KR101602486B1 - Fabricating method of light shielding structure - Google Patents

Fabricating method of light shielding structure Download PDF

Info

Publication number
KR101602486B1
KR101602486B1 KR1020140153507A KR20140153507A KR101602486B1 KR 101602486 B1 KR101602486 B1 KR 101602486B1 KR 1020140153507 A KR1020140153507 A KR 1020140153507A KR 20140153507 A KR20140153507 A KR 20140153507A KR 101602486 B1 KR101602486 B1 KR 101602486B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
resin
light
carbon
powder
thin film
Prior art date
Application number
KR1020140153507A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20160000391A (en
Inventor
루 호릉-화
첸 웬-푸
Original Assignee
나노스타 테크놀로지 컴퍼니 리미티드
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 나노스타 테크놀로지 컴퍼니 리미티드 filed Critical 나노스타 테크놀로지 컴퍼니 리미티드
Publication of KR20160000391A publication Critical patent/KR20160000391A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101602486B1 publication Critical patent/KR101602486B1/en

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/02Diffusing elements; Afocal elements
    • G02B5/0205Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties
    • G02B5/0236Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties the diffusion taking place within the volume of the element
    • G02B5/0242Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties the diffusion taking place within the volume of the element by means of dispersed particles
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/18Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
    • C08K3/20Oxides; Hydroxides
    • C08K3/22Oxides; Hydroxides of metals
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/04Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/02Diffusing elements; Afocal elements
    • G02B5/0268Diffusing elements; Afocal elements characterized by the fabrication or manufacturing method

Abstract

본 발명은 차광재, 차광 구조물 및 이들의 제조 방법에 관한 것이다. 상기 차광 구조물은 투명 기판 및 박막을 포함한다. 상기 박막은 상기 투명 기판상에 코팅되며, 하기 화학식(I)로 표시되는 복수의 탄소-도핑된 텅스텐 옥사이드를 갖는다.
MxWCyOz (I)
상기 식에서, M은 하나 이상의 화학 원소를 갖는 도펀트이고, W는 텅스텐이고, C는 탄소이고, O는 산소이며, x, y 및 z는 0<x≤1, 0<y≤1, 및 0<z≤3의 범위이다.
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a light shielding material, a light shielding structure, and a method of manufacturing the same. The light-shielding structure includes a transparent substrate and a thin film. The thin film is coated on the transparent substrate and has a plurality of carbon-doped tungsten oxides represented by the following formula (I).
M x WC y O z (I)
Wherein x is 1, y is 0, y is 0, x is 0, y is 0, y is 0, y is 0, z < / = 3.

Description

차광 구조물의 제조방법 {FABRICATING METHOD OF LIGHT SHIELDING STRUCTURE}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a fabrication method of a light shielding structure,

본 발명은 차광재, 차광 구조물 및 이의 제조 방법에 관한 것이다. 더욱 상세하게, 본 발명은 적외선을 차단하기 위한 차광재, 차광 구조물, 및 이의 제조 방법에 관한 것이다.
The present invention relates to a light shielding material, a light shielding structure, and a manufacturing method thereof. More specifically, the present invention relates to a light shielding material for shielding infrared rays, a light shielding structure, and a method of manufacturing the same.

최근 화석 연료의 과사용으로 인해, 온실 효과가 점점 심각해지고 있다. 한 가지 주요 원인은 지구상에 보유되는 가시광선 및 근적외선에 의해 발생된 열이며, 이로 인해 지구 온도가 빠르게 증가하고 있다. 그러므로, 에너지 절약 및 탄소배출량 감소가 2가지 중요한 이슈가 되고 있다.Due to the recent overuse of fossil fuels, the greenhouse effect is becoming increasingly serious. One major cause is the heat generated by visible and near-infrared rays on the Earth, which is causing the Earth's temperature to increase rapidly. Therefore, energy conservation and reduction of carbon emissions are two important issues.

태양 광선의 파장은 300 내지 2500 nm의 범위이다. 이러한 태양 광선 파장 영역에는 14% 자외선, 40% 가시광선, 및 44% 적외선이 포함된다. 통상적인 유리는 광투과율은 높으나 단열에 있어서는 불량하다. 과학자들과 기술자들은 태양 광선을 반사시킴으로써 적외선을 차단하기 위해서, 자동차 또는 빌딩에 통상적으로 사용하는 유리 위에 금속 박막을 코팅시키는 것을 시도하였다. 예를 들어, 알루미늄 또는 은을 함유하는 금속 박막이 사용된다. 그러나, 이러한 유형의 금속 박막은 또한 전자기파를 차단할 수 있어, GPS, ETC 또는 휴대용 통신 장치와 같은 전자 제품에 부정적인 영향을 미치게 된다. 더욱이, 대부분의 금속 박막은 일반적으로 물리적 증착(PVD) 또는 화학적 증착(CVD) 방법으로 생성되어 그 제조 비용이 높다.The wavelength of sunlight is in the range of 300 to 2500 nm. These sunlight wavelength ranges include 14% ultraviolet, 40% visible, and 44% infrared. Conventional glass has a high light transmittance but is poor in heat insulation. Scientists and engineers have attempted to coat the metal film on glass, which is commonly used in automobiles or buildings, in order to shield the infrared rays by reflecting the sun's rays. For example, a metal thin film containing aluminum or silver is used. However, this type of metal foil can also block electromagnetic waves, negatively affecting electronic products such as GPS, ETC or portable communication devices. Moreover, most metal films are generally produced by physical vapor deposition (PVD) or chemical vapor deposition (CVD) methods, and their manufacturing costs are high.

또 다른 해결 방법은 태양 광선을 차단하기 위해 유리에 안료 또는 염료를 첨가하는 것이다. 그러나, 이러한 제품은 가시광선의 광 투과율이 불량하고 적외선의 차광 효과가 불량한 단점이 있다.Another solution is to add pigments or dyes to the glass to block sunlight. However, such a product is disadvantageous in that the light transmittance of the visible light is poor and the infrared light shielding effect is poor.

현재, 상업적으로 이용되고 있는 일부 제품들은 LaB6, ATO(antimony doped tin oxide), ITO(indium doped tin oxide) 또는 기타 세라믹 화합물을 사용하여 적외선 차단 박막으로 제조되고 있다. 그러나, LaB6는 가시광선을 흡수한다. ATO 및 ITO는 가시광선 영역에서는 우수한 광투과율을 나타내지만, 적외선 영역의 차광은 불량하다.Currently, some commercially available products are made of infrared blocking films using LaB 6 , antimony doped tin oxide (ATO), indium doped tin oxide (ITO), or other ceramic compounds. However, LaB 6 absorbs visible light. ATO and ITO exhibit excellent light transmittance in the visible light region, but light shielding in the infrared region is poor.

또한, 상업적으로 이용되고 있는 또 다른 제품은 알칼리 금속이 도핑된 텅스텐 옥사이드 분말을 사용하여 얻은 필름으로 적외선 차광재로서 이용되고 있다. 그러나, 이 제품에는 가시광선의 광 투과율과 적외선의 차광 사이의 균형 문제가 있다.
Further, another commercially available product is a film obtained by using an alkali metal-doped tungsten oxide powder and is used as an infrared ray shielding material. However, this product has a problem of balance between the light transmittance of the visible light and the infrared light shielding.

본 발명은 적외선을 차단하기 위한 차광재, 차광 구조물, 및 이의 제조 방법을 제공한다.
The present invention provides a light shielding material, a light shielding structure, and a manufacturing method thereof for blocking infrared rays.

본 발명의 한 일면에 따르면, 차광재가 제공된다. 상기 차광재는 하기 식으로 표시되는 탄소-도핑된 텅스텐 옥사이드의 복합체이다. According to one aspect of the present invention, a light shielding material is provided. The shading material is a complex of carbon-doped tungsten oxide represented by the following formula.

MxWCyOz M x W c y O z

상기 식에서, M은 하나 이상의 화학 원소를 갖는 도펀트이고, W는 텅스텐이고, C는 탄소이고, O는 산소이며, x, y 및 z는 0<x≤1, 0<y≤1, 및 0<z≤3의 범위이다. 상기 탄소-도핑된 텅스텐 옥사이드는 도펀트와 텅스텐-함유 화합물을 갖는 탄소 동소체(allotrope)의 동시 도핑(co-doping)으로부터 형성된다.Wherein x is 1, y is 0, y is 0, x is 0, y is 0, y is 0, y is 0, z < / = 3. The carbon-doped tungsten oxide is formed from co-doping of a carbon allotrope having a dopant and a tungsten-containing compound.

본 발명의 또 다른 일면에 따르면, 차광재의 제조 방법이 제공된다. 상기 제조 방법은 텅스텐-함유 화합물, 도펀트 및 탄소 동소체를 포함하는 분말을 준비하는 단계, 상기 분말에 연마 입자를 첨가하여 혼합 분말을 형성하는 단계, 상기 혼합 분말을 분쇄하여 초기 물질을 형성하는 단계, 상기 초기 물질을 혼합 가스로 열처리하여, 하기 화학식으로 표시되는 탄소-도핑된 텅스텐 옥사이드를 형성하는 단계를 포함한다.According to another aspect of the present invention, a method of manufacturing a light shielding material is provided. The method comprises the steps of preparing a powder containing a tungsten-containing compound, a dopant and an isotropic carbon, adding abrasive particles to the powder to form a mixed powder, pulverizing the mixed powder to form an initial material, Treating the initial material with a mixed gas to form carbon-doped tungsten oxide represented by the following chemical formula.

MxWCyOz M x W c y O z

상기 식에서, M은 하나 이상의 화학 원소를 갖는 도펀트이고, W는 텅스텐이고, C는 탄소이고, O는 산소이며, x, y 및 z는 0<x≤1, 0<y≤1, 및 0<z≤3의 범위이다. Wherein x is 1, y is 0, y is 0, x is 0, y is 0, y is 0, y is 0, z < / = 3.

본 발명의 또 다른 일면에 따르면, 차광 구조물이 제공된다. 상기 구조물은 투명 기판 및 박막을 포함한다. 상기 박막은 상기 투명 기판상에 코팅되며, 하기 화학식으로 표시되는 복수의 탄소-도핑된 텅스텐 옥사이드를 갖는다.According to another aspect of the present invention, a light shielding structure is provided. The structure includes a transparent substrate and a thin film. The thin film is coated on the transparent substrate and has a plurality of carbon-doped tungsten oxides represented by the following formula.

MxWCyOz M x W c y O z

상기 식에서, M은 하나 이상의 화학 원소를 갖는 도펀트이고, W는 텅스텐이고, C는 탄소이고, O는 산소이며, x, y 및 z는 0<x≤1, 0<y≤1, 및 0<z≤3의 범위이다. Wherein x is 1, y is 0, y is 0, x is 0, y is 0, y is 0, y is 0, z < / = 3.

본 발명의 추가 일면에 따르면, 차광 구조물을 제조하는 방법이 제공된다. 상기 제조 방법은 하기 화학식으로 표시되는 복수의 탄소-도핑된 텅스텐 옥사이드를 준비하는 단계; 상기 탄소-도핑된 텅스텐 옥사이드를 용매에 첨가하여 용매중에 균일하게 분산시키는 단계; 상기 용매내로 매질을 첨가하여 분산 용액을 수득하는 단계; 상기 분산 용액을 투명 기판상에 코팅하는 단계; 및 상기 분산 용액중의 매질을 고형화하여 박막을 형성하는 단계를 포함한다.According to a further aspect of the present invention, a method of manufacturing a light shielding structure is provided. The method comprises: preparing a plurality of carbon-doped tungsten oxides represented by the following formula: Adding the carbon-doped tungsten oxide to the solvent and uniformly dispersing the carbon-doped tungsten oxide in the solvent; Adding a medium into the solvent to obtain a dispersion solution; Coating the dispersion solution on a transparent substrate; And solidifying the medium in the dispersion solution to form a thin film.

MxWCyOz M x W c y O z

상기 식에서, M은 하나 이상의 화학 원소를 갖는 도펀트이고, W는 텅스텐이고, C는 탄소이고, O는 산소이며, x, y 및 z는 0<x≤1, 0<y≤1, 및 0<z≤3의 범위이다.
Wherein x is 1, y is 0, y is 0, x is 0, y is 0, y is 0, y is 0, z < / = 3.

본 발명에 따라 차광재로서 제공된 상기 탄소-도핑된 텅스텐 옥사이드(MxWCyOz)는 가시광선 영역에서 우수한 투과율을 나타내고 적외선 영역에서는 우수한 차단성을 나타낸다. 또한, 고에너지 볼 밀링 분쇄법이 상기 혼합 분말에 적용되어, 합금 현상을 일으켜 초기 물질을 형성한다. 습식 공정을 이용하는 기존의 제조 방법에 비해, 본 발명에서는 건식 방법을 사용하여 부식성이 높고 오염도가 높은 부산물의 생성을 방지할 수 있다.
The carbon is provided as a difference slag according to the invention the doped tungsten oxide (M y O z x WC) exhibits excellent barrier property shows a high transmittance in the infrared region in the visible light region. Further, a high energy ball milling method is applied to the mixed powder to cause an alloy phenomenon to form an initial material. Compared with the conventional manufacturing method using a wet process, in the present invention, it is possible to prevent the generation of a highly corrosive and highly contaminated by-product using a dry process.

본 발명은 첨부되는 도면을 참고로 하여, 하기 상세한 설명에 의해 더욱 완전하게 이해될 수 있다.
도 1은 본 발명의 하나의 구체예에 따른 차광재의 제조 공정을 보여주는 흐름도이다.
도 2는 본 발명의 하나의 구체예에 따른 차광 구조물의 제조 공정을 보여주는 흐름도이다.
도 3a는 본 발명의 하나의 구체예에 따른 차광 구조물을 보여주는 측면도이다.
도 3b는 본 발명의 또 다른 구체예에 따른 차광 구조물을 보여주는 측면도이다.
도 4는 본 발명의 하나의 구체예에 따른 차광 구조물의 입자 크기-빈도수를 보여주는 그래프이다.
도 5는 도 3a에 따른 차광 구조물의 파장-투과율을 보여주는 그래프이다.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The present invention will become more fully understood from the detailed description given hereinafter, with reference to the accompanying drawings.
1 is a flow chart showing a manufacturing process of a light shielding material according to one embodiment of the present invention.
2 is a flow chart showing a manufacturing process of a light-shielding structure according to one embodiment of the present invention.
3A is a side view showing a light-shielding structure according to one embodiment of the present invention.
3B is a side view showing a light-shielding structure according to another embodiment of the present invention.
4 is a graph showing the particle size-frequency of the light-shielding structure according to one embodiment of the present invention.
5 is a graph showing the wavelength-transmittance of the light-shielding structure according to FIG.

텅스텐 트리옥사이드(WO3)는 유효 자유 전자가 부족하기 때문에, 가시광선 및 근적외선 영역에서 흡수 및 반사 성질이 불량하여, 효과적인 차광재가 될 수 없다. 텅스텐과 산소의 원자비가 3 미만일 경우, 저산소 상태가 되거나 산소 결핍 부위가 형성되어, 텅스텐 옥사이드 중에 자유 전자가 발생한다. 텅스텐과 산소의 원자비가 2.2 미만일 경우, 텅스텐 디옥사이드(WO2)의 결정상이 없어진다. 따라서, 본 발명에서는 도펀트 및 탄소를 텅스텐 트리옥사이드의 격자내로 첨가하여 화학적으로 안정시키고 텅스텐과 산소의 원자비를 3 미만으로 조절한다. 이러한 과정에 의해, 텅스텐 옥사이드는 충분한 자유 전자를 보유하고 효과적인 차광재가 될 수 있다. Since tungsten trioxide (WO 3 ) lacks effective free electrons, it has poor absorption and reflection properties in the visible light and near infrared region, and can not be an effective light shielding material. When the atomic ratio of tungsten to oxygen is less than 3, a hypoxic state or an oxygen deficiency site is formed, and free electrons are generated in tungsten oxide. When the atomic ratio of tungsten to oxygen is less than 2.2, the crystalline phase of tungsten dioxide (WO 2 ) disappears. Therefore, in the present invention, the dopant and carbon are chemically stabilized by adding into the lattice of tungsten trioxide, and the atomic ratio of tungsten and oxygen is controlled to less than 3. By this process, tungsten oxide can have sufficient free electrons and become an effective shielding material.

도 1은 본 발명의 하나의 구체예에 따른 차광재의 제조 공정을 보여주는 흐름도이다. 상기 공정은 텅스텐-함유 화합물, 도펀트 및 탄소 동소체를 포함하는 분말을 준비하는 단계(100), 상기 분말에 연마 입자를 첨가하여 혼합 분말을 형성하는 단계(110), 상기 혼합 분말을 분쇄하여 초기 물질을 형성하는 단계(120), 상기 초기 물질을 혼합 가스로 열처리하여, 탄소-도핑된 텅스텐 옥사이드를 형성하는 단계(130)를 포함한다. 상기 탄소-도핑된 텅스텐 옥사이드는 하기 화학식(I)로 표시된다:1 is a flow chart showing a manufacturing process of a light shielding material according to one embodiment of the present invention. The process includes the steps of preparing a powder including a tungsten-containing compound, a dopant, and an isotropic carbon; adding abrasive particles to the powder to form a mixed powder (110); grinding the mixed powder to form an initial substance A step 120 of forming a carbon-doped tungsten oxide layer 120, and a step 130 of forming a carbon-doped tungsten oxide by heat-treating the initial material with a mixed gas. The carbon-doped tungsten oxide is represented by the following formula (I)

MxWCyOz (I)M x WC y O z (I)

상기 식에서, M은 하나 이상의 화학 원소를 갖는 도펀트이고, W는 텅스텐이고, C는 탄소이고, O는 산소이며, x, y 및 z는 0<x≤1, 0<y≤1, 및 0<z≤3의 범위이다. Wherein x is 1, y is 0, y is 0, x is 0, y is 0, y is 0, y is 0, z < / = 3.

상기에 기술된 텅스텐-함유 화합물은 텅스텐 트리옥사이드 분말 및/또는 텅스텐 디옥사이드 분말일 수 있다. 상기 도펀트(M)는 M을 함유하는 옥사이드, 하이드록사이드, 카보네이트, 텅스테이트, 클로라이드, 니트레이트, 설페이트, 옥살레이트, 또는 니트로겐 옥사이드일 수 있다.The tungsten-containing compound described above may be tungsten trioxide powder and / or tungsten dioxide powder. The dopant (M) may be an oxide, hydroxide, carbonate, tungstate, chloride, nitrate, sulfate, oxalate, or nitrogene oxide containing M.

상기 도펀트(M)는 알칼리 금속, 알칼리 토금속, 희토류 금속, B, C, F, Al, Si, P, S, Cl, Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Ga, Ge, As, Se, Br, Zr, Nb, Mo, Tc, Ru, Rh, Pd, Ag, Cd, In, Sn, Sb, Te, I, Hf, Ta, Re, Os, Ir, Pt, Au, Hg, Tl, Pb, Bi, Po, 또는 At 일 수 있다. 도펀트가 많이 첨가될 때, 더 많은 자유 전자가 발생하여 차광 효과가 증가될 것이다. x의 값이 점차적으로 1에 가까워질 때, 차광 효과는 점차적으로 충분해진다.The dopant M may be an alkali metal, an alkaline earth metal, a rare earth metal, B, C, F, Al, Si, P, S, Cl, Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, , Ge, As, Se, Br, Zr, Nb, Mo, Tc, Ru, Rh, Pd, Ag, Cd, In, Sn, Sb, Te, I, Hf, Ta, Re, Os, , Hg, Tl, Pb, Bi, Po, or At. When a large amount of dopant is added, more free electrons will be generated and the light shielding effect will be increased. When the value of x gradually approaches 1, the shading effect becomes gradually better.

부가적으로, 자유 전자의 양, 화학적 안정도, 및 차광 유효성을 적절하게 조절하기 위해, 적당한 양의 탄소 동소체가 첨가되어 부분적으로 치환되는 산소 함량을 대체한다. 상기 탄소 동소체는 카본 블랙, 그래파이트, 카본 나노튜브, 또는 그래펜일 수 있다. 이 방법에 의해, 본 발명의 탄소-도핑된 텅스텐 옥사이드는 우수한 차광성 및 태양광에 대한 우수한 단열성을 갖게 된다.Additionally, to adequately control the amount of free electrons, chemical stability, and shade effectiveness, a suitable amount of carbon isotope is added to replace the partially substituted oxygen content. The carbon isotope may be carbon black, graphite, carbon nanotubes, or graphene. By this method, the carbon-doped tungsten oxide of the present invention has excellent light-shielding properties and excellent heat insulation against sunlight.

단계 (110)에서, 상기 연마 입자는 5mm 및 10mm의 고순도 SiC (실리콘 카바이드)를 포함한다. 또한, 상기 혼합 분말에서 연마입자와 분말의 중량비는 8:1 이다.In step 110, the abrasive particles comprise high purity SiC (silicon carbide) of 5 mm and 10 mm. The weight ratio of abrasive grains to powder in the mixed powder is 8: 1.

단계 (120)에서, 상기 혼합 분말은 고에너지 볼 밀링(High Energy Ball Milling) 내로 넣어 30분 내지 6시간 동안 분쇄한다.In step 120, the mixed powder is pulverized in a high energy ball milling for 30 minutes to 6 hours.

단계 (130)에서, 상기 혼합 가스는 불활성 가스 및/또는 환원 가스를 포함한다. 상기 불활성 가스 및/또는 환원 가스로서, 질소(N2), 수소(H2), 메탄(CH4) 또는 아르곤(Ar)을 랜덤 비율로 혼합할 수 있다. 상기 혼합 가스의 유리한 조건은 수소(5 부피%), 메탄(5 부피%), 및 아르곤(90 부피%)를 사용하는 것이다. 상기 열처리 온도는 100 내지 1000℃ 이며, 상기 열처리 시간은 1 내지 12 시간이다.In step 130, the mixed gas comprises an inert gas and / or a reducing gas. As the inert gas and / or the reducing gas, nitrogen (N 2 ), hydrogen (H 2 ), methane (CH 4 ), or argon (Ar) may be mixed at a random ratio. An advantageous condition for the mixed gas is that hydrogen (5 vol%), methane (5 vol%), and argon (90 vol%) are used. The heat treatment temperature is 100 to 1000 占 폚, and the heat treatment time is 1 to 12 hours.

도 2는 본 발명의 하나의 구체예에 따른 차광 구조물의 제조 공정을 보여주는 흐름도이며, 상기 공정은 복수의 탄소-도핑된 텅스텐 옥사이드를 준비하는 단계(200); 상기 탄소-도핑된 텅스텐 옥사이드를 용매에 첨가하여 용매중에 균일하게 분산시키는 단계(210); 상기 용매내로 매질을 첨가하여 분산 용액을 수득하는 단계(220); 상기 분산 용액을 투명 기판상에 코팅하는 단계(230); 및 상기 분산 용액중의 매질을 고형화하여 박막을 형성하는 단계(240)를 포함한다.FIG. 2 is a flow chart illustrating a fabrication process of a light-shielding structure according to one embodiment of the present invention, comprising the steps of preparing (200) a plurality of carbon-doped tungsten oxides; Adding the carbon-doped tungsten oxide to the solvent and uniformly dispersing the carbon-doped tungsten oxide in the solvent (210); Adding a medium into the solvent to obtain a dispersion solution (220); Coating (230) the dispersion solution on a transparent substrate; And solidifying the medium in the dispersion solution to form a thin film (240).

단계 (200)에서, 상기 탄소-도핑된 텅스텐 옥사이드는 도 1의 제조 방법에 의해 제조된다.In step 200, the carbon-doped tungsten oxide is produced by the manufacturing method of FIG.

단계 (210)에서, 상기 용매는 톨루엔과 분산매를 6:1의 중량비로 혼합하여 얻는다.In step 210, the solvent is obtained by mixing toluene and a dispersion medium in a weight ratio of 6: 1.

단계 (220)에서, 상기 매질은 폴리에스테르 수지, PI 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리에틸렌 수지, 폴리비닐 클로라이드 수지, 폴리비닐리덴 클로라이드 수지, 폴리비닐 알코올 수지, 폴리스티렌 수지, 폴리비닐 부티랄 수지, 에틸렌-비닐 아세테이트 공중합체 물질, 폴리프로필렌 수지, 아크릴 수지, 불소 수지, 실리콘 수지, 케톤 수지, 페녹시 수지, 폴리에틸렌 테레프탈레이트 수지, 폴리아미노 수지, 우레아 수지, 아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌 공중합체 물질 (ABS 수지), 폴리에테르 수지, 폴리아미드, 아크릴 수지, 에폭시 수지, 또는 UV 수지 일 수 있다.In step 220, the medium is selected from the group consisting of a polyester resin, a PI resin, a polycarbonate resin, a polyethylene resin, a polyvinyl chloride resin, a polyvinylidene chloride resin, a polyvinyl alcohol resin, a polystyrene resin, a polyvinyl butyral resin, Vinyl acetate copolymer material, polypropylene resin, acrylic resin, fluororesin, silicone resin, ketone resin, phenoxy resin, polyethylene terephthalate resin, polyamino resin, urea resin, acrylonitrile-butadiene- Resin), polyether resin, polyamide, acrylic resin, epoxy resin, or UV resin.

단계 (230)에서, 상기 분산 용액은 와이어 바 코팅(wire bar coatng), 그라바어 코팅(gravure coating), 분무 코팅(spray coating), 딥 코팅(dip coating), 슬릿 코팅(slit coating), 스핀 코팅(spin coating), 로드 코팅(rod coating), 롤 코팅(roll coating) 또는 독터 블레이드 코팅(doctor blade coating) 방식으로 투명 기판상에 코팅된다. In step 230, the dispersion solution may be coated onto a substrate using a wire bar coating, a gravure coating, a spray coating, a dip coating, a slit coating, a spin coating, Coated on a transparent substrate by a spin coating, a rod coating, a roll coating or a doctor blade coating method.

투명 기판은 목적에 따라 PET, 아크릴 수지, 폴리우레탄, 폴리카보네이트, 폴리에틸렌, 에틸렌-비닐 아세테이트 공중합체, 폴리비닐 클로라이드, 불소 수지, 또는 유리로부터 선택될 수 있다.The transparent substrate may be selected from PET, acrylic resin, polyurethane, polycarbonate, polyethylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, polyvinyl chloride, fluororesin, or glass, depending on the purpose.

도 3a는 본 발명의 하나의 구체예에 따른 차광 구조물을 보여주는 측면도이다. 도 3a에서, 차광 구조물(300)은 투명 기판(310) 및 박막(320)을 포함한다. 상기 박막(320)은 상기 투명 기판(310)상에 코팅된다. 상기 박막(320)의 두께는 0.5 내지 200 ㎛이다. 상기 박막(320)은 복수의 분산체(321)를 구비한다. 상기 분산체(321)는 하기 화학식(I)로 표시되는 탄소-도핑된 텅스텐 옥사이드이다.3A is a side view showing a light-shielding structure according to one embodiment of the present invention. 3A, the light shielding structure 300 includes a transparent substrate 310 and a thin film 320. The thin film 320 is coated on the transparent substrate 310. The thickness of the thin film 320 is 0.5 to 200 탆. The thin film 320 includes a plurality of dispersing bodies 321. The dispersion 321 is a carbon-doped tungsten oxide represented by the following formula (I).

MxWCyOz (I)M x WC y O z (I)

상기 식에서, M은 하나 이상의 화학 원소를 갖는 도펀트이고, W는 텅스텐이고, C는 탄소이고, O는 산소이며, x, y 및 z는 0<x≤1, 0<y≤1, 및 0<z≤3의 범위이다. Wherein x is 1, y is 0, y is 0, x is 0, y is 0, y is 0, y is 0, z < / = 3.

도 3b는 본 발명의 또 다른 구체예에 따른 차광 구조물을 보여주는 측면도이다. 도 3b에서, 차광 구조물(300)은 2개의 투명 기판(310) 및 박막(320)을 포함하며, 상기 박막(320)은 2개의 투명 기판(310) 사이에 배치되고 복수의 분산체(321)를 구비한다. 이 구체예에서, 상기 분산 용액내로 트리에틸렌 글리콜, 디에틸헥사노에이트, 또는 폴리비닐 부티랄이 추가로 첨가된다. 이 경우, 점성 특징을 갖는 상기 군의 물질이 첨가된 분산 용액으로 인해 2개의 투명 기판(310)은 함께 접착될 수 있다. 먼저, 상기 분산 용액을 도포한 후, 박막(320)을 형성한다. 다음, 상기 박막(320)을 2개의 투명 기판(310) 사이에 배치한다. 그 후, 열 결합 방법을 이용하여 도 3b에 도시된 바와 같은 차광 구조물(300)을 형성한다. 이 구체예는 방폭 유리에 적용될 수 있다.3B is a side view showing a light-shielding structure according to another embodiment of the present invention. 3B, the light shielding structure 300 includes two transparent substrates 310 and a thin film 320, which is disposed between two transparent substrates 310 and has a plurality of dispersing bodies 321, Respectively. In this embodiment, triethylene glycol, diethylhexanoate, or polyvinyl butyral is further added into the dispersion solution. In this case, the two transparent substrates 310 can be bonded together due to the dispersion solution to which the material of the group having the viscous characteristic is added. First, a thin film 320 is formed after applying the dispersion solution. Next, the thin film 320 is disposed between the two transparent substrates 310. Thereafter, a light-shielding structure 300 as shown in FIG. 3B is formed using a thermal bonding method. This embodiment can be applied to explosion-proof glass.

본 발명의 또 다른 구체예에서, 상기 투명 기판은 내부에 복수의 분산체(도시되지 않음)를 구비할 수 있다. 첫째, 투명 기판(310)은 상기 분산 용액내로 침지된다. 다음, 투명 기판(310)은 가열되어 용융 상태가 된다. 상기 분산체는 용융 상태의 투명 기판내로 균일하게 혼합된다. 예를 들어, 상기 투명 기판은 PET 일 수 있다. 상기 PET는 상기 분산 용액내로 침지되어, 상기 PET의 표면에 복수의 분산체가 존재하게 된다. 가열 및 냉각 단계 후에, 상기 PET의 내부에는 복수의 분산체가 함유된다.In another embodiment of the present invention, the transparent substrate may have a plurality of dispersion bodies (not shown) therein. First, the transparent substrate 310 is immersed in the dispersion solution. Next, the transparent substrate 310 is heated to a molten state. The dispersion is uniformly mixed into a transparent substrate in a molten state. For example, the transparent substrate may be PET. The PET is immersed in the dispersion solution, and a plurality of dispersions are present on the surface of the PET. After the heating and cooling steps, a plurality of dispersion bodies are contained in the PET.

상기 분산액(321)의 격자 구조가 육각형인 경우, 가시광선 영역에서의 광 투과율 및 적외선 영역에서의 차광성이 모두 우수하다. 상기 분산액(321)의 격자 구조가 무정형, 입방형(cubic) 또는 정방 결정형(tetragonal)인 경우, 가시광선 영역에서의 광 투과율은 여전히 우수하지만, 적외선 영역에서의 차광성은 불량하다.When the lattice structure of the dispersion liquid 321 is hexagonal, both the light transmittance in the visible light region and the light shielding property in the infrared region are excellent. When the lattice structure of the dispersion liquid 321 is amorphous, cubic, or tetragonal, the light transmittance in the visible light region is still excellent, but the light shielding property in the infrared region is poor.

본 발명의 박막(320)은 다량의 근적외선과 원적외선을 흡수할 뿐만 아니라, 일부 가시광선도 흡수하여, 박막은 청색 또는 녹색으로 보인다.The thin film 320 of the present invention not only absorbs a large amount of near-infrared rays and far-infrared rays, but also absorbs some visible light rays, and the thin film appears blue or green.

상기 박막(320) 중의 분산체(321)의 직경이 너무 클 경우, 가시광선 영역에서의 기하학적 산란 또는 미 산란(Mie scattering)으로 인해, 박막(320)은 반투명(frosted) 유리로서 불량한 투명도를 나타낸다. 그러므로, 본 발명에서는 상기 분산체(321)의 직경을 1 내지 1000 nm로 조절하여 광학적 사용을 위해 우수한 투과율을 얻는다. If the diameter of the dispersion 321 in the thin film 320 is too large, the thin film 320 exhibits poor transparency as a frosted glass due to geometrical scattering or Mie scattering in the visible light region . Therefore, in the present invention, the diameter of the dispersion body 321 is adjusted to 1 to 1000 nm to obtain an excellent transmittance for optical use.

도 4는 본 발명의 하나의 구체예에 따른 차광 구조물의 입자 크기-빈도수를 보여주는 그래프이다. 본 발명에서 차광재(분산체)의 입자 크기는 입자 크기 분석기( (Mastersizer, Malvern, UK)로 측정한다. 상기 입자 크기 분석기는 레이저 회절 산란 기술(ISO 13320 설명서)를 이용하여 입자 크기를 측정한다. 레이저 빔이 상기 입자 샘플을 통과할 때, 상이한 각도 및 밀도의 산란된 광이 발생된다. 상기 입자 크기 분석기는 산란광 스펙트럼을 측정 및 기록한 후, 산란광 스펙트럼을 분석하여 입자 크기 분포를 계산한다. 도 4에서, 가로축은 나노미터(nm) 단위의 입자 크기를 나타내고, 세로축은 백분율(%) 단위의 빈도수를 나타낸다. 원자비가 Cs:W:C=0.32:1:0.4 인 차광재는 500℃에서 1시간 동안 열처리된 후 140nm 미만의 입자 크기를 나타내고 있다. 계산 이후, 누적 분포도가 50%인 입자들 (D50)인 최대 평균 직경은 54nm이고, 누적 분포도가 90%인 입자들 (D90)인 최대 평균 직경은 110nm이다.4 is a graph showing the particle size-frequency of the light-shielding structure according to one embodiment of the present invention. In the present invention, the particle size of the light shielding material (dispersion) is measured with a particle size analyzer (Mastersizer, Malvern, UK). The particle size analyzer measures the particle size using a laser diffraction scattering technique (ISO 13320 manual) Scattered light of different angles and densities is generated as the laser beam passes through the particle sample. [0040] The particle size analyzer measures and records the scattered light spectrum and then analyzes the scattered light spectrum to calculate the particle size distribution. 4, the horizontal axis represents the particle size in nanometers (nm), and the vertical axis represents the frequency in percent (%). The shading material with an atomic ratio of Cs: W: C = 0.32: (D90) with a cumulative distribution of 50%, the maximum average diameter being 54 nm, and the cumulative distribution being 90% of particles (D90). Sir is 110nm.

도 5는 도 3a에 따른 차광 구조물의 파장-투과율을 보여주는 그래프이다. 투명 기판(310)은 PET 이며, 분산체(321)의 원자비는 Cs:W:C=0.32:1:0.4 이다. 가로축은 나노미터(nm) 단위의 파장을 나타내고, 세로축은 백분율(%) 단위의 투과율을 나타낸다. 도 5에서, 광 투과가 380 내지 780 nm에서 일어나는 것을 볼 수 있다. 500 nm의 투과율이 69% 이고, 1000 nm의 투과율은 3%이며, 1500 nm의 투과율은 1% 이다. 도 5에 도시된 바와 같이, 본 발명의 차광 구조물은 가시광선 영역에서 우수한 광투과율을, 적외선 영역에서는 우수한 차광성을 나타낸다.5 is a graph showing the wavelength-transmittance of the light-shielding structure according to FIG. The transparent substrate 310 is PET, and the atomic ratio of the dispersion body 321 is Cs: W: C = 0.32: 1: 0.4. The horizontal axis represents the wavelength in nanometers (nm), and the vertical axis represents the transmittance in percentage (%). In Fig. 5, it can be seen that light transmission takes place at 380 to 780 nm. The transmittance at 500 nm is 69%, the transmittance at 1000 nm is 3%, and the transmittance at 1500 nm is 1%. As shown in Fig. 5, the light-shielding structure of the present invention exhibits excellent light transmittance in the visible light region and excellent light transmittance in the infrared region.

하기의 구체적인 실시예들은 추가 설명을 위해 제공되는 것이다.
The following specific embodiments are provided for further explanation.

<비교예><Comparative Example>

비교예에서는 투명 기판으로서 두께가 23㎛인 PET를 사용하였다. 전체 태양광 스펙트럼(300 내지 2500 nm)의 투과율은 89.2% 이상이었다. 가시광선 영역의 투과율은 90%이고, 적외선 영역의 투과율은 85% 였다. 그러므로, PET의 차광 효과가 불량하다.
In the comparative example, PET having a thickness of 23 占 퐉 was used as a transparent substrate. The transmittance of the total solar spectrum (300 to 2500 nm) was 89.2% or more. The transmittance in the visible light region was 90% and the transmittance in the infrared region was 85%. Therefore, the shading effect of PET is poor.

<실시예 1>&Lt; Example 1 >

텅스텐 트리옥사이드 231.84g, 세슘 옥사이드 45.09g, 및 카본 블랙 12g을 포함하는 분말을 5 mm 및 10 mm의 고순도 SiC 연마 입자를 함유하는 고에너지 볼 밀링(High Energy Ball Milling)에 넣었다. 연마 입자와 분말의 중량비는 8:1 이었다. 1시간 동안 밀링 후, 차광재의 초기 물질을 수득하였다. 그 다음, 상기 초기 물질을 오븐에 넣고, 수소(5 부피%), 메탄(5 부피%) 및 아르곤(90 부피%)을 포함하는 혼합 가스의 존재하에 500℃에서 1시간 동안 열처리하였다. 이때, 압력은 1 atm 이었다. 수득된 차광재의 비표면적은 50 m2/g 이었다.Powder containing 231.84 g of tungsten trioxide, 45.09 g of cesium oxide, and 12 g of carbon black was placed in a high energy ball milling containing 5 mm and 10 mm high purity SiC abrasive grains. The weight ratio of abrasive grains to powder was 8: 1. After milling for 1 hour, an initial material of the shading material was obtained. The initial material was then placed in an oven and heat treated at 500 占 폚 for 1 hour in the presence of a mixed gas comprising hydrogen (5 vol%), methane (5 vol%) and argon (90 vol%). At this time, the pressure was 1 atm. The specific surface area of the obtained light-shielding material was 50 m 2 / g.

수득된 차광재의 화학적 조성을 EDS를 사용하여 분석한 결과, 원자비가 Cs:W:C = 0.32:1:0.4 였다. 이는 Cs 및 C가 텅스텐 옥사이드내로 도핑되어 새로운 화합물이 형성되었음을 보여주는 것이다.The chemical composition of the obtained light shielding material was analyzed using EDS, and as a result, the atomic ratio was Cs: W: C = 0.32: 1: 0.4. This shows that Cs and C are doped into tungsten oxide to form a new compound.

그 다음, 상기 차광재를 톨루엔 및 분산매와 혼합하였다. 상기 차광재, 톨루엔 및 분산매의 중량비는 3:6:1 였다. 그리고 나서, 초음파를 이용하여 평균 입자 크기가 60 nm인 입자들을 함유하는 슬러리를 진동시켰다. 그 후, 상기 슬러리를 아크릴 수지와 1:9의 중량비로 혼합하여, 분산 용액을 수득하였다.Then, the light-shielding material was mixed with toluene and a dispersion medium. The weight ratio of the light-shielding material, toluene, and dispersion medium was 3: 6: 1. The slurry containing particles having an average particle size of 60 nm was then vibrated using ultrasonic waves. Thereafter, the slurry was mixed with acrylic resin at a weight ratio of 1: 9 to obtain a dispersion solution.

상기 분산 용액을 상기 PET 상에 독터 블레이드 코팅 방식으로 코팅하였다. 100℃의 핫 에어를 이용하여 상기 분산 용액을 10분 동안 건조시켰다. 그 다음, 반투명하고 청색을 띤 박막을 10 ㎛의 두께로 수득하였다. 그 결과를 도 5에 도시하고, 이의 광학 특징을 하기 표 1에 나타내었으며, 가시광선 영역에서의 평균 투과율은 65% 였고, 차광 계수(shading coefficient, SC)는 0.42 였다.
The dispersion solution was coated on the PET by a doctor blade coating method. The dispersion solution was dried for 10 minutes using hot air at 100 占 폚. Then, a translucent and blue-colored thin film was obtained with a thickness of 10 mu m. The results are shown in FIG. 5, and the optical characteristics thereof are shown in Table 1 below. The average transmittance in the visible light region was 65% and the shading coefficient (SC) was 0.42.

<실시예 2>&Lt; Example 2 >

텅스텐 트리옥사이드 231.84g, 소듐 옥사이드 31g, 및 카본 블랙 12g을 포함하는 분말을 5 mm 및 10 mm의 고순도 SiC 연마 입자를 함유하는 고에너지 볼 밀링에 넣었다. 연마 입자와 분말의 중량비는 8:1 이었다. 1시간 동안 밀링 후, 차광재의 초기 물질을 수득하였다. 그 다음, 상기 초기 물질을 오븐에 넣고, 수소(5 부피%), 메탄(5 부피%) 및 아르곤(90 부피%)을 포함하는 혼합 가스의 존재하에 500℃에서 1시간 동안 열처리하였다. 이때, 압력은 1 atm 이었다. 수득된 차광재의 비표면적은 53 m2/g 이었다.231.84 g of tungsten trioxide, 31 g of sodium oxide, and 12 g of carbon black was placed in a high energy ball mill containing 5 mm and 10 mm high purity SiC abrasive grains. The weight ratio of abrasive grains to powder was 8: 1. After milling for 1 hour, an initial material of the shading material was obtained. The initial material was then placed in an oven and heat treated at 500 占 폚 for 1 hour in the presence of a mixed gas comprising hydrogen (5 vol%), methane (5 vol%) and argon (90 vol%). At this time, the pressure was 1 atm. The specific surface area of the obtained light-shielding material was 53 m 2 / g.

수득된 차광재의 화학적 조성을 EDS를 사용하여 분석한 결과, 원자비가 Na:W:C = 0.9:1:0.2 였다. 이는 Na 및 C가 텅스텐 옥사이드내로 도핑되어 새로운 화합물이 형성되었음을 보여주는 것이다.The chemical composition of the obtained light-shielding material was analyzed using EDS, and as a result, the atomic ratio was Na: W: C = 0.9: 1: 0.2. This shows that Na and C are doped into tungsten oxide to form a new compound.

그 다음, 상기 차광재를 톨루엔 및 분산매와 혼합하였다. 상기 차광재, 톨루엔 및 분산매의 중량비는 3:6:1 였다. 그리고 나서, 초음파를 이용하여 평균 입자 크기가 60 nm인 입자들을 함유하는 슬러리를 진동시켰다. 그 후, 상기 슬러리를 아크릴 수지와 1:9의 중량비로 혼합하여, 분산 용액을 수득하였다.Then, the light-shielding material was mixed with toluene and a dispersion medium. The weight ratio of the light-shielding material, toluene, and dispersion medium was 3: 6: 1. The slurry containing particles having an average particle size of 60 nm was then vibrated using ultrasonic waves. Thereafter, the slurry was mixed with acrylic resin at a weight ratio of 1: 9 to obtain a dispersion solution.

상기 분산 용액을 상기 PET 상에 독터 블레이드 코팅 방식으로 코팅하였다. 100℃의 핫 에어를 이용하여 상기 분산 용액을 10분 동안 건조시켰다. 그 다음, 반투명하고 청색을 띤 박막을 10 ㎛의 두께로 수득하였다. 광학 특징을 하기 표 1에 나타내었으며, 가시광선 영역에서의 평균 투과율은 70% 였고, SC는 0.45 였다.
The dispersion solution was coated on the PET by a doctor blade coating method. The dispersion solution was dried for 10 minutes using hot air at 100 占 폚. Then, a translucent and blue-colored thin film was obtained with a thickness of 10 mu m. The optical characteristics are shown in Table 1, and the average transmittance in the visible light region was 70% and the SC was 0.45.

<실시예 3>&Lt; Example 3 >

텅스텐 트리옥사이드 231.84g, 인듐 옥사이드 13.9g, 및 카본 블랙 12g을 포함하는 분말을 5 mm 및 10 mm의 고순도 SiC 연마 입자를 함유하는 고에너지 볼 밀링에 넣었다. 연마 입자와 분말의 중량비는 8:1 이었다. 1시간 동안 밀링 후, 차광재의 초기 물질을 수득하였다. 그 다음, 상기 초기 물질을 오븐에 넣고, 수소(5 부피%), 메탄(5 부피%) 및 아르곤(90 부피%)을 포함하는 혼합 가스의 존재하에 500℃에서 1시간 동안 열처리하였다. 이때, 압력은 1 atm 이었다. 수득된 차광재의 비표면적은 51 m2/g 이었다.A powder containing 231.84 g of tungsten trioxide, 13.9 g of indium oxide and 12 g of carbon black was placed in a high energy ball mill containing 5 mm and 10 mm high purity SiC abrasive grains. The weight ratio of abrasive grains to powder was 8: 1. After milling for 1 hour, an initial material of the shading material was obtained. The initial material was then placed in an oven and heat treated at 500 占 폚 for 1 hour in the presence of a mixed gas comprising hydrogen (5 vol%), methane (5 vol%) and argon (90 vol%). At this time, the pressure was 1 atm. The specific surface area of the obtained light-shielding material was 51 m 2 / g.

수득된 차광재의 화학적 조성을 EDS를 사용하여 분석한 결과, 원자비가 In:W:C = 0.1:1:0.4 였다. 이는 In 및 C가 텅스텐 옥사이드내로 도핑되어 새로운 화합물이 형성되었음을 보여주는 것이다.The chemical composition of the obtained light-shielding material was analyzed by using EDS. As a result, the atomic ratio was In: W: C = 0.1: 1: 0.4. This shows that In and C are doped into tungsten oxide to form a new compound.

그 다음, 상기 차광재를 톨루엔 및 분산매와 혼합하였다. 상기 차광재, 톨루엔 및 분산매의 중량비는 3:6:1 였다. 그리고 나서, 초음파를 이용하여 평균 입자 크기가 60 nm인 입자들을 함유하는 슬러리를 진동시켰다. 그 후, 상기 슬러리를 아크릴 수지와 1:9의 중량비로 혼합하여, 분산 용액을 수득하였다.Then, the light-shielding material was mixed with toluene and a dispersion medium. The weight ratio of the light-shielding material, toluene, and dispersion medium was 3: 6: 1. The slurry containing particles having an average particle size of 60 nm was then vibrated using ultrasonic waves. Thereafter, the slurry was mixed with acrylic resin at a weight ratio of 1: 9 to obtain a dispersion solution.

상기 분산 용액을 상기 PET 상에 독터 블레이드 코팅 방식으로 코팅하였다. 100℃의 핫 에어를 이용하여 상기 분산 용액을 10분 동안 건조시켰다. 그 다음, 반투명하고 청색을 띤 박막을 10 ㎛의 두께로 수득하였다. 광학 특징을 하기 표 1에 나타내었으며, 가시광선 영역에서의 평균 투과율은 55% 였고, SC는 0.50 였다.
The dispersion solution was coated on the PET by a doctor blade coating method. The dispersion solution was dried for 10 minutes using hot air at 100 占 폚. Then, a translucent and blue-colored thin film was obtained with a thickness of 10 mu m. The optical characteristics are shown in Table 1, and the average transmittance in the visible light region was 55% and the SC was 0.50.

<실시예 4><Example 4>

텅스텐 트리옥사이드 231.84g, 칼슘 옥사이드 8.4g, 및 카본 블랙 12g을 포함하는 분말을 5 mm 및 10 mm의 고순도 SiC 연마 입자를 함유하는 고에너지 볼 밀링에 넣었다. 연마 입자와 분말의 중량비는 8:1 이었다. 1시간 동안 밀링 후, 차광재의 초기 물질을 수득하였다. 그 다음, 상기 초기 물질을 오븐에 넣고, 수소(5 부피%), 메탄(5 부피%) 및 아르곤(90 부피%)을 포함하는 혼합 가스의 존재하에 500℃에서 1시간 동안 열처리하였다. 이때, 압력은 1 atm 이었다. 수득된 차광재의 비표면적은 54 m2/g 이었다.A powder comprising 231.84 g of tungsten trioxide, 8.4 g of calcium oxide, and 12 g of carbon black was placed in a high energy ball mill containing 5 mm and 10 mm high purity SiC abrasive grains. The weight ratio of abrasive grains to powder was 8: 1. After milling for 1 hour, an initial material of the shading material was obtained. The initial material was then placed in an oven and heat treated at 500 占 폚 for 1 hour in the presence of a mixed gas comprising hydrogen (5 vol%), methane (5 vol%) and argon (90 vol%). At this time, the pressure was 1 atm. The specific surface area of the obtained light-shielding material was 54 m 2 / g.

수득된 차광재의 화학적 조성을 EDS를 사용하여 분석한 결과, 원자비가 Ca:W:C = 0.15:1:0.2 였다. 이는 Ca 및 C가 텅스텐 옥사이드내로 도핑되어 새로운 화합물이 형성되었음을 보여주는 것이다.The chemical composition of the obtained light-shielding material was analyzed using EDS, and as a result, the atomic ratio was Ca: W: C = 0.15: 1: 0.2. This shows that Ca and C are doped into tungsten oxide to form a new compound.

그 다음, 상기 차광재를 톨루엔 및 분산매와 혼합하였다. 상기 차광재, 톨루엔 및 분산매의 중량비는 3:6:1 였다. 그리고 나서, 초음파를 이용하여 평균 입자 크기가 60 nm인 입자들을 함유하는 슬러리를 진동시켰다. 그 후, 상기 슬러리를 아크릴 수지와 1:9의 중량비로 혼합하여, 분산 용액을 수득하였다.Then, the light-shielding material was mixed with toluene and a dispersion medium. The weight ratio of the light-shielding material, toluene, and dispersion medium was 3: 6: 1. The slurry containing particles having an average particle size of 60 nm was then vibrated using ultrasonic waves. Thereafter, the slurry was mixed with acrylic resin at a weight ratio of 1: 9 to obtain a dispersion solution.

상기 분산 용액을 상기 PET 상에 독터 블레이드 코팅 방식으로 코팅하였다. 100℃의 핫 에어를 이용하여 상기 분산 용액을 10분 동안 건조시켰다. 그 다음, 반투명하고 청색을 띤 박막을 10 ㎛의 두께로 수득하였다. 광학 특징을 하기 표 1에 나타내었으며, 가시광선 영역에서의 평균 투과율은 62% 였고, SC는 0.45 였다.The dispersion solution was coated on the PET by a doctor blade coating method. The dispersion solution was dried for 10 minutes using hot air at 100 占 폚. Then, a translucent and blue-colored thin film was obtained with a thickness of 10 mu m. The optical characteristics are shown in Table 1, and the average transmittance in the visible light region was 62% and the SC was 0.45.

<실시예 5>&Lt; Example 5 >

텅스텐 트리옥사이드 231.84g, 세슘 옥사이드 45.09g, 및 카본 블랙 12g을 포함하는 분말을 5 mm 및 10 mm의 고순도 SiC 연마 입자를 함유하는 고에너지 볼 밀링에 넣었다. 연마 입자와 분말의 중량비는 8:1 이었다. 1시간 동안 밀링 후, 차광재의 초기 물질을 수득하였다. 그 다음, 상기 초기 물질을 오븐에 넣고, 수소(5 부피%), 메탄(5 부피%) 및 아르곤(90 부피%)을 포함하는 혼합 가스의 존재하에 750℃에서 1시간 동안 열처리하였다. 이때, 압력은 1 atm 이었다. 수득된 차광재의 비표면적은 46 m2/g 이었다.A powder comprising 231.84 g of tungsten trioxide, 45.09 g of cesium oxide, and 12 g of carbon black was placed in a high energy ball mill containing 5 mm and 10 mm high purity SiC abrasive grains. The weight ratio of abrasive grains to powder was 8: 1. After milling for 1 hour, an initial material of the shading material was obtained. The initial material was then placed in an oven and heat treated at 750 占 폚 for 1 hour in the presence of a mixed gas comprising hydrogen (5 vol%), methane (5 vol%) and argon (90 vol%). At this time, the pressure was 1 atm. The specific surface area of the obtained light-shielding material was 46 m 2 / g.

수득된 차광재의 화학적 조성을 EDS를 사용하여 분석한 결과, 원자비가 Cs:W:C = 0.32:1:0.4 였다. 이는 Cs 및 C가 텅스텐 옥사이드내로 도핑되어 새로운 화합물이 형성되었음을 보여주는 것이다.The chemical composition of the obtained light shielding material was analyzed using EDS, and as a result, the atomic ratio was Cs: W: C = 0.32: 1: 0.4. This shows that Cs and C are doped into tungsten oxide to form a new compound.

그 다음, 상기 차광재를 톨루엔 및 분산매와 혼합하였다. 상기 차광재, 톨루엔 및 분산매의 중량비는 3:6:1 였다. 그리고 나서, 초음파를 이용하여 평균 입자 크기가 60 nm인 입자들을 함유하는 슬러리를 진동시켰다. 그 후, 상기 슬러리를 아크릴 수지와 1:9의 중량비로 혼합하여, 분산 용액을 수득하였다.Then, the light-shielding material was mixed with toluene and a dispersion medium. The weight ratio of the light-shielding material, toluene, and dispersion medium was 3: 6: 1. The slurry containing particles having an average particle size of 60 nm was then vibrated using ultrasonic waves. Thereafter, the slurry was mixed with acrylic resin at a weight ratio of 1: 9 to obtain a dispersion solution.

상기 분산 용액을 상기 PET 상에 독터 블레이드 코팅 방식으로 코팅하였다. 100℃의 핫 에어를 이용하여 상기 분산 용액을 10분 동안 건조시켰다. 그 다음, 반투명하고 청색을 띤 박막을 10 ㎛의 두께로 수득하였다. 광학 특징을 하기 표 1에 나타내었으며, 가시광선 영역에서의 평균 투과율은 68% 였고, SC는 0.40 였다.
The dispersion solution was coated on the PET by a doctor blade coating method. The dispersion solution was dried for 10 minutes using hot air at 100 占 폚. Then, a translucent and blue-colored thin film was obtained with a thickness of 10 mu m. The optical characteristics are shown in Table 1, and the average transmittance in the visible light region was 68% and the SC was 0.40.

<실시예 6>&Lt; Example 6 >

텅스텐 트리옥사이드 231.84g, 세슘 옥사이드 45.09g, 및 카본 블랙 12g을 포함하는 분말을 5 mm 및 10 mm의 고순도 SiC 연마 입자를 함유하는 고에너지 볼 밀링에 넣었다. 연마 입자와 분말의 중량비는 8:1 이었다. 1시간 동안 밀링 후, 차광재의 초기 물질을 수득하였다. 그 다음, 상기 초기 물질을 오븐에 넣고, 수소(5 부피%), 메탄(5 부피%) 및 아르곤(90 부피%)을 포함하는 혼합 가스의 존재하에 1000℃에서 1시간 동안 열처리하였다. 이때, 압력은 1 atm 이었다. 수득된 차광재의 비표면적은 42 m2/g 이었다.A powder comprising 231.84 g of tungsten trioxide, 45.09 g of cesium oxide, and 12 g of carbon black was placed in a high energy ball mill containing 5 mm and 10 mm high purity SiC abrasive grains. The weight ratio of abrasive grains to powder was 8: 1. After milling for 1 hour, an initial material of the shading material was obtained. The initial material was then placed in an oven and heat treated at 1000 占 폚 for 1 hour in the presence of a mixed gas comprising hydrogen (5 vol%), methane (5 vol%) and argon (90 vol%). At this time, the pressure was 1 atm. The specific surface area of the obtained light-shielding material was 42 m 2 / g.

수득된 차광재의 화학적 조성을 EDS를 사용하여 분석한 결과, 원자비가 Cs:W:C = 0.32:1:0.4 였다. 이는 Cs 및 C가 텅스텐 옥사이드내로 도핑되어 새로운 화합물이 형성되었음을 보여주는 것이다.The chemical composition of the obtained light shielding material was analyzed using EDS, and as a result, the atomic ratio was Cs: W: C = 0.32: 1: 0.4. This shows that Cs and C are doped into tungsten oxide to form a new compound.

그 다음, 상기 차광재를 톨루엔 및 분산매와 혼합하였다. 상기 차광재, 톨루엔 및 분산매의 중량비는 3:6:1 였다. 그리고 나서, 초음파를 이용하여 평균 입자 크기가 60 nm인 입자들을 함유하는 슬러리를 진동시켰다. 그 후, 상기 슬러리를 아크릴 수지와 1:9의 중량비로 혼합하여, 분산 용액을 수득하였다.Then, the light-shielding material was mixed with toluene and a dispersion medium. The weight ratio of the light-shielding material, toluene, and dispersion medium was 3: 6: 1. The slurry containing particles having an average particle size of 60 nm was then vibrated using ultrasonic waves. Thereafter, the slurry was mixed with acrylic resin at a weight ratio of 1: 9 to obtain a dispersion solution.

상기 분산 용액을 상기 PET 상에 독터 블레이드 코팅 방식으로 코팅하였다. 100℃의 핫 에어를 이용하여 상기 분산 용액을 10분 동안 건조시켰다. 그 다음, 반투명하고 청색을 띤 박막을 10 ㎛의 두께로 수득하였다. 광학 특징을 하기 표 1에 나타내었으며, 가시광선 영역에서의 평균 투과율은 62% 였고, SC는 0.42 였다.
The dispersion solution was coated on the PET by a doctor blade coating method. The dispersion solution was dried for 10 minutes using hot air at 100 占 폚. Then, a translucent and blue-colored thin film was obtained with a thickness of 10 mu m. The optical characteristics are shown in Table 1, and the average transmittance in the visible light region was 62% and the SC was 0.42.

<실시예 7>&Lt; Example 7 >

텅스텐 트리옥사이드 231.84g, 세슘 옥사이드 45.09g, 및 카본 블랙 12g을 포함하는 분말을 5 mm 및 10 mm의 고순도 SiC 연마 입자를 함유하는 고에너지 볼 밀링에 넣었다. 연마 입자와 분말의 중량비는 8:1 이었다. 1시간 동안 밀링 후, 차광재의 초기 물질을 수득하였다. 그 다음, 상기 초기 물질을 오븐에 넣고, 수소(5 부피%), 메탄(5 부피%) 및 아르곤(90 부피%)을 포함하는 혼합 가스의 존재하에 750℃에서 5시간 동안 열처리하였다. 이때, 압력은 1 atm 이었다. 수득된 차광재의 비표면적은 41 m2/g 이었다.A powder comprising 231.84 g of tungsten trioxide, 45.09 g of cesium oxide, and 12 g of carbon black was placed in a high energy ball mill containing 5 mm and 10 mm high purity SiC abrasive grains. The weight ratio of abrasive grains to powder was 8: 1. After milling for 1 hour, an initial material of the shading material was obtained. The initial material was then placed in an oven and heat treated at 750 占 폚 for 5 hours in the presence of a mixed gas comprising hydrogen (5 vol%), methane (5 vol%) and argon (90 vol%). At this time, the pressure was 1 atm. The specific surface area of the obtained light-shielding material was 41 m 2 / g.

수득된 차광재의 화학적 조성을 EDS를 사용하여 분석한 결과, 원자비가 Cs:W:C = 0.32:1:0.4 였다. 이는 Cs 및 C가 텅스텐 옥사이드내로 도핑되어 새로운 화합물이 형성되었음을 보여주는 것이다.The chemical composition of the obtained light shielding material was analyzed using EDS, and as a result, the atomic ratio was Cs: W: C = 0.32: 1: 0.4. This shows that Cs and C are doped into tungsten oxide to form a new compound.

그 다음, 상기 차광재를 톨루엔 및 분산매와 혼합하였다. 상기 차광재, 톨루엔 및 분산매의 중량비는 3:6:1 였다. 그리고 나서, 초음파를 이용하여 평균 입자 크기가 60 nm인 입자들을 함유하는 슬러리를 진동시켰다. 그 후, 상기 슬러리를 아크릴 수지와 1:9의 중량비로 혼합하여, 분산 용액을 수득하였다.Then, the light-shielding material was mixed with toluene and a dispersion medium. The weight ratio of the light-shielding material, toluene, and dispersion medium was 3: 6: 1. The slurry containing particles having an average particle size of 60 nm was then vibrated using ultrasonic waves. Thereafter, the slurry was mixed with acrylic resin at a weight ratio of 1: 9 to obtain a dispersion solution.

상기 분산 용액을 상기 PET 상에 독터 블레이드 코팅 방식으로 코팅하였다. 100℃의 핫 에어를 이용하여 상기 분산 용액을 10분 동안 건조시켰다. 그 다음, 반투명하고 청색을 띤 박막을 10 ㎛의 두께로 수득하였다. 광학 특징을 하기 표 1에 나타내었으며, 가시광선 영역에서의 평균 투과율은 67% 였고, SC는 0.412 였다.
The dispersion solution was coated on the PET by a doctor blade coating method. The dispersion solution was dried for 10 minutes using hot air at 100 占 폚. Then, a translucent and blue-colored thin film was obtained with a thickness of 10 mu m. The optical characteristics are shown in Table 1, and the average transmittance in the visible light region was 67% and the SC was 0.412.

<실시예 8>&Lt; Example 8 >

텅스텐 트리옥사이드 231.84g, 세슘 옥사이드 45.09g, 및 카본 블랙 12g을 포함하는 분말을 5 mm 및 10 mm의 고순도 SiC 연마 입자를 함유하는 고에너지 볼 밀링에 넣었다. 연마 입자와 분말의 중량비는 8:1 이었다. 1시간 동안 밀링 후, 차광재의 초기 물질을 수득하였다. 그 다음, 상기 초기 물질을 오븐에 넣고, 수소(5 부피%), 메탄(5 부피%) 및 아르곤(90 부피%)을 포함하는 혼합 가스의 존재하에 750℃에서 10시간 동안 열처리하였다. 이때, 압력은 1 atm 이었다. 수득된 차광재의 비표면적은 38 m2/g 이었다.A powder comprising 231.84 g of tungsten trioxide, 45.09 g of cesium oxide, and 12 g of carbon black was placed in a high energy ball mill containing 5 mm and 10 mm high purity SiC abrasive grains. The weight ratio of abrasive grains to powder was 8: 1. After milling for 1 hour, an initial material of the shading material was obtained. The initial material was then placed in an oven and heat treated at 750 占 폚 for 10 hours in the presence of a mixed gas comprising hydrogen (5 vol%), methane (5 vol%) and argon (90 vol%). At this time, the pressure was 1 atm. The specific surface area of the obtained light-shielding material was 38 m 2 / g.

수득된 차광재의 화학적 조성을 EDS를 사용하여 분석한 결과, 원자비가 Cs:W:C = 0.32:1:0.4 였다. 이는 Cs 및 C가 텅스텐 옥사이드내로 도핑되어 새로운 화합물이 형성되었음을 보여주는 것이다.The chemical composition of the obtained light shielding material was analyzed using EDS, and as a result, the atomic ratio was Cs: W: C = 0.32: 1: 0.4. This shows that Cs and C are doped into tungsten oxide to form a new compound.

그 다음, 상기 차광재를 톨루엔 및 분산매와 혼합하였다. 상기 차광재, 톨루엔 및 분산매의 중량비는 3:6:1 였다. 그리고 나서, 초음파를 이용하여 평균 입자 크기가 60 nm인 입자들을 함유하는 슬러리를 진동시켰다. 그 후, 상기 슬러리를 아크릴 수지와 1:9의 중량비로 혼합하여, 분산 용액을 수득하였다.Then, the light-shielding material was mixed with toluene and a dispersion medium. The weight ratio of the light-shielding material, toluene, and dispersion medium was 3: 6: 1. The slurry containing particles having an average particle size of 60 nm was then vibrated using ultrasonic waves. Thereafter, the slurry was mixed with acrylic resin at a weight ratio of 1: 9 to obtain a dispersion solution.

상기 분산 용액을 상기 PET 상에 독터 블레이드 코팅 방식으로 코팅하였다. 100℃의 핫 에어를 이용하여 상기 분산 용액을 10분 동안 건조시켰다. 그 다음, 반투명하고 청색을 띤 박막을 10 ㎛의 두께로 수득하였다. 광학 특징을 하기 표 1에 나타내었으며, 가시광선 영역에서의 평균 투과율은 64% 였고, SC는 0.42 였다.
The dispersion solution was coated on the PET by a doctor blade coating method. The dispersion solution was dried for 10 minutes using hot air at 100 占 폚. Then, a translucent and blue-colored thin film was obtained with a thickness of 10 mu m. The optical characteristics are shown in Table 1, and the average transmittance in the visible light region was 64% and the SC was 0.42.

<실시예 9>&Lt; Example 9 >

텅스텐 트리옥사이드 231.84g, 세슘 옥사이드 45.09g, 및 카본 블랙 12g을 포함하는 분말을 5 mm 및 10 mm의 고순도 SiC 연마 입자를 함유하는 고에너지 볼 밀링에 넣었다. 연마 입자와 분말의 중량비는 8:1 이었다. 1시간 동안 밀링 후, 차광재의 초기 물질을 수득하였다. 그 다음, 상기 초기 물질을 오븐에 넣고, 수소(5 부피%), 메탄(5 부피%) 및 아르곤(90 부피%)을 포함하는 혼합 가스의 존재하에 750℃에서 5시간 동안 열처리하였다. 이때, 압력은 1 atm 이었다. 수득된 차광재의 비표면적은 41 m2/g 이었다.A powder comprising 231.84 g of tungsten trioxide, 45.09 g of cesium oxide, and 12 g of carbon black was placed in a high energy ball mill containing 5 mm and 10 mm high purity SiC abrasive grains. The weight ratio of abrasive grains to powder was 8: 1. After milling for 1 hour, an initial material of the shading material was obtained. The initial material was then placed in an oven and heat treated at 750 占 폚 for 5 hours in the presence of a mixed gas comprising hydrogen (5 vol%), methane (5 vol%) and argon (90 vol%). At this time, the pressure was 1 atm. The specific surface area of the obtained light-shielding material was 41 m 2 / g.

수득된 차광재의 화학적 조성을 EDS를 사용하여 분석한 결과, 원자비가 Cs:W:C = 0.32:1:0.4 였다. 이는 Cs 및 C가 텅스텐 옥사이드내로 도핑되어 새로운 화합물이 형성되었음을 보여주는 것이다.The chemical composition of the obtained light shielding material was analyzed using EDS, and as a result, the atomic ratio was Cs: W: C = 0.32: 1: 0.4. This shows that Cs and C are doped into tungsten oxide to form a new compound.

그 다음, 상기 차광재를 톨루엔 및 분산매와 혼합하였다. 상기 차광재, 톨루엔 및 분산매의 중량비는 3:6:1 였다. 그리고 나서, 초음파를 이용하여 평균 입자 크기가 60 nm인 입자들을 함유하는 슬러리를 진동시켰다. 그 후, 상기 슬러리를 UV 수지와 1:9의 중량비로 혼합하여, 분산 용액을 수득하였다.Then, the light-shielding material was mixed with toluene and a dispersion medium. The weight ratio of the light-shielding material, toluene, and dispersion medium was 3: 6: 1. The slurry containing particles having an average particle size of 60 nm was then vibrated using ultrasonic waves. Thereafter, the slurry was mixed with a UV resin at a weight ratio of 1: 9 to obtain a dispersion solution.

상기 분산 용액을 상기 PET 상에 독터 블레이드 코팅 방식으로 코팅하였다. 100℃의 핫 에어를 이용하여 상기 분산 용액을 10분 동안 건조시켰다. 그 다음, 반투명하고 청색을 띤 박막을 10 ㎛의 두께로 수득하였다. 광학 특징을 하기 표 1에 나타내었으며, 가시광선 영역에서의 평균 투과율은 70% 였고, SC는 0.40 였다.The dispersion solution was coated on the PET by a doctor blade coating method. The dispersion solution was dried for 10 minutes using hot air at 100 占 폚. Then, a translucent and blue-colored thin film was obtained with a thickness of 10 mu m. The optical characteristics are shown in Table 1, and the average transmittance in the visible light region was 70% and the SC was 0.40.

C.C.C.C. T.TT.T. S.S.A.S.S.A. 수지Suzy T (%)T (%) SCSC C.E.C.E. 89.289.2 1One Cs,W,C,OCs, W, C, O 500℃/1hr500 ° C / 1 hr 5050 아크릴 수지Acrylic resin 6565 0.420.42 22 Na,W,C,ONa, W, C, O 500℃/1hr500 ° C / 1 hr 5353 아크릴 수지Acrylic resin 7070 0.450.45 33 In,W,C,OIn, W, C, O 500℃/1hr500 ° C / 1 hr 5151 아크릴 수지Acrylic resin 5555 0.50.5 44 Ca,W,C,OCa, W, C, O 500℃/1hr500 ° C / 1 hr 5454 아크릴 수지Acrylic resin 6262 0.450.45 55 Cs,W,C,OCs, W, C, O 750℃/1hr750 ° C / 1hr 4646 아크릴 수지Acrylic resin 6868 0.40.4 66 Cs,W,C,OCs, W, C, O 1000℃/1hr1000 ° C / 1hr 4242 아크릴 수지Acrylic resin 6262 0.420.42 77 Cs,W,C,OCs, W, C, O 750℃/5hrs750 ° C / 5hrs 4141 아크릴 수지Acrylic resin 6767 0.410.41 88 Cs,W,C,OCs, W, C, O 750℃/10hrs750 ° C / 10hrs 3838 아크릴 수지Acrylic resin 6464 0.420.42 99 Cs,W,C,OCs, W, C, O 750℃/5hrs750 ° C / 5hrs 4141 UV 수지UV resin 7070 0.40.4 C.E.: 비교예
C.C.: 화학적 조성
T.T: 열처리 온도/시간
S.S.A.: 비표면적(m2/g)
T: 가시광선 영역의 투과율
CE: Comparative Example
CC: chemical composition
TT: Heat treatment temperature / time
SSA: specific surface area (m 2 / g)
T: transmittance in visible light region

SC는 동일한 광 조사 조건하에서 각각의 실시예(1-9) 및 비교예(두께가 23㎛인 PET) 사이의 비이다. SC의 값이 작을수록, 차광 효과는 더욱 좋다.SC are ratios between the Examples (1-9) and the Comparative Examples (PET having a thickness of 23 mu m) under the same light irradiation conditions. The smaller the value of SC, the better the shading effect.

본 발명에 따라 차광재로서 제공된 상기 탄소-도핑된 텅스텐 옥사이드(MxWCyOz)는 가시광선 영역에서 우수한 투과율을 나타내고 적외선 영역에서는 우수한 차단성을 나타낸다. 또한, 고에너지 볼 밀링 분쇄법이 상기 혼합 분말에 적용되어, 합금 현상을 일으켜 초기 물질을 형성한다. 습식 공정을 이용하는 기존의 제조 방법에 비해, 본 발명에서는 건식 방법을 사용하여 부식성이 높고 오염도가 높은 부산물의 생성을 방지할 수 있다.The carbon is provided as a difference slag according to the invention the doped tungsten oxide (M y O z x WC) exhibits excellent barrier property shows a high transmittance in the infrared region in the visible light region. Further, a high energy ball milling method is applied to the mixed powder to cause an alloy phenomenon to form an initial material. Compared with the conventional manufacturing method using a wet process, in the present invention, it is possible to prevent the generation of a highly corrosive and highly contaminated by-product using a dry process.

본 발명이 비록 일부 특정예에 의해 설명되었을지라도, 다른 실시예들이 가능하다. 그러므로, 첨부된 청구범위의 사상 및 범위는 본원에 기술된 실시예들에 의해 한정되지 않는다.Although the present invention has been described by some specific examples, other embodiments are possible. Therefore, the spirit and scope of the appended claims are not to be limited by the embodiments described herein.

본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 본 발명의 범위 및 사상을 벗어나지 않으면서 본 발명의 구조에 대해 다양한 수정 및 변형이 이루어질 수 있음은 자명할 것이다. 이상과 같이, 본 발명은 아래에 기재될 청구범위의 범위내에서 이루어지는 본 발명의 수정 및 변형을 포함한다.
It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the structure of the present invention without departing from the scope and spirit of the present invention. As described above, the present invention includes modifications and variations of the present invention which come within the scope of the following claims.

Claims (24)

삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete (a) 텅스텐-함유 화합물, 도펀트 및 탄소 동소체를 포함하는 분말을 준비하는 단계;
(b) 상기 분말에 연마 입자를 첨가하여 혼합 분말을 형성하는 단계;
(c) 상기 혼합 분말을 분쇄하여 초기 물질을 형성하는 단계;
(d) 상기 초기 물질을 혼합 가스로 열처리하여, 하기 화학식(I)로 표시되는 탄소-도핑된 텅스텐 옥사이드 차광재를 형성하는 단계를 포함하는,
차광 구조물의 제조 방법::
MxWCyOz (I)
상기 식에서, M은 하나 이상의 화학 원소를 갖는 도펀트이고, W는 텅스텐이고, C는 탄소이고, O는 산소이며, x, y 및 z는 0<x≤1, 0<y≤1, 및 0<z≤3의 범위이다.
(a) preparing a powder comprising a tungsten-containing compound, a dopant, and a carbon isotope;
(b) adding abrasive particles to the powder to form a mixed powder;
(c) pulverizing the mixed powder to form an initial material;
(d) heat treating the initial material with a mixed gas to form a carbon-doped tungsten oxide light-blocking material represented by the following formula (I)
Manufacturing Method of Shading Structure ::
M x WC y O z (I)
Wherein x is 1, y is 0, y is 0, x is 0, y is 0, y is 0, y is 0, z < / = 3.
제 6항에 있어서, 상기 텅스텐-함유 화합물이 텅스텐 트리옥사이드 또는 텅스텐 디옥사이드인 것을 특징으로 하는 제조 방법.
7. The method of claim 6, wherein the tungsten-containing compound is tungsten trioxide or tungsten dioxide.
제 6항에 있어서, 상기 도펀트가 알칼리 금속, 알칼리 토금속, 희토류 금속, B, C, F, Al, Si, P, S, Cl, Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Ga, Ge, As, Se, Br, Zr, Nb, Mo, Tc, Ru, Rh, Pd, Ag, Cd, In, Sn, Sb, Te, I, Hf, Ta, Re, Os, Ir, Pt, Au, Hg, Tl, Pb, Bi, Po, At 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 제조 방법.
The method of claim 6, wherein the dopant is selected from the group consisting of alkali metals, alkaline earth metals, rare earth metals, B, C, F, Al, Si, P, S, Cl, Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Zn, Ga, Ge, As, Se, Br, Zr, Nb, Mo, Tc, Ru, Rh, Pd, Ag, Cd, In, Sn, Sb, Te, I, Hf, Pt, Au, Hg, Tl, Pb, Bi, Po, At, and combinations thereof.
제 6항에 있어서, 상기 탄소 동소체가 카본 블랙, 그래파이트, 카본 나노튜브, 그래펜 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 제조 방법.
The method according to claim 6, wherein the carbon isotope is selected from the group consisting of carbon black, graphite, carbon nanotubes, graphenes, and combinations thereof.
제 6항에 있어서, 상기 연마 입자가 SiC로 이루어진 것을 특징으로 하는 제조 방법.
The method according to claim 6, wherein the abrasive grains are made of SiC.
제 6항에 있어서, 상기 혼합 분말이 상기 연마 입자 및 상기 분말을 8:1의 중량비로 혼합함으로써 형성되는 것을 특징으로 하는 제조 방법.
The method according to claim 6, wherein the mixed powder is formed by mixing the abrasive grains and the powder at a weight ratio of 8: 1.
제 6항에 있어서, 단계 (c)에서, 상기 혼합 분말의 분쇄가 고에너지 볼 밀링에 의해 30분 내지 6시간 동안 수행되는 것을 특징으로 하는 제조 방법.
7. The process according to claim 6, wherein, in step (c), the grinding of the mixed powder is carried out by high energy ball milling for 30 minutes to 6 hours.
제 6항에 있어서, 상기 혼합 가스가 수소, 메탄 및 아르곤을 포함하는 것을 특징으로 하는 제조 방법.
7. The method of claim 6, wherein the mixed gas comprises hydrogen, methane, and argon.
제 6항에 있어서, 상기 열처리 온도가 100 내지 1000℃ 이며, 상기 열처리 시간이 1 내지 12 시간인 것을 특징으로 하는 제조 방법.
The method according to claim 6, wherein the heat treatment temperature is 100 to 1000 ° C, and the heat treatment time is 1 to 12 hours.
삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 제 6항에 있어서, 상기 차광재가 직경이 1 내지 1000 nm인 입자인 것을 특징으로 하는 제조 방법.
The method according to claim 6, wherein the light shielding material is particles having a diameter of 1 to 1000 nm.
제 19항에 있어서, 상기 차광재의 직경이 1 내지 150 nm인 것을 특징으로 하는 제조 방법.
The method according to claim 19, wherein the light shielding material has a diameter of 1 to 150 nm.
제 6항에 있어서,
복수의 상기 탄소-도핑된 텅스텐 옥사이드를 갖는 박막을 형성하는 단계; 및
상기 박막을 투명 기판 상에 코팅하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 제조 방법.
The method according to claim 6,
Forming a thin film having a plurality of the carbon-doped tungsten oxides; And
Further comprising the step of coating said thin film on a transparent substrate.
제 21항에 있어서, 상기 박막의 두께가 0.5 내지 200 ㎛인 것을 특징으로 하는 제조 방법.
22. The method according to claim 21, wherein the thin film has a thickness of 0.5 to 200 mu m.
제 6항에 있어서,
용매를 첨가하고, 탄소-도핑된 텅스텐 옥사이드를 상기 용매중에 균일하게 분산시키는 단계;
상기 용매내로 매질을 첨가하여 분산 용액을 수득하는 단계;
상기 분산 용액을 투명 기판상에 코팅하는 단계; 및
상기 분산 용액중의 매질을 고형화하여 박막을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 제조 방법.
The method according to claim 6,
Adding a solvent and uniformly dispersing the carbon-doped tungsten oxide in the solvent;
Adding a medium into the solvent to obtain a dispersion solution;
Coating the dispersion solution on a transparent substrate; And
And solidifying the medium in the dispersion solution to form a thin film.
제 23항에 있어서, 상기 매질이 폴리에스테르 수지, PI 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리에틸렌 수지, 폴리비닐 클로라이드 수지, 폴리비닐리덴 클로라이드 수지, 폴리비닐 알코올 수지, 폴리스티렌 수지, 폴리비닐 부티랄 수지, 에틸렌-비닐 아세테이트 공중합체 물질, 폴리프로필렌 수지, 아크릴 수지, 불소 수지, 실리콘 수지, 케톤 수지, 페녹시 수지, 폴리에틸렌 테레프탈레이트 수지, 폴리아미노 수지, 우레아 수지, 아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌 공중합체 물질 (ABS 수지), 폴리에테르 수지, 폴리아미드, 아크릴 수지, 에폭시 수지, UV 수지 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 제조 방법.
24. The method of claim 23, wherein the medium is selected from the group consisting of a polyester resin, a PI resin, a polycarbonate resin, a polyethylene resin, a polyvinyl chloride resin, a polyvinylidene chloride resin, a polyvinyl alcohol resin, a polystyrene resin, a polyvinyl butyral resin, Vinyl acetate copolymer material, polypropylene resin, acrylic resin, fluororesin, silicone resin, ketone resin, phenoxy resin, polyethylene terephthalate resin, polyamino resin, urea resin, acrylonitrile-butadiene- Resin), polyether resin, polyamide, acrylic resin, epoxy resin, UV resin, and combinations thereof.
KR1020140153507A 2014-06-24 2014-11-06 Fabricating method of light shielding structure KR101602486B1 (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
TW103121729A TWI532680B (en) 2014-06-24 2014-06-24 Light shielding material, light shielding structure and fabrication method thereof
TW103121729 2014-06-24

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20160000391A KR20160000391A (en) 2016-01-04
KR101602486B1 true KR101602486B1 (en) 2016-03-10

Family

ID=55164297

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020140153507A KR101602486B1 (en) 2014-06-24 2014-11-06 Fabricating method of light shielding structure

Country Status (3)

Country Link
KR (1) KR101602486B1 (en)
CN (1) CN105293578B (en)
TW (1) TWI532680B (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10510900B2 (en) 2016-09-07 2019-12-17 Samsung Display Co., Ltd. Display device

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11360248B2 (en) * 2017-07-26 2022-06-14 3M Innovative Properties Company Optical camouflage filter
CN107619197A (en) * 2017-10-17 2018-01-23 Vecast(北京)科技有限公司 A kind of compound caesium tungsten nanometer thermal insulation coating glass and its manufacture method
TWI631090B (en) * 2018-03-01 2018-08-01 林晉慶 Near infrared absorption material and method for fabricating the same

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007314752A (en) * 2006-04-24 2007-12-06 Sumitomo Metal Mining Co Ltd Sunlight screen dispersion, sunlight screen and method for producing the same
KR101414560B1 (en) 2013-01-09 2014-07-04 한화케미칼 주식회사 method for producing conductive film

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100485946B1 (en) * 2001-07-31 2005-04-28 (주)아이디스 apparatus and method for motion image information compression processing using transformation of frame rate
CN100590154C (en) * 2003-10-20 2010-02-17 住友金属矿山株式会社 Infrared shielding material microparticle dispersion, infrared shield, process for producing infrared shielding material microparticle, and infrared shielding material microparticle
JP3985193B2 (en) * 2004-03-16 2007-10-03 住友金属鉱山株式会社 Solar radiation shielding laminated structure
CN100463935C (en) * 2005-08-17 2009-02-25 长春迪高实业有限公司 Sunlight controlled transparent film in low radiation, prepartion method and application
CN102965049A (en) * 2007-11-05 2013-03-13 巴斯夫欧洲公司 Tungsten oxides used to increase the heat-input amount of near infrared radiation
KR100988285B1 (en) * 2008-10-09 2010-10-18 주식회사 엑사이엔씨 Tungsten wire

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007314752A (en) * 2006-04-24 2007-12-06 Sumitomo Metal Mining Co Ltd Sunlight screen dispersion, sunlight screen and method for producing the same
KR101414560B1 (en) 2013-01-09 2014-07-04 한화케미칼 주식회사 method for producing conductive film

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10510900B2 (en) 2016-09-07 2019-12-17 Samsung Display Co., Ltd. Display device

Also Published As

Publication number Publication date
CN105293578A (en) 2016-02-03
TWI532680B (en) 2016-05-11
TW201600466A (en) 2016-01-01
KR20160000391A (en) 2016-01-04
CN105293578B (en) 2017-05-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102371492B1 (en) Near-infrared shielding material fine particles, method for preparing the same, and near-infrared shielding material fine particle dispersion
KR102371493B1 (en) Near-infrared shielding material particle dispersion, near-infrared shielding body and laminated structure for near-infrared shielding, and manufacturing method thereof
JP5597268B2 (en) Transparent heat shielding material and method for producing the same
KR101602486B1 (en) Fabricating method of light shielding structure
KR102036253B1 (en) Environment-friendly Heating Shielding Film Using Non-radioactive Stable Isotope and Manufacturing Method Thereof
KR20070048807A (en) Conductive particle, visible light transmissive particle dispersed conductor, method for producing same, transparent conductive thin film, method for producing same, transparent conductive article using same, and infrared shielding article
KR20060024328A (en) Infrared shielding material microparticle dispersion, infrared shield, process for producing infrared shielding material microparticle, and infrared shielding material microparticle
JP5034272B2 (en) Tungsten-containing oxide fine particles, method for producing the same, and infrared shielding body using the same
KR101019498B1 (en) Insulation Film contained Tungsten Bronze Compound and Method of Manufacturing The Same
JP6187540B2 (en) Composite tungsten oxide fine particles for solar radiation shield formation, dispersion thereof, and solar radiation shield
US9434652B2 (en) Infrared absorption material, method for fabricating the same, and thermal isolation structure employing the same
Madiba et al. Thermochromic properties of VO2-PVP composite coatings
CN102643563A (en) Transparent thermal insulation material and preparation method thereof
KR101768311B1 (en) Method for manufacturing doped thermochromic nano particle and method for manufacturing thermochromic film
JP2011063493A (en) Near-infrared ray shielding material microparticle dispersion, near-infrared ray shielding body and method for producing near-infrared ray shielding material dispersion
JP2008230954A (en) Manufacturing method for antimony-containing tin oxide fine particles for forming solar radiation shielding body, dispersion for forming solar radiation shielding body, solar radiation shielding body, and solar radiation shielding base material
KR101538616B1 (en) Method for preparing co-doped vanadium dioxide with transition materials
JP6171733B2 (en) Heat ray shielding dispersion forming coating solution and heat ray shielding body
JP2011063484A (en) Near-infrared ray shielding material microparticle, method for producing the same, near-infrared ray shielding material microparticle dispersion and near-infrared ray shielding body
JP2015044922A (en) Heat ray-shielding dispersion material, coating liquid for forming heat ray-shielding dispersion material, and heat ray-shielding body
JP5999361B2 (en) Infrared shielding material, infrared shielding material fine particle dispersion, infrared shielding material fine particle dispersion, and infrared shielding material
JP6575443B2 (en) Heat ray shielding film and heat ray shielding glass
TWM496765U (en) Light shielding structure
JP6164132B2 (en) Lithium titanate particles for heat ray shielding
JP2012082109A (en) Method for producing tungsten oxide fine particle for forming highly heat-resistant heat ray-shielding material, tungsten oxide fine particle for forming highly heat-resistant heat ray-shielding material and dispersion for forming highly heat-resistant heat ray-shielding material, and highly heat-resistant heat ray-shielding material

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190124

Year of fee payment: 4