KR101679697B1 - A printed circuit board manufacturing method - Google Patents

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Abstract

Provided are a method of manufacturing a printed circuit board (PCB) and a film to prepare the printed circuit board. The method of manufacturing the printed circuit board comprises: a step of preparing plate net and exposure films to which a pattern and a marker are applied in a state which a pattern and the marker to be applied to the PCB are determined respectively; a step of applying the pattern and the marker to a plate net using one of a plurality of films; a step of printing photosensitive solution on the PCB in a pattern using the plate net to which the pattern and the marker are applied; a step of radiating ultraviolet rays to the PCB to apply the pattern formed on an exposure working film to the PCB in a state which the film and the PCB are aligned to a position of the pattern using the marker; a step of immersing a non-patterned copper foil of the PCB exposed to ultraviolet rays in a ferric chloride solution to melt the non-patterned copper foil; and a step of drying the PCB from which the non-patterned copper foil is removed. According to the related art, when the PCB is manufactured through light exposure in accordance with a related art since the film and the PCB are aligned with each other with a pin, it is difficult to precisely align them, thus an error rate is about 0.1-0.15% or more. However, in accordance with the present invention, when the PCB is exposed using the film to which the marker is applied, the positions are primarily aligned through a pin like the related art and the film, and the PCB are secondarily aligned with each other through the marker such that the error rate of the PCB is greatly decreased to be 0.1% or less.

Description

인쇄회로기판의 제조방법 및 인쇄회로기판 제작용 필름{A printed circuit board manufacturing method}[0001] The present invention relates to a method of manufacturing a printed circuit board,

본 발명은 인쇄회로기판의 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 인쇄회로기판에 IR 방식과 노광방식을 혼합하여 각각의 장점은 살리고 제판망 제작 시 마커를 추가하여 인쇄회로기판의 냉 땜 위험은 줄일 수 있도록 한 인쇄회로기판의 제조방법에 관한 것이다. The present invention relates to a method of manufacturing a printed circuit board, and more particularly, to a method of manufacturing a printed circuit board by mixing a printed circuit board with an IR method and an exposure method, And more particularly, to a method of manufacturing a printed circuit board.

피코팅층이나 인쇄회로기판을 제작할 시에 스크린 인쇄판을 이용한 마스킹 프린트 기법을 활용한다. A masking printing technique using a screen printing plate is used to fabricate a coating layer or a printed circuit board.

또한, 마스킹 프린트 기법이 활용되는 예로 인쇄회로기판은 반도체, 전자기기의 발전과 동시에 전자부품의 하나로서 그 지위를 굳히고 있으며, 라디오, 텔레비전, PCB 등의 각종 전기 전자제품에서부터 컴퓨터 및 최첨단 전자 장비에 이르기까지 모든 전기, 전자기기 등의 회로를 구현하는 부품으로서 널리 사용되고 있다. As an example of the application of masking printing technique, the printed circuit board is solidifying its position as one of the electronic components at the same time as the development of semiconductors and electronic devices. It is used in various electronic and electrical products such as radio, television, PCB, And is widely used as a component for realizing circuits of all electric and electronic devices.

최근 이 분야의 기술상의 진보가 현저해짐에 따라서 인쇄회로기판에 있어서 고도의 품질이 요구되고 있으며 이에 의해 급속히 고밀도화하는 현상을 나타내고 있다.Recently, as technological advances in this field have become remarkable, a high quality of a printed circuit board has been demanded, which has led to a rapid increase in density.

인쇄회로기판의 제조 공정을 살펴보면, 외형가공 단계, 다층기판 형성 단계, 외층노광 단계, 동도금 단계, 주석과 납의 합금으로 이루어지는 솔다도금 단계, 표면처리 단계, 제1차 PSR(Photo Solder Resist)단계, 제2차 PSR 단계, 마킹 (Marking) 인쇄 단계, 단자도금 단계 및 수평식 HASL(Hot air solder leveling) 단계 등으로 구성되어 있다.The manufacturing process of the printed circuit board will be described with reference to the manufacturing process of the printed circuit board, such as the outer shaping step, the multilayer substrate forming step, the outer layer exposure step, the copper plating step, the solder plating step comprising the tin and lead alloy, the surface treatment step, the first PSR (photo solder resist) A second PSR step, a marking printing step, a terminal plating step, and a horizontal HASL (hot air solder leveling) step.

인쇄회로기판은 절연기판 위에 미세한 여러 가지 도체 패턴이 스루홀과 더불어 형성되어 있고 이 스루홀의 한면에는 수많은 여러 종류의 작은 전자부품이 접지되어 있어 전자제품의 심장부로서 매우 중요한 역할을 하고 있다. 기판의 미세한 구리로 도금된 도체 패턴은 기판의 회로 외에 각 선단에 다수의 단자를 연결시킬 스루홀로 이루어져 있다.A printed circuit board is formed on the insulating substrate together with a plurality of fine conductor patterns together with a through hole, and a large number of various kinds of small electronic parts are grounded on one side of the through hole. The conductor pattern plated with the fine copper of the substrate is composed of a through hole for connecting a plurality of terminals to each end in addition to the circuit of the substrate.

상기 인쇄회로기판의 제조 공정중, 전자부품의 뛰어난 접속을 위해 실시하는 단자도금 단계에 해당하는 경질금도금 단계에 있어서, 기판에 형성된 도체 패턴 및 미세한 스루홀이 함께 형성되어 있는 배선 영역 중에서 필요한 부분만을 도금할 수 있어서 정밀도를 갖는 금도금면을 얻을 수 있고, 작업 후에는박리하여 보호막을 용이하게 제거할 수 있는 스크린 인쇄 마스킹용 보호잉크의 선정 및 그 사용법은 매우 중요하다.In the hard gold plating step corresponding to the terminal plating step performed for excellent connection of electronic components during the manufacturing process of the printed circuit board, only a necessary portion of the wiring pattern formed with the conductor pattern and the fine through- It is very important to select a protective ink for screen printing masking which can obtain a gold-plated surface which can be plated and which can be easily peeled off after the work and can be easily removed.

현재까지 알려진 회로기판의 일정부위만을 노출시키기 위해 사용되는 박리 가능한 인쇄 마스킹용 보호잉크의 조성물과 그의 사용법에 있어서, 종래부터 사용되고 있는 박리 가능한 보호잉크의 경우에는, 첨가제로서 휘발성 용제인 초산에틸, 신나 등이 포함되어 있기 때문에 이들 휘발성 용제가 기화·확산되어 대기에 악영향을 미치는 한 요인이 되고 있어 환경적인 측면에서 사용이 규제되고 있는 실정이다.In the composition of the protective ink for peelable printing masking used to expose only a certain portion of the circuit board known so far and the use method of the peelable protective ink used conventionally, These volatile solvents are vaporized and diffused, which is one of the factors that adversely affects the atmosphere. Thus, the use of the volatile solvents is regulated in terms of environment.

따라서 현재 국내의 경우, 특히 금도금을 시행할 때 도금할 부분을 제외한 그 주위를 일일이 수작업에 의해 마스킹용 테이프를 점착시키고 있으며, 더욱이 도체 패턴의 형상이 복잡하거나 스루홀의 크기가 상이할 경우, 이마스킹테이프를 각각의 형상에 맞추어 절단해야 하므로 비능률적이고, 많은 시간과 인력이 요구됨은 물론 불량품의 발생을 줄이는데 한계가 있다.Therefore, in the case of the present domestic, in particular, when the gold plating is performed, the masking tape is adhered manually around the periphery excluding the portion to be plated. Further, when the shape of the conductor pattern is complicated or the size of the through hole is different, Since the tape must be cut to fit each shape, it is inefficient, requires a lot of time and manpower, and has limitations in reducing the generation of defective products.

그뿐만 아니라, 도금액이 침투하지 않게 하기 위해서는, 테이프를 붙이고 열처리 후에 로울러로 압착해서 완전히 점착시켜야 하므로, 도금 후에 박리가 수월하지 않으며, 기판에 남아 있는 접착제를 제거하기 위해서는 강산성의 약품에 세척해야 하는데, 이 경우 휘발성이 강하므로 많은 양의 약품을 사용해야 하는 불편함이 있다.Moreover, in order to prevent the plating solution from penetrating, it is difficult to peel off after plating, since the tape must be attached and pressed by a roller after heat treatment to completely adhere to the substrate. In order to remove the adhesive remaining on the substrate, In this case, since it is highly volatile, it is inconvenient to use a large amount of medicines.

한편, 독일에서 수입되어 사용되고 있는 잉크로서, 박리가 가능하며, 금도금층의 스크래칭방지용으로 사용되고 있는 용제형(2액형)의 스크린 인쇄잉크를 금도금 시에 보호잉크로 대체 사용하여 작업을 행할 경우에는, 인쇄회로기판의 미세한 내경의 스루홀 내에 유입되어 고화된 수많은 돌기형태의 부분을 필름형태의 도막과 함께 박리시켜 제거할 경우 도막필름과 스루홀속의 돌기부분이 파단되어 스루홀 속의 잔재되어 있는 돌기를 일일이 수작업으로 제거해야 하는 등의 번거로움이 있으며 스루홀의 내경이 1mm이하로 작은 경우에는 수작업으로는 필름에서 단락되어 잔재해 있는 돌기 부분의 제거가 사실상 곤란하게 되어 불량품으로 처리될 수밖에 없는 실정이므로 인쇄회로 기판의 금도금을 위한 프린트 배선판용 보호잉크로의 사용에는 문제점이 많아 현재 국내업계에서는 전혀 이용되지 못하고 있는 실정이다.On the other hand, when a solvent-type (two-part type) screen printing ink which can be peeled off and used for preventing scratching of a gold-plated layer is replaced with a protective ink for gold plating, When a large number of protruding protrusions that flow into a through hole of a fine inner diameter of a printed circuit board are peeled and removed together with a film form film, the protrusions in the coat film and the through holes are broken and the remnant protrusions in the through- It is troublesome to manually remove each of them. When the through-hole inner diameter is as small as 1 mm or less, it is difficult to manually remove the protruding portion which is short-circuited in the film, There is a problem in the use as a protective ink for printed circuit boards for gold plating of circuit boards There are many in the domestic industry at present is not available at all.

또한, 최근 표면을 코팅, 증착하기 위한 기법으로 진공증착, 플라즈마 진공증착 [0012] 기법이 활용되고 있다. 플라즈마 진공층착은 진공챔버 내에 배치된 기판(substrate)에 증착시키고자 하는 물질로 이루어진 타겟 주위에 플라즈마를 형성시켜 플라즈마 중의 이온 충격에 의해 타겟으로부터 방출되는 물질이 기판 위에 증착되도록 하는 방법이다.Recently, vacuum deposition and plasma vacuum deposition techniques have been utilized as techniques for coating and depositing a surface. Plasma vacuum deposition is a method of forming a plasma around a target made of a material to be deposited on a substrate disposed in a vacuum chamber so that a substance emitted from the target is deposited on the substrate by ion bombardment in the plasma.

최근에는 비교적 저압에서 높은 증착율을 얻을 수 있는 마그네트론 스퍼터링 소스가 많이 사용된다. 플라즈마를 형성하기 위한 소스는 이미 잘 알려져 있다. 보통, 타겟에 음의 전압을 공급하여 플라즈마로부터의 이온을 끌어당겨 타겟표면으로가속시키게 되는데, 이러한 이온이 타겟 표면에 충돌하면 타겟 원자에 모멘텀(momentum)을 공급하여 이온 입사방향과 반대 방향으로 방출되도록 한다. 이 방출된 타겟 원자들이 타겟으로부터 근처에 배치된 기판으로 이동하여 그 표면에 코팅되게 되는 것이다.In recent years, a magnetron sputtering source which can obtain a high deposition rate at a relatively low pressure is widely used. The source for forming the plasma is already well known. Normally, a negative voltage is applied to the target to attract ions from the plasma to accelerate it to the target surface. When such ions impinge on the target surface, a momentum is supplied to the target atoms to emit in a direction opposite to the direction of ion incidence . The emitted target atoms are moved from the target to a substrate disposed nearby and coated on the surface thereof.

상술한 바와 같은 스퍼터링 과정은 반도체의 금속 배선층 형성 공정, 콤팩트 디스크와 CD-ROM의 반사층, 컴퓨터메모리용 하드 디스크의 활성층, 및 다른 기능적 및 장식적 응용을 위한 금속층의 코팅을 위해 널리 사용되고 있다.The sputtering process as described above is widely used for metal wiring layer forming processes of semiconductors, reflective layers of compact discs and CD-ROMs, active layers of hard disks for computer memories, and coating of metal layers for other functional and decorative applications.

상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 선행기술로 공개특허공보 제2016-1113634호(2016.02.05. 공개) "마스킹 프리트와 진공증착을 이용한 미세패턴 코팅방법"은 피코팅층을 코팅하기 위한 디자인을 결정하는 단계; 폴리 비닐 알콜 18 ~ 30 중량%, 모노아크릴 에스테르 2 ~ 8중량%, 아크릴산 10 ~ 15 중량%, 에탄올 16 ~ 24중량%, 및 물 30 ~ 50 중량%를 포함하는 마스킹용 보호잉크를 제작하는 단계; 필름에 코팅하고자 하는 디자인을 제외한 부분을 먼저 현상하여 제판한 후, 필름과 스크린 인쇄판을 이용하여 디자인하고자 하는 부위를 제외한 부분을 상기 피코팅판에 상기 마스킹용 보호잉크로 도포하는 단계; 상기 마스킹용 보호잉크가 도포된 피코팅층에 코팅액을 진공증착시키는 단계; 및 물로 상기 마스킹용 보호잉크를 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다. As a prior art for solving the above-mentioned problems, a " fine pattern coating method using a masking frit and a vacuum deposition " in Laid-Open Patent Application No. 2016-1113634 (published on May 2, 2015) determines a design for coating a coating layer step; Preparing protective inks for masking comprising 18 to 30% by weight of polyvinyl alcohol, 2 to 8% by weight of monoacrylic ester, 10 to 15% by weight of acrylic acid, 16 to 24% by weight of ethanol and 30 to 50% ; Applying a film and a screen printing plate to a portion of the film other than a portion to be designed with the protective ink for masking; Vacuum-depositing a coating liquid on the coated layer on which the protective ink for masking is applied; And removing the protective ink for masking with water.

디자인을 원하는 부분을 제외한 나머지 부분을 마스킹용 보호잉크로 인쇄한 후, 진공증착, 플라즈마 진공증착을 처리한 후, 물로 처리하는 행하는 선행기술은 마스킹용 보호잉크 인쇄, 도포 및 마스킹 프린트된 피코팅판에 코팅액을 다시 진공증착하므로 작업 공정이 2배로 늘어남으로 인하여 생산이 기존방식에 비해 2배로 저하되는 문제점을 있다. Prior art processes in which the remaining portions except for the portion desired to be designed are printed with a protective ink for masking and then subjected to a vacuum deposition or a plasma vacuum deposition and then treated with water are subjected to a protective ink printing for masking, Since the coating solution is vacuum-deposited again, the work process is doubled, resulting in a problem that the production is reduced by twice as compared with the conventional method.

특허문헌 : 공개특허공보 제2016-1113634호(2016.02.05. 공개)Patent Document: Published Patent Publication No. 2016-1113634 (published on Feb.

상기한 문제점을 해결하기 위한 것으로, 본 발명은 인쇄회로기판에 IR 방식과 노광방식을 혼합하여 각각의 장점은 살리고 제판망 제작시 마커를 추가하여 인쇄회로기판의 냉땜 위험은 줄일 수 있도록 한 인쇄회로기판의 제조방법 및 인쇄회로기판 제작용 필름을 제공하는 데 목적이 있다. In order to solve the above problems, the present invention provides a printed circuit board which can reduce the risk of the soldering of the printed circuit board by combining the IR system and the exposure system on the printed circuit board, A method for manufacturing a substrate, and a film for producing a printed circuit board.

또한, 본 발명은 재판망용 마스터필름과 노광작업용 필름을 각각 제작하므로 감광액의 절감 및 인쇄회로기판에 냉 땜 위험을 줄일 수 있도록 하여 불량률을 최소화 한 인쇄회로기판의 제조방법 및 인쇄회로기판 제작용 필름을 제공하는 데 목적이 있다. The present invention also provides a method for manufacturing a printed circuit board and a method for manufacturing a printed circuit board, which are capable of reducing the amount of photosensitive liquid and reducing the risk of cold soldering on a printed circuit board, The purpose of this paper is to provide

상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 의한 인쇄회로기판의 제조방법은 PCB에 적용할 패턴과 마커의 패턴을 결정한 상태에서 패턴과 마커가 함께 적용되는 재판망용 및 노광용 필름을 각각 제작하는 과정과; 복수의 필름 중 한 필름을 이용하여 패턴과 마커가 재판망에 적용되도록 제작하는 과정과; 패턴과 마커가 적용된 재판망을 이용하여 PCB에 패턴의 형태로 감광액이 인쇄되도록 하는 과정과; 노광 작업용 필름과 노광할 PCB를 마커를 이용해 패턴의 위치를 정확히 맞춘 상태에서 PCB에 필름에 형성한 패턴이 적용되도록 자외선을 조사하는 과정과; 자외선을 조사한 PCB에 패턴이 형성되지 않은 동박을 염화제이철용액게 담가 녹여내는 과정과; PCB에 패턴이 형성되지 않은 부분의 동박을 벗겨낸 후 이를 건조하는 과정;을 포함하는 것을 특징으로 한다. According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a printed circuit board, the method comprising the steps of: preparing a patterning and exposure film to which a pattern and a marker are applied together with a pattern to be applied to a PCB and a marker pattern; Preparing a pattern and a marker to be applied to a test grid by using one of a plurality of films; Printing a sensitizing solution on the PCB in the form of a pattern using a test network to which a pattern and a marker are applied; Irradiating the ultraviolet ray to apply the pattern formed on the film to the PCB in a state where the pattern of the exposure work film and the PCB to be exposed are precisely aligned with the markers; Dissolving a copper chloride solution in which a pattern is not formed on a PCB irradiated with ultraviolet rays; And peeling the copper foil from the portion where no pattern is formed on the PCB and drying the same.

본 발명의 상기 재판 인쇄용 필름은 솔더패드 영역을 PCB에 감광액이 도포되는 영역보다 1mm ~ 5mm 확대하여 형성하는 것을 특징으로 한다.The resist printing film of the present invention is characterized in that the solder pad area is formed by enlarging the area of the PCB by 1 mm to 5 mm from the area to which the photosensitive liquid is applied.

본 발명의 상기 PCB 인쇄용 필름은 PCB에 형성되는 패턴의 크기와 동일한 크기로 형성하여 노광이 이루어지도록 하는 것을 특징으로 한다.The PCB printing film of the present invention is formed to have the same size as that of the pattern formed on the PCB, thereby performing exposure.

본 발명의 상기 마커는 복수로 이루어진 필름과, 필름에 이용하여 제작된 재판망 및, PCB패널에 각각 형성하고, 상기 필름과 제판망, 재판망과 PCB 및 필름과 PCB의 위치를 조절할 수 있도록 하는 것을 특징으로 한다. The markers of the present invention are formed on a plurality of films, a test panel made of the film, and a PCB panel, respectively, and the positions of the film, the plate network, the test board, the PCB, .

본 발명에 의한 인쇄회로기판 제작용 필름은 재판망에 마커와 패턴을 적용하기 위한 재판망용 필름과 마커와 패턴이 적용된 PCB에 노광 작업을 하기 위한 노광작업용 필름을 각각 형성하며, 상기 필름에는 마커와 패턴이 적용된 것을 특징으로 한다.The film for manufacturing a printed circuit board according to the present invention forms a film for a protective film for applying a marker and a pattern to a test network, and a film for exposure for exposure on a PCB to which a marker and a pattern are applied, Pattern is applied.

본 발명은 인쇄회로기판에 0.1mm에서 최대 0.08mm로 인쇄회로기판에 인쇄를 구현할 수 있고, 또한, +/- 0.05 이내의 공차의 관리가 용이한 효과가 있다. The present invention can implement printing on a printed circuit board from 0.1 mm to a maximum of 0.08 mm on a printed circuit board, and also facilitates management of tolerances within +/- 0.05.

본 발명은 복수의 필름을 재판망에 적용하기 위한 것과 PCB 노광용으로 사용하기 위한 것을 각각 제작하고, 필름에 형성하는 패턴의 굵기를 각기 다르게 형성하여 감광액을 도포할 때와 노광할 때 서로 다른 크기에 의해 PCB 패턴을 형성하도록 하므로 불필요하게 버려지는 감광액을 줄일 수 있는 효과가 있다. The present invention relates to a method of manufacturing a photomask, which comprises preparing a plurality of films for use in a test network and a photomask for use in PCB exposure, respectively, and forming patterns of different thicknesses on the film, Thereby forming a PCB pattern, thereby reducing the amount of the photosensitive liquid that is unnecessarily discarded.

또한, 본 발명은 감광액이 경화된 상태에서 PCB 패널에서 떨어져 나올 확률을 종래보다 현저하게 적게 발생하므로 경화된 감광액이 솔더패드(부품이 납땜되는 부분)에 경화된 감광액이 위치되어 부품의 실장을 방해하는 문제점을 해소하는 효과가 있다. Further, since the probability that the photosensitive liquid is separated from the PCB panel when the photosensitive liquid is cured is remarkably less than that of the prior art, the cured photosensitive liquid is prevented from mounting the component by placing the cured photosensitive liquid in the solder pad There is an effect of solving the problem of the problem.

또한, 본 발명의 인쇄회로기판은 기존의 노광에 에 의해 PCB를 제작할 때 필름과 PCB의 위치를 핀으로 통해 정렬하기 때문에 정밀한 정렬이 이루어지지 못하므로 불량율 약 0.1~0.15% 이상이었으나, 본 발명은 마커가 적용된 필름을 이용하여 PCB에 노광하는 경우 종래와 같이 핀을 통해 위치를 1차로 정렬하고, 다시 마커를 통해 2차로 필름과 PCB를 최종적으로 정렬하게 되므로 PCB의 불량율이 0.1% 이하로 현저하게 낮아지는 효과가 있다. In addition, since the printed circuit board of the present invention aligns the positions of the film and the PCB through the pins when the PCB is manufactured by conventional exposure, the defective rate is about 0.1 to 0.15% or more since the precision alignment can not be performed. However, When a marker is applied to a PCB to expose it to the PCB, the position is firstly aligned through the pins as in the conventional case, and the film is finally aligned with the PCB through the marker again, so that the PCB defect rate is remarkably lower than 0.1% There is an effect of lowering.

도 1은 본 발명에 의한 인쇄회로기판의 제조방법을 나타낸 블록도.
도 2는 본 발명의 마커와 패턴이 적용된 재판망용 필름을 이용하여 재판망에 적용하는 상태를 개략적으로 나타낸 구성도.
도 3은 본 발명의 마커와 패턴이 적용된 재판망을 이용하여 PCB에 인쇄하는 상태를 개략적으로 나타낸 구성도.
도 4는 본 발명의 PCB용 필름을 PCB에 정렬한 상태에서 노광하는 상태를 개략적으로 나타낸 구성도.
도 5는 본 발명의 필름에 마커가 일체로 형성된 상태를 나타낸 실시예.
도 6은 본 발명의 재판망에 마커가 일체로 형성된 상태를 나타낸 실시예.
도 7은 본 발명의 PCB에 노광 후 실제 현상된 상태를 나타낸 실시예.
도 8 내지 10은 본 발명의 인쇄회로기판의 제조방법을 통해 생산한 PCB를 EDS 분석한 결과를 나타낸 시험성적서.
도 11은 일반적인 인쇄회로기판의 제조방법을 통해 생한 PCB를 EDS를 통해 분석한 결과를 나타낸 사진.
도 12는 일반적인 인쇄회로기판의 제조방법을 통해 생한 PCB를 SEM를 통해 분석한 결과를 나타낸 사진.
1 is a block diagram showing a method of manufacturing a printed circuit board according to the present invention;
FIG. 2 is a schematic view showing a state in which the marking and the pattern of the present invention are applied to a test network using a film for a protective film. FIG.
FIG. 3 is a schematic view showing a state of printing on a PCB using a marking and pattern network of the present invention. FIG.
4 is a schematic view showing a state in which a film for a PCB of the present invention is exposed in a state of being aligned on a PCB.
5 is a view showing a state in which markers are integrally formed on the film of the present invention.
6 is a view showing a state in which markers are integrally formed in a trial network of the present invention.
7 is a view showing an actual developed state of the PCB of the present invention after exposure.
8 to 10 are test reports showing the results of EDS analysis of PCBs produced by the method of manufacturing a printed circuit board of the present invention.
11 is a photograph showing a result of analyzing a PCB generated through a general printed circuit board manufacturing method through EDS.
FIG. 12 is a photograph showing a result of analysis of a PCB generated through a general printed circuit board manufacturing method through an SEM. FIG.

이하, 본 발명에 의한 인쇄회로기판의 제조방법을 첨부된 도면을 통해 상세하게 설명한다. Hereinafter, a method of manufacturing a printed circuit board according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명에 의한 인쇄회로기판의 제조방법을 나타낸 블록도이고, 도 2는 본 발명의 마커와 패턴이 적용된 재판망용 필름을 이용하여 재판망에 적용하는 상태를 개략적으로 나타낸 구성도이며, 도 3은 본 발명의 마커와 패턴이 적용된 재판망을 이용하여 PCB에 인쇄하는 상태를 개략적으로 나타낸 구성도이고, 도 4는 본 발명의 PCB용 필름을 PCB에 정렬한 상태에서 노광하는 상태를 개략적으로 나타낸 구성도이며, 도 5는 본 발명의 필름에 마커가 일체로 형성된 상태를 나타낸 실시예이고, 도 6은 본 발명의 재판망에 마커가 일체로 형성된 상태를 나타낸 실시예이며, 도 7은 본 발명의 PCB에 노광 후 실제 현상된 상태를 나타낸 실시예이고, 도 8 내지 10은 본 발명의 인쇄회로기판의 제조방법을 통해 생산한 PCB를 EDS 분석한 결과를 나타낸 시험성적서이다. FIG. 1 is a block diagram illustrating a method of manufacturing a printed circuit board according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a schematic view illustrating a state in which the film is applied to a test network using a marker film and a patterned film according to the present invention. FIG. 3 is a schematic view showing a state of printing on a PCB using a marking and patterning network of the present invention. FIG. 4 is a schematic view showing a state in which the PCB film of the present invention is exposed on a PCB, FIG. 5 is an embodiment showing a state in which markers are integrally formed on the film of the present invention, FIG. 6 is an embodiment showing a state in which markers are integrally formed in a test grid according to the present invention, FIGS. 8 to 10 are test results showing the results of EDS analysis of PCBs produced by the method of manufacturing a printed circuit board of the present invention.

도 1 내지 10을 참조하면, 본 발명에 의한 인쇄회로기판의 제조방법 및 인쇄회로기판 제작용 필름은 먼저, PCB(40)에 패턴을 인쇄하기 위한 디자인을 결정하고, 패턴의 디자인이 결정된 상태에서 재판망(30)과 노광 작업시 사용할 복수의 필름(10)을 제작하는 과정(S10)을 한다.Referring to FIGS. 1 to 10, a method for manufacturing a printed circuit board and a film for manufacturing a printed circuit board according to the present invention first determines a design for printing a pattern on a PCB 40, A plurality of films 10 to be used in the exposure work and the screen 30 are formed (S10).

상기 디장인에는 패턴만이 포함되는 것은 아니며, 추후 필름을 이용하여 PCB에 노광작업을 할 시에 필름과 PCB의 위치를 정밀하게 맞추기 위한 마커(20)가 함 포함된다. The dicer includes not only the pattern but also a marker 20 for precisely aligning the film and the PCB when the PCB is exposed to light using a film.

상기 복수의 필름(10) 중 하나는 재판망(30)에 마커(20)와 패턴을 재판망(30)에 인쇄할 수 있도록 사용하고, 다른 하나는 노광에 의해 패턴이 PCB(40)에 적용되도록 할 때 사용한다.One of the plurality of films 10 is used to print the markers 20 and the pattern on the test grid 30 in the test grid 30 and the other is used to apply the pattern to the PCB 40 by exposure .

그리고 상기 복수의 필름(10) 중 재판망(30) 인쇄용으로 사용하는 필름(10)은 솔더패드 영역(부품이 납 땜되는 영역)을 초기에 설정할 때 PCB(40)에 형성되는 솔더패드의 크기보다 약 1mm ~ 5mm 확대하여 형성하는 것이 바람직하다.The film 10 used for printing the screen grid 30 among the plurality of films 10 may have a size of the solder pad formed on the PCB 40 when the solder pad area (area where the components are soldered) And more preferably about 1 mm to 5 mm.

또한, 상기 PCB(40) 노광용으로 사용하는 필름(10)의 패턴은 PCB(40)에 형성하는 패턴 크기와 동일한 크기로 형성한 상태에서 PCB(40)에 노광이 이루어지도록 하는 것이 바람직하다. It is preferable that the pattern of the film 10 used for exposure of the PCB 40 is formed in the same size as the pattern size of the PCB 40 so that the PCB 40 is exposed.

상기와 같이 재판망(30)용 필름(10)에 형성된 패턴이 PCB(40)에 형성되는 패턴의 크기가 더 크게 형성되므로 감광액의 소모를 현저하게 줄일 수 있는 것은 물론 경화된 감광액이 떨어지면서 솔더패드에 위치되어 부품의 실장을 방해하는 문제점을 해소하며, 정밀한 패턴이 PCB에 적용되는 장점이 있다.Since the patterns formed on the film 10 for the screen grid 30 have a larger pattern size formed on the PCB 40 as described above, the consumption of the photosensitive liquid can be remarkably reduced and, at the same time, Which is located on the pad, prevents the problem of obstructing the mounting of the component, and has an advantage that the precise pattern is applied to the PCB.

상기 복수의 필름(10)을 제작한 상태에서 PCB(40)에 감광액을 바르기 위한 재판망(30)을 형성하는데, 이때 복수의 필름(10) 중 솔더패드 부분이 1mm ~ 5mm 크게 형성한 패턴이 적용되도록 재판망(30)을 제작하는 과정(S20)을 행한다. A plurality of films 10 are formed on a PCB 40 to form a test net 30 for applying a sensitizing solution to the PCB 40. A plurality of films 10 having a solder pad portion of 1 mm to 5 mm (S20) is performed to fabricate the trial net 30 to be applied.

그리고 상기 재판망(30)을 통해 PCB(40)에 패턴의 형태대로 감광액이 도포되는데, 이때 재판망(30)과 PCB(40)의 위치를 정확하게 맞추기 위한 마커(20)가 함께 적용되는 과정(S30)을 행한다.The photoresist solution is applied to the PCB 40 in the form of a pattern through the test strip 30 so that the markers 20 for precisely matching the positions of the test strip 30 and the PCB 40 are applied together S30).

상기 마커(20)는 필름(10)의 패턴이 재판망(30)에 형성되도록 할 때 재판망(30)에 함께 적용되고, 재판망(30)의 패턴을 PCB(40)에 적용된 후 최종 필름을 이용하여 PCB에 노광을 시킬 시에 필름과 PCB의 위치가 정확하게 일치할 수 있도록 한다. The markers 20 are applied together with the grid 30 when the pattern of the film 10 is formed in the grid 30 and the pattern of the grid 30 is applied to the PCB 40, To precisely match the position of the film and the PCB when exposing the PCB to light.

또한, 상기 마커(20)는 쿠폰 또는 카드와 같은 별개의 형태로 제작할 수는 있으나, 필름(10)을 이용하여 PCB(40)에 노광을 하는 경우 패턴의 위치들이 정밀하게 맞춰져야 하므로 가급적 쿠폰 또는 카드 형태로 제작하여 사용하는 바람직하지 않다.The marker 20 may be formed in a separate form such as a coupon or a card. However, when the PCB 40 is exposed using the film 10, the positions of the patterns must be precisely aligned. It is not preferable to use it in the form of a film.

그리고 상기 마커(20)는 도 4 내지 7에 도시한 바와 같은 형태로만 형성되는 것은 아니며, 필름과 PCB를 정밀하게 맞출 수 있는 형상이라면 다양하게 실시할 수 있다. 예를 들어 원형에 사각이 형성된 모양, 원형 또는 사각에 십자형상이 형성된 모양, 육각에 사각이 적용된 모양 등과 같이 다양하게 실시할 수 있다. The markers 20 are not only formed as shown in FIGS. 4 to 7, but may be variously formed as long as they can precisely align the film and the PCB. For example, a circle may be formed in a square shape, a circle or a square may be formed in a cross shape, a hexagon may be applied in a square shape, and the like.

상기 마커(20)에 의해 재판망(30)과 PCB(40)의 위치를 정밀하게 맞출 수 있기 때문에 PCB(40)에 정밀한 패턴이 적용되어 경환된 감광액이 떨어져 솔더패드에 위치되는 문제점이 해소되어 불량률이 거의 '0'에 가까운 장점이 있다. Since the position of the grid 30 and the PCB 40 can be precisely aligned by the marker 20, a problem that the recycled photosensitive liquid is separated from the solder pad by applying a precise pattern to the PCB 40 is solved There is an advantage that the defect rate is close to '0'.

그리고 상기 PCB(40)에 형성되는 패턴은 노광할 때 사용하는 필름(10)의 패턴보다 약 1mm에서 약 5mm 정도 크게 형성되도록 감광액을 도포되는 것이 바람직하다. It is preferable that the pattern formed on the PCB 40 is coated with a photosensitive liquid so that the pattern is formed to be about 1 mm to about 5 mm larger than the pattern of the film 10 used for exposure.

상기 재판망(30)을 이용하여 PCB(40)에 감광액을 도포한 후 복수의 필름(10) 중 다른 필름(10)을 이용하여 감광액을 바른 PCB(40)에 필름(10)에 형성한 패턴이 적용되도록 자외선을 조상하여 PCB(40)에 패턴이 형성되도록 하는 과정(S40)을 행한다.A pattern formed on the film 10 on the PCB 40 to which the photosensitive liquid is applied using the other film 10 of the plurality of films 10 after applying the photosensitive liquid to the PCB 40 using the test net 30; (S40) is performed so that a pattern is formed on the PCB 40 so that ultraviolet rays are generated so as to apply the ultraviolet rays.

상기 PCB(40)에 노광을 할 때 적용되는 필름(10)은 실제로 PCB(40)에 최종적으로 적용되는 패턴의 크기와 동일하게 이루어지도록 하여 에칭시 감광액이 씻겨져 나가는 부분이 종래보다 현저하게 줄어 들기 때문에 감광액이 불필요하게 소모되는 것을 방지할 수 있다. The film 10 applied when the PCB 40 is exposed is actually made to have the same size as the pattern finally applied to the PCB 40 so that the portion of the photosensitive solution to be washed away during etching is significantly reduced Therefore, unnecessary consumption of the photosensitive liquid can be prevented.

또한, 경화된 감광액이 떨어지는 현상도 종래보다 현저하게 적기 때문에 솔더패드에 부품이 실장하지 못하는 문제점을 방지할 수 있다. In addition, since the phenomenon that the cured photosensitive liquid falls off is remarkably smaller than in the conventional art, the problem that components are not mounted on the solder pad can be prevented.

상기 과정(S40)에서 필름을 이용하여 PCB(40)에 노광을 한 후 PCB(40)의 불필요한 동박을 벗겨내기 위하여 연화제이철용액에 일정시간 담가 녹여내는 과정(S50)을 행한다.In step S40, the PCB 40 is exposed using a film, and a process of dissolving the untreated copper foil of the PCB 40 in the softened ferric solution for a predetermined time is performed (S50).

상기의 동박을 벗겨내는 과정은 통상의 기술을 가진 자가 쉽게 구현할 수 있는 것이므로 이에 대한 자세한 설명은 생략한다.The process of peeling the copper foil can be easily implemented by a person having ordinary skill in the art, so a detailed description thereof will be omitted.

그리고 상기 단계(S50)를 통해 불필요한 동박을 벗겨내어 최초 결정한 패턴이 적용된 PCB(40)를 건조하는 과정(S60)을 하여 최초 패턴의 디자인이 적용된 PCB(40)를 생산한다. Then, in step S50, unnecessary copper foil is peeled off to dry the PCB 40 to which the first determined pattern is applied (S60), and the PCB 40 to which the design of the original pattern is applied is produced.

상기 건조하는 과정은 인쇄회로기판(PCB)를 제조하는 과정에서 일반적으로 적용되는 기술이므로 이에 대한 자세한 설명은 생략한다.The drying process is generally applied to a process of manufacturing a printed circuit board (PCB), so a detailed description thereof will be omitted.

상기에서와 같이 본 발명은 복수의 필름(10)을 재판망(30)을 형성하기 위한 것과, PCB(40) 노광을 하기 위한 것을 각각 제작하고, 필름(10)에 형성하는 패턴의 굵기를 각기 다르게 형성하여 감광액을 도포할 때와 노광할 때 서로 다른 크기에 의해 PCB(40)에 패턴을 형성하도록 하므로 불필요하게 감광액이 소모되는 것을 방지한다. As described above, according to the present invention, a plurality of films 10 are formed for forming the test pattern 30 and for exposure of the PCB 40, respectively, and the thickness of the pattern formed on the film 10 is measured So that the pattern is formed on the PCB 40 by different sizes when the photosensitive liquid is applied and exposed, thereby preventing unnecessary consumption of the photosensitive liquid.

또한, 감광액이 경화된 상태에서 PCB(40)의 솔더패드 부분에 위치하여 부품이 실장되지 못하는 냉 땜 현상이 나올 확률을 종래보다 현저하게 낮게 발생하므로 경화된 감광액이 솔더패드(부품이 납땜되는 부분)에 경화된 감광액이 위치되어 부품의 실장을 방해하는 문제점을 해소할 수 있다. Further, since the probability of the cold soldering phenomenon that the component is not mounted when the photosensitive liquid is cured is located at the solder pad portion of the PCB 40, the probability of the occurrence of the cold soldering phenomenon is remarkably lower than that of the prior art, The problem that the cured photosensitive liquid is located and hinders the mounting of the parts can be solved.

다시 설명하면, EDS(Energy Dispersive Spectometry: 에너지분산형 분광분석법)는 시료에 전자빔을 주사하여 원자 내에 에너지를 받아 들뜬 상태가 되고, 여기된 전자가 안정화될 때 특정 X선을 방출하여 물질마다 특정 X선이 방출되는 고유 에너지가 틀리기 때문에 이 값으로 물질을 이루는 성분을 분석하여 도 11과 같은 결과를 얻었다. In other words, EDS (Energy Dispersive Spectrometry) is an excited state in which electrons are injected into an atom by injecting an electron beam into the sample. When excited electrons are stabilized, specific X-rays are emitted, Since the intrinsic energy emitted by the line is different, the results are shown in Fig.

도 11에 도시한 도면은 일반적인 PCB 제조과정을 통해 생산한 PCB에서 솔더링 부분에서 Dewetting이 확인되며, Au층 노출이 제품에서 특정 부분이 아닌 산발적으로 발생하는 문제점이 있었다.11, dewetting is confirmed in a soldering portion in a PCB produced through a general PCB manufacturing process, and there is a problem that exposure of the Au layer occurs sporadically rather than in a specific portion of the product.

또한, 일반적인 인쇄회로기판 제조과정 즉, 재판망을 이용한 PCB에 인쇄를 통해 PCB를 생산하는 과정 또는 마스터 필름을 이용해 PCB에 노광하는 과정을 통해 생산한 PCB에서 솔더링 부분을 확대한 결과 도 12와 같이 SEM(Scanning Electron Microscope)을 통해 PCB 표면에 불순물에 대한 원소 함유량을 체크한 결과 ENIG(Electroless Ni/immersion Au, 무전해 금도금)공정 이후 Au 표면에 유기 오염원이 잔조하여 Au 확산을 방해하여 Dewetting 불량이 발생한 결과를 확인할 수 있었다. In addition, as a result of enlarging the soldering portion in a PCB produced through a process of manufacturing a PCB by printing on a PCB using a test network, or a process of exposing a PCB using a master film, As a result of checking the content of impurities on the surface of the PCB through SEM (Scanning Electron Microscope), the organic contamination source on Au surface after ENIG (Electroless Ni / immersion Au) The results were confirmed.

그러나 본 발명은 인쇄회로기판의 제조방법을 통해 생산한 PCB에 대하여 EDS(Energy Dispersive Spectrometer) 성분분석하였다. However, the present invention analyzes the EDS (Energy Dispersive Spectrometer) component of a PCB produced through a method of manufacturing a printed circuit board.

상기 성분분석결과, 도 8 내지 10과 같은 결과를 도출할 수 있었다.As a result of the above-described component analysis, the results shown in FIGS. 8 to 10 were obtained.

다시 설명하면, PCB에서 패턴이 형성된 부분의 아레아(Area) 1, 2구간에 대한 EDS 분석 결과 도금 층인 Ni, 며 성분이 검출되는 것을 확인하였고, 산화같은 '0' 성분은 검출되지 않는 것을 확인할 수 있다. As a result, it was confirmed that the component of the plating layer Ni was detected as a result of the EDS analysis of the area 1 and 2 of the pattern formed part on the PCB, and it was confirmed that the '0' component such as oxidation was not detected .

즉, 도 11과 12와 같이, PCB(40) 표면에 불순물에 대한 원소 함유량을 체크한 결과 ENIG(Electroless Ni/immersion Au, 무전해 금도금)공정 이후 Au 표면에 유기 오염원이 잔존하지 않으므로 Au 확산을 방해하는 Dewetting 불량을 없앨 수 있어 PCB(40)의 불량이 0.1% 이하로 줄일 수 있게 되었다. That is, as shown in FIGS. 11 and 12, when the content of impurities was checked on the surface of the PCB 40, the organic contamination did not remain on the Au surface after ENIG (Electroless Ni / immersion Au) It is possible to eliminate the disturbing dewetting defect, and the defect of the PCB 40 can be reduced to less than 0.1%.

또한, 상기와 같은 제작공정에 의해 생산되는 인쇄회로기판은 기존의 노광에 에 의해 PCB(40)를 제작할 때 필름(10)과 PCB(40)의 위치를 핀으로 통해 정렬하기 때문에 정밀한 정렬이 이루어지지 못하므로 불량율 약 0.1~0.15% 이상이었으나, 본 발명은 마커(20)가 적용된 필름(10)을 이용하여 PCB(40)에 노광하는 경우 종래와 같이 핀을 통해 위치를 1차로 정렬하고, 다시 마커를 통해 2차로 필름과 PCB를 최종적으로 정렬하게 되므로 PCB의 불량율(0.1% 이하)을 현저하게 낮출 수 있는 장점이 있다. In addition, since the printed circuit board produced by the above-described manufacturing process aligns the positions of the film 10 and the PCB 40 through the pins when the PCB 40 is manufactured by conventional exposure, precise alignment is performed However, in the present invention, when exposure is performed on the PCB 40 using the film 10 to which the markers 20 are applied, the position is firstly aligned through the pins as in the conventional case, Since the second film and the PCB are finally aligned with each other through the markers, there is an advantage that the defective ratio (less than 0.1%) of the PCB can be remarkably lowered.

10: 필름
20: 마커
30: 재판망
40: PCB
10: Film
20: Marker
30: The trial network
40: PCB

Claims (7)

인쇄회로기판의 제조방법에 있어서,
PCB(40)에 적용할 패턴과 마커(20)의 패턴을 결정한 상태에서 패턴과 마커(20)가 함께 적용되는 재판망용 및 노광용 필름(10)을 각각 제작하는 과정(S10)과;
재판망용 필름(10)을 이용하여 패턴과 마커(20)가 재판망(30)에 적용되도록 재판망(30)을 제작하는 과정(S20)과;
패턴과 마커(20)가 적용된 재판망(30)을 이용하여 PCB(40)에 패턴의 형태로 감광액이 인쇄되도록 하는 과정(S30)과;
노광 작업용 필름(10)과 노광할 PCB(40)를 마커(20)를 이용해 패턴의 위치를 정확히 맞춘 상태에서 PCB(40)에 노광용 필름(10)에 형성한 패턴이 적용되도록 자외선을 조사하는 과정(S50)과;
자외선을 조사한 PCB(40)에 패턴이 형성되지 않은 동박을 염화제이철용액게 담가 녹여내는 과정(S60)과;
PCB(40)에 패턴이 형성되지 않은 부분의 동박을 벗겨낸 후 이를 건조하는 과정(S70);
을 포함하는 것을 특징으로 하는 인쇄회로기판의 제조방법.
A method of manufacturing a printed circuit board,
(S10) of fabricating a reticle and a photographic film (10) to which a pattern and a marker (20) are applied together while a pattern to be applied to the PCB (40) and a pattern of the marker (20) are determined;
(S20) of fabricating the test grid (30) so that the pattern and the markers (20) are applied to the test grid (30) using the test film (10);
A step (S30) of printing the sensitizing solution in the form of a pattern on the PCB 40 using the pattern and the grid 30 to which the marker 20 is applied;
A process of irradiating the PCB 40 with ultraviolet rays so that the pattern formed on the film for exposure 10 is applied in a state where the pattern of the exposure work film 10 and the PCB 40 to be exposed are precisely aligned using the markers 20 (S50);
A process (S60) of dissolving a copper chloride solution in which a pattern is not formed on a PCB 40 irradiated with ultraviolet rays, by immersing the solution in a ferric chloride solution;
A step (S70) of peeling the copper foil on the part where the pattern is not formed on the PCB 40 and drying it;
Wherein the step of forming the printed circuit board comprises the steps of:
제1항에 있어서,
상기 재판망용 필름(10)의 솔더패드 영역은,
PCB(40)에 형성되는 솔더패드의 영역보다 1mm ~ 5mm 크게 감광액이 도포되도록 형성하는 것을 특징으로 하는 인쇄회로기판의 제조방법.
The method according to claim 1,
The solder pad region of the film for protective film (10)
Is formed to have a thickness of 1 mm to 5 mm larger than a region of the solder pad formed on the PCB (40).
제1항에 있어서,
상기 PCB(40) 노광용 필름(40)은
PCB(40)에 형성되는 패턴의 크기와 동일한 크기로 형성하여 노광이 이루어지도록 하는 것을 특징으로 하는 인쇄회로기판의 제조방법.
The method according to claim 1,
The PCB (40) for exposure film (40)
Wherein the pattern is formed to have the same size as that of the pattern formed on the PCB (40) so that exposure is performed.
제1항에 있어서,
상기 마커(20)는
재판망용 및 노광용 필름(10)에 각각 형성하여 재판망용 필름(10)을 이용하여 제작되는 재판망(30) 및 PCB(40)에 각각 형성되도록 하고,
노광용 필름(10)과 PCB(40)의 위치를 조절하여 패턴의 위치가 정확하게 조절될 수 있도록 하는 것을 특징으로 하는 인쇄회로기판의 제조방법.
The method according to claim 1,
The marker (20)
The protective film 10 and the protective film 10 are respectively formed on the protective net 30 and the PCB 40 manufactured using the film for protective film 10,
Wherein the position of the pattern is adjusted by adjusting the position of the exposure film (10) and the PCB (40).
인쇄회로기판 제작용 필름에 있어서,
상기 필름(10)은
마커(20)와 패턴이 적용되는 재판망용 및 노광용 필름(10)으로 각각 구성하고,
재판망용 필름(10)은 재판망(30)에 마커(20)와 패턴이 적용되도록 하며,
노광 작업용 필름(10)에 의해 노광할 PCB(40)의 마커(20)의 위치를 정확하게 맞춰 패턴의 위치가 정확히 맞춰지도록 하여 노광용 필름(10)에 형성한 패턴이 PCB(40)에 적용되도록 하는 것을 특징으로 하는 인쇄회로기판 제작용 필름.
A film for producing a printed circuit board,
The film (10)
The marker 20 and the film for exposure and the film 10 to which the pattern is applied,
The film for protective film 10 allows the marker 20 and the pattern to be applied to the test net 30,
The positions of the markers 20 of the PCB 40 to be exposed are precisely adjusted by the exposure work film 10 so that the pattern formed on the exposure film 10 is applied to the PCB 40 Wherein the film is a film for producing a printed circuit board.
제5항에 있어서,
상기 재판망(30) 인쇄용 필름(10)은
솔더패드 영역을 초기에 설정한 디자인보다 1mm ~ 5mm 확대하여 형성하는 것을 특징으로 하는 인쇄회로기판 제작용 필름.
6. The method of claim 5,
The test strip (30) printing film (10)
Wherein the solder pad area is formed by enlarging the solder pad area by 1 mm to 5 mm from the initially set design.
제5항에 있어서,
상기 PCB(40) 노광용 필름(40)은
PCB(40)에 형성되는 패턴의 크기와 동일한 크기로 형성하여 노광이 이루어지도록 하는 것을 특징으로 하는 인쇄회로기판 제작용 필름.
6. The method of claim 5,
The PCB (40) for exposure film (40)
Wherein the pattern is formed to have the same size as that of the pattern formed on the PCB (40) so that exposure is performed.
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