KR101574645B1 - Continuous cleaning apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은, 연속 세정 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 반도체 제조 공정에 사용되는 부품을 세정할 수 있는 연속 세정 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a continuous cleaning apparatus, and more particularly, to a continuous cleaning apparatus capable of cleaning components used in a semiconductor manufacturing process.
일반적으로 반도체는 산화 공정, 포토 공정, 식각 공정 및 세정 공정 등과 같은 여러 공정을 거쳐 제조된다. 이 중에서 포토 공정은 웨이퍼에 감광액을 형성한 후 노광 및 현상 공정을 거쳐 수행된다. 식각 공정은 포토 공정에서 형성되는 감광액 보호막으로 가려지지 않은 막질을 제거하는 공정으로서 식각 반응을 일으키는 물질의 상태에 따라 습식과 건식으로 나누어질 수 있다. 세정 공정은 식각 공정 이후 기판에 잔류하는 불순물을 제거하는 공정이다.In general, semiconductors are manufactured through various processes such as an oxidation process, a photolithography process, an etching process, and a cleaning process. Among them, the photolithography process is performed by forming a photosensitive liquid on a wafer, and then performing exposure and development processes. The etching process is a process of removing a film that is not covered with a photoresist protective film formed in a photolithography process, and can be divided into a wet process and a dry process depending on the state of the substance causing the etching reaction. The cleaning process is a process for removing impurities remaining on the substrate after the etching process.
웨이퍼 상에 산화막을 형성하는 산화 공정은 반도체 제조 공정의 기초 단계로서 웨이퍼에 여러 가지 물질로 얇은 막을 증착하는 것으로서, 고온에서 산소나 수증기를 웨이퍼 표면에 분사하여 얇고 균일한 실리콘 산화막(SiO₂)을 형성시키는 공정이다. 이와 같이 형성되는 산화막은 제조 공정 시 발생하는 오염 물질이나 화학 물질로 생성되는 불순물로부터 실리콘 표면을 보호하는 역할을 한다. 이때 일반적으로 웨이퍼에 분사 가스를 분사하는 노즐은 석영 재질로 이루어진다. Oxidation process for forming an oxide film on a wafer is a basic step of the semiconductor manufacturing process. A thin film is deposited on the wafer by various materials, and oxygen or water vapor is sprayed on the wafer surface at a high temperature to form a thin and uniform silicon oxide film . The oxide film thus formed serves to protect the silicon surface from contaminants generated during the manufacturing process or impurities generated by chemical substances. Generally, the nozzle for spraying the jetting gas onto the wafer is made of quartz.
또한, 박막 공정은 반도체가 원하는 전기적인 특성을 가지도록 하기 위하여 분자 또는 원자 단위의 물질을 쌓는 공정을 말하며, 웨이퍼 상에 매우 얇은 두께의 박막을 균일하게 증착시켜야 하므로 정교하고 세밀한 기술이 요구된다. 박막을 증착시키는 방법은 크게 물리적 기상 증착법(PVD, Physical Vapor Deposition)과 화학적 기상 증착법(CVD, Chemical Vapor Deposition)으로 나누어지는데, 특히 화학적 기상 증착법은 가스의 화학 반응으로 형성된 입자들을 외부 에너지가 부여된 수증기 형태로 쏘아 증착시키는 방법으로 도체, 부도체, 반도체의 박막 증착에 모두 사용될 수 있는 등의 장점이 많으므로 현재 반도체 공정에서 주로 사용된다. 또한, 화학적 기상 증착법은 열 CVD, 플라즈마 CVD 및 광CVD 등으로 세분화 될 수 있는데, 이 중에서 플라즈마 CVD의 경우에 상대적으로 저온에서 형성이 가능하고 두께 균일도를 조절할 수 있으며 대량 처리가 가능하여 최근에 가장 많이 적용되고 있다..In addition, the thin film process refers to a process of stacking molecules or atomic units in order to make the semiconductor have a desired electrical characteristic, and a very thin and thin film must be uniformly deposited on the wafer. Particularly, a method of depositing a thin film is divided into physical vapor deposition (PVD) and chemical vapor deposition (CVD). Particularly, a chemical vapor deposition method is a method in which particles formed by a chemical reaction of a gas are supplied with external energy It can be used for deposition of conductor, non-conductor and semiconductor thin film by vapor deposition in the form of vapor, which is mainly used in semiconductor processing. In addition, the chemical vapor deposition method can be subdivided into thermal CVD, plasma CVD, and optical CVD. Of these, plasma CVD can be performed at a relatively low temperature, thickness uniformity can be controlled, A lot is applied ..
상기 여러 공정 중 특히 산화 공정 및 박막 공정에서 사용되는 챔버, 튜브, 보트 및 노즐 등의 부품은 내염 및 내화학성을 가지는 석영 재질로 이루어진다. Particularly, the chambers, tubes, boats and nozzles used in the oxidation process and the thin film process are made of a quartz material having a salt resistance and chemical resistance.
석영 부품은 웨이퍼와 직접 닿지는 않지만 공정 진행시에 증착용 가스 등에 노출되기 때문에 부품의 표면의 중금속, 폴리머 등의 오염 물질이 표면에 흡착되어 오염된다. 이러한 오염 물질은 반도체 제조 공정에서 불량을 유발할 수 있기 때문에 정기적으로 세척하여 오염 물질을 제거해야만 한다. The quartz part does not directly touch the wafer, but it is exposed to the vaporizing gas during the process, so contaminants such as heavy metals and polymers on the surface of the part are adsorbed on the surface and contaminated. Since these contaminants can cause defects in the semiconductor manufacturing process, they must be cleaned regularly to remove contaminants.
석영 부품의 세정은 세정액을 사용하여 이루어지며, 부품을 세정조의 세정액에 침지하거나, 또는 세정액을 부품에 분사하여 오염 물질을 제거할 수 있다.The quartz part is cleaned using a cleaning liquid, and the part can be dipped in the cleaning liquid of the cleaning tank, or the cleaning liquid can be sprayed on the part to remove the contaminant.
도 1은 종래의 기술에 따른 세정 장치를 나타내는 도면이다.1 is a view showing a cleaning device according to a conventional technique.
세정 목적에 따라 서로 다른 성분의 1차 세정액 및 2차 세정액이 사용되며, 1차 세정액이 담기는 제1 세정조(20), 2차 세정액이 담기는 제2 세정조(30) 및 초순수(Deionized water)가 담기는 린스조(40)가 구비된다. The first cleaning liquid and the second cleaning liquid of different components are used depending on the purpose of cleaning. The first cleaning
세정 대상인 세정 부품(10)은 작업자에 의해 바스켓(50)에 담기고, 바스켓(50)은 이송암에 의해 이송되어 제1 세정조(20)에 소정 시간 침지되며, 세정 부품(10)이 1차 세정액에 의해 세정된다. 1차 세정이 완료되면 바스켓(50)은 이송암에 의해 이송되어 제2 세정조(30)에 침지되고, 세정 부품(10)이 세정되고, 마지막으로 린스조(40)에 침지되어 초순수에 의해 세정된다. 즉, 세정 부품(10)이 제1 세정조(20), 제2 세정조(30) 및 린스조(40)에 순차적으로 이송되어 세정되는 것이다. The
하지만, 종래의 세정 장치에 따르면, 바스켓이 이송암에 고정되므로, 제1 세정조(20), 제2 세정조(30) 및 린스조(40)을 동시에 사용할 수 없는 문제점이 있다. 즉, 예를 들어 바스켓이 제1 세정조(20)에 위치하여 세정 작업이 진행되는 동안에는 제2 세정조(30) 및 린스조(40)는 사용되지 않고, 바스켓이 이동하여 제2 세정조(30)가 사용되는 동안에는 제1 세정조(20) 및 린스조(40)가 사용되지 않는다. 따라서, 작업 속도가 느리고, 작업 효율이 저하되는 문제점이 있다.However, according to the conventional cleaning apparatus, since the basket is fixed to the transfer arm, the
본 발명은 작업 속도를 높일 수 있고, 작업 효율을 향상시킬 수 있는 연속 세정 장치를 제공함에 목적이 있다.An object of the present invention is to provide a continuous cleaning device capable of increasing the working speed and improving the working efficiency.
본 발명에 따른 연속 세정 장치는, 하나 이상의 서로 다른 종류의 세정액을 이용하여 세정 대상물을 세정하기 위한 세정 장치에 있어서, 상기 세정액이 각각 저장되는 하나 이상의 세정조; 상기 세정 대상물을 담기 위한 바스켓; 및 상기 바스켓을 이송하기 위한 이송부를 포함하고, 상기 이송부는 상기 바스켓으로부터 분리될 수 있다.A continuous cleaning apparatus according to the present invention is a cleaning apparatus for cleaning an object to be cleaned by using at least one different kind of cleaning liquid, comprising: at least one cleaning tank in which the cleaning liquid is stored; A basket for containing the object to be cleaned; And a transfer unit for transferring the basket, wherein the transfer unit can be separated from the basket.
바람직하게는, 상기 이송부는 상기 바스켓에 연결되는 이송암을 포함하고, 상기 바스켓의 상부에는 수평 방향으로 지지바가 형성되며, 상기 지지바의 하부로부터 지지하기 위한 걸이바가 상기 이송암의 하부로부터 연장되어 형성될 수 있다.Preferably, the transfer portion includes a transfer arm connected to the basket, a support bar is formed horizontally at an upper portion of the basket, and a hook bar for supporting the support bar from the lower portion extends from the lower portion of the transfer arm .
바람직하게는, 상기 이송암의 전후 이동에 의해 상기 지지바가 상기 걸이바로부터 이탈 가능하도록 상기 걸이바의 일단은 개방될 수 있다.Preferably, one end of the hooking bar may be opened so that the support bar can be released from the hooking bar by the back and forth movement of the transfer arm.
바람직하게는, 상기 걸이바의 일단에는 상부를 향하여 소정 길이 연장되는 단턱이 형성될 수 있다.Preferably, one end of the hook bar may be formed with a step that extends a predetermined length toward the top.
바람직하게는, 상기 세정조는 상기 세정액을 담기 위한 내부 공간이 형성되어 상부가 개방될 수 있고, 상기 바스켓은 상기 세정조의 상부로부터 상기 세정조로 투입될 수 있다.Preferably, the cleaning tank may have an inner space formed therein for containing the cleaning liquid, and the basket may be introduced into the cleaning tank from above the cleaning tank.
바람직하게는, 상기 이송부와 상기 바스켓의 결합 및 분리에 의해 복수의 복수의 바스켓이 복수의 상기 세정조에 각각 투입되어 세정 작업이 동시에 행하여질 수 있다.Preferably, the plurality of baskets are respectively inserted into the plurality of cleaning tanks by the coupling and separation of the conveying portion and the basket, so that the cleaning operation can be performed at the same time.
본 발명에 따른 연속 세정 장치는, 각각의 세정조에서 세정 작업이 동시에 진행될 수 있으므로, 작업 속도를 높이고 작업 효율을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.The continuous cleaning apparatus according to the present invention has the effect of increasing the working speed and improving the working efficiency since the cleaning operation can be carried out simultaneously in each of the cleaning tanks.
도 1은 종래의 기술에 따른 세정 장치를 나타내는 도면,
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 연속 세정 장치를 나타내는 도면,
도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 연속 세정 장치의 이송암을 나타내는 도면,
도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 연속 세정 장치의 바스켓을 나타내는 도면, 및
도 5a 내지 도 5f는 본 발명의 일실시예에 따른 연속 세정 장치의 바스켓 이송을 나타내는 도면이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Fig. 1 shows a cleaning device according to the prior art,
2 shows a continuous cleaning apparatus according to one embodiment of the present invention,
3 is a view showing a transfer arm of a continuous cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention,
4 is a view of a basket of a continuous cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention, and Fig.
FIGS. 5A through 5F are views showing the basket transportation of the continuous cleaning apparatus according to the embodiment of the present invention. FIG.
이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다. 이에 앞서, 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다. 따라서, 본 명세서에 기재된 실시예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 가장 바람직한 일 실시예에 불과할 뿐이고 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다.
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. Prior to this, terms and words used in the present specification and claims should not be construed as limited to ordinary or dictionary terms, and the inventor should appropriately interpret the concepts of the terms appropriately It should be interpreted in accordance with the meaning and concept consistent with the technical idea of the present invention based on the principle that it can be defined. Therefore, the embodiments described in this specification and the configurations shown in the drawings are merely the most preferred embodiments of the present invention and do not represent all the technical ideas of the present invention. Therefore, It is to be understood that equivalents and modifications are possible.
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 연속 세정 장치를 나타내는 도면, 도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 연속 세정 장치의 이송암을 나타내는 도면 및 도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 연속 세정 장치의 바스켓을 나타내는 도면이다. FIG. 2 is a view showing a continuous cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention, FIG. 3 is a view showing a transfer arm of a continuous cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 1 is a view showing a basket of a continuous cleaning apparatus.
본 발명의 일실시예에 따른 연속 세정 장치는 제1 세정조(100), 제2 세정조(200), 제3 세정조(300) 및 제4 세정조(400)를 포함한다. The continuous cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention includes a
제1 세정조(100), 제2 세정조(200), 제3 세정조(300) 및 제4 세정조(400)는 상부가 개방된 형상을 가지고 나란히 배치된다. 제1 세정조(100)에는 1차 세정액이 저장되고, 제2 세정조(200)에는 2차 세정액이 저장되며, 제3 세정조(300)에는 3차 세정액이, 그리고, 제4 세정조(400)에는 4차 세정액이 저장되는데, 3차 세정액 및 4차 세정액은 일반적으로 물(Water)일 수 있으며, 특히 초순수(Deionized water)인 것이 바람직하다. The
이송부는 세정조들(100, 200, 300, 400)의 상부에 위치하는데, 이송부는 세정 부품(10)을 이송하여 세정조들(100, 200, 300, 400)로 공급하기 위한 것으로서 바스켓(500)(Basket) 및 이송암(600)을 포함한다. The transfer part is located above the
바스켓(500)에는 세정 부품(10)을 담기 위한 내부 공간이 형성되고, 바스켓(500)의 상부에는 바스켓(500)을 가로지르도록 지지바(510)가 형성된다.The
이송암(600)은 이송 수단(미도시)에 연결되는데, 이송 수단은 모터를 포함하고, 이송암(600)은 모터의 구동에 의해 상하 및 전후로 이송될 수 있다. 모터를 포함하는 이송 수단의 구성은 이미 널리 주지된 관용 기술에 불과하므로 더 이상의 설명은 생략하기로 한다.The
이송암(600)의 하부에는 후크부가 형성되는데, 본 발명의 일실시예에 따르면 이송암(600)의 하부가 걸이바(610)에 연결되어 후크부가 형성될 수 있다. 바스켓(500)의 지지바(510)는 이송암(600)의 걸이바(610)에 걸려 지지될 수 있고, 이송암(600)의 상하 및 전후 이동에 의해 바스켓(500)이 이송될 수 있다. 본 발명의 일실시예에 따르면 지지바(510)는 걸이바(610)에 의해 지지될 수 있으나 이에 한정된 것은 아니며, 후크 또는 갈퀴 등 지지바(510)를 지지할 수 있는 어떠한 수단이라도 가능하다. 한편, 후크부는 이송암(600)에 하나 또는 복수로 구성될 수 있으며, 본 발명의 일실시예에서는 바스켓(500)의 안정적인 이송을 위하여 두 개가 일렬로 구성되었다.
According to an embodiment of the present invention, a lower portion of the
도 5a 내지 도 5f는 본 발명의 일실시예에 따른 연속 세정 장치의 바스켓(500) 이송을 나타내는 도면으로서, 이송 과정은 다음과 같다.FIGS. 5A to 5F are diagrams illustrating the transportation of the
도 5a를 참조하면, 바스켓(500)이 지지되지 않은 상태로서 바스켓(500)의 이송을 위하여 이송암(600)이 바스켓(500)의 상부에 위치한다. Referring to FIG. 5A, in a state in which the
도 5b를 참조하면, 이송암(600)이 바스켓(500)을 향하여 하부로 이동한다.Referring to FIG. 5B, the
도 5c를 참조하면, 지지바(510)가 걸이바(610)에 걸릴 수 있도록 이송암(600)이 수평 이동한다. Referring to FIG. 5C, the
도 5d를 참조하면, 이송암(600)이 상부로 이동하고, 바스켓(500)은 지지바(510)가 걸이바(610)에 의해 지지되는 상태로 상부로 이송된다. 상부로 이송된 바스켓(500)은 이송암(600)의 수평 이동에 의해 소정 위치로 이송되고, 이송암(600)이 하부로 이동함에 따라 바스켓(500)이 하부로 이송된다.5D, the
도 5e를 참조하면, 소정 위치에 바스켓(500)이 안착된 후 이송암(600)이 수평 이동한다.Referring to FIG. 5E, after the
도 5f를 참조하면, 이송암(600)이 다음 작업을 위하여 상부로 이동한다.
Referring to FIG. 5F, the
본 발명의 일실시예에 따른 연속 세정 장치의 세정 과정은 다음과 같다.The cleaning process of the continuous cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention is as follows.
바스켓(500)에 세정 부품(10)이 투입되고, 바스켓(500)은 이송암(600)에 의해 제1 세정조(100)로 이송된다. 이송암(600)이 하강하여 바스켓(500)이 제1 세정조(100)에 투입되고, 바스켓(500)이 제1 세정조(100) 내부에 안착되면, 이송암(600)은 이동하여 바스켓(500)으로부터 이탈된다. 따라서, 세정 부품(10)은 제1 세정조(100) 내에서 1차 세정액에 침지되어 세정된다. The cleaning
소정 시간 경과 후 1차 세정이 완료되면, 바스켓(500)은 이송암(600)에 의해 제2 세정조(200)로 이송되어 투입된다. 바스켓(500)이 제2 세정조(200)에 투입 완료되면, 이송암(600)은 바스켓(500)으로부터 이탈하여 새로운 세정 부품(10)이 투입된 바스켓(500)으로 이동하고, 새로운 바스켓(500)은 이송암(600)에 의해 제1 세정조(100)로 투입된다. 따라서, 제1 세정조(100) 및 제2 세정조(200)에서 세정 부품이 동시에 세정된다. After the lapse of a predetermined time, when the first cleaning is completed, the
소정 시간 경우 후 제1 세정조(100) 및 제2 세정조(200)에서의 세정이 완료되면, 제2 세정조(200)의 바스켓(500)은 이송암(600)에 의해 제3 세정조(300)로 투입되고, 제1 세정조(100)의 바스켓(500)은 제2 세정조(200)로 투입되며, 새로운 세정 부품이 담긴 바스켓(500)은 제1 바스켓(500)으로 신규 투입된다. When the cleaning of the
또한, 소정 시간 경우 후 제1 세정조(100) 및 제2 세정조(200)에서의 세정이 완료되면, 제2 세정조(200)의 바스켓(500)은 이송암(600)에 의해 제4 세정조(400)로 투입되고, 제1 세정조(100)의 바스켓(500)은 제2 세정조(200)로 투입되며, 새로운 세정 부품이 담긴 바스켓(500)은 제1 바스켓(500)으로 신규 투입된다. When the cleaning is completed in the
따라서, 제1 세정조(100), 제2 세정조(200), 제3 세정조(300) 및 제4 세정조(400)에서 동시에 세정 작업이 진행될 수 있다. 제3 세정조(300)에서 최종 세정 작업이 종료된 세정 부품은 바스켓(500)과 함께 제3 세정조(300)로부터 배출되고, 제2 세정조(200)의 세정 부품은 제3 세정조(300)로 공급되며, 제1 세정조(100)의 세정 부품은 제2 세정조(200)로 공급된다. 또한, 새로운 세정 부품이 제1 세정조(100)로 공급된다. Therefore, the cleaning operation can be performed simultaneously in the
즉, 각각의 세정 작업을 거친 세정 부품은 다음 세정 위치로 연속적으로 이동될 수 있으므로, 각각의 세정조(100, 200, 300, 400)는 낭비되지 않고 지속적으로 세정 작업이 이루어질 수 있다.That is, since the cleaning parts having been subjected to the respective cleaning operations can be continuously moved to the next cleaning position, the cleaning
한편, 본 발명의 일실시예에서, 초순수에 의한 세정이 이루어지는 제3 세정조(300) 및 제4 세정조(400)가 2개 구성되는 이유는 각 세정 공정에 따른 세정 시간의 차이에 기인한 것으로서, 예를 들어 1차 세정액 및 2차 세정액에 의한 세정 소요 시간이 각각 10분이고, 초순수에 의한 세정 소요 시간이 각각 10분인 경우에, 초순수에 의한 세정이 종료되기 전에 2차 세정이 종료되므로 2차 세정이 종료된 세정 부품(10)이 다음 세정 단계로 투입되지 못하고 대기하여야 하므로 세정 작업이 적체되어 지연되는 문제점이 발생한다. In the embodiment of the present invention, the
따라서, 본 발명의 일실시예에서는 상기와 같은 공정 지연을 방지하기 위하여 초순수 처리되는 제3 세정조(300) 및 제4 세정조(400)가 두 개 구비된다. 또한, 각 세정 공정 시간에 따라 1차 세정액, 2차 세정액 및 초순수 각각의 처리를 위한 세정조의 개수가 조절될 수 있다. Therefore, in an embodiment of the present invention, two
한편, 1차 세정액, 2차 세정액 및 초순수에 의한 각 세정 공정 시간이 모두 동일한 경우에는 제1 세정액의 제1 세정조(100), 제2 세정액의 제2 세정조(200) 및 초순수의 제3 세정조(300)를 각각 하나씩 구비하여 적체 없이 연속적으로 처리할 수 있다.
On the other hand, when the cleaning times of the first cleaning liquid, the second cleaning liquid and the ultrapure water are all the same, the
바스켓(500)에 세정 부품(10)이 투입되고, 바스켓(500)은 이송암(600)에 의해 제1 세정조(100)로 이송된다. 이송암(600)이 하강하여 바스켓(500)이 제1 세정조(100)에 투입되고, 바스켓(500)이 제1 세정조(100) 내부에 안착되면, 이송암(600)은 이동하여 바스켓(500)으로부터 이탈된다. 따라서, 세정 부품(10)은 제1 세정조(100) 내에서 1차 세정액에 침지되어 세정된다. The cleaning
소정 시간 경과 후 1차 세정이 완료되면, 바스켓(500)은 이송암(600)에 의해 제2 세정조(200)로 이송되어 투입된다. 바스켓(500)이 제2 세정조(200)에 투입 완료되면, 이송암(600)은 바스켓(500)으로부터 이탈하여 새로운 세정 부품(10)이 투입된 바스켓(500)으로 이동하고, 새로운 바스켓(500)은 이송암(600)에 의해 제1 세정조(100)로 투입된다. 따라서, 제1 세정조(100) 및 제2 세정조(200)에서 세정 부품이 동시에 세정된다. After the lapse of a predetermined time, when the first cleaning is completed, the
소정 시간 경우 후 제1 세정조(100) 및 제2 세정조(200)에서의 세정이 완료되면, 제2 세정조(200)의 바스켓(500)은 이송암(600)에 의해 제3 세정조(300)로 투입되고, 제1 세정조(100)의 바스켓(500)은 제2 세정조(200)로 투입되며, 새로운 세정 부품이 담긴 바스켓(500)은 제1 바스켓(500)으로 신규 투입된다. 따라서, 제1 세정조(100), 제2 세정조(200) 및 제3 세정조(300)에서 동시에 세정 작업이 진행될 수 있다. 제3 세정조(300)에서 최종 세정 작업이 종료된 세정 부품은 바스켓(500)과 함께 제3 세정조(300)로부터 배출되고, 제2 세정조(200)의 세정 부품은 제3 세정조(300)로 공급되며, 제1 세정조(100)의 세정 부품은 제2 세정조(200)로 공급된다. 또한, 새로운 세정 부품이 제1 세정조(100)로 공급된다. When the cleaning of the
즉, 각각의 세정 작업을 거친 세정 부품은 다음 세정 위치로 연속적으로 이동될 수 있으므로, 각각의 세정조(100, 200, 300)는 낭비되지 않고 지속적으로 세정 작업이 이루어질 수 있다.
That is, since the cleaning parts having been subjected to the respective cleaning operations can be continuously moved to the next cleaning position, the cleaning
종래의 세정 장치에 따르면, 하나의 세정조에서 세정 작업이 진행되는 동안 다른 세정조에서는 세정 작업이 이루어질 수 없는 단점이 있다. 즉, 하나의 세정 부품의 세정 작업이 모두 완료된 후에 새로운 세정 부품이 투입되어 작업될 수 있으므로 한 번에 하나의 세정 부품만 처리될 수 있었다. 따라서, 작업 속도가 느리고, 작업 효율이 불량한 문제점이 있다. According to the conventional cleaning apparatus, there is a disadvantage that a cleaning operation can not be performed in another cleaning tank while the cleaning operation is proceeding in one cleaning tank. That is, only one cleaning component can be processed at a time since a new cleaning component can be put into operation after all the cleaning operation of one cleaning component is completed. Therefore, there is a problem that the working speed is slow and the working efficiency is poor.
하지만, 본 발명에 따르면, 모든 세정조에서 세정 작업이 동시에 이루어질 수 있으므로, 작업 속도 및 작업 효율이 획기적으로 향상될 수 있다. 예를 들어 세정조가 3개 구성되는 경우에 3개의 세정 부품이 동시에 처리될 수 있으므로, 작업 속도가 각각 대략 3배로 향상될 수 있고, 세정 조가 4개 구성되는 경우에 4개의 세정 부품이 동시에 처리될 수 있으므로, 작업 속도가 각각 대략 4배 향상될 수 있다.
However, according to the present invention, since the cleaning operation can be performed simultaneously in all the washing tanks, the working speed and the working efficiency can be remarkably improved. For example, when three cleaning parts are constituted of three cleaning parts, three cleaning parts can be processed at the same time, so that the working speed can be improved to about three times, respectively. In the case where four cleaning parts are constituted, So that the working speed can be improved by about four times, respectively.
이상과 같이, 본 발명은 비록 한정된 실시예와 도면에 의해 설명되었으나, 본 발명은 이것에 의해 한정되지 않으며 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 본 발명의 기술사상과 아래에 기재될 특허청구범위의 균등범위 내에서 다양한 수정 및 변형이 가능하다.
While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments. Various modifications and variations are possible within the scope of the appended claims.
100: 제1 세정조 200: 제2 세정조
300: 제3 세정조 400: 제4 세정조
500: 바스켓 510: 지지바
600: 이송암 610: 걸이바100: 1st washing bath 200: Second washing bath
300: Third washing bath 400: fourth washing bath
500: basket 510: support bar
600: transfer arm 610: hook bar
Claims (6)
상기 세정액이 각각 저장되는 복수의 세정조;
상기 세정 대상물을 담기 위한 복수의 바스켓; 및
상기 바스켓을 이송하기 위한 이송부
를 포함하고, 상기 이송부는,
상기 바스켓에 연결되는 이송암을 포함하며,
상기 이송부는 상기 바스켓으로부터 분리될 수 있고,
상기 바스켓의 상부에는 수평 방향으로 지지바가 형성되며,
상기 지지바의 하부로부터 지지하기 위한 걸이바가 상기 이송암의 하부로부터 연장되어 형성되고,
상기 이송암의 전후 이동에 의해 상기 지지바가 상기 걸이바로부터 이탈 가능하도록 상기 걸이바의 일단은 개방되며,
상기 걸이바의 일단에는 상부를 향하여 소정 길이 연장되는 단턱이 형성되는 것을 특징으로 하는 연속 세정 장치.
A cleaning apparatus for cleaning an object to be cleaned using at least one kind of cleaning liquid,
A plurality of cleaning tanks each storing the cleaning liquid;
A plurality of baskets for containing the objects to be cleaned; And
A transporting part for transporting the basket;
Wherein the transfer unit comprises:
And a transfer arm connected to the basket,
The transfer part can be separated from the basket,
A support bar is formed on an upper portion of the basket in a horizontal direction,
A hook bar for supporting the support bar from a lower portion thereof is formed extending from a lower portion of the transfer arm,
One end of the hook bar is opened so that the support bar can be released from the hook bar by the forward and backward movement of the transfer arm,
Wherein one end of the hooking bar is formed with a stepped portion extending toward the upper portion by a predetermined length.
상기 세정조는 상기 세정액을 담기 위한 내부 공간이 형성되어 상부가 개방될 수 있고, 상기 바스켓은 상기 세정조의 상부로부터 상기 세정조로 투입될 수 있는 것을 특징으로 하는 연속 세정 장치.
The method according to claim 1,
Wherein the cleaning tank has an inner space formed therein for containing the cleaning liquid, and the upper portion can be opened, and the basket can be introduced into the cleaning tank from above the cleaning tank.
상기 이송부와 상기 바스켓의 결합 및 분리에 의해 복수의 바스켓이 복수의 상기 세정조에 각각 투입되어 세정 작업이 동시에 행하여질 수 있는 것을 특징으로 하는 연속 세정 장치.The method according to claim 1,
Wherein the plurality of baskets are respectively inserted into the plurality of cleaning vessels by the coupling and separation of the conveying unit and the basket, so that the cleaning operation can be performed at the same time.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020140075112A KR101574645B1 (en) | 2014-06-19 | 2014-06-19 | Continuous cleaning apparatus |
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Publication Number | Publication Date |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101935392B1 (en) | 2018-04-23 | 2019-01-07 | 녹스 코리아(주) | Cleaning Apparatus For Sensor |
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KR100217322B1 (en) * | 1996-03-14 | 1999-09-01 | 윤종용 | A cleaning apparatus of catch cup in the semiconductor processing equipment |
JP2003053289A (en) | 2001-08-15 | 2003-02-25 | Nissan Chem Ind Ltd | Apparatus and method for continuous automatic cleaning of drug container |
JP2004066212A (en) * | 2002-06-11 | 2004-03-04 | Dan-Takuma Technologies Inc | Cleaning and drying apparatus |
-
2014
- 2014-06-19 KR KR1020140075112A patent/KR101574645B1/en active IP Right Grant
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