KR101702734B1 - 감습성 장치의 제조 및 보호에 유용한 금속 옥시드의 표면 개질 분말을 포함하는 건조제 조성물 - Google Patents

감습성 장치의 제조 및 보호에 유용한 금속 옥시드의 표면 개질 분말을 포함하는 건조제 조성물 Download PDF

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Abstract

중합체 바인더 및 건조제 물질로서 흡습 무기 옥시드의 분말의 분산물을 포함하는 건조제 조성물이며, 여기서 건조제 분말(1,2)은 지방산 음이온에 의한 이들의 표면 개질의 결과로 인해 이들의 수분 수착 성능에 영향을 미치지 않으면서 미분된다.

Description

감습성 장치의 제조 및 보호에 유용한 금속 옥시드의 표면 개질 분말을 포함하는 건조제 조성물{DESICCANT COMPOSITION CONTAINING SURFACE-MODIFIED POWDERS OF METAL OXIDES USEFUL FOR MANUFACTURE AND PROTECTION OF MOISTURE-SENSITIVE DEVICES}
본 발명은 옥시드, 특히 알칼리 및 알칼리 토류 금속 옥시드의 표면 개질 입자에 관한 것이고, 포장된 전자 장치의 조기 파손 및/또는 그의 성능의 저하를 방지하기 위해 상기 장치 내부의 습도 수준을 조절하는데 적합한 건조제 조성물을 개선하는 것에 관한 것이다.
다양한 전자 및 공업 장치는 이들의 성능이 수분에 의해 영향받기 때문에 약 0.1 내지 5000 ppm 수증기 범위의 습도 수준을 필요로 한다. 이들 장치의 예시는 미세-전자기계 장치(MEM) 및 미세-광학-전자기계 장치(MOEM), 텔레커뮤니케이션 응용을 위한 광학-전자 장치, 의료용 이식 장치(맥박조정기, 제세동기), 유기 전자 장치, 예컨대 OLED, OLET 및 유기 태양광 전지(OPV)이다.
이들의 보존은 통상적으로 외부 환경으로부터의 습도 투과를 줄이는데 적합한 실란트를 사용하여 장치를 캡슐화하고, 감습성 장치를 포함하는 용기 내부에 건조제 조성물을 삽입함으로써 달성된다.
알칼리 및 알칼리 토류 옥시드 및 다른 흡습 무기 금속 옥시드는 보통 화학적으로 수분을 흡수하여 물리적 흡착 물질보다 더 낮은 수분 평형 압력치 및 더 높은 수분 용량을 제공한다. 그러나, 이들의 흡습 성질의 결과로서, 이들 종류의 옥시드 분말은 심지어 낮은 습도량 또는 이들이 그 안에 분산되는 복합 물질에 관련된 제조 공정에 관한 다른 특정 조건의 존재 하에서 강한 응집 경향에 의해 영향받을 수 있어, 중합체 매트릭스 내 건조제 분말로 구성되는 잘 분산된 복합 물질을 달성하는데 어려움을 주고 있다.
미국 특허 제US 5,591,379호는 수분 제거(moisture gettering) 특성을 갖고 수증기에 투과성인 바인더 내에 분산된 건조제 물질 분말로 구성되는 조성물을 기술한다. 바인더는 중합체, 다공성 세라믹 또는 다공성 유리일 수 있으며, 이들 모두 수분 수착 속도에 가능한 적은 영향을 미칠 필요가 있다. 따라서 제US 5,591,379호는 건조제 조성물의 수착 특성을 유지시키는데 집중하지만 그러나 이 목표를 달성하는 방법, 특히 중합체 매트릭스 내 건조제 분말의 응집을 피할 방법과, 감습성 장치나 또는 그 안에 사용되는 조성물의 제조 공정 도중 주변 습도에 건조제 분말이 노출되는 모든 잠재적 부정적 효과를 제한할 방법에 관해서는 침묵한다.
중합체 매트릭스 내 입자의 분산을 개선할 흔한 방식은, 이들의 화학적 관능기 덕택에 액체 조성물 내 입자 표면 주위로 분포시킬 수 있는 하나 이상의 첨가제, 예컨대 이온성 또는 비이온성 계면활성제의 사용으로 구성된다. 이러한 실시는 무기 입자가 충전제, 즉, 액체 조성물 자신의 고형화에 의해 얻을 수 있는 복합 물질의 기계 강도를 개선하도록 작용하는 요소로서 의도될 때 조성물의 수용가능한 개선을 허용한다. 반면, 무기 입자가 이들의 내재적 특성, 예컨대, 이들의 기체 또는 수분의 흡착 능력을 위해 사용되면, 이러한 종류의 계면활성제의 사용은 최종 복합 고형 물질에서의 이들의 기능을 위태롭게 한다.
계면활성제의 사용에 대한 대안으로, 일본 특허 공보 제JP 2008-050188호는 무기 미세 입자 및 상기 입자를 포함하는 열가소성 복합 물질의 표면 개질을 위한 방법을 개시한다. 원치않는 빛 산란 효과로 이어짐 없는 충전제 분말의 분산을 개선하기 위해, 충전제 무기 입자는 표면 처리제 및 그 다음 실란 커플링제로의 후속 반응에 의해 사전에 표면 개질된다. 몇 가지 종류의 무기 입자가 처리제 및 커플링제의 가능한 결합 중 하나에 의해 개질가능한 충전제로서 열거된다. 어쨋든, 제JP 2008-050188호는 압밀된 복합 물질에서의 기계적 특성 및 치수 안정성 뿐만 아니라 예컨대 기체 흡착 능력과 같은 일부 화학적 특성을 유지하거나 또는 개선할 방법에 관해서 침묵한다.
본 발명의 목적은, 감습성 장치를 보호하기 위해 그 안에 분산된 무기 옥시드 입자의 응집 현상을 효과적으로 감소시키고 수분 수착 능력을 유지하는 상기 감습성 장치의 제조 방법에서 조작되고 사용되기에 적합한 건조제 조성물을 제공하는 것이다.
첫째 측면에서, 본 발명은 중합체 바인더 내에 분산된 하나 이상의 제1 흡습 무기 옥시드의 입자를 포함하고, 상기 입자가 외부면을 갖고 화학식 C n H 2n +1 COO - (n이 11 초과의 정수임)의 지방산 음이온에 의해 상기 외부면에서 관능화된 건조제 조성물에 관한 것이다.
본 발명에 따라, 조성물의 화학-물리적(특히, 중합체 매트릭스 내 무기 분말의 미세 분산에 대해) 및 관능적 특성(즉, 수분 수착 특성))에서의 최적화는, 11 초과, 더 바람직하게는 13 내지 23에 포함된 탄소쇄 길이(즉, n)의 화학식 C n H 2n+1 COOH을 갖는 지방산과의 반응에 의해 사전에 표면-개질된 마이크로미터 또는 서브-마이크로미터 미만의 무기 옥시드 입자에 의해 달성될 수 있다. 상기 제1 흡습 무기 옥시드의 입자를 관능화하는데 사용되는 적합한 지방산은 테트라데칸산, 헥사데칸산, 옥타데칸산, 이코사노산, 도코사노산, 테트라코사노산을 포함하는 군 중에서 선택될 수 있다. 결과적으로, 본 발명에 따라 사용될 수 있는 지방산 음이온은 테트라데카노에이트, 헥사데카노에이트, 옥타데카노에이트, 이코사노에이트, 도코사노에이트, 테트라코사노에이트 중에서 선택된다.
바람직하게는, 상기 제1 흡습 무기 옥시드 입자는 0.05 ㎛ 내지 20 ㎛, 더 바람직하게는 0.1 ㎛ 내지 10 ㎛의 범위에 포함되는 치수를 가진다. 0.1 내지 1 마이크로미터의 치수가 일부 특정 증착 가공처리(즉, 잉크젯 및 스핀 코팅)에 이상적이다.
본 발명에 따른 관능화된 건조제 물질로 사용되기에 적합한 제1 흡습 무기 옥시드 입자는 알칼리 및 알칼리 토류 옥시드 예컨대 마그네슘 옥시드, 칼슘 옥시드, 스트론튬 옥시드, 바륨 옥시드 또는 다른 옥시드 예컨대 리튬 옥시드, 망간 옥시드 및 아연 옥시드 또는 이들의 혼합물 중에서 선택될 수 있으나 이들에 제한되지 않는다. 표면 관능화는 예컨대 톨루엔 및 1-4-디옥산과 같은 비양성자성 및 비극성 용매 내 금속 옥시드 현탁액으로부터 출발하여 얻어질 수 있다. 그 다음 현탁액은 90 ℃ 이상의 온도에서 가열되며, 온도가 달성되면, 지방산이 금속 옥시드에 대해 바람직하게는 1:100 초과의 몰 비로 첨가된다. 반응이 완료되면, 입자는 감압 증발에 의해 또는 고온 기체로의 빠른 분무에 의해 건조된다.
원하는 균질성 및 응집물의 부재를 달성하기 위해 실라놀 또는 다른 첨가제의 사용을 필요로 하지 않는 본 발명의 바람직한 실시양태에서, 건조제 조성물 내 총 고형 함량(즉, 건조제 조성물에 포함된 상기 하나 이상의 제1 흡습 무기 옥시드의 관능화된 입자의 중량)은 건조제 조성물 중량에 대해 5 중량% 내지 50 중량%, 바람직하게는 30 중량% 내지 50 중량%로 포함된다.
그의 바람직한 실시양태에서, 본 발명의 건조제 조성물은 25 ℃에서 5 s-1의 전단 속도로 7*104 내지 5*105 cP로 포함되는 점도를 갖는 계량분배 가능한 조성물이고, 중합체 바인더는 예컨대, 에폭시 수지, 에폭시아크릴 수지, 아크릴 수지, 폴리우레탄 수지 및 실록산 매트릭스 중에서 적당히 선택될 수 있다. 잉크젯 가공처리에 관한 대안의 실시양태에서, 계량분배 가능한 조성물은 40 ℃에서 5 s-1의 전단 속도에서 10 내지 100 cP로 포함된 점도를 나타낸다.
본 발명에 따른 대안의 실시양태에서, 건조제 조성물은 상기 기술된 바와 같은 상기 하나 이상의 제1 관능화 흡습 무기 옥시드와 함께 제2 흡습 무기 옥시드를 더 포함할 수 있다. 상기 제2 흡습 무기 옥시드는 관능화되지 않고, 첫번째로 선택된 흡습 옥시드에 비해 더 낮은 분자량 및 더 낮은 표면적을 갖는 옥시드 중에서 선택되며, 본 발명의 바람직한 실시양태에서 리튬 옥시드 또는 마그네슘 옥시드가 선택된다.
상기 제2 흡습 무기 옥시드는 총 흡습 무기 옥시드 함량에 대해 10 내지 50 w/w%로 포함될 수 있다.
본 발명에 따른 건조제 조성물은 제조 및 실험실 공정, 예컨대, 니들 디스펜싱, 제트 디스펜싱, 스크린 프린팅, 블레이딩, 디핑에서 흔히 사용되는 방법을 통해 계량분배되는데 적합하다. 저 점도 배합물의의 경우, 잉크젯 프린팅이 채택될 수 있다. 건조제 바디 또는 필름은 최종적으로 보통 80 내지 120℃로 포함되는 열 처리에 의해 쉽게 얻을 수 있다.
상기 건조제 바디 또는 필름은, 어떤 용매도 이들의 배합에 사용되지 않고 무 입자와 이들의 표면 개질 및 조성물의 중합체 바인더 사이에서 어떤 교차결합 반응도 예상되지 않기 때문에, 본질적으로 계량분배 가능한 건조제 조성물과 동일한 화학을 유지하며 압밀 중합 메커니즘으로 인한 오직 작은 변화만 관측된다. 이러한 이유로, 고 점도(25 ℃에서 5 s-1의 전단 속도에서 > 7*104 cP) 건조제 조성물이 임의의 중합 메커니즘을 유도함 없이도 또한 최종 응용에서 사용될 수 있다. 저 점도(40 ℃에서 5 s-1의 전단 속도에서 < 100 cP) 건조제 조성물에 대해서, 압밀 가공처리를 위해 라디칼 중합이 바람직한 메커니즘이다.
건조제 조성물의 증착 또는 예비형성된 바디 또는 필름의 삽입은 조성물의 유동학 특성의 저하 없이 그리고 필요한 수분 수착 특성을 보장하면서 전자 장치의 제조 공정에서 적합하게 수행될 수 있다. 따라서 전자 장치의 보호는 제조 문제점 또는 흡수 복합 물질에서 응집물의 원치않는 효과의 위험을 이와 같이 제한하여 달성될 수 있다.
본 발명은 이제 하기의 비제한적 실시예에 의해 예시될 것이다.
<실시예 1>
50 g의 CaO를 교반 하에서(1 L 플라스크) 톨루엔 내에 분산시켰고 생성된 분산물을 90 ℃로 가열했다. 그 다음 스테아르산을 칼슘 옥시드에 대해 1:100의 몰 비로 첨가했고 분산물을 3 시간 동안 교반했다. 후속 단계에서, 입자 건조 공정을 감압 증발로 수행했고 친수성 테스트를 위해 얻은 건조 분말을 극성 용매에 분산시켰다. 원 금속 옥시드 입자의 친수성 거동 때문에, CaO 분말은 극성 용매와의 물리적 친화도를 보여줬고 균질한 분산물을 물 속에서 쉽게 얻을 수 있었다. 반대로, 도입된 표면 개질은 입자 표면 상에 입체 장애를 유발하여, 그의 특성의 강한 개질로 이어질 수 있다. 표면 개질 CaO 분말은 극성 용매와의 물리적 비혼화성을 나타냈고 극성 용매 중의 균질한 분산물을 더 이상 얻을 수 없었다. 이 테스트는 입자 표면 개질의 효율을 확인하는데 사용될 수 있다.
표면 개질 CaO 입자는 기후 챔버(25 ℃, 55 % RH) 내 중량측정 테스트에 의해 수분 제거 성능(H2O 흡착 용량 및 동역학)의 면에서 특징지워진다. 기록된 결과는 감습성 장치 응용에 적합한, 25 중량% 초과의 흡착 용량을 나타냈다. 흡착 동역학은 원 CaO 입자에 비해 유의미한 개질을 나타내지 않는다.
이와 관련하여, 본 발명에 따른 건조제 배합물을 60 g의 실록산 매트릭스 내 40 g의 표면 개질 CaO 입자를 분산시켜 얻었다. 얻은 분산물을 입자 분산을 최적화시키기 위한 정제 공정을 통해 가공처리하고 유동학 특성화를 통해 분석했다.
표면 개질 CaO 입자에 기초한 건조제 배합물을 제거 성능의 면에서 평가하고 동일한 총 흡착 용량을 갖는 원 CaO 입자에 기초한 배합물과 비교할 때, H2O 흡착 동역학에서 유의미한 차이는 관측되지 않았다.
주파수 스위프 테스트가 10-2 내지 102 Hz의 선형 점탄성 영역 내 원뿔 평판 기하학으로 수행된다(도 1).
표면 개질 CaO로 충전된 실록산 매트릭스의 기계적 스펙트럼은 실험 주파수 범위 이내에서, 유동학 거동이 점성 유동에 의해 지배되는 말단 영역과 전체 부피에 걸친 네트워크의 존재를 나타내는 평탄면 영역 사이의 전이를 보여주었다.
<실시예 2>
50 g의 MnO2를 교반 하에서(1 L 플라스크) 톨루엔 내 분산시켰고 생성된 분산물을 90 ℃로 가열했다. 그 다음 스테아르산을 금속 옥시드에 대해 1:100의 몰 비로 첨가했고 분산물을 3 시간 동안 교반했다. 후속 단계에서, 입자 건조 공정을 감압 증발로 수행했고 친수성 테스트를 위해 얻은 건조 분말을 극성 용매에 분산시켰다. 표면 개질 MnO2 분말은 극성 용매와의 물리적 비혼화성을 나타냈고 극성 용매 내 균질한 분산물을 더 이상 얻을 수 없었다. 친수성 테스트가 물 속에서 수행될 때 입자 분산물을 얻을 수 없어서 입자 표면 에너지의 강한 개질을 확인했다.
<실시예 3 - 비교>
건조제 배합물을 60 g의 실록산 매트릭스 내 40 g의 원 CaO 입자를 분산시켜 얻었다. 얻은 분산물을 입자 분산을 최적화하기 위해 정제 공정을 통해 가공처리했고 유동학 특성화를 통해 분석했다.
10-2 내지 102 Hz의 선형 점탄성 영역 내 원뿔 평판 기하학으로 수행된 주파수 스위프 테스트는 유동학 거동에서 점성 흐름의 지배 및 동일한 중합체 매트릭스 내에 분산된 개질되지 않은 CaO 입자에 대해 실록산 매트릭스 내 분산된 표면 개질 CaO 입자의 기계적 스펙트럼의 차이를 나타내지 않았다. 표면 개질 CaO는 실록산 매트릭스의 기계적 특성을 강화했고 물 이동을 감소시키는 시스템의 완화 특성을 감속시켰다.
<실시예 4 - 비교>
50 g의 CaO를 교반 하에서(1 L 플라스크) 톨루엔 내 분산시켰고 생성된 분산물을 90 ℃로 가열했다. 그 다음 라우르산(n = 11)을 금속 옥시드에 대해 1:100의 몰 비로 첨가했고 분산물을 3 시간 동안 교반했다. 후속 단계에서, 입자 건조 공정을 감압 증발로 수행했고 친수성 테스트를 위해 얻은 건조 분말을 극성 용매에 분산시켰다. 처리된 CaO 분말은 극성 용매와의 양호한 물리적 혼화성을 보여주었고 수분 내 균질한 분산물을 얻었다. 라우레이트-기재 표면 개질은 입자 표면 에너지를 개질할 수 없었다.
<실시예 5>
본 발명에 따른 건조제 배합물을 60 g의 실록산 매트릭스 내에 20 g의 표면 개질 CaO 입자 및 20 g의 개질되지 않은 Li2O을 분산시켜 얻었다. 얻은 분산물을 입자 분산을 최적화하기 위해 정제 공정을 통해 가공처리했고 제거 성능의 면에서 평가했다.
이 배합물은 22 ℃ 55 % RH에서 처음 5 시간 노출 동안 2.0 mg cm-2 min-1의 흡착 속도를 나타냈다.

Claims (15)

  1. 하나 이상의 제1 흡습 무기 옥시드의 입자 및 중합체 바인더를 포함하고, 이 하나 이상의 제1 흡습 무기 옥시드의 입자가 외부면을 갖고, 알칼리 금속 옥시드, 알칼리 토류 금속 옥시드, 망간 옥시드 및 아연 옥시드로 구성된 군으로부터 선택되며, 하나 이상의 제1 흡습 무기 옥시드의 입자가 화학식 CnH2n+1COO- (n이 11 초과의 정수임)의 음이온에 의해 외부면에서 관능화된 것을 특징으로 하는 건조제 조성물.
  2. 제1항에 있어서, 상기 하나 이상의 제1 흡습 무기 옥시드의 입자가 0.05 ㎛ 내지 20 ㎛의 범위의 치수를 갖는 건조제 조성물.
  3. 제1항에 있어서, n이 13 내지 23인 건조제 조성물.
  4. 제3항에 있어서, 상기 화학식 C n H 2n +1 COO - 의 음이온이 테트라데카노에이트, 헥사데카노에이트, 옥타데카노에이트, 이코사노에이트, 도코사노에이트, 테트라코사노에이트로 구성된 군에서 선택되는 건조제 조성물.
  5. 제1항에 있어서, 상기 제1 흡습 무기 옥시드가 리튬 옥시드, 마그네슘 옥시드, 칼슘 옥시드, 스트론튬 옥시드, 및 바륨 옥시드로 구성된 군에서 선택되는 건조제 조성물.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제1 흡습 무기 옥시드의 입자가 총 조성물 중량에 대해 5 중량% 내지 50 중량%의 양으로 존재하는 건조제 조성물.
  7. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제1 흡습 무기 옥시드에 대해 상기 화학식 CnH2n+1COO- 의 음이온의 몰 비가 1:100 초과인 건조제 조성물.
  8. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 제2 흡습 무기 옥시드를 더 포함하는 건조제 조성물.
  9. 제8항에 있어서, 상기 제2 흡습 무기 옥시드가 리튬 옥시드 및 마그네슘 옥시드 중에서 선택되는 건조제 조성물.
  10. 제8항에 있어서, 상기 제2 흡습 무기 옥시드의 중량 농도가 총 흡습 무기 옥시드 함량에 대해 10 내지 50 w/w%로 포함되는 건조제 조성물.
  11. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 중합체 바인더가 에폭시 수지, 에폭시아크릴 수지, 아크릴 수지, 폴리우레탄 수지 및 실록산 매트릭스로 구성된 군에서 선택되는 건조제 조성물.
  12. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 따른 건조제 조성물을 포함하는 건조제 바디 또는 필름을 포함하는 감습성 장치.
  13. 제12항에 있어서, 미세-전자기계 장치, 미세-광학-전자기계 장치, 텔레커뮤니케이션 응용을 위한 광학-전자 장치, 의료용 이식 장치, 유기 태양광 전지 및 유기 전자 장치로 구성된 군에서 선택되는 감습성 장치.
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Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2920248B1 (de) 2012-11-15 2018-11-07 Kalkfabrik Netstal AG Oberflächenmodifiziertes kalziumoxid und verfahren zu dessen herstellung
JP6806490B2 (ja) * 2016-08-10 2021-01-06 双葉電子工業株式会社 捕水剤及びその製造方法、乾燥剤組成物、封止構造、並びに有機ｅｌ素子
IT201800003535A1 (it) 2018-03-14 2019-09-14 Getters Spa Composizione chimica distribuibile con elevata quantità di materiale di carica e bassi livelli di indice tixotropico
TWI810310B (zh) 2018-06-08 2023-08-01 日商達尼庫股份有限公司 液狀吸濕劑及電子機器的製造方法
WO2020081870A1 (en) * 2018-10-17 2020-04-23 Saint-Gobain Abrasives, Inc. Package including abrasive article and desiccant

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4599114A (en) * 1985-02-11 1986-07-08 Atkinson George K Treatment of titanium dioxide and other pigments to improve dispersibility
US5304419A (en) 1990-07-06 1994-04-19 Alpha Fry Ltd Moisture and particle getter for enclosures
US6226890B1 (en) * 2000-04-07 2001-05-08 Eastman Kodak Company Desiccation of moisture-sensitive electronic devices
US6599446B1 (en) * 2000-11-03 2003-07-29 General Electric Company Electrically conductive polymer composite compositions, method for making, and method for electrical conductivity enhancement
US6534571B1 (en) * 2001-04-25 2003-03-18 Flow Polymers, Inc. Desiccant dispersion for rubber compounds
WO2003016395A1 (en) * 2001-08-16 2003-02-27 Dover Chemical Corporation Polymer dispersible polybasic metal carboxylate complexes
JP4265200B2 (ja) * 2002-10-25 2009-05-20 凸版印刷株式会社 乾燥能力を有する樹脂組成物およびそれを用いた積層体、包装体
JP2008050188A (ja) 2006-08-23 2008-03-06 Konica Minolta Holdings Inc 無機微粒子の表面改質方法及び熱可塑性複合材料
BRPI0809503A2 (pt) * 2007-03-29 2014-09-23 Multisorb Tech Inc Método para selecionar uma composição sorvente ligada à resina, artigo de fabricação, e, estrutura de barreira de múltiplas camadas
JP5022931B2 (ja) 2008-01-31 2012-09-12 有限会社坂本石灰工業所 乾燥剤原料
JP5407028B2 (ja) 2009-07-28 2014-02-05 有限会社坂本石灰工業所 乾燥剤原料およびその製造方法
ITMI20100080U1 (it) * 2010-03-22 2011-09-23 Getters Spa Composizione per la protezione di dispositivi sensibili alla presenza di h2o.
WO2013011941A1 (ja) * 2011-07-15 2013-01-24 富田製薬株式会社 硫酸マグネシウム系乾燥剤及びその製造方法

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