KR101646067B1 - 타르를 포함하는 유해가스의 처리장치 - Google Patents

타르를 포함하는 유해가스의 처리장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은, 타르를 포함하는 유해가스의 처리장치에 관한 것으로서, 전자파를 발생시키는 전자파 발생유닛; 내부가 전자파 반사 구조를 가지며, 유입구를 통하여 상기 유해가스가 유입되면 상기 전자파 발생유닛에서 발생된 전자파를 이용하여 상기 타르 내의 탄소를 활성화된 탄소로 변화시켜서 배출구로 배출하는 전자파 반사 챔버; 및 상기 배출구로부터 배출되는 유해가스를 가열하여, 상기 타르를 분해하는 가열수단을 포함하는 타르를 포함한다.

Description

타르를 포함하는 유해가스의 처리장치{Apparatus for treating toxic gas including a tar}
본 발명은 타르를 포함하는 유해가스의 처리장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 타르를 포함하는 유해가스에서 타르 내 탄소를 활성화된 탄소로 변화시켜서 유해가스의 분해 효율을 향상시킬 수 있는 타르를 포함하는 유해가스의 처리장치에 관한 것이다.
흡연자의 흡연으로 인한 담배연기는 200 여종이 넘는 유해물질과, 4000여 종에 이르는 화학물질의 오염물이 포함된 것으로, 건강과 쾌적한 실내공기의 유지를 위하여 실내에서는 금연하도록 규제하고, 실외에서도 별도의 흡연구역을 정하여 흡연구역에서만 흡연을 하도록 규제하고 있다.
그런데 흡연구역에서 흡연을 한다 하더라도, 대부분의 흡연구역에 별도의 정화처리장치가 구비되어 있지 않기 때문에 흡연구역에서 포집된 담배연기가 그대로 공기 중으로 배출되어 결국 비흡연자는 간접흡연에 노출되는 문제점이 있었다.
최근에는 이러한 문제를 해결하기 위해 담배연기를 정화시키는 정화처리장치가 개발되고 있으나, 현재 개발되고 있는 정화처리장치는 담배연기를 단순히 정화시켜 배출시키기만 할 뿐 담배연기 내 유해물질을 근본적으로 제거하지는 못하기 때문에 비흡연자들의 간접흡연으로 인한 피해 및 공기 질이 악화되는 문제점을 해결할 수 없다. 특히, 담배연기에 포함된 유독물질인 타르는 매우 안정적인 구조를 갖고 있기 때문에 타르를 처리하기 위해서는 고온에서 처리하거나 타르가 처리장치에서 장시간 체류하게 해야 한다. 이렇게 장시간 체류를 위해서는, 담배연기를 처리하는 장치의 크기가 커져야 하는 문제점이 있다. 또한, 상기 처리 장치의 크기 감소시키기 위하여, 상기 담배연기를 가열하는 화염의 온도를 높일 수가 있는데, 이 경우 상기 처리 장치에 설치되는 토치가 고가 사양만 가능하고, 소모 연료량/소모 전기량이 커지는 문제점이 있다.
이와 같은 까다로운 조건들 때문에 현재 개발된 정화처리장치로는 타르를 완전히 처리하기 못하는 문제점이 있다. 따라서 타르를 포함하는 담배연기 뿐 아니라 다양한 유해가스를 처리할 수 있는 장치의 개발이 필요하다.
대한민국등록특허 제10-1309017호
본 발명은 타르를 포함하는 유해가스에서 타르 내 탄소를 활성화된 탄소로 변화시켜서 유해가스의 분해 효율을 향상시킬 수 있는 타르를 포함하는 유해가스의 처리장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 일 측면에 따르면 본 발명은, 타르를 포함하는 유해가스의 처리장치에 있어서, 전자파를 발생시키는 전자파 발생유닛; 내부가 전자파 반사 구조를 가지며, 유입구를 통하여 상기 유해가스가 유입되면 상기 전자파 발생유닛에서 발생된 전자파를 이용하여 상기 타르 내의 탄소를 활성화된 탄소로 변화시켜서 배출구로 배출하는 전자파 반사 챔버; 및 상기 배출구로부터 배출되는 유해가스를 가열하여, 상기 타르를 분해하는 가열수단을 포함하는 타르를 포함하는 유해가스의 처리장치 제공한다.
본 발명에 따른 타르를 포함하는 유해가스의 처리장치는 다음과 같은 효과가 있다.
첫째, 전자파 발생유닛과 전자파 반사 챔버를 구비하고, 유해가스를 전자파 반사 챔버의 내부로 유동시킴으로써 전자파에 의해 유해가스의 타르 내 탄소를 활성화된 탄소로 변화시킬 수 있다. 특히, 타르 내 탄소가 활성화된 탄소로 변화하면 가열수단에 의해 쉽게 가열되어 상기 유해가스의 분해 효율이 향상되는 효과를 기대할 수 있다. 따라서, 상기 가열수단의 크기가 감소될 수 있을 뿐만 아니라, 상기 가열수단에 의한 가열 온도가 낮아지더라도 상기 유해가스를 효율적으로 분해할 수 있다. 즉, 전체적인 제조비용이 감소되고, 상기 가열수단의 다양한 선택이 가능해진다.
둘째, 전자파 반사 챔버의 내부에 배플들 또는 덕트를 구비함으로써, 전자파 반사 챔버의 내부로 유입된 유해가스가 체류되는 시간을 증가시켜 더 많은 양의 타르 내 탄소를 활성화된 탄소로 변화시키는 효과를 가질 수 있다.
도 1은 타르의 주요성분인 나프탈렌이 분해되는 시간과 온도의 상관관계를 나타내는 그래프이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 타르를 포함하는 유해가스의 처리장치의 단면도이다.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 타르를 포함하는 유해가스의 처리장치의 단면도이다.
도 4는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 타르를 포함하는 유해가스의 처리장치의 단면도이다.
본 발명에 따른 타르를 포함하는 유해가스의 처리장치에 대해 설명하기 전, 본 발명에 따른 타르를 포함하는 유해가스의 처리장치가 주요 타겟(target)으로 하는 타르에 대해 설명하면 다음과 같다.
타르는 종래기술에서 언급한 바와 같이, 담배연기에 포함된 유독물질이며 타르의 주요성분은 나프탈렌이다. 나프탈렌은 벤젠 핵이 두 개 접합한 구조를 갖는 방향족 탄화수소로, 매우 안정적인 구조를 갖기 때문에 나프탈렌을 분해하여 처리하기가 쉽지 않다. 도 1에는 나프탈렌의 분해시간과 온도의 상관관계가 표로 도시되어 있는데, 도 1을 참조하여 보면 나프탈렌에 가해지는 온도가 증가할수록 나프탈렌이 분해되는 시간이 점점 짧아지는 것을 알 수 있다.
나프탈렌과 같은 방향족 탄화수소 화합물을 그 자체가 독성이 강하고 염소 분자와 결합하면 다이옥신을 생성하기 때문에 완전 분해시켜 처리하는 것이 중요한데, 도 1에 도시된 바와 같이 나프탈렌을 완전 분해시키기 위해서는 적어도 1000℃ 이상의 고온의 열을 가하거나, 나프탈렌을 분해시키기 위한 처리장치에서 타르를 포함하는 유해가스가 체류하는 시간을 증가시켜야 한다.
그런데 매우 안정적인 구조를 갖는 타르도 전자파를 가하면, 전자파에 의해 타르에 포함된 탄소가 활성화된 탄소로 변화되어 안정적인 구조가 변화되면서 비교적 낮은 온도이거나, 처리장치 내에서의 짧은 체류시간에도 완전 분해될 수 있는 특징을 갖게 된다. 본 발명에 따른 타르를 포함하는 유해가스의 처리장치(100)는 상기와 같은 특징을 이용하여 타르를 포함하는 유해가스를 완전 연소하여 처리할 수 있도록 제안된 것이다.
도 2 내지 도 4에는 본 발명에 따른 타르를 포함하는 유해가스의 처리장치(이하, 처리장치)(100, 100`)가 도시되어 있다. 도 2 내지 도 4는 각각 다른 실시 형태에 따른 상기 처리장치(100, 100`)가 도시되어 있는데, 상기 처리장치(100, 100`)들은 일부 구성에 대해서만 차이점을 가지므로, 동일한 구성에 대해서는 동일한 참조부호를 사용하여 설명한다.
도 2 내지 도 4를 참조하여 보면, 상기 타르를 포함하는 유해가스의 처리장치(100, 100`)는 전자파 발생유닛(110), 전자파 반사 챔버(130) 및 가열수단(150)을 포함한다. 상기 전자파 발생유닛(110)은 전자파를 발생시켜 상기 전자파 반사 챔버(130)로 공급한다.
상기 전자파 반사 챔버(130)는 예시적으로 직육면체의 구조로 형성된다. 상기 전자파 반사 챔버(130)의 육면 중 어느 일면에는 유입구(133)가 형성되어 타르가 포함되는 유해가스(이하, 유해가스)가 유입되고, 다른 일면에는 배출구(135)가 형성되어 상기 타르 내의 탄소가 활성화된 탄소로 변화된 유해가스로 배출된다.
상기 전자파 반사 챔버(130)의 내부는 상기 전자파 발생유닛(110)으로부터 공급되는 상기 전자파를 반사시킬 수 있는 전자파 반사 구조를 갖는다. 즉, 상기 전자파 반사 챔버(130)의 내부가 도전성 소재로 형성되며, 상기 유입구(133)와 상기 배출구(135)를 제외한 나머지 부분이 밀폐된 구조를 갖는다. 상기 전자파 반사 챔버(130)의 내부가 도전성 소재로 밀폐된 구조로 형성됨으로써, 상기 전자파 발생유닛(110)으로부터 공급되는 상기 전자파가 상기 전자파 반사 챔버(130)의 외부로 새어나가지 않고 상기 전자파가 상기 전자파 반사 챔버(130) 내부에서만 무한히 반사된다. 다만, 상기 전자파가 어떤 물질과 충돌하면 상기 전자파는 충돌한 물질에 에너지를 빼앗기고 소멸된다. 본 실시예에서는 상기 전자파가 상기 유해가스와 충돌하여 유해가스에 에너지를 빼앗기고 소멸되는데, 이때 전자파의 에너지가 상기 유해가스의 타르 내 탄소를 활성화된 탄소로 변화시키면서 전자파가 소멸된다.
전술한 바와 같이, 상기 전자파 발생유닛(110)으로부터 상기 전자파 반사 챔버(130)로 공급된 상기 전자파는 상기 전자파 반사 챔버(130) 내부로 유입된 상기 유해가스 중 상기 타르 내 탄소를 활성화된 탄소로 변화시킨다. 한편, 상기 유해가스의 타르 내 탄소는 가정용으로 사용되는 전자레인지에서 사용되는 파장의 전자파로도 활성화된 탄소로 변화시킬 수 있으므로 상기 전자파 발생유닛(110) 및 상기 전자파 반사 챔버(130)를 별도로 제작하지 않고, 기성품의 전자레인지를 활용하여 상기 전자파 발생유닛(110) 및 상기 전자파 반사 챔버(130)로 활용할 수 있다.
상기 전자파 반사 챔버(130)의 상기 유입구(133) 및 상기 배출구(135) 각각에는 상기 전자파 발생유닛(110)으로부터 공급되는 상기 전자파가 상기 유입구(133) 및 상기 배출구(135)를 통해 상기 전자파 반사 챔버(130)의 외부로 새어나가는 것을 방지하기 위해 메쉬(mesh)가 형성된다.
상기 전자파는 전술한 바와 같이, 상기 전자파 반사 챔버(130)의 내부가 도전성 소재로 형성되어 있기 때문에 상기 전자파 반사 챔버(130)의 내부에 다른 물질이 없는 한, 상기 전자파 반사 챔버(130)의 내부에서 무한히 반사되면서 자유롭게 이동하는데, 상기 유입구(133) 및 상기 배출구(135)가 형성되는 부분에는 상기 도전성 소재가 없기 때문에 상기 전자파가 상기 유입구(133) 및 상기 배출구(135)를 통해 상기 전자파 반사 챔버(130)의 외부로 새어나갈 수 있다. 이때, 전술한 바와 같이 상기 유입구(133) 및 상기 배출구(135)에 상기 메쉬를 형성해주면 상기 전자파는 상기 전자파 반사 챔버(130)의 외부로 새어나가지 않는다.
상기 메쉬에는 복수 개의 홀들(미도시)이 형성되어 상기 유해가스는 상기 메쉬를 통과하여 상기 전자파 반사 챔버(130)의 내부로 유입되거나 배출된다. 상기 전자파는 파장의 1/4에 해당하는 크기 이하의 홀은 관통하지 못하는 특징을 갖는데, 상기 메쉬에 형성된 상기 복수 개의 홀들의 각 홀이 상기 전자파 발생유닛(110)에서 발생된 상기 전자파 파장의 1/4보다 작게 형성되면 상기 전자파가 상기 유입구 및 상기 배출구를 통해 상기 전자파 반사 챔버(130)의 외부로 새어나가지 않는다.
상기 전자파 반사 챔버(130)로 유입되는 상기 유해가스는 도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이, 팬(120)에 의해 유입된다. 본 발명의 일 실시예에 따른 상기 유해가스 처리장치(100, 100`)는 예를 들어 흡연 공간의 천정부(미도시)에 설치될 수 있는데, 상기 팬(120)은 상기 천정부에 설치되고 상기 팬(120)과 상기 전자파 반사 챔버(130)가 배관(10)에 의해 연통되게 연결된다.
한편, 도 2를 참조하여 보면 본 발명의 일 실시예에서는 상기 전자파 반사 챔버(130)의 내부에 배플(131)들이 설치된다. 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 배플(131)들은 복수 개 구비되며, 상기 전자파 반사 챔버(130)의 내부에 상호 마주하며 설정 간격만큼 이격되어 서로 교번으로 배치된다. 상기 전자파 반사 챔버(130)로 유입되는 상기 유해가스는 상기 전자파 반사 챔버(130)의 내부에 설치된 상기 배플(131)들에 의해 복수 번 유동방향이 변경되면서 상기 전자파 반사 챔버(130) 내부를 유동하여 상기 배출구를 통해 배출된다.
상기 배플(131)들은 상기 전자파 발생유닛(110)에서 발생된 상기 전자파가 통과할 수 있는 소재로 형성되어도 무방하고, 상기 전자파를 반사시키는 소재로 형성되어도 무방하다. 상기 전자파 반사 챔버(130)의 내부에 전술한 바와 같이 상기 배플(131)들을 설치하면, 상기 전자파 반사 챔버(130)의 내부로 유입된 상기 유해가스가 직선으로 유동되지 않고 복수 번 유동방향을 바꾸면서 유동하기 때문에 상기 전자파 반사 챔버(130) 내부에 체류하는 시간이 길어져 더 많은 양의 타르 내 탄소를 활성화된 탄소로 변화시키는 효과를 기대할 수 있다.
한편, 도 3에는 본 발명의 다른 실시예에 따른 상기 전자파 반사 챔버(130`)가 도시되어 있다. 도 3을 참조하여 보면, 다른 실시예에 따른 상기 전자파 반사 챔버(130`)는 전술한 일 실시예와 달리 배플들이 구비되지 않고 상기 전자파 반사 챔버(130`)의 내부에 덕트(131`)가 구비된다. 상기 덕트(131`)은 상기 전자파 반사 챔버(130`)의 상기 유입구와 상기 배출구에 각각 연통되며, 상기 유입구를 통해 유입된 상기 유해가스가 유동되는 유동로를 형성한다.
상기 덕트(131`)는 도 3에 도시된 바와 같이, "S"자와 같은 형태로 복수 번 절곡되어 형성되어 전술한 일 실시에에서 상기 배플들이 상기 유해가스의 유동방향을 변경한 것과 같이 상기 덕트(131`)도 상기 유해가스의 유동방향을 다수 회 변경한다. 상기 덕트(131`)는 상기 전자파 발생 유닛(110)에서 공급된 상기 전자파가 통과할 수 있는 소재로 형성한다.
상기 덕트(131`)를 통해 유동되는 상기 유해가스는 상기 덕트(131`)의 구조에 의해 상기 전자파 반사 챔버(130`)를 유동하는 동안 복수 번 유동방향이 변경되면서 유동되기 때문에 상기 유입구에서 상기 배출구까지 유동되는 시간이 길어져 상기 전자파 반사 챔버(130`)의 내부에 체류하는 시간이 길어진다. 그리고 상기 덕트(131`)가 상기 전자파가 통과되는 소재로 형성되므로 상기 전자파 반사 챔버(130`)에 오랜 시간 체류하면서 많은 양의 유해가스의 타르 내 탄소가 활성화된 탄소로 변화될 수 있다.
상기 전자파 반사 챔버(130, 130`)를 유동하여 배출되는 상기 유해가스는 상기 전자파에 의해 상기 유해가스의 타르 내 탄소가 활성화된 탄소로 변화된 상태로 배출되므로 가열에 의한 분해가 용이해진다.
도 4에는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 상기 전자파 반사 챔버(130a)가 도시되어 있다. 도 4를 참조하여 보면, 또 다른 실시예에 따른 상기 전자파 반사 챔버(130a)는 전술한 실시예들과 달리 유입된 유해가스를 포집하였다가 상기 전자파를 가해 상기 유해가스 내 타르의 탄소를 활성화된 탄소로 변화시킨 후 배출시킬 수 있도록 포집챔버(131a)가 구비된다. 상기 포집챔버(131a)는 전자파가 통과할 수 있는 소재로 형성된다. 따라서 상기 유해가스가 상기 포집챔버(131a)의 내부에 포집되어 있는 동안 상기 전자파가 상기 포집챔버(131a)를 관통하면서 상기 유해가스 내 타르의 탄소와 충돌하여 탄소를 활성화된 탄소로 변화시킨다. 특히, 도 4에 도시된 것에 한정되지 않고, 상기 전자파 반사 챔버(130a)의 배출구와 연통되는 유로의 길이 방향에 대한 단면적이 더 작아지도록 형성하면 예를 들어, 병목현상과 같이 상기 유해가스가 조금씩 배출되기 때문에 상기 유해가스 내 타르의 탄소를 더 많이 활성화된 탄소로 변화시킬 수 있다.
도 2 및 도 3을 참조하면, 상기 전자파 반사 챔버(130, 130`)에서 배출되는 상기 유해가스는 연통로(141)가 형성된 가열챔버(140)로 유동된다. 상기 연통로(141)가 상기 전자파 반사 챔버(130, 130`)의 상기 배출구에 연통되게 상기 가열챔버(140)가 설치되어 상기 전자파 반사 챔버(130, 130`)에서 배출되는 상기 유해가스가 외부로 새지 않고 상기 가열챔버(140)로 유동한다.
상기 가열챔버(140)에는 상기 가열수단(150)이 설치되어 있는데, 상기 가열수단(150)은 상기 가열챔버(140)로 유동된 상기 유해가스를 가열하여 상기 유해가스의 타르를 분해한다. 상기 가열수단(150)으로 플라즈마 방전에 의해 화염을 생성하는 플라즈마 토치가 적용된다. 하지만, 본 발명은 이에 한정되지 않고, 전기 히터, 가스 버너 등의 다양한 장치가 이용될 수 있다.
상기 플라즈마 토치(150)는 도파관(151), 방전가스 공급부(152) 및 방전관(153)을 포함한다. 상기 도파관(151)은 전자파가 공급된다. 상기 도파관(151)으로 공급되는 상기 전자파는 별도로 구비되는 전자파 발생유닛(미도시)으로부터 공급받을 수도 있고, 상기 전자파 발생유닛(110)으로부터 상기 전자파를 공급받을 수도 있다. 이는 상기 타르를 포함하는 유해가스 처리장치(100, 100`)가 설치되는 환경에 따라 제작자에 의해 다양하게 변경될 수 있다.
상기 방전가스 공급부(152)를 상기 플라즈마 토치(150)의 내부로 방전가스가 공급된다. 상기 방전가스로는 공기가 공급되며, 이외에도 다양한 방전가스가 이용될 수 있다.
상기 방전관(153)은 원형의 관 구조를 가지며, 상기 방전관(153)에서 상기 도파관(151)으로 공급되는 전자파에 의해 개시 방전이 일어난다. 상기 도파관(151) 및 상기 방전관(153)의 구조는 당업자 수준에서 다양하게 선택될 수 있으며, 일반적인 마이크로 웨이브 플라즈마 토치 구조를 이용하면 된다.
또한, 상기 도파관(151)에 고정되도록 결합되도록 상호 마주하는 한 쌍의 하우징들(154a, 154b)을 더 포함한다. 상기 한 쌍의 하우징들(154a, 154b) 중 어느 하나의 하우징(154a)으로는 상기 도파관(151)으로부터 공급되는 전자파와 상기 방전관(153), 상기 방전가스 공급부(152)로부터 공급되는 방전가스에 의한 개시 방전으로 발생되는 화염의 분출을 가이드 역할을 한다. 그리고 다른 하나의 하우징(154b)에는 상기 방전가스 공급부(152)가 형성되어 있다.
한편, 상기 가열수단(150)으로 적용되는 상기 플라즈마 토치는 당업자 수준에서 다양한 구조로 적용될 수 있으며, 예시적으로 대한민국등록특허 제10-1268913호, 제10-1369879호, 제10-1372939호에 개시된 플라즈마 토치를 적용할 수 있다.
타르 내 탄소가 활성화된 유해가스가 상기 가열챔버(140)로 유동되면 상기 가열수단(150)의 상기 도파관(151)으로 전자파가 공급되고, 상기 방전가스 공급부(152)에서 방전가스가 공급되면서 상기 방전관(153)에서 일어나는 개시 방전에 의해 화염이 발생한다. 상기 가열수단(150)에서 발생된 화염은 상기 가열챔버(140)의 내부로 공급되어 상기 가열챔버(140)로 유동된 유해가스를 가열한다. 이때, 상기 유해가스의 타르 내 탄소는 상기 전자파 반사 챔버(130)를 유동하면서 활성화된 탄소로 변화되었기 때문에 상기 가열수단(150)으로부터 공급되는 화염에 의해 쉽게 가열되어 타르가 완전히 분해된다. 상기 유해가스의 타르가 완전히 분해되면 상기 유해가스는 무해한 성질의 가스로 변화되므로 상기 가열챔버(140)에서 외부로 배출시킬 수 있다. 본 실시예에는, 상기 가열수단(150)에 별도의 연료 분사 장치가 설치되어 있지 않지만, 상기 플라즈마 화염을 증가시키기 위하여 상기 방전관(153)에서 생성되는 화염에 기체 또는 액체의 연료를 분사하는 장치가 더 설치될 수도 있다. 더욱이, 추가적인 산화제 분사 장치도 더 설치될 수 있다.
한편, 도 4를 참조하여 보면, 상기 전자파 반사 챔버(130a)에서 배출되는 상기 유해가스는 상기 연통로(141)를 따라 상기 가열챔버(140)가 아닌, 상기 가열수단(150)으로 유동된다. 즉, 도 4에 도시된 바와 같이 상기 연통로(141)가 상기 하우징(154a)과 연통되게 연결된다. 따라서 상기 연통로(141)를 따라 유동되는 상기 유해가스는 상기 가열수단(150)에서 화염의 분출을 가이드하는 하우징(154a)으로 바로 공급되어 상기 가열수단(150)으로 공급되는 동시에 상기 가열수단(150)의 화염에 의해 가열되어 분해된다. 그리고 바로 외부로 배출된다.
본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.
100, 100`: 유해가스 처리장치
110: 전자파 발생유닛 120: 팬
130, 130`, 130a: 전자파 반사 챔버
131: 배플 131`: 덕트
131a: 포집챔버
133: 유입구 메쉬 135: 배출구 메쉬
140: 가열챔버 150: 가열수단

Claims (16)

  1. 삭제
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 타르를 포함하는 유해가스의 처리장치에 있어서,
    전자파를 발생시키는 전자파 발생유닛;
    내부가 전자파 반사 구조를 가지며, 유입구를 통하여 상기 유해가스가 유입되면 상기 전자파 발생유닛에서 발생된 전자파를 이용하여 상기 타르 내의 탄소를 활성화된 탄소로 변화시켜서 배출구로 배출하는 전자파 반사 챔버; 및
    상기 배출구로부터 배출되는 유해가스를 가열하여, 상기 타르를 분해하는 가열수단을 포함하고,
    상기 전자파 반사 챔버의 내부에는 양단이 상기 유입구와 상기 배출구에 각각 연통되어 있는 덕트가 형성되어 있으며, 상기 덕트는 상기 전자파가 통과 가능한 물질로 형성되어 있는 타르를 포함하는 유해가스의 처리장치.
  5. 타르를 포함하는 유해가스의 처리장치에 있어서,
    전자파를 발생시키는 전자파 발생유닛;
    내부가 전자파 반사 구조를 가지며, 유입구를 통하여 상기 유해가스가 유입되면 상기 전자파 발생유닛에서 발생된 전자파를 이용하여 상기 타르 내의 탄소를 활성화된 탄소로 변화시켜서 배출구로 배출하는 전자파 반사 챔버; 및
    상기 배출구로부터 배출되는 유해가스를 가열하여, 상기 타르를 분해하는 가열수단을 포함하고,
    상기 전자파 반사 챔버의 내부에는 양단이 상기 유입구와 상기 배출구에 각각 연통되어 있으며, 상기 유입구를 통해 유입된 상기 유해가스를 포집할 수 있도록 상기 전자파 반사 챔버보다 작은 영역을 형성하는 포집챔버가 형성되는 타르를 포함하는 유해가스의 처리장치.
  6. 청구항 5에 있어서,
    상기 포집챔버는 상기 전자파를 통과시키는 소재로 형성되는 타르를 포함하는 유해가스의 처리장치.
  7. 삭제
  8. 삭제
  9. 삭제
  10. 타르를 포함하는 유해가스의 처리장치에 있어서,
    전자파를 발생시키는 전자파 발생유닛;
    내부가 전자파 반사 구조를 가지며, 유입구를 통하여 상기 유해가스가 유입되면 상기 전자파 발생유닛에서 발생된 전자파를 이용하여 상기 타르 내의 탄소를 활성화된 탄소로 변화시켜서 배출구로 배출하는 전자파 반사 챔버; 및
    상기 배출구로부터 배출되는 유해가스를 가열하여, 상기 타르를 분해하는 가열수단을 포함하고,
    상기 유입구 및 상기 배출구에는 상기 전자파가 상기 전자파 반사 챔버의 외부로 새어나가는 것을 방지하도록 메쉬가 형성되어 있는 타르를 포함하는 유해가스의 처리장치.
  11. 삭제
  12. 청구항 4, 청구항 5 또는 청구항 10 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 전자파 반사 챔버는 상기 유입구와 상기 배출구를 제외한 나머지 부분이 도전성 소재로 형성된 밀폐 구조를 가지는 타르를 포함하는 유해가스의 처리장치.
  13. 청구항 4, 청구항 5 또는 청구항 10 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 가열수단은 플라즈마 방전에 의해 화염을 생성하는 플라즈마 토치인 타르를 포함하는 유해가스의 처리장치.
  14. 청구항 13에 있어서,
    상기 플라즈마 토치는,
    전자파가 공급되는 도파관;
    방전가스를 공급하는 방전가스 공급부;
    상기 전자파와 상기 방전가스를 이용하여 상기 플라즈마 방전을 생성하도록 상기 도파관에 설치된 방전관;
    상기 도파관을 감싸면서 고정되며, 상기 화염의 분출을 가이드하는 제1 하우징; 및
    상기 도파관을 감싸면서 상기 제1 하우징과 결합되어 고정되며, 상기 방전가스 공급부가 형성되는 제2 하우징을 포함하는 타르를 포함하는 유해가스의 처리장치.
  15. 청구항 14에 있어서,
    상기 도파관으로 유입되는 전자파는 상기 전자파 발생유닛으로부터 공급되는 타르를 포함하는 유해가스의 처리장치.
  16. 청구항 14에 있어서,
    상기 배출구로부터 배출되는 상기 유해가스는 상기 제1 하우징으로 공급되어 상기 화염에 가열되면서 분해되는 타르를 포함하는 유해가스의 처리장치.
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