KR101573937B1

KR101573937B1 - Method for color filter of solid state imaging device color filter by the method and solid state imaging device including thereof

Info

Publication number: KR101573937B1
Application number: KR1020090060146A
Authority: KR
Inventors: 이상행; 김상태; 김성현
Original assignee: 동우 화인켐 주식회사
Priority date: 2009-07-02
Filing date: 2009-07-02
Publication date: 2015-12-03
Also published as: KR20110002605A; WO2011002252A3; WO2011002252A2

Abstract

본 발명은 초단파장 노광기를 이용한 고체 촬상 소자용 컬러 필터의 제조방법, 그 방법에 의해 제조된 컬러 필터 및 이를 포함하는 고체 촬상 소자에 관한 것으로서, 본 발명에 따르면 초단파장 노광기와 높은 개구수를 통해 안료분산형 착색 감광성 수지 조성물을 이용하여 초미세화된 착색 패턴이 구현된 컬러 필터를 제조할 수 있으며, 따라서 상기 제조방법에 의해 제조되는 컬러 필터는 고체 촬상 소자에 유용하게 적용될 수 있다.The present invention relates to a method of manufacturing a color filter for a solid-state imaging device using a microwave long exposure machine, a color filter manufactured by the method, and a solid-state imaging device including the same. It is possible to manufacture a color filter in which the ultrafine coloring pattern is implemented by using the pigment dispersion type color photosensitive resin composition. Therefore, the color filter manufactured by the above manufacturing method can be applied to a solid-state image pickup device.

초단파장 노광기, 컬러 필터, 고체 촬상 소자, 착색 패턴, 착색 감광성 수지 조성물 A microwave long exposure device, a color filter, a solid-state image pickup device, a coloring pattern, a colored photosensitive resin composition

Description

TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a color filter for a solid-state imaging device using a microwave long exposure device, a color filter manufactured by the method, and a solid-state imaging device including the same. device including thereof}

본 발명은 초단파장 노광기를 이용한 고체 촬상 소자용 컬러 필터의 제조방법, 그 방법에 의해 제조된 컬러 필터 및 이를 포함하는 고체 촬상 소자에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a color filter for a solid-state imaging device using a microwave long exposure device, a color filter manufactured by the method, and a solid-state imaging device including the same.

잘 알려진 바와 같이, 컬러 이미지를 구현하기 위한 촬상 소자는 외부로부터의 빛을 받아 광전하를 생성 및 축적하는 광감지부분 상부에 컬러 필터가 구비되어 있다. 상기 컬러 필터는 레드(Red), 그린(Green) 및 블루(Blue)의 3가지 컬러의 착색 패턴으로 이루어지거나, 옐로우(Yellow), 마젠타(Magenta) 및 시안(Cyan)의 3가지 컬러의 착색 패턴으로 이루어진다. As is well known, an image pickup device for implementing a color image is provided with a color filter above the photo-sensing portion that receives light from the outside and generates and accumulates photo-charges. The color filter may be formed of three color patterns of red, green, and blue, or may be formed of three color patterns of yellow, magenta, and cyan, Lt; / RTI >

상기 컬러필터 각각의 착색 패턴은 안료 또는 염료를 포함하는 착색 감광성 수지 조성물을 이용하여 형성된다. 상기 착색 감광성 수지 조성물을 이용한 착색 패턴 가공은 통상적으로 리소그래피 공정에서 통상 수행된다. 상기 착색 패턴 제조에 사용되는 리소그래피 공정용 광원의 파장은 일반적으로 g-선(파장 436nm)이나 i-선(파장 365nm) 파장이 사용된다. The coloring pattern of each of the color filters is formed using a colored photosensitive resin composition containing a pigment or a dye. The coloring pattern processing using the colored photosensitive resin composition is usually performed usually in a lithography process. The wavelength of the light source for the lithography process used for producing the coloring pattern is generally a wavelength of g-line (wavelength 436 nm) or i-line (wavelength 365 nm).

한편, 최근 들어 디지털카메라 등의 고체 촬상 소자는 고화소화 및 화질의 개선을 위해 화소 사이즈가 기존 4~5㎛에서 2㎛이하로 작아짐에 따라 착색 패턴의 초미세화와 정사각형의 착색 패턴이 요구되고 있다. 상기 요구를 해소하기 위해 염료를 포함하는 착색 감광성 수지 조성물을 이용하여 착색 패턴을 형성하거나, 미리 형성된 패턴에 염료를 착색시켜 책색 패턴을 형성시키는 등의 연구가 있어왔다. 그러나 염료는 내열성, 내광성등에 약하기 때문에 신뢰성에 있어서 문제가 발생되고 있다. 또한 기존의 착색 패턴 형성에 사용되는 공정용 광원의 파장인 463~365nm로는 구현할 수 있는 패턴의 사이즈가 한계 해상도에 도달했다고 할 수 있다. On the other hand, in recent years, solid-state image pickup devices such as digital cameras have been required to have ultra-fine coloring patterns and square coloring patterns as the pixel size is reduced from 4 to 5 mu m to 2 mu m or less in order to improve the image quality and image quality . In order to solve the above-mentioned problems, research has been conducted to form a coloring pattern using a colored photosensitive resin composition containing a dye, or to color a dye in a previously formed pattern to form a coloring pattern. However, since dyes are weak in heat resistance, light resistance and the like, there is a problem in reliability. In addition, it can be said that the size of a pattern that can be realized with a wavelength of 463 to 365 nm, which is a wavelength of a process light source used for forming an existing coloring pattern, reaches the limit resolution.

본 발명은 상기와 같은 종래기술의 문제점들을 해결하기 위한 것으로, 착색 감광성 수지 조성물을 이용하여 초미세화된 고해상도의 착색 패턴을 갖는 컬러 필터의 제조가 가능한 초단파장 노광기를 이용한 고체 촬상 소자용 컬러 필터의 제조방법을 제공하는데 그 목적이 있다. Disclosure of Invention Technical Problem [8] Accordingly, the present invention has been made keeping in mind the above problems occurring in the prior art, and an object of the present invention is to provide a color filter for a solid-state image sensor using a microwave long exposure device capable of producing a color filter having a high- And a manufacturing method thereof.

또한 본 발명은 초미세화된 고해상도의 착색 패턴을 갖는 컬러 필터를 제공 하는데 다른 목적이 있다. Another object of the present invention is to provide a color filter having an ultrafine and high-resolution coloring pattern.

또한 본 발명은 상기 컬러 필터를 포함하는 고체 촬상 소자를 제공하는데 또 다른 목적이 있다.Still another object of the present invention is to provide a solid-state image pickup device including the color filter.

상기 기술한 목적을 달성하기 위해 본 발명은, 300nm 이하의 초단파장에 반응하는 광중합개시제를 포함하는 착색 감광성 수지 조성물을 기판 상에 코팅하여 도막을 형성하는 도막형성단계와, 마스크를 이용하여 상기 도막의 착색 패턴이 형성될 영역에 0.6이상의 개구수를 갖는 초단파장 노광기로 300nm 이하의 초단파장 레이저를 조사하여 노광하는 노광단계; 및 상기 노광단계에서의 비노광된 도막 영역을 제거하여 착색 패턴을 형성하는 현상단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 초단파장 노광기를 이용한 컬러 필터 제조방법을 제공한다.In order to accomplish the above-mentioned object, the present invention provides a method for forming a coating film, comprising the steps of: forming a coating film on a substrate by coating a colored photosensitive resin composition containing a photopolymerization initiator that reacts with an ultra- A step of exposing an area to be formed with a coloring pattern of an ultraviolet laser beam having a numerical aperture of 0.6 or more with an ultraviolet laser beam having a wavelength of 300 nm or less; And a developing step of removing a non-exposed coating film area in the exposing step to form a coloring pattern. The present invention also provides a method of manufacturing a color filter using a microwave long exposure machine.

본 발명의 다른 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 상기 제조방법에 의해 제조되는 것을 특징으로 하는 컬러 필터를 제공한다. According to another aspect of the present invention, there is provided a color filter manufactured by the manufacturing method.

본 발명의 또 다른 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 상기 컬러 필터를 포함하는 것을 특징으로 하는 고체 촬상 소자를 제공한다. According to another aspect of the present invention, there is provided a solid-state imaging device including the color filter.

상기한 본 발명에 따른 고체 촬상 소자용 컬러 필터의 제조방법은 노광 과정에서 300nm 이하의 짧은 파장의 레이저와 0.6 이상의 높은 개구수를 갖는 노광기를 사용하여 낮은 한계 해상도로 미세한 착색 패턴을 구현할 수 있다. The method of manufacturing a color filter for a solid-state imaging device according to the present invention can realize a fine coloring pattern at a low limit resolution by using a laser having a short wavelength of 300 nm or less and an exposure apparatus having a high numerical aperture of 0.6 or more in the exposure process.

특히, 본 발명에 따른 고체 촬상 소자용 컬러 필터의 제조방법은 300nm 이하의 초단파장에서 반응하는 광중합 개시제를 포함하는 공지된 착색 감광성 수지 조성물을 사용하여 미세한 착색 패턴을 구현할 수 있어 별도의 착색 감광성 조성물을 제조하지 않아도 되는 장점이 있다.In particular, the method for producing a color filter for a solid-state imaging device according to the present invention can realize a fine coloring pattern using a known colored photosensitive resin composition containing a photopolymerization initiator that reacts in an ultra-violet field of 300 nm or less, There is an advantage in that it is not necessary to manufacture the semiconductor device.

이하에서는 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 구체적인 실시예를 들어 상세하게 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 고체 촬상 소자용 컬러 필터 제조방법의 공정을 나타낸 공정도이다.1 is a process diagram showing a process of a method of manufacturing a color filter for a solid-state imaging device according to an embodiment of the present invention.

본 발명에 따른 고체 촬상 소자용 컬러 필터 제조방법은 도막형성단계와 노광단계 및 현상단계를 포함하여 이루어진다. The method for manufacturing a color filter for a solid-state imaging device according to the present invention comprises a film forming step, an exposure step and a developing step.

도막형성단계(S1)The coating film forming step (S1)

상기 도막형성단계는 300nm 이하의 초단파장에 반응하는 광중합개시제를 포함하는 착색 감광성 수지 조성물을 기판 상에 코팅하여 도막을 형성하는 것이다. The coating film forming step forms a coating film by coating a substrate with a colored photosensitive resin composition containing a photopolymerization initiator that reacts with an ultra-violet field of 300 nm or less.

본 발명에 따른 착색 감광성 수지 조성물은 300nm 이하의 초단파장에 반응하는 광중합개시제를 포함하는 것이라면 제한 없이 사용할 수 있다. 따라서 공지의 착색 감광성 수지 조성물이 300nm 이하의 초단파장에서 반응하는 광중합 개시제를 포함하고 있다면 별도로 착색 감광성 조성물을 제조하지 않아도 된다. The colored photosensitive resin composition according to the present invention can be used without limitation as long as it contains a photopolymerization initiator that reacts with an ultraviolet field of 300 nm or less. Therefore, if the known colored photosensitive resin composition contains a photopolymerization initiator that reacts in an ultrahigh-frequency field of 300 nm or less, it is not necessary to separately prepare a colored photosensitive composition.

바람직하게는 상기 착색 감광성 수지 조성물은 착색제, 바인더수지, 광중합성 화합물, 300nm 이하의 초단파장에 반응하는 것을 포함하는 광중합개시제 및 용매를 포함하여 이루어진 것을 사용할 수 있다. 상기 착색 감광성 수지 조성물은 Red, Green, Blue 각 컬러별로 제조된다.Preferably, the colored photosensitive resin composition includes a colorant, a binder resin, a photopolymerizable compound, a photopolymerization initiator including a photopolymerization initiator that reacts with an ultraviolet field of 300 nm or less, and a solvent. The colored photosensitive resin composition is prepared for each color of Red, Green, and Blue.

상기 착색제는 유기 또는 무기 안료가 사용될 수 있으며, 바람직하게는 내열성 및 발생성을 고려하여 유기 안료가 사용될 수 있다. 안료 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. The coloring agent may be an organic or inorganic pigment, and preferably an organic pigment may be used in consideration of heat resistance and developability. The pigments may be used alone or in combination of two or more.

필요한 경우, 유기 안료는 로진 처리, 산성기 또는 염기성기가 도입되어 있는 안료 유도체를 사용하는 표면 처리, 중합체 화합물 등을 사용하는 안료의 표면에 대한 그라프트 처리, 황산 미세 입자화 방법 등에 의한 미세 입자화 처리, 또는 불순물을 제거하기 위해 유기 용제 또는 물 등에 의한 세정 처리를 실시할 수 있다. If necessary, the organic pigment may be subjected to roughening, surface treatment using a pigment derivative into which an acidic or basic group has been introduced, graft treatment on the surface of a pigment using a polymer compound or the like, microparticulation A cleaning treatment with an organic solvent or water or the like may be carried out in order to remove impurities.

상기 안료로서는 구체적으로 컬러 인덱스(The Society of Dyers and Colourists 출판)에서 피그먼트(pigment)로 분류되어 있는 화합물을 들 수 있다.상기 안료로는 구체적으로 컬러 인덱스(Color Index : The Society of Dyers and Colourists에 의해 출판됨)에서 안료로서 분류된 화합물을 사용할 수 있다. Specific examples of the pigment include compounds classified in the color index (published by The Society of Dyers and Colourists) as a pigment. Specifically, the pigment includes a color index (Color Index: The Society of Dyers and Colourists Lt; / RTI > (published by Wiley-Interscience, Inc.).

사용될 수 있는 안료의 구체적인 예로는, Specific examples of pigments that can be used include,

C.I. Pigment Yellow (안료 황색)1호, C.I. 안료 황색 12, C.I. 안료 황색 13호, C.I. 안료 황색 14호, C.I. 안료 황색 15호, C.I. 안료 황색 16호, C.I. 안료 황색 17호, C.I. 안료 황색 20호, C.I. 안료 황색 24호, C.I. 안료 황색 31호, C.I. 안료 황색 53호, C.I. 안료 황색 83호, C.I. 안료 황색 86호, C.I. 안료 황색 93호, C.I. 안료 황색 94호, C.I. 안료 황색 109호, C.I. 안료 황색 110호, C.I. 안료 황색 117호, C.I. 안료 황색 125호, C.I. 안료 황색 128호, C.I. 안료 황색 137호, C.I. 안료 황색 138호, C.I. 안료 황색 139호, C.I. 안료 황색 147호, C.I. 안료 황색 148호, C.I. 안료 황색 150호, C.I. 안료 황색 153호, C.I. 안료 황색 154호, C.I. 안료 황색 166호, C.I. 안료 황색 173호, C.I. Pigment Yellow (pigment yellow) No. 1, C.I. Pigment yellow 12, C.I. Pigment yellow No. 13, C.I. Pigment yellow No. 14, C.I. Pigment yellow No. 15, C.I. Pigment yellow No. 16, C.I. Pigment yellow No. 17, C.I. Pigment yellow No. 20, C.I. Pigment yellow No. 24, C.I. Pigment yellow No. 31, C.I. Pigment Yellow No. 53, C.I. Pigment Yellow 83, C.I. Pigment Yellow No. 86, C.I. Pigment yellow 93, C.I. Pigment Yellow 94, C.I. Pigment yellow No. 109, C.I. Pigment Yellow No. 110, C.I. Pigment yellow No. 117, C.I. Pigment Yellow No. 125, C.I. Pigment yellow No. 128, C.I. Pigment yellow No. 137, C.I. Pigment yellow 138, C.I. Pigment yellow No. 139, C.I. Pigment yellow No. 147, C.I. Pigment yellow No. 148, C.I. Pigment Yellow No. 150, C.I. Pigment yellow 153, C.I. Pigment yellow 154, C.I. Pigment yellow 166, C.I. Pigment yellow No. 173,

C.I. Pigment Orange (안료 오렌지색) 13호, C.I. 안료 오렌지색 31호, C.I. 안료 오렌지색 36호, C.I. 안료 오렌지색 38호, C.I. 안료 오렌지색 40호, C.I. 안료 오렌지색 42호, C.I. 안료 오렌지색 43호, C.I. 안료 오렌지색 51호, C.I. 안료 오렌지색 55호, C.I. 안료 오렌지색 59호, C.I. 안료 오렌지색 61호, C.I. 안료 오렌지색 64호, C.I. 안료 오렌지색 65호, C.I. 안료 오렌지색 71호, C.I. 안료 오렌지색 73호, C.I. Pigment Orange (Pigment Orange) No. 13, C.I. Pigment Orange No. 31, C.I. Pigment orange No. 36, C.I. Pigment Orange No. 38, C.I. Pigment orange No. 40, C.I. Pigment orange No. 42, C.I. Pigment orange No. 43, C.I. Pigment Orange No. 51, C.I. Pigment orange No. 55, C.I. Pigment Orange No. 59, C.I. Pigment Orange No. 61, C.I. Pigment orange No. 64, C.I. Pigment orange No. 65, C.I. Pigment orange No. 71, C.I. Pigment orange No. 73,

C.I. Pigment Red (안료 적색) 9호, C.I. 안료 적색 97호, C.I. 안료 적색 105호, C.I. 안료 적색 122호, C.I. 안료 적색 123호, C.I. 안료 적색 144호, C.I. 안료 적색 149호, C.I. 안료 적색 166호, C.I. 안료 적색 168호, C.I. 안료 적색 176호, C.I. 안료 적색 177호, C.I. 안료 적색 180호, C.I. 안료 적색 192호, C.I. 안료 적색 215호, C.I. 안료 적색 216호, C.I. 안료 적색 224호, C.I. 안료 적색 242호, C.I. 안료 적색 254호, C.I. 안료 적색 264호, C.I. 안료 적색 265호, C.I. Pigment Red (pigment red) No. 9, C.I. Pigment red No. 97, C.I. Pigment red No. 105, C.I. Pigment Red 122, C.I. Pigment Red 123, C.I. Pigment red No. 144, C.I. Pigment red No. 149, C.I. Pigment Red 166, C.I. Pigment Red No. 168, C.I. Pigment Red 176, C.I. Pigment Red 177, C.I. Pigment red No. 180, C.I. Pigment red No. 192, C.I. Pigment Red 215, C.I. Pigment Red 216, C.I. Pigment Red 224, C.I. Pigment Red 242, C.I. Pigment Red 254, C.I. Pigment Red No. 264, C.I. Pigment red No. 265,

C.I. Pigment Blue (안료 청색) 15호, C.I. 안료 청색 15:3호, C.I. 안료 청색 15:4호, C.I. 안료 청색 15:6호, C.I. 안료 청색 60호,C.I. C.I. Pigment Blue (Pigment Blue) No. 15, C.I. Pigment Blue 15: 3, C.I. Pigment Blue 15: 4, C.I. Pigment Blue 15: 6, C.I. Pigment Blue No. 60, C.I.

Pigment Violet (안료 자주색) 1호, C.I. 안료 자주색 19호, C.I. 안료 자주색 23호, C.I 안료 자주색 29호, C.I 안료 자주색 32호, C.I 안료 자주색 36호, C.I 안료 자주색 38호,Pigment Violet No. 1, C.I. Pigment purple No. 19, C.I. Pigment Purple No. 23, C.I Pigment Purple No. 29, C.I Pigment Purple No. 32, C.I Pigment Purple No. 36, C.I Pigment Purple No. 38,

C.I. Pigment Green (안료 녹색) 7호, C.I. 안료 녹색 36호, C.I. Pigment Green (Pigment Green) No. 7, C.I. Pigment green No. 36,

C.I. Pigment Brown (안료 갈색) 23호, C.I. 안료 갈색 25호 등을 들 수 있다.C.I. Pigment Brown 23, C.I. Pigment brown No. 25, and the like.

상기 착색제의 사용량은 착색 감광성 수지 조성물 중의 고형분에 대해서 중량 분율로 5중량% 내지 60중량%, 바람직하게는 10중량% 내지 50중량% 이다. 상기 착색제의 사용량이 상기의 기준으로 상기의 범위에 포함될 경우 컬러 필터가 제조되었을 때 착색 패턴의 컬러 농도가 충분하며, 기계적 강도가 충분한 착색 패턴을 형성할 수 있게 된다. The amount of the colorant to be used is 5% by weight to 60% by weight, preferably 10% by weight to 50% by weight based on the solid content in the colored photosensitive resin composition. When the amount of the colorant is included in the above range based on the above criteria, the color density of the coloring pattern is sufficient when the color filter is manufactured, and a coloring pattern having sufficient mechanical strength can be formed.

이때, 상기 착색제는 미리 용제와 혼합하여 착색제의 평균 입경이 0.2㎛ 이하가 될 때까지 비드 밀 등을 이용하여 분산시킨 분산액(이하 밀 베이스라고 하는 경우도 있음) 형태로 사용할 수 있다. 상기 분산액에는 분산과정에서 안료 분산제를 추가로 첨가하여 분산시키거나, 또한 바인더 수지의 일부 또는 전부를 배합하여 분산시킬 수 있다. At this time, the colorant may be used in the form of a dispersion (hereinafter sometimes referred to as a mill base) in which the colorant is mixed with a solvent in advance and dispersed using a bead mill or the like until the average particle diameter of the colorant is 0.2 탆 or less. In the dispersion, a pigment dispersant may be further added and dispersed in the dispersion process, or a part or all of the binder resin may be mixed and dispersed.

상기 분산액이 착색제와 용제로 이루어지는 경우 상기 착색제는 분산액 전체 100중량부에 대하여 보통 5 내지 60중량부, 바람직하게는 10중량부 내지 40중량 함유되는 것이 좋다. When the dispersion is composed of a colorant and a solvent, the colorant is preferably contained in an amount of usually 5 to 60 parts by weight, preferably 10 to 40 parts by weight based on 100 parts by weight of the entire dispersion.

또한 상기 분산액에 안료분산제가 추가로 첨가되는 경우 상기 안료 분산제로는, 예를 들면 폴리에스테르계 중합체 분산제, 아크릴계 중합체 분산제, 폴리우레탄계 중합체 분산제, 양이온계 계면활성제, 음이온계 계면활성제, 비이온계 계면활성제 등을 사용할 수 있으며, 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다. When a pigment dispersant is further added to the dispersion, examples of the pigment dispersant include a polyester-based polymer dispersant, an acrylic polymer dispersant, a polyurethane-based polymer dispersant, a cationic surfactant, an anionic surfactant, And the like. These may be used alone or in combination of two or more.

특히 상기 안료 분산제로는 시판되는 계면 활성제를 이용할 수 있고, 예를 상기의 계면 활성제로는, 폴리옥시에틸렌알킬에테르류, 폴리옥시에틸렌알킬페닐에테르류, 폴리에틸렌글리콜디에스테르류, 소르비탄지방산에스테르류, 지방산변성폴리에스테르류, 3급아민변성폴리우레탄류, 폴리에틸렌이민류 등이 있으며 이외에, 상품명으로 KP(신에쯔 가가꾸 고교㈜ 제조), 폴리플로우(POLYFLOW)(교에이샤 가가꾸㈜ 제조), 에프톱(EFTOP)(토켐 프로덕츠사 제조), 메가팩(MEGAFAC)(다이닛본 잉크 가가꾸 고교㈜ 제조), 플로라드(Flourad)(스미또모 쓰리엠㈜ 제조), 아사히가드(Asahi guard), 서플론(Surflon)(이상, 아사히 글라스㈜ 제조), 솔스퍼스(SOLSPERSE)(제네까㈜ 제조), EFKA(EFKA 케미칼스사 제조), PB 821(아지노모또㈜ 제조) 등을 들 수 있다. Particularly, commercially available surfactants can be used as the pigment dispersing agent. Examples of the surfactant include polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkylphenyl ethers, polyethylene glycol diesters, sorbitan fatty acid esters , Fatty acid-modified polyesters, tertiary amine-modified polyurethanes, polyethyleneimines, and the like. In addition, KP (manufactured by Shinetsu Chemical Industry Co., Ltd.) and POLYFLOW (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., ), EFTOP (manufactured by TOKEM PRODUCTS CO., LTD.), MEGAFAC (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Incorporated), Flourad (manufactured by Sumitomo 3M Limited), Asahi guard, Surflon (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), SOLSPERSE (manufactured by Genene Co., Ltd.), EFKA (manufactured by EFKA Chemicals), PB 821 (manufactured by Ajinomoto Co., Ltd.) and the like.

상기 안료 분산제는 착색제 1중량부를 기준으로 0.01 내지 1중량부, 바람직하게는 0.05중량부 내지 0.5중량부 함유되는 것이 착색제의 분산을 고려할 때 바람직하다. The pigment dispersant is preferably contained in an amount of 0.01 to 1 part by weight, preferably 0.05 to 0.5 part by weight based on 1 part by weight of the colorant, considering dispersion of the colorant.

본 발명에서 착색 감광성 조성물 중의 고형분이란 용제를 제거한 성분의 합계를 의미한다.In the present invention, the solid content in the colored photosensitive composition means the sum of the components from which the solvent has been removed.

상기 바인더 수지는 착색제에 대한 결합제 수지로서의 작용을 하는 것으로서 현상단계에서 사용되는 알칼리성 현상액에 용해 가능한 중합체라면 모두 사용할 수 있다.The binder resin may be any polymer that acts as a binder resin for the colorant and is soluble in the alkaline developer used in the development step.

상기 결합제 수지는 예를 들면 카르복실기 함유 단량체 및 상기 카르복실기 함유단량체와 공중합 가능한 다른 단량체와의 공중합체를 들 수 있다. The binder resin includes, for example, a copolymer of a carboxyl group-containing monomer and another monomer copolymerizable with the carboxyl group-containing monomer.

상기 카르복실기 함유 단량체로는, 예를 들면 불포화 모노카르복실산이나, 불포화 디카르복실산, 불포화 트리카르복실산 등의 분자 중에 1개 이상의 카르복실기를 갖는 불포화 다가 카르복실산 등의 불포화 카르복실산 등을 들 수 있다.Examples of the carboxyl group-containing monomer include unsaturated carboxylic acids such as unsaturated monocarboxylic acids, unsaturated dicarboxylic acids, and unsaturated polycarboxylic acids having at least one carboxyl group in the molecule such as unsaturated tricarboxylic acid and the like .

여기서, 불포화 모노카르복실산으로서는, 예를 들면 아크릴산, 메타크릴산, 크로톤산, α-클로로아크릴산, 신남산 등을 들 수 있다.Examples of the unsaturated monocarboxylic acid include acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid,? -Chloroacrylic acid, cinnamic acid, and the like.

상기 불포화 디카르복실산으로서는, 예를 들면 말레산, 푸마르산, 이타콘산, 시트라콘산, 메사콘산 등을 들 수 있다. Examples of the unsaturated dicarboxylic acid include maleic acid, fumaric acid, itaconic acid, citraconic acid, and mesaconic acid.

상기 불포화 다가 카르복실산은 산무수물일 수도 있으며, 구체적으로는 말레산 무수물, 이타콘산 무수물, 시트라콘산 무수물 등을 들 수 있다. The unsaturated polycarboxylic acid may be an acid anhydride, and specific examples thereof include maleic anhydride, itaconic anhydride, citraconic anhydride and the like.

또한, 상기 불포화 다가 카르복실산은 그의 모노(2-메타크릴로일옥시알킬)에스테르일 수도 있으며, 예를 들면 숙신산모노(2-아크릴로일옥시에틸), 숙신산모노(2-메타크릴로일옥시에틸), 프탈산모노(2-아크릴로일옥시에틸), 프탈산모노(2-메 타크릴로일옥시에틸) 등을 들 수 있다.The unsaturated polycarboxylic acid may also be a mono (2-methacryloyloxyalkyl) ester thereof, for example, mono (2-acryloyloxyethyl) succinate, mono (2-methacryloyloxy Ethyl), phthalic acid mono (2-acryloyloxyethyl), phthalic acid mono (2-methacriloyloxyethyl) and the like.

상기 불포화 다가 카르복실산은 그 양말단 디카르복시 중합체의 모노(메타)아크릴레이트일 수도 있으며, 예를 들면 ω-카르복시폴리카프로락톤모노아크릴레이트, ω-카르복시폴리카프로락톤모노메타크릴레이트 등을 들 수 있다. The unsaturated polycarboxylic acid may be mono (meth) acrylate of the dicarboxylic polymer of both ends thereof, and examples thereof include ω-carboxypolycaprolactone monoacrylate, ω-carboxypolycaprolactone monomethacrylate, and the like. have.

이들 카르복실기 함유 단량체는 각각 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. These carboxyl group-containing monomers may be used alone or in combination of two or more.

상기 카르복실기 함유 단량체와 공중합이 가능한 다른 단량체는 탄소-탄소 불포화 결합을 갖고 있는 단량체로서, 그 구체적인 예로는 방향족 비닐 화합물, 예컨대 스티렌, α-메틸스티렌, 비닐톨루엔 등, 불포화 카르복실레이트 화합물, 예컨대 메틸아크릴레이트, 메틸메타크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, 부틸아크릴레이트, 부틸메타크릴레이트, 2-히드록시에틸아크릴레이트, 2-히드록시에틸메타크릴레이트, 벤질아크릴레이트, 벤질메타크릴레이트 등, 불포화 아미노알킬 카르복실레이트 화합물, 예컨대 아미노에틸아크릴레이트 등, 불포화 글리시딜 카르복실레이트 화합물, 예컨대 글리시딜메타크릴레이트 등, 비닐 카르복실레이트 화합물, 예컨대 비닐아세테이트, 비닐프로피오네이트 등, 비닐 시아나이드 화합물, 예컨대 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴, α-클로로아크릴로니트릴 등, 불포화 옥세탄 카르복실레이트 화합물, 예컨대 3-메틸-3-아크릴옥시메틸옥세탄, 3-메틸-3-메타크릴옥시메틸옥세탄, 3-에틸-3-아크릴옥시메틸옥세탄, 3-에틸-3-메타크릴옥시메틸옥세탄, 3-메틸-3-아크릴옥시에틸옥세탄, 3-메틸-3-메타크릴옥시에틸옥세탄, 3-메틸-3-아크릴옥시에틸옥세탄 및 3-메틸-3-메타크릴옥시에틸옥세탄 등을 들 수 있다. 이들 단량체는 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.The other monomer capable of copolymerizing with the carboxyl group-containing monomer is a monomer having a carbon-carbon unsaturated bond, and specific examples thereof include aromatic vinyl compounds such as styrene,? -Methylstyrene, vinyltoluene and the like, unsaturated carboxylate compounds such as methyl Acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, butyl acrylate, butyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, benzyl acrylate, benzyl methacrylate And unsaturated aminoalkyl carboxylate compounds such as aminoethyl acrylate; unsaturated glycidyl carboxylate compounds such as glycidyl methacrylate; vinyl carboxylate compounds such as vinyl acetate, vinyl propionate , Vinyl cyanide compounds such as acrylic Acrylonitrile,? -Chloroacrylonitrile and the like, unsaturated oxetanecarboxylate compounds such as 3-methyl-3-acryloxymethyloxetane, 3-methyl-3-methacryloxymethyloxetane, 3-methyl-3-acryloxyethyl oxetane, 3-methyl-3-methacryloxyethyl oxetane, 3- 3-methyl-3-acryloxyethyl oxetane and 3-methyl-3-methacryloxyethyl oxetane. These monomers may be used alone or in combination of two or more.

상기 공중합체의 예로는 3-에틸-3-메타크릴옥시메틸옥세탄/벤질메타크릴레이트/메타크릴산 공중합체, 3-에틸-3-메타크릴옥시메틸옥세탄/벤질메타크릴레이트/메타크릴산/스티렌 공중합체, 3-에틸-3-메타크릴옥시메틸옥세탄/메틸메타크릴레이트/메타크릴산 공중합체, 3-에틸-3-메타크릴옥시메틸옥세탄/메틸메타크릴레이트/메타크릴산/스티렌 공중합체 등을 들 수 있다. Examples of the copolymer include 3-ethyl-3-methacryloxymethyloxetane / benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer, 3-ethyl-3-methacryloxymethyloxetane / benzyl methacrylate / Ethyl-3-methacryloxymethyloxetane / methyl methacrylate / methacrylic acid copolymer, 3-ethyl-3-methacryloxymethyl oxetane / methyl methacrylate / methacrylic acid / Acid / styrene copolymer and the like.

상기 공중합체로 된 바인더 수지에서 카르복실기를 갖는 단량체 단위의 함유량은 중량분율로 5중량% 내지 50중량%인 것이 바람직하고, 10중량% 내지 40중량%인 것이 보다 바람직하다. 상기 카르복실기 함유 단량체 단위의 함유량이 상기 범위내이면 형상액에 대한 용해성이 양호하고, 현상시 착색 패턴이 정확하게 형성되기 때문에 바람직하다. The content of the monomer unit having a carboxyl group in the binder resin composed of the copolymer is preferably 5% by weight to 50% by weight, more preferably 10% by weight to 40% by weight. When the content of the carboxyl group-containing monomer unit is within the above range, the solubility in the shape liquid is good and the coloring pattern is accurately formed during development, which is preferable.

또한 상기 바인더 수지는 산가가 20 내지 200(mgKOH/g)의 범위인 것이 바람직하다. 산가가 상기 범위에 있으면, 현상액 중의 용해성이 향상되어 비노광부가 쉽게 용해되게 된다. 여기서 산가란, 아크릴계 중합체 1g을 중화하는 데 필요한 수산화칼륨의 양(mg)으로서 측정되는 값이며, 통상적으로 수산화칼륨 수용액을 사용하여 적정함으로써 구할 수 있다.The binder resin preferably has an acid value in the range of 20 to 200 (mgKOH / g). When the acid value is in the above range, solubility in the developer is improved and the unexposed portion is easily dissolved. Here, the acid value is a value measured as the amount (mg) of potassium hydroxide necessary for neutralizing 1 g of the acrylic polymer, and can be generally determined by titration using an aqueous solution of potassium hydroxide.

상기 바인더 수지는 표준 물질로서 폴리스티렌을 사용하여 겔 침투 크로마토그래피(GPC)로 측정한 중량 평균 분자량(MW)이 5000 내지 400000, 또는 10000 내지 300000인 것이 바람직하다. 분자량이 상기 범위에 있으면, 착색 패턴의 표면 경도가 향상되고, 비노광부의 용해성이 탁월해지고 해상도가 향상되므로 바람직하다.It is preferable that the binder resin has a weight average molecular weight (MW) of 5000 to 400000 or 10000 to 300000 as measured by gel permeation chromatography (GPC) using polystyrene as a standard material. When the molecular weight is within the above range, the surface hardness of the colored pattern is improved, the solubility of the non-visible portion is excellent, and the resolution is improved.

상기 바인더 수지는 착색 감광성 수지 조성물 중의 고형분에 대하여 중량분율로 5중량% 내지 85중량%, 바람직하게는 20중량% 내지 70중량% 함유되는 것이 좋다. 바인더 수지가 상기 기준으로 상기 함량 범위내에 있을 경우 패턴의 형성이 가능하고, 해상도 및 잔막률이 향상된다.The binder resin may be contained in an amount of 5 to 85% by weight, preferably 20 to 70% by weight, based on the solid content in the colored photosensitive resin composition. When the binder resin is within the above-mentioned content range on the basis of the above criteria, the pattern can be formed, and the resolution and the retention rate are improved.

상기 광중합성 화합물은 광 조사에 의해 광중합 개시제로부터 발생되는 활성 라디칼이나 산 등에 의해 중합될 수 있는 화합물이며, 예를 들면 중합 가능한 탄소-탄소 불포화 결합을 갖고 있는 화합물 등을 들 수 있다. 이러한 화합물은 단관능 광중합성 화합물, 이관능 광중합성 화합물 또는 3관능 이상의 다관능 광중합성 화합물일 수 있다.The photopolymerizable compound is a compound which can be polymerized by an active radical or an acid generated from a photopolymerization initiator by light irradiation, and examples thereof include a compound having a polymerizable carbon-carbon unsaturated bond. Such compounds may be monofunctional photopolymerizable compounds, bifunctional photopolymerizable compounds or multifunctional, multifunctional photopolymerizable compounds.

상기 단관능의 광중합성 화합물의 예로는 노닐페닐카비톨아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트, 2-에틸헥실카비톨아크릴레이트, 2-히드록시에틸아크릴레이트, N-비닐피롤리돈 등을 들 수 있다.Examples of the monofunctional photopolymerizable compound include nonylphenylcarbitol acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, 2-ethylhexylcarbitol acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, N-vinyl Pyrrolidone and the like.

상기 2관능성의 광중합성 화합물의 예로는 1,6-헥산디올디아크릴레이트, 1,6-헥산디올디메타크릴레이트, 에틸렌글리콜디아크릴레이트, 에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 네오펜틸글리콜디아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디메타크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 비스페놀 A의 비스(아크릴로일옥시에틸)에테르, 3-메틸펜탄디올디아크릴레이트, 3-메틸펜탄디올디메타크릴레이트 등을 들 수 있다.Examples of the bifunctional photopolymerizable compound include 1,6-hexanediol diacrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate, ethylene glycol diacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol diacrylate , Neopentyl glycol dimethacrylate, triethylene glycol diacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, bis (acryloyloxyethyl) ether of bisphenol A, 3-methylpentanediol diacrylate, 3-methylpentane Diol dimethacrylate, and the like.

3관능 이상의 다관능 광중합성 화합물의 예로는 트리메틸올프로판트리아크릴 레이트, 트리메틸올프로판트리메타크릴레이트, 펜타에리스리톨트리아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리메타크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라메타크릴레이트, 디펜타에리스리톨펜타아크릴레이트, 디펜타에리스리톨펜타메타크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사메타크릴레이트 등을 들 수 있다.Examples of trifunctional or multifunctional photopolymerizable compounds include trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate Dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol penta methacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol hexa methacrylate, and the like.

상기에서 예시한 광중합성 화합물은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 상기 광중합성 화합물중에서 이관능 이상의 광중합성 화합물을 사용하는 것이 바람직하다. The photopolymerizable compounds exemplified above may be used alone or in combination of two or more. Among the above photopolymerizable compounds, it is preferable to use photopolymerizable compounds having a bifunctional or higher functionality.

상기 광중합성 화합물의 사용량은 착색 감광성 수지 조성물 중의 고형분에 대하여 중량분율로 0.1 내지 70중량%, 바람직하게는 1 내지 60중량%이다. 상기 광중합성 화합물이 상기의 기준으로 상기 범위내로 함유될 경우 착색 패턴의 강도나 평활성이 양호하게 된다. The amount of the photopolymerizable compound to be used is 0.1 to 70% by weight, preferably 1 to 60% by weight based on the solid content in the colored photosensitive resin composition. When the photopolymerizable compound is contained within the above-described range, the strength and smoothness of the color pattern are improved.

상기 광중합 개시제로서는, 300nm 이하의 초단파장에 반응하여 활성 라디칼을 발생시키거나 산을 발생시켜 바인더 수지와 광중합성 화합물을 중합시킬 수 있는 것이라면 제한 없이 사용될 수 있다. The photopolymerization initiator can be used without limitation as long as it can generate active radicals in response to microwave having a wavelength of 300 nm or less, or can generate an acid to polymerize the binder resin and the photopolymerizable compound.

바람직하게는 상기 광중합개시제로 옥심계를 사용하는 것이 좋다. 상기 옥심계 광중합개시제로는 구체적으로 1-(4-페닐티오페닐)-1,2-옥탄디온-2-(O-벤조일옥심)), 1-(4-메틸술파닐-페닐)-부탄-1,2-부탄-2-옥심-O-아세테이트, 1-(4-메틸술파닐-페닐)-부탄-1-온옥심-O-아세테이트, 히드록시이미노-(4-메틸술파닐-페닐)-초산 에틸에스테르-O-아세테이트, 히드록시이미노-(4-메틸술파닐-페닐)-초산에틸에스테르-O-벤조에이트, 에타논-1-[9-에틸-6-(2-메틸-4테트라히드로피라닐옥시벤조일)-9H-카바졸-3-일]-1-(O-아세틸옥심) 등을 들 수 있다. It is preferable to use oxime as the photopolymerization initiator. Specific examples of the oxime-based photopolymerization initiator include 1- (4-phenylthiophenyl) -1,2-octanedione-2- (O-benzoyloxime) (4-methylsulfanyl-phenyl) -butan-1-one oxime-O-acetate, hydroxyimino- -Acetic acid ethyl ester-O-acetate, hydroxyimino- (4-methylsulfanyl-phenyl) -acetic acid ethyl ester-O-benzoate, ethanone-1- [ (Tetrahydropyranyloxybenzoyl) -9H-carbazol-3-yl] -1- (O-acetyloxime).

상기 예시된 옥심계 광중합개시제는 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. The above-exemplified oxime-based photopolymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.

상기 옥심계 광중합 개시제는 다른 광중합 개시제와 함께 사용될 수 있다. 상기 다른 광중합 개시제로는 활성라디칼 발생제, 증감제 및 산발생제를 사용할 수 있다. 상기 활성라디칼 발생제로는 아세토페논계 광중합 개시제, 벤조인계 광중합 개시제, 벤조페논계 광중합 개시제, 티오크산톤계 광중합 개시제, 트리아진계 광중합 개시제를 들 수 있다.The oxime-based photopolymerization initiator may be used in combination with another photopolymerization initiator. As the other photopolymerization initiator, an active radical generator, a sensitizer, and an acid generator may be used. Examples of the active radical generator include an acetophenone photopolymerization initiator, a benzoin photopolymerization initiator, a benzophenone photopolymerization initiator, a thioxanthone photopolymerization initiator, and a triazine photopolymerization initiator.

상기 아세토페논계 광중합 개시제의 예로는 디에톡시아세토페논, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 벤질디메틸케탈, 2-히드록시-2-메틸-1-[2-(2-히드록시에톡시)페닐]프로판-1-온, 1-히드록시시클로헥실페닐 케톤, 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸티오페닐)프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온 및 2-히드록시-2-메틸-1-[4-(1-메틸비닐)페닐]프로판-1-온의 올리고머 등을 들 수 있다. Examples of the acetophenone photopolymerization initiator include diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzyldimethylketal, 2- (2-hydroxyethoxy) phenyl] propan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2- Methyl-1- [4- (1-methylvinyl) phenyl] propane-1-one and 2-hydroxy-2-methyl- -One oligomers, and the like.

상기 벤조인계 광중합 개시제의 예로는 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르 등을 들 수 있다. Examples of the benzoin-based photopolymerization initiator include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, and benzoin isobutyl ether.

상기 벤조페논계 광중합 개시제의 예로는 벤조페논, 메틸 o-벤조일벤조에이트, 4-페닐벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐설파이드, 3,3',4,4'-테트라(t-부틸퍼 옥시카르보닐)벤조페논, 2,4,6-트리메틸벤조페논 등을 들 수 있다.Examples of the benzophenone photopolymerization initiator include benzophenone, methyl o-benzoyl benzoate, 4-phenylbenzophenone, 4-benzoyl-4'-methyldiphenyl sulfide, 3,3 ', 4,4'-tetra (t -Butylperoxycarbonyl) benzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone, and the like.

상기 티오크산톤 광중합 개시제의 예로는 2-이소프로필티오크산톤, 4-이소프로필티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤, 2,4-디클로로티오크산톤, 1-클로로-4-프로폭시티오크산톤 등을 들 수 있다.Examples of the thioxanthone photopolymerization initiator include 2-isopropylthioxanthone, 4-isopropylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, 1- &Lt; / RTI > propoxycyclohexanone, and the like.

상기 트리아진계 광중합 개시제의 예로는 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시나프틸)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-피페로닐-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시스티릴)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(5-메틸푸란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(푸란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(4-디에틸아미노-2-메틸페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(3,4-디메톡시페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진 등을 들 수 있다.Examples of the triazine photopolymerization initiator include 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6 - (4-methoxynaphthyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6-piperonyl-1,3,5-triazine, (Trichloromethyl) -6- [2- (5-methylfuran-2- (4-methoxystyryl) -1,3,5-triazine, Yl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (furan- , 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (4-diethylamino-2-methylphenyl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4- ) -6- [2- (3,4-dimethoxyphenyl) ethenyl] -1,3,5-triazine.

상기 증감제로의 예로는 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드, 2,2'-비스(o-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-바이이미다졸, 10-부틸-2-클로로아크리돈, 2-에틸안트라퀴논, 벤질, 9,10-페난트렌퀴논, 캄포퀴논, 메틸페닐글리옥실레이트, 티타노센 화합물 등을 사용할 수도 있다. Examples of the sensitizer include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl- Benzimidazole, 10-butyl-2-chloroacridone, 2-ethyl anthraquinone, benzyl, 9,10-phenanthrenequinone, camphorquinone, methylphenylglyoxylate and titanocene compounds.

상기 산 발생제의 예로는 오늄염, 예컨대 4-히드록시페닐디메틸설포늄p-톨루엔설포네이트, 4-히드록시페닐디메틸설포늄헥사플루오로안티모네이트, 4-아세톡시페닐디메틸설포늄p-톨루엔설포네이트, 4-아세톡시페닐ㆍ메틸ㆍ벤질설포늄헥사플루 오로안티모네이트, 트리페닐설포늄p-톨루엔설포네이트, 트리페닐설포늄헥사플루오로안티모네이이트, 디페닐요오도늄p-톨루엔설포네이트, 디페닐요오도늄헥사플루오로안티모네이트 등, 니트로벤질 토실레이트, 벤조인 토실레이트 등을 들 수 있다. Examples of the acid generator include an onium salt such as 4-hydroxyphenyldimethylsulfonium p-toluenesulfonate, 4-hydroxyphenyldimethylsulfonium hexafluoroantimonate, 4-acetoxyphenyldimethylsulfonium p- Benzenesulfonium hexafluoroantimonate, triphenylsulfonium p-toluenesulfonate, triphenylsulfonium hexafluoroantimonate, diphenyliodonium p-toluenesulfonate, diphenylsulfonium p-toluenesulfonate, Toluene sulfonate, diphenyl iodonium hexafluoroantimonate and the like, nitrobenzyl tosylate, and benzoin tosylate.

상기 언급한 화합물 중에는 활성 라디칼 발생제로서 활성 라디칼을 발생시키는 것과 함께 산을 발생시키는 화합물도 있다. 예를 들면, 트리아진계 광중합 개시제는 산 발생제로서 사용된다. Among the above-mentioned compounds, there are also compounds which generate an active radical as an active radical generator together with an acid. For example, a triazine-based photopolymerization initiator is used as an acid generator.

상기에서 예시한 광중합 개시제는 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.The photopolymerization initiators exemplified above may be used alone or in combination of two or more.

상기 광중합 개시제는 바인더 수지 및 광중합성 화합물의 합계량에 대하여 0.1 내지 80중량%, 바람직하게는 5 내지 50중량%로 포함될 수 있다. 광중합 개시제가 상기의 기준으로 상기 범위 내에 포함되는 경우에는 착색 감광성 수지 조성물이 고감도화되어 노출시간이 단축되므로 생산성이 향상되며 높은 해상도를 유지할 수 있기 때문에 바람직하다. The photopolymerization initiator may be contained in an amount of 0.1 to 80% by weight, preferably 5 to 50% by weight based on the total amount of the binder resin and the photopolymerizable compound. When the photopolymerization initiator is contained within the above range on the basis of the above-mentioned criteria, the colored photosensitive resin composition is highly sensitized and the exposure time is shortened, which is preferable because productivity can be improved and high resolution can be maintained.

상기 광중합 개시제는 광중합성 화합물의 중합을 증진시키기 위해 광중합 개시 보조제와 함께 사용될 수 있다.The photopolymerization initiator may be used together with a photopolymerization initiator to promote polymerization of the photopolymerizable compound.

상기 광중합 개시 보조제로서는, 예를 들면 아민계 광중합 개시 보조제, 알콕시안트라센계 광중합 개시 보조제 등을 들 수 있다.Examples of the photopolymerization initiator include amine-based photopolymerization initiators, alkoxyanthracene photopolymerization initiators, and the like.

상기 아민계 광중합 개시 보조제의 예로는 트리에탄올아민, 메틸디에탄올아민, 트리이소프로판올아민, 메틸4-디메틸아미노벤조에이트, 에틸4-디메틸아미노벤 조에이트, 이소아밀4-디메틸아미노벤조에이트, 2-디메틸아미노에틸벤조에이트, 2-에틸헥실4-디메틸아미노벤조에이트, N,N-디메틸p-톨루이딘, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논(일반명: 마이클러스(Michler's) 케톤), 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 4,4'-비스(에틸메틸아미노)벤조페논 등을 들 수 있다.Examples of the amine photopolymerization initiator include triethanolamine, methyldiethanolamine, triisopropanolamine, methyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, isoamyl 4-dimethylaminobenzoate, 2- N, N-dimethyl p-toluidine, 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone (generic name: Michler's ketone), 4-ethylhexyl 4-dimethylaminobenzoate , 4'-bis (diethylamino) benzophenone, and 4,4'-bis (ethylmethylamino) benzophenone.

상기 알콕시안트라센계 광중합 개시 보조제의 예로는 9,10-디메톡시안트라센, 2-에틸-9,10-디메톡시안트라센, 9,10-디에톡시안트라센, 2-에틸-9,10-디에톡시안트라센 등을 들 수 있다.Examples of the alkoxyanthracene-based photopolymerization initiator include 9,10-dimethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-dimethoxyanthracene, 9,10-diethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-diethoxyanthracene, etc. .

이러한 광중합 개시 보조제를 사용하는 경우, 이것의 사용량은 광중합 개시제 1 몰 당 보통 10 몰 이하, 바람직하게는 0.01 몰 내지 5 몰이다. 상기 광중합 개시 보조제가 상기와 같은 함량으로 사용되는 경우에는 착색 감광성 수지 조성물의 감도가 더 높아져 컬러 필터의 생산성이 향상되기 때문에 바람직하다.When such a photopolymerization initiator is used, the amount of the photopolymerization initiator is generally 10 moles or less, preferably 0.01 to 5 moles per mole of the photopolymerization initiator. When the photopolymerization initiator is used in the same amount as described above, the sensitivity of the colored photosensitive resin composition becomes higher and the productivity of the color filter is improved.

상기 용제는 특별히 제한되지 않으며 착색 감광성 수지 조성물의 분야에서 사용되고 있는 각종 유기 용제를 사용할 수 있다. The solvent is not particularly limited and various organic solvents used in the field of the colored photosensitive resin composition can be used.

상기 용제의 구체적인 예로는 에틸렌글리콜모노알킬에테르, 예컨대 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노프로필에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르 등, 디에틸렌글리콜디알킬에테르, 예컨대 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜디프로필에테르, 디에틸렌글리콜디부틸에테르 등, 에틸렌글리콜알킬에테르아세테이트, 예컨대 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트 등, 알킬렌글리콜알킬에테르아세테이 트, 예컨대 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노프로필에테르아세테이트, 메톡시부틸아세테이트, 메톡시펜틸아세테이트 등, 방향족 탄화수소, 예컨대 벤젠, 톨루엔, 크실렌 등, 케톤, 예컨대 메틸에틸케톤, 아세톤, 메틸아밀케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥산온 등, 알콜, 예컨대 에탄올, 프로판올, 부탄올, 헥산올, 시클로헥산올, 에틸렌글리콜, 글리세린 등, 고리형 에스테르, 예컨대 γ-부티롤락톤 등을 들 수 있다. 이들 용제는 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. Specific examples of the solvent include ethylene glycol monoalkyl ethers such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, and ethylene glycol monobutyl ether; diethylene glycol dialkyl ethers such as diethylene glycol dimethyl Ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dipropyl ether, diethylene glycol dibutyl ether and the like, ethylene glycol alkyl ether acetates such as methyl cellosolve acetate and ethyl cellosolve acetate, alkylene glycol alkyl ether acetone Such as propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monopropyl ether acetate, methoxybutyl acetate, methoxypentyl acetate, and the like, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, Such as methyl ethyl ketone, acetone, methyl amyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone, alcohols such as ethanol, propanol, butanol, hexanol, cyclohexanol, ethylene glycol and glycerin, -Butyrolactone, and the like. These solvents may be used alone or in combination of two or more.

상기 용제는 그것을 포함하는 착색 감광성 수지 조성물 전체량에 대하여 중량분율로 50중량% 내지 90중량%, 바람직하게는 60중량% 내지 85중량% 함유되는 것이 바람직하다. 용제의 함량이 상기의 기준으로 50중량% 내지 90중량% 포함될 경우 도포성이 양호해지기 때문에 바람직하다. The solvent is preferably contained in an amount of 50% by weight to 90% by weight, preferably 60% by weight to 85% by weight based on the total amount of the colored photosensitive resin composition containing the solvent. When the content of the solvent is 50% by weight to 90% by weight based on the above-mentioned criteria, the coating property is preferably improved.

상기 착색 감광성 수지 조성물은 필요에 따라 첨가제를 더 포함할 수 있다.The colored photosensitive resin composition may further contain additives as required.

상기 첨가제로서는, 예를 들면 충전제, 바인더 수지 이외의 다른 고분자, 밀착성 증진제, 항산화제, 자외선 흡수제, 응집 방지제, 유기산, 유기 아미노 화합물, 경화제 등을 들 수 있다. Examples of the additive include fillers, polymers other than the binder resin, adhesion promoting agents, antioxidants, ultraviolet absorbers, anti-aggregation agents, organic acids, organic amino compounds, and curing agents.

상기 충진제는 구체적으로 유리, 실리카, 알루미나 등을 들 수 있다.Specific examples of the filler include glass, silica and alumina.

상기 다른 고분자의 예로는 폴리비닐 알콜, 폴리아크릴산, 폴리에틸렌글리콜모노알킬에테르, 폴리플루오로알킬아크릴레이트 등을 들 수 있다. Examples of the other polymer include polyvinyl alcohol, polyacrylic acid, polyethylene glycol monoalkyl ether, and polyfluoroalkyl acrylate.

상기 밀착성 증진제의 예로는 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비 닐트리스(2-메톡시에톡시)실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-클로로프로필메틸디메톡시실란, 3-클로로프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-머캅토프로필트리메톡시실란 등을 들 수 있다. Examples of the adhesion promoter include vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (2-methoxyethoxy) silane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N Aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 2- (2-aminoethyl) (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-chloropropylmethyldimethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3- Methoxysilane and the like.

상기 항산화제의 예로는 2,2-티오비스(4-메틸-6-t-부틸페놀), 2,6-디-t-부틸페놀 등을 들 수 있다. Examples of the antioxidant include 2,2-thiobis (4-methyl-6-t-butylphenol), 2,6-di-t-butylphenol and the like.

상기 자외선 흡수제의 예로는 2-(3-t-부틸-5-메틸-2-히드록시페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 알콕시벤조페논 등을 들 수 있다.Examples of the ultraviolet absorber include 2- (3-t-butyl-5-methyl-2-hydroxyphenyl) -5-chlorobenzotriazole and alkoxybenzophenone.

상기 응집 방지제의 예로는 나트륨 폴리아크릴레이트 등을 들 수 있다.Examples of the anti-aggregation agent include sodium polyacrylate and the like.

상기 유기산의 예로는 지방족 모노카르복실산, 예컨대 포름산, 아세트산, 프로피온산, 부티르산, 발레르산, 피발산, 카프론산, 디에틸아세트산, 에난트산(enanthic acid), 카프릴산 등, 지방족 디카르복실산, 예컨대 옥살산, 말론산, 숙신산, 글루타르산, 아디프산, 피멜산, 수베르산, 아젤라산(azelaic acid), 세바크산, 브라실산, 메틸말론산, 에틸말론산, 디메틸말론산, 메틸숙신산, 테트라메틸숙신산, 시클로헥산디카르복실산, 이타콘산, 시트라콘산, 말레산, 푸말산, 메자콘산 등, 지방족 트리카르복실산, 예컨대 트리카르복실산, 아코니트산, 캄포론산 등, 방향족 모노카르복실산, 예컨대 벤조산, 톨루산, 쿠멘산, 헤멜리트산, 메시틸렌산 등, 방향족 디카르복실산, 프탈산, 이소프탈산, 테레프탈산 등, 방향족 폴리카르복 실산, 예컨대 트리멜리트산, 트리메스산, 멜로판산, 피로멜리트산 등, 그리고 다른 산을 들 수 있다.Examples of the organic acid include aliphatic monocarboxylic acids such as formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, pivalic acid, capronic acid, diethylacetic acid, enanthic acid, caprylic acid, etc., aliphatic dicarboxylic acids Such as oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, brassylic acid, methylmalonic acid, ethylmalonic acid, dimethylmalonic acid, Aliphatic tricarboxylic acids such as tricarboxylic acid, aconitic acid, camphoronic acid, etc., such as methylsuccinic acid, tetramethylsuccinic acid, cyclohexanedicarboxylic acid, itaconic acid, citraconic acid, maleic acid, , Aromatic monocarboxylic acids such as benzoic acid, toluic acid, cumene acid, hemelitic acid and mesitylenic acid, aromatic dicarboxylic acids, phthalic acid, isophthalic acid and terephthalic acid, aromatic polycarboxylic acids such as trimellitic acid, Trieste, Melodic acid, pyromellitic acid, and the like, and other acids.

상기 유기 아미노 화합물의 예로는 모노(시클로)알킬아민, 예컨대 n-프로필아민, i-프로필아민, n-부틸아민, i-부틸아민, s-부틸아민, t-부틸 아민, n-펜틸아민, n-헥실아민, n-헵틸아민, n-옥틸아민, n-노닐아민, n-데실아민, n-운데실아민, n-도데실아민, 시클로헥실아민, 2-메틸시클로헥실아민, 3-메틸시클로헥실아민, 4-메틸시클로헥실아민 등, 디(시클로)알킬아민, 예컨대 메틸에틸아민, 디에틸아민, 메틸n-프로필아민, 에틸n-프로필아민, 디n-프로필아민, 디i-프로필아민, 디n-부틸아민, 디i-부틸아민, 디s-부틸아민, 디t-부틸아민, 디n-펜틸아민, 디n-헥실아민, 메틸시클로헥실아민, 에틸시클로헥실아민, 디시클로헥실아민 등, 트리(시클로)알킬아민, 예컨대 디메틸에틸아민, 메틸디에틸아민, 트리에틸아민, 디메틸n-프로필아민, 디에틸n-프로필아민, 메틸디n-프로필아민, 에틸디n-프로필아민, 트리n-프로필아민, 트리i-프로필아민, 트리n-부틸아민, 트리i-부틸아민, 트리s-부틸아민, 트리t-부틸아민, 트리n-펜틸아민, 트리n-헥실아민, 디메틸시클로헥실아민, 디에틸시클로헥실아민, 메틸디시클로헥실아민, 에틸디시클로헥실아민, 트리시클로헥실아민 등, 모노(시클로)알칸올아민, 예컨대 2-아미노에탄올, 3-아미노-1-프로판올, 1-아미노-2-프로판올, 4-아미노-1-부탄올, 5-아미노-1-펜탄올, 6-아미노-1-헥산올, 4-아미노-1-시클로헥산올 등, 디(시클로)알칸올아민, 예컨대 디에탄올아민, 디n-프로판올아민, 디i-프로판올아민, 디 n-부탄올아민, 디i-부탄올아민, 디n-펜탄올아민, 디n-헥산올아민, 디(4-시클로헥산올)아민 등, 트리(시클로)알칸올아민, 예컨대 트 리에탄올아민, 트리n-프로판올아민, 트리i-프로판올아민, 트리n-부탄올아민, 트리i-부탄올아민, 트리n-펜탄올아민, 트리n-헥산올아민, 트리(4-시클로헥산올)아민 등, 아미노(시클로)알칸디올, 예컨대 3-아미노-1,2-프로판디올, 2-아미노-1,3-프로판디올, 4-아미노-1,2-부탄디올, 4-아미노-1,3-부탄디올, 4-아미노-1,2-시클로헥산디올, 4-아미노-1,3-시클로헥산디올, 3-디메틸아미노-1,2-프로판디올, 3-디에틸아미노-1,2-프로판디올, 2-디메틸아미노-1,3-프로판디올, 2-디에틸아미노-1,3-프로판디올 등, 아미노기 함유 시클로알칸메탄올, 예컨대 1-아미노시클로펜탄온메탄올, 4-아미노시클로펜탄온메탄올, 1-아미노시클로헥산온메탄올, 4-아미노시클로헥산온메탄올, 4-디메틸아미노시클로펜탄메탄올, 4-디에틸아미노시클로펜탄메탄올, 4-디메틸아미노시클로헥산메탄올, 4-디에틸아미노시클로헥산메탄올 등, 아미노카르복실산, 예컨대 β-알라닌, 2-아미노부티르산, 3-아미노부티르산, 4-아미노부티르산, 2-아미노이소부티르산, 3-아미노이소부티르산, 2-아미노발레르산, 5-아미노발레르산, 6-아미노카프론산, 1-아미노시클로프로판카르복실산, 1-아미노시클로헥산카르복실산, 4-아미노시클로헥산카르복실산 등, 방향족 아민, 예컨대 아닐린, o-메틸아닐린, m-메틸아닐린, p-메틸아닐린, p-에틸아닐린, p-n-프로필아닐린, p-i-프로필아닐린, p-n-부틸아닐린, p-t-부틸아닐린, 1-나프틸아민, 2-나프틸아민, N,N-디메틸아닐린, N,N-디에틸아닐린, p-메틸-N,N-디메틸아닐린 등, 아미노벤질알콜, 예컨대 o-아미노벤질알콜, m-아미노벤질알콜, p-아미노벤질알콜, p-디메틸아미노벤질알콜, p-디에틸아미노벤질알콜 등, 아미노페놀, 예컨대 o-아미노페놀, m-아미노페놀, p-아미노페놀, p-디메틸아미노페놀, p-디에틸아미노페놀 등, 아미노벤조산, 예컨대 m-아미노벤조산, p-아미노벤조산, p-디메틸아미노벤조산, p-디에틸아미노벤조산 등, 그리고 다른 산을 들 수 있다. Examples of the organic amino compound include mono (cyclo) alkylamines such as n-propylamine, i-propylamine, n-butylamine, i-butylamine, s-butylamine, heptylamine, n-octylamine, n-nonylamine, n-decylamine, n-undecylamine, n-dodecylamine, cyclohexylamine, 2-methylcyclohexylamine, 3- Methylcyclohexylamine, 4-methylcyclohexylamine and the like, di (cyclo) alkylamines such as methylethylamine, diethylamine, methylnopropylamine, ethylnopropylamine, di- Butylamine, di-n-butylamine, di-n-pentylamine, di-n-hexylamine, methylcyclohexylamine, ethylcyclohexylamine, dicyclopentylamine (Cyclo) alkylamines such as cyclohexylamine and the like, tri (cyclo) alkylamines such as dimethylethylamine, methyldiethylamine, triethylamine, dimethyl n-propylamine, diethyl n-propylamine, Butylamine, tri-n-butylamine, tri-n-propylamine, tri-n-propylamine, , Mono (cyclo) alkanolamine such as trimethylhexylamine, dihexylamine, dimethylcyclohexylamine, diethylcyclohexylamine, methyldicyclohexylamine, ethyldicyclohexylamine and tricyclohexylamine, Amino-1-pentanol, 6-amino-1-hexanol, 4-amino-1-cyclohexane, 4-amino- (Cyclo) alkanolamines such as diethanolamine, di-propanolamine, di-propanolamine, di-n-butanolamine, di-butanolamine, di- (Cyclo) alkanolamines such as triethanolamine, tri-n-propanolamine, tri-i-propanolamine, tri-n-butanolamine, Amino (cyclo) alkane diols such as tri-n-pentanolamine, tri-n-pentanolamine, tri- Amino-1,2-cyclohexanediol, 4-amino-1,3-butanediol, 4-amino- Diethylamino-1, 2-propanediol, 2-dimethylamino-1,3-propanediol, 2-diethylamino- Propanediol, and the like, amino group-containing cycloalkane methanol such as 1-aminocyclopentanone methanol, 4-aminocyclopentanone methanol, 1-aminocyclohexanone methanol, 4-aminocyclohexanone methanol, 4-dimethylaminocyclo 4-dimethylaminocyclohexanemethanol, 4-diethylaminocyclohexane methanol and the like, aminocarboxylic acids such as? -Alanine, 2-amino Aminobutyric acid, 2-aminobutyric acid, 2-aminobutyric acid, 5-aminovaleric acid, 6-aminocaproic acid, 1-aminocyclopropanecarboxylic acid Aniline, o-methylaniline, m-methylaniline, p-methylaniline, p-ethylaniline, pn-propyl aniline, N, N-dimethylaniline, N, N-diethylaniline, p-methyl-N, N-dimethylaniline, p-toluenesulfonylamine, Aminobenzyl alcohol, m-aminobenzyl alcohol, p-aminobenzyl alcohol, p-dimethylaminobenzyl alcohol, p-diethylaminobenzyl alcohol and the like, aminophenols such as o -Aminophenol, m-aminophenol, p-aminophenol, p-dimethylaminophenol, p-diethylaminophenol, Pregnancy, such as m-aminobenzoic acid, p-aminobenzoic acid, p-dimethylaminobenzoic acid, p-diethylaminobenzoic acid, and the like, and other acids.

상기 경화제는 패턴화에 있어서 현상 후 가열 처리에 의해 착색 패턴을 경화시켜 그것의 기계적 강도를 향상시키는 목적으로 사용될 수 있다. The above-mentioned curing agent can be used for the purpose of curing a colored pattern by post-development heat treatment in patterning to improve its mechanical strength.

상기 경화제로서는, 예를 들면 가열에 의해 바인더 중합체 내의 카르복실기와 반응하여 바인더 수지를 가교 결합시킬 수 있는 화합물을 들 수 있으며, 착색 패턴은 바인더 중합체를 가교 결합시킴으로써 경화된다. 또한, 가열에 의해 단독 중합될 수 있는 화합물도 사용할 수 있고, 색화소 등은 단독 중합에 의해 경화된다. 그러한 화합물로서는, 예를 들면 에폭시 화합물, 옥세탄 화합물 등을 들 수 있다.The curing agent includes, for example, a compound capable of reacting with a carboxyl group in the binder polymer by heating to crosslink the binder resin, and the coloring pattern is cured by crosslinking the binder polymer. Further, compounds which can be homopolymerized by heating can be used, and color pixels and the like are cured by homopolymerization. Examples of such compounds include epoxy compounds and oxetane compounds.

상기 에폭시 화합물의 예로는 에폭시 수지, 예컨대 비스페놀 A계 에폭시 수지, 수소화 비스페놀 A계 에폭시 수지, 베스페놀 F계 에폭시 수지, 수소화 비스페놀 F계 에폭시 수지, 노볼락계 에폭시 수지, 다른 방향족계 예폭시 수지, 지환족계 에폭시 수지, 복소환족계 에폭시 수지, 글리시딜 에스테르계 수지, 글리시딜아민계 수지, 에폭시화 오일 등, 이들 에폭시 수지의 브롬화 유도체; 에폭시 수지 및 이것의 브롬화 유도체를 제외한 다른 지방족계, 지환족계 또는 방향족계 에폭시 화합물; 부타디엔의 (공)중합체의 에폭시화 물질, 이소프렌의 (공)중합체의 에폭시화 물질, 글리시딜(메타)아크릴레이트의 (공)중합체, 트리글리시딜이소시아누레이트 등을 들 수 있다.Examples of the epoxy compounds include epoxy resins such as bisphenol A epoxy resin, hydrogenated bisphenol A epoxy resin, bisphenol F epoxy resin, hydrogenated bisphenol F epoxy resin, novolac epoxy resin, other aromatic pre- Alicyclic epoxy resins, heterocyclic epoxy resins, glycidyl ester resins, glycidylamine resins, epoxidized oils and the like; brominated derivatives of these epoxy resins; Aliphatic, alicyclic or aromatic epoxy compounds other than epoxy resins and brominated derivatives thereof; An epoxidation substance of (co) polymer of butadiene, an epoxidation substance of (co) polymer of isoprene, (co) polymer of glycidyl (meth) acrylate, and triglycidyl isocyanurate.

상기 옥세탄 화합물의 예로는 카르보네이트비스옥세탄, 크실렌비스옥세탄, 아디페이트비스옥세탄, 테레프탈레이트비스옥세탄, 시클로헥산디카르복실산비스옥세탄 등을 들 수 있다.Examples of the oxetane compound include carbonate bisoxetane, xylene bisoxetane, adipate bisoxetane, terephthalate bisoxetane, and cyclohexanedicarboxylic acid bisoxetane.

상기 경화제를 착색 감광성 수지 조성물에 포함시킬 경우 에폭시 화합물 내의 에폭시기 및 옥세탄 화합물 내의 옥세탄 골격의 개환 중합을 일으킬 수 있는 화합물을 함께 사용할 수 있다. 이러한 화합물로서는, 예를 들면 다가 카르복실산, 다가 카르복실산 무수물, 산 발생제 등을 들 수 있으며, 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.When the curing agent is included in the colored photosensitive resin composition, a compound capable of causing ring-opening polymerization of the oxetane skeleton in the epoxy compound and the oxetane compound in the epoxy compound can be used together. Examples of such a compound include a polyvalent carboxylic acid, a polycarboxylic acid anhydride, and an acid generator. These compounds may be used alone or in combination of two or more.

상기 다가 카르복실산의 예로는 방향족계 다가 카르복실산, 예컨대 프탈산, 3,4-디메틸프탈산, 이소프탈산, 테레프탈산, 피로멜리트산, 트리메틸리트산, 1,4,5,8-나프탈렌테트라카르복실산, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르복실산 등, 지방족계 다가 카르복실산, 예컨대 숙신산, 글루타르산, 아디프산, 1,2,3,4-부탄테트라카르복실산, 말레산, 푸말산, 이타콘산 등, 지환족계 다가 카르복실산, 예컨대 헥사히드로프탈산, 3,4-디메틸테트라히드로프탈산, 헥사히드로이소프탈산, 헥사히드로테레프탈산, 1,2,4-시클로펜탄트리카르복실산, 1,2,4-시클로헥산트리카르복실산, 시클로펜탄테트라카르복실산, 1,2,4,5-시클로헥산테트라카르복실산 등을 들 수 있다.Examples of the polyvalent carboxylic acid include aromatic polycarboxylic acids such as phthalic acid, 3,4-dimethylphthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, pyromellitic acid, trimethylic acid, 1,4,5,8-naphthalenetetracarboxylic acid Acid, 3,3 ', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic acid and the like, aliphatic polycarboxylic acids such as succinic acid, glutaric acid, adipic acid, 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid Alicyclic polybasic carboxylic acids such as acetic acid, maleic acid, fumaric acid and itaconic acid, such as hexahydrophthalic acid, 3,4-dimethyltetrahydrophthalic acid, hexahydroisophthalic acid, hexahydroterephthalic acid, 1,2,4-cyclopentane Tricarboxylic acid, 1,2,4-cyclohexanetricarboxylic acid, cyclopentanetetracarboxylic acid, 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic acid, and the like.

상기 다가 카르복실산 무수물의 예로는 방향족계 다가 카르복실산 무수물, 예컨대 프탈산 무수물, 피로멜리트산 무수물, 트리멜리트산 무수물, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르복실산 이무수물 등, 지방족계 다가 카르복실산 무수물, 예컨대 이타콘산 무수물, 숙신산 무수물, 시트라콘산 무수물, 도데세닐숙신산 무수물, 트 리카르발릴산 무수물, 말레산 무수물, 1,2,3,4-부탄테트라카르복실산 이무수물 등, 지환족계 다가 카르복실산 무수물, 예컨대 헥사히드로프탈산 무수물, 3,4-디메틸테트라히드로프탈산 무수물, 1,2,4-시클로펜탄트리카르복실산 무수물, 1,2,4-시클로헥산트리카르복실산 무수물, 시클로펜탄테트라카르복실산 이무수물, 1,2,4,5-시클로헥산테트라카르복실산 이무수물, 힘산무수물(hymic anhydride), 나드산 무수물 등, 에스테르기 함유 카르복실산 무수물, 예컨대 에틸렌글리콜비스트리멜리트산, 글리세린트리스트리멜리트산 무수물 등을 들 수 있다.Examples of the polycarboxylic acid anhydrides include aromatic polycarboxylic anhydrides such as phthalic anhydride, pyromellitic anhydride, trimellitic anhydride, 3,3 ', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic acid dianhydride, etc. , Aliphatic polycarboxylic acid anhydrides such as itaconic anhydride, succinic anhydride, citraconic anhydride, dodecenylsuccinic anhydride, tricarbalic anhydride, maleic anhydride, 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid Alicyclic polybasic carboxylic anhydrides such as hexahydrophthalic anhydride, 3,4-dimethyltetrahydrophthalic anhydride, 1,2,4-cyclopentanetricarboxylic acid anhydride, 1,2,4-cyclohexane anhydride, Containing carboxylic acid such as tricarboxylic acid anhydride, cyclopentanetetracarboxylic acid dianhydride, 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic acid dianhydride, hymic anhydride, nadic acid anhydride, etc., radish And water, such as ethylene glycol bistrimelitic acid and glycerin tristrimellitic acid anhydride.

상술한 조성을 갖는 착색 감광성 수지 조성물은 기판 상에 코팅하여 도막을 형성하게 된다. The colored photosensitive resin composition having the above composition is coated on a substrate to form a coating film.

기판은 유리판, 실리콘 웨이퍼 및 폴리에테르설폰(polyethersulfone, PES)나 폴리카보네이트(polycarbonate, PC) 등의 플라스틱 기재의 판 등일 수 있으며, 그 종류가 특별히 제한되는 것은 아니다. The substrate may be a glass plate, a silicon wafer, a plate of a plastic substrate such as polyethersulfone (PES) or polycarbonate (PC), and the kind thereof is not particularly limited.

상기 코팅은 롤 코터, 스핀 코터, 슬릿 앤드 스핀 코터, 슬릿 코터('다이 코터'라고도 함), 잉크젯 등의 도포 장치를 이용하여 실시할 수 있다. The coating can be carried out using a coating apparatus such as a roll coater, a spin coater, a slit and spin coater, a slit coater (also referred to as a " die coater ") or an ink jet.

상기 코팅시의 두께는 제한 없이 다양한 두께로 형성가능하나, 0.5~1.0um로 코팅하는 것이 바람직하며, 상기 코팅 두께는 전면에 걸쳐 균일한 두께가 되도록 하는 것이 중요하다. 상기 코팅시의 두께가 상기의 범위로 포함될 경우 도막의 표면 평활성이 우수해지고, 경화가 빨라 생산속도의 향상을 도모할 수 있다. The thickness of the coating can be varied without limitation, but it is preferable to coat the coating with a thickness of 0.5 to 1.0 μm. It is important that the thickness of the coating is uniform throughout the coating. When the thickness at the time of coating is included within the above range, the surface smoothness of the coating film is excellent, and the curing speed is increased, so that the production speed can be improved.

착색 감광성 수지 조성물의 코팅이 완료되면 예비 건조를 통해 용제 등의 휘 발성분을 제거하여 도막을 얻게 된다. 상기 예비건조는 100 내지 120℃에서 1 내지 30분간 실시할 수 있다. 상기 범위내에서 예비건조가 이루어질 경우 용제 등의 휘발성분이 빠르게 제거되어 양호한 건조 도막을 얻을 수 있게 된다.Upon completion of the coating of the colored photosensitive resin composition, pre-drying is performed to remove the whirling component such as a solvent to obtain a coating film. The preliminary drying can be performed at 100 to 120 ° C for 1 to 30 minutes. When the preliminary drying is performed within the above range, volatile components such as a solvent can be rapidly removed and a good dried coating film can be obtained.

노광단계(S2)In the exposure step S2,

상기 노광단계는 마스크를 이용하여 상기 도막의 착색 패턴이 형성될 영역에 0.6이상의 개구수를 갖는 초단파장 노광기로 300nm이하의 초단파장 레이저를 조사하여 노광하는 단계이다. The step of exposing is a step of irradiating a region of the coating film to be formed with a colored pattern using a mask by irradiating an ultraviolet laser beam of 300 nm or less with a microwave short-exposure machine having a numerical aperture of 0.6 or more.

300nm이하의 파장을 갖는 레이저는 주로 알려진 KrF(248nm) 스캐너를 이용할 수 있다. KrF 스캐너는 불화크립톤 소스를 사용하여 발진된 레이저가 248nm의 파장대를 갖는 노광기이다. A laser having a wavelength of 300 nm or less can use a known KrF (248 nm) scanner. A KrF scanner is an exposure machine in which a laser oscillated using a krypton fluoride source has a wavelength band of 248 nm.

하기 수학식 1의 Rayleigh 식에서 보는 바와 같이 해상도는 일반적으로 개구수가 클수록 좋아진다. 즉, Rayleigh 식에서 해상도는 파장이 짧을수록 개구수가 크면 클수록 한계 해상도 값이 작아져 구현할 수 있는 패턴을 미세화할 수 있게 된다. 이를 고려하여 본 발명에서는 노광기의 개구수가 0.6이상이 되도록 한 상태에서 노광하게 된다. 상기 개구수가 0.6 미만일 경우 해상도가 떨어지는 단점이 있다. As can be seen from the Rayleigh equation of Equation (1), the resolution generally increases as the numerical aperture increases. That is, in the Rayleigh equation, as the wavelength becomes shorter and the numerical aperture becomes larger, the resolution of the threshold becomes smaller, and thus the pattern that can be implemented can be miniaturized. In consideration of this, in the present invention, exposure is performed in a state in which the numerical aperture of the exposure machine is 0.6 or more. When the numerical aperture is less than 0.6, there is a disadvantage that resolution is lowered.

마스크를 이용하여 전술한 도막형성단계에서 형성된 도막의 착색 패턴이 형성될 영역에 노광을 실시하면 마스크에 의해 빛이 투과된 부분에만 광중합개시제에 의해 가교 및 광경화가 일어나게 된다. When exposure is performed to a region where a colored pattern of a coating film formed in the above-described coat film forming step is to be formed by using a mask, crosslinking and photo-curing are caused by a photopolymerization initiator only at a portion where light is transmitted by the mask.

상기 노광은 반드시 제한되지는 않지만 노광량은 200mJ/㎠ 이하, 더욱 바람직하게는 50~150mJ/㎠인 것이 바람직하다. 상기 노광량이 200mJ/㎠을 초과할 경우 노광공정상의 지연으로 인한 전체 공정시간의 증가와 노광기 내부의 렌즈에 변형(distortion)으로 인한 노광기의 수명을 단축시킬 수 있다는 단점이 있다. The exposure is not necessarily limited, but the exposure dose is preferably 200 mJ / cm 2 or less, more preferably 50 to 150 mJ / cm 2. If the exposure amount exceeds 200 mJ / cm 2, there is a disadvantage that the entire process time due to the delay in the exposure process is increased and the life of the exposure machine due to distortion in the lens in the exposure machine can be shortened.

현상단계(S3)In the developing step S3,

상기 현상단계는 상기 노광단계에서의 비노광된 도막 영역을 제거하여 착색 패턴을 형성시키는 단계이다. The developing step is a step of removing a non-exposed coating film area in the exposure step to form a coloring pattern.

상기 현상단계에서 비노광단 도막 영역을 제거하기 위해서 사용되는 현상액은 당해분야에서 일반적으로 사용되는 것을 적용할 수 있으며, 통상 알칼리성 화합물과 계면활성제를 포함하는 수용액이다. As the developing solution used for removing the non-exposed monolayer film area in the developing step, those generally used in the art can be applied, and usually an aqueous solution containing an alkaline compound and a surfactant.

상기 현상액에 포함되는 알칼리성 화합물은 무기 및 유기 알칼리성 화합물 중 어느 것을 사용하여도 무방하다. 무기 알칼리성 화합물의 구체적인 예로는, 수 산화나트륨, 수산화칼륨, 인산수소이나트륨, 인산이수소나트륨, 인산수소이암모늄, 인산이수소암모늄, 인산이수소칼륨, 규산나트륨, 규산칼륨, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 탄산수소나트륨, 탄산수소칼륨, 붕산나트륨, 붕산칼륨, 암모니아 등을 들 수 있다. 또한, 유기 알칼리성 화합물의 구체적인 예로는, 테트라메틸암모늄히드록시드, 2-히드록시에틸트리메틸암모늄히드록시드, 모노메틸아민, 디메틸아민, 트리메틸아민, 모노에틸아민, 디에틸아민, 트리에틸아민, 모노이소프로필아민, 디이소프로필아민, 에탄올아민 등을 들 수 있다. 이들 무기 및 유기 알칼리성 화합물은 각각 단독 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. As the alkaline compound contained in the developer, any of inorganic and organic alkaline compounds may be used. Specific examples of the inorganic alkaline compound include sodium hydroxide, potassium hydroxide, disodium hydrogen phosphate, sodium dihydrogen phosphate, ammonium dihydrogen phosphate, ammonium dihydrogen phosphate, potassium dihydrogenphosphate, sodium silicate, potassium silicate, Sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, sodium borate, potassium borate, and ammonia. Specific examples of the organic alkaline compound include tetramethylammonium hydroxide, 2-hydroxyethyltrimethylammonium hydroxide, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, Monoisopropylamine, diisopropylamine, ethanolamine, and the like. These inorganic and organic alkaline compounds may be used alone or in combination of two or more.

상기 현상액 중의 알칼리성 화합물의 농도는 0.01 내지 10중량%인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.03 내지 5중량%인 것이다.The concentration of the alkaline compound in the developer is preferably 0.01 to 10% by weight, more preferably 0.03 to 5% by weight.

상기 현상액에 포함되는 계면 활성제로는 비이온계 계면활성제, 음이온계 계면활성제 또는 양이온계 계면활성제 중 어느 것을 사용하여도 무방하다. 비이온계 계면활성제의 구체적인 예로는, 폴리옥시에틸렌알킬에테르, 폴리옥시에틸렌아릴에테르, 폴리옥시에틸렌알킬아릴에테르, 그 밖의 폴리옥시에틸렌 유도체, 옥시에틸렌-옥시프로필렌 블록 공중합체, 소르비탄지방산에스테르, 폴리옥시에틸렌소르비탄지방산에스테르, 폴리옥시에틸렌소르비톨지방산에스테르, 글리세린지방산에스테르, 폴리옥시에틸렌지방산에스테르, 폴리옥시에틸렌알킬아민 등을 들 수 있다. 음이온계 계면활성제의 구체적인 예로는, 라우릴알콜황산에스테르나트륨, 올레일알콜황산에스테르나트륨 등의 고급 알콜 황산에스테르염류; 라우릴황산나트륨, 라우릴황산암모늄 등의 알킬황산염류; 도데실벤젠술폰산나트륨, 도데실나프탈렌술폰산나트륨 등의 알킬아릴술폰산염류 등을 들 수 있다. 양이온계 계면활성제의 구체적인 예로는, 스테아릴아민염산염, 라우릴트리메틸암모늄클로라이드 등의 아민염, 또는 4급 암모늄염 등을 들 수 있다. 이들 계면활성제는 각각 단독 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.As the surfactant contained in the developer, any of a nonionic surfactant, an anionic surfactant, and a cationic surfactant may be used. Specific examples of the nonionic surfactants include polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene aryl ethers, polyoxyethylene alkyl aryl ethers, other polyoxyethylene derivatives, oxyethylene-oxypropylene block copolymers, sorbitan fatty acid esters, Polyoxyethylene sorbitan fatty acid esters, polyoxyethylene sorbitol fatty acid esters, glycerin fatty acid esters, polyoxyethylene fatty acid esters, and polyoxyethylene alkylamines. Specific examples of the anionic surfactant include higher alcohol sulfuric acid ester salts such as sodium lauryl alcohol sulfate and sodium oleyl alcohol sulfate ester; Alkyl sulfates such as sodium lauryl sulfate and ammonium lauryl sulfate; Sodium dodecylbenzenesulfonate and sodium dodecylnaphthalenesulfonate; and the like. Specific examples of the cationic surfactant include amine salts such as stearylamine hydrochloride and lauryltrimethylammonium chloride, and quaternary ammonium salts. These surfactants may be used alone or in combination of two or more.

상기 현상액 중의 계면활성제의 농도는 0.01 내지 10중량%일 수 있으며, 바람직하게는 0.05 내지 8중량%, 보다 바람직하게는 0.1 내지 5중량%인 것이다. The concentration of the surfactant in the developer may be 0.01 to 10% by weight, preferably 0.05 to 8% by weight, more preferably 0.1 to 5% by weight.

현상단계 이후 필요에 따라서 착색 패턴이 형성된 컬러 필터는 150 내지 230℃에서 1분 내지 60분 정도의 후건조를 실시할 수도 있다. 상기 후건조는 패턴상의 잔류 솔벤트를 완전히 제거함과 아울러 구현된 패턴을 단단히 경화시키기 위함이다.After the development step, the color filter in which the colored pattern is formed as required may be post-dried at 150 to 230 DEG C for about 1 to 60 minutes. The post-drying is to completely remove the residual solvent on the pattern and harden the pattern to be formed.

본 발명에서는 상술한 고체 촬상 소자용 컬러 필터의 제조방법에 의해 제조되는 컬러 필터를 제공한다. The present invention provides a color filter manufactured by the above-described method of manufacturing a color filter for a solid-state imaging device.

상기 컬러 필터는 그 제조과정에서 초단판장 노광기를 사용함에 따라 미세화된 착색 패턴을 갖는다. 특히 본 발명에 의해 얻어지는 착색 패턴은 현재 상용화되는 2.2㎛보다도 현저하게 미세한 1.5㎛이하, 특히 1.0㎛이하가 가능하며, 그에 따라 상기 미세화된 착색 패턴을 갖는 컬러 필터는 고체 촬상 소자에 유용하게 적용될 수 있다. The color filter has a finely-patterned color pattern by using a micro-plate exposure device in its manufacturing process. Particularly, the coloring pattern obtained by the present invention can be remarkably fine 1.5 탆 or less, particularly 1.0 탆 or less, which is more than 2.2 탆 which is currently commercialized, and accordingly, the color filter having the above-mentioned minute coloring pattern can be usefully applied to solid- have.

본 발명에서는 상기 컬러 필터를 포함하는 고체촬상 소자를 제공한다. 상기 고체 촬상 소자는 본 발명에 따른 컬러 필터를 구비한 것을 제외하고는 본 발명의 기술분야에서 당업자에게 알려진 구성을 채택할 수 있다. The present invention provides a solid-state image pickup device including the color filter. The solid-state image pickup device may adopt a configuration known to those skilled in the art, except that the solid-state image pickup device is provided with the color filter according to the present invention.

이하, 실시예에 의해 본 발명을 보다 구체적으로 설명하지만, 본 발명이 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다. Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples.

<실시예 1>&Lt; Example 1 >

C.I.피그먼트 레드 254 6.27중량부, C.I.피그먼트 옐로우 139 2.09중량부 및 폴리에스테르계 분산제 1.41중량부로 구성된 밀베이스를 수득한 후, 상기 밀베이스에 바인더 수지(중량평균분자량이 22,000, 산가가 80mgKOH/g, 메타크릴산과 벤질메타크릴레이트의 공중합체) 4.63중량부, 광중합성 화합물(디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트(KAYARAD DPHA; 닛본 카야꾸 ㈜ 제조)) 4.63중량부, 광중합 개시제인 에타논-1-[9-에틸-6-(2-메틸-4-테트라히드로피라닐옥시벤조일)-9H-카바졸-3-일]-1-(O-아세틸옥심)(Irgacure OXE02; Ciba Specialty Chemical사 제조) 1.86중량부 및 1-히드록시시클로헥실벤조페논(Irgacure 184; Ciba Specialty Chemical사 제조) 0.93중량부, 밀착성 증진제인 2-(3,4에폭시시클로헥실)-에틸트리메톡시실란 0.05중량부, 산화방지제인 히드로퀴논모노메틸에테르 0.09중량부 및 용제인 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트 78중량부를 첨가한 후 혼합하여 착색 감광성 수지 조성물을 제조하였다.6.27 parts by weight of CI Pigment Red 254, 2.09 parts by weight of CI Pigment Yellow 139 and 1.41 parts by weight of a polyester-based dispersant, and then a binder resin (weight average molecular weight: 22,000, acid value: 80 mgKOH / , 4.63 parts by weight of a copolymer of methacrylic acid and benzyl methacrylate), 4.63 parts by weight of a photopolymerizable compound (dipentaerythritol hexaacrylate (KAYARAD DPHA; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) (9-ethyl-6- (2-methyl-4-tetrahydropyranyloxybenzoyl) -9H-carbazol-3-yl] -1- (O- acetyloxime) (Irgacure OXE02, 1.86 parts by weight and 1-hydroxycyclohexylbenzophenone (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals), 0.93 part by weight, 0.05 part by weight of 2- (3,4 epoxycyclohexyl) -ethyltrimethoxysilane as an adhesion promoter, 0.09 part by weight of hydroquinone monomethyl ether as an inhibitor and 1 part by weight of propylene And 78 parts by weight of glycol methyl ether acetate were added and mixed to prepare a colored photosensitive resin composition.

상기에서 제조된 착색 감광성 수지 조성물을 스핀 코팅법으로 실리콘웨이퍼 위에 0.6㎛의 두께가 되도록 도포한 다음, 가열판 위에 놓고 90℃의 온도에서 90초 예비소성하여 박막을 형성시켰다. The colored photosensitive resin composition prepared above was coated on a silicon wafer to a thickness of 0.6 탆 by a spin coating method and then placed on a heating plate and pre-baked at 90 캜 for 90 seconds to form a thin film.

이어서, 상기 형성된 박막을 KrF 스캐너 노광기((248nm)를 이용하여 개구수 0.6인 상태에서 노광량 100mJ/㎠로 조사하여 노광을 실시하였다.Subsequently, the formed thin film was exposed to light with an exposure amount of 100 mJ / cm 2 with a numerical aperture of 0.6 using a KrF scanner exposing machine (248 nm).

비노광 영역은 현상액(0.2% TMAH(테트라메틸암모니윰 하이드록시드))으로 제거하여 착색 패턴을 형성하였다. 그런 다음 220℃에서 3분간 후건조를 실시하여 레드(Red) 착색 패턴을 얻었다. The unexposed areas were removed with a developer (0.2% TMAH (tetramethylammonium hydroxide)) to form a colored pattern. Then, after drying for 3 minutes at 220 ° C, a red coloring pattern was obtained.

<실시예 2>&Lt; Example 2 >

착색제로 C.I. 피그먼트 그린 36 4.76중량부 및 C.I. 피그먼트 옐로우 139 2.04중량부를 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일하게 실시하여 그린(Green) 착색 패턴을 얻었다. C.I. 4.76 parts by weight Pigment Green 36 and C.I. A green coloring pattern was obtained in the same manner as in Example 1 except that 2.04 parts by weight of Pigment Yellow 139 was used.

<실시예 3>&Lt; Example 3 >

착색제로 C.I. Pigment Blue(안료 청색) 15:6호 6.32 중량부 C.I. Pigment Violet(안료 자주색) 23호 0.88 중량부를 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일하게 실시하여 블루(Blue) 착색 패턴을 얻었다. C.I. Pigment Blue (pigment blue) 15: 6 6.32 parts by weight C.I. A blue coloring pattern was obtained in the same manner as in Example 1 except that 0.88 parts by weight of Pigment Violet (Pigment Purple) No. 23 was used.

<실험예><Experimental Example>

상기 실시예에서 얻어진 착색 패턴을 SEM(Scanning Electron Microscopy)를 통해 패턴의 사이즈와 모양을 확인하였으며, 그 결과를 각각 도 2 내지 도 4에 나타내었다. The pattern size and shape of the coloring patterns obtained in the above examples were confirmed by Scanning Electron Microscopy (SEM), and the results are shown in FIGS. 2 to 4, respectively.

도 2 내지 도 4에서 보는 바와 같이 각각의 착색 패턴들은 1.3um의 미세한 패턴과 LER(라인 에지 거칠기)가 거의 없고 현상잔류물성 스컴 및 패턴의 탑로스가 거의 없는 정사각형의 우수한 패턴을 형성할 수 있었다.As shown in FIG. 2 to FIG. 4, each of the coloring patterns could form an excellent pattern having a fine pattern of 1.3 .mu.m and a rectangular shape with almost no LER (line edge roughness) and scarcity of residual developing property and pattern top loss .

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 컬러 필터 제조방법을 개략적으로 나타낸 공정도이다.FIG. 1 is a schematic view showing a method of manufacturing a color filter according to an embodiment of the present invention.

도 2 내지 도 4는 실시예 1 내지 3에서 제조된 각 컬러별 패턴의 SEM사진으로서 도 2는 Red, 도3은 Green, 도 4는 Blue를 나타낸다.FIGS. 2 to 4 are SEM photographs of the patterns of the respective colors manufactured in Examples 1 to 3, wherein FIG. 2 shows Red, FIG. 3 shows Green, and FIG. 4 shows Blue.

Claims

A coating film forming step of coating a colored photosensitive resin composition for each color including a photopolymerization initiator in response to microwave at 300 nm or less on a substrate to form a coating film;

An exposure step of irradiating a laser beam oscillated with a KrF excimer laser source having a numerical aperture of 0.6 or more with an ultra-violet laser KrF (248 nm) scanner exposing device having a wavelength band of 248 nm by using a mask to expose the area where the coloring pattern of the coating film is to be formed ; And

A developing step of removing a non-exposed coating film area in the exposure step to form a coloring pattern; The method comprising the steps of: preparing a color filter for a solid-state image sensor using a microwave long exposure machine,

Wherein the colored photosensitive resin composition comprises a colorant, a binder resin, a photopolymerizable compound, a photopolymerization initiator that reacts with an ultraviolet field of 300 nm or less,

Wherein the acid value of the binder resin is 80 to 200 mgKOH / g.

[3] The method of claim 1, wherein the step of forming the coating film comprises coating the colored photosensitive resin composition with a thickness of 0.5 to 1 [mu] m to form a coating film.

delete

The method according to claim 1, wherein the photopolymerization initiator comprises a oxime-based photopolymerization initiator.

The method of manufacturing a color filter for a solid-state image pickup device according to claim 1, wherein the exposure dose at the time of exposure is 200 mJ / cm 2 or less.

delete