KR101616791B1 - A sputtering cover - Google Patents

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Abstract

본 발명은 스퍼터링 과정에서 스퍼터링 지그와 마스크를 외측에서 자력으로 감싸되, 자성체가 외측으로 노출되지 않고, 내부에 밀봉된 구조를 가져서 커버의 세정 등의 과정이 용이하게 이루어질 수 있는 스퍼터링 마스크 커버에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 스퍼터링 마스크 커버는, 스퍼터링 물질이 통과하는 스퍼터링 홀이 매트릭스 형태로 형성되는 다수개의 패턴 형성부; 상기 다수개의 패턴 형성부 사이의 공간 및 상기 각 패턴 형성부 외측에 형성되는 프레임; 상기 프레임 내에 형성되며, 밀봉 상태의 내부 공간을 제공하는 다수개의 캐버티; 상기 각 캐버티에 삽입되어 설치되는 다수개의 자성체;를 포함한다. The present invention relates to a sputtering mask cover in which a sputtering jig and a mask are enclosed by a magnetic force from the outside in a sputtering process and the magnetic body is not exposed to the outside, The sputtering mask cover according to the present invention includes a plurality of pattern forming parts in which sputtering holes through which a sputtering material passes are formed in a matrix form; A space formed between the plurality of pattern forming portions and a frame formed outside the respective pattern forming portions; A plurality of cavities formed in the frame, the cavities providing an interior space in a sealed state; And a plurality of magnetic bodies inserted into the respective cavities.

Description

스퍼터링 마스크 커버{A SPUTTERING COVER}Sputtering mask cover {A SPUTTERING COVER}

본 발명은 스퍼터링 마스크 커버에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 스퍼터링 과정에서 스퍼터링 지그와 마스크를 외측에서 자력으로 감싸되, 자성체가 외측으로 노출되지 않고, 내부에 밀봉된 구조를 가져서 커버의 세정 등의 과정이 용이하게 이루어질 수 있는 스퍼터링 마스크 커버에 관한 것이다. The present invention relates to a sputtering mask cover, and more particularly, to a sputtering mask cover which is surrounded by a magnetic force from a sputtering jig and a mask in a sputtering process and has a structure in which a magnetic material is not exposed to the outside, To a sputtering mask cover.

일반적으로 수정 진동자와 같이, 미세한 크기를 가지는 물체의 외면에 특정한 형상을 가지는 패턴을 형성하는 작업은 스퍼터링(sputtering) 등과 같은 증착 과정에 의하여 이루어진다. In general, a process of forming a pattern having a specific shape on the outer surface of an object having a minute size, such as a crystal oscillator, is performed by a deposition process such as sputtering.

이때 수정 진동자와 같은 미세한 크기의 피증착물(M)은 도 1, 2에 도시된 바와 같이, 스퍼터링 지그(1)의 안착홀(2)에 끼워진 상태에서 스퍼터링 작업이 진행된다. 이때 상기 스퍼터링 지그(1)에는 도 2에 도시된 바와 같이, 다수개의 안착홀(2)이 매트릭스 형태로 배치되는 안착홀 형성부 다수개가 서로 일정 간격 이격된 상태로 배열되는 구조를 가진다. At this time, as shown in FIGS. 1 and 2, the deposited material M having a minute size such as a quartz crystal vibrator is sputtered in a state of being fitted in the seating hole 2 of the sputtering jig 1. As shown in FIG. 2, the sputtering jig 1 has a structure in which a plurality of seating hole forming portions in which a plurality of seating holes 2 are arranged in a matrix are spaced apart from each other by a predetermined distance.

그리고 상기 스퍼터링 지그(1)의 양 측에는 도 1, 2에 도시된 바와 같이, 마스크 패널(3, 4)이 밀착된다. 상기 마스크 패널(3, 4)은 상기 스퍼터링 지그(1)에 장착된 피증착물(M)의 표면 중 특정한 영역에만 도막이 형성되도록 상기 피증착물(M)의 표면 일부는 노출시키고, 다른 부분은 차단하는 역할을 한다. 따라서 상기 마스크 패널(3, 4)에는 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 안착홀 형성부의 안착홀(2)과 대응되는 위치에 특정한 형성을 가지는 마스크홀(5, 6)이 형성되는 구조를 가진다. On both sides of the sputtering jig 1, as shown in Figs. 1 and 2, the mask panels 3 and 4 are brought into close contact with each other. The mask panel 3 or 4 exposes a part of the surface of the material M to be coated so that a coating film is formed only on a specific area of the surface of the material M attached to the sputtering jig 1, It plays a role. Therefore, as shown in FIG. 2, the mask panels 3 and 4 have a structure in which mask holes 5 and 6 having specific shapes are formed at positions corresponding to the seating holes 2 of the seating hole forming portions .

한편 상기 마스크 패널(3, 4)의 외측에는 스퍼터링 커버(7, 8)가 양측으로 밀착되며, 상기 스퍼터링 커버(7, 8)에는 도 1, 2에 도시된 바와 같이, 다수개의 자성체(9)가 구비되어 상기 마스크 패널(3, 4)과 스퍼터링 지그(1)가 완전히 밀착되도록 한다. 이때 상기 마스크 패널(3, 4)과 스퍼터링 지그(1)의 모든 면이 밀착되도록 하기 위하여 상기 자성체(9)는 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 스퍼터링 커버(7, 8)의 전 영역에 걸쳐서 고르게 분포된다. On the other hand, sputtering covers 7 and 8 are closely attached to the outside of the mask panels 3 and 4 on both sides and the sputtering covers 7 and 8 are provided with a plurality of magnetic bodies 9, So that the mask panels 3 and 4 and the sputtering jig 1 are completely in close contact with each other. At this time, in order to ensure that all the surfaces of the mask panel 3 and 4 and the sputtering jig 1 are in close contact with each other, the magnetic substance 9 is spread over the entire area of the sputtering covers 7 and 8 And evenly distributed.

그런데 이러한 결합 상태에서 도 1에 도시된 바와 같이, 스퍼터링 마스크 세트(10)의 양측에 스퍼터링 타겟(20, 30)을 배치하고, 스퍼터링 작업이 진행되면, 외측에 위치하는 상기 스퍼터링 커버(7, 8)에도 도막이 증착되어 오염되는 현상이 발생한다. 따라서 일정한 증착 공정이 진행된 후에는 상기 스퍼터링 커버(7, 8)를 세정하는 작업이 필수적으로 진행된다. 1, the sputtering targets 20 and 30 are disposed on both sides of the sputtering mask set 10. When the sputtering operation proceeds, the sputtering covers 7 and 8 The coating film is deposited and contaminated. Therefore, after the constant deposition process proceeds, the operation of cleaning the sputtering covers 7 and 8 is essential.

이러한 세정 작업을 진행하는 경우 도 3에 도시된 바와 같이, 자성체(9)가 설치홈(11)에 설치된 상태에서 자성체(9)와 설치홈(11) 사이에는 미세한 틈이 형성되어 있어서 오염물질의 효과적인 세정작업을 위하여 상기 스퍼터링 커버(7, 8)의 설치홈(11)에 삽입되어 있는 다수개의 자성체(9)를 모두 분리한 후에 작업이 진행되어야 한다. 그리고 세정 작업이 완료된 후에는 다시 자성체(9)를 다시 각 설치홈(11)에 삽입하여 장착하는 과정을 진행하여야 하는 매우 어렵고 번거로운 공정이 진행되는 문제점이 있다. 3, when the magnetic body 9 is installed in the installation groove 11, fine gaps are formed between the magnetic body 9 and the installation groove 11, It is necessary to separate all of the plurality of magnetic bodies 9 inserted into the installation grooves 11 of the sputtering covers 7 and 8 for an effective cleaning operation. In addition, after the cleaning operation is completed, there is a problem that the process of inserting and inserting the magnetic body 9 into the respective mounting grooves 11 again is very difficult and cumbersome.

본 발명이 해결하고자 하는 기술적 과제는 스퍼터링 과정에서 스퍼터링 지그와 마스크를 외측에서 자력으로 감싸되, 자성체가 외측으로 노출되지 않고, 내부에 밀봉된 구조를 가져서 스퍼터링 커버의 세정 등의 과정이 용이하고 신속하게 이루어질 수 있는 스퍼터링 마스크 커버를 제공하는 것이다. SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a sputtering jig and a mask which are magnetically enclosed by a sputtering jig and a mask in a sputtering process, The present invention also provides a sputtering mask cover which can be formed by a sputtering method.

전술한 기술적 과제를 해결하기 위한 본 발명에 따른 스퍼터링 마스크 커버는, 스퍼터링 물질이 통과하는 스퍼터링 홀이 매트릭스 형태로 형성되는 다수개의 패턴 형성부; 상기 다수개의 패턴 형성부 사이의 공간 및 상기 각 패턴 형성부 외측에 형성되는 프레임; 상기 프레임 내에 형성되며, 밀봉 상태의 내부 공간을 제공하는 다수개의 캐버티; 상기 각 캐버티에 삽입되어 설치되는 다수개의 자성체;를 포함한다. According to an aspect of the present invention, there is provided a sputtering mask cover including: a plurality of pattern forming parts in which a sputtering hole through which a sputtering material passes is formed in a matrix; A space formed between the plurality of pattern forming portions and a frame formed outside the respective pattern forming portions; A plurality of cavities formed in the frame, the cavities providing an interior space in a sealed state; And a plurality of magnetic bodies inserted into the respective cavities.

그리고 본 발명에서 상기 캐버티는 다수장의 서브 판넬을 확산 압착하여 형성되는 것이 바람직하다. In the present invention, it is preferable that the cavity is formed by diffusion-pressing a plurality of sub-panels.

또한 본 발명에서 상기 프레임은 스테인레스 스틸(stainless steel) 소재로 형성되는 것이 바람직하다. Further, in the present invention, it is preferable that the frame is made of stainless steel material.

또한 본 발명의 스퍼터링 커버에는 상기 프레임에 형성되며, 다른 스퍼터링 커버와의 결합시 정확한 결합 위치를 제공하는 얼라인부가 더 구비되는 것이 바람직하다. The sputtering cover of the present invention may further include an alignment portion formed on the frame and providing an accurate coupling position when the sputtering cover is coupled with another sputtering cover.

본 발명에서 상기 얼라인부는, 상기 프레임을 두께 방향으로 관통하여 형성되는 얼라인홀 또는 상기 프레임 표면보다 돌출되어 형성되는 얼라인 봉으로 구성될 수 있다. In the present invention, the alignment portion may include an alignment hole formed through the frame in the thickness direction or an alignment bar protruding from the frame surface.

본 발명의 스퍼터링 커버는 자력 발생을 위한 자성체가 프레임 내부에 밀봉된 상태로 설치되므로, 스퍼터링 커버의 사용과정에서 오염될 염려가 없으며, 상기 스퍼터링 커버의 세정 작업도 표면이 매끈하므로 신속하고 용이하게 진행될 수 있는 장점이 있다. 즉, 세정 과정에서 일일이 자성체를 스퍼터링 커버로부터 분리하고, 다시 설치하는 번거로운 작업이 필요없게 되는 것이다. The sputtering cover of the present invention is installed in a state where the magnetic body for generating magnetic force is sealed inside the frame. Therefore, there is no fear of contamination during the use of the sputtering cover, and the cleaning work of the sputtering cover is also smooth and smooth There are advantages to be able to. In other words, the troublesome operation of separating and re-installing the magnetic body from the sputtering cover in the cleaning process is not necessary.

도 1은 종래의 스퍼터링 과정을 도시하는 도면이다.
도 2는 종래의 스퍼터링 마스크 세트의 구성을 도시하는 분리사시도이다.
도 3은 종래의 스퍼터링 마스크 커버의 구조를 도시하는 단면도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 스퍼터링 마스크 커버의 구조를 도시하는 단면도이다.
도 5, 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 한 쌍의 스퍼터링 마스크 커버의 구조를 도시하는 사시도들이다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 스퍼터링 마스크 세트의 구조를 도시하는 분리사시도이다.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 스퍼터링 마스크 세트의 결합 상태를 도시하는 단면도이다. 1 is a view showing a conventional sputtering process.
2 is an exploded perspective view showing a configuration of a conventional sputtering mask set.
3 is a cross-sectional view showing the structure of a conventional sputtering mask cover.
4 is a cross-sectional view showing the structure of a sputtering mask cover according to an embodiment of the present invention.
5 and 6 are perspective views showing the structure of a pair of sputtering mask covers according to an embodiment of the present invention.
7 is an exploded perspective view showing a structure of a sputtering mask set according to an embodiment of the present invention.
FIG. 8 is a cross-sectional view showing a coupled state of a sputtering mask set according to an embodiment of the present invention.

이하에서는 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 구체적인 실시예를 상세하게 설명한다.
Hereinafter, specific embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

본 실시예에 따른 스퍼터링 마스크 커버(110)는 도 4에 도시된 바와 같이, 패턴 형성부(111), 프레임(113), 캐버티(114) 및 자성체(115)를 포함하여 구성될 수 있다. The sputtering mask cover 110 according to the present embodiment may include a pattern forming portion 111, a frame 113, a cavity 114, and a magnetic body 115, as shown in FIG.

먼저 상기 패턴 형성부(111)는 도 8에 도시된 바와 같이, 스퍼터링 마스크 세트(100)를 완성한 상태에서 피증착물(M)의 표면이 노출되어 스퍼터링 물질이 통과할 수 있는 스퍼터링홀(112)이 도 7에 도시된 바와 같이, 매트릭스 형태로 형성되는 구조를 말한다. 이때 상기 스퍼터링홀(112)은 피증착물(M)의 형상과 일치하는 형상을 가지되, 그 크기는 상기 피증착물(M)보다 약간 큰 크기를 가지도록 형성되는 것이 바람직하다. 8, the pattern forming unit 111 includes a sputtering hole 112 through which the surface of the deposit M is exposed and a sputtering material can pass through the sputtering mask set 100 in a state where the sputtering mask set 100 is completed As shown in FIG. 7, refers to a structure formed in a matrix form. At this time, the sputtering hole 112 has a shape matching the shape of the material M to be deposited, and the size of the sputtering hole 112 is formed to be slightly larger than the material M to be deposited.

그리고 본 실시예에 따른 스퍼터링 커버(110)에서 상기 패턴 형성부(111)는 도 7에 도시된 바와 같이, 다수개의 패턴 형성부(111)가 서로 일정간격 이격된 상태에서 배열되는 구조를 가진다. In the sputtering cover 110 according to the present embodiment, as shown in FIG. 7, the pattern forming portion 111 has a structure in which a plurality of pattern forming portions 111 are arranged with a predetermined spacing from each other.

이때 각 패턴 형성부(111) 사이의 이격 공간을 이루는 구성요소가 상기 프레임(113)이다. 상기 프레임은 본 실시예에 따른 스퍼터링 커버(110)에서 도 7에 도시된 바와 같이, 각 패턴 형성부(111)의 외곽을 감싸는 구성요소이며, 정확하게는 전체적으로 플레이트 형상을 가지는 스퍼터링 커버(110)에서 상기 스퍼터링 홀(112)을 가공한 후에 남는 뼈대 부분이 상기 프레임(113)이 되는 것이다. At this time, the frame 113 is a component constituting a spacing space between the pattern forming portions 111. As shown in FIG. 7, in the sputtering cover 110 according to the present embodiment, the frame is a constituent element surrounding the outer periphery of each pattern forming part 111, and precisely, the sputtering cover 110 having a plate shape as a whole The frame portion remaining after the sputtering hole 112 is processed becomes the frame 113.

그리고 본 실시예에서 상기 프레임(113)은 스테인레스 스틸(stainless steel) 소재로 형성되는 것이 가공이 용이하고 사용과정에서 오염이 적게 발생하며, 세정이나 취급이 용이하므로 바람직하다. In the present embodiment, the frame 113 is formed of stainless steel material because it is easy to process, less contaminated during use, and easy to clean and handle.

다음으로 상기 캐버티(114)는 도 4에 도시된 바와 같이, 상기 스퍼터링 커버(110) 중 상기 프레임(113) 내에 형성되며, 외부로부터 완벽하게 차단된 밀봉 상태의 내부 공간을 제공하는 구성요소이다. 즉, 상기 캐버티(114)는 상기 프레임(113)을 두께 방향으로 잘라 보았을 때, 후술하는 자성체(115)가 삽입될 수 있는 크기 정도의 입방체 크기를 가지는 밀폐 공간인 것이다. 상기 캐버티(114)는 상기 자성체(115)가 설치되는 장소이므로, 상기 프레임(112)의 모든 영역에 고르게 분포되어야 한다. 4, the cavity 114 is formed in the frame 113 of the sputtering cover 110, and is a component that provides a sealed inner space completely shielded from the outside . That is, the cavity 114 is a closed space having a cubic size such that the magnetic body 115, which will be described later, can be inserted when the frame 113 is cut in the thickness direction. Since the cavity 114 is a place where the magnetic body 115 is installed, the cavity 114 must be uniformly distributed in all areas of the frame 112.

본 실시예에서 상기 캐버티(114)는 도 4에 도시된 바와 같이, 다수장의 서브 패널(P1, P2, P3, P4)을 확산 압착하여 형성될 수 있다. 이렇게 상기 캐버티(114)를 다수장의 서브 패널(P1, P2, P3, P4)을 가공한 상태에서 확산 압착하여 형성하는 경우에는, 일일이 캐버티를 가공하는 것보다 용이하게 형성할 수 있는 장점이 있다. In this embodiment, the cavity 114 may be formed by diffusing a plurality of sub-panels P1, P2, P3, and P4 as shown in FIG. In the case where the cavity 114 is formed by diffusing and pressing a plurality of sub-panels P1, P2, P3, and P4 in a machined state, it is advantageous to easily form the cavities 114 have.

다음으로 상기 자성체(115)는 도 4에 도시된 바와 같이, 상기 각 캐버티(114)에 삽입되어 설치되며, 자성을 가지는 물질로 이루어진다. 그리고 본 발명에서 상기 자성체(115)는 도 7, 8에 도시된 바와 같이, 상기 스퍼터링 커버(110)가 하나의 스퍼터링 마스크 세트(100)를 이루기 위하여 암수 한쌍으로 구성되는 경우, 서로 다른 스퍼터링 마스크(110, 150)에 설치되는 자성체들을 서로 당기는 인력이 작용하도록 착자된다. Next, as shown in FIG. 4, the magnetic body 115 is inserted into each of the cavities 114 and is made of a magnetic material. 7 and 8, when the sputtering cover 110 is composed of a pair of male and female sputtering masks 100 to form a single sputtering mask set 100, the magnetic bodies 115 may be formed on different sputtering masks 110, and 150 are attracted to each other.

다음으로 본 실시예에 따른 스퍼터링 커버(110)에는 얼라인부(116)가 더 구비되는 것이 바람직하다. 상기 얼라인부(116)는 도 7, 8에 도시된 바와 같이, 상기 프레임(113)에 형성되며, 다른 스퍼터링 커버(150)와의 결합시 정확한 결합 위치를 제공하는 구성요소이다. 상기 스퍼터링 커버(150) 등을 결합시켜 스퍼터링 마스크 세트(110)를 완성하는 경우에는 각 구성요소들이 정확한 위치를 유지한 상태에서 결합되는 것이 매우 중요하다. 따라서 얼라인부(116)가 각 구성품들의 위치를 정확하게 한정하는 것이다. Next, it is preferable that the sputtering cover 110 according to the present embodiment is further provided with an aligning portion 116. The alignment portion 116 is formed on the frame 113 as shown in FIGS. 7 and 8, and is a component that provides an accurate coupling position when engaged with another sputtering cover 150. When the sputtering mask set 110 is completed by coupling the sputtering cover 150 or the like, it is very important that the components are coupled while maintaining the correct positions. Thus, the alignment portion 116 accurately defines the position of each component.

구체적으로 본 실시예에서 상기 얼라인부는 상기 프레임(113)을 두께 방향으로 관통하여 형성되는 얼라인홀(116a)과, 상기 프레임(113) 표면보다 돌출되어 형성되는 얼라인 봉(116b)으로 구성될 수 있다. 이때 도 7, 8에 도시된 바와 같이, 상기 한쌍의 스퍼터링 커버(110, 150)가 스퍼터링 마스크 세트(100)에 사용되는 경우에는, 일측 스퍼터링 커버(150)에는 얼라인홀(116a)이 형성되고, 타측 스퍼터링 커버(110)에는 얼라인 봉(116b)이 형성되는 구조를 가져서 암수 스퍼터링 커버가 되는 것이 바람직하다.
Specifically, in the present embodiment, the alignment portion includes an alignment hole 116a formed through the frame 113 in the thickness direction, and an alignment bar 116b protruding from the surface of the frame 113 . 7 and 8, when the pair of sputtering covers 110 and 150 are used in the sputtering mask set 100, the one-side sputtering cover 150 is provided with an alignment hole 116a And the other side sputtering cover 110 is formed with an aligning rod 116b, thereby forming a male and female sputtering cover.

100 : 본 발명의 일 실시예에 따른 스퍼터링 마스크 세트
110, 150 : 스퍼터링 마스크 커버
120 : 스퍼터링 지그
130, 140 : 마스크 패널
M : 피증착물100: A sputtering mask set according to an embodiment of the present invention
110, 150: Sputtering mask cover
120: sputtering jig
130, 140: mask panel
M: Deposition material

Claims (6)

스퍼터링 물질이 통과하는 스퍼터링 홀이 매트릭스 형태로 형성되는 다수개의 패턴 형성부;
상기 다수개의 패턴 형성부 사이의 공간 및 상기 각 패턴 형성부 외측에 형성되는 프레임;
상기 프레임 내에 형성되며, 밀봉 상태의 내부 공간을 제공하는 다수개의 캐버티;
상기 각 캐버티에 삽입되어 설치되는 다수개의 자성체;를 포함하며,
상기 캐버티는,
다수장의 서브 판넬을 확산 압착하여 형성되는 것을 특징으로 하는 스퍼터링 마스크 커버.A plurality of pattern forming parts in which a sputtering hole through which the sputtering material passes is formed in a matrix form;
A space formed between the plurality of pattern forming portions and a frame formed outside the respective pattern forming portions;
A plurality of cavities formed in the frame, the cavities providing an interior space in a sealed state;
And a plurality of magnetic bodies inserted into the respective cavities,
The cavity
Wherein the plurality of sub-panels are formed by diffusion-pressing a plurality of sub-panels. 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 프레임은 스테인레스스틸 소재로 형성되는 것을 특징으로 하는 스퍼터링 마스크 커버.The method according to claim 1,
Wherein the frame is formed of a stainless steel material. 제1항에 있어서,
상기 프레임에 형성되며, 다른 스퍼터링 커버와의 결합시 정확한 결합 위치를 제공하는 얼라인부가 더 구비되는 것을 특징으로 하는 스퍼터링 마스크 커버.The method according to claim 1,
Further comprising an alignment portion formed in the frame and providing an accurate mating position upon engagement with another sputtering cover. 제4항에 있어서, 상기 얼라인부는,
상기 프레임을 두께 방향으로 관통하여 형성되는 얼라인홀인 것을 특징으로 하는 스퍼터링 마스크 커버.[5] The apparatus of claim 4,
Wherein the mask is an alignment hole formed through the frame in the thickness direction. 제4항에 있어서, 상기 얼라인부는,
상기 프레임 표면보다 돌출되어 형성되는 얼라인 봉인 것을 특징으로 하는 스퍼터링 마스크 커버. [5] The apparatus of claim 4,
Wherein the sealing member is an aline seal protruding from the frame surface.
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