KR101712420B1 - 이온 임플란트용 오리엔트 모듈 - Google Patents

이온 임플란트용 오리엔트 모듈 Download PDF

Info

Publication number
KR101712420B1
KR101712420B1 KR1020160093425A KR20160093425A KR101712420B1 KR 101712420 B1 KR101712420 B1 KR 101712420B1 KR 1020160093425 A KR1020160093425 A KR 1020160093425A KR 20160093425 A KR20160093425 A KR 20160093425A KR 101712420 B1 KR101712420 B1 KR 101712420B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
handler
pumping passage
vacuum
coupled
stop
Prior art date
Application number
KR1020160093425A
Other languages
English (en)
Inventor
최선봉
Original Assignee
최선봉
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 최선봉 filed Critical 최선봉
Priority to KR1020160093425A priority Critical patent/KR101712420B1/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101712420B1 publication Critical patent/KR101712420B1/ko

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/317Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for changing properties of the objects or for applying thin layers thereon, e.g. for ion implantation
    • H01J37/3171Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for changing properties of the objects or for applying thin layers thereon, e.g. for ion implantation for ion implantation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/20Means for supporting or positioning the objects or the material; Means for adjusting diaphragms or lenses associated with the support
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/68Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
    • H01L21/681Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment using optical controlling means
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/20Positioning, supporting, modifying or maintaining the physical state of objects being observed or treated
    • H01J2237/204Means for introducing and/or outputting objects

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

본 명세서에 개시된 내용은 상단부의 분해구조를 통해 실링부재의 교체가 용이한 오리엔트 모듈에 관한 것이다.
본 명세서에 개시된 내용의 일 실시예에 따르면, 오리엔트 모듈은 상기 진공챔버와 분리되도록 형성되는 대기챔버에 배치되는 하단핸들러, 상기 하단핸들러 상부에 결합되고, 일단은 측면 하단에서 내부로 관통 연장되고 타단은 상부로 연장되어 개방되는 중단펌핑통로를 포함하는 중단핸들러, 상기 중단핸들러 상부에 결합되고, 상기 회전축과 상기 중단펌핑통로를 연결시키도록 형성되는 상단펌핑통로를 포함하는 상단핸들러 및 상기 하단, 중단 및 상단핸들러의 중앙부를 관통하여 연장되도록 형성되는 회전축을 포함한다.

Description

이온 임플란트용 오리엔트 모듈{ORIENT MODULE FOR ION IMPLANT}
본 명세서에 개시된 내용은 상단부의 분해구조를 통해 실링부재의 교체가 용이한 오리엔트 모듈에 관한 것이다.
본 명세서에서 달리 표시되지 않는 한, 이 식별항목에 설명되는 내용들은 이 출원의 청구항들에 대한 종래 기술이 아니며, 이 식별항목에 기재된다고 하여 종래 기술이라고 인정되는 것은 아니다.
오리엔트 모듈은 이온 임플란트 장치에서 웨이퍼를 핸들링하는 장치로 사용되고, 오리엔트 모듈의 일부는 진공상태에서 웨이퍼를 핸들링해야 하기 때문에 오리엔트 모듈을 통해 유입될 수 있는 공기를 지속적으로 차단하는 것이 중요하다.
또한, 오리엔트 모듈의 내부에 형성되는 실링부재들은 일정 기간 사용 후에는 변형되어 공기를 차단하는 기능이 감소하게 되므로 주기적으로 교체하는 것이 필수적이지만 복잡한 구조로 형성되는 오리엔트 모듈의 내부에 형성되어 교체를 위한 시간이 증가하는 단점이 있다.
이와 관련되어 한국특허공개 제10-2003-0025006호는 이온주입 설비에서 사용되는 웨이퍼 리프트 조립체 보호 장치 발명을 개시하고 있고, 한국특허등록 제10-0572315호는 내부에 오링이 형성되는 반도체 제조설비용 웨이퍼 승강구동장치 발명을 개시하고 있다.
그러나 종래 발명들은 내부에 형성되어 진공상태를 유지시키는 실링부재의 용이한 구조를 제시하지 않고 있으며, 이를 해결하기 위하여 구조의 변경을 통해 실링부재의 용이한 교체가 가능한 발명을 필요로 한다.
진공상태를 유지시키면서 분해구조를 통해 내부의 실링부재의 교체가 용이한 오리엔트 모듈을 제공함에 있다.
또한, 상술한 바와 같은 기술적 과제들로 한정되지 않으며, 이하의 설명으로부터 또 다른 기술적 과제가 도출될 수도 있음은 자명하다.
개시된 내용의 일 실시예에 의하면, 오리엔트 모듈은 상기 진공챔버와 분리되도록 형성되는 대기챔버에 배치되는 하단핸들러, 상기 하단핸들러 상부에 결합되고, 일단은 측면 하단에서 내부로 관통 연장되고 타단은 상부로 연장되어 개방되는 중단펌핑통로를 포함하는 중단핸들러, 상기 중단핸들러 상부에 결합되고, 상기 회전축과 상기 중단펌핑통로를 연결시키도록 형성되는 상단펌핑통로를 포함하는 상단핸들러 및 상기 하단, 중단 및 상단핸들러의 중앙부를 관통하여 연장되도록 형성되는 회전축을 포함할 수 있다.
또한, 상단핸들러는 각각이 상기 상단핸들러와 상기 회전축 사이에 서로 상하부로 이격되도록 형성되어 상기 진공챔버로의 공기유입을 차단시키는 복수의 딥씰들을 더 포함할 수 있다.
본 명세서에 개시된 내용의 일 실시예에 따르면, 오리엔트 모듈은 상단부의 분해를 통해 내부의 실링부재의 장착 및 교체가 용이하고, 상단부를 둘러싸도록 커버가 형성되어 분해구조로 형성되는 상단부의 진공상태를 보강하는 장점이 있다.
또한, 오리엔트 모듈이 분해되는 경계면의 내부와 회전축 사이에는 원통형의 실링부재가 배치되어 경계면에서 유입될 수 있는 공기를 차단하고 회전축을 따라 진공챔버로 이동할 수 있는 공기를 차단하는 장점이 있다.
또한, 오리엔트 모듈의 상단부의 내부와 중단부의 측면을 연결하는 통로가 형성되고 중단부의 측면을 통해 공기를 흡입하는 펌프를 구동시켜 진공챔버의 진공상태를 유지력이 증가되는 장점이 있다.
또한, 실링부재의 장착 및 교체가 용이한 장점, 경계면에 형성되는 실링부재를 통한 공기 차단의 장점 및 측면 통로를 통한 진공유지의 장점의 열거된 효과외에 다른 효과도 가질 수 있다.
도 1은 종래의 오리엔트 모듈을 나타낸 단면도.
도 2는 본 명세서에 개시된 내용의 일 실시예에 따른 오리엔트 모듈을 나타낸 사시도.
도 3은 도 2의 오리엔트 모듈을 다른 각도에서 보는 구조를 나타낸 사시도.
도 4는 도 2의 I-I' 선을 따라 절단한 단면도.
도 5는 도 4의 다른 상태의 예를 나타낸 분해사시도.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 바람직한 실시예에 따른 오리엔트 모듈의 구성, 동작 및 작용효과에 대하여 살펴본다. 참고로, 이하 도면에서, 각 구성요소는 편의 및 명확성을 위하여 생략되거나 개략적으로 도시되었으며, 각 구성요소의 크기는 실제 크기를 반영하는 것은 아니다, 또한 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성요소를 지칭하며 개별 도면에서 동일 구성에 대한 도면 부호는 생략하기로 한다.
도 1은 종래의 오리엔트 모듈을 나타낸 단면도를 도시한다.
도 1에 도시된 바와 같이, 오리엔트 모듈(10)은 하단핸들러(11), 중단핸들러(13), 상단핸들러(15), 회전축(17), 회전구동부(18), 수직구동부(19), 웨이퍼거치대(20) 및 차단판(21)을 포함한다.
상기 오리엔트 모듈(10)은 이온 임플란트 공정에서 웨이퍼를 잡아주는 기능을 가지고 있고, 웨이퍼를 회전시키고 상하부로 이동시킬 수 있다. 그리고 펌프와 연결되어 웨이퍼를 잡아주는 공간의 진공상태를 유지시키게 된다.
상기 하단핸들러(11)는 하단에 형성되고 상부로 연장되도록 형성되는 상기 회전축(17)을 감싸도록 형성된다. 상기 하단핸들러(11)와 상기 회전축(17) 사이에 형성되는 공간에는 하단 딥씰(diff-seal)(12)이 배치되어 대기챔버(120)에 있는 공기가 상기 하단핸들러(11)의 내부로 유입되지 않도록 차단하게 된다.
상기 중단핸들러(13)는 상기 하단핸들러(11)의 상부에 결합되고, 상기 회전축(17)을 둘러싸도록 형성된다. 상기 중단핸들러(13)의 하단 측면에는 펌프와 연결되어 공기를 흡수하는 펌핑통로(14)의 입구가 형성되고 상기 펌핑통로(14)는 내부를 관통하여 상기 회전축(17)을 따라 상부로 이동하여 상기 대기챔버(120)와 차단된 진공챔버(110)와 연결된다.
상기 중단핸들러(13)의 상부에는 상기 상단핸들러(15)가 결합되고, 상기 회전축(17)을 둘러싸도록 형성되며, 내부의 상단에는 상기 회전축(17)과 상기 상단핸들러(15) 사이에 배치되는 상단딥씰(16)이 형성된다.
상기 상단 딥씰(16)은 상기 대기챔버(120)에서 유입될 수 있는 공기가 상기 회전축(17)을 따라 상기 진공챔버(110)로 이동하는 것을 차단하게 되고, 상기 회전축(17)이 회전하거나 상하부로 이동할 경우 상기 상단핸들러(15)와의 마찰을 감소시키게 된다.
상기 하단딥씰(12) 및 상기 상단딥씰(16)은 각각이 상기 회전축(17)의 회전 및 상하구동에 의해 시간이 증가함에 따라 점진적으로 변형되고, 상기 진공챔버(110)의 진공상태를 유지시키는 기능이 상실되므로 주기적으로 교체해야하는 단점이 있다.
그러나 상기 하단딥씰(12) 및 상기 상단딥씰(16)을 교체하는 경우, 상기 상단핸들러(15), 상기 중단핸들러(13), 상기 회전축(17) 및 상기 하단핸들러(11)의 분해가 필요하여 시간이 낭비되어 편의성이 떨어지는 단점이 있다.
도 2는 본 명세서에 개시된 내용의 일 실시예에 따른 오리엔트 모듈을 나타낸 사시도를 도시한다.
도 2에 도시된 바와 같이, 상기 오리엔트 모듈(100)은 하단핸들러(200), 중단핸들러(300), 상단핸들러(400), 회전축(500), 회전구동부(600), 수직구동부(700) 및 지지부(800)를 포함한다.
상기 하단핸들러(200)는 대기챔버(120)의 하단에 배치되고, 상기 대기챔버(120)에서 상기 진공챔버(110)로 연장되도록 형성되는 상기 회전축(500)의 하단을 둘러싸도록 형성된다.
상기 하단핸들러(200)의 내부에는 상기 하단핸들러(200)와 상기 회전축(500) 사이에 형성되는 공간을 밀폐시켜 상기 대기챔버(120)의 공기가 상기 하단핸들러(200)의 내부로 유입되는 것을 방지하는 실링부재가 형성된다.
상기 중단핸들러(300)는 중단프레임(310) 및 중단파이프(320)를 포함한다.
상기 중단핸들러(300)는 상기 하단핸들러(200)의 상부에 결합되고, 상부로 연장되는 실린더 형태로 형성되며, 하단은 상기 대기챔버(120)에 배치되고, 상단은 상기 진공챔버(110)에 배치된다.
상기 중단핸들러(300)의 측면에는 상기 진공챔버(110)와 상기 대기챔버(120)를 분리시키는 차단판(130)이 상기 중단핸들러(300)를 둘러싸도록 형성되고, 상기 중단핸들러(300)와 상기 차단판(130)은 밀착형성되어 상기 대기챔버(120)의 공기가 상기 진공챔버(110)로 이동하는 것을 차단하게 된다.
한편, 상기 차단판(130)과 상기 중단핸들러(300)가 접촉하는 접촉면에는 실링부재가 형성되어 상기 대기챔버(120)의 공기가 상기 진공챔버(110)로 이동하는 것을 효과적으로 차단시킬 수 있다.
상기 중단프레임(310)은 실린더 형태로 형성되어 상부로 소정의 거리만큼 연장되도록 형성되고, 상기 차단판(130)과 접촉하는 부분은 외경이 증가하도록 형성되어 상기 차단판(130)과의 접촉면적이 늘어나게 된다.
그리고 상기 중단프레임(310)은 다시 외경이 감소하도록 형성되고 상부로 연장되어 상기 차단판(130)을 가로질러 상기 진공챔버(110)로 소정의 거리만큼 돌출되도록 형성된다.
상기 중단프레임(310)의 내부에는 상기 진공챔버(110)와 상기 대기챔버(120)를 연결하는 통로가 형성되고, 상기 중단프레임(310)의 측면에 형성되는 상기 중단파이프(320)에 연결되는 펌프를 통해 상기 중단프레임(310) 내부에 유입되는 공기를 상기 대기챔버(120)로 배출시키게 된다.
상기 상단핸들러(400)는 제1 진공유닛(410), 제2 진공유닛(420) 및 고정커버(430)를 포함한다.
상기 상단핸들러(400)는 상기 진공챔버(110)에서 상기 중단핸들러(300)의 상부와 결합되고, 상기 회전축(500)의 상부를 둘러싸도록 형성된다. 상기 상단핸들러(400)는 양쪽 측면을 향해 분리되어 상기 제1 진공유닛(410) 및 상기 제2 진공유닛(420)으로 분리가 가능하다.
상기 제1 및 제2 진공유닛들(410, 420)과 상기 회전축(500) 사이에 형성되는 공간에는 실링부재가 형성되어 상기 회전축(500)을 따라 상기 대기챔버(120)에서 유입될 수 있는 공기를 차단하게 된다.
따라서, 상기 제1 진공유닛(410)과 상기 제2 진공유닛(420)은 서로 분리가 가능하여 상기 회전축(500)의 구동으로 주기적으로 교체가 필요한 상기 실링부재를 용이하게 교체할 수 있는 장점이 있다.
상기 고정커버(430)는 상기 제1 진공유닛(410)과 상기 제2 진공유닛(420)의 외부와 밀착되도록 형성되고, 상기 제1 진공유닛(410)과 상기 제2 진공유닛(420)이 분리되지 않도록 원통형의 둘러싸는 형태로 형성된다.
상기 수직구동부(700)는 크랭크모터(710), 크랭크암(720) 및 크랭크축(730)을 포함한다.
상기 회전축(500)의 측면에는 상기 회전축(500)과 회전이 가능하도록 결합되고 크랭크 구동하여 상기 회전축(500)을 상부 또는 하부로 이동시키는 수직구동부(700)가 형성된다.
상기 지지부(800)는 상기 차단판(130)과 연결되어 하부로 연장되도록 형성되고, 상기 회전축(500)의 후방에 플레이트 형태로 배치되도록 형성되고, 상기 크랭크모터(710)는 상기 회전축(500)의 일측에 소정의 간격을 두고 이격되도록 형성되고, 상기 지지부(800)와 결합된다.
상기 크랭크암(720)의 일단은 상기 크랭크모터(710)와 연결되고, 타단은 상기 회전축(500)과 회전이 가능하도록 결합된다. 상기 크랭크모터(710)의 중앙부에는 상기 크랭크축(730)이 형성되어 상기 크랭크축(730)을 축으로 상기 크랭크암(720)이 상하로 이동하게 된다.
상기 크랭크암(720)의 상부 표면에는 스프링(140)의 일단이 결합되고, 상기 스프링(140)의 타단은 상부로 연장되어 상기 차단판(130)과 결합된다. 상기 스프링(140)은 상기 크랭크암(720)이 구동하는 동안 탄성력을 통해 상기 크랭크암(720)의 회전을 원활하게 하도록 보조하는 기능을 가지게 된다.
상기 회전구동부(600)는 상기 수직구동부(700)의 하부에 배치되고 상기 회전축(500)과 결합되고, 상기 회전구동부(600)가 회전하면 상기 회전축(500)이 함께 회전하게 된다.
따라서, 상기 회전축(500)은 상기 수직구동부(700)에 의해 상하로 이동가능하고, 상기 회전구동부(600)의 회전에 따라 회전이 가능하여 웨이퍼 거치대(510)에 배치되는 웨이퍼의 다양한 핸들링이 가능하다.
도 3은 도 2의 오리엔트 모듈을 다른 각도에서 보는 구조를 나타낸 사시도를 도시한다.
도 3에 도시된 바와 같이, 상기 회전구동부(600)는 기어모터(610), 제1 기어(620), 제2 기어(630) 및 벨트(640)를 포함한다.
상기 기어모터(610)는 상기 회전축(500)의 후방에 소정의 간격을 두고 이격되도록 배치되고, 하단에는 상기 제1 기어(620)가 형성되어 상기 기어모터(610)의 구동에 따라서 상기 제1 기어(620)가 회전하게 된다.
상기 기어모터(610)의 상부에는 상기 차단판(130)과 상기 기어모터(610)를 연결시켜 상기 기어모터(610)가 상기 회전축(500)의 후방에 안정적으로 고정되도록 복수의 지지대들이 형성된다.
상기 제2 기어(630)는 상기 회전축(500)과 결합되는 상기 크랭크암(720)의 하부에 배치되고 상기 회전축(500)과 결합된다. 상기 벨트(640)는 상기 제1 기어(620)와 상기 제2 기어(630)를 둘러싸도록 형성되고, 상기 제1 기어(620)가 회전하면 상기 벨트(640)가 이동하면서 상기 제2 기어(630)를 회전시키게 된다.
도 4는 도 2의 I-I' 선을 따라 절단한 단면도를 도시한다.
도 4에 도시된 바와 같이, 상기 중단핸들러(300)는 중단펌핑통로(330)를 더 포함하고, 상기 상단핸들러(400)는 상단펌핑통로(440), 제1 딥씰(diff-seal)(450) 및 제2 딥씰(460)을 더 포함한다.
상기 중단펌핑통로(330)의 일단은 상기 중단프레임(310)의 하단 측면에 형성되고 타단은 상기 중단프레임(310)의 내부를 관통하여 상부에 형성되어 상기 진공챔버(110)와 상기 대기챔버(120)를 연결하는 통로 형태로 형성된다.
상기 중단프레임(310)의 하단 측면에 형성된 상기 중단펌핑통로(330)의 일단에는 공기를 흡입하는 펌프가 형성되어 상기 중단펌핑통로(330) 내부에 형성되는 공기를 흡수하게 된다.
상기 제1 딥씰(450)은 상기 제1 진공유닛(410)과 상기 제2 진공유닛(420)이 서로 결합된 상태에서 상기 제1 및 제2 진공유닛들(410, 420)과 상기 회전축(500) 사이에 형성되는 공간에 배치된다.
상기 제1 딥씰(450)은 상기 회전축(500)을 둘러싸는 형태로 형성되고, 상기 회전축(500)의 회전 또는 상하운동에도 견딜 수 있는 내마모성이 있는 고분자 재료로 형성되는 것이 바람직하다.
상기 제2 딥씰(460)은 상기 제1 딥씰(450)의 하부로 소정의 거리만큼 이격되도록 형성되고, 상기 제1 딥씰(450)과 동일하게 상기 제1 및 제2 진공유닛들(410, 420)과 상기 회전축(500) 사이에서 상기 회전축(500)을 둘러싸도록 형성된다.
상기 상단펌핑통로(440)의 일단은 상기 상단핸들러(400)가 상기 중단핸들러(300)와 결합된 상태에서 상기 중단핸들러(300)의 상부에 형성되는 상기 중단펌핑통로(330)의 타단과 연결되고, 타단은 상기 제2 진공유닛(420)의 내부를 관통하여 상기 제2 진공유닛(420)의 내측면에서 개방되도록 형성된다.
상기 상단펌핑통로(440)의 타단은 상기 제1 딥씰(450)과 상기 제2 딥씰(460) 사이에 배치되도록 형성되고, 상기 중단펌핑통로(330)의 일단에서 구동하는 공기흡입펌프가 상기 중단펌핑통로(330)를 통해 공기를 흡입하면, 상기 중단펌핑통로(330)와 연결된 상기 상단펌핑통로(440)의 공기 역시 상기 중단펌핑통로(330)를 통해 상기 공기흡입펌프로 이동하게 된다.
따라서, 상기 공기흡입펌프가 구동하면 상기 중단펌핑통로(330)와 상기 상단펌핑통로(440)를 통해 상기 상단핸들러(400)의 내부에 잔존할 수 있는 공기가 흡입되어 상기 진공챔버(110)로 공기가 유입되는 것을 차단하게 된다.
또한, 도 1에 도시된 상기 상단딥씰(16)과 상기 하단딥씰(12)은 상기 차단판(21)을 사이에 두고 서로 이격되도록 형성되어 교체가 어려운 단점이 있지만, 상기 제1 딥씰(450)과 상기 제2 딥씰(460)은 상기 상단핸들러(400)의 내부에 형성되어 상기 제1 진공유닛(410)과 상기 제2 진공유닛(420)의 분리를 통해 용이하게 교체가 가능한 장점이 있다.
도 5는 도 4의 다른 상태의 예를 나타낸 분해사시도를 도시한다.
도 5에 도시된 바와 같이, 상기 제1 진공유닛(410)과 상기 제2 진공유닛(420)은 서로 분리가 가능하고, 상기 제1 딥씰(450)과 상기 제2 딥씰(460)은 상기 제1 진공유닛(410)과 상기 제2 진공유닛(420)의 분해를 통해 용이하게 교체가 가능하다.
상기 하단핸들러(200)와 상기 중단핸들러(300) 사이에는 하단 스페이서(150)가 형성되고, 상기 중단핸들러(300)와 상기 상단핸들러(400) 사이에는 상단 스페이서(160)가 형성되어 공기의 유입을 차단하게 된다.
구체적으로, 상기 중단핸들러(300)와 상기 하단핸들러(200) 사이에는 하단 스페이서(150)가 상하부가 개방된 원통형태로 상기 회전축(500)을 둘러싸도록 형성되고, 상기 하단 스페이서(150)의 일단은 상기 하단핸들러(200)의 내부에 배치되고 타단은 상기 중단핸들러(300)의 내부에 배치되도록 형성된다.
상기 하단 스페이서(150)는 분리가 가능한 상기 하단핸들러(200)와 상기 중단핸들러(300)의 구조적 특성상 상기 하단핸들러(200)와 상기 중단핸들러(300) 사이에서 유입될 수 있는 공기를 차단하고, 상기 회전축(500)이 일정한 위치를 유지하여 기울어지지 않도록 상기 회전축(500)의 구동은 유지시키면서 축의 위치는 흔들리지 않도록 고정시키게 된다.
상기 하단 스페이서(150)는 상기 하단핸들러(200)를 하부로 탈착하여 용이하게 탈착할 수 있고, 상기 하단핸들러(200)의 내부에는 상기 하단 스페이서(150)의 일단이 상기 하단핸들러(200)의 내부로 소정의 거리만큼 삽입되고 고정되도록 상기 하단 스페이서(150)의 삽입을 제한하는 걸림턱이 형성되는 것이 바람직하다.
상기 중단핸들러(300)와 상기 상단핸들러(400) 사이에는 상기 상단 스페이서(160)가 상하부가 개방된 원통형태로 상기 회전축(500)을 둘러싸도록 형성되고, 상기 상단 스페이서(160)의 일단은 상기 중단핸들러(300)의 내부에 배치되고, 타단은 상기 상단핸들러(400)의 내부에 배치되도록 형성된다.
상기 상단 스페이서(160)는 분리가 가능한 상기 중단핸들러(300)와 상기 상단핸들러(400)의 구조적 특성상 상기 중단핸들러(300)와 상기 상단핸들러(400) 사이에서 유입될 수 있는 공기를 차단하고, 상기 회전축(500)이 일정한 위치를 유지하여 기울어지지 않도록 상기 회전축(500)의 구동은 유지시키면서 축의 위치는 흔들리지 않도록 고정시키게 된다.
상기 상단 스페이서(160)는 상기 상단핸들러(400)를 상부로 탈착시켜 용이하게 교체할 수 있고, 상기 중단핸들러(300)의 내부에는 상기 상단 스페이서(160)의 일단이 상기 중단핸들러(300)의 내부로 소정의 거리만큼 삽입되고 고정되도록 상기 상단 스페이서(160)의 삽입을 제한하는 걸림턱이 형성되는 것이 바람직하다.
이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명하였지만, 본 명세서에 기재된 실시예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 가장 바람직한 일 실시예에 불과할 뿐이고 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로서 이해되어야 하고, 본 발명의 범위는 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.
100: 오리엔트 모듈 200: 하단핸들러
300: 중단핸들러 400: 상단핸들러
500: 회전축 600: 회전구동부
700: 수직구동부 800: 지지부

Claims (10)

  1. 진공챔버에서 웨이퍼를 핸들링하는 오리엔트 모듈에 있어서,
    상기 진공챔버와 분리되도록 형성되는 대기챔버에 배치되는 하단핸들러;
    상기 하단핸들러 상부에 결합되고, 일단은 측면 하단에서 내부를 향해 관통연장되고 타단은 상부로 연장되어 개방되는 중단펌핑통로를 포함하는 중단핸들러;
    상기 중단핸들러 상부에 결합되는 상단핸들러; 및
    상기 하단, 중단 및 상단핸들러의 중앙부를 관통하여 연장되도록 형성되는 회전축을 포함하며,
    상기 상단핸들러는 상기 회전축과 상기 중단펌핑통로를 연결시키도록 형성되는 상단펌핑통로를 포함하고,
    상기 중단펌핑통로는 상기 중단핸들러 내부의 상기 회전축이 배치되는 공간과 서로 분리되도록 형성되는 것을 특징으로 하는 오리엔트 모듈.
  2. 삭제
  3. 제1항에 있어서,
    상기 중단펌핑통로의 일단의 상부에 배치되어 상기 대기챔버와 상기 진공챔버를 분리시키는 차단판을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 오리엔트 모듈.
  4. 제1항에 있어서, 상기 상단핸들러는,
    각각이 상기 상단핸들러와 상기 회전축 사이에 서로 상하부로 이격되도록 형성되는 복수의 딥씰(diff-seal)들을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 오리엔트 모듈.
  5. 제4항에 있어서, 상기 상단펌핑통로는,
    상기 중단펌핑통로와 상기 딥씰들 사이에 형성되는 공간을 연결시키는 것을 특징으로 하는 오리엔트 모듈.
  6. 제5항에 있어서, 상기 상단핸들러는,
    상기 회전축 및 딥씰들의 일부를 둘러싸도록 형성되는 제1 진공유닛; 및
    상기 제1 진공유닛과 탈부착 가능하도록 결합되어 상기 회전축 및 딥씰들의 나머지 부분을 둘러싸도록 형성되는 제2 진공유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 오리엔트 모듈.
  7. 제6항에 있어서, 상기 상단핸들러는,
    상기 제1 및 제2 진공유닛들과 밀착되고 상기 제1 및 제2 진공유닛들을 둘러싸도록 형성되는 고정커버를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 오리엔트 모듈.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 회전축 하단의 측면에 배치되고 상기 회전축과 크랭크연결되어 상기 회전축을 상하부로 이동시키는 수직구동부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 오리엔트 모듈.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 하단핸들러의 배면과 결합되고 일측으로 연장되어 상기 수직구동부가 결합되는 지지부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 오리엔트 모듈.
  10. 제1항에 있어서,
    상기 회전축의 하단에 형성되는 기어와 연결되어 상기 회전축을 회전시키는 회전 구동부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 오리엔트 모듈.
KR1020160093425A 2016-07-22 2016-07-22 이온 임플란트용 오리엔트 모듈 KR101712420B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020160093425A KR101712420B1 (ko) 2016-07-22 2016-07-22 이온 임플란트용 오리엔트 모듈

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020160093425A KR101712420B1 (ko) 2016-07-22 2016-07-22 이온 임플란트용 오리엔트 모듈

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR101712420B1 true KR101712420B1 (ko) 2017-03-06

Family

ID=58399097

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020160093425A KR101712420B1 (ko) 2016-07-22 2016-07-22 이온 임플란트용 오리엔트 모듈

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101712420B1 (ko)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102066444B1 (ko) 2019-07-10 2020-03-02 최선봉 반도체 이온 임플란트 장치용 웨이퍼 핸들링 장치
KR20230037197A (ko) 2021-09-09 2023-03-16 최선봉 이온 임플란트용 카트리지 모듈
KR102630163B1 (ko) 2023-02-06 2024-01-29 세미콘스 주식회사 이온주입장치의 매니퓰레이터 어셈블리 모듈

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20060066789A (ko) * 2004-12-14 2006-06-19 동부일렉트로닉스 주식회사 웨이퍼오리엔팅장치 및 방법
KR20070091206A (ko) * 2004-12-21 2007-09-07 가부시키가이샤 리가쿠 반도체 웨이퍼 종형 열처리장치용 자성 유체 시일 유닛
KR20110107046A (ko) * 2010-03-24 2011-09-30 (주)미래컴퍼니 기판 가공장치용 진공 및 에어 공급모듈
KR101168753B1 (ko) * 2012-05-15 2012-07-26 김정숙 스핀코팅기

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20060066789A (ko) * 2004-12-14 2006-06-19 동부일렉트로닉스 주식회사 웨이퍼오리엔팅장치 및 방법
KR20070091206A (ko) * 2004-12-21 2007-09-07 가부시키가이샤 리가쿠 반도체 웨이퍼 종형 열처리장치용 자성 유체 시일 유닛
KR20110107046A (ko) * 2010-03-24 2011-09-30 (주)미래컴퍼니 기판 가공장치용 진공 및 에어 공급모듈
KR101168753B1 (ko) * 2012-05-15 2012-07-26 김정숙 스핀코팅기

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102066444B1 (ko) 2019-07-10 2020-03-02 최선봉 반도체 이온 임플란트 장치용 웨이퍼 핸들링 장치
KR20230037197A (ko) 2021-09-09 2023-03-16 최선봉 이온 임플란트용 카트리지 모듈
KR102630163B1 (ko) 2023-02-06 2024-01-29 세미콘스 주식회사 이온주입장치의 매니퓰레이터 어셈블리 모듈

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101712420B1 (ko) 이온 임플란트용 오리엔트 모듈
CN106952844B (zh) 基板处理装置
KR101059680B1 (ko) 기판처리장치
KR101756047B1 (ko) 기판 처리 장치
CN107204303B (zh) 基板处理装置
KR102425864B1 (ko) 기판 처리 장치
KR20170113106A (ko) 기판 처리 장치
JP2016134514A (ja) 基板処理装置
KR101184111B1 (ko) 기판처리장치
JP6877454B2 (ja) 2部分から成る弁ディスクを備えた、流路を閉鎖するための真空弁
US10563775B2 (en) Vacuum valve
KR102134946B1 (ko) 기판 처리 장치
JP2010192686A (ja) 基板処理装置
KR101684881B1 (ko) 게이트 밸브
CN110739245A (zh) 用于处理基板的装置和方法
CN102237246B (zh) 一种排气板及等离子体处理设备
KR102194996B1 (ko) 반도체 소자 제조용 포커싱링의 쿨링시트 부착장치
KR101887830B1 (ko) 오리엔터 어셈블리
KR101317164B1 (ko) 역압 대응구조를 갖춘 고속구동 진자식 게이트밸브
US6497241B1 (en) Hollow core spindle and spin, rinse, and dry module including the same
KR20180015026A (ko) 이온 임플란트용 카트리지 모듈
JP2019195025A (ja) 循環式efem
CN214277093U (zh) 一种膜式燃气表的机芯膜盒与膜盖的固定装置
US20230268199A1 (en) Gas exhaust apparatus and intake line automatic closing apparatus used for gas exhaust apparatus
CN115287735A (zh) 夹持机构及电化学沉积设备

Legal Events

Date Code Title Description
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20200227

Year of fee payment: 4