KR101679259B1 - Heat treatment apparatus of energy saving type - Google Patents

Heat treatment apparatus of energy saving type Download PDF

Info

Publication number
KR101679259B1
KR101679259B1 KR1020140048943A KR20140048943A KR101679259B1 KR 101679259 B1 KR101679259 B1 KR 101679259B1 KR 1020140048943 A KR1020140048943 A KR 1020140048943A KR 20140048943 A KR20140048943 A KR 20140048943A KR 101679259 B1 KR101679259 B1 KR 101679259B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
heat treatment
heating
supplied
frame member
treatment apparatus
Prior art date
Application number
KR1020140048943A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20150122908A (en
Inventor
최재운
권용환
Original Assignee
(주) 예스티
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by (주) 예스티 filed Critical (주) 예스티
Priority to KR1020140048943A priority Critical patent/KR101679259B1/en
Publication of KR20150122908A publication Critical patent/KR20150122908A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101679259B1 publication Critical patent/KR101679259B1/en

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/38Treatment before imagewise removal, e.g. prebaking
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/30Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
    • H01L21/324Thermal treatment for modifying the properties of semiconductor bodies, e.g. annealing, sintering
    • GPHYSICS
    • G09EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
    • G09FDISPLAYING; ADVERTISING; SIGNS; LABELS OR NAME-PLATES; SEALS
    • G09F9/00Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements
    • G09F9/30Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements in which the desired character or characters are formed by combining individual elements

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Furnace Details (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

본 발명에 따른 에너지 절약형 열처리 장치는 열처리 장치의 전체 외관을 구성하는 프레임부재와, 상기 프레임부재의 일측에 형성되는 도어부재와, 상기 프레임부재의 내부에 배치되는 필터부재와, 상기 프레임부재 내부에서 열처리 대상물쪽으로 공기를 유입시키기 위한 블로우어부재와, 상기 열처리 대상물로 공급되는 공기를 가열하기 위한 가열부재와, 상기 가열부재로 공급되는 전력을 제어하기 위한 제어부를 포함하며, 상기 열처리 장치의 승온 영역에서는 상기 가열부재에 대해 미리 지정된 제 1 용량의 전력을 공급하며, 상기 열처리 장치의 온도 유지 영역에서는 상기 가열부재에 대해 상기 제 1 용량보다 작은 미리 지정된 제 2 용량의 전력을 공급하도록 제어되는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 의해, 엘시디 디스플레이패널에 대한 열처리 공정동안 소모되는 전체 에너지의 양을 감소시킬 수 있다.
또한, 디스플레이 패널의 전체 영역에 대해 균일하게 가열할 수 있다.
An energy-saving heat treatment apparatus according to the present invention comprises a frame member constituting the entire outer surface of a heat treatment apparatus, a door member formed on one side of the frame member, a filter member disposed inside the frame member, A heating member for heating the air to be supplied to the heat treatment object; and a control unit for controlling power supplied to the heating member, wherein the temperature of the heating member Is supplied with a first predetermined amount of power to the heating member and a predetermined second amount of power smaller than the first amount is supplied to the heating member in the temperature holding region of the heat treatment apparatus .
According to the present invention, the amount of total energy consumed during the heat treatment process for the LCD display panel can be reduced.
Further, it is possible to uniformly heat the entire area of the display panel.

Description

에너지 절약형 열처리 장치{HEAT TREATMENT APPARATUS OF ENERGY SAVING TYPE}HEAT TREATMENT APPARATUS OF ENERGY SAVING TYPE [0002]

본 발명은 열처리 장치에 관한 발명으로서, 보다 상세하게는 열처리를 위한 승온 영역과 온도 유지 영역에서 각각 다른 크기의 전력을 공급하도록 구성되며, 열처리장치로부터 배출되는 배기로부터 열을 회수하도록 구성되고, 챔버 내부에서 가열공기의 균일한 유동이 가능하도록 구성되는 에너지 절약형 열처리 장치에 관한 발명이다.The present invention relates to a heat treatment apparatus, and more particularly, to a heat treatment apparatus that is configured to supply power of different magnitudes in an elevated temperature region and a temperature maintained region for heat treatment and is configured to recover heat from exhaust discharged from the heat treatment apparatus, Wherein the heating air is uniformly flowed from the inside thereof.

최근 컴퓨터 또는 TV 와 같은 전기전자기기의 급속한 발달 및 보급에 따라 디스플레이 패널 기술 역시 비약적으로 발전하고 있다.2. Description of the Related Art [0002] Recently, display panel technology has been dramatically developed due to the rapid development and spread of electric and electronic devices such as a computer or a TV.

이러한 디스플레이 패널의 고해상도와 대형화가 급속히 진행되고 있는 오늘날의 실정에 비추어, 그 제조 장치가 담당하는 역할은 한층 더 중요시되고 있다.In view of the fact that such a display panel is rapidly increasing in size and high resolution, the role of the manufacturing apparatus is becoming more important.

일반적으로, 디스플레이 패널을 제조하기 위해서는 패널에 패턴을 형성하기 위해 포토레지스터를 도포하고, 상기 포토레지스터 막의 경화를 위해 디스플레이 패널을 가열하게 된다.Generally, in order to manufacture a display panel, a photoresist is applied to form a pattern on a panel, and the display panel is heated to cure the photoresist film.

이때, 상기와 같이 디스플레이 패널에 패턴을 정밀하게 형성하기 위해서는 디스플레이 패널의 전체 영역에 대해 균일하게 온도를 상승시키는 작업이 요구된다.At this time, in order to precisely form the pattern on the display panel as described above, it is required to raise the temperature uniformly over the entire area of the display panel.

따라서, 히터에 전기에너지를 공급하여 상기와 같이 디스플레이 패널의 온도를 상승시키는 과정동안 많은 양의 전력 에너지가 소모된다. Therefore, a large amount of power energy is consumed during the process of supplying electric energy to the heater and raising the temperature of the display panel as described above.

한편, 만약 디스플레이 패널의 전체 영역에 대해 균일한 온도 상승이 이루어지지 않을 경우에는 패턴에 온도 편차가 발생되거나, 디스플레이 패널 자체에 발생되는 열적 불균형으로 인해 패널의 국부적 수축 또는 팽창이 발생되며, 이러한 열적 불균형은 디스플레이 패널에 균일한 패턴을 형성하는 데에 장애가 되는 요인이 된다.On the other hand, if the temperature is not uniformly raised over the entire area of the display panel, a temperature variation may occur in the pattern, or the panel may be locally shrunk or expanded due to thermal imbalance generated in the display panel itself. The imbalance is an obstacle to forming a uniform pattern on the display panel.

본 발명의 목적은, 엘시디 디스플레이패널에 대한 열처리 공정동안 소모되는 전체 에너지의 양을 감소시키도록 구성되는 에너지 절약형 열처리 장치를 제공하는 것이다.It is an object of the present invention to provide an energy-saving heat treatment apparatus configured to reduce an amount of total energy consumed during a heat treatment process for an LCD display panel.

본 발명의 또 다른 목적은, 디스플레이 패널의 전체 영역에 대해 균일한 온도 상승이 가능하도록 구성되는 에너지 절약형 열처리 장치를 제공하는 것이다. It is still another object of the present invention to provide an energy-saving heat treatment apparatus that is capable of raising a uniform temperature over the entire area of a display panel.

본 발명의 또 다른 목적은, 열처리 공정 수율을 향상시킬 수 있도록 구성되는 에너지 절약형 열처리 장치를 제공하는 것이다.It is still another object of the present invention to provide an energy-saving heat treatment apparatus configured to improve the yield of a heat treatment process.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 에너지 절약형 열처리 장치는 열처리 장치의 전체 외관을 구성하는 프레임부재와, 상기 프레임부재의 일측에 형성되는 도어부재와, 상기 프레임부재의 내부에 배치되는 필터부재와, 상기 프레임부재 내부에서 열처리 대상물쪽으로 공기를 유입시키기 위한 블로우어부재와, 상기 열처리 대상물로 공급되는 공기를 가열하기 위한 가열부재와, 상기 가열부재로 공급되는 전력을 제어하기 위한 제어부를 포함하며, 상기 열처리 장치의 승온 영역에서는 상기 가열부재에 대해 미리 지정된 제 1 용량의 전력을 공급하며, 상기 열처리 장치의 온도 유지 영역에서는 상기 가열부재에 대해 상기 제 1 용량보다 작은 미리 지정된 제 2 용량의 전력을 공급하도록 제어되는 것을 특징으로 한다.According to an aspect of the present invention, there is provided an energy-saving heat treatment apparatus comprising a frame member constituting an outer appearance of an entire heat treatment apparatus, a door member formed on one side of the frame member, a filter member disposed inside the frame member, A blower member for blowing air into the heat treatment object in the frame member, a heating member for heating the air supplied to the heat treatment object, and a control unit for controlling power supplied to the heating member, Wherein a power of a first predetermined capacity is supplied to the heating member in a temperature rising region of the heat treatment apparatus and a power of a predetermined second capacity smaller than the first capacity is supplied to the heating member in a temperature holding region of the heat treatment apparatus To be supplied to the control unit.

여기서, 상기 가열부재는 판상의 베이스부재와 상기 베이스부재를 가로질러 배치되는 복수 개의 가열부를 포함할 수 있다.Here, the heating member may include a plate-like base member and a plurality of heating portions disposed across the base member.

바람직하게는, 상기 프레임부재 내부로 공급되는 공기와 상기 프레임부재로부터 배출되는 공기 사이의 열교환을 위한 열교환부재를 포함한다.Preferably, the heat exchanger includes a heat exchange member for heat exchange between air supplied into the frame member and air discharged from the frame member.

또한, 상기 프레임부재 내부에서 열처리 대상물이 적재되는 부분을 기준으로 상기 필터부재의 반대편에는 팬이 설치될 수 있다.In addition, a fan may be installed on the opposite side of the filter member with respect to a portion where the object to be heat-treated is loaded in the frame member.

바람직하게는, 상기 프레임부재 내부에서 상기 열처리 대상물을 지지하기 위한 지지부재는 한쌍 설치된다.Preferably, a pair of support members for supporting the object to be heat-treated in the frame member is provided.

여기서, 상기 제 2 전력용량은 상기 제 1 전력용량의 60% 내지 70% 일 수 있다.Here, the second power capacity may be 60% to 70% of the first power capacity.

바람직하게는, 상기 열처리 장치의 승온 영역에서는 상기 복수 개의 가열부 전체에 전력을 공급하며, 상기 열처리 장치의 온도 유지 영역에서는 상기 복수 개의 가열부 중에서 일부의 가열부에만 전력을 공급하도록 구성된다.Preferably, electric power is supplied to the entire plurality of heating units in an elevated temperature region of the heat treatment apparatus, and power is supplied only to a part of the plurality of heating units in a temperature holding region of the heat treatment apparatus.

본 발명에 의해, 엘시디 디스플레이패널에 대한 열처리 공정동안 소모되는 전체 에너지의 양을 감소시킬 수 있다.According to the present invention, the amount of total energy consumed during the heat treatment process for the LCD display panel can be reduced.

또한, 디스플레이 패널의 전체 영역에 대해 균일하게 가열할 수 있다.Further, it is possible to uniformly heat the entire area of the display panel.

또한, 디스플레이 패널의 열처리 공정 수율을 향상시킬 수 있다.Further, the yield of the heat treatment process of the display panel can be improved.

첨부의 하기 도면들은, 발명의 상세한 설명과 함께 본 발명의 기술적 사상을 이해시키기 위한 것이므로, 본 발명은 하기 도면에 도시된 사항에 한정 해석되어서는 아니 된다.
도 1 은 본 발명에 따른 에너지 절약형 열처리 장치의 외관 사시도이며,
도 2 는 상기 열처리 장치의 측단면도이며,
도 3 은 상기 열처리장치 내에 설치되는 지지부재의 정면도이며,
도 4 는 열처리 공정동안 공급되는 전력량을 도시한 그래프이며,
도 5 는 열처리 공정동안 공급되는 전력량을 도시한 또 다른 그래프이다.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The accompanying drawings, which are included to provide a further understanding of the invention and are incorporated in and constitute a part of this application, illustrate embodiments of the invention and, together with the description, serve to explain the principles of the invention.
1 is an external perspective view of an energy-saving heat treatment apparatus according to the present invention,
2 is a side cross-sectional view of the heat treatment apparatus,
3 is a front view of a support member installed in the heat treatment apparatus,
4 is a graph showing the amount of power supplied during the heat treatment process,
5 is another graph showing the amount of power supplied during the heat treatment process.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 구성을 상세히 설명하기로 한다. Hereinafter, the configuration of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

이에 앞서, 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어는 사전적인 의미로 한정 해석되어서는 아니되며, 발명자는 자신의 발명을 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절히 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여, 본 발명의 기술적 사상에 부합되는 의미와 개념으로 해석되어야 한다.Prior to this, the terms used in the specification and claims should not be construed in a dictionary sense, and the inventor may, on the principle that the concept of a term can be properly defined in order to explain its invention in the best way And should be construed in light of the meanings and concepts consistent with the technical idea of the present invention.

따라서, 본 명세서에 기재된 실시예 및 도면에 도시된 구성은 본 발명의 바람직한 실시예에 불과할 뿐이고, 본 발명의 기술적 사상을 모두 표현하는 것은 아니므로, 본 출원 시점에 있어 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예들이 존재할 수 있음을 이해하여야 한다.Therefore, the embodiments shown in the present specification and the drawings are only exemplary embodiments of the present invention, and not all of the technical ideas of the present invention are presented. Therefore, various equivalents It should be understood that water and variations may exist.

도 1 은 본 발명에 따른 에너지 절약형 열처리 장치의 외관 사시도이며, 도 2 는 상기 열처리 장치의 측단면도이며, 도 3 은 상기 열처리장치 내에 설치되는 지지부재의 정면도이며, 도 4 는 열처리 공정동안 공급되는 전력량을 도시한 그래프이며, 도 5 는 열처리 공정동안 공급되는 전력량을 도시한 또 다른 그래프이다.2 is a side sectional view of the heat treatment apparatus, FIG. 3 is a front view of a support member installed in the heat treatment apparatus, and FIG. 4 is a cross-sectional view of the heat- FIG. 5 is another graph showing the amount of power supplied during the heat treatment process. FIG.

도 1 내지 3 을 참조하면, 본 발명에 따른 에너지 절약형 열처리 장치는 열처리 장치의 전체 외관을 구성하는 프레임부재(10)와, 상기 프레임부재(10)의 일측에 형성되는 도어부재(20)와, 상기 프레임부재(10)의 내부에 배치되는 필터부재(30)와, 상기 프레임부재(10) 내부에서 열처리 대상물(100)쪽으로 공기를 유입시키기 위한 블로우어부재(40)와, 상기 열처리 대상물(100)로 공급되는 공기를 가열하기 위한 가열부재(50)와, 상기 가열부재(50)로 공급되는 전력을 제어하기 위한 제어부를 포함하며, 상기 열처리 장치의 승온 영역에서는 상기 가열부재(50)에 대해 미리 지정된 제 1 용량의 전력을 공급하며, 상기 열처리 장치의 온도 유지 영역에서는 상기 가열부재(50)에 대해 상기 제 1 용량보다 작은 미리 지정된 제 2 용량의 전력을 공급하도록 제어되는 것을 특징으로 한다.1 to 3, an energy-saving heat treatment apparatus according to the present invention includes a frame member 10 constituting an overall appearance of a heat treatment apparatus, a door member 20 formed on one side of the frame member 10, A filter member 30 disposed inside the frame member 10; a blower member 40 for introducing air into the heat treatment object 100 in the frame member 10; (50) for heating the air supplied to the heating member (50), and a control unit for controlling power supplied to the heating member (50), wherein the heating member And a power of a predetermined second capacity smaller than the first capacity is supplied to the heating member (50) in a temperature holding region of the heat treatment apparatus. The.

상기 프레임부재(10)는 본 발명에 따른 온도 조절 장치의 외관을 형성하면서 내부에 디스플레이 패널을 수용하기 위한 구성으로서, 전체적으로 육면체 형상으로 형성된다.The frame member 10 is formed in a hexahedral shape as a whole for accommodating the display panel therein while forming an outer appearance of the temperature control device according to the present invention.

상기 프레임부재(10)는 금속재의 선재와 금속 패널을 이용하여 구성되며, 일측에는 본 발명에 따른 온도 조절 장치의 각종 구성들을 제어하기 위한 제어스위치들이 설치된다.The frame member 10 is made of a metal wire and a metal panel. On one side, control switches for controlling various components of the temperature control device according to the present invention are installed.

상기 프레임부재(10)의 일측에는 도어부재(20)가 배치되어, 상기 도어부재(20)를 통해 디스플레이 패널을 상기 프레임부재(10) 내부로 투입 및 배출할 수 있도록 구성된다.A door member 20 is disposed on one side of the frame member 10 so that the display panel can be inserted into and discharged from the frame member 10 through the door member 20.

상기 프레임부재(10) 내부에는 필터부재(30)가 프레임부재(10)의 높이 방향으로 배치되어, 열처리 챔버(100) 내의 열처리대상물(200) 쪽으로 유입되는 공기에 포함된 불순물을 포집하도록 구성된다.A filter member 30 is disposed in the frame member 10 in the height direction of the frame member 10 to capture impurities contained in the air flowing into the heat treatment chamber 100 in the heat treatment chamber 100 .

상기 필터부재(30)는 울파필터(ULPA Filter)로 구성되며, 상기 울파필터는 0.1 내지 0.17 ㎛ 입자에 대해 99.9995 % 이상을 포집할 수 있는 초고성능 필터로서, 주로 클래스 1 내지 100 이하의 클린 룸에 적용되는 필터이다.The filter member 30 is composed of an ULPA filter. The ULPA filter is an ultra high performance filter capable of collecting 99.9995% or more with respect to 0.1 to 0.17 탆 particles. The filter member 30 mainly comprises a clean room of class 1 to 100 .

상기 필터부재(30)로는 상기 가열부재(50)에 의해 가열된 기체가 상기 블로우어부재(40)를 통한 강제 유동에 의해 공급되며, 그리하여 상기 프레임부재(10) 내부에서 순환되는 기체가 상기 필터부재(30)를 통과하도록 함으로써, 상기 프레임부재(10) 내부는 청정 상태로 유지될 수 있다.The gas heated by the heating member 50 is supplied to the filter member 30 by the forced flow through the blower member 40 so that the gas circulated inside the frame member 10 flows into the filter member 30, The inside of the frame member 10 can be maintained in a clean state.

한편, 상기 필터부재(30)의 하부에는 상기 프레임부재(10) 내부에서 공기를순환시키기 위한 블로우어부재(40)가 배치된다.Meanwhile, a blower member 40 for circulating air inside the frame member 10 is disposed below the filter member 30.

상기 블로우어부재(40)의 측부에는 상기 열처리대상물(200) 쪽으로 공급되는 기체를 가열하기 위한 가열부재(50)가 배치된다.A heating member 50 for heating the gas supplied to the heat treatment object 200 is disposed on the side of the blower member 40.

상기 가열부재(50)는 판상의 베이스부재(50)와 상기 베이스부재(50)를 가로질러 배치되는 봉 형상의 복수 개의 가열부(54)를 포함하여 구성된다.The heating member 50 includes a plate-shaped base member 50 and a plurality of rod-like heating portions 54 disposed across the base member 50.

상기 베이스부재(50)는 스테인레스 스틸 재질로 구성되며, 상기 가열부(54)는 전력 공급에 의해 열을 발생시키는 가열코일로 구성될 수 있다.The base member 50 may be made of stainless steel, and the heating unit 54 may be a heating coil that generates heat by supplying electric power.

상기 가열부재(50)로 공급되는 전력은 상기 제어부에 의해 제어되며, 이때 도 4 에 도시되는 바와 같이, 열처리대상물(100)이 적재되는 열처리챔버(100) 내부의 온도를 상승시키는 동안에는 상기 가열부재(50)를 구동하기 위한 전력용량의 100 % 를 공급한다.As shown in FIG. 4, while the temperature of the interior of the heat treatment chamber 100 in which the heat treatment object 100 is loaded is raised, the power supplied to the heating member 50 is controlled by the control unit. And supplies 100% of the electric power capacity for driving the electric motor 50.

예를 들어, 상기 가열부재(50)에 9 개의 가열부(54)가 포함되는 경우, 열처리 챔버(100) 내부의 온도를 상승시키는 동안(R)에는 전체 9 개의 가열부(54) 모두에 전력을 공급하도록 구성된다.For example, when nine heating units 54 are included in the heating member 50, all the nine heating units 54 are supplied with power (R) during the temperature rise in the heat treatment chamber 100, .

그리하여, 보다 빠른 시간 내에 상기 열처리 챔버(100) 내부의 온도를 디스플레이 패널의 열처리에 적절한 온도로 상승시킬 수 있도록 구성됨으로써, 열처리 공정의 수율을 향상시키도록 구성된다.Thus, the temperature in the heat treatment chamber 100 can be raised to a temperature suitable for the heat treatment of the display panel within a shorter time, thereby improving the yield of the heat treatment process.

이후, 열처리 챔버(100) 내부의 온도가 예를 들어 90도와 같이 소정의 목표 온도에 도달할 경우에는, 상기 온도를 상승시키는 동안 공급된 전력용량의 60 % 내지 70 % 를 공급하독록 제어된다.Thereafter, when the temperature inside the heat treatment chamber 100 reaches a predetermined target temperature, for example, 90 degrees, 60% to 70% of the power capacity supplied during the temperature rise is controlled to be controlled.

즉, 일단 상기 열처리 챔버(100) 내부의 온도를 상승시켜 열처리 공정에 필요한 온도로 상승시킨 상태에서, 상기 열처리 챔버(100) 내부의 온도를 균일하게 유지시키는 동안(K)에는 전체 9 개의 가열부(54) 중에 6개에만 전력을 공급하여 열처리 챔버(100) 내부의 온도를 일정하게 유지할 수 있도록 구성된다.That is, once the temperature inside the heat treatment chamber 100 is raised to a temperature necessary for the heat treatment process, while maintaining the temperature inside the heat treatment chamber 100 uniformly, Power is supplied to only six of the heat treatment chambers 54 to maintain a constant temperature in the heat treatment chamber 100.

이후, 열처리 공정이 종료되고 열처리 챔버 내부의 온도를 강하시키는 동안(C)에는 상기 가열부재(50)에 대한 전력 공급을 중단한다. Thereafter, while the heat treatment process is terminated and the temperature inside the heat treatment chamber is lowered (C), the power supply to the heating member 50 is stopped.

또한, 도 5 에 도시되는 바와 같이, 열처리 챔버 내부의 온도를 상승시키는 승온구간(R)과 챔버 내부의 온도를 유지하는 온도유지구간(K)이 반복되는 경우에는, 상기 승온구간(R)에서는 전체 가열부(54)에 전력을 공급하고, 온도유지구간(K)에서는 일부 가열부(54)에만 전력을 공급하도록 구성된다.5, when the temperature raising section R for raising the temperature inside the heat treatment chamber and the temperature holding section K for maintaining the temperature inside the chamber are repeated, in the temperature raising section R, Power is supplied to the entire heating section 54, and in the temperature holding section K, power is supplied to only a part of the heating section 54.

한편, 상기 프레임부재(10)의 일측에는 상기 프레임부재(10) 내부로 공기를 유입하기 위한 유입부(12)와 배기부(14)가 설치되며, 상기 유입부(12)와 배기부(14)에는 공기 유동을 위한 유동관(13, 15, 16, 17)이 연결된다.An inlet 12 and an outlet 14 for introducing air into the frame member 10 are installed at one side of the frame member 10 and the inlet 12 and the outlet 14 Are connected to flow tubes 13, 15, 16 and 17 for air flow.

즉, 상기 유입부(12)에는 외부 공기를 유입하기 위한 유입관(13, 16)이 연결되며, 상기 배기부(14)에는 상기 열처리 챔버 내부의 기체를 배출하기 위한 배기관(15, 17)이 연결된다.That is, inlet pipes 13 and 16 for introducing outside air are connected to the inlet 12, and exhaust pipes 15 and 17 for exhausting the gas inside the heat treatment chamber are connected to the exhaust unit 14 .

또한, 상기 유입관(13, 16)과 배기관(15, 17)이 교차되는 부분에는 라디에이터 또는 이외의 열교환 장치를 포함하여 구성되는 열교환부재(70)가 설치된다.A heat exchange member 70 including a radiator or other heat exchange device is installed at a portion where the inlet pipes 13 and 16 and the exhaust pipes 15 and 17 intersect.

그리하여, 열처리 챔버(100)로부터 배출되는 배기 기체의 온도를 이용하여 상기 열처리 챔버(100)로 유입되는 기체를 일정 정도 예열할 수 있도록 구성된다.Thus, the temperature of the exhaust gas discharged from the heat treatment chamber 100 is used to preheat the gas flowing into the heat treatment chamber 100 to a certain degree.

그런데, 만약 상기 열처리 챔버(100) 내에 공급되는 공정가스가 CF 가스 등의 유독성 가스일 경우에는 상기 배출되는 배기가스를 이용하여 상기 유입관(13, 16)을 통해 유입되는 기체를 예열하지 않고, 즉시 배출되도록 구성될 수 있다.However, if the process gas supplied into the heat treatment chamber 100 is a toxic gas such as CF gas, the gas introduced through the inlet pipes 13 and 16 is not preheated by using the exhaust gas, It can be configured to be discharged immediately.

그리하여, 상기 유독성 공정가스가 즉시 포집 시설 또는 장치로 향하도록 하여 누설의 가능성을 최소화하도록 한다.Thus, the toxic process gas is immediately directed to the collection facility or device to minimize the likelihood of leakage.

한편, 상기 프레임부재(10) 내부에서 열처리 대상물(100)이 적재되는 부분을 기준으로 상기 필터부재(30)의 반대편에는 팬(80)이 설치된다.On the other hand, a fan 80 is installed on the opposite side of the filter member 30 with respect to a portion where the heat treatment object 100 is loaded in the frame member 10.

상기 가열부재(50)에 의해 가열된 기체는 상기 블로우어부재(40)에 의해 강제 유동되어 상기 열처리 챔버(100) 내부로 공급되지만, 가열된 기체가 울파필터로 구성되는 상기 필터부재(30)를 통과하는 경우 기체의 유동 속도가 현저히 감소된다.The gas heated by the heating member 50 is forcibly flown by the blower member 40 and is supplied into the heat treatment chamber 100. The heated gas is supplied to the filter member 30, The flow velocity of the gas is significantly reduced.

또한, 가열된 기체는 위쪽으로 부양되는 성질이 있으므로, 열처리 챔버(100) 내부의 온도를 상승시키는 초기 승온영역(R)에서 상기 필터부재(30)를 통과한 기체가 비산되므로, 이러한 현상은 열처리대상물(100)의 온도를 균일하게 상승시키는 데에 장애가 된다.In addition, since the heated gas is floating upward, gas passing through the filter member 30 is scattered in the initial temperature rising region R that raises the temperature inside the heat treatment chamber 100, Which hinders uniformly raising the temperature of the object 100.

따라서, 상기 필터부재(30)의 반대편에는 프레임부재(10)의 높이 방향을 따라 팬(80)을 설치하여, 상기 필터부재(30)를 통과하는 기체의 유동 속도가 저하되는 것을 보상할 수 있도록, 즉 상기 필터부재(30)를 통과한 기체를 상기 팬(80) 방향으로 강제 유동시킴으로써, 상기 필터부재(30)를 통과한 가열된 기체가 상방으로 비산되지 않고 상기 팬(80)쪽으로 균일하게 유동되도록 구성된다.A fan 80 is installed on the opposite side of the filter member 30 along the height direction of the frame member 10 so as to compensate for a decrease in the flow velocity of the gas passing through the filter member 30 That is, the gas passing through the filter member 30 is forced to flow in the direction of the fan 80 so that the heated gas passing through the filter member 30 is uniformly distributed toward the fan 80 Respectively.

한편, 상기 열처리 챔버(100) 내부에서 상기 열처리 대상물(200)을 지지하기 위한 랙 즉, 지지부재(102, 104)는 한쌍 설치된다.A pair of racks, that is, support members 102 and 104, for supporting the object 200 in the heat treatment chamber 100 are installed.

그리하여, 보다 많은 숫자의 열처리 대상물들을 상기 지지부재(102, 104)에 거치시킨 상태에서 열처리 공정을 수행함으로써, 공정 수율을 향상시킬 수 있다.
Thus, by performing a heat treatment process in a state where a greater number of heat treatment objects are placed on the support members 102 and 104, the process yield can be improved.

이상, 본 발명은 비록 한정된 실시예와 도면에 의해 설명되었으나, 본 발명의 기술적 사상은 이러한 것에 한정되지 않으며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해, 본 발명의 기술적 사상과 하기 될 특허청구범위의 균등범위 내에서 다양한 수정 및 변형 실시가 가능할 것이다.While the present invention has been described with reference to the exemplary embodiments and the drawings, it is to be understood that the technical scope of the present invention is not limited to these embodiments and that various changes and modifications will be apparent to those skilled in the art. Various modifications and variations may be made without departing from the scope of the appended claims.

10: 프레임부재
12: 유입부
14: 배기부
20: 도어부재
30: 필터부재
40: 블로우어부재
50: 가열부재
80: 팬
100: 열처리 챔버
200: 열처리 대상물
10: frame member
12:
14:
20: Door member
30: Filter element
40: Blower member
50: heating member
80: Fans
100: heat treatment chamber
200: object to be heat treated

Claims (7)

열처리 장치의 전체 외관을 구성하는 프레임부재와
상기 프레임부재의 일측에 형성되는 도어부재와;
상기 프레임부재의 내부에 배치되는 필터부재와;
상기 프레임부재 내부에서 열처리 대상물쪽으로 공기를 유입시키기 위한 블로우어부재와;
상기 열처리 대상물로 공급되는 공기를 가열하기 위한 가열부재와;
열처리 대상물을 지지하기 위한 지지부재와;
상기 프레임부재 내부로 공급되는 공기와 상기 프레임부재로부터 배출되는 공기 사이의 열교환을 위한 열교환부재와;
상기 가열부재로 공급되는 전력을 제어하기 위한 제어부를 포함하며,
상기 열처리 장치의 승온 영역에서는 상기 가열부재에 대해 미리 지정된 제 1 용량의 전력을 공급하며,
상기 열처리 장치의 온도 유지 영역에서는 상기 가열부재에 대해 상기 제 1 용량보다 작은 미리 지정된 제 2 용량의 전력을 공급하도록 제어되며,
열처리 대상물은 상기 지지부재의 높이 방향을 따라 복수 층 배치되며,
상기 가열부재는 판상의 베이스부재와 상기 베이스부재를 가로질러 배치되는 봉 형상의 복수 개의 가열부를 포함하고,
상기 가열부재와 블로우어부재는 상기 지지부재의 하부에 배치되며,
상기 필터부재는 상기 지지부재를 대면하여 상기 프레임부재의 높이 방향으로 배치되되,
상기 지지부재를 대면하여 상기 필터부재의 반대편에는 팬이 상기 프레임부재의 높이 방향을 따라 설치되고,
상기 열처리 장치의 승온 영역에서는 상기 복수 개의 가열부 전체에 전력을 공급하며,
상기 열처리 장치의 온도 유지 영역에서는 상기 복수 개의 가열부 중에서 일부의 가열부에만 전력을 공급하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 에너지 절약형 열처리 장치.
A frame member constituting the entire outer surface of the heat treatment apparatus
A door member formed on one side of the frame member;
A filter member disposed inside the frame member;
A blower member for introducing air into the heat treatment object in the frame member;
A heating member for heating the air supplied to the object to be heated;
A support member for supporting a heat treatment object;
A heat exchange member for heat exchange between air supplied into the frame member and air discharged from the frame member;
And a control unit for controlling power supplied to the heating member,
A first predetermined amount of electric power is supplied to the heating member in an elevated temperature region of the heat treatment apparatus,
In the temperature holding region of the heat treatment apparatus, to supply power of a second predetermined capacity smaller than the first capacity to the heating member,
The heat treatment object is disposed in a plurality of layers along the height direction of the support member,
Wherein the heating member includes a plate-shaped base member and a plurality of bar-shaped heating portions disposed across the base member,
Wherein the heating member and the blower member are disposed below the support member,
Wherein the filter member is disposed in a height direction of the frame member so as to face the support member,
A fan is provided on the opposite side of the filter member so as to face the support member along the height direction of the frame member,
Wherein power is supplied to all of the plurality of heating units in an elevated temperature region of the heat treatment apparatus,
Wherein in the temperature holding region of the heat treatment apparatus, power is supplied only to a part of the plurality of heating sections.
제 1 항에 있어서,
상기 프레임부재 내부에서 상기 열처리 대상물을 지지하기 위한 지지부재는 한쌍 설치되는 것을 특징으로 하는 에너지 절약형 열처리 장치.
The method according to claim 1,
And a pair of supporting members for supporting the object to be heat-treated is installed inside the frame member.
제 2 항에 있어서,
상기 제 2 전력용량은 상기 제 1 전력용량의 60% 내지 70% 인 것을 특징으로 하는 에너지 절약형 열처리 장치.
3. The method of claim 2,
Wherein the second power capacity is 60% to 70% of the first power capacity.
삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete
KR1020140048943A 2014-04-23 2014-04-23 Heat treatment apparatus of energy saving type KR101679259B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020140048943A KR101679259B1 (en) 2014-04-23 2014-04-23 Heat treatment apparatus of energy saving type

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020140048943A KR101679259B1 (en) 2014-04-23 2014-04-23 Heat treatment apparatus of energy saving type

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20150122908A KR20150122908A (en) 2015-11-03
KR101679259B1 true KR101679259B1 (en) 2016-11-28

Family

ID=54599050

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020140048943A KR101679259B1 (en) 2014-04-23 2014-04-23 Heat treatment apparatus of energy saving type

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101679259B1 (en)

Also Published As

Publication number Publication date
KR20150122908A (en) 2015-11-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6388041B2 (en) Heating apparatus and heating method
CN105723496A (en) Substrate treatment device and method
US9095920B2 (en) Preheat module, preheat zone and preheat section using the same
JP5925550B2 (en) Heating device
US20140193762A1 (en) Heat treatment furnace
KR100935475B1 (en) Thermal treatment device
KR101679259B1 (en) Heat treatment apparatus of energy saving type
KR100346360B1 (en) Thermal treatment unit for heating plate type work under windless condition of one surface
KR102175349B1 (en) Heat Treatment Apparatus for Manufacturing Display Panel
JP4594400B2 (en) Plate cooling device and heat treatment system
JP2003332727A (en) Heat shielding member and reflow apparatus
CN110255874A (en) Glass substrate cutting machine
CN109830452B (en) Substrate baking device and substrate baking method
KR20150033997A (en) Electric air heater
KR100346358B1 (en) Thermal treatment unit for windless heating of plate type work
JP3910206B2 (en) Multistage heating system for large substrates
JPH11118356A (en) Heat treatment device for heating flat plate type work uniformly by changing air speed
JP2018048805A (en) Heating device
JP3877750B2 (en) Multistage heating system for large substrates
KR20140000776A (en) Heat treatment apparatus for glass substrate
KR101613717B1 (en) Processing chamber for semiconductor component
KR101676756B1 (en) Heat treatment apparatus comprising air volume adjusing member of movable type
JP6168325B2 (en) Heating device
CN206944602U (en) Acceleration drying unit based on fan
JPH06275666A (en) Container type heat-treatment device

Legal Events

Date Code Title Description
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
AMND Amendment
X701 Decision to grant (after re-examination)
GRNT Written decision to grant