KR101712197B1 - Organic light emitting device - Google Patents

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Abstract

본 발명은 유기 발광 표시 장치에 관한 것으로서, 유기 발광 표시 장치는 기판, 기판 위에 형성되어 있는 복수의 제1 박막 트랜지스터, 제1 박막 트랜지스터와 각각 연결되어 있는 복수의 화소 전극, 화소 전극 위에 각각 형성되어 있는 복수의 유기 발광 부재, 발광 부재 위에 형성되어 있는 공통 전극, 기판 위에 형성되어 있으며 화소 전극과 각각 중첩하는 복수의 광 차단막을 포함한다. 따라서 착시 현상으로 특정 색상의 세로줄 무늬가 시인되어 발생하는 화질 악화가 줄어들어, 유기 발광 표시 장치의 화질이 향상된다.An organic light emitting display includes a substrate, a plurality of first thin film transistors formed on the substrate, a plurality of pixel electrodes connected to the first thin film transistor, A common electrode formed on the light emitting member, and a plurality of light shielding films formed on the substrate and overlapping the pixel electrodes, respectively. Accordingly, deterioration of image quality caused by visual recognition of a vertical stripe pattern of a specific color due to an optical illusion is reduced, and the image quality of the organic light emitting display device is improved.

유기발광, OLED, 시인선, 세로줄, 휘도, 스트라이프 Organic light emission, OLED, poin line, vertical line, luminance, stripe

Description

유기 발광 표시 장치 {ORGANIC LIGHT EMITTING DEVICE}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to an organic light emitting display device,

본 발명은 유기 발광 표시 장치에 관한 것이다. The present invention relates to an organic light emitting display.

최근 모니터 또는 텔레비전 등의 경량화 및 박형화가 요구되고 있으며, 이러한 요구에 따라 음극선관(cathode ray tube, CRT)이 액정 표시 장치(liquid crystal display, LCD)로 대체되고 있다.2. Description of the Related Art In recent years, a cathode ray tube (CRT) has been replaced by a liquid crystal display (LCD) in accordance with such a demand.

그러나, 액정 표시 장치는 수발광 소자로서 별도의 백라이트(backlight)가 필요할 뿐만 아니라, 응답 속도 및 시야각 등에서 많은 문제점이 있다.However, a liquid crystal display device requires a separate backlight as a light-emitting device, and has many problems in terms of response speed and viewing angle.

최근 이러한 문제점을 극복할 수 있는 표시 장치로서, 유기 발광 표시 장치(organic light emitting device, OLED)가 주목 받고 있다.As a display device capable of overcoming such a problem, an organic light emitting device (OLED) has attracted attention.

유기 발광 표시 장치는 두 개의 전극과 그 사이에 위치하는 발광층을 포함하며, 하나의 전극으로부터 주입된 전자(electron)와 다른 전극으로부터 주입된 정공(hole)이 발광층에서 결합하여 여기자(exciton)를 형성하고, 여기자가 에너지를 방출하면서 발광한다.The organic light emitting display includes two electrodes and a light emitting layer disposed therebetween. Electrons injected from one electrode and holes injected from the other electrode are combined in the light emitting layer to form an exciton And the exciton emits light while emitting energy.

유기 발광 표시 장치는 자체 발광형으로 별도의 광원이 필요 없기 때문에 소비전력 측면에서 유리할 뿐만 아니라, 응답 속도, 시야각 및 대비비(contrast ratio)도 우수하다.Since the organic light emitting display device is of a self-emission type and requires no separate light source, it is advantageous not only in power consumption but also in response speed, viewing angle, and contrast ratio.

유기 발광 표시 장치는 유기 발광 셀을 구동하는 방식에 따라 단순 매트릭스 방식의 유기 발광 표시 장치(passive matrix OLED)와 능동 매트릭스 방식의 유기 발광 표시 장치(active matrix OLED)로 나눌 수 있다. The organic light emitting display may be divided into a passive matrix organic light emitting display (OLED) of a simple matrix type and an active matrix organic light emitting diode (OLED) of an active matrix type according to a method of driving the organic light emitting cells.

이 중, 능동 매트릭스 방식의 유기 발광 표시 장치는 신호선에 연결되어 데이터 전압을 제어하는 스위칭 박막 트랜지스터(switching thin film transistor)와 이로부터 전달받은 데이터 전압을 게이트 전압으로 인가하여 발광 소자에 전류를 흘리는 구동 박막 트랜지스터(driving thin film transistor)를 포함한다. The active matrix organic light emitting display device includes a switching thin film transistor connected to a signal line and controlling a data voltage, a data voltage applied from the switching thin film transistor to a gate voltage, And a driving thin film transistor.

따라서 신호선을 통하여 전달된 신호에 의해 스위칭 트랜지스터가 온(on)되면, 턴온된 스위칭 트랜지스터를 통해 데이터 전압이 구동 박막 트랜지스터의 게이트 전압으로 인가되고, 구동 박막 트랜지스터를 통하여 구동 박막 트랜지스터의 유기 발광층에 전류가 흘러 유기 발광 셀의 발광이 이루어진다. Accordingly, when the switching transistor is turned on by the signal transmitted through the signal line, the data voltage is applied to the gate voltage of the driving thin film transistor through the turned-on switching transistor, and the current The organic light emitting cells emit light.

이때, 계조에 따른 데이터 전압을 인가함으로써 구동 박막 트랜지스터를 통해 흐르는 전류량을 다양하게 조절하여, 계조를 결정할 수 있으며, 이러한 유기 발광 셀은 적색(Red), 녹색(Green), 청색(Blue) 화소별로 구비되어 칼라 화면을 구현한다. At this time, by applying the data voltage according to the gradation, the amount of current flowing through the driving thin film transistor can be variously adjusted to determine the gradation, and the organic light emitting cell is divided into red, green, Thereby realizing a color screen.

이러한 유기 발광 표시 장치는 화상을 표시하는 방향에 따라 전면 방출(Top Emission) 방식과 후면 방출(Bottom Emission) 방식으로 구분되는데, 전면 방출 방식은 캐소드 전극을 ITO 또는 IZO 등과 같은 투명한 전극 물질로 형성하고 애노드 전극은 불투명한 도전 물질로 형성하며, 배면 방출 방식에서는 이와 반대로 전극을 배치한다. 또한 필요에 따라서는 애노드 전극을 위쪽으로 배치하면서도 전면 발광 방식을 채택할 수도 있다.The OLED display device is classified into a top emission type and a bottom emission type according to a direction of displaying an image. In the front emission type, a cathode electrode is formed of a transparent electrode material such as ITO or IZO The anode electrode is formed of an opaque conductive material, and in the backside discharge method, the electrode is disposed in the opposite manner. In addition, if necessary, the anode may be disposed on the upper side, and the entire surface emitting method may be adopted.

일반적으로, 적색, 녹색, 청색 화소의 배열 방법은 여러 가지가 있다. 이 중에는 동일 색의 화소를 열 단위로 배열하는 스트라이프(stripe)형, 열 및 행 방향으로 적색(R), 녹색(G), 청색(B)의 화소를 순차적으로 배열하는 모자이크(mosaic)형, 열 방향으로 화소들을 엇갈리도록 지그재그 형태로 배치하고 적색(R), 녹색(G), 청색(B)의 화소를 순차적으로 배열하는 델타(delta)형 등이 있다.In general, there are various methods of arranging red, green, and blue pixels. Among them, a stripe type in which pixels of the same color are arranged in a column unit, a mosaic type in which pixels of red (R), green (G) and blue (B) A delta type in which red, green and blue pixels are arranged in a zigzag manner so that the pixels are alternately arranged in the column direction, and the like.

이 중 적색, 녹색 및 청색 화소가 스트라이프(strip) 형태로 배치되어 있을 경우, 유기 발광 표시 장치의 좌측과 우측의 최외곽 부분에 배치된 화소열은 검은색을 띄는 비표시 영역과 바로 인접해 있어, 이들 부분에 배치된 화소의 휘도는 다른 화소열에 배치된 화소의 휘도보다 상대적으로 높아 보이는 착시 현상이 발생한다. 특히, 화이트와 같은 휘도가 높은 색상이 화소들이 배치된 표시 영역을 통해 표시될 경우, 이러한 착시 현상은 더욱더 두드러진다. 이로 인해, 유기 발광 표시 장치의 좌측과 우측의 최외곽 부분에 배치된 화소열의 화소 색상이 사용자의 눈에 띄게 되고, 특히 화이트를 표시할 해당 화소열의 색상이 눈에 잘 시인되어 세로 방향으로 적색이나 청색 줄무늬가 시인되는 문제가 발생한다. When the red, green, and blue pixels are arranged in a strip form, the pixel columns disposed at the leftmost and rightmost outermost portions of the organic light emitting display device are immediately adjacent to black non-display regions , The luminance of the pixels arranged in these portions appears to be relatively higher than the luminance of the pixels arranged in the other pixel columns. Particularly, when a high-luminance color such as white is displayed through a display area in which pixels are arranged, this illusion phenomenon becomes more conspicuous. As a result, the pixel colors of the pixel columns arranged in the left and right outermost portions of the organic light emitting display device are conspicuous to the user, and in particular, the colors of the pixel columns in which the white pixels are displayed are well visible, There arises a problem that the blue stripe is visible.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 유기 발광 표시 장치의 화질을 향상시키는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to improve the image quality of an OLED display.

본 발명의 한 특징에 따른 유기 발광 표시 장치는 기판, 상기 기판 위에 형성되어 있는 복수의 제1 박막 트랜지스터, 상기 제1 박막 트랜지스터와 각각 연결되어 있는 복수의 화소 전극, 상기 화소 전극 위에 각각 형성되어 있는 복수의 유기 발광 부재, 상기 발광 부재 위에 형성되어 있는 공통 전극, 상기 기판 위에 형성되어 있으며 상기 화소 전극과 각각 중첩하는 복수의 광 차단막을 포함한다.According to an aspect of the present invention, an OLED display includes a substrate, a plurality of first thin film transistors formed on the substrate, a plurality of pixel electrodes connected to the first thin film transistors, A plurality of organic light emitting members, a common electrode formed on the light emitting member, and a plurality of light blocking films formed on the substrate and overlapping the pixel electrodes, respectively.

상기 화소 전극은 행렬로 배치되어 있으며, 상기 광 차단막은 상기 화소 전극의 최외곽 화소 열에 형성되어 있는 것이 좋다.The pixel electrodes are arranged in a matrix, and the light shielding film is formed in the outermost pixel column of the pixel electrode.

상기 광차단막이 형성된 화소 열은 동일한 빛을 발광하는 것이 좋다.The pixel columns in which the light shielding film is formed preferably emit the same light.

상기 광 차단막은 상기 화소 전극의 개구율의 약 20% 내지 40%와 중첩할 수 있다.The light blocking film may overlap with about 20% to 40% of the aperture ratio of the pixel electrode.

상기 제1 박막 트랜지스터는, 상기 기판 위에 형성되어 있는 제1 제어 전극, 상기 제1 제어 전극과 중첩하는 반도체, 상기 반도체와 중첩하고 상기 제1 제어 전극을 중심으로 마주하는 제1 입력 및 출력 전극을 포함하고, 상기 광차단막은 상기 제1 제어 전극과 동일한 층에 동일한 물질로 형성될 수 있다.The first thin film transistor includes a first control electrode formed on the substrate, a semiconductor overlapping the first control electrode, a first input and output electrode overlapping the semiconductor and facing the first control electrode, And the light blocking film may be formed of the same material in the same layer as the first control electrode.

상기 유기 발광 표시 장치는 배면 발광(bottom emission) 방식인 것이 바람직하다.The organic light emitting display device may be a bottom emission type.

상기 광 차단막은 세로 방향으로 긴 형상을 가질 수 있다.The light shielding film may have a long shape in the longitudinal direction.

상기 특징에 따른 유기 발광 표시 장치는 제1 신호선, 상기 제1 신호선과 교차하는 제2 신호선, 상기 제1 신호선에 제2 입력 단자가 연결되어 있고, 상기 제2 신호선에 제2제어 단자가 연결되어 있으며, 상기 제1 박막 트랜지스터의 제2 제어 단자에 제2 출력 단자가 연결되어 있는 제2 박막 트랜지스터를 더 포함할 수 있다.The OLED display according to the above feature may further include a first signal line, a second signal line intersecting the first signal line, a second input terminal connected to the first signal line, and a second control terminal connected to the second signal line And a second thin film transistor having a second output terminal connected to a second control terminal of the first thin film transistor.

이러한 본 발명의 특징에 따르면, 광 차단막에 의해, 다른 화소열보다 상대적으로 높은 휘도를 나타내는 것과 같은 착시 현상을 유발하는 화소열에 배치된 화소로부터 출력하는 빛의 양이 감소된다. 따라서 착시 현상으로 특정 색상의 세로줄 무늬가 시인되어 발생하는 화질 악화가 줄어들어, 유기 발광 표시 장치의 화질이 향상된다.According to this aspect of the present invention, the amount of light output from the pixels arranged in the pixel column causing an illusion phenomenon, such as that exhibiting relatively higher luminance than other pixel columns, is reduced by the light shielding film. Accordingly, deterioration of image quality caused by visual recognition of a vertical stripe pattern of a specific color due to an optical illusion is reduced, and the image quality of the organic light emitting display device is improved.

아래에서는 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. 그리고 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙였다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art can easily carry out the present invention. The present invention may, however, be embodied in many different forms and should not be construed as limited to the embodiments set forth herein. In order to clearly illustrate the present invention, parts not related to the description are omitted, and similar parts are denoted by like reference characters throughout the specification.

도면에서 여러 층 및 영역을 명확하게 표현하기 위하여 두께를 확대하여 나타내었다. 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 동일한 도면 부호를 붙였다. 층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분 "위에" 있다고 할 때, 이는 다른 부분 "바로 위에" 있는 경우뿐 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함한다. 반대로 어떤 부분이 다른 부분 "바로 위에" 있다고 할 때에는 중간에 다른 부분이 없는 것을 뜻한다.In the drawings, the thickness is enlarged to clearly represent the layers and regions. Like parts are designated with like reference numerals throughout the specification. It will be understood that when an element such as a layer, film, region, plate, or the like is referred to as being "on" another portion, it includes not only the element directly over another element, Conversely, when a part is "directly over" another part, it means that there is no other part in the middle.

먼저 본 발명의 한 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치에 대하여 도 1을 참고로 상세하게 설명한다.First, an organic light emitting display according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIG.

도 1은 본 발명의 한 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치의 등가 회로도이다.1 is an equivalent circuit diagram of an OLED display according to an embodiment of the present invention.

도 1을 참고하면, 본 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치는 복수의 신호선(121, 171, 172)과 이들에 연결되어 있으며 대략 행렬의 형태로 배열된 복수의 화소(pixel)(PX)를 포함한다.1, the OLED display includes a plurality of signal lines 121, 171, and 172 and a plurality of pixels PX connected to the plurality of signal lines 121, 171, and 172 and arranged in a matrix form. do.

신호선은 게이트 신호(또는 주사 신호)를 전달하는 복수의 게이트선(121), 데이터 신호를 전달하는 데이터선(171) 및 구동 전압을 전달하는 복수의 구동 전압선(172)을 포함한다. 게이트선(121)은 대략 행 방향으로 뻗어 있으며 서로가 거의 평행하고 데이터선(171)과 구동 전압선(172)은 대략 열 방향으로 뻗어 있으며 서로가 거의 평행하다.The signal line includes a plurality of gate lines 121 for transmitting a gate signal (or a scanning signal), a data line 171 for transmitting a data signal, and a plurality of driving voltage lines 172 for transmitting a driving voltage. The gate lines 121 extend substantially in the row direction, are substantially parallel to each other, and the data lines 171 and the driving voltage lines 172 extend in a substantially column direction and are substantially parallel to each other.

각 화소(PX)는 스위칭 트랜지스터(Qs), 구동 트랜지스터(Qd), 축전기(Cst) 및 유기 발광 다이오드(organic light emitting diode)(LD)를 포함한다.Each pixel PX includes a switching transistor Qs, a driving transistor Qd, a capacitor Cst, and an organic light emitting diode LD.

스위칭 트랜지스터(Qs)는 제어 단자, 입력 단자 및 출력 단자를 가지는데, 제어 단자는 게이트선(121)에 연결되어 있고, 입력 단자는 데이터선(171)에 연결되어 있으며, 출력 단자는 구동 트랜지스터(Qd)에 연결되어 있다. 스위칭 트랜지스터(Qs)는 게이트선(121)에 인가되는 주사 신호에 응답하여 데이터선(171)에 인가되는 데이터 신호를 구동 트랜지스터(Qd)에 전달한다.The switching transistor Qs has a control terminal, an input terminal and an output terminal. The control terminal is connected to the gate line 121, the input terminal is connected to the data line 171, Qd. The switching transistor Qs transfers a data signal applied to the data line 171 to the driving transistor Qd in response to a scanning signal applied to the gate line 121. [

구동 트랜지스터(Qd) 또한 제어 단자, 입력 단자 및 출력 단자를 가지는데, 제어 단자는 스위칭 트랜지스터(Qs)에 연결되어 있고, 입력 단자는 구동 전압선(172)에 연결되어 있으며, 출력 단자는 유기 발광 다이오드(LD)에 연결되어 있 다. 구동 트랜지스터(Qd)는 제어 단자와 출력 단자 사이에 걸리는 전압에 따라 그 크기가 달라지는 출력 전류(ILD)를 흘린다.The driving transistor Qd also has a control terminal, an input terminal and an output terminal. The control terminal is connected to the switching transistor Qs, the input terminal is connected to the driving voltage line 172, (LD). The driving transistor Qd passes an output current I LD whose magnitude varies depending on the voltage applied between the control terminal and the output terminal.

축전기(Cst)는 구동 트랜지스터(Qd)의 제어 단자와 입력 단자 사이에 연결되어 있다. 이 축전기(Cst)는 구동 트랜지스터(Qd)의 제어 단자에 인가되는 데이터 신호를 충전하고 스위칭 트랜지스터(Qs)가 턴 오프된 뒤에도 이를 유지한다.The capacitor Cst is connected between the control terminal and the input terminal of the driving transistor Qd. This capacitor Cst charges the data signal applied to the control terminal of the driving transistor Qd and holds it even after the switching transistor Qs is turned off.

유기 발광 다이오드(LD)는 구동 트랜지스터(Qd)의 출력 단자에 연결되어 있는 애노드(anode)와 공통 전압(Vss)에 연결되어 있는 캐소드(cathode)를 가진다. 유기 발광 다이오드(LD)는 구동 트랜지스터(Qd)의 출력 전류(ILD)에 따라 세기를 달리하여 발광함으로써 영상을 표시한다.The organic light emitting diode LD has an anode connected to the output terminal of the driving transistor Qd and a cathode connected to the common voltage Vss. The organic light emitting diode LD emits light with different intensity according to the output current I LD of the driving transistor Qd to display an image.

스위칭 트랜지스터(Qs)는 n-채널 전계 효과 트랜지스터(field effect transistor, FET)이고 구동 트랜지스터(Qd)는 p-채널 전계 효과 트랜지스터이다. 그러나 스위칭 트랜지스터(Qs)와 구동 트랜지스터(Qd)의 채널 유형이 뒤바뀔 수 있으며, 두 트랜지스터(Qs, Qd)가 모두 n-채널 전계 효과 트랜지스터이거나 p-채널 전계 효과 트랜지스터일 수 있다. 또한, 트랜지스터(Qs, Qd), 축전기(Cst) 및 유기 발광 다이오드(LD)의 연결 관계가 바뀔 수 있다.The switching transistor Qs is an n-channel field effect transistor (FET) and the driving transistor Qd is a p-channel field effect transistor. However, the channel type of the switching transistor Qs and the driving transistor Qd can be reversed, and both transistors Qs and Qd can be both n-channel field effect transistors or p-channel field effect transistors. Also, the connection relationship between the transistors Qs and Qd, the capacitor Cst, and the organic light emitting diode LD may be changed.

도 2 및 3은 참고하여 본 발명의 한 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치에 대하여 상세하게 설명한다.2 and 3, the organic light emitting diode display according to an embodiment of the present invention will be described in detail.

도 2는 본 발명의 한 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치의 배치도이고, 도 3은 도 2의 유기 발광 표시 장치를 III-III 선을 따라 잘라 도시한 단면도이다.FIG. 2 is a layout diagram of an organic light emitting display according to an embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a cross-sectional view taken along a line III-III of the organic light emitting display of FIG.

투명한 유리 또는 플라스틱 따위로 만들어진 절연 기판(110) 위에 질화규소(SiNx) 또는 산화규소(SiOx) 등으로 만들어진 버퍼층(111)이 형성되어 있다. 버퍼층(111)은 이중막 구조일 수 있다.A buffer layer 111 made of silicon nitride (SiNx), silicon oxide (SiOx) or the like is formed on an insulating substrate 110 made of transparent glass or plastic. The buffer layer 111 may have a double-layer structure.

버퍼층(111)은 불순물 원소의 침투를 방지하며 표면을 평탄화하는 역할을 하는 것으로, 필요에 따라 생략될 수 있다.The buffer layer 111 serves to prevent penetration of the impurity element and to flatten the surface, and can be omitted if necessary.

버퍼층(111) 위에 다결정 규소 따위로 만들어진 복수 쌍의 제1 및 제2 섬형 반도체(151a, 151b)가 형성되어 있다. 섬형 반도체(151a, 151b) 각각은 n형 또는 p형의 도전성 불순물을 포함하는 복수의 불순물 영역(extrinsic region)과 도전성 불순물을 거의 포함하지 않은 적어도 하나의 진성 영역(intrinsic region)을 포함한다.A plurality of pairs of first and second island-like semiconductor layers 151a and 151b made of polycrystalline silicon or the like are formed on the buffer layer 111. Each of the island-like semiconductor layers 151a and 151b includes a plurality of extrinsic regions including n-type or p-type conductive impurities and at least one intrinsic region substantially containing no conductive impurities.

제1 반도체(151a)에서, 불순물 영역은 제1 소스 및 드레인 영역(source and drain region)(153a, 155a)과 중간 영역(intermediate region)(154a)을 포함하며, 이들은 n형 불순물로 도핑되어 있고 서로 분리되어 있다. 진성 영역은 불순물 영역(153a, 155a) 사이에 위치한 제1 채널 영역(channel region)(도시하지 않음) 등을 포함한다.In the first semiconductor 151a, the impurity region includes a first source and drain region 153a, 155a and an intermediate region 154a, which are doped with an n-type impurity Are separated from each other. The intrinsic region includes a first channel region (not shown) located between the impurity regions 153a and 155a, and the like.

제2 반도체(151b)에서, 불순물 영역은 제2 소스 및 드레인 영역(153b, 155b)을 포함하며, 이들은 p형 불순물로 도핑되어 있고 서로 분리되어 있다. 진성 영역은 제2 소스 및 드레인 영역(153b, 155b) 사이에 위치한 제2 채널 영역(154b)을 포함한다.In the second semiconductor 151b, the impurity region includes the second source and drain regions 153b and 155b, which are doped with the p-type impurity and are separated from each other. The intrinsic region includes a second channel region 154b located between the second source and drain regions 153b and 155b.

제1 및 제2 반도체(151a, 151b)의 불순물 영역(153a, 155a, 153b, 155b)은 채널 영역(154a, 154b)과 소스 및 드레인 영역(153a, 155a, 153b, 155b) 사이에 위치한 저농도 도핑 영역(lightly doped region)(도시하지 않음)을 더 포함할 수 있다. 이러한 저농도 도핑 영역은 불순물을 거의 포함하지 않는 오프셋 영역(offset region)으로 대체할 수 있다.The impurity regions 153a, 155a, 153b and 155b of the first and second semiconductors 151a and 151b are doped with low concentration doping located between the channel regions 154a and 154b and the source and drain regions 153a and 155a, A lightly doped region (not shown). This lightly doped region can be replaced by an offset region that contains little impurities.

이와는 달리, 제1 반도체(151a)의 불순물 영역(153a, 155b)이 p형 불순물로 도핑되거나, 제2 반도체(151b)의 불순물 영역(153b, 155b)이 n형 불순물로 도핑될 수 있다. p형의 도전성 불순물로는 붕소(B), 갈륨(Ga) 등을 들 수 있고, n형의 도전성 불순물로는 인(P), 비소(As) 등을 들 수 있다.Alternatively, the impurity regions 153a and 155b of the first semiconductor 151a may be doped with a p-type impurity, or the impurity regions 153b and 155b of the second semiconductor 151b may be doped with an n-type impurity. Examples of the p-type conductive impurities include boron (B) and gallium (Ga). Examples of the n-type conductive impurities include phosphorus (P) and arsenic (As).

반도체(151a, 151b) 및 버퍼층(111) 위에는 질화규소 또는 산화규소 따위로 만들어진 게이트 절연막(gate insulating layer)(140)이 형성되어 있다.On the semiconductor layers 151a and 151b and the buffer layer 111, a gate insulating layer 140 made of silicon nitride or silicon oxide is formed.

게이트 절연막(140) 위에는 제1 제어 전극(control electrode)(124a)을 포함하는 복수의 게이트선(gate line)(121), 복수의 제2 제어 전극(124b) 및 복수의 광 차단막(128)을 포함하는 복수의 게이트 도전체(gate conductor)가 형성되어 있다.A plurality of gate lines 121 including a first control electrode 124a, a plurality of second control electrodes 124b and a plurality of light blocking films 128 are formed on the gate insulating layer 140 A plurality of gate conductors are formed.

게이트선(121)은 게이트 신호를 전달하며 주로 가로 방향으로 뻗어 있다. 제1 제어 전극(124a)은 게이트선(121)으로부터 아래로 뻗어 제1 반도체(151a)와 교차하는데, 제1 채널 영역(154a)과 중첩한다. 각 게이트선(121)은 다른 층 또는 외부 구동 회로와의 접속을 위하여 면적이 넓은 끝 부분을 포함할 수 있다. 게이트 신호를 생성하는 게이트 구동 회로(도시하지 않음)가 기판(110) 위에 집적되어 있는 경우 게이트선(121)이 연장되어 게이트 구동 회로와 직접 연결될 수 있다.The gate line 121 transmits the gate signal and extends mainly in the horizontal direction. The first control electrode 124a extends downward from the gate line 121 and crosses the first semiconductor 151a, overlapping the first channel region 154a. Each of the gate lines 121 may include a wide-area end portion for connection with another layer or an external driving circuit. When a gate driving circuit (not shown) for generating a gate signal is integrated on the substrate 110, the gate line 121 may extend and be directly connected to the gate driving circuit.

제2 제어 전극(124b)은 게이트선(121)과 분리되어 있고 제2 반도체(151b)의 제2 채널 영역(154b)과 중첩한다. 제2 제어 전극(124b)은 제2 제어 전극(124b)으로부터 대략 직사각형 형상으로 확장된 확장부(127)를 구비한다.The second control electrode 124b is separated from the gate line 121 and overlaps the second channel region 154b of the second semiconductor 151b. The second control electrode 124b has an extension 127 extending from the second control electrode 124b in a substantially rectangular shape.

광 차단막(128)은 표시 영역이 좌측과 우측의 최외곽의 화소열에 배치된 화소에만 형성되어 있어 세로 방향으로 긴 섬형의 형상을 갖는다. 하지만, 이에 한정되지 않고, 광 차단막(128)은 화소의 우측, 양측, 상하부, 상부 또는 하부에 형성될 수 있고, 직사각형 형상 이외에 타원형, 원형, 반원 등과 같이 다양한 형상으로 형성되어, 원하는 정도의 빛을 차단할 수 있게 설계된다. The light shielding film 128 is formed only in the pixels arranged in the outermost pixel column on the left and right sides of the display area, and has a long island shape in the vertical direction. However, the present invention is not limited thereto. The light blocking film 128 may be formed on the right side, the upper side, the upper side, the upper side, the upper side or the lower side of the pixel, and may have various shapes such as an ellipse, a circle, . ≪ / RTI >

게이트 도전체(121, 124b, 128)는 알루미늄(Al)이나 알루미늄 합금 등 알루미늄 계열 금속, 은(Ag)이나 은 합금 등 은 계열 금속, 구리(Cu)나 구리 합금 등 구리 계열 금속, 몰리브덴(Mo)이나 몰리브덴 합금 등 몰리브덴 계열 금속, 크롬(Cr), 탄탈륨(Ta) 및 티타늄(Ti) 따위로 만들어질 수 있다. 그러나 이들은 물리적 성질이 다른 두 개의 도전막(도시하지 않음)을 포함하는 다중막 구조를 가질 수도 있다. 이 중 한 도전막은 신호 지연이나 전압 강하를 줄일 수 있도록 비저항(resistivity)이 낮은 금속, 예를 들면 알루미늄 계열 금속, 은 계열 금속, 구리 계열 금속 등으로 만들어진다. 이와는 달리, 다른 도전막은 다른 물질, 특히 ITO(indium tin oxide) 및 IZO(indium zinc oxide)와의 물리적, 화학적, 전기적 접촉 특성이 우수한 물질, 이를테면 몰리브덴 계열 금속, 크롬, 티타늄, 탄탈륨 등으로 만들어진다. 이러한 조합의 좋은 예로는 크롬 하부막과 알루미늄 (합금) 상부막 및 알루미늄 (합금) 하부막과 몰리브덴 (합금) 상부막을 들 수 있다. 그러나 게이트 도전체(121, 124b, 128)는 이외에도 여러 가지 다양한 금속 또는 도전체로 만들어질 수 있다.The gate conductors 121, 124b and 128 may be formed of a metal such as aluminum (Al) or an aluminum alloy, a metal such as silver or silver alloy, a copper-based metal such as copper or copper alloy, molybdenum ), A molybdenum-based metal such as a molybdenum alloy, chromium (Cr), tantalum (Ta), and titanium (Ti). However, they may have a multi-film structure including two conductive films (not shown) having different physical properties. One of the conductive films is made of a metal having a low resistivity, for example, an aluminum-based metal, a silver-based metal, or a copper-based metal to reduce signal delay and voltage drop. Alternatively, the other conductive film is made of a material having excellent physical, chemical, and electrical contact properties with other materials, particularly indium tin oxide (ITO) and indium zinc oxide (IZO), such as molybdenum metal, chromium, titanium, tantalum, A good example of such a combination is a chromium bottom film, an aluminum (alloy) top film, an aluminum (alloy) bottom film and a molybdenum (alloy) top film. However, the gate conductors 121, 124b, and 128 may be made of a variety of other metals or conductors.

게이트 도전체(121, 124b, 128)의 측면은 기판(110) 면에 대하여 경사져 있으며 그 경사각은 약 30°내지 약 80°인 것이 바람직하다.The side surfaces of the gate conductors 121, 124b, and 128 are inclined with respect to the surface of the substrate 110, and the inclination angle thereof is preferably about 30 DEG to about 80 DEG.

게이트 도전체(121, 124b, 128) 위에는 층간 절연막(interlayer insulating film)(160)이 형성되어 있다. 층간 절연막(160)은 질화규소나 산화규소 따위의 무기 절연물, 유기 절연물, 저유전율 절연물 따위로 만들어진다. 유기 절연물과 저유전율 절연물의 유전 상수는 4.0 이하인 것이 바람직하며 저유전율 절연물의 예로는 플라스마 화학 기상 증착(plasma enhanced chemical vapor deposition, PECVD)으로 형성되는 a-Si:C:O, a-Si:O:F 등을 들 수 있다. 유기 절연물 중 감광성(photosensitivity)을 가지는 것으로 층간 절연막(160)을 만들 수도 있으며, 층간 절연막(160)의 표면은 평탄할 수 있다.An interlayer insulating film 160 is formed on the gate conductors 121, 124b, and 128. The interlayer insulating film 160 is made of an inorganic insulating material such as silicon nitride or silicon oxide, an organic insulating material, or a low dielectric constant insulating material. The dielectric constant of the organic insulating material and the low dielectric constant insulating material is preferably 4.0 or less, and examples of the low dielectric insulating material include a-Si: C: O, a-Si: O which is formed by plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) : F and the like. The interlayer insulating layer 160 may have a photosensitivity among organic insulating layers, and the surface of the interlayer insulating layer 160 may be flat.

층간 절연막(160)과 게이트 절연막(140)에는 제1 및 제2 반도체의 소스 및 드레인 영역(153a, 153b, 155a, 155b)을 각각 드러내는 복수의 접촉 구멍(163a, 163b, 165a, 165b)과 유지 전극(127)을 노출하는 접촉구멍(164)이 형성되어 있다.A plurality of contact holes 163a, 163b, 165a, and 165b that respectively expose the source and drain regions 153a, 153b, 155a, and 155b of the first and second semiconductors are formed in the interlayer insulating film 160 and the gate insulating film 140, A contact hole 164 for exposing the electrode 127 is formed.

층간 절연막(160) 위에는 복수의 데이터선(data line)(171)과 복수의 구동 전압선(driving voltage line)(172)과 복수의 제1 출력 전극(output electrode)(175a) 및 제2 출력 전극(175b)을 포함하는 복수의 데이터 도전체(data conductor)가 형성되어 있다.A plurality of data lines 171, a plurality of driving voltage lines 172 and a plurality of first output electrodes 175a and a plurality of second output electrodes 175a are formed on the interlayer insulating layer 160. [ A plurality of data conductors including a plurality of data conductors 175b are formed.

데이터선(171)은 데이터 신호를 전달하며 주로 세로 방향으로 뻗어 게이트 선(121)과 교차한다. 각 데이터선(171)은 접촉 구멍(163a) 을 통하여 제1 소스 영역(153a)과 연결되어 있는 복수의 제1 입력 전극(input electrode)(173a)을 포함하며, 다른 층 또는 외부 구동 회로와의 접속을 위하여 면적이 넓은 끝 부분을 포함할 수 있다. 데이터 신호를 생성하는 데이터 구동 회로(도시하지 않음)가 기판(110) 위에 집적되어 있는 경우, 데이터선(171)이 연장되어 데이터 구동 회로와 직접 연결될 수 있다.The data line 171 transmits a data signal and extends mainly in the vertical direction and crosses the gate line 121. Each of the data lines 171 includes a plurality of first input electrodes 173a connected to the first source region 153a through a contact hole 163a and is connected to another layer or an external driving circuit It may include a wide end area for connection. When a data driving circuit (not shown) for generating a data signal is integrated on the substrate 110, the data line 171 may extend and be directly connected to the data driving circuit.

구동 전압선(172)은 구동 전압을 전달하며 주로 세로 방향으로 뻗어 게이트선(121)과 교차한다. 각 구동 전압선(172)은 접촉 구멍(163b)을 통하여 제2 소스 영역(153b)과 연결되어 있는 복수의 제2 입력 전극(173b)을 포함한다. 또한 구동 전압선(172)는 유지 전극(127)쪽으로 확장하여 상부 전극을 이루는 확장부(178)를 포함하여, 확장부(178)는 유지 전극(127)과 중첩하여 유지 축전기를 이룬다.The driving voltage line 172 transmits the driving voltage and extends mainly in the vertical direction and crosses the gate line 121. Each of the driving voltage lines 172 includes a plurality of second input electrodes 173b connected to a second source region 153b through a contact hole 163b. The driving voltage line 172 extends toward the sustain electrode 127 and includes an extension 178 forming an upper electrode so that the extension 178 overlaps the sustain electrode 127 to form a storage capacitor.

제1 출력 전극(175a)은 데이터선(171) 및 구동 전압선(172)과 분리되어 있고 직사각형 형상을 갖는다. 제1 출력 전극(175a)은 접촉 구멍(164, 165a)을 통하여 각각 유지 전극(127)과 제1 드레인 영역(155a)에 연결되어 있다.The first output electrode 175a is separated from the data line 171 and the driving voltage line 172 and has a rectangular shape. The first output electrode 175a is connected to the sustain electrode 127 and the first drain region 155a through contact holes 164 and 165a, respectively.

제2 출력 전극(175b)은 데이터선(171), 구동 전압선(172) 및 제1 출력 전극(175a)과 분리되어 있으며 직사각형 형상을 갖는다, 제2 출력 전극(175b)는 접촉 구멍(165b)을 통하여 제2 드레인 영역(155b)에 연결되어 있다.The second output electrode 175b is separated from the data line 171, the driving voltage line 172 and the first output electrode 175a and has a rectangular shape. The second output electrode 175b has a contact hole 165b To the second drain region 155b.

데이터 도전체(171, 172, 175a, 175b)는 몰리브덴, 크롬, 탄탈륨 및 티타늄 등 내화성 금속 또는 이들의 합금으로 만들어지는 것이 바람직하며, 내화성 금속막(도시하지 않음)과 저저항 도전막(도시하지 않음)을 포함하는 다중막 구조를 가질 수 있다. 다중막 구조의 예로는 크롬 또는 몰리브덴 (합금) 하부막과 알루미늄 (합금) 상부막의 이중막, 몰리브덴 (합금) 하부막과 알루미늄 (합금) 중간막과 몰리브덴 (합금) 상부막의 삼중막을 들 수 있다. 그러나 데이터 도전체(171, 172, 175a, 175b)는 이외에도 여러 가지 다양한 금속 또는 도전체로 만들어질 수 있다.The data conductors 171, 172, 175a, and 175b are preferably made of a refractory metal such as molybdenum, chromium, tantalum, and titanium or an alloy thereof, and may be formed of a refractory metal film (not shown) Lt; / RTI > (not shown). Examples of the multilayer structure include a double film of a chromium or molybdenum (alloy) lower film and an aluminum (alloy) upper film, a molybdenum (alloy) lower film, an aluminum (alloy) intermediate film and a molybdenum (alloy) upper film. However, the data conductors 171, 172, 175a, and 175b may be made of a variety of other metals or conductors.

게이트 도전체(121, 121b)와 마찬가지로 데이터 도전체(171, 172, 175a, 175b) 또한 그 측면이 기판(110) 면에 대하여 30°내지 80°정도의 경사각으로 기울어진 것이 바람직하다.It is preferable that the data conductors 171, 172, 175a, and 175b are inclined at an angle of about 30 to about 80 degrees with respect to the substrate 110 in the same manner as the gate conductors 121 and 121b.

데이터 도전체(171, 172, 175a, 175b) 위에는 보호막(passivation layer)(180)이 형성되어 있다. 보호막(180)은 무기물, 유기물, 저유전율 절연 물질 따위로 이루어진다.A passivation layer 180 is formed on the data conductors 171, 172, 175a, and 175b. The protection film 180 is made of an inorganic material, an organic material, or a low dielectric constant insulating material.

보호막(180)에는 제2 출력 전극(175b)을 드러내는 복수의 접촉 구멍(185)이 형성되어 있다. 보호막(180)에는 또한 데이터선(171)의 끝 부분을 드러내는 복수의 접촉 구멍(도시하지 않음)이 형성될 수 있으며, 보호막(180)과 층간 절연막(160)에는 게이트선(121)의 끝 부분을 드러내는 복수의 접촉 구멍(도시하지 않음)이 형성될 수 있다.The protective film 180 is formed with a plurality of contact holes 185 for exposing the second output electrode 175b. A plurality of contact holes (not shown) may be formed in the passivation layer 180 to expose the ends of the data lines 171. The passivation layer 180 and the interlayer insulating layer 160 may be formed with a plurality of contact holes A plurality of contact holes (not shown) may be formed.

보호막(180) 위에는 복수의 화소 전극(pixel electrode)(190)이 형성되어 있다. 화소 전극(190)은 접촉 구멍(185)을 통하여 제2 출력 전극(175b)과 전기적으로 연결되어 있으며, ITO 또는 IZO 등의 투명한 도전 물질이나 알루미늄, 은 또는 그 합금 등의 반사성 금속으로 만들어질 수 있다.A plurality of pixel electrodes 190 are formed on the passivation layer 180. The pixel electrode 190 is electrically connected to the second output electrode 175b through the contact hole 185 and may be formed of a transparent conductive material such as ITO or IZO or a reflective metal such as aluminum, have.

보호막(180) 위에는 또한 복수의 접촉 보조 부재(contact assistant)(도시 하지 않음) 또는 연결 부재(connecting member)(도시하지 않음)가 형성될 수 있으며, 이들은 게이트선(121)과 데이터선(171)의 노출된 끝 부분과 연결된다.A plurality of contact assistants (not shown) or a connecting member (not shown) may be formed on the passivation layer 180. The gate lines 121 and the data lines 171, Lt; / RTI >

보호막(180) 위에는 격벽(partition)(361)이 형성되어 있다. 격벽(361)은 화소 전극(190) 가장자리 주변을 둑(bank)처럼 둘러싸서 개구부(opening)(365)를 정의하며 유기 절연물 또는 무기 절연물로 만들어진다. 격벽(361)은 또한 검정색 안료를 포함하는 감광제로 만들어질 수 있는데, 이 경우 격벽(361)은 차광 부재의 역할을 하며 그 형성 공정이 간단하다.A partition 361 is formed on the passivation layer 180. The barrier rib 361 surrounds the periphery of the pixel electrode 190 to define an opening 365 and is made of an organic insulating material or an inorganic insulating material. The barrier ribs 361 may also be made of a photosensitizer containing a black pigment. In this case, the barrier ribs 361 serve as light shielding members, and the forming process is simple.

격벽(361)이 정의하는 화소 전극(190) 위의 개구부(365) 내에는 유기 발광 부재(organic light emitting member)(370)가 형성되어 있다. 유기 발광 부재(370)의 일부는 화소 전극(190)을 통해 광 차단막(128)과 중첩된다. 이때, 유기 발광 부재(370)와 광 차단막(128)이 중첩되는 크기는 화소 전극(190)의 개구부 크기의 약 20 내지 40%일 수 있고, 바람직하게는 약 30%일 수 있다.An organic light emitting member 370 is formed in the opening 365 on the pixel electrode 190 defined by the barrier rib 361. A part of the organic light emitting member 370 overlaps with the light shielding film 128 through the pixel electrode 190. At this time, the overlapping size of the organic light emitting member 370 and the light shielding film 128 may be about 20 to 40%, preferably about 30%, of the size of the opening of the pixel electrode 190.

유기 발광 부재(370)는 적색, 녹색, 청색의 삼원색 등 기본색(primary color) 중 어느 하나의 빛을 고유하게 내는 유기 물질로 만들어진다. 유기 발광 표시 장치는 유기 발광 부재(370)들이 내는 기본색 색광의 공간적인 합으로 원하는 영상을 표시한다. 본 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치에서, 동일한 화소열의 위치하는 화소의 유기 발광 부재(370)는 동일한 빛을 내는 유기 물질로 만들어져 있고, 서로 인접한 두 화소열에 위치하는 화소의 유기 발광 부재(370)는 서로 다른 빛을 내는 유기 물질로 만들어져 있는 스트라이프 형태로 화소 색상이 배치되어 있다. The organic light emitting member 370 is made of an organic material that uniquely emits any one of primary colors such as red, green, and blue. The organic light emitting display displays a desired image with a spatial sum of the primary color light emitted by the organic light emitting members 370. In the organic light emitting display according to the present embodiment, the organic light emitting member 370 of a pixel located in the same pixel column is made of an organic material that emits the same light, and the organic light emitting member 370 of a pixel located in two adjacent pixel columns, Pixel colors are arranged in a stripe form made of an organic material emitting different light.

이처럼, 스트라이프 형태로 화소가 배치되어 있을 경우, 표시 영역의 좌측에 형성된 화소열의 유기 발광 부재(370)는 적색의 빛을 내는 유기 물질로 만들어지고, 표시 영역의 우측에 형성된 화소열의 유기 발광 부재(370)는 청색의 빛을 내는 유기 물질로 만들어지지만, 이에 한정되지 않는다. 하지만, 이와는 달리, 유기 발광 표시 장치는 스트라이프 이외는 다른 형상으로 화소 색상이 배치될 수 있다. When the pixels are arranged in a stripe form, the organic light emitting member 370 of the pixel array formed on the left side of the display region is made of an organic material that emits red light, and the organic light emitting member 370 are made of organic materials that emit blue light, but are not limited thereto. However, the OLED display device may be arranged such that pixel colors are different from each other except for the stripe.

유기 발광 부재(370)는 빛을 내는 발광층(emitting layer)(도시하지 않음) 외에 발광층의 발광 효율을 향상하기 위한 부대층(auxiliary layer)(도시하지 않음)을 포함하는 다층 구조를 가질 수 있다. 부대층에는 전자와 정공의 균형을 맞추기 위한 전자 수송층(electron transport layer)(도시하지 않음) 및 정공 수송층(hole transport layer)(도시하지 않음)과 전자와 정공의 주입을 강화하기 위한 전자 주입층(electron injecting layer)(도시하지 않음) 및 정공 주입층(hole injecting layer)(도시하지 않음) 등이 있다.The organic light emitting member 370 may have a multi-layer structure including an auxiliary layer (not shown) for improving light emission efficiency of the light emitting layer in addition to a light emitting layer (not shown). The sub-layer includes an electron transport layer (not shown) and a hole transport layer (not shown) for balancing electrons and holes and an electron injection layer (not shown) for enhancing the injection of electrons and holes an electron injecting layer (not shown) and a hole injecting layer (not shown).

유기 발광 부재(370) 위에는 공통 전극(common electrode)(270)이 형성되어 있다. 공통 전극(270)은 공통 전압(Vss)을 인가 받으며, 칼슘(Ca), 바륨(Ba), 마그네슘(Mg), 알루미늄, 은 등을 포함하는 반사성 금속 또는 ITO 또는 IZO 등의 투명한 도전 물질로 만들어진다.A common electrode 270 is formed on the organic light emitting member 370. The common electrode 270 receives a common voltage Vss and is made of a transparent conductive material such as ITO or IZO or a reflective metal containing calcium (Ca), barium (Ba), magnesium (Mg), aluminum .

이러한 유기 발광 표시 장치에서, 제1 반도체(151a), 게이트선(121)에 연결되어 있는 제1 제어 전극(124a), 데이터선(171)에 연결되어 있는 제1 입력 전극(173a) 및 제1 출력 전극(175a)은 스위칭 박막 트랜지스터(switching TFT)(Qs)를 이루며, 스위칭 박막 트랜지스터(Qs)의 채널(channel)은 제1 반도체(151a)의 채널 영역(154a1, 154a2)에 형성된다. 제2 반도체(151b), 제1 출력 전극(175a)에 연결되어 있는 제2 제어 전극(124b), 구동 전압선(172)에 연결되어 있는 제2 입력 전극(173b) 및 화소 전극(190)에 연결되어 있는 제2 출력 전극(175b)은 구동 박막 트랜지스터(driving TFT)(Qd)를 이루며, 구동 박막 트랜지스터(Qd)의 채널은 제2 반도체(151b)의 채널 영역(154b)에 형성된다. 화소 전극(190), 유기 발광 부재(370) 및 공통 전극(270)은 유기 발광 다이오드를 이루며, 화소 전극(190)이 애노드(anode), 공통 전극(270)이 캐소드(cathode)가 되거나 반대로 화소 전극(190)이 캐소드, 공통 전극(270)이 애노드가 된다. 서로 중첩하는 유지 전극(127)과 구동 전압선(172)의 확장부(178)는 유지 축전기(storage capacitor)(Cst)를 이룬다.In this organic light emitting display device, the first semiconductor 151a, the first control electrode 124a connected to the gate line 121, the first input electrode 173a connected to the data line 171, The output electrode 175a constitutes a switching thin film transistor Qs and the channel of the switching thin film transistor Qs is formed in the channel regions 154a1 154a2 of the first semiconductor 151a. A second control electrode 124b connected to the first output electrode 175a, a second input electrode 173b connected to the driving voltage line 172, and a pixel electrode 190 connected to the second semiconductor 151b, The second output electrode 175b is a driving TFT Qd and the channel of the driving thin film transistor Qd is formed in a channel region 154b of the second semiconductor 151b. The pixel electrode 190 may be an anode and the common electrode 270 may be a cathode. Alternatively, the pixel electrode 190, the organic light emitting member 370 and the common electrode 270 may be organic light emitting diodes, The electrode 190 serves as the cathode, and the common electrode 270 serves as the anode. The sustain electrodes 127 overlapping each other and the extension portion 178 of the drive voltage line 172 constitute a storage capacitor Cst.

이러한 유기 발광 표시 장치는 기판(110)의 아래쪽으로 빛을 내보내어 영상을 표시한다. 따라서 본 실시예에 따른 유기발광 표시 장치는 투명한 화소 전극(190)과 불투명한 공통 전극(270)을 구비하여, 기판(110)의 아래 방향으로 영상을 표시하는 배면 발광(bottom emission) 방식의 유기 발광 표시 장치이다.The OLED display emits light toward the bottom of the substrate 110 to display an image. Accordingly, the OLED display according to the present embodiment includes a transparent pixel electrode 190 and an opaque common electrode 270, and a bottom emission type organic electroluminescent display device for displaying an image in a downward direction of the substrate 110, Emitting display device.

화소 색상이 스트라이프 형상으로 배치되어 있을 경우, 표시 영역의 좌측 및 우측의 최외곽에 배치된 화소 열의 화소는 자신의 고유 색상, 예를 들어 적색과 청색을 띠게 되는데, 바로 인접한 비표시 영역이 검은색을 표시하므로, 동일한 데이터 전압이 인가되더라도 다른 화소열의 화소들보다 상대적으로 휘도가 높은 것처럼 눈에 보이는 착시 현상이 발생한다. When the pixel colors are arranged in a stripe shape, the pixels of the pixel column disposed at the leftmost and rightmost outermost sides of the display area have their own colors, for example, red and blue. Even if the same data voltage is applied, a visual illusion occurs as if the luminance is relatively higher than the pixels of the other pixel columns.

이러한 착시 현상으로 인해 좌측 및 우측의 최외곽에 배치된 화소열의 색상이 세로 줄 무늬로 표시되는 문제를 해소하기 위해서는 좌측 및 우측의 최외곽에 배치된 화소열의 휘도를 다른 화소열의 휘도보다 낮춰야 한다. In order to solve the problem that the colors of the pixels arranged at the outermost left and right sides are displayed as vertical stripes due to the optical illusion, the brightness of the pixel columns arranged at the outermost left and right sides should be lower than the brightness of the other pixel columns.

이를 위해, 표시 영역의 좌측 및 우측 최외곽에 배치된 화소열의 화소 개구율을 다른 화소열의 화소 개구율보다 적게 설계할 경우, 화소에 인가되는 전류 밀도가 증가하여 해당 화소의 유기 발광 부재(370)의 열 발생율 등이 높아져 유기 발광 부재(370)의 열화 속도가 빨라지는 문제가 발생한다. For this purpose, when the pixel aperture ratios of the pixel rows arranged at the left and right outermost sides of the display region are designed to be smaller than the pixel aperture ratios of the other pixel columns, the current density applied to the pixels increases, The generation rate and the like are increased, which causes a problem that the deterioration speed of the organic light emitting member 370 is accelerated.

하지만, 본 발명의 실시예의 경우, 이미 설명한 것처럼, 표시 영역의 좌측 및 우측의 최외곽 화소열에는 유기 발광 부재(370)와 중첩하는 광 차단막(128)이 형성되어 있고, 이때, 광 차단막(128)의 형성 면적, 즉 화소 전극(190)과 중첩하는 면적은 화소 전극(190)의 개구율의 약 20% 내지 40% 정도이므로, 유기 발광 부재(370)에 의해 발생되는 빛의 일부, 예를 들어 약 20% 내지 40%는 광 차단막(128)에 의해 차단되어 기판(110)의 아래 방향으로 출력되지 못한다. However, in the embodiment of the present invention, as described above, the light blocking film 128 overlapping the organic light emitting member 370 is formed in the leftmost and rightmost outermost pixel columns of the display region, and the light blocking film 128 Of the pixel electrode 190 is approximately 20% to 40% of the aperture ratio of the pixel electrode 190, a part of the light generated by the organic light emitting member 370, for example, About 20% to about 40% is blocked by the light blocking film 128 and is not outputted downward of the substrate 110.

따라서 표시 영역의 좌측 및 우측의 최외곽 화소열의 화소에서 출력되는 빛의 휘도는 다른 화소열의 화소에서 출력되는 빛의 휘도보다 낮게 된다. 결국, 격벽(361)에 의해 정의되는 화소 전극(190)의 개구부(365)의 크기를 변경하지 않고 원하는 화소, 예를 들어 표시 영역의 좌측 및 우측의 최외곽 화소열에 위치하는 화소의 휘도를 낮출 수 있게 된다. 이로 인해, 화소의 열화 현상을 발생시키지 않으면서 표시 영역의 좌측 및 우측의 최외곽 화소열에 배치된 화소의 색상이 두드러지게 인식되는 착시 현상이 줄어든다. Therefore, the luminance of light output from the pixels of the outermost pixel columns on the left and right sides of the display area becomes lower than the luminance of light output from the pixels of the other pixel columns. As a result, without changing the size of the opening 365 of the pixel electrode 190 defined by the barrier ribs 361, the brightness of a pixel positioned at a desired pixel, for example, the leftmost and rightmost pixel columns of the display region is lowered . This reduces the optical phenomenon in which the colors of the pixels arranged in the leftmost and rightmost pixel columns on the left and right sides of the display region are perceptibly recognized without causing deterioration of the pixels.

한편, 제1 및 제2 반도체(151a, 151b)는 비정질 규소일 수 있으며 이 경우에는 제1 및 제2 반도체(151a, 151b)에 불순물 영역이 따로 존재하지 않는다. 대 신 제1 및 제2 반도체(151a, 151b)와 데이터 도전체(171, 173b, 175a, 175b)의 사이에 n형 불순물이 고농도로 도핑되어 있는 n+ 수소화 비정질 규소 따위로 만들어진 저항성 접촉 부재(도시하지 않음)를 둘 수 있다.Meanwhile, the first and second semiconductors 151a and 151b may be amorphous silicon. In this case, there is no separate impurity region in the first and second semiconductors 151a and 151b. A resistive contact member made of n + hydrogenated amorphous silicon having a high concentration of n-type impurity doped between the first and second semiconductors 151a and 151b and the data conductors 171, 173b, 175a, and 175b ).

또한, 스위칭 트랜지스터(Qs)와 구동 트랜지스터(Qd)의 제어 전극(124a, 124b) 및 광 차단막(128)을 제1 및 제2 반도체(154a, 154b) 아래에 둘 수 있으며 이때에도 게이트 절연막(140)은 제1 및 제2 반도체(154a, 154b)와 제어 전극(124a, 124b) 및 광 차단막(128) 사이에 위치한다. 이때, 데이터 도전체(171, 172, 173b, 175b)는 게이트 절연막(140) 바로 위에 위치할 수 있다.The control electrodes 124a and 124b and the light shielding film 128 of the switching transistor Qs and the driving transistor Qd may be disposed below the first and second semiconductors 154a and 154b, Are located between the first and second semiconductors 154a and 154b and the control electrodes 124a and 124b and the light shielding film 128. [ At this time, the data conductors 171, 172, 173b, and 175b may be positioned directly above the gate insulating layer 140. [

또한, 데이터 도전체(171, 172, 173b, 175b)는 제1 및 제 반도체(154a, 154b) 아래에 위치하여 그 위의 반도체(154a, 154b)와 전기적으로 접촉할 수 있다.In addition, the data conductors 171, 172, 173b, and 175b are located below the first and the second semiconductor layers 154a and 154b and are in electrical contact with the semiconductors 154a and 154b thereon.

본 발명의 실시예는 두 개의 트랜지스터와 하나의 축전기를 갖는 화소 구조의 능동 구동형 유기 발광 표시 장치에 기초하여 설명하였지만, 이에 한정되지 않고, 셋 이상의 트랜지스터와 둘 이상의 축전기를 구비하는 화소 구조와 같이 다른 구조의 유기 발광 표시 장치에도 물론 적용 가능하다. Although the embodiment of the present invention has been described on the basis of the active matrix organic light emitting diode display device having a pixel structure having two transistors and one capacitor, the present invention is not limited to this, and a pixel structure including three or more transistors and two or more capacitors The present invention is of course applicable to organic light emitting display devices of other structures.

또한, 스트라이프 형태의 유기 발광 표시 장치 이외에, 다른 형태로 화소 색상이 배열되어 있는 유기 발광 표시 장치에서 적용 가능하다. Further, the present invention can be applied to organic light emitting display devices in which pixel colors are arranged in other shapes, in addition to stripe type organic light emitting display devices.

이상에서 본 발명의 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고 다음의 청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 속하는 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments, It belongs to the scope of right.

도 1은 본 발명의 한 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치의 등가 회로도이다.1 is an equivalent circuit diagram of an OLED display according to an embodiment of the present invention.

도 2는 본 발명의 한 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치의 배치도이다.2 is a layout diagram of an OLED display according to an embodiment of the present invention.

도 3은 도 2의 유기 발광 표시 장치를 III-III 선을 따라 잘라 도시한 단면도이다.FIG. 3 is a cross-sectional view of the organic light emitting diode display of FIG. 2 taken along line III-III.

Claims (9)

기판,Board, 상기 기판 위에 형성되어 있는 복수의 제1 박막 트랜지스터,A plurality of first thin film transistors formed on the substrate, 상기 복수의 제1 박막 트랜지스터와 각각 연결되고, 행렬로 배치된 복수의 투명 화소 전극,A plurality of transparent pixel electrodes connected to the plurality of first thin film transistors and arranged in a matrix, 상기 복수의 투명 화소 전극 위에 각각 배치된 복수의 유기 발광 부재,A plurality of organic light emitting members arranged on the plurality of transparent pixel electrodes, 상기 복수의 유기 발광 부재 위에 배치된 불투명 공통 전극,An opaque common electrode disposed on the plurality of organic light emitting members, 상기 복수의 투명 화소 전극들 중 표시 영역의 좌측 및 우측의 최외곽 화소열에 배치된 화소 전극과만 각각 중첩하도록 세로 방향을 따라 길게 배치된 섬형의 형상을 가지는 복수의 광 차단막을 포함하고,And a plurality of light shielding films each having a island shape extending along the longitudinal direction so as to overlap only the pixel electrodes disposed on the leftmost and rightmost outermost pixel columns of the display region among the plurality of transparent pixel electrodes, 상기 복수의 제1 박막 트랜지스터의 각각은 Each of the plurality of first thin film transistors 상기 기판상에 배치된 반도체와, 상기 반도체를 커버하는 게이트절연막과, 상기 게이트절연막 상에 상기 반도체와 중첩되도록 배치된 제1 제어 전극과, 상기 제1 제어 전극을 커버하는 층간절연막과, 상기 층간 절연막 상에 배치되어 상기 반도체의 소스영역과 연결되는 입력 전극과, 상기 층간 절연막 상에 배치되어 상기 반도체의 드레인영역과 연결되는 출력 전극을 포함하며,A first control electrode disposed on the gate insulating film so as to overlap with the semiconductor; an interlayer insulating film covering the first control electrode; and a second interlayer insulating film covering the first interlayer insulating film, An input electrode disposed on the insulating film and connected to the source region of the semiconductor; and an output electrode disposed on the interlayer insulating film and connected to the drain region of the semiconductor, 상기 광차단막은 상기 제1 제어 전극과 동일한 층에 동일한 물질로 형성되고,Wherein the light blocking film is formed of the same material in the same layer as the first control electrode, 상기 광차단막이 형성된 화소열은 동일한 빛을 발광하고,The pixel column in which the light blocking film is formed emits the same light, 상기 광 차단막은 상기 화소 전극의 개구율의 20% 내지 40%와 중첩하는 유기 발광 표시 장치.Wherein the light blocking film overlaps with 20% to 40% of the aperture ratio of the pixel electrode. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 제1항에서,The method of claim 1, 상기 유기 발광 표시 장치는 배면 발광(bottom emission) 방식인 유기 발광 표시 장치.Wherein the organic light emitting display is a bottom emission type organic light emitting display. 삭제delete 제1항에서,The method of claim 1, 제1 신호선,A first signal line, 상기 제1 신호선과 교차하는 제2 신호선,A second signal line crossing the first signal line, 상기 제1 신호선에 제2 입력 단자가 연결되어 있고, 상기 제2 신호선에 제2제어 단자가 연결되어 있으며, 상기 제1 박막 트랜지스터의 제2 제어 단자에 제2 출력 단자가 연결되어 있는 제2 박막 트랜지스터를 더 포함하는 유기 발광 표시 장치.A second thin film transistor having a second input terminal connected to the first signal line, a second control terminal connected to the second signal line, and a second output terminal connected to a second control terminal of the first thin film transistor, Further comprising a transistor. 제1항에서,The method of claim 1, 상기 광차단막은 물리적 성질이 다른 두 개의 도전막을 포함하는 다중막 구조로 형성된 유기 발광 표시 장치.Wherein the light shielding film is formed of a multi-film structure including two conductive films having different physical properties.
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