KR101581043B1 - 조리기기 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 조리기기에 관한 것이다. 본 발명에서는, 플라즈마 방전에 의하여 발생되는 오존(O3) 또는 음이온 또는 CH3-S라디컬기에 의하여 조리실의 내부에서 음식물을 조리하는 과정에서 발생되는 찌꺼기가 분해된다. 따라서 본 발명에 의하면, 보다 효율적이고 간단하게 음식물의 찌꺼기를 분해하여 제거할 수 있는 이점이 있다.
조리기기, 조리실, 플라즈마 방전

Description

조리기기{Cooker}
본 발명은 조리기기에 관한 것으로, 보다 상세하게는 플라즈마 방전에 의하여 조리실에서 음식물을 조리하는 과정에서 발생되는 찌꺼기를 제거할 수 있는 조리기기에 관한 것이다.
조리기기란, 전기나 가스를 사용하여 조리실의 내부의 음식물을 조리하는 가전기기이다. 이와 같은 조리기기는, 음식물을 조리하는 과정에서는 발생되는 기름때와 같은 찌꺼기가 조리실의 벽면에 눌러 붙어 조리실이 오염되거나 이와 같은 찌꺼기에 의하여 냄새가 나는 단점이 발생된다.
종래에는, 상술한 바와 같이 음식물을 조리하는 과정에서 발생되는 찌꺼기를 제거하기 위하여 상기 조리실의 내부를 고온으로 가열하거나 세정제를 사용하여 찌꺼지를 화학분해를 한다. 그러나 상기 조리실의 내부를 고온으로 가열하여 찌꺼기를 제거하는 경우에는, 찌꺼기의 제거를 위하여 과도한 전력을 사용하게 될 뿐만 아니라, 상기 조리실을 고온으로 가열하기 위한 시간동안은 상기 조리기기를 사용할 수 없게 되는 문제점이 발생된다. 그리고 세정제를 사용하여 찌꺼기를 제거하는 경우에는, 상기 조리실의 벽면의 코팅층이 상기 세정제에 의하여 손상될 우려가 발생된다.
본 발명은 상술한 바와 같은 종래 기술에 의한 문제점을 해결하기 위한 것으로, 본 발명의 목적은 보다 효율적이고 간단하게 음식물을 조리하는 과정에서 발생되는 찌꺼기를 제거할 수 있도록 구성되는 조리기기를 제공하는 것이다.
상술한 바와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 실시예에 의하면, 본 발명은, 음식물이 조리되는 조리실이 구비되는 캐비티; 상기 조리실 내부에 고온의 공기를 순환시킴으로써 음식물을 대류 가열하는 컨벡션장치; 및 상기 컨벡션장치에 의하여 상기 조리실을 순환하는 공기의 흐름 상에 설치되고, 플라즈마 방전에 의하여 오존(O3)과 음이온 및 CH3-S라디컬기 중 적어도 하나를 발생시키는 플라즈마 방전장치; 를 포함하고, 상기 조리실의 양 측면을 형성하는 사이드플레이트에는 상기 플라즈마 방전장치의 장착을 위한 안착홈이 구비되고, 상기 안착홈에는 상기 플라즈마 방전장치의 일부가 관통하는 안착개구가 구비된다.
본 발명의 다른 실시예에 의하면, 본 발명은, 음식물이 조리되는 조리실의 양 측면을 형성하는 사이드플레이트를 가지는 캐비티; 상기 조리실을 향하는 상기 사이드플레이트의 면에 구비되는 법랑코팅층; 상기 법랑코팅층에 지지되고, 외부 전원과 통전되는 전극; 상기 조리실에 노츨되는 상기 전극을 감싸면서 상기 전극을 보호하는 절연코팅층; 상기 사이드플레이트에 구비되는 관통공; 상기 관통공에 장착되는 가이드부시; 및 상기 가이드부시를 통과하여 상기 전극과 외부 전원을 연결하는 전원선; 을 포함하고, 상기 전극에 외부의 전원이 인가되면, 상기 사이드플레이트와 상기 전극 사이의 전기장 영역에서 전자가 가속되어 상기 조리실의 내부로 플라즈마가 방전된다.
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본 발명에 의하면, 보다 효율적이고 간단하게 음식물의 찌꺼기를 제거할 수 있는 이점이 있다.
이하에서는 본 발명에 의한 조리기기의 제1실시예를 첨부된 도면을 참조하여 보다 상세하게 설명한다.
도 1은 본 발명에 의한 조리기기의 제1실시예의 요부를 절개하여 보인 분해사시도이고, 도 2는 본 발명의 제1실시예를 구성하는 플라즈마 방전장치를 보인 사시도이며, 도 3은 본 발명의 제1실시예를 구성하는 제1 및 제2전극 및 유전체를 보인 사시도이고, 도 4는 본 발명의 제1실시예의 요부를 보인 횡단면도이다.
먼저 도 1을 참조하면, 조리기기의 캐비티(100)의 내부에는 조리실(101)이 구비된다. 상기 조리실(101)은 음식물의 조리가 이루어지는 공간이다. 상기 캐비 티(100)는 상기 조리실(101)의 측면을 형성하는 2개의 사이드플레이트(110)(120), 상기 조리실(101)의 천장을 형성하는 탑플레이트(미도시), 상기 조리실(101)의 바닥면을 형성하는 바텀플레이트(130) 및 상기 조리실(101)의 후면을 형성하는 리어플레이트(140)를 포함한다. 이하에서는 상기 사이드플레이트(110)(120) 중 도면상 좌측의 사이드플레이트(110)를 제1사이드플레이트(110), 도면상 우측의 사이드플레이트(120)를 제2사이드플레이트(120)라 칭한다.
그리고 상기 제1 및 제2사이드플레이트(110)(120)에는 각각 다수개의 지지돌기(111)(121)가 구비된다. 상기 지지돌기(111)(121)는 음식물이 안착되는 랙이나 트레이를 지지하기 위한 것이다. 상기 지지돌기(111)(121)는, 상기 제1 및 제2사이드플레이트(110)(120)에 서로 대응되는 높이 다수개가 구비된다.
상기 제1 및 제2사이드플레이트(110)(120)에는 각각 안착홈(113)(123)이 형성된다. 상기 안착홈(113)(123)은 후술할 플라즈마 방전장치(300)가 설치되는 곳이다. 상기 안착홈(113)(123)은 상기 제1 및 제2사이드플레이트(110)(120)의 일부가 상기 조리실(101)로부터 멀어지는 방향으로 함몰되어 형성된다. 본 실시예에서는, 상기 안착홈(113)(123)은, 상기 제1 및 제2사이드플레이트(110)(120)의 서로 상이한 높이에 형성된다. 즉 상기 제1사이드플레이트(110)의 안착홈(113)은 상기 제1사이드플레이트(110)의 후단부 중앙부분에 형성된다. 그리고 상기 제2사이드플레이트(120)의 안착홈(123)은 상기 제2사이드플레이트(120)의 후단부 상단부에 형성된다. 이는 상기 안착홈(113)(123)에 안착되는 플라즈마 방전장치(300)에 의한 음식물의 찌꺼기의 분해가 상기 조리실(101)에세 전체적으로 고르게 이루어지도록 하기 위한 것이다.
또한 상기 안착홈(113)(123)에는 안착개구(115)(117)가 각각 형성된다. 상기 안착개구(115)(117)는, 상기 안착홈(113)(123)에 플라즈마 방전장치(300)가 안착된 상태에서, 후술할 케이싱(310)이 관통하는 부분이다. 상기 안착개구(115)(117)는 상기 안착홈(113)(123)의 내부에 해당하는 상기 제1 및 제2사이드플레이트(110)(120)의 일부가 절개되어 형성된다.
한편 도 4를 참조하면, 상기 안착홈(113)(123)에 인접하는 상기 제1 및 제2사이드플레이트(110)(120)의 외측면에는 각각 한쌍의 체결플랜지(117)(127)가 구비된다. 상기 체결플랜지(117)(127)는 플라즈마 방전장치(300)를 고정하기 위한 것이다. 상기 체결플랜지(117)(127)는, 상기 안착개구(115)(117)의 양측에 해당하는 상기 제1 및 제2사이드플레이트(110)(120)의 이면에서 후방으로 연장되는 L자형상으로 형성된다. 그리고 상기 체결플랜지(117)(127)에는 체결공(119)(129)이 각각 형성된다.
다시 도 1을 참조하면, 상기 리어플레이트(140)에는 컨백션장치(200)가 구비된다. 상기 컨백션장치(200)는 상기 조리실(101)의 내부의 음식물을 가열하기 위한 것이다. 보다 상세하게는, 상기 컨백션장치(200)는 고온의 공기를 상기 조리실(101)의 내부를 순환시킴으로써 상기 조리실(101)의 내부의 음식물을 대류가열시킨다. 물론 도시되지는 않았으나, 상기 조리실(101)의 내부의 음식물을 가열하기 위하여 다른 가열원이 구비될 수 있다. 예를 들면, 상기 조리실(101)의 천장과 바닥면에 상부히터 및 하부히터가 구비되거나, 마이크로웨이브를 발진시키기 위 한 전장부품이 구비될 수 있다.
한편 상기 안착홈(113)(123)에는 플라즈마 방전장치(300)가 각각 안착된다. 상기 플라즈마 방전장치(300)는 플라즈마의 방전에 의하여 상기 조리실(101)에서 음식물을 조리하는 과정에서 발생되어 상기 제1 및 제2사이드플레이트(110)(120) 등에 눌러 붙는 음식물의 찌꺼기를 분해하여 용이하게 제거하기 위한 것이다. 보다 상세하게는, 상기 플라즈마 방전장치(300)에서 플라즈마의 방전시, 오존(O3), 수산화이온(OH-)과 같은 음이온 및 CH3-S라디컬기가 발생된다. 이와 같은 오존, 수산화이온 및 CH3-S라디컬기가, 상기 조리실(101)에서 음식물을 조리하는 과정에서 발생되는 찌꺼기의 주성분인 C-H결합을 끊어줌으로써, 음식물의 찌꺼기가 분해된다. 따라서 음식물의 찌꺼기의 제거 및 찌꺼기에 의한 냄새의 제거가 보다 용이하게 이루어지게 된다. 그리고 도 2 내지 도 4를 참조하면, 상기 플라즈마 방전장치(300)는, 케이싱(310), 커버(320), 다수개의 고정부재(330), 제1 및 제2전극(340)(350) 및 유전체(360)를 포함한다.
보다 상세하게는, 상기 케이싱(310)은 대략 전면이 개구되는 육면체형상으로 형성된다. 그리고 상기 케이싱(310)은, 상기 플라즈마 방전장치(300)가 상기 안착홈(113)(123)에 안착된 상태에서, 상기 안착개구(115)(117)를 관통한다.
상기 케이싱(310)의 개구된 일면에는 지지플랜지(311)가 구비된다. 상기 지지플랜지(311)는 상기 케이싱(310)의 개구된 일면의 테두리에서 각각 외측으로 연장된다. 상기 지지플랜지(311)는 상기 커버(320)를 지지하는 역할을 한다.
그리고 상기 케이싱(310)의 후면에는 고정플랜지(313)가 구비된다. 상기 고정플랜지(313)는 상기 케이싱(310)의 후면 양측단부에서 후방으로 연장되는 L자형상으로 형성된다. 상기 고정플랜지(313)는 상기 플라즈마 방전장치(300), 보다 상세하게는, 상기 케이싱(310)을 고정하기 위한 것이다. 이를 위하여 상기 고정플랜지(313)에는 관통공(315)이 형성된다. 상기 관통공(315)은, 상기 플라즈마 방전장치(300)가 상기 안착홈(113)(123)에 안착된 상태, 즉 상기 케이싱(310)이 상기 안착개구(115)(125)를 관통한 상태에서, 상기 체결공(119)(129)과 연통된다.
상기 커버(320)는 상기 케이싱(310)의 개구된 전면을 차폐시키는 역할을 한다. 상기 커버(320)는 그 이면 테두리가 상기 지지플랜지(311)의 전면에 밀착되어 지지된다. 그리고 상기 커버(320)에는 다수개의 통공(321)이 형성된다. 상기 통공(321)은 플라즈마 방전에 의하여 발생되는 오존 등을 상기 케이싱(310)의 외부, 즉 상기 조리실(101)의 내부로 전달하기 위한 것이다.
상기 고정부재(330)는 상기 케이싱(310)과 커버(320)를 고정시키는 역할을 한다. 상기 고정부재(330)는 대략 ㄷ자형상으로 형성되고, 상기 고정부재(330)의 내부에 상기 케이싱(310)의 일부, 즉 상기 지지플랜지(311) 및 상기 커버(320)의 테두리 부분이 삽입됨으로써, 상기 커버(320)가 상기 케이싱(310)의 일면을 차폐한 상태에서 양자가 고정된다.
상기 제1 및 제2전극(340)(350) 및 유전체(360)는 실질적으로 플라즈마 방전이 이루어지는 부분이다. 보다 상세하게는, 상기 제1 및 제2전극(340)(350)은 상기 유전체(360)를 중심으로 서로 이격되게 설치된다. 그리고 상기 제1전극(340)에 고전압이 인가되면, 상기 제1전극(340) 및 실질적으로 접지되는 상기 제2전극(350) 사이의 전기장 영역에서 가속되는 전자들에 의하여 그 주변의 대기가 이온화되어 오존 등이 발생된다.
한편 상기 플라즈마 방전장치(300)는, 상기 안착홈(113)(123)에 안착된 상태에서, 볼트(B)에 의하여 고정된다. 보다 상세하게는, 상기 플라즈마 방전장치(300)가 상기 안착홈(113)(123)에 안착되어 상기 케이싱(310)이 상기 안착개구(115)(117)를 관통하면, 상기 체결공(119)(129)과 관통공(315)이 서로 연통된다. 그리고 상기 볼트(B)가 상기 관통공(315)을 관통하여 상기 체결공(119)(129)에 체결됨으로써, 상기 플라즈마 방전장치(300)가 상기 안착홈(113)(123)에 안착된 상태에서 고정된다.
이하에서는 본 발명에 의한 조리기기의 제1실시예의 작용을 보다 상세하게 설명한다.
먼저 사용자의 조작에 의하여 조리기기가 동작하면, 가열원, 예를 들면, 상기 컨백션장치(200)가 구동된다. 따라서 상기 컨백션장치(200)에 의하여 상기 조리실(101)의 내부를 순환하는 고온의 공기에 의하여 상기 조리실(101)의 내부의 음식물이 가열되어 조리된다.
한편 상기 조리실(101)에서 음식물을 조리하는 과정에서 유분과 같은 음식물의 찌꺼기가 발생될 수 있다. 이와 같은 음식물의 찌꺼기는 상기 조리실(101)의 벽면에 눌러 붙게 된다. 그리고 상기 조리실(101)의 벽면에 눌러 붙은 음식물의 찌꺼기는, 상기 조리실(101)을 오염시키고 냄새를 발생시킨다.
이와 같은 상태에서, 사용자의 조작에 의하여 상기 플라즈마 방전장치(300)가 동작되면, 플라즈마의 방전에 의하여 상기 조리실(101)의 벽면에 눌러 붙은 음식물의 찌꺼기가 분해된다. 보다 상세하게는, 상기 제1전극(340)에 전원이 인가되면, 상기 제1 및 제2전극(340)(350) 사이의 전기장 영역에서 전자들이 가속되어 주변의 대기가 이온화됨으로써 플라즈마 방전이 이루어지고, 이와 같은 플라즈마 방전에 의하여 발생되는 오존, 수산화이온(OH-) 및 CH3-S라디컬기 등에 의하여 상기 조리실(101)의 벽면에 눌러 붙은 음식물의 찌꺼기가 분해되는 것이다. 그리고 이와 같이 찌꺼기가 분해되면, 사용자가 이를 보다 용이하게 제거함으로써, 청결하게 조리기기를 사용할 수 있게 된다.
이하에서는 본 발명에 의한 조리기기의 제2실시예를 첨부된 도면을 참조하여 보다 상세하게 설명한다.
도 5는 본 발명에 의한 조리기기의 제2실시예의 요부를 보인 종단면도이다.
도 5를 참조하면, 본 실시예에서는, 캐비티(400)의 내부에는 조리실(401)이 구비된다. 그리고 상기 캐비티(400)의 사이드플레이트(410)는 상기 조리실(401)의 측면을 형성한다.
한편 상기 조리실(401)에 접하는 상기 사이드플레이트(410)의 일면에는 법랑코팅층(411)이 구비된다. 상기 법랑코팅층(411)은 상기 사이드플레이트(410)의 오염이나 외부의 충격에 의한 스크래치의 발생 등을 방지하기 위한 것이다. 이와 같은 법랑코팅층(411)은 유전체의 기능을 수행할 수 있는 유리재질을 상기 사이드플 레이트(410)의 일면에 코팅하여 형성될 수 있다.
또한 상기 사이드플레이트(410)에는 2개의 관통공(413)이 형성된다. 상기 관통공(413)은 상기 사이드플레이트(410)의 일부가 절개되어 형성된다. 상기 관통공(413)에는 후술할 가이드부시(530)가 설치된다.
그리고 상기 조리실(401)에 접하는 상기 사이드플레이트(410)의 일면에는 전극(510)이 설치된다. 본 실시예에서는, 상기 전극(510)으로 전체적으로 장방형의 형상으로 형성되도록 다수회 밴딩되는 도전체의 와이어가 사용되지만, 반드시 이에 한정되지는 않는다.
한편 적어도 상기 전극(510)을 포함하는 상기 조리실(401)에 접하는 상기 사이드플레이트(410)의 일면 일부에는 절연코팅층(520)이 구비된다. 상기 절연코팅층(520)은 상기 전극(510)을 보호하기 위한 것이다. 상기 절연코팅층(520)은, 예를 들면, 이산화규소(SiO2)가 사용될 수 있다.
상기 관통공(315)에는 후술할 전원선(540)이 관통하는 가이드부시(530)가 각각 설치된다. 상기 가이드부시(530)는 전원선(540)을 보호하고 전열시키는 역할을 한다.
한편 상기 전극(510)의 양단부에는 각각 전원선(540)이 연결된다. 상기 전원선(540)은 외부의 전원(550)과 상기 전극(510)을 연결하기 위한 것이다. 상기 전원선(540)은 상기 가이드부시(530)를 관통하여 상기 전극(510)에 연결된다.
본 실시예에서는, 상기 전극(510)에 외부의 전원이 인가되면, 상기 캐비티(400)가 나머지 하나의 전극으로 작용하고, 상기 법랑코팅층(411)이 유전체로 작용하게 된다. 따라서 상기 전극(510)과 사이드플레이트(410) 사이의 전기장 영역에서 전자들이 가속되어 주변의 대기가 이온화됨으로써 플라즈마 방전이 이루어진다.
이하에서는 본 발명에 의한 조리기기의 제3실시예를 첨부된 도면을 참조하여 보다 상세하게 설명한다.
도 6은 본 발명에 의한 조리기기의 제3실시예를 보인 시스템 구성도이다.
도 6을 참조하면, 본 실시예는, 조리기기가 조리실(600)에 플라즈마 방전장치(610) 및 오존센서(620)가 구비된다. 상기 플라즈마 방전장치(610)로는 본 발명의 제1 및 제2실시예가 사용될 수 있다. 그리고 상기 오존센서(620)는 상기 플라즈마 방전장치(610)에서의 플라즈마의 방전에 의하여 발생되는 오존의 양, 즉 상기 조리실(600)의 내부의 오존의 농도를 감지하는 역할을 한다.
한편 상기 조리기기에는 상기 조리실(600)을 선택적으로 개폐하는 도어(700)의 여닫힘을 방지하기 위하여 잠금장치(710)가 구비된다. 보다 상세하게는, 상기 잠금장치(710)는 상기 조리실(600)을 개방하기 위한 상기 도어(700)의 열림을 선택적으로 방지하는 역할을 한다.
그리고 상기 조리기기의 컨트롤부(800)는 상기 오존센서(620)에 의하여 감지되는 상기 조리실(600)의 내부의 오존농도에 따라서 상기 조리실(600)의 개방을 위한 상기 도어(700)의 열림이 방지되도록 제어하는 역할을 한다. 다시 말하면, 상기 컨트롤부(800)는 상기 오존센서(620)에 의하여 감지된 상기 조리실(600)의 내부 의 오존농도가 기설정된 기준값을 초과하면 상기 조리실(600)의 개방을 위한 상기 도어(700)의 열림이 방지되도록 제어한다. 여기서 상기 기준값은, 인체에 유해한 오존의 농도가 될 것이다.
상기 플라즈마 방전장치(610)에 의하여 플라즈마가 방전되는 과정에서 발생되는 오존의 경우에는 인체에 유해하므로, 본 실시예에서는, 상기 조리실(600)의 내부의 오존의 농도가 기설정된 기준값을 초과하면, 상기 도어(700)의 열림, 즉 상기 조리실(600)의 개방이 방지된다. 따라서 본 실시예에 의하면, 조리기기의 사용자의 건강이 오존에 의하여 손상되는 현상이 방지될 수 있게 된다.
이와 같은 본 발명의 기본적인 기술적 사상의 범주 내에서 당업계의 통상의 지식을 가진 자에게 있어서는 다른 많은 변형이 가능함은 물론이고, 본 발명의 권리범위는 첨부한 특허청구범위에 기초하여 해석되어야 할 것이다.
이상에서 설명한 바와 같이 구성되는 본 발명에 의한 조리기기에 의하면, 다음과 같은 효과를 기대할 수 있게 된다.
먼저 본 발명에서는, 플라즈마 방전장치에서 방전되는 플라즈마에 의하여 조리실의 내부에서 음식물을 조리하는 과정에서 발생되는 찌꺼기가 분해된다. 따라서 보다 용이하게 분해된 찌꺼기를 제거함으로써, 청결하게 조리기기를 사용할 수 있게 된다.
또한 본 발명에서는, 별도의 플라즈마 방전장치를 구비하지 않고, 캐비티 및 상기 캐비티에 구비되는 전극이 실질적으로 플라즈마의 방전을 위한 제1 및 제2전 극의 기능을 수행하고, 상기 캐비티에 코팅되는 법랑코팅층이 유전체의 기능을 수행함으로써, 플라즈마가 방전된다. 따라서 보다 간단한 구성으로 플라즈마를 방전시켜서 음식물을 조리하는 과정에서의 찌꺼기를 분해하여 제거함으로써, 상기 조리기기를 보다 청결하게 사용할 수 있게 된다.
뿐만 아니라 본 발명에서는, 플라즈마 방전장치에 의하여 발생되는 오존의 양이 기설정된 기준량 이상인 경우에는, 조리실의 개방이 방지된다. 따라서 음식물의 찌꺼기를 분해하기 위한 플라즈마 방전과정에서 발생되는 오존에 의하여 사용자의 건강이 손상되는 현상이 방지된다.
도 1은 본 발명에 의한 조리기기의 제1실시예의 요부를 절개하여 보인 분해사시도.
도 2는 본 발명의 제1실시예를 구성하는 플라즈마 방전장치를 보인 사시도.
도 3은 본 발명의 제1실시예를 구성하는 제1 및 제2전극 및 유전체를 보인 사시도.
도 4는 본 발명의 제1실시예의 요부를 보인 횡단면도.
도 5는 본 발명에 의한 조리기기의 제2실시예의 요부를 보인 종단면도.
도 6은 본 발명에 의한 조리기기의 제3실시예를 보인 시스템 구성도.

Claims (14)

  1. 음식물이 조리되는 조리실이 구비되는 캐비티;
    상기 조리실 내부에 고온의 공기를 순환시킴으로써 음식물을 대류 가열하는 컨벡션장치; 및
    상기 컨벡션장치에 의하여 상기 조리실을 순환하는 공기의 흐름 상에 설치되고, 플라즈마 방전에 의하여 오존(O3)과 음이온 및 CH3-S라디컬기 중 적어도 하나를 발생시키는 플라즈마 방전장치; 를 포함하고,
    상기 조리실의 양 측면을 형성하는 사이드플레이트에는 상기 플라즈마 방전장치의 장착을 위한 안착홈이 구비되고, 상기 안착홈에는 상기 플라즈마 방전장치의 일부가 관통하는 안착개구가 구비되는 조리기기.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 사이드플레이트의 외측면에는 상기 플라즈마 방전장치의 고정을 위한 체결플랜지가 구비되는 조리기기.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 플라즈마 방전장치에는 상기 체결플랜지와 체결되는 고정플랜지가 구비되는 조리기기.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 플라즈마 방전장치는,
    상기 안착홈에 설치되는 케이싱;
    상기 케이싱의 개구되는 일부를 차폐하며, 적어도 하나의 통공을 가지는 커버;
    상기 케이싱의 내부에 설치되고, 외부 전원과 통전되는 제1전극;
    상기 케이싱의 내부에 설치되고, 접지되는 제2전극; 및
    상기 제1,2전극 사이에 설치되고, 양자를 절연시키는 유전체; 를 포함하는 조리기기.
  5. 제 3 항에 있어서,
    상기 체결플랜지에는 상기 고정플랜지와의 체결을 위한 체결공이 구비되고,
    상기 고정플랜지에는 상기 체결플랜지와의 체결을 위한 관통공이 구비되는 조리기기.
  6. 음식물이 조리되는 조리실의 양 측면을 형성하는 사이드플레이트를 가지는 캐비티;
    상기 조리실을 향하는 상기 사이드플레이트의 면에 구비되는 법랑코팅층;
    상기 법랑코팅층에 지지되고, 외부 전원과 통전되는 전극;
    상기 조리실에 노츨되는 상기 전극을 감싸면서 상기 전극을 보호하는 절연코팅층;
    상기 사이드플레이트에 구비되는 관통공;
    상기 관통공에 장착되는 가이드부시; 및
    상기 가이드부시를 통과하여 상기 전극과 외부 전원을 연결하는 전원선; 을 포함하고,
    상기 전극에 외부의 전원이 인가되면, 상기 사이드플레이트와 상기 전극 사이의 전기장 영역에서 전자가 가속되어 상기 조리실의 내부로 플라즈마가 방전되는 조리기기.
  7. 삭제
  8. 제 6 항에 있어서,
    상기 법랑코팅층은 상기 사이드플레이트와 상기 전극 사이에 위치되어 양자를 절연시키는 유전체 기능을 수행하는 조리기기.
  9. 삭제
  10. 제 6 항에 있어서,
    상기 절연코팅층은 이산화규소(SiO2) 코팅에 의하여 형성되는 조리기기.
  11. 제 6 항에 있어서,
    상기 조리실의 내부에는 고온의 공기를 순환시킴으로써 음식물을 대류 가열하는 컨벡션장치가 더 제공되고,
    상기 전극과 상기 법랑코팅층은 상기 컨벡션장치에 의해 형성되는 공기의 흐름 상에 위치하는 조리기기.
  12. 제 11 항에 있어서,
    상기 컨벡션장치는,
    음식물의 조리를 위한 열을 제공하는 컨벡션히터의 열을 상기 조리실의 내부로 순환시키기 위한 공기의 흐름을 형성하는 조리기기.
  13. 제 6 항에 있어서,
    상기 캐비티에는,
    상기 조리실의 개폐를 위한 도어의 여닫힘을 방지하는 잠금장치가 제공되고,
    상기 잠금장치는 상기 조리실의 오존 농도를 감지하는 오존센서의 감지에 따라 상기 도어의 여닫힘을 제어하는 조리기기.
  14. 삭제
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