KR101730468B1 - Printed circuit board which contains bumps and manufacturing method thereof - Google Patents

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Abstract

본 발명은, 제1 전도성 호일의 일면을 가공하여 형성된 제1 회로층; 상기 제1 회로층에 적층되는 지지판; 및 상기 제1 전도성 호일의 타면을 가공하여 형성된 플리칩 본딩용 제1 범프를 포함하여 구성된 인쇄회로기판 및 그 제조방법에 대해 개시한다. 이러한 본 발명에 따른 인쇄회로기판은, 전도성 호일 하나에 대해 회로층으로 구현되는 배선구조를 형성함과 동시에 반도체 칩 등을 실장하기 위한 플립칩 본딩용 범프를 일체로 가공 형성함으로써, 전도성 호일의 효율적 활용에 기초하여 기판 자체의 경쟁력을 제고하고, 공정시간 및 비용을 절감하고, 반도체 패키지 공정을 간소화시킬 수 있다. 또한, 이러한 플리칩 본딩용 범프는 리소그래피 공정을 이용하여 기둥 형상으로 균일하게 형성될 수 있고, 반도체 패키지 작업시 좁은 피치에 의한 실장밀도의 개선, 우수한 지지력의 확보, 열적, 전기적 특성의 개선이 가능하다.The present invention provides a printed circuit board comprising: a first circuit layer formed by processing one surface of a first conductive foil; A support plate laminated on the first circuit layer; And a first bump for flip chip bonding formed by processing the other surface of the first conductive foil, and a method of manufacturing the same. The printed circuit board according to the present invention has a wiring structure that is realized as a circuit layer with respect to one conductive foil and a bump for flip chip bonding for mounting a semiconductor chip or the like is integrally formed and processed, It is possible to increase the competitiveness of the substrate itself based on utilization, reduce the process time and cost, and simplify the semiconductor package process. In addition, such a bump for flip chip bonding can be uniformly formed in a columnar shape by using a lithography process, improvement in mounting density due to a narrow pitch during semiconductor package operation, securing of excellent supporting force, and improvement of thermal and electrical characteristics Do.

Description

범프가 포함된 인쇄회로기판 및 그 제조방법{PRINTED CIRCUIT BOARD WHICH CONTAINS BUMPS AND MANUFACTURING METHOD THEREOF}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a printed circuit board including a bump,

본 발명은 인쇄회로기판 및 그 제조방법에 관한 것으로, 특히 반도체 칩을 플립칩 본딩(flip chip bonding)으로 실장하는 경우에 사용되는 인쇄회로기판 및 그 제조방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a printed circuit board and a method of manufacturing the same, and more particularly, to a printed circuit board used for mounting a semiconductor chip by flip chip bonding and a manufacturing method thereof.

최근 반도체 칩의 고집적화 기술의 발달로 같은 사이즈의 반도체 칩에 더 많은 회로 배치가 가능해지면서, 종래보다 입출력 신호를 전달하기 위한 입출력 핀의 수가 더욱 증가된 반도체 칩과 이를 실장하는 인쇄회로기판으로 구성된 반도체 패키지가 각광받고 있다.2. Description of the Related Art [0002] With the recent development of high integration technology of semiconductor chips, it has become possible to arrange more circuits in the same size semiconductor chip, and a semiconductor chip having a larger number of input / output pins for transferring input / Packages are in the spotlight.

종래, 이러한 반도체 패키지를 위한 반도체 칩과 인쇄회로기판의 연결은 와이어 본딩(wire bonding) 방식과 플립칩 본딩(flip chip) 방식으로 수행된다. 와이어 본딩(wire bonding) 방식은 리드가 형성된 기판에 반도체 칩을 배치하고 미세 와이어를 이용하여 리드와 반도체 칩의 전극패턴을 연결하는 방식으로, 칩과 기판을 미세 와이어로 한번에 하나씩 연결하기 때문에 시간과 비용이 많이 소요되고, 실장 사이즈가 커지는 문제가 있다.Conventionally, a connection between a semiconductor chip and a printed circuit board for such a semiconductor package is performed by a wire bonding method and a flip chip bonding method. In the wire bonding method, a semiconductor chip is disposed on a lead-formed substrate, and a lead is connected to an electrode pattern of the semiconductor chip using fine wires. Since the chip and the substrate are connected to the fine wires one at a time, There is a problem that the cost is increased and the mounting size is increased.

플립칩 본딩(flip chip) 방식은 반도체 칩의 전극패턴 또는 이너리드(inner lead)에 형성된 솔더 볼(solder ball) 형태의 범프(bump)을 이용하여 기판과 전기적으로 연결하는 방식으로, 범프가 형성된 반도체 칩을 뒤집어서 기판에 직접 실장하기 때문에 제품의 소형화가 가능하고, 칩 성능의 향상 및 비용절감에 유리하여 최근 각광 받고 있는 반도체 칩 실장 방식이다. 상기 범프는 구리나 금속 등의 전도성 재료로 이루어지며, 일반적으로 반도체 칩과 기판을 전기적/기계적으로 연결하기 위한 전도성 돌기를 의미한다.The flip chip bonding method is a method in which a bump is electrically connected to a substrate by using a bump in the form of an electrode pattern of a semiconductor chip or a solder ball formed on an inner lead, Since the semiconductor chip is directly mounted on the substrate with the semiconductor chip turned over, it is possible to miniaturize the product, and it is advantageous in improving chip performance and cost, and is a semiconductor chip mounting method which has recently been popular. The bump is made of a conductive material such as copper or metal and generally means a conductive protrusion for electrically / mechanically connecting the semiconductor chip and the substrate.

한편, 일반적인 플립칩 본딩시 리멜팅이나 리플로우 공정 중에, 반도체 칩에 형성된 솔더 볼 형태의 범프가 변형하여 범프간 간격이 불균일해지고, 범프간 간격이 좁은 곳에서는 칩 어셈블리시 에폭시 수지가 충분히 투입되지 않아 빈 공간이 발생함으로써 제품의 신뢰도가 저하되는 문제가 있다.On the other hand, during the ordinary flip chip bonding, the solder ball-shaped bumps formed on the semiconductor chip are deformed during the remelting process or the reflow process, so that the spacing between the bumps becomes uneven. When the interval between the bumps is narrow, There is a problem that the reliability of the product is lowered.

또한, 종래 플립칭 본딩시 사용되는 구형의 솔더 볼의 경우, 일정한 형상 모양으로 형성하기가 곤란하고, 공간적 제약에 의해 좁은 피치를 구현하기에도 한계가 있다.In addition, in the case of a spherical solder ball used in the conventional flip-chip bonding, it is difficult to form the solder ball into a constant shape, and there is a limit to realize a narrow pitch due to spatial limitation.

따라서, 본 발명이 해결하고자 하는 기술적 과제는 플리칩 본딩시 제품의 신뢰도가 향상되고, 고밀도 실장이 가능한 인쇄회로 기판 및 그 제조방법을 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, it is an object of the present invention to provide a printed circuit board and a method of manufacturing the same that can improve reliability of a product during flip chip bonding and enable high density mounting.

본 발명의 다른 기술적 과제는, 공정시간 및 비용을 단축시킬 수 있는 플립칩 본딩용 인쇄회로기판 및 그 제조방법을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a printed circuit board for flip chip bonding and a method of manufacturing the same, which can shorten the processing time and cost.

상기와 같은 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 요지는 아래와 같다.In order to accomplish the above-mentioned technical object, the gist of the present invention is as follows.

(1) 제1 전도성 호일의 일면을 제1 회로층으로 가공하는 단계; 상기 제1 회로층에 지지판을 적층하는 단계; 및 상기 제1 전도성 호일의 타면에 칩 본딩용 제1 범프를 가공하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 인쇄회로기판 제조방법.(1) processing one surface of the first conductive foil into a first circuit layer; Stacking a support plate on the first circuit layer; And processing the first bump for chip bonding on the other surface of the first conductive foil.

(2) 상기 칩 본딩용 제1 범프를 가공하는 단계는, (a) 상기 제1 전도성 호일에 감광성필름을 라미네이션 하는 단계; (b) 상기 감광성필름에 상기 제1 범프 패턴에 대응되는 감광성필름 패턴을 노광 및 현상하여 형성하는 단계; (c) 상기 제1 범프를 에칭으로 형성하는 단계; 및 (d) 잔류 감광성필름 패턴을 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 상기 (1)에 따른 인쇄회로기판 제조방법.(2) The step of processing the first bonding bump includes: (a) laminating a photosensitive film on the first conductive foil; (b) exposing and developing the photosensitive film pattern corresponding to the first bump pattern to the photosensitive film; (c) forming the first bump by etching; And (d) removing the residual photosensitive film pattern. The method of manufacturing a printed circuit board according to claim 1,

(3) 상기 제1 회로층 위로 보호층을 인쇄하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 상기 (1)에 따른 인쇄회로기판 제조방법.(3) The method of manufacturing a printed circuit board according to the above (1), further comprising printing a protective layer on the first circuit layer.

(4) 상기 보호층은 PSR(Photo Solder Resist)인 것을 특징으로 하는 상기 (3)에 따른 인쇄회로기판 제조방법.(4) The method of manufacturing a printed circuit board according to (3), wherein the protective layer is a PSR (Photo Solder Resist).

(5) 상기 칩 본딩용 제1 범프를 도금하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 상기 (1)에 따른 인쇄회로기판 제조방법.(5) The method of manufacturing a printed circuit board according to (1) above, further comprising a step of plating the first bump for chip bonding.

(6) 상기 도금에 이용되는 재료는 금, 은, 주석 및 납으로부터 선택되는 어느 하나인 것을 특징으로 하는 상기 (5)에 따른 인쇄회로기판 제조방법.(6) The method for manufacturing a printed circuit board according to (5), wherein the material used for the plating is any one selected from gold, silver, tin and lead.

(7) 상기 도금은 무전해 및 전해 도금 방식으로 수행되는 것을 특징으로 하는 상기 (5)에 따른 인쇄회로기판 제조방법.(7) The method of manufacturing a printed circuit board according to (5), wherein the plating is performed by electroless plating and electrolytic plating.

(8) 다른 인쇄기판과의 전기적 연결을 위한 제2 범프를 형성하는 단계를 더 포함하며, 상기 제2 범프는 상기 제1 회로층과 전기적으로 연결되며 상기 지지판의 하부로 노출되는 것을 특징으로 하는 상기 (1)에 따른 인쇄회로기판 제조방법.(8) forming a second bump for electrical connection with another printed circuit board, wherein the second bump is electrically connected to the first circuit layer and exposed to the lower portion of the support plate A method for manufacturing a printed circuit board according to the above (1).

(9) 상기 지지판은 절연층과 제2 전도성 호일이 적층된 구조로서 절연층이 제 1 회로층에 결합되며, 상기 제2 전도성 호일에는 제2 회로층을 가공하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 상기 (1)에 따른 인쇄회로기판 제조방법. (9) The method of manufacturing a semiconductor device according to any one of the above items (1) to (3), wherein the supporting plate is formed by laminating an insulating layer and a second conductive foil, wherein the insulating layer is bonded to the first circuit layer, (1). ≪ / RTI >

(10) 상기 절연층은 반경화 상태의 프리프레그 시트인 것을 특징으로 하는 상기 (9)에 따른 인쇄회로기판 제조방법.(10) The method for manufacturing a printed circuit board according to (9), wherein the insulating layer is a semi-cured prepreg sheet.

(11) 상기 제2 회로층을 가공하는 단계는, (a) 상기 지지판에 소정 부위에 제1 회로층 노출면까지 비아홀을 형성하는 단계; (b) 상기 제2 회로층과 제1 회로층 사이의 전기적 연결을 위한 도금층을 형성하는 단계; (c) 상기 도금층의 하부에 감광성필름을 형성하는 단계; (d) 상기 도금층에 형성된 감광성필름에는 제2 회로층 패턴에 대응되는 감광성필름 패턴을 각각 노광 및 현상하는 단계; (e) 상기 제2 회로층 패턴을 에칭하여 형성하는 단계; 및 (f) 잔류 감광성필름 패턴을 제거하는 단계를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 상기 (9)에 따른 인쇄회로기판 제조방법.(11) The step of processing the second circuit layer includes the steps of: (a) forming a via hole in a predetermined region on the support plate up to the exposed surface of the first circuit layer; (b) forming a plating layer for electrical connection between the second circuit layer and the first circuit layer; (c) forming a photosensitive film on a lower portion of the plating layer; (d) exposing and developing the photosensitive film pattern corresponding to the second circuit layer pattern to the photosensitive film formed on the plating layer, respectively; (e) etching and forming the second circuit layer pattern; And (f) removing the residual photosensitive film pattern. The method of manufacturing a printed circuit board according to claim 9,

(12) 상기 제2 회로층을 가공하는 단계는 상기 제1 범프를 가공하는 단계와 동시에 수행되는 것을 특징으로 하는 상기 (9) 또는 (11)에 따른 인쇄회로기판 제조방법.(12) The method of manufacturing a printed circuit board according to (9) or (11), wherein the step of processing the second circuit layer is performed simultaneously with the step of processing the first bump.

(13) 상기 (b) 단계에서 상기 제1 전도성 호일의 상면에도 도금층을 형성하고, 제2 회로층을 가공하는 단계에 수반하여 상면에 도금층이 형성된 제1 범프를 일체로 패턴 가공하는 것을 특징으로 하는 상기 (11)에 따른 인쇄회로기판 제조방법.(13) In the step (b), a plating layer is formed on the upper surface of the first conductive foil, and the first bumps having the plating layer formed on the upper surface thereof are integrally patterned in accordance with the step of processing the second circuit layer (11). ≪ / RTI >

(14) 제1 전도성 호일의 일면을 가공하여 형성된 제1 회로층; 상기 제1 회로층에 적층되는 지지판; 및 상기 전도성 호일의 타면을 가공하여 형성된 플리칩 본딩용 제1 범프를 포함하여 구성된 인쇄회로기판.(14) a first circuit layer formed by processing one surface of the first conductive foil; A support plate laminated on the first circuit layer; And a first bump for flip chip bonding formed by processing the other surface of the conductive foil.

(15) 상기 제1 범프는 기둥형상인 것을 특징으로 하는 상기 (14)에 따른 인쇄회로기판.(15) The printed circuit board according to (14), wherein the first bumps are columnar.

(16) 상기 제1 회로층에 인쇄된 보호층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 상기 (14)에 따른 인쇄회로 기판.(16) The printed circuit board according to (14), further comprising a protective layer printed on the first circuit layer.

(17) 상기 상기 보호층은 PSR(Photo Solder Resist)인 것을 특징으로 하는 상기 (16)에 따른 인쇄회로 기판.(17) The printed circuit board according to (16), wherein the protective layer is a PSR (Photo Solder Resist).

(18) 상기 제1 범프에 형성된 도금층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 상기 (14)에 따른 인쇄회로기판.(18) The printed circuit board according to (14), further comprising a plating layer formed on the first bump.

(19) 상기 도금층은 금, 은, 주석 및 납으로부터 선택되는 어느 하나인 것을 특징으로 하는 상기 (18)에 따른 인쇄회로기판.(19) The printed circuit board according to (18), wherein the plating layer is any one selected from gold, silver, tin and lead.

(20) 다른 인쇄기판과의 전기적 연결을 위한 제2 범프를 더 포함하며, 상기 제2 범프는 상기 제1 회로층과 전기적으로 연결되며 상기 지지판의 하부로 노출되는 것을 특징으로 하는 상기 (14)에 따른 인쇄회로기판.(20) further comprising a second bump for electrical connection with another printed circuit board, the second bump being electrically connected to the first circuit layer and exposed to the lower portion of the support plate. Lt; / RTI >

(21) 상기 지지판은 절연층과 제2 전도성 호일이 적층된 구조로서 절연층이 제 1 회로층에 결합되며, 상기 제2 전도성 호일에 제2 회로층이 가공 형성된 것을 특징으로 하는 상기 (14)에 따른 인쇄회로기판. (21) The method according to (14), wherein the supporting plate has a structure in which an insulating layer and a second conductive foil are laminated, the insulating layer is bonded to the first circuit layer, and the second circuit layer is formed on the second conductive foil. Lt; / RTI >

(22) 상기 절연층은 반경화 상태의 프리프레그 시트인 것을 특징으로 하는 상기 (21)에 따른 인쇄회로기판.(22) The printed circuit board according to (21), wherein the insulating layer is a semi-cured prepreg sheet.

이러한 본 발명에 따른 인쇄회로기판은, 전도성 호일 하나에 대해 회로층으로 구현되는 배선구조를 형성함과 동시에 반도체 칩 등을 실장하기 위한 플립칩 본딩용 범프를 일체로 가공 형성함으로써, 전도성 호일의 효율적 활용에 기초하여 기판 자체의 경쟁력을 제고하고, 공정시간 및 비용을 절감하고, 반도체 패키지 공정을 간소화시킬 수 있다.The printed circuit board according to the present invention has a wiring structure that is realized as a circuit layer with respect to one conductive foil and a bump for flip chip bonding for mounting a semiconductor chip or the like is integrally formed and processed, It is possible to increase the competitiveness of the substrate itself based on utilization, reduce the process time and cost, and simplify the semiconductor package process.

또한, 이러한 플리칩 본딩용 범프는 리소그래피 공정을 이용하여 기둥 형상으로 균일하게 형성될 수 있고, 반도체 패키지 작업시 좁은 피치에 의한 실장밀도의 개선, 우수한 지지력의 확보, 열적, 전기적 특성의 개선이 가능하다.In addition, such a bump for flip chip bonding can be uniformly formed into a columnar shape by using a lithography process, and it is possible to improve the mounting density by narrow pitch during semiconductor package operation, securing excellent supporting force, and improving thermal and electrical characteristics Do.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 단층 인쇄회로기판의 단면 구조도.
도 2는 본 발명의 다른 실시예에 따른 다층 인쇄회로기판의 단면 구조도.
도 3은 상기 도 1에 따른 단층 인쇄회로기판을 형성하는 방법에 대한 플로우차트.
도 4는 본 발명에 따라 제1 회로층을 형성하는 과정의 모식도.
도 5는 본 발명에 따라 제1 회로층에 지지판이 적층된 상태에서의 인쇄회로기판의 단면 구조도.
도 6은 본 발명에 따라 제1 범프를 형성하는 과정의 모식도.
도 7은 본 발명에 따라 보호층을 형성한 상태에서의 인쇄회로기판의 단면 구조도.
도 8은 본 발명에 따라 도금층을 형성한 상태에서의 인쇄회로기판의 단면 구조도.
도 9는 상기 도2에 따른 다층 인쇄기판의 제조하는 과정의 모식도.
1 is a cross-sectional structural view of a single-layer printed circuit board according to an embodiment of the present invention;
2 is a cross-sectional structural view of a multilayer printed circuit board according to another embodiment of the present invention;
3 is a flowchart of a method of forming a single-layer printed circuit board according to FIG.
4 is a schematic view of a process of forming a first circuit layer according to the present invention;
5 is a cross-sectional structural view of a printed circuit board in a state in which a support plate is laminated on a first circuit layer according to the present invention.
6 is a schematic view of a process of forming a first bump according to the present invention;
7 is a cross-sectional structural view of a printed circuit board in a state where a protective layer is formed according to the present invention.
8 is a cross-sectional structural view of a printed circuit board in a state where a plating layer is formed according to the present invention.
9 is a schematic view of a process of manufacturing the multilayer printed board according to FIG. 2;

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 인쇄회로기판 및 그 제조방법에 관한 실시예에 대하여 상세히 설명한다. Hereinafter, embodiments of a printed circuit board and a method of manufacturing the same according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도면에서 동일 또는 균등물에 대해서는 동일 또는 유사한 참조번호를 부여하였으며, 또한 명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 “포함”한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한, 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있음을 의미한다. In the drawings, the same or similar reference numerals are given to the same or equivalent elements in the drawings, and in the specification, when a component is referred to as " including ", unless the context clearly indicates otherwise, But it may include other components.

도면에서 전도성 호일, 지지판, 도금층, 필름층 등과 같이, 인쇄회로기판을 구성하거나 제조과정에 사용되는 요소들에 대해서는 그 막두께 또는 영역들의 크기를 설명의 편의상 과장되어 표시하였다. 또한, 인쇄회로기판의 상하 방향은 도면을 기준으로 하여 설명하였다.
In the drawings, the film thickness or the size of the regions are exaggerated for convenience of explanation, such as a conductive foil, a support plate, a plated layer, a film layer, and the like. The vertical direction of the printed circuit board has been described with reference to the drawings.

먼저, 본 발명의 실시예에 따른 인쇄회로기판의 구조에 대해 설명한다. 도 1은 본 발명의 실시예에 따른 단층 인쇄회로기판의 단면 구조도이다.First, a structure of a printed circuit board according to an embodiment of the present invention will be described. 1 is a cross-sectional structural view of a single-layer printed circuit board according to an embodiment of the present invention.

본 발명에 따른 범프가 포함된 인쇄회로기판은 기본적으로, 제1 전도성 호일(100)의 일면을 가공하여 형성된 제1 회로층(120)과, 제 1 회로층(120)에 적층되는 절연층(210)을 포함한 지지판(200; 도 4 참고)과, 상기 제1 전도성 호일(100)의 타면을 가공하여 형성된 제1 범프(300)을 포함하여 구성된다. The printed circuit board including the bumps according to the present invention basically includes a first circuit layer 120 formed by processing one surface of the first conductive foil 100 and an insulating layer 110 laminated on the first circuit layer 120 And a first bump 300 formed by processing the other surface of the first conductive foil 100.

상기 제1 전도성 호일(100)은 제1 회로층(120) 및 플리칩 본딩용 제1 범프(300)를 가공하기 위한 기지재로서, 순수한 구리(Cu)로 이루어진 1층 구조이거나, 다층 구조 예컨대 상하 구리층 사이에 니켈이 포함된 3층 구조(Cu/Ni/Cu)로 이루어질 수 있다. 다층 구조의 경우 최외층 구리에 대해 상기한 제1 범프(300)가 가공 형성될 수 있다. The first conductive foil 100 may be a single layer structure of pure copper (Cu) as a matrix for processing the first circuit layer 120 and the first bump 300 for flip chip bonding, Layer structure (Cu / Ni / Cu) including nickel between the upper and lower copper layers. In the case of a multi-layer structure, the first bump 300 described above may be formed on the outermost copper layer.

제1 전도성 호일(100)의 두께는 제1 회로층(120) 및 범프(300)에 대한 설계 높이에 기초하여 적절히 선택할 수 있으며, 두께가 과도하게 크면 전체 반도체 패키지의 두께가 커지며, 반대로 두께가 너무 얇으면 제1 범프(300) 형성 및 에칭이 곤란해 질 수 있다. 이러한 측면에서 제1 전도성 호일(100)의 두께는 바람직하게는 60㎛ ~ 120㎛ 범위에서 선택될 수 있다. The thickness of the first conductive foil 100 can be appropriately selected based on the design height of the first circuit layer 120 and the bump 300. If the thickness is excessively large, the thickness of the entire semiconductor package becomes large, If it is too thin, the formation and etching of the first bump 300 may become difficult. In this respect, the thickness of the first conductive foil 100 may preferably be selected in the range of 60 [mu] m to 120 [mu] m.

상기 제1 회로층(120)은 인쇄회로기판의 배선구조이고, 상기 제1 범프(300)는 기판에 반도체 칩을 전기적/기계적으로 연결시키기 위한 전도성 돌기이다. 제1 회로층(120)과 제1 범프(300)는 후술하는 바와 같이 리소그래피 공정을 통해 형성될 수 있다. The first circuit layer 120 is a wiring structure of a printed circuit board, and the first bumps 300 are conductive protrusions for electrically / mechanically connecting a semiconductor chip to a substrate. The first circuit layer 120 and the first bump 300 may be formed through a lithography process as described below.

상기 제1 범프(300)는 리소그래피 공정을 이용하여 일정한 형상으로 신뢰성 있게 형성할 수 있으며, 그 형상을 종래 플리칩 본딩시 칩에 형성된 구형의 솔더 볼과는 달리 기둥형상으로 제작하는 것이 가능함으로써, 좁은 피치 구현에도 유리하게 적용될 수 있다.The first bump 300 can reliably be formed in a predetermined shape using a lithography process and can be formed into a column shape unlike a spherical solder ball formed on a chip during conventional flip chip bonding, It can be advantageously applied to a narrow pitch implementation.

상기 지지판(200)은 상기 제1 회로층(120)이 형성된 면에 적층되어 기판을 물리적으로 지지하는 역할과 전기적으로 절연시키는 역할을 수행한다. 이 경우, 상기 제1 회로층(120)은, 지지판(200)의 절연층(210) 내부에 포함되고 상면이 노출된 모습이며, 상기 제1 범프(300)는 절연층(210) 외부로 돌출되어 형성된다.The support plate 200 is stacked on the surface on which the first circuit layer 120 is formed to physically support the substrate and to electrically isolate the substrate. In this case, the first circuit layer 120 is included in the insulating layer 210 of the support plate 200 and the upper surface thereof is exposed. The first bump 300 protrudes to the outside of the insulating layer 210 Respectively.

상기 지지판(200)은 전기적으로 절연시키는 역할을 위해 절연층(210)을 포함하며, 이러한 절연층의 재질에 대해 본 발명은 특별히 한정하지 않는다. 선택적으로, 상기 지지판(200)은 다층 인쇄회로기판을 구성하기 위해 절연층(210)과 함께 제2 전도성 호일(220)이 적층된 구조일 수 있고, 이 경우 상기 제1 회로층(120)과는 별도의 회로층이 제2 전도성 호일(220)에 가공 형성될 수 있다. 절연층과 전도성 호일이 적층된 구조로서, 유리섬유 등과 같은 기지재에 열경화성 수지를 함침시킨 후 반경화 상태로 경화시킨 프리프레그를 절연재로 하여 전도성 물질인 구리가 코팅된, 일명 PCC(Prepreg Coated Copper)가 사용될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. The supporting plate 200 includes an insulating layer 210 to electrically isolate the insulating layer 210. The present invention is not limited to the material of the insulating layer. Alternatively, the support plate 200 may have a structure in which a second conductive foil 220 is laminated together with an insulating layer 210 to form a multilayer printed circuit board. In this case, A separate circuit layer may be formed on the second conductive foil 220. A prepreg coated copper (PCC) layer, which is a copper-coated conductive material, is formed by impregnating a base material such as glass fiber or the like with a thermosetting resin and then curing the pre- ) May be used, but the present invention is not limited thereto.

이러한 지지판(200)의 두께는 지지판의 역할을 고려하여 적절히 선택될 수 있으며, 바람직하게는 50㎛ ~ 100㎛ 범위에서 선택될 수 있다.The thickness of the support plate 200 may be appropriately selected in consideration of the role of the support plate, and may be selected preferably in the range of 50 탆 to 100 탆.

상기 제1 회로층(120)의 상면에는 보호층(400)이 형성될 수 있다. 제1 회로층(120)은 제1 범프(300)를 에칭하여 형성하는 과정에서 그 상면이 외부에 노출되게 되는데, 보호층(400)은 노출된 제1 회로층(120)의 상면을 보호하고 회로 사이에 땜납 걸침(solder bridge) 현상이 발생하는 것을 방지하는 역할을 한다. 다만, 상술한 바와 같이 제1 회로층(120)은 유전체 내부에 형성되어 있고, 최종 표면처리를 통해 보호될 수 있으므로 상기 보호층(400)의 형성은 필요한 경우에 한해 선택적으로 할 수 있고, 제조원가를 절감하기 위해 생략될 수도 있다.A protective layer 400 may be formed on the first circuit layer 120. The upper surface of the first circuit layer 120 is exposed to the outside in the process of etching the first bump 300. The protective layer 400 protects the upper surface of the exposed first circuit layer 120 Thereby preventing the solder bridge phenomenon from occurring between the circuits. However, since the first circuit layer 120 is formed in the dielectric and can be protected by the final surface treatment as described above, the formation of the protective layer 400 can be selectively performed only when necessary, May be omitted in order to save.

상기 보호층(400)은 물리화학적 환경 하에서 내구성을 갖는 불변성 잉크의 일종인 PSR(photo solder resist)을 인쇄하는 방식으로 형성될 수 있다. The protective layer 400 may be formed by printing a PSR (photo solder resist), which is a kind of durable inks, in a physicochemical environment.

상기 제1 범프(300)의 상면에는 도금층(500)이 형성될 수 있다. 도금층(500)은 구리와 같은 금속의 산화를 방지하고 전기전도성 및 내마모성, 내열성, 내식성 등을 향상 시키는 역할을 한다. 상기 도금층(500)은 금, 은, 주석, 납으로부터 선택되는 어느 하나일 수 있고, 무전해 및 전해 도금 방식으로 형성될 수 있다. A plating layer 500 may be formed on the upper surface of the first bump 300. The plating layer 500 prevents oxidation of metals such as copper and improves electrical conductivity, abrasion resistance, heat resistance, corrosion resistance, and the like. The plating layer 500 may be any one selected from gold, silver, tin, and lead, and may be formed by electroless plating and electrolytic plating.

상기 제1 회로층(120)의 하면에는 제2 범프(600)가 형성될 수 있고, 이러한 제2 범프(600)는 제1 회로층(120)과 인쇄회로기판의 아래쪽에 위치하는 다른 인쇄회로기판과의 기계적/전기적 연결을 수행한다. 제2 범프(600)의 형성을 위하여 상기 지지판(200)에 대해서는 제1 회로층(120)에 대응되는 소정 위치에 홀(610)이 가공되어 있으며, 제2 범프(600)는 홀(610)에 의해 노출된 제1 회로층(120)의 하면에 형성된다. 제2 범프(600)의 형성은 홀(610) 내에 도전성 페이스트를 충진 시키는 방식으로 할 수 있다. A second bump 600 may be formed on the lower surface of the first circuit layer 120 and the second bump 600 may be formed on the lower surface of the first circuit layer 120 and another printed circuit board And performs mechanical / electrical connection with the substrate. A hole 610 is formed at a predetermined position corresponding to the first circuit layer 120 with respect to the support plate 200 for forming the second bump 600 and the second bump 600 is formed through a hole 610, On the lower surface of the first circuit layer 120 exposed. The formation of the second bump 600 may be done by filling the hole 610 with a conductive paste.

이러한 본 발명에 따른 인쇄회로기판의 특징 중 하나는, 제1 전도성 호일(100) 하나에 대해 제1 회로층(120)으로 구현되는 배선구조를 형성함과 동시에 반도체 칩 등을 실장하기 위한 제1 범프(300)를 일체로 가공 형성함으로써, 전도성 호일에 대한 효율적인 활용이 가능하다는 점이다. 본 발명에 따른 인쇄회로기판의 또 다른 특징 중의 하나는, 상술한 바와 같이 상기 플리칩 본딩용 제1 범프(300) 리소그래피 공정을 이용하여 일정한 형상으로 신뢰성 있게 형성할 수 있으며, 그 형상을 종래 플리칩 본딩시 칩에 형성된 구형의 솔더 볼과는 달리 기둥형상으로 제작하는 것이 가능함으로써, 좁은 피치 구현에도 유리하게 적용될 수 있다는 점이다. One of the features of the printed circuit board according to the present invention is that a wiring structure implemented by the first circuit layer 120 is formed for one first conductive foil 100, And the bump 300 is integrally formed and processed, it is possible to efficiently use the conductive foil. One further feature of the printed circuit board according to the present invention, it is possible to a first bump 300 for the replicon-chip bonding using a lithographic process to form reliably a constant shape as mentioned above, prior to their shape Unlike the spherical solder balls formed on the chip in the flip chip bonding, it is possible to produce a columnar shape, so that it can be advantageously applied to narrow pitch implementation.

도 2는 본 발명의 다른 실시예에 따른 다층 인쇄회로기판의 단면 구조도이다. 다층 인쇄회로기판은 하나의 기판에 복수의 회로층이 형성되고 각 회로층이 전기적으로 연결된 구조의 인쇄회로기판으로서, 기본적으로 상기 지지판(200)을 절연층(210)과 함께 제2 전도성 호일(220)이 적층된 구조로 구성하고, 제2 전도성 호일(220)에 형성되는 제2 회로층(700)과 미리 형성된 제1 회로층(120)을 전기적으로 연결하는 방식이다. 2 is a cross-sectional structural view of a multilayer printed circuit board according to another embodiment of the present invention. The multilayer printed circuit board is a printed circuit board in which a plurality of circuit layers are formed on one substrate and each circuit layer is electrically connected. Basically, the support plate 200 is connected to the second conductive foil And the second circuit layer 700 formed on the second conductive foil 220 is electrically connected to the first circuit layer 120 formed in advance.

상기 제1 회로층(120)과 제2 회로층(700) 간의 전기적 연결은, 지지판(200)의 소정위치에 비아홀(900)을 형성하고, 비아홀(900)에 의해 노출된 제1 회로층(120)의 하면, 비아홀(900)의 측면 및 제2 전도성 호일(220)의 하면에 일체로 도금층(800)을 형성한 후, 도금층(800)과 함께 제2 전도성 호일(220)에 대해 제2 회로층(700)에 대한 패턴 가공을 함으로써 이루어진다.The electrical connection between the first circuit layer 120 and the second circuit layer 700 may be achieved by forming a via hole 900 at a predetermined position of the support plate 200 and electrically connecting the first circuit layer exposed by the via hole 900 The first conductive foil 220 and the second conductive foil 220 are integrally formed on the side surface of the via hole 900 and the lower surface of the second conductive foil 220, And then patterning the circuit layer 700.

도 2에 따른 다층 인쇄회로기판의 경우에 있어서도 제1 회로층(120) 및 제1 범프(300)에 대한 구성은 도 1의 단층 인쇄회로기판과 동일하며, 제1 회로층(120) 보호를 위한 보호층(400), 제1 범프(300) 위의 도금층(500)은 상기 도 1에 따른 단층 인쇄회로기판에서와 마찬가지로 적용될 수 있다.
In the case of the multilayer printed circuit board according to FIG. 2, the configuration for the first circuit layer 120 and the first bump 300 is the same as that of the single-layer printed circuit board of FIG. 1, The protective layer 400 for the first bump 300 and the plating layer 500 on the first bump 300 may be applied as in the case of the single-layer printed circuit board according to FIG.

다음으로, 본 발명의 실시예에 따른 인쇄회로기판의 제조방법에 대해 설명한다. 도 3은 상기 도 1에 따른 단층 인쇄회로기판을 형성하는 방법에 대한 플로우차트이고, 도 4 내지 도 8은 단위 공정에 따른 인쇄회로기판 단면도 또는 설명을 위한 도면이다.Next, a method of manufacturing a printed circuit board according to an embodiment of the present invention will be described. FIG. 3 is a flowchart of a method of forming a single-layer printed circuit board according to FIG. 1, and FIGS. 4 to 8 are sectional views or explanatory views of a printed circuit board according to a unit process.

도 3 및 도 4을 참조할 때, 제1 전도성 호일(100)의 일면에 인쇄회로기판의 배선구조인 제1 회로층(120)을 형성한다(S10). 제1 회로층(120)을 형성하는 과정은, 바람직하게는 제1 전도성 호일(100) 면에 감광성필름을 코팅한 후 리소그래피 공정, 에칭 공정을 통해 제1 회로층(120)을 패턴 가공하는 방식으로 수행될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 구체적으로, (a) 제1 전도성 호일(100) 면 중 적어도 제1 회로층(120)이 형성될 면에 대해 드라이 필름(Dry film)과 같은 감광성필름(110)을 라미네이션(lamination)하는 단계; (b) 상기 감광성 필름(110)에 상기 제1 회로층(120) 패턴에 대응되는 감광성 필름 패턴을 노광 및 현상하여 형성하는 단계; (c) 상기 제1 회로층(120)을 에칭으로 형성하는 단계; 및 (d) 잔류 감광성 필름을 제거하는 단계를 순차적으로 수행하는 방식으로 가공될 수 있다. Referring to FIGS. 3 and 4, a first circuit layer 120, which is a wiring structure of a printed circuit board, is formed on one surface of the first conductive foil 100 (S10). The first circuit layer 120 may be formed by coating a photosensitive film on a surface of the first conductive foil 100 and then patterning the first circuit layer 120 through a lithography process or an etching process But is not limited thereto. Specifically, (a) a step of laminating a photosensitive film 110 such as a dry film on the surface of the first conductive foil 100 where at least the first circuit layer 120 is to be formed; (b) exposing and developing the photosensitive film pattern corresponding to the pattern of the first circuit layer 120 to the photosensitive film 110; (c) forming the first circuit layer 120 by etching; And (d) removing the residual photosensitive film in a sequential manner.

상기 감광성 필름(110) 라미네이션 공정은, 대상 기재인 제1 전도성 호일(100)에 감광성 필름(110)을 위치시킨 후 소정의 열과 압력으로 도포하는 방식으로 수행된다. 필요에 따라, 감광성 필름(110)의 접착성을 향상시키기 위해, 라미네이션 공정 전에 상기 제1 전도성 호일(100)에 대해서는 화학적 연마 또는 기계적 연마를 통해 표면 거칠기를 형성하는 표면처리가 수반될 수 있다.The process of laminating the photosensitive film 110 is performed by placing the photosensitive film 110 on the first conductive foil 100, which is a target substrate, and then applying the photosensitive film 110 with a predetermined heat and pressure. If necessary, the first conductive foil 100 may be subjected to a surface treatment to form surface roughness by chemical polishing or mechanical polishing before the lamination process, in order to improve the adhesion of the photosensitive film 110.

상기 노광 공정은 라미네이션된 감광성 필름(110) 위에 패턴 마스크용 워킹필름을 정합하여 정렬한 후, UV 등의 빛 에너지를 조사하는 방식으로 수행되며, 이에 따라 빛이 조사된 부분에서의 감광성 필름(110)을 단량체에서 중합체로 변화된다. 후속 되는 현상공정에서 감광성 필름(110)을 현상액에 노출시킴으로써, 조사되지 않은 단량체 감광성 필름(110)을 제거하여 감광성 필름 패턴을 형성하게 된다.The exposure process is performed by aligning and aligning a working film for a pattern mask on the laminated photosensitive film 110, and then irradiating light energy such as UV light. Thus, the photosensitive film 110 ) Is changed from a monomer to a polymer. The photosensitive film 110 is exposed to a developing solution in a subsequent developing process to remove the unexposed monomer photosensitive film 110 to form a photosensitive film pattern.

에칭 공정에서 감광성 필름 패턴이 도포되지 않은 제1 전도성 호일(100) 영역을 건식 또는 습식 에칭하여 제1 회로층(120) 패턴을 형성하고, 수산화 나트륨이나 수산화 칼륨 등을 이용하여 감광성 필름 패턴을 박리 제거함으로써, 도 4에 도시된 바와 같이 제1 전도성 호일(100)의 하부면에는 제1 회로층(120)이 형성된다.The area of the first conductive foil 100 to which the photosensitive film pattern is not applied in the etching process is dry or wet etched to form the first circuit layer 120 pattern and the photosensitive film pattern is peeled off using sodium hydroxide, The first circuit layer 120 is formed on the lower surface of the first conductive foil 100 as shown in FIG.

다음으로, 도 3 및 도 5를 참조할 때, 상기 제1 회로층(120)이 형성된 제1 전도성 호일(100) 면에 기판을 물리적으로 지지하는 역할과 전기적으로 절연시키는 역할을 수행하는 지지판(200)을 적층한다(S20). Referring to FIGS. 3 and 5, a supporting plate (not shown) is mounted on the surface of the first conductive foil 100, on which the first circuit layer 120 is formed, 200 are stacked (S20).

상기 지지판(200)은 전기적으로 절연시키는 역할을 위해 절연층(210)을 포함하며, 절연층(210)과 제2 전도성 호일(220)이 적층된 구조로서, 유리섬유 등과 같은 기지재에 열경화성 수지를 함침시킨 후 반경화 상태로 경화시킨 프리프레그를 절연재로 하여 전도성 물질인 구리가 코팅된, 상용화된 PCC(Prepreg Coated Copper)가 일반적으로 사용될 수 있다. The supporting plate 200 includes an insulating layer 210 to electrically isolate the insulating layer 210 and the second conductive foil 220. The insulating layer 210 and the second conductive foil 220 are laminated to each other. A commercially available PCC (Prepreg Coated Copper) coated with a conductive material such as a prepreg using a prepreg which is cured in a semi-cured state as an insulating material can be generally used.

상기 적층 과정은 프리프레그와 전도성호일 등을 설계사양에 맞게 겹쳐서 쌓고 열과 압력을 가해 접착시키는 공정으로 수행될 수 있다.The laminating process may be performed by stacking prepregs, conductive foils, etc. in accordance with design specifications, and applying heat and pressure to adhere the prepregs.

상기 지지판(200)이 절연층(210)과 제2 전도성 호일(220)이 적층된 구조인 경우에, 제2 전도성 호일(220)은 회로층이 다층으로 구성된 다층 인쇄회로기판을 제작할 때 또 다른 회로층을 형성하는 데 이용될 수 있으며 단층 인쇄회로기판을 제작하는 경우에는 필요에 따라 제거될 수 있다.In the case where the support plate 200 has a structure in which the insulating layer 210 and the second conductive foil 220 are laminated, the second conductive foil 220 may be formed in a multilayer printed circuit board having a multi- It can be used to form a circuit layer and can be removed if necessary in the case of manufacturing a single-layer printed circuit board.

다음으로, 도 3 및 도6을 참조할 때, 상기 제1 전도성 호일(100)의 타면에 반도체 칩을 플립칩 본딩하기 위한 제1 범프(300)를 형성한다(S30). 제1 범프(300)를 형성하는 과정은, 상술한 제1 회로층(120)을 형성하는 경우와 마찬가지로, 범프가 형성될 제1 전도성 호일(100) 면에 감광성 필름(310)을 코팅한 후 리소그래피 공정 및 에칭 공정을 통해 수행될 수 있다. 구체적으로는, (a) 상기 제1 전도성 호일(100)의 타면에 감광성필름(310)을 라미네이션 하는 단계; (b) 상기 감광성필름(310)에 상기 제1 범프(300) 패턴에 대응되는 감광성필름 패턴을 노광 및 현상하여 형성하는 단계; (c) 상기 제1 범프(300)를 에칭으로 형성하는 단계; 및 (d) 잔류 감광성필름 패턴을 제거하는 단계를 순차적으로 수행하는 방식으로 가공될 수 있다. 이 경우, 라미네이션, 노광 및 현상, 에칭, 박리공정은 상술한 제1 회로층(120)을 형성하는 과정에서의 경우와 동일하게 적용될 수 있다.Next, referring to FIGS. 3 and 6, a first bump 300 for flip-chip bonding a semiconductor chip is formed on the other surface of the first conductive foil 100 (S30). The process of forming the first bumps 300 may be performed by coating the photosensitive film 310 on the surface of the first conductive foil 100 on which bumps are to be formed as in the case of forming the first circuit layer 120 A lithography process and an etching process. (A) laminating a photosensitive film 310 on the other surface of the first conductive foil 100; (b) exposing and developing the photosensitive film pattern corresponding to the first bump pattern to the photosensitive film 310; (c) forming the first bump (300) by etching; And (d) removing the residual photosensitive film pattern. In this case, the lamination, exposure and development, etching, and peeling processes can be applied in the same manner as in the process of forming the first circuit layer 120 described above.

다음으로, 도 3 및 도 7을 참조할 때, 노출된 제1 회로층(120)을 보호하고 땜납 걸침 현상을 방지하기 위한 보호층(400)을 형성한다(S40). 보호층(400)의 형성은 물리화학적 환경 하에 내구성을 갖는 불변성 잉크의 일종인 PSR(photo solder resist)을 인쇄하는 방식으로 수행된다. 다만, 상술한 바와 같이 제1 회로층(120)은 유전체 내부에 형성되어 있고, 최종 표면처리를 통해 보호될 수 있으므로 상기 보호층(400)의 형성은 경우에 따라 생략될 수 있다.Next, referring to FIGS. 3 and 7, a protective layer 400 is formed to protect the exposed first circuit layer 120 and prevent solder stagnation (S40). The formation of the protective layer 400 is performed by printing a PSR (photo solder resist), which is a kind of a persistent ink having a durability under a physicochemical environment. However, as described above, since the first circuit layer 120 is formed inside the dielectric and can be protected by the final surface treatment, the formation of the protective layer 400 may be omitted in some cases.

다음으로, 도 3 및 도 8을 참조할 때, 상기 제1 범프(300)의 상면에는 구리와 같은 금속의 산화를 방지하고 전기 전도성 및 내마모성, 내열성, 내식성 등을 향상 시키는 역할을 하는 도금층(500)을 형성한다(S50). 상기 도금층(500)의 형성과정은 금, 은, 주석, 납으로부터 선택되는 어느 하나로 하여, 무전해 및 전해 도금 방식으로 수행될 수 있다. 이 경우, 무전해 전기 도금은 전기 에너지를 공급받지 않고 화학적 산화/환원 반응을 이용하여 금속이온을 코팅하는 것으로 화학 도금 또는 자기 촉매 도금이라고도 하며, 전해 도금은 전기석출법을 사용하여 도금하는 것을 의미한다. 무전해 도금 및 전해 도금 방식은 이러한 무전해 도금과 전해 도금을 모두 사용하여 도금하는 것이다. 3 and 8, a top surface of the first bump 300 is coated with a plating layer 500 (hereinafter referred to as " plating layer ") that prevents oxidation of metals such as copper and improves electrical conductivity, abrasion resistance, heat resistance, (S50). The process of forming the plating layer 500 may be performed by electroless plating or electrolytic plating using gold, silver, tin, or lead. In this case, the electroless electroplating is a chemical plating or an electrocatalyst plating in which the metal ions are coated by using the chemical oxidation / reduction reaction without receiving the electric energy, and the electroplating is a plating using the electrodeposition method do. The electroless plating and the electrolytic plating are performed by using both the electroless plating and the electrolytic plating.

다음으로, 도 3 및 도 1을 참조할 때, 다른 인쇄회로기판과의 기계적 / 전기적으로 연결시키기 위한 제2 범프(600)를 형성한다(S60). 제2 범프(600)의 형성을 위하여 상기 지지판(200)에 대해서는 제1 회로층(120)에 대응되는 소정 위치에 홀(610)을 가공한 후, 제2 범프(600)를 홀(610)에 의해 노출된 제1 회로층(120)의 하면에 형성한다. 이 경우, 상기 홀(610) 가공은 기계적 드릴링 공법, 플라즈마 에칭공법, 레이저 공법 등으로 할 수 있고, 제2 범프(600)의 형성은 홀(610) 내에 도전성 페이스트를 충진 시키는 방식으로 형성될 수 있다.Next, referring to FIG. 3 and FIG. 1, a second bump 600 for mechanical / electrical connection with another printed circuit board is formed (S60). A hole 610 is formed at a predetermined position corresponding to the first circuit layer 120 with respect to the support plate 200 to form the second bump 600 and then the second bump 600 is inserted into the hole 610, On the lower surface of the first circuit layer 120 exposed. In this case, the hole 610 may be formed by a mechanical drilling process, a plasma etching process, a laser process, or the like, and the formation of the second bump 600 may be performed by filling the hole 610 with a conductive paste. have.

상기 제2 범프(600)는 다른 인쇄회로기판과의 기계적 / 전기적 연결 목적으로 형성되므로, 단층 인쇄회로기판 제조과정에서 반드시 수반되어야 하는 것은 아니다.
Since the second bumps 600 are formed for the purpose of mechanical / electrical connection with other printed circuit boards, the second bumps 600 are not necessarily involved in the process of manufacturing a single-layer printed circuit board.

본 발명의 다른 실시예에 따르면, 플리칩 본딩용 범프(300)가 일체로 구현된 인쇄회로기판을 다층으로 구성할 수 있으며, 도 9는 이러한 다층 인쇄회로기판을 간소화된 공정으로 제조하는 과정을 나타낸다. According to another embodiment of the present invention, a printed circuit board in which the bumps 300 for flip chip bonding are integrated can be formed in multiple layers, and FIG. 9 shows a process of manufacturing such a multilayer printed circuit board by a simplified process .

한편, 다층 인쇄회로기판을 제조하는 과정에 있어서도, 상술한, 제1 회로층(120), 제1 범프(300), 보호층(400)을 형성하는 과정은 동일하게 적용될 수 있으므로, 이하에서는 다층으로 구성된 회로층 상호간에 전기적 연결을 형성하는 과정을 중심으로 설명한다.The process of forming the first circuit layer 120, the first bump 300, and the protective layer 400 may be similarly applied to the process of manufacturing the multilayer printed circuit board, And the process of forming an electrical connection between the circuit layers constituted by the first layer and the second layer.

기본적으로 다층 인쇄회로기판의 제조는, 지지판(200)을 절연층(210)과 함께 제2 전도성 호일(220)이 적층된 구조로 구성하고, 제2 전도성 호일(220)에 형성되는 제2 회로층(700)과 제1 전도성 호일(100)에 미리 형성된 제1 회로층(120)을 도금층(800)을 이용하여 전기적으로 연결하는 방식이다.Basically, a multilayer printed circuit board is manufactured by forming the support plate 200 with a structure in which the second conductive foil 220 is laminated together with the insulating layer 210, and the second conductive foil 220, Layer 700 and the first circuit layer 120 previously formed on the first conductive foil 100 are electrically connected to each other by using a plating layer 800. [

먼저, 지지판(200)의 하부 소정위치에 회로층 간의 전기적 연결통로가 되는 홀을 형성한다. 이러한 홀을 일반적으로 비아홀(via hole)(900)이라 하는데, 레이저 가공을 통해 지지판(200)에 대해서만 선택적으로 관통된 블라인드 비아홀(blind via hole)을 형성시킴으로써 제1 회로층(120)의 하면이 외부로 노출시키는 것이 가능하다. 다음으로, 외부로 노출된 제1 회로층(120)의 하면, 비아홀(900)의 측면 및 제2 전도성 호일(220)의 하면에 대해 일체로, 그리고 제1 전도성호일(100)의 상면에 각각 도금층(800)을 형성한다. 기판 상면의 도금층(800)은 후속공정에서 제1 범프(300)와 일체로 패턴 가공되며, 기판 하면의 도금층(800)은 제1 회로층(120)과 후속공정에서 형성되는 제2 회로층(700)을 전기적으로 연결시킨다. 도금은 구리를 포함한 전도성 재료를 이용할 수 있으며, 도금층(800)의 형성은 무전해 및 전해 도금 방법을 이용할 수 있다. 다음으로, 제 1 전도성 호일(100)의 상면과 도금층(800)이 형성된 제2 전도성 호일(220)의 하면 측에 드라이 필름과 같은 감광성 필름(310)을 라미네이션한다. 이 경우, 제2 전도성 호일(220) 하면 측에 라미네이션된 감광성 필름(310)에 의해 상기 비아홀(900)의 내부는 밀폐된다. 다음으로, 상기 제1 전도성 호일(100)의 상면 측에 코팅된 감광성 필름(310)에는 상기 제1 범프(300) 패턴에 대응되는 감광성 필름 패턴을, 상기 제2 전도성 호일(220)의 하면 측에 위치한 감광성 필름(310)에는 제2 회로층(700)에 대응되는 감광성 필름 패턴을 각각 노광 및 현상하여 형성한다. 다음으로, 에칭 공정을 통해 제1 범프(300)와 제2 회로층(700) 패턴을 형성한다. 이 경우, 에칭 공정에 의해 형성되는 제1 범프(300) 및 제2 회로층(700)에 대한 패턴 가공은 도금층(800)에 대해서도 함께 이루어진다. 다음으로, 잔류 감광성 필름 패턴들은 수산화나트륨이나 수산화칼륨 등을 이용하여 박리 제거함으로써, 플립칩 본딩용 범프(300)가 일체로 성형된 다층 인쇄회로 기판을 제조하게 된다.First, a hole serving as an electrical connection path between circuit layers is formed at a predetermined lower portion of the support plate 200. Such a hole is generally referred to as a via hole 900. A blind via hole selectively penetrated only through the support plate 200 through laser processing is formed so that the lower surface of the first circuit layer 120 It is possible to expose it to the outside. The lower surface of the first circuit layer 120 exposed to the outside is integrally formed with the side surface of the via hole 900 and the lower surface of the second conductive foil 220 and with the upper surface of the first conductive foil 100 A plating layer 800 is formed. The plating layer 800 on the upper surface of the substrate is patterned integrally with the first bump 300 in the subsequent process and the plating layer 800 on the lower surface of the substrate includes the first circuit layer 120 and the second circuit layer 700 are electrically connected. The plating may be performed using a conductive material including copper, and the plating layer 800 may be formed by an electroless plating method or an electrolytic plating method. Next, a photosensitive film 310 such as a dry film is laminated on the upper surface of the first conductive foil 100 and the lower surface of the second conductive foil 220 on which the plating layer 800 is formed. In this case, the inside of the via hole 900 is sealed by the photosensitive film 310 laminated on the lower side of the second conductive foil 220. Next, a photosensitive film pattern corresponding to the first bump pattern 300 is formed on the photosensitive film 310 coated on the upper surface side of the first conductive foil 100, The photosensitive film pattern corresponding to the second circuit layer 700 is formed by exposing and developing the photosensitive film 310 located in the second circuit layer 700, respectively. Next, the patterns of the first bump 300 and the second circuit layer 700 are formed through an etching process. In this case, the patterning of the first bump 300 and the second circuit layer 700 formed by the etching process is also performed for the plating layer 800. Next, the residual photosensitive film patterns are peeled off by using sodium hydroxide, potassium hydroxide, or the like to produce a multilayer printed circuit board in which the flip chip bonding bumps 300 are integrally formed.

도 9의 실시예에서는 제1 범프(300)의 형성과정과 동시에, 제2 회로층(700)에 대한 패턴 가공을 함으로써 공정시간 및 비용을 절감할 수 있다. 다만, 실시예는 제1 범프(300) 형성과정에 수반되는 라미네이션 코팅 과정을 이용하여 제2 회로층(700)에 대해서도 패턴가공을 하는 경우를 예정하였지만, 제2 회로층(700)에 대한 패턴가공과 이를 위한 비아홀(900) 및 도금층(800)의 형성과정은 별도의 공정으로 분리하는 것도 가능하며, 제1 범프(300)에 형성되는 도금층(800)의 형성도 별도로 수행할 수 있다. In the embodiment of FIG. 9, patterning is performed on the second circuit layer 700 simultaneously with the formation of the first bumps 300, thereby reducing the processing time and cost. However, in the embodiment, the patterning is also performed on the second circuit layer 700 by using the lamination coating process in the process of forming the first bumps 300. However, the pattern for the second circuit layer 700 The process of forming the via hole 900 and the plating layer 800 may be separated by a separate process and the plating layer 800 formed on the first bump 300 may be separately formed.

이상의 설명은, 본 발명의 구체적인 실시예에 관한 것이다. 본 발명에 따른 상기 실시예는 설명의 목적으로 개시된 사항이나 본 발명의 범위를 제한하는 것으로 이해되지는 않으며, 해당 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질을 벗어나지 아니하고 다양한 변경 및 수정이 가능한 것으로 이해되어야 한다. 따라서, 이러한 모든 수정과 변경은 특허청구범위에 개시된 발명의 범위 또는 이들의 균등물에 해당하는 것으로 이해될 수 있다.The foregoing is a description of specific embodiments of the present invention. While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments or constructions. It will be understood by those of ordinary skill in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention. It should be understood that this is possible. It is therefore to be understood that all such modifications and alterations are intended to fall within the scope of the invention as disclosed in the following claims or their equivalents.

100: 제1 전도성 호일 110: 감광성 필름
120: 제1 회로층 200: 지지판
210: 절연층 220: 제2 전도성 호일
300: 제1 범프 310: 감광성 필름
400: 보호층 500: 도금층
600: 제2 범프 610: 홀
700: 제2 회로층 800: 도금층
900: 비아홀
100: first conductive foil 110: photosensitive film
120: first circuit layer 200:
210: insulating layer 220: second conductive foil
300: first bump 310: photosensitive film
400: protective layer 500: plated layer
600: second bump 610: hole
700: second circuit layer 800: plated layer
900: via hole

Claims (22)

제1 전도성 호일의 일면을 제1 회로층으로 가공하는 단계; 상기 제1 전도성 호일의 제1 회로층을 지지판에 구비된 절연층에 대향하여 매입되도록 적층하는 단계; 및 상기 제1 전도성 호일의 반대쪽 타면에 칩 본딩용 제1 범프를 상기 제1회로층과 일체가 되도록 가공하는 단계를 포함하고,
상기 칩 본딩용 제1 범프를 가공하는 단계는, (a) 상기 제1 전도성 호일에 감광성필름을 라미네이션 하는 단계; (b) 상기 감광성필름에 상기 제1 범프 패턴에 대응되는 감광성필름 패턴을 노광 및 현상하여 형성하는 단계; (c) 상기 제1 범프를 에칭으로 형성하는 단계; 및 (d) 잔류 감광성필름 패턴을 제거하는 단계를 포함하고,
상기 제1 회로층은 상기 절연층 내부에 포함되고 상면만이 노출되는 형태인 것을 특징으로 하는 인쇄회로기판 제조방법.
Processing one surface of the first conductive foil into a first circuit layer; Stacking the first circuit layer of the first conductive foil so as to be embedded so as to face the insulating layer provided on the support plate; And processing the first bump for chip bonding to be integrated with the first circuit layer on the other surface opposite to the first conductive foil,
The step of processing the first bonding bump includes: (a) laminating a photosensitive film on the first conductive foil; (b) exposing and developing the photosensitive film pattern corresponding to the first bump pattern to the photosensitive film; (c) forming the first bump by etching; And (d) removing the residual photosensitive film pattern,
Wherein the first circuit layer is included in the insulating layer and only the top surface is exposed.
삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 제 1 항에 있어서, 상기 지지판은 절연층과 제2 전도성 호일이 적층된 구조로서 절연층이 제 1 회로층에 결합되며, 상기 제2 전도성 호일에는 제2 회로층을 가공하는 단계를 더 포함하고, 상기 제2 회로층을 가공하는 단계는,
(a) 상기 지지판에 소정 부위에 제1 회로층 노출면까지 비아홀을 형성하는 단계;
(b) 상기 제2 회로층과 제1 회로층 사이의 전기적 연결을 위한 도금층을 형성하는 단계;
(c) 상기 도금층의 하부에 감광성필름을 형성하는 단계;
(d) 상기 도금층에 형성된 감광성필름에는 제2 회로층 패턴에 대응되는 감광성필름 패턴을 각각 노광 및 현상하는 단계;
(e) 상기 제2 회로층 패턴을 에칭하여 형성하는 단계; 및
(f) 잔류 감광성필름 패턴을 제거하는 단계를 포함하여 구성되고,
상기 제2 회로층을 가공하는 단계는 상기 제1 범프를 가공하는 단계와 동시에 수행되는 것을 특징으로 하는 인쇄회로기판 제조방법.
2. The method of claim 1, wherein the support plate further comprises a layer of an insulating layer and a second conductive foil, wherein the insulating layer is bonded to the first circuit layer, and the second conductive foil is processed to form a second circuit layer And the step of machining the second circuit layer comprises:
(a) forming a via hole in a predetermined region on the support plate to the exposed surface of the first circuit layer;
(b) forming a plating layer for electrical connection between the second circuit layer and the first circuit layer;
(c) forming a photosensitive film on a lower portion of the plating layer;
(d) exposing and developing the photosensitive film pattern corresponding to the second circuit layer pattern to the photosensitive film formed on the plating layer, respectively;
(e) etching and forming the second circuit layer pattern; And
(f) removing the residual photosensitive film pattern,
Wherein the step of machining the second circuit layer is performed simultaneously with the step of machining the first bump.
제 1 항에 있어서, 상기 지지판은 절연층과 제2 전도성 호일이 적층된 구조로서 절연층이 제 1 회로층에 결합되며, 상기 제2 전도성 호일에는 제2 회로층을 가공하는 단계를 더 포함하고, 상기 제2 회로층을 가공하는 단계는,
(a) 상기 지지판에 소정 부위에 제1 회로층 노출면까지 비아홀을 형성하는 단계;
(b) 상기 제2 회로층과 제1 회로층 사이의 전기적 연결을 위한 도금층을 형성하는 단계;
(c) 상기 도금층의 하부에 감광성필름을 형성하는 단계;
(d) 상기 도금층에 형성된 감광성필름에는 제2 회로층 패턴에 대응되는 감광성필름 패턴을 각각 노광 및 현상하는 단계;
(e) 상기 제2 회로층 패턴을 에칭하여 형성하는 단계; 및
(f) 잔류 감광성필름 패턴을 제거하는 단계를 포함하여 구성되고,
상기 (b) 단계에서 상기 제1 전도성 호일의 상면에도 도금층을 형성하고, 제2 회로층을 가공하는 단계에 수반하여 상면에 도금층이 형성된 제1 범프를 일체로 패턴 가공하는 것을 특징으로 하는 인쇄회로기판 제조방법.
2. The method of claim 1, wherein the support plate further comprises a layer of an insulating layer and a second conductive foil, wherein the insulating layer is bonded to the first circuit layer, and the second conductive foil is processed to form a second circuit layer And the step of machining the second circuit layer comprises:
(a) forming a via hole in a predetermined region on the support plate to the exposed surface of the first circuit layer;
(b) forming a plating layer for electrical connection between the second circuit layer and the first circuit layer;
(c) forming a photosensitive film on a lower portion of the plating layer;
(d) exposing and developing the photosensitive film pattern corresponding to the second circuit layer pattern to the photosensitive film formed on the plating layer, respectively;
(e) etching and forming the second circuit layer pattern; And
(f) removing the residual photosensitive film pattern,
Forming a plating layer on the upper surface of the first conductive foil in the step (b), and patterning the first bumps integrally formed with the plating layer on the upper surface in accordance with the step of processing the second circuit layer. ≪ / RTI >
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