KR101727777B1

KR101727777B1 - Ｏ/ｗ 유화조성물

Info

Publication number: KR101727777B1
Application number: KR1020127022378A
Authority: KR
Inventors: 도미코 다카쿠라; 다카후미 구로사와; 이사오 야지마
Original assignee: 가부시키가이샤 시세이도
Priority date: 2010-03-30
Filing date: 2011-01-19
Publication date: 2017-04-17
Also published as: ES2641301T3; WO2011122072A1; JP5227991B2; KR20130018232A; CN103249393A; US20130004553A1; JP2011207826A; AU2011233363B2; CN103249393B; EP2554157B1; AU2011233363A1; HK1187245A1; EP2554157A4; EP2554157A1

Abstract

본 발명은 자외선 방어능, 제제안정성, 사용감이 우수한 O/W 유화조성물을 제공한다. 본 발명에 관한 O/W 유화조성물은 하기 성분 (a) 및 (b)를 포함하고, 성분 (a)를 함유하는 유화입자의 평균 입자직경이 800㎚ 이하인 것을 특징으로 한다:
(a) 하기 (a1), (a2) 및 (a3)를 포함하는 유기 자외선 흡수제:
(a1) 옥토크릴렌,
(a2) 메톡시신남산 에틸헥실,
(a3) 4-t-부틸-4’-메톡시디벤조일메탄;
(b) 하기 화학식 1 또는 화학식 2로 표시되는 폴리옥시에틸렌·폴리옥시알킬렌알킬에테르 블록폴리머:
(화학식 1)

[상기 화학식 1에서, R₁은 탄소수 16~18의 탄화수소기이고, PO는 옥시프로필렌기이며, EO는 옥시에틸렌기이다. PO와 EO는 블록 형상으로 부가되어 있다. m, n은 각각 PO, EO의 평균부가몰수를 의미하고, 4≤m＜70, 10≤n＜70, m＜n임]
(화학식 2)

[상기 화학식 2에서, R₂, R₃는 동일해도 좋고 상이해도 좋으며, 각각 탄소수 1~4의 탄화수소기이고, AO는 탄소수 3~4의 옥시알킬렌기이며, EO는 옥시에틸렌기이다. AO와 EO는 블록 형상으로 부가되어 있다. p, q는 각각 AO, EO의 평균부가몰수를 의미하고, 1≤p≤70, 1≤q≤70, 0.5＜(q/(p+q))＜0.8임].

Description

Ｏ/Ｗ 유화조성물{O/W EMULSION COMPOSITION}

본 발명은 수중유형(O/W) 유화조성물에 관한 것으로, 특히 유용성 유기 자외선 흡수제를 함유하고, 제제안정성 및 사용감이 우수하며, 선스크린 화장료로서 바람직한 O/W 유화조성물에 관한 것이다.

화장료에, 유기 자외선 흡수제나, 미립자 산화티탄이나 미립자 산화아연 등의 무기 자외선 산란제를 배합하여 자외선 방어능을 부여하는 것이 널리 행해지고 있다. 특히 최근, 자외선의 피부에 대한 영향이 널리 알려지고 또한 미백에 대한 사용자의 의식도 향상되어, 보다 높은 자외선 방어능을 발휘하고 또한 사용감도 좋은 화장료가 요구되고 있다.

이들 화장료 중, O/W 유화조성물은 유분을 배합하면서도 촉촉하고 산뜻한 사용감이 수득되는 측면에서, 유액, 크림 등의 기초화장료로서는 물론, 파운데이션이나 선스크린 화장료 등의 제품에서도 널리 사용된다.

그러나, 미립자 산화티탄이나 미립자 산화아연 등의 무기 자외선 차폐성 분체를 다량으로 배합하여, UV-B 내지 UV-A의 넓은 영역에 걸쳐 높은 자외선 방어능을 부여하고자 하면, 화장을 마쳤을 때 하얗게 되거나 버석거림이나 가루감을 발생시키는 경우가 있다.

한편, 유기 자외선 흡수제는 일반적으로 고극성유인 것이 많고, 이는 상기와 같이 허옇게 들뜨거나 버석거림, 가루감 등의 문제가 발생하지 않지만, 끈적거림이 심하고 피부에 도포했을 때 O/W 유화조성물의 촉촉한 사용감이 손상되며, 또한 유화안정성도 낮아지는 경향이 있다. 특히, 유기 자외선 흡수제로서 옥토크릴렌과 메톡시신남산 에틸헥실을 병용한 경우에는, 우수한 자외선 방어능이 발휘되지만, 유화안정성이나 사용감이 우수한 O/W 유화조성물을 수득하기는 곤란했다.

또한, 4-t-부틸-4’-메톡시디벤조일메탄은, UV-A부터 UV-B까지, 특히 UV-A의 영역에서 자외선 흡수능을 갖는 매우 우수한 유기 자외선 흡수제이지만, 본질적으로 상온에서는 결정성의 고체이고, 이를 유상 중에 용해하여 O/W 유화조성물에 배합하고자 하면, 용해되기 어려우며 경시적으로 석출되는 문제가 있었다.

이와 같이 자외선 흡수제를 조합함으로써 높은 자외선 방어능을 실현할 수 있지만, 유화조성물로 할 때에는 유화안정성을 갖게 하기 위해 계면활성제를 다량으로 배합할 필요가 있고, 자외선 방어능을 갖는 유액 특유의 번들거리는 사용감이 나타나는 경향이 있다.

본 발명은 상기 종래 기술을 감안하여 이루어진 것으로, 그 목적은 자외선 방어능, 제제안정성, 및 끈적거림이 없고 촉촉한 사용감이 우수한 O/W 유화조성물을 제공하는 데에 있다.

상기 과제를 해결하기 위해 본 발명자들이 예의 검토한 결과, 옥토크릴렌 및 메톡시신남산 에틸헥실을 포함하는 유상에, 4-t-부틸-4’-메톡시디벤조일메탄을 용해하고, 이 유상을 특정의 유화제를 사용하여 일정 이하의 유화입자 직경으로 함으로써, 자외선 방어능이나 경시적인 제제안정성이 우수하며, 끈적거림이 없고 촉촉한 사용감의 O/W 유화조성물이 수득되는 것을 발견하여 본 발명을 완성하기에 이르렀다.

즉, 본 발명에 관한 O/W 유화조성물은 하기 성분 (a) 및 성분 (b)를 포함하고, 성분 (a)를 함유하는 유화입자의 평균입자직경이 800 ㎚ 이하인 것을 특징으로 한다:

(a) 하기 (a1), (a2) 및 (a3)를 포함하는 유기 자외선 흡수제;

(a1) 옥토크릴렌,

(a2) 메톡시신남산 에틸헥실,

(a3) 4-t-부틸-4’-메톡시디벤조일메탄,

(b) 하기 화학식 1 또는 화학식 2로 표시되는 폴리옥시에틸렌·폴리옥시알킬렌알킬에테르 블록폴리머;

[상기 화학식 1에서, R₁은 탄소수 16~18의 탄화수소기이고, PO는 옥시프로필렌기이며, EO는 옥시에틸렌기이다. PO와 EO는 블록 형상으로 부가되어 있다. m, n은 각각 PO, EO의 평균부가몰수를 의미하고, 4≤m＜70, 10≤n＜70, m＜n이다.]

[상기 화학식 2에서, R₂, R₃는 동일해도 좋고 상이해도 좋으며, 각각 탄소수 1~4의 탄화수소기이고, AO는 탄소수 3~4의 옥시알킬렌기이며, EO는 옥시에틸렌기이다. AO와 EO는 불록형상으로 부가되어 있다. p, q는 각각 AO, EO의 평균부가몰수를 의미하고, 1≤p≤70, 1≤q≤70, 0.5＜(q/(p+q))＜0.8이다.]

상기 O/W 유화조성물에서, (a)를 8 질량% 이상 포함하는 것이 바람직하다.

상기 O/W 유화조성물에서, (b)를 0.5 질량% 내지 3 질량% 포함하는 것이 바람직하다.

상기 O/W 유화조성물에서, {(a1)의 배합량+(a2)의 배합량}/(a3)의 배합량이 2 이상인 것이 바람직하다.

상기 O/W 유화조성물에서, (a1)을 1 질량% 내지 10 질량%, (a2)를 1 질량% 내지 7.5 질량%, (a3)을 0.5 질량% 내지 5 질량% 포함하는 것이 바람직하다.

또한, 본 발명은 상기 O/W 유화조성물을 포함하는 선스크린 화장료를 제공한다.

4-t-부틸-4’-메톡시디벤조일메탄을 옥토크릴렌 및 메톡시신남산 에틸헥실을 포함하는 유상에 용해하고, 상기 유상을 특정의 유화제를 사용하여 일정 이하의 유화입자 직경까지 미세 유화함으로써, 넓은 UV 영역에서 높은 자외선 방어능을 발휘하고, 제제안정성이나 사용감도 우수한 O/W 유화조성물을 수득할 수 있다. 본 조성물은 유기 자외선 흡수제를 고배합하는 것이 가능하고, 선스크린 화장료 등에 매우 유용하다.

본 발명에 관한 O/W 유화조성물은 성분 (a) 특정의 유기 자외선 흡수제와, 성분 (b) 특정의 폴리옥시에틸렌·폴리옥시알킬렌알킬에테르 블록폴리머를 포함하고, 성분 (a)를 함유하는 유화입자의 평균 입자직경이 800㎚ 이하인 것을 특징으로 한다.

이하, 각 구성 성분에 대해서 상세하게 설명한다.

((a) 유기 자외선 흡수제)

본 발명에 사용되는 유기 자외선 흡수제 중, (a1) 옥토크릴렌(화학명: 2-에틸헥실 2-시아노-3,3-디페닐아크릴레이트)은 상온에서 유상인 자외선 흡수제이고, 예를 들어 「유비눌N539」(BASF사), 「파르솔340」(DSM뉴트리션 재팬사) 등으로서 시판되고 있는 것을 간편하게 사용할 수 있다.

옥토크릴렌의 배합량은 목적에 따라서 적절하게 설정할 수 있지만, 자외선 방어능이나 고체 성분의 용해성 등의 측면에서, 본 발명의 O/W 유화조성물 중에서는 1 질량% 이상, 바람직하게는 2 질량% 이상, 특히 3 질량% 이상으로 하는 것이 바람직하다. 한편, 과잉으로 배합하면 끈적거림이나 번들거림 등을 발생시켜 사용감이 악화되므로, 본 발명의 O/W 유화조성물 중에서는 10 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 8 질량% 이하, 특히 6 질량% 이하로 하는 것이 바람직하다.

(a2) 메톡시신남산 에틸헥실(옥틸메톡시신나메이트)는 상온에서 유상인 자외선 흡수제이고, 예를 들어 「파르솔 MCX」(DSM뉴트리션 재팬사) 등으로서 시판되고 있는 것을 간편하게 사용할 수 있다.

메톡시신남산 에틸헥실의 배합량은, 목적에 따라서 적절하게 설정 가능하지만, 자외선 방어능이나 고체 성분의 용해성 등의 측면에서, 본 발명의 O/W 유화조성물 중에서는 1 질량% 이상, 더욱 바람직하게는 2 질량% 이상, 특히 4 질량% 이상으로 하는 것이 바람직하다. 한편, 과잉으로 배합하면 끈적거림이나 번들거림 등을 발생시켜 사용감이 악화되므로, 본 발명의 O/W 유화조성물 중에서는 7.5 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 7 질량% 이하, 특히 6 질량% 이하로 하는 것이 바람직하다.

(a3) 4-t-부틸-4’-메톡시디벤조일메탄은 상온에서 고체인 자외선 흡수제이고, 「파르솔1789」(DSM뉴트리션 재팬사) 등으로서 시판되고 있는 것을 간편하게 사용할 수 있다.

4-t-부틸-4’-메톡시디벤조일메탄의 배합량은 목적에 따라서 적절하게 설정할 수 있지만, 자외선 방어능 등의 측면에서 본 발명의 O/W 유화조성물 중에서 0.5 질량% 이상, 더욱 바람직하게는 1 질량% 이상, 특히 1.5 질량% 이상으로 하는 것이 바람직하다. 한편, 과잉으로 배합하면 경시적으로 결정이 석출되기 쉬워지므로, 본 발명의 O/W 유화조성물 중에서는 5 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 4 질량% 이하, 특히 3 질량% 이하로 하는 것이 바람직하다.

(a3) 4-t-부틸-4’-메톡시디벤조일메탄은 용해하기 어렵고, 경시적으로 석출되기 쉽다는 문제를 갖지만, 본 발명에서는 (a1) 옥토크릴렌과 (a2) 메톡시신남산 에틸헥실을 포함하는 유상에, 4-t-부틸-4’-메톡시디벤조일메탄을 배합함으로써, 용해 안정성이 우수한 O/W 유화조성물을 제조할 수 있다. 용해 안정성의 측면에서, (a3)의 배합량에 대한 (a1) 및 (a2)의 배합량 비율, 즉 {(a1)의 배합량+(a2)의 배합량}/(a3)의 배합량은, 2 이상, 특히 4.5 이상인 것이 바람직하다.

또한, 자외선 방어능을 고려하면, (a)유기 자외선 흡수제의 배합량은 O/W 유화조성물 중 8 질량% 이상, 더욱 바람직하게는 9 질량% 이상, 특히 10.5 질량% 이상인 것이 바람직하다. 본 발명에서는 유용성 유기 자외선 흡수제를 이와 같이 고배합한 경우에도, 제제안정성이나 사용감이 우수한 O/W 유화조성물이 수득된다.

((b) 폴리옥시에틸렌·폴리옥시알킬렌알킬에테르 블록폴리머)

본 발명에서는 성분 (a)를 포함하는 유상의 유화제로서, 하기 화학식 1 및 화학식 2로 표시되는 폴리옥시에틸렌·폴리옥시알킬렌알킬에테르 블록폴리머 중 1 종 이상을 사용하는 것이 필요하다. 본 유화제를 사용하면, 성분 (a)를 포함하는 유상이 미세화·안정화된 O/W 유화조성물을 용이하게 제조할 수 있다.

(화학식 1)

화학식 1에서, R₁은 탄소수 16~18의 탄화수소기이고, 바람직하게는 포화 또는 불포화의 지방족 탄화수소기이다. 예를 들어, 팔미틸, 스테아릴, 이소스테아릴, 올레일, 리놀릴 등을 들 수 있다.

PO는 옥시프로필렌기이고, EO는 옥시에틸렌기이다.

화학식 1에서, PO, EO는 블록 형상으로 결합되어 있지 않으면 안된다. 랜덤형상으로 결합되어 있는 경우에는, 제제 안정성이 충분히 수득되지 않는다. 또한, 프로필렌옥시드 및 에틸렌옥시드가 부가하는 순서는 특별히 지정되지 않는다. 또한 블록 형상에는 2단 블록뿐만 아니라, 3단 이상의 블록도 포함된다.

m, n은 각각 PO, EO의 평균부가몰수를 의미하고, 4≤m＜70, 10≤n＜70, m＜n이다.

화학식 1의 블록폴리머의 분자량은, 바람직하게는 800 이상, 더욱 바람직하게는 1500 이상이다. 분자량 800 미만에서는, 효과가 낮다. 또한, 분자량의 상한은 특별히 규정할 수 없지만, 분자량이 커져감에 따라 끈적거림이 발생하는 경향이 있다.

화학식 1로 표시되는 블록폴리머로서는, 예를 들어 니콜 PBC44(닛코케미컬즈사) 등을 들 수 있다.

(화학식 2)

화학식 2에서, R₂, R₃는 동일해도 좋고 상이해도 좋으며, 각각 탄소수 1 내지 탄소수 4의 탄화수소기이고, 더욱 바람직하게는 포화의 지방족 탄화수소기이다. 예를 들어, 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 이소부틸, sec-부틸, tert-부틸을 들 수 있고, 보다 바람직하게는 메틸, 에틸이다.

AO는 탄소수 3~4의 옥시알킬렌기이고, 옥시프로필기, 옥시부틸렌기를 들 수 있다. EO는 옥시에틸렌기이다.

화학식 2에서, AO, EO는 블록 형상으로 결합되어 있다. 랜덤 형상으로 결합되어 있는 경우에는, 제제안정성이 충분히 수득되지 않는다. 또한, 에틸렌옥시드 및 알킬렌옥시드의 부가하는 순서는 특별히 지정되지 않는다. 또한, 블록 형상에는 2 단 블록뿐만 아니라, 3 단 이상의 블록도 포함된다.

p, q는 각각 AO, EO의 평균부가몰수를 의미하고, 1≤p≤70, 1≤q≤70, 0.5＜(q/(p+q))＜0.8이다.

화학식 2의 블록폴리머의 분자량은, 바람직하게는 1000 이상, 더욱 바람직하게는 3000 이상이다. 분자량 1000 미만에서는 효과가 낮다. 또한 분자량의 상한은 규정할 수 없지만, 분자량이 커져감에 따라 끈적거림이 발생하는 경향이 있다.

화학식 2의 블록폴리머는 공지의 방법으로 제조할 수 있다. 예를 들어, 수산기를 갖고 있는 화합물에 에틸렌옥시드 및 탄소수 3~4의 알킬렌옥시드를 부가 중합한 후, 할로겐화알킬을 알칼리 촉매 존재하에 에테르 반응시킴으로써 수득할 수 있다(예를 들어, 일본 공개특허공보 제2004-83541호 등).

화학식 2의 블록폴리머로서는, 구체적으로는 POE(14)POP(7)디메틸에테르, POE(15)POP(5)디메틸에테르, POE(27)POP(14)디메틸에테르, POE(55)POP(28)디메틸에테르, POE(50)POP(40)디메틸에테르, POE(55)POP(30)디메틸에테르, POE(14)POB(7)디메틸에테르 등을 들 수 있다.

또한, 상기 POE, POP, POB는 각각 폴리옥시에틸렌, 폴리옥시프로필렌, 폴리옥시부틸렌의 약칭이며, 이하 이와 같이 약칭으로서 기재하는 부분이 있다.

이들 블록폴리머는 소량으로 성분 (a)를 포함하는 유상을 미세하고 안정하게 유화할 수 있으므로, 계면활성제에 의한 끈적거림을 발생시키지 않고 안정적인 O/W 유화조성물을 수득할 수 있다. 단, 너무 적으면 안정한 O/W 유화조성물이 수득되지 않으므로, 블록폴리머의 배합량으로서는 조성물 중 0.5 질량% 내지 3 질량%, 더욱 바람직하게는 0.5 질량% 내지 2 질량%, 특히 0.5 질량% 내지 1 질량%가 바람직하다.

본 발명의 O/W 유화조성물에는, 상기 필수 성분에 추가하여, 본 발명의 효과에 특별히 영향이 없는 한, 화장료에 배합 가능한 다른 성분을 배합해도 좋다. 예를 들어, 분말 성분, 액체 유지, 고체 유지, 왁스, 탄화수소, 고급지방산, 고급알콜, 에스테르, 실리콘, 음이온 계면활성제, 양이온 계면활성제, 양성(兩性) 계면활성제, 비이온 계면활성제, 보습제, 수용성 고분자, 증점제, 피막제, 자외선 흡수제, 자외선 산란제, 금속 이온 봉쇄제, 저급 알콜, 다가 알콜, 당, 아미노산, 유기 아민, 고분자 에멀젼, pH조정제, 피부영양제, 비타민, 산화방지제, 산화방지조제, 향료, 물 등을 필요에 따라서 적절하게 배합할 수 있다.

본 발명의 O/W 유화조성물에는 상기 (a1) 내지 (a3) 이외의 유기 자외선 흡수제도 배합 가능하다. 배합 가능한 유기 자외선 흡수제로서는, 화장료에 통상 사용되는 유성 자외선 흡수제를 들 수 있다. 예를 들어, 트리아진계 자외선 흡수제(예를 들어, 비스레조르시닐트리아진, 비스에틸헥실옥시페놀메톡시페닐트리아진 등); 옥틸트리아존(2,4,6-트리스[4-(2-에틸헥실옥시카르보닐)아닐리노]1,3,5-트리아진); 벤조산계 자외선 흡수제(예를 들어, 파라아미노 벤조산(이하, PABA라고 약칭함), PABA모노글리세린에스테르, N,N-디프로폭시 PABA에틸에스테르, N,N-디에톡시 PABA에틸에스테르, N,N-디메틸PABA에틸에스테르, N,N-디메틸 PABA부틸에스테르, N,N-디메틸 PABA에틸에스테르 등); 안트라닐산계 자외선 흡수제(예를 들어, 호모멘틸-N-아세틸안트라닐레이트 등); 살리실산계 자외선 흡수제(예를 들어, 아밀살리실레이트, 멘틸살리실레이트, 호모멘틸살리실레이트, 옥틸살리실레이트, 페닐살리실레이트, 벤질살리실레이트, p-이소프로판올페닐살리실레이트 등); 신남산계 자외선 흡수제(예를 들어, 옥틸신나메이트, 에틸-4-이소프로필신나메이트, 메틸-2,5-디이소프로필신나메이트, 에틸-2,4-디이소프로필신나메이트, 메틸-2,4-디이소프로필신나메이트, 프로필-p-메톡시신나메이트, 이소프로필-p-메톡시신나메이트, 이소아밀-p-메톡시신나메이트, 옥틸-p-메톡시신나메이트(2-에틸헥실-p-메톡시신나메이트), 2-에톡시에틸-p-메톡시신나메이트, 시클로헥실-p-메톡시신나메이트, 에틸-α-시아노-β-페닐신나메이트, 2-에틸헥실-α-시아노-β-페닐신나메이트, 글리세릴모노-2-에틸헥사노일-디파라메톡시신나메이트 등); 벤조페논계 자외선 흡수제(예를 들어, 2,4-디히드록시벤조페논, 2,2’-디히드록시-4-메톡시벤조페논, 2,2’-디히드록시-4,4’-디메톡시벤조페논, 2,2’,4,4’-테트라히드록시벤조페논, 2-히드록시-4-메톡시벤조페논, 2-히드록시-4-메톡시-4’-메틸벤조페논, 2-히드록시-4-메톡시벤조페논-5-설폰산염, 4-페닐벤조페논, 2-에틸헥실-4’-페닐-벤조페논-2-카르복실레이트, 2-히드록시-4-n-옥톡시벤조페논, 4-히드록시-3-카르복시벤조페논 등); 3-(4’-메틸벤질리덴)-d,l-캄퍼, 3-벤질리덴-d,l-캄퍼; 2-페닐-5-메틸벤족사졸; 2,2’-히드록시-5-메틸페닐벤조트리아졸; 2-(2’-히드록시-5’-t-옥틸페닐)벤조트리아졸; 2-(2’-히드록시-5’-메틸페닐벤조트리아졸; 디벤잘라딘; 디아니소일메탄; 5-(3,3-디메틸-2-노르보르닐리덴)-3-펜탄-2-온, 메틸렌비스벤조트리아조릴테트라메틸부틸페놀, 4,4-디아릴부타디엔 등을 들 수 있다.

본 발명의 O/W 유화조성물은 성분 (a)를 포함하는 유화 입자의 평균 입자직경이 800㎚ 이하인 것이다. 입자직경이 800㎚를 초과하면, 사용감이 나빠지고, 또한 제제안정성의 저하(경시적인 유분의 분리나 크리밍의 발생, 응집, 석출 등)를 발생시킨다.

본 발명에 사용되는 유화 방법은 유화 입자를 800㎚ 이하까지 미세하게 유화시킬 수 있는 한 임의의 방법을 채용할 수 있다. 예를 들어, 고압유화법이나 소량의 물의 존재하(또는 비존재하)에서 다가 알콜 등의 친수성 용매를 사용하는 미세유화법(예를 들어 일본 공고특허공보 소57-29213호, 일본 공개특허공보 제2006-182724호 등) 등을 들 수 있지만, 이들에 제한되는 것은 아니다.

이와 같은 본 발명의 O/W 유화조성물은, 옥토크릴렌과 메톡시신남산 에틸헥실과 4-t-부틸-4’-메톡시디벤조일메탄을 포함하는 평균입자직경 800㎚ 이하의 유화 입자가 연속상인 수상 중에 분산되고, 유상은 4-t-부틸-4’-메톡시디벤조일메탄이 용해된 균일상인 것이 바람직하다.

그 제조방법은 특별히 제한되지 않지만, 전형적으로는 (a1) 옥토크릴렌, (a2) 메톡시신남산 에틸헥실, (a3) 4-t-부틸-4’-메톡시디벤조일메탄을 혼합 용해한 유상과, 수상을, (b)폴리옥시에틸렌·폴리옥시알킬렌알킬에테르 블록폴리머를 사용하여 유화함으로써 수득할 수 있다. 여기에서, (b) 폴리옥시에틸렌·폴리옥시알킬렌알킬에테르 블록폴리머는 미리 수상에 첨가해 두는 것이 바람직하다. 또한, 특별히 문제가 없는 한, 다른 성분을 그 상용성이나 친화성에 따라서 유상 또는 수상에 배합해도 좋다.

본 발명의 O/W 유화조성물은 선스크린 기능이 요망되는 각종 화장료에 적용 가능하고, 유액, 크림, 기초 화장품 이외에, 파운데이션, 립스틱 등의 메이크업 화장료에도 적용 가능하다.

실시예

이하, 구체예를 들어 본 발명을 추가로 설명하지만, 본 발명은 이들에 한정되는 것은 아니다. 배합량은 특별히 기재하지 않는 한 질량%이다. 또한, 본 발명에서 사용한 평가방법은 다음과 같다.

평가 (1): 평균 유화 입자직경

제조 직후 시료의 유화 입자의 평균 입자직경을 제타사이저(Zetasizer Nano ZS(시스멕스사))로 측정했다.

A: 평균 입자직경이 800㎚ 이하이다.

C: 평균 입자직경이 800㎚를 초과한다.

평가 (2): 유화안정성

시료를 50℃에서 1 개월 보존한 후의 외관을 육안으로 관찰하고, 하기의 기준으로 평가했다.

A: 오일의 분리나 크리밍 등이 없다.

B: 오일의 분리나 크리밍 등이 약간 있다.

C: 오일의 분리나 크리밍 등이 있다.

평가 (3): 사용감

여성 패널 20명에 의해, 제조 직후의 시료를 얼굴부에 손으로 도포하게 하여, 도포 중의 끈적거림이 없음에 대해서 앙케이트를 실시하고, 하기의 기준으로 평가했다.

A: 끈적거리지 않는다고 대답한 패널이 16 명 이상.

B: 끈적거리지 않는다고 대답한 패널이 6 명 이상, 15 명 이하.

C: 끈적거리지 않는다고 대답한 패널이 5 명 이하.

평가 (4): 용해 안정성

시료의 유분을 용해하고, 0℃에서 1 개월 보존한 후의 석출물을 육안으로 관찰하여, 하기의 기준으로 평가했다.

A: 결정이나 불용물이 석출되지 않는다.

B: 결정이나 불용물이 약간 석출되었다.

C: 결정이나 불용물이 석출되었다.

평가 (5): 자외선 방어능

제조 직후의 시료의 자외선 방어능을 시험관내 SPECTRO PHOTOMETER U-4100(히타치사)로 측정하고, 하기의 기준으로 평가했다.

A: 310㎚에서의 흡광도가 기준 샘플(생체내 측정값 SPF 16)보다도 높다.

C: 310㎚에서의 흡광도가 기준 샘플(생체내 측정값 SPF 16)보다도 낮다.

시험예 1 유화입자 직경

하기 제법에 기초하여, 표 1에 나타내는 배합 조성으로 이루어진 O/W 유화조성물을 조제했다. 그리고, 각 시료를 상기 평가 방법 (1) 내지 (4)로 평가했다. 또한, 평가방법 (1)에 대해서는 상기 방법으로 측정을 실시하고, 구체적인 수치로 나타냈다. 결과를 표 1에 나타낸다.

· 제법 1

(파트 1)

(1)의 일부, (7)과 (8)을 혼합하고, (6)을 서서히 첨가하여 유화한다. 상기 유화물에, (3) 내지 (5), (10) 내지 (12), (16)을 용해 혼합한 것을 첨가하고 유화하여, 파트 1을 수득했다.

(파트 2)

(1)의 일부, (13) 내지 (15)를 용해 혼합하고, (2), (17)을 용해 혼합한 것을 첨가하고 혼합하여, 파트 2를 수득했다.

파트 2에 파트 1을 균일 분산하고, 습윤 분산된 (1)의 일부, (9)를 첨가하여 목적으로 하는 O/W 유화조성물을 수득했다.

·제법 2

(파트 1)

(3) 내지 (5), (10) 내지 (12), (16)을 용해 혼합한 것과, (6)을 혼합하여 파트 1을 수득했다.

(파트 2)

(1)의 일부, (7), (8)을 혼합한 것과, (1)의 일부, (13) 내지 (15)를 혼합한 것을 혼합하고, 이어서 (2), (17)을 용해 혼합한 것을 첨가하고 혼합하여, 파트 2를 수득했다.

파트 2에 파트 1을 균일하게 분산하고, 습윤 분산된 (1)의 일부, (9)를 첨가하여, 목적으로 하는 O/W 유화조성물을 수득했다.

표 1에 의하면, 동일한 조성이어도 시험예 1-2와 같이 유화입자 직경이 크면, 피부로의 도포 중에 약간 끈적거림이 있고, 유화안정성도 불충분한 것을 알 수 있다.

본 발명자들에 의한 검토 결과, 유화 입자의 평균 입자직경이 800㎚ 이하인 경우에, 유화안정성 및 사용성이 우수한 O/W 유화조성물이 수득되는 것이 밝혀졌다.

시험예 2 계면활성제의 배합량

시험예 1-1에서 유화제인 블록폴리머[POE(20)POP(8)세틸에테르]의 배합량을 변경한 이외에는 동일하게 하여, O/W 유화조성물을 제조했다. 그리고, 각 시료를 상기 평가방법 (1) 내지 (4)로 평가했다. 결과를 표 2에 나타낸다.

표 2에 따르면, 블록폴리머가 너무 적으면 유화안정성이 저하되는 경향이 있고, 과잉의 사용은 도포 중의 끈적거림을 발생시키는 것을 알 수 있다.

이와 같은 점에서, 블록폴리머의 배합량은 본 발명의 O/W 유화조성물 중의 0.5 질량% 내지 3 질량%, 더욱 바람직하게는 0.5 질량% 내지 2 질량%, 특히 0.5 질량% 내지 1 질량%가 바람직하다.

본 발명에 따르면, 상기 표 2와 같이 극소량의 유화제(예를 들어 1 질량% 이하)로 다량의 유용성 유기 자외선 흡수제(예를 들어 10 질량% 이상)를 안정적으로 유화하고, 자외선 방어능, 제제안정성 및 사용감이 우수한 O/W 유화조성물을 제공하는 것이 가능하다.

시험예 3 계면활성제의 종류

시험예 1-1에서, 유화제인 블록폴리머 [POE(20)POP(8)세틸에테르]의 종류를 변경한 이외에는 동일하게 하여, O/W 유화조성물을 조제했다. 그리고, 각 시료를 상기 평가방법 (1) 내지 (4)로 평가했다. 결과를 표 3에 나타낸다.

표 3에 따르면, 시험예 1-1이나 시험예 3-1의 폴리옥시에틸렌·폴리옥시알킬렌알킬에테르 블록폴리머는, 성분 (a)를 포함하는 유화입자를 800㎚ 이하까지 용이하게 유화시킬 수 있고, 제제안정성, 사용감이 우수한 O/W 유화조성물이 수득되는 것을 알 수 있다. 그러나, 시험예 3-2의 폴리옥시에틸렌·폴리옥시알킬렌알킬에테르 블록폴리머나 다른 비이온성 계면활성제에서는, 동일한 정도의 HLB의 것을 사용한 경우에도, 이와 같은 O/W 유화조성물을 수득하기 곤란했다.

시험예 4 폴리옥시에틸렌·폴리옥시알킬렌알킬에테르 블록폴리머의 EO, PO 평균부가몰수

성분 (a)를 포함하는 유화입자를 800㎚ 이하로 유화할 수 있는 폴리옥시에틸렌·폴리옥시알킬렌알킬에테르 블록폴리머의 상세한 내용에 대해서 검토를 실시했다.

시험예 1-1에서 유화제인 블록폴리머 [POE(20)POP(8)세틸에테르]의 EO의 평균부가몰수 m, PO의 평균부가몰수 n(C₁₆H₃₃O-(PO)_m-(EO)_n-H)를 변경한 이외에는 동일하게 하여, O/W 유화조성물을 조제했다. 그리고, 각 시료를 상기 평가 방법(1)으로 평가했다. 결과를 표 4에 나타낸다.

표 4에 의하면, EO의 부가몰수가 10 미만, PO의 부가몰수가 4 미만인 경우, 시료의 유화입자의 평균 입자직경이 800㎚를 초과하는 것이 명확해졌다. 또한, 추가로 검토한 결과, EO의 부가몰수 또는 PO의 부가몰수가 70 이상이 되면, 취급성이 나빠지는 것이 명확해졌다.

이와 같은 점에서, 화학식 1의 R₁O-(PO)_m-(EO)_n-H로 표시되는 폴리옥시에틸렌·폴리옥시알킬렌알킬에테르 블록폴리머는, 4≤m＜70, 10≤n＜70, m＜n을 만족할 필요가 있다.

화학식 2의 R₂O-(AO)_p-(EO)_q-R₃로 표시되는 폴리옥시에틸렌·폴리옥시알킬렌알킬에테르 블록폴리머에 대해서도, 시험예 3-1, 시험예 3-2나 상기와 동일한 검토에 의해, 본 발명의 O/W 유화조성물을 수득하기 위해 필요한 AO와 EO의 평균부가몰수 p와 q(1≤p≤70, 1≤q≤70, 0.5<(q/(p+q))＜0.8)이 명백해졌다.

시험예 5 4-t-부틸-4’-메톡시디벤조일메탄의 배합 비율

시험예 1-1에서, 4-t-부틸-4’-메톡시디벤조일메탄의 배합량을 변경한 이외에는 동일하게 하여, O/W 유화조성물을 조제했다. 그리고, 각 시료를 상기 평가방법 (4)로 평가했다. 결과를 표 5에 나타낸다.

표 5에 따르면, 4-t-부틸-4’-메톡시디벤조일메탄을 옥토크릴렌과 메톡시신남산 에틸헥실을 포함하는 유상에 배합하면, 다량으로 용해하는 것이 가능하다.

그러나, 시험예 5-2와 같이, 옥토크릴렌 및 메톡시신남산 에틸헥실과, 4-t-부틸-4’-메톡시디벤조일메탄의 배합비율이 2:1 미만이면, 용해성이 서서히 나빠진다.

따라서, 본 발명에 관한 {(a1)의 배합량+(a2)의 배합량}/(a3)의 배합량은 2 이상, 특히 4.5 이상으로 하는 것이 바람직하다.

시험예 6 유기 자외선 흡수제의 배합량

시험예 1-1에서, 유기 자외선 흡수제의 배합량을 변경한 이외에는 동일하게 하여, O/W 유화조성물을 조제했다. 그리고, 각 시료를 상기 평가방법 (1) 내지 (5)로 평가했다. 결과를 표 6에 나타낸다.

표 6에 따르면, 여러 가지 배합량의 유기 자외선 흡수제를 배합한 시료는, 모두 평균 유화입자 직경이 800㎚ 이하였다(예를 들어 시험예 5-1은 483㎚, 시험예 5-2는 522㎚).

그러나, 시험예 6-1, 시험예 6-2, 시험예 5-1과 같이, 유기 자외선 흡수제의 배합량이 적으면, 유화안정성은 좋은 조성물이 되지만, 자외선 방어능은 떨어진다.

또한, 시험예 6-3, 시험예 6-4, 시험예 5-2와 같이, 유기 자외선 흡수제를 과잉으로 배합한 경우, 끈적거림이나, 유화안정성의 저하를 일으키는 것을 알 수 있다.

이상에서 본 발명에 관한 O/W 유화조성물에서, 옥토크릴렌은 10 질량% 이하로, 메톡시신남산 에틸헥실은 7.5 질량% 이하로, 4-t-부틸-4’-메톡시디벤조일메탄은 5 질량% 이하로 하는 것이 바람직하다.

또한, 자외선 방어능을 고려하면, 유기 자외선 흡수제의 배합량을 8 질량% 이상, 더욱 바람직하게는 9 질량% 이상, 특히 10.5 질량% 이상으로 하는 것이 바람직하다.

Claims

하기 성분 (a) 및 성분 (b)를 포함하고, 성분 (a)를 함유하는 유화입자의 평균 입자직경이 800㎚ 이하인 것을 특징으로 하는 O/W 유화조성물:
(a) 하기 (a1), (a2) 및 (a3)를 포함하는 유기 자외선 흡수제:
(a1) 옥토크릴렌,
(a2) 메톡시신남산 에틸헥실,
(a3) 4-t-부틸-4’-메톡시디벤조일메탄;
(b) 하기 화학식 1로 표시되는 폴리옥시에틸렌·폴리옥시알킬렌알킬에테르 블록폴리머:
(화학식 1)

[상기 화학식 1에서, R₁은 탄소수 16~18의 탄화수소기이고, PO는 옥시프로필렌기이며, EO는 옥시에틸렌기이고, PO와 EO는 블록 형상으로 부가되어 있으며, m, n은 각각 PO, EO의 평균 부가몰수를 의미하고, 4≤m<70, 10≤n＜70, m＜n임].
제 1 항에 있어서,
(a)를 8 질량% 이상 포함하는 것을 특징으로 하는 O/W 유화조성물.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
(b)를 0.5 질량% 내지 3 질량% 포함하는 것을 특징으로 하는 O/W 유화조성물.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
{(a1)의 배합량+(a2)의 배합량}/(a3)의 배합량이 2 이상인 것을 특징으로 하는 O/W 유화조성물.
제 3 항에 있어서,
{(a1)의 배합량+(a2)의 배합량}/(a3)의 배합량이 2 이상인 것을 특징으로 하는 O/W 유화조성물.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
(a1)을 1 질량% 내지 10 질량%, (a2)를 1 질량% 내지 7.5 질량%, (a3)을 0.5 질량% 내지 5 질량% 포함하는 것을 특징으로 하는 O/W 유화조성물.
제 3 항에 있어서,
(a1)을 1 질량% 내지 10 질량%, (a2)를 1 질량% 내지 7.5 질량%, (a3)을 0.5 질량% 내지 5 질량% 포함하는 것을 특징으로 하는 O/W 유화조성물.
제 4 항에 있어서,
(a1)을 1 질량% 내지 10 질량%, (a2)를 1 질량% 내지 7.5 질량%, (a3)을 0.5 질량% 내지 5 질량% 포함하는 것을 특징으로 하는 O/W 유화조성물.
제 5 항에 있어서,
(a1)을 1 질량% 내지 10 질량%, (a2)를 1 질량% 내지 7.5 질량%, (a3)을 0.5 질량% 내지 5 질량% 포함하는 것을 특징으로 하는 O/W 유화조성물.
제 1 항 또는 제 2 항에 기재된 O/W 유화조성물로 이루어지는 선스크린 화장료.
제 3 항에 기재된 O/W 유화조성물로 이루어지는 선스크린 화장료.
제 4 항에 기재된 O/W 유화조성물로 이루어지는 선스크린 화장료.
제 5 항에 기재된 O/W 유화조성물로 이루어지는 선스크린 화장료.
제 6 항에 기재된 O/W 유화조성물로 이루어지는 선스크린 화장료.
제 7 항에 기재된 O/W 유화조성물로 이루어지는 선스크린 화장료.
제 8 항에 기재된 O/W 유화조성물로 이루어지는 선스크린 화장료.
제 9 항에 기재된 O/W 유화조성물로 이루어지는 선스크린 화장료.