KR101715785B1 - A lithography apparatus for - Google Patents

A lithography apparatus for Download PDF

Info

Publication number
KR101715785B1
KR101715785B1 KR1020140173648A KR20140173648A KR101715785B1 KR 101715785 B1 KR101715785 B1 KR 101715785B1 KR 1020140173648 A KR1020140173648 A KR 1020140173648A KR 20140173648 A KR20140173648 A KR 20140173648A KR 101715785 B1 KR101715785 B1 KR 101715785B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
light source
shutter
inner shutter
substrate
position detection
Prior art date
Application number
KR1020140173648A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20160068226A (en
Inventor
정문식
최진우
우기명
Original Assignee
프로미스 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 프로미스 주식회사 filed Critical 프로미스 주식회사
Priority to KR1020140173648A priority Critical patent/KR101715785B1/en
Publication of KR20160068226A publication Critical patent/KR20160068226A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101715785B1 publication Critical patent/KR101715785B1/en

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
    • G03F7/2004—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image characterised by the use of a particular light source, e.g. fluorescent lamps or deep UV light

Abstract

본 발명은 기판에 설정된 광원의 조사범위에만 광원을 조사할 수 있는 FPD용 노광장치를 제공하는 것으로서, 본 발명의 실시예에 따른 FPD용 노광장치는 기판에 빛을 조사하는 광원, 상기 광원과 상기 기판의 사이에 배치되어 상기 광원에 의해 상기 기판에 임의의 패턴을 노광시키는 마스크, 및 상기 광원의 빛을 조사할 위치를 검출하는 복수 개의 위치검출유닛을 포함하는 FPD용 노광장치에 있어서, 상기 위치검출유닛에 고정되어 상기 위치검출유닛을 따라 이동하고 상기 광원의 조사범위 중 일부를 가려 상기 기판의 일부에 노광을 방지하는 이너셔터, 및 상기 이너셔터의 외측에 배치되어 상기 이너셔터의 외측부분을 가려 상기 이너셔터의 외측부분이 노광되는 것을 방지하고, 상기 위치검출유닛에 고정되어 상기 위치검출유닛을 따라 이동하는 아웃셔터를 포함한다. 따라서, 이너셔터와 아웃셔터에 의해 광원이 비조사범위에 광원이 조사되는 것을 방지하여 광원의 비조사범위에 패턴이 중첩되는 것을 방지할 수 있고, 기판에 얼룩이 생기는 것을 방지할 수 있을 뿐만 아니라, 제작비용을 절감할 수 있다.The present invention provides an FPD exposure apparatus capable of irradiating a light source only to a light source set on a substrate. The FPD exposure apparatus according to an embodiment of the present invention includes a light source for irradiating light onto a substrate, 1. An exposure apparatus for an FPD, comprising: a mask which is disposed between a substrate and exposes an arbitrary pattern to the substrate by the light source; and a plurality of position detecting units which detect a position to irradiate light of the light source, An inner shutter which is fixed to the detection unit and moves along the position detection unit and covers a part of the irradiation range of the light source to prevent exposure to a part of the substrate; and an inner shutter which is disposed outside the inner shutter, The position detecting unit is configured to detect an out-of-position of the inner shutter, And a shutter. Therefore, it is possible to prevent the light source from being irradiated with the light source in the non-irradiation range by the inner shutter and the out-shutter, to prevent the pattern from overlapping in the non-irradiation range of the light source, The manufacturing cost can be reduced.

Description

ＦＰＤ용 노광장치{A lithography apparatus for ＦＰＤ}Description of the Related Art [0002] A lithography apparatus for FPD

본 발명은 FPD에 광학적인 패턴을 형성하기 위해 노광을 수행하는 FPD용 노광장치를 제공하는 것이다.The present invention provides an exposure apparatus for an FPD that performs exposure in order to form an optical pattern on the FPD.

일반적으로 노광 공정은 회로 패턴이 담긴 마스크에 빛을 통과시켜, 감광액 막이 형성된 기판 표면에 회로 패턴을 그리는 작업이다. 기판 위에 마스크를 놓고 빛을 쪼아 주면 회로 패턴을 통과한 빛이 기판에 회로 패턴을 그대로 옮긴다.Generally, the exposure process is a process of passing a light through a mask containing a circuit pattern and drawing a circuit pattern on the surface of the substrate on which the photosensitive liquid film is formed. When a mask is placed on a substrate and the light is peeled off, the light passing through the circuit pattern transfers the circuit pattern to the substrate.

이 과정은 노광장치를 통해 진행되는데 노광장치에 마스크를 넣고 빛을 투과해, 감광액이 칠해진 기판 위에 미세한 전자회로 패턴이 그려지는 것이다.This process is carried out through an exposure apparatus, in which a mask is placed in an exposure apparatus, light is transmitted, and a fine electronic circuit pattern is drawn on the substrate coated with the photosensitive liquid.

이때, 기판에는 광원이 조사되는 조사범위와 광원이 비조사되는 비조사범위로 나누어지는데 비조사범위에 광원이 조사되는 것을 방지하기 위해 블라인드를 구비하여야 한다.At this time, the substrate is divided into an irradiation range in which the light source is irradiated and a non-irradiation range in which the light source is not irradiated, and a blind should be provided to prevent the light source from being irradiated in the non-irradiation range.

하지만, 이 블라인드는 광원의 산포에 의해서 블라인드의 경계면에는 광원을 차단하지 못하고, 기판에 조사되는 광원의 양이 부족하면 넓게 퍼지는 회색 영역이 발생하여 기판에 패턴을 만드는 문제점이 있었다.However, the blind can not block the light source at the interface of the blind due to the scattering of the light source, and when the amount of the light source irradiated to the substrate is insufficient, a gray area spreading widely occurs, thereby forming a pattern on the substrate.

또한, 비조사범위에 형성하는 패턴과 회색 영역에 의해 발생된 패턴이 중첩될 경우 기판에 얼룩이 생기며, 액정 표시 패널의 표시 품질이 떨어지는 문제점이 있었다.In addition, when the pattern formed in the non-irradiated area overlaps with the pattern generated by the gray area, the substrate is stained and the display quality of the liquid crystal display panel deteriorates.

이러한 문제점을 해결하기 위해 종래에는 대한민국 등록특허 제10-1185115호(2012.09.17 등록)의 "주변노광용 블라인드 마스크 장치를 구비한 노광헤드"가 개시된 바가 있다.In order to solve such a problem, conventionally, an "exposure head equipped with a blind mask device for peripheral exposure" of Korean Registered Patent No. 10-1185115 (registered on September 17, 2012) has been disclosed.

종래의 주변노광용 블라인드 마스크 장치를 구비한 노광헤드는 어파쳐를 통과하는 광원을 조사하여 이동하는 스테이지상에 놓인 워크의 주변노광을 실시하는 노광헤드에 있어서; 상기 어파쳐의 전체 면적에 대해 국부적으로 광원을 차단하는 블라인드 마스크와; 상기 블라인드 마스크를 이송시켜, 워크의 테두리에 선택적으로 비노광영역을 생성시키며, 광원이 통과하는 어파쳐(aperture)로부터 4mm 이내로 인접하는 높이에 위치하는 블라인드 마스크 장치를 구비한 것을 특징으로 한다.An exposure head having a conventional blind mask device for peripheral exposure is an exposure head for irradiating a light source passing through an applicator to perform peripheral exposure of a work placed on a moving stage; A blind mask that blocks the light source locally relative to the total area of the effector; And a blind mask device for transferring the blind mask to selectively generate a non-exposed area on a rim of the work and located at a height adjacent to an aperture within 4 mm from the aperture through which the light source passes.

이러한 구성의 종래의 주변노광용 블라인드 마스크 장치를 구비한 노광헤드는 노광헤드에 블라인드 마스크를 장착하여 비노광영역을 생성할 수 있지만, FPD의 크기가 클 경우, 블라인드 마스크의 이동 시 블라인드 마스크에 진동이 발생하여 어파쳐를 손상시키는 문제점이 있었다.An exposure head having such a conventional blind mask device for peripheral exposure of this configuration can produce a non-exposed area by mounting a blind mask on the exposure head. However, when the size of the FPD is large, Resulting in damage to the player.

또한, 블라인드 마스크를 구동시키기 위한 구동기구가 별도로 설치되어야 하기 때문에 기존의 노광장치에 쉽게 적용할 수 없는 문제점이 있었다.Further, since a driving mechanism for driving the blind mask must be separately installed, there is a problem that it can not be easily applied to an existing exposure apparatus.

본 발명은 전술한 바와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로서 본 발명이 해결하고자 하는 과제는 광원에 의해 노광되는 영역을 자유롭게 변경하여 다양한 형태의 패턴을 형성할 수 있을 뿐만 아니라, 기존의 노광장치에도 용이하게 구성하여 기존의 노광장치에서 제작할 수 있는 패턴의 사이즈 외에 다른 사이즈의 패턴을 형성할 수 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and it is an object of the present invention to provide an exposure apparatus which can freely change a region exposed by a light source to form various patterns, It is possible to form a pattern of a size other than the size of the pattern that can be manufactured in an existing exposure apparatus.

또한, 블라인드 마스크의 이동 시 발생하는 진동에 의한 어파쳐의 손상을 방지할 수 있다.In addition, it is possible to prevent damage to the effector due to vibration generated when the blind mask moves.

상기한 과제를 달성하기 위한 본 발명의 실시예에 따른 FPD용 노광장치는 기판에 빛을 조사하는 광원, 상기 광원과 상기 기판의 사이에 배치되어 상기 광원에 의해 상기 기판에 임의의 패턴을 노광시키는 마스크, 및 상기 광원의 빛을 조사할 위치를 검출하는 복수 개의 위치검출유닛을 포함하는 FPD용 노광장치에 있어서, 상기 위치검출유닛에 고정되어 상기 위치검출유닛을 따라 이동하고 상기 광원의 조사범위 중 일부를 가려 상기 기판의 일부에 노광을 방지하는 이너셔터, 및 상기 이너셔터의 외측에 배치되어 상기 이너셔터의 외측부분을 가려 상기 이너셔터의 외측부분이 노광되는 것을 방지하고, 상기 위치검출유닛에 고정되어 상기 위치검출유닛을 따라 이동하는 아웃셔터를 포함한다.According to an aspect of the present invention, there is provided an exposure apparatus for an FPD, including: a light source for irradiating light onto a substrate; a light source for illuminating an arbitrary pattern on the substrate by the light source, And a plurality of position detection units for detecting positions of the light source to irradiate the light, wherein the exposure unit is fixed to the position detection unit and moves along the position detection unit, An inner shutter which covers a part of the substrate and prevents exposure of a part of the substrate, and an inner shutter which is disposed outside the inner shutter to cover an outer portion of the inner shutter to prevent exposure of an outer portion of the inner shutter, And an out-shutter fixedly moved along the position detection unit.

상기 이너셔터는 판 형상의 차단커버, 및 상기 위치검출유닛의 이동 시 상기 차단커버의 떨림을 방지하도록 상기 차단커버의 강성을 보강하는 보강판을 포함할 수 있다.The inner shutter may include a plate-shaped shielding cover and a reinforcing plate reinforcing the rigidity of the shielding cover to prevent the shielding cover from shaking when the position detecting unit moves.

상기 차단커버는 상기 차단커버의 단부에서 절곡되어 상기 차단커버의 강성을 보강하는 절곡부를 포함할 수 있다.The blocking cover may include a bent portion bent at an end of the blocking cover to reinforce the rigidity of the blocking cover.

상기 이너셔터는 상기 이너셔터를 상기 위치검출유닛에 고정하기 위한 연결부를 포함할 수 있다.The inner shutter may include a connection portion for fixing the inner shutter to the position detection unit.

상기 아웃셔터는 상기 아웃셔터의 무게를 감소시키기 위해 관통된 형태로 복수 개의 공간이 형성된 프레임, 및 상기 공간들을 통해 상기 광원의 빛이 통과되는 것을 방지하도록 상기 공간들을 밀폐하는 차단막을 포함할 수 있다.The out-shutter may include a frame having a plurality of spaces formed in a penetrating manner to reduce the weight of the out-shutter, and a blocking film that seals the spaces to prevent light from the light source from passing through the spaces .

상기 아웃셔터는 상기 위치검출유닛과 상기 차단부재를 결합하는 결합부재를 포함할 수 있다.The out-shutter may include a coupling member for coupling the position detection unit and the blocking member.

기판에 빛을 조사하는 광원, 상기 광원과 상기 기판의 사이에 배치되어 상기 광원에 의해 상기 기판에 임의의 패턴을 노광시키는 마스크, 및 상기 광원의 빛을 조사할 위치를 검출하는 복수 개의 위치검출유닛을 포함하는 FPD용 노광장치에서 상기 위치검출유닛에 결합되어 광원을 차단하는 노광장치용 셔터에 있어서, 상기 위치검출유닛에 고정되어 상기 위치검출유닛을 따라 이동하고 상기 광원의 조사범위 중 일부를 가려 상기 기판의 일부에 노광을 방지하는 이너셔터, 및 상기 이너셔터의 외측에 배치되어 상기 이너셔터의 외측부분을 가려 상기 이너셔터의 외측부분이 노광되는 것을 방지하고, 상기 위치검출유닛에 고정되어 상기 위치검출유닛을 따라 이동하는 아웃셔터를 포함한다.A light source for irradiating light to the substrate; a mask disposed between the light source and the substrate for exposing an arbitrary pattern to the substrate by the light source; and a plurality of position detection units Wherein the shutter is fixed to the position detecting unit and moves along the position detecting unit to cover a part of the irradiation range of the light source An inner shutter for preventing exposure to a part of the substrate, and an outer shutter disposed outside the inner shutter to cover an outer portion of the inner shutter to prevent exposure of an outer portion of the inner shutter, And an out-shutter moving along the position detection unit.

본 발명에 따르면, 이너셔터에 의해 광원이 조사되는 부분을 일부 가려 기판에 다양한 패턴을 노광시킬 수 있을 뿐만 아니라, 아웃셔터가 설치되어 이너셔터에 가려진 외측 부분 즉 비노광영역에 광원의 빛이 침투하는 것을 방지할 수 있다.According to the present invention, not only is it possible to expose various patterns on the substrate by partially covering the portion irradiated with the light source by the inner shutter, but also the outward shutter is provided so that the light of the light source penetrates into the outer portion, Can be prevented.

또한, 이너셔터에 보강판을 부착하고, 차단커버의 양측면을 상향으로 돌출시켜 이너셔터의 강성을 보강함으로써, 이너셔터의 이동 시 이너셔터의 진동에 의한 부압마스크의 파손을 방지할 수 있다.In addition, by attaching a reinforcing plate to the inner shutter, and by reinforcing the rigidity of the inner shutter by projecting both side surfaces of the blocking cover upward, damage to the negative pressure mask due to vibration of the inner shutter can be prevented when the inner shutter is moved.

또한, 이너셔터를 노광장치에 설치된 위치검출유닛에 설치하여 별도의 구동기구를 설치할 필요가 없기 때문에 제작비용을 감소시킬 수 있다.Further, since the inner shutter is provided in the position detecting unit provided in the exposure apparatus, there is no need to provide a separate driving mechanism, which can reduce the manufacturing cost.

또한, 아웃셔터를 관통된 공간이 형성된 프레임과 공간을 차단하는 차단막으로 구성하여 아웃셔터의 무게를 감소시킴으로써, 아웃셔터의 무게로 인한 위치검출유닛에 부하가 발생하는 것을 방지할 수 있다.Further, the out-shutter can be formed of a frame having a space formed therethrough and a shielding film blocking the space to reduce the weight of the out-shutter, thereby preventing a load from being generated in the position detection unit due to the weight of the out-

도1은 본 발명의 실시예에 따른 FPD용 노광장치의 사시도이다.
도2는 본 발명의 실시예에 따른 FPD용 노광장치의 측단면도이다.
도3은 본 발명의 실시예에 따른 FPD용 노광장치를 구성하는 이너셔터의 사시도이다.
도4는 본 발명의 실시예에 따른 FPD용 노광장치를 구성하는 다른 형태의 이너셔터의 사시도이다.
도5는 본 발명의 실시예에 따른 FPD용 노광장치를 구성하는 또 다른 형태의 이너셔터의 다른 형태의 사시도이다.
도6은 본 발명의 실시예에 따른 FPD용 노광장치를 구성하는 이너셔터의 결합한 상태를 도시한 사시도이다.
도7은 본 발명의 실시예에 따른 FPD용 노광장치를 구성하는 아웃셔터의 사시도이다.
도8은 본 발명의 실시예에 따른 FPD용 노광장치를 구성하는 다른 형태의 아웃셔터의 사시도이다.
도9는 본 발명의 실시예에 따른 FPD용 노광장치의 작동상태를 도시한 평면도이다.
도10은 본 발명의 실시예에 따른 FPD용 노광장치의 다른 작동상태를 도시한 평면도이다.1 is a perspective view of an exposure apparatus for an FPD according to an embodiment of the present invention.
2 is a side sectional view of an exposure apparatus for an FPD according to an embodiment of the present invention.
3 is a perspective view of an inner shutter constituting an exposure apparatus for an FPD according to an embodiment of the present invention.
4 is a perspective view of another type of inner shutter constituting the FPD exposure apparatus according to the embodiment of the present invention.
5 is another perspective view of another embodiment of the inner shutter constituting the FPD exposure apparatus according to the embodiment of the present invention.
FIG. 6 is a perspective view showing a combined state of the inner shutter constituting the FPD exposure apparatus according to the embodiment of the present invention. FIG.
7 is a perspective view of an out-shutter constituting an exposure apparatus for an FPD according to an embodiment of the present invention.
8 is a perspective view of another type of out-shutter constituting the FPD exposure apparatus according to the embodiment of the present invention.
9 is a plan view showing an operating state of an exposure apparatus for an FPD according to an embodiment of the present invention.
10 is a plan view showing another operating state of the FPD exposure apparatus according to the embodiment of the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명하도록 한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

먼저, 본 발명의 실시예에 따른 FPD용 노광장치(100)는 광원(230)을 포함할 수 있다.First, an exposure apparatus 100 for an FPD according to an embodiment of the present invention may include a light source 230.

이 광원(230)은 기판(200)에서 노광을 수행할 수 있도록 빛을 제공할 수 있다.The light source 230 may provide light for performing exposure on the substrate 200.

여기서, 기판(200)은 FPD용 평판글라스일 수 있다.Here, the substrate 200 may be a flat glass for FPD.

한편, 광원(230)은 하기에 설명될 위치검출유닛(110)으로 설정된 조사범위 내에서만 빛을 제공할 수 있다.On the other hand, the light source 230 can provide light within the irradiation range set by the position detection unit 110, which will be described later.

본 발명의 실시예에 따른 FPD용 노광장치(100)은 부압마스크(220)를 포함할 수 있다.The exposure apparatus 100 for an FPD according to an embodiment of the present invention may include a negative pressure mask 220.

이 부압마스크(220)는 기판(200)과 광원(230)의 사이에 설치되는 마스크(210)가 부착되어 마스크(210)를 고정시킬 수 있다.The negative pressure mask 220 may fix the mask 210 by attaching a mask 210 provided between the substrate 200 and the light source 230.

한편, 부압마스크(220)는 정전기를 발생시켜 정전기에 의해 마스크(210)가 부압마스크(220)에 부착되는 형태로 마스크(210)를 고정시킬 수 있다.On the other hand, the negative pressure mask 220 generates static electricity and can fix the mask 210 in a form that the mask 210 is attached to the negative pressure mask 220 by static electricity.

이때, 마스크(210)은 부압마스크(220)의 저면에 부착될 수 있다.At this time, the mask 210 may be attached to the bottom surface of the negative pressure mask 220.

도1 내지 도5, 도9 내지 도10에 도시된 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 FPD용 노광장치(100)는 위치검출유닛(110)을 포함할 수 있다.1 to 5, and 9 to 10, the exposure apparatus 100 for an FPD according to an embodiment of the present invention may include a position detection unit 110.

이 위치검출유닛(110)은 기판(200)에 조사되는 광원(230)의 조사범위를 설정할 수 있다.The position detection unit 110 can set the irradiation range of the light source 230 irradiated to the substrate 200. [

한편, 위치검출유닛(110)은 복수 개로 구성될 수 있다.On the other hand, the position detecting unit 110 may be composed of a plurality of units.

그리고, 복수 개의 위치검출유닛(110)은 마스크(210)에 형성된 복수 개의 마크를 각각 인식하여 광원(230)의 조사범위를 설정할 수 있다.The plurality of position detection units 110 can recognize a plurality of marks formed on the mask 210 and set the irradiation range of the light source 230.

또한, 복수 개의 위치검출유닛(110)은 노광장치(100)에서 X축,Y축, 및 Z축의 방향으로 이동하도록 설치될 수 있으며, 위치검출유닛(110)은 부압마스크(220)와 광원(230)의 사이에 배치될 수 있다.The position detecting unit 110 may be installed to move in the directions of the X axis, the Y axis and the Z axis in the exposure apparatus 100. The position detecting unit 110 may include a negative pressure mask 220 and a light source 230, respectively.

여기서, 복수 개의 위치검출유닛(110)은 프론트라이트(FR), 프론트레프트(FL), 리어라이트(LR), 리어라이트(LL)로 총 4개로 구성될 수 있다.Here, the plurality of position detection units 110 may be composed of a total of four, that is, a front light FR, a front left FL, a rear light LR, and a rear light LL.

한편, 복수 개의 위치검출유닛(110)은 기판(200)의 크기에 따라 기판(200)을 복수의 구역을 나눠 하나의 기판(200)에 복수 회 노광시킬 수 있도록 광원(230)을 마스크(210)에 형성된 마커를 감지하여 광원(230)을 이동시킬 수 있다.The plurality of position detection units 110 are disposed on the mask 200 so that the substrate 200 can be divided into a plurality of regions and exposed to the substrate 200 a plurality of times according to the size of the substrate 200, The light source 230 can be moved.

본 발명의 실시예에 따른 FPD용 노광장치는 마스크(210)를 포함할 수 있다.The exposure apparatus for an FPD according to an embodiment of the present invention may include a mask 210.

이 마스크(210)는 기판(200)에 광원(230)의 빛이 투과하여 광학적인 패턴을 형성할 수 있도록 패턴과 대응되는 형상으로 천공되어 형성될 수 있다.The mask 210 may be formed by perforating the substrate 200 in a shape corresponding to the pattern so that the light of the light source 230 is transmitted through the substrate 200 to form an optical pattern.

여기서, 기판(200)에 형성되는 패턴은 칼라필터 패턴인 R패턴, G패턴, B패턴일 수 있다.Here, the pattern formed on the substrate 200 may be an R pattern, a G pattern, and a B pattern, which are color filter patterns.

한편, 마스크(210)는 부압마스크(220)의 저면에 부착되는 형태로 FPD용 노광장치(100)에 설치될 수 있으며, 마스크(210)는 패턴에 따라 교체하여 설치할 수 있다.The mask 210 may be attached to the bottom surface of the negative pressure mask 220 and may be installed in the FPD exposure apparatus 100. The mask 210 may be replaced according to the pattern.

그리고, 마스크(210)는 기판(200)의 크기와 동일하거나 작은 크기로 형성될 수 있으며, 마스크(210)에는 광원(230)의 위치를 설정하기 위해 위치검출유닛(110)이 위치를 파악하는 마커가 형성될 수 있다.The mask 210 may be formed to have a size equal to or smaller than the size of the substrate 200 and the position detection unit 110 may determine the position of the light source 230 in the mask 210 Markers can be formed.

도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 FPD용 노광장치(100)는 이너셔터(120)를 포함할 수 있다.3, an exposure apparatus 100 for an FPD according to an embodiment of the present invention may include an inner shutter 120. As shown in FIG.

이 이너셔터(120)는 조사범위 내에서 광원(230)의 일부를 가려 패턴이 형성되는 기판(200)의 유효영역 내에서 패턴이 형성되지 않는 비유효영역을 형성할 수 있다.The inner shutter 120 may cover a part of the light source 230 within the irradiation range to form an ineffective area in which no pattern is formed in the effective area of the substrate 200 on which the pattern is formed.

그리고 이너셔터(120)은 위치검출유닛(110)에 결합되어 위치검출유닛(110)의 이동시 함께 이동할 수 있으며, 이너셔터(120)은 기판(200)으로의 빛이 새는 것을 최소화하도록 마스크(210)와 가장 인접한 거리인 위치검출유닛(110)의 하부에 결합될 수 있다.The inner shutter 120 may be coupled to the position detection unit 110 to move together with the movement of the position detection unit 110. The inner shutter 120 may include a mask 210 And the position detecting unit 110, which is the closest distance to the position detecting unit 110, as shown in FIG.

한편, 이너셔터(120)은 실시예와 같이 기판(200)의 유효영역 내의 둘레를 가려 미리 설정된 크기의 패턴보다는 작은 크기의 패턴이 노광되도록 구성될 수도 있다.Meanwhile, the inner shutter 120 may be configured such that a pattern of a size smaller than a predetermined size is exposed by covering the periphery of the effective area of the substrate 200 as in the embodiment.

그리고, 각 위치검출유닛(110)에 설치되는 이너셔터(120)는 도 4 및 도 5에 도시된 바와 같이, 그 형상이 각각 다르게 형성될 수 있으며, 위치검출유닛(110)이 네개로 구성된 경우, 각 위치검출유닛(110)에 설치된 이너셔터(120)들이 모여 가운데가 빈 사각형의 형태로 가려지도록 구성될 수도 있다.4 and 5, the shape of the inner shutter 120 may be different from that of the inner shutter 120 provided in each position detection unit 110. In the case where the position detection unit 110 is formed of four And the inner shutters 120 installed in the respective position detecting units 110 may be gathered and the center may be obscured in the shape of an empty square.

이때, 각 위치검출유닛(110)에 설치되는 이너셔터(120)는 도 6에 도시된 바와 같이, 위치검출유닛(110)이 이동할 때, 서로 마주하는 이너셔터(120)의 끝단이 서로 접촉되어 간섭되는 것을 방지하기 위해 서로 다른 높이를 가지도록 설치될 수 있다.6, when the position detecting unit 110 moves, the ends of the inner shutters 120 facing each other are in contact with each other, as shown in FIG. 6 They may be installed to have different heights to prevent interference.

그리고, 복수 개의 위치검출유닛(110)에서 일부의 위치검출유닛(110)에는 이너셔터(120)가 설치되고, 나머지 일부에는 위치검출유닛(110)이 설치되지 않도록 구성될 수도 있음은 물론이다.It goes without saying that the inner shutter 120 may be provided in a part of the position detecting unit 110 in the plurality of position detecting units 110 and the position detecting unit 110 may not be provided in the remaining part.

한편, 이너셔터(120)는 차단커버(121)를 포함할 수 있다.On the other hand, the inner shutter 120 may include a blocking cover 121.

이 차단커버(121)는 마스크(210)의 상면에 안착되어 광원(230)의 빛이 유효영역 내에서 비유효영역에 조사되는 것을 차단할 수 있다.The blocking cover 121 is seated on the upper surface of the mask 210 to block the light of the light source 230 from being irradiated to the ineffective area within the effective area.

한편, 차단커버(121)는 판의 형상으로 형성될 수 있고, 상부에서 바라봤을 때 직선형태이거나, 미리 설정된 각도, 예컨대, "ㄴ"자와 같이 직각을 이루도록 절곡된 형상으로도 형성될 수 있다.On the other hand, the blocking cover 121 may be formed in the shape of a plate, and may be formed in a straight line when viewed from above, or in a bent shape such as a predetermined angle, for example, a " .

또한, 차단커버(121)의 둘레 중 일부 또는 전체에는 차단커버(121)의 끝단에서 상향 또는 하향 돌출된 절곡부(123)가 형성되어 이너셔터(120)의 강성을 증대시킬 수 있다.A bending portion 123 protruding upward or downward from the end of the blocking cover 121 may be formed on part or the entire circumference of the blocking cover 121 to increase the rigidity of the inner shutter 120.

여기서, FPD용 노광장치(100)에 설치되는 기판(200)은 상대적으로 큰 크기를 가지고 있으며, 이로 인해 이너서텨(120)가 가려할 부분이 커지기 때문에 이너셔터(120)의 크기가 상대적으로 커질 수 밖에 없다.Here, the substrate 200 mounted on the FPD exposure apparatus 100 has a relatively large size, which increases the size of the inner shutter 120 because the portion to be covered by the inner shutter 120 becomes larger, I can not help it.

그러나, 위치검출유닛(110)은 부압마스크(220)의 상부로 약 7mm 가량 밖에 이격되지 않기 때문에 위치검출유닛(110)의 이동 시 발생하는 진동에 의해 이너셔터(120)이 진동하여 부압마스크(220)에 손상을 가져올 수 있다.However, since the position detecting unit 110 is spaced only about 7 mm away from the upper portion of the negative pressure mask 220, the inner shutter 120 is vibrated by the vibration generated when the position detecting unit 110 moves, 220).

따라서, 차단커버(121)에 절곡부(123)를 형성하여 강성을 부여함으로써, 위치검출유닛(110)의 이동 시 이너셔터(120)가 진동하는 것을 방지함으로써, 이너셔터(120)의 진동에 의한 부압마스크(220)의 파손을 방지할 수 있다.The inner shutter 120 is prevented from vibrating when the position detecting unit 110 is moved so that the vibration of the inner shutter 120 can be prevented from being caused by the bending portion 123 being formed in the blocking cover 121, It is possible to prevent the negative pressure mask 220 from being damaged.

그리고, 이너셔터(120)는 보강판(125)을 포함할 수 있다.The inner shutter 120 may include a reinforcing plate 125.

이 보강판(125)은 절곡부(123)와 마찬가지로 차단커버(121)의 강성을 보강할 수 있다.The reinforcing plate 125 can reinforce the rigidity of the blocking cover 121 like the bent portion 123.

한편, 보강판(125)은 판의 형상으로 차단커버(121)에 덧대어지는 형태로 차단커버(121)에 용접되거나 볼트와 리벳과 같은 결합부재에 의해 결합될 수 있다. On the other hand, the reinforcing plate 125 may be welded to the blocking cover 121 in the form of a plate padded to the blocking cover 121, or may be joined by a coupling member such as a bolt and a rivet.

또한, 이너셔터(120)는 연결부(127)를 포함할 수 있다.In addition, the inner shutter 120 may include a connection portion 127.

이 연결부(127)는 이너셔터(120)를 위치검출유닛(110)을 결합할 수 있다.The connecting portion 127 can couple the inner shutter 120 to the position detecting unit 110. [

한편, 연결부(127)는 사각형의 판의 형상으로 차단판(121)의 일부를 상부를 향하도록 절곡하는 형태로 형성될 수 있다.On the other hand, the connection part 127 may be formed in the shape of a quadrangular plate so that a part of the blocking plate 121 is bent upward.

그리고, 연결부(127)는 위치검출유닛(110)에 끼워지는 구조를 가지거나, 연결부(127)는 위치검출유닛의 측면에 맞대어져 볼트와 같은 결합부재에 의해 결합되는 형태로 이너셔터(120)를 위치검출유닛(110)에 결합시킬 수 있다.The connecting portion 127 has a structure to be fitted to the position detecting unit 110 or the connecting portion 127 is brought into contact with the side surface of the position detecting unit and is coupled to the inner shutter 120 by a coupling member such as a bolt. May be coupled to the position detection unit 110.

본 발명의 실시예에 따른 FPD용 노광장치(100)는 아웃셔터(130)를 포함할 수 있다.An exposure apparatus 100 for an FPD according to an embodiment of the present invention may include an out shutter 130. [

이 아웃셔터(130)는 FPD용 노광장치(100)를 상부에서 바라봤을 때, 광원(230)의 빛이 조사되는 조사범위에서 이너셔터(120)가 가려지는 부분의 외측에 위치되는 비유효영역으로 유입되는 광원(230)의 빛을 차단할 수 있다.The out-shutter 130 is a portion of the FPD exposure apparatus 100 that is located outside the portion where the inner shutter 120 is covered in the irradiation range in which the light from the light source 230 is irradiated, The light from the light source 230 may be blocked.

한편, 아웃셔터(130)는 이너셔터(120)가 위치되는 비유효영역의 외측에 위치될 수 있으며, 아웃셔터(130) 또한 이너셔터(120)와 함께 이동할 수 있도록 위치검출유닛(110)에 결합될 수 있다.The out shutter 130 may be positioned outside the ineffective area where the inner shutter 120 is positioned and the out shutter 130 may be positioned on the position detection unit 110 so as to move with the inner shutter 120. [ Can be combined.

이때, 아웃셔터(130)는 이너셔터(120)가 위치검출유닛(110)에 결합되는 반대방향인 위치검출유닛(110)의 상부에 결합될 수 있다.At this time, the out shutter 130 can be coupled to the upper portion of the position detecting unit 110, which is the opposite direction in which the inner shutter 120 is coupled to the position detecting unit 110.

여기서, 아웃셔터(130) 또한 이너셔터(120)와 같이 복수 개의 위치검출유닛(110)에 각각 설치되거나 일부의 위치검출유닛(110)에만 설치될 수 있으며, 위치검출유닛(110)의 이동 시 끝단이 서로 간섭되지 않도록 서로 다른 높이를 가지도록 위치검출유닛(110)에 결합될 수 있다.Here, the out shutter 130 may be installed in each of the plurality of position detecting units 110, such as the inner shutter 120, or may be installed only in a part of the position detecting units 110. When the position detecting unit 110 is moved May be coupled to the position detection unit 110 to have different heights so that the ends do not interfere with each other.

또한, 복수 개의 위치검출유닛(110)에 설치되는 아웃셔터(130)는 도 7 및 도 8에 도시된 바와 같이, 그 크기와 형상이 서로 다르게 형성될 수 있다.7 and 8, the out-shutter 130 installed in the plurality of position detecting units 110 may have different sizes and shapes.

그리고, 아웃셔터(130)는 프레임(133)과 차단막(135)을 포함할 수 있다. The out-shutter 130 may include a frame 133 and a blocking film 135.

이 프레임(133)은 무게를 감소시키기 위해 복수 개의 관통된 형태의 공간(134)이 형성될 수 있으며, 복수 개의 관통된 형태의 공간(134)을 형성하도록 복수 개의 막대를 격자형태로 연결하는 형태로 구성될 수 있다.The frame 133 may have a plurality of perforated spaces 134 formed therein to reduce weight and may include a plurality of bars connected in a lattice form to form a plurality of perforated spaces 134 ≪ / RTI >

여기서, FPD용 노광장치(100)는 위치검출유닛(110)의 구동력에 한계가 있기 때문에 위치검출유닛(110)에 설치되는 아웃셔터(130)의 무게가 증가될 경우, 위치검출유닛(110)에 부하가 발생하여 위치검출유닛(110)이 부자연스럽게 이동되거나, 고장이 발생할 수 있다.When the weight of the out-shutter 130 installed in the position detecting unit 110 is increased because the driving force of the position detecting unit 110 is limited, the exposure apparatus 100 for FPD can not detect the position of the position detecting unit 110, The position detecting unit 110 may be unnaturally moved or a failure may occur.

따라서, 아웃셔터(130)의 무게를 감소시키는 만큼 위치검출유닛(110)의 구동력을 보장할 수 있다.Therefore, the driving force of the position detection unit 110 can be ensured by reducing the weight of the out-shutter 130. [

차단막(135)은 무게를 감소시키기 위해 프레임(133)에 형성된 복수의 공간(134)들을 밀폐하여 광원(230)의 빛이 비유효영역으로 유입되는 것을 방지할 수 있다.The blocking film 135 may seal the plurality of spaces 134 formed in the frame 133 to reduce the weight and prevent the light of the light source 230 from entering the non-effective region.

한편, 차단막(135)은 얇은 판의 형상으로 프레임의 상부 또는 하부를 덮는 형태로 복수의 공간(134)들을 밀폐할 수 있다.On the other hand, the barrier film 135 may seal the plurality of spaces 134 in the form of a thin plate so as to cover the top or bottom of the frame.

이때, 차단막(135)은 알루미늄, 스테인리스 등으로 구현될 수 있다.At this time, the barrier layer 135 may be formed of aluminum, stainless steel, or the like.

따라서, 프레임(133)의 상부에 차단막(135)을 안착시켜 차단부재(131)의 무게를 감소시킬 수 있고, 공간(134)의 사이로 광원(230)이 조사되는 것을 방지할 수 있다.Therefore, it is possible to reduce the weight of the blocking member 131 by placing the blocking film 135 on the upper portion of the frame 133, and to prevent the light source 230 from being irradiated to the space 134.

또한, 아웃셔터(130)는 결합부(137)를 포함할 수 있다.In addition, the out-shutter 130 may include an engaging portion 137.

이 결합부(137)는 위치검출유닛(110)에 아웃셔터(130)을 고정시킬 수 있다.The engaging portion 137 can fix the out-shutter 130 to the position detecting unit 110.

한편, 결합부재(137)는 프레임(133)에서 상부 또는 하부로 돌출되도록 프레임(133)에 설치될 수 있다.On the other hand, the engaging member 137 may be installed on the frame 133 so as to protrude upward or downward from the frame 133.

그리고, 결합부(137)가 위치검출유닛(110)의 상부에 안착된 상태에서 볼트와 같은 결합부재에 의해 결합될 수 있다.
Then, the engaging portion 137 can be engaged with the engaging member such as a bolt while being seated on the upper portion of the position detecting unit 110.

이상에서 설명한 각 구성 간의 작용과 효과를 설명한다.The operation and effect between the above-described respective constitutions will be described.

본 발명의 실시예에 따른 FPD용 노광장치(100)는 복수 개의 위치검출유닛(110)이 서로 마주하는 측면에 각각 연결부(127)를 결합하는 형태로 위치검출유닛(110)과 이너셔터(120)를 연결한다.The FPD exposure apparatus 100 according to an embodiment of the present invention includes a position detection unit 110 and an inner shutter 120 in the form of coupling a connecting portion 127 to a side face of a plurality of position detection units 110 facing each other, ).

그리고, 복수 개의 위치검출유닛(110)의 상부에 결합부재(137)를 안착시켜 결합하여 상부에서 바라봤을 때, 이너셔터(120)의 외측으로 아웃셔터(130)가 위치되도록 위치검출유닛(110)과 아웃셔터(130)를 결합한다.  The position detecting unit 110 is mounted on the upper portion of the plurality of position detecting units 110 so as to position the out shutter 130 to the outside of the inner shutter 120 when the engaging member 137 is seated from above. And the out-shutter 130 are combined.

이때, 복수 개의 이너셔터(120)와 복수 개의 아웃셔터(130)은 서로 간섭을 방지하도록 높낮이가 다르게 위치검출유닛(110)에 설치될 수 있다.At this time, the plurality of inner shutters 120 and the plurality of out-shutters 130 may be installed in the position detection unit 110 with different height to prevent interference with each other.

이와 같이 구성된 FPD용 노광장치(100)는 부압마스크(220)의 저면에 기판(200)에 형성할 패턴이 형성된 마스크(210)를 정전기에 의해 부착시키고, 마스크(210)의 하부로 기판(200)을 반입시킨다.The FPD exposure apparatus 100 has a structure in which a mask 210 having a pattern to be formed on a substrate 200 is attached to a bottom surface of a negative pressure mask 220 by static electricity, ).

이렇게 기판(200)이 설치되면, 복수 개의 위치검출유닛(110)은 마스크(210)에 형성된 마크를 찾아 이동하여 광원(230)의 조사범위를 설정하고, 광원(230)을 빛을 조사하여 마스크(210)를 통해 패턴을 노광시킨다.When the substrate 200 is installed, the plurality of position detection units 110 move the mark formed on the mask 210 to set the irradiation range of the light source 230, irradiate the light source 230 with light, (Not shown).

이때, 위치검출유닛(110)에는 이너셔터(120)가 설치되기 때문에 기판(200)에 형성할 패턴의 유효영역에서 일부를 가려 패턴이 형성되지 않는 비유효영역을 형성할 수 있다.At this time, since the inner shutter 120 is provided in the position detection unit 110, a part of the effective area of the pattern to be formed on the substrate 200 can be covered to form an ineffective area in which no pattern is formed.

실시예에서는 이너셔터(120)가 패턴의 유효영역의 둘레를 가려, 실제의 패턴보다 작은 크기의 패턴을 기판(200)에 형성할 수 있다.In the embodiment, the inner shutter 120 covers the effective area of the pattern, and a pattern smaller in size than the actual pattern can be formed on the substrate 200.

그리고, 광원(230)의 빛이 조사되는 조사범위 뿐만 아니라, 비조사범위는 아웃셔터(130)가 가려 광원(230)의 빛이 비조사영역으로 전달되어 발생할 수 있는 패턴형성의 오류를 방지할 수 있다.
In addition to the irradiation range in which the light from the light source 230 is irradiated, the non-irradiation range is set such that the out-shutter 130 covers the light source 230 and the light from the light source 230 is transmitted to the non- .

따라서, 본 발명의 실시예에 따른 FPD용 노광장치는 이너셔터(120)가 패턴을 형성할 유효영역의 일부를 가려 비유효영역을 형성할 수 있기 때문에 다양한 형태의 패턴을 기판(200)에 노광시킬 수 있다.Therefore, since the FPD exposure apparatus according to the embodiment of the present invention can form an ineffective area by covering a portion of the effective area where the inner shutter 120 forms a pattern, various types of patterns can be exposed to the substrate 200 .

또한, 아웃셔터(130)가 광원(230)의 조사범위 외의 부분을 가려 빛이 새어나감으로 인해 패턴의 불량 발생을 방지할 수 있다.In addition, it is possible to prevent the occurrence of defects in the pattern due to leakage of light by covering the portion of the out shutter 130 outside the irradiation range of the light source 230.

또한, 절곡부(123)와 보강판(125)에 의해 이너셔터(120)의 강성을 보강함으로써, 위치검출유닛(110)의 이동 시 진동에 의한 떨림을 방지하여 부압마스크(220)의 손상을 방지할 수 있다.By reinforcing the rigidity of the inner shutter 120 by the bent portion 123 and the reinforcing plate 125, it is possible to prevent the vibration of the negative pressure mask 220 due to vibration during movement of the position detection unit 110 .

또한, 기존에 설치된 FPD용 노광장치(100)에도 용이하게 적용하여 기존에 FPD용 노광장치에서 형성할 수 없는 다양한 형상의 패턴을 기판(200)에 형성할 수 있다.In addition, the present invention can be easily applied to an existing exposure apparatus 100 for an FPD to form various patterns on the substrate 200 that can not be formed in an FPD exposure apparatus.

또한, 아웃셔터(130)를 관통된 공간(134)이 형성된 프레임(133)과 공간을 차단하는 차단막(135)으로 구성하여 아웃셔터(130)의 무게를 감소시켜 위치검출유닛(110)의 부하로 인한 고장 및 이상작동을 방지할 수 있다.The frame 133 formed with the space 134 passing through the out shutter 130 and the blocking film 135 blocking the space reduce the weight of the out shutter 130 to reduce the load of the position detection unit 110 Thereby preventing malfunctions and malfunctions.

또한, 이너셔터(120)를 노광장치에 설치된 위치검출유닛(110)에 설치하여 별도의 구동기구를 설치할 필요가 없기 때문에 제작비용을 감소시킬 수 있다.
In addition, since the inner shutter 120 is provided in the position detecting unit 110 provided in the exposure apparatus, it is not necessary to provide a separate driving mechanism, which can reduce the manufacturing cost.

이상에서 본 발명의 실시예를 설명하였지만, 본 발명의 권리범위는 이에 한정되지 아니하며, 본 발명의 실시예로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 용이하게 변경되어 균등한 것으로 인정되는 범위의 모든 변경 및 수정을 포함한다.While the present invention has been described in connection with what is presently considered to be practical exemplary embodiments, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, And all changes and modifications of the scope permitted.

100 : FPD용 노광장치 110 : 위치검출유닛
120 : 이너셔터 121 : 차단커버
123 : 절곡부 125 : 보강판
127 : 연결부재 130 : 아웃셔터
131 : 차단부재 133 : 프레임
134 : 공간 135 : 차단막
137 : 결합부재 139 : 결합공
200 : 기판 210 : 마스크
220 : 부압마스크 230 : 광원100: exposure apparatus for FPD 110: position detection unit
120: Inner shutter 121: Blocking cover
123: bending section 125: reinforcing plate
127: connecting member 130: out-shutter
131: blocking member 133: frame
134: space 135:
137: coupling member 139: coupling hole
200: substrate 210: mask
220: Negative pressure mask 230: Light source

Claims (7)

기판에 빛을 조사하는 광원, 상기 광원과 상기 기판의 사이에 배치되어 상기 광원에 의해 상기 기판에 임의의 패턴을 노광시키는 마스크, 및 상기 광원의 빛을 조사할 위치를 검출하는 복수 개의 위치검출유닛을 포함하는 FPD용 노광장치에 있어서,
상기 위치검출유닛에 고정되어 상기 위치검출유닛을 따라 이동하고 상기 광원의 조사범위 중 일부를 가려 상기 기판의 일부에 노광을 방지하는 이너셔터, 및
상기 이너셔터의 외측에 배치되어 상기 이너셔터의 외측부분을 가려 상기 이너셔터의 외측부분이 노광되는 것을 방지하고, 상기 위치검출유닛에 고정되어 상기 위치검출유닛을 따라 이동하는 아웃셔터를 포함하고,
상기 이너셔터는 판 형상의 차단커버, 및 상기 위치검출유닛의 이동 시 상기 차단커버의 떨림을 방지하도록 상기 차단커버의 강성을 보강하는 보강판을 포함하는 것을 특징으로 하는 FPD용 노광장치.A light source for irradiating light to the substrate; a mask disposed between the light source and the substrate for exposing an arbitrary pattern to the substrate by the light source; and a plurality of position detection units The exposure apparatus for an FPD according to claim 1,
An inner shutter fixed to the position detection unit and moving along the position detection unit and covering a part of the irradiation range of the light source to prevent exposure to a part of the substrate;
And an out-shutter disposed on an outer side of the inner shutter to cover an outer portion of the inner shutter to prevent exposure of an outer portion of the inner shutter and to move along the position detection unit,
Wherein the inner shutter includes a plate-shaped shielding cover, and a reinforcing plate for reinforcing the rigidity of the shielding cover to prevent shaking of the shielding cover when the position detecting unit moves. 삭제delete 제1 항에 있어서,
상기 차단커버는
상기 차단커버의 단부에서 절곡되어 상기 차단커버의 강성을 보강하는 절곡부를 포함하는 것을 특징으로 하는 FPD용 노광장치.The method according to claim 1,
The blocking cover
And a bent portion bent at an end of the blocking cover to reinforce the rigidity of the blocking cover. 제1 항에 있어서,
상기 이너셔터는
상기 이너셔터를 상기 위치검출유닛에 고정하기 위한 연결부를 포함하는 것을 특징으로 하는 FPD용 노광장치.The method according to claim 1,
The inner shutter
And a connection part for fixing the inner shutter to the position detection unit. 제1 항에 있어서,
상기 아웃셔터는
상기 아웃셔터의 무게를 감소시키기 위해 관통된 형태로 복수 개의 공간이 형성된 프레임, 및
상기 복수 개의 공간을 통해 상기 광원의 빛이 통과되는 것을 방지하도록 상기 복수 개의 공간을 밀폐하는 차단막을 포함하는 것을 특징으로 하는 FPD용 노광장치.The method according to claim 1,
The out-
A frame having a plurality of spaces formed in a penetrating manner to reduce the weight of the out-shutter, and
And a blocking film for sealing the plurality of spaces to prevent light from the light source from passing through the plurality of spaces. 제5 항에 있어서,
상기 아웃셔터는
상기 위치검출유닛과 상기 프레임을 결합하는 결합부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 FPD용 노광장치.6. The method of claim 5,
The out-
And an engaging member for engaging the frame with the position detecting unit. 삭제delete
KR1020140173648A 2014-12-05 2014-12-05 A lithography apparatus for KR101715785B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020140173648A KR101715785B1 (en) 2014-12-05 2014-12-05 A lithography apparatus for

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020140173648A KR101715785B1 (en) 2014-12-05 2014-12-05 A lithography apparatus for

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20160068226A KR20160068226A (en) 2016-06-15
KR101715785B1 true KR101715785B1 (en) 2017-03-13

Family

ID=56134959

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020140173648A KR101715785B1 (en) 2014-12-05 2014-12-05 A lithography apparatus for

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101715785B1 (en)

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013054144A (en) 2011-09-02 2013-03-21 Nikon Corp Alignment method, exposure method, method of manufacturing device, and method of manufacturing flat panel display
JP2014112247A (en) 2009-03-04 2014-06-19 Nikon Corp Movable body apparatus, exposure apparatus and moving method

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5573849B2 (en) * 2009-08-20 2014-08-20 株式会社ニコン Object processing apparatus, exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method
WO2013031223A1 (en) * 2011-08-30 2013-03-07 株式会社ニコン Substrate treatment device, substrate treatment method, light exposure method, light exposure device, method for manufacturing device, and method for manufacturing flat panel display

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014112247A (en) 2009-03-04 2014-06-19 Nikon Corp Movable body apparatus, exposure apparatus and moving method
JP2013054144A (en) 2011-09-02 2013-03-21 Nikon Corp Alignment method, exposure method, method of manufacturing device, and method of manufacturing flat panel display

Also Published As

Publication number Publication date
KR20160068226A (en) 2016-06-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN107109622B (en) Method for manufacturing vapor deposition mask, vapor deposition mask manufacturing apparatus, laser mask, and method for manufacturing organic semiconductor element
US20180052395A1 (en) Exposure method, substrate and exposure apparatus
JP2011097112A5 (en)
JP5757245B2 (en) Exposure method and exposure apparatus
KR101254442B1 (en) Color filter and manufacturing method for a color filter
KR101715785B1 (en) A lithography apparatus for
CN111172496A (en) Mask for laser
KR20190031234A (en) Photomask, photomask manufacturing method, and manufacturing method of color filter using photomask
JP2013122404A (en) X-ray examination device
JP4390512B2 (en) Exposure method and substrate alignment method used in the method
JP6037199B2 (en) Exposure apparatus and exposure method
JP4488685B2 (en) Exposure equipment
JP2008023716A (en) Screen plate and printing member
JP4960266B2 (en) Edge position detection method and edge position detection apparatus for transparent substrate
JP2007121999A (en) Color filter for liquid crystal display, and method of manufacturing same
JP2008233616A (en) Periphery exposure device and method of manufacturing panel structure
KR101801661B1 (en) Blind, exposure apparatus having the same and method of driving the exposure apparatus
KR100684719B1 (en) Exposure method by direct imaging exposure apparatus
JP2005091790A (en) Exposing method for columnar spacer formation, color filter formation substrate for liquid crystal display device, and liquid crystal display device
KR101338644B1 (en) Stage device for exposure apparatus
KR101883186B1 (en) Exposure apparatus having blind and method of driving the same
JP4478420B2 (en) Color filter and manufacturing method thereof
KR20210052799A (en) Mask, patterning deivice including the same, and display device
JPH0219810Y2 (en)
JP2006276351A (en) Method for confirming pattern position accuracy of proximity exposure device and device therefor

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
R401 Registration of restoration