KR101665453B1 - Ｍｅｇ 재생 시스템 - Google Patents

Ｍｅｇ 재생 시스템 Download PDF

Info

Publication number
KR101665453B1
KR101665453B1 KR1020140163221A KR20140163221A KR101665453B1 KR 101665453 B1 KR101665453 B1 KR 101665453B1 KR 1020140163221 A KR1020140163221 A KR 1020140163221A KR 20140163221 A KR20140163221 A KR 20140163221A KR 101665453 B1 KR101665453 B1 KR 101665453B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
meg
slurry
flash separator
line
salt component
Prior art date
Application number
KR1020140163221A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20160060959A (ko
Inventor
김윤기
안재완
안수경
문영식
Original Assignee
대우조선해양 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 대우조선해양 주식회사 filed Critical 대우조선해양 주식회사
Priority to KR1020140163221A priority Critical patent/KR101665453B1/ko
Publication of KR20160060959A publication Critical patent/KR20160060959A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101665453B1 publication Critical patent/KR101665453B1/ko

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D61/00—Processes of separation using semi-permeable membranes, e.g. dialysis, osmosis or ultrafiltration; Apparatus, accessories or auxiliary operations specially adapted therefor
    • B01D61/02—Reverse osmosis; Hyperfiltration ; Nanofiltration
    • E—FIXED CONSTRUCTIONS
    • E21—EARTH OR ROCK DRILLING; MINING
    • E21B—EARTH OR ROCK DRILLING; OBTAINING OIL, GAS, WATER, SOLUBLE OR MELTABLE MATERIALS OR A SLURRY OF MINERALS FROM WELLS
    • E21B21/00—Methods or apparatus for flushing boreholes, e.g. by use of exhaust air from motor
    • E—FIXED CONSTRUCTIONS
    • E21—EARTH OR ROCK DRILLING; MINING
    • E21B—EARTH OR ROCK DRILLING; OBTAINING OIL, GAS, WATER, SOLUBLE OR MELTABLE MATERIALS OR A SLURRY OF MINERALS FROM WELLS
    • E21B33/00—Sealing or packing boreholes or wells
    • E21B33/02—Surface sealing or packing
    • E21B33/03—Well heads; Setting-up thereof
    • E21B33/068—Well heads; Setting-up thereof having provision for introducing objects or fluids into, or removing objects from, wells
    • E—FIXED CONSTRUCTIONS
    • E21—EARTH OR ROCK DRILLING; MINING
    • E21B—EARTH OR ROCK DRILLING; OBTAINING OIL, GAS, WATER, SOLUBLE OR MELTABLE MATERIALS OR A SLURRY OF MINERALS FROM WELLS
    • E21B43/00—Methods or apparatus for obtaining oil, gas, water, soluble or meltable materials or a slurry of minerals from wells
    • E21B43/34—Arrangements for separating materials produced by the well
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D2252/00—Absorbents, i.e. solvents and liquid materials for gas absorption
    • B01D2252/20—Organic absorbents
    • B01D2252/202—Alcohols or their derivatives
    • B01D2252/2023—Glycols, diols or their derivatives

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Geology (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Mining & Mineral Resources (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Fluid Mechanics (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Water Supply & Treatment (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)

Abstract

본 발명은 MEG 재생 시스템에 관한 것으로서, 더욱 구체적으로는 플래쉬 세퍼레이터의 탑저에 존재하는 슬러리 형태의 유체 점도를 고온수를 이용하여 공정에 영향을 미치지 않으면서 제어할 수 있도록 하여, 시스템의 가동률을 높이면서도 MEG의 손실을 최소화할 수 있는 MEG 재생 시스템에 관한 것이다.
본 발명에 따른 MEG 재생 시스템은 리치 MEG를 공급받아 상기 리치 MEG로부터 물을 제거하는 증류탑; 상기 증류탑으로부터 린 MEG를 공급받아 상기 린 MEG로부터 염 성분을 제거하는 플래쉬 세퍼레이터; 및 상기 증류탑으로부터 배출되는 고온의 응축수를 상기 플래쉬 세퍼레이터의 하단부에 존재하는 슬러리 형태의 염 성분에 공급하는 고온수공급라인;을 포함한다.

Description

ＭＥＧ 재생 시스템{MEG regeneration system}
본 발명은 MEG 재생 시스템에 관한 것으로서, 더욱 구체적으로는 다량의 염 성분을 포함하는 플래쉬 세퍼레이터의 탑저 유체가 원활한 흐름을 가지도록 그 점도를 제어할 수 있도록 구성된 MEG 재생 시스템에 관한 것이다.
일반적으로, MEG(Mono Ethylene Glycol)는 부동액으로 많이 사용되는데, 해저(Subsea) 시추작업에서 해저 파이프라인에서 발생되는 하이드레이트(Hydrate)의 생성을 근본적으로 차단하는 열역학적 억제제(Thermodynamic Hydrate Inhibitor, THI)로 사용된다.
도 1은 종래의 기술에 따른 MEG 순환 시스템을 도시한 구성도이다.
도 1에 도시된 바와 같이, 종래의 MEG 순환 공급 시스템(10)은 해상에 위치하는 탑사이드(Topside)에서 생성된 MEG를 해저에 위치하는 웰헤드(Wellhead; 1)로 주입하여 배관에서 하이드레이트의 생성을 방지하는 기능을 수행한다. MEG는 웰헤드(1)로부터 생성되는 물과 함께 세퍼레이터(Separator; 11)로 이동하여 물과 가스 등이 1차적으로 분리되도록 한 다음, MEG 재생 패키지(MEG regeneration package; 12)로 공급된다. 세퍼레이터(11)는 웰헤드(1)로부터 이동한 리치 MEG로부터 가스와 컨덴세이트를 분리하여, 가스 트리트먼트(Gas treatment) 및 컨덴세이트 트리트먼트(Condensate treatment)를 위해 보내게 된다. MEG 재생 패키지(12)는 세퍼레이터(11)로부터 다량의 물, 염 성분을 포함한 리치(Rich) MEG를 공급받아 물과 염성분을 제거하여 최종 생성되는 린(Lean) MEG를 웰헤드(1)로 주입하게 된다.
이와 같은 MEG 순환 공급 시스템(10)에서 MEG 재생 패키지(12)에는 진공증류법을 이용하여 메인스트림에서 분지된 린 MEG로부터 염 성분을 완전히 제거하는 공정을 수행하는데, 이러한 공정의 핵심 기능을 담당하는 플래쉬 세퍼레이터(MEG flash separator)는 기화된 린 MEG를 탑정으로 날려 보내고, 슬러리 형태로 존재하는 염 성분은 탑저로 내려보내어 원심분리기(Centrifuge)로 이송되도록 하는 역할을 한다.
종래의 플래쉬 세퍼레이터는 탑저에 슬러리 형태의 유체가 플래쉬 펌프에 의해 이송되므로 유동성 확보를 위해 점도를 일정 수준 이하로 제어할 필요가 있는데, 이를 위해 정기적인 시스템 점검을 통해 고화된 슬러리를 모두 빼내어 주나, 이는 상당히 많은 양의 MEG 손실을 발생시키게 된다. 즉 종래의 플래쉬 세퍼레이터의 하단부에는 염을 포함한 슬러리 형태로 펌핑되는 MEG 성분이 존재하는데, 이러한 MEG 성분은 상당히 높은 점도를 가지고 있다. 따라서 시간이 지남에 따라 여러 가지 요인에 의해 슬러리 형태의 유체 점도는 점차적으로 증가하게 되고, 이러한 유체 점도가 일정수준 이상이 되면, 입자의 고착화 현상으로 인해 더 이상 펌핑이 되지 않는 문제를 유발한다. 이로 인해 필연적으로 일정한 기간이 지났을 때 시스템을 정지시킨 후 문제가 되는 배관 내부에 있는 찌꺼기를 완전히 빼내어 주고, 클리닝하는 작업이 요구되는데, 이때 상당한 양의 MEG 손실을 수반하게 되는 문제점을 발생시키게 된다.
1. 국제공개번호 WO2014/036253, "PROCESS, METHOD, AND SYSTEM FOR REMOVING HEAVY METALS FROM FLUIDS" 2. 미국공개번호 2008/0023071, "HYDRATE INHIBITED LATEX FLOW IMPROVER"
본 발명은 상기한 바와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 플래쉬 세퍼레이터의 탑저에 존재하는 슬러리 형태의 유체 점도를 고온수를 이용하여 공정에 영향을 미치지 않으면서 제어할 수 있도록 하여, 시스템의 가동률을 높이면서도 MEG의 손실을 최소화하도록 하는데 목적이 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 측면에 따르면, MEG의 재생 시스템에 있어서, 리치 MEG를 공급받아 상기 리치 MEG로부터 물을 제거하는 증류탑; 상기 증류탑으로부터 린 MEG를 공급받아 상기 린 MEG로부터 염 성분을 제거하는 플래쉬 세퍼레이터; 및 상기 증류탑으로부터 배출되는 고온의 응축수를 상기 플래쉬 세퍼레이터의 하단부에 존재하는 슬러리 형태의 염 성분에 공급하는 고온수공급라인;을 포함하는 MEG 재생 시스템이 제공된다.
상기 고온수공급라인은, 상기 증류탑의 탑정으로부터 응축수가 배출되도록 마련되는 배출라인과 상기 플래쉬 세퍼레이터의 탑저로부터 슬러리 형태의 염 성분을 배출시키도록 마련되는 배출라인에 연결될 수 있다.
상기 고온수공급라인에 설치되는 유량조절밸브를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 다른 측면에 따르면, MEG의 재생 시스템에 있어서, 린 MEG를 공급받아 상기 린 MEG로부터 염 성분을 제거하는 플래쉬 세퍼레이터를 포함하고, 상기 시스템 내에서 발생하는 고온수를 고온수공급라인을 통해서 상기 플래쉬 세퍼레이터의 하단부에 존재하는 슬러리 형태의 염 성분에 공급하는 MEG 재생 시스템이 제공된다. 또한 상기 고온수공급라인에 유량조절밸브가 설치될 수 있다.
본 발명에 따르면, 플래쉬 세퍼레이터의 탑저에 존재하는 슬러리 형태의 유체 점도를 고온수를 이용하여 공정에 영향을 미치지 않으면서 제어할 수 있도록 하여, 시스템의 가동률을 높이면서도 MEG의 손실을 최소화할 수 있다.
도 1은 종래의 기술에 따른 MEG 순환 시스템을 도시한 구성도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시례에 따른 MEG 재생 시스템을 도시한 구성도이다.
이하 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시례에 대한 구성 및 작용을 상세히 설명하면 다음과 같다. 또한 하기 실시례는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 하기 실시례에 한정되는 것은 아니다.
도 2는 본 발명의 일 실시례에 따른 MEG 재생 시스템을 도시한 구성도이다.
도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시례에 따른 MEG 재생 시스템(1000)은 린 MEG(Lean Mono Ethylene Glycol)를 공급받아 린 MEG로부터 염 성분을 제거하는 플래쉬 세퍼레이터(Flash separator; 310)를 포함하고, 시스템(1000) 내에서 발생하는 고온수를 고온수공급라인(400)을 통해서 플래쉬 세퍼레이터(310)의 하단부에 존재하는 슬러리(Slurry) 형태의 염 성분에 공급한다. 고온수는 일례로 본 실시례에서처럼 증류탑(210)으로부터 발생하는 고온의 응축수일 수 있다.
증류탑(210)은 리치(Rich) MEG를 공급받아 리치 MEG로부터 물을 제거하도록 한다.
플래쉬 세퍼레이터(310)는 MEG 재생 과정에서 진공증류법을 이용하여 메인스트림에서 분지된 린 MEG로부터 염 성분을 완전히 제거하는 공정을 수행시, 이러한 공정의 핵심 기능을 담당하게 되는데, 기화된 린 MEG를 탑정으로 날려 보내고, 슬러리 형태로 존재하는 염 성분을 탑저로 내려보내어 배출라인(340)에 의해 원심분리기(Centrifuge)로 이송되도록 하는 역할을 한다.
고온수공급라인(400)은 예컨대 증류탑(210)으로부터 배출되는 고온의 응축수를 플래쉬 세퍼레이터(310)의 하단부에 존재하는 슬러리 형태의 염 성분에 공급하도록 한다. 고온수공급라인(400)은 증류탑(210)의 탑정으로부터 응축수가 배출되도록 마련되는 배출라인(221)과 플래쉬 세퍼레이터(310)의 탑저로부터 슬러리 형태의 염 성분을 배출시키도록 마련되는 배출라인(340)에 연결될 수 있다. 또한 고온수공급라인(400)에는 유량조절밸브(500)가 설치될 수 있고, 나아가서 응축수의 공급에 필요한 펌프가 설치될 수도 있다.
유량조절밸브(500)는 고온수공급라인(400)을 통해서 플래쉬 세퍼레이터(310)의 하단부로 공급되는 응축수의 유량을 조절함과 아울러, 이러한 응축수의 공급을 개폐시킬 수 있는데, 이로 인해 플래쉬 세퍼레이터(310)의 하단부에 응축수를 실시간으로 연속되게 공급하거나, 단속적으로 공급하도록 제어할 수 있다.
본 발명의 일 실시례에 따른 폐열을 이용한 MEG 재생 시스템(1000)은 MEG로부터 2가염이온을 석출시키기 위한 전처리부(Pretreatment section; 100), MEG로부터 물을 분리하기 위한 재농축부(Reconcentration section; 200), 그리고 배출되는 MEG의 염 농도를 낮추도록 하는 재생부(Reclamation section; 300)를 포함할 수 있다.
전처리부(100)는 웰헤드(Wellhead)로부터 세퍼레이터(Separator)를 통과한 리치 MEG가 공급라인(150)을 통해서 프리트리트먼트 베슬(110)로 공급되고, 프리트리트먼트 베슬(110)에서 2가염을 석출시킨 리치 MEG가 제 1 이송라인(120)을 통해서 재농축부(200)로 공급된다. 프리트리트먼트 베슬(110)은 배기를 위한 배기라인(114)이 설치된다. 제 1 이송라인(120)으로부터 분기되어 공급라인(150)에 연결되는 재공급라인(121)에는 리치 MEG의 가열을 위한 리사이클 히터(Recycle heater; 140)가 설치된다.
전처리부(100)는 Fe2+, Mg2+, CO3 2-와 같은 2가염 성분이 온도가 높아질수록 잘 석출되는 특성을 이용하여, 프리트리트먼트 베슬(110)에서 2가염을 제거해 준다. 프리트리트먼트 베슬(110)로 들어오는 리치 MEG는 온도가 낮기 때문에 리사이클 히터(140)를 이용하여 온도를 증가시켜서 염이 석출되기 쉬운 분위기를 조성한다. 석출된 2가염은 전처리부(100)와 재농축부(200) 사이에 설치된 원심분리기(Centrifuge)에서 제거될 수 있다.
재농축부(200)는 제 1 이송라인(120)을 통해서 리치 MEG가 공급되는 증류탑(210)이 마련되고, 증류탑(210)으로부터 물이 분리된 린(Lean) MEG가 제 2 이송라인(260)을 통해서 재생부(300)로 공급된다. 증류탑(210)의 탑정에는 리플럭스(Reflux)가 순환되기 위한 리플럭스라인(220)이 연결되고, 리플럭스라인(220)에는 리플럭스의 응축 및 이송 등을 위한 리플럭스 콘덴서(Reflux condenser; 230), 리플렉스 드럼(Reflux drum; 240) 및 리플럭스 펌프(Reflux pump; 250)가 각각 설치된다. 리플럭스라인(220)에는 응축수의 배출을 위한 배출라인(221)이 연결된다. 리플렉스 드럼(240)에는 배기를 위한 배기라인(241)이 연결된다. 제 2 이송라인(260)에는 MEG의 가열을 위한 리보일러(MEG reboiler; 270)가 설치되고, 리보일러(270)에는 MEG가 증류탑(210)으로 회수되어 순환되기 위한 회수라인(271)이 연결된다.
재농축부(200)는 상압에서 물의 끓는점이 약 100℃이고, MEG의 끓는점이 약 200℃인 두 물질간의 끓는 점 차이를 이용하여, 증류탑(210)과 리보일러(270)를 이용한 상압증류법을 통해 물과 MEG를 쉽게 분리시킨다. 즉, 재농축을 통해서 리치 MEG에서 물을 제거해 주고, 물이 제거된 린 MEG를 재생부(300)로 이송되도록 한다.
재생부(300)는 제 2 이송라인(260)을 통해서 린 MEG가 공급되는 플래쉬 세퍼레이터(Flash separator; 310)가 마련되고, 제 2 이송라인(260)에서 플레쉬 세퍼레이터(310)의 후단에 콘덴서(320)와 드럼(330)이 각각 설치된다. 드럼(330)에는 베큠 펌프(Vacuum pump) 측으로의 연결을 위한 흡입라인(331)이 연결된다. 플래쉬 세퍼레이터(310)의 하부에는 슬러리 형태의 유체를 원심분리기(Centrifuge) 측으로 배출시키도록 배출라인(340)이 연결되고, 배출라인(340)에는 순환라인(341)이 분기되어 세퍼레이터(310)에 연결된다. 배출라인(340)에는 플래쉬 펌프(350)가 설치되고, 순환라인(341)에는 리사이클 히터(360)가 설치된다.
재생부(300)는 재농축부(200)를 통과한 린 MEG가 여전히 다량의 염 성분을 포함하고 있으므로, 린 MEG를 해저의 웰헤드로 주입하기 전에 린 MEG로부터 염을 제거해 주는 공정을 수행하게 된다. 이러한 염 제거 공정의 핵심은 진공상태에서 쉽게 증발되는 원리를 이용한 진공증류기법인데, 이는 플래쉬 세퍼레이터(310)의 상부에 진공을 형성시킴으로써 증발이 이루어지도록 하고, 증발되지 못한 염을 슬러리 형태로 플래쉬 세퍼레이터(310)의 하부로 보내어 원심분리기를 통해 제거되도록 한다.
이와 같은 본 발명에 따른 MEG 재생 시스템에 따르면, 플래쉬 세퍼레이터(310)의 하단부를 지나 순환하는 슬러리 형태의 염 성분에 대한 점도 제어를 위해, 고온수, 예컨대 증류탑(210)으로부터 배출되는 고온의 응축수를 사용함으로써, 슬러리 형태의 염이 적층 내지 고착되는 것을 방지하도록 한다. 이러한 응축수의 공급은 유량조절밸브(500)의 조작 내지 동작에 의해, 공정에 따라 연속흐름(continuous flow) 또는 간헐적 흐름(intermittent flow)을 가지도록 할 수 있다.
플래쉬 세퍼레이터(310)로부터 생성되는 슬러리 형태의 염 성분은 점도가 높아지더라도 소량의 물만 첨가되면 유동성이 상당히 좋아지는 특성을 가진다. 배출라인(340) 및 순환라인(341)은 100~150℃ 정도인데, 물을 주입하기 위한 별도의 라인을 설치할 필요없이, 단순히 증류탑(210)의 탑정에서 생성되는 응축수의 배출라인(221)으로부터 스트림을 분기시켜서 플래쉬 세퍼레이터(310) 하단부의 배출라인(340)에 연결함으로써 간단하게 구성될 수 있고, 앞서 설명한 바와 같은 큰 효과를 발휘하게 된다. 따라서 이러한 구성으로 인해 플래쉬 세퍼레이터(310) 하단부에 대한 슬러리 형태의 염 성분에 대한 점도를 증가시켜서, 염 성분의 점도 저하로 인한 유지 및 보수 작업을 줄이도록 하고, 상당한 양의 MEG 손실을 저감시킬 수 있다.
본 발명은 상기 실시례에 한정되지 않고, 본 발명의 기술적 요지를 벗어나지 아니하는 범위 내에서 다양하게 수정 또는 변형되어 실시될 수 있음은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 있어서 자명한 것이다.
100 : 전처리부 110 : 프리트리트먼트 베슬
114 : 배기라인 120 : 제 1 이송라인
121 : 재공급라인 130 : 리사이클 펌프
140 : 리사이클 히터 150 : 공급라인
200 : 재농축부 210 : 증류탑
220 : 리플럭스라인 221 : 배출라인
230 : 리플럭스콘덴서 240 : 리플럭스 드럼
241 : 배기라인 250 : 리플럭스 펌프
260 : 제 2 이송라인 270 : 리보일러
271 : 회수라인 300 : 재생부
310 : 플래쉬 세퍼레이터 320 : 콘덴서
330 : 드럼 331 : 흡입라인
340 : 배출라인 341 : 순환라인
350 : 플래쉬 펌프 360 : 리사이클 히터
400 : 고온수공급라인 500 : 유량조절밸브

Claims (5)

  1. MEG의 재생 시스템에 있어서,
    리치 MEG를 공급받아 상기 리치 MEG로부터 1차적으로 염 성분을 제거하는 전처리부;
    상기 전처리부에서 염 성분이 1차 제거된 상기 리치 MEG로부터 물을 제거하는 증류탑; 및
    상기 증류탑으로부터 린 MEG를 공급받아 상기 린 MEG로부터 염 성분을 제거하는 플래쉬 세퍼레이터;를 포함하되,
    상기 플래쉬 세퍼레이터의 상부로는 해저의 웰헤드로 주입될 린 MEG가 배출되고,
    상기 플래쉬 세퍼레이터의 하부로는 상기 린 MEG와 분리된 슬러리 형태의 염 성분이 분리 배출되며, 상기 슬러리 형태의 염 성분을 원심분리기로 공급하는 슬러리 배출라인;
    상기 증류탑의 탑정에서 리플럭스를 순환시키는 리플럭스라인; 및
    상기 리플럭스 라인에서 분기되며 상기 증류탑으로 순환하는 리플럭스 응축수의 적어도 일부를 상기 슬러리 형태의 염 성분으로 공급하는 고온수공급라인;을 더 포함하여,
    상기 플래쉬 세퍼레이터로부터 상기 원심분리기로 배출되는 슬러리 형태의 염 성분의 점도를 조절하는, MEG 재생 시스템.
  2. 삭제
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 고온수공급라인에 설치되는 유량조절밸브를 더 포함하는 MEG 재생 시스템.
  4. 삭제
  5. 삭제
KR1020140163221A 2014-11-21 2014-11-21 Ｍｅｇ 재생 시스템 KR101665453B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020140163221A KR101665453B1 (ko) 2014-11-21 2014-11-21 Ｍｅｇ 재생 시스템

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020140163221A KR101665453B1 (ko) 2014-11-21 2014-11-21 Ｍｅｇ 재생 시스템

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20160060959A KR20160060959A (ko) 2016-05-31
KR101665453B1 true KR101665453B1 (ko) 2016-10-12

Family

ID=56098957

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020140163221A KR101665453B1 (ko) 2014-11-21 2014-11-21 Ｍｅｇ 재생 시스템

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101665453B1 (ko)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20190060396A (ko) 2017-11-24 2019-06-03 대우조선해양 주식회사 유기산 제거 기능을 가진 글리콜 재생 시스템
KR20200081962A (ko) 2018-12-28 2020-07-08 대우조선해양 주식회사 혐기성 생물을 이용한 글리콜 재생 시스템

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102696776B1 (ko) * 2016-12-29 2024-08-21 한화오션 주식회사 전기분해시스템을 포함하는 meg 재생시스템
KR102097608B1 (ko) * 2018-04-26 2020-04-06 삼성중공업 주식회사 Meg 재생장치
KR102097609B1 (ko) * 2018-04-30 2020-04-06 삼성중공업 주식회사 Meg 재생장치
KR102119474B1 (ko) * 2018-04-30 2020-06-08 삼성중공업 주식회사 Meg 재생장치
KR102073130B1 (ko) * 2018-04-30 2020-02-04 삼성중공업 주식회사 Meg 재생장치

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100549637B1 (ko) * 2004-11-25 2006-02-07 삼성정밀화학 주식회사 증기를 사용하는 산업설비의 응축수 활용시스템
WO2013074183A1 (en) * 2011-11-14 2013-05-23 Cameron International Corporation Process scheme to improve divalent metal salts removal from mono ethylene glycol (meg)

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20080023071A (ko) 2006-09-08 2008-03-12 삼성전자주식회사 통신 단말기의 휴대인터넷 서비스 연결 방법
US9199898B2 (en) 2012-08-30 2015-12-01 Chevron U.S.A. Inc. Process, method, and system for removing heavy metals from fluids

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100549637B1 (ko) * 2004-11-25 2006-02-07 삼성정밀화학 주식회사 증기를 사용하는 산업설비의 응축수 활용시스템
WO2013074183A1 (en) * 2011-11-14 2013-05-23 Cameron International Corporation Process scheme to improve divalent metal salts removal from mono ethylene glycol (meg)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20190060396A (ko) 2017-11-24 2019-06-03 대우조선해양 주식회사 유기산 제거 기능을 가진 글리콜 재생 시스템
KR20200081962A (ko) 2018-12-28 2020-07-08 대우조선해양 주식회사 혐기성 생물을 이용한 글리콜 재생 시스템

Also Published As

Publication number Publication date
KR20160060959A (ko) 2016-05-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101665453B1 (ko) Ｍｅｇ 재생 시스템
KR102072368B1 (ko) 글리콜 스트림을 순환시키기 위한 방법과 장치, 및 천연 가스 생성물 스트림을 생성하는 방법
KR101665452B1 (ko) Ｍｅｇ 재생 시스템
US11052325B2 (en) MEG recovery apparatus and MEG recovery method
KR101670878B1 (ko) Ｍｅｇ 재생 시스템
KR101805491B1 (ko) Ｍｅｇ 재생 시스템
CN213885035U (zh) 深海天然气开发过程中的乙二醇再生与回收系统
CN112274958A (zh) 深海天然气开发过程中的乙二醇再生与回收系统及乙二醇回收方法
CN104707352A (zh) 一种含盐乙二醇溶液的脱盐再生装置
KR102008834B1 (ko) Meg 재생장치
JP5218895B2 (ja) 炭酸塩スケール障害を発生させない温泉水又は地熱水の輸送方法及び装置
KR102097609B1 (ko) Meg 재생장치
US10213705B2 (en) Process for recovering processing liquids from streams containing alkaline earth metal salts
KR20160088678A (ko) Ｍｅｇ 재생 시스템
KR102664721B1 (ko) 통합 리보일러를 사용한 글리콜 재생장치
KR102119474B1 (ko) Meg 재생장치
KR101527394B1 (ko) 원료 내 회수대상물질을 회수하는 공정에 구비되는 저용해도 염 제거장치
KR20140041764A (ko) 2가 양이온의 농도를 갖는 글리콜 스트림을 순환시키는 방법 및 장치, 및 천연 가스 생성물 스트림의 제조 방법
KR101767553B1 (ko) Ｍｅｇ 재생 시스템
KR102582614B1 (ko) 유기산 제거 기능을 가진 글리콜 재생 시스템
KR20180078092A (ko) Temperature Swing을 이용한 MEG 재생시스템에서의 염 제거
KR102373290B1 (ko) Meg 재생 시스템 및 이를 포함하는 해양 구조물
KR20190127054A (ko) Meg 재생장치
KR102239296B1 (ko) 가스 처리 시스템 및 이를 포함하는 해양 구조물
KR102097608B1 (ko) Meg 재생장치

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20191011

Year of fee payment: 4