KR101726380B1 - 쿨링시스템이 구비된 가스 타겟 - Google Patents

쿨링시스템이 구비된 가스 타겟 Download PDF

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Abstract

본 발명은, 방사성 물질의 생산에 사용되는 기체가 수용되는 타겟 챔버, 타겟 챔버로 조사되는 빔의 양을 제한하도록 구성되는 콜리메이터 및 냉각수가 타겟 챔버 주위를 나선형으로 유동하며 타겟 챔버를 냉각할 수 있도록 구성되는 제1 냉각유로를 포함하여 구성되는 쿨링시스템이 구비된 가스 타겟에 관한 것이다.
본 발명에 따른 쿨링시스템이 구비된 가스 타겟은 타겟 챔버, 콜리미네이터의 냉각효율을 증가시키며, 타겟의 끝단까지 냉각유로가 구비되어 타겟 챔버 전체를 균일하게 냉각시킬 수 있는 효과가 있다. 또한 냉각수가 나선형의 냉각유로를 따라 유동하면서 와류의 발생을 최소화 할 수 있어 냉각효율을 더욱 높일 수 있는 효과가 있다.

Description

쿨링시스템이 구비된 가스 타겟{THE GAS TARGET COMPRISING COLLING SYSTEM}
본 발명은, 쿨링시스템이 구비된 가스 타겟에 관한 것이며, 보다 상세하게는 방사성 화합물의 생성에 가스 타겟에 냉각유로를 구비하여 냉각효율을 증가시킨 가스 타겟에 관한 것이다.
가속기를 이용하는 경우는, 양성자를 가속하여 물질에 조사하면 핵반응으로 양성자 과잉 방사성핵종이 생성된다. 양성자 과잉 방사성 핵종이 안정한 입자로 변환하는 과정은 (원자로 핵종에 비해) 다양한 붕괴양식을 (베타-, 베타+, 알파, 감마) 갖는다. 초기에는 주로 감마 방출 붕괴양식을 이용하여 SPECT에서 진단용 핵종으로 사용되어져 왔다. 베타+ (양전자)는 전자와 쌍소멸하면서 특정 감마선 (511 keV)의 방출 효과를 이용하여 PET라는 진단장비의 개발로 가속기 동위원소의 활용은 급격한 증가를 가져왔다. 이 외에도 가속기 핵종은 베타- 또는 알파입자의 방출 현상을 이용하여 치료용으로 응용이 시작되었다. 원자로 핵종에 비해 비방사능이 높고 표지가 용이하여 다양한 가속기 핵종의 수요가 증가하고 있다. 123I은 갑상선암을 진단하며 123I을 이용하여 다양한 방사성 표지화합물을 생산할 수 있는 방사성 의약품으로 해마다 환자의 수요가 늘어남에 따라 생산량도 증가 추세에 있다.
대한민국 등록특허 제1,130,997호에는 이러한 방사성 화합물 합성장치에 대하여 개시되어 있다. 그러나 이러한 종래기술에는 타겟의 냉각을 효율적으로 수행하지 못하는 단점이 있었다.
대한민국 등록특허 제1,130,997호 (2012.03.28. 공고)
본 발명은 종래의 가스 타겟의 냉각효율이 떨어지는 문제점을 해결하는 쿨링시스템이 구비된 가스 타겟을 제공하는데 그 목적이 있다.
상기 과제의 해결 수단으로서, 방사성 물질의 생산에 사용되는 기체가 수용되는 타겟 챔버, 타겟 챔버로 조사되는 빔의 크기를 제한하도록 구성되는 콜리메이터, 및 냉각수가 타겟 챔버 주위를 나선형으로 유동하며 타겟 챔버를 냉각할 수 있도록 구성되는 제1 냉각유로를 포함하여 구성되는 쿨링시스템이 구비된 가스 타겟이 제공될 수 있다.
이때, 제1 냉각유로는 타겟 챔버에 빔이 조사되는 방향으로 형성된 나선형 유로로 구성될 수 있다.
한편, 타겟 챔버는, 내측에 빔의 이동방향에 따라 원통형으로 형성된 핵반응공간, 외측에 제1 냉각유로가 구비될 수 있다.
이때, 타겟 챔버를 외측에서 감싸는 타겟 챔버 커버를 더 포함하며, 타겟 챔버는 외면에 나선으로 형성되며, 반경방향으로 돌출된 냉각핀을 더 포함하여 구성되며, 제1 냉각유로는 타겟 챔버의 외면, 냉각핀 및 타겟 챔버 커버의 내면으로 구획된 유로를 포함하여 구성될 수 있다.
그리고, 콜리메이터는 조사되는 빔의 일부가 통과될 수 있도록 개구가 형성된 차단벽을 포함하여 구성되며, 쿨링 시스템은 차단벽의 외측에 형성되어 차단벽을 냉각할 수 있도록 구성되는 제2 냉각유로를 더 포함하여 구성될 수 있다.
또한, 냉각수가 제2 냉각유로를 통과한 뒤 제1 냉각유로를 통과하도록 구성될 수 있다.
한편, 콜리메이터와 타겟 챔버는 길이방향으로 결합되며, 타겟 챔버의 반응공간이 밀폐될 수 있도록 콜리메이터와 타겟 챔버 사이에 구비되는 인슐레이팅 플레이트, 인슐레이팅 플레이트 외부에서 제1 냉각유로와 제2 냉각유로를 연결하여 냉각수의 유로를 형성하는 연결라인을 더 포함하여 구성될 수 있다.
나아가 타겟 챔버는 타겟 챔버의 콜리메이터 측에 형성된 유입구, 타겟 챔버의 타측에 형성된 유출구를 더 포함하여 구성되며, 유입구 및 유출구는 제1 냉각유로와 연통되며, 유입구는 제2 냉각유로로부터 유출된 냉각수가 유입되도록 구성될 수 있다.
그리고, 타겟 챔버는 핵반응공간을 밀폐할 수 있도록 끝단에 구비되는 앤드캡을 더 포함하며, 제1 냉각유로는 앤드캡을 감싸도록 구성될 수 있다.
*본 발명에 따른 쿨링시스템이 구비된 가스 타겟은 나선형의 유로를 채택하여 타겟 챔버 및 콜리미네이터의 냉각효율을 증가시키며, 타겟의 끝단까지 냉각유로가 구비되어 타겟 챔버 전체를 균일하게 냉각시킬 수 있는 효과가 있다. 또한 냉각수가 나선형의 냉각유로를 따라 유동하면서 와류의 발생을 최소화 할 수 있어 냉각효율을 더욱 높일 수 있는 효과가 있다.
도 1은 124Xe를 이용한 핵반응을 통해 123I이 생성되기까지의 핵반응 계산을 도시한 도면이다.
도 2는 본 발명에 따른 실시예의 분해사시도이다.
도 3은 본 발명에 따른 실시예의 단면도이다.
도 4는 본 발명에 따른 실시예의 타겟 챔버을 도시한 사시도이다.
도 5는 본 발명에 따른 실시예의 타겟 챔버의 단면도이다.
도 6는 본 발명에 따른 실시예의 콜리미네이터의 단면도이다.
도 7은 본 발명에 따른 실시예의 가스 타겟의 냉각 시뮬레이션 결과이다.
도 8은 본 발명에 따른 실시예의 Gas cooled window 헬륨 냉각 시뮬레이션 결과이다.
이하, 본 발명의 실시 예에 따른 쿨링시스템이 구비된 가스 타겟에 대하여, 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다. 그리고 이하의 실시예의 설명에서 각각의 구성요소의 명칭은 당업계에서 다른 명칭으로 호칭될 수 있다. 그러나 이들의 기능적 유사성 및 동일성이 있다면 변형된 실시예를 채용하더라도 균등한 구성으로 볼 수 있다. 또한 각각의 구성요소에 부가된 부호는 설명의 편의를 위하여 기재된다. 그러나 이들 부호가 기재된 도면상의 도시 내용이 각각의 구성요소를 도면내의 범위로 한정하지 않는다. 마찬가지로 도면상의 구성을 일부 변형한 실시예가 채용되더라도 기능적 유사성 및 동일성이 있다면 균등한 구성으로 볼 수 있다. 또한 당해 기술분야의 일반적인 기술자 수준에 비추어 보아, 당연히 포함되어야 할 구성요소로 인정되는 경우, 이에 대하여는 설명을 생략한다.
도 1은 124Xe를 이용한 핵반응을 통해 123I이 생성되기까지의 핵반응 계산을 도시한 도면이다.
도시된 바와 같이, 티타늄 타겟 챔버(200)농축 124Xe가스에 양성자를 2시간 조사하여 124Xe(p,2n)123Cs핵반응에 의해 (30MeV, 100uA) 123Cs을 형성하면 이 123Cs 이 5.87분의 반감기로 123Xe을 생성시키거나 혹은 123Xe(p,pn) 123Xe 핵반응으로 123Xe을 생성시키고 얻어진 123Xe을 4시간 이상 growing 시킨 후 Xe-124는 극저온을 이용해 회수하고, Xe-123이 반감기 2.0시간으로 붕괴되면서 123I 얻는다.
도 2는 본 발명에 따른 실시예의 분해사시도이며, 도 3은 본 발명에 따른 실시예의 단면도이다.
전술한 반응이 일어나도록 가속된 하전입자 빔(10)을 이용하여 가스 타겟에 조사하게 된다. 가스 타겟은 콜리메이터(100), 타겟 챔버(200), 타겟 챔버 하우징(300), 인슐레이팅 플레이트(400), 인슐레이팅 링(500), 가스 냉각 윈도우(600)(Gas Cooled Window), 플랜지 링, 제1 냉각유로(810) 및 제2 냉각유로(820)를 포함하여 구성될 수 있다.
가스 타겟(Gas Target)은 124Xe가 30MeV, 100uA 에너지와 핵반응이 발생하여 123I 방사성의약품으로 생성되는 곳이므로 123I생산을 하기 위해 가장 중요한 시스템인 부분이기도 하다. 도 1에서 설명한 반응이 가스 타겟에서 이루어지게 되며, 연쇄적 핵반응으로 인해 많은 열이 발생하므로 열전도가 잘되며, 방사화가 적은 재질을 선택할 수 있다. 가스 타겟에 대하여는 차후 도 4 및 도 5를 참조하여 상세히 설명하기로 한다.
콜리메이터(100)(Collimator)는 사이클로트론에서 빔(10)이 조사되었을 때 빔(10) 크기를 조절하도록 구성된다. 콜리메이터(100)는 빔(10)의 일부만이 타겟 챔버(200)에 조사될 수 있도록 빔(10)의 경로상에 구비되며, 개구가 형성된 차단벽(110)을 포함하여 구성될 수 있다. 개구는 10φ로 구성되어 빔(10) 라인과 연결하도록 구성될 수 있다. 다만 이와같은 구체적인 치수는 일 예일 뿐 목적에 따라 다양하게 변형될 수 있다. 콜리메이터(100)의 재질 또한 가스 타겟과 마찬가지로 내열성 재질로 선택될 수 있다. 한편 콜리메이터(100)에도 빔(10)이 차단벽(110)에 조사되어 많은 열이 발생하므로 이를 냉각하기 위한 제2 냉각유로(820)를 포함하여 구성될 수 있다. 이러한 콜미네이터의 구성은 차후 도 6을 참조하여 상세히 설명하기로 한다.
타겟 챔버(200)는 124Xe 가 들어있는 곳이며, 30MeV, 100uA의 빔(10)에너지와 충돌해 (p,2n)핵반응을 발생시키는 곳이다. 타겟 챔버(200)에 대하여는 이하의 도 4 및 도 5를 참조하여 상세히 설명하기로 한다.
타겟 챔버 하우징(300)은 타겟 챔버(200)의 외측에서 감싸면서 전체적인 외형을 구성한다. 타겟 챔버 하우징(300)은 타겟 챔버(200)와 함께 차후 설명될 제1 냉각유로(810)를 형성하도록 구성된다.
인슐레이팅 플레이트(400)(Insulating plate)는 빔(10) 전류 값을 정확하게 읽기위해 전류가 다른 곳으로 흐르지 않도록 Collimator와 타겟 챔버(200)를 절연을 시킨다. 이는 사이클로트론 운전자는 빔(10)을 조사할 때 빔(10) 전류가 기체-표적장치에 얼마나 조사되는지 확인하며 조사를 해야 하므로, 정확한 전류의 측정값에 노이즈를 최소화하기 위하여 구성된다. 또한, 인슐레이팅 플레이트(400)의 재질은 베스펠로 구성될 수 있다. 베스펠로 구성된 인슐레이팅 플레이트(400)는 열에 강하며 방사선 경화 현상을 방지할 수 있다.
인슐레이팅 링(500)(Insulating ring)은 인슐레이팅 플레이트(400)를 고정시켜주기 위한 고정판 역할을 한다.
가스 냉각 윈도우(600)(Gas cooled window)는 빔(10) 라인의 진공과 타겟 챔버(200)내부의 반응환경을 분리 시켜주기 위해 구성된다. 가스 냉각 윈도우(600)에는 Haver foil 및 헬륨 유로가 구비될 수 있다.
Haver foil은 가스 냉각 윈도우(600) 양측의 환경이 독립적으로 유지될 수 있도록 구비된다. 빔(10) 에너지가 흔들림 없이 정확하게 타겟 챔버(200)까지 오기 위해서는 빔(10) 라인이 진공상태여야 가능하다. 그리고 타겟 챔버(200)는 124Xe 가 들어있기 때문에 콜리메이터(100) 측의 환경과 다른 환경으로 유지하기 위해 Havar foil가 가스 냉각 윈도우(600)(Gas cooled window) 양쪽에 구비된다. 완벽한 실링을 위해 인듐, 다시 고무 오링 등의 실링부재를 사용하며, 가스냉각 윈도우 양측의 환경을 일정하게 유지시킬 수 있게 된다.
헬륨 유로는 높은 빔(10)에너지가 Havar foil를 두 개를 통과하고 타겟 챔버(200)로 들어갈 때 Havar foil에서 많은 열이 발생하기 때문에 이를 냉각시키기 위하여 구비된다. 헬륨 유로는 기체표적장치 내부를 헬륨으로 채워 불순물이 들어가지 않도록 하고 123I를 회수하기 위해 사용하며, 또한 빔(10) 조사시 타겟 챔버(200)의 과열된 Havar foil를 냉각하기 위함이다. 헬륨 유로는 가스 냉각 윈도우(600)의 내측을 반경방향으로 관통하도록 구성될 수 있다. 한편, 이에 관하여는 도 8을 참조하여 차후 추가로 설명하기로 한다.
플랜지 링(700)은 타겟 챔버(200)와 인슐레이팅 링(500) 및 콜리메이터(100)를 체결하여 고정시킬 수 있도록 구성된다.
이하에서는 타겟 챔버(200)에 대하여 도 4 및 도 5를 참조하여 상세히 설명한다.
도 4는 본 발명에 따른 실시예의 타겟 챔버(200)을 도시한 사시도이며, 도 5는 본 발명에 따른 실시예의 타겟 챔버(200)의 단면도이다.
타겟 챔버(200)는 핵반응공간(210), 냉각핀(220), 앤드캡(230), 유입구(811) 및 유출구(812)를 포함하여 구성될 수 있다.
반응공간(210)은 빔(10)이 조사되어 내부에 충진되었던 가스와 반응하여 방사성 화합물이 생성되는 공간이다. 핵반응공간(210)에는 도1에서 설명한 바와 같이, 124Xe 가스가 수용되며, 빔(10)이 조사되어 핵반응이 이루어진다. 핵반응공간(210)은 타겟 챔버의 내측에 빔(10)의 이동방향을 따라 형성된 원통형공간으로 형성된다. 핵반응공간(210)은 내부에서 방사성 화합물이 생성되기 때문에 고온의 열이 발생하고 방사선 또한 많이 발생하는 곳 중 하나이다. 핵반응공간(210)의 내부는 니켈도금을 하여 매끄러운 표면이 형성되도록 구성되며, 이는 핵반응 이후 생성된 123I이 내부표면에 흡착되고 이를 용액으로의 회수가 용이하게 하기 위함이다.
냉각핀(220)은 타겟 챔버(200)를 냉각시키기 위한 냉각수가 흐르는 제1 냉각유로(810)를 형성하도록 구성된다. 냉각핀(220)은 핵반응공간(210)의 반경방향 외측에서 빔(10)의 이동경로를 따라 나선형으로 형성되어 구성될 수 있다. 즉 제1 냉각유로(810)는 타겟 챔버(200)의 외면, 냉각핀(220)의 양 측면, 타겟 챔버 하우징(300)의 내면으로 둘러쌓인 공간이 된다.
냉각핀(220)이 형성된 길이는 핵반응공간(210)보다 길도록 구성될 수 있다. 이는 핵반응공간(210)에서 많은 열이 발생하므로 이를 균일하게 냉각시키기 위함이다. 즉 핵반응공간(210)은 콜리메이터(100) 측은 헬륨으로 냉각되며 나머지 타측과 측면은 제1 냉각유로(810)에 의해 냉각되도록 구성될 수 있다. 냉각핀(220)은 타겟 챔버(200)와 일체형으로 구성될 수 있으며, 별도의 구조로 이루어져 타겟 챔버(200)와 체결되어 구성될 수 있다. 한편 냉각핀(220)의 형상 또한 판형 부재로 구성되어 있으나, 그 단면이 다양하게 구성될 수 있다.
냉각핀(220)이 나선형으로 구성되어 사이의 공간이 제1 냉각유로(810)가 되어 냉각수가 유동하게 되면 와류를 최소화하며 냉각수의 접촉면적이 최대가 될 수 있다.
이때 냉각핀(220)은 열전달률이 높은 재질을 선택할 수 있으며, 타겟 챔버(200)와 동일한 재질로 구성될 수 있다. 한편, 제1 냉각유로(810)의 단면의 형상은 사각형으로 이루어진 모습이 나타나 있으나, 이는 일 예일뿐 다양한 형상으로 구성될 수 있다. 즉 제1 냉각유로(810)는 타겟 챔버(200)에 나선형을 따라 형성된 원형 단면의 유로로 구성되는 등 다양하게 변형될 수 있다. 또한 냉각핀(220)의 피치 또한 다양하게 변형되어 적용될 수 있으므로 구체적인 회전수에 대하여는 설명을 생략하도록 한다.
앤드캡(230)은 타겟 챔버(200)의 끝단에 구비되어 핵반응공간(210)을 밀폐하며, 핵반응공간(210) 내부에 수용된 가스 및 발생된 방사성 화합물이 외부로 누출되지 않도록 구성된다. 한편 앤드캡(230) 또한 빔(10)이 조사되어 많은 양의 열이 발생될 수 있으므로, 전술한 제1 냉각유로(810)는 앤드캡(230)을 감싸는 유로를 포함하도록 구성될 수 있다.
유입구(811)는 냉각수가 제1 냉각유로(810)로 유입되는 유로가 되며, 콜리메이터(100) 측에 형성되어 있는 모습이 도시되어 있다. 한편 유출구(812)는 콜리메이터(100)와 멀리 떨어진 끝단에 형성되어 있다.
제1 냉각유로(810)를 흐르는 냉각수는 유입구(811)로 유입되어 나선형의 유로를 따라 회전하면서 타겟 챔버(200), 냉각핀(220)과 열교환을 하고 유출구(812)를 통하여 타겟 챔버(200) 외부로 유출되도록 구성된다.
도 6는 본 발명에 따른 실시예의 콜리메이터의 단면도이다.
도시된 바와 같이, 콜리메이터(100)에는 빔(10)이 조사되고, 조사된 빔(10)의 일부만이 개구를 통하여 타겟 챔버(200)로 조사될 수 있도록 빔(10)의 양을 조절한다. 이때, 차단벽(110)에 조사된 빔(10)에 의해 많은 양의 열이 발생하게 되므로, 차단벽(110) 주변에 냉각수가 흐를 수 있도록 제2 냉각유로(820)가 구비될 수 있다. 제2 냉각유로(820)는 앤드캡(230)을 냉각시키면서 빔(10)의 경로에 영향을 미치지 않도록 개구의 주위에 원형의 유로를 포함하여 구성될 수 있다.
연결유로는 제2 냉각유로(820)를 통과한 냉각수가 제1 냉각유로(810)의 유입구(811)로 유입될 수 있도록 연결하는 유로이다. 콜미네이터보다 타겟 챔버(200)에 더 많은 열이 발생하는 경우 냉각수의 순환경로를 하나로 구성하여 시스템을 간소화 할 수 있게 된다.
이상에서는 콜리메이터(100)측에서 타겟 챔버(200)측으로 냉각수가 유동하는 실시예에 대하여 설명하였으나, 이는 일 예일 뿐 반대방향으로 유동할 수 있으며, 콜미네이터와 타겟 챔버(200)에 각각 별도로 구성된 순환시스템이 구비될 수 있다.
한편 냉각수의 순환시스템에는 펌프, 배관, 열교환 시스템 등이 구비될 수 있으며, 이는 일반적으로 널리 사용되는 기술이므로 더 이상의 상세한 설명은 생략하도록 한다.
이하에서는 본 발명에 따른 쿨링시스템을 포함한 가스 타겟의 시뮬레이션 결과에 대하여 설명하기로 한다.
도 7은 본 발명에 따른 실시예의 가스 타겟의 냉각 시뮬레이션 결과이며, 도 8은 본 발명에 따른 실시예의 가스 냉각 윈도우(600)의 헬륨 냉각 시뮬레이션 결과이다.
본 시뮬레이션은 SolidWorks의 Flow simulation, COMSOL Multiphysics를 이용하여 열전달 등의 해석이 수행되었다.
제1 냉각유로(810)가 나선형으로 설계한 타겟 챔버(200)에 빔(10) 출력 30MeV-100uA와 30MeV-200uA 을 각각 적용하여 시뮬레이션 한 결과 도 7에서 보여주는 것과 같이 100uA에 일 때 최고 온도가30.18ㅀC, 200uA일 때 최고온도가 40ㅀC나타났다. 설계한 표적장치의 냉각수는 와류 현상이 줄어들고 표면적이 넓어졌으며, 타겟 챔버(200)의 끝 단을 냉각시킴으로써 더 높은 빔(10) 출력에도 Gas Target이 녹지 않는다는 것을 알 수 있었다(AI 6061의 Melting Pint = 650˚C).
도 8을 살펴보면, 빔(10) 출력이 높아 짐에 따라 Havar foil에도 더 많은 열이 발생하기 때문에 30MeV-200uA의 에너지에도 견뎌 낼 수 있는 지 시뮬레이션 한 결과 도시된 바와 같이 온도 분포 결과가 얻을 수 있었다. Havar의 Melting Point는 1480˚C이다. 100uA일 때 Havar foil의 최고 온도가53.22C이었으며, 200uA일 때는 최고 온도가85.62C로 시뮬레이션 결과 Havar foil또한 더 높은 빔(10) 출력에도 녹지 않는다는 결과를 얻을 수 있었다. 이는 Haver foil 주변조건, 즉 타겟 챔버(200)의 냉각 및 콜미네이터(100)의 냉각효율이 증가함에 따라 Haver foil에서 발생되는 열이 헬륨 및 주변 구조로 전달될 수 있기 때문이다.
이상에서 설명한 바와 같이 본 발명에 따른 쿨링시스템이 구비된 가스 타겟은 나선형의 유로가 포함되어 구비되며, 타겟 챔버(200)의 끝단에 구비된 앤드캡(230)까지 감싸도록 형성된 제1 냉각유로(810)가 구비되어 냉각효율을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.
이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시 예들을 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 그 기술적 사상이나 필수적인 특징들이 변경되지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것으로 이해할 수 있을 것이다. 그러므로, 이상에서 기술한 실시 예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 균등개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.
10: 빔 100: 콜리메이터 110: 차단벽
200: 타겟 챔버 210: 핵반응공간
220: 냉각핀 230: 앤드캡
300: 타겟 챔버 하우징
400: 인슐레이팅 플레이트
500: 인슐레이팅 링
600: 가스 냉각 윈도우
700: 플랜지 링
811: 유입구 812: 유출구
810: 제1 냉각유로 820: 제2 냉각유로 830: 연결유로

Claims (9)

  1. 방사성 물질의 생산에 사용되는 기체가 수용되는 원통형 공간이 구비된 타겟 챔버;
    상기 타겟 챔버로 조사되는 빔의 양을 제한하도록 구성되는 콜리메이터; 및
    냉각수가 상기 타겟 챔버 주위를 나선형으로 와류를 줄이면서 유동하여 상기 타겟 챔버를 냉각할 수 있도록 구성되는 제1 냉각유로를 포함하여 구성되는 쿨링시스템이 구비된 가스 타겟.
  2. 제1 항에 있어서,
    상기 제1 냉각유로는 상기 타겟 챔버에 상기 빔이 조사되는 방향으로 형성된 나선형 유로로 구성되는 것을 특징으로 하는 쿨링시스템이 구비된 가스 타겟.
  3. 제2 항에 있어서,
    상기 타겟 챔버는,
    내측에 상기 빔의 이동방향에 따라 원통형으로 형성된 핵반응공간; 및
    외측에 상기 제1 냉각유로가 구비되는 것을 특징으로 하는 쿨링시스템이 구비된 가스 타겟.
  4. 제3 항에 있어서,
    상기 타겟 챔버를 외측에서 감싸는 타겟 챔버 커버를 더 포함하며,
    상기 타겟 챔버는 외면에 나선으로 형성되며, 반경방향으로 돌출된 냉각핀을 더 포함하여 구성되며,
    상기 제1 냉각유로는 상기 타겟 챔버의 외면, 상기 냉각핀 및 상기 타겟 챔버 커버의 내면으로 구획된 유로를 포함하는 것을 특징으로 하는 쿨링시스템이 구비된 가스 타겟.
  5. 제3 항에 있어서,
    상기 콜리메이터는 조사되는 빔의 일부가 통과될 수 있도록 개구가 형성된 차단벽을 포함하여 구성되며,
    상기 쿨링 시스템은 상기 차단벽의 외측에 형성되어 상기 차단벽을 냉각할 수 있도록 구성되는 제2 냉각유로를 더 포함하는 쿨링시스템이 구비된 가스 타겟.
  6. 제5 항에 있어서,
    상기 냉각수는 상기 제2 냉각유로를 통과한 뒤 상기 제1 냉각유로를 통과하도록 구성된 것을 특징으로 하는 쿨링시스템이 구비된 가스 타겟.
  7. 제6 항에 있어서,
    상기 콜리메이터와 상기 타겟 챔버는 길이방향으로 결합되며,
    상기 타겟 챔버의 상기 핵반응공간이 밀폐될 수 있도록 상기 콜리메이터와 상기 타겟 챔버 사이에 구비되는 인슐레이팅 플레이트; 및
    상기 인슐레이팅 플레이트 외부에서 상기 제1 냉각유로와 상기 제2 냉각유로를 연결하여 냉각수의 유로를 형성하는 연결라인을 더 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 쿨링시스템이 구비된 가스 타겟.
  8. 제7 항에 있어서,
    상기 타겟 챔버는,
    상기 타겟 챔버의 상기 콜리메이터 측에 형성된 유입구;
    상기 타겟 챔버의 타측에 형성된 유출구를 더 포함하여 구성되며,
    상기 유입구 및 상기 유출구는 제1 냉각유로와 연통되며,
    상기 유입구는 상기 제2 냉각유로로부터 유출된 냉각수가 유입되도록 구성된 것을 특징으로 하는 쿨링시스템이 구비된 가스 타겟.
  9. 제3 항에 있어서,
    상기 타겟 챔버는 상기 핵반응공간을 밀폐할 수 있도록 끝단에 구비되는 앤드캡을 더 포함하며,
    상기 제1 냉각유로는 상기 앤드캡을 감싸도록 구성된 것을 특징으로 하는 쿨링 시스템이 구비된 가스 타겟.
KR1020160022595A 2015-12-08 2016-02-25 쿨링시스템이 구비된 가스 타겟 KR101726380B1 (ko)

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