KR101705962B1 - 수직자기이방성을 갖는 mtj 구조 및 이를 포함하는 자성소자 - Google Patents

수직자기이방성을 갖는 mtj 구조 및 이를 포함하는 자성소자 Download PDF

Info

Publication number
KR101705962B1
KR101705962B1 KR1020150008602A KR20150008602A KR101705962B1 KR 101705962 B1 KR101705962 B1 KR 101705962B1 KR 1020150008602 A KR1020150008602 A KR 1020150008602A KR 20150008602 A KR20150008602 A KR 20150008602A KR 101705962 B1 KR101705962 B1 KR 101705962B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
layer
ferromagnetic
ferromagnetic layer
magnetic anisotropy
perpendicular magnetic
Prior art date
Application number
KR1020150008602A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20160089567A (ko
Inventor
홍진표
이자빈
Original Assignee
한양대학교 산학협력단
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 한양대학교 산학협력단 filed Critical 한양대학교 산학협력단
Priority to KR1020150008602A priority Critical patent/KR101705962B1/ko
Priority to US15/544,356 priority patent/US10700266B2/en
Priority to PCT/KR2016/000107 priority patent/WO2016117853A1/ko
Publication of KR20160089567A publication Critical patent/KR20160089567A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101705962B1 publication Critical patent/KR101705962B1/ko

Links

Images

Classifications

    • H01L43/10—
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N50/00—Galvanomagnetic devices
    • H10N50/10—Magnetoresistive devices
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11C—STATIC STORES
    • G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/02—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements
    • G11C11/16—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements using elements in which the storage effect is based on magnetic spin effect
    • G11C11/161—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements using elements in which the storage effect is based on magnetic spin effect details concerning the memory cell structure, e.g. the layers of the ferromagnetic memory cell
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11C—STATIC STORES
    • G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/02—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements
    • G11C11/14—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements using thin-film elements
    • G11C11/15—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements using thin-film elements using multiple magnetic layers
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F10/00—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure
    • H01F10/08—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers
    • H01F10/10—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers characterised by the composition
    • H01F10/12—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers characterised by the composition being metals or alloys
    • H01F10/123—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers characterised by the composition being metals or alloys having a L10 crystallographic structure, e.g. [Co,Fe][Pt,Pd] thin films
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F10/00—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure
    • H01F10/32—Spin-exchange-coupled multilayers, e.g. nanostructured superlattices
    • H01F10/324—Exchange coupling of magnetic film pairs via a very thin non-magnetic spacer, e.g. by exchange with conduction electrons of the spacer
    • H01F10/3254—Exchange coupling of magnetic film pairs via a very thin non-magnetic spacer, e.g. by exchange with conduction electrons of the spacer the spacer being semiconducting or insulating, e.g. for spin tunnel junction [STJ]
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F10/00—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure
    • H01F10/32—Spin-exchange-coupled multilayers, e.g. nanostructured superlattices
    • H01F10/324—Exchange coupling of magnetic film pairs via a very thin non-magnetic spacer, e.g. by exchange with conduction electrons of the spacer
    • H01F10/3268—Exchange coupling of magnetic film pairs via a very thin non-magnetic spacer, e.g. by exchange with conduction electrons of the spacer the exchange coupling being asymmetric, e.g. by use of additional pinning, by using antiferromagnetic or ferromagnetic coupling interface, i.e. so-called spin-valve [SV] structure, e.g. NiFe/Cu/NiFe/FeMn
    • H01F10/3272—Exchange coupling of magnetic film pairs via a very thin non-magnetic spacer, e.g. by exchange with conduction electrons of the spacer the exchange coupling being asymmetric, e.g. by use of additional pinning, by using antiferromagnetic or ferromagnetic coupling interface, i.e. so-called spin-valve [SV] structure, e.g. NiFe/Cu/NiFe/FeMn by use of anti-parallel coupled [APC] ferromagnetic layers, e.g. artificial ferrimagnets [AFI], artificial [AAF] or synthetic [SAF] anti-ferromagnets
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F10/00—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure
    • H01F10/32—Spin-exchange-coupled multilayers, e.g. nanostructured superlattices
    • H01F10/324—Exchange coupling of magnetic film pairs via a very thin non-magnetic spacer, e.g. by exchange with conduction electrons of the spacer
    • H01F10/329—Spin-exchange coupled multilayers wherein the magnetisation of the free layer is switched by a spin-polarised current, e.g. spin torque effect
    • H01L43/02—
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10B—ELECTRONIC MEMORY DEVICES
    • H10B61/00—Magnetic memory devices, e.g. magnetoresistive RAM [MRAM] devices
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N50/00—Galvanomagnetic devices
    • H10N50/01—Manufacture or treatment
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N50/00—Galvanomagnetic devices
    • H10N50/80—Constructional details
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N50/00—Galvanomagnetic devices
    • H10N50/80—Constructional details
    • H10N50/85—Magnetic active materials

Abstract

수직자기이방성을 갖는 MTJ 구조를 제공한다. 수직자기이방성을 갖는 MTJ 구조는 기판, 상기 기판 상에 위치하는 인위적 반강자성층, 상기 인위적 반강자성층 상에 위치하되, W 또는 W를 포함하는 합금을 포함하는 버퍼층, 상기 버퍼층 상에 위치하고, 수직자기이방성을 갖는 제1 강자성층, 상기 제1 강자성층 상에 위치하는 터널링 배리어층 및 상기 터널링 배리어층 상에 위치하고, 수직자기이방성을 갖는 제2 강자성층을 포함할 수 있다. 따라서, 인위적 반강자성층을 CoFeB/MgO/CoFeB 구조와 접합시키는 적용에 있어서 그 사이에 버퍼층을 사용함으로써 고온에서의 열적 안정성이 향상된 MTJ 구조를 제공할 수 있다.

Description

수직자기이방성을 갖는 MTJ 구조 및 이를 포함하는 자성소자{Magnetic tunnel junction structure with perpendicular magnetic anisotropy and Magnetic element including the same}
본 발명은 수직자기이방성을 갖는 MTJ 구조에 관한 것으로, 더욱 자세하게는 고온에서도 열적 안정성을 갖는 수직 자기 이방성을 갖는 MTJ 구조 및 이를 포함하는 자성소자에 관한 것이다.
새로운 정보저장 매체에 대한 요구로 주목받고 있는 차세대 비휘발성 메모리로는 강유전체 메모리(FeRAM), 자기메모리(MRAM), 저항형 메모리(ReRAM), 상변화메모리(PRAM) 등이 있다. 이들 메모리는 각각의 장점을 가지고 있으며, 그 용도에 맞는 방향으로 연구개발이 활발하게 진행되고 있다.
이 중 MRAM(Magnetic Random Access Memory)은 자기저항(Magnetoresistance)이라는 양자역학적 효과를 이용한 기억소자로서, 저소비 전력으로 고밀도성 및 고응답성의 특징으로 비휘발적인 데이터의 기억이 가능한 장치로, 현재 널리 이용되고 있는 기억소자인 DRAM을 대체할 수 있는 대용량용 기억소자이다.
자기 저항 효과로는, 거대자기저항(Giant Magneto Resistive, GMR)과 터널자기저항(Tunneling Magneto Resistive, TMR)의 2가지 효과가 알려져 있다.
GMR 효과를 이용하는 소자는 2개의 강자성층의 사이에 위치한 도체의 저항이 상하의 강자성층의 스핀 방향에 따라 변화되는 현상을 이용하여 정보를 기억하는 것이다. 그러나, GMR 소자는 자기 저항값의 변화의 비율을 나타내는 MR(magnetoresistance)비가 10% 정도로 낮기 때문에, 기억 정보의 판독 신호가 작아서, 판독 마진의 확보가 MRAM 실현의 최대 과제이다.
한편, TMR 효과를 이용하는 대표적인 소자로서는, 자기터널접합효과에 따른 자기 저항의 변화를 이용하는 자기터널접합(Magnetic Tunnel Junction, MTJ) 소자가 알려져 있다.
이 MTJ 소자는 강자성층/절연층/강자성층의 적층 구조로 되어있다. MTJ 소자에서는, 상하의 강자성층의 스핀 방향이 동일한 경우에는, 터널 절연막을 개재한 2개의 강자성층간의 터널 확률이 최대로 되어, 그 결과 저항값이 최소로 된다. 이에 대하여, 스핀 방향이 반대인 경우에는, 그 터널 확률이 최소로 됨으로써 저항값이 최대로 된다.
이러한 2가지 스핀 상태를 실현하기 위해, 강자성층(자성체막) 중 어느 한쪽은 그 자화 방향이 고정되어 있어 외부 자화의 영향을 받지 않도록 설정되어 있다. 일반적으로, 이 자화 방향이 고정되어 있는 강자성층을 고정층 또는 핀드층(Pinned layer)이라 한다.
다른 쪽 강자성층(자성체막)은 인가되는 자계의 방향에 따라 자화 방향이 고정층의 자화 방향과 동일하거나 반대가 가능하게 되어 있다. 이때의 강자성층을 일반적으로 자유층(Free layer)이라 하며, 정보를 저장하는 역할을 담당하고 있다.
MTJ 소자의 경우, 현재, 저항 변화율로서의 MR비가 50%를 초과하는 것도 얻어지고 있으며, MRAM 개발의 주류가 되고 있다.
한편, 이러한 MTJ 소자 중 수직자기이방성 물질을 이용한 MTJ 소자가 주목받고 있다.
특히, 이러한 수직자기이방성 물질을 이용한 MTJ 소자를 수직스핀전달토크형 자기저항메모리(STT-MRAM) 등에 적용을 위한 연구가 활발히 진행되고 있다.
스핀전달토크형 기록방식은 외부 자기장이 아닌 자기터널접합에 직접 전류를 주입하여 자화반전을 유도하는 방식을 말한다. 이러한 STT 기록방식은 별도의 외부 도선이 필요없어 고집적화에 유리한 특징이 있다.
이러한 수직자기이방성을 이용한 자기터널접합 (MTJ) 소자에 있어서 피닝층(pinning layer)으로 사용되는 물질로써 인위적 반강자성체 구조가 있다. 본 구조는 통상적으로 CoPd, CoPt, [Co/Pd] 또는 [Co/Pt]와 같은 강자성층 사이에 Ru 이 삽입되어진 L1 / Ru / L1 구조로 이루어진다.
현재 STT-MRAM 소자 적용을 위해서는 궁극적으로 트랜지스터와 같은 선택소자 접합이 필수적인데, 이와 같은 선택소자의 공정온도는 대략 400 ℃이고, 이러한 온도는 상기 언급한 인위적 반강자성체 구조에 있어서 안 좋은 영향을 미치게 된다.
현재까지 보고된 바에 따르면 400 ℃ 내지 450 ℃에서 인위적 반강자성체 결합을 구성하기 위해 사용된 수직자기이방성 물질에 포함된 Pd 혹은 Pt 가 고온 열처리 공정 중에서 매우 빠르게 확산됨으로써 전체적인 소자의 특성이 저하된다.
이러한 Pd 혹은 Pt 의 확산은 인위적 반강자성층 내부로의 확산뿐만 아니라, 그에 사용된 씨앗층 및 캡핑층(capping layer) 방향으로도 이루어지게 되는데, 이러한 씨앗층 및 캡핑층으로의 확산은 잠재적으로 CoFeB/MgO/CoFeB 접합과의 계면 상태를 악화시킬 가능성을 내포하고 있다.
따라서, 인위적 반강자성체 구조를 포함하는 구조에서 고온에서 열적 안정성을 갖는 수직 자기 이방성을 갖는 MTJ 구조를 개발할 필요성이 있다.
대한민국 공개특허 제10-1999-0077377호
본 발명이 해결하고자 하는 과제는 인위적 반강자성체 구조를 포함하는 구조에서 고온에서 열적 안정성을 갖는 수직 자기 이방성을 갖는 MTJ 구조 및 이를 포함하는 자성소자를 제공함에 있다.
상기 과제를 이루기 위하여 본 발명의 일 측면은 수직자기이방성을 갖는 MTJ 구조를 제공한다. 이러한 MTJ 구조는 기판, 상기 기판 상에 위치하는 인위적 반강자성층, 상기 인위적 반강자성층 상에 위치하되, W 또는 W를 포함하는 합금을 포함하는 버퍼층, 상기 버퍼층 상에 위치하고, 수직자기이방성을 갖는 제1 강자성층, 상기 제1 강자성층 상에 위치하는 터널링 배리어층 및 상기 터널링 배리어층 상에 위치하고, 수직자기이방성을 갖는 제2 강자성층을 포함할 수 있다.
또한, 상기 인위적 반강자성층은, 제3 강자성층, 상기 제3 강자성층 상에 위치하는 분리층 및 상기 분리층 상에 위치하는 제4 강자성층을 포함할 수 있다.
또한, 상기 제3 강자성층 또는 상기 제4 강자성층은 CoPd, CoPt, [Co/Pd]n, [Co/Pt]n, FePd, FePt, [Fe/Pd]n 또는 [Fe/Pt]n 구조를 포함할 수 있다. 또한, 상기 분리층은 Ru, Ta 또는 Ir을 포함할 수 있다.
또한, 상기 버퍼층의 두께는 2 nm 내지 5 nm 인 것을 특징으로 한다
또한, 상기 제1 강자성층 CoFeB 물질을 포함할 수 있다. 또한, 상기 터널링 배리어층은 상기 터널링 배리어층은 MgO, Al2O3, HfO2, TiO2, Y2O3 및 Yb2O3로 이루어진 군에서 선택된 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다.
상기 과제를 이루기 위하여 본 발명의 다른 측면은 수직자기이방성을 갖는 MTJ 구조를 제공한다. 이러한 MTJ 구조는 기판, 상기 기판 상에 위치하고, 수직자기이방성을 갖는 제2 강자성층, 상기 제2 강자성층 상에 위치하는 터널링 배리어층, 상기 터널링 배리어층 상에 위치하고, 수직자기이방성을 갖는 제1 강자성층, 상기 제1 강자성층 상에 위치하되, W 또는 W를 포함하는 합금을 포함하는 버퍼층 및 상기 버퍼층 상에 위치하는 인위적 반강자성층을 포함할 수 있다.
또한, 상기 버퍼층의 두께는 2 nm 내지 5 nm 인 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 제1 강자성층은 CoFeB 물질을 포함할 수 있다.
상기 과제를 이루기 위하여 본 발명의 또 다른 측면은 자성소자를 제공한다. 이러한 자성소자는 복수개의 디짓 라인들, 상기 디짓 라인들의 상부를 가로지르는 복수개의 비트 라인들 및 상기 디짓 라인과 상기 비트 라인 사이에 개재된 상술한 MTJ 구조를 포함할 수 있다.
본 발명에 따르면, 인위적 반강자성층을 CoFeB/MgO/CoFeB 구조와 접합시키는 적용에 있어서 그 사이에 버퍼층을 사용함으로써 인위적 반강자성층 내의 Pd 혹은 Pt 등의 물질이 CoFeB 층으로의 확산을 방지할 수 있다.
나아가, 이러한 버퍼층 물질로 W 계열 물질을 사용함으로써, 결정구조의 연속성을 유도함으로써 실 소자 작동에 있어서 MgO 터널 산화층과 coherent tunneling 을 기대할 수 있기에 자기저항비가 높아지고 소모 전력을 감소시킬 수 있는 효과가 있다.
따라서, 고온에서도 열적 안정성이 향상된 수직자기이방성을 갖는 MTJ 구조를 제공할 수 있다.
본 발명의 기술적 효과들은 이상에서 언급한 것들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 효과들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 수직자기이방성을 갖는 MTJ 구조를 나타낸 단면도이다.
도 2는 본 발명의 다른 실시예에 따른 수직자기이방성을 갖는 MTJ 구조를 나타낸 단면도이다.
도 3은 제조예 1에 따른 구조의 열처리 온도에 따른 자성특성을 나타낸 그래프들이다.
도 4는 제조예 2에 따른 구조의 열처리 온도에 따른 자성특성을 나타낸 그래프들이다.
도 5는 제조예 3에 따른 구조의 열처리 온도에 따른 자성특성을 나타낸 그래프들이다.
도 6은 제조예 4에 따른 구조의 열처리 온도에 따른 자성특성을 나타낸 그래프들이다.
이하, 첨부된 도면을 참고하여 본 발명에 의한 실시예를 상세히 설명하면 다음과 같다.
본 발명이 여러 가지 수정 및 변형을 허용하면서도, 그 특정 실시예들이 도면들로 예시되어 나타내어지며, 이하에서 상세히 설명될 것이다. 그러나 본 발명을 개시된 특별한 형태로 한정하려는 의도는 아니며, 오히려 본 발명은 청구항들에 의해 정의된 본 발명의 사상과 합치되는 모든 수정, 균등 및 대용을 포함한다.
층, 영역 또는 기판과 같은 요소가 다른 구성요소 "상(on)"에 존재하는 것으로 언급될 때, 이것은 직접적으로 다른 요소 상에 존재하거나 또는 그 사이에 중간 요소가 존재할 수도 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다.
비록 제1, 제2 등의 용어가 여러 가지 요소들, 성분들, 영역들, 층들 및/또는 지역들을 설명하기 위해 사용될 수 있지만, 이러한 요소들, 성분들, 영역들, 층들 및/또는 지역들은 이러한 용어에 의해 한정되어서는 안 된다는 것을 이해할 것이다.
또한, 본 발명에서 사용하는 용어 "A/B/C 구조"는 A층 상에 B층 및 C층이 차례로 적층된 구조를 의미한다.
또한, 본 발명에서 사용하는 용어 "[A/B]n 구조"는 A층과 B층이 교대로 n회 반복적층된 구조를 의미한다. 이때의 n은 1 이상의 정수이다.
본 발명의 일 실시예에 따른 수직자기이방성을 갖는 MTJ 구조를 설명한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 수직자기이방성을 갖는 MTJ 구조를 나타낸 단면도이다. 이때의 도 1의 MTJ 구조는 bottom pinned 구조이다.
도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 수직자기이방성을 갖는 MTJ 구조는 기판(100), 인위적 반강자성층(200), 버퍼층(300), 제1 강자성층(400), 터널링 배리어층(500) 및 제2 강자성층(600)을 포함한다.
기판(100)은 공지된 다양한 물질의 기판을 이용할 수 있다. 예를 들어, 이러한 기판(100)은 실리콘 기판으로 구현될 수 있다. 또한, 이러한 기판(100)은 전극으로 구현될 수도 있다. 한편, 이러한 기판(100)은 경우에 따라 생략될 수 있다. 한편, 이러한 기판(100) 상부에 인위적 반강자성층을 성장시키기 위한 씨앗층(미도시)을 더 포함할 수도 있다.
인위적 반강자성층(200)은 기판(100) 상에 위치한다. 이러한 인위적 반강자성층(200)은 후술하는 제1 강자성층(300)의 자화 방향을 고정시키는 역할을 한다.
이러한 인위적 반강자성층(200)은 제3 강자성층(210), 상기 제3 강자성층(210) 상에 위치하는 분리층(220) 및 상기 분리층(220) 상에 위치하는 제4 강자성층(230)을 포함할 수 있다.
상기 제3 강자성층(210) 또는 상기 제4 강자성층(230)은 CoPd, CoPt, [Co/Pd]n, [Co/Pt]n, FePd, FePt, [Fe/Pd]n, 또는 [Fe/Pt]n 구조를 포함할 수 있다. 그리고, 이때의 분리층(220)은 Ru, Ta 또는 Ir을 포함할 수 있다.
예를 들어, 인위적 반강자성층(200)은 CoPd/Ru/CoPd 구조일 수 있다.
이러한 인위적 반강자성층(200)은 통상의 증착 방법을 통해 형성될 수 있다. 예를 들어, 물리적 기상 증착법, 화학적 기상 증착법 또는 스퍼터링법이 가능하다.
버퍼층(300)은 인위적 반강자성층(200) 상에 위치할 수 있다. 이러한 버퍼층(300)은 W 또는 W를 포함하는 합금을 포함할 수 있다. 예를 들어, 버퍼층(300)은 W, WB 또는 WN 를 포함할 수 있다.
이러한 버퍼층(300)은 통상의 증착 방법을 통해 형성될 수 있다. 예를 들어, 물리적 기상 증착법, 화학적 기상 증착법 또는 스퍼터링법이 가능하다.
이러한 버퍼층(300)은 메모리 소자 공정 온도인 약 400℃ 온도에서, 인위적 반강자성층(200) 내의 물질인 Pd 또는 Pt 등의 물질이 상부 예컨대 제1 강자성층(300)으로 확산되는 것을 방지하는 역할을 한다.
만일, 인위적 반강자성층(200) 내의 물질인 Pd 또는 Pt 등의 물질이 상부로 확산될 경우, 상부에 위치하는 제1 강자성층(300)의 자성 특성을 약화시킬 수 있다.
따라서, 본 발명에서는 인위적 반강자성층(200) 및 제1 강자성층(400) 사이에 버퍼층(300)을 삽입함으로써, 고온에서도 인위적 반강자성층(200)과 상부에 위치하는 구조와의 계면 상태를 악화시키지 않음으로써 열정 안정성을 향상시킬 수 있다.
또한, 버퍼층(300) 물질로 W 또는 W를 포함하는 합금을 사용할 경우 결정구조의 연속성을 유도할 수 있다. 예컨대, 이러한 W 물질을 포함하는 버퍼층(300) 상에 CoFeB/MgO/CoFeB 구조가 위치할 경우, W층의 구조가 CoFeB와 같은 bcc 기반 결정구조이므로 추후 소자 작동에 있어서 MgO 터널 배리어층과 coherent tunneling을 기대할 수 있기에 자기저항비가 높아지고 소모 전력을 감소시킬 수 있는 효과가 있다.
또한, 이러한 버퍼층(300)의 두께는 2 nm 내지 5 nm일 수 있다. 만일, 버퍼층(300)의 두께가 2 nm 미만일 경우, 버퍼층(300) 상에 위치하는 제1 강자성층(400)의 결정 성장이 잘 이루어지지 않을 염려가 있다. 또한, 이러한 버퍼층(300)의 두께가 5 nm를 초과하는 경우, 버퍼층(300) 자체의 물질이 제1 강자성층(400)으로 확산되어 자성특성을 약화시킬 염려가 있다.
제1 강자성층(400)은 버퍼층(300) 상에 위치한다. 이 때의 제1 강자성층(400)은 수직자기이방성을 갖는 강자성 물질을 주 원소로 한다.
예컨대, 이러한 제1 강자성층(400)은 수직자기이방성을 갖기 위하여 Fe, Co, Ni, B, Si, Zr, Pt, Tb, Pd, Cu, W, Ta 및 이들의 혼합물 중에서 선택되는 군에서 선택된 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다.
예를 들어, 이러한 제1 강자성층(400)은 CoFeB를 포함할 수 있다. 이때의 CoFeB를 포함하는 제1 강자성층(400)은 수직자기이방성을 갖기 위하여 1.5 nm 이하의 두께로 형성될 수 있다.
이러한 제1 강자성층(400)은 통상의 증착 방법을 통해 형성될 수 있다. 예를 들어, 물리적 기상 증착법, 화학적 기상 증착법 또는 스퍼터링법이 가능하다.
한편, 이러한 제1 강자성층(400)은 층의 형성시에 이미 수직자기이방성을 가질 수도 있겠지만, 층의 형성 이후에 열처리 등의 기법을 통해 수직자기이방성을 가질 수도 있다.
이러한 제1 강자성층(400)은 인위적 반강자성층에 의해 자화 방향이 고정되어 고정층 역할을 하게 된다.
터널링 배리어층(500)은 이러한 제1 강자성층(400) 상에 위치한다. 즉, 터널링 배리어층(500)은 제1 강자성층(400)과 후술하는 제2 강자성층(600) 사이에 개재된다.
이러한 터널링 배리어층(500)의 물질은 절연물질인 것이면 어느 것이나 가능할 것이다. 예를 들어, 이러한 절연물질은 MgO, Al2O3, HfO2, TiO2, Y2O3 및 Yb2O3로 이루어진 군에서 선택된 적어도 어느 하나일 수 있다. 바람직하게 터널링 배리어층(500)은 MgO층일 수 있다.
이러한 터널링 배리어층(500)은 통상의 증착 방법을 통해 형성될 수 있다. 예를 들어, 물리적 기상 증착법, 화학적 기상 증착법 또는 스퍼터링법이 가능하다.
제2 강자성층(600)은 터널링 배리어층(500) 상에 위치한다. 상술한 바와 같이 제1 강자성층(400)이 고정층인 경우, 제2 강자성층(600)은 자유층일 것이다.
따라서, 이러한 자유층(600)은 인가되는 자계의 방향에 따라 자화 방향이 고정층(400)의 자화 방향과 동일하거나 반대가 가능하게 됨으로써, 정보를 저장하는 역할을 한다.
이 때의 제2 강자성층(600)은 수직자기이방성을 갖는 강자성 물질을 주 원소로 한다. 따라서, 이러한 제2 강자성층(600)은 수직자기이방성을 갖기 위하여 Fe, Co, Ni, B, Si, Zr, Pt, Tb, Pd, Cu, W, Ta 및 이들의 혼합물 중에서 선택되는 군에서 선택된 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다.
예를 들어, 이러한 제2 강자성층(600)은 CoFeB를 포함할 수 있다. 이때의 CoFeB층은 수직자기이방성을 갖기 위하여 얇은 두께로 설정될 수 있다. 예를 들어, 수직자기이방성을 갖기 위하여 CoFeB층의 두께는 1.5 nm 이하로 설정될 수 있다.
이러한 제2 강자성층(600)은 통상의 증착 방법을 통해 형성될 수 있다. 예를 들어, 물리적 기상 증착법, 화학적 기상 증착법 또는 스퍼터링법이 가능하다.
한편, 이러한 제2 강자성층(600)은 층의 형성시에 이미 수직자기이방성을 가질 수도 있겠지만, 층의 형성 이후에 열처리 등의 기법을 통해 수직자기이방성을 가질 수도 있다.
한편, 이러한 제2 강자성층(600) 상에 위치하는 캡핑층(미도시)을 더 포함할 수 있다. 이러한 캡핑층은 보호층으로서 기능하며, 제2 강자성층(600)이 산화되는 것을 보호할 수 있다.
본 발명의 다른 실시예에 따른 수직자기이방성을 갖는 MTJ 구조를 설명한다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 수직자기이방성을 갖는 MTJ 구조를 나타낸 단면도이다. 이때의 도 2의 MTJ 구조는 top pinned 구조이다.
도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 수직자기이방성을 갖는 MTJ 구조는 기판(100), 제2 강자성층(600), 터널링 배리어층(500), 제1 강자성층(400), 버퍼층(300) 및 인위적 반강자성층(200)을 포함할 수 있다.
기판(100)은 공지된 다양한 물질의 기판을 이용할 수 있다. 예를 들어, 이러한 기판(100)은 실리콘 기판으로 구현될 수 있다. 또한, 이러한 기판(100)은 전극으로 구현될 수도 있다. 한편, 이러한 기판(100)은 경우에 따라 생략될 수 있다.
제2 강자성층(600)은 기판(100) 상에 위치한다. 도 2의 MTJ 구조는 top pinned 구조로서, 상부가 고정층이고 하부가 자유층인 구조인바, 제2 강자성층(600)은 자유층이고, 후술하는 제1 강자성층(300)이 고정층일 것이다.
이 때의 제2 강자성층(600)은 수직자기이방성을 갖는 강자성 물질을 주 원소로 한다. 따라서, 이러한 제2 강자성층(600)은 수직자기이방성을 갖기 위하여 Fe, Co, Ni, B, Si, Zr, Pt, Tb, Pd, Cu, W, Ta 및 이들의 혼합물 중에서 선택되는 군에서 선택된 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다.
터널링 배리어층(500)은 이러한 제2 강자성층(600) 상에 위치한다. 이러한 터널링 배리어층(500)의 물질은 절연물질인 것이면 어느 것이나 가능할 것이다. 예를 들어, 이러한 절연물질은 MgO, Al2O3, HfO2, TiO2, Y2O3 및 Yb2O3로 이루어진 군에서 선택된 적어도 어느 하나일 수 있다. 바람직하게 터널링 배리어층(500)은 MgO층일 수 있다.
제1 강자성층(400)은 버퍼층(300) 상에 위치한다. 이 때의 제1 강자성층(400)은 수직자기이방성을 갖는 강자성 물질을 주 원소로 한다.
예컨대, 이러한 제1 강자성층(400)은 수직자기이방성을 갖기 위하여 Fe, Co, Ni, B, Si, Zr, Pt, Tb, Pd, Cu, W, Ta 및 이들의 혼합물 중에서 선택되는 군에서 선택된 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다. 예를 들어, 이러한 제1 강자성층(400)은 CoFeB를 포함할 수 있다. 이때의 CoFeB를 포함하는 제1 강자성층(400)은 수직자기이방성을 갖기 위하여 1.5 nm 이하의 두께로 형성될 수 있다.
버퍼층(300)은 제1 강자성층(400) 상에 위치할 수 있다. 이러한 버퍼층(300)은 W 또는 W를 포함하는 합금을 포함할 수 있다. 예를 들어, 버퍼층(300)은 W, WB 또는 WN 를 포함할 수 있다.
이러한 버퍼층(300)은 메모리 소자 공정 온도인 약 400℃ 온도에서, 후술하는 인위적 반강자성층(200) 내의 물질인 Pd 또는 Pt 등의 물질이 하부 예컨대 제1 강자성층(300)으로 확산되는 것을 방지하는 역할을 한다.
또한, 버퍼층(300)으로 W 계열 물질을 사용함으로써, 결정구조의 연속성을 유도할 수 있다. 예컨대, top pinned 구조에 있어서 공정 시에 포함되는 고온 열처리를 거칠 경우, 상부에 위치하는 인위적 반강자성층(200)의 결정성이 제2 강자성층(600), 터널링 배리어층(500) 및 제1 강자성층(400)에 영향을 미치는, 소위 역 texturing 이 일어날 수가 있다. 이때, 버퍼층(300)으로 W 계열 물질을 사용할 경우 W은 bcc 구조를 가지므로 이러한 역 texturing을 방지할 수 있는 효과가 있다.
또한, 이러한 버퍼층(300)의 두께는 2 nm 내지 5 nm 일 수 있다.
인위적 반강자성층(200)은 버퍼층(300) 상에 위치할 수 있다. 이러한 인위적 반강자성층(200)은 제1 강자성층(300)의 자화 방향을 고정시키는 역할을 한다.
이러한 인위적 반강자성층(200)은 제3 강자성층(210), 상기 제3 강자성층(210) 상에 위치하는 분리층(220) 및 상기 분리층(220) 상에 위치하는 제4 강자성층(230)을 포함할 수 있다.
상기 제3 강자성층(210) 또는 상기 제4 강자성층(230)은 CoPd, CoPt, [Co/Pd]n, [Co/Pt]n, FePd, FePt, [Fe/Pd]n, 또는 [Fe/Pt]n 구조를 포함할 수 있다. 그리고, 이때의 분리층(220)은 Ru, Ta 또는 Ir을 포함할 수 있다.
예를 들어, 인위적 반강자성층(200)은 CoPd/Ru/CoPd 구조일 수 있다.
이하, 본 발명의 일 실시예에 따른 수직자기이방성을 갖는 MTJ 구조를 포함하는 자성소자를 설명한다.
이러한 자성소자는 복수개의 디짓 라인들, 이러한 디짓 라인들의 상부를 가로지르는 복수개의 비트 라인들 및 디짓 라인과 비트 라인 사이에 개재된 자기 터널 접합을 포함할 수 있다.
이 때의 자기 터널 접합은 상술한 도 1의 구조 또는 도 2의 구조일 수 있다. 따라서, 이러한 자기 터널 접합은 이미 상술한 바, 이에 대한 구체적인 설명은 생략한다.
따라서, 이 때의 자기터널접합은 MRAM에서 정보 저장을 위한 구조로 사용될 것이다. 따라서, 열적 안정성과 자기저항비가 동시에 향상된 MTJ 구조를 포함하는 자성소자를 제공할 수 있다.
제조예 1
실험 편의상 bottom pinned 구조의 MTJ 구조 중 일부인 기판/씨앗층/인위적반강자성층/버퍼층 구조를 제조하였다. 이때 버퍼층 물질로 Ta를 사용하였다.
이하, 구체적으로 설명하면, 먼저, 실리콘 기판 상에 스퍼터링법을 사용하여 Ta (3nm)/Ru (5nm)/Pd (3nm)의 씨앗층을 증착하였다. 이때의 괄호 안의 숫자는 층의 두께를 의미한다. 이 때 사용되는 스퍼터링 기체는 비활성 기체인 Ar 가스 20 sccm 을 사용하여 증착 압력 5 mTorr 에서 실시하였다.
그 다음에, 이러한 씨앗층 상에 [Co (0.3nm)/Pd (0.3nm)]3/Ru/[Co (0.3nm)/Pd (0.3nm)]7 구조의 인위적 반강자성층을 형성하였다. 구체적으로 설명하면, 교대증착법을 이용하여 Ar 가스 30 sccm, 증착 압력 6.8 mTorr 에서 씨앗층 상에 [Co (0.3nm)/Pd (0.3nm)]3 강자성층을 증착하였다. 그 다음에 분리층으로 사용되는 Ru 은 다시 Ar 가스 20 sccm, 증착 압력 5 mTorr 을 사용하여 1.3 nm 두께로 증착된 후, [Co (0.3nm)/Pd (0.3nm)]7 강자성층이 상기 서술한 Ar 가스 30 sccm, 증착 압력 6.8 mTorr 에서 교대증착법을 통하여 증착되었다.
그 다음에, 인위적 반강자성층 상에 Ar 가스 20 sccm, 증착 압력 5 mTorr 에서 3 nm 두께의 Ta 버퍼층을 증착하였다.
상기 서술한 모든 층들은 dc 및 rf 스퍼터링을 통해 증착되었으며, Ta, Ru 의 경우 dc 8 Watt 를 이용하였고, Co 의 경우 dc 25 Watt 에서 증착이 이루어졌다. Pd의 경우는 rf 17 Watt 에서 증착되었다. 상기 모든 층들은 매끄러운 계면과 좋은 결정성을 위하여 최대한 낮은 증착속도 조건 하에서 증착되었다.
제조예 2
버퍼층 물질로 Pd를 사용한 것을 제외하고, 제조예 1과 동일하게 수행하여 기판/씨앗층/인위적반강자성층/버퍼층 구조를 제조하였다.
제조예 3
버퍼층 물질로 Ru를 사용한 것을 제외하고, 제조예 1과 동일하게 수행하여 기판/씨앗층/인위적반강자성층/버퍼층 구조를 제조하였다.
제조예 4
버퍼층 물질로 W를 사용한 것을 제외하고, 제조예 1과 동일하게 수행하여 기판/씨앗층/인위적반강자성층/버퍼층 구조를 제조하였다.
실험예
제조예 1 내지 4의 구조를 상온, 350 ℃ 및 400 ℃의 열처리 온도에 따른 자성특성을 분석하였다.
도 3은 제조예 1에 따른 구조의 열처리 온도에 따른 자성특성을 나타낸 그래프들이다. 도 3(a)는 상온, 도 3(b)는 350 ℃ 및 도 3(c)는 400 ℃의 열처리 온도에서 자성특성을 분석한 그래프이다.
도 4는 제조예 2에 따른 구조의 열처리 온도에 따른 자성특성을 나타낸 그래프들이다. 도 4(a)는 상온, 도 4(b)는 350 ℃ 및 도 4(c)는 400 ℃의 열처리 온도에서 자성특성을 분석한 그래프이다.
도 5는 제조예 3에 따른 구조의 열처리 온도에 따른 자성특성을 나타낸 그래프들이다. 도 5(a)는 상온, 도 5(b)는 350 ℃ 및 도 5(c)는 400 ℃의 열처리 온도에서 자성특성을 분석한 그래프이다.
도 6은 제조예 4에 따른 구조의 열처리 온도에 따른 자성특성을 나타낸 그래프들이다. 도 6(a)는 상온, 도 6(b)는 350 ℃ 및 도 6(c)는 400 ℃의 열처리 온도에서 자성특성을 분석한 그래프이다.
도 3 내지 도 5를 참조하면, 버퍼층 물질로 Ta, Pd 및 Ru를 사용한 경우, 350 ℃ 및 400 ℃에서 인위적 반강자성층의 자성 특성이 약화됨을 알 수 있다. 이는 Ta, Pd 및 Ru 그 자체만으로도 고온 열처리 공정에서 확산 가능성을 갖고 있는 바, 이러한 확산에 의해 인위적 반강자성층의 자성특성을 약화시킨 것으로 보인다.
나아가 Ta, Pd 및 Ru와 같은 물질들은 대부분 fcc 혹은 hcp의 결정구조를 가지고 있기에 bcc 구조의 CoFeB와 적절한 결정구조 연속성을 가지는 데에 문제가 존재한다.
이에 반하여, 도 6을 참조하면, 버퍼층 물질로 W를 사용한 경우, 350 ℃ 및 400 ℃에서도 인위적 반강자성층의 자성 특성이 유지됨을 알 수 있다. 따라서, W 계열 물질을 버퍼층 물질로 사용할 경우 고온에서 W 이 쉽게 확산되지 않기 때문에 고온에서도 열적 안정성을 유지시킬 수 있음을 알 수 있다. 이는 W 물질 자체의 응집 에너지가 다른 물질들에 비해 높기 때문에 열적 안정성이 뛰어난 이유 때문이다.
본 발명에 따르면, 인위적 반강자성층을 CoFeB/MgO/CoFeB 구조와 접합시키는 적용에 있어서 그 사이에 버퍼층을 사용함으로써 인위적 반강자성층 내의 Pd 혹은 Pt 등의 물질이 CoFeB 층으로의 확산을 방지할 수 있다.
나아가, 이러한 버퍼층 물질로 W계열 물질로 사용함으로써, 결정구조의 연속성을 유도함으로써 실 소자 작동에 있어서 MgO 터널 산화층과 coherent tunneling 을 기대할 수 있기에 자기저항비가 높아지고 소모 전력을 감소시킬 수 있는 효과가 있다.
따라서, 고온에서도 열적 안정성이 향상된 수직자기이방성을 갖는 MTJ 구조를 제공할 수 있다.
본 명세서와 도면에 개시된 본 발명의 실시 예들은 이해를 돕기 위해 특정 예를 제시한 것에 지나지 않으며, 본 발명의 범위를 한정하고자 하는 것은 아니다. 여기에 개시된 실시 예들 이외에도 본 발명의 기술적 사상에 바탕을 둔 다른 변형 예들이 실시 가능하다는 것은, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 자명한 것이다.
100: 기판 200: 인위적 반강자성층
210: 제3 강자성층 220: 분리층
230: 제4 강자성층 300: 버퍼층
400: 제1 강자성층 500: 터널링 배리어층
600: 제2 강자성층

Claims (11)

  1. 기판;
    상기 기판 상에 위치하는 인위적 반강자성층;
    상기 인위적 반강자성층 상에 위치하되, W 또는 W를 포함하는 합금을 포함하는 버퍼층;
    상기 버퍼층 상에 위치하고, 수직자기이방성을 갖는 제1 강자성층;
    상기 제1 강자성층 상에 위치하는 터널링 배리어층; 및
    상기 터널링 배리어층 상에 위치하고, 수직자기이방성을 갖는 제2 강자성층을 포함하고,
    상기 인위적 반강자성층은,
    제3 강자성층;
    상기 제3 강자성층 상에 위치하는 분리층; 및
    상기 분리층 상에 위치하는 제4 강자성층을 포함하며,
    상기 제3 강자성층 및 제4 강자성층 중 적어도 하나는, CoPd, CoPt, [Co/Pd]n, [Co/Pt]n, FePd, FePt, [Fe/Pd]n 또는 [Fe/Pt]n 구조를 포함하는 수직자기이방성을 갖는 MTJ 구조.
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 제1항에 있어서,
    상기 분리층은 Ru, Ta 또는 Ir을 포함하는 수직자기이방성을 갖는 MTJ 구조.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 버퍼층의 두께는 2 nm 내지 5 nm인 것을 특징으로 하는 수직자기이방성을 갖는 MTJ 구조.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 제1 강자성층은 CoFeB 물질을 포함하는 수직자기이방성을 갖는 MTJ 구조.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 터널링 배리어층은 MgO, Al2O3, HfO2, TiO2, Y2O3 및 Yb2O3로 이루어진 군에서 선택된 적어도 어느 하나를 포함하는 수직자기이방성을 갖는 MTJ 구조.
  8. 기판;
    상기 기판 상에 위치하고, 수직자기이방성을 갖는 제1 강자성층;
    상기 제1 강자성층 상에 위치하는 터널링 배리어층;
    상기 터널링 배리어층 상에 위치하고, 수직자기이방성을 갖는 제2 강자성층;
    상기 제2 강자성층 상에 위치하되, W 또는 W를 포함하는 합금을 포함하는 버퍼층; 및
    상기 버퍼층 상에 위치하는 인위적 반강자성층을 포함하고,
    상기 인위적 반강자성층은,
    제3 강자성층;
    상기 제3 강자성층 상에 위치하는 분리층; 및
    상기 분리층 상에 위치하는 제4 강자성층을 포함하며,
    상기 제3 강자성층 및 제4 강자성층 중 적어도 하나는, CoPd, CoPt, [Co/Pd]n, [Co/Pt]n, FePd, FePt, [Fe/Pd]n 또는 [Fe/Pt]n 구조를 포함하는 수직자기이방성을 갖는 MTJ 구조.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 버퍼층의 두께는 2 nm 내지 5 nm 인 것을 특징으로 하는 수직자기이방성을 갖는 MTJ 구조.
  10. 제8항에 있어서,
    상기 제1 강자성층은 CoFeB 물질을 포함하는 수직자기이방성을 갖는 MTJ 구조.
  11. 복수개의 디짓 라인들;
    상기 디짓 라인들의 상부를 가로지르는 복수개의 비트 라인들; 및
    상기 디짓 라인과 상기 비트 라인 사이에 개재된 제1항 또는, 제4항 내지 제10항 중 어느 한 항의 MTJ 구조를 포함하는 자성소자.
KR1020150008602A 2015-01-19 2015-01-19 수직자기이방성을 갖는 mtj 구조 및 이를 포함하는 자성소자 KR101705962B1 (ko)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020150008602A KR101705962B1 (ko) 2015-01-19 2015-01-19 수직자기이방성을 갖는 mtj 구조 및 이를 포함하는 자성소자
US15/544,356 US10700266B2 (en) 2015-01-19 2016-01-06 MTJ structure having vertical magnetic anisotropy and magnetic element including the same
PCT/KR2016/000107 WO2016117853A1 (ko) 2015-01-19 2016-01-06 수직자기이방성을 갖는 mtj 구조 및 이를 포함하는 자성소자

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020150008602A KR101705962B1 (ko) 2015-01-19 2015-01-19 수직자기이방성을 갖는 mtj 구조 및 이를 포함하는 자성소자

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20160089567A KR20160089567A (ko) 2016-07-28
KR101705962B1 true KR101705962B1 (ko) 2017-02-14

Family

ID=56417333

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020150008602A KR101705962B1 (ko) 2015-01-19 2015-01-19 수직자기이방성을 갖는 mtj 구조 및 이를 포함하는 자성소자

Country Status (3)

Country Link
US (1) US10700266B2 (ko)
KR (1) KR101705962B1 (ko)
WO (1) WO2016117853A1 (ko)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101874171B1 (ko) * 2016-03-24 2018-08-03 한양대학교 산학협력단 수직자기이방성을 갖는 mtj 구조 및 이를 포함하는 자성소자
US10885960B2 (en) 2016-10-25 2021-01-05 Industry-University Cooperation Foundation Hanyang University Spin device, and operating method therefor and manufacturing method therefor
CN109037434B (zh) * 2018-07-06 2020-07-28 西安交通大学 基于人工反铁磁自由层的隧道结器件及磁性随机存储装置
KR102315910B1 (ko) * 2020-01-28 2021-10-20 한양대학교 산학협력단 자기 터널 접합 소자 및 이의 동작 방법

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101476932B1 (ko) 2013-11-20 2014-12-26 한양대학교 산학협력단 수직 자기 이방성을 갖는 mtj 구조, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 자성소자

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1998022636A1 (fr) 1996-11-20 1998-05-28 Kabushiki Kaisha Toshiba Cible pour pulverisation, et film antiferromagnetique et element a effet magnetoresistant formes a l'aide de ladite cible
US8344433B2 (en) * 2009-04-14 2013-01-01 Qualcomm Incorporated Magnetic tunnel junction (MTJ) and methods, and magnetic random access memory (MRAM) employing same
US8363459B2 (en) * 2009-06-11 2013-01-29 Qualcomm Incorporated Magnetic tunnel junction device and fabrication
US8445979B2 (en) * 2009-09-11 2013-05-21 Samsung Electronics Co., Ltd. Magnetic memory devices including magnetic layers separated by tunnel barriers
JP5209011B2 (ja) * 2010-09-16 2013-06-12 株式会社東芝 磁気抵抗素子
JP2013115413A (ja) * 2011-12-01 2013-06-10 Sony Corp 記憶素子、記憶装置
US9178137B2 (en) * 2013-03-22 2015-11-03 Youngmin EEH Magnetoresistive element and magnetic memory
US9608197B2 (en) * 2013-09-18 2017-03-28 Micron Technology, Inc. Memory cells, methods of fabrication, and semiconductor devices
US9824711B1 (en) * 2014-02-14 2017-11-21 WD Media, LLC Soft underlayer for heat assisted magnetic recording media
KR101583783B1 (ko) * 2014-04-18 2016-01-13 한양대학교 산학협력단 메모리 소자
US9496489B2 (en) * 2014-05-21 2016-11-15 Avalanche Technology, Inc. Magnetic random access memory with multilayered seed structure
US9349945B2 (en) * 2014-10-16 2016-05-24 Micron Technology, Inc. Memory cells, semiconductor devices, and methods of fabrication
US10546997B2 (en) * 2016-12-02 2020-01-28 Regents Of The University Of Minnesota Magnetic structures including FePd

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101476932B1 (ko) 2013-11-20 2014-12-26 한양대학교 산학협력단 수직 자기 이방성을 갖는 mtj 구조, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 자성소자

Also Published As

Publication number Publication date
US20180013059A1 (en) 2018-01-11
KR20160089567A (ko) 2016-07-28
WO2016117853A1 (ko) 2016-07-28
US10700266B2 (en) 2020-06-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
GB2537039B (en) Perpendicular spin transfer torque (STT) memory cell with double MgO interface and CoFeB layer for enhancement of perpendicular magnetic anisotropy
JP5040105B2 (ja) 記憶素子、メモリ
US8564080B2 (en) Magnetic storage element utilizing improved pinned layer stack
US20150333254A1 (en) Reduction of Barrier Resistance X Area (RA) Product and Protection of Perpendicular Magnetic Anisotropy (PMA) for Magnetic Device Applications
US20130005052A1 (en) Magnetic tunnel junction with iron dusting layer between free layer and tunnel barrier
JP2011129933A (ja) 垂直磁気トンネル接合構造体並びにそれを含む磁性素子、及びその製造方法
JP2007305882A (ja) 記憶素子及びメモリ
KR101476932B1 (ko) 수직 자기 이방성을 갖는 mtj 구조, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 자성소자
US8836000B1 (en) Bottom-type perpendicular magnetic tunnel junction (pMTJ) element with thermally stable amorphous blocking layers
KR20150018390A (ko) 체심입방 코발트를 이용하며, 스핀 전달 토크 메모리들에서 사용하기 적합한 자기 접합들을 제공하는 방법 및 시스템
KR102255436B1 (ko) 자기터널접합 소자 및 그 제조방법
JP2012080058A (ja) 記憶素子、メモリ装置
KR101705962B1 (ko) 수직자기이방성을 갖는 mtj 구조 및 이를 포함하는 자성소자
US20150340597A1 (en) Magnetoresistive element having enhanced exchange bias and thermal stability for spintronic devices
JP2008153527A (ja) 記憶素子及びメモリ
KR101729383B1 (ko) 스핀-오비트 토크를 이용한 자성소자
KR20150095187A (ko) 수직자기이방성을 갖는 mtj 구조
KR101710269B1 (ko) 수직자기이방성을 갖는 mtj 구조 및 이를 포함하는 자성소자
US10559745B2 (en) Magnetic tunnel junction (MTJ) structure with perpendicular magnetic anisotropy (PMA) having an oxide-based PMA-inducing layer and magnetic element including the same
KR101711741B1 (ko) 수직자기이방성을 갖는 mtj 구조 및 이를 포함하는 자성소자
KR101661389B1 (ko) 수직자기이방성을 갖는 mtj 구조
KR101537469B1 (ko) 수직자기이방성을 갖는 mtj 구조
KR20150042025A (ko) 강자성 다층박막 및 이를 포함하는 mtj 구조
KR20150009664A (ko) 수직 자기 이방성을 갖는 mtj 구조 및 이를 포함하는 자성소자
KR20170107612A (ko) 수직자기이방성 박막 및 mtj 구조 제조방법

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20200102

Year of fee payment: 4