KR101691423B1 - 불소 도핑 산화주석 박막의 제조방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 불소 도핑 산화주석 박막의 제조방법에 관한 것으로, a) 주석 전구체 및 불소 전구체를 초순수에 용해시켜 졸 형태의 용액을 만드는 단계; (b) 졸 형태의 용액 중에서 불소 도핑 산화주석 나노입자를 성장시켜 겔 형태의 용액을 만드는 단계; (c) 겔 형태의 용액을 기판에 코팅하여 박막을 형성하는 단계; 및 (d) 박막을 소성하는 단계를 포함하는 불소 도핑 산화주석 박막의 제조방법을 제공한다.

Description

불소 도핑 산화주석 박막의 제조방법{Method for producing fluorine doped tin oxide thin film}
본 발명은 불소 도핑 산화주석(FTO: fluorine doped tin oxide) 박막의 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 졸-겔(Sol-Gel) 방법 및 FTO 나노입자의 열 제어 등을 통해 간단하게 저비용으로 제작 가능하고 다양한 형태의 기판에 대면적으로 증착이 가능하며 적외선 영역의 차단효과가 우수한 FTO 박막의 제조방법에 관한 것이다.
종래부터 투명 전도성 코팅막(Transparent Conducting Coating film)은 액정표시소자, 플라스마 발광표시소자, 일렉트로루미네센스 표시소자 등의 디스플레이용 투명전도막, 친환경을 위한 에너지절약 유리인 로이(Low-e), 태양전지용 투명전도막, 자동차용 솔라(Solar)유리, 자동차, 항공기, 건축물 등의 창 유리의 결로방지 또는 빙결방지를 위한 발열저항체나 가시광에 대하여 고투과성을 갖는 전극재료로 사용되고 있다.
이와 같은 투명도전성 재료로서, 안티몬을 함유하는 산화주석(ATO)이나, 주석을 함유하는 산화인듐(ITO) 등이 알려져 있고, 이 중에서도 비저항의 낮음 등의 이유로 ITO가 폭넓게 사용되고 있다.
그러나 ITO 투명전도막 유리를 500℃에서 가열하여 성형할 경우 ITO의 전기적 물성이 바뀌고 열화되는 문제점이 있고, 내열성, 내화학성 및 내마모성이 약해지는 문제점이 있다. 따라서, 고온과 고전압에 대한 안전성이 높고 저저항 및 고투과율를 갖는 불소를 포함한 산화주석막에 관한 연구가 폭넓게 행해지고 있다.
(특허문헌 1) KR10-2014-0140683 A
본 발명의 목적은 FTO 박막을 간단하게 저비용으로 제작 가능하고, 다양한 형태의 기판에 대면적으로 증착이 가능하며, 적외선 영역의 차단효과가 우수한 FTO 박막의 제조방법을 제공하는 것이다.
본 발명은 상기 목적을 달성하기 위해, (a) 주석 전구체 및 불소 전구체를 초순수에 용해시켜 졸 형태의 용액을 만드는 단계; (b) 졸 형태의 용액 중에서 불소 도핑 산화주석 나노입자를 성장시켜 겔 형태의 용액을 만드는 단계; (c) 겔 형태의 용액을 기판에 코팅하여 박막을 형성하는 단계; 및 (d) 박막을 소성하는 단계를 포함하는 불소 도핑 산화주석 박막의 제조방법을 제공한다.
본 발명의 (a) 단계에서 초순수 50 mL에 대하여, 주석 전구체로서 순도 98±2%의 염화 주석 2.3±0.5 g을 첨가하고, 불소 전구체로서 농도 30±5%의 불산 200±20 ㎕를 첨가할 수 있다.
본 발명의 (b) 단계에서 나노입자의 성장은 60 내지 70℃의 온도에서 2±0.5 시간 동안 수행될 수 있다.
본 발명의 (c) 단계에서 기판은 유리 기판이고, 코팅은 딥 코팅일 수 있다.
본 발명의 (d) 단계에서 소성은 350±20℃에서 수행될 수 있다.
본 발명에서 나노입자의 크기는 40 내지 60 nm이고, 나노입자는 다발 형태로 모여 있을 수 있다.
본 발명에서 박막의 투과율은 750 내지 1500 nm의 파장 영역에서 유리기판의 투과율보다 20 내지 50% 감소하고, 1500 nm를 초과하는 파장 영역에서 유리기판의 투과율보다 50 내지 90% 감소할 수 있다.
본 발명에서 반사 방지막을 추가로 코팅하여 가시광선 영역의 투과율을 증가시킬 수 있다.
본 발명에 따르면, 졸-겔 방법 및 FTO 나노입자의 열 제어 등을 통해, FTO 박막을 간단하게 저비용으로 제작 가능하고, 다양한 형태의 기판에 대면적으로 증착이 가능하며, 적외선 영역의 차단효과가 우수하다.
도 1은 본 발명에 따라 합성한 FTO 나노입자의 주사 전자 현미경 사진이다.
도 2는 맨(Bare) 유리기판과 본 발명에 따라 FTO 나노입자가 코팅된 유리기판의 FT-IR, UV-VIS 그래프이다.
이하, 본 발명을 상세하게 설명한다.
본 발명은 FTO 박막의 제조방법에 관한 것으로, 본 발명에 따른 FTO 박막의 제조방법은 (a) 주석 전구체 및 불소 전구체를 초순수에 용해시켜 졸 형태의 용액을 만드는 단계; (b) 졸 형태의 용액 중에서 불소 도핑 산화주석 나노입자를 성장시켜 겔 형태의 용액을 만드는 단계; (c) 겔 형태의 용액을 기판에 코팅하여 박막을 형성하는 단계; 및 (d) 박막을 소성하는 단계를 포함할 수 있다.
(a) 단계는 졸-겔 방법 중 졸을 만드는 단계이다. 구체적으로, 주석 전구체 및 불소 전구체를 초순수에 용해시켜 졸 형태의 용액을 만든다. 주석 전구체로는 염화 주석(Tin chloride dihydrate) 등을 사용할 수 있고, 불소 전구체로는 불산(HF) 등을 사용할 수 있다. 바람직하게는, 초순수 50 mL에 대하여, 주석 전구체로서 순도 98±2%의 염화 주석 2.3±0.5 g을 첨가하고, 불소 전구체로서 농도 30±5%의 불산 200±20 ㎕를 첨가할 수 있다. 한편, 불소 함유량을 조절하여 투과율을 조절할 수 있으며, 필요에 따라 계면활성제를 첨가할 수 있다.
(b) 단계는 졸-겔 방법 중 겔을 만드는 단계이다. 구체적으로, 졸 형태의 용액 중에서 불소 도핑 산화주석 나노입자를 성장시켜 겔 형태의 용액을 만든다. 나노입자의 성장은 물 중탕 등을 이용하여 60 내지 70℃의 온도에서 2±0.5 시간 동안 수행될 수 있다.
(c) 단계는 코팅(증착)을 통한 박막 형성 단계로서, 겔 형태의 용액을 기판에 코팅하여 박막을 형성한다. 기판으로는 유리 기판, 폴리머 기판 등을 사용할 수 있다. 용매가 초순수를 이용하여 만들어진 용액이기 때문에 기판이 소수성인 경우 딥 코팅이 이루어지지 않는다. 코팅(증착) 방법으로는 딥 코팅(dip coating) 방법 등을 사용할 수 있다. 본 발명에서는 졸-겔 방법 및 딥 코팅 방법을 이용함으로써, 복잡한 장비나 공정 없이 간단하게 저비용으로 FTO 박막을 제작할 수 있다. 특히, 졸-겔은 액체에 가까운 물질로 어떠한 형태의 물질에도 코팅이 가능하고, 욕조(bath)의 크기만 유지할 수 있다면 충분히 대면적으로 성장도 가능하다. 즉, 평면과 곡면뿐만 아니라 90도로 꺾이거나 원통형 등 모든 형태의 기판에 증착이 가능하고, 다양한 형태의 유리 및 대형 유리에 적합하다. 또한, 나노입자의 굴절률에 의한 반사를 줄이기 위해 나노입자를 졸-겔 방법으로 합성하여 가시광선 영역에서 투과율을 증가시킬 수 있다.
(d) 단계는 소성 단계로서, 기판 위에 증착된 FTO 나노입자를 일정 온도로 소성할 경우 결정질을 좋게 만들 수 있다. 구체적으로, 소성 과정을 거치면 불순물이 제거되고 입자가 정렬되어 투과도가 향상될 수 있다. 바람직하게는, 소성은 350±20℃에서 수행될 수 있다. 나노입자는 40 내지 60 nm의 크기를 가지고 매우 고르게 증착될 수 있다. FTO 나노입자의 크기에 따라 산란 및 투과도가 달라질 수 있다. 또한, 나노입자는 다발 형태로 모여 있어 산란되어 반사율을 낮출 수 있다.
이와 같이 제조된 FTO 박막의 투과율은 750 내지 1500 nm의 파장 영역에서 유리기판의 투과율보다 20 내지 50% 감소하고, 1500 nm를 초과하는 파장 영역에서 유리기판의 투과율보다 50 내지 90% 감소할 수 있다. 한편, 반사 방지막(anti-reflecting film)을 추가로 코팅하여 가시광선 영역의 투과율을 증가시킬 수 있다. 본 발명의 방법은 저온 공정 및 진공을 필요로 하지 않는다.
이하의 실시예에서는 적외선 영역의 차단을 위해 나노입자를 합성하였다. 다양한 나노입자 합성 방법 중 졸-겔 방법을 이용하였다. 나노입자의 합성원료가 되는 물질 등을 넣고 졸-겔 방법을 사용하여 제조한 FTO 나노입자의 특성 분석과 아울러 이를 이용한 박막의 적외선 및 자외선 차단효과를 조사하였다. 딥 코팅과 같은 2차 공정을 이용하여 유리판이나 폴리머 기판에 증착하여 열복사 및 전도를 조절하였다. FTO 나노입자의 적외선과 자외선 영역에서의 투과율을 동시에 감소시키기 위한 구조를 만들었다. 이렇게 증착된 기판의 적외선 영역과 자외선 영역의 차단 효과를 VIS-NIR의 측정을 통하여 확인하였다.
[실시예]
FTO 나노입자를 합성하기 위한 용액을 만들기 위해, 염화주석 이수화물(2.3 g, 98%)과 HF(200 ㎕, 30%)를 초순수 50 mL의 용액에 넣고 10분간 교반시켜 완전히 용해시켰다. 110℃의 핫 플레이트(hot plate) 위에 2 L급의 항온 수조를 올렸다. 이때 항온 수조의 온도는 약 60~70℃로 유지되도록 하였다. 중탕 온도가 평형상태에 도달하면, 바이엘 병에 FTO 나노입자 합성용액과 마그네틱 바를 함께 넣은 후, 바이엘 병을 수조에 담그고 약 2시간 동안 결정을 성장시켰다. FTO 나노입자의 성장이 끝나고 난 후의 용액은 점도가 낮은 겔 형태의 용액으로 만들어졌다. 이렇게 만들어진 용액을 딥 코팅을 통해 유리 기판에 코팅하였다. 이렇게 FTO 나노입자가 증착된 기판의 경우 초기에는 투과도가 좋지 않았다. 이는 FTO 나노입자가 정렬되어 있지 못하고 산란되어 투과도가 떨어지기 때문이었다. 하지만 350℃ 소성과정을 거친 후, 불순물이 제거되고 입자가 정렬되어 투과도가 향상되었다.
실시예에 따라 나노입자가 증착된 형태는 도 1의 주사 전자 현미경 사진에서 확인할 수 있다. 주사 전자 현미경 사진에서 볼 수 있듯이, FTO 나노입자는 약 40~60 nm 정도의 크기를 가지면서 매우 고르게 증착되어 있다는 사실을 확인할 수 있다. 이 기판을 확대하여 찍은 주사 전자 현미경 사진(도 1의 우측 사진)에서도 볼 수 있듯이, 넓은 영역에서 고르게 증착되었다는 사실을 확인할 수 있다. 이러한 FTO 나노입자는 다발 형태로 모여 있어 산란되어 반사율을 낮출 수 있다.
도 2에 나타낸 그래프는 아무것도 증착하지 않은 유리기판(검정색)과 실시예에 따라 FTO 나노입자가 증착된 유리기판(빨간색)의 투과율을 비교한 것이다. 기준 샘플의 경우, 스펙트로 포토미터의 디텍터에 기판을 꽃아 넣지 않은 상태, 즉 일반 공기 상태에서 기준점으로 잡았다. 코팅되지 않은 소다 라임(Soda-lime) 글라스의 스펙트럼은 검정색 그래프에서 볼 수 있듯이, 자외선과 가시광선 및 적외선 영역에서 전반적으로 약 95%의 투과율을 보이고 있다. 이러한 유리기판에 FTO 나노입자를 딥 코팅하고 소성 작업을 거쳐 제작한 FTO 유리기판의 스펙트럼은 적외선 영역을 크게 2개의 영역으로 나눠 볼 수 있다. 빨간색 그래프에서 볼 수 있듯이, 750~1500 nm의 파장에서는 약 25% 정도 적외선의 투과율이 감소하였고, 1500 nm를 초과하는 파장에서는 투과율이 80% 이상의 감소를 보였다. FTO 글라스의 차단율이 높은 이유는 Sn의 금속성에 의해 전기 전도도를 가진 기판이 되고, 자유전자가 적외선 영역의 빛에너지를 가두는(trap) 역할을 하기 때문이다. 따라서 적외선 영역에서 전체적으로 빛이 차단되었다. 한편, 적외선 영역의 차단율에 비해 적은 양이지만, 가시광선 영역 또한 10% 가량 투과율이 감소하여 효율이 줄어들었다. 이는 투명 전도성 산화물(TCO) 기판들의 일반적인 문제점이고 해결해야 할 과제이기도 하다. 가시광선 영역에서 빛이 감소하는 문제를 해결하기 위해, 반사 방지막 코팅을 이용할 경우, 가시광선 영역에서의 투과율 증가효과와, 적외선 영역에서의 투과율 감소효과를 동시에 얻을 수 있다.

Claims (8)

  1. (a) 주석 전구체 및 불소 전구체를 초순수에 용해시켜 졸 형태의 용액을 만드는 단계;
    (b) 졸 형태의 용액 중에서 불소 도핑 산화주석 나노입자를 성장시켜 겔 형태의 용액을 만드는 단계;
    (c) 겔 형태의 용액을 유리 기판에 코팅하여 박막을 형성하는 단계; 및
    (d) 박막을 소성하는 단계를 포함하며,
    상기 (a) 단계에서 초순수 50 mL에 대하여, 주석 전구체로서 순도 98±2%의 염화 주석 2.3±0.5 g을 첨가하고, 불소 전구체로서 농도 30±5%의 불산 200±20 ㎕를 첨가하며,
    상기 (d) 단계에서 소성은 350±20℃에서 수행되고,
    상기 나노입자의 크기는 40 내지 60 nm이며, 나노입자는 다발 형태로 모여 있고,
    상기 박막의 투과율은 750 내지 1500 nm의 파장 영역에서 유리기판의 투과율보다 20 내지 50% 감소하며, 1500 nm를 초과하는 파장 영역에서 유리기판의 투과율보다 50 내지 90% 감소하는 것을 특징으로 하는 창호용 불소 도핑 산화주석 박막의 제조방법.
  2. 삭제
  3. 제1항에 있어서,
    (b) 단계에서 나노입자의 성장은 60 내지 70℃의 온도에서 2±0.5 시간 동안 수행되는 것을 특징으로 하는 불소 도핑 산화주석 박막의 제조방법.
  4. 제1항에 있어서,
    (c) 단계에서 코팅은 딥 코팅인 것을 특징으로 하는 불소 도핑 산화주석 박막의 제조방법.
  5. 삭제
  6. 삭제
  7. 삭제
  8. 제1항에 있어서,
    반사 방지막을 추가로 코팅하여 가시광선 영역의 투과율을 증가시키는 것을 특징으로 하는 불소 도핑 산화주석 박막의 제조방법.
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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100574720B1 (ko) 1997-07-07 2006-04-28 필킹톤 노쓰 아메리카, 인코포레이티드 반사방지 필름
KR101206989B1 (ko) 2010-08-19 2012-11-30 주식회사 은성 불소 함유 산화주석 투명전도막 코팅방법

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101021141B1 (ko) * 2007-08-22 2011-03-14 한국세라믹기술원 습기제거용 불소 함유 산화주석（ｆｔｏ） 투명전도막 유리및 이의 제조방법
KR20090056510A (ko) * 2007-11-30 2009-06-03 주식회사 휴템 적외선 차단 유리 및 그 제조 방법
KR101573902B1 (ko) 2013-05-29 2015-12-03 (주)솔라세라믹 불소가 도핑된 고투과율의 산화 주석 박막 제조 방법

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100574720B1 (ko) 1997-07-07 2006-04-28 필킹톤 노쓰 아메리카, 인코포레이티드 반사방지 필름
KR101206989B1 (ko) 2010-08-19 2012-11-30 주식회사 은성 불소 함유 산화주석 투명전도막 코팅방법

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