KR101574831B1 - Apparatus and method for forming flatness of glass substrate using the same - Google Patents
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Abstract
생산성이 향상되고, 저비용으로 고품질의 유리기판을 얻을 수 있도록 한 유리기판의 평탄면 형성장치 및 방법이 개시된다.
본 발명에 따른 유리기판의 평탄면 형성장치는 유리기판을 이송하는 유리기판 이송부, 상기 유리기판 이송부에 의해 이송되는 상기 유리기판으로 액상원료를 분사하여 상기 유리기판에 평탄층을 형성하는 분사부 및 상기 분사부로 상기 액상원료를 공급하는 원료 공급부를 포함한다. Disclosed is an apparatus and a method for forming a flat surface of a glass substrate in which productivity is improved and a high-quality glass substrate can be obtained at low cost.
The flat surface forming apparatus for a glass substrate according to the present invention comprises a glass substrate transfer section for transferring a glass substrate, a jetting section for jetting a liquid raw material onto the glass substrate transferred by the glass substrate transfer section to form a flat layer on the glass substrate, And a raw material supply part for supplying the liquid raw material to the spray part.
Description
본 발명은 유리기판의 평탄면 형성장치 및 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 유리기판에 평탄면을 형성하는 유리기판의 평탄면 형성장치 및 방법에 관한 것이다.
BACKGROUND OF THE
최근 디스플레이 장치로 각광받고 있는 PDP(Plasma Display Panel), LCD(Liquid Crystal Display), AMOLED(Active Matrix Organic Light Emitting Diodes) 등에는 유리기판이 사용된다. Glass substrates are used for PDP (Plasma Display Panel), LCD (Liquid Crystal Display), and AMOLED (Active Matrix Organic Light Emitting Diodes), which have recently become popular as display devices.
이 중에서, TFT LCD(Thin film Transistor Liquid Crystal Display)에 사용되는 유리기판은 TFT 어레이와 컬러필터에 부착되는 기판으로, TFT LCD 패널의 핵심소재로 사용된다. 따라서 유리기판은 육안으로는 구분이 불가능할 정도의 평탄한 표면과 열에 의한 변형이 없어야 하는 등의 고품질의 특성이 필요하다.Among them, a glass substrate used in a TFT LCD (Thin Film Transistor Liquid Crystal Display) is a substrate attached to a TFT array and a color filter, and is used as a core material of a TFT LCD panel. Therefore, the glass substrate is required to have a flat surface that can not be distinguished from the naked eye, and high quality characteristics such as no deformation due to heat.
하지만, 유리기판이 생산되는 과정에서 유리기판 표면에는 용융 결함이 발생되고, 용융 결함은 유리기판이 디스플레이 장치에 사용되기 곤란한 문제점으로 작용한다. 따라서 종래에는 용융 결함을 제거하기 위해 유리기판 표면을 연마하여 유리기판에 일정 수준의 평탄도(waviness)가 확보되도록 한다. 이와 같이 유리기판 표면을 연마하는 장치에 대해서는 이미 "대한민국 등록특허 10-0952324호" 등에 개시된 바 있다. 상기 등록특허와 같이 종래에는 유리기판을 직접 연마하여 유리기판에 평탄면을 형성한다. However, in the process of producing a glass substrate, melting defects are generated on the surface of the glass substrate, and melting defects cause a problem that it is difficult to use the glass substrate in a display device. Therefore, conventionally, the surface of the glass substrate is polished to remove a melting defect, so that a certain level of waviness is secured on the glass substrate. Such a device for polishing the surface of a glass substrate has already been disclosed in Korean Patent Registration No. 10-0952324 and the like. Conventionally, a glass substrate is directly polished to form a flat surface on a glass substrate.
하지만, 요구되는 두께 및 평탄도를 얻기 위해, 비교적 경질(硬質) 재료에 속하는 유리기판을 직접 연마해야 하며, 고가의 연마패드와 슬러리(slurry)가 사용되어야 하므로, 생산비용이 높아지는 문제점이 있다.However, in order to obtain a required thickness and flatness, a glass substrate belonging to a relatively hard material must be directly polished, and an expensive polishing pad and slurry must be used, resulting in an increase in production cost.
또한, 유리기판을 직접 연마되는데 소요되는 시간 또한 지연되어 생산성이 저하되는 문제점이 있다. In addition, the time required for directly polishing the glass substrate is also delayed, resulting in a problem that productivity is lowered.
본 발명의 목적은 생산성이 향상되고, 저비용으로 고품질의 유리기판을 얻을 수 있도록 한 유리기판의 평탄면 형성장치 및 방법을 제공하기 위한 것이다.
It is an object of the present invention to provide an apparatus and a method for forming a flat surface of a glass substrate in which productivity is improved and a high quality glass substrate can be obtained at low cost.
본 발명에 따른 유리기판의 평탄면 형성장치는 유리기판을 이송하는 유리기판 이송부, 상기 유리기판 이송부에 의해 이송되는 상기 유리기판으로 액상원료를 분사하여 상기 유리기판에 평탄층을 형성하는 분사부 및 상기 분사부로 상기 액상원료를 공급하는 원료 공급부를 포함한다. The flat surface forming apparatus for a glass substrate according to the present invention comprises a glass substrate transfer section for transferring a glass substrate, a jetting section for jetting a liquid raw material onto the glass substrate transferred by the glass substrate transfer section to form a flat layer on the glass substrate, And a raw material supply part for supplying the liquid raw material to the spray part.
상기 유리기판의 평탄면 형성장치는 내부에 상기 분사부가 설치되고, 상기 유리기판이 반입되는 입구와, 상기 유리기판이 반출되는 출구가 형성되는 공정챔버를 더 포함하며, 상기 유리기판 이송부는 상기 입구의 외측에 배치되어 상기 유리기판을 상기 공정챔버 내부로 반입시키는 제 1컨베이어, 상기 공정챔버 내부에 배치되어 상기 유리기판을 상기 출구로 이송하는 제 2컨베이어 및 상기 출구의 외측에 배치되어 상기 유리기판을 상기 공정챔버 외부로 반출시키는 제 3컨베이어를 포함할 수 있다.Wherein the glass substrate transporting part further comprises a transporting part for transporting the glass substrate and a transporting part for transporting the glass substrate to the transporting part, A second conveyor disposed outside the process chamber and configured to transfer the glass substrate to the exit, and a second conveyor disposed outside the exit, the first conveyor disposed outside the glass substrate to transfer the glass substrate into the process chamber, To the outside of the process chamber.
상기 유리기판의 평탄면 형성장치는 상기 공정챔버 내부에 연통되는 연통관 및 상기 배기관에 연결되어 상기 공정챔버 내부의 압력을 조절하는 압력조절펌프를 더 포함할 수 있다. The flat surface forming apparatus of the glass substrate may further include a communicating pipe communicating with the inside of the process chamber and a pressure regulating pump connected to the exhaust pipe to regulate the pressure inside the process chamber.
상기 유리기판의 평탄면 형성장치는 상기 입구 및 상기 출구에 각각 설치되어 상기 유리기판이 이송되는 방향에 교차되는 방향으로 에어를 분사하는 에어커튼 형성부를 더 포함할 수 있다. The flat surface forming apparatus of the glass substrate may further include an air curtain forming unit installed at the inlet and the outlet, respectively, for spraying air in a direction crossing the direction in which the glass substrate is conveyed.
상기 에어커튼 형성부는 상기 입구를 향해 개방되어 상기 에어를 분사하는 입구측 에어노즐, 상기 입구측 에어노즐에 대향되어 상기 에어가 배기되는 입구측 배기관, 상기 출구를 향해 개방되어 상기 에어를 분사하는 출구측 에어노즐 및 상기 출구측 에어노즐에 대향되어 상기 에어가 배기되는 출구측 배기관을 더 포함할 수 있다. Wherein the air curtain forming portion includes an inlet side air nozzle which opens toward the inlet and discharges the air, an inlet side exhaust pipe which is opposed to the inlet side air nozzle and through which the air is exhausted, an outlet opening toward the outlet, Side air nozzle and an outlet-side exhaust pipe which is opposed to the outlet-side air nozzle and through which the air is exhausted.
상기 공정챔버 내부의 상기 분사부와 상기 출구의 사이에 배치되어 상기 평탄층을 경화시키는 제 1경화부를 더 포함할 수 있다.And a first curing unit disposed between the jetting unit and the outlet in the process chamber to cure the flat layer.
상기 유리기판의 평탄면 형성장치는 상기 분사부와 상기 제 1경화부의 사이에 배치되어 상기 제 1경화부의 열 또는 광이 상기 분사부로 향하는 것을 격벽을 더 포함할 수 있다.The flat surface forming apparatus of the glass substrate may further include a partition disposed between the jetting section and the first curing section to direct heat or light of the first curing section toward the jetting section.
상기 격벽의 내부에는 냉매가 순환되는 냉매순환로가 형성될 수 있다.A refrigerant circulation path through which the refrigerant is circulated may be formed in the partition wall.
상기 유리기판의 평탄면 형성장치는 상기 공정챔버의 외부에 배치되는 경화챔버 및 상기 경화챔버의 내부에 설치되어 상기 평탄층의 표면이 강화되도록 상기 제 1경화부에 의해 경화된 상기 평탄층을 경화시키는 제 2경화부를 더 포함할 수 있다.The flat surface forming apparatus of the glass substrate includes a curing chamber disposed outside the process chamber and a curing chamber provided inside the curing chamber to cure the flat layer cured by the first curing unit so that the surface of the flat layer is strengthened And a second curing unit for curing the second curing unit.
상기 제 2경화부는 상기 평탄층을 200~800도의 사이의 온도로 상기 평탄층을 가열할 수 있다.The second curing unit may heat the flat layer to a temperature of 200 to 800 degrees Celsius.
상기 분사부는 상기 유리기판이 이송되는 방향에 교차되는 방향으로 서로 이격되는 복수의 제 1입사영역으로 상기 액상원료를 분사하는 복수의 제 1분사노즐 및 상기 복수의 제 1입사영역의 사이로 입사되고 상기 복수의 제 1입사영역에 일부 중첩되는 복수의 제 2입사영역으로 상기 액상원료를 분사하는 복수의 제 2분사노즐을 포함할 수 있다.Wherein the jetting unit includes a plurality of first jetting nozzles for jetting the liquid raw material into a plurality of first jetting areas spaced apart from each other in a direction crossing the direction in which the glass substrate is transported, And a plurality of second injection nozzles for spraying the liquid raw material into a plurality of second incident areas partially overlapping the plurality of first incident areas.
상기 분사부는 상기 복수의 제 1분사노즐과 상기 복수의 제2 분사노즐을 함께 지지하는 브라켓 및 상기 브라켓을 지지하고 상기 브라켓을 승강시키는 승강유닛을 더 포함할 수 있다. The jetting unit may further include a bracket for supporting the plurality of first jetting nozzles and the plurality of second jetting nozzles together, and an elevating unit for supporting the brackets and raising and lowering the brackets.
상기 원료 공급부는 상기 액상원료가 수용되는 원료 탱크, 상기 원료 탱크로 상기 액상원료를 공급하는 제 1공급관, 상기 원료 탱크에 연결되고 상기 제 1분사헤드와 상기 제 2분사헤드로 분기되어 상기 액상원료가 상기 제 1분사헤드와 상기 제 2분사헤드로 공급되도록 하는 제 2공급관 및 상기 제 2공급관의 관로에 설치되어 상기 액상원료의 공급 압력을 형성하는 원료공급펌프를 포함할 수 있다.Wherein the raw material supply portion is connected to a raw material tank in which the liquid raw material is accommodated, a first supply pipe for supplying the liquid raw material to the raw material tank, a first supply pipe connected to the raw material tank and branched to the first injection head and the second injection head, A second supply pipe for supplying the liquid to the first ejection head and the second ejection head, and a raw material supply pump installed in a channel of the second supply pipe to form a supply pressure of the liquid raw material.
상기 원료 공급부는 상기 제 2공급관의 관로에 설치되어 상기 액상원료를 필터링 하는 적어도 하나의 필터를 더 포함할 수 있다. The raw material supply unit may further include at least one filter installed in a channel of the second supply pipe to filter the liquid raw material.
상기 원료 공급부는 상기 제 2공급관의 관로에 설치되어 상기 액상원료의 유량을 조절하는 유량조절밸브를 더 포함할 수 있다. The raw material supply unit may further include a flow rate adjusting valve installed in a channel of the second supply pipe to adjust a flow rate of the liquid raw material.
상기 유리기판의 평탄면 형성장치는 상기 공정챔버의 내부에 배치되고 상기 분사부와 상기 유리기판 이송부의 주변부에 개방되어 상기 공정챔버 내부의 이물질이 상기 공정챔버의 외부로 배출되도록 하는 집진관 및 상기 공정챔버 내부의 이물질을 상기 집진관으로 안내하는 집진판을 더 포함할 수 있다. Wherein the glass substrate flat surface forming apparatus includes a dust collecting tube disposed inside the process chamber and opened to a peripheral portion of the jetting portion and the glass substrate transferring portion so that foreign substances in the process chamber are discharged to the outside of the process chamber, And a dust collecting plate for guiding a foreign substance in the process chamber to the dust collecting tube.
상기 유리기판의 평탄면 형성장치는 상기 공정챔버 내부의 하부에 배치되고 상기 평탄층 형성에 사용되고 남은 폐액이 수용되는 폐액 용기 및 상기 폐액 용기에 연결되고 상기 공정챔버의 외부로 연장되어 상기 폐액이 공정챔버의 외부로 배출되도록 하는 페액 배출관을 더 포함할 수 있다. Wherein the flat surface forming apparatus of the glass substrate comprises a waste liquid container which is disposed in a lower portion of the inside of the process chamber and which is used for forming the flat layer and receives the remaining waste liquid and a waste liquid container which is connected to the waste liquid container and extends outside the process chamber, And a peculiar drain pipe for allowing the pumped liquid to be discharged to the outside of the chamber.
한편, 본 발명에 따른 유리기판의 평탄면 형성방법은 유리기판이 공정챔버 내부로 반입되는 반입단계, 상기 공정챔버 내부에서 이송되는 상기 유리기판으로 액상원료가 분사되어 상기 유리기판에 평탄층이 형성되는 평탄층 형성단계, 상기 공정챔버 내부에서 상기 평탄층이 경화되는 평탄층 경화단계 및 상기 유리기판이 상기 공정챔버 외부로 반출되는 반출단계를 포함한다.A method of forming a flat surface of a glass substrate according to the present invention includes: a carrying-in step of carrying a glass substrate into a processing chamber; a step of forming a flat layer on the glass substrate by spraying a liquid raw material onto the glass substrate, A flat layer curing step in which the flat layer is cured in the process chamber, and a take-out step in which the glass substrate is taken out of the process chamber.
상기 평탄층 형성단계는 상기 액상원료가 원료 탱크로 공급되는 제 1공급단계, 상기 액상원료가 상기 원료 탱크로부터 상기 공정챔버 내부로 공급되는 제 2공급단계 및 상기 액상원료가 상기 공정챔버의 내부에 배치되는 제 1분사헤드와 제 2분사헤드에 의해 분사되는 분사단계를 포함할 수 있다. Wherein the flat layer forming step includes a first supplying step of supplying the liquid raw material to the raw material tank, a second supplying step of supplying the liquid raw material from the raw material tank into the processing chamber, and a second supplying step of supplying the liquid raw material into the processing chamber And a jetting step of jetting by a first jet head and a second jet head to be disposed.
상기 평탄층 형성단계는 상기 액상원료가 필터링되는 필터링 단계를 더 포함할 수 있다. The flat layer forming step may further include a filtering step in which the liquid raw material is filtered.
상기 평탄층 형성단계는 상기 액상원료의 유량이 조절되는 유량 조절단계를 더 포함할 수 있다.The flat layer forming step may further include a flow adjusting step of adjusting the flow rate of the liquid raw material.
상기 분사단계는 상기 유리기판이 이송되는 방향에 교차되는 방향으로 서로 이격되는 복수의 제 1입사영역으로 상기 액상원료가 분사되는 제 1분사단계 및 상기 복수의 제 1입사영역의 사이로 입사되고 상기 복수의 제 1입사영역에 일부 중첩되는 복수의 제 2입사영역으로 상기 액상원료가 분사되는 제 2분사단계를 포함할 수 있다. Wherein the injecting step includes a first injection step in which the liquid raw material is injected into a plurality of first incident regions which are spaced apart from each other in a direction crossing the direction in which the glass substrate is conveyed, And a second injection step in which the liquid source material is injected into a plurality of second incident areas partially overlapping the first incident area of the first injection step.
상기 유리기판의 평탄면 형성방법은 상기 반출단계 이후에 상기 평탄층의 표면 강화를 위해 상기 평탄층을 경화하는 제 2평탄층 경화단계를 더 포함할 수 있다.
The method of forming a flat surface of the glass substrate may further include a second flat layer hardening step of hardening the flat layer to strengthen the surface of the flat layer after the carrying out step.
본 발명에 따른 유리기판의 평탄면 형성장치 및 방법은 고품질의 유리기판을 생산할 수 있는 효과가 있다.The apparatus and method for forming a flat surface of a glass substrate according to the present invention can produce a high-quality glass substrate.
또한, 본 발명에 따른 유리기판의 평탄면 형성장치 및 방법은 생산성이 향상되는 효과가 있다.Further, the apparatus and method for forming a flat surface of a glass substrate according to the present invention have an effect of improving productivity.
또한, 본 발명에 따른 유리기판의 평탄면 형성장치 및 방법은 생산비용을 절감할 수 있다.
Further, the apparatus and method for forming a flat surface of a glass substrate according to the present invention can reduce the production cost.
도 1 및 도 2는 본 실시예에 따른 유리기판의 평탄면 형성장치의 구성을 간략하게 나타낸 도면이다.
도 3은 본 실시예에 따른 유리기판의 평탄면 형성장치 중 분사부를 나타낸 도면이다.
도 4는 본 실시예에 따른 유리기판의 평탄면 형성장치 중 분사부에 의해 분사되는 액사원료가 유리기판에 입사되는 패턴을 타나낸 도면이다.
도 5는 다른 실시예에 따른 유리기판의 평탄면 형성장치 중 분사부를 나타낸 도면이다.
도 6은 본 실시예에 따른 유리기판의 평탄면 형성방법을 나타낸 순서도이다.
도 7은 본 실시예에 따른 유리기판의 평탄면 형성장치에서 유리기판이 챔버 내부로 반입되는 상태를 나타낸 도면이다.
도 8은 본 실시예에 따른 유리기판의 평탄면 형성장치에서 유리기판에 평탄층이 형성되는 상태를 나타낸 도면이다.
도 9는 본 실시예에 따른 유리기판의 평탄면 형성장치에서 평탄층이 경화되는 상태를 나타낸 도면이다.
도 10은 본 실시예에 따른 유리기판의 평탄면 형성장치에서 유리기판이 경화챔버의 내부에서 평탄층이 경화되는 상태를 나타낸 도면이다.FIGS. 1 and 2 are views schematically showing a configuration of an apparatus for forming a flat surface of a glass substrate according to the present embodiment.
Fig. 3 is a view showing a jetting portion of the flat surface forming apparatus of the glass substrate according to the present embodiment.
FIG. 4 is a view showing a pattern in which the liquid crystal material injected by the jetting portion of the glass substrate flat surface forming apparatus according to the present embodiment is incident on the glass substrate.
5 is a view showing a jetting portion of a planar surface forming apparatus of a glass substrate according to another embodiment.
6 is a flowchart showing a method of forming a flat surface of a glass substrate according to the present embodiment.
7 is a view showing a state in which the glass substrate is brought into the chamber in the flat surface forming apparatus of the glass substrate according to the present embodiment.
8 is a view showing a state where a flat layer is formed on a glass substrate in the flat surface forming apparatus of the glass substrate according to the present embodiment.
9 is a view showing a state where the flat layer is cured in the flat surface forming apparatus of the glass substrate according to the present embodiment.
10 is a view showing a state where the glass substrate is cured in the inside of the curing chamber in the flat surface forming apparatus of the glass substrate according to the present embodiment.
이하, 본 발명에 따른 유리기판의 평탄면 형성장치 및 방법의 실시예에 대하여 첨부된 도면을 참조하여 설명하도록 한다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예에 한정되는 것이 아니라 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 이하에서 설명되는 실시예는 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이다.
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of an apparatus and method for forming a flat surface of a glass substrate according to the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. It should be understood, however, that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but may be embodied in various forms and should not be construed as limited to the embodiments set forth herein, Is provided to fully inform the user.
도 1 및 도 2는 본 실시예에 따른 유리기판의 평탄면 형성장치의 구성을 간략하게 나타낸 도면이다.FIGS. 1 and 2 are views schematically showing a configuration of an apparatus for forming a flat surface of a glass substrate according to the present embodiment.
도 1 및 도 2를 참조하면, 본 실시예에 따른 유리기판의 평탄면 형성장치(이하, '평탄면 형성장치'라 함.)(100)은 공정챔버(110), 유리기판 이송부(130), 원료 공급부(140), 분사부(150) 및 제 1경화부(180)를 포함한다.1 and 2, a planar
공정챔버(110) 내부에는 공정챔버(110) 외부로부터 차폐되는 독립된 공간이 형성된다. 공정챔버(110)에는 연통관(111)이 설치되며, 연통관(111)에는 압력조절펌프(112)가 연결된다. 압력조절펌프(112)는 연통관(111)을 통해 공정챔버(110) 내부의 배기를 수행한다. 따라서 공정챔버(110) 내부는 일정 압력이 유지될 수 있으며, 청정도가 확보되는 공정환경이 조성될 수 있다. Inside the
또한, 공정챔버(110)에는 유리기판(1)이 원활하게 출입되도록 하는 입구(113) 및 출구(114)가 형성된다. 입구(113)와 출구(114)에는 에어커튼 형성부(120)가 설치될 수 있다. 에어커튼 형성부(120)는 입구측 에어노즐(121), 입구측 배기관(122), 출구측 에어노즐(123) 및 출구측 배기관(124)을 포함할 수 있다. 도시되지 않았지만, 입구측 배기관(122)과 출구측 배기관(124)에는 에어펌프가 연결될 수 있다. 입구측 에어노즐(121)은 입구(113)를 향해 에어를 분사하고, 입구측 배기관(122)은 입구로 분사된 에어를 배기시킨다. 출구측 에어노즐(123)은 출구(114)를 향해 에어를 분사하고, 출구측 배기관(124)은 출구(114)로 분사된 에어를 배기시킨다. 에어커튼 형성부(120)는 입구(113)와 출구(114)를 통해 공정챔버(110) 외부의 이물질이 공정챔버(110) 내부로 반입되는 것을 방지하며, 공정챔버(110) 내부의 분사액 또는 폐액이 공정챔버(110) 외부로 배출되는 것을 방지한다. 특히, 입구측 에어노즐(121)은 공정챔버(110) 내부로 반입되는 유리기판(1)으로 에어를 분사하므로, 유리기판(1) 표면에 남아있는 이물질을 제거하는 역할을 함께 수행할 수 있다.In addition, an
유리기판 이송부(130)는 유리기판(1)을 이송한다. 유리기판 이송부(130)는 제 1컨베이어(131), 제 2컨베이어(132) 및 제 3컨베이어(133)를 포함한다. 제 1컨베이어(131)는 입구(113)의 외측에 배치된다. 제 1컨베이어(131)는 입구(113)를 통해 유리기판(1)을 공정챔버(110)의 내부로 반입시킨다. 제 2컨베이어(132)는 공정챔버(110) 내부에 배치된다. 제 2컨베이어(132)는 공정챔버(110) 내부의 유리기판(1)을 출구를 향해 이송한다. 제 3컨베이어(133)는 출구(114)의 외측에 배치된다. 제 3컨베이어(133)는 공정챔버(110) 내부의 유리기판(1)을 공정챔버(110) 외부로 배출한다.The glass
이때, 유리기판(1)은 캐리어(10)에 지지되어 이송될 수 있다. 캐리어(10)에는 유리기판(1)이 안정적으로 지지될 수 있도록 하는 미도시의 척킹장치, 예를 들어 흡착패드, 점착패드 등이 설치될 수 있다. At this time, the
이러한 제 1컨베이어(131), 제 2컨베이어(132) 및 제 3컨베이어(133)는 도 1에 도시된 바와 같이, 롤러 컨베이어의 형태로 마련되는 것으로 도시되고 있지만, 벨트 컨베이어의 형태로 변형실시 될 수 있다. Although the
원료 공급부(140)는 유리기판(1)에 평탄층(2)을 증착하는 데 사용되는 액상원료를 공정챔버(110) 내부로 공급한다. 원료 공급부(140)는 원료 탱크(141), 제 1공급관(142), 제 2공급관(143), 원료공급펌프(144)를 포함한다. 원료 탱크(141)의 내부에는 액상원료가 수용된다. 제 1공급관(142)은 원료 탱크(141)에 연결되어 원료 탱크(141)로 액상원료를 공급한다. 제 2공급관(143)은 원료 탱크(141)에 연결되고 공정챔버(110) 내부로 연장되어 원료 탱크(141) 내부의 액상원료를 공정챔버(110) 내부로 공급한다. 제 2공급관(143)은 이후에 설명될 제 1분사헤드(151)와 제 2분사헤드(152)(도 2 참조.)에 액상원료를 각각 공급하도록 분기될 수 있다. 원료공급펌프(144)는 제 2공급관(143)의 관로에 설치되어 액상원료의 공급 압력을 형성한다.The raw
또한, 제 2공급관(143)의 관로에는 적어도 하나의 필터(145) 및 유량조절밸브(146)가 설치될 수 있다. 필터(145)는 공정챔버(110) 내부로 공급되는 액상원료에 포함될 수 있는 이물질을 걸러낸다. 도 1에서 필터(145)는 두 개로 도시되고 있지만, 필터의 개수는 얼마든지 가감될 수 있다. 유량조절밸브(146)는 제 1분사헤드(151)와 제 2분사헤드(152)로 공급되는 액상원료가 정량 공급될 수 있도록 액상원료의 유량이 조절되도록 한다.In addition, at least one
분사부(150)는 액상원료가 균일한 분포로 유리기판(1)에 분사되도록 한다. The
도 3는 본 실시예에 따른 유리기판의 평탄면 형성장치 중 분사부를 나타낸 도면이며, 도 4은 본 실시예에 따른 유리기판의 평탄면 형성장치 중 분사부에 의해 분사되는 액사원료가 유리기판에 입사되는 패턴을 타나낸 도면이며, 도 5는 본 실시예에 따른 유리기판의 평탄면 형성장치 중 분사부를 나타낸 도면이다. FIG. 3 is a view showing a spraying unit of the flat surface forming apparatus according to the present embodiment. FIG. 4 is a cross-sectional view of the glass substrate flat surface forming apparatus according to the present embodiment, And FIG. 5 is a view showing a spraying unit of the flat surface forming apparatus of the glass substrate according to the present embodiment.
도 3 및 도 4를 참조하면, 분사부(150)는 공정챔버(110)에 배치되는 제 1분사헤드(151)와 제 2분사헤드(152)를 포함한다. 제 1분사헤드(151)와 제 2분사헤드(152)는 유리기판(1)이 이송되는 방향에 교차되는 방향으로 선형 배치된다. 제 1분사헤드(151)는 입구(113) 측에 배치되며, 제 2분사헤드(152)는 제 1분사헤드(151)로부터 유리기판(1)이 이송되는 방향으로 이격된다. 3 and 4, the jetting
제 1분사헤드(151)와 제 2분사헤드(152)에는 복수의 제 1분사노즐(151a)과 복수의 제 2분사노즐(152a)이 설치된다. 복수의 제 1분사노즐(151a)과 복수의 제 2분사노즐(152a)은 액상원료가 유리기판(1)에 지그재그(Zigzag)의 형태로 분사되도록 한다.The
즉, 복수의 제 1분사노즐(151a)은 유리기판(1)이 이송되는 방향에 교차되는 방향으로 서로 이격되는 복수의 제 1입사영역(151b)으로 액상원료가 분사되도록 한다. 복수의 제 2분사노즐(152a)은 복수의 제 1입사영역(151b)의 사이로 입사되고, 복수의 제 1입사영역(151b)에 일부 중첩되는 복수의 제 2사영역(152)으로 액상원료가 분사되도록 한다. That is, the plurality of
따라서 유리기판(1)에는 액상원료가 균일한 분포로 분사되어 균일한 두께의 평탄층(2)이 형성될 수 있다. 이와 같이 유리기판(1)에 평탄층(2)이 형성됨에 따라 유리기판(1)에는 평탄면이 형성될 수 있다.Therefore, the liquid material can be injected into the
한편, 복수의 제 1분사노즐(151a)과 복수의 제 2분사노즐(152a)은 유리기판(1)과의 이격거리가 조절될 수 있다. 즉, 제 1분사헤드(151)와 제 2분사헤드(152)는 브라켓(153)에 함께 지지되며, 분사부(150)는 브라켓(153)을 승강시키는 승강유닛(154)을 더 포함할 수 있다. 승강유닛(154)은 브라켓(153)을 승강시킴으로써, 복수의 제 1분사노즐(151a)과 유리기판(1)의 이격거리 및 복수의 제 2분사노즐(152a)과 유리기판(1)의 이격거리가 조절되도록 한다. On the other hand, the distance between the plurality of
도 3에서, 복수의 제 1분사노즐(151a)은 제 1분사헤드(151)에 형성되는 홀의 형태로 형성되고, 복수의 제 2분사노즐(152a)는 제 2분사헤드(152)에 형성되는 홀의 형태로 형성되는 것으로 도시하고 있다. 3, a plurality of
도 4에 도시된 바와 같이, 복수의 제 1분사노즐(251a) 및 복수의 제 2분사노즐(252a)은 개별 관 형태로 마련되고, 분기되는 제 2공급관(243)에 각각 연결될 수 있다. 이때, 분기된 제 2공급관(243)은 브라켓(253)에 형성되는 복수의 관통공(253a)을 관통하여 복수의 제 1분사노즐(251a) 및 복수의 제 2분사노즐(252a)에 연결될 수 있다.
As shown in FIG. 4, the plurality of
다시, 도 1을 참조하면, 공정챔버(110)의 내부에는 집진관(161) 및 집진판(162)이 설치될 수 있다. 집진관(161)은 제 1분사헤드(151)와 제 2분사헤드(152)의 상측, 제 2컨베이어(132)의 하측에 각각 설치될 수 있다. 집진관(161)은 제 1분사헤드(151)와 제 2분사헤드(152)의 상측으로 개방되는 관 형태, 제 2컨베이어(132)를 향해 개방되는 관 형태로 마련되어 액상원료가 분사될 때, 액상원료의 분사 압력에 따라 비산되는 이물질을 집진하여 공정챔버(110) 외부로 배출되도록 한다. 집진판(162)은 집진관(161)의 개방단부 주변에 설치되어 이물질을 집진관(161)으로 안내한다.Referring again to FIG. 1, a
또한, 공정챔버(110)의 내부에는 폐액 용기(171)가 설치될 수 있다. 폐액 용기(171)는 공정챔버(110) 내부 하부에 설치되어 평탄층(2) 형성에 사용되고 공정챔버(110) 내부에 잔류하는 폐액이 수용된다. 폐액 용기(171)는 일측으로 경사진 바닥면을 가진다. 폐액 용기(171)의 일측에는 폐액 배출관(172)이 연결된다. 폐액 배출관(172)은 폐액 용기(171)에 수용되는 폐액이 공정챔버(110) 외부로 배출되도록 한다.In addition, a
제 1경화부(180)는 공정챔버(110) 내부에 설치되어 평탄층(2)을 경화시킨다. 평탄층(2)이 광 경화성 수지로 이루어질 경우, 제 1경화부(180)는 평탄층(2)으로 광을 조하하는 광원을 포함할 수 있으며, 평탄층(2)이 열 경화성 수지로 이루어질 경우, 제 1경화부(180)는 평탄층(2)으로 열을 조사하는 열원을 포함할 수 있다. The
이때, 제 1경화부(180)와 분사부(150)의 사이에는 격벽(190)이 설치될 수 있다. 격벽(190)은 제 1경화부(180)에서 발생되는 광, 또는 열이 분사부(150)로 향하는 것을 차단한다. 그리고 격벽(190)의 내부에는 냉매가 공급되어 순환되는 냉매순환로(191)가 형성될 수 있다.At this time, a
또한, 공정챔버(110)의 외부에는 경화챔버(210)가 배치될 수 있다. 경화챔버(210)의 내부에는 경화부(220)가 설치될 수 있다. 제 2경화부(220)는 공정챔버(110)의 내부에서 경화된 평탄층(2)을 한번 더 가열하여 평탄층(2)의 표면을 강화시킨다. 제 2경화부(220)로는 평탄층(2)을 제 1경화부(180)에 비해 고온(예를 들어, 200~800도)의 온도로 가열시킬 수 있는, 적외선(IR; Infra-Red) 램프, 또는 근적외선(NIR;Near Infra-Red) 램프 등을 사용할 수 있다. 이에 따라, 제 3컨베이어(133)는 경화챔버(210)의 내부에 배치될 수 있으며, 유리기판 이송부(130)는 경화챔버(210)의 외부에 배치되어 유리기판(1)을 경화챔버(210)의 외부로 배출시키는 제 4컨베이어(134)를 더 포함할 수 있다. In addition, a hardening
도 1 및 도 2에서, 평탄면 형성장치(100)는 공정챔버(110)와 경화챔버(210)가 서로 인접하여 유리기판 이송부(130)는 유리기판(1)이 연속적으로 이송되는 인라인(In-Line) 방식으로 도시하고 있다. 하지만, 이러한 공정챔버(110)와 경화챔버(210)의 배치를 본 발명의 권리범위를 한정하는 것으로 이해되서는 아니되며, 평탄면 형성장치(100)는 공정챔버(110)로부터 경화챔버(210)로 유리기판(1)을 이송하는 별도의 이송로봇(미도시)를 더 포함하는 오프라인 배치(Off-Line Batch) 방식으로 변형실시 될 수 있다.
1 and 2, the flat
이하, 본 실시예에 따른 유리기판의 평탄형 형성방법에 대해 상세히 설명하도록 한다.Hereinafter, a method of forming a flat shape of the glass substrate according to the present embodiment will be described in detail.
도 6은 본 실시예에 따른 유리기판의 평탄면 형성방법을 나타낸 순서도이며, 도 7은 본 실시예에 따른 유리기판의 평탄면 형성장치에서 유리기판이 챔버 내부로 반입되는 상태를 나타낸 도면이다. FIG. 6 is a flowchart showing a method of forming a flat surface of a glass substrate according to the present embodiment, and FIG. 7 is a view showing a state in which a glass substrate is brought into a chamber in the flat surface forming apparatus according to the present embodiment.
도 6 및 도 7을 참조하면, 압력조절펌프(112)에 의해 공정챔버(110) 내부의 배기가 수행되고, 에어커튼 형성부(120)에 의해 입구(113) 및 출구(114)에 에어커튼이 형성되는 공정환경이 조성된다. 따라서 공정챔버(110) 내부는 일정 압력이 유지되고, 청정도가 유지될 수 있다. 6 and 7, the inside of the
이와 같이 공정환경이 조성되면, 유리기판(1)은 캐리어(10)에 지지되어 제 1컨베이어(131)로 공급된다. 제 1컨베이어(131)는 유리기판(1)을 공정챔버(110) 내부로 이송한다. 이때, 입구측 에어노즐(121)로부터 에어가 분사됨에 따라 유리기판(1)의 표면에 남아있는 이물질이 제거될 수 있다. (단계;S11)When the process environment is thus formed, the
도 8은 본 실시예에 따른 유리기판의 평탄면 형성장치에서 유리기판에 평탄층이 형성되는 상태를 나타낸 도면이다. 8 is a view showing a state where a flat layer is formed on a glass substrate in the flat surface forming apparatus of the glass substrate according to the present embodiment.
도 6 및 도 8을 참조하면, 제 2컨베이어(132)는 유리기판(1)을 공정챔버(110) 내부에서 출구(114)를 향해 이송한다.6 and 8, the
한편, 액상원료는 제 1공급관(142)을 따라 원료 탱크(141)에 수용되고, 제 2공급관(143)을 따라 제 1분사헤드(151) 및 제 2분사헤드(152)로 공급된다. 이때, 적어도 하나의 필터(145)는 액상원료를 필터링하고, 유량조절밸브(146)는 제 1분사헤드(151)와 제 2분사헤드(152)로 공급되는 액상원료의 유량을 조절한다. 따라서 액상원료는 순도가 확보되어 정량으로 공급될 수 있다. The liquid raw material is accommodated in the
이와 같이 제 1분사헤드(151)와 제 2분사헤드(152)로 공급되는 액상원료는 복수의 제 1분사노즐(151a)과 복수의 제 2분사노즐(152a)을 통해 유리기판(1)으로 분사된다. 즉, 액상원료는 복수의 제 1입사영역(151b)으로 입사된다. 그리고 유리기판(1)이 출구(114)를 향해 이송됨에 따라, 액상원료는 복수의 제 2사영역(152)으로 입사된다. The liquid raw material supplied to the
다시 말해, 액상원료는 복수의 제 1입사영역(151b)과, 복수의 제 1입사영역(151b)의 사이로 입시되고 복수의 제 1입사영역(151b)에 일부 중첩되는 복수의 제 2사영역(152)으로 입사됨에 따라 유리기판(1)의 전면적에 대하여 균일한 분포로 분사될 수 있다. 따라서 평탄층(2)은 균일한 두께로 유리기판(1)에 증착될 수 있다. In other words, the liquid raw material has a plurality of
한편, 액상원료가 분사됨에 따라 액상원료의 공급 압력이 발생되고, 이에 따른 이물질이 비산될 수 있다. 이때, 이물질은 집진판에 의해 집진관으로 안내된다. 이물질은 집진관을 따라 챔버 외부로 배출된다. 또한, 평탄층(2)이 형성되고 남은 폐액은 폐액 용기(171)에 수용된다. 폐액 용기에 수용되는 페액은 폐액 배출관을 따라 공정챔버(110) 외부로 배출된다. (단계;S12)On the other hand, as the liquid raw material is injected, the supply pressure of the liquid raw material is generated, and thus the foreign matter may be scattered. At this time, the foreign matter is guided to the dust collecting tube by the dust collecting plate. The foreign matter is discharged to the outside of the chamber along the dust collecting pipe. In addition, the
도 9는 본 실시예에 따른 유리기판의 평탄면 형성장치에서 평탄층이 경화되는 상태를 나타낸 도면이다.9 is a view showing a state where the flat layer is cured in the flat surface forming apparatus of the glass substrate according to the present embodiment.
도 6 및 도 9를 참조하면, 유리기판(1)은 출구(114)를 향해 이송된다. 이때, 평탄층(2)은 제 1경화부(180)에 의해 경화된다. Referring to Figs. 6 and 9, the
즉, 평탄층(2)이 광 경화성 수지로 이루어지는 경우, 평탄층(2)으로 광이 조사되며, 평탄층(2)이 열 경화성 수지로 이루어지는 경우, 평탄층(2)으로 열이 조사된다. 이와 같이 평탄층(2)이 경화됨으로써, 평탄층(2)은 유리기판(1)에 견고하게 결합될 수 있다. (단계;S13)That is, when the
도 10은 본 실시예에 따른 유리기판의 평탄면 형성장치에서 유리기판이 경화챔버의 내부에서 평탄층이 경화되는 상태를 나타낸 도면이다.10 is a view showing a state where the glass substrate is cured in the inside of the curing chamber in the flat surface forming apparatus of the glass substrate according to the present embodiment.
도 5 및 10을 참조하면, 유리기판(1)은 출구(114)를 통해 제 3컨베이어(133)로 전달되고, 제 3컨베이어(133)는 유리기판(1)을 공정챔버(110)의 외부로 배출한다. 5 and 10, the
공정챔버(110)의 외부로 배출되는 유리기판(1)은 경화챔버(210)의 내부로 반입된다. 제 3컨베이어(133)는 경화챔버(210)의 출구를 향해 유리기판(1)을 이송하며, 제 2경화부(220)는 평탄층(2)을 가열하여 평탄층()의 표면을 강화시킨다. (단계;S14)The
이와 같이 평탄층(2)이 강화된 유리기판(1)은 제 4컨베이어(134)로 전달되고, 제 4컨베이어(134)는 유리기판(1)을 경화챔버(210)의 외부로 배출시킨다.
The
상술된 바와 같이, 본 실시예에 따른 유리기판의 형성장치 및 방법은 유리기판(1)을 직접 연마하지 않고, 유리기판(1)에 평탄층(2)을 형성함으로써, 유리기판(1)에 평탄면이 형성되도록 한다.
As described above, the apparatus and method for forming a glass substrate according to the present embodiment can form a
앞에서 설명되고, 도면에 도시된 본 발명의 실시예는 본 발명의 기술적 사상을 한정하는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 발명의 보호범위는 청구범위에 기재된 사항에 의하여만 제한되고, 본 발명의 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상을 다양한 형태로 개량 변경하는 것이 가능하다. 따라서 이러한 개량 및 변경은 통상의 지식을 가진 자에게 자명한 것인 한 본 발명의 보호 범위에 속하게 될 것이다.
The embodiments of the present invention described above and shown in the drawings should not be construed as limiting the technical idea of the present invention. The scope of protection of the present invention is limited only by the matters described in the claims, and those skilled in the art will be able to modify the technical idea of the present invention in various forms. Accordingly, such improvements and modifications will fall within the scope of the present invention as long as they are obvious to those skilled in the art.
1 : 유리기판 2 : 평탄층
10 : 캐리어 100 : 유리기판의 평탄면 형성장치
110 : 공정챔버 120 : 에어커튼 형성부
130 : 유리기판 이송부 140 : 원료 공급부
150 : 분사부 151 : 제 1분사헤드
151a : 제 1분사노즐 151b : 제 1입사영역
152 : 제 2분사헤드 152a : 제 2분사노즐
152b : 제 2입사영역 161 : 집진관
162 : 집진판 171 : 페액 용기
172 : 폐액 배출관 180 : 제 1경화부
210 : 경화챔버 220 : 제 2경화부 1: glass substrate 2: flat layer
10: Carrier 100: Planar surface forming apparatus of glass substrate
110: process chamber 120: air curtain forming part
130: Glass substrate transferring part 140:
150: jetting section 151: first jetting head
151a:
152:
152b: second incidence area 161: dust collecting tube
162: collecting plate 171:
172: waste liquid discharge pipe 180: first hardening unit
210: hardening chamber 220: second hardening part
Claims (23)
상기 유리기판 이송부에 의해 이송되는 상기 유리기판으로 액상원료를 분사하여 상기 유리기판에 평탄층을 형성하는 분사부;
상기 분사부로 상기 액상원료를 공급하는 원료 공급부;
내부에 상기 분사부가 설치되고, 상기 유리기판이 반입되는 입구와, 상기 유리기판이 반출되는 출구가 형성되는 공정챔버;
상기 공정챔버 내부에 연통되는 연통관;및
배기관에 연결되어 상기 공정챔버 내부의 압력을 조절하는 압력조절펌프;를 포함하는 것을 특징으로 하는 유리기판의 평탄면 형성장치.A glass substrate transferring unit for transferring the glass substrate;
A jetting part for jetting a liquid raw material onto the glass substrate conveyed by the glass substrate transfer part to form a flat layer on the glass substrate;
A raw material supply part for supplying the liquid raw material to the spray part;
A process chamber in which the injection unit is installed and in which an inlet through which the glass substrate is carried and an outlet through which the glass substrate is taken out are formed;
A communication pipe communicating with the inside of the process chamber;
And a pressure regulating pump connected to the exhaust pipe and regulating the pressure inside the process chamber.
상기 유리기판 이송부는
상기 입구의 외측에 배치되어 상기 유리기판을 상기 공정챔버 내부로 반입시키는 제 1컨베이어;
상기 공정챔버 내부에 배치되어 상기 유리기판을 상기 출구로 이송하는 제 2컨베이어;및
상기 출구의 외측에 배치되어 상기 유리기판을 상기 공정챔버 외부로 반출시키는 제 3컨베이어;를 포함하는 것을 특징으로 하는 유리기판의 평탄면 형성장치.The method according to claim 1,
The glass substrate transfer part
A first conveyor disposed outside of said inlet for conveying said glass substrate into said process chamber;
A second conveyor disposed within the process chamber to transfer the glass substrate to the outlet;
And a third conveyor disposed outside the outlet for conveying the glass substrate to the outside of the process chamber.
상기 입구 및 상기 출구에 각각 설치되어 상기 유리기판이 이송되는 방향에 교차되는 방향으로 에어를 분사하는 에어커튼 형성부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유리기판의 평탄면 형성장치. 3. The method of claim 2,
Further comprising an air curtain forming unit installed at the inlet and the outlet to inject air in a direction crossing the direction in which the glass substrate is conveyed.
상기 입구를 향해 개방되어 상기 에어를 분사하는 입구측 에어노즐;
상기 입구측 에어노즐에 대향되어 상기 에어가 배기되는 입구측 배기관;
상기 출구를 향해 개방되어 상기 에어를 분사하는 출구측 에어노즐;및
상기 출구측 에어노즐에 대향되어 상기 에어가 배기되는 출구측 배기관;을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유리기판의 평탄면 형성장치.The airbag apparatus according to claim 4, wherein the air curtain forming portion
An inlet side air nozzle which opens toward the inlet and injects the air;
An inlet-side exhaust pipe opposed to the inlet-side air nozzle to exhaust the air;
An outlet-side air nozzle which opens toward the outlet and injects the air;
And an outlet-side exhaust pipe opposed to the outlet-side air nozzle and through which the air is exhausted.
상기 공정챔버의 외부에 배치되는 경화챔버;및
상기 경화챔버의 내부에 설치되어 상기 평탄층의 표면이 강화되도록 상기 제 1경화부에 의해 경화된 상기 평탄층을 경화시키는 제 2경화부;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유리기판의 평탄면 형성장치.The method according to claim 6,
A curing chamber disposed outside the process chamber;
And a second hardening unit provided inside the hardening chamber for hardening the flat layer hardened by the first hardening unit so as to strengthen the surface of the flat layer, Device.
상기 제 2경화부는 상기 평탄층을 200~800도의 사이의 온도로 상기 평탄층을 가열하는 것을 특징으로 하는 유리기판의 평탄면 형성장치.10. The method of claim 9,
Wherein the second hardening unit heats the flat layer at a temperature between 200 and 800 degrees.
상기 유리기판이 이송되는 방향에 교차되는 방향으로 서로 이격되는 복수의 제 1입사영역으로 상기 액상원료를 분사하는 복수의 제 1분사노즐;및
상기 복수의 제 1입사영역의 사이로 입사되고 상기 복수의 제 1입사영역에 일부 중첩되는 복수의 제 2입사영역으로 상기 액상원료를 분사하는 복수의 제 2분사노즐;을 포함하는 것을 특징으로 하는 유리기판의 평탄면 형성장치.2. The apparatus as claimed in claim 1,
A plurality of first injection nozzles for spraying the liquid raw material to a plurality of first incident regions spaced from each other in a direction crossing the direction in which the glass substrate is conveyed;
And a plurality of second injection nozzles which are injected between the plurality of first incidence regions and inject the liquid source material into a plurality of second incidence regions partially overlapping the plurality of first incidence regions A flat surface forming apparatus for a substrate.
상기 복수의 제 1분사노즐과 상기 복수의 제 2분사노즐을 함께 지지하는 브라켓;및
상기 브라켓을 지지하고 상기 브라켓을 승강시키는 승강유닛;을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유리기판의 평탄면 형성장치.12. The apparatus of claim 11, wherein the injector
A bracket for supporting the plurality of first injection nozzles and the plurality of second injection nozzles together;
And an elevating unit for supporting the bracket and raising and lowering the bracket.
상기 액상원료가 수용되는 원료 탱크;
상기 원료 탱크로 상기 액상원료를 공급하는 제 1공급관;
상기 원료 탱크에 연결되고 상기 복수의 제 1분사노즐과 상기 복수의 제 2분사노즐로 분기되어 상기 액상원료가 상기 복수의 제 1분사노즐과 상기 복수의 제 2분사노즐로 공급되도록 하는 제 2공급관;및
상기 제 2공급관의 관로에 설치되어 상기 액상원료의 공급 압력을 형성하는 원료공급펌프;를 포함하는 것을 특징으로 하는 유리기판의 평탄면 형성장치.12. The process cartridge according to claim 11, wherein the raw material supply portion
A raw material tank in which the liquid raw material is accommodated;
A first supply pipe for supplying the liquid raw material to the raw material tank;
A second supply pipe connected to the raw material tank and branched to the plurality of first injection nozzles and the plurality of second injection nozzles to supply the liquid raw material to the plurality of first injection nozzles and the plurality of second injection nozzles, ; And
And a raw material supply pump installed at a channel of the second supply pipe to form a supply pressure of the liquid raw material.
상기 제 2공급관의 관로에 설치되어 상기 액상원료를 필터링 하는 적어도 하나의 필터를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유리기판의 평탄면 형성장치. 14. The process according to claim 13, wherein the raw material supply portion
Further comprising at least one filter installed in a channel of the second supply pipe to filter the liquid raw material.
상기 제 2공급관의 관로에 설치되어 상기 액상원료의 유량을 조절하는 유량조절밸브를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유리기판의 평탄면 형성장치.14. The process according to claim 13, wherein the raw material supply portion
Further comprising a flow rate control valve installed in a channel of the second supply pipe to adjust a flow rate of the liquid raw material.
상기 공정챔버의 내부에 배치되고 상기 분사부와 상기 유리기판 이송부의 주변부에 개방되어 상기 공정챔버 내부의 이물질이 상기 공정챔버의 외부로 배출되도록 하는 집진관;및
상기 공정챔버 내부의 이물질을 상기 집진관으로 안내하는 집진판;을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유리기판의 평탄면 형성장치. The method according to claim 1,
A dust collecting pipe disposed inside the process chamber and opened to the peripheral portion of the jetting portion and the glass substrate transferring portion so that foreign substances in the process chamber are discharged to the outside of the process chamber;
And a dust collecting plate for guiding a foreign substance in the process chamber to the dust collecting tube.
상기 공정챔버 내부의 하부에 배치되고 상기 평탄층 형성에 사용되고 남은 폐액이 수용되는 폐액 용기;및
상기 폐액 용기에 연결되고 상기 공정챔버의 외부로 연장되어 상기 폐액이 공정챔버의 외부로 배출되도록 하는 페액 배출관;을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유리기판의 평탄면 형성장치. The method according to claim 1,
A waste liquid container disposed at a lower portion of the inside of the process chamber and used for forming the flat layer,
And a liquid discharge pipe connected to the waste liquid container and extending to the outside of the process chamber to discharge the waste liquid to the outside of the process chamber.
상기 공정챔버 내부에서 이송되는 상기 유리기판으로 액상원료가 분사되어 상기 유리기판에 평탄층이 형성되는 평탄층 형성단계;
상기 공정챔버 내부에서 상기 평탄층이 경화되는 제 1평탄층 경화단계;
상기 유리기판이 상기 공정챔버 외부로 반출되는 반출단계;및
상기 반출단계 이후에 상기 평탄층의 표면 강화를 위해 상기 평탄층을 경화하는 제 2평탄층 경화단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 유리기판의 평탄면 형성방법.A carrying-in step in which the glass substrate is carried into the processing chamber;
Forming a flat layer on the glass substrate by spraying a liquid raw material onto the glass substrate transferred in the process chamber;
A first flat layer hardening step in which the flat layer is cured within the process chamber;
A carrying-out step in which the glass substrate is taken out of the process chamber;
And a second flat layer curing step of curing the flat layer to strengthen the surface of the flat layer after the carrying out step.
상기 액상원료가 원료 탱크로 공급되는 제 1공급단계;
상기 액상원료가 상기 원료 탱크로부터 상기 공정챔버 내부로 공급되는 제 2공급단계;및
상기 액상원료가 상기 공정챔버의 내부에 배치되는 제 1분사헤드와 제 2분사헤드에 의해 분사되는 분사단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 유리기판의 평탄면 형성방법.19. The method of claim 18, wherein the planarizing layer forming step
A first supply step of supplying the liquid raw material to the raw material tank;
A second supplying step in which the liquid raw material is supplied from the raw material tank into the process chamber;
And a jetting step of jetting the liquid raw material by a first jet head and a second jet head disposed inside the process chamber.
상기 액상원료가 필터링되는 필터링 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유리기판의 평탄면 형성방법.20. The method of claim 19, wherein the planarizing layer forming step
And filtering the liquid source material to form a flat surface of the glass substrate.
상기 액상원료의 유량이 조절되는 유량 조절단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유리기판의 평탄면 형성방법. 20. The method of claim 19, wherein the planarizing layer forming step
And adjusting a flow rate of the liquid raw material to adjust the flow rate of the liquid raw material.
상기 유리기판이 이송되는 방향에 교차되는 방향으로 서로 이격되는 복수의 제 1입사영역으로 상기 액상원료가 분사되는 제 1분사단계;및
상기 복수의 제 1입사영역의 사이로 입사되고 상기 복수의 제 1입사영역에 일부 중첩되는 복수의 제 2입사영역으로 상기 액상원료가 분사되는 제 2분사단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 유리기판의 평탄면 형성방법. 20. The method according to claim 19,
A first injection step in which the liquid raw material is injected into a plurality of first incident areas spaced from each other in a direction crossing the direction in which the glass substrate is conveyed;
And a second injection step of injecting the liquid raw material into a plurality of second incident areas incident on the plurality of first incident areas and partially overlapping the plurality of first incident areas Flat surface forming method.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020120055229A KR101574831B1 (en) | 2012-05-24 | 2012-05-24 | Apparatus and method for forming flatness of glass substrate using the same |
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20130131576A KR20130131576A (en) | 2013-12-04 |
KR101574831B1 true KR101574831B1 (en) | 2015-12-04 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
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Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR101574831B1 (en) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100402901B1 (en) | 2001-06-07 | 2003-10-22 | 주식회사 디엠에스 | Multi functional cleaning module of manufacturing apparatus for liquid crystal display device and Cleaning apparatus using the same |
JP2008179519A (en) | 2007-01-25 | 2008-08-07 | Tescom:Kk | Reducing and flattening method for glass panel and reducing and flattening apparatus for glass panel |
KR101111245B1 (en) | 2009-10-23 | 2012-02-20 | (주) 유니티엔씨 | Apparatus for coating glass panel |
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---|---|
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