KR101712703B1 - Adhesive composition, anisotropic conductive film and the semiconductor device using thereof - Google Patents

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Abstract

본 발명은 열시차주사열량계의 발열 피크 온도가 60 내지 105℃인 지환족 에폭시 수지, 화학식 1의 양이온 중합 촉매 및 화학식 2의 화합물을 포함하는 접착 조성물, 이를 이용한 이방 도전성 필름 및 상기 이방 도전성 필름에 의해 접속된 반도체 장치에 관한 것이다.
[화학식 1]

Figure 112014067695574-pat00021

상기 화학식 1에서, R1 내지 R5는 각각, 독립적으로 수소 원자, 알킬기, 아세틸기, 알콕시카르보닐기, 벤조일기 또는 벤질옥시카르보닐기이고, R6 및 R7은 각각, 독립적으로 알킬기, 벤질기, o-메틸벤질기, m-메틸벤질기, p-메틸벤질기 또는 나프틸메틸기이며,
[화학식 2]
Figure 112014067695574-pat00022

상기 화학식 2에서, R8 내지 R12는 각각, 독립적으로 수소 원자, 알킬기, 아세틸기, 알콕시카르보닐기, 벤조일기 또는 벤질옥시카르보닐기이고, R13 및 R14는 각각, 독립적으로 알킬기, 벤질기, o-메틸벤질기, m-메틸벤질기, p-메틸벤질기 또는 나프틸메틸기이며, X1은 할로겐 원자 또는 알킬황산을 나타낸다.The present invention relates to a bonding composition comprising an alicyclic epoxy resin having an exothermic peak temperature of 60 to 105 ° C of a thermal differential scanning calorimeter, a cationic polymerization catalyst of formula (1) and a compound of formula (2), an anisotropic conductive film using the same, To a semiconductor device connected thereto.
[Chemical Formula 1]
Figure 112014067695574-pat00021

Wherein R 1 to R 5 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group, an acetyl group, an alkoxycarbonyl group, a benzoyl group or a benzyloxycarbonyl group, R 6 and R 7 each independently represent an alkyl group, a benzyl group, A methylbenzyl group, an m-methylbenzyl group, a p-methylbenzyl group or a naphthylmethyl group,
(2)
Figure 112014067695574-pat00022

Wherein R 8 to R 12 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an acetyl group, an alkoxycarbonyl group, a benzoyl group or a benzyloxycarbonyl group, R 13 and R 14 each independently represent an alkyl group, a benzyl group, an o A methylbenzyl group, a p-methylbenzyl group or a naphthylmethyl group, and X 1 represents a halogen atom or an alkylsulfuric acid.

Description

접착 조성물, 이방 도전성 필름 및 이를 이용한 반도체 장치{ADHESIVE COMPOSITION, ANISOTROPIC CONDUCTIVE FILM AND THE SEMICONDUCTOR DEVICE USING THEREOF}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to an adhesive composition, an anisotropic conductive film, and a semiconductor device using the same. BACKGROUND ART [0002]

본 발명은 접착 조성물, 이방 도전성 필름 및 이를 이용한 반도체 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an adhesive composition, an anisotropic conductive film and a semiconductor device using the same.

이방 도전성 필름(Anisotropic conductive film, ACF)이란 일반적으로 도전 입자를 에폭시 등의 수지에 분산시킨 필름 형상의 접착제를 말하는 것으로, 필름의 막 두께 방향으로는 도전성을 띠고 면 방향으로는 절연성을 띠는 전기 이방성 및 접착성을 갖는 고분자 막을 의미한다.Anisotropic conductive film (ACF) generally refers to a film-like adhesive in which conductive particles are dispersed in a resin such as an epoxy resin. An anisotropic conductive film (ACF) is a film-like adhesive in which conductive particles are dispersed in a resin such as epoxy, Means a polymer membrane having anisotropy and adhesion.

FPC(가요성 인쇄 회로)또는 TAB(테이프 자동화 접합)와 PCB(인쇄 회로 기판) 또는 유리 회로 기판 등의 회로 기재를 접합함과 함께 전극의 사이에 전기적 접속을 얻는데 사용되는 접착제로서 에폭시 수지계 접착제를 함유하는 이방 도전성 접착제가 사용되고 있다. 이러한 접착제에 요구되는 주된 특성은 회로 기재에 열적 손상을 주지 않도록 비교적으로 낮은 온도로 단시간 내에 경화 가능하고, 기재간의 전기적 접속을 제공하는 것이다.An epoxy resin adhesive is used as an adhesive used for bonding an FPC (flexible printed circuit) or a TAB (tape automation joint) and a circuit substrate such as a PCB (printed circuit board) or a glass circuit board, Is used as an anisotropic conductive adhesive. The main characteristic required for such an adhesive is that it can be cured within a short time at a relatively low temperature so as not to cause thermal damage to the circuit substrate and provide electrical connection between the substrates.

이러한 이방 도전성 필름 조성물로 양이온 중합성 에폭시 수지 조성물이 사용되고 있다. 상기 양이온 중합성 에폭시 수지 조성물은 열 및 빛에 의해 프로톤을 발생하여 양이온 중합을 개시시키는 양이온 중합 촉매가 사용되고 있으며 대표적으로 술포늄 안티모네이트 착물이 알려져 있다. 하지만 상기 술포늄 안티모네이트 착물은 불소 원자가 금속인 안티몬에 결합되어 있는 SbF6를 카운터 아니온으로 갖기 때문에, 양이온 중합시에 불소이온을 다량으로 발생시키고, 이종 금속 사이에 마이그레이션을 유발하여, 금속 배선이나 접속 패드를 부식시킨다는 문제가 있었다. 따라서, 상기와 같은 부식의 문제가 없으며 저온 속경화가 가능한 반응성을 가지는 여러 양이온 중합 촉매가 필요하게 되었다.A cationic polymerizable epoxy resin composition is used as such an anisotropic conductive film composition. The cationic polymerizable epoxy resin composition uses a cationic polymerization catalyst which generates protons by heat and light to initiate cationic polymerization. Typically, sulfonium antimonate complexes are known. However, since the sulfonium antimonate complex has SbF6, which is bound to antimony which is a fluorine atom metal, as a counteranion, a large amount of fluorine ions are generated at the time of cationic polymerization and migration is caused between the dissimilar metals, Or the connection pad is corroded. Accordingly, there is no need for such a cationic polymerization catalyst having the above-mentioned problems of reactivity capable of curing at low temperature without the problem of corrosion.

또한, 양이온 중합성 에폭시 수지 조성물은 저온 속경화가 가능하다는 장점도 있지만 안정성 저하문제를 동시에 갖기 때문에, 이를 개선하기 위하여 양이온 중합 촉매의 일부를 치환하고 양이온 중합에서 루이스산 또는 다른 양이온 활성종을 포착함으로써 양이온 중합 반응을 지연 혹은 안정화시키기 위한 중합 화합물에 대한 연구도 이루어지고 있다(대한민국 특허 출원 공개 제2011-0122928호).In addition, the cationic polymerizable epoxy resin composition has the advantage of being capable of curing at a low temperature, but it also has a problem of lowering stability. To solve this problem, a part of the cation polymerization catalyst is substituted and a Lewis acid or other cationic active species A polymer compound for delaying or stabilizing the cationic polymerization reaction has been studied (Korean Patent Application Publication No. 2011-0122928).

대한민국 특허 출원 공개 제2011-0122928호(2013. 05. 31. 공개)Korean Patent Application Publication No. 2011-0122928 (Published on May 31, 2013)

본 발명의 목적은 열경화를 활용하여 저온 속경화를 달성하면서도 보관 안정성, 내습성, 내열성이 개선된 접착 조성물 또는 이방 도전성 필름을 제공하는 것이다.It is an object of the present invention to provide an adhesive composition or an anisotropic conductive film having improved storage stability, moisture resistance and heat resistance while achieving low temperature fast curing by utilizing heat curing.

본 발명의 다른 목적은 150℃ 이하의 접속 온도에서 접속이 가능한 한편, 접착력, 신뢰성이 우수한 접착 조성물 혹은 이방 도전성 필름을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a bonding composition or an anisotropic conductive film which can be connected at a connection temperature of 150 DEG C or less, while exhibiting excellent adhesion and reliability.

본 발명의 일 예에서, 열시차주사열량계의 발열 피크 온도가 60 내지 105℃인 지환족 에폭시 수지, 화학식 1의 양이온 중합 촉매 및 화학식 2의 화합물을 포함하는 접착 조성물이 제공된다.In one example of the present invention, there is provided an adhesive composition comprising an alicyclic epoxy resin having an exothermic peak temperature of 60 to 105 占 폚 of a thermal differential scanning calorimeter, a cationic polymerization catalyst of formula (1) and a compound of formula (2).

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure 112014067695574-pat00001
Figure 112014067695574-pat00001

상기 화학식 1에서, R1 내지 R5는 각각, 독립적으로 수소 원자, 알킬기, 아세틸기, 알콕시카르보닐기, 벤조일기 또는 벤질옥시카르보닐기이고, R6 및 R7은 각각, 독립적으로 알킬기, 벤질기, o-메틸벤질기, m-메틸벤질기, p-메틸벤질기 또는 나프틸메틸기이며,Wherein R 1 to R 5 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group, an acetyl group, an alkoxycarbonyl group, a benzoyl group or a benzyloxycarbonyl group, R 6 and R 7 each independently represent an alkyl group, a benzyl group, A methylbenzyl group, an m-methylbenzyl group, a p-methylbenzyl group or a naphthylmethyl group,

[화학식 2](2)

Figure 112014067695574-pat00002
Figure 112014067695574-pat00002

상기 화학식 2에서, R8 내지 R12는 각각, 독립적으로 수소 원자, 알킬기, 아세틸기, 알콕시카르보닐기, 벤조일기 또는 벤질옥시카르보닐기이고, R13 및 R14는 각각, 독립적으로 알킬기, 벤질기, o-메틸벤질기, m-메틸벤질기, p-메틸벤질기 또는 나프틸메틸기이며, X1은 할로겐 원자 또는 알킬황산을 나타낸다.Wherein R 8 to R 12 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an acetyl group, an alkoxycarbonyl group, a benzoyl group or a benzyloxycarbonyl group, R 13 and R 14 each independently represent an alkyl group, a benzyl group, an o A methylbenzyl group, a p-methylbenzyl group or a naphthylmethyl group, and X 1 represents a halogen atom or an alkylsulfuric acid.

본 발명의 다른 예에서, 바인더 수지; 열시차주사열량계의 발열 피크 온도가 60 내지 105℃인 지환족 에폭시 수지; 상기 화학식 1의 양이온 중합 촉매; 상기 화학식 2의 화합물; 및 도전 입자를 포함하는 이방 도전성 필름이 제공된다.In another example of the present invention, a binder resin; An alicyclic epoxy resin having an exothermic peak temperature of 60 to 105 DEG C of a thermal differential scanning calorimeter; The cationic polymerization catalyst of Formula 1; The compound of formula 2; And an anisotropic conductive film containing conductive particles.

본 발명의 또 다른 예에서, 제1 전극을 함유하는 제1 피접속부재; 제2 전극을 함유하는 제2 피접속부재; 및 상기 제1 피접속부재와 상기 제2 피접속부재 사이에 위치하여 상기 제1 전극 및 상기 제2 전극을 접속시키는, 본원에 기재된 이방 도전성 필름에 의해 접속된 반도체 장치가 제공된다.In another example of the present invention, a first connected member containing a first electrode; A second connected member containing a second electrode; And a semiconductor device connected by the anisotropic conductive film described herein, which is located between the first connected member and the second connected member and connects the first electrode and the second electrode.

본 발명의 일 예들에 따른 이방 도전성 필름은, 열시차주사열량계의 발열 피크 온도가 60 내지 105℃인 지환족 에폭시 수지를 사용함으로써 다른 에폭시 수지에 비해 염소의 함유를 배제시킬 수 있고 150℃ 이하의 접속 온도에서 접속이 가능한 한편, 접착력, 신뢰성 등의 전기적 특성이 우수하다. 또한, 저온에서 신속히 경화되며 보관안정성이 개선된 이점이 있다.In the anisotropic conductive film according to one example of the present invention, the use of an alicyclic epoxy resin having an exothermic peak temperature of 60 to 105 DEG C of a thermal differential scanning calorimeter allows the inclusion of chlorine in comparison with other epoxy resins, Connection at a connection temperature is possible, and electrical characteristics such as adhesion and reliability are excellent. It also has the advantage of being rapidly cured at low temperatures and improving storage stability.

도 1은 제1 전극(70)을 함유하는 제1 피접속부재(50)와, 제2 전극(80)을 포함하는 제2 피접속부재(60), 및 상기 제1 피접속부재와 상기 제2 피접속부재 사이에 위치하여 상기 제1 전극 및 상기 제2 전극을 접속시키는 본원에 기재된 이방 도전성 필름을 포함하는, 본 발명의 일 예에 따른 반도체 장치(30)의 단면도이다.1 shows a first embodiment of the present invention in which a first connected member 50 including a first electrode 70, a second connected member 60 including a second electrode 80, 2 is a cross-sectional view of a semiconductor device 30 according to an embodiment of the present invention, including an anisotropic conductive film as described herein, which is located between connected members and connects the first electrode and the second electrode.

본 발명의 일 예는, 열시차주사열량계(DSC)의 발열 피크 온도가 60 내지 105℃인 지환족 에폭시 수지, 화학식 1의 양이온 중합 촉매 및 화학식 2의 화합물을 포함하는 접착 조성물에 관한 것이다.An example of the present invention relates to a bonding composition comprising an alicyclic epoxy resin having an exothermic peak temperature of 60 to 105 캜 of a thermal differential scanning calorimeter (DSC), a cationic polymerization catalyst of the formula (1) and a compound of the formula (2).

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure 112014067695574-pat00003
Figure 112014067695574-pat00003

상기 화학식 1에서, R1 내지 R5는 각각, 독립적으로 수소 원자, 알킬기, 아세틸기, 알콕시카르보닐기, 벤조일기 또는 벤질옥시카르보닐기이고, R6 및 R7은 각각, 독립적으로 알킬기, 벤질기, o-메틸벤질기, m-메틸벤질기, p-메틸벤질기 또는 나프틸메틸기이다.Wherein R 1 to R 5 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group, an acetyl group, an alkoxycarbonyl group, a benzoyl group or a benzyloxycarbonyl group, R 6 and R 7 each independently represent an alkyl group, a benzyl group, - methylbenzyl group, m-methylbenzyl group, p-methylbenzyl group or naphthylmethyl group.

구체적으로 R1은 수소 원자 또는 아세틸기일 수 있으며, 더욱 구체적으로는 아세틸기일 수 있다. 또한 상기 R2 내지 R5는 각각 수소 원자일 수 있고, 상기 R6은 구체적으로 벤질기, o-메틸벤질기, m-메틸벤질기, p-메틸벤질기 또는 나프틸메틸기일 수 있으며, 더욱 구체적으로는 o-메틸벤질기일 수 있다. R7은 구체적으로 알킬기일 수 있으며, 더욱 구체적으로는 메틸기일 수 있다.Specifically, R 1 may be a hydrogen atom or an acetyl group, and more specifically, it may be an acetyl group. R 2 to R 5 may each be a hydrogen atom, and R 6 may specifically be a benzyl group, an o-methylbenzyl group, an m-methylbenzyl group, a p-methylbenzyl group or a naphthylmethyl group, Specifically, it may be an o-methylbenzyl group. R 7 may specifically be an alkyl group, and more specifically may be a methyl group.

[화학식 2](2)

Figure 112014067695574-pat00004
Figure 112014067695574-pat00004

상기 화학식 2에서, R8 내지 R12는 각각, 독립적으로 수소 원자, 알킬기, 아세틸기, 알콕시카르보닐기, 벤조일기 또는 벤질옥시카르보닐기이고, R13 및 R14는 각각, 독립적으로 알킬기, 벤질기, o-메틸벤질기, m-메틸벤질기, p-메틸벤질기 또는 나프틸메틸기이며, X1은 할로겐 원자 또는 알킬황산을 나타낸다.Wherein R 8 to R 12 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an acetyl group, an alkoxycarbonyl group, a benzoyl group or a benzyloxycarbonyl group, R 13 and R 14 each independently represent an alkyl group, a benzyl group, an o A methylbenzyl group, a p-methylbenzyl group or a naphthylmethyl group, and X 1 represents a halogen atom or an alkylsulfuric acid.

구체적으로 R8 내지 R12는 각각 수소 원자일 수 있다. 또한 R13 및 R14는 각각 독립적으로 알킬기, 벤질기, o-메틸벤질기, m-메틸벤질기, p-메틸벤질기 또는 나프틸메틸기일 수 있으며, 구체적으로 알킬기, 예를 들어, 메틸기일 수 있다. X1은 구체적으로 알킬황산일 수 있으며, 더욱 구체적으로는 메틸황산일 수 있다.Specifically, R 8 to R 12 may each be a hydrogen atom. Each of R 13 and R 14 may independently be an alkyl group, a benzyl group, an o-methylbenzyl group, an m-methylbenzyl group, a p-methylbenzyl group or a naphthylmethyl group and specifically includes an alkyl group, . X 1 may be specifically alkylsulfuric acid, more specifically methylsulfuric acid.

상기 열시차주사열량계(DSC)의 발열 피크 온도는 용매에 지환족 에폭시 수지 및 양이온 중합 촉매를 추가한 뒤, TA社 Q20 model을 이용하여 10℃/1min으로 측정한다. 여기서 양이온 중합 촉매는 상기 화학식 1의 화합물을 사용할 수 있으며, 구체적으로는 벤질(4-아세톡시페닐)메틸설포늄 테트라키스(펜타플루오로페닐) 보레이트를 사용할 수 있다. 본 발명에서 지환족 에폭시 수지의 발열 피크 온도는 60 내지 105℃이며, 구체적으로는 80 내지 105℃이다. 발열 피크 온도가 상기 범위이면 150℃ 이하의 접속 온도, 예를 들어, 140℃ 이하의 접속 온도, 예를 들어, 130℃ 이하의 접속 온도에서 신속히 경화되어 접착력 및 접속저항과 같은 전기적 특성이 양호할 수 있다. 지환식 에폭시 수지는 다른 에폭시 수지에 비해 염소의 함유를 배제시킬 수 있고, 전기적 특성이 우수한 이점이 있다. 지환식 에폭시 수지의 에폭시 당량은 통상 약 100 내지 470g/eq, 구체적으로 약 120 내지 약 400g/eq, 보다 구체적으로 약 130 내지 약 350g/eq의 범위이다. 상기 범위이면, 접착 강도를 저하시키지 않으면서 점도와 유동 특성이 양호할 수 있다.The exothermic peak temperature of the DSC is determined by adding a cycloaliphatic epoxy resin and a cationic polymerization catalyst to the solvent and then measuring the temperature at 10 ° C / 1 min using a Q20 model manufactured by TA Corporation. As the cationic polymerization catalyst, the compound of the above formula (1) can be used. Specifically, benzyl (4-acetoxyphenyl) methylsulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate can be used. In the present invention, the exothermic peak temperature of the alicyclic epoxy resin is 60 to 105 캜, specifically 80 to 105 캜. If the exothermic peak temperature is within the above range, it is quickly cured at a connection temperature of 150 DEG C or less, for example, a connection temperature of 140 DEG C or less, for example, a connection temperature of 130 DEG C or less, . The alicyclic epoxy resin can exclude the chlorine content from other epoxy resins and has an advantage of excellent electrical characteristics. The epoxy equivalent of the alicyclic epoxy resin is usually in the range of about 100 to 470 g / eq, specifically about 120 to about 400 g / eq, more specifically about 130 to about 350 g / eq. Within the above range, the viscosity and flow characteristics can be good without lowering the adhesive strength.

상기 지환족 에폭시 수지는 지환족 고리에 근접하여 에폭시 구조가 존재하므로 개환 반응이 빨라 다른 에폭시 수지에 비해 경화반응성이 좋다. 본 발명에서의 지환식 에폭시 수지는 지환족 고리에 직접 결합으로 연결되거나 다른 연결기를 통해 에폭시 구조가 존재하는 구조를 가진 것이면 제한 없이 사용할 수 있다. 구체적으로는 하기 화학식 3 내지 화학식 6의 지환족 에폭시 수지를 사용할 수 있다.Since the alicyclic epoxy resin has an epoxy structure close to an alicyclic ring, the ring-opening reaction is rapid and the curing reaction is better than other epoxy resins. The alicyclic epoxy resin in the present invention can be used without limitation as long as it has a structure in which a direct bond is bonded to an alicyclic ring or an epoxy structure exists through another linking group. Specifically, alicyclic epoxy resins of the following formulas (3) to (6) can be used.

[화학식 3](3)

Figure 112014067695574-pat00005
Figure 112014067695574-pat00005

[화학식 4][Chemical Formula 4]

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Figure 112014067695574-pat00006

[화학식 5][Chemical Formula 5]

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Figure 112014067695574-pat00007

[화학식 6][Chemical Formula 6]

Figure 112014067695574-pat00008
Figure 112014067695574-pat00008

상기 화학식 4 내지 6에서, n, s, t, u, v, m, 및 f는 각각 독립적으로 1 내지 50 사이의 정수이고, R은 알킬기, 아세틸기, 알콕시기 또는 카르보닐기이다. 구체적으로, 상기 n, s, t, u, v, m, 및 f는 각각 독립적으로 1 내지 25 사이의 정수이고, R은 알킬기, 아세틸기 또는 알콕시기이다.N, s, t, u, v, m and f are each independently an integer of 1 to 50, and R is an alkyl group, an acetyl group, an alkoxy group or a carbonyl group. Specifically, n, s, t, u, v, m and f are each independently an integer of 1 to 25, and R is an alkyl group, an acetyl group or an alkoxy group.

본 발명의 다른 예에서 상기 접착 조성물 또는 필름은 지환식 에폭시 수지 외에 다른 에폭시 수지를 추가로 포함할 수 있다. 사용될 수 있는 에폭시 수지로는 비스페놀형, 노볼락형, 글리시딜형, 지방족 및 방향족 에폭시 수지로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 사용할 수 있으나, 이들에 한정되는 것은 아니다. 상기 예에서, 지환식 에폭시 수지는 전체 에폭시 수지 100 중량부에 대해 3 내지 50 중량부, 구체적으로 10 내지 40 중량부로 포함될 수 있다. 상기 범위이면 필름의 DSC상 발열 개시 온도가 75℃ 이하로 전기적 특성이 개선될 수 있다.
In another example of the present invention, the adhesive composition or film may further include an epoxy resin other than the alicyclic epoxy resin. As the epoxy resin that can be used, at least one selected from the group consisting of bisphenol type, novolak type, glycidyl type, aliphatic and aromatic epoxy resins can be used, but not limited thereto. In the above example, the alicyclic epoxy resin may be contained in an amount of 3 to 50 parts by weight, specifically 10 to 40 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total epoxy resin. If the above range is set, the DSC-induced heat generation starting temperature of the film may be 75 캜 or less, thereby improving the electrical characteristics.

화학식 1의 양이온 중합 촉매는, 지환식 에폭시 수지의 100중량부에 대해 0.1 내지 20중량부로 포함될 수 있으며, 구체적으로는 0.1 내지 10중량부로 포함될 수 있다. 상기 양이온 중합 촉매의 양이 20중량부를 초과할 경우 보존 안정성이 저하되고, 0.1중량부 미만인 경우 경화가 불충분하게 되므로 바람직하지 않다.The cationic polymerization catalyst of formula (1) may be contained in an amount of 0.1 to 20 parts by weight, and more specifically 0.1 to 10 parts by weight, based on 100 parts by weight of the alicyclic epoxy resin. When the amount of the cationic polymerization catalyst is more than 20 parts by weight, the storage stability is deteriorated. When the amount is less than 0.1 parts by weight, curing becomes insufficient.

화학식 2의 화합물은, 양이온 중합 촉매의 100중량부에 대해 0.1 내지 30중량부로 포함될 수 있으며, 구체적으로는 3 내지 10중량부로 포함될 수 있다. 상기 화학식 2의 화합물이 30중량부를 초과할 경우 조성물의 경화를 억제시킬 수 있고, 0.1중량부 미만이면 양이온 중합 촉매의 기능을 안정화시키는 특성이 제대로 발휘되지 않을 수 있으므로 바람직하지 않다.
The compound of formula (2) may be contained in an amount of 0.1 to 30 parts by weight, more specifically 3 to 10 parts by weight, per 100 parts by weight of the cationic polymerization catalyst. If the amount of the compound of formula (2) exceeds 30 parts by weight, the curing of the composition may be inhibited. If the amount of the compound is less than 0.1 parts by weight, the characteristics of stabilizing the function of the cation polymerization catalyst may not be exhibited.

본 발명의 다른 예는 상기 조성 외에 바인더 수지 및 도전 입자를 추가로 포함하는 이방 도전성 필름용 조성물 또는 이방 도전성 필름에 관한 것이다.Another example of the present invention relates to a composition for an anisotropic conductive film or an anisotropic conductive film further comprising a binder resin and conductive particles in addition to the above composition.

본원에서 사용되는 바인더 수지는 특별히 제한되지 아니하며, 당해 기술 분야에서 통상적으로 사용하는 수지를 사용할 수 있다. 상기 바인더 수지의 비제한적인 예로는 폴리이미드 수지, 폴리아미드 수지, 페녹시 수지, 폴리메타크릴레이트 수지, 폴리아크릴레이트 수지, 폴리우레탄 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리에스테르우레탄 수지, 폴리비닐 부티랄 수지, 스타이렌-부티렌-스타이렌(SBS) 수지 및 에폭시 변성체, 스타이렌-에틸렌-부틸렌-스타이렌(SEBS) 수지 및 그 변성체, 또는 아크릴로니트릴 부타디엔 고무(NBR) 및 그 수소화체 등을 들 수 있다. 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있으며, 구체적으로 에폭시 수지와 상용가능한 수지를 사용할 수 있고, 바람직하게는 페녹시 수지를 사용할 수 있다.The binder resin used in the present invention is not particularly limited, and resins commonly used in the art can be used. Non-limiting examples of the binder resin include polyimide resin, polyamide resin, phenoxy resin, polymethacrylate resin, polyacrylate resin, polyurethane resin, polyester resin, polyester urethane resin, polyvinyl butyral resin , Styrene-butylene-styrene (SBS) resin and epoxy-modified resin, styrene-ethylene-butylene-styrene (SEBS) resin and modified resin thereof, acrylonitrile butadiene rubber (NBR) And the like. These resins may be used alone or in admixture of two or more. Concretely, a resin compatible with an epoxy resin can be used, and a phenoxy resin can be preferably used.

상기 바인더 수지는 전체 필름의 고형 중량을 기준으로 20 내지 60중량%로 함유될 수 있으며, 구체적으로 25 내지 55중량%로 함유될 수 있고, 보다 구체적으로 30 내지 50중량%로 함유될 수 있다.The binder resin may be contained in an amount of 20 to 60% by weight based on the solid weight of the entire film, specifically 25 to 55% by weight, more specifically 30 to 50% by weight.

본 발명에서 상기 도전성 입자는 금속 입자를 사용하거나, 유기, 무기 입자 위에 금이나 은 등의 금속으로 코팅한 것을 사용할 수 있다. 또한, 과량 사용시의 전기적 절연성을 확보하기 위해서는 도전성 입자를 절연화 처리하여 사용할 수도 있다. 예를 들어, 상기 도전성 입자는 Au, Ag, Ni, Cu, Pb 등을 포함하는 금속 입자; 탄소; 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리에스테르, 폴리스타이렌, 폴리비닐알코올 등을 포함하는 수지 및 그 변성 수지를 입자로 하여 Au, Ag, Ni 등을 포함하는 금속으로 도금 코팅한 입자; 그 위에 절연입자를 추가로 코팅한 절연화 처리된 도전성 입자 등을 사용할 수 있다.In the present invention, the conductive particles may be metal particles, or organic or inorganic particles coated with a metal such as gold or silver. Further, in order to secure electrical insulation at the time of excessive use, the conductive particles may be subjected to an insulating treatment. For example, the conductive particles may include metal particles including Au, Ag, Ni, Cu, Pb, and the like; carbon; Particles comprising a resin including polyethylene, polypropylene, polyester, polystyrene, polyvinyl alcohol or the like and particles of the modified resin coated with a metal such as Au, Ag, Ni or the like; And insulating particles coated with insulating particles thereon may be used.

상기 도전 입자는 전체 필름의 고형 중량을 기준으로 1 내지 30중량%, 바람직하게는 1 내지 25중량%로 포함될 수 있다.The conductive particles may be contained in an amount of 1 to 30% by weight, preferably 1 to 25% by weight based on the solid weight of the entire film.

상기 지환족 에폭시 수지는 전체 필름의 고형 중량을 기준으로 20 내지 50중량%로 함유될 수 있으며, 구체적으로 25 내지 45중량%로 함유될 수 있고, 보다 구체적으로 25 내지 40중량%로 함유될 수 있다.The alicyclic epoxy resin may be contained in an amount of 20 to 50% by weight, specifically 25 to 45% by weight, more specifically 25 to 40% by weight, based on the solid weight of the entire film. have.

상기 양이온 중합 촉매는 전체 필름의 고형 중량을 기준으로 1 내지 20중량%일 수 있고, 구체적으로 5 내지 10중량%일 수 있다.The cationic polymerization catalyst may be 1 to 20% by weight, specifically 5 to 10% by weight, based on the solid weight of the entire film.

상기 화학식 2의 화합물은 전체 필름의 고형 중량을 기준으로 0.01 내지 10중량%일 수 있고, 구체적으로는 0.05 내지 5중량%로 포함될 수 있다.The compound of Formula 2 may be present in an amount of 0.01 to 10% by weight, and more preferably 0.05 to 5% by weight, based on the solid weight of the entire film.

본 발명의 또 다른 예는 또한 열시차주사열량계(DSC) 상 개시 온도가 50 내지 75℃이고 25℃에서 150시간 방치한 이후의 발열량 변화율이 25% 이하인 이방 도전성 필름을 제공한다. DSC상 개시 온도(Onset temperature)란 DSC 측정시 발열에 의해 DSC 그래프의 기울기가 최초로 증가하게 되는 시점의 온도를 말한다. 구체적으로, 상기 DSC상 개시 온도는 53 내지 70℃이고 발열량 변화율이 20% 이하일 수 있다. 상기 범위에서 낮은 온도에서 경화가 개시될 수 있을 뿐 아니라, 보관 안정성이 우수한 특징을 나타낸다.Another example of the present invention also provides an anisotropic conductive film having a heat generation rate change rate of 25% or less after initiation temperature on a DSC (differential scanning calorimetry) of 50 to 75 캜 and after being left at 25 캜 for 150 hours. Onset temperature on DSC refers to the temperature at which the slope of the DSC graph first increases due to heat generated during DSC measurement. Specifically, the DSC phase start temperature may be 53 to 70 占 폚 and the rate of change in calorific value may be 20% or less. In this range, curing can be started at a low temperature, and storage stability is also excellent.

상기 열시차주사열량계(DSC) 상 개시 온도를 측정하는 비제한적인 예로는 접착 조성물을 DSC(열시차주사열량계, TA instruments, Q20)를 이용하여 질소 가스 분위기 하에서 10℃/min의 속도로 0 내지 300℃의 범위에서 DSC상 개시 온도를 측정하는 방법이 있다.As a non-limiting example of measuring the initiation temperature on the DSC, the bonding composition is heated at a rate of 0 deg. C / min at a rate of 10 deg. C / min under a nitrogen gas atmosphere using DSC (thermal differential scanning calorimeter, TA instruments, Q20) There is a method of measuring the initiation temperature of DSC in the range of 300 캜.

상기 25℃에서 150시간 방치한 이후의 발열량 변화율을 측정하는 비제한적인 예는 다음과 같다.A non-limiting example of measuring the rate of change of the calorific value after being left at 25 DEG C for 150 hours is as follows.

본 양태의 이방 도전성 필름을 1mg 분취하여 25℃에서 시차열량주사열량계, 예를 들어, TA社 Q20 model을 사용하여 10℃/1min, -50~250℃ 온도 구간에서 초기 발열량을 측정(H0)하고, 이후 상기 필름을 25℃에서 150 시간 방치한 후 동일한 방법으로 발열량을 측정(H1)하여 이로부터 하기 식 1에 따른 변화율을 계산한다.1 mg of the anisotropic conductive film of this embodiment is measured and the initial calorific value (H 0 ) is measured at 25 ° C in a temperature range of -50 ° C to 250 ° C at 10 ° C / 1min using a differential scanning calorimetry calorimeter, for example, and, then, this was allowed to stand at 25 ℃ 150 hours after and calculates the rate of change according to the following formula 1, the amount of heat generated in the same manner therefrom is measured (H 1).

[식 1][Formula 1]

발열량 변화율(%) = [(H0-H1)/H0]Χ100(%) = [(H 0 -H 1 ) / H 0 ] Χ 100

상기 식 1에서, H0 는 이방 도전성 필름에 대해 25℃에서 0시간에 측정한 DSC 상 발열량을 나타내고, H1은 상기 이방 도전성 필름을 25℃에서 150 시간 방치 후 측정한 DSC 상 발열량을 나타낸다.In the formula (1), H 0 represents the calorific value on DSC measured at 25 ° C. at 0 ° C. for the anisotropic conductive film, and H 1 represents the calorific value on DSC after the anisotropic conductive film is left at 25 ° C. for 150 hours.

상기 발열량 변화율이 25% 이하인 것은 이방 도전성 필름의 저장 안정성 혹은 보관 안정성의 개선과 관련이 있으며, 상기 DSC 상 개시 온도가 50℃ 내지 75℃인 것은 저온 속경화 특성과 관련이 있다.
The rate of change in calorific value is 25% or less relates to improvement in storage stability or storage stability of the anisotropic conductive film, and the starting temperature of the DSC phase is in the range of 50 캜 to 75 캜, which is related to the low temperature fast curing property.

본 발명의 또 다른 예는 또한 신뢰성 평가 후의 접속저항이 2Ω이하인 이방 도전성 필름을 제공한다. 구체적으로, 상기 신뢰성 평가 후의 접속저항은 1.6Ω이하일 수 있다. 상기 범위이면 저온에서 경화가 가능하면서도 낮은 접속 저항을 유지할 수 있어 접속 신뢰성을 개선시킬 수 있을 뿐만 아니라, 장기간 저장 안정성을 유지하며 사용할 수 있는 이점이 있다.Another example of the present invention also provides an anisotropic conductive film having a connection resistance of 2? Or less after reliability evaluation. Specifically, the connection resistance after the reliability evaluation may be 1.6 Ω or less. In this range, it is possible to maintain a low connection resistance while being able to be cured at a low temperature, thereby improving the connection reliability, and also there is an advantage that the storage stability can be maintained for a long period of time.

상기 신뢰성 평가 후 접속 저항을 측정하는 방법은 특별히 제한되지 아니하며, 비제한적인 예는 다음과 같다.The method of measuring the connection resistance after the above reliability evaluation is not particularly limited, and a non-limiting example is as follows.

70℃, 1.0MPa, 1초의 가압착 조건과, 130℃, 70MPa, 5초의 본압착 조건으로 접속하여 각각 5개씩의 시편을 제조하고, 신뢰성 평가를 위해 85℃, 85%의 상대습도로 유지되는 고온 고습 챔버에 상기 회로 접속물을 500시간 보관한 후 4 point probe법을 사용하여 저항을 측정한다. 저항측정기기는 1mA를 인가하며 이때 측정되는 전압으로 저항을 계산하여 표시한다. The specimens were connected at 70 ° C and 1.0 MPa for 1 second under the pressure condition of 130 ° C and 70 MPa for 5 seconds, respectively. Five specimens were prepared and maintained at 85 ° C and 85% relative humidity for reliability evaluation. After storing the circuit connections in a high temperature and high humidity chamber for 500 hours, measure the resistance using the 4 point probe method. The resistance measuring device applies 1mA and the resistance is calculated by the measured voltage.

상기 예들에 따른 이방 도전성 필름은 전술한 지환식 에폭시 수지; 화학식 1의 양이온 중합 촉매; 및 화학식 2의 화합물을 포함할 수 있으며, 또한, 바인더 수지 및/또는 도전 입자를 추가로 포함할 수 있다. 따라서, 지환식 에폭시 수지, 화학식 1의 양이온 중합 촉매, 또는 화학식 2의 화합물에 대한 설명, 예를 들어, 함량이나 종류 등은 상기 예들에도 적용될 수 있다.
The anisotropic conductive films according to the above examples include the above-mentioned alicyclic epoxy resin; A cationic polymerization catalyst of formula (1); And a compound of formula (2), and may further include a binder resin and / or conductive particles. Therefore, the description of the alicyclic epoxy resin, the cationic polymerization catalyst of formula (1), or the compound of formula (2), for example, the content and the kind, and the like can be applied to the above examples.

본 발명의 또 다른 예는,Another example of the present invention is that,

제1 전극을 함유하는 제1 피접속부재;A first connected member containing a first electrode;

제2 전극을 함유하는 제2 피접속부재; 및A second connected member containing a second electrode; And

상기 제1 피접속부재와 상기 제2 피접속부재 사이에 위치하여 상기 제1 전극 및 상기 제2 전극을 접속시키는 본원에 기재된 이방 도전성 필름, 또는 본원에 기재된 이방 도전성 필름용 조성물로부터 형성된 필름을 포함하는 반도체 장치에 관한 것이다.An anisotropic conductive film as described herein, which is located between the first connected member and the second connected member and connects the first electrode and the second electrode, or a film formed from the composition for an anisotropic conductive film described herein To a semiconductor device.

상기 제1 피접속부재는 예를 들어, COF(chip on film) 또는 fPCB(flexible printed circuit board)일 수 있고, 상기 제2 피접속부재는 예를 들어, 유리 패널 또는 PCB(printed circuit board)일 수 있다.The first member to be connected may be, for example, a chip on film (COF) or a flexible printed circuit board (fPCB), and the second member to be connected may be a glass panel or a printed circuit board .

도 1을 참조하여 반도체 장치(30)를 설명하면, 제1 전극(70)을 함유하는 제1 접속부재(50)와, 제2 전극(80)을 포함하는 제2 피접속부재(60)는, 상기 제1 피접속부재와 상기 제2 피접속부재 사이에 위치하여 상기 제1 전극 및 상기 제2 전극을 접속시키는 본원에 기재된 도전 입자(3)를 포함하는 이방 도전성 접착층(10)을 통해 상호 접착될 수 있다.1, a first connecting member 50 including a first electrode 70 and a second connected member 60 including a second electrode 80 are formed on the surface of the semiconductor substrate 30, , An anisotropic conductive adhesive layer (10) comprising conductive particles (3) described in the present invention, which is located between the first connected member and the second connected member and connects the first electrode and the second electrode, Can be adhered.

본 발명은 이방 전도성 필름 조성물로 형성된 이방 전도성 필름을 제공한다. 이방 전도성 필름을 형성하는 데에는 특별한 장치나 설비가 필요하지 않다. 예를 들면, 본 발명의 이방 전도성 필름 조성물을 톨루엔과 같은 유기 용매에 용해시켜 액상화한 후 도전성 입자가 분쇄되지 않는 속도 범위 내에서 일정 시간 동안 교반하고, 이를 이형 필름 위에 일정한 두께 예를 들면 10-50㎛의 두께로 도포한 다음 일정시간 건조시켜 톨루엔 등을 휘발시켜 이방 도전성 접착층 및 이형 필름을 포함하는 이방 도전성 필름을 얻을 수 있다.The present invention provides an anisotropic conductive film formed from an anisotropic conductive film composition. No special equipment or equipment is required to form the anisotropic conductive film. For example, the anisotropic conductive film composition of the present invention is dissolved in an organic solvent such as toluene to be liquefied, and then the conductive particles are agitated for a predetermined time in a range in which the conductive particles are not pulverized. And then dried for a predetermined time to volatilize toluene or the like to obtain an anisotropic conductive film containing an anisotropic conductive adhesive layer and a release film.

상기 이형 필름으로는 예를 들면, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 에틸렌/프로필렌 공중합체, 폴리부텐-1, 에틸렌/초산비닐 공중합체, 폴리에틸렌/스티렌부타디엔 고무의 혼합물, 폴리비닐클로라이드 등의 폴리올레핀계 필름이 주로 사용될 수 있다. 또한, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리카보네이트, 폴리(메틸메타크릴레이트) 등의 고분자나 폴리우레탄, 폴리아미드-폴리올 공중합체 등의 열가소성 엘라스토머 및 이들의 혼합물을 사용할 수 있다. 이형 필름의 두께는 적절한 범위에서 선택할 수 있는데, 예를 들면 10-50㎛가 될 수 있다.
Examples of the release film include polyolefin films such as polyethylene, polypropylene, ethylene / propylene copolymer, polybutene-1, ethylene / vinyl acetate copolymer, mixture of polyethylene / styrene butadiene rubber, and polyvinyl chloride Can be used. Further, polymers such as polyethylene terephthalate, polycarbonate and poly (methyl methacrylate), thermoplastic elastomers such as polyurethane and polyamide-polyol copolymer, and mixtures thereof can be used. The thickness of the release film can be selected from an appropriate range, for example, 10-50 占 퐉.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 통해 본 발명의 구성 및 작용을 더욱 상세히 설명하기로 한다. 다만, 이는 본 발명의 바람직한 예시로 제시된 것이며 어떠한 의미로도 이에 의해 본 발명이 제한되는 것으로 해석될 수는 없다.Hereinafter, the configuration and operation of the present invention will be described in more detail with reference to preferred embodiments of the present invention. It is to be understood, however, that the same is by way of illustration and example only and is not to be construed in a limiting sense.

여기에 기재되지 않은 내용은 이 기술 분야에서 숙련된 자이면 충분히 기술적으로 유추할 수 있는 것이므로 그 설명을 생략하기로 한다.
The contents not described here are sufficiently technically inferior to those skilled in the art, and a description thereof will be omitted.

실시예Example  And 비교예Comparative Example

접착 조성물의 제조Preparation of adhesive composition

용매 Propylene Glycol Monomethyl Ether Acetate(PGMEA)에 에폭시 수지, 열경화성 양이온 중합 촉매, 안정제로서 화학식 2의 화합물을 용해하여 하기의 표 1과 같은 조성 및 함량으로 접착 조성물을 제조하였다. 표 1은 에폭시 수지 100중량부를 기준으로 함량을 나타내었다.
The adhesive composition was prepared by dissolving an epoxy resin, a thermosetting cationic polymerization catalyst, and a compound of Formula 2 as a stabilizer in a solvent, Propylene Glycol Monomethyl Ether Acetate (PGMEA), as shown in Table 1 below. Table 1 shows the contents based on 100 parts by weight of the epoxy resin.

원료Raw material 상품명product name MakerMaker 실시예1Example 1 실시예2Example 2 비교예1Comparative Example 1 비교예2Comparative Example 2 비교예3Comparative Example 3 에폭시 수지Epoxy resin SER-2001SER-2001 SHINA T&CSHINA T & C 100100 100100 CELLOXIDE 2081CELLOXIDE 2081 DAICEL CHEMICALDAICEL CHEMICAL 100100 CELLOXIDE 2000CELLOXIDE 2000 DAICEL CHEMICALDAICEL CHEMICAL 100100 SEV-3410SEV-3410 SHINA T&CSHINA T & C 100100 양이온 중합 촉매Cationic polymerization catalyst SI-B3ASI-B3A SANSHIN CHEMICALSANSHIN CHEMICAL 55 55 55 55 55 안정제stabilizator SI-SSI-S SANSHIN CHEMICALSANSHIN CHEMICAL 0.250.25 0.250.25 0.250.25 0.250.25

실시예Example 1 One

용매 PGMEA에 지환족 에폭시수지(SER-2001, SHINA T&C 사, 일본, EEW 135g/eq) 100중량부를 기준으로, 열경화성 양이온 중합 촉매(SI-B3A, SANSHIN CHEMICAL사, 일본) 5중량부, 열경화성 양이온 중합 촉매 100 중량부를 기준으로 안정제로서 화학식 2의 화합물(SI-S, SANSHIN CHEMICAL사, 일본) 5 중량부를 혼합하여 접착 조성물을 제조하였다.5 parts by weight of a thermosetting cationic polymerization catalyst (SI-B3A, SANSHIN CHEMICAL Co., Japan) based on 100 parts by weight of an alicyclic epoxy resin (SER-2001, SHINA T & C, EEW 135 g / Based on 100 parts by weight of the polymerization catalyst, 5 parts by weight of a compound of the formula (2) (SI-S, SANSHIN CHEMICAL, Japan) as a stabilizer were mixed to prepare a bonding composition.

실시예Example 2 2

실시예 1에 있어서, 지환족 에폭시 수지를 CELLOXIDE 2081(DAICEL CHEMICAL사, 일본, EEW 200g/eq)로 변경한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 조건 및 방법으로 접착 조성물을 제조하였다.An adhesive composition was prepared in the same manner as in Example 1, except that the alicyclic epoxy resin was changed to CELLOXIDE 2081 (DAICEL CHEMICAL, Japan, EEW 200 g / eq).

비교예Comparative Example 1 One

실시예 1에 있어서, 안정제(SI-S, SANSHIN CHEMICAL사, 일본)를 사용하지 않은 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 조건 및 방법으로 접착 조성물을 제조하였다.An adhesive composition was prepared in the same manner as in Example 1, except that the stabilizer (SI-S, SANSHIN CHEMICAL, Japan) was not used.

비교예Comparative Example 2 2

실시예 1에 있어서, 지환족 에폭시 수지 대신 DCPD(Dicyclopentadiene)형 에폭시 수지(SEV-3410, SHINA T&C사, 일본, EEW 300g/eq)를 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 조건 및 방법으로 접착 조성물을 제조하였다.Except that DCPD (Dicyclopentadiene) type epoxy resin (SEV-3410, SHINA T & C, Japan, EEW 300 g / eq) was used in place of the alicyclic epoxy resin in Example 1 A composition was prepared.

비교예Comparative Example 3 3

실시예 1에 있어서, 지환족 에폭시 수지를 CELLOXIDE 2000(DAICEL CHEMICAL사, 일본, EEW 126g/eq)로 변경한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 조건 및 방법으로 접착 조성물을 제조하였다.
An adhesive composition was prepared in the same manner as in Example 1, except that the alicyclic epoxy resin was changed to CELLOXIDE 2000 (DAICEL CHEMICAL, Japan, EEW: 126 g / eq).

실험예Experimental Example : 접착 조성물의 물성 평가 : Evaluation of physical properties of adhesive composition

에폭시 수지의 Of epoxy resin DSCDSC 상 발열 피크 온도 측정Peak temperature measurement

상기 실시예 1 및 2, 비교예 1 내지 3의 에폭시 수지의 DSC상 피크 온도는 다음과 같은 방법으로 측정하였다:The peak temperatures on the DSC of the epoxy resins of Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 to 3 were measured in the following manner:

용매 PGMEA에 에폭시 수지 2mg, 열경화성 양이온 중합 촉매(SI-B3A, SANSHIN CHEMICAL사, 일본) 0.1mg을 혼합하여 조성물을 제조하고, DSC(열시차주사열량계, TA instruments, Q20)를 이용하여 질소 가스 분위기 하에서 10℃/min의 속도로 0 내지 300℃의 범위에서 DSC상 발열 피크 온도를 측정하였다.
A composition was prepared by mixing 2 mg of an epoxy resin and 0.1 mg of a thermosetting cationic polymerization catalyst (SI-B3A, SANSHIN CHEMICAL, Japan) with PGMEA as a solvent. Using a DSC (thermal differential scanning calorimeter, TA instruments, Q20) The exothermic peak temperature on the DSC was measured at a rate of 10 캜 / min from 0 to 300 캜.

접착 조성물을 25℃에서 24시간 경과 후 After 24 hours at < RTI ID = 0.0 > 25 C < GELGEL 화 여부 측정Measure anger

접착 조성물을 25℃에서 24시간 방치 후 GEL화 여부를 측정하였다. 25ml Vial병의 절반을 수지로 채우고 기울여서 흐름성을 관찰하여 흐르지 않을 때를 GEL化 된 것으로 판단하였다.
The adhesive composition was allowed to stand at 25 占 폚 for 24 hours, and then it was measured whether it was converted into GEL. Fifty percent of the 25 ml vial bottle was filled with resin and tilted to observe flowability, and it was judged to be GEL when no flow was observed.

실시예 1Example 1 실시예 2Example 2 비교예 1Comparative Example 1 비교예 2Comparative Example 2 비교예 3Comparative Example 3 DSC peak(℃)DSC peak (占 폚) 9898 100100 9696 114114 5858 GEL化(25℃, 24시간)GEL (25 ℃, 24 hours) 양호Good 양호Good GEL化GEL 양호Good GEL化GEL

실시예Example : 이방 도전성 필름의 제조 : Preparation of anisotropic conductive film

실시예Example 3 3

전체 필름의 고형 중량을 기준으로, 필름 형성을 위한 매트릭스 역할의 바인더 수지부로는 40부피%로 자일렌/초산에틸 공비 혼합용매에 용해된 페녹시 수지(PKHH, Inchemrez사, 미국) 40중량%, 경화 반응이 수반되는 경화부로서는 지환족 에폭시수지(SER-2001, SHINA T&C 사, 일본, EEW 135g/eq) 30중량%, 열경화성 양이온 중합 촉매(SI-B3A, SANSHIN CHEMICAL사, 일본) 9중량%, 안정제로서 화학식 2의 화합물(SI-S, SANSHIN CHEMICAL사, 일본) 1중량%, 이방 도전성 필름에 도전 성능을 부여해주기 위한 필러로서 도전성 입자(AUL-704, 평균입경 4μm, SEKISUI사, 일본) 20중량%를 절연화 처리한 후 혼합하여 이방 도전성 필름용 조성물을 제조하였다.On the basis of the solid weight of the whole film, 40 wt% of a binder resin serving as a matrix for film formation, 40 wt% of a phenoxy resin (PKHH, Inchemrez, USA) dissolved in a xylene / ethyl acetate azeotropic mixed solvent, 30 wt% of an alicyclic epoxy resin (SER-2001, SHINA T & C, Japan, EEW 135 g / eq) as a curing part accompanied by a curing reaction, 9 wt% of a thermosetting cationic polymerization catalyst (SI-B3A, SANSHIN CHEMICAL, (AUL-704, average particle diameter 4 μm, SEKISUI Co., Ltd., Japan) as a filler for imparting conductivity to an anisotropic conductive film as a stabilizer, 1 wt% of a compound represented by the formula (SI-S, SANSHIN CHEMICAL, 20% by weight was insulated and mixed to prepare a composition for anisotropic conductive film.

상기 이방 도전성 필름용 조성물을 각각 백색 이형필름 위에 도포한 후, 60℃ 건조기에서 5분간 용제를 휘발시켜 16μm 두께의 건조된 이방 도전성 필름을 얻었다.The above composition for anisotropic conductive films was coated on a white release film, and the solvent was evaporated for 5 minutes in a drier at 60 캜 to obtain a dried anisotropic conductive film having a thickness of 16 탆.

실시예Example 4 4

실시예 3에 있어서, 지환족 에폭시 수지를 CELLOXIDE 2081(DAICEL CHEMICAL사, 일본, EEW 200g/eq)로 변경한 것 이외에는 실시예 3과 동일한 조건 및 방법으로 이방 도전성 필름을 제조하였다.An anisotropic conductive film was produced in the same manner as in Example 3, except that the alicyclic epoxy resin was changed to CELLOXIDE 2081 (DAICEL CHEMICAL, Japan, EEW 200 g / eq).

비교예Comparative Example 4 4

실시예 3에 있어서, 안정제(SI-S, SANSHIN CHEMICAL사, 일본)를 사용하지 않은 것을 제외하고는 실시예 3과 동일한 조건 및 방법으로 이방 도전성 필름을 제조하였다.An anisotropic conductive film was produced in the same manner as in Example 3, except that the stabilizer (SI-S, SANSHIN CHEMICAL Co., Ltd.) was not used.

비교예Comparative Example 5 5

실시예 3에 있어서, 지환족 에폭시 수지 대신 DCPD(Dicyclopentadiene)형 에폭시 수지(SEV-3410, SHINA T&C사, 일본, EEW 300g/eq)를 사용한 것을 제외하고는 실시예 3과 동일한 조건 및 방법으로 이방 도전성 필름을 제조하였다.Except for using DCPD (Dicyclopentadiene) type epoxy resin (SEV-3410, SHINA T & C, Japan, EEW 300 g / eq) instead of alicyclic epoxy resin in Example 3, To prepare a conductive film.

비교예Comparative Example 6 6

실시예 3에 있어서, 지환족 에폭시 수지를 CELLOXIDE 2000(DAICEL CHEMICAL사, 일본, EEW 126g/eq)로 변경한 것을 제외하고는 실시예 3과 동일한 조건 및 방법으로 이방 도전성 필름을 제조하였다.
An anisotropic conductive film was produced in the same manner as in Example 3, except that the alicyclic epoxy resin was changed to CELLOXIDE 2000 (DAICEL CHEMICAL, Japan, EEW: 126 g / eq).

실험예Experimental Example : 이방 도전성 필름의 물성 평가 : Evaluation of Physical Properties of Anisotropically Conductive Film

DSCDSC 상 개시 온도(Phase start temperature ( OnsetOnset temperature온도 ) 측정) Measure

이방 도전성 필름을 DSC(열시차주사열량계, TA instruments, Q20)를 이용하여 질소 가스 분위기 하에서 10℃/min의 속도로 0 내지 300℃의 범위에서 DSC상 개시 온도를 측정하였다. DSC상 개시 온도(Onset temperature)란 DSC 측정시 발열에 의해 DSC 그래프의 기울기가 최초로 증가하게 되는 시점의 온도를 말한다.
The initiation temperature of the anisotropic conductive film was measured by DSC (thermal differential scanning calorimeter, TA instruments, Q20) in a nitrogen gas atmosphere at a rate of 10 占 폚 / min in the range of 0 to 300 占 폚. Onset temperature on DSC refers to the temperature at which the slope of the DSC graph first increases due to heat generated during DSC measurement.

25℃에서 150시간 경과 후 발열량 변화율Change in calorific value after 150 hours at 25 ° C

상기 제조된 각각의 상기 이방 도전성 필름을 1mg 분취하고 DSC(열시차주사열량계, TA instruments, Q20)를 이용하여 25℃, 10℃/1min, -50 내지 250℃의 범위에서 25℃에서의 초기 발열량(H0)과 25℃에서 150시간 방치한 이후의 발열량(H1)을 측정하여 발열량의 변화량을 백분율로 산출하였다.
1 mg of each of the anisotropically conductive films prepared above was dispensed and the initial calorific value at 25 占 폚 in the range of 25 占 폚, 10 占 폚 / 1 minute, and -50 to 250 占 폚 using DSC (thermal differential scanning calorimeter, TA instruments, Q20) (H 0 ) and the heating value (H 1 ) after being left at 25 ° C for 150 hours, and the amount of change in calorific value was calculated as a percentage.

접속저항 및 신뢰성 평가 후 접속저항 측정Measurement of connection resistance after evaluation of connection resistance and reliability

이방 도전성 필름의 전기적 특성을 파악하기 위하여 범프 면적 1200㎛², 두께 2000Å의 인듐틴옥사이드(ITO) 회로가 있는 유리 기판, 및 범프 면적 1200㎛², 두께 1.5mm의 IC를 사용하여, 상기 실시예 및 비교예들에 따라 제조한 각각의 이방 도전성 필름으로 다음 조건에 의해 상, 하 계면 간을 압착한 후, 130℃, 70MPa, 5초의 조건으로 가압, 가열하여 각 샘플당 5개씩의 시편을 제조하였다. 이렇게 제조된 시편을 아래 방법으로 접속 저항을 측정하고, 이를 초기 접속 저항(T0)이라 한다.In order to understand the electrical characteristics of the anisotropic conductive film, a glass substrate having a bump area of 1200 mu m < 2 > and an indium tin oxide (ITO) circuit having a thickness of 2000 ANGSTROM and an IC having a bump area of 1200 mu m & And each of the anisotropic conductive films prepared according to the comparative examples was pressed under the following conditions under the conditions of 130 DEG C and 70 MPa for 5 seconds to produce five specimens per each sample Respectively. The connection resistance is measured by the following method, and this is referred to as an initial connection resistance (T 0 ).

또한, 신뢰성 평가를 위해 85℃, 85%의 상대습도로 유지되는 고온 고습 챔버에 상기 회로 접속물을 500시간 보관한 후 동일한 방법으로 접속 저항을 측정하고 이를 신뢰성 평가 후의 접속저항(T1)으로 한다.For reliability evaluation, the circuit connection was stored in a high temperature and high humidity chamber maintained at 85 ° C and 85% relative humidity for 500 hours. Then, the connection resistance was measured in the same manner and the connection resistance T 1 do.

접속저항 측정은 4 point probe법이며, 이는 저항측정기기를 이용할 수 있는데 기기에 연결되어 있는 4개의 probe를 이용하여 4 point 사이에서의 저항을 측정한다. 저항측정기기는 1mA를 인가하며 이때 측정되는 전압으로 저항을 계산하여 표시한다.
The connection resistance measurement is a 4 point probe method, which can use a resistance measuring device. Measure the resistance between 4 points using the four probes connected to the device. The resistance measuring device applies 1mA and the resistance is calculated by the measured voltage.

실시예 3Example 3 실시예 4Example 4 비교예 4Comparative Example 4 비교예 5Comparative Example 5 비교예 6Comparative Example 6 DSC상 개시 온도(℃)DSC phase start temperature (캜) 6262 6363 5959 119119 6060 발열량 변화율(%)Rate of change in calorific value (%) 2121 1414 3232 88 4545 접속저항
(Ω)(T0)
Connection resistance
(Ω) (T 0 )
0.120.12 0.230.23 0.110.11 1.231.23 0.090.09
신뢰성
접속저항(Ω) (T1)
responsibility
Connection resistance (Ω) (T 1 )
1.251.25 1.541.54 1.151.15 3.873.87 1.871.87

상기 표 3에서 본 발명의 실시예 3 및 4의 이방 도전성 필름은 25℃에서 150시간 경과 후 발열량 변화율이 25%이하로 측정되어 경화반응이 진행되지 않아 보관 안정성이 우수한 것으로 나타났다. 또한 저온 속경화 조건에서 가압착 및 본압착 시 초기 접속저항(T0) 1Ω이하, 신뢰성 접속저항(T1) 3.0Ω이하로 측정되어 접속저항 특성이 우수한 것으로 나타났다.In Table 3, the anisotropic conductive films of Examples 3 and 4 of the present invention showed a change in calorific value after 25 hours at 25 DEG C of 25% or less, indicating that the curing reaction did not proceed and storage stability was excellent. The initial connection resistance (T 0 ) of less than 1 Ω and the reliability connection resistance (T 1 ) of 3.0 Ω or less were measured at low temperature fast curing conditions.

반면 안정제를 함유하지 않는 비교예 4의 경우, 25℃에서 150시간 경과 후 발열량 변화율이 32%로 측정되어 보관 안정성이 저하되었으며, DSC 피크 온도가 60 내지 105℃ 범위를 벗어나는 에폭시 수지를 사용한 비교예 5 및 6의 경우 신뢰성 접속저항(T1)이 1.87 내지 3.87Ω으로 나타나, 저온 속경화 조건에서 가압착 및 본압착시 접속 저항의 증가율이 큰 것으로 나타났다.
On the other hand, in Comparative Example 4 which did not contain a stabilizer, the storage stability was deteriorated by measuring the change in calorific value at 32% after 150 hours at 25 DEG C, and in Comparative Example using an epoxy resin whose DSC peak temperature was out of the range of 60 to 105 DEG C 5 and 6, the reliability connection resistance (T 1 ) was 1.87 to 3.87 OMEGA, and the rate of increase of the connection resistance in the pressurization and final compression under the condition of low temperature fast curing was large.

이상으로 본 발명의 특정한 부분을 상세히 기술하였는 바, 당업계의 통상의 지식을 가진 자에게 있어서, 이러한 구체적 기술은 단지 바람직한 실시예일뿐이며, 이에 의해 본 발명의 범위가 제한되는 것이 아닌 점은 명백할 것이다. 따라서, 본 발명의 실질적인 범위는 첨부된 청구항들과 그것들의 등가물에 의하여 정의된다고 할 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that such detail is solved by the person skilled in the art without departing from the scope of the invention. will be. Accordingly, the actual scope of the present invention will be defined by the appended claims and their equivalents.

Claims (14)

열시차주사열량계의 발열 피크 온도가 60 내지 105℃인 지환족 에폭시 수지, 화학식 1의 양이온 중합 촉매 및 화학식 2의 화합물을 포함하는 접착 조성물.
[화학식 1]
Figure 112014067695574-pat00009

상기 화학식 1에서, R₁내지 R5는 각각, 독립적으로 수소 원자, 알킬기, 아세틸기, 알콕시카르보닐기, 벤조일기 또는 벤질옥시카르보닐기이고, R6 및 R7은 각각, 독립적으로 알킬기, 벤질기, o-메틸벤질기, m-메틸벤질기, p-메틸벤질기 또는 나프틸메틸기이며,
[화학식 2]
Figure 112014067695574-pat00010

상기 화학식 2에서, R8 내지 R12는 각각, 독립적으로 수소 원자, 알킬기, 아세틸기, 알콕시카르보닐기, 벤조일기 또는 벤질옥시카르보닐기이고, R13 및 R14는 각각, 독립적으로 알킬기, 벤질기, o-메틸벤질기, m-메틸벤질기, p-메틸벤질기 또는 나프틸메틸기이며, X1은 할로겐 원자 또는 알킬황산을 나타낸다.
An alicyclic epoxy resin having an exothermic peak temperature of 60 to 105 DEG C of a thermal differential scanning calorimeter, a cationic polymerization catalyst of formula (1) and a compound of formula (2).
[Chemical Formula 1]
Figure 112014067695574-pat00009

Wherein R 1 to R 5 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group, an acetyl group, an alkoxycarbonyl group, a benzoyl group or a benzyloxycarbonyl group, R 6 And R 7 are each independently an alkyl group, a benzyl group, an o-methylbenzyl group, an m-methylbenzyl group, a p-methylbenzyl group or a naphthylmethyl group,
(2)
Figure 112014067695574-pat00010

Wherein R 8 to R 12 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an acetyl group, an alkoxycarbonyl group, a benzoyl group or a benzyloxycarbonyl group, R 13 and R 14 each independently represent an alkyl group, a benzyl group, an o A methylbenzyl group, a p-methylbenzyl group or a naphthylmethyl group, and X 1 represents a halogen atom or an alkylsulfuric acid.
제1항에 있어서, 상기 지환족 에폭시 수지는 화학식 3 내지 화학식 6의 구조를 갖는 접착 조성물.
[화학식 3]
Figure 112014067695574-pat00011

[화학식 4]
Figure 112014067695574-pat00012

[화학식 5]
Figure 112014067695574-pat00013

[화학식 6]
Figure 112014067695574-pat00014

상기 화학식 4 내지 6에서, n, s, t, u, v, m, 및 f는 각각 독립적으로 1 내지 50 사이의 정수이고, R은 알킬기, 아세틸기, 알콕시기 또는 카르보닐기이다.
The adhesive composition according to claim 1, wherein the alicyclic epoxy resin has a structure represented by any one of formulas (3) to (6).
(3)
Figure 112014067695574-pat00011

[Chemical Formula 4]
Figure 112014067695574-pat00012

[Chemical Formula 5]
Figure 112014067695574-pat00013

[Chemical Formula 6]
Figure 112014067695574-pat00014

N, s, t, u, v, m and f are each independently an integer of 1 to 50, and R is an alkyl group, an acetyl group, an alkoxy group or a carbonyl group.
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 화학식 1에서 R1은 수소 원자 또는 아세틸기이고, R2 내지 R5는 각각 수소 원자이고, R6은 벤질기, o-메틸벤질기, m-메틸벤질기, p-메틸벤질기 또는 나프틸메틸기이며, R7은 알킬기인 접착 조성물.The method of claim 1 or 2, wherein R 1 is a hydrogen atom or an acetyl group, R 2 to R 5 are each a hydrogen atom, R 6 is a benzyl group, an o-methylbenzyl group, A benzyl group, a p-methylbenzyl group or a naphthylmethyl group, and R 7 is an alkyl group. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 화학식 2에서 R8 내지 R12는 각각 수소 원자이고, R13 및 R14는 알킬기, 벤질기, o-메틸벤질기, m-메틸벤질기, p-메틸벤질기 또는 나프틸메틸기이며, X1은 알킬황산인 접착 조성물.The method according to claim 1 or 2, wherein R 8 to R 12 are each a hydrogen atom, R 13 and R 14 each independently represent an alkyl group, a benzyl group, an o-methylbenzyl group, A methylbenzyl group or a naphthylmethyl group, and X < 1 > is an alkyl sulfuric acid. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 지환족 에폭시 수지의 100중량부에 대해 0.1 내지 20중량부의 양이온 중합 촉매를 포함하고, 상기 양이온 중합 촉매의 100중량부에 대해 0.1 내지 30중량부의 화학식 2의 화합물을 포함하는 접착 조성물.The process according to claim 1 or 2, further comprising 0.1 to 20 parts by weight of a cationic polymerization catalyst per 100 parts by weight of the alicyclic epoxy resin, and 0.1 to 30 parts by weight of the compound of formula ≪ / RTI > 바인더 수지;
열시차주사열량계의 발열 피크 온도가 60 내지 105℃인 지환족 에폭시 수지;
화학식 1의 양이온 중합 촉매;
화학식 2의 화합물; 및
도전 입자를 포함하는 이방 도전성 필름.
[화학식 1]
Figure 112014067695574-pat00015

상기 화학식 1에서, R1 내지 R5는 각각, 수소 원자, 알킬기, 아세틸기, 알콕시카르보닐기, 벤조일기 또는 벤질옥시카르보닐기이고, R6 및 R7은 각각, 알킬기, 벤질기, o-메틸벤질기, m-메틸벤질기, p-메틸벤질기 또는 나프틸메틸기이며,
[화학식 2]
Figure 112014067695574-pat00016

상기 화학식 2에서, R8 내지 R12는 각각, 수소 원자, 알킬기, 아세틸기, 알콕시카르보닐기, 벤조일기 또는 벤질옥시카르보닐기이고, R13 및 R14는 각각, 알킬기, 벤질기, o-메틸벤질기, m-메틸벤질기, p-메틸벤질기 또는 나프틸메틸기이며, X1은 할로겐 원자 또는 알킬황산을 나타낸다.
Binder resin;
An alicyclic epoxy resin having an exothermic peak temperature of 60 to 105 DEG C of a thermal differential scanning calorimeter;
A cationic polymerization catalyst of formula (1);
A compound of formula 2; And
An anisotropic conductive film comprising conductive particles.
[Chemical Formula 1]
Figure 112014067695574-pat00015

Wherein R 1 to R 5 each represent a hydrogen atom, an alkyl group, an acetyl group, an alkoxycarbonyl group, a benzoyl group or a benzyloxycarbonyl group, R 6 and R 7 each represent an alkyl group, a benzyl group, an o- , m-methylbenzyl group, p-methylbenzyl group or naphthylmethyl group,
(2)
Figure 112014067695574-pat00016

Wherein R 8 to R 12 each represent a hydrogen atom, an alkyl group, an acetyl group, an alkoxycarbonyl group, a benzoyl group or a benzyloxycarbonyl group, R 13 and R 14 each represent an alkyl group, a benzyl group, an o- , an m-methylbenzyl group, a p-methylbenzyl group or a naphthylmethyl group, and X 1 represents a halogen atom or an alkylsulfuric acid.
제6항에 있어서, 상기 지환족 에폭시 수지는 하기 화학식 3 내지 화학식 6의 구조를 갖는 이방 도전성 필름.
[화학식 3]
Figure 112014067695574-pat00017

[화학식 4]
Figure 112014067695574-pat00018

[화학식 5]
Figure 112014067695574-pat00019

[화학식 6]
Figure 112014067695574-pat00020

상기 화학식 4 내지 6에서, n, s, t, u, v, m, 및 f는 각각 독립적으로 1 내지 50 사이의 정수이고, R은 알킬기, 아세틸기, 알콕시기 또는 카르보닐기이다.
The anisotropic conductive film according to claim 6, wherein the alicyclic epoxy resin has a structure represented by the following formulas (3) to (6).
(3)
Figure 112014067695574-pat00017

[Chemical Formula 4]
Figure 112014067695574-pat00018

[Chemical Formula 5]
Figure 112014067695574-pat00019

[Chemical Formula 6]
Figure 112014067695574-pat00020

N, s, t, u, v, m and f are each independently an integer of 1 to 50, and R is an alkyl group, an acetyl group, an alkoxy group or a carbonyl group.
제6항 또는 제7항에 있어서, 상기 화학식 1에서 R1은 수소 원자 또는 아세틸기이고, R2 내지 R5는 각각 수소 원자이고, R6은 벤질기, o-메틸벤질기, m-메틸벤질기, p-메틸벤질기 또는 나프틸메틸기이며, R7은 알킬기인 이방 도전성 필름.The method of claim 6 or 7, wherein R 1 is a hydrogen atom or an acetyl group, R 2 to R 5 are each a hydrogen atom, R 6 is a benzyl group, an o-methylbenzyl group, A benzyl group, a p-methylbenzyl group or a naphthylmethyl group, and R 7 is an alkyl group. 제6항 또는 제7항에 있어서, 상기 화학식 2에서 R8 내지 R12는 수소이고, R13 및 R14는 알킬기이며, X1은 알킬황산인 이방 도전성 필름.The anisotropic conductive film according to claim 6 or 7, wherein R 8 to R 12 in the general formula (2) are hydrogen, R 13 and R 14 are alkyl groups, and X 1 is alkylsulfuric acid. 제6항 또는 제7항에 있어서, 상기 지환족 에폭시 수지의 100중량부에 대해 0.1 내지 20중량부의 양이온 중합 촉매를 포함하고, 상기 양이온 중합 촉매의 100중량부에 대해 0.1 내지 30중량부의 화학식 2의 화합물을 포함하는 이방 도전성 필름.The process according to claim 6 or 7, wherein 0.1 to 20 parts by weight of the cationic polymerization catalyst is added to 100 parts by weight of the alicyclic epoxy resin, and 0.1 to 30 parts by weight of the compound of formula ≪ / RTI > 제6항에 있어서, 상기 필름 전체 고형분 총 중량에 대하여 상기 바인더 수지는 20 내지 60중량%, 상기 지환족 에폭시 수지는 20 내지 50중량%, 상기 화학식 1의 양이온 중합 촉매는 1 내지 20 중량%, 상기 화학식 2의 화합물은 0.01 내지 10중량%, 상기 도전 입자가 1 내지 30중량%로 포함된, 이방 도전성 필름.[7] The method of claim 6, wherein the binder resin is 20 to 60 wt%, the alicyclic epoxy resin is 20 to 50 wt%, the cationic polymerization catalyst is 1 to 20 wt% Wherein the compound of Formula 2 is contained in an amount of 0.01 to 10% by weight and the conductive particles are contained in an amount of 1 to 30% by weight. 제6항에 있어서, 열시차주사열량계(DSC) 상 개시 온도가 50 내지 75℃이고 25℃에서 150시간 보관 후 하기 식 1의 필름의 발열량 변화율이 25%이하인, 이방 도전성 필름.
[식 1]
발열량 변화율(%) = [(H0-H1)/H0]Х100
상기 식 1에서, H0 는 이방 도전성 필름에 대해 25℃에서 0시간에 측정한 DSC 상 발열량을 나타내고, H1은 상기 이방 도전성 필름을 25℃에서 150시간 방치 후 측정한 DSC 상 발열량을 나타낸다.
The anisotropic conductive film according to claim 6, wherein the film of the following formula (1) has a change in the calorific value after storage at 25 DEG C and a starting temperature of 50 to 75 DEG C on a differential scanning calorimeter (DSC) of 25% or less.
[Formula 1]
Change in calorific value (%) = [(H 0 -H 1 ) / H 0 ] Х100
In the formula (1), H 0 represents the calorific value on DSC measured at 25 ° C. at 0 ° C. for the anisotropic conductive film, and H 1 represents the calorific value on DSC after the anisotropic conductive film is left at 25 ° C. for 150 hours.
제6항에 있어서, 상기 이방 도전성 필름을 70℃, 1.0MPa, 1초의 조건에서 가압착 후, 130℃, 70MPa, 5초의 조건에서 본압착하고, 온도 85℃ 및 상대 습도 85%의 조건하에서 500시간 동안 방치하여 측정한 신뢰성 후 접속 저항이 2Ω 이하인, 이방 도전성 필름.7. The method for producing an anisotropic conductive film according to claim 6, wherein said anisotropic conductive film is pressure bonded at 70 DEG C, 1.0 MPa for 1 second, and then pressure bonded at 130 DEG C and 70 MPa for 5 seconds under the conditions of 85 DEG C and 85% And the post-reliability connection resistance measured by being left for a time is 2? Or less. 제1 전극을 함유하는 제1 피접속부재;
제2 전극을 함유하는 제2 피접속부재; 및
상기 제1 피접속부재와 상기 제2 피접속부재 사이에 위치하여 상기 제1 전극 및 상기 제2 전극을 접속시키는, 제6항 또는 제7항의 이방 도전성 필름에 의해 접속된 반도체 장치.
A first connected member containing a first electrode;
A second connected member containing a second electrode; And
And the anisotropic conductive film of the sixth or seventh aspect, which is located between the first connected member and the second connected member and connects the first electrode and the second electrode.
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