KR101725487B1 - Electrophoretic display device and method for manufacturing the same - Google Patents

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Abstract

본 발명의 실시 예에 따른 전기영동 표시장치는 투명 재질의 제1 베이스 기판 및 제1 베이스 기판 상에 형성된 공통전극을 포함하는 상부기판, 제2 베이스 기판에 형성된 박막 트랜지스터(TFT)와 접속되는 복수의 화소전극 및 화소전극을 둘러싸도록 형성되어 복수의 서브 화소를 정의하는 격벽을 포함하는 하부기판, 특정 컬러를 표시하도록 착색된 복수의 대전 입자를 포함하여 격벽에 의해 정의된 복수의 서브 화소 각각에 충진되는 전기영동 분산액, 전기영동 분산액을 사이에 두고 상부기판 및 하부기판을 합착시키는 실런트, 및 격벽과 대응되는 비 표시 영역에 형성되어 외부로부터 입사되는 광을 차단하는 광 차단부를 포함한다. 본 발명의 광 차단부는 상부기판과 하부기판 중 적어도 어느 하나의 기판에 형성된다.An electrophoretic display device according to an embodiment of the present invention includes an upper substrate including a first base substrate made of a transparent material and a common electrode formed on the first base substrate, a plurality of thin film transistors (TFTs) formed on a second base substrate, Pixels, and a plurality of sub-pixels defined by the barrier ribs, including a plurality of charged particles colored to display a specific color, on the lower substrate including barrier ribs formed to surround the pixel electrodes and the pixel electrodes and defining the plurality of sub- An electrophoretic dispersion liquid to be filled, a sealant for attaching the upper substrate and the lower substrate with the electrophoretic dispersion interposed therebetween, and a light shielding portion formed in the non-display region corresponding to the barrier rib to block light incident from the outside. The light shielding portion of the present invention is formed on at least one of the upper substrate and the lower substrate.

Description

전기영동 표시장치 및 그 제조방법{ELECTROPHORETIC DISPLAY DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME}ELECTROPHORETIC DISPLAY DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME

본 발명은 전기영동 표시장치 관한 것으로서, 보다 구체적으로 명암비를 높여 표시품질을 향상시킬 수 있는 전기영동 표시장치 및 그 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to an electrophoretic display device, and more particularly, to an electrophoretic display device and a method of manufacturing the same that can improve the display quality by increasing the contrast ratio.

전기영동 표시장치란 착색된 대전 입자가 외부로부터 가해진 전계에 의해 이동하는 전기영동(Electrophoresis) 현상을 이용하여 화상을 표시하는 장치를 말한다. 여기서 전기영동 현상이란, 대전 입자를 액체 속에 분산시킨 전기영동 분산액(전기영동 잉크)에 전계를 인가하는 경우에 대전 입자가 쿨롱력에 의하여 액체 속을 이동하는 현상을 의미한다.An electrophoretic display device refers to an apparatus that displays an image by using an electrophoresis phenomenon in which colored charged particles move by an electric field applied from the outside. Here, the electrophoresis phenomenon means that the charged particles move in the liquid by the Coulomb force when an electric field is applied to an electrophoretic dispersion (electrophoretic ink) in which the charged particles are dispersed in the liquid.

이러한, 전기영동 현상을 이용한 전기영동 표시장치는 쌍안정성(Bistability)의 특징을 가지고 있어, 인가된 전압이 제거되어도 원래의 이미지를 장시간 표시할 수 있다. 즉, 전기영동 표시장치는 지속적으로 전압을 인가하지 않아도 일정 화면을 장기간 유지할 수 있기 때문에 화면의 신속한 교환이 요구되지 않는 전자 책(e-book) 분야에 적합한 디스플레이 장치이다.The electrophoretic display device using the electrophoresis phenomenon has a characteristic of bistability, so that the original image can be displayed for a long time even if the applied voltage is removed. That is, the electrophoretic display device is suitable for the e-book field in which it is not required to swiftly change the screen because the electrophoretic display device can maintain a certain screen for a long time without continuously applying a voltage.

또한, 전기영동 표시장치는 액정 표시장치와는 달리 시야각(Viewing Angle)에 대한 의존성이 없을 뿐만 아니라 종이와 유사한 정도로 눈에 편안한 화상을 제공할 수 있다. 아울러, 자유롭게 휘어지는 유연성(Flexibility), 저전력 소비(low power consumption), 친환경(eco like)의 장점을 가지고 있어 수요가 증가되고 있다.Unlike a liquid crystal display device, an electrophoretic display device has no dependence on a viewing angle, and can provide a comfortable image to an eye similar to a paper. In addition, demand is increasing as it has the advantages of flexing freely, flexibility, low power consumption and eco-like.

이러한, 전기영동 표시장치는 전기영동 레이어(필름)의 구조에 따라 마이크로 캡슐(microcapsule) 방식과 마이크로 컵(microcup) 방식으로 구분될 수 있다.Such an electrophoretic display device can be classified into a microcapsule type and a microcup type according to the structure of an electrophoresis layer (film).

도 1은 마이크로 캡슐 방식이 적용된 종래 기술에 따른 전기영동 표시장치의 구조를 나타내는 단면도이다.1 is a cross-sectional view showing a structure of an electrophoretic display device according to a conventional art to which a microcapsule system is applied.

도 1을 참조하면, 종래 기술에 따른 마이크로 캡슐 방식의 전기영동 표시장치는 대향 합착된 하부기판(10) 및 상부기판(20)과, 상기 하부기판(10) 및 상부기판(20) 사이에 개재된 전기영동 필름(30)을 포함한다.1, a microcapsule type electrophoretic display device according to the related art includes a lower substrate 10 and an upper substrate 20 opposed to each other and an upper substrate 20 interposed between the lower substrate 10 and the upper substrate 20, And an electrophoretic film (30).

상기 전기영동 필름(30)은 투명한 물질로 이루어진 제1 및 제 2 접착층(34, 36), 상기 제1 및 제2 접착층(34, 36) 사이에 위치하는 투명한 도전성 물질로 이루어진 공통전극(38), 및 전기영동 분산액을 갖는 다수의 마이크로 캡슐(32)을 포함한다. 도 1에 도시되지 않았지만, 상기 하부기판(10)은 상기 공통전극(38)과 대향되는 복수의 화소전극 및 상기 복수의 화소전극에 전압을 인가시키기는 스위칭 소자인 복수의 박막 트랜지스터(TFT)을 포함한다.The electrophoretic film 30 includes first and second adhesive layers 34 and 36 made of a transparent material and a common electrode 38 made of a transparent conductive material and positioned between the first and second adhesive layers 34 and 36, And a plurality of microcapsules 32 having an electrophoretic dispersion. Although not shown in FIG. 1, the lower substrate 10 includes a plurality of pixel electrodes opposing the common electrode 38, and a plurality of thin film transistors (TFT), which are switching elements for applying a voltage to the plurality of pixel electrodes, .

여기서, 전기영동 분산액(전기영동 잉크)은 포지티브(+)로 대전된 대전 입자들 및 네거티브(-)로 대전된 대전 입자들을 포함하며, 마이크로 캡슐(32) 내에 포함된 대전 입자들이 전기영동에 의해 이동함으로써 화상을 구현하게 된다.Here, the electrophoretic dispersion (electrophoretic ink) includes positive (+) charged particles and negative (-) charged particles, and the charged particles contained in the microcapsules 32 are electrophoretically The image is realized by moving.

이러한 종래 기술에 따른 전기영동 표시장치는 상기 상부기판(20), 하부기판(10) 및 라미네이션(Lamination) 전기영동 필름(30)을 각각 제작한 후, 전기영동 필름(30)을 하부기판(10) 및 상부기판(20) 사이에 개재시켜 제조된다.The electrophoretic display device according to the related art has a structure in which the upper substrate 20, the lower substrate 10 and the lamination electrophoretic film 30 are manufactured and then the electrophoretic film 30 is bonded to the lower substrate 10 And the upper substrate 20, as shown in Fig.

따라서, 하부기판(10), 상부기판(20), 전기영동 필름(30) 각각을 별도로 제작하여야 함으로 제조 공정이 복잡하고, 제조 시간이 많이 소요되어 제조 효율이 떨어지는 단점이 있다. 또한, 별도로 제조된 전기영동 필름(30)을 적용하여야 함으로 제조 비용이 증가되는 문제점도 있다.Therefore, since the lower substrate 10, the upper substrate 20, and the electrophoretic film 30 must be separately manufactured, the manufacturing process is complicated, and the manufacturing time is long, which results in a low manufacturing efficiency. In addition, since the separately prepared electrophoretic film 30 must be applied, the manufacturing cost is increased.

도 2는 마이크로 컵 방식이 적용된 종래 기술에 따른 전기영동 표시장치의 구조를 나타내는 단면도이다.2 is a cross-sectional view illustrating a structure of an electrophoretic display device according to a related art to which a microcup method is applied.

도 2를 참조하면, 종래 기술에 따른 마이크로 컵 방식의 전기영동 표시장치는 대향 합착된 상부기판(40) 및 하부기판(50)과, 상기 상부기판(40) 및 상부기판(50) 사이에 개재된 전기영동 레이어를 포함한다.Referring to FIG. 2, the microcup electrophoretic display device according to the related art includes an upper substrate 40 and a lower substrate 50 which are adhered to each other and an upper substrate 40 and an upper substrate 50, Lt; / RTI > electrophoresis layer.

상기 상부기판(40)은 투명 재질의 베이스 기판(42) 또는 베이스 필름과, 상기 베이스 기판(42)에 인듐틴옥사이드(ITO: Indium Tin Oxide) 또는 인듐징크옥사이드(IZO: Indium Zinc Oxide)와 같은 전도성 투명 물질로 형성된 공통전극(44)을 포함한다.The upper substrate 40 includes a base substrate 42 or a base film made of a transparent material and at least one of indium tin oxide (ITO) and indium zinc oxide (IZO) And a common electrode 44 formed of a conductive transparent material.

상기 하부기판(50)은 투명 또는 불투명 베이스 기판(52) 상에 상기 공통전극(44)과 대향되는 복수의 화소전극(54)을 포함한다. 여기서, 상기 베이스 기판(52)에는 상기 복수의 화소전극(54)에 전압을 인가시키기는 스위칭 소자인 복수의 박막 트랜지스터(TFT, 미도시)가 형성되어 있다.The lower substrate 50 includes a plurality of pixel electrodes 54 opposed to the common electrode 44 on a transparent or opaque base substrate 52. Here, a plurality of thin film transistors (TFTs) (not shown), which are switching elements for applying a voltage to the plurality of pixel electrodes 54, are formed on the base substrate 52.

상기 전기영동 레이어는 상기 하부기판(50) 상에 형성되어 서브 화소를 정의하는 격벽(56)과, 상기 서브 화소에 충진되는 전기영동 분산액(62, 전기영동 잉크)으로 구성된다. 여기서, 상기 전기영동 분산액(62)은 상기 공통전극(44) 및 상기 화소전극(54)에 의해 형성된 전계에 따라 이동하는 복수의 대전 입자(64)를 포함한다.The electrophoresis layer is formed on the lower substrate 50 and includes a partition wall 56 defining sub pixels and an electrophoretic dispersion liquid 62 (electrophoretic ink) filled in the sub pixels. Here, the electrophoretic dispersion 62 includes a plurality of charged particles 64 that move in accordance with an electric field formed by the common electrode 44 and the pixel electrode 54.

상술한 구성을 가지는 마이크로 컵 방식의 전기영동 표시장치는 하부기판(50) 상에 형성된 격벽(56)에 의해 정의된 서브 화소 내에 전기영동 분산액(62)을 충진하게 된다.The microcup electrophoretic display device having the above-described structure fills the electrophoretic dispersion 62 in the sub-pixel defined by the partition wall 56 formed on the lower substrate 50.

여기서, 상기 격벽(56)을 무기물질로 형성하는 경우, 도 3에 도시된 바와 같이 전기영동 분산액(62)의 충진 공정 시 전기영동 분산액의 미 충진 및 기포 발생되거나, 상부기판(40)과 하부기판(50)의 합착 공정 시 불량이 발생되는 문제점이 있다.3, when the partition wall 56 is formed of an inorganic material, the electrophoretic dispersion liquid may be unfilled and bubbled during the filling process of the electrophoretic dispersion 62, There is a problem that defects occur in the process of attaching the substrate 50.

상기와 같은 전기영동 분산액의 미 충진 및 기포 발생을 방지하기 위해 하부기판(50) 상에 형성되는 격벽(56)을 유기물질로 형성할 수 있다. 그러나, 유기물질로 형성된 격벽(56)은 투명한 특성을 지니고 있기 때문에 대전 입자의 구동 시 격벽(56) 상부로 광이 통과하여 투사되거나, 입사된 빛이 반사되어 새어 나오게 된다.The barrier ribs 56 formed on the lower substrate 50 may be formed of an organic material to prevent the filling of the electrophoretic dispersion and the generation of bubbles. However, since the partition wall 56 formed of an organic material has a transparent characteristic, when the charged particles are driven, the light passes through the partition wall 56 and is projected, or the incident light is reflected and leaked.

전기영동 표시장치의 설계 구조에 따라 다소 차이는 있지만 상기 격벽(56)은 전기영동 표시장치의 전체 표시 면적에서 대략 12% 내외의 면적을 차지하게 된다. 따라서, 격벽(56)을 통해 광이 투과되거나, 빛 반사에 따른 빛 샘 현상이 발생되면 전기영동 표시장치의 컬러 구현 능력이 저하되는 다른 문제점이 있다.The partition wall 56 occupies an area of about 12% of the entire display area of the electrophoretic display device, though it is somewhat different according to the design structure of the electrophoretic display device. Therefore, when light is transmitted through the barrier ribs 56 or light leakage occurs due to light reflection, the color implementation capability of the electrophoretic display device is degraded.

특히, 명암비(Contrast Ratio)에 가장 큰 요인(Factor)인 블랙(Black) 표현을 떨어뜨려 명암비를 저하시키고, 이로 인해 전기영동 표시장치의 표시품질을 저하시키는 또 다른 문제점이 있다.In particular, there is another problem in that the contrast ratio is lowered by decreasing the black factor, which is the biggest factor in the contrast ratio, thereby deteriorating the display quality of the electrophoretic display device.

본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 명암비(contrast ratio)를 향상시킬 수 있는 전기영동 표시장치 및 그 제조방법을 제공하는 것을 기술적 과제로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide an electrophoretic display device and a method of manufacturing the same that can improve the contrast ratio.

본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 표시품질이 높은 전기영동 표시장치 및 그 제조방법을 제공하는 것을 기술적 과제로 한다.An object of the present invention is to provide an electrophoretic display device having a high display quality and a method of manufacturing the same.

본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 전기영동 표시장치의 제조효율을 향상시킬 수 있는 전기영동 표시장치 및 그 제조방법을 제공하는 것을 기술적 과제로 한다.An object of the present invention is to provide an electrophoretic display device and a manufacturing method thereof that can improve the manufacturing efficiency of the electrophoretic display device.

본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 제조비용을 절감시킬 수 있는 전기영동 표시장치 및 그 제조방법을 제공하는 것을 기술적 과제로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide an electrophoretic display device and a method of manufacturing the same that can reduce manufacturing costs.

본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 하부기판에 전기영동 분산액이 내재화된 전기영동 표시장치를 제공하는 것을 기술적 과제로 한다.Disclosure of Invention Technical Problem [8] Accordingly, the present invention has been made in view of the above problems, and it is an object of the present invention to provide an electrophoretic display device in which an electrophoretic dispersion is incorporated in a lower substrate.

본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 하부기판에 전기영동 분산액을 내재화시킬 수 있는 전기영동 표시장치의 제조방법을 제공하는 것을 기술적 과제로 한다.Disclosure of Invention Technical Problem [8] The present invention provides a method for manufacturing an electrophoretic display device capable of internalizing an electrophoretic dispersion on a lower substrate.

또한, 본 발명은 전기영동 표시장치의 양산 신뢰성을 향상시킬 수 있는 전기영동 표시장치 및 그 제조방법을 제공하는 것을 기술적 과제로 한다.Another object of the present invention is to provide an electrophoretic display device and a manufacturing method thereof that can improve the reliability of mass production of an electrophoretic display device.

또한, 본 발명은 다양한 컬러 화상을 구현할 수 있는 전기영동 표시장치 및 그 제조방법을 제공하는 것을 기술적 과제로 한다.It is another object of the present invention to provide an electrophoretic display device capable of realizing various color images and a manufacturing method thereof.

위에서 언급된 본 발명의 기수적 과제 외에도, 본 발명의 다른 특징 및 이점들이 이하에서 기술되거나, 그러한 기술 및 설명으로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다. 이 밖에도, 본 발명의 실시 예들을 통해 본 발명의 또 다른 특징 및 이점들이 새롭게 파악 될 수도 있을 것이다.Other features and advantages of the invention will be set forth in the description which follows, or may be apparent to those skilled in the art from the description and the claims, . In addition, other features and advantages of the present invention may be newly understood through embodiments of the present invention.

상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 실시 예에 따른 전기영동 표시장치는 투명 재질의 제1 베이스 기판 및 제1 베이스 기판 상에 형성된 공통전극을 포함하는 상부기판, 제2 베이스 기판에 형성된 박막 트랜지스터(TFT)와 접속되는 복수의 화소전극 및 화소전극을 둘러싸도록 형성되어 복수의 서브 화소를 정의하는 격벽을 포함하는 하부기판, 특정 컬러를 표시하도록 착색된 복수의 대전 입자를 포함하여 격벽에 의해 정의된 복수의 서브 화소 각각에 충진되는 전기영동 분산액, 전기영동 분산액을 사이에 두고 상부기판 및 하부기판을 합착시키는 실런트, 및 격벽과 대응되는 비 표시 영역에 형성되어 외부로부터 입사되는 광을 차단하는 광 차단부를 포함한다. 본 발명의 광 차단부는 상부기판과 하부기판 중 적어도 어느 하나의 기판에 형성된다.According to an aspect of the present invention, there is provided an electrophoretic display device including an upper substrate including a first base substrate made of a transparent material and a common electrode formed on the first base substrate, a thin film transistor A plurality of pixel electrodes connected to the plurality of pixel electrodes and TFTs, a lower substrate formed to surround the pixel electrodes and including barrier ribs defining a plurality of sub-pixels, a plurality of charged particles colored to display a specific color, An electrophoretic dispersion liquid filled in each of the plurality of sub-pixels, a sealant for adhering the upper substrate and the lower substrate with the electrophoretic dispersion interposed therebetween, and a light shielding member for shielding light incident from the outside, And a blocking portion. The light shielding portion of the present invention is formed on at least one of the upper substrate and the lower substrate.

상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 실시 예에 따른 전기영동 표시장치의 제조방법은 상부기판에 공통전극을 형성하는 단계, 하부기판 상의 표시 영역에 화소전극을 형성하는 단계. 화소전극을 둘러싸도록 하부기판의 비 표시 영역에 격벽을 형성하는 단계. 특정 컬러를 표시하도록 착색된 복수의 대전 입자를 포함하는 전기영동 분산액을 격벽에 의해 정의된 복수의 서브 화소 각각에 충진시키는 단계. 하부기판 또는 상부기판 상에 실런트를 형성하여, 전기영동 분산액을 사이에 두고 상부기판 및 하부기판을 합착시키는 단계, 및 격벽과 대응되는 비 표시 영역에 외부로부터 입사되는 광을 차단하는 광 차단부를 형성하는 단계를 포함한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing an electrophoretic display device including forming a common electrode on an upper substrate, and forming a pixel electrode on a display region on a lower substrate. Forming a barrier rib in a non-display region of the lower substrate so as to surround the pixel electrode. Filling an electrophoretic dispersion liquid containing a plurality of charged particles colored to display a specific color into each of a plurality of subpixels defined by the partition walls. Forming a sealant on the lower substrate or the upper substrate to adhere the upper substrate and the lower substrate with the electrophoretic dispersion interposed therebetween, and forming a light shielding portion for blocking light incident from the outside in the non-display region corresponding to the barrier rib .

상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 실시 예에 따른 전기영동 표시장치의 제조방법에서, 광 차단부는 격벽의 하부, 격벽의 상부, 상부기판에서 격벽과 대응되는 비 표시 영역 중 적어도 어느 한 곳에 형성된다.In order to accomplish the above object, in a method of manufacturing an electrophoretic display device according to an embodiment of the present invention, a light shielding portion is formed on at least one of a lower portion of a barrier rib, an upper portion of the barrier rib, do.

실시 예에 따른 본 발명은 전기영동 표시장치의 명암비(contrast ratio)를 향상시킬 수 있다.The present invention according to embodiments can improve the contrast ratio of the electrophoretic display device.

실시 예에 따른 본 발명은 전기영동 표시장치의 표시품질을 향상시킬 수 있다.The present invention according to the embodiment can improve the display quality of the electrophoretic display device.

실시 예에 따른 본 발명은 하부기판에 전기영동 분산액이 내재화된 전기영동 표시장치를 제공할 수 있다.The present invention can provide an electrophoretic display device in which an electrophoretic dispersion is incorporated in a lower substrate.

실시 예에 따른 본 발명은 하부기판에 전기영동 분산액을 내재화시킬 수 있는 전기영동 표시장치의 제조방법을 제공할 수 있다.The present invention can provide a method of manufacturing an electrophoretic display device capable of internalizing an electrophoretic dispersion on a lower substrate.

실시 예에 따른 본 발명은 전기영동 표시장치의 제조효율을 향상시킬 수 있다.The present invention according to the embodiment can improve the manufacturing efficiency of the electrophoretic display device.

실시 예에 따른 본 발명은 전기영동 표시장치의 제조비용을 절감시킬 수 있다.The present invention according to the embodiment can reduce the manufacturing cost of the electrophoretic display device.

실시 예에 따른 본 발명은 전기영동 표시장치의 양산 신뢰성을 향상시킬 수 있다.The present invention according to the embodiment can improve the mass production reliability of the electrophoretic display device.

실시 예에 따른 본 발명은 다양한 컬러 화상을 구현할 수 있는 전기영동 표시장치 및 그 제조방법을 제공할 수 있다.The present invention according to the embodiments can provide an electrophoretic display device capable of realizing various color images and a method of manufacturing the same.

도 1은 마이크로 캡슐 방식이 적용된 종래 기술에 따른 전기영동 표시장치의 구조를 나타내는 단면도.
도 2는 마이크로 컵 방식이 적용된 종래 기술에 따른 전기영동 표시장치의 구조를 나타내는 단면도.
도 3은 전기영동 분산액의 미 충진 및 기포 발생에 따른 불량을 나타내는 도면.
도 4는 본 발명의 제1 실시 예에 따른 전기영동 표시장치의 구조를 개략적으로 나타내는 단면도.
도 5는 본 발명의 제2 실시 예에 따른 전기영동 표시장치의 구조를 개략적으로 나타내는 단면도.
도 6은 본 발명의 제3 실시 예에 따른 전기영동 표시장치의 구조를 개략적으로 나타내는 단면도.
도 7은 본 발명의 제1 실시 예에 따른 전기영동 표시장치의 제조방법을 나타내는 도면.
도 8은 본 발명의 제2 실시 예에 따른 전기영동 표시장치의 제조방법을 나타내는 도면.
도 9는 본 발명의 제3 실시 예에 따른 전기영동 표시장치의 제조방법을 나타내는 도면.1 is a cross-sectional view showing a structure of an electrophoretic display device according to the related art to which a microcapsule system is applied.
2 is a cross-sectional view showing the structure of an electrophoretic display device according to the related art to which the microcup system is applied.
Fig. 3 is a view showing defects due to unfilled electrophoretic dispersion and bubble generation; Fig.
4 is a cross-sectional view schematically showing a structure of an electrophoretic display device according to a first embodiment of the present invention.
5 is a cross-sectional view schematically showing the structure of an electrophoretic display device according to a second embodiment of the present invention.
6 is a cross-sectional view schematically showing the structure of an electrophoretic display device according to a third embodiment of the present invention.
7 is a view showing a manufacturing method of the electrophoretic display device according to the first embodiment of the present invention.
8 is a view showing a manufacturing method of an electrophoretic display device according to a second embodiment of the present invention.
9 is a view showing a manufacturing method of an electrophoretic display device according to a third embodiment of the present invention.

이하, 첨부되는 도면들을 참고하여 본 발명의 실시예들에 따른 전기영동 표시장치 및 그 제조방법에 대하여 상세히 설명한다.Hereinafter, an electrophoretic display device and its manufacturing method according to embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

본 발명의 실시예를 설명함에 있어서 어떤 구조물이 다른 구조물 "상에" 또는 "아래에" 형성된다고 기재된 경우, 이러한 기재는 이 구조물들이 서로 접촉되어 있는 경우는 물론이고 이들 구조물들 사이에 제3의 구조물이 개재되어 있는 경우까지 포함하는 것으로 해석되어야 한다.In describing an embodiment of the present invention, when a structure is described as being "on" or "under" another structure, such a substrate is not limited to the case where these structures are in contact with each other, It should be interpreted to include the case where the structure is interposed.

본 발명의 기술적 사상은 컬러 구현 여부와 관계없이 모든 전기영동 표시장치에 적용될 수 있으나, 이하에서는 설명의 편의를 위하여 컬러 타입의 전기영동 표시장치를 일 예로 설명하기로 한다. 즉, 이하 개시되는 본 발명의 기술적 사상은, 모노 타입 및 컬러필터를 포함하는 전기영동 표시장치는 물론이고, 전기영동 분산액(전기영동 잉크) 내의 대전 입자가 적색(red), 청색(blue), 녹색(green), 황색(yellow), 시안(cyan), 마젠타(magenta), 흑색(black) 또는 백색(white)으로 착색된 전기영동 표시장치의 경우에도 동일하게 적용될 수 있다.The technical idea of the present invention can be applied to all electrophoretic display devices regardless of color implementation, but for the convenience of explanation, a color type electrophoretic display device will be described as an example. That is, the technical idea of the present invention to be described below can be applied not only to an electrophoretic display device including a mono type and a color filter, but also to a case where charged particles in an electrophoretic dispersion (electrophoretic ink) are red, blue, The present invention can be similarly applied to an electrophoretic display device colored with green, yellow, cyan, magenta, black or white.

또한, 본 발명의 기술적 사상은 상술한 도 1의 마이크로 캡슐(microcapsule) 방식은 물론이고, 상술한 도 2의 마이크로 컵(microcup) 방식의 전기영동 표시장치 모두에 동일하게 적용될 수 있으나, 이하에서는 설명의 편의를 위하여 마이크로 컵 방식의 전기영동 표시장치를 일 예로 본 발명을 설명하기로 한다.The technical idea of the present invention can be applied not only to the microcapsule method of FIG. 1 but also to all the microcup type electrophoretic display devices of FIG. 2, The electrophoretic display device according to the present invention will be described.

도 4는 본 발명의 제1 실시 예에 따른 전기영동 표시장치의 구조를 개략적으로 나타내는 단면도이다.4 is a cross-sectional view schematically showing the structure of an electrophoretic display device according to the first embodiment of the present invention.

도 4를 참조하면, 본 발명의 제1 실시 예에 따른 전기영동 표시장치(100)는 공통전극(114)을 포함하는 상부기판(110); 복수의 화소전극(124), 격벽(126, Partition wall) 및 광 차단부(128)를 포함하는 하부기판(120); 상기 격벽(126)에 의해 정의된 복수의 서브 화소에 내재화되는 전기영동 분산액(132);을 포함한다.Referring to FIG. 4, an electrophoretic display device 100 according to a first embodiment of the present invention includes an upper substrate 110 including a common electrode 114; A lower substrate 120 including a plurality of pixel electrodes 124, a partition wall 126, and a light blocking portion 128; And an electrophoretic dispersion (132) that is internalized in a plurality of sub-pixels defined by the partition (126).

이러한, 본 발명의 제1 실시 예에 따른 전기영동 표시장치(100)는 상기 공통전극(114) 및 상기 복수의 화소전극(124)에 인가되는 전압에 의해 서브 화소에 충진 된 전기영동 분산액(132)의 대전 입자(134)들이 유전 용매 내에서 이동하여 모노 화상 및 컬러 화상이 구현된다.In the electrophoretic display device 100 according to the first embodiment of the present invention, the electrophoretic dispersion liquid 132 (FIG. 1) filled in the sub-pixels by the voltage applied to the common electrode 114 and the plurality of pixel electrodes 124 ) Of charged particles 134 move in the dielectric solvent to realize a mono image and a color image.

상기 상부기판(110)은 투명 재질의 유리 또는 플라스틱으로 이루어진 제1 베이스 기판(112, 또는 베이스 필름), 상기 제1 베이스 기판(112) 상에 형성된 공통전극(114)을 포함한다.The upper substrate 110 includes a first base substrate 112 or a base film made of transparent glass or plastic and a common electrode 114 formed on the first base substrate 112.

여기서, 상부기판(110)의 제1 베이스 기판(112) 및 공통전극(114)은 화상을 표시하기 위해 투명하여야 한다. 따라서, 상기 제1 베이스 기판(112)은 플렉서블(flexible)한 투명 재질로 형성되며, 공통전극(114)은 인듐틴옥사이드(ITO: Indium Tin Oxide) 또는 인듐징크옥사이드(IZO: Indium Zinc Oxide)와 같은 전도성 투명 물질로 형성된다.Here, the first base substrate 112 and the common electrode 114 of the upper substrate 110 must be transparent to display an image. Accordingly, the first base substrate 112 is formed of a transparent transparent material, and the common electrode 114 is formed of indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO) Is formed of the same conductive transparent material.

상기 도 4에는 도시되지 않았지만, 상기 전기영동 레이어를 사이에 두고 상기 상부기판(110)과 하부기판(120)의 합착이 원활히 이루어지도록 상기 공통전극(114) 상에 접착층 또는 유기물질의 폴리머 레이어(polymer layer)가 형성될 수 있다.Although not shown in FIG. 4, an adhesive layer or a polymer layer (not shown) of an organic material may be formed on the common electrode 114 so that the upper substrate 110 and the lower substrate 120 are smoothly adhered to each other with the electrophoresis layer interposed therebetween. polymer layer may be formed.

상기 하부기판(120)은 복수의 게이트 라인(미도시), 데이터 라인(미도시) 및 상기 복수의 게이트 라인과 데이터 라인의 교차부에 형성되는 박막 트랜지스터(TFT, 미도시)가 형성된 제2 베이스 기판(122, 베이스 필름), 상기 베이스 기판(122) 상에 형성된 화소전극(124), 격벽(126) 및 상기 격벽(126)의 하부에 형성된 광 차단부(128)를 포함한다.The lower substrate 120 includes a plurality of gate lines (not shown), a plurality of data lines (not shown), and a plurality of thin film transistors (TFTs) A pixel electrode 124 formed on the base substrate 122, a barrier rib 126 and a light shielding portion 128 formed under the barrier rib 126. [

상기 제2 베이스 기판(122)은 투명 재질의 유리기판, 가요성(Flexibility)을 가지는 플라스틱 기판 또는 금속 기판이 적용될 수 있다. 하부기판(120)은 화상이 표시되는 화면의 반대 측에 위치함으로 반드시 투명할 필요는 없다.The second base substrate 122 may be a transparent glass substrate, a plastic substrate having flexibility, or a metal substrate. Since the lower substrate 120 is located on the opposite side of the screen on which the image is displayed, it is not necessarily transparent.

상기 게이트 라인 및 데이터 라인은 비저항(Resistivity)이 낮은 은(Ag), 알루미늄(Al), 또는 이들의 합금(Alloy)으로 이루어진 단일막으로 형성되거나, 또는 이러한 단일막에 더하여 전기적 특성이 우수한 크롬(Cr), 티타늄(Ti), 또는 탄탈륨(Ta)으로 이루어진 막을 더 포함하는 다층막으로 형성될 수 있다.The gate line and the data line may be formed of a single film made of silver (Ag), aluminum (Al), or an alloy thereof having low resistivity, or may be formed of chromium Cr), titanium (Ti), or tantalum (Ta).

상기 게이트 라인과 데이터 라인 사이에는 질화막(SiNx) 등으로 이루어진 게이트 절연막이 위치할 수 있으며, 상기 게이트 라인과 데이터 라인의 교차부마다 박막 트랜지스터(TFT)가 형성된다. 여겨서, 상기 박막 트랜지스터(TFT)의 게이트 전극은 게이트 라인과 접속되고, 소스 전극은 데이터 라인과 접속되며, 드레인 전극은 상기 화소전극(124)과 접속된다.A gate insulating film made of a nitride film (SiNx) or the like may be positioned between the gate line and the data line, and a thin film transistor (TFT) is formed at each intersection of the gate line and the data line. The gate electrode of the thin film transistor TFT is connected to the gate line, the source electrode thereof is connected to the data line, and the drain electrode thereof is connected to the pixel electrode 124.

상기 화소전극(124)은 상기 격벽(126)에 의해 정의되는 복수의 서브 화소(컬러 서브 화소, 모노 서브 화소)에 대응되도록 형성되어, 상기 박막 트랜지스터의 스위칭에 의해 상기 복수의 서브 화소에 전압을 인가한다.The pixel electrode 124 is formed to correspond to a plurality of sub-pixels (color sub-pixel, mono sub-pixel) defined by the barrier rib 126, and the voltage is applied to the plurality of sub- .

상기 화소전극(124)은 콘택홀을 통해 박막 트랜지스터의 드레인 전극과 전기적으로 접속되며, 구리, 알루미늄, 인듐틴옥사이드(ITO)의 물질로 형성될 수 있다. 또한, 구리, 알루미늄, 인듐틴옥사이드(ITO)의 물질에 니켈 및/또는 금 등이 더 적층되어 형성될 수도 있다.The pixel electrode 124 is electrically connected to a drain electrode of the thin film transistor through a contact hole, and may be formed of a material such as copper, aluminum, or indium tin oxide (ITO). Further, nickel, gold, or the like may be further laminated on the material of copper, aluminum, and indium tin oxide (ITO).

상기 광 차단부(128)는 격벽(126)을 투과하거나, 서브 화소에 입사된 광이 반사되어 빛샘 현상이 발생되는 것을 방지하기 위한 것으로, 상기 복수의 서브 화소가 형성되지 않은 비 표시 영역 즉, 격벽(126)의 하부에 형성될 수 있다.The light blocking portion 128 prevents the light transmitted through the barrier rib 126 or the light incident on the sub pixel from being reflected to cause a light leakage phenomenon. The non-display region in which the plurality of sub- And may be formed under the barrier ribs 126.

이러한, 광 차단부(128)는 블랙 매트릭스(BM: Black Matrix) 수지 또는 크롬옥사이드(CrOx: Chromium Oxide)와 같이 광을 흡수 또는 반사시키는 특성을 가지는 유기 또는 무기 물질로 형성된다. 또한, 상기 광 차단부(128)는 블랙 매트릭스 수지 또는 크롬옥사이드를 포함하는 유기 또는 무기 물질로도 형성될 수도 있다.The light shielding part 128 is formed of an organic or inorganic material having a property of absorbing or reflecting light such as a black matrix (BM) resin or chromium oxide (CrOx). The light shielding part 128 may be formed of an organic or inorganic material including black matrix resin or chromium oxide.

상기 도 4에는 도시되지 않았지만, 상기 전기영동 레이어를 사이에 두고 상기 상부기판(110)과 하부기판(120)의 합착이 원활히 이루어지도록 상기 화소전극(124) 및 광 차단부(128) 상에 접착층 또는 유기물질의 폴리머 레이어(polymer layer)가 형성될 수 있다.Although not shown in FIG. 4, an adhesive layer (not shown) may be formed on the pixel electrode 124 and the light intercepting portion 128 to smooth adhesion between the upper substrate 110 and the lower substrate 120 with the electrophoretic layer interposed therebetween. Or a polymer layer of organic material may be formed.

상기 전기영동 레이어는 복수의 서브 화소를 정의하는 격벽(126)과, 상기 격벽(126)에 의해 정의된 복수의 서브 화소 각각에 내재되는 전기전동 분산액(132, 전기영동 잉크)로 구성된다.The electrophoresis layer is composed of a partition wall 126 defining a plurality of sub pixels and an electric motor dispersion liquid 132 (electrophoretic ink) contained in each of the plurality of sub pixels defined by the partition 126.

상기 격벽(126)은 하부기판(120) 상에 형성되어 복수의 서브 화소를 정의하기 위한 것으로, 상기 하부기판(120) 상에서 상기 화소전극(124)을 둘러싸도록 상기 광 차단부(128) 상에서 상부기판(110) 방향으로 형성된다.The barrier ribs 126 are formed on the lower substrate 120 to define a plurality of sub-pixels. The barrier ribs 126 are formed on the lower substrate 120 to surround the pixel electrodes 124, Is formed in the direction of the substrate 110.

여기서, 상기 격벽(126)은 서브 화소에 내재화 되는 전기영동 분산액(132)과 물성이 일치되도록 유기물질로 형성될 수 있다.Here, the barrier ribs 126 may be formed of an organic material so as to match physical properties with the electrophoretic dispersion 132 that is internalized in the sub-pixels.

이러한, 격벽(126)은 포토 리소그래피(Photo lithography) 또는 몰드 프린팅(Mold Printing) 공정을 통해 형성될 수 있으며, 1um ~ 100um의 높이를 가지도록 형성된다.The barrier ribs 126 may be formed through a photolithography process or a mold printing process, and may have a height of 1 um to 100 um.

상술한 바와 같이, 본 발명의 제1 실시 예에서는 하부기판(120)의 광 차단부(128) 상에 격벽(126)이 형성되는 것을 일 예로 하였으나, 상기 격벽은 상부기판(110) 상에도 형성될 수 있다. 여기서, 상기 격벽(126)에 의해 정의되는 상기 복수의 서브 화소는 컬러 서브 화소 및/또는 모노 서브 화소로 형성될 수 있다.As described above, in the first embodiment of the present invention, the barrier rib 126 is formed on the light blocking portion 128 of the lower substrate 120. However, the barrier rib may also be formed on the upper substrate 110 . Here, the plurality of sub-pixels defined by the barrier ribs 126 may be formed of color sub-pixels and / or mono sub-pixels.

상기 격벽(126)에 의해 정의된 서브 화소에 복수의 대전 입자(134)를 포함하는 전기영동 분산액(132)이 내재화 된다. 여기서, 상기 전기영동 분산액(132)은 다이 코팅(Die coating) 방식, 캐스팅(Casting) 방식, 바 코팅(Bar Coating) 방식, 슬릿 코팅(Slit Coating) 방식, 디스펜스(Dispense) 방식, 스퀴징(squeezing) 방식, 스크린 프린팅(Screen printing) 방식, 잉크젯 프린팅(Inkjet printing) 방식, 포토 리쏘그래피(Photo lithography) 방식을 통해 하부기판(120) 상의 서브 화소에 내재화 될 수 있다.An electrophoretic dispersion liquid 132 including a plurality of charged particles 134 is internalized in the sub-pixel defined by the partition wall 126. [ Here, the electrophoretic dispersion liquid 132 may be formed by a die coating method, a casting method, a bar coating method, a slit coating method, a dispensing method, a squeezing method, Pixel, a sub-pixel on a lower substrate 120, a screen printing method, an inkjet printing method, and a photolithography method.

상기 전기영동 분산액(132)은 포지티브(+) 또는 네거티브(-) 극성으로 대전된 복수의 대전 입자(134)를 포함한다. 이때, 상기 대전 입자(134)는 적색(red), 청색(blue), 녹색(green), 황색(yellow), 시안(cyan), 마젠타(magenta), 흑색(black), 백색(white) 중 적어도 하나의 색상으로 착색될 수 있다.The electrophoretic dispersion 132 includes a plurality of charged particles 134 charged with a positive (+) or negative (-) polarity. At this time, the charged particles 134 may be at least one of red, blue, green, yellow, cyan, magenta, black, And can be colored in one color.

상기 상부기판(110) 또는 하부기판(120)의 비 표시 영역에는 상기 전기영동 레이어를 사이에 두고 상기 상부기판(110)과 하부기판(120)의 합착을 위한 실런트(142, sealant)가 형성된다.A sealant 142 for attaching the upper substrate 110 and the lower substrate 120 to each other is formed in the non-display area of the upper substrate 110 or the lower substrate 120 with the electrophoretic layer interposed therebetween .

상기 실런트(142)는 자외선(UV: ultraviolet) 및 열을 이용해 경화할 수 있는 물질로 형성될 수 있으며, 상술한, 상부기판(110) 및 하부기판(120)은 전기영동 레이어를 사이에 두고 실런트(142)를 통해 합착된다. 이를 통해, 서브 화소에 충진 된 전기영동 분산액(132)은 격벽(126), 상부기판(110) 및 하부기판(120)에 의해 둘러 싸여지게 된다.The sealant 142 may be formed of a material that can be cured by using ultraviolet rays and heat. The upper substrate 110 and the lower substrate 120 may be formed of a sealant, (142). Accordingly, the electrophoretic dispersion liquid 132 filled in the sub-pixel is surrounded by the barrier rib 126, the upper substrate 110, and the lower substrate 120.

제조 공정 중 실런트(142) 형성 시, 실재가 하부기판(120) 또는 상부기판(110)의 외곽부로 넘칠 수 있는데, 이를 방지하기 위해 상기 실런트(142)의 외곽에는 댐(144, dam)이 형성된다. 여기서, 댐(144)의 크기는 실재의 양에 따라 다양한 형태로 형성될 수 있다.A dam 144 may be formed on the outer surface of the sealant 142 to prevent the sealant 142 from overflowing to the outer surface of the lower substrate 120 or the upper substrate 110 when the sealant 142 is formed. do. Here, the size of the dam 144 may be formed in various forms according to the amount of the actual material.

일 예로서, 상기 댐(144)은 1um ~ 100um의 높이(바람직하게는 1um ~ 50um) 및 10um ~ 5,000um의 폭(바람직하게는 100um ~ 1,000um)을 가지도록 형성될 수 있다. 또한, 상기 댐(144)은 복수의 라인 형태로 형성될 수 있으며, 1개 ~ 5개 라인(바람직하게는 2개 라인)으로 형성될 수 있다. 이러한 댐(144)은 상기 격벽(126)과 함께 형성되거나, 또는 별도의 공정을 통해 독립적으로 형성될 수도 있다.As an example, the dam 144 may be formed to have a height of 1 um to 100 um (preferably 1 um to 50 um) and a width of 10 um to 5,000 um (preferably 100 um to 1,000 um). In addition, the dam 144 may be formed in a plurality of lines, and may be formed in one to five lines (preferably two lines). The dam 144 may be formed together with the partition wall 126, or may be independently formed through a separate process.

전기영동 분산액(132)을 둘러싸는 외벽과 전기영동 분산액(132)의 물성이 일치되지 않으면, 전기영동 분산액(132)이 정확히 충진되지 않게되어 미 충진 현상이 발생되고, 기포가 생겨 불량이 발생될 수 있다.If the physical properties of the electrophoretic dispersion 132 and the outer wall surrounding the electrophoretic dispersion 132 do not match, the electrophoretic dispersion 132 is not correctly filled, resulting in an unfilled phenomenon, resulting in bubbles, .

본 발명의 제1 실시 예에 따른 전기영동 표시장치는 상술한 바와 같이, 상기 하부기판(120)에 내재화 되는 전기영동 분산액(132)을 둘러싸는 외벽 즉, 격벽(126)을 전기영동 분산액(132)과 물성이 일치되도록 유기물질로 형성한다.The electrophoretic display device according to the first embodiment of the present invention is configured such that the outer wall surrounding the electrophoretic dispersion 132 to be internalized in the lower substrate 120, ) And the physical properties are matched with each other.

따라서, 하부기판(120) 상에 전기영동 분산액(132)의 내재화 공정이 원활이 이루어짐과 아울러, 상부기판(110)과 하부기판(120)의 합착 시, 서브 화소에 불량이 발생되는 현상을 방지할 수 있다.Therefore, the electrophoretic dispersion 132 is smoothly internalized on the lower substrate 120 and the sub-pixels are prevented from being defective when the upper substrate 110 and the lower substrate 120 are attached to each other. can do.

또한, 전기영동 분산액(132)이 하부기판(120) 상에 내재화 되어 전기영동 표시장치의 구동이 능력이 개선되고, 다양한 컬러로 착색된 대전 입자(134)를 통해 다양한 컬러 화상을 구현함과 아울러, 전기영동 표시장치의 표시품질을 향상시킬 수 있다.In addition, the electrophoretic dispersion 132 is internalized on the lower substrate 120 to improve the capability of driving the electrophoretic display device, and various color images are realized through the charged particles 134 colored in various colors, , The display quality of the electrophoretic display device can be improved.

또한, 상술한 광 차단부(128)에 의해 격벽(126)을 투과하여 입사된 광이 흡수 또는 반사되도록 하여 서브 화소에 입사된 광의 반사로 인한 빛샘 현상을 방지할 수 있다. 이를 통해, 전기영동 표시장치의 컬러(color) 구현 능력 및 명암비(Contrast Ratio)를 향상시켜 고 품질의 화상을 표시할 수 있도록 한다.In addition, the light blocking portion 128 allows the incident light transmitted through the barrier rib 126 to be absorbed or reflected, thereby preventing light leakage due to reflection of light incident on the sub-pixel. Accordingly, the color rendering capability and contrast ratio of the electrophoretic display device are improved, and high quality images can be displayed.

도 5는 본 발명의 제2 실시 예에 따른 전기영동 표시장치의 구조를 개략적으로 나타내는 단면도이다. 도 5에 도시된 본 발명의 제2 실시 예에 따른 전기영동 표시장치(200)에서, 광을 차단하기 위한 광 차단부와 격벽을 제외한 다른 구성은 도 4를 참조하여 상술한 본 발명의 제1 실시 예에 따른 전기영동 표시장치(100)와 동일하다. 따라서, 광 차단부와 격벽을 제외한 다른 구성에 대한 상세한 설명은 상술한 사항을 참조하기로 한다.5 is a cross-sectional view schematically showing the structure of an electrophoretic display device according to a second embodiment of the present invention. In the electrophoretic display device 200 according to the second embodiment of the present invention shown in FIG. 5, the configuration other than the light shielding part and the barrier rib for blocking light is the same as that of the first embodiment Is the same as the electrophoretic display device 100 according to the embodiment. Therefore, a detailed description of other configurations excluding the light shielding portion and the barrier rib will be referred to above.

도 5를 참조하면, 본 발명의 제2 실시 예에 따른 전기영동 표시장치(200)는 공통전극(114)을 포함하는 상부기판(110); 복수의 화소전극(124), 격벽(126) 및 광 차단부(228)를 포함하는 하부기판(120); 상기 격벽(126)에 의해 정의된 복수의 서브 화소에 내지화되는 전기영동 분산액(132);을 포함한다.Referring to FIG. 5, an electrophoretic display device 200 according to a second embodiment of the present invention includes an upper substrate 110 including a common electrode 114; A lower substrate 120 including a plurality of pixel electrodes 124, barrier ribs 126, and light blocking portions 228; And an electrophoretic dispersion 132 which is converted to a plurality of sub-pixels defined by the barrier ribs 126.

구체적으로, 상기 하부기판(120)은 복수의 게이트 라인(미도시), 데이터 라인(미도시) 및 상기 복수의 게이트 라인과 데이터 라인의 교차부에 형성되는 박막 트랜지스터(TFT, 미도시)가 형성된 제2 베이스 기판(122, 베이스 필름), 상기 베이스 기판(122) 상에 형성된 화소전극(124), 격벽(126) 및 상기 격벽(126)의 상부에 형성된 광 차단부(228)를 포함한다.Specifically, the lower substrate 120 is formed with a plurality of gate lines (not shown), data lines (not shown), and thin film transistors (not shown) formed at intersections of the plurality of gate lines and data lines A pixel electrode 124 formed on the base substrate 122, a barrier rib 126 and a light shielding portion 228 formed on the barrier rib 126. The second base substrate 122 includes a base substrate 122,

상기 격벽(126)은 하부기판(120) 상에 형성되어 복수의 서브 화소를 정의하기 위한 것으로, 상기 하부기판(120) 상에서 상기 화소전극(124)을 둘러싸도록 상기 광 차단부(128) 상에서 상부기판(110) 방향으로 형성된다.The barrier ribs 126 are formed on the lower substrate 120 to define a plurality of sub-pixels. The barrier ribs 126 are formed on the lower substrate 120 to surround the pixel electrodes 124, Is formed in the direction of the substrate 110.

여기서, 상기 격벽(126)은 서브 화소에 내재화 되는 전기영동 분산액(132)과 물성이 일치되도록 유기물질로 형성될 수 있다. 이러한, 격벽(126)은 포토 리소그래피(Photo lithography) 또는 몰드 프린팅(Mold Printing) 공정을 통해 형성될 수 있으며, 1um ~ 100um의 높이를 가지도록 형성된다.Here, the barrier ribs 126 may be formed of an organic material so as to match physical properties with the electrophoretic dispersion 132 that is internalized in the sub-pixels. The barrier ribs 126 may be formed through a photolithography process or a mold printing process, and may have a height of 1 um to 100 um.

본 발명의 제2 실시 예에 따른 전기영동 표시장치(200)는 상술한 바와 같이, 상기 하부기판(120)에 내재화 되는 전기영동 분산액(132)을 둘러싸는 외벽 즉, 격벽(126)을 전기영동 분산액(132)과 물성이 일치되도록 유기물질로 형성한다.The electrophoretic display device 200 according to the second embodiment of the present invention is configured such that the outer wall surrounding the electrophoretic dispersion 132 that is internalized in the lower substrate 120, Is formed of an organic material so as to match the physical properties of the dispersion (132).

따라서, 하부기판(120) 상에 전기영동 분산액(132)의 내재화 공정이 원활이 이루어짐과 아울러, 상부기판(110)과 하부기판(120)의 합착 시, 서브 화소에 불량이 발생되는 현상을 방지할 수 있다.Therefore, the electrophoretic dispersion 132 is smoothly internalized on the lower substrate 120 and the sub-pixels are prevented from being defective when the upper substrate 110 and the lower substrate 120 are attached to each other. can do.

상기 화소전극(124)은 상기 격벽(126)에 의해 정의되는 복수의 서브 화소(컬러 서브 화소, 모노 서브 화소)에 대응되도록 형성되어, 상기 박막 트랜지스터의 스위칭에 의해 상기 복수의 서브 화소에 전압을 인가한다.The pixel electrode 124 is formed to correspond to a plurality of sub-pixels (color sub-pixel, mono sub-pixel) defined by the barrier rib 126, and the voltage is applied to the plurality of sub- .

상기 화소전극(124)은 콘택홀을 통해 박막 트랜지스터의 드레인 전극과 전기적으로 접속되며, 구리, 알루미늄, 인듐틴옥사이드(ITO)의 물질로 형성될 수 있다. 또한, 구리, 알루미늄, 인듐틴옥사이드(ITO)의 물질에 니켈 및/또는 금 등이 더 적층되어 형성될 수도 있다.The pixel electrode 124 is electrically connected to a drain electrode of the thin film transistor through a contact hole, and may be formed of a material such as copper, aluminum, or indium tin oxide (ITO). Further, nickel, gold, or the like may be further laminated on the material of copper, aluminum, and indium tin oxide (ITO).

상기 광 차단부(128)는 격벽(126)을 투과하거나, 서브 화소에 입사된 광이 반사되어 빛샘 현상이 발생되는 것을 방지하기 위한 것으로, 상기 복수의 서브 화소가 형성되지 않은 비 표시 영역 즉, 격벽(126)의 상부에 형성될 수 있다.The light blocking portion 128 prevents the light transmitted through the barrier rib 126 or the light incident on the sub pixel from being reflected to cause a light leakage phenomenon. The non-display region in which the plurality of sub- May be formed on the barrier ribs 126.

이러한, 광 차단부(128)는 블랙 매트릭스(BM: Black Matrix) 수지 또는 크롬옥사이드(CrOx: Chromium Oxide)와 같이 광을 흡수 또는 반사시키는 특성을 가지는 유기 또는 무기 물질로 형성된다. 또한, 상기 광 차단부(128)는 블랙 매트릭스 수지 또는 크롬옥사이드를 포함하는 유기 또는 무기 물질로도 형성될 수도 있다.The light shielding part 128 is formed of an organic or inorganic material having a property of absorbing or reflecting light such as a black matrix (BM) resin or chromium oxide (CrOx). The light shielding part 128 may be formed of an organic or inorganic material including black matrix resin or chromium oxide.

상술한 광 차단부(228)에 의해 격벽(126)을 투과하여 입사된 광이 흡수 또는 반사되도록 하여 서브 화소에 입사된 광의 반사로 인한 빛샘 현상을 방지할 수 있다. 이를 통해, 전기영동 표시장치의 컬러(color) 구현 능력 및 명암비(Contrast Ratio)를 향상시켜 고 품질의 화상을 표시할 수 있도록 한다.The light blocking portion 228 transmits or intercepts the incident light through the barrier rib 126 to prevent light leakage due to reflection of light incident on the sub pixel. Accordingly, the color rendering capability and contrast ratio of the electrophoretic display device are improved, and high quality images can be displayed.

상기 격벽(126)에 의해 정의된 서브 화소에 복수의 대전 입자(134)를 포함하는 전기영동 분산액(132)이 내재화 된다. 여기서, 상기 전기영동 분산액(132)은 다이 코팅(Die coating) 방식, 캐스팅(Casting) 방식, 바 코팅(Bar Coating) 방식, 슬릿 코팅(Slit Coating) 방식, 디스펜스(Dispense) 방식, 스퀴징(squeezing) 방식, 스크린 프린팅(Screen printing) 방식, 잉크젯 프린팅(Inkjet printing) 방식, 포토 리쏘그래피(Photo lithography) 방식을 통해 하부기판(120) 상의 서브 화소에 내재화 될 수 있다.An electrophoretic dispersion liquid 132 including a plurality of charged particles 134 is internalized in the sub-pixel defined by the partition wall 126. [ Here, the electrophoretic dispersion liquid 132 may be formed by a die coating method, a casting method, a bar coating method, a slit coating method, a dispensing method, a squeezing method, Pixel, a sub-pixel on a lower substrate 120, a screen printing method, an inkjet printing method, and a photolithography method.

상기 전기영동 분산액(132)은 포지티브(+) 또는 네거티브(-) 극성으로 대전된 복수의 대전 입자(134)를 포함한다. 이때, 상기 대전 입자(134)는 적색(red), 청색(blue), 녹색(green), 황색(yellow), 시안(cyan), 마젠타(magenta), 흑색(black), 백색(white) 중 적어도 하나의 색상으로 착색될 수 있다.The electrophoretic dispersion 132 includes a plurality of charged particles 134 charged with a positive (+) or negative (-) polarity. At this time, the charged particles 134 may be at least one of red, blue, green, yellow, cyan, magenta, black, And can be colored in one color.

상기 상부기판(110) 또는 하부기판(120)의 비 표시 영역에는 상기 전기영동 레이어를 사이에 두고 상기 상부기판(110)과 하부기판(120)의 합착을 위한 실런트(142, sealant)가 형성되며, 상기 서브 화소에 충진 된 전기영동 분산액(132)은 격벽(126), 상부기판(110) 및 하부기판(120)에 의해 둘러 싸여지게 된다.A sealant 142 for attaching the upper substrate 110 and the lower substrate 120 to each other is formed in the non-display area of the upper substrate 110 or the lower substrate 120 with the electrophoretic layer interposed therebetween The electrophoretic dispersion liquid 132 filled in the sub-pixels is surrounded by the barrier ribs 126, the upper substrate 110, and the lower substrate 120.

또한, 상기 실런트(142)의 외곽에는 댐(144, dam)이 형성된다. 일 예로서, 상기 댐(144)은 1um ~ 100um의 높이(바람직하게는 1um ~ 50um) 및 10um ~ 5,000um의 폭(바람직하게는 100um ~ 1,000um)을 가지도록 형성될 수 있다. 또한, 상기 댐(144)은 복수의 라인 형태로 형성될 수 있으며, 1개 ~ 5개 라인(바람직하게는 2개 라인)으로 형성될 수 있다. 이러한 댐(144)은 상기 격벽(126)과 함께 형성되거나, 또는 별도의 공정을 통해 독립적으로 형성될 수도 있다.A dam 144 (dam) is formed on the outside of the sealant 142. As an example, the dam 144 may be formed to have a height of 1 um to 100 um (preferably 1 um to 50 um) and a width of 10 um to 5,000 um (preferably 100 um to 1,000 um). In addition, the dam 144 may be formed in a plurality of lines, and may be formed in one to five lines (preferably two lines). The dam 144 may be formed together with the partition wall 126, or may be independently formed through a separate process.

도 6은 본 발명의 제3 실시 예에 따른 전기영동 표시장치의 구조를 개략적으로 나타내는 단면도이다. 도 6에 도시된 본 발명의 제3 실시 예에 따른 전기영동 표시장치(300)에서, 광을 차단하기 위한 광 차단부와 격벽을 제외한 다른 구성은 도 4를 참조하여 상술한 본 발명의 제1 실시 예에 따른 전기영동 표시장치(100)와 동일하다. 따라서, 광 차단부와 격벽을 제외한 다른 구성에 대한 상세한 설명은 상술한 사항을 참조하기로 한다.6 is a cross-sectional view schematically showing the structure of an electrophoretic display device according to a third embodiment of the present invention. In the electrophoretic display device 300 according to the third embodiment of the present invention shown in FIG. 6, the configuration other than the light shielding part and the barrier rib for blocking light is the same as that of the first embodiment Is the same as the electrophoretic display device 100 according to the embodiment. Therefore, a detailed description of other configurations excluding the light shielding portion and the barrier rib will be referred to above.

도 6을 참조하면, 본 발명의 제3 실시 예에 따른 전기영동 표시장치(300)는 공통전극(114) 및 광 차단부(328)를 포함하는 상부기판(110); 복수의 화소전극(124) 및 복수의 서브 화소를 정의하는 격벽(126, Partition wall)을 포함하는 하부기판; 상기 격벽(126)에 의해 정의된 서브 화소에 내재화되는 전기영동 분산액(132);을 포함한다.Referring to FIG. 6, an electrophoretic display device 300 according to a third embodiment of the present invention includes an upper substrate 110 including a common electrode 114 and a light blocking portion 328; A lower substrate including a plurality of pixel electrodes (124) and a partition wall (126) defining a plurality of sub-pixels; And an electrophoretic dispersion (132) that is internalized in the sub-pixel defined by the partition (126).

구체적으로, 상기 상부기판(110)은 투명 재질의 유리 또는 플라스틱으로 이루어진 제1 베이스 기판(112, 또는 베이스 필름), 상기 제1 베이스 기판(112) 상에 형성된 광 차단부(328); 상기 제1 베이스 기판(112) 상에 형성된 공통전극(114)을 포함한다.Specifically, the upper substrate 110 includes a first base substrate 112 (or a base film) made of transparent glass or plastic, a light shielding portion 328 formed on the first base substrate 112, And a common electrode 114 formed on the first base substrate 112.

여기서, 상부기판(110)의 제1 베이스 기판(112) 및 공통전극(114)은 화상을 표시하기 위해 투명하여야 한다. 따라서, 상기 제1 베이스 기판(112)은 플렉서블(flexible)한 투명 재질로 형성되며, 공통전극(114)은 인듐틴옥사이드(ITO: Indium Tin Oxide) 또는 인듐징크옥사이드(IZO: Indium Zinc Oxide)와 같은 전도성 투명 물질로 형성된다.Here, the first base substrate 112 and the common electrode 114 of the upper substrate 110 must be transparent to display an image. Accordingly, the first base substrate 112 is formed of a transparent transparent material, and the common electrode 114 is formed of indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO) Is formed of the same conductive transparent material.

상기 광 차단부(328)는 외부로부터 입사되는 광이 격벽(126)을 투과하거나, 서브 화소에 입사된 광이 반사되어 빛샘 현상이 발생되는 것을 방지하기 위한 것이다. 일 예로서, 상기 광 차단부(128)는 복수의 서브 화소가 형성되지 않은 비 표시 영역 즉, 상기 제1 베이스 기판(112) 상에서 후술되는 격벽(126)과 대응되는 영역에 형성된다.The light intercepting portion 328 prevents light incident from the outside from passing through the barrier ribs 126 or reflecting light incident on the sub pixel to thereby cause a light leakage phenomenon. For example, the light blocking portion 128 is formed in a non-display region where a plurality of sub-pixels are not formed, that is, a region corresponding to the barrier rib 126 described later on the first base substrate 112.

이러한, 광 차단부(328)는 블랙 매트릭스(BM: Black Matrix) 수지 또는 크롬옥사이드(CrOx: Chromium Oxide)와 같이 광을 흡수 또는 반사시키는 특성을 가지는 유기 또는 무기 물질로 형성된다. 또한, 상기 광 차단부(328)는 블랙 매트릭스 수지 또는 크롬옥사이드를 포함하는 유기 또는 무기 물질로도 형성될 수도 있다.The light blocking portion 328 is formed of an organic or inorganic material having a property of absorbing or reflecting light such as a black matrix (BM) resin or chromium oxide (CrOx). Also, the light blocking portion 328 may be formed of an organic or inorganic material including black matrix resin or chromium oxide.

상기 하부기판(120)은 복수의 게이트 라인(미도시), 데이터 라인(미도시) 및 상기 복수의 게이트 라인과 데이터 라인의 교차부에 형성되는 박막 트랜지스터(TFT, 미도시)가 형성된 제2 베이스 기판(122, 베이스 필름), 상기 베이스 기판(122) 상에 형성된 화소전극(124) 및 격벽(126)을 포함한다.The lower substrate 120 includes a plurality of gate lines (not shown), a plurality of data lines (not shown), and a plurality of thin film transistors (TFTs) A substrate 122, a base film 122, a pixel electrode 124 formed on the base substrate 122, and barrier ribs 126.

상기 제2 베이스 기판(122)은 투명 재질의 유리기판, 가요성(Flexibility)을 가지는 플라스틱 기판 또는 금속 기판이 적용될 수 있다. 하부기판(120)은 화상이 표시되는 화면의 반대 측에 위치함으로 반드시 투명할 필요는 없다.The second base substrate 122 may be a transparent glass substrate, a plastic substrate having flexibility, or a metal substrate. Since the lower substrate 120 is located on the opposite side of the screen on which the image is displayed, it is not necessarily transparent.

상기 화소전극(124)은 상기 격벽(126)에 의해 정의되는 복수의 서브 화소(컬러 서브 화소, 모노 서브 화소)에 대응되도록 형성되어, 상기 박막 트랜지스터의 스위칭에 의해 상기 복수의 서브 화소에 전압을 인가한다.The pixel electrode 124 is formed to correspond to a plurality of sub-pixels (color sub-pixel, mono sub-pixel) defined by the barrier rib 126, and the voltage is applied to the plurality of sub- .

상기 화소전극(124)은 콘택홀을 통해 박막 트랜지스터의 드레인 전극과 전기적으로 접속되며, 구리, 알루미늄, 인듐틴옥사이드(ITO)의 물질로 형성될 수 있다. 또한, 구리, 알루미늄, 인듐틴옥사이드(ITO)의 물질에 니켈 및/또는 금 등이 더 적층되어 형성될 수도 있다.The pixel electrode 124 is electrically connected to a drain electrode of the thin film transistor through a contact hole, and may be formed of a material such as copper, aluminum, or indium tin oxide (ITO). Further, nickel, gold, or the like may be further laminated on the material of copper, aluminum, and indium tin oxide (ITO).

상기 격벽(126)은 하부기판(120) 상에 형성되어 복수의 서브 화소를 정의하기 위한 것으로, 상기 하부기판(120) 상에서 상기 화소전극(124)을 둘러싸도록 상기 광 차단부(128) 상에서 상기 광 차단부(328)와 대응되는 영역에 상부기판(110) 방향으로 형성된다.The barrier rib 126 is formed on the lower substrate 120 to define a plurality of sub pixels and is formed on the lower substrate 120 so as to surround the pixel electrode 124, And is formed in the direction of the upper substrate 110 in a region corresponding to the light blocking portion 328.

여기서, 상기 격벽(126)은 서브 화소에 내재화 되는 전기영동 분산액(132)과 물성이 일치되도록 유기물질로 형성될 수 있다. 이러한, 격벽(126)은 포토 리소그래피(Photo lithography) 또는 몰드 프린팅(Mold Printing) 공정을 통해 형성될 수 있으며, 1um ~ 100um의 높이를 가지도록 형성된다.Here, the barrier ribs 126 may be formed of an organic material so as to match physical properties with the electrophoretic dispersion 132 that is internalized in the sub-pixels. The barrier ribs 126 may be formed through a photolithography process or a mold printing process, and may have a height of 1 um to 100 um.

여기서, 상기 격벽(126)에 의해 정의되는 상기 복수의 서브 화소는 컬러 서브 화소 및/또는 모노 서브 화소로 형성될 수 있으며, 서브 화소에 충진 된 전기영동 분산액(132)은 격벽(126), 상부기판(110) 및 하부기판(120)에 의해 둘러 싸여지게 된다.Here, the plurality of sub-pixels defined by the barrier ribs 126 may be formed of color sub-pixels and / or mono sub-pixels, and the electrophoretic dispersion liquid 132 filled in the sub-pixels may include barrier ribs 126, And is surrounded by the substrate 110 and the lower substrate 120.

상기 격벽(126)에 의해 정의된 서브 화소에 복수의 대전 입자(134)를 포함하는 전기영동 분산액(132)이 내재화 된다. 여기서, 상기 전기영동 분산액(132)은 다이 코팅(Die coating) 방식, 캐스팅(Casting) 방식, 바 코팅(Bar Coating) 방식, 슬릿 코팅(Slit Coating) 방식, 디스펜스(Dispense) 방식, 스퀴징(squeezing) 방식, 스크린 프린팅(Screen printing) 방식, 잉크젯 프린팅(Inkjet printing) 방식, 포토 리쏘그래피(Photo lithography) 방식을 통해 하부기판(120) 상의 서브 화소에 내재화 될 수 있다.An electrophoretic dispersion liquid 132 including a plurality of charged particles 134 is internalized in the sub-pixel defined by the partition wall 126. [ Here, the electrophoretic dispersion liquid 132 may be formed by a die coating method, a casting method, a bar coating method, a slit coating method, a dispensing method, a squeezing method, Pixel, a sub-pixel on a lower substrate 120, a screen printing method, an inkjet printing method, and a photolithography method.

상기 전기영동 분산액(132)은 포지티브(+) 또는 네거티브(-) 극성으로 대전된 복수의 대전 입자(134)를 포함한다. 이때, 상기 대전 입자(134)는 적색(red), 청색(blue), 녹색(green), 황색(yellow), 시안(cyan), 마젠타(magenta), 흑색(black), 백색(white) 중 적어도 하나의 색상으로 착색될 수 있다.The electrophoretic dispersion 132 includes a plurality of charged particles 134 charged with a positive (+) or negative (-) polarity. At this time, the charged particles 134 may be at least one of red, blue, green, yellow, cyan, magenta, black, And can be colored in one color.

상술한 바와 같이, 전기영동 분산액(132)을 둘러싸는 외벽과 전기영동 분산액(132)의 물성이 일치되지 않으면, 전기영동 분산액(132)이 정확히 충진되지 않게되어 미 충진 현상이 발생되고, 기포가 생겨 불량이 발생될 수 있다.As described above, if the physical properties of the electrophoretic dispersion liquid 132 and the outer wall surrounding the electrophoretic dispersion liquid 132 do not match, the electrophoretic dispersion liquid 132 is not correctly filled, resulting in an unfilled phenomenon, And a failure may occur.

본 발명의 제3 실시 예에 따른 전기영동 표시장치(300)는 상술한 바와 같이, 상기 하부기판(120)에 내재화 되는 전기영동 분산액(132)을 둘러싸는 외벽 즉, 격벽(126)을 전기영동 분산액(132)과 물성이 일치되도록 유기물질로 형성한다.The electrophoretic display device 300 according to the third embodiment of the present invention is configured such that the outer wall surrounding the electrophoretic dispersion 132 that is internalized in the lower substrate 120, Is formed of an organic material so as to match the physical properties of the dispersion (132).

따라서, 하부기판(120) 상에 전기영동 분산액(132)의 내재화 공정이 원활이 이루어짐과 아울러, 상부기판(110)과 하부기판(120)의 합착 시, 서브 화소에 불량이 발생되는 현상을 방지할 수 있다.Therefore, the electrophoretic dispersion 132 is smoothly internalized on the lower substrate 120 and the sub-pixels are prevented from being defective when the upper substrate 110 and the lower substrate 120 are attached to each other. can do.

또한, 전기영동 분산액(132)이 하부기판(120) 상에 내재화 되어 전기영동 표시장치의 구동이 능력이 개선되고, 다양한 컬러로 착색된 대전 입자(134)를 통해 다양한 컬러 화상을 구현함과 아울러, 전기영동 표시장치의 표시품질을 향상시킬 수 있다.In addition, the electrophoretic dispersion 132 is internalized on the lower substrate 120 to improve the capability of driving the electrophoretic display device, and various color images are realized through the charged particles 134 colored in various colors, , The display quality of the electrophoretic display device can be improved.

또한, 상술한 광 차단부(328)에 의해 외부로부터의 입사된 광이 상기 격벽(126)을 투과하는 것을 방지하여, 전기영동 표시장치의 컬러(color) 구현 능력 및 명암비(Contrast Ratio)를 향상시켜 고 품질의 화상을 표시할 수 있도록 한다.In addition, the light blocking portion 328 prevents the light incident from the outside from being transmitted through the partition wall 126, thereby improving the color implementation capability and contrast ratio of the electrophoretic display device So that a high-quality image can be displayed.

상기 도 4 내지 도 6을 참조하여 설명한 본 발명의 제1 내지 제3 실시 예에 따른 전기영동 표시장치에서는 광 차단부(128, 228, 328)가 하부기판(120)에서 격벽(126)의 상/하단부 또는 상부기판(110)에 단일 레이어로 형성되는 것으로 설명하였다. 그러나, 이는 일 예를 나타낸 것이고, 본 발명의 다른 실시 예들에서는 상기 광 차단부가 복수의 레이어로 형성될 수 있다.In the electrophoretic display device according to the first to third embodiments of the present invention described with reference to FIGS. 4 to 6, light blocking portions 128, 228, and 328 are formed on the upper substrate 120, / Lower end or the upper substrate 110 as a single layer. However, this is an example, and in other embodiments of the present invention, the light intercepting portion may be formed of a plurality of layers.

다른 예로서, 본 발명의 광 차단부는 하부기판(120)에 형성된 격벽(126)의 상단부 및 하단부 각각에 모두 형성될 수 있다. 즉, 제1 광 차단부는 상기 격벽(126)의 상부에 형성되고, 제2 광 차단부는 상기 격벽(126)의 하단부에 형성될 수 있다.As another example, the light shielding portion of the present invention may be formed on the upper and lower ends of the barrier ribs 126 formed on the lower substrate 120, respectively. That is, the first light blocking portion may be formed on the upper portion of the barrier rib 126, and the second light blocking portion may be formed on the lower end portion of the barrier rib 126.

또 다른 예로서, 본 발명의 광 차단부는 상부기판(110)에 형성됨과 아울러, 하부기판(120)에 형성된 격벽(126)의 상단부 또는 하단부에 형성될 수 있다. 즉, 제1 광 차단부는 상기 상부기판(110)에 형성되고, 제2 광 차단부는 상기 격벽(126)의 상단부 또는 하단부에 형성될 수 있다.As another example, the light blocking portion of the present invention may be formed on the upper substrate 110 and the upper or lower portion of the barrier rib 126 formed on the lower substrate 120. That is, the first light blocking portion may be formed on the upper substrate 110, and the second light blocking portion may be formed on the upper or lower end of the partition 126.

또 다른 예로서, 본 발명의 광 차단부는 상부기판(110)에 형성됨과 아울러, 하부기판(120)에 형성된 격벽(126)의 상단부 및 하단부 각각에 모두 형성될 수 있다. 즉, 제1 광 차단부는 상기 상부기판(110)에 형성되고, 제2 광 차단부는 상기 격벽(126)의 상단부에 형성되며, 제3 광 차단부는 상기 격벽(126)의 하단부에 형성될 수 있다.As another example, the light shielding part of the present invention may be formed on the upper substrate 110 and on the upper and lower ends of the barrier ribs 126 formed on the lower substrate 120, respectively. That is, the first light blocking portion may be formed on the upper substrate 110, the second light blocking portion may be formed on the upper end of the partition wall 126, and the third light blocking portion may be formed on the lower end portion of the partition wall 126 .

상기와 같이 광 차단부가 복수의 레이어에 형성되는 경우, 상부 레이어에 형성되는 제1 광 차단부는 광을 반사시키는 물질로 형성되고, 하부 레이어에 형성되는 광 차단부는 광을 흡수하는 물질로 형성될 수 있다.When the light blocking portion is formed on a plurality of layers as described above, the first light blocking portion formed on the upper layer is formed of a material that reflects light, and the light blocking portion formed on the lower layer is formed of a material that absorbs light. have.

이하에서는 도 7 내지 도 9를 참조하여 본 발명의 제1 내지 제3 실시 예들에 따른 전기영동 표시장치의 제조방법들에 대하여 설명한다.Hereinafter, methods of manufacturing the electrophoretic display device according to the first to third embodiments of the present invention will be described with reference to FIGS. 7 to 9. FIG.

도 7은 본 발명의 제1 실시 예에 따른 전기영동 표시장치의 제조방법을 나타내는 도면이다.7 is a view showing a method of manufacturing the electrophoretic display device according to the first embodiment of the present invention.

도 7(a)에 도시된 바와 같이, 투명 재질의 유리 또는 플렉서블(flexible)한 투명 플라스틱 재질의 제1 베이스 기판(112, 베이스 필름) 상에 ITO(Indium Tin Oxide) 또는 IZO(Indium Zinc Oxide)와 같은 전도성 투명 물질로 공통전극(114)을 형성하여 상부기판(110)을 제조한다.(Indium Tin Oxide) or IZO (Indium Zinc Oxide) is formed on a first base substrate 112 (base film) made of transparent glass or a flexible transparent plastic material as shown in FIG. 7 (a) The common electrode 114 is formed by using a conductive transparent material such as a silicon nitride film or the like.

이후, 도 7(b)에 도시된 바와 같이, 복수의 서브 화소들 각각에 대응되도록 박막 트랜지스터(TFT)가 형성된 제2 베이스 기판(122, 베이스 필름) 상에 구리, 알루미늄, ITO의 물질을 도포한 후, 포토 리쏘그래피 공정을 통해 패터닝하여 상기 서브 화소들 각각에 대응되도록 복수의 화소전극(124)을 형성한다.Thereafter, as shown in FIG. 7 (b), a material of copper, aluminum, or ITO is coated on a second base substrate 122 (base film) having thin film transistors (TFTs) And then patterned through a photolithography process to form a plurality of pixel electrodes 124 corresponding to the respective sub-pixels.

여기서, 화소전극(124)은 상술한 구리, 알루미늄, 인듐틴옥사이드(ITO)의 물질에 니켈 및/또는 금 등이 더 적층되어 형성될 수도 있다. 상기 복수의 서브 화소는 이어지는 제조 공정을 통해 형성되는 격벽(126)에 의해 정의된다.Here, the pixel electrode 124 may be formed by further laminating nickel, gold, or the like on the above-described materials of copper, aluminum, and indium tin oxide (ITO). The plurality of sub-pixels are defined by barrier ribs 126 formed through a subsequent fabrication process.

도면에 도시되지 않았지만 상기 제2 베이스 기판(122)에는 게이트 라인 및 데이터 라인이 형성되어 있으며, 상기 게이트 라인 및 데이터 라인이 교차되는 영역에 상기 박막 트랜지스터가 형성된다. 상기 데이터 라인은 박막 트랜지스터의 소스전극과 접속되고, 게이트 라인은 박막 트랜지스터의 게이트 전극과 접속되며, 화소전극(124)은 콘택홀을 통해 박막 트랜지스터의 드레인 전극과 전기적으로 접속된다.Although not shown, a gate line and a data line are formed on the second base substrate 122, and the thin film transistor is formed in a region where the gate line and the data line intersect. The data line is connected to the source electrode of the thin film transistor, the gate line is connected to the gate electrode of the thin film transistor, and the pixel electrode 124 is electrically connected to the drain electrode of the thin film transistor through the contact hole.

이후, 도 7(c)에 도시된 바와 같이, 상기 제2 베이스 기판(122) 상에 블랙 매트릭스(BM: Black Matrix) 수지 또는 크롬옥사이드(CrOx: Chromium Oxide)와 같이 광을 흡수 또는 반사시키는 특성을 가지는 유기 또는 무기 물질을 도포한 후, 패터닝하여 광 차단부(128)를 형성한다. 한편, 상기 광 차단부(128)는 블랙 매트릭스 수지 또는 크롬옥사이드를 포함하는 유기 또는 무기 물질로도 형성될 수도 있다.Then, as shown in FIG. 7 (c), the second base substrate 122 has a property of absorbing or reflecting light such as black matrix (BM) resin or chromium oxide (CrOx: chromium oxide) And then patterning the organic or inorganic material to form a light intercepting portion 128. The light shielding part 128 may be formed of an organic or inorganic material including black matrix resin or chromium oxide.

여기서, 상기 광 차단부(128)는 상기 복수의 서브 화소가 형성되지 않은 비 표시 영역 즉, 상기 복수의 화소전극(124)이 형성되지 않은 영역에 형성된다.Here, the light blocking portion 128 is formed in a non-display region where the plurality of sub-pixels are not formed, that is, an area where the plurality of the pixel electrodes 124 is not formed.

이러한, 상기 광 차단부(128)를 통해 외부로부터 입사되는 광이 이어지는 제조 공정을 통해 형성되는 격벽(126)을 투과하거나, 서브 화소에 입사된 광이 반사되어 빛샘 현상이 발생되는 것을 방지한다.The light incident from the outside via the light intercepting portion 128 is transmitted through the barrier rib 126 formed through the subsequent manufacturing process, or the light incident on the sub pixel is reflected to prevent the light leakage phenomenon from occurring.

이후, 도 7(d)에 도시된 바와 같이, 상기 제2 베이스 기판(122)에 형성된 광 차단부(128) 상에 유기물질을 도포한 후, 패터닝하여 격벽(126)을 형성한다. 상기 격벽(126)을 통해 전기영동 분산액(132)이 충진되는 서브 화소가 정의된다.7 (d), an organic material is coated on the light blocking portion 128 formed on the second base substrate 122, and then patterned to form a barrier rib 126. And sub-pixels in which the electrophoretic dispersion liquid 132 is filled through the barrier ribs 126 are defined.

이때, 상기 격벽(126)은 포토 리소그래피(Photo lithography) 또는 몰드 프린팅(Mold Printing) 공정을 통해 형성될 수 있으며, 1um ~ 100um의 높이를 가지도록 형성된다.At this time, the barrier ribs 126 may be formed through photolithography or mold printing, and have a height of 1 to 100 μm.

여기서, 상기 격벽(126)은 이어지는 제조 공정을 통해 서브 화소에 충진되는 전기영동 분산액(132)과 접하게 되므로, 전기영동 분산액(132)과 물성이 일치되도록 하기 위해 유기물질로 형성된다.Here, the barrier rib 126 is formed of an organic material in order to match the physical properties of the electrophoretic dispersion liquid 132 with the electrophoretic dispersion liquid 132 filled in the sub pixels through the subsequent manufacturing process.

상기 격벽(126)을 형성한 후, 포지티브(+) 또는 네거티브(-) 극성으로 대전된 복수의 대전 입자(134)를 포함하는 전기영동 분산액(132)을 상기 격벽(126)에 의해 정의된 서브 화소에 충진시켜 하부기판(120)에 전기영동 분산액(132)을 내재화 시킨다.An electrophoretic dispersion liquid 132 including a plurality of charged particles 134 charged with a positive or negative polarity is formed on the sub-wall 126 defined by the partition wall 126 after the partition wall 126 is formed. And the electrophoretic dispersion liquid 132 is internalized in the lower substrate 120 by filling the pixels.

여기서, 상기 전기영동 분산액(132)은 다이 코팅(Die coating) 방식, 캐스팅(Casting) 방식, 바 코팅(Bar Coating) 방식, 슬릿 코팅(Slit Coating) 방식, 디스펜스(Dispense) 방식, 스퀴징(squeezing) 방식, 스크린 프린팅(Screen printing) 방식, 잉크젯 프린팅(Inkjet printing) 방식, 포토 리쏘그래피(Photo lithography) 방식을 통해 하부기판(120) 상의 서브 화소에 내재화 될 수 있다.Here, the electrophoretic dispersion liquid 132 may be formed by a die coating method, a casting method, a bar coating method, a slit coating method, a dispensing method, a squeezing method, Pixel, a sub-pixel on a lower substrate 120, a screen printing method, an inkjet printing method, and a photolithography method.

이후, 도 7(e)에 도시된 바와 같이, 상기 서브 화소가 형성되어 있지 않은 하부기판(120)의 외곽부에 실런트(142, sealant)를 도포시킨다. 여기서, 상기 실런트(142)는 자외선(UV: ultraviolet) 및 열을 이용해 경화할 수 있는 물질로 형성될 수 있다.Thereafter, as shown in FIG. 7 (e), a sealant 142 is applied to an outer frame portion of the lower substrate 120 on which the sub-pixel is not formed. Here, the sealant 142 may be formed of a material that can be cured using ultraviolet (UV) and heat.

상기 설명에서는 실런트(142)가 상기 하부기판(120)에 형성되는 것으로 설명하였으나 이는 일 예를 나타낸 것이고, 본 발명의 다른 실시 예에서는 상기 실런트(142)가 상기 상부기판(110)에 형성될 수도 있다.In the above description, the sealant 142 is formed on the lower substrate 120, but this is an example. In another embodiment of the present invention, the sealant 142 may be formed on the upper substrate 110 have.

상기 실런트(142) 형성 시 실재가 상기 하부기판(120)의 외곽부로 넘칠 수 있는데, 이러한 실재의 넘침을 방지하기 위해 하부기판(120)에 형성된 실런트(142) 외곽에 댐(144)을 형성한다. 여기서, 댐(144)의 크기는 실재의 양에 따라 다양한 형태로 형성될 수 있다.A dam 144 may be formed outside the sealant 142 formed on the lower substrate 120 to prevent overflow of the sealant 142 when the sealant 142 is formed on the outer surface of the lower substrate 120 . Here, the size of the dam 144 may be formed in various forms according to the amount of the actual material.

일 예로서, 상기 댐(144)은 1um ~ 100um의 높이(바람직하게는 1um ~ 50um) 및 10um ~ 5,000um의 폭(바람직하게는 100um ~ 1,000um)을 가지도록 형성될 수 있다. 또한, 상기 댐(144)은 복수의 라인 형태로 형성될 수 있으며, 1개 ~ 5개 라인(바람직하게는 2개 라인)으로 형성될 수 있다. 이러한 댐(144)은 상기 격벽(126)이 형성되는 공정을 통해 형성되거나, 또는 별도의 공정을 통해 독립적으로 형성될 수도 있다.As an example, the dam 144 may be formed to have a height of 1 um to 100 um (preferably 1 um to 50 um) and a width of 10 um to 5,000 um (preferably 100 um to 1,000 um). In addition, the dam 144 may be formed in a plurality of lines, and may be formed in one to five lines (preferably two lines). The dam 144 may be formed through the process of forming the barrier ribs 126, or may be independently formed through a separate process.

이후, 상술한 공정을 통해 형성된 상부기판(110)과 전기영동 분산액(132)이 내지화된 하부기판(120)을 상기 실런트(142)를 이용하여 합착시킨다.Thereafter, the upper substrate 110 formed through the above-described process and the lower substrate 120 having the electrophoretic dispersion 132 formed thereon are bonded together using the sealant 142.

도 8은 본 발명의 제2 실시 예에 따른 전기영동 표시장치의 제조방법을 나타내는 도면이다.8 is a view showing a method of manufacturing an electrophoretic display device according to a second embodiment of the present invention.

도 8에 도시된 본 발명의 제2 실시 예에 따른 전기영동 표시장치의 제조방법에서, 광을 차단하기 위한 광 차단부와 격벽을 제외한 다른 구성을 형성하는 제조방법은 도 7을 참조하여 상술한 본 발명의 제1 실시 예에 따른 전기영동 표시장치의 제조방법과 동일하다. 따라서, 광 차단부와 격벽을 제외한 다른 구성을 형성하는 제조방법에 대한 상세한 설명은 상술한 사항을 참조하기로 한다.In the method of manufacturing an electrophoretic display device according to the second embodiment of the present invention shown in FIG. 8, a light blocking portion for blocking light and a manufacturing method for forming a structure other than the partition wall, Is the same as the manufacturing method of the electrophoretic display device according to the first embodiment of the present invention. Therefore, a detailed description of a manufacturing method for forming a structure other than the light shielding portion and the barrier rib will be referred to above.

도 8(a)에 도시된 바와 같이, 제1 베이스 기판(112, 베이스 필름) 상에 공통전극(114)을 형성하여 상부기판(110)을 제조한다.As shown in FIG. 8A, a common electrode 114 is formed on a first base substrate 112 (base film) to manufacture an upper substrate 110.

이후, 도 8(b)에 도시된 바와 같이, 제2 베이스 기판(122, 베이스 필름) 상에 복수의 화소전극(124)을 형성한다.Thereafter, as shown in Fig. 8 (b), a plurality of pixel electrodes 124 are formed on the second base substrate 122 (base film).

아울러, 상기 화소전극(124)이 형성된 제2 베이스 기판(122) 상에 폴리마이드(Polyimide), 폴리비닐페놀(Polyvinylphenol), 폴리비닐알콜(Polyvinylalcohol) 등의 절연성 고분자를 포함하는 유기물질을 도포한 후, 패터닝하여 격벽(126)을 형성한다. 상기 격벽(126)을 통해 전기영동 분산액(132)이 충진되는 서브 화소가 정의된다.In addition, an organic material including an insulating polymer such as polyimide, polyvinylphenol, and polyvinyl alcohol is coated on the second base substrate 122 on which the pixel electrode 124 is formed Then, the barrier ribs 126 are formed by patterning. And sub-pixels in which the electrophoretic dispersion liquid 132 is filled through the barrier ribs 126 are defined.

이때, 상기 격벽(126)은 포토 리소그래피(Photo lithography) 또는 몰드 프린팅(Mold Printing) 공정을 통해 형성될 수 있으며, 1um ~ 100um의 높이를 가지도록 형성된다.At this time, the barrier ribs 126 may be formed through photolithography or mold printing, and have a height of 1 to 100 μm.

상기 격벽(126)을 형성한 후, 포지티브(+) 또는 네거티브(-) 극성으로 대전된 복수의 대전 입자(134)를 포함하는 전기영동 분산액(132)을 상기 격벽(126)에 의해 정의된 서브 화소에 충진시켜 하부기판(120)에 전기영동 분산액(132)을 내재화 시킨다.An electrophoretic dispersion liquid 132 including a plurality of charged particles 134 charged with a positive or negative polarity is formed on the sub-wall 126 defined by the partition wall 126 after the partition wall 126 is formed. And the electrophoretic dispersion liquid 132 is internalized in the lower substrate 120 by filling the pixels.

여기서, 상기 전기영동 분산액(132)은 다이 코팅(Die coating) 방식, 캐스팅(Casting) 방식, 바 코팅(Bar Coating) 방식, 슬릿 코팅(Slit Coating) 방식, 디스펜스(Dispense) 방식, 스퀴징(squeezing) 방식, 스크린 프린팅(Screen printing) 방식, 잉크젯 프린팅(Inkjet printing) 방식, 포토 리쏘그래피(Photo lithography) 방식을 통해 하부기판(120) 상의 서브 화소에 내재화 될 수 있다.Here, the electrophoretic dispersion liquid 132 may be formed by a die coating method, a casting method, a bar coating method, a slit coating method, a dispensing method, a squeezing method, Pixel, a sub-pixel on a lower substrate 120, a screen printing method, an inkjet printing method, and a photolithography method.

이후, 도 8(c)에 도시된 바와 같이, 상기 제2 베이스 기판(122) 상에 블랙 매트릭스(BM: Black Matrix) 수지 또는 크롬옥사이드(CrOx: Chromium Oxide)와 같이 광을 흡수 또는 반사시키는 특성을 가지는 유기 또는 무기 물질을 도포한 후, 패터닝하여 상기 격벽(126) 상부에 광 차단부(228)를 형성한다. 한편, 상기 광 차단부(228)는 블랙 매트릭스 수지 또는 크롬옥사이드를 포함하는 유기 또는 무기 물질로도 형성될 수도 있다.Thereafter, as shown in FIG. 8 (c), the second base substrate 122 is provided with a black matrix (BM) resin or chromium oxide (CrOx: chromium oxide) And then patterning the organic or inorganic material to form a light shielding portion 228 on the barrier rib 126. The light blocking portion 228 may be formed of an organic or inorganic material including black matrix resin or chromium oxide.

여기서, 상기 광 차단부(228)는 상기 복수의 서브 화소가 형성되지 않은 비 표시 영역 즉, 상기 복수의 화소전극(124)이 형성되지 않은 상기 격벽(126)의 상부에 형성된다.The light shielding portion 228 is formed on the non-display region where the plurality of sub-pixels are not formed, that is, on the barrier rib 126 where the plurality of the pixel electrodes 124 are not formed.

이러한, 상기 광 차단부(228)를 통해 외부로부터 입사되는 광이 이어지는 제조 공정을 통해 형성되는 격벽(126)을 투과하거나, 서브 화소에 입사된 광이 반사되어 빛샘 현상이 발생되는 것을 방지한다.The light incident from the outside through the light intercepting portion 228 is transmitted through the partition wall 126 formed through the subsequent manufacturing process, or the light incident on the sub pixel is reflected to prevent the light leakage phenomenon from occurring.

이후, 도 8(d)에 도시된 바와 같이, 상기 서브 화소가 형성되어 있지 않은 하부기판(120)의 외곽부에 실런트(142, sealant)를 도포시킨다. 아울러, 상기 하부기판(120)에 형성된 실런트(142) 외곽에 댐(144)을 형성한다.8 (d), a sealant 142 is applied to the outer frame portion of the lower substrate 120 on which the sub-pixel is not formed. In addition, a dam 144 is formed outside the sealant 142 formed on the lower substrate 120.

이후, 상술한 공정을 통해 형성된 상부기판(110)과 전기영동 분산액(132)이 내지화된 하부기판(120)을 상기 실런트(142)를 이용하여 합착시킨다.Thereafter, the upper substrate 110 formed through the above-described process and the lower substrate 120 having the electrophoretic dispersion 132 formed thereon are bonded together using the sealant 142.

도 9는 본 발명의 제3 실시 예에 따른 전기영동 표시장치의 제조방법을 나타내는 도면이다.9 is a view showing a manufacturing method of an electrophoretic display device according to a third embodiment of the present invention.

도 9에 도시된 본 발명의 제3 실시 예에 따른 전기영동 표시장치의 제조방법에서, 광을 차단하기 위한 광 차단부와 격벽을 제외한 다른 구성을 형성하는 제조방법은 도 7을 참조하여 상술한 본 발명의 제1 실시 예에 따른 전기영동 표시장치의 제조방법과 동일하다. 따라서, 광 차단부와 격벽을 제외한 다른 구성을 형성하는 제조방법에 대한 상세한 설명은 상술한 사항을 참조하기로 한다.In the method of manufacturing an electrophoretic display device according to the third embodiment of the present invention shown in FIG. 9, a manufacturing method for forming a light blocking portion for blocking light and a structure other than the partition wall is the same as that Is the same as the manufacturing method of the electrophoretic display device according to the first embodiment of the present invention. Therefore, a detailed description of a manufacturing method for forming a structure other than the light shielding portion and the barrier rib will be referred to above.

도 9(a)에 도시된 바와 같이, 투명 재질의 유리 또는 플렉서블(flexible)한 투명 플라스틱 재질의 제1 베이스 기판(112, 베이스 필름) 상에 블랙 매트릭스(BM: Black Matrix) 수지 또는 크롬옥사이드(CrOx: Chromium Oxide)와 같이 광을 흡수 또는 반사시키는 특성을 가지는 유기 또는 무기 물질을 도포한 후, 패터닝하여 이어지는 제조공정에서 형성되는 격벽(126)과 대응되는 영역에 광 차단부(328)를 형성한다.As shown in FIG. 9A, a black matrix (BM) resin or a chromium oxide (chromium oxide) is formed on a first base substrate 112 (base film) made of transparent glass or a flexible transparent plastic (E.g., CrOx: Chromium Oxide), and then patterning the organic or inorganic material to form a light blocking portion 328 in a region corresponding to the partition wall 126 formed in the subsequent manufacturing process do.

여기서, 상기 광 차단부(328)는 상기 복수의 서브 화소가 형성되지 않은 비 표시 영역 즉, 하부기판(120)에 형성되는 격벽(126)과 대응되는 영역에 형성된다. 한편, 상기 광 차단부(328)는 블랙 매트릭스 수지 또는 크롬옥사이드를 포함하는 유기 또는 무기 물질로도 형성될 수도 있다. Here, the light blocking portion 328 is formed in a region corresponding to a non-display region where the plurality of sub-pixels are not formed, that is, a partition wall 126 formed on the lower substrate 120. The light blocking portion 328 may be formed of an organic or inorganic material including black matrix resin or chromium oxide.

이러한, 상기 광 차단부(328)를 통해 외부로부터 입사되는 광이 이어지는 제조 공정을 통해 형성되는 격벽(126)을 투과하거나, 서브 화소에 입사된 광이 반사되어 빛샘 현상이 발생되는 것을 방지한다.The light incident from the outside through the light intercepting portion 328 passes through the partition wall 126 formed through the subsequent manufacturing process, or the light incident on the sub pixel is reflected to prevent the light leakage phenomenon from occurring.

이후, 도 9(b)에 도시된 바와 같이, 상기 광 차단부(328)이 형성된 제1 베이스 기판(112) 상에 ITO(Indium Tin Oxide) 또는 IZO(Indium Zinc Oxide)와 같은 전도성 투명 물질로 공통전극(114)을 형성하여 상부기판(110)을 제조한다.9B, a conductive transparent material such as ITO (Indium Tin Oxide) or IZO (Indium Zinc Oxide) is formed on the first base substrate 112 on which the light blocking portion 328 is formed The common electrode 114 is formed to manufacture the upper substrate 110.

이후, 도 9(c)에 도시된 바와 같이, 제2 베이스 기판(122, 베이스 필름) 상에 구리, 알루미늄, ITO의 물질을 도포한 후, 포토 리쏘그래피 공정을 통해 패터닝하여 상기 서브 화소들 각각에 대응되도록 복수의 화소전극(124)을 형성한다.Thereafter, as shown in FIG. 9C, a material of copper, aluminum, or ITO is coated on the second base substrate 122 (base film), and patterned through a photolithography process, A plurality of pixel electrodes 124 are formed.

이후, 상기 제2 베이스 기판(122) 상에 폴리마이드(Polyimide), 폴리비닐페놀(Polyvinylphenol), 폴리비닐알콜(Polyvinylalcohol) 등의 절연성 고분자를 포함하는 유기물질을 도포한 후, 패터닝하여 상기 화소전극(124)이 형성되어 있지 않은 비 표시 영역에 격벽(126)을 형성한다. 상기 격벽(126)을 통해 전기영동 분산액(132)이 충진되는 서브 화소가 정의된다.Thereafter, an organic material including an insulating polymer such as polyimide, polyvinylphenol, and polyvinyl alcohol is coated on the second base substrate 122, The barrier ribs 126 are formed in the non-display region where the barrier ribs 124 are not formed. And sub-pixels in which the electrophoretic dispersion liquid 132 is filled through the barrier ribs 126 are defined.

이때, 상기 격벽(126)은 포토 리소그래피(Photo lithography) 또는 몰드 프린팅(Mold Printing) 공정을 통해 형성될 수 있으며, 1um ~ 100um의 높이를 가지도록 형성된다.At this time, the barrier ribs 126 may be formed through photolithography or mold printing, and have a height of 1 to 100 μm.

여기서, 상기 격벽(126)은 이어지는 제조 공정을 통해 서브 화소에 충진되는 전기영동 분산액(132)과 접하게 되므로, 전기영동 분산액(132)과 물성이 일치되도록 하기 위해 유기물질로 형성된다.Here, the barrier rib 126 is formed of an organic material in order to match the physical properties of the electrophoretic dispersion liquid 132 with the electrophoretic dispersion liquid 132 filled in the sub pixels through the subsequent manufacturing process.

이후, 상기 격벽(126)을 형성한 후, 포지티브(+) 또는 네거티브(-) 극성으로 대전된 복수의 대전 입자(134)를 포함하는 전기영동 분산액(132)을 상기 격벽(126)에 의해 정의된 서브 화소에 충진시켜 하부기판(120)에 전기영동 분산액(132)을 내재화 시킨다.Thereafter, the electrophoretic dispersion liquid 132 containing a plurality of charged particles 134 charged with a positive (+) or negative (-) polarity is defined by the partition 126 after the partition 126 is formed And the electrophoretic dispersion liquid 132 is internalized in the lower substrate 120. [

여기서, 상기 전기영동 분산액(132)은 다이 코팅(Die coating) 방식, 캐스팅(Casting) 방식, 바 코팅(Bar Coating) 방식, 슬릿 코팅(Slit Coating) 방식, 디스펜스(Dispense) 방식, 스퀴징(squeezing) 방식, 스크린 프린팅(Screen printing) 방식, 잉크젯 프린팅(Inkjet printing) 방식, 포토 리쏘그래피(Photo lithography) 방식을 통해 하부기판(120) 상의 서브 화소에 내재화 될 수 있다.Here, the electrophoretic dispersion liquid 132 may be formed by a die coating method, a casting method, a bar coating method, a slit coating method, a dispensing method, a squeezing method, Pixel, a sub-pixel on a lower substrate 120, a screen printing method, an inkjet printing method, and a photolithography method.

이후, 도 9(d)에 도시된 바와 같이, 상기 서브 화소가 형성되어 있지 않은 하부기판(120)의 외곽부에 실런트(142, sealant)를 도포시킨다. 아울러, 상기 실런트(142) 외곽에 댐(144)을 형성한다.9 (d), a sealant 142 is applied to the outer frame portion of the lower substrate 120 on which the sub-pixel is not formed. In addition, a dam 144 is formed outside the sealant 142.

이후, 도 9(e)에 도시된 바와 같이, 상부기판(110)과 전기영동 분산액(132)이 내지화된 하부기판(120)을 상기 실런트(142)를 이용하여 합착시킨다.9 (e), the lower substrate 120, from which the upper substrate 110 and the electrophoretic dispersion liquid 132 are formed, is bonded together using the sealant 142. Next, as shown in FIG.

상술한 제조 공정들을 통해, 서브 화소에 충진된 전기영동 분산액은 격벽, 상부기판 및 하부기판에 의해 둘러 싸여지게 된다. 이때, 전기영동 분산액을 둘러싸는 외벽 즉, 격벽은 유기물질로 형성되어 전기영동 분산액과 물성이 일치된다.Through the above-described manufacturing processes, the electrophoretic dispersion filled in the sub-pixels is enclosed by the barrier ribs, the upper substrate and the lower substrate. At this time, the outer wall surrounding the electrophoretic dispersion liquid, that is, the partition wall is formed of an organic material, and the physical properties are consistent with the electrophoretic dispersion.

따라서, 하부기판 상에 전기영동 분산액의 내재화 공정이 원활히 이루어지도록 함과 아울러, 상부기판과 하부기판의 합착 시, 서브 화소에 불량이 발생되는 현상을 방지할 수 있다.Accordingly, the internalization process of the electrophoretic dispersion liquid can be smoothly performed on the lower substrate, and defects in the sub-pixels can be prevented from occurring when the upper substrate and the lower substrate are attached together.

또한, 상기 격벽의 상/하부 또는 상부기판에 형성된 광 차단부를 통해 외부로부터 입사되는 광이 상기 격벽(126)을 투과하거나, 서브 화소에 입사된 광이 반사되어 빛샘 현상이 발생되는 것을 방지하여 전기영동 표시장치의 컬러 화상 표현 능력 및 명암비(contrast ratio)를 향상시킬 수 있다.In addition, the light incident from the outside through the partition wall 126 or the light incident on the sub-pixel is reflected by the light blocking portion formed on the upper, lower, or upper substrate of the barrier, The color image expressing ability and the contrast ratio of the electrophoretic display device can be improved.

또한, 하부기판 상에 전기영동 분산액을 내재화시킴으로써 전기영동 표시장치의 양산 신뢰성 및 제조효율을 향상시키고, 제조비용을 절감시킬 수 있다.In addition, by massifing the electrophoretic dispersion liquid on the lower substrate, it is possible to improve the mass production reliability and manufacturing efficiency of the electrophoretic display device and to reduce the manufacturing cost.

상술한 본 발명의 실시 예들에 따른 전기영동 표시장치의 제조방법은 기존의 액정 표시장치의 제조 공정에 이용되는 제조 인프라(infra)를 적용할 수 있는 장점이 있다.The manufacturing method of the electrophoretic display device according to the embodiments of the present invention has an advantage of being able to apply the manufacturing infra used in the manufacturing process of the conventional liquid crystal display device.

본 발명이 속하는 기술분야의 당업자는 상술한 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다.It will be understood by those skilled in the art that the present invention may be embodied in other specific forms without departing from the spirit or essential characteristics thereof.

그러므로, 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.It is therefore to be understood that the above-described embodiments are illustrative in all aspects and not restrictive. The scope of the present invention is defined by the appended claims rather than the detailed description and all changes or modifications derived from the meaning and scope of the claims and their equivalents are to be construed as being included within the scope of the present invention do.

100: 전기영동 표시장치 110: 상부기판
112, 122: 베이스 기판 114: 공통전극
120: 하부기판 124: 화소전극
126: 격벽 128, 228, 328: 광 차단부
132: 전기영동 분산액 134: 대전 입자
142: 실런트 144: 댐(dam)100: electrophoretic display device 110: upper substrate
112, 122: base substrate 114: common electrode
120: lower substrate 124: pixel electrode
126: barrier ribs 128, 228, 328:
132: electrophoretic dispersion liquid 134: charged particle
142: sealant 144: dam (dam)

Claims (18)

투명 재질의 제1 베이스 기판 및 상기 제1 베이스 기판 상에 형성된 공통전극을 포함하는 상부기판;
제2 베이스 기판에 형성된 박막 트랜지스터(TFT)와 접속되는 복수의 화소전극 및 상기 화소전극을 둘러싸도록 형성되어 복수의 서브 화소를 정의하는 격벽을 포함하는 하부기판;
특정 컬러를 표시하도록 착색된 복수의 대전 입자를 포함하여 상기 격벽에 의해 정의된 복수의 서브 화소 각각에 충진되는 전기영동 분산액;
상기 공통 전극과 상기 제 2 베이스 기판의 사이에 배치되고, 상기 격벽과 인접하게 배치되어 상기 전기영동 분산액을 사이에 두고 상기 상부기판 및 하부기판을 합착시키는 실런트; 및
상기 격벽과 대응되는 비 표시 영역에 형성되어 외부로부터 입사되는 광을 차단하는 광 차단부; 및
상기 공통 전극과 상기 제 2 베이스 기판의 사이에 배치되고, 상기 실런트와 인접하게 배치되고, 상기 실런트의 높이와 동일한 높이인 댐을 포함하고,
상기 광 차단부는 상기 상부기판과 상기 하부기판 중 적어도 어느 하나의 기판에 형성되는 전기영동 표시장치.An upper substrate including a first base substrate made of a transparent material and a common electrode formed on the first base substrate;
A lower substrate including a plurality of pixel electrodes connected to a thin film transistor (TFT) formed on a second base substrate, and barrier ribs formed to surround the pixel electrodes and defining a plurality of sub pixels;
An electrophoretic dispersion liquid containing a plurality of charged particles colored to display a specific color and filled in each of a plurality of sub-pixels defined by the partition;
A sealant disposed between the common electrode and the second base substrate and disposed adjacent to the barrier rib to bond the upper substrate and the lower substrate with the electrophoretic dispersion interposed therebetween; And
A light shielding part formed in a non-display area corresponding to the barrier rib to block light incident from the outside; And
And a dam disposed between the common electrode and the second base substrate and disposed adjacent to the sealant and having the same height as the height of the sealant,
Wherein the light shielding portion is formed on at least one of the upper substrate and the lower substrate. 제 1 항에 있어서,
상기 광 차단부는 상기 하부기판에서 상기 격벽의 하부에 형성되는 것을 특징으로 하는 전기영동 표시장치.The method according to claim 1,
Wherein the light blocking portion is formed on a lower portion of the barrier rib on the lower substrate. 제 1 항에 있어서,
상기 광 차단부는 상기 하부기판에서 상기 격벽의 상부에 형성되는 것을 특징으로 하는 전기영동 표시장치.The method according to claim 1,
Wherein the light blocking portion is formed on the partition wall on the lower substrate. 제 1 항에 있어서,
상기 광 차단부는 상기 상부기판에서 상기 격벽과 대응되는 비 표시 영역에 형성되는 전기영동 표시장치.The method according to claim 1,
Wherein the light shielding part is formed in the non-display area of the upper substrate corresponding to the barrier rib. 제 1 항에 있어서,
상기 광 차단부는 블랙 매트릭스(Black Matrix) 수지 또는 크롬옥사이드(Chromium Oxide)로 형성되거나, 상기 블랙 매트릭스 수지 또는 상기 크롬옥사이드를 포함하는 유기 또는 무기 물질로 형성되는 전기영동 표시장치.The method according to claim 1,
Wherein the light shielding part is formed of a black matrix resin or chromium oxide or an organic or inorganic material including the black matrix resin or the chromium oxide. 제 1 항에 있어서,
상기 격벽은 상기 전기영동 분산액과 물성이 일치되도록 유기물질로 형성되며, 1um ~ 100um의 높이를 가지는 전기영동 표시장치.The method according to claim 1,
Wherein the barrier ribs are formed of an organic material so as to match the physical properties of the electrophoretic dispersion liquid and have a height of 1 um to 100 um. 제 1 항에 있어서,
상기 전기영동 분산액은 상기 격벽에 의해 둘러 싸여지는 전기영동 표시장치.The method according to claim 1,
Wherein the electrophoretic dispersion liquid is surrounded by the partition wall. 제 1 항에 있어서, 상기 복수의 대전 입자는
적색(red), 청색(blue), 녹색(green), 황색(yellow), 시안(cyan), 마젠타(magenta), 흑색(black), 백색(white) 중 적어도 하나의 색상으로 착색되는 전기영동 표시장치.The method according to claim 1, wherein the plurality of charged particles
An electrophoretic display which is colored with at least one color of red, blue, green, yellow, cyan, magenta, black, Device. 제 1 항에 있어서, 상기 댐은,
상기 서브 화소가 정의되지 않은 하부기판의 외곽부에 배치되며, 1um ~ 100um의 높이 및 10um ~ 5,000um의 폭을 가지는 전기영동 표시장치.The apparatus of claim 1,
Wherein the sub-pixel is disposed at an outer portion of an undefined lower substrate and has a height of 1 um to 100 um and a width of 10 um to 5,000 um. 상부기판에 공통전극을 형성하는 단계;
하부기판 상의 표시 영역에 화소전극을 형성하는 단계;
상기 하부기판 상의 비 표시 영역에 외부로부터 입사되는 광을 차단시키는 광 차단부를 형성하는 단계;
상기 광 차단부 상에서 상기 화소전극을 둘러싸도록 격벽을 형성하는 단계;
특정 컬러를 표시하도록 착색된 복수의 대전 입자를 포함하는 전기영동 분산액을 상기 격벽에 의해 정의된 복수의 서브 화소 각각에 충진시키는 단계; 및
상기 공통 전극과 상기 하부기판의 사이에 배치되고, 상기 격벽과 인접하게 배치되도록 실런트를 형성하여, 상기 전기영동 분산액을 사이에 두고 상기 상부기판 및 하부기판을 합착시키는 단계를 포함하고,
상기 상부기판 및 하부기판을 합착시키는 단계는,
상기 공통 전극과 상기 하부기판의 사이에 배치되고, 상기 실런트와 인접하게 배치되도록 상기 실런트의 높이와 동일한 높이로 댐을 형성하는 단계를 포함하는 전기영동 표시장치의 제조방법.Forming a common electrode on the upper substrate;
Forming a pixel electrode in a display region on a lower substrate;
Forming a light shielding portion for shielding light incident from outside on a non-display region on the lower substrate;
Forming a barrier on the light blocking portion so as to surround the pixel electrode;
Filling an electrophoretic dispersion liquid containing a plurality of charged particles colored to display a specific color into each of a plurality of subpixels defined by the partition wall; And
Forming a sealant between the common electrode and the lower substrate so as to be disposed adjacent to the barrier rib and bonding the upper substrate and the lower substrate with the electrophoretic dispersion interposed therebetween;
The step of bonding the upper substrate and the lower substrate includes:
And forming a dam between the common electrode and the lower substrate at a height equal to the height of the sealant so as to be adjacent to the sealant. 상부기판에 공통전극을 형성하는 단계;
하부기판 상의 표시 영역에 화소전극을 형성하는 단계;
상기 화소전극을 둘러싸도록 상기 하부기판의 비 표시 영역에 격벽을 형성하는 단계;
상기 격벽 상에 외부로부터 입사되는 광을 차단시키는 광 차단부를 형성하는 단계;
특정 컬러를 표시하도록 착색된 복수의 대전 입자를 포함하는 전기영동 분산액을 상기 격벽에 의해 정의된 복수의 서브 화소 각각에 충진시키는 단계; 및
상기 공통 전극과 상기 하부기판의 사이에 배치되고, 상기 격벽과 인접하게 배치되도록 실런트를 형성하여, 상기 전기영동 분산액을 사이에 두고 상기 상부기판 및 하부기판을 합착시키는 단계를 포함하고,
상기 상부기판 및 하부기판을 합착시키는 단계는,
상기 공통 전극과 상기 하부기판의 사이에 배치되고, 상기 실런트와 인접하게 배치되도록 상기 실런트의 높이와 동일한 높이로 댐을 형성하는 단계를 포함하는 전기영동 표시장치의 제조방법.Forming a common electrode on the upper substrate;
Forming a pixel electrode in a display region on a lower substrate;
Forming a barrier rib in a non-display region of the lower substrate so as to surround the pixel electrode;
Forming a light shielding portion on the barrier rib to block light incident from the outside;
Filling an electrophoretic dispersion liquid containing a plurality of charged particles colored to display a specific color into each of a plurality of subpixels defined by the partition wall; And
Forming a sealant between the common electrode and the lower substrate so as to be disposed adjacent to the barrier rib and bonding the upper substrate and the lower substrate with the electrophoretic dispersion interposed therebetween;
The step of bonding the upper substrate and the lower substrate includes:
And forming a dam between the common electrode and the lower substrate at a height equal to the height of the sealant so as to be adjacent to the sealant. 상부기판 상의 비 표시 영역에 외부로부터 입사되는 광을 차단시키는 광 차단부를 형성하는 단계;
상기 상부기판 상에 상기 광 차단부를 덮도록 공통전극을 형성하는 단계;
하부기판 상의 표시 영역에 화소전극을 형성하는 단계;
상기 비 표시 영역과 대응되는 하부기판의 영역에서 상기 화소전극을 둘러싸도록 격벽을 형성하는 단계;
특정 컬러를 표시하도록 착색된 복수의 대전 입자를 포함하는 전기영동 분산액을 상기 격벽에 의해 정의된 복수의 서브 화소 각각에 충진시키는 단계; 및
상기 공통 전극과 상기 하부기판의 사이에 배치되고, 상기 격벽과 인접하게 배치되도록 실런트를 형성하여, 상기 전기영동 분산액을 사이에 두고 상기 상부기판 및 하부기판을 합착시키는 단계를 포함하고,
상기 상부기판 및 하부기판을 합착시키는 단계는,
상기 공통 전극과 상기 하부기판의 사이에 배치되고, 상기 실런트와 인접하게 배치되도록 상기 실런트의 높이와 동일한 높이로 댐을 형성하는 단계를 포함하는 전기영동 표시장치의 제조방법.Forming a light shielding portion for shielding light incident from the outside in a non-display region on the upper substrate;
Forming a common electrode on the upper substrate to cover the light blocking portion;
Forming a pixel electrode in a display region on a lower substrate;
Forming a barrier rib so as to surround the pixel electrode in an area of the lower substrate corresponding to the non-display area;
Filling an electrophoretic dispersion liquid containing a plurality of charged particles colored to display a specific color into each of a plurality of subpixels defined by the partition wall; And
Forming a sealant between the common electrode and the lower substrate so as to be disposed adjacent to the barrier rib and bonding the upper substrate and the lower substrate with the electrophoretic dispersion interposed therebetween;
The step of bonding the upper substrate and the lower substrate includes:
And forming a dam between the common electrode and the lower substrate at a height equal to the height of the sealant so as to be adjacent to the sealant. 상부기판에 공통전극을 형성하는 단계;
하부기판 상의 표시 영역에 화소전극을 형성하는 단계;
상기 화소전극을 둘러싸도록 상기 하부기판의 비 표시 영역에 격벽을 형성하는 단계;
특정 컬러를 표시하도록 착색된 복수의 대전 입자를 포함하는 전기영동 분산액을 상기 격벽에 의해 정의된 복수의 서브 화소 각각에 충진시키는 단계;
상기 공통 전극과 상기 하부기판의 사이에 배치되고, 상기 격벽과 인접하게 배치되도록 실런트를 형성하여, 상기 전기영동 분산액을 사이에 두고 상기 상부기판 및 하부기판을 합착시키는 단계; 및
상기 격벽과 대응되는 비 표시 영역에 외부로부터 입사되는 광을 차단하는 광 차단부를 형성하는 단계를 포함하고,
상기 상부기판 및 하부기판을 합착시키는 단계는,
상기 공통 전극과 상기 하부기판의 사이에 배치되고, 상기 실런트와 인접하게 배치되도록 상기 실런트의 높이와 동일한 높이로 댐을 형성하는 단계를 포함하고,
상기 광 차단부는 상기 상부기판과 상기 하부기판 중 적어도 어느 하나의 기판에 형성되는 전기영동 표시장치의 제조방법.Forming a common electrode on the upper substrate;
Forming a pixel electrode in a display region on a lower substrate;
Forming a barrier rib in a non-display region of the lower substrate so as to surround the pixel electrode;
Filling an electrophoretic dispersion liquid containing a plurality of charged particles colored to display a specific color into each of a plurality of subpixels defined by the partition wall;
Forming a sealant between the common electrode and the lower substrate so as to be disposed adjacent to the barrier ribs to adhere the upper substrate and the lower substrate with the electrophoretic dispersion interposed therebetween; And
And forming a light shielding portion for shielding light incident from the outside in a non-display region corresponding to the barrier rib,
The step of bonding the upper substrate and the lower substrate includes:
And forming a dam between the common electrode and the lower substrate at a height equal to the height of the sealant so as to be adjacent to the sealant,
Wherein the light blocking portion is formed on at least one of the upper substrate and the lower substrate. 제 10 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 광 차단부는 블랙 매트릭스(Black Matrix) 수지 또는 크롬옥사이드(Chromium Oxide)로 형성되거나, 상기 블랙 매트릭스 수지 또는 상기 크롬옥사이드를 포함하는 유기 또는 무기 물질로 형성되는 전기영동 표시장치의 제조방법.14. The method according to any one of claims 10 to 13,
Wherein the light shielding part is formed of a black matrix resin or chromium oxide or an organic or inorganic material including the black matrix resin or the chromium oxide. 제 10 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 격벽은 포토 리소그래피(Photo lithography) 또는 몰드 프린팅(Mold Printing) 공정을 이용하여 1um ~ 100um의 높이를 가지도록 형성되는 전기영동 표시장치의 제조방법.14. The method according to any one of claims 10 to 13,
Wherein the barrier ribs are formed to have a height of 1 to 100 탆 by using a photolithography process or a molding printing process. 제 10 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 있어서,
다이 코팅(Die coating) 방식, 캐스팅(Casting) 방식, 바 코팅(Bar Coating) 방식, 슬릿 코팅(Slit Coating) 방식, 디스펜스(Dispense) 방식, 스퀴징(squeezing) 방식, 스크린 프린팅(Screen printing) 방식, 잉크젯 프린팅(Inkjet printing) 방식, 포토 리쏘그래피(Photo lithography) 방식을 이용하여 상기 복수의 서브 화소 각각에 상기 전기영동 분산액을 충진시키는 전기영동 표시장치의 제조방법.14. The method according to any one of claims 10 to 13,
A die coating method, a casting method, a bar coating method, a slit coating method, a dispensing method, a squeezing method, a screen printing method, Wherein the electrophoretic dispersion is filled in each of the plurality of subpixels using an inkjet printing method or a photolithography method. 제 10 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 댐은,
상기 서브 화소가 정의되지 않은 하부기판의 외곽부에 1um ~ 100um의 높이 및 10um ~ 5,000um의 폭을 가지도록 형성하는 전기영동 표시장치의 제조방법.14. The apparatus according to any one of claims 10 to 13,
Wherein the sub-pixel has a height of 1 mu m to 100 mu m and a width of 10 mu m to 5,000 mu m on the outer edge of the underside substrate. 제 13 항에 있어서,
상기 광 차단부는 상기 격벽의 하부, 상기 격벽의 상부, 상기 상부기판에서 상기 격벽과 대응되는 비 표시 영역 중 적어도 어느 한 곳에 형성되는 전기영동 표시장치의 제조방법.14. The method of claim 13,
Wherein the light shielding portion is formed at least one of a lower portion of the barrier rib, an upper portion of the barrier rib, and a non-display region corresponding to the barrier rib in the upper substrate.
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