KR101676756B1 - Heat treatment apparatus comprising air volume adjusing member of movable type - Google Patents
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- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 title claims abstract description 49
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 4
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 17
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 description 7
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 2
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- G03F7/38—Treatment before imagewise removal, e.g. prebaking
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- H—ELECTRICITY
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- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
- H01L21/324—Thermal treatment for modifying the properties of semiconductor bodies, e.g. annealing, sintering
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- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Furnace Details (AREA)
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Abstract
본 발명에 따른 가동형 풍량 조절부재를 포함하는 열처리 장치는 장치의 전체 외관을 구성하는 챔버부재와, 상기 챔버부재의 일측에 형성되는 도어부재와, 상기 챔버부재의 내부에 배치되는 필터부재와, 상기 필터부재쪽으로 기체를 이송시키기 위한 블로우어부재와, 상기 필터부재에 인접하여 배치되는 풍량조절부재와, 상기 풍량조절부재의 전방에 배치되어 열처리 대상물을 지지하는 열처리물지지부재를 포함하며, 상기 풍량조절부재는 슬라이딩부재에 슬라이딩가능하게 배치된 상태에서 상기 챔버부재 외부로 돌출되는 방향으로 이동될 수 있도록 설치되는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 의해, 열처리 대상물로 공급되는 공기의 양을 조절하기 위한 풍량 조절부재가 열처리 챔버 외부로 인출됨으로써 풍량조절부재 구성의 변경이 용이하며, 구성의 변경을 위한 작업 시간을 획기적으로 단축시킬 수 있다.
또한, 풍량 조절부재를 통해 배출되는 공기의 양을 조절할 수 있도록 구성됨으로써, 디스플레이패널 전체 영역의 온도를 균일하게 상승시킬 수 있다.A heat treatment apparatus including a movable airflow control member according to the present invention includes a chamber member constituting an overall appearance of the apparatus, a door member formed at one side of the chamber member, a filter member disposed inside the chamber member, A blower member for feeding the gas toward the filter member, an air volume adjusting member disposed adjacent to the filter member, and a heat treatment member supporting member disposed in front of the air volume adjusting member for supporting the heat treatment object, And the air volume adjusting member is installed so as to be able to move in a direction protruding from the chamber member in a state where the air volume adjusting member is slidably disposed on the sliding member.
According to the present invention, since the air volume adjusting member for adjusting the amount of air supplied to the heat treatment object is drawn out of the heat treatment chamber, it is easy to change the configuration of the air volume adjusting member and the working time for changing the configuration can be remarkably shortened have.
In addition, since the amount of air discharged through the airflow control member can be adjusted, the temperature of the entire area of the display panel can be uniformly raised.
Description
본 발명은 디스플레이 패널의 열처리 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 열처리 대상물로 공급되는 공기의 양을 조절하기 위한 풍량 조절부재가 열처리 챔버 외부로 인출가능하도록 구성되는 가동형 풍량 조절부재를 포함하는 열처리 장치에 관한 발명이다.The present invention relates to a heat treatment apparatus for a display panel, and more particularly, to a heat treatment apparatus including a movable air volume adjusting member configured to draw out an air volume adjusting member for adjusting the amount of air supplied to a heat treatment object, Device.
최근 컴퓨터 또는 TV 와 같은 전기전자기기의 급속한 발달 및 보급에 따라 디스플레이 패널 기술 역시 비약적으로 발전하고 있다.2. Description of the Related Art [0002] Recently, display panel technology has been dramatically developed due to the rapid development and spread of electric and electronic devices such as a computer or a TV.
이러한 디스플레이 패널의 고해상도와 대형화가 급속히 진행되고 있는 오늘날의 실정에 비추어, 그 제조 장치가 담당하는 역할은 한층 더 중요시되고 있다.In view of the fact that such a display panel is rapidly increasing in size and high resolution, the role of the manufacturing apparatus is becoming more important.
일반적으로, 디스플레이 패널을 제조하기 위해서는 패널에 패턴을 형성하기 위해 포토레지스터를 도포하고, 상기 포토레지스터 막의 경화를 위해 디스플레이 패널을 가열하게 된다.Generally, in order to manufacture a display panel, a photoresist is applied to form a pattern on a panel, and the display panel is heated to cure the photoresist film.
이때, 상기와 같이 디스플레이 패널에 패턴을 정밀하게 형성하기 위해서는 디스플레이 패널의 전체 영역에 대해 균일하게 온도를 상승시키는 작업이 요구된다.At this time, in order to precisely form the pattern on the display panel as described above, it is required to raise the temperature uniformly over the entire area of the display panel.
만약, 디스플레이 패널의 전체 영역에 대해 균일한 온도 상승이 이루어지지 않을 경우에는 패턴에 온도 편차가 발생되거나, 디스플레이 패널 자체에 발생되는 열적 불균형으로 인해 패널의 국부적 수축 또는 팽창이 발생되며, 이러한 열적 불균형은 디스플레이 패널에 균일한 패턴을 형성하는 데에 장애가 되는 요인이 된다.If a uniform temperature rise is not achieved over the entire area of the display panel, a temperature variation may occur in the pattern, or a thermal contraction or expansion may occur due to thermal imbalance generated in the display panel itself. Is an obstacle to forming a uniform pattern on the display panel.
종래, 디스플레이 패널의 열처리장치는 디스플레이 패널을 향해 가열된 공기를 분사하여 패널의 온도를 상승시키는 구성이지만, 통상 열처리 장치 내에서 디스플레이 패널은 높이 방향을 따라 복수 개가 적층되어 열처리 되므로, 전체 디스플레이 패널에 대해 균일하게 온도를 상승시키는 데에 한계가 있었다. Conventionally, a heat treatment apparatus for a display panel is configured to raise the temperature of the panel by injecting heated air toward the display panel. However, since a plurality of display panels are usually stacked along the height direction in the heat treatment apparatus, There was a limit in increasing the temperature evenly.
또한, 열처리 장치 내의 구성을 변경하기 위해 종래 열처리 장치의 경우 볼트와 너트 등의 결합수단들을 해제하여 구성을 변경하고, 이후 다시 결합하는 과정을 거쳐야 했다.Further, in order to change the configuration in the heat treatment apparatus, in the case of the conventional heat treatment apparatus, the coupling means such as the bolt and the nut are released to change the configuration,
이러한 작업은 구성의 변경을 위한 작업 시간을 늘려 생산성을 하락시키는 요인이 되었다.This work has increased the working time for configuration changes and has been a factor in the decline in productivity.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 열처리 대상물로 공급되는 공기의 양을 조절하기 위한 풍량 조절부재가 열처리 챔버 외부로 인출가능하도록 구성되는 가동형 풍량 조절부재를 포함하는 열처리장치를 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide an air flow rate adjusting member for adjusting the amount of air supplied to a heat treatment object, And a heat treatment apparatus.
본 발명의 또 다른 목적은, 풍량 조절부재를 통해 배출되는 공기의 양을 조절할 수 있도록 구성됨으로써, 전체 디스플레이패널들의 온도를 균일하게 상승시킬 수 있도록 구성되는 가동형 풍량 조절부재를 포함하는 열처리장치를 제공하는 것이다.It is still another object of the present invention to provide a heat treatment apparatus including a movable air amount adjusting member configured to adjust the amount of air discharged through the air amount adjusting member to uniformly raise the temperature of all display panels .
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 가동형 풍량 조절부재를 포함하는 열처리 장치는 장치의 전체 외관을 구성하는 챔버부재와, 상기 챔버부재의 일측에 형성되는 도어부재와, 상기 챔버부재의 내부에 배치되는 필터부재와, 상기 필터부재쪽으로 기체를 이송시키기 위한 블로우어부재와, 상기 필터부재에 인접하여 배치되는 풍량조절부재와, 상기 풍량조절부재의 전방에 배치되어 열처리 대상물을 지지하는 열처리물지지부재를 포함하며, 상기 풍량조절부재는 슬라이딩부재에 슬라이딩가능하게 배치된 상태에서 상기 챔버부재 외부로 돌출되는 방향으로 이동될 수 있도록 설치되는 것을 특징으로 한다.In order to attain the above object, a heat treatment apparatus including a movable airflow control member according to the present invention comprises a chamber member forming an overall appearance of the apparatus, a door member formed at one side of the chamber member, A blower member for conveying the gas toward the filter member; an air volume adjusting member disposed adjacent to the filter member; and a heat treatment member disposed in front of the air volume adjusting member for supporting the heat treatment object, And the air volume adjusting member is installed to be slidably disposed on the sliding member so as to be able to move in a direction protruding from the chamber member.
바람직하게는, 상기 풍량조절부재는 제 1 통기구들이 동일한 간격으로 복수 개 형성되는 베이스부재와, 상기 베이스부재에 겹쳐지는 조절판을 포함하여 구성되며, 상기 조절판에는 제 2 통기구들이 동일한 간격으로 복수 개 형성된다.Preferably, the air volume adjusting member includes a base member having a plurality of first air vents formed at equal intervals, and a throttle plate overlapping the base member, wherein the throttle plate has a plurality of second vents formed at equal intervals do.
여기서, 상기 베이스부재는 전체적으로 사각 판상으로 형성되며, 상기 조절판은 상기 베이스부재보다 작은 크기의 사각 판상으로 분할 형성된다.Here, the base member is formed as a quadrangular plate as a whole, and the throttle plate is divided into a quadrangular plate smaller than the base member.
또한, 상기 조절판은 상기 베이스부재 상에서 위치 조절되어 고정가능하도록 구성될 수 있다.In addition, the throttle plate may be configured to be positionally fixed on the base member.
바람직하게는, 상기 필터부재는 울파필터(ULPA Filter)로 구성된다.Preferably, the filter member is composed of an ULPA filter.
한편, 상기 풍량조절부재는 상기 열처리물지지부재를 중심으로 양측에 한쌍 설치될 수 있다.On the other hand, the air volume adjusting members may be installed on both sides of the heat treatment material supporting member.
여기서, 상기 제 1 통기구와 제 2 통기구는 직사각형의 형상으로 구성될 수 있다.Here, the first and second vents may have a rectangular shape.
본 발명에 의해, 열처리 대상물로 공급되는 공기의 양을 조절하기 위한 풍량 조절부재가 열처리 챔버 외부로 인출됨으로써, 풍량조절부재 구성의 변경이 용이하며 구성 변경을 위한 작업 시간을 획기적으로 단축시킬 수 있다.According to the present invention, since the air flow rate adjusting member for adjusting the amount of air supplied to the heat treatment object is drawn out of the heat treatment chamber, it is possible to easily change the configuration of the air flow rate adjusting member and drastically shorten the working time for the configuration change .
또한, 풍량조절부재를 통해 배출되는 공기의 양을 조절할 수 있도록 구성됨으로써, 디스플레이패널 전체 영역의 온도를 균일하게 상승시킬 수 있다.In addition, since the amount of air discharged through the airflow control member can be adjusted, the temperature of the entire area of the display panel can be uniformly raised.
첨부의 하기 도면들은, 발명의 상세한 설명과 함께 본 발명의 기술적 사상을 이해시키기 위한 것이므로, 본 발명은 하기 도면에 도시된 사항에 한정 해석되어서는 아니 된다.
도 1 은 본 발명에 따른 가동형 풍량 조절부재를 포함하는 열처리 장치의 사시도이며,
도 2 는 상기 열처리 장치의 내부 사시도이며,
도 3 은 상기 열처리 장치에서 풍량 조절부재가 설치된 상태를 나타내는 내부 사시도이며,
도 4 는 상기 열처리 장치에서 풍량조절부재가 인출된 상태의 내부 사시도이며,
도 5 는 상기 풍량조절부재 부분의 사시도이며,
도 6 은 상기 풍량조절부재에 포함되는 베이스부재의 정면도이며,
도 7 은 상기 풍량조절부재에 포함되는 베이스부재와 조절판이 결합되는 상태의 정면도이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The accompanying drawings, which are included to provide a further understanding of the invention and are incorporated in and constitute a part of this application, illustrate embodiments of the invention and, together with the description, serve to explain the principles of the invention.
1 is a perspective view of a heat treatment apparatus including a movable airflow control member according to the present invention,
2 is an internal perspective view of the heat treatment apparatus,
3 is an internal perspective view showing a state in which the air volume adjusting member is installed in the heat treatment apparatus,
FIG. 4 is an internal perspective view of the heat treatment apparatus in a state in which the air volume adjusting member is drawn out,
5 is a perspective view of the air volume adjusting member portion,
6 is a front view of the base member included in the air volume adjusting member,
7 is a front view of the state where the base member and the throttle plate included in the air volume adjusting member are engaged.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 구성을 상세히 설명하기로 한다. Hereinafter, the configuration of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
이에 앞서, 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어는 사전적인 의미로 한정 해석되어서는 아니되며, 발명자는 자신의 발명을 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절히 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여, 본 발명의 기술적 사상에 부합되는 의미와 개념으로 해석되어야 한다.Prior to this, the terms used in the specification and claims should not be construed in a dictionary sense, and the inventor may, on the principle that the concept of a term can be properly defined in order to explain its invention in the best way And should be construed in light of the meanings and concepts consistent with the technical idea of the present invention.
따라서, 본 명세서에 기재된 실시예 및 도면에 도시된 구성은 본 발명의 바람직한 실시예에 불과할 뿐이고, 본 발명의 기술적 사상을 모두 표현하는 것은 아니므로, 본 출원 시점에 있어 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예들이 존재할 수 있음을 이해하여야 한다.Therefore, the embodiments shown in the present specification and the drawings are only exemplary embodiments of the present invention, and not all of the technical ideas of the present invention are presented. Therefore, various equivalents It should be understood that water and variations may exist.
도 1 은 본 발명에 따른 가동형 풍량 조절부재를 포함하는 열처리 장치의 사시도이며, 도 2 는 상기 열처리 장치의 내부 사시도이며, 도 3 은 상기 열처리 장치에서 풍량 조절부재가 설치된 상태를 나타내는 내부 사시도이며, 도 4 는 상기 열처리 장치에서 풍량조절부재가 인출된 상태의 내부 사시도이며, 도 5 는 상기 풍량조절부재 부분의 사시도이며, 도 6 은 상기 풍량조절부재에 포함되는 베이스부재의 정면도이며, 도 7 은 상기 풍량조절부재에 포함되는 베이스부재와 조절판이 결합되는 상태의 정면도이다.FIG. 1 is a perspective view of a heat treatment apparatus including a movable airflow control member according to the present invention, FIG. 2 is an internal perspective view of the heat treatment apparatus, and FIG. 3 is an internal perspective view showing a state in which the airflow control member is installed in the heat treatment apparatus 5 is a perspective view of the air volume adjusting member, FIG. 6 is a front view of the base member included in the air volume adjusting member, and FIG. 7 is a perspective view of the air volume adjusting member. Is a front view of the state in which the base member and the throttle plate included in the air volume adjusting member are engaged.
본 발명에 따른 가동형 풍량 조절부재를 포함하는 열처리 장치는 열처리 장치의 전체 외관을 구성하는 챔버부재(10)와, 상기 챔버부재(10)의 일측에 형성되는 도어부재(20)와, 상기 챔버부재(10)의 내부에 배치되는 필터부재(30)와, 상기 필터부재(30) 쪽으로 기체를 이송시키기 위한 블로우어부재(40)와, 상기 필터부재(30)에 인접하여 배치되는 풍량조절부재(50)와, 상기 풍량조절부재(50)의 전방에 배치되어 열처리 대상물을 지지하는 열처리물지지부재(60)를 포함하며, 상기 풍량조절부재(50)는 슬라이딩부재(56)에 슬라이딩가능하게 배치된 상태에서 상기 챔버부재(10) 외부로 돌출되는 방향으로 이동될 수 있도록 설치되는 것을 특징으로 한다.A heat treatment apparatus including a movable airflow control member according to the present invention includes a
상기 챔버부재(10)는 본 발명에 따른 열처리 장치의 외관을 형성하면서 내부에 디스플레이 패널을 수용하기 위한 구성으로서, 전체적으로 육면체 형상으로 형성된다.The
상기 챔버부재(10)는 금속재의 선재와 금속 패널을 이용하여 구성되며, 일측에는 본 발명에 따른 열처리 장치의 각종 구성들을 제어하기 위한 제어스위치들이 설치된다.The
상기 챔버부재(10)의 일측에는 도어부재(20)가 배치되어, 상기 도어부재(20)를 통해 디스플레이 패널을 상기 챔버부재(10) 내부로 투입 및 배출할 수 있도록 구성된다.A
상기 챔버부재(10)의 일측에는 필터부재(30)가 배치된다.A filter member (30) is disposed on one side of the chamber member (10).
상기 필터부재(30)는 울파필터(ULPA Filter)를 포함하여 구성된다.The
울파필터는 0.1 내지 0.17 ㎛ 입자에 대해 99.9995 % 이상을 포집할 수 있는 초고성능 필터로서, 주로 클래스 1 내지 100 이하의 클린 룸에 적용되는 필터이다.The Ulpa filter is an ultra high performance filter capable of collecting 99.9995% or more with respect to 0.1 to 0.17 탆 particles, and is a filter mainly applied to a clean room of Class 1 to 100 or less.
상기 필터부재(30)는 상기 울파필터를 통풍구가 형성된 일정한 커버에 내장하여 구성한다.The filter member (30) is constituted by incorporating the ultrasonic wave filter in a constant cover formed with a ventilation hole.
상기 필터부재(30)로는 블로우어부재(40)에 의해 외부의 공기가 공급되며, 그리하여 상기 챔버부재(10) 내부로 공급되는 공기가 상기 필터부재(30)를 통과하도록 함으로써, 상기 챔버부재(10) 내부는 청정 상태로 유지될 수 있다. External air is supplied to the
또한, 상기 챔버부재(10) 내부에는 디스플레이 패널과 같은 열처리 대상물을 지지하기 위한 열처리물지지부재(60)가 배치된다.In the
상기 열처리물지지부재(60)에 의해 디스플레이 패널은 상기 챔버부재(10) 내부에서 높이 방향을 따라 복수 개 적층 배치될 수 있다.A plurality of display panels may be disposed in the
한편, 상기 챔버부재(10) 내부에는 상기 필터부재(30)를 통과한 공기가 상기 열처리물지지부재(60) 쪽으로 유동되는 유동량을 조절하기 위한 풍량조절부재(50)가 설치된다.The
상기 풍량조절부재(50)는 도 6 및 7 에 도시되는 바와 같이, 직사각 형상의 제 1 통기구(53)들이 동일한 간격으로 복수 개 형성되는 베이스부재(52)와, 상기 베이스부재(52)에 겹쳐지는 조절판(54)을 포함한다.6 and 7, the air flow
상기 베이스부재(52)는 금속재로 구성되되, 전체적으로 직사각형의 판 형상으로 형성된다.The
또한, 상기 조절판(54)에도 직사각 형상의 제 2 통기구들(55)이 동일한 간격으로 복수 개 형성되며, 상기 조절판(54)은 상기 베이스부재(52)에 비해 작은 크기의 사각 판 형상으로 분할 구성된다.A plurality of
도 7 에 도시되는 바와 같이, 상기 조절판(44)은 상기 베이스부재(52) 상에서 그 위치가 조절되어, 나사 등의 결합수단에 의해 위치고정될 수 있다.7, the position of the throttle plate 44 is adjusted on the
그리하여, 상기 베이스부재(52)에 형성되는 제 1 통기구(53)들의 위치에 대해 상기 조절판(54)에 형성되는 제 2 통기구(55)들의 위치를 조절함으로써, 결과적으로 공기가 통과할 수 있는 개구의 크기를 조절할 수 있다.Thus, by adjusting the position of the
열처리 장치에서 히터부재(80)에 의해 가열된 공기를 상기 챔버부재(10) 내부로 공급하는 경우에, 덕트의 위치에 따라 상기 필터부재(30)를 통과하는 공기의 유동량이 달라진다.When the air heated by the
따라서, 이러한 요인은 상기 열처리물지지부재(60)에 수용되는 디스플레이 패널의 전체 영역 온도를 고르게 상승시키는 데에 장애가 된다.Therefore, such a factor hinders the uniformly rising temperature of the entire region of the display panel accommodated in the heat-treated
따라서, 상기와 같이 베이스부재(52)에 형성되는 제 1 통기구(53)들의 위치에 대해 상기 조절판(54)에 형성되는 제 2 통기구(55)들의 위치를 조절하여, 상기 필터부재(30) 각 영역을 통과하는 공기의 유동량을 조절하도록 구성함으로써, 결과적으로 상기 열처리물지지부재(60)로 공급되는 가열 공기의 유동량을 각 영역별로 조절할 수 있다.The position of the
그리하여, 상기 열처리물지지부재(60)에 수용되는 디스플레이 패널의 전체 영역의 온도를 고루 상승시킬 수 있도록 구성된다.Thus, the temperature of the entire area of the display panel accommodated in the heat-treatment
여기서, 상기 풍량조절부재(50)는 슬라이딩부재(56)에 슬라이딩가능하게 배치된 상태에서 상기 챔버부재(10) 외부로 돌출되는 방향으로 이동될 수 있도록 설치된다.The
상기 슬라이딩부재(56)는 상기 풍량조절부재(50)를 지지하기 위한 구성으로서, 도 3 에 도시되는 바와 같이 상기 풍량조절부재(50)는 상기 슬라이딩부재(56)에 지지된 상태에서 상기 챔버부재(10) 내부에 배치된다.3, the sliding
이러한 상태에서 상기 풍량조절부재(50)에서 상기 조절판(54)의 위치를 변경하고자 할 경우에, 도 4 에 도시되는 바와 같이, 상기 풍량조절부재(50)를 상기 챔버부재(10) 외부로 인출하여 상기 베이스부재(52)에 대한 상기 조절판(54)의 위치를 변경할 수 있다.4, in order to change the position of the
만약, 상기된 바와 같이 풍량조절부재(50)가 챔버부재(10) 외부로 인출되도록 구성되지 않을 경우에는, 상기 풍량조절부재(50)의 변경 또는 보수를 위해 상기 열처리물지지부재(60)를 분해하고서야 상기 풍량조절부재(50)의 변경 또는 보수가 가능해지며, 이러한 요인은 풍량조절부재(50)의 변경 또는 보수 작업에 소요되는 시간을 증대시켜 생산성을 저하시키는 요인이 된다.If the air
따라서, 상기와 같이 풍량조절부재(50)를 챔버부재(10) 외부로 인출할 수 있도록 구성됨으로써, 상기 풍량조절부재(50)를 챔버부재(10) 외부로 인출한 상태에서 변경 또는 보수가 가능해지며, 이러한 점은 상기 풍량조절부재(50)의 변경 또는 보수 작업에 소요되는 시간을 획기적으로 감소시킬 수 있다.Accordingly, the air flow
여기서, 상기 풍량조절부재(50) 및 슬라이딩부재(56)는 상기 열처리물지지부재(60)의 양측에 한쌍 설치될 수 있다.The air
이때, 상기 슬라이딩부재(56)는 상기 풍량조절부재(50)의 상부와 하부에서 상기 풍량조절부재(50)를 지지하도록 구성될 수 있다.
At this time, the sliding
이상, 본 발명은 비록 한정된 실시예와 도면에 의해 설명되었으나, 본 발명의 기술적 사상은 이러한 것에 한정되지 않으며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해, 본 발명의 기술적 사상과 하기 될 특허청구범위의 균등범위 내에서 다양한 수정 및 변형 실시가 가능할 것이다.While the present invention has been described with reference to the exemplary embodiments and the drawings, it is to be understood that the technical scope of the present invention is not limited to these embodiments and that various changes and modifications will be apparent to those skilled in the art. Various modifications and variations may be made without departing from the scope of the appended claims.
10: 챔버부재
20: 도어부재
30: 필터부재
40: 블로우어부재
50: 풍량조절부재
60: 열처리물지지부재
80: 히터부재10: chamber member
20: Door member
30: Filter element
40: Blower member
50: air flow rate control member
60: heat treatment support member
80: heater member
Claims (7)
상기 챔버부재의 일측에 형성되는 도어부재와;
상기 챔버부재의 내부에 배치되는 필터부재와;
상기 필터부재 쪽으로 기체를 이송시키기 위한 블로우어부재와;
상기 필터부재에 인접하여 배치되는 풍량조절부재와;
상기 풍량조절부재의 전방에 배치되어 열처리 대상물을 지지하는 열처리물지지부재를 포함하며,
상기 풍량조절부재는 슬라이딩부재에 슬라이딩가능하게 배치된 상태에서 상기 챔버부재 외부로 돌출되는 방향으로 이동될 수 있도록 설치되며,
상기 풍량조절부재는 제 1 통기구들이 동일한 간격으로 복수 개 형성되는 베이스부재와, 상기 베이스부재에 겹쳐지는 조절판을 포함하여 구성되며,
상기 조절판에는 제 2 통기구들이 동일한 간격으로 복수 개 형성되고,
상기 베이스부재는 전체적으로 사각 판상으로 형성되며, 상기 조절판은 상기 베이스부재보다 작은 크기의 사각 판상으로 복수 개 분할 형성되는 것을 특징으로 하는 가동형 풍량 조절부재를 포함하는 열처리 장치.The chamber member constituting the entire outer surface of the heat treatment apparatus
A door member formed at one side of the chamber member;
A filter member disposed within the chamber member;
A blower member for feeding the gas toward the filter member;
An air volume adjusting member disposed adjacent to the filter member;
And a heat treatment material support member disposed in front of the air volume adjustment member and supporting the heat treatment object,
Wherein the air volume adjusting member is installed so as to be able to move in a direction protruding from the chamber member in a state of being slidably disposed on the sliding member,
Wherein the air flow rate adjusting member includes a base member having a plurality of first air vents at equal intervals, and a throttle plate overlapping the base member,
A plurality of second vents are formed at equal intervals on the throttle plate,
Wherein the base member is formed as a quadrangular plate as a whole, and the throttle plate is divided into a plurality of quadrilateral plates smaller in size than the base member.
상기 조절판은 상기 베이스부재 상에서 위치 조절되어 고정가능하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 가동형 풍량 조절부재를 포함하는 열처리 장치.The method according to claim 1,
Wherein the adjusting plate is configured to be positionally adjustable and positionable on the base member.
상기 필터부재는 울파필터(ULPA Filter)로 구성되는 것을 특징으로 하는 가동형 풍량 조절부재를 포함하는 열처리 장치.3. The method of claim 2,
Wherein the filter member comprises an ULPA filter. ≪ Desc / Clms Page number 13 >
상기 풍량조절부재는 상기 열처리물지지부재를 중심으로 양측에 한쌍 설치되는 것을 특징으로 하는 가동형 풍량 조절부재를 포함하는 열처리 장치.The method of claim 3,
Wherein the air flow rate adjusting member is installed on both sides of the heat treatment material supporting member.
상기 제 1 통기구와 제 2 통기구는 직사각형의 형상으로 구성되는 것을 특징으로 하는 풍량 조절부재를 포함하는 열처리 장치.5. The method of claim 4,
Wherein the first air vent and the second air vent are formed in a rectangular shape.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020140048803A KR101676756B1 (en) | 2014-04-23 | 2014-04-23 | Heat treatment apparatus comprising air volume adjusing member of movable type |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020140048803A KR101676756B1 (en) | 2014-04-23 | 2014-04-23 | Heat treatment apparatus comprising air volume adjusing member of movable type |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20150122874A KR20150122874A (en) | 2015-11-03 |
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Family
ID=54599018
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020140048803A KR101676756B1 (en) | 2014-04-23 | 2014-04-23 | Heat treatment apparatus comprising air volume adjusing member of movable type |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR101676756B1 (en) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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2014
- 2014-04-23 KR KR1020140048803A patent/KR101676756B1/en active IP Right Grant
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR20150122874A (en) | 2015-11-03 |
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