KR101713785B1 - 개선된 고투명성 투명 필름의 제조방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명에 따른 개선된 고투명성 투명 필름의 제조방법은,
베이스필름의 상면 및 하면 중 적어도 일 면에 서브필름을 적층하는 단계;
상기 서브필름의 상면에 수지필름을 적층하는 단계;
상기 수지필름의 상면에 보조시트를 적층하는 단계;
상기 보조시트의 상면에 보호시트를 적층하여 적층체를 제조하는 단계;
상기 적층체를 115 내지 135℃에서 35 내지 50kgf/㎠의 압력이 가해지도록 55 내지 65분 동안 프레스하여 투명 필름을 제조하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.

Description

개선된 고투명성 투명 필름의 제조방법{A Manufacturing Method Of Enhanced High Transparency Transparent Film}
본 발명은 개선된 고투명성 투명 필름의 제조방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게 설명하면 신규한 조건의 핫프레스 공정 및 LAY-UP 구조의 변형을 통해 고투명도를 나타내는 커버레이용 투명 필름의 제조방법에 관한 것이다.
통상적으로 종래의 연성 회로 기판에서 회로 보호용으로 사용되는 커버레이는 기판의 회로면에 부착되도록 접착제층이 형성되어 지며 따라서 커버레이의 제조 시에 상기 접착제층의 접착제를 보호하기 위해 이형지나 투명 기재에 이형처리를 한 이형 필름을 사용해 왔다.
상기한 이형지의 경우 기재(基材)시트 표면에 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 수지 등의 폴리올레핀 수지를 라미네이트 하고, 이형층을 형성한 것이나, 알키드 수지를 코팅해서 이형층을 형성하고, 표면에 미세한 요철을 형성한엠보스롤에 의해 그 이형층에 엠보스 가공을 실시한 것이 공지되어 있다. 또한, 상기 이형 필름의 경우는 종이 또는 플라스틱 필름 등의 기재와 점착성 물질 사이의 접착 또는 고착을 방지하는 것을 목적으로 하여, 기재 면에 실리콘 조성물의 경화 피막을 형성시켜 박리성을 부여한다. 상기 기재 면이 플라스틱 필름인 경우 통상 이형 필름이라 칭하는데, 이러한 이형 필름은 예를 들어 제품이 사용 준비될 때까지 분진, 파편, 수분 및 기타 오염물에 의한 오염으로부터 접착제 층의 점착성 접착면을 일시적으로 보호하는 역할을 한다. 따라서, 일반적으로 상기 이형지 또는 이형 필름은 접착제품의 사용 직전에 접착면으로부터 분리되어 진다.
특히, 상기 이형 필름에 있어서, 그 기재필름으로서는 일반적으로 폴리에스테르 필름이 주로 사용되는데, 폴리에스테르 필름은 안정한 화학구조를 가지고 있어 기계적 강도가 높으며, 내열성, 내구성, 내약품성 등의 물성 측면에서 우수한 특성을 나타내기 때문이다. 이러한 폴리에스테르 중, 특히 폴리에틸렌테레프탈레이트(polyethyleneterephthalate)는 저온부터 고온에 이르기까지 넓은 온도 범위에 걸쳐 물성의 안정성이 뛰어나고, 내화학 특성이 우수하며, 기계적 강도, 표면특성, 두께의 균일성이 양호하고 다양한 용도의 공정조건에 우수한 적응력을 가지고 있어 산업용, 의료용, 포장용 등의 용도로 폭넓게 사용되고 있다. 또한, 최근 제기되고 있는 환경 오염 문제에 있어서도 재활용율이 높아 산업 분야에서 차지하는 중요도는 점점 커지고 있는 실정이다.
이에 대한 발명으로서, 한국 등록특허 제 10-1125423호에 '커버레이 필름 및 그 제조방법'이 개시되어 있다. 상기 발명은 커버레이 필름 및 그 제조방법에 관한 것으로, 상기 발명의 커버레이 필름은 절연성 필름, 접착제층 및 박리가능한 보호필름이 순차로 적층되어 구성된 투명 필름에 있어서, 상기 보호필름은 플라스틱 기재 내에 무기 입자를 함유함에 의해 2차원 조도 분석법에 의한 기재의 십점평균조도(Rz)가 0.5㎛ 이상이고 5㎛ 이하인 플라스틱 필름에 이형성 물질이 도포된 이형 필름인 것을 특징으로 한다.
상기와 같이 구성되는 커버레이 필름은 연성회로기판의 회로를 보호하는 커버레이의 접착제 층을 보호하는 서브필름으로 기재의 십점평균조도(Rz)가 일정한 범위로 되도록 조절된 플라스틱 기재가 사용되고 상기 플라스틱 기재 내에 포함된 입자에 의한 요철에 의해 표면에 매트화 층이 형성되고 그 위에 이형층이 형성된 것이 사용되므로, 종래에 사용되던 3층 구조의 이형지 대비 가격을 낮출 수 있고, 외기 흡습에 의한 컬링 영향을 해결하는 동시에, 요철이 없는 종래의 투명 이형 필름에서 문제가 되었던 타발면이 뜨는 가접성 문제 및 타발 시에 발생하는 버(Burr) 문제를 해결하고자 하였다.
또한, 종래의 연성 회로 기판의 회로 보호용 커버레이 필름의 제조 시 사용되는 이형지는 일반적으로 폴리올레핀 필름, 종이, 폴리올레핀 필름을 순차적으로 라미네이션한 것의 한쪽 표면에 이형층을 형성한 것이 사용되고 있다. 이러한 3층의 이형지는 취급성이 좋은 장점이 있으나, 중간 종이 층이 수분 흡수가 용이하여 흡습에 의한 치수 변화로 인하여 컬링(curling) 문제로 공정상 작업성(재단)을 떨어뜨리는 문제가 있으며, 이형지에 이용되는 것으로서 표백되지 아니한 크라프트 펄프로 만든 갈색 종이인 크라프트지에서 발생하는 분진으로 인하여 기판 제작시 기판에 분진이 붙게 되고, 이 상태로 핫프레스로 성형하게 됨으로써 기판에 불량이 발생할 뿐 아니라, 투명 연성 회로 기판의 경우 그 투명도가 떨어질 수 있다는 문제점이 있었다.
따라서 상술한 바와 같은 문제점을 해결하기 위해 핫프레스 공정 및 LAY-UP 구조의 변형을 통해 투명도를 향상시키며 기판의 불량률을 낮출 수 있는, 신규하고 진보한 투명 필름의 제조방법을 개발할 필요성이 대두되는 실정이다.
본 발명은 상기 기술의 문제점을 극복하기 위해 안출된 것으로, 투명도를 85%까지 끌어올려 투명 플렉시블 인쇄회로기판에 적용하기 적합한 투명 필름의 제조방법을 제공하는 것을 주요 목적으로 한다.
본 발명의 다른 목적은, 투명 필름의 신규한 LAY-UP 구조를 통해 필름 내부에서 일어나는 난반사를 최소화하여 투명도를 보다 높이는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 레진플로우(resin flow)를 최소화하면서도 투명도를 향상시킬 수 있으며, 기포나 들뜸이 발생하지 않는 최적의 공정 조건을 제공하는 것이다.
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 개선된 고투명성 투명 필름의 제조방법은, 개선된 고투명성 투명 필름의 제조방법으로서, 베이스필름의 상면 및 하면 중 적어도 일 면에 서브필름을 적층하는 단계; 상기 서브필름의 상면에 수지필름을 적층하는 단계; 상기 수지필름의 상면에 보조시트를 적층하는 단계; 상기 보조시트의 상면에 보호시트를 적층하여 적층체를 제조하는 단계; 상기 적층체를 115 내지 135℃에서 35 내지 50kgf/㎠의 압력이 가해지도록 55 내지 65분 동안 프레스하여 투명 필름을 제조하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
더불어, 상기 베이스필름은, 폴리이미드, 폴리에틸렌프탈레이트, 아세테이트 중 선택된 어느 하나로 이루어 진 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 보조시트는, 폴리에스테르계 수지인 것을 특징으로 한다.
추가적으로, 상기 수지필름은, 0.2T 이상의 두께를 가진 PVC 재질의 제 1 수지필름 및 제 2 수지필름으로 이루어진 것을 특징으로 한다.
추가적으로, 상기 수지필름을 적층하는 단계는, 상기 서브필름의 상면에 제 1 수지필름을 적층하는 단계와, 적층된 상기 제 1 수지필름의 상면에 열경화성 투명 레진을 도포하는 단계, 상기 투명 레진이 도포된 상기 제 1 수지필름의 상면에 상기 제 2 수지필름을 적층하여 가적층된 필름을 형성하는 단계 및, 상기 가적층된 필름을 70 내지 100℃ 및 5 내지 20 kgf/㎠의 항온 가압 챔버에서 20 내지 30분 간 프레스하여 상기 투명 레진을 경화시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
추가적으로, 상기 투명 레진은, 점도가 80 내지 150 cPs이며, 상기 투명 레진을 도포하는 단계는, 상기 투명 레진을 슬릿 코터를 이용하여 상기 제 1 수지필름의 전방 표면상에 면의 형태로 도포함으로써 레진층을 형성하는 것을 특징으로 한다.
추가적으로, 상기 레진층은, 두께가 10 내지 100μm 인 것을 특징으로 한다.
추가적으로, 상기 투명 필름을 제조하는 단계는, 상온의 핫프레스에 상기 적층체를 위치시키고 상기 핫프레스를 분당 3 내지 12℃의 가열 속도로 5분 내지 15분간 승온시키는 단계와, 상기 승온된 핫프레스를 분당 4 내지 8 kgf/㎠의 가압 속도 및 분당 3 내지 12℃의 가열 속도로 5분 내지 15분 간 승온 및 승압시키는 단계 및, 115 내지 135℃ 및 35 내지 50kgf/㎠로 승온 및 승압된 상기 핫프레스를 55 내지 65분 동안 유지하여 투명 필름을 형성하는 단계와, 상기 투명 필름을 15 내지 25분 동안 냉각시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
추가적으로, 상기 투명 필름을 제조하는 단계는, 상기 핫프레스가 위치한 챔버를 40 내지 55분 동안 -0.1±0.01MPa의 진공 상태로 유지시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
추가적으로, 상기 투명 필름의 제조방법은, 상기 서브필름을 적층하는 단계 내지 상기 투명 필름을 제조하는 단계를 1주기로 하여 상기 베이스필름의 상면 및 하면에 각각 반복 수행하는 것을 특징으로 한다.
추가적으로, 상기 투명 필름을 형성하는 단계는, 115 내지 135℃에서 35 내지 50kgf/㎠의 압력이 가해지도록 승온 및 승압된 상기 핫프레스에 상기 적층체를 5분 내지 25분 동안 유지시키는 단계 및, 상기 핫프레스가 위치한 챔버를 40 내지 50분 동안 -0.1±0.01MPa의 진공 상태로 유지시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
추가적으로, 상기 투명 필름의 제조방법은, 상기 서브필름을 적층하는 단계 내지 상기 투명 필름을 제조하는 단계를 1주기로 하여 상기 베이스필름의 상면 및 하면에 각각 반복 수행하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 개선된 고투명성 투명 필름의 제조방법은,
1) 투명도를 85%까지 끌어올려 투명 플렉시블 인쇄회로기판에 적용하기 적합한 투명 필름의 제조방법을 제공하고,
2) 투명 필름의 보조시트로서 폴리에스테르계 수지를 적용함으로써 필름 내부에서 일어나는 난반사를 최소화하여 투명도를 보다 향상시켰으며,
3)레진플로우(resin flow)를 최소화하면서도 투명도를 향상시킬 수 있으며, 기포나 들뜸이 발생하지 않는 최적의 공정 조건을 제공하는 효과가 있다.
도 1은 본 발명의 개선된 고투명성 투명 필름의 제조방법의 기본 순서를 나타낸 순서도.
도 2는 본 발명의 수지필름을 적층하는 단계의 세부 순서를 나타낸 순서도.
도 3은 본 발명의 투명 필름을 제조하는 단계의 세부 순서를 나타낸 순서도.
도 4는 본 발명의 투명 필름 제조방법의 실험예를 비교한 표.
도 5는 핫프레스 조건 별 실험예를 비교한 표.
이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세하게 설명하도록 한다. 첨부된 도면은 축척에 의하여 도시되지 않았으며, 각 도면의 동일한 참조 번호는 동일한 구성 요소를 지칭한다.
이 때, 본 발명의 투명 필름이라 함은 반도체 공정에서 제조되는 커버레이 필름을 일컫는 말로서, 이하에서 명시되는 '투명 필름'은 '커버레이 필름'을 지칭하는 것이며, 본 발명의 상세한 설명 및 도면에서'투명 필름'과 '커버레이 필름'은 동일한 것으로서 혼용될 수 있다.
도 1은 본 발명의 개선된 고투명성 투명 필름의 제조방법의 기본 순서를 나타낸 순서도이다.
도 1을 참조하여 설명하면, 본 발명의 개선된 고투명성 투명 필름의 제조방법은, 베이스필름의 상면 및 하면 중 적어도 일 면에 서브필름을 적층하는 단계(S100)와, 상기 서브필름의 상면에 수지필름을 적층하는 단계(S200) 및, 상기 수지필름의 상면에 보조시트를 적층하는 단계(S300)와, 상기 보조시트의 상면에 보호시트를 적층하여 적층체를 제조하는 단계(S400) 및, 상기 적층체를 115 내지 135℃에서 35 내지 50kgf/㎠의 압력이 가해지도록 55 내지 65분 동안 프레스하여 투명 필름을 제조하는 단계(S500)를 기본적으로 포함하는 것을 특징으로 한다.
여기서 베이스필름은 투명 재질 혹은 불투명 재질로서 그 재질에 제한을 두지 않으나, 본 발명의 개선된 고투명성 투명 필름이 적층되는 특성상 투명 재질의 폴리이미드, 폴리에틸렌프탈레이트, 아세테이트 중 어느 하나를 선택하여 투명 플렉시블 디스플레이에 적용하는 것이 보다 바람직하며, 상면에 회로패턴이 형성되어 내층회로기판으로서 이용될 수 있다.
서브필름을 적층하는 단계(S100)는 이러한 베이스필름의 상면 및 하면 중 적어도 일 면에 서브필름을 적층하며, 서브필름은 베이스필름을 보호하는 보호 필름으로서의 역할을 수행한다. 이 때 서브필름의 재질에 있어서는 제한이 없으므로 폴리올레핀, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리스티렌, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리에테르이미드, 아세테이트, 염화비닐 등의 다양한 재질이 이용될 수 있다. 보다 바람직하게는 FR-1200 또는 FR-1500 필름 시트가 이용될 수 있다.
더불어 베이스필름의 상면에 서브필름을 적층할 시 베이스필름과 서브필름 사이에는 별도의 접착층이 형성될 수 있으며, 접착층을 이루는 접착제의 성분에는 제한을 두지 않으나 바람직하게는 프레스 공정 후에 경화될 수 있도록 가교 가능한 기능기를 가진 열경화성 수지인 에폭시계 수지 또는 아크릴계 수지가 이용될 수 있으며, 또한 흐름성을 제어하기 위해 열가소성 수지를 첨가할 수 있음은 물론이고 전자 부품으로 이용되기 위한 난연성을 갖추기 위해 브롬계 난연제 또는 인계 난연제가 첨가될 수 있다. 더불어 이와 같은 접착층은 후술할 수지필름, 보조시트, 보호시트 적층 시에도 형성될 수 있다.
서브필름의 적층이 완료되면, 상기 서브필름의 상면에 수지필름을 적층하는 단계(S200)가 수행되는데, 수지필름은 외부로 가해지는 충격으로부터 베이스필름을 보호하며, 충격을 흡수하는 완충 역할을 수행하는 일종의 완충 필름이라 할 수 있다.
이러한 수지필름의 재질로는 폴리올레핀계, 폴리에스테르계, 폴리에테르계, 폴리비닐계 등 다양한 플라스틱 재질이 이용될 수 있으나, 폴리비닐계 수지를 적용하는 것이 적합하며, 보다 바람직하게는 폴리염화비닐(PVC)을 이용하는 것이 보호 기능 및 충격 완화 기능 수행을 위해 바람직하다. 더불어 수지필름을 PVC 재질로서 구성할 시, 적층된 수지필름의 두께가 0.4T, 즉 0.4mm(=400μm) 이상일 때 레진플로우(Resin flow)를 안정화 할 수 있으므로 두께를 0.4T 이상으로 구성하는 것이 바람직하다.
다음으로 상기 수지필름의 상면에 보조시트를 적층하는 단계(S300)에 대해 설명하도록 한다. 보조시트는 베이스필름에 대한 보호 기능 뿐 아니라 하면에 적층된 수지필름이 후에 적층될 보호시트와 융착되는 경우 발생할 수 있는 수지필름에 의한 수축불량 등의 문제를 해소하기 위해 적층되는 것이다.
이러한 보조시트는 종래에 이용되던 크라프트(KRAFT) 재질의 이형지를 적용하여 이용하는 것도 가능하나 크라프트지를 이형지로 이용할 시 표면이 평탄하지 못한 크라프트지의 특성 상 표면 자국으로 인해 투명도가 떨어져 투명 플렉시블 인쇄회로기판에 적용하기에 한계가 있으므로, 보조시트의 재질로서 크라프트지를 대신하여 폴리에스테르계 수지, 보다 상세하게 설명하면 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 재질의 XG-284 시트를 적용하는 것이 바람직하다.
이와 같은 폴리에스테르계 수지 재질의 보조시트를 적용하는 경우 투명 필름의 평탄도가 향상되어 보조시트의 상면에 적층되는 보호시트와의 적층에 보다 유리해질 뿐 아니라, 매끄럽지 않은 표면에서 발생할 수 있는 난반사에 의한 투명도 감소 문제를 해소함으로써 투명도를 보다 향상시킬 수 있음은 물론이다.
보조시트가 적층된 후에는 상기 보조시트의 상면에 보호시트를 형성하여 적층체를 제조하는 단계(S400)가 수행된다. 보호시트는 적층체의 최상층에 위치하는 것으로서, 그 재질에는 제한이 없으나 투명 재질의 듀오 포일(Duo Foil)을 이용하는 것이 바람직하다.
적층체의 제조가 완료되면, 상기 적층체를 115 내지 135℃ 및 35 내지 50kgf/㎠의 조건에서 55 내지 65분 동안 프레스하여 투명 필름을 제조하는 단계(S500)가 수행되는데, 이는 종래의 투명 필름 프레스 공정에 비해 온도와 압력을 낮춘 조건에서 프레스를 수행하는 것으로서, 이를 통해 85% 수준의 투명도를 확보할 수 있어 프레스 후 투명도가 현저하게 떨어지던 종래의 투명 필름의 투명성 문제를 해결한 것이다.
이 때 프레스 공정 시 고온으로 유지하는 시간은 60분 인 것이 투명 필름의 기포 및 들뜸 방지와 더불어 투명도를 향상시키는 데 있어 가장 효과적이며, 압력의 경우 35 내지 50kgf/㎠조건 내에서 가변될 수 있으나 가장 높은 투명도를 나타내기 위해서는 40kgf/㎠조건에서 프레스 되는 것이 가장 바람직하다.
도 2는 본 발명의 수지필름을 적층하는 단계(S200)의 세부 순서를 나타낸 순서도이다.
도 2를 참조하여 수지필름을 적층하는 단계(S200)에 대해 보다 상세히 설명하면 다음과 같다. 먼저 상기 수지필름은, 0.2T 이상의 두께를 가진 PVC 재질의 제 1 수지필름 및 제 2 수지필름으로 이루어져 제 1 수지필름 및 제 2 수지필름의 두께의 합이 0.4T 이상으로 구성된다.
이러한 제 1 수지필름 및 제 2 수지필름을 적층하는 단계(S200)는, 상기 서브필름의 상면에 제 1 수지필름을 적층하는 단계(S210)와, 적층된 상기 제 1 수지필름의 상면에 열경화성 투명 레진을 도포하는 단계(S220) 및, 상기 투명 레진이 도포된 상기 제 1 수지필름의 상면에 상기 제 2 수지필름을 적층하여 가적층된 필름을 형성하는 단계(S230)와, 상기 가적층된 필름을 70 내지 100℃ 및 5 내지 20 kgf/㎠의 항온 가압 챔버에서 20 내지 30분 간 프레스하여 상기 투명 레진을 경화시키는 단계(S240)를 포함하여 구성될 수 있다.
이 때 이용되는 열경화성 투명 레진의 점도는 80 내지 150 cPs 인 것이 균일한 두께로 열경화성 투명 레진을 도포하는데 있어 적합할 것이며, 상기 투명 레진을 도포하는 단계(S220)는, 상기 투명 레진을 슬릿 코터를 이용하여 상기 제 1 수지필름의 전방 표면상에 면의 형태로 도포함으로써 레진층을 형성하게 된다.
따라서 이와 같이 제 1 수지필름을 적층하는 단계(S210) 후에 열경화성 투명 레진을 도포하는 단계(S220)를 통해 레진층을 형성한 뒤, 가적층된 필름을 형성하는 단계(S230)에서 제 2 수지필름을 적층하고, 가적층된 필름을 70 내지 100℃ 및 5 내지 20 kgf/㎠의 항온 가압 챔버에서 20 내지 30분 간 프레스하여 상기 투명 레진을 경화시키는 단계(S240)를 통해 투명 레진이 제 1 수지필름과 제 2 수지필름을 접착하게 되는 것이다.
여기서 투명 레진을 경화시키는 단계(S240)에서는 50 내지 80℃ 및 5 내지 20 kgf/㎠의 조건에서 20 내지 30분 간 프레스가 수행되므로, 투명 필름을 제조하는 단계(S500)에 비해 보다 낮은 온도 및 압력으로 프레스하여 투명 레진만을 경화시키는 것을 그 목적으로 한다.
이를 통해 단일 구조의 수지필름을 이용했을 경우보다 보다 높은 강도를 제공할 수 있으며, 형성된 레진층은 두께가 10 내지 100μm이므로 투명 필름의 두께에 큰 영향을 미치지 않음은 물론이다.
도 3은 본 발명의 투명 필름을 제조하는 단계(S500)의 세부 순서를 나타낸 순서도이다.
도 3을 참조하여 설명하면, 상기 투명 필름을 제조하는 단계(S500)는, 상온의 핫프레스에 상기 적층체를 위치시키고 상기 핫프레스를 분당 3 내지 12℃의 가열 속도로 5분 내지 15분간 승온시키는 단계(S510)와, 상기 승온된 핫프레스를 분당 4 내지 8 kgf/㎠의 가압 속도 및 분당 3 내지 12℃의 가열 속도로 5분 내지 15분 간 승온 및 승압시키는 단계(S520) 및, 115 내지 135℃에서 35 내지 50kgf/㎠의 압력이 가해지도록 승온 및 승압된 상기 핫프레스에 상기 적층체를 55 내지 65분 동안 유지하여 투명 필름을 형성하는 단계(S530)와, 상기 투명 필름을 15 내지 25분 동안 냉각시키는 단계(S540)를 포함하여 구성될 수 있다.
이는 상술한 바와 같이 투명성을 최대한 높이면서도 기포나 들뜸 발생을 최소화하고, 레진플로우(resin flow)를 최소화할 수 있는 프레스 공정의 조건을 나타낸 것으로서, 이와 같은 공정을 통해 제조된 투명 필름은 85%의 투명도를 보장할 뿐 아니라 들뜸 및 기포 발생이 없으며, 레진플로우(resin flow)를 최소화하여 후공정에서 발생하는 불량률을 낮출 수 있다는 특성을 제공한다.
이 때 상기 핫프레스를 분당 3 내지 12℃의 가열 속도로 5분 내지 15분간 승온시키는 단계 및 상기 승온된 핫프레스를 분당 4 내지 8 kgf/㎠의 가압 속도 및 분당 3 내지 12℃의 가열 속도로 5분 내지 15분 간 승온 및 승압시키는 단계(S520)는, 투명 필름을 형성하는 단계에 있어서 핫프레스가 115 내지 135℃에서 35 내지 50kgf/㎠의 압력이 가해지도록 승온 및 승압될 수 있다면 각각 5 내지 15분이라는 시간 조건 하에서 상호 조절될 수 있음은 물론이다.
이에 더불어 상기 투명 필름을 형성하는 단계(S530)는, 115 내지 135℃에서 35 내지 50kgf/㎠의 압력이 가해지도록 승온 및 승압된 상기 핫프레스에 상기 적층체를 5분 내지 25분 동안 유지시키는 단계(S531) 및, 상기 핫프레스가 위치한 챔버를 40 내지 50분 동안 -0.1±0.01MPa의 진공 상태로 유지시키는 단계(S532)로 구성될 수 있으므로, 핫프레스가 위치한 챔버를 진공 상태로 유지함으로써 프레스의 성능을 보다 향상시킬 수 있음은 물론이다. 이 때 바람직하게는 투명 필름을 형성하는 단계가 그 세부 공정을 합하여 55분 내지 65분 이내 동안 진행되는 것이 바람직하다.
추가적으로, 상기 투명 필름의 제조방법은, 상기 서브필름을 적층하는 단계(S100) 내지 상기 투명 필름을 제조하는 단계(S500)를 1주기로 하여 상기 베이스필름의 상면 및 하면에 각각 반복 수행될 수 있으므로 베이스필름의 상면 및 하면에 각각 투명 필름이 형성되게 함으로써 투명 필름과 베이스필름 간의 접착 효율을 보다 증대시킴으로써 들뜸을 방지할 수 있다.
도 4는 본 발명의 투명 필름 제조방법에서 크라프트지를 이용한 실험예 및 폴리의 실험예를 비교한 표이다.
도 4를 참조하여 설명하면, 동일한 투명 필름을 제조하는 단계(S500)를 수행하였을 때 보조시트로서 크라프트지를 이용한 대조예에 비하여 보조시트로서 폴리에스테르계 수지인 XG-284 필름을 이용한 실시예가 그 결과에 있어 투명도가 월등히 향상된 것을 확인할 수 있다. 따라서 보조시트로서 폴리에스테르계 수지를 이용할 경우 거친 표면으로 인해 난반사가 일어나 투명도가 현저히 떨어지는 문제점을 해결할 수 있다는 것을 나타낸다.
도 5는 핫프레스 조건 별 실험예를 비교한 표이다.
도 5를 참조하여 설명하면, 같은 LAY-UP 조건으로 투명 필름을 제조하는 단계(S500)를 수행하였을 때 본 발명의 투명 필름을 제조하는 단계(S500)에 비해 고온 유지 시간을 길게 설정한 대조예보다 본 발명의 투명 필름을 제조하는 단계(S500)를 적용한 실시예가 보다 높은 투명도를 나타낼 뿐 아니라, 레진플로우가 보다 적게 발생하였음을 확인할 수 있다.
지금까지 설명한 바와 같이, 본 발명에 따른 개선된 고투명성 투명 필름의 제조방법의 구성 및 작용을 상기 설명 및 도면에 표현하였지만 이는 예를 들어 설명한 것에 불과하여 본 발명의 사상이 상기 설명 및 도면에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 변화 및 변경이 가능함은 물론이다.
S100 : 베이스필름의 상면 및 하면 중 적어도 일 면에 서브필름을 적층하는 단계
S200 : 상기 서브필름의 상면에 수지필름을 적층하는 단계
S210 : 상기 서브필름의 상면에 제 1 수지필름을 적층하는 단계
S220 : 적층된 상기 제 1 수지필름의 상면에 열경화성 투명 레진을 도포하는 단계
S230 : 상기 투명 레진이 도포된 상기 제 1 수지필름의 상면에 상기 제 2 수지필름을 적층하여 가적층된 필름을 형성하는 단계
S240 : 상기 가적층된 필름을 70 내지 100℃ 및 5 내지 20 kgf/㎠의 항온 가압 챔버에서 20 내지 30분 간 프레스하여 상기 투명 레진을 경화시키는 단계
S300 : 상기 수지필름의 상면에 보조시트를 적층하는 단계
S400 : 상기 보조시트의 상면에 보호시트를 적층하여 적층체를 제조하는 단계
S500 : 상기 적층체를 115 내지 135℃에서 35 내지 50kgf/㎠의 압력이 가해지도록 55 내지 65분 동안 프레스하여 투명 필름을 제조하는 단계
S510 : 상온의 핫프레스에 상기 적층체를 위치시키고 상기 핫프레스를 분당 3 내지 12℃의 가열 속도로 5분 내지 15분간 승온시키는 단계
S520 : 상기 승온된 핫프레스를 분당 4 내지 8 kgf/㎠의 가압 속도 및 분당 3 내지 12℃의 가열 속도로 5분 내지 15분 간 승온 및 승압시키는 단계
S530 : 115 내지 135℃에서 35 내지 50kgf/㎠의 압력이 가해지도록 승온 및 승압된 상기 핫프레스에 상기 적층체를 55 내지 65분 동안 유지하여 투명 필름을 형성하는 단계
S531 : 115 내지 135℃에서 35 내지 50kgf/㎠의 압력이 가해지도록 승온 및 승압된 상기 핫프레스에 상기 적층체를 5분 내지 25분 동안 유지시키는 단계
S532 : 상기 핫프레스가 위치한 챔버를 40 내지 50분 동안 -0.1±0.01MPa의 진공 상태로 유지시키는 단계
S540 : 상기 투명 필름을 15 내지 25분 동안 냉각시키는 단계

Claims (10)

  1. 개선된 고투명성 투명 필름의 제조방법으로서,
    베이스필름의 상면 및 하면 중 적어도 일 면에 서브필름을 적층하는 단계;
    상기 서브필름의 상면에 수지필름을 적층하는 단계;
    상기 수지필름의 상면에 보조시트를 적층하는 단계;
    상기 보조시트의 상면에 보호시트를 적층하여 적층체를 제조하는 단계;
    상기 적층체를 115 내지 135℃에서 35 내지 50kgf/㎠의 압력이 가해지도록 55 내지 65분 동안 프레스하여 투명 필름을 제조하는 단계;를 포함하되,
    상기 수지필름은, 0.2T 이상의 두께를 가진 PVC 재질의 제 1 수지필름 및 제 2 수지필름으로 이루어진 것을 특징으로 하는, 개선된 고투명성 투명 필름의 제조방법.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 베이스필름은,
    폴리이미드, 폴리에틸렌프탈레이트, 아세테이트 중 선택된 어느 하나로 이루어 진 것을 특징으로 하는, 개선된 고투명성 투명 필름의 제조방법.
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 보조시트는,
    폴리에스테르계 수지인 것을 특징으로 하는, 개선된 고투명성 투명 필름의 제조방법.
  4. 제 1항에 있어서,
    상기 수지필름을 적층하는 단계는,
    상기 서브필름의 상면에 제 1 수지필름을 적층하는 단계와,
    적층된 상기 제 1 수지필름의 상면에 열경화성 투명 레진을 도포하는 단계,
    상기 투명 레진이 도포된 상기 제 1 수지필름의 상면에 상기 제 2 수지필름을 적층하여 가적층된 필름을 형성하는 단계 및,
    상기 가적층된 필름을 70 내지 100℃ 및 5 내지 20 kgf/㎠의 항온 가압 챔버에서 20 내지 30분 간 프레스하여 상기 투명 레진을 경화시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 개선된 고투명성 투명 필름의 제조방법.
  5. 제 4항에 있어서,
    상기 투명 레진은,
    점도가 80 내지 150 cPs이며,
    상기 투명 레진을 도포하는 단계는,
    상기 투명 레진을 슬릿 코터를 이용하여 상기 제 1 수지필름의 전방 표면상에 면의 형태로 도포함으로써 레진층을 형성하는 것을 특징으로 하는, 개선된 고투명성 투명 필름의 제조방법.
  6. 제 5항에 있어서,
    상기 레진층은,
    두께가 10 내지 100μm 인 것을 특징으로 하는, 개선된 고투명성 투명 필름의 제조방법.
  7. 제 1항에 있어서,
    상기 투명 필름을 제조하는 단계는,
    상온의 핫프레스에 상기 적층체를 위치시키고 상기 핫프레스를 분당 3 내지 12℃의 가열 속도로 5분 내지 15분간 승온시키는 단계와,
    상기 승온된 핫프레스를 분당 4 내지 8 kgf/㎠의 가압 속도 및 분당 3 내지 12℃의 가열 속도로 5분 내지 15분 간 승온 및 승압시키는 단계 및,
    115 내지 135℃에서 35 내지 50kgf/㎠의 압력이 가해지도록 승온 및 승압된 상기 핫프레스에 상기 적층체를 55 내지 65분 동안 유지하여 투명 필름을 형성하는 단계와,
    상기 투명 필름을 15 내지 25분 동안 냉각시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 개선된 고투명성 투명 필름의 제조방법.
  8. 제 7항에 있어서,
    상기 투명 필름을 형성하는 단계는,
    115 내지 135℃에서 35 내지 50kgf/㎠의 압력이 가해지도록 승온 및 승압된 상기 핫프레스에 상기 적층체를 5분 내지 25분 동안 유지시키는 단계 및,
    상기 핫프레스가 위치한 챔버를 40 내지 50분 동안 -0.1±0.01MPa의 진공 상태로 유지시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 개선된 고투명성 투명 필름의 제조방법.
  9. 제 1항 또는 8항에 있어서,
    상기 투명 필름의 제조방법은,
    상기 서브필름을 적층하는 단계 내지 상기 투명 필름을 제조하는 단계를 1주기로 하여 상기 베이스필름의 상면 및 하면에 각각 반복 수행하는 것을 특징으로 하는, 개선된 고투명성 투명 필름의 제조방법.
  10. 삭제
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