KR101584710B1 - UV curing apparatus enforced nitrogen density - Google Patents

UV curing apparatus enforced nitrogen density Download PDF

Info

Publication number
KR101584710B1
KR101584710B1 KR1020140176033A KR20140176033A KR101584710B1 KR 101584710 B1 KR101584710 B1 KR 101584710B1 KR 1020140176033 A KR1020140176033 A KR 1020140176033A KR 20140176033 A KR20140176033 A KR 20140176033A KR 101584710 B1 KR101584710 B1 KR 101584710B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
chamber
nitrogen
drum
chamber unit
plate
Prior art date
Application number
KR1020140176033A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
원상희
강형창
Original Assignee
(주)세명백트론
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by (주)세명백트론 filed Critical (주)세명백트론
Priority to KR1020140176033A priority Critical patent/KR101584710B1/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101584710B1 publication Critical patent/KR101584710B1/en

Links

Images

Landscapes

  • Coating Apparatus (AREA)

Abstract

The present invention relates to an ultraviolet (UV) hardening device which hardens a UV coating agent using UV light and, more specifically, to a UV hardening device with a reinforced nitrogen atmosphere and an increased hardening quality of a UV coating agent by reinforcing nitrogen atmosphere in a chamber irradiating UV light. The hardening device according to the present invention comprises: a drum where a film applied with the UV coating agent passes through; a semicylindrical chamber unit covering the drum so as to form the chamber; a UV lamp module irradiating UV light onto the chamber in the chamber unit; a nitrogen nozzle discharging nitrogen out to the chamber in the chamber unit; and a nitrogen knife member disposed on both sides of the chamber unit in a longitudinal direction and discharging nitrogen so as to prevent external air from being introduced into the chamber.

Description

질소 분위기를 강화한 UV 경화장치{UV curing apparatus enforced nitrogen density}A UV curing apparatus enforced nitrogen density enhanced nitrogen atmosphere,

본 발명은 자외선을 이용해 UV 코팅제를 경화시키는 UV 경화장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 UV(자외선)를 조사하는 챔버 내의 질소 분위기를 강화하여 UV 코팅제의 경화 품질을 높인 질소 분위기를 강화한 UV 경화장치에 관한 것이다.
The present invention relates to a UV curing apparatus for curing a UV coating using ultraviolet rays, and more particularly, to a UV curing apparatus for enhancing a curing quality of a UV coating by strengthening a nitrogen atmosphere in a chamber for irradiating UV (ultraviolet) .

코팅은 물체의 표면을 수지 따위의 엷은 막으로 입히는 것으로서, 물체 표면의 손상(예;스크래치)을 방지하고, 물체 표면에 먼지와 같은 이물질이 붙는 것을 예방하고, 물체 표면의 반사율을 조절하는 등의 이유로 코팅을 하게 된다.
The coating is to coat the surface of the object with a thin film such as resin to prevent damage (eg, scratch) on the surface of the object, to prevent foreign matter such as dust from adhering to the object surface, to adjust the reflectance of the object surface Coating is the reason.

코팅 방식에는 여러 종류가 있지만, 코팅제의 경화 속도가 다른 방식과 비교하기 어려울 정도로 빠르고, 코팅된 피막의 물성이 고광택성, 고경도 및 내약품성 등의 장점을 갖는 UV 경화 코팅이 근래에 많이 사용되고 있다.
Although there are many kinds of coating methods, UV curing coatings having advantages such as high curability, high hardness, and chemical resistance of coated coatings have been recently used in many cases, .

UV 경화 코팅은 코팅제가 도포된 물체의 표면으로 UV(자외선)을 조사하여 코팅제를 경화시켜 피막을 형성하는 코팅 방식이다. The UV curing coating is a coating method in which UV (ultraviolet) is irradiated to the surface of an object coated with a coating agent to cure the coating agent to form a coating.

UV 경화 코팅은 경화 속도가 수초에서 수십초 사이로 매우 짧아서 필름을 연속하여 코팅하는데 유리하다. 즉, 코팅제가 도포된 필름을 UV를 조사하는 조사실을 연속해서 지나가도록 하여 코팅하는데 UV 경화 코팅이 적합하다.
UV cured coatings are very short, with a cure rate between seconds and tens of seconds, which is advantageous for continuous film coating. That is, a UV cured coating is suitable for coating such that the film coated with the coating agent is continuously passed through the irradiation chamber for irradiating UV.

그런데 UV는 공기 중의 산소에 흡수되어 오존을 발생시키고, 공기 중의 산소는 UV 코팅제가 외선선 광(즉, UV)에 의한 화학반응을 억제하여 코팅제의 경화 밀도를 저하시킨다. However, UV is absorbed by oxygen in the air to generate ozone, and oxygen in the air inhibits the chemical reaction of the UV coating with the outward light (i.e., UV) to lower the curing density of the coating.

그래서 등록특허 제10-1032398호 "질소 퍼지 장치를 이용한 UV 경화 장치", 등록특허 제10-1435288호 "자외선 경화 코팅을 이용한 강판의 코팅방법" 등에서는 코팅제에 UV를 조사하는 챔버 내로 불활성기체(질소)를 주입하여 산소 농노를 낮춰주는 기술을 제안하고 있다. Therefore, in the above-mentioned Japanese Patent Application No. 10-1032398, "UV curing apparatus using nitrogen purge apparatus", and registered patent No. 10-1435288 "coating method of steel sheet using ultraviolet curing coating", inert gas Nitrogen) is injected to lower oxygen tension.

그렇지만 상기 등록특허 제10-1032398호 "질소 퍼지 장치를 이용한 UV 경화 장치", 등록특허 제10-1435288호 "자외선 경화 코팅을 이용한 강판의 코팅방법" 등의 종래기술은 단순히 UV가 조사되는 영역(즉, 챔버 내부)의 산소 농도를 낮추어 주는 것이 좋다는 개념적인 기술만을 제시하고 있을 뿐, 어떻게 산소 농도를 낮추어 줄 것인지 구체적인 기술을 제시하지 않고 있다.
However, the conventional techniques such as the above-mentioned Japanese Patent No. 10-1032398 "UV curing apparatus using nitrogen purge apparatus" and the registered patent No. 10-1435288 "coating method of steel sheet using ultraviolet curing coating" In other words, it only provides a conceptual description that it is desirable to lower the oxygen concentration in the chamber), but does not provide a specific technique on how to lower the oxygen concentration.

참고로, 엘시디, 오엘이디, 피디피 등 디스플레이 분야에 사용하고 있는 광학 필름은 산소 분위기에서 경화시키면 코팅제가 대기 중의 산소와 산화 반응으로 산화되어 광학성 기능을 약화시킨다. For reference, the optical films used in the display fields such as LCD, OLEDI, and PDP, when cured in an oxygen atmosphere, oxidize the coating agent with oxygen in the atmosphere to weaken the optical function.

그래서 광학 필름의 UV 코팅은 질소 분위기에서 코팅 및 경화하는 것이 대세가 되고 있다.
Thus, the UV coating of the optical film is generally coated and cured in a nitrogen atmosphere.

본 발명은 이처럼 UV 경화 코팅 공정에서 챔버 내의 산소 농도를 낮추어 주는 것이 바람직하다는 개념만을 제시하고 있는 종래기술의 한계를 해결하기 위해 안출된 발명으로서, The present invention was conceived to overcome the limitations of the prior art, which suggests that it is desirable to lower the oxygen concentration in the chamber in the UV curing coating process,

챔버 내부의 질소 분위기를 강화(즉, 산소 농도 최소화)할 수 있는 실질적인 구조를 갖는 질소 분위기를 강화한 UV 경화장치를 제공함을 목적으로 하고, (EN) A UV curing apparatus having a substantial structure capable of strengthening a nitrogen atmosphere inside a chamber (that is, minimizing oxygen concentration)

또한, 질소 분위기를 강화하기 위한 조작이 간편하고, 토출되는 질소에 의한 안전사고를 예방할 수 있는 질소 분위기를 강화한 UV 경화장치를 제공함을 또 다른 목적으로 한다.
It is another object of the present invention to provide a UV curing apparatus which is simple in operation for strengthening a nitrogen atmosphere and is enhanced in nitrogen atmosphere to prevent safety accident caused by discharged nitrogen.

이와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 질소 분위기를 강화한 UV 경화장치는
UV 코팅제가 도포된 필름이 지나가는 드럼;
상기 드럼을 감싸 챔버를 형성하는 반원통 구조의 챔버유닛;
상기 챔버유닛의 챔버로 UV를 조사하는 UV램프모듈;
상기 챔버유닛의 챔버로 질소를 토출하는 질소노즐;
상기 챔버유닛의 양측 길이방향으로 배치되고, 질소를 토출하여 외기가 챔버로 유입되는 것을 차단하는 질소나이프부재;를
상기 챔버유닛의 가장자리에 구비되어서 상기 드럼의 양측 길이방향과 양측 호방향으로 배치되는 실패널;
상기 드럼의 양측 길이방향과 양측 호방향으로 배치되는 상기 실패널을 각각 이동시켜 상기 드럼과의 간극을 조절하는 간극조절부재;를 포함하여 이루어지되,
상기 질소나이프부재는 상기 필름이 상기 드럼에 밀착된 부위로 질소를 토출하고,
상기 실패널은 테프론 수지를 사용하고,
In order to achieve the above-mentioned object, a UV curing apparatus reinforced with nitrogen atmosphere according to the present invention comprises:
A drum through which the film coated with the UV coating passes;
A chamber unit having a semi-cylindrical structure for forming a chamber surrounding the drum;
A UV lamp module for irradiating the chamber of the chamber unit with UV light;
A nitrogen nozzle for discharging nitrogen into the chamber of the chamber unit;
A nitrogen knife member disposed in both longitudinal sides of the chamber unit for discharging nitrogen to block external air from entering the chamber;
An actual panel disposed at an edge of the chamber unit and arranged in both the longitudinal direction and the both-side arc direction of the drum;
And a gap adjusting member for adjusting the gap with respect to the drum by respectively moving the yarn panels arranged in both the longitudinal direction and the both-side arc direction of the drum,
Wherein the nitrogen knife member discharges nitrogen to a portion where the film is in close contact with the drum,
The sealing panel is made of Teflon resin,

상기 간극조절부재는 상기 챔버유닛의 장착플레이트에 고정결합되는 고정블럭과, 상기 고정블럭에 스크류결합되어 승하강 가능한 조절볼트와, 상기 조절볼트와 상기 실패널을 연결하고, 상기 조절볼트의 제위치에 공회전 가능하게 결합되어서 조절볼트와 함께 승하강하여 상기 실패널의 위치를 조절하는 브라켓을 포함하는 것을 특징으로 한다.
그리고 상기 챔버유닛은
상부와 하부에 배치되어서 상기 드럼의 상부측과 하부측에 길이방향으로 배치되는 상부프레임과 하부프레임,
상기 상부프레임과 하부프레임의 양단을 연결하고 호형상의 구조를 가져서 상기 드럼의 가장자리 외주연으로 배치되는 호프레임,
상기 양측의 두 호프레임을 길이방향으로 연결하여 상기 UV램프모듈이 배치되는 배치공간을 형성하는 복수의 구획프레임,
상기 배치공간을 덮어 외기의 유입을 차단하면서 상기 UV램프모듈에서 발산되는 자외선이 투과하도록 하는 복수의 투명판과,
인접하는 상기 두 구획프레임에 장착되고, 상기 투명판이 장착되는 장착플레이트를 포함하여 이루어지고,
상기 투명판들은 상기 장착플레이트의 전방 개구부 주변에 형성된 안착홈에 연속되어 이어지도록 안착되고, 투명판과 투명판이 만나는 부위에는 막음판이 배치되어 투명판들 간의 틈새를 덮고, 막음판들의 상부와 하부에는 가압플레이트가 배치되고, 가압플레이트는 상기 장착플레이트에 체결되어 상기 막음판들을 장착플레이트 측으로 가압시켜서, 막음판의 가압으로 막음판은 두 투명판 사이의 틈새를 밀폐시키고, 투명판은 장착플레이트의 안착홈에 밀착되어서 장착플레이트와의 틈새를 밀폐시켜서 외기의 유입을 차단하는 것을 특징으로 하고,
Wherein the gap adjusting member comprises: a fixing block fixedly coupled to the mounting plate of the chamber unit; an adjusting bolt screwed to the fixing block to move up and down; And a bracket coupled to the door panel so as to idly rotate together with the adjusting bolt to adjust the position of the door panel.
And the chamber unit
An upper frame and a lower frame arranged at the upper and lower sides and arranged in the longitudinal direction on the upper and lower sides of the drum,
A arc frame connected to both ends of the upper frame and the lower frame and having an arcuate shape and arranged at the outer periphery of the drum,
A plurality of compartment frames for connecting the two call frames on both sides in the longitudinal direction to form an arrangement space in which the UV lamp modules are arranged,
A plurality of transparent plates that cover the arrangement space and allow the ultraviolet rays emitted from the UV lamp module to pass therethrough while blocking inflow of outside air;
And a mounting plate mounted on the adjacent two section frames and on which the transparent plate is mounted,
The transparent plates are seated so as to be continuous with the mounting grooves formed in the periphery of the front opening of the mounting plate, and a blocking plate is disposed at a portion where the transparent plate and the transparent plate meet to cover the clearances between the transparent plates, And the pressure plate is fixed to the mounting plate so as to press the blocking plates toward the mounting plate so that the blocking plate seals the gap between the two transparent plates by the pressure of the blocking plate, And the gap is tightly sealed with the mounting plate so as to block the inflow of the outside air.

삭제delete

삭제delete

삭제delete

삭제delete

삭제delete

삭제delete

상기 챔버유닛의 양측 길이방향으로 배치되어서, 챔버에서 유출되는 질소를 흡입하여 제거하는 배기덕트;를 더 포함하는 것을 특징으로 하고,
And an exhaust duct disposed in both longitudinal sides of the chamber unit for sucking and removing nitrogen flowing out of the chamber,

상기 챔버유닛이 장착되는 하우징;A housing in which the chamber unit is mounted;

상기 하우징을 전후진시키는 전후진수단;Forward and backward means for causing the housing to advance and retract;

상기 전후진수단에 의한 상기 하우징의 전진범위를 제한하는 스토퍼;를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
And a stopper that restricts a forward range of the housing by the forward / backward means.

위와 같이 구성되는 본 발명에 따른 질소 분위기를 강화한 UV 경화장치는 코팅제가 도포된 필름이 지나가는 드럼을 감싸 UV가 조사되는 챔버를 형성하는 챔버유닛의 내부 챔버로 질소를 토출시키는 것에 더하여 드럼과 챔버유닛 간의 틈새 부위로 질소를 토출하여 외부의 공기가 챔버 내로 유입되는 것을 차단하여 챔버의 질소 분위기를 강화하여 고품질의 코팅이 가능하고, 드럼과 챔버유닛 간의 틈새는 실패널과 간극조절부재를 통해 최소화시켜 질소 분위기를 더욱 강화하고, 간극조절부재의 조작은 작업자가 간편하게 할 수 있고, 주변으로 누설되는 질소는 배기덕트를 통해 흡입하여 배출시킴으로써 질소에 의한 사고를 예방할 수 있는 질소 분위기를 강화한 UV 경화장치로서 산업발전에 매우 유용한 발명이다.
The UV curing apparatus having the nitrogen atmosphere enhanced according to the present invention as described above is characterized in that in addition to discharging nitrogen into the inner chamber of the chamber unit forming the chamber to which UV is applied by wrapping the drum through which the film coated with the coating agent passes, Nitrogen is injected into the gap between the drum and the chamber unit to block external air from flowing into the chamber, thereby enhancing the nitrogen atmosphere of the chamber, thereby enabling high-quality coating and minimizing the clearance between the drum and the chamber unit A UV curing apparatus reinforced with a nitrogen atmosphere which can enhance the nitrogen atmosphere and can easily operate the gap regulating member and can prevent accident caused by nitrogen by sucking and discharging nitrogen leaked to the surroundings through the exhaust duct It is a very useful invention for industrial development.

도 1 은 본 발명에 따른 질소 분위기를 강화한 UV 경화장치의 개략적인 구조를 보여주는 측면도.
도 2 는 본 발명에 따른 질소 분위기를 강화한 UV 경화장치의 사시도.
도 3 은 챔버유닛과 그 주변에 구비되는 구성요소를 보여주는 사시도.
도 4 는 도3의 분해 사시도.
도 5 는 도3의 부분절개 사시도.
1 is a side view showing a schematic structure of a UV curing apparatus reinforced with a nitrogen atmosphere according to the present invention.
2 is a perspective view of a UV curing device reinforced with a nitrogen atmosphere according to the present invention.
3 is a perspective view showing the chamber unit and its surrounding components;
FIG. 4 is an exploded perspective view of FIG. 3; FIG.
Fig. 5 is a partial cutaway perspective view of Fig. 3; Fig.

이하, 도면을 참조하여 본 발명에 따른 질소 분위기를 강화한 UV 경화장치에 대하여 보다 상세하게 설명한다.
Hereinafter, a UV curing apparatus having a nitrogen atmosphere enhanced according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

본 발명을 보다 구체적으로 설명하기에 앞서, Before describing the present invention in more detail,

본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 구현예(態樣, aspect)(또는 실시예)들을 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. While the present invention has been described in connection with certain embodiments, it is obvious that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, is intended to cover various modifications and equivalent arrangements included within the spirit and scope of the invention. It is to be understood, however, that the invention is not intended to be limited to the particular forms disclosed, but on the contrary, is intended to cover all modifications, equivalents, and alternatives falling within the spirit and scope of the invention.

각 도면에서 동일한 참조부호, 특히 십의 자리 및 일의 자리 수, 또는 십의 자리, 일의 자리 및 알파벳이 동일한 참조부호는 동일 또는 유사한 기능을 갖는 부재를 나타내고, 특별한 언급이 없을 경우 도면의 각 참조부호가 지칭하는 부재는 이러한 기준에 준하는 부재로 파악하면 된다.In the drawings, the same reference numerals are used for the same reference numerals, and in particular, the numerals of the tens and the digits of the digits, the digits of the tens, the digits of the digits and the alphabets are the same, Members referred to by reference numerals can be identified as members corresponding to these standards.

또 각 도면에서 구성요소들은 이해의 편의 등을 고려하여 크기나 두께를 과장되게 크거나(또는 두껍게) 작게(또는 얇게) 표현하거나, 단순화하여 표현하고 있으나 이에 의하여 본 발명의 보호범위가 제한적으로 해석되어서는 안 된다.In the drawings, the components are expressed by exaggeratingly larger (or thicker) or smaller (or thinner) in size or thickness in consideration of the convenience of understanding, etc. However, It should not be.

본 명세서에서 사용한 용어는 단지 특정한 구현예(태양, 態樣, aspect)(또는 실시예)를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, ~포함하다~ 또는 ~이루어진다~ 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terminology used herein is for the purpose of describing particular embodiments only and is not intended to be limiting of the invention. The singular expressions include plural expressions unless the context clearly dictates otherwise. In the present application, the term " comprising " or " consisting of ", or the like, refers to the presence of a feature, a number, a step, an operation, an element, a component, But do not preclude the presence or addition of one or more other features, integers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof.

다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.
Unless defined otherwise, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which this invention belongs. Terms such as those defined in commonly used dictionaries are to be interpreted as having a meaning consistent with the contextual meaning of the related art and are to be interpreted as either ideal or overly formal in the sense of the present application Do not.

도면에서 보는 바와 같이 본 발명에 따른 질소 분위기를 강화한 UV 경화장치는 드럼(10), 챔버유닛(20), UV램프모듈(30), 질소노즐(40), 질소나이프부재(50), 실패널(60), 간극조절부재(70), 배기덕트(80), 하우징(90), 전후진수단(100), 스토퍼(110), 받침대(120) 등을 포함하여 이루어진다.
As shown in the figure, the UV curing apparatus having enhanced nitrogen atmosphere according to the present invention includes a drum 10, a chamber unit 20, a UV lamp module 30, a nitrogen nozzle 40, a nitrogen knife member 50, A stopper member 60, a gap regulating member 70, an exhaust duct 80, a housing 90, forward and backward means 100, a stopper 110, a pedestal 120, and the like.

상기 드럼(10)에는 UV 코팅제가 도포된 필름(1)이 표면에 밀착되어 지나간다. On the drum 10, a film 1 coated with a UV coating is adhered to the surface.

도2를 기준으로, 상기 드럼(10)의 전방(좌측) 상부와 하부에는 각각 필름(1)이 드럼(10)으로 인입되고 인출되는 것을 안내하는 안내롤러(11, 12)가 구비되고, 도면에 도시하지 아니하였으나 안내롤러(11, 12)의 전방으로는 필름(1)을 UV 경화장치로 공급하도록 필름(1)이 감겨있는 공급릴과 UV 경화장치를 거쳐 코팅된 필름(1)이 감기는 권취릴이 구비된다. 2, guide rollers 11 and 12 for guiding the film 1 to be drawn in and pulled out from the drum 10 are provided on the front (left) upper and lower sides of the drum 10, respectively, The film 1 coated with the supply reel around which the film 1 is wound and the UV curing device is supplied to the front of the guide rollers 11 and 12 so as to supply the film 1 to the UV curing device, Is provided with a take-up reel.

상기 두 안내롤러(11, 12)는 상기 드럼(10)으로 인입되고 인출되는 필름(1)의 이동을 안내하며, 필름(1)이 팽팽하도록 인장시켜 필름(1)이 드럼(10) 표면에 밀착되도록 한다. 이때, 필름(1)은 드럼(10) 표면에 원주방향으로 반 이상에 밀착되도록 두 안내롤러가 배치되는 것이 바람직하다. The two guide rollers 11 and 12 guide the movement of the film 1 pulled into and drawn out of the drum 10 and tension the film 1 so that the film 1 is stretched so that the film 1 is wound on the surface of the drum 10 Tightly. At this time, it is preferable that two guide rollers are disposed so that the film 1 is brought into close contact with the surface of the drum 10 in a circumferential direction by more than half.

참고로, UV 코팅제는 공급릴과 안내롤러 사이에서 필름(1)의 표면에 도포된다.
For reference, the UV coating is applied to the surface of the film 1 between the supply reel and the guide rollers.

상기 챔버유닛(20)은 상기 드럼(10)의 후방측(도면의 우측)을 덮어, 드럼(10)과의 사이에 챔버(21)를 형성한다.
The chamber unit 20 covers the rear side (the right side in the figure) of the drum 10 and forms a chamber 21 with the drum 10.

상기 챔버유닛(20)은 The chamber unit (20)

상부와 하부에 배치되어서 상기 드럼(10)의 상부측과 하부측에 길이방향으로 배치되는 상부프레임(22)과 하부프레임(23), An upper frame 22 and a lower frame 23 disposed on the upper and lower sides and arranged in the longitudinal direction on the upper side and the lower side of the drum 10,

상기 상부프레임(22)과 하부프레임(23)의 양단을 연결하고 호형상의 구조를 가져서 상기 드럼(10)의 가장자리 외주연으로 배치되는 호프레임(24), A call frame 24 connected to both ends of the upper frame 22 and the lower frame 23 and having an arcuate configuration and disposed at the outer periphery of the edge of the drum 10,

상기 양측의 두 호프레임(24)을 길이방향으로 연결하여 상기 UV램프로듈이 배치되는 배치공간(251)을 형성하는 구획프레임(25), A partition frame 25 connecting the two arc frames 24 on both sides in the longitudinal direction to form an arrangement space 251 in which the UV lamp module is disposed,

상기 배치공간(251)을 덮어 외기의 유입을 차단하면서 상기 UV램프모듈(30)에서 발산되는 자외선이 투과하도록 하는 투명판(26)과, A transparent plate 26 covering the arrangement space 251 to block ultraviolet rays emitted from the UV lamp module 30 while blocking inflow of outside air,

상기 두 구획프레임(25)에 장착되고, 상기 투명판(26)이 장착되는 장착플레이트(27)를 포함하여 이루어진다.
And a mounting plate 27 mounted on the two partition frames 25 and on which the transparent plate 26 is mounted.

상기 투명판(26)은 투광성이 우수한 유리나 석영 등의 투명한 재질로 이루어진다. The transparent plate 26 is made of a transparent material such as glass or quartz excellent in transparency.

상기 투명판(26)은 상기 배치공간(251)과 연결되는 상기 장착플레이트(27)의 개구부(271) 전체를 덮을 수 있는 크기의 하나를 사용하는 것이 외기의 침투를 방지하는데 유리하지만, 그럴 경우에는 길이가 길어서 취급 중에 깨지는 등의 손상 위험이 크고, 장착플레이트(27)에 장착시키는 작업이 쉽지 않다. 이에 본 발명에서는 투명판(26)을 작은 크기의 여러 개를 이어서 사용하고, 투명판(26)과 투명판(26)이 만나는 부위에는 투명한 막음판(261)이 배치되어서 투명판(26)들 간의 틈새를 밀폐시킨다. It is advantageous to use one of the transparent plates 26 having a size capable of covering the entire opening 271 of the mounting plate 27 connected to the arrangement space 251 to prevent penetration of the outside air, There is a large risk of damages such as breakage during handling, and it is not easy to attach the mounting plate 27 to the mounting plate 27. In the present invention, a plurality of small transparent plates 26 are successively used, and a transparent blocking plate 261 is disposed at a position where the transparent plate 26 meets the transparent plate 26, Closing the gap between the two.

상기 투명판(26)들은 상기 장착플레이트(27)의 전방 개구부(271) 주변에 형성된 안착홈(273)에 연속되어 이어지도록 안착되고, 투명판(26)과 투명판(26)이 만나는 부위에는 상기 막음판(261)이 배치되어 투명판(26)들간의 틈새를 덮고, 막음판(261)들의 상부와 하부에는 가압플레이트(263)가 배치되고, 가압플레이트(263)는 상기 장착플레이트(27)에 체결되어 상기 막음판(261)들을 장착플레이트(27) 측으로 가압시킨다. 그러면 막음판(261)의 가압으로 막음판(261)은 두 투명판(26) 사이의 틈새를 밀폐시키고, 투명판(26)은 장착플레이트(27)의 안착홈(273)에 밀착되어서 장착플레이트(27)와의 틈새를 밀폐시켜서 외기의 유입을 차단한다.
The transparent plates 26 are seated so as to be continuous with the seating grooves 273 formed around the front opening 271 of the mounting plate 27. The transparent plate 26 is provided at a position where the transparent plate 26 meets the transparent plate 26 The blocking plate 261 is disposed to cover the clearance between the transparent plates 26. A pressing plate 263 is disposed on the upper and lower sides of the blocking plates 261. The pressing plate 263 is fixed to the mounting plate 27 And presses the blocking plates 261 toward the mounting plate 27 side. The blocking plate 261 closes the gap between the two transparent plates 26 and the transparent plate 26 is brought into close contact with the seating groove 273 of the mounting plate 27, (27) to block the inflow of outside air.

상기 UV램프모듈(30)은 자외선을 발산하는 램프(미도시)와, 램프를 내장하는 케이스(31)를 포함하여 이루어진다. The UV lamp module 30 includes a lamp (not shown) for emitting ultraviolet rays and a case 31 containing a lamp.

상기 UV램프모듈(30)은 상기 챔버유닛(20)에 직접 장착될 수도 있지만, 램프의 교체와 같은 유지보수가 상대적으로 많이 필요하고, 챔버유닛(20)에 직접 장착시에 챔버유닛(20)에 하중에 의한 부하를 주어 챔버유닛(20)의 변형을 유발시킬 수 있기에 챔버유닛(20)이 장착되는 하우징(90)에 결합되어서 챔버유닛(20)의 배치공간(251)에 배치되도록 하는 것이 바람직하다.
The UV lamp module 30 may be mounted directly on the chamber unit 20 but requires relatively large maintenance such as replacement of the lamp and is not required to be mounted on the chamber unit 20 when mounted directly on the chamber unit 20. [ It is possible to cause a deformation of the chamber unit 20 by giving a load by a load to the chamber unit 20 so that the chamber unit 20 is coupled to the housing 90 on which the chamber unit 20 is mounted and is disposed in the arrangement space 251 of the chamber unit 20 desirable.

상기 질소노즐(40)은 상기 챔버유닛(20)의 챔버(21)로 질소를 토출하여 챔버(21)를 질소 분위기로 만든다. 즉, 챔버(21)를 질소로 채워 챔버(21)의 산소 농도를 낮춘다. The nitrogen nozzle 40 discharges nitrogen into the chamber 21 of the chamber unit 20 to convert the chamber 21 into a nitrogen atmosphere. That is, the chamber 21 is filled with nitrogen to lower the oxygen concentration in the chamber 21.

상기 질소노즐(40)은 UV램프모듈(30)의 자외선 조사에 방해가 되지 않도록 상기 구획프레임(25)의 양측, 즉, 상기 장착플레이트(27)의 전방에 길이방향으로 배치된다. The nitrogen nozzles 40 are arranged on both sides of the partition frame 25, that is, in front of the mounting plate 27 in the longitudinal direction so as not to interfere with the ultraviolet irradiation of the UV lamp module 30.

상기 질소노즐(40)은 상기 챔버유닛(20)의 호프레임(24)에 결합되고, 토출공(41)이 일정 간격으로 형성되어 있는 파이프 구조로 이루어지고, 질소의 토출압이 필름(1)의 코팅제의 경화에 악영향을 주지 않도록 토출공의 방향을 조절할 수 있도록 상기 호프레임(24)에 회전 가능하게 결합되고 고정된다.
The nitrogen nozzle 40 is connected to the arc frame 24 of the chamber unit 20 and has a pipe structure in which discharge holes 41 are formed at regular intervals. So that the direction of the discharge hole can be adjusted so as not to adversely affect the curing of the coating of the coating layer.

상기 질소나이프부재(50)는 상기 챔버유닛(20)의 양측 길이방향, 즉, 챔버유닛(20)의 상부와 하부 양측의 전방에 배치되고, 질소를 토출하여 챔버유닛(20)과 드럼(10) 간의 틈새로 외기가 챔버(21)로 침투되는 것을 차단한다. 물론, 챔버(21) 내의 질소가 외부로 유출되는 것도 차단한다. The nitrogen knife member 50 is disposed on both sides in the longitudinal direction of the chamber unit 20, that is, in front of both the upper and lower sides of the chamber unit 20, and discharges nitrogen to the chamber unit 20 and the drum 10 To prevent the outside air from penetrating into the chamber 21. Of course, the nitrogen in the chamber 21 is also prevented from flowing out.

상기 질소나이프부재(50)는 길이방향 전체에 질소를 얇은 막의 형태로 토출하도록 토출구가 길이방향 전체에 형성되고 끝이 가늘(뾰족)하다. The nitrogen knife member 50 has a discharge port formed in its entire length in the longitudinal direction so as to discharge nitrogen in the form of a thin film and has a sharp tip.

상기 질소나이프부재(50)는 상기 챔버유닛(20)의 전방 상부와 하부에서 각각 토출하는 질소는 드럼(10)을 지나는 필름(1)에 부딪히게 된다. 질소나이프부재(50)에서 토출되는 질소가 필름(1)에 부딪혀 필름(1)의 눌림과 같은 변형을 유발하면 코팅 품질을 저하시킬 수 있다. 그래서 상기 질소나이프부재(50)는 필름(1)이 드럼(10)에 밀착된 부위로 질소를 토출하여 필름(1)의 변형을 유발하지 않도록 하는 것이 바람직하다.
Nitrogen discharged from the upper portion and the lower portion of the chamber unit 20 respectively hit the film 1 passing the drum 10 through the nitrogen knife member 50. If nitrogen, which is discharged from the nitrogen knife member 50, collides with the film 1 and causes deformation such as pressing of the film 1, the coating quality may be deteriorated. Therefore, it is preferable that the nitrogen knife member 50 does not cause deformation of the film 1 by discharging nitrogen to the portion where the film 1 is in close contact with the drum 10. [

상기 실(seal)패널(60)은 상기 챔버유닛(20)의 양측 길이방향과 양측 호방향, 즉, 상기 챔버유닛(20)의 상부프레임(22)과 하부프레임(23), 그리고 호프레임(24)에 구비되고, 상기 간극조절부재(70)를 통해 상기 드럼(10)에 최대한 근접되어 외기가 챔버(21)로 침투되고 챔버(21)의 질소가 외부로 유출되는 것을 최소화 한다.The seal panel 60 is mounted on the upper and lower frames 22 and 23 of the chamber unit 20 in both longitudinal and lateral directions of the chamber unit 20, 24 of the chamber 21 and minimizes leakage of nitrogen in the chamber 21 to the outside by allowing the outside air to penetrate into the chamber 21 as close as possible to the drum 10 through the gap regulating member 70.

상기 실패널(60)은 드럼(10)에 최대한 근접되어서 간혹 드럼(10)을 지나는 필름(1)이 접촉될 소지가 있기에, 접촉되는 필름(1)의 손상을 최소화할 수 있도록 마찰계수가 작은 재질을 사용하는 것이 바람직하다. 마찰계수가 작은 재질로는 테프론 수지가 사용될 수 있다.
Since the seal panel 60 is as close to the drum 10 as possible and the film 1 passing through the drum 10 may sometimes come into contact with the drum 10, It is preferable to use a material. Teflon resin may be used as a material having a small coefficient of friction.

상기 간극조절부재(70)는 작업자가 수작업으로 실패널(60)이 필름(1)에 접촉되지 않는 선에서 드럼(10)에 최대한 근접(예; 1mm 이하)되도록 실패널(60)의 위치를 미세하게 조절하도록 한다. The clearance adjusting member 70 is positioned so that the position of the seal panel 60 is minimized so as to be as close as possible (e.g., 1 mm or less) to the drum 10 at a line where the operator does not touch the film 1 by hand Make fine adjustments.

상기 간극조절부재(70)는 상기 챔버유닛(20)의 장착플레이트(27)에 고정결합되는 고정블럭(71)과, 상기 고정블럭(71)에 결합되는 조절볼트(73)와, 상기 조절볼트(73)와 상기 실패널(60)을 연결하여 조절볼트(73)의 회전에 따라 상기 실패널(60)을 이동시키는 브라켓(75)을 포함하여 이루어진다. The gap regulating member 70 includes a fixing block 71 fixed to the mounting plate 27 of the chamber unit 20, an adjusting bolt 73 coupled to the fixing block 71, And a bracket 75 for connecting the seal panel 73 and the seal panel 60 and moving the seal panel 60 according to the rotation of the adjustment bolt 73.

상기 조절볼트(73)는 상기 고정블럭(71)에 스크류결합되어 상기 고정블럭(71)에서 승하강 가능하고, 상기 브라켓(75)은 조절볼트(73)의 제위치에서 공회전 가능하게 결합되어서 조절볼트(73)와 함께 승하강하여 상기 실패널(60)의 위치를 조절할 수 있다. 다른 한편으로는 상기 조절볼트(73)가 상기 고정블럭(71)에 공회전 가능하게 결합되고, 상기 브라켓(75)은 상기 조절볼트(73)에 스크류결합되어서 조절볼트(73)의 회전에 따라 브라켓(75)이 조절볼트(73)를 따라 승하강하여 실패널(60)의 위치를 조절할 수도 있다. The adjusting bolt 73 is screwed to the fixing block 71 so that it can be raised and lowered by the fixing block 71. The bracket 75 is coupled to the adjusting bolt 73 idly So that the position of the seal panel 60 can be adjusted by moving up and down with the bolts 73. On the other hand, the adjustment bolt 73 is idly coupled to the fixed block 71. The bracket 75 is screwed to the adjustment bolt 73, It is possible to adjust the position of the seal panel 60 by moving up and down the control bolt 75 along the adjustment bolt 73.

참고로, 상기 실패널(60)의 위치 조절로 실패널(60)은 상기 챔버유닛(20)의 상하부프레임(22, 23) 또는 호프레임(24)의 일정범위에서 밀착되어 있어서, 간극 조절을 위해 실패널(60)이 이동하더라도 이들 간의 밀착 구조는 유지된다.
The seal panel 60 is brought into tight contact with the upper and lower frames 22 and 23 or the arc frame 24 of the chamber unit 20 by adjusting the position of the seal panel 60, Even if the weir seal panel 60 moves, the close contact structure between them is maintained.

상기 배기덕트(80)는 상기 챔버유닛(20)의 양측 길이방향, 즉, 챔버유닛(20)의 전방 상부와 하부 양측에 배치되어서 챔버(21)에서 유출되는 질소를 흡입하여 제거한다. The exhaust duct 80 is disposed on both sides of the chamber unit 20 in the longitudinal direction, that is, on the upper and lower sides of the chamber unit 20 to suck and remove nitrogen flowing out of the chamber 21.

보다 구체적으로는 챔버(21) 내의 질소가 외부로 유출되면 주변의 산소 농도가 낮아져 작업자의 안전을 해할 수 있기 때문에, 주변의 산소 농도가 낮아지면, 즉, 챔버(21)에서 질소가 유출되어 주변 산소의 농도가 작업자의 안전을 위해할 수준이 되면 상기 배기덕트(80)는 주변의 질소 함량이 많은 공기를 흡기하여 외부로 배출시켜 작업자의 안전을 담보한다.
More specifically, when the nitrogen in the chamber 21 flows out to the outside, the surrounding oxygen concentration is lowered and the safety of the operator can be prevented. Therefore, when the oxygen concentration around the chamber 21 is lowered, When the concentration of oxygen reaches the level required for the safety of the operator, the exhaust duct 80 absorbs the air having a large amount of nitrogen around the exhaust duct 80 and discharges the air to the outside to secure the safety of the operator.

상기 배기덕트(80)와 질소나이프부재(50)는 상기 챔버유닛(20)의 전방에 뿐만 아니라 좌우 양측에도 구비되어서 호방향에서 배출되는 질소를 흡기하여 제거하고, 침투되는 외기를 차단할 수도 있다.
The exhaust duct 80 and the nitrogen knife member 50 are provided not only on the front side of the chamber unit 20 but also on the left and right sides of the chamber unit 20 so as to suck and remove nitrogen discharged in the arc direction to block the outside air to be infiltrated.

상기 하우징(90)에는 상기 챔버유닛(20), UV램프모듈(30), 질소나이프부재(50), 배기덕트(80) 등이 장착된다. 그리고 상기 하우징(90)은 상기 챔버유닛(20)의 좌우 양측을 덮는다. The chamber unit 20, the UV lamp module 30, the nitrogen knife member 50, the exhaust duct 80, and the like are mounted on the housing 90. The housing 90 covers the left and right sides of the chamber unit 20.

상기 하우징(90)은 상기 받침대(120) 위에 장착되고, 전후진수단(100)을 통해 받침대(120) 위에서 전후진한다.
The housing 90 is mounted on the pedestal 120 and moves back and forth on the pedestal 120 through the forward and backward means 100.

상기 전후진수단(100)은 상기 받침대(120) 위에 형성되어서 상기 하우징(90)의 전후진을 가이드하는 가이드레일(101)과, 인출입되는 피스톤(103)을 통해 상기 하우징(90)을 밀거나 당겨 전후진시키는 실린더(105)를 포함한다.
The forward and backward means 100 includes a guide rail 101 formed on the pedestal 120 and guiding the forward and backward movement of the housing 90 and the housing 90 through a piston 103 And a cylinder 105 for pulling the cylinder 105 forward and backward.

상기 스토퍼(110)는 전후진하는 상기 하우징(90)의 전진범위를 제한한다. The stopper 110 limits the advance range of the housing 90 moving forward and backward.

상기 스토퍼(110)는 상기 피스톤(103)의 최대 전진범위에 위치하도록 상기 받침대(120)에 구비되는 접촉블럭(111)과, 상기 접촉블럭(111) 또는 상기 피스톤(103)의 전단에 구비되어서 전진한 피스톤(103)의 전단이 상기 접촉블럭(111)에 접촉되는 때에 이를 감지하는 리미트스위치(113)를 포함하여 이루어진다. 참고로, 여기서 접촉블럭(111)과 피스톤(103)이 접촉된다는 것은 접촉블럭(111)에 구비되는 리미트스위치(113)가 피스톤(103)의 전단에 접촉되거나, 피스톤(103)의 전단이 접촉블럭(111)에 구비되는 리미트스위치(113)에 접촉되는 것을 의미한다. The stopper 110 is provided at a front end of the contact block 111 or the piston 103 and a contact block 111 provided at the pedestal 120 so as to be positioned in the maximum advance range of the piston 103 And a limit switch 113 for sensing when the front end of the advanced piston 103 contacts the contact block 111. [ The contact block 111 and the piston 103 are in contact with each other when the limit switch 113 provided on the contact block 111 contacts the front end of the piston 103 or when the front end of the piston 103 contacts Quot; is contacted with the limit switch 113 provided in the block 111. [

상기 리미트스위치(113)는 상기 피스톤(103)과 접촉블럭(111)의 접촉이 감지되면 이를 컨트롤러로 전송하여, 컨트롤러의 제어에 의해 실린더가 구동을 멈추도록 하여, 그 자리에서 하우징(90)의 전진 이동이 중단되도록 한다. When the contact of the piston 103 with the contact block 111 is detected, the limit switch 113 transmits the contact to the controller, and the cylinder stops driving under the control of the controller, Allow forward movement to stop.

이와 같이 구성되는 상기 스토퍼(110)는 피스톤(103)의 최대 후진범위에도 구비되어서 하우징(90)의 후진범위를 제한할 수도 있다. The stopper 110 configured as described above is also provided in the maximum reverse range of the piston 103 to limit the backward range of the housing 90.

본 발명은 드럼(10)과 챔버유닛(20) 간의 간극을 최소화하여 챔버(21) 내의 질소가 외부로 유출되고, 외부의 공기가 챔버(21) 내류 침투하는 것을 최소화하는 것을 목적으로 하고 있는 바, 상기 전후진수단(100)과 스토퍼(110)에 의한 하우징(90)이 전진범위를 드럼(10)과 챔버유닛(20) 간의 간극을 최소화는 위치까지 최대한 설정하는 것이 바람직하다. The present invention aims at minimizing the gap between the drum (10) and the chamber unit (20) so that nitrogen in the chamber (21) flows out to the outside, and that external air penetrates the chamber (21) It is preferable to set the advance range of the housing 90 by the forward and backward means 100 and the stopper 110 as far as possible to the position where the gap between the drum 10 and the chamber unit 20 is minimized.

그래서 상기 접촉블럭(111)에는 피스톤(103)의 전단과 접촉되는 위치를 조절할 수 있는 조절핀(115)이 구비된다. 상기 조절핀(115)은 접촉블럭(111)에 스크류결합되어서 일정범위에서 전후진 가능하여, 그 범위에서 접촉블럭(111)과 피스톤(103)의 접촉 위치를 작업자가 임의로 조절할 수 있게 된다.
Therefore, the contact block 111 is provided with an adjusting pin 115 that can adjust the position of contact with the front end of the piston 103. The adjustment pin 115 is screwed to the contact block 111 and is movable forward and backward within a predetermined range so that the operator can arbitrarily adjust the contact position of the contact block 111 and the piston 103 within the range.

상기 전후진수단(100), 스토퍼(110) 및 간극조절부재(70)를 통해 드럼(10)과 챔버유닛(20) 간의 간극이 최소화되도록 세팅하는 과정은 아래와 같다.
The procedure for setting the gap between the drum 10 and the chamber unit 20 through the forward / backward means 100, the stopper 110 and the gap regulating member 70 is as follows.

먼저, 전후진수단(100)을 통해 하우징(90)을 후진시켜 챔버유닛(20)이 드럼(10)에서 멀어지도록 한다. First, the housing 90 is retracted through the forward / backward means 100 to move the chamber unit 20 away from the drum 10.

다음으로, 드럼(10)에 더미 필름을 두장 이상 밀착해서 감는다. 여기서 두장 이상을 감는 것은 공정용 필름(1)에 도포되는 코팅제를 고려한 것이다. 이때, 전체 더미 필름은 1mm 이상이 되지 않도록 한다. Next, two or more dummy films are closely contacted to the drum 10 and wound. Here, winding of two or more rolls takes into account the coating material applied to the process film (1). At this time, the entire dummy film should not be more than 1 mm.

다음으로, 간극조절부재(70)를 풀어서 실패널(60)이 전진되어 있는 상태가 되도록 한다. Next, the gap adjusting member 70 is loosened so that the seal panel 60 is advanced.

다음으로, 전후진수단(100)을 통해 하우징(90)을 전진시키고, 챔버유닛(20)의 실패널(60)이 드럼(10)의 더미 필름과 접촉되면 그 위치에서 하우징(90)의 전진을 중단시키고, 스토퍼(110)의 리미트스위치(113)가 피스톤(103)의 전단(또는 접촉블럭(111))에 접촉가압되도록 조절핀(115)을 조절한다. Next, the housing 90 is advanced through the forward / backward means 100, and when the seal panel 60 of the chamber unit 20 comes into contact with the dummy film of the drum 10, And the adjustment pin 115 is adjusted so that the limit switch 113 of the stopper 110 contacts the front end of the piston 103 (or the contact block 111).

다음으로, 전후진수단(100)을 통해 하우징(90)을 후진시키고, 간극조절부재(70)를 조여 그 위치에서 실패널(60)이 고정되도록 한다.
Next, the housing 90 is retracted through the forward / backward means 100, and the gap regulating member 70 is tightened to fix the seal panel 60 at that position.

이러면 드럼(10)과 챔버유닛(20) 간의 간극이 최소화되도록 세팅이 완료된 것으로서, 다음에는 더미 필름을 제거하고 공정용 필름(1)을 설치해서 공정에 들어가면 드럼(10)과 챔버유닛(20)의 간격, 보다 구체적으로는 드럼(10)의 필름(1)과 챔버유닛(20)의 실패널(60) 간의 간극이 0.1~0.2mm 수준까지 최소화될 수 있다.
The dummy film is removed and the drum 10 and the chamber unit 20 are placed in the processing chamber 1 after the process film 1 is installed. More specifically the gap between the film 1 of the drum 10 and the seal panel 60 of the chamber unit 20 can be minimized to the level of 0.1 to 0.2 mm.

드럼(10)과 챔버유닛(20) 간의 간극을 세팅하고 공정용 필름(1)을 설치한 후에는 필름(1)의 이송 없이 먼저 챔버(21) 내로 질소를 공급하여 챔버(21)의 질소 분위기가 일정 수준 이상이 되도록 하고, UV램프모듈(30)이 자외선을 발산하도록 한 이후에 공정용 필름(1)을 이송시켜 UV 경화 작업이 행해지도록 한다.
After setting the gap between the drum 10 and the chamber unit 20 and installing the film for processing 1, nitrogen is first supplied into the chamber 21 without transferring the film 1, So that the UV lamp module 30 emits ultraviolet rays. Thereafter, the process film 1 is transferred to perform the UV curing operation.

그리고 도면에는 도시하지 아니하였지만, 본 발명은 질소를 질소노즐(40)과 질소나이프부재(50)로 공급하는 질소공급기와, 챔버(21) 내의 질소농도(또는 산소농도)를 측정하는 내부센서와, 외부의 주변 질소농도를 측정하는 외부센서와, 상기 내부센서와 외부센서의 측정되는 질소농도를 전송받아 상기 질소공급기와 배기덕트(80)의 구동을 제어하여 챔버(21) 내의 산소농도를 일정 수준 이하로 유지하고 주변의 산소농도가 작업자를 위해할 수준 이하로 낮아지면 주변의 질소를 흡입 제거하여 작업자의 안전을 지키고 알람을 울려 작업자에가 위험을 경고하는 컨트롤러를 포함하여 이루어진다. Although not shown in the drawings, the present invention is characterized in that it comprises a nitrogen supplier for supplying nitrogen to the nitrogen nozzle 40 and the nitrogen knife member 50, an internal sensor for measuring the nitrogen concentration (or oxygen concentration) in the chamber 21 And a control unit for controlling the driving of the nitrogen supply unit and the exhaust duct (80) by receiving the measured nitrogen concentration of the internal sensor and the external sensor to adjust the oxygen concentration in the chamber (21) And a controller for warning the danger to the operator by sounding an alarm when the surrounding oxygen concentration is lowered below the level required for the operator, by sucking and removing the surrounding nitrogen to keep the operator safe.

상기 컨트롤러는 챔버(21)의 산소농도가 설정 값 이하가 될때까지 상기 질소공급기가 질소노즐(40)과 질소나이프부재(50)를 통해 챔버(21)로 질소를 계속해서 공급하고 외기가 챔버(21)로 침투하는 것을 차단도록 하고, 챔버(21)의 산소농도가 설정 값 이하가 되면 챔버(21)로의 질소 공급을 중단하여 불필요한 낭비를 방지한다. 이때, 상기 질소나이프부재(50)는 질소노즐(40)과 연동해서 챔버(21)로 질소가 공급될때 함께 질소를 토출하고 질소의 공급을 중단하는 때에 질소의 토출을 중단할 수도 있고, 질소노즐(40)의 질소 공급과 상관없이 계속해서 질소를 토출시킬 수도 있다.
The controller continues to supply nitrogen to the chamber 21 through the nitrogen nozzle 40 and the nitrogen knife member 50 until the oxygen concentration in the chamber 21 is below the set value and the ambient air continues to flow through the chamber 21). When the oxygen concentration in the chamber 21 becomes lower than the set value, the supply of nitrogen to the chamber 21 is stopped to prevent unnecessary waste. At this time, the nitrogen knife member 50 may intermittently discharge nitrogen when the nitrogen is supplied to the chamber 21 by interlocking with the nitrogen nozzle 40, and when the supply of nitrogen is stopped, Nitrogen may be continuously discharged regardless of the nitrogen supply of the fuel cell 40.

이상에서 본 발명을 설명함에 있어 첨부된 도면을 참조하여 특정 형상과 구조를 갖는 질소 분위기를 강화한 UV 경화장치에 대해 설명하였으나 본 발명은 당업자에 의하여 다양한 변형 및 변경이 가능하고, 이러한 변형 및 변경은 본 발명의 보호범위에 속하는 것으로 해석되어야 한다.
Although the present invention has been described with reference to the accompanying drawings, it is to be understood that the present invention is not limited thereto, and various modifications and changes thereto may be made by those skilled in the art. And should be construed as falling within the scope of protection of the present invention.

10 : 드럼 20 : 챔버유닛
21 : 챔버 22 : 상부프레임
23 : 하부프레임 24 : 호프레임
25 : 구획프레임 26 : 투명판
261 : 막음판 27 : 장착플레이트
30 : UV램프모듈 40 : 질소노즐
50 : 질소나이프부재 60 : 실패널
70 : 간극조절부재 80 : 배기덕트
90 : 하우징 100 : 전후진수단
110 : 스토퍼 120 : 받침대
10: Drum 20: Chamber unit
21: chamber 22: upper frame
23: lower frame 24: arc frame
25: compartment frame 26: transparent plate
261: closure plate 27: mounting plate
30: UV lamp module 40: nitrogen nozzle
50: Nitrogen knife member 60: Seal panel
70: gap adjusting member 80: exhaust duct
90: housing 100: forward / backward means
110: stopper 120: pedestal

Claims (4)

UV 코팅제가 도포된 필름이 지나가는 드럼;
상기 드럼을 감싸 챔버를 형성하는 반원통 구조의 챔버유닛;
상기 챔버유닛의 챔버로 UV를 조사하는 UV램프모듈;
상기 챔버유닛의 챔버로 질소를 토출하는 질소노즐;
상기 챔버유닛의 양측 길이방향으로 배치되고, 질소를 토출하여 외기가 챔버로 유입되는 것을 차단하는 질소나이프부재;를
상기 챔버유닛의 가장자리에 구비되어서 상기 드럼의 양측 길이방향과 양측 호방향으로 배치되는 실패널;
상기 드럼의 양측 길이방향과 양측 호방향으로 배치되는 상기 실패널을 각각 이동시켜 상기 드럼과의 간극을 조절하는 간극조절부재;를 포함하여 이루어지되,

상기 질소나이프부재는 상기 필름이 상기 드럼에 밀착된 부위로 질소를 토출하고,
상기 실패널은 테프론 수지를 사용하고,
상기 간극조절부재는 상기 챔버유닛의 장착플레이트에 고정결합되는 고정블럭과, 상기 고정블럭에 스크류결합되어 승하강 가능한 조절볼트와, 상기 조절볼트와 상기 실패널을 연결하고, 상기 조절볼트의 제위치에 공회전 가능하게 결합되어서 조절볼트와 함께 승하강하여 상기 실패널의 위치를 조절하는 브라켓을 포함하는 것을 특징으로 하는 질소 분위기를 강화한 UV 경화장치.
A drum through which the film coated with the UV coating passes;
A chamber unit having a semi-cylindrical structure for forming a chamber surrounding the drum;
A UV lamp module for irradiating the chamber of the chamber unit with UV light;
A nitrogen nozzle for discharging nitrogen into the chamber of the chamber unit;
A nitrogen knife member disposed in both longitudinal sides of the chamber unit for discharging nitrogen to block external air from entering the chamber;
An actual panel disposed at an edge of the chamber unit and arranged in both the longitudinal direction and the both-side arc direction of the drum;
And a gap adjusting member for adjusting the gap with respect to the drum by respectively moving the yarn panels arranged in both the longitudinal direction and the both-side arc direction of the drum,

Wherein the nitrogen knife member discharges nitrogen to a portion where the film is in close contact with the drum,
The sealing panel is made of Teflon resin,
Wherein the gap adjusting member comprises: a fixing block fixedly coupled to the mounting plate of the chamber unit; an adjusting bolt screwed to the fixing block to move up and down; And a bracket for adjusting the position of the seal panel by moving up and down together with the adjustment bolt to adjust the position of the seal panel.
제 1 항에 있어서,
상기 챔버유닛은
상부와 하부에 배치되어서 상기 드럼의 상부측과 하부측에 길이방향으로 배치되는 상부프레임과 하부프레임,
상기 상부프레임과 하부프레임의 양단을 연결하고 호형상의 구조를 가져서 상기 드럼의 가장자리 외주연으로 배치되는 호프레임,
상기 양측의 두 호프레임을 길이방향으로 연결하여 상기 UV램프모듈이 배치되는 배치공간을 형성하는 복수의 구획프레임,
상기 배치공간을 덮어 외기의 유입을 차단하면서 상기 UV램프모듈에서 발산되는 자외선이 투과하도록 하는 복수의 투명판과,
인접하는 상기 두 구획프레임에 장착되고, 상기 투명판이 장착되는 장착플레이트를 포함하여 이루어지고,

상기 투명판들은 상기 장착플레이트의 전방 개구부 주변에 형성된 안착홈에 연속되어 이어지도록 안착되고, 투명판과 투명판이 만나는 부위에는 막음판이 배치되어 투명판들 간의 틈새를 덮고, 막음판들의 상부와 하부에는 가압플레이트가 배치되고, 가압플레이트는 상기 장착플레이트에 체결되어 상기 막음판들을 장착플레이트 측으로 가압시켜서, 막음판의 가압으로 막음판은 두 투명판 사이의 틈새를 밀폐시키고, 투명판은 장착플레이트의 안착홈에 밀착되어서 장착플레이트와의 틈새를 밀폐시켜서 외기의 유입을 차단하는 것을 특징으로 하는 질소 분위기를 강화한 UV 경화장치.
The method according to claim 1,
The chamber unit
An upper frame and a lower frame arranged at the upper and lower sides and arranged in the longitudinal direction on the upper and lower sides of the drum,
A arc frame connected to both ends of the upper frame and the lower frame and having an arcuate shape and arranged at the outer periphery of the drum,
A plurality of compartment frames for connecting the two call frames on both sides in the longitudinal direction to form an arrangement space in which the UV lamp modules are arranged,
A plurality of transparent plates that cover the arrangement space and allow the ultraviolet rays emitted from the UV lamp module to pass therethrough while blocking inflow of outside air;
And a mounting plate mounted on the adjacent two section frames and on which the transparent plate is mounted,

The transparent plates are seated so as to be continuous with the mounting grooves formed in the periphery of the front opening of the mounting plate, and a blocking plate is disposed at a portion where the transparent plate and the transparent plate meet to cover the clearances between the transparent plates, And the pressure plate is fixed to the mounting plate so as to press the blocking plates toward the mounting plate so that the blocking plate seals the gap between the two transparent plates by the pressure of the blocking plate, And the air gap is tightly sealed with the mounting plate to block the inflow of outside air.
제 1 항에 있어서,
상기 챔버유닛의 양측 길이방향으로 배치되어서, 챔버에서 유출되는 질소를 흡입하여 제거하는 배기덕트;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 질소 분위기를 강화한 UV 경화장치.
The method according to claim 1,
Further comprising: an exhaust duct disposed in both longitudinal sides of the chamber unit for sucking and removing nitrogen flowing out of the chamber.
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 챔버유닛이 장착되는 하우징;
상기 하우징을 전후진시키는 전후진수단;
상기 전후진수단에 의한 상기 하우징의 전진범위를 제한하는 스토퍼;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 질소 분위기를 강화한 UV 경화장치.
4. The method according to any one of claims 1 to 3,
A housing in which the chamber unit is mounted;
Forward and backward means for causing the housing to advance and retract;
Further comprising: a stopper for limiting a forward range of the housing by the forward and backward means.
KR1020140176033A 2014-12-09 2014-12-09 UV curing apparatus enforced nitrogen density KR101584710B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020140176033A KR101584710B1 (en) 2014-12-09 2014-12-09 UV curing apparatus enforced nitrogen density

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020140176033A KR101584710B1 (en) 2014-12-09 2014-12-09 UV curing apparatus enforced nitrogen density

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR101584710B1 true KR101584710B1 (en) 2016-01-12

Family

ID=55170303

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020140176033A KR101584710B1 (en) 2014-12-09 2014-12-09 UV curing apparatus enforced nitrogen density

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101584710B1 (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20180099214A (en) 2017-02-28 2018-09-05 (주)에스유티 UV curing apparatus enforced nitrogen density and nitrogen box
CN117123437A (en) * 2023-10-27 2023-11-28 泰州九润环保科技有限公司 Coating device for manufacturing reverse osmosis membrane
WO2024078764A1 (en) * 2022-10-11 2024-04-18 Maschinenfabrik Kaspar Walter Gmbh & Co. Kg Device and method for curing a polymer layer on a cylindrical body

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3042922B2 (en) * 1990-12-11 2000-05-22 エナジー・サイエンシーズ・インコーポレイテッド Improved nitrogen passivation method and apparatus for surface to be irradiated with electron beam
JP2004244474A (en) * 2003-02-12 2004-09-02 Fuji Photo Film Co Ltd Method and device for curing ultraviolet-curing resin

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3042922B2 (en) * 1990-12-11 2000-05-22 エナジー・サイエンシーズ・インコーポレイテッド Improved nitrogen passivation method and apparatus for surface to be irradiated with electron beam
JP2004244474A (en) * 2003-02-12 2004-09-02 Fuji Photo Film Co Ltd Method and device for curing ultraviolet-curing resin

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20180099214A (en) 2017-02-28 2018-09-05 (주)에스유티 UV curing apparatus enforced nitrogen density and nitrogen box
WO2024078764A1 (en) * 2022-10-11 2024-04-18 Maschinenfabrik Kaspar Walter Gmbh & Co. Kg Device and method for curing a polymer layer on a cylindrical body
CN117123437A (en) * 2023-10-27 2023-11-28 泰州九润环保科技有限公司 Coating device for manufacturing reverse osmosis membrane
CN117123437B (en) * 2023-10-27 2024-03-01 泰州九润环保科技有限公司 Coating device for manufacturing reverse osmosis membrane

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101584710B1 (en) UV curing apparatus enforced nitrogen density
JP5151653B2 (en) Bonding device and bonding method
US20200165721A1 (en) Vacuum processing system and methods therefor
CN105980137B (en) The manufacturing method of laminate film
JP2016197672A (en) Imprint method and imprint device
ITBO20130231A1 (en) APPARATUS FOR THE CATALYSTING IN THE INHERENT ENVIRONMENT OF THE VARNISH TO THE UV THAT LOOKS TO EXTENSIONALLY PLAN EXTENSIONS
JP6489466B2 (en) Article for measuring gas permeability, gas permeation cell, gas permeability measuring apparatus and gas permeability measuring method
US7806075B2 (en) Equipment for ultraviolet crosslinking in a controlled atmosphere
KR20120101793A (en) Apparatus of preventing leak of adhensive
JP4059782B2 (en) Method and apparatus for curing ultraviolet curable resin
JPH11268240A (en) Apparatus for curing ultraviolet curable material
EP3370969A1 (en) Device for the polymerization of inks and/or paints in an inert atmosphere
TWI652110B (en) UV curing system
JP2002131764A (en) Capping method and capping device of liquid crystal display element cell
KR101205587B1 (en) The Autoclave device which applied a conveyor method
KR101584491B1 (en) Curing system and method thereof
JP6174417B2 (en) Press machine
AU2021402001A1 (en) System for treatment of substrates
JP6211852B2 (en) Cover sheet and carrier plate for press molding and press device
CN103552193B (en) Crosslinking pretreatment device for tire rubber sheet electron irradiation
FI102421B (en) Arrangement for further processing of fibers, ribbon or filaments
JP6776165B2 (en) Laminated film manufacturing method and laminated film manufacturing equipment
KR20080015915A (en) Device using rollers for coating
TWM651873U (en) Air curtain device for protecting sensor and impregnation machine using same
KR20140017094A (en) Linear driving device and substrate processing apparatus having the same

Legal Events

Date Code Title Description
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190104

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20200102

Year of fee payment: 5