KR101620463B1 - Electrostatic capacity type touch panel and manufacuring method thereof - Google Patents

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Abstract

본 발명은 제1방향으로 형성된 제1센서전극을 포함하는 제1센서층과 제2방향으로 형성된 제2센서전극을 포함하는 제2센서층이 접합되어 형성된 정전 용량 방식 터치 패널 및 그 제조 방법에 관한에 관한 것이다. 이를 위하여 본 발명에 따른 정전 용량 방식 터치 패널은 패턴화된 복수의 제1방향 센서전극을 포함하는 제1센서층; 및 패턴화된 복수의 제2방향 센서전극을 포함하는 제2센서층을 포함하고, 상기 제1방향 센서전극과 상기 제2방향 센서전극이 격자모양을 형성하도록 복수의 제1영역과 상기 제1영역을 연결하는 복수의 제2영역을 포함하여 이루어진다. The present invention relates to a capacitive touch panel formed by bonding a first sensor layer including a first sensor electrode formed in a first direction and a second sensor layer including a second sensor electrode formed in a second direction, and a method of manufacturing the same . To this end, the capacitive touch panel according to the present invention includes a first sensor layer including a plurality of patterned first direction sensor electrodes; And a second sensor layer including a plurality of patterned second direction sensor electrodes, wherein the first direction sensor electrode and the second direction sensor electrode form a plurality of first regions and first And a plurality of second regions connecting the regions.

Description

정전 용량 방식 터치 패널 및 그 제조방법{ELECTROSTATIC CAPACITY TYPE TOUCH PANEL AND MANUFACURING METHOD THEREOF}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to an electrostatic capacitive touch panel,

본 발명은 정전 용량 방식의 터치 패널 및 그 제조 방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 기재에 ITO보다 낮은 비저항 물질을 충진하여 엠베드형 센서전극을 형성함으로써 ITO로 인한 터치 성능 및 대면적화의 한계를 극복할 수 있고, 시인성이 향상된 정전 용량 방식의 터치 패널 및 그 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a capacitive touch panel and a method of manufacturing the same. More particularly, the present invention relates to a capacitive touch panel and a method of manufacturing the capacitive touch panel. And more particularly, to a capacitive touch panel having improved visibility and a manufacturing method thereof.

일반적으로 터치 장치는 디스플레이 화면상에서 사용자의 접촉 위치를 감지하고 감지된 접촉 위치에 관한 정보를 받아들여 디스플레이 화면 제어를 포함한 전자기기의 전반적인 제어를 수행하기 위한 입출력 수단이다. 특히, 멀티 터치 장치는 하나의 접촉 지점밖에 인식하지 못하는 기존 터치 장치의 한계를 개선하여, 동시에 여러 곳에서 사용자 접촉이 발생하는 경우 여러 접촉 지점을 동시에 인식함으로써 다중 입력을 지원하는 입출력 수단이다. In general, a touch device is an input / output means for sensing a contact position of a user on a display screen and receiving information about the detected contact position to perform overall control of the electronic device including the display screen control. In particular, the multi-touch device is an input / output means that supports multiple inputs by improving the limitations of existing touch devices that only recognize one touch point and simultaneously recognizing multiple contact points when user touches occur at the same time.

이와 같은 터치 장치는 터치를 감지하는 방법에 따라 저항막 방식(Resistive type), 정전 용량형(Capacitive type), 전자기 유도형(Electro-Magnetic type) 등으로 구분된다. 이 중에서 대표적인 두 가지 방법은 저항막 방식과 정전 용량 방식이다. Such a touch device is classified into a resistive type, a capacitive type, and an electromagnetic-magnetic type according to a method of sensing a touch. Two typical methods are resistive and capacitive.

저항막 방식은 투명전극이 코팅된 두 장의 기판으로 구성되며, 손가락이나 펜을 통해 압력을 주면 그 부위의 기판이 서로 달라붙으며 위치를 인지하는 방식이다. The resistive method consists of two substrates coated with a transparent electrode. When a pressure is applied through a finger or a pen, the substrate in the area sticks to each other and the position is recognized.

정전 용량 방식은 인체에서 발생하는 정전기를 감지하는 원리를 이용하는 방식으로서 내구성이 강하고 투과성이 좋으며 반응시간이 빠른 것이 특징이다. 다만 가격이 비싸고 장갑을 낀 채로는 조작할 수 없는 단점이 있다. The electrostatic capacity type is a method that uses the principle of detecting the static electricity generated in the human body, and is characterized by high durability, good permeability and quick response time. However, there is a disadvantage that the price is expensive and the gloves can not be manipulated.

특히, 종래 방식에 따른 정전 용량 방식을 이용한 터치스크린은 ITO 투명전극을 패턴닝하여 감지, 동작 센서를 형성하여 사용함으로써 터치 감도가 좋지 않고, 대면적화에 어려운 문제점이 있었다. 또한 센서전극의 패턴으로 인하여 광투과율이 좋지 않을 뿐만 아니라 시인성이 좋지 않은 문제점이 있었다.Particularly, the touch screen using the capacitance type according to the conventional method has a problem that the touch sensitivity is not good and it is difficult to make a large area by using the ITO transparent electrode by patterning and sensing and using an operation sensor. In addition, due to the pattern of the sensor electrode, not only the light transmittance is poor but also the visibility is poor.

본 발명의 목적은, 임프린팅 공정을 적용한 음각의 미세 패턴을 형성하고 음각에 ITO 대비 낮은 저항의 도전층이 형성된 다양한 Fill Factor를 가지는 터치 센서를 구성하여 시인성과 터치 감도 향상 및 성능 개선이 가능하고 대면적화에 유리한 정전 용량 방식의 정전 용량 방식의 터치 패널 및 그 제조방법을 제공하는 데 있다.It is an object of the present invention to provide a touch sensor having a variety of fill factors, in which an imprint pattern is formed and a conductive layer having a lower resistance than that of ITO is formed on the indentation, thereby improving the visibility and the touch sensitivity and improving the performance A capacitive touch panel of a capacitive type and a manufacturing method thereof, which are advantageous for large-area use.

상기 목적들을 달성하기 위한 본 발명의 일실시예에 따른 정전 용량 방식 터치 패널은, 패턴화된 복수의 제1방향 센서전극을 포함하는 제1센서층; 및 패턴화된 복수의 제2방향 센서전극을 포함하는 제2센서층을 포함한다. According to an aspect of the present invention, there is provided a capacitive touch panel including: a first sensor layer including a plurality of patterned first direction sensor electrodes; And a second sensor layer including a plurality of patterned second direction sensor electrodes.

상기 제1방향 센서전극과 상기 제2방향 센서전극은 복수의 제1영역과 상기 제1영역을 연결하는 복수의 제2영역으로 형성되는 것을 특징으로 한다. The first direction sensor electrode and the second direction sensor electrode are formed of a plurality of first regions and a plurality of second regions connecting the first regions.

상기 복수의 제1영역 및 상기 복수의 제2영역 중 적어도 어느 하나의 영역은 전극에 의하여 가장자리가 둘러싸인 형상인 것을 특징으로 한다.And at least any one of the plurality of first regions and the plurality of second regions has a shape surrounded by an electrode.

상기 복수의 제1영역 및 상기 복수의 제2영역 중 적어도 어느 하나의 영역은 가장자리가 개방되는 것을 특징으로 한다.And at least one of the plurality of first regions and the plurality of second regions is opened at an edge thereof.

상기 복수의 제1영역은 마름모 또는 육각형의 형상으로서, 영역 내부는 격자모양의 센서전극으로 형성되는 것을 특징으로 한다. The plurality of first regions are formed in a rhombic or hexagonal shape, and the inside of the region is formed of a lattice-shaped sensor electrode.

상기 제1센서층의 제1영역과 상기 제2센서층의 제1영역은 상기 제1,2센서층의 수직 방향에서 상호 겹쳐지지 않는 것을 특징으로 한다. The first region of the first sensor layer and the first region of the second sensor layer are not overlapped with each other in the vertical direction of the first and second sensor layers.

상기 정전 용량 방식 터치 패널은 상기 제1센서층과 상기 제2센서층 사이에 접합층을 추가적으로 구비하는 것을 특징으로 한다. The capacitive touch panel further includes a bonding layer between the first sensor layer and the second sensor layer.

상기 접합층은 필름 형태의 점착제(Optical Clear Adhesive)인 것을 특징으로 한다. The bonding layer is a film-type adhesive (Optical Clear Adhesive).

상기 제1방향 센서전극과 상기 제2방향 센서전극 각각은 상호 공간상에서 교차하도록 상기 제1센서층과 상기 제2센서층에 배치되는 것을 특징으로 한다. And the first direction sensor electrode and the second direction sensor electrode are disposed in the first sensor layer and the second sensor layer so as to cross each other in space.

상기 제1센서층 및 상기 제2센서층은, 투명기재와 상기 투명기재와 접하며 상부에 음각이 형성된 패턴층과, 상기 음각의 내부에 형성된 전극층을 포함하는 것을 특징으로 한다. The first sensor layer and the second sensor layer may include a transparent substrate, a pattern layer in contact with the transparent substrate and having an intaglio formed thereon, and an electrode layer formed inside the intaglio.

상기 패턴층의 단면은 사각형, 삼각형 및 사다리꼴 중 어느 하나의 형상인 것을 특징으로 한다. And the cross section of the pattern layer is a shape of any one of a quadrangle, a triangle and a trapezoid.

상기 패턴층의 상기 음각은 폭이 1㎛~10㎛이고, 깊이가 1㎛~10㎛이며, 상기 음각과 음각 사이의 피치가 200㎛~600㎛이 되도록 형성되는 것을 특징으로 한다. The embossed angle of the pattern layer is 1 to 10 탆 in width, 1 to 10 탆 in depth, and 200 to 600 탆 in pitch between the embossed angle and the embossed angle.

상기 음각의 표면과 상기 전극층 사이에는 시드층이 형성되는 것을 특징으로 한다.And a seed layer is formed between the surface of the depressed portion and the electrode layer.

상기 시드층은 Cu, Ni, Cr, Fe, W, P, Co, Ag, Ag-C, Ni-P, CuO, SiO2 중 하나 또는 그 합금인 것을 특징으로 한다. Wherein the seed layer is one of Cu, Ni, Cr, Fe, W, P, Co, Ag, Ag-C, Ni-P, CuO and SiO 2 or an alloy thereof.

상기 전극층은 ITO(Indium Tin Oxide)보다 낮은 비저항을 갖는 물질로 형성되는 것을 특징으로 한다. And the electrode layer is formed of a material having a resistivity lower than that of ITO (Indium Tin Oxide).

상기 전극층은 Cu, Ag, Ag-C, Al, Ni, Cr, Ni-P 중 어느 하나 또는 그 합금인 것을 특징으로 한다. Wherein the electrode layer is any one of Cu, Ag, Ag-C, Al, Ni, Cr, and Ni-P or an alloy thereof.

상기 정전 용량 방식 터치 패널은 광투과율이 80% 이상이고, 헤이즈가 4% 이하인 것을 특징으로 한다. The capacitance type touch panel has a light transmittance of 80% or more and a haze of 4% or less.

상기 투명기재는 점착제를 포함하는 것을 특징으로 한다.
The transparent base material is characterized by including a pressure-sensitive adhesive.

상기 목적들을 달성하기 위한 본 발명의 일실시예에 따른 정전 용량 방식의 투명전극 제조 방법은, 제1방향으로 패턴화된 제1센서전극이 생성되는 제1센서층을 형성하는 단계; 상기 제1센서층 상면에 접합층을 형성하는 단계; 상기 접합층 상면에 제2방향으로 패턴화된 제2센서전극이 생성되는 제2센서층을 형성하는 단계를 포함한다. According to an aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a transparent electrode of a capacitive type, including: forming a first sensor layer on which a first sensor electrode patterned in a first direction is formed; Forming a bonding layer on the first sensor layer; And forming a second sensor layer on the upper surface of the bonding layer in which a second sensor electrode patterned in a second direction is generated.

상기 목적들을 달성하기 위한 본 발명의 다른 실시예에 따른 정전 용량 방식의 투명전극 제조 방법은, 제1방향으로 패턴화된 제1센서전극이 생성되는 제1센서층을 형성하는 단계; 및 상기 제1센서층 상면에 제2방향으로 패턴화된 제2센서전극이 생성되는 제2센서층을 형성하는 단계를 포함하며, 상기 제2센서층은 상기 제1센서층과 접합되는 영역에 접착성의 물질을 포함하는 것을 특징으로 한다. According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a transparent electrode of a capacitive type, including: forming a first sensor layer on which a first sensor electrode patterned in a first direction is formed; And forming a second sensor layer on the first sensor layer, wherein the second sensor layer is patterned in a second direction, wherein the second sensor layer is formed in a region bonded to the first sensor layer And an adhesive material.

상기 제1센서층 및 제2센서층을 형성하는 단계는, 투명 기재에 센서전극의 패턴이 형성되는 수지층을 적층하는 단계; 상기 수지층에 상기 센서전극이 형성될 패턴에 따른 음각을 형성하는 단계; 및 상기 음각의 내부에 센서전극층을 형성하는 단계를 포함한다. The forming of the first sensor layer and the second sensor layer includes: stacking a resin layer on which a pattern of sensor electrodes is formed on a transparent substrate; Forming an engraved pattern corresponding to a pattern in which the sensor electrode is to be formed on the resin layer; And forming a sensor electrode layer inside the depressed portion.

상기 음각 형성 단계는, 몰드로 수지층을 임프린트하여 음각을 형성하는 것을 특징으로 한다.
The intaglio angle forming step is characterized in that the resin layer is imprinted with a mold to form a depressed angle.

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상기 수지층의 표면과 상기 표면처리된 음각의 내면에 시드층을 형성하는 시드층 형성 단계를 포함한다.
상기 음각 형성 단계와 상기 시드층 형성 단계의 사이에 상기 수지층의 표면 및 음각의 내면을 표면처리하는 것을 특징으로 한다. And a seed layer forming step of forming a seed layer on the surface of the resin layer and the inner surface of the surface-treated depressed portion.
And the surface of the resin layer and the inner surface of the engraved surface are treated between the engraving step and the seed layer forming step.

상기 수지층의 표면에 형성된 시드층은 상기 음각에 수지를 충진한 후 에칭으로 제거되고, 이 후에 상기 충진된 수지도 제거되는 것을 특징으로 한다. The seed layer formed on the surface of the resin layer is removed by etching after filling the recessed angle with the resin, and then the filled resin is also removed.

상기 음각에 ITO(Indium Tin Oxide)보다 낮은 비저항을 갖는 금속층이 형성되는 것을 특징으로 한다. And a metal layer having a resistivity lower than that of ITO (indium tin oxide) is formed in the recessed angle.

상기 수지층의 표면과 상기 음각에는 금속성 물질의 전도성 고분자를 코팅한 후 상기 음각을 제외한 수지층 표면의 잔여물을 블레이드로 제거하는 것을 특징으로 한다. A conductive polymer of a metallic material is coated on the surface of the resin layer and the depressed angle, and then the residue of the surface of the resin layer excluding the depressed angle is removed with a blade.

본 발명의 실시예들에 따른 정전 용량 방식 터치 패널 및 그 제조 방법은, 임프린팅 공정을 적용한 음각의 미세 패턴을 형성하고 음각에 ITO 대비 낮은 비저항의 도전층이 형성된 다양한 Fill Factor를 가지는 터치 센서를 구성하여 터치 감도 및 성능 개선하고, 대면적화할 수 있는 효과가 있다.The capacitive touch panel and the method of manufacturing the same according to embodiments of the present invention include a touch sensor having a variety of fill factors formed by forming an imprinted fine pattern using an imprinting process and a conductive layer having a low specific resistance relative to ITO So that the touch sensitivity and the performance can be improved and the size can be increased.

또한, 본 발명의 실시예들에 따른 정전 용량 방식 터치 패널 및 그 제조 방법은, 센서전극으로 인하여 제한받는 광투과율을 개선하고, 센서전극을 격자형상으로 배치함으로써 시인성을 개선하고, 이와 아울러 음각에 전극부를 형성하여 전극부가 노출되는 것을 방지함으로써 우수한 내구성을 제공할 수 있는 효과가 있다.In addition, the capacitive touch panel and the method of manufacturing the same according to embodiments of the present invention improve the light transmittance limited by the sensor electrode, improve the visibility by arranging the sensor electrodes in a lattice form, The electrode portion is formed to prevent the electrode portion from being exposed, thereby providing an excellent durability.

도 1(a) 및 도 1(b)는 본 발명의 일실시예에 따른 터치 패널에서 상층의 x축 센서전극을 포함한 제1센서층의 평면도와, 하층의 y축 센서전극을 포함한 제2센서층의 평면도이다.
도 2는 도 1(a)의 선 A-A'에서의 단면도이다.
도 3은 도 1(a)의 선 B-B'에서의 단면도이다.
도 4는 센서전극이 형성되기 전의 가로센서전극 및 세로센서전극이 형성될 음각이 형성된 도 1(b)의 제1영역의 일부를 도시한 것이다.
도 5(a)는 패턴층에 음각을 형성할 다양한 형상의 몰드와 해당 몰드에 의하여 형성된 음각의 형상을 도시한 것이고, 도 5(b)는 사각형상의 몰드에 의하여 형성된 음각이 형성된 패턴층의 평면도이다.
도 6(a) 내지 6(f)는 본 발명의 일실시예에 따른 터치 패널의 임의의 센서층에서 음각의 단면이 사각형인 경우에 센서전극이 형성되는 과정을 도시한 것이다.
도 7은 음각에 시드층 없이 센서전극과 전도성 고분자를 코팅한 후에 센서전극 이외 패턴층 표면의 잔여물을 블레이드로 제거하는 과정을 도시한 것이다.
도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 터치 패널에 형성된 센서전극이 형성된 임의의 센서층의 평면도를 도시한 것이다.
도 9는 본 발명의 또다른 실시예에 따른 터치 패널에 형성된 센서전극의 평면도를 도시한 것이다.
도 10은 본 발명의 일실시예에 따른 터치 패널 제조 방법의 순서도를 도시한 것이다.
도 11은 도 10에서의 센서층이 형성되는 과정의 순서도를 도시한 것이다.1 (a) and 1 (b) are plan views of a first sensor layer including an upper x-axis sensor electrode in a touch panel according to an embodiment of the present invention and a second sensor layer including a y- Lt; / RTI >
Fig. 2 is a cross-sectional view taken along the line A-A 'in Fig. 1 (a).
Fig. 3 is a cross-sectional view taken along the line B-B 'in Fig. 1 (a).
FIG. 4 shows a part of the first region of FIG. 1 (b) in which the transverse sensor electrode before the sensor electrode is formed and the engraved portion where the longitudinal sensor electrode is to be formed.
FIG. 5 (a) shows a mold having various shapes for forming an engraved pattern on a pattern layer and a shape of a relief formed by the mold, and FIG. 5 (b) to be.
6 (a) to 6 (f) illustrate a process in which a sensor electrode is formed when an arbitrary sensor layer of a touch panel according to an embodiment of the present invention has a quadrilateral cross section.
FIG. 7 illustrates a process of removing a residue of a pattern layer surface by a blade other than a sensor electrode after coating the sensor electrode and the conductive polymer without a seed layer in the recessed angle.
8 is a plan view of an arbitrary sensor layer formed with sensor electrodes formed on a touch panel according to another embodiment of the present invention.
9 is a plan view of a sensor electrode formed on a touch panel according to another embodiment of the present invention.
10 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a touch panel according to an embodiment of the present invention.
FIG. 11 is a flowchart showing the process of forming the sensor layer in FIG.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면들을 참조하여 상세히 설명한다. 우선 각 도면의 구성 요소들에 참조 부호를 부가함에 있어서, 동일한 구성 요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 부호를 가지도록 하고 있음에 유의해야 한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략하며, 단수로 기재된 용어도 복수의 개념을 포함할 수 있다. 또한, 이하에서 본 발명의 바람직한 실시예를 설명할 것이나, 본 발명의 기술적 사상은 이에 한정하거나 제한되지 않고 당업자에 의해 변형되어 다양하게 실시될 수 있음은 물론이다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the drawings, the same reference numerals are used to designate the same or similar components throughout the drawings. In the following description of the present invention, a detailed description of known functions and configurations incorporated herein will be omitted when it may make the subject matter of the present invention rather unclear. The terms used in the singular may also include a plurality of concepts . In addition, the preferred embodiments of the present invention will be described below, but it is needless to say that the technical idea of the present invention is not limited thereto and can be variously modified by those skilled in the art.

도 1(a) 및 도 1(b)는 본 발명의 일실시예에 따른 터치 패널에서 상층의 x축 센서전극을 포함한 제1센서층의 평면도와, 하층의 y축 센서전극을 포함한 제2센서층의 평면도이다. 도 2는 도 1(a)의 선 A-A'에서의 단면도이고, 도 3은 도 1(a)의 선 B-B'에서의 단면도이다. 도 4는 센서전극이 형성되기 전의 가로센서전극 및 세로센서전극이 형성될 음각이 형성된 도 1(b)의 제1영역의 일부를 도시한 것이다. 1 (a) and 1 (b) are plan views of a first sensor layer including an upper x-axis sensor electrode in a touch panel according to an embodiment of the present invention and a second sensor layer including a y- Lt; / RTI > Fig. 2 is a cross-sectional view taken along the line A-A 'of Fig. 1 (a), and Fig. 3 is a cross-sectional view taken along the line B-B' of Fig. FIG. 4 shows a part of the first region of FIG. 1 (b) in which the transverse sensor electrode before the sensor electrode is formed and the engraved portion where the longitudinal sensor electrode is to be formed.

도 1 내지 도 3을 참조하면, 본 발명의 일실시예에 따른 터치 패널(10)은 패턴화된 복수의 제1방향 센서전극(D1L1,2,3...)을 포함하는 제1센서층(100); 및 패턴화된 복수의 제2방향 센서전극(D2L1,2,3...)을 포함하는 제2센서층(200)으로 이루어진다.1 to 3, a touch panel 10 according to an embodiment of the present invention includes a first sensor layer including a plurality of patterned first direction sensor electrodes D1L1, (100); And a second sensor layer 200 including a plurality of patterned second direction sensor electrodes D2L1, 2, 3, ....

여기서, 상기 복수의 제1,2방향 센서전극의 수는 용도의 따른 터치 패널의 크기에 따라 광범위하게 다양한 수로 결정될 수 있다. Here, the number of the first and second direction sensor electrodes may be variously determined according to the size of the touch panel.

상기 제1센서층(100)과 상기 제2센서층(200)은 상하로 배열되며, 본 실시예에서는 상기 제1센서층(100)이 상층이며, 제2센서층(200)이 하층이다. 즉, 상기 제2센서층이 먼저 형성되고, 그 위에 상기 제1센서층이 형성된다. 이 경우에는 별도의 접합층 없이 제1센서층(100)의 하층이 OCA(Optical Clear Adhesive)와 같은 점착성을 가지는 점착제 등의 물질을 포함하여 제2센서층(200)의 상층과 접합되는 것이 바람직하다. The first sensor layer 100 and the second sensor layer 200 are vertically arranged. In the present embodiment, the first sensor layer 100 is an upper layer and the second sensor layer 200 is a lower layer. That is, the second sensor layer is formed first, and the first sensor layer is formed thereon. In this case, it is preferable that the lower layer of the first sensor layer 100 is bonded to the upper layer of the second sensor layer 200, including a material such as an adhesive having adhesiveness such as OCA (Optical Clear Adhesive), without a separate bonding layer Do.

그러나 상기 제1센서층(100)과 상기 제2센서층(200) 사이에 별도의 접합층(300)이 형성되어 상기 제1센서층과 상기 제2센서층을 접합시키는 것이 가능하면, 이 경우에는 상기 접합층(300)이 필름 형태의 점착제(Optical Clear Adhesive)인 것이 바람직하다. 이와 같이 별도의 접합층(300)을 이용하는 경우에는 절연적인 측면에서는 더욱 유리하다. However, if it is possible to form a separate bonding layer 300 between the first sensor layer 100 and the second sensor layer 200 to bond the first sensor layer and the second sensor layer, It is preferable that the bonding layer 300 is a film-type adhesive (Optical Clear Adhesive). The use of the separate bonding layer 300 as described above is more advantageous in terms of insulation.

상기 제1방향 센서전극(D1Lx)과 상기 제2방향 센서전극(D2Lx)의 각각은 상호 공간상에서 교차하도록 상기 제1센서층(100)과 상기 제2센서층(200)에 배치된다. 일례를 들면, 상기 제1방향 센서전극은 상기 제1센서층에서 가로방향으로 형성되고, 상기 제2방향 센서전극은 상기 제2센서층에서 세로방향으로 형성되는 것이 가능하다. The first direction sensor electrode D1Lx and the second direction sensor electrode D2Lx are disposed in the first sensor layer 100 and the second sensor layer 200 so as to cross each other in space. For example, the first direction sensor electrode may be formed in a lateral direction in the first sensor layer, and the second direction sensor electrode may be formed in a longitudinal direction in the second sensor layer.

상기 제1방향 센서전극은 투명전극 필름의 표면에서 물체의 접촉을 감지하는 복수의 제1영역(R1)과 상기 제1영역을 연결하는 복수의 제2영역(R2)으로 형성된다. 상기 제2방향 센서전극은 상기 제1방향 센서전극에서 복수의 제1영역(R1)과 복수의 제2영역(R2)이 상기 투명전극 필름의 가로방향으로 형성된 것과는 달리 세로방향으로 형성된 점을 제외하면, 동일한 형상의 복수의 제1영역(R3)과 복수의 제2영역(R4)을 구비한다. 다만, 상기 제1센서층의 제1영역(R1)이 가로축의 위치 정보를 감지하는 것과는 다르게, 상기 제2센서층의 제1영역(R3)은 세로축의 위치 정보를 감지하는 동작을 수행한다. 따라서 터치 패널(10) 상에서 터치된 위치를 정확하게 찾을 수 있다. The first direction sensor electrode is formed of a plurality of first regions (R1) for sensing contact of objects on the surface of the transparent electrode film and a plurality of second regions (R2) connecting the first regions. The second direction sensor electrode may include a plurality of first regions R1 and a plurality of second regions R2 in the first direction sensor electrode, A plurality of first regions R3 and a plurality of second regions R4 having the same shape are provided. However, unlike the first region R1 of the first sensor layer sensing the positional information of the horizontal axis, the first region R3 of the second sensor layer performs the operation of detecting the positional information of the vertical axis. Therefore, the position touched on the touch panel 10 can be accurately detected.

상기 복수의 제1영역(R1,R3)은 상기 투명전극 필름의 표면에 터치되는 물체의 감지가 용이하도록 상기 복수의 제2영역(R2,R4)보다 넓게 형성되는 것이 바람직하다. The plurality of first regions R 1 and R 3 may be formed to be wider than the plurality of second regions R 2 and R 4 so that an object to be touched on the surface of the transparent electrode film can be easily detected.

상기 복수의 제1영역(R1,R3) 및 상기 복수의 제2영역(R2,R4)은 테두리 전극(115c)에 의하여 가장자리가 둘러싸이도록 형성되는 것이 가능하다. 상기 복수의 제1영역(R1)은 마름모 또는 육각형 등의 다양한 형상으로서, 영역 내부는 격자모양의 센서전극으로 형성된다. 즉, 도 1(a), (b)의 제1영역(R1,R3)에서 도시된 바와 같이, 복수의 가로방향의 센서전극(115a)과 복수의 세로방향의 센서전극(115b)이 상호 교차하도록 형성되다. 도 4에서 알 수 있는 바와 같이, 가로센서전극이 충진될 음각 영역(211a)과 세로센서전극이 충진될 음각 영역(211b)이 상호 교차하는 교차영역(211c)은 비교차 영역(211a,211b)에서보다 다소 넓은 영역으로 형성된다. The plurality of first regions R1 and R3 and the plurality of second regions R2 and R4 may be formed so as to be surrounded by the rim electrode 115c. The plurality of first regions R1 may have various shapes such as a rhombus or a hexagon, and the inside of the region is formed by a lattice-shaped sensor electrode. That is, as shown in the first regions R1 and R3 of Figs. 1 (a) and 1 (b), a plurality of transverse sensor electrodes 115a and a plurality of transversal sensor electrodes 115b cross each other . 4, the intersection area 211c where the intaglio area 211a in which the transverse sensor electrode is to be filled and the intaglio area 211b in which the longitudinal sensor electrode is to be filled with each other intersects the comparison areas 211a and 211b, As shown in FIG.

이와 같이 센서전극이 제1센서층과 제2센서층에서 가로 방향과 세로 방향의 격자모양으로 형성됨으로써, 센서층의 광투과율을 개선할 수 있다. 뿐만 아니라 가로 방향의 센서전극(115a, 215b)과 복수의 세로 방향의 센서전극(115b,215a)의 말단은 테두리 전극(115c,215c)으로 연결되어 상기 제1영역(R1,R3)의 저항성이 증가되는 것을 방지함으로써, 상기 제1,2층의 제1,2센서전극으로 충분한 양의 전류량이 유입될 수 있어 터치 패널의 터치 감도를 향상시킬 수 있다.As described above, the sensor electrodes are formed in the first sensor layer and the second sensor layer in a lattice shape in the horizontal and vertical directions, thereby improving the light transmittance of the sensor layer. The end portions of the sensor electrodes 115a and 215b in the lateral direction and the sensor electrodes 115b and 215a in the longitudinal direction are connected to the edge electrodes 115c and 215c so that the resistances of the first and second regions R1 and R3 A sufficient amount of current can be introduced into the first and second sensor electrodes of the first and second layers, thereby improving the touch sensitivity of the touch panel.

상기 제1센서층(100)의 제1영역(R1)과 상기 제2센서층(200)의 제1영역(R3)은 상기 제1,2센서층의 수직 방향에서 상호 겹쳐지지 않도록 배치된다. 본 발명에 따른 정전 용량 방식 터치 패널(10)을 상층인 제1센서층(100)에서 내려다보면 상기 제2센서층(200)의 제1영역(R1)은 상기 제1센서층(100)에서 센서전극의 패턴이 형성되지 않은 영역(110)에 형성된다.
The first region R1 of the first sensor layer 100 and the first region R3 of the second sensor layer 200 are disposed so as not to overlap with each other in the vertical direction of the first and second sensor layers. When the capacitive touch panel 10 according to the present invention is viewed from the first sensor layer 100 as an upper layer, the first region R1 of the second sensor layer 200 is viewed from the first sensor layer 100 Is formed in the region 110 where the pattern of the sensor electrode is not formed.

도 2 및 도 3에서 도시된 바와 같이, 터치 패널(10)의 A-A' 및 B-B'에서의 절단면을 보면, 제1센서층(100)과 제2센서층(200)은 투명기재(120,220) 상에 패턴층을 포함하고 있는 수지층(110,210)이 적층되어 있고, 그 내부에 음각이 형성되어 있다. 상기 음각은 그 내부에 시드층(113,213)과 전극층(115,215)를 포함하고 있다. 본 실시예에서는 음각은 하부에 수지층(110,210)이 남아 있어 투명기재와 관통되지는 않는다. 또한, 제1센서층(100)과 제2센서층(200)은 접합층(300)에 의하여 접합될 수 있다.2 and 3, the first sensor layer 100 and the second sensor layer 200 are formed on the transparent substrates 120 and 220, respectively, as seen from the cut surfaces AA 'and BB' of the touch panel 10, , A resin layer 110, 210 including a pattern layer is laminated, and a depressed portion is formed in the resin layer 110, 210. The intaglio angle includes seed layers 113 and 213 and electrode layers 115 and 215 inside. In the present embodiment, the engraved portions remain in the lower portion of the resin layers 110 and 210, and do not penetrate the transparent substrate. Also, the first sensor layer 100 and the second sensor layer 200 may be bonded by the bonding layer 300.

도 5(a)는 패턴층에 음각을 형성할 다양한 형상의 몰드와 해당 몰드에 의하여 형성된 음각의 형상을 도시한 것이고, 도 5(b)는 사각형상의 몰드에 의하여 형성된 음각이 형성된 패턴층의 평면도이다.FIG. 5 (a) shows a mold having various shapes for forming an engraved pattern on a pattern layer and a shape of a relief formed by the mold, and FIG. 5 (b) to be.

도 5(a)를 참조하면, 투명기재(120) 위에 적층된 수지층(110)에 센서전극이 형성될 음각의 단면과, 상기 음각을 형성한 몰드(400)가 도시되어 있다. 일례를 들면, 상기 음각의 단면은 사각형, 삼각형, 마름모 형상을 이룰 수 있다. 상기 음각이 다양한 형상을 가질지라도 음각의 폭과, 격자 패턴을 이루기 위한 음각 간의 간격인 피치는 Fill factor를 얻을 수 있도록 표 1에 표시된 일정한 범위의 값을 갖는다. 상기 음각의 깊이는 형성될 수지층의 높이와 동일하게 형성될 수도 있으나, 음각의 바닥면에는 일부의 수지층이 남아있어 투명기재의 표면에 전극층이 형성되지 않는 것이 바람직하다. Referring to FIG. 5A, there is shown a section of the engraved surface at which the sensor electrode is to be formed on the resin layer 110 laminated on the transparent substrate 120, and the mold 400 having the engraved surface. For example, the cross section of the engraved shape may be a square, a triangle, or a rhombus shape. Although the intaglio angles have various shapes, the pitch, which is the interval between the intaglio angles and the intaglio angles for forming the lattice pattern, has a certain range of values shown in Table 1 so as to obtain a fill factor. Although the depth of the engraved angle may be the same as the height of the resin layer to be formed, it is preferable that a part of the resin layer remains on the bottom surface of the engraved surface so that no electrode layer is formed on the surface of the transparent substrate.

도 5(b)와 수학식 1을 참조하면, 상기 Fill Factor는 하나의 센서층에 형성된 격자형상 또는 다중의 센서층을 적층함으로써 나타나는 격자형상의 임의의 터치 센서의 면적으로 전도층이 차지하는 면적을 나눈 비율로 정의되며, 아래 [수학식 1]로 표현된다.5 (b) and (1), the Fill Factor is an area of a lattice-shaped arbitrary touch sensor formed by laminating a lattice shape or multiple sensor layers formed on one sensor layer, , And is expressed by the following equation (1).

Figure 112011082700328-pat00001
Figure 112011082700328-pat00001

이와 같이 정의되는 Fill Factor가 1.4보다 작은 경우, 투과율은 증가하지만 전도층의 저항 상승과 정전 용량의 접촉면적이 감소하여 터치 동작 수행이 원활하지 않을 가능성이 있으며, Fill Factor가 10보다 큰 경우 전도층이 차지하는 면적이 커서 투과율이 저하되고 패턴이 시인되는 단점이 있다.When the Fill Factor defined above is less than 1.4, there is a possibility that the touch operation may not be performed smoothly because the increase of the resistance of the conductive layer and the contact area of the capacitance are decreased. However, when the fill factor is larger than 10, The transmittance is lowered and the pattern is visually observed.

이에 따라 Fill Factor는 1.4 ~7.0% 사이의 값을 갖는 것이 바람직하며, 상기 Fill Factor의 값에 따라 선폭과 피치를 적절히 조정하여 사용하는 것이 좋다.Accordingly, it is preferable that the fill factor has a value between 1.4 and 7.0%, and it is preferable to adjust the line width and the pitch appropriately according to the value of the fill factor.

선폭(㎛)Line width (탆) 피치( ㎛ )Pitch (占 퐉) Fill Factor( % )Fill Factor (%) 1 ~ 5 1-5 100 100 1.9 ~ 10 1.9 to 10 200 200 2.5 ~ 5.0 2.5 to 5.0 300 300 1.9 ~ 3.5 1.9 to 3.5 400 400 1.4 ~ 2.5 1.4 to 2.5 500 500 0.4 ~ 1.9 0.4 to 1.9 600 600 0.3 ~ 1.7 0.3 to 1.7 6 ~ 106 to 10 100 100 11 ~ 19 11-19 200 200 5.9 ~ 10 5.9-10 300 300 3.9 ~ 7.0 3.9 to 7.0 400 400 2.9 ~ 5.0 2.9 to 5.0 500 500 2.3 ~ 3.9 2.3 ~ 3.9 600 600 1.9 ~ 3.3 1.9 to 3.3

도 6(a) 내지 6(f)는 본 발명의 일실시예에 따른 터치 패널의 임의의 센서층에서 음각의 단면이 사각형인 경우에 센서전극이 형성되는 과정을 도시한 것이고, 도 7은 음각에 시드층 없이 센서전극과 전도성 고분자를 코팅한 후에 센서전극 이외 패턴층 표면의 잔여물을 블레이드로 제거하는 과정을 도시한 것이다. 6 (a) to 6 (f) illustrate a process in which a sensor electrode is formed when a cross section of an engraved surface is rectangular in an arbitrary sensor layer of a touch panel according to an embodiment of the present invention, and Fig. 7 A sensor electrode and a conductive polymer are coated without a seed layer, and then a residue of the surface of the pattern layer other than the sensor electrode is removed with a blade.

도 10 내지 도 11을 참조하면, 먼저 제1방향으로 패턴화된 제1센서전극이 생성되는 제1센서층을 형성하고(S100), 상기 제1센서층 상면에 상기 제2센서층을 접합시키기 위하여 점착제(OCA)인 접합층을 형성하고(S200), 상기 접합층 상면에 제2방향으로 패턴화된 제2센서전극이 생성되는 제2센서층을 형성(S300)함으로써, 투명전극 필름으로 이루어진 터치 패널을 제조한다. Referring to FIGS. 10 to 11, a first sensor layer in which a first sensor electrode patterned in a first direction is formed is formed (S100), and the second sensor layer is bonded to the upper surface of the first sensor layer A second sensor layer is formed on the bonding layer to form a second sensor electrode patterned in the second direction (S300) (S300), thereby forming a transparent electrode film Thereby manufacturing a touch panel.

상기 점착제는 필름 형태로서 상기 제1센서층과 상기 제2센서층 사이에서 라미네이션되어 상기 제1,2센서층을 접합시키는 것이 바람직하다. Preferably, the adhesive is laminated between the first sensor layer and the second sensor layer in the form of a film to bond the first and second sensor layers.

또 다른 실시예에서는, 상기 제1센서층과 상기 제2센서층이 상기 제1센서층의 하부층이 점착성 물질을 포함함으로써 상호 접합되는 것도 가능하다. 즉, 별도의 접합층없이 상기 제1,2센서층 중 어느 하나의 센서층에서 접합층의 역할도 함께 수행함으로써 터치 패널의 두께를 줄일 수 있다. In another embodiment, the first sensor layer and the second sensor layer may be bonded to each other by including a sticky substance in the lower layer of the first sensor layer. That is, the thickness of the touch panel can be reduced by performing the bonding layer function in any one of the first and second sensor layers without a separate bonding layer.

본 실시예에서는 상기 제1센서층 및 상기 제2센서층은 동일한 과정을 통하여 형성되며, 도1 내지 도 6을 참조하여 상기 제2센서층을 기준으로 센서층의 형성과정을 상세히 설명하겠다. In the present embodiment, the first sensor layer and the second sensor layer are formed through the same process, and the process of forming the sensor layer with reference to the second sensor layer will be described in detail with reference to FIGS.

도 6(a) 내지 6(f)를 참조하면, 투명기재(220) 위에 수지층(210)을 적층한다.(S110,S310) 상기 투명기재(220)에는 수지성 필름 또는 글라스가 사용할 수 있다. 6A to 6F, a resin layer 210 is laminated on a transparent substrate 220. (S110, S310) A resin film or glass can be used for the transparent substrate 220 .

수지성 필름이 사용되는 경우는 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리카보네이트(PC), 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA), 트리아세테이트 셀룰로즈(TAC), 폴리에테르설폰(PES) 등의 열가소성 수지를 사용할 수 있고, 두께는 예를 들면, 25~250㎛ 범위가 적합하고, 광선 투과율은 80% 이상, 더욱 바람직하게는 90% 이상이 적합하다. 수지성 필름을 투명기재로 사용하는 경우에는, PSA(Pressure Sensitive Adhesive)와 같은 점착제가 포함된 재료를 사용할 수 있다. When a resin film is used, a thermoplastic resin such as polyethylene terephthalate (PET), polycarbonate (PC), polymethyl methacrylate (PMMA), triacetate cellulose (TAC), polyethersulfone (PES) The thickness is suitably in the range of 25 to 250 mu m, for example, and the light transmittance is preferably 80% or more, more preferably 90% or more. When a resinous film is used as a transparent substrate, a material including a pressure-sensitive adhesive such as PSA (Pressure Sensitive Adhesive) may be used.

수지층(210)으로는 UV 경화 수지 또는 열경화성 수지를 사용할 수 있다.As the resin layer 210, a UV curable resin or a thermosetting resin can be used.

그리고 나서 도 6(b)와 같이, 수지층(210)에 몰드(400)를 임프린트하여, 패턴화된 음각(211)을 형성한다.(S120,S320) 수지층(210)으로 UV 경화 수지 또는 열경화성 수지를 사용하는 경우는 경화되기 전의 재료에 몰드(400)를 압착하고 누른 상태에서 UV 또는 열을 가해서 수지층(210)을 경화시킨 후에, 몰드(400)를 제거함으로써 음각(211)을 형성할 수 있다.6 (b), the mold 400 is imprinted on the resin layer 210 to form a patterned engraved pattern 211. (S120, S320) As the resin layer 210, a UV- In the case of using a thermosetting resin, the mold 400 is removed by pressing the mold 400 on the material before curing and curing the resin layer 210 by applying UV or heat while pressing the mold 400, can do.

이때, 수지층(210)에 음각을 형성하기 위한 양각 형상의 몰드(400)는 표면 조도가 충분히 낮은 재질을 사용하여 음각 패턴닝 후 헤이즈(Haze)가 4% 이하가 되도록 하는 것이 바람직하다.At this time, it is preferable to use a material having a sufficiently low surface roughness so that the haze of the mold 400 becomes 4% or less after patterning of the embossed pattern.

도 6(b)에서는 수지층(210)에 형성되는 수지에 형성된 음각의 패턴 모양이 사각형이나, 도 5에 도시된 바와 같이 다양한 모양의 몰드를 사용하여, 다양한 음각의 패턴 모양을 얻을 수 있다. 수지층(210)에 형성된 음각의 패턴 크기는 실시예에 따라 달라질 수 있으나, 선폭이 1㎛~10㎛이고, 깊이가 1㎛~10㎛이고, 피치가 200㎛~600㎛을 갖는 것이 바람직하다. In FIG. 6 (b), the shape of the embossed pattern formed on the resin formed on the resin layer 210 is rectangular, but various shapes of the embossed pattern can be obtained by using molds having various shapes as shown in FIG. The pattern size of the engraved pattern formed on the resin layer 210 may vary depending on the embodiment, but it is preferable that the line width is 1 탆 to 10 탆, the depth is 1 탆 to 10 탆, and the pitch is 200 탆 to 600 탆 .

그리고 나서, 도 6(c)에 도시된 바와 같이 상기 음각(211)의 표면과 수지층(210)의 표면에 이후에 형성될 시드층(213)과 수지층(210)의 부착성을 향상시키기 위한 표면 처리층(212)을 형성하는 것이 바람직하다.(S130,S330) 표면 처리로는 알칼리계 수용액을 이용한 화학 에칭 또는 촉매 처리, 플라즈마 또는 이온빔 처리 등을 적용할 수 있다. 6 (c), adhesion of the seed layer 213 and the resin layer 210 to be formed later on the surface of the engraved surface 211 and the surface of the resin layer 210 is improved (S130, S330) As the surface treatment, a chemical etching or a catalyst treatment using an alkaline aqueous solution, a plasma treatment or an ion beam treatment can be applied.

그리고 나서, 도 6(d)에 도시된 바와 같이, 상기 표면처리층(212) 위에 시드층(213)을 형성한다.(S140,S340) 상기 시드층(213)은 이용하여 무전해 도금, CVD 증착, 스퍼터링 또는 인쇄법으로 형성할 수 있다. 상기 시드층의 재료는 구리(Cu), 니켈(Ni), 크롬(Cr), 철(Fe), 텅스텐(W), 인(P), 코발트(Co), 은(Ag), 은- 카본(Ag-C), 니켈-인(Ni-P), 산화구리II(CuO), 무기물(SiO2) 중 하나 또는 그 합금을 사용할 수 있고, 두께는 0.01㎛~5㎛를 갖는 것이 바람직하다.6 (d), a seed layer 213 is formed on the surface treatment layer 212. (S140, S340) The seed layer 213 is formed by electroless plating, CVD Evaporation, sputtering or printing. The material of the seed layer may be at least one selected from the group consisting of copper (Cu), nickel (Ni), chromium (Cr), iron (Fe), tungsten (W), phosphorus (P), cobalt (Co), silver (Ag) Ag-C), nickel-phosphorus (Ni-P), copper oxide II (CuO), and inorganic material (SiO 2 ) or an alloy thereof. The thickness is preferably 0.01 μm to 5 μm.

도 6(e)를 참조하면, 음각의 패턴 영역 이외의 수지층 표면에서 시드층(213)을 제거하는 방법은 패턴영역인 음각의 내부에 내에칭성을 가지는 수지를 충진시킨 후,(S150,S350) 에칭액에 침적시켜 선택적으로 수치증의 표면에 형성된 시드층을 제거한다.(S160,S360) 이 경우에 상기 에칭에 사용되는 약품은 질산 계열, 황산 계열, 염산 계열, 황산동 계열, 염화제이철, 염화동 중 어느 하나를 포함한다. Referring to FIG. 6E, a method of removing the seed layer 213 from the surface of the resin layer other than the pattern area of the depressed area includes filling the interior of the depressed pattern, which is a pattern area, with an etch- S350), the seed layer selectively formed on the surface of the digitizer is removed (S160, S360). In this case, the chemical used in the etching may be nitric acid, sulfuric acid, hydrochloric acid, copper sulfate, Lt; / RTI >

도 6(f)를 참조하면, 전극층(215)은 시드층(213)에 무전해 도금, 전해 도금, CVD 증착, 스퍼터링, 코팅법 또는 인쇄법으로 형성할 수 있다.(S170,S370) 전극층(215)은 ITO(Indium Tin Oxide)보다 낮은 비저항을 갖는 물질로 형성되는 것이 바람직하며, 특히 재료는 동(Cu), 은(Ag), 은- 카본(Ag-C), 알루미늄(Al), 니켈(Ni), 크롬(Cr), 니켈-인(Ni-P) 중 어느 하나 또는 그 합금을 사용할 수 있다.6 (f), the electrode layer 215 can be formed on the seed layer 213 by electroless plating, electroplating, CVD deposition, sputtering, coating, or printing (S170, S370) 215 may be formed of a material having a lower resistivity than that of ITO. Particularly, the material may be selected from the group consisting of copper (Cu), silver (Ag), silver-carbon (Ag-C) (Ni), chromium (Cr), and nickel-phosphorus (Ni-P) or an alloy thereof.

도 7을 참조하면, 다른 실시예로는 상기 패턴층에 시드층 없이 상기의 금속 재료와 전도성 고분자를 코팅하고 그외의 표면에는 잔여물이 남지 않게 닦아내거나 긁어내어 투명전극 필름을 제조할 수 있다.(S180,S380) 이때의 두께는 1㎛~10㎛를 갖는다. 상기 수지층(210)의 음각 패턴에 충진된 금속층의 높이는 수지층(210)에 형성된 음각 패턴 깊이와 동일하거나 작은 것이 바람직하다. Referring to FIG. 7, in another embodiment, the transparent electrode film can be manufactured by coating the metal layer and the conductive polymer on the pattern layer without the seed layer, and wiping or scraping off the remaining surface of the pattern layer without leaving a residue. (S180, S380) At this time, the thickness has 1 占 퐉 to 10 占 퐉. The height of the metal layer filled in the engraved pattern of the resin layer 210 is preferably equal to or smaller than the depth of the engraved pattern formed in the resin layer 210.

상기 터치 패널의 센서전극의 패턴은 일실시예에 불과하며, 터치의 감지와 동작 기능을 수행하는 복수의 센서전극을 다양한 구조로 패턴화하여 적용하는 것이 가능하다. 이와 같은 센서전극의 패턴은 센서전극 전체 면적대비 도전층 역할을 수행하는 선이 형성된 면적을 비율로 계산한 Fill Factor와 관련되고, 본 실시예에 따른 터치 패널의 Fill Factor는 표 1에 기술되어 있다. The pattern of the sensor electrode of the touch panel is merely an embodiment, and it is possible to pattern and apply a plurality of sensor electrodes that perform touch sensing and operation functions in various structures. The pattern of the sensor electrode is related to a fill factor calculated by a ratio of an area where a line serving as a conductive layer to a total area of the sensor electrode is formed and a fill factor of the touch panel according to the present embodiment is described in Table 1 .

도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 터치 패널에 형성된 센서전극이 형성된 임의의 센서층의 평면도를 도시한 것이고, 도 9는 본 발명의 또다른 실시예에 따른 터치 패널에 형성된 센서전극의 평면도를 도시한 것이다.FIG. 8 is a plan view of an arbitrary sensor layer formed with a sensor electrode formed on a touch panel according to another embodiment of the present invention, and FIG. 9 is a plan view of a sensor electrode formed on a touch panel according to another embodiment of the present invention. FIG.

도 8은 도 1(a) 및 (b)에서 센서전극의 감지 및 동작 영역의 외부에 형성된 테두리 전극을 제거, 즉 센서전극의 가장자리를 개방하여 시인성을 최소화하는 구조(제1센서층과 제2센서층을 겹쳤을 때 가로센서전극과 세로센서전극이 연속되는 것으로 보이므로 시인성이 낮아진다. 만약 테두리 전극이 있다면 테두리 전극이 가로센서전극과 세로센서전극과 약 45°의 각도를 이루게 되므로 테두리 전극이 시인된다)로 적용한 실시예이며, 이 경우에도 동일한 센서층에서 형성된 가로센서전극과 세로센서전극의 교차영역에서의 Fill Factor는 표 1과 동일하다. FIG. 8 is a cross-sectional view illustrating a structure in which the edge electrodes formed on the outside of the sensing and operation region of the sensor electrode are removed, that is, the edge of the sensor electrode is opened to minimize the visibility in FIGS. 1 (a) and (b) If the sensor electrode is overlapped with the transverse sensor electrode and the longitudinal sensor electrode, the visibility of the transverse sensor electrode is lower than that of the transverse sensor electrode. In this case, the fill factor in the crossing region of the horizontal sensor electrode and the vertical sensor electrode formed in the same sensor layer is the same as in Table 1.

도 9는 각각의 센서층에 수직 또는 수평 방향의 복수의 미세 센서전극 선을 구성한 것을 도시한 것이며, 터치 패널의 평면도 상에서 서로 다른 센서층에 있는 센서전극 선들이 X 및 Y축으로 교차하는 격자 형상으로 표시된다. 이 경우에도 센서전극 선들이 X 및 Y축으로 교차하는 부분의 Fill Factor는 표 1과 동일하며, 도 1의 테두리 전극을 구비한 형상에 대비하여 센서전극 선의 시인성 측면에서 유리한 구조이다. 9 shows a plurality of fine sensor electrode lines in the vertical or horizontal direction on each sensor layer. In the plan view of the touch panel, the sensor electrode lines in different sensor layers intersect in the X and Y axes . In this case, the fill factor of the portion where the sensor electrode lines intersect in the X and Y axes is the same as in Table 1, and is advantageous in terms of the visibility of the sensor electrode line as compared with the shape having the rim electrode in Fig.

이와 같은 방법으로 센서전극은 선폭, 피치별로 다양한 Fill Factor를 가질 수 있으며 이 Fill Factor 범위에서 사각형, 오각형, 육각형, 타원형 등 다양한 모양으로 센서를 구성할 수 있는 것을 특징으로 한다. In this way, the sensor electrode can have various fill factors according to the line width and pitch, and the sensor can be configured in various shapes such as square, pentagon, hexagon, and ellipse in the fill factor range.

이상의 설명은 본 발명의 기술 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로서, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 수정, 변경 및 치환이 가능할 것이다. 따라서, 본 발명에 개시된 실시예 및 첨부된 도면들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시예 및 첨부된 도면에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications, substitutions and substitutions are possible, without departing from the scope and spirit of the invention as disclosed in the accompanying claims. will be. Therefore, the embodiments disclosed in the present invention and the accompanying drawings are intended to illustrate and not to limit the technical spirit of the present invention, and the scope of the technical idea of the present invention is not limited by these embodiments and the accompanying drawings . The scope of protection of the present invention should be construed according to the following claims, and all technical ideas within the scope of equivalents should be construed as falling within the scope of the present invention.

10 : 정전 용량 방식 터치 패널 D1Lx : 제1센서전극
D2Lx : 제2센서전극 100 : 제1센서층
200 : 제2센서층 300 : 접합층
400: 몰드 110,210 : 수지층
120,220: 투명기재 211 : 음각
211a : 가로센서전극이 충진될 음각 영역
211b : 세로로센서전극이 충진될 음각 영역
211c : 가로 방향 음각과 세로방향 음각의 교차영역
212 : 표면 처리층 213 : 시드층
115a, 215b : 가로방향 센서전극 115b,215a : 세로방향 센서전극
115c,215c : 테두리 전극 115,215 : 전극층
R1,R3 : 제1영역 R2,R4 : 제2영역 10: Capacitive touch panel D1Lx: First sensor electrode
D2Lx: second sensor electrode 100: first sensor layer
200: second sensor layer 300: bonding layer
400: mold 110, 210: resin layer
120, 220: transparent substrate 211: engraved
211a: a recessed area in which the horizontal sensor electrode is to be filled
211b: a recessed area in which the sensor electrode is vertically filled
211c: Intersecting area between transverse intaglio and transverse intaglio
212: Surface treatment layer 213: Seed layer
115a, 215b: horizontal direction sensor electrodes 115b, 215a: vertical direction sensor electrodes
115c and 215c: rim electrodes 115 and 215:
R1, R3: first region R2, R4: second region

Claims (27)

패턴화된 복수의 제1방향 센서전극을 포함하는 제1센서층; 및
패턴화된 복수의 제2방향 센서전극을 포함하는 제2센서층을 포함하고,
상기 제1방향 센서전극과 상기 제2방향 센서전극은 복수의 제1영역과 상기 제1영역을 연결하는 복수의 제2영역으로 형성되며,
상기 제1영역의 가장자리가 개방되고,
상기 제1센서층 및 제2센서층에 형성되는 상기 제1방향 센서전극과 제2방향 센서전극의 면적을 상기 제1센서층 및 제2센서층이 적층되어 나타나는 격자형상의 터치 센서의 면적으로 나눈 비율인 Fill Factor가 다음 [수학식 1]로 정의되며, Fill Factor는 1.4 ~ 7.0% 사이의 값을 갖는 것을 특징으로 하는 정전 용량 방식 터치 패널.
[수학식 1]
Figure 112015095427850-pat00019
A first sensor layer including a plurality of patterned first direction sensor electrodes; And
And a second sensor layer including a plurality of patterned second direction sensor electrodes,
Wherein the first direction sensor electrode and the second direction sensor electrode are formed of a plurality of first regions and a plurality of second regions connecting the first regions,
The edge of the first area is opened,
The area of the first direction sensor electrode and the second direction sensor electrode formed on the first sensor layer and the second sensor layer is set to an area of the lattice-shaped touch sensor in which the first sensor layer and the second sensor layer are stacked Wherein the Fill Factor is defined by the following Equation 1 and the Fill Factor has a value between 1.4 and 7.0%.
[Equation 1]
Figure 112015095427850-pat00019
 패턴화된 복수의 제1방향 센서전극을 포함하는 제1센서층; 및
패턴화된 복수의 제2방향 센서전극을 포함하는 제2센서층을 포함하고,
상기 제1방향 센서전극과 상기 제2방향 센서전극은 복수의 제1영역과 상기 제1영역을 연결하는 복수의 제2영역으로 형성되며,
상기 제1영역의 가장자리가 개방되고,
상기 제1센서층에 형성되는 상기 제1방향 센서전극의 면적을 상기 제1센서층의 격자형상의 터치 센서의 면적으로 나눈 비율인 Fill Factor가 다음 [수학식 1]로 정의되며, Fill Factor는 1.4 ~ 7.0% 사이의 값을 갖는 것을 특징으로 하는 정전 용량 방식 터치 패널.
[수학식 1]
Figure 112015095427850-pat00020
A first sensor layer including a plurality of patterned first direction sensor electrodes; And
And a second sensor layer including a plurality of patterned second direction sensor electrodes,
Wherein the first direction sensor electrode and the second direction sensor electrode are formed of a plurality of first regions and a plurality of second regions connecting the first regions,
The edge of the first area is opened,
Fill Factor which is a ratio of the area of the first direction sensor electrode formed on the first sensor layer to the area of the lattice-shaped touch sensor of the first sensor layer is defined by the following formula (1) And a value between 1.4 and 7.0%.
[Equation 1]
Figure 112015095427850-pat00020
 삭제delete 제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 제2영역의 가장자리가 개방된 것을 특징으로 하는 정전 용량 방식 터치 패널.3. The method according to claim 1 or 2,
And an edge of the second region is opened. 제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 제1영역은 마름모 또는 육각형의 형상으로서, 영역 내부는 격자모양의 센서전극으로 형성되는 특징으로 하는 정전 용량 방식 터치 패널.3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the first region is formed in a rhombic or hexagonal shape and the inside of the region is formed of a lattice-shaped sensor electrode. 제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 제1센서층의 제1영역과 상기 제2센서층의 제1영역은 상기 제1,2센서층의 수직 방향에서 상호 겹쳐지지 않는 것을 특징으로 하는 정전 용량 방식 터치 패널.3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the first region of the first sensor layer and the first region of the second sensor layer are not overlapped with each other in the vertical direction of the first and second sensor layers. 제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 제1센서층과 상기 제2센서층 사이에 접합층을 구비하는 것을 특징으로 하는 정전 용량 방식 터치 패널.3. The method according to claim 1 or 2,
And a bonding layer between the first sensor layer and the second sensor layer. 삭제delete 제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 제1방향 센서전극과 상기 제2방향 센서전극 각각은 상호 공간상에서 교차하도록 상기 제1센서층과 상기 제2센서층에 배치되는 것을 특징으로 하는 정전 용량 방식 터치 패널.3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the first direction sensor electrode and the second direction sensor electrode are disposed in the first sensor layer and the second sensor layer so as to cross each other in space. 제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 제1센서층 및 상기 제2센서층은,
투명기재와, 상기 투명기재와 접하며 상부에 음각이 형성된 패턴층과, 상기 음각의 내부에 형성된 전극층을 포함하는 것을 특징으로 하는 정전 용량 방식 터치 패널.3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the first sensor layer and the second sensor layer are formed of a single-
A touch panel of a capacitive touch panel, comprising: a transparent substrate; a pattern layer in contact with the transparent substrate and formed with a depressed portion on the upper surface; and an electrode layer formed inside the depressed portion. 삭제delete 제10항에 있어서,
상기 패턴층에는 상기 음각이 선폭이 1㎛~10㎛이고, 깊이가 1㎛~10㎛이며, 상기 음각과 음각 사이의 피치가 200㎛~600㎛이 되도록 형성되는 것을 특징으로 하는 정전 용량 방식 터치 패널. 11. The method of claim 10,
Wherein the pattern layer is formed to have a line width of 1 占 퐉 to 10 占 퐉, a depth of 1 占 퐉 to 10 占 퐉, and a pitch of 200 占 퐉 to 600 占 퐉 between the intaglio and intaglio angles. panel. 제10항에 있어서,
상기 음각의 표면과 상기 전극층 사이에 시드층이 형성되는 것을 특징으로 하는 정전 용량 방식 터치 패널. 11. The method of claim 10,
And a seed layer is formed between the surface of the negative electrode and the electrode layer. 제13항에 있어서,
상기 시드층은 Cu, Ni, Cr, Fe, W, P, Co, Ag, Ag-C, Ni-P, CuO, SiO2 중 하나 또는 그 합금인 것을 특징으로 하는 정전 용량 방식 터치 패널. 14. The method of claim 13,
Wherein the seed layer is one of Cu, Ni, Cr, Fe, W, P, Co, Ag, Ag-C, Ni-P, CuO and SiO 2 or an alloy thereof. 삭제delete 제10항에 있어서,
상기 전극층은 Cu, Ag, Ag-C, Al, Ni, Cr, Ni-P 중 어느 하나 또는 그 합금인 것을 특징으로 하는 정전 용량 방식 터치 패널. 11. The method of claim 10,
Wherein the electrode layer is any one of Cu, Ag, Ag-C, Al, Ni, Cr, and Ni-P or an alloy thereof. 제10항에 있어서,
상기 터치 패널은 광투과율이 80% 이상이고, 헤이즈가 4% 이하인 것을 특징으로 하는 정전 용량 방식 터치 패널. 11. The method of claim 10,
Wherein the touch panel has a light transmittance of 80% or more and a haze of 4% or less. 제10항에 있어서,
상기 투명기재는 점착제를 포함하는 것을 특징으로 하는 정전 용량 방식 터치 패널. 11. The method of claim 10,
Wherein the transparent substrate comprises a pressure-sensitive adhesive. 제1방향으로 패턴화된 제1센서전극이 생성되는 제1센서층을 형성하는 단계;
상기 제1센서층 상면에 접합층을 형성하는 단계; 및
상기 접합층 상면에 제2방향으로 패턴화된 제2센서전극이 생성되는 제2센서층을 형성하는 단계를 포함하고,
상기 제1센서층을 형성하는 단계 및 상기 제2센서층을 형성하는 단계는 상기 제1방향 센서전극과 상기 제2방향 센서전극 각각을 복수의 제1영역과 상기 제1영역을 연결하는 복수의 제2영역으로 형성하며,
상기 제1영역의 가장자리를 개방시키고,
상기 제1센서층 및 제2센서층에 형성되는 상기 제1방향 센서전극과 제2방향 센서전극의 면적을 상기 제1센서층 및 제2센서층이 적층되어 나타나는 격자형상의 터치 센서의 면적으로 나눈 비율인 Fill Factor가 다음 [수학식 1]로 정의되며, Fill Factor는 1.4 ~ 7.0% 사이의 값을 갖는 것을 특징으로 하는 정전 용량 방식 터치 패널 제조 방법.
[수학식 1]
Figure 112015095427850-pat00021
Forming a first sensor layer on which a first sensor electrode patterned in a first direction is generated;
Forming a bonding layer on the first sensor layer; And
And forming a second sensor layer on the upper surface of the bonding layer in which a second sensor electrode patterned in a second direction is generated,
The forming of the first sensor layer and the forming of the second sensor layer may include forming a plurality of first direction sensor electrodes and a plurality of second direction sensor electrodes, A second region,
The edge of the first region is opened,
The area of the first direction sensor electrode and the second direction sensor electrode formed on the first sensor layer and the second sensor layer is set to an area of the lattice-shaped touch sensor in which the first sensor layer and the second sensor layer are stacked Wherein the Fill Factor is defined by the following Equation 1 and the Fill Factor has a value between 1.4 and 7.0%.
[Equation 1]
Figure 112015095427850-pat00021
 제1방향으로 패턴화된 제1센서전극이 생성되는 제1센서층을 형성하는 단계;
상기 제1센서층 상면에 접합층을 형성하는 단계; 및
상기 접합층 상면에 제2방향으로 패턴화된 제2센서전극이 생성되는 제2센서층을 형성하는 단계를 포함하고,
상기 제1센서층을 형성하는 단계 및 상기 제2센서층을 형성하는 단계는 상기 제1방향 센서전극과 상기 제2방향 센서전극 각각을 복수의 제1영역과 상기 제1영역을 연결하는 복수의 제2영역으로 형성하며,
상기 제1영역의 가장자리를 개방시키고,
상기 제1센서층에 형성되는 상기 제1방향 센서전극의 면적을 상기 제1센서층의 격자형상의 터치 센서의 면적으로 나눈 비율인 Fill Factor가 다음 [수학식 1]로 정의되며, Fill Factor는 1.4 ~ 7.0% 사이의 값을 갖는 것을 특징으로 하는 정전 용량 방식 터치 패널 제조 방법.
[수학식 1]
Figure 112015095427850-pat00022

Forming a first sensor layer on which a first sensor electrode patterned in a first direction is generated;
Forming a bonding layer on the first sensor layer; And
And forming a second sensor layer on the upper surface of the bonding layer in which a second sensor electrode patterned in a second direction is generated,
The forming of the first sensor layer and the forming of the second sensor layer may include forming a plurality of first direction sensor electrodes and a plurality of second direction sensor electrodes, A second region,
The edge of the first region is opened,
Fill Factor which is a ratio of the area of the first direction sensor electrode formed on the first sensor layer to the area of the lattice-shaped touch sensor of the first sensor layer is defined by the following formula (1) Wherein the first electrode has a value between 1.4 and 7.0%.
[Equation 1]
Figure 112015095427850-pat00022

 제19항 또는 제20항에 있어서,
상기 제1센서층을 형성하는 단계 및 상기 제2센서층을 형성하는 단계는,
투명 기재에 센서전극의 패턴이 형성되는 수지층을 적층하는 단계;
상기 수지층에 상기 센서전극이 형성될 패턴에 따른 음각을 형성하는 단계; 및
상기 음각의 내부에 센서전극층을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 정전 용량 방식 터치 패널 제조 방법. 21. The method according to claim 19 or 20,
Wherein forming the first sensor layer and forming the second sensor layer comprises:
Stacking a resin layer on which a pattern of sensor electrodes is formed on a transparent substrate;
Forming an engraved pattern corresponding to a pattern in which the sensor electrode is to be formed on the resin layer; And
And forming a sensor electrode layer inside the depressed portion. ≪ RTI ID = 0.0 > 11. < / RTI > 제21항에 있어서,
상기 음각을 형성하는 단계는,
수지층을 임프린트하여 음각을 형성하는 것을 특징으로 하는 정전 용량 방식 터치 패널 제조 방법. 22. The method of claim 21,
The method of claim 1,
Wherein the resin layer is imprinted to form an engraved surface. 제21항에 있어서,
상기 음각의 내면에 시드층을 형성하는 시드층 형성 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 정전 용량 방식 터치 패널 제조 방법. 22. The method of claim 21,
And a seed layer forming step of forming a seed layer on the inner surface of the depressed portion. 제23항에 있어서,
상기 음각을 형성하는 단계와 상기 시드층 형성 단계 사이에 상기 수지층의 표면 및 음각의 내면을 표면 처리하는 것을 특징으로 하는 정전 용량 방식 터치 패널 제조 방법. 24. The method of claim 23,
Wherein the surface of the resin layer and the inner surface of the engraved surface are surface-treated between the step of forming the engraved and the step of forming the seed layer. 제23항에 있어서,
상기 수지층의 표면에 형성된 시드층은 상기 음각에 수지를 충진한 후 에칭으로 제거되고, 이후에 상기 충진된 수지도 제거되는 것을 특징으로 하는 정전 용량 방식 터치 패널 제조 방법.24. The method of claim 23,
Wherein the seed layer formed on the surface of the resin layer is removed by etching after filling the recessed angle with the resin, and then the filled resin is also removed. 삭제delete 제21항에 있어서,
상기 수지층 표면과 상기 음각 내부에 금속성 물질의 전도성 고분자를 코팅한 후 상기 음각을 제외한 수지층 표면의 잔여물을 블레이드로 제거하는 것을 특징으로 하는 정전 용량 방식 터치 패널 제조 방법.22. The method of claim 21,
Wherein a conductive polymer of a metallic material is coated on the surface of the resin layer and the inside of the concave angle, and then the residue of the surface of the resin layer except for the concave angle is removed by a blade.
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