곤(Ar)을 사용하여 그라파이트(32) 타겟을 이용한 스퍼터링(Sputtering) 방법으로 메인 드럼(31)을 통과하는 금속 박판(12) 표면에 그라파이트층을 0.1~10㎛ 두께로 증착한다.
여기서, 상기 증발 방법은 E-beam이나 Thermal 방식으로 구현하며 이때 그라파이트 소스는 벌크 그라파이트(32)나 벌크 그라파이트를 액화 처리하여 사용할 수 있다.
또한, 상기 그라파이트층을 증착 시 이온 건(ion gun, 33)을 수~수백KW의 파워로 그라파이트층이 증착되는 금속 박판(12)에 조사한다. 이로 인해 그라파이트 결정립이 개선되고, 금속 박판(11)과 그라파이트층의 부착력이 강화되며 그라파이트 밀도 또한 높여준다.
또한, 상기 그라파이트층을 증착 시 열전달 개선을 위해 동(Cu)이나 은(Ag), 금(Au) 중 어느 하나 이상을 일부 혼합하여 증착할 수 있다.
상기 언로드 챔버(40)는 10-6 torr의 진공 상태로 유지하고 금속 박판(12)에 그라파이트층이 증착된 그라파이트 방열시트를 리와인더(Re-winder, 41)에 감는다.
여기서, 상기 와인더(11)와 리와인더(41)는 감속기를 포함한 모터를 이용하여 0.5~50m/min 속도로 회전시킨다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 그라파이트 방열시트를 제조하는 공정 순서도를 나타낸 것이다.
도 2를 참조하면, 먼저 10-6 torr 정도의 진공을 유지하는 로드 챔버(10)에 1~200㎛ 두께의 권취된 금속 박판(12)을 와인더(11)에 장착한다(S100).
이어서, 금속 박판(12) 표면에 10-3~10-5torr의 전처리 챔버(20)에서 플라즈마 처리를 질소(N2), 아르곤(Ar) 또는 산소(O2) 중 어느 하나의 가스나 이들을 혼합한 가스 분위기에서 실시한다(S200).
이어서, 메인 드럼(31)을 통과하는 플라즈마 처리된 금속 박판(12) 표면에 10-2~10-6torr 진공의 증착 챔버(30)에서 증발 방법으로 그라파이트층을 0.1~10㎛ 두께로 증착하거나, 10-2~10-5torr의 진공 상태에서 캐리어 가스인 아르곤을 사용하여 스퍼터링 방법으로 그라파이트층을 0.1~10㎛ 두께로 증착한다(S300).
이때, 상기 그라파이트층을 증착 시 이온 건(33)을 수~수백KW의 파워로 그라파이트층이 증착되는 금속 박판(12) 표면에 조사한다(S400).
마지막으로, 10-6torr 진공의 언로드 챔버(40)에서 금속 박판(12)에 그라파이트층이 증착된 그라파이트 방열시트를 리와인더(41)에 감는다(S500).
본 발명은 금속 박판에 그라파이트층을 증착하기 전 플라즈마 전처리로 그라파이트층이 좋은 밀착력으로 금속 박판과 결합할 수 있다.
또한, 본 발명은 금속 박판에 그라파이트층을 진공 중에서 증발 방법이나 스퍼터링 방법으로 증착하기 때문에 금속 박판과 그라파이트 계면에 에어 버블이나 기타 불순물이 존재하지 않으며, 그라파이트층 증착 시 이온 건 조사로 증착되는 그라파이트층의 밀도와 구조를 개선하여 금속 박판에서 그라파이트층으로 열이 빨리 전달됨은 물론 그라파이트층에서의 신속한 열 방출 효과가 있다.
또한, 본 발명은 롤투롤 증착방식으로 인해 연속적 그라파이트 시트 생산이 가능하여 제품 디자인에 따른 그라파이트 시트의 손실율을 절감할 수 있다.
또한, 본 발명은 증착 챔버의 수를 늘려 생산성을 향상시킬 수 있으며, 증착 챔버내에 증착 보트나 스퍼터링 타겟 그리고 이온 건 장치를 추가할 수 있다.
이상에서 본 발명은 기재된 실시예를 참조하여 상세히 설명되었으나，본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 상기에서 설명된 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환，부가 및 전용이 가능할 것임은 당연한 것으로, 이와 같은 변형된 실시 형태들 역시 아래에 첨부한 특허청구범위에 의하여 정해지는 본 발명의 보호 범위에 속하는 것으로 이해되어야 할 것이다.
10 : 로드 챔버 11 : 와인더
12 : 금속 박판 20 : 전처리 챔버
30 : 증착 챔버 31 : 메인 드럼
32 : 그라파이트 33 : 이온 건
40 : 언로드 챔버 41 : 리와인더

Claims (6)

  1. 권취된 금속 박판을 진공 상태로 유지하는 로드 챔버 내부의 와인더에 장착하는 단계와;
    상기 금속 박판 표면을 전처리 챔버에서 플라즈마 처리하는 단계와;
    증착 챔버의 메인 드럼을 통과하는 상기 플라즈마 처리된 금속 박판 표면에 10-2~10-5 torr의 진공 상태에서 그라파이트 타겟을 이용하여 스퍼터링 방법으로 그라파이트층을 증착하는 단계와;
    상기 그라파이트층을 증착하는 단계에서 그라파이트층의 결정립 개선, 부착력 강화 및 고밀도를 위해 이온 건을 조사하는 단계; 및
    상기 금속 박판 표면에 그라파이트층이 증착된 그라파이트 방열시트를 진공 상태를 유지하는 언로드 챔버 내부의 리와인더에 감는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 그라파이트 방열시트의 제조방법.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 금속 박판의 두께는 1~200㎛인 것을 특징으로 하는 그라파이트 방열시트의 제조방법.
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 금속 박판은 동, 알루미늄, 니켈, 서스 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 그라파이트 방열시트의 제조방법.
  4. 제 1항에 있어서,
    상기 금속 박판 표면에 그라파이트층을 0.1~10㎛ 두께로 증착하는 것을 특징으로 하는 그라파이트 방열시트의 제조방법.
  5. 제 1항에 있어서,
    상기 금속 박판을 0.5~50m/min 속도로 진행하는 것을 특징으로 하는 그라파이트 방열시트의 제조방법.
  6. 제 1항에 있어서,
    상기 그라파이트층을 증착하는 단계에서 동(Cu), 은(Ag), 금(Au) 중 어느 하나 이상을 혼합하여 증착하는 것을 특징으로 하는 그라파이트 방열시트의 제조방법.
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Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102001719B1 (ko) * 2016-12-19 2019-07-18 주식회사 두산 금속 복합시트
WO2019105534A1 (en) * 2017-11-28 2019-06-06 Applied Materials, Inc. Deposition apparatus, method of coating a flexible substrate and flexible substrate having a coating
WO2019105533A1 (en) * 2017-11-28 2019-06-06 Applied Materials, Inc. Deposition apparatus for coating a flexible substrate, method of coating a flexible substrate and flexible substrate having a coating
KR102216321B1 (ko) * 2020-07-13 2021-02-16 장주택 열 및 전기전도 향상을 위한 중층 박막 필름 및 제조방법
CN114634176B (zh) * 2022-04-09 2023-05-05 中山名优照明科技有限公司 一种石墨粉在散热器中的应用工艺
CN117845163A (zh) * 2023-12-12 2024-04-09 隆扬电子(昆山)股份有限公司 一种纳米石墨铜材料的制备方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101396063B1 (ko) * 2012-06-08 2014-05-15 (주)제이 앤 엘 테크 흑연상 탄소 나노 점의 제조방법
WO2014128834A1 (ja) 2013-02-19 2014-08-28 Jx日鉱日石金属株式会社 グラフェン製造用銅箔及びグラフェンの製造方法
KR101465419B1 (ko) * 2012-12-17 2014-12-01 (주)우주일렉트로닉스 흑연 시트의 제조 방법

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
ATE529881T1 (de) * 2006-08-03 2011-11-15 Creepservice S A R L Verfahren zur beschichtung von substraten mit diamantähnlichen kohlenstoffschichten
CN101748369A (zh) * 2009-12-25 2010-06-23 株洲南车时代电气股份有限公司 电子束蒸发装置
CN102127750B (zh) * 2011-03-01 2012-08-22 哈尔滨工程大学 一种基于化学沉积法制备石墨烯材料的方法
KR101290340B1 (ko) * 2011-06-17 2013-07-26 경희대학교 산학협력단 알에프 스퍼터링방법을 이용한 그래핀 제작방법
KR101993000B1 (ko) 2013-02-21 2019-06-26 에스케이씨하이테크앤마케팅(주) 방열 시트
TWI521076B (zh) * 2013-04-22 2016-02-11 財團法人金屬工業研究發展中心 石墨烯鍍層之製造方法
KR101457914B1 (ko) 2014-03-05 2014-11-05 실리콘밸리(주) 전자파 흡수층을 구비한 열 확산시트 및 그 제조방법

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101396063B1 (ko) * 2012-06-08 2014-05-15 (주)제이 앤 엘 테크 흑연상 탄소 나노 점의 제조방법
KR101465419B1 (ko) * 2012-12-17 2014-12-01 (주)우주일렉트로닉스 흑연 시트의 제조 방법
WO2014128834A1 (ja) 2013-02-19 2014-08-28 Jx日鉱日石金属株式会社 グラフェン製造用銅箔及びグラフェンの製造方法

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