KR20110024394A - Colored photosensitive resin composition for color filter of solid state imaging device, color filter and solid state imaging device including the same - Google Patents

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KR20110024394A
KR20110024394A KR1020090082378A KR20090082378A KR20110024394A KR 20110024394 A KR20110024394 A KR 20110024394A KR 1020090082378 A KR1020090082378 A KR 1020090082378A KR 20090082378 A KR20090082378 A KR 20090082378A KR 20110024394 A KR20110024394 A KR 20110024394A
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온정훈
이상행
이승노
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동우 화인켐 주식회사
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Abstract

PURPOSE: A colored photosensitive resin composition for the color filter of a solid state imaging device, the color filter fabricated using the same, and the solid state imaging device including the same are provided to include a colored pattern with the high resolution and the superior sensitivity. CONSTITUTION: A colored photosensitive resin composition contains pigment and dye. The dye is selected from color index solvent, and the pigment is selected from color index pigment. A photo-polymerization initiator includes an oxime ester-based photo-polymerization initiator and other photo-polymerization initiator. The colored photosensitive resin composition is coated on a substrate, and a pre-set pattern is exposed and developed to obtain a colored pattern using exposure equipment.

Description

300㎚ 이하의 초단파장 노광기를 이용한 고체 촬상 소자의 컬러 필터 제조용 착색 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 컬러 필터 및 이를 포함하는 고체 촬상 소자{Colored photosensitive resin composition for color filter of solid state imaging device, color filter and solid state imaging device including the same}Colored photosensitive resin composition for manufacturing a color filter of a solid-state imaging device using an ultra-short wavelength exposure device of 300 nm or less, a color filter prepared using the same, and a solid-state imaging device comprising the same filter and solid state imaging device including the same}

본 발명은 300nm 이하의 초단파장 노광기를 이용하고 안료와 염료의 혼합으로 구성된 착색제를 포함하여 이루어진 고체 촬상 소자의 컬러 필터 제조용 착색 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 컬러 필터 및 이를 포함하는 고체 촬상소자에 관한 것이다.The present invention provides a color photosensitive resin composition for manufacturing a color filter of a solid-state imaging device, which comprises a colorant composed of a mixture of pigments and dyes, using an ultra-short wavelength exposure device of 300 nm or less, a color filter manufactured using the same, and a solid-state imaging device including the same. It is about.

잘 알려진 바와 같이, 컬러 이미지를 구현하기 위한 촬상 소자는 외부로부터의 빛을 받아 광전하를 생성 및 축적하는 광감지부분 상부에 컬러 필터가 구비되어 있다. 상기 컬러 필터는 레드(Red), 그린(Green) 및 블루(Blue)의 3가지 컬러의 착색 패턴으로 이루어지거나, 옐로우(Yellow), 마젠타(Magenta) 및 시안(Cyan)의 3가 지 컬러의 착색 패턴으로 이루어진다. As is well known, an image pickup device for implementing a color image is provided with a color filter on an upper portion of a light sensing portion that receives and receives light from the outside to generate and accumulate photocharges. The color filter is composed of a coloring pattern of three colors of red, green, and blue, or coloring of three colors of yellow, magenta, and cyan. It consists of a pattern.

상기 컬러 필터 각각의 착색 패턴은 안료 또는 염료를 포함하는 착색 감광성 수지 조성물을 이용하여 형성된다. 상기 착색 감광성 수지 조성물을 이용한 착색패턴 가공은 통상적으로 리소그래피 공정에서 수행된다. 상기 착색 패턴 제조에 사용되는 리소그래피 공정용 광원의 파장은 일반적으로 g-선(파장 436nm)이나 i-선(파장 365nm) 파장이 사용된다. The coloring pattern of each said color filter is formed using the coloring photosensitive resin composition containing a pigment or dye. Colored pattern processing using the colored photosensitive resin composition is usually carried out in a lithography process. As a wavelength of the light source for the lithography process used for the said coloring pattern manufacture, g-ray (wavelength 436nm) or i-ray (wavelength 365nm) wavelength is used normally.

한편, 최근 들어 디지털카메라 등의 고체 촬상소자는 고화소화 및 화질의 개선을 위해 화소 사이즈가 기존 4~5um에서 2um이하로 작아짐을 요구함에 따라 착색 패턴 역시 초미세화와 정사각형을 가질 것이 요구되고 있다. On the other hand, in recent years, solid-state imaging devices such as digital cameras require that the pixel size is reduced to less than 2um from the existing 4-5um in order to improve the high pixel quality and image quality, and the coloring pattern is also required to have ultrafine and square.

그에 따라 본 발명자들은 300nm 이하의 초단파장의 노광기를 이용하여 고체 촬상 소자용 컬러 필터의 착색 패턴 사이즈를 초미세화시키고자 하는 연구를 진행하였으나, 통상의 착색 감광성 수지 조성물은 300nm 이하의 초단파장에서 경화가 잘 이루어지지 않는다는 문제점이 있다. 뿐만 아니라 화소의 사이즈가 감소 함에 따라 도막의 두께를 0.8um이하로 유지하여야만 300nm 이하의 초단파장에서 경화가 이루어진다는 단점이 있다, Accordingly, the inventors of the present invention conducted an attempt to ultrafine the colored pattern size of the color filter for a solid-state image sensor by using an ultra short wavelength exposure machine of 300 nm or less. However, the conventional colored photosensitive resin composition is hardly curable at an ultra short wavelength of 300 nm or less. There is a problem that it does not work well. In addition, as the size of the pixel decreases, the thickness of the coating film must be maintained at 0.8um or less, so that curing is performed at an ultra-short wavelength of 300 nm or less.

또한, 착색 감광성 수지 조성물을 사용하여 착색 패턴을 효과적으로 수득하기 위해서는 착색제를 고농도로 함유하는 착색 감광성 조성물을 사용하는 것이 바람직하다. 그러나 고농도의 착색제를 포함하는 착색 감광성 수지 조성물의 경우 상대적으로 바인더 중합체, 광중합성 화합물, 광중합 개시제의 함유율이 줄어들어 감도가 떨어지거나, 패턴형성에 어려움을 야기 할 수 있다. 착색제를 고농도로 함유 하지 않는 착색 감광성 조성물은 고농도의 착색제를 포함하는 착색 감광성 수지 조성물과 동일 막두께로 패턴을 형성 할 경우 색순도가 떨어지거나, 색섞임이 발생하는 문제점이 있다.Moreover, in order to obtain a coloring pattern effectively using a coloring photosensitive resin composition, it is preferable to use the coloring photosensitive composition containing a coloring agent in high concentration. However, in the case of the coloring photosensitive resin composition containing a high concentration of the colorant, the content of the binder polymer, the photopolymerizable compound, and the photopolymerization initiator may be relatively decreased, resulting in inferior sensitivity or difficulty in pattern formation. The coloring photosensitive composition which does not contain the coloring agent at high concentration has a problem in that color purity falls or color mixing occurs when a pattern is formed at the same film thickness as the coloring photosensitive resin composition containing a high concentration of coloring agent.

본 발명은 상기와 같은 종래기술의 문제점들을 해결하기 위한 것으로, 300nm 이하의 초단파장 노광기를 이용하여 고체 촬상 소자의 컬러 필터의 제조시 안료와 염료의 조합으로 구성된 착색제를 이용하여, 투과율 저하를 방지하여 색순도가 우수하고 색섞임이 없는 고감도 및 초미세화된 고해상도의 착색 패턴을 갖는 컬러 필터의 제조가 가능한 300nm 이하의 초단파장 노광기를 이용한 고체 촬상 소자의 컬러 필터 제조용 착색 감광성 수지 조성물을 제공하는데 그 목적이 있다. The present invention is to solve the problems of the prior art as described above, by using a colorant composed of a combination of pigments and dyes in the manufacture of a color filter of a solid-state imaging device using an ultra-short wavelength exposure device of 300nm or less, to prevent a decrease in transmittance To provide a colored photosensitive resin composition for producing a color filter of a solid-state imaging device using an ultra-short wavelength exposure device of 300nm or less capable of producing a color filter having excellent color purity, high sensitivity without color mixing, and ultrafine high resolution coloring pattern. There is this.

또한 본 발명은 초미세화된 고해상도의 착색 패턴을 갖는 컬러 필터를 제공하는데 다른 목적이 있다. It is another object of the present invention to provide a color filter having an ultrafine high resolution coloring pattern.

또한 본 발명은 상기 컬러 필터를 포함하는 고체 촬상 소자를 제공하는데 또 다른 목적이 있다.Another object of the present invention is to provide a solid-state image sensor including the color filter.

상기 기술한 목적을 달성하기 위해 본 발명은, 착색제, 바인더 수지, 광중합성 화합물, 광중합 개시제 및 용매를 포함하는 이루어지는 300nm 이하의 초단파장 노광기를 이용한 고체 촬상 소자의 컬러 필터 제조용 착색 감광성 수지 조성물로서, 상기 착색제는 안료 및 염료를 포함하여 이루어지고, 상기 광중합 개시제는 옥심에스테르계 광중합 개시제 및 상기 옥심에스테르계 광중합 개시제 이외의 다른 광중합 개시제를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 300nm 이하의 초단파장 노광기를 이용한 고체 촬상 소자의 컬러 필터 제조용 착색 감광성 수지 조성물을 제공한다. In order to achieve the above object, the present invention provides a colored photosensitive resin composition for producing a color filter of a solid-state imaging device using a 300 nm or less ultra-short wavelength exposure device comprising a colorant, a binder resin, a photopolymerizable compound, a photopolymerization initiator and a solvent. The colorant comprises a pigment and a dye, and the photopolymerization initiator comprises a photopolymerization initiator other than the oxime ester photopolymerization initiator and the oxime ester photopolymerization initiator, the solid using an ultra-short wavelength exposure device of 300nm or less The coloring photosensitive resin composition for color filter manufacture of an imaging element is provided.

상기 염료는 칼라 인덱스 솔벤트(C.I. Solvent) 중에서 선택되는 것이 바람직하다.The dye is preferably selected from among C. I. Solvent.

또한, 상기 안료는 칼라 인덱스 피그먼트(C.I. Pigment) 중에서 선택되는 것이 바람직하다.In addition, the pigment is preferably selected from the color index pigment (C.I. Pigment).

특히, 상기 착색 감광성 수지 조성물이 그린(Green)으로 착색되는 착색 감광성 수지 조성물인 경우, 상기 안료는 칼라 인덱스 피그먼트(C.I. Pigment) 그린(Green)을 포함하며, 상기 염료는 칼라 인덱스 솔벤트(C.I. Solvent) 옐로우(Yellow)를 포함하는 것이 바람직하다. 이때, 상기 안료는 칼라 인덱스 피그먼트(C.I. Pigment) 그린(Green) 7호, 칼라 인덱스 피그먼트(C.I. Pigment) 그린(Green) 36호 및 칼라 인덱스 피그먼트(C.I. Pigment) 그린(Green) 58호 에서 선택된 적어도 하나를 포함하며, 상기 염료는 칼라 인덱스 솔벤트(C.I. Solvent) 옐로우(Yellow) 82호를 포함할 수 있다.In particular, when the colored photosensitive resin composition is a colored photosensitive resin composition colored with Green, the pigment includes color pigment pigment (CI Pigment) Green, and the dye is color index solvent (CI Solvent). ) Yellow is preferably included. In this case, the pigment is in the color index pigment (CI Pigment Green No. 7), the color index pigment (CI Pigment) Green No. 36 and the color index pigment (CI Pigment) Green No. 58 At least one selected, and the dye may include color index solvent Yellow (CI Solvent Yellow) 82.

또한, 상기 착색 감광성 수지 조성물이 레드(Red)로 착색되는 착색 감광성 수지 조성물인 경우, 상기 안료는 칼라 인덱스 피그먼트(C.I. Pigment) 레드(Red) 를 포함하며, 상기 염료는 칼라 인덱스 솔벤트(C.I. Solvent)를 포함할 수 있다.In addition, when the colored photosensitive resin composition is a colored photosensitive resin composition that is colored red, the pigment comprises color pigment pigment (CI Pigment) red, and the dye is color index solvent (CI Solvent). ) May be included.

또한, 상기 착색 감광성 수지 조성물이 블루(Blue)로 착색되는 착색 감광성 수지 조성물인 경우, 상기 안료는 칼라 인덱스 피그먼트(C.I. Pigment) 블루(Blue)를 포함하며, 상기 염료는 칼라 인덱스 솔벤트(C.I. Solvent)를 포함할 수 있다.In addition, when the coloring photosensitive resin composition is a coloring photosensitive resin composition that is colored blue, the pigment comprises a color index pigment (CI Pigment) Blue, and the dye is a color index solvent (CI Solvent) ) May be included.

상기 옥심에스테르계 광중합 개시제 이외의 다른 광중합 개시제는 아세토페논계 광중합 개시제, 벤조인계 광중합 개시제, 벤조페논계 광중합 개시제, 티오크산톤계 광중합 개시제 또는 트리아진계 광중합 개시제에서 선택되는 활성라디칼 발생제, 증감제 및 산발생제로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종인 것이 바람직하다.Other photopolymerization initiators other than the oxime ester photopolymerization initiator may be selected from an acetophenone photopolymerization initiator, a benzoin photopolymerization initiator, a benzophenone photopolymerization initiator, a thioxanthone photopolymerization initiator or a triazine photopolymerization initiator, and a sensitizer. And it is preferable that it is at least 1 sort (s) chosen from the group which consists of an acid generator.

상기 옥심에스테르계 광중합 개시제는 그를 포함하는 광중합 개시제 전체량에 대하여 중량 분율로 1~99중량% 포함되고, 상기 광중합 개시제는 착색 감광성 수지 조성물 중의 고형분 함량에 대하여 1~50중량% 함유되는 것이 좋다. The oxime ester photopolymerization initiator is contained in a weight fraction of 1 to 99% by weight based on the total amount of the photopolymerization initiator including the same, the photopolymerization initiator is preferably contained 1 to 50% by weight based on the solids content in the colored photosensitive resin composition.

상기 300nm 이하의 초단파장 노광기는 KrF 스캐너 노광기(248nm)인 것이 바람직하다. It is preferable that the ultra-short wavelength exposure machine of 300 nm or less is a KrF scanner exposure machine (248 nm).

본 발명의 다른 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 기판상에 상기 본 발명에 따른 착색 감광성 수지 조성물을 코팅한 후 300nm 이하의 초단파장 노광기를 사용하여 소정의 패턴으로 노광 및 현상하여 형성되는 착색 패턴을 포함하는 것을 특징으로 하는 컬러 필터를 제공한다. In order to achieve the other object of the present invention, the present invention provides a colored pattern formed by coating the colored photosensitive resin composition according to the present invention on a substrate and then exposing and developing in a predetermined pattern using an ultra-short wavelength exposure machine of 300 nm or less. It provides a color filter comprising a.

본 발명의 또 다른 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 상기 컬러 필터를 포함하는 것을 특징으로 하는 고체 촬상 소자를 제공한다. In order to achieve another object of the present invention, the present invention provides a solid-state imaging device comprising the color filter.

상기한 본 발명에 따른 300nm 이하의 초단파장 노광기를 이용한 고체 촬상 소자의 컬러 필터 제조용 착색 감광성 수지 조성물은 낮은 한계 해상도로 1.4㎛이하의 미세한 착색 패턴 특히 1.0㎛이하의 미세한 크기를 유지하면서 0.8um 이하의 막두께에서도 요구 파장대에서 불순 피크들이 감소된 깨끗한 투과율 그래프를 얻을 수 있으며 요구 파장대에서 불순 피크들이 없어 색순도가 떨어지거나 색섞임이 발생하는 등의 단점이 없는 컬러 필터의 제조가 가능하다. 그에 따라 상기 컬러 필터는 고체 촬상 소자에 유용하게 사용될 수 있다.The coloring photosensitive resin composition for manufacturing a color filter of a solid-state imaging device using the ultra-short wavelength exposure machine of 300 nm or less according to the present invention is 0.8um or less while maintaining a fine colored pattern of 1.4 μm or less, especially a fine size of 1.0 μm or less, with low limit resolution. Even in the film thickness, a clean transmittance graph in which impurity peaks are reduced in a required wavelength band can be obtained, and color filters can be manufactured without disadvantages such as lack of color purity or color mixing due to no impurity peaks in a required wavelength band. Accordingly, the color filter may be usefully used for a solid state imaging device.

이하 본 발명을 구체적으로 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the present invention will be described in detail.

본 발명에 따른 300nm 이하의 초단파장 노광기를 이용한 고체 촬상 소자의 컬러 필터 제조용 착색 감광성 수지 조성물(이하 간단히 '착색 감광성 수지 조성물' 이라고도 한다)은 착색제(A), 바인더 수지(B), 광중합성 화합물(C), 광중합 개시제(D) 및 용매(E)를 포함하여 이루어진다. The coloring photosensitive resin composition (henceforth simply called a "coloring photosensitive resin composition") of the color filter manufacture of the solid-state image sensor using the ultra short wavelength exposure machine of 300 nm or less which concerns on this invention is a coloring agent (A), binder resin (B), and a photopolymerizable compound. (C), a photoinitiator (D), and a solvent (E).

착색제(A)Colorant (A)

상기 착색제는 기존 착색 감광성 수지 조성물의 분야에서 일반적으로 사용되 는 안료뿐만 아니라, 유기용제에 용해 가능한 염료를 포함하고 있다. 따라서, 분산제와 안료의 단순 혼합 형태인 종래의 착색제보다도 분산성 및 색 구현성이 우수하다. 특히, 안료만을 사용하는 경우에 발생하는 투과율 그래프상의 불순 피크들을 효과적으로 감소시킬 수 있다. The colorant includes not only pigments generally used in the field of conventional coloring photosensitive resin compositions, but also dyes soluble in organic solvents. Therefore, it is excellent in dispersibility and color implementability compared with the conventional coloring agent which is a simple mixing form of a dispersing agent and a pigment. In particular, it is possible to effectively reduce the impurity peaks on the transmittance graph generated when only the pigment is used.

상기 안료는 특정 칼라를 흡수 또는 투과시키는 안료를 제한하지 않고 이용할 수 있다. The pigment can be used without limiting the pigment which absorbs or transmits a specific color.

상기 안료로는 유기 또는 무기 안료를 사용할 수 있으며, 합성 색소 또는 천연 색소일 수 있다. Organic or inorganic pigments may be used as the pigment, and may be a synthetic or natural pigment.

상기 무기 안료는, 예컨대 금속 산화물, 금속 착염, 황산바륨(체질 안료)의 무기염 등일 수 있다. The inorganic pigments may be, for example, metal oxides, metal complex salts, inorganic salts of barium sulfate (constitution pigments), and the like.

필요한 경우, 유기 안료는 로진 처리, 산성 기 또는 염기성 기가 도입되어 있는 안료 유도체를 사용하는 표면 처리, 중합체 화합물 등을 사용하는 안료의 표면에 대한 그라프트 처리, 황산 미세 입자화 방법 등에 의한 미세 입자화 처리, 또는 불순물을 제거하기 위해 유기 용제 또는 물 등에 의한 세정 처리를 실시할 수 있다.If necessary, organic pigments can be finely granulated by rosin treatment, surface treatment using pigment derivatives having acidic or basic groups introduced therein, graft treatment on the surface of pigments using polymer compounds, etc., sulfuric acid fine granulation methods, and the like. Treatment or washing treatment with an organic solvent, water or the like can be performed to remove impurities.

상기 안료는 구체적으로 칼라 인덱스(Color Index)(The Society of Dyers and Colourists에 의해 출판됨) 내에 안료로서 분류된 화합물을 사용할 수 있고 그 구체적인 예는 다음과 같이 열거될 수 있다.The pigment may specifically use a compound classified as a pigment in the Color Index (published by The Society of Dyers and Colourists), specific examples of which may be listed as follows.

사용될 수 있는 안료의 구체적인 예로는, Specific examples of pigments that can be used include,

C.I. Pigment Yellow (안료 황색)1호, C.I. 안료 황색 12, C.I. 안료 황색 13호, C.I. 안료 황색 14호, C.I. 안료 황색 15호, C.I. 안료 황색 16호, C.I. 안료 황색 17호, C.I. 안료 황색 20호, C.I. 안료 황색 24호, C.I. 안료 황색 31호, C.I. 안료 황색 53호, C.I. 안료 황색 83호, C.I. 안료 황색 86호, C.I. 안료 황색 93호, C.I. 안료 황색 94호, C.I. 안료 황색 109호, C.I. 안료 황색 110호, C.I. 안료 황색 117호, C.I. 안료 황색 125호, C.I. 안료 황색 128호, C.I. 안료 황색 137호, C.I. 안료 황색 138호, C.I. 안료 황색 139호, C.I. 안료 황색 147호, C.I. 안료 황색 148호, C.I. 안료 황색 150호, C.I. 안료 황색 153호, C.I. 안료 황색 154호, C.I. 안료 황색 166호, C.I. 안료 황색 173호,C.I. Pigment Yellow No. 1, C.I. Pigment Yellow 12, C.I. Pigment Yellow No. 13, C.I. Pigment Yellow No. 14, C.I. Pigment Yellow No. 15, C.I. Pigment Yellow No. 16, C.I. Pigment Yellow No. 17, C.I. Pigment Yellow No. 20, C.I. Pigment Yellow No. 24, C.I. Pigment Yellow No. 31, C.I. Pigment Yellow No. 53, C.I. Pigment Yellow No. 83, C.I. Pigment Yellow No. 86, C.I. Pigment Yellow 93, C.I. Pigment Yellow No. 94, C.I. Pigment Yellow No. 109, C.I. Pigment Yellow No. 110, C.I. Pigment Yellow No. 117, C.I. Pigment Yellow No. 125, C.I. Pigment Yellow No. 128, C.I. Pigment Yellow 137, C.I. Pigment Yellow 138, C.I. Pigment Yellow No. 139, C.I. Pigment Yellow No. 147, C.I. Pigment Yellow 148, C.I. Pigment Yellow No. 150, C.I. Pigment Yellow 153, C.I. Pigment Yellow 154, C.I. Pigment Yellow 166, C.I. Pigment yellow 173,

C.I. Pigment Orange (안료 오렌지색) 13호, C.I. 안료 오렌지색 31호, C.I. 안료 오렌지색 36호, C.I. 안료 오렌지색 38호, C.I. 안료 오렌지색 40호, C.I. 안료 오렌지색 42호, C.I. 안료 오렌지색 43호, C.I. 안료 오렌지색 51호, C.I. 안료 오렌지색 55호, C.I. 안료 오렌지색 59호, C.I. 안료 오렌지색 61호, C.I. 안료 오렌지색 64호, C.I. 안료 오렌지색 65호, C.I. 안료 오렌지색 71호, C.I. 안료 오렌지색 73호, C.I. Pigment Orange No. 13, C.I. Pigment Orange No. 31, C.I. Pigment Orange No. 36, C.I. Pigment Orange No. 38, C.I. Pigment Orange No. 40, C.I. Pigment Orange No. 42, C.I. Pigment Orange No. 43, C.I. Pigment Orange No. 51, C.I. Pigment Orange No. 55, C.I. Pigment Orange No. 59, C.I. Pigment Orange No. 61, C.I. Pigment Orange 64, C.I. Pigment Orange 65, C.I. Pigment Orange 71, C.I. Pigment Orange No. 73,

C.I. Pigment Red (안료 적색) 9호, C.I. 안료 적색 97호, C.I. 안료 적색 105호, C.I. 안료 적색 122호, C.I. 안료 적색 123호, C.I. 안료 적색 144호, C.I. 안료 적색 149호, C.I. 안료 적색 166호, C.I. 안료 적색 168호, C.I. 안료 적색 176호, C.I. 안료 적색 177호, C.I. 안료 적색 180호, C.I. 안료 적색 192호, C.I. 안료 적색 215호, C.I. 안료 적색 216호, C.I. 안료 적색 224호, C.I. 안료 적색 242호, C.I. 안료 적색 254호, C.I. 안료 적색 264호, C.I. 안료 적색 265호, C.I. C.I. Pigment Red No. 9, C.I. Pigment Red No. 97, C.I. Pigment Red No. 105, C.I. Pigment Red No. 122, C.I. Pigment Red 123, C.I. Pigment Red 144, C.I. Pigment Red 149, C.I. Pigment Red 166, C.I. Pigment Red 168, C.I. Pigment Red 176, C.I. Pigment Red No. 177, C.I. Pigment Red No. 180, C.I. Pigment Red 192, C.I. Pigment Red 215, C.I. Pigment Red 216, C.I. Pigment Red 224, C.I. Pigment Red 242, C.I. Pigment Red No. 254, C.I. Pigment Red No. 264, C.I. Pigment Red No. 265, C.I.

Pigment Blue (안료 청색) 15호, C.I. 안료 청색 15:3호, C.I. 안료 청색 15:4호, C.I. 안료 청색 15:6호, C.I. 안료 청색 60호,Pigment Blue No. 15, C.I. Pigment Blue 15: 3, C.I. Pigment Blue 15: 4, C.I. Pigment Blue 15: 6, C.I. Pigment Blue No. 60,

C.I. Pigment Violet (안료 자주색) 1호, C.I. 안료 자주색 19호, C.I. 안료 자주색 23호, C.I 안료 자주색 29호, C.I 안료 자주색 32호, C.I 안료 자주색 36호, C.I 안료 자주색 38호,C.I. Pigment Violet No. 1, C.I. Pigment Purple No. 19, C.I. Pigment Purple No. 23, C.I Pigment Purple No. 29, C.I Pigment Purple No. 32, C.I Pigment Purple No. 36, C.I Pigment Purple No. 38,

C.I. Pigment Green (안료 녹색) 7호, C.I. 안료 녹색 36호, C.I. Pigment Green No. 7, C.I. Pigment green 36,

C.I. Pigment Brown (안료 갈색) 23호, C.I. 안료 갈색 25호 등을 들 수 있다.C.I. Pigment Brown No. 23, C.I. Pigment brown No. 25, etc. are mentioned.

상기 안료는 각각 단독으로 또는 2종 이상의 조합으로 사용할 수 있다.The pigments may be used alone or in combination of two or more.

상기 염료는 칼라 인덱스(Color Index)(The Society of Dyers and Colourists에 의해 출판됨) 내에 염로로서 분류된 화합물을 사용할 수 있고 특히, 다음의 예로 열거된 칼라 인덱스 솔벤트(C.I. Solvent)계의 염료를 사용하는 것이 좋다.The dye may use a compound classified as a salt in the Color Index (published by The Society of Dyers and Colourists), and in particular, a dye of the CI Solvent-based dyes listed in the following examples. Good to do.

사용될 수 있는 염료의 구체적인 예로는, Specific examples of dyes that can be used include,

C.I. Solvent Yellow (솔벤트 황색) 2 호, C.I. 솔벤트 황색 14 호, C.I. 솔벤트 황색 16호, C.I. 솔벤트 황색 33호, C.I. 솔벤트 황색 34호, C.I. 솔벤트 황색 44호, C.I. 솔벤트 황색 56호, C.I. 솔벤트 황색 82호, C.I. 솔벤트 황색 93호, C.I. 솔벤트 황색 94호, C.I. 솔벤트 황색 98호, C.I. 솔벤트 황색 116호, C.I. 솔벤트 황색 135호, C.I. Solvent Yellow No. 2, C.I. Solvent Yellow No. 14, C.I. Solvent Yellow No. 16, C.I. Solvent Yellow No. 33, C.I. Solvent Yellow No. 34, C.I. Solvent Yellow No. 44, C.I. Solvent Yellow No. 56, C.I. Solvent Yellow No. 82, C.I. Solvent Yellow No. 93, C.I. Solvent Yellow No. 94, C.I. Solvent Yellow No. 98, C.I. Solvent Yellow No. 116, C.I. Solvent yellow 135,

C.I. Solvent Orange (솔벤트 오렌지색) 1호, C.I. 솔벤트 오렌지색 3호, C.I. 솔벤트 오렌지색 7호, C.I. 솔벤트 오렌지색 63호, C.I. Solvent Orange No. 1, C.I. Solvent Orange No. 3, C.I. Solvent Orange No. 7, C.I. Solvent Orange 63,

C.I. Solvent Red (솔벤트 적색) 1호, C.I. 솔벤트 적색 2호, C.I. 솔벤트 적색 3호, C.I. 솔벤트 적색 8호, C.I. 솔벤트 적색 18호, C.I. 솔벤트 적색 23호, C.I. 솔벤트 적색 24호, C.I. 솔벤트 적색 27호, C.I. 솔벤트 적색 35호, C.I. 솔벤트 적색 43호, C.I. 솔벤트 적색 45호, C.I. 솔벤트 적색 48호, C.I. 솔벤트 적색 49호, C.I. 솔벤트 적색 91:1호, C.I. 솔벤트 적색 119호, C.I. 솔벤트 적색 135호, C.I. 솔벤트 적색 140호, C.I. 솔벤트 적색 196호, C.I. 솔벤트 적색 197호, C.I. C.I. Solvent Red No. 1, C.I. Solvent Red No. 2, C.I. Solvent Red No. 3, C.I. Solvent Red No. 8, C.I. Solvent Red No. 18, C.I. Solvent Red No. 23, C.I. Solvent Red No. 24, C.I. Solvent Red No. 27, C.I. Solvent Red No. 35, C.I. Solvent Red No. 43, C.I. Solvent Red No. 45, C.I. Solvent Red No. 48, C.I. Solvent Red No. 49, C.I. Solvent Red 91: 1, C.I. Solvent Red No. 119, C.I. Solvent Red No. 135, C.I. Solvent Red No. 140, C.I. Solvent Red No. 196, C.I. Solvent Red No. 197, C.I.

Solvent Violet (솔벤트 자주색) 8호, C.I. 솔벤트 자주색 9호, C.I. 솔벤트 자주색 13호, C.I. 솔벤트 자주색 26호, C.I. 솔벤트 자주색 28호, C.I. 솔벤트 자주색 31호, C.I. 솔벤트 자주색 59호, Solvent Violet No. 8, C.I. Solvent Purple No. 9, C.I. Solvent Purple No. 13, C.I. Solvent Purple No. 26, C.I. Solvent Purple No. 28, C.I. Solvent Purple No. 31, C.I. Solvent Purple No. 59,

C.I. Solvent Blue (솔벤트 청색) 4호, C.I. 솔벤트 청색 5호, C.I. 솔벤트 청색 25호, C.I. 솔벤트 청색 35호, C.I. 솔벤트 청색 36호, C.I. 솔벤트 청색 38호, C.I. 솔벤트 청색 70호, C.I. Solvent Blue No. 4, C.I. Solvent Blue No. 5, C.I. Solvent Blue No. 25, C.I. Solvent Blue No. 35, C.I. Solvent Blue No. 36, C.I. Solvent Blue No. 38, C.I. Solvent Blue No. 70,

C.I. Solvent Green (솔벤트 녹색) 3호, C.I. 솔벤트 녹색 5호, C.I. 솔벤트 녹색 7호 등을 들 수 있다.C.I. Solvent Green No. 3, C.I. Solvent Green No. 5, C.I. Solvent green 7 and the like.

상기 염료는 각각 단독으로 또는 2종 이상의 조합으로 사용할 수 있다.The dyes may be used alone or in combination of two or more.

예를 들어 상기 착색 감광성 수지 조성물이 그린(Green)으로 착색되는 착색 감광성 수지 조성물인 경우, 제한되지 않으나, 상기 안료는 칼라 인덱스 피그먼 트(C.I. Pigment) 그린(Green)을 포함하며, 상기 염료는 칼라 인덱스 솔벤트(C.I. Solvent) 옐로우(Yellow)를 포함할 수 있다. 특히, 상기 안료는 칼라 인덱스 피그먼트(C.I. Pigment) 그린(Green) 7호, 칼라 인덱스 피그먼트(C.I. Pigment) 그린(Green) 36호 및 칼라 인덱스 피그먼트(C.I. Pigment) 그린(Green) 58호 에서 선택된 적어도 하나를 포함하며, 상기 염료는 칼라 인덱스 솔벤트(C.I. Solvent) 옐로우(Yellow) 82호를 포함할 수 있다. For example, when the colored photosensitive resin composition is a colored photosensitive resin composition colored with Green, the pigment is not limited, but the pigment includes color index Pigment Green, and the dye Color index solvent (CI Solvent) yellow may be included. In particular, the pigment may be used in the color index pigment (CI Pigment Green) No. 7, the color index pigment (CI Pigment) Green 36 and the color index pigment (CI Pigment) Green 58 At least one selected, and the dye may include color index solvent Yellow (CI Solvent Yellow) 82.

또한, 상기 착색 감광성 수지 조성물이 레드(Red)로 착색되는 착색 감광성 수지 조성물인 경우 상기 안료는 칼라 인덱스 피그먼트(C.I. Pigment) 레드(Red)를 포함하며, 상기 염료는 칼라 인덱스 솔벤트(C.I. Solvent)를 포함할 수 있다. In addition, when the colored photosensitive resin composition is a colored photosensitive resin composition colored in red, the pigment includes a color pigment pigment (CI Pigment) red, and the dye is a color index solvent (CI Solvent). It may include.

또한, 착색 감광성 수지 조성물이 블루(Blue)로 착색되는 착색 감광성 수지 조성물인 경우 상기 안료는 칼라 인덱스 피그먼트(C.I. Pigment) 블루(Blue)를 포함하며, 상기 염료는 칼라 인덱스 솔벤트(C.I. Solvent)를 포함할 수 있다. In addition, when the colored photosensitive resin composition is a colored photosensitive resin composition colored in blue, the pigment includes color index pigment (CI Pigment) Blue, and the dye may use color index solvent (CI Solvent). It may include.

착색제 중의 상기 안료와 염료의 함량은 제한되지 않으며, 바람직하게 상기 안료와 염료 각각은 착색제 전체량에 대하여 중량 비율로 1~99중량% 포함될 수 있다. 안료와 염료의 함량이 상기 범위내에 포함될 경우 투과율 그래프상의 불순 피크들을 효과적으로 감소시켜 우수한 색순도 및 색섞임이 없는 착색 패턴을 얻을 수 있게 된다. 상기 착색제의 사용량은 착색 감광성 수지 조성물 중의 고형분에 대해서 중량 분율로 5중량% 내지 60중량%, 바람직하게는 10중량% 내지 50중량% 이다. 상기 착색제의 사용량이 상기의 기준으로 상기의 범위에 포함될 경우 착색패턴의 컬러 농도가 충분하며, 기계적 강도가 충분한 착색 패턴을 형성할 수 있게 된다. The content of the pigment and the dye in the colorant is not limited. Preferably, each of the pigment and the dye may be included in the weight ratio of 1 to 99% by weight based on the total amount of the colorant. When the content of the pigment and dye is included in the above range it is possible to effectively reduce the impurity peaks on the transmittance graph to obtain a color pattern without excellent color purity and color mixing. The usage-amount of the said coloring agent is 5 weight%-60 weight%, Preferably it is 10 weight%-50 weight% with respect to solid content in a coloring photosensitive resin composition. When the amount of the coloring agent is included in the above range on the basis of the above standard, the color density of the coloring pattern is sufficient, and it is possible to form a coloring pattern with sufficient mechanical strength.

이때, 상기 착색제는 미리 용제와 혼합하여 착색제의 평균 입경이 0.2㎛ 이하가 될 때까지 비드 밀 등을 이용하여 분산시킨 분산액(이하 밀 베이스라고 하는 경우도 있음) 형태로 사용할 수 있다. 상기 분산액에는 분산과정에서 안료 분산제를 추가로 첨가하여 분산시키거나, 또한 후술하는 본 발명에 따른 바인더 수지의 일부 또는 전부를 배합하여 분산시킬 수 있다. In this case, the colorant may be used in the form of a dispersion liquid (hereinafter sometimes referred to as a mill base), which is previously mixed with a solvent and dispersed using a bead mill or the like until the average particle diameter of the colorant becomes 0.2 μm or less. The dispersion may further be dispersed by further adding a pigment dispersant in the dispersion process, or may be dispersed by mixing some or all of the binder resin according to the present invention to be described later.

상기 분산액이 착색제와 용제로 이루어지는 경우 상기 착색제는 착색제와 용제의 합계량 100중량부를 기준으로 보통 5 내지 60중량부, 바람직하게는 10중량부 내지 40중량 함유되는 것이 좋다. When the dispersion is composed of a colorant and a solvent, the colorant is preferably 5 to 60 parts by weight, preferably 10 to 40 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total amount of the colorant and the solvent.

또한 상기 분산액에 안료분산제가 추가로 첨가되는 경우 상기 안료 분산제로는, 예를 들면 폴리에스테르계 중합체 분산제, 아크릴계 중합체 분산제, 폴리우레탄계 중합체 분산제, 양이온계 계면활성제, 음이온계 계면활성제, 비이온계 계면활성제 등을 사용할 수 있으며, 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다. When the pigment dispersant is further added to the dispersion, the pigment dispersant may be, for example, a polyester polymer dispersant, an acrylic polymer dispersant, a polyurethane polymer dispersant, a cationic surfactant, an anionic surfactant, or a nonionic interface. An activator etc. can be used, These can be used individually or in combination of 2 or more types, respectively.

특히 상기 안료 분산제로는 시판되는 계면 활성제를 이용할 수 있고, 예를 상기의 계면 활성제로는, 폴리옥시에틸렌알킬에테르류, 폴리옥시에틸렌알킬페닐에테르류, 폴리에틸렌글리콜디에스테르류, 소르비탄지방산에스테르류, 지방산변성폴리에스테르류, 3급아민변성폴리우레탄류, 폴리에틸렌이민류 등이 있으며 이외에, 상품명으로 KP(신에쯔 가가꾸 고교㈜ 제조), 폴리플로우(POLYFLOW)(교에이샤 가가꾸㈜ 제조), 에프톱(EFTOP)(토켐 프로덕츠사 제조), 메가팩(MEGAFAC)(다이닛본 잉 크 가가꾸 고교㈜ 제조), 플로라드(Flourad)(스미또모 쓰리엠㈜ 제조), 아사히가드(Asahi guard), 서플론(Surflon)(이상, 아사히 글라스㈜ 제조), 솔스퍼스(SOLSPERSE)(제네까㈜ 제조), EFKA(EFKA 케미칼스사 제조), PB 821(아지노모또㈜ 제조) 등을 들 수 있다. In particular, commercially available surfactants may be used as the pigment dispersant. Examples of the above surfactants include polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl phenyl ethers, polyethylene glycol diesters, and sorbitan fatty acid esters. , Fatty acid-modified polyesters, tertiary amine-modified polyurethanes, polyethyleneimines, and the like, as well as KP (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), polyflow (PolyFlow) ), EFTOP (manufactured by Tochem Products, Inc.), MEGAFAC (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals Co., Ltd.), Florard (manufactured by Sumitomo 3M), Asahi guard And Suflon (above, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), SOLSPERSE (manufactured by Genka Corp.), EFKA (manufactured by EFKA Chemicals), PB 821 (manufactured by Ajinomoto Co., Ltd.), and the like.

상기 안료 분산제는 착색제 1중량부를 기준으로 0.01 내지 1중량부, 바람직하게는 0.05중량부 내지 0.5중량부 함유되는 것이 착색제의 분산을 고려할 때 바람직하다. The pigment dispersant is preferably 0.01 to 1 parts by weight, preferably 0.05 to 0.5 parts by weight based on 1 part by weight of the colorant, in consideration of dispersion of the colorant.

본 발명에서 착색 감광성 조성물 중의 고형분이란 용제를 제거한 성분의 합계를 의미한다.Solid content in a coloring photosensitive composition in this invention means the sum total of the component which removed the solvent.

바인더 수지(B)Binder Resin (B)

상기 바인더 수지는 착색제에 대한 결합제 수지로서의 작용을 하는 것으로서 현상단계에서 사용되는 알칼리성 현상액에 용해 가능한 중합체라면 모두 사용할 수 있다.The binder resin serves as a binder resin for the colorant, and any binder may be used as long as the polymer is soluble in the alkaline developer used in the developing step.

상기 결합제 수지는 예를 들면 카르복실기 함유 단량체 및 상기 카르복실기 함유단량체와 공중합 가능한 다른 단량체와의 공중합체를 들 수 있다. The binder resin may, for example, be a copolymer of a carboxyl group-containing monomer and another monomer copolymerizable with the carboxyl group-containing monomer.

상기 카르복실기 함유 단량체로는, 예를 들면 불포화 모노카르복실산이나, 불포화 디카르복실산, 불포화 트리카르복실산 등의 분자 중에 1개 이상의 카르복실기를 갖는 불포화 다가 카르복실산 등의 불포화 카르복실산 등을 들 수 있다.As said carboxyl group-containing monomer, For example, unsaturated monocarboxylic acid, unsaturated carboxylic acid, such as unsaturated polyhydric carboxylic acid which has 1 or more carboxyl groups in molecules, such as unsaturated dicarboxylic acid and unsaturated tricarboxylic acid, etc. Can be mentioned.

여기서, 불포화 모노카르복실산으로서는, 예를 들면 아크릴산, 메타크릴산, 크로톤산, α-클로로아크릴산, 신남산 등을 들 수 있다.Here, as unsaturated monocarboxylic acid, acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, (alpha)-chloroacrylic acid, cinnamic acid etc. are mentioned, for example.

상기 불포화 디카르복실산으로서는, 예를 들면 말레산, 푸마르산, 이타콘산, 시트라콘산, 메사콘산 등을 들 수 있다. As said unsaturated dicarboxylic acid, a maleic acid, a fumaric acid, itaconic acid, a citraconic acid, a mesaconic acid, etc. are mentioned, for example.

상기 불포화 다가 카르복실산은 산무수물일 수도 있으며, 구체적으로는 말레산 무수물, 이타콘산 무수물, 시트라콘산 무수물 등을 들 수 있다. The unsaturated polyhydric carboxylic acid may be an acid anhydride, and specific examples thereof include maleic anhydride, itaconic anhydride and citraconic anhydride.

또한, 상기 불포화 다가 카르복실산은 그의 모노(2-메타크릴로일옥시알킬)에스테르일 수도 있으며, 예를 들면 숙신산모노(2-아크릴로일옥시에틸), 숙신산모노(2-메타크릴로일옥시에틸), 프탈산모노(2-아크릴로일옥시에틸), 프탈산모노(2-메타크릴로일옥시에틸) 등을 들 수 있다.In addition, the unsaturated polyhydric carboxylic acid may be a mono (2-methacryloyloxyalkyl) ester thereof, for example, monosuccinate mono (2-acryloyloxyethyl), monosuccinate mono (2-methacryloyloxy Ethyl), mono phthalate (2-acryloyloxyethyl), mono phthalate (2-methacryloyloxyethyl), and the like.

상기 불포화 다가 카르복실산은 그 양말단 디카르복시 중합체의 모노(메타)아크릴레이트일 수도 있으며, 예를 들면 ω-카르복시폴리카프로락톤모노아크릴레이트, ω-카르복시폴리카프로락톤모노메타크릴레이트 등을 들 수 있다. The unsaturated polyhydric carboxylic acid may be mono (meth) acrylate of the sock end dicarboxy polymer, and examples thereof include ω-carboxypolycaprolactone monoacrylate and ω-carboxypolycaprolactone monomethacrylate. have.

이들 카르복실기 함유 단량체는 각각 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. These carboxyl group-containing monomers can be used individually or in mixture of 2 or more types, respectively.

상기 카르복실기 함유 단량체와 공중합이 가능한 다른 단량체는 탄소-탄소 불포화 결합을 갖고 있는 단량체로서, 그 구체적인 예로는 방향족 비닐 화합물, 예컨대 스티렌, α-메틸스티렌, 비닐톨루엔 등, 불포화 카르복실레이트 화합물, 예컨대 메틸아크릴레이트, 메틸메타크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, 부틸아크릴레이트, 부틸메타크릴레이트, 2-히드록시에틸아크릴레이트, 2-히드록시에틸메타크릴레이트, 벤질아크릴레이트, 벤질메타크릴레이트 등, 불포화 아미 노알킬 카르복실레이트 화합물, 예컨대 아미노에틸아크릴레이트 등, 불포화 글리시딜 카르복실레이트 화합물, 예컨대 글리시딜메타크릴레이트 등, 비닐 카르복실레이트 화합물, 예컨대 비닐아세테이트, 비닐프로피오네이트 등, 비닐 시아나이드 화합물, 예컨대 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴, α-클로로아크릴로니트릴 등, 불포화 옥세탄 카르복실레이트 화합물, 예컨대 3-메틸-3-아크릴옥시메틸옥세탄, 3-메틸-3-메타크릴옥시메틸옥세탄, 3-에틸-3-아크릴옥시메틸옥세탄, 3-에틸-3-메타크릴옥시메틸옥세탄, 3-메틸-3-아크릴옥시에틸옥세탄, 3-메틸-3-메타크릴옥시에틸옥세탄, 3-메틸-3-아크릴옥시에틸옥세탄 및 3-메틸-3-메타크릴옥시에틸옥세탄 등을 들 수 있다. 이들 단량체는 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.The other monomer copolymerizable with the carboxyl group-containing monomer is a monomer having a carbon-carbon unsaturated bond, and specific examples thereof include aromatic vinyl compounds such as styrene, α-methylstyrene, and vinyltoluene. Acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, butyl acrylate, butyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, benzyl acrylate, benzyl methacrylate Unsaturated amino alkyl carboxylate compounds such as acrylate, such as aminoethyl acrylate, unsaturated glycidyl carboxylate compounds such as glycidyl methacrylate, such as vinyl carboxylate compounds such as vinyl acetate, vinyl propio Vinyl cyanide compounds such as nate, such as arc Unsaturated oxetane carboxylate compounds such as ronitrile, methacrylonitrile, α-chloroacrylonitrile, such as 3-methyl-3-acryloxymethyloxetane, 3-methyl-3-methacryloxymethyloxetane, 3-ethyl-3-acryloxymethyloxetane, 3-ethyl-3-methacryloxymethyloxetane, 3-methyl-3-acryloxyethyl oxetane, 3-methyl-3-methacryloxyethyl oxetane, 3-methyl-3-acryloxyethyl oxetane, 3-methyl-3-methacryloxyethyl oxetane, etc. are mentioned. These monomers can be used individually or in combination of 2 types or more, respectively.

상기 공중합체의 예로는 3-에틸-3-메타크릴옥시메틸옥세탄/벤질메타크릴레이트/메타크릴산 공중합체, 3-에틸-3-메타크릴옥시메틸옥세탄/벤질메타크릴레이트/메타크릴산/스티렌 공중합체, 3-에틸-3-메타크릴옥시메틸옥세탄/메틸메타크릴레이트/메타크릴산 공중합체, 3-에틸-3-메타크릴옥시메틸옥세탄/메틸메타크릴레이트/메타크릴산/스티렌 공중합체 등을 들 수 있다. Examples of the copolymer include 3-ethyl-3-methacryloxymethyloxetane / benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer, 3-ethyl-3-methacryloxymethyloxetane / benzyl methacrylate / methacryl Acid / styrene copolymer, 3-ethyl-3-methacryloxymethyloxetane / methylmethacrylate / methacrylic acid copolymer, 3-ethyl-3-methacryloxymethyloxetane / methylmethacrylate / methacryl Acid / styrene copolymer etc. are mentioned.

상기 공중합체로 된 바인더 수지에서 카르복실기를 갖는 단량체 단위의 함유량은 중량분율로 5중량% 내지 50중량%인 것이 바람직하고, 10중량% 내지 40중량%인 것이 보다 바람직하다. 상기 카르복실기 함유 단량체 단위의 함유량이 상기 범위내이면 현상액에 대한 용해성이 양호하고, 현상시 착색 패턴이 정확하게 형성되기 때문에 바람직하다. In the binder resin of the copolymer, the content of the monomer unit having a carboxyl group is preferably 5% by weight to 50% by weight, more preferably 10% by weight to 40% by weight. When content of the said carboxyl group-containing monomeric unit is in the said range, since the solubility to a developing solution is favorable and the coloring pattern at the time of image development is formed correctly, it is preferable.

또한 상기 바인더 수지는 산가가 20 내지 200(mgKOH/g)의 범위인 것이 바람 직하다. 산가가 상기 범위에 있으면, 현상액 중의 용해성이 향상되어 비노광부가 쉽게 용해되게 된다. 여기서 산가란, 아크릴계 중합체 1g을 중화하는 데 필요한 수산화칼륨의 양(mg)으로서 측정되는 값이며, 통상적으로 수산화칼륨 수용액을 사용하여 적정함으로써 구할 수 있다.In addition, the binder resin preferably has an acid value in the range of 20 to 200 (mgKOH / g). When the acid value is in the above range, the solubility in the developer is improved and the non-exposed portion is easily dissolved. The acid value is a value measured as the amount (mg) of potassium hydroxide required to neutralize 1 g of the acrylic polymer, and can usually be obtained by titration using an aqueous potassium hydroxide solution.

상기 바인더 수지는 표준 물질로서 폴리스티렌을 사용하여 겔 침투 크로마토그래피(GPC)로 측정한 중량 평균 분자량(MW)이 5000 내지 400000, 또는 10000 내지 300000인 것이 바람직하다. 분자량이 상기 범위에 있으면, 착색 패턴의 표면 경도가 향상되고, 비노광부의 용해성이 탁월해지고 해상도가 향상되므로 바람직하다.The binder resin preferably has a weight average molecular weight (MW) of 5000 to 400000, or 10000 to 300000, as measured by gel permeation chromatography (GPC) using polystyrene as a standard material. When the molecular weight is in the above range, it is preferable because the surface hardness of the colored pattern is improved, solubility of the non-exposed part is excellent, and resolution is improved.

상기 바인더 수지는 착색 감광성 수지 조성물 중의 고형분에 대하여 중량 분율로 5중량% 내지 85중량%, 바람직하게는 20중량% 내지 70중량% 함유되는 것이 좋다. 바인더 수지가 상기 기준으로 상기 함량 범위 내에 있을 경우 패턴의 형성이 가능하고, 해상도 및 잔막률이 향상된다.The binder resin is preferably contained in a weight fraction of 5% by weight to 85% by weight, preferably 20% by weight to 70% by weight relative to the solid content in the colored photosensitive resin composition. When the binder resin is within the content range on the basis of the reference, the formation of the pattern is possible, and the resolution and the residual film ratio are improved.

광중합성 화합물(C)Photopolymerizable Compound (C)

상기 광중합성 화합물은 광 조사에 의해 광중합 개시제로부터 발생되는 활성 라디칼이나 산 등에 의해 중합될 수 있는 화합물이며, 예를 들면 중합 가능한 탄소-탄소 불포화 결합을 갖고 있는 화합물 등을 들 수 있다. 이러한 화합물은 단관능 광중합성 화합물, 이관능 광중합성 화합물 또는 3관능 이상의 다관능 광중합성 화합물일 수 있다.The said photopolymerizable compound is a compound which can superpose | polymerize with active radicals, an acid, etc. which generate | occur | produce from a photoinitiator by light irradiation, For example, the compound which has a polymerizable carbon-carbon unsaturated bond, etc. are mentioned. Such compounds may be monofunctional photopolymerizable compounds, bifunctional photopolymerizable compounds, or trifunctional or higher polyfunctional photopolymerizable compounds.

상기 단관능의 광중합성 화합물의 예로는 노닐페닐카비톨아크릴레이트, 2-히 드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트, 2-에틸헥실카비톨아크릴레이트, 2-히드록시에틸아크릴레이트, N-비닐피롤리돈 등을 들 수 있다.Examples of the monofunctional photopolymerizable compound include nonylphenylcarbitol acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, 2-ethylhexyl carbitol acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, and N-. Vinylpyrrolidone, etc. are mentioned.

상기 2관능성의 광중합성 화합물의 예로는 1,6-헥산디올디아크릴레이트, 1,6-헥산디올디메타크릴레이트, 에틸렌글리콜디아크릴레이트, 에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 네오펜틸글리콜디아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디메타크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 비스페놀 A의 비스(아크릴로일옥시에틸)에테르, 3-메틸펜탄디올디아크릴레이트, 3-메틸펜탄디올디메타크릴레이트 등을 들 수 있다.Examples of the bifunctional photopolymerizable compound include 1,6-hexanediol diacrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate, ethylene glycol diacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol diacrylate , Neopentyl glycol dimethacrylate, triethylene glycol diacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, bis (acryloyloxyethyl) ether of bisphenol A, 3-methylpentanediol diacrylate, 3-methylpentane Diol dimethacrylate etc. are mentioned.

3관능 이상의 다관능 광중합성 화합물의 예로는 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리메타크릴레이트, 펜타에리스리톨트리아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리메타크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라메타크릴레이트, 디펜타에리스리톨펜타아크릴레이트, 디펜타에리스리톨펜타메타크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사메타크릴레이트 등을 들 수 있다.Examples of the trifunctional or higher polyfunctional photopolymerizable compound include trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate The rate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol pentamethacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, etc. are mentioned.

상기에서 예시한 광중합성 화합물은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 상기 광중합성 화합물중에서 이관능 이상의 광중합성 화합물을 사용하는 것이 바람직하다. The photopolymerizable compounds exemplified above may be used alone or in combination of two or more thereof. It is preferable to use the bifunctional or more photopolymerizable compound among the said photopolymerizable compounds.

상기 광중합성 화합물의 사용량은 착색 감광성 수지 조성물 중의 고형분에 대하여 중량분율로 0.1 내지 70중량%, 바람직하게는 1 내지 60중량%이다. 상기 광중합성 화합물이 상기의 기준으로 상기 범위내로 함유될 경우 착색 패턴의 강도나 평활성이 양호하게 된다. The amount of the photopolymerizable compound used is 0.1 to 70% by weight, preferably 1 to 60% by weight, based on the weight of solids in the colored photosensitive resin composition. When the said photopolymerizable compound is contained in the said range on the basis of said reference | standard, the intensity | strength or smoothness of a coloring pattern will become favorable.

광중합 개시제(D)Photopolymerization Initiator (D)

상기 광중합 개시제로는 옥심에스테르계 광중합 개시제 및 상기 옥심에스테르계 광중합 개시제 이외의 다른 광중합 개시제를 포함하여 이루어진 것을 사용하게 된다. 상기와 같이 광중합 개시제로 옥심에스테르계 광중합 개시제와 그 외의 다른 광중합 개시제를 혼합 사용하게 되면, 고감도로 고해상도의 초미세화된 착색 패턴을 형성할 수 있게 된다.As said photoinitiator, what consists of an oxime ester photoinitiator and the photoinitiator other than the said oxime ester photoinitiator is used. When the oxime ester photopolymerization initiator and other photopolymerization initiators are mixed and used as the photopolymerization initiator as described above, it is possible to form a high resolution ultrafine colored pattern with high sensitivity.

상기 옥심에스테르계 광중합 개시제로는 구체적으로 1-(4-페닐티오페닐)-1,2-옥탄디온-2-(O-벤조일옥심)), 1-(4-메틸술파닐-페닐)-부탄-1,2-부탄-2-옥심-O-아세테이트, 1-(4-메틸술파닐-페닐)-부탄-1-온옥심-O-아세테이트, 히드록시이미노-(4-메틸술파닐-페닐)-초산에틸에스테르-O-아세테이트, 히드록시이미노-(4-메틸술파닐-페닐)-초산에틸에스테르-O-벤조에이트, 에타논-1-[9-에틸-6-(2-메틸-4테트라히드로피라닐옥시벤조일)-9H-카바졸-3-일]-1-(O-아세틸옥심) 등을 들 수 있다. Specific examples of the oxime ester photopolymerization initiator include 1- (4-phenylthiophenyl) -1,2-octanedione-2- (O-benzoyloxime)) and 1- (4-methylsulfanyl-phenyl) -butane -1,2-butane-2-oxime-O-acetate, 1- (4-methylsulfanyl-phenyl) -butan-1-one oxime-O-acetate, hydroxyimino- (4-methylsulfanyl-phenyl ) -Ethyl acetate-O-acetate, hydroxyimino- (4-methylsulfanyl-phenyl) -ethyl acetate-O-benzoate, ethanone-1- [9-ethyl-6- (2-methyl- 4tetrahydropyranyloxybenzoyl) -9H-carbazol-3-yl] -1- (O-acetyloxime) etc. are mentioned.

상기 예시된 옥심계 광중합 개시제는 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. The exemplified oxime photoinitiators can be used alone or in combination of two or more.

상기 다른 광중합 개시제는 아세토페논계 광중합 개시제, 벤조인계 광중합 개시제, 벤조페논계 광중합 개시제, 티오크산톤계 광중합 개시제 또는 트리아진계 광중합 개시제에서 선택되는 활성라디칼 발생제, 증감제 및 산발생제로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 사용할 수 있다. The other photopolymerization initiator is selected from the group consisting of an active radical generator, a sensitizer and an acid generator selected from acetophenone photopolymerization initiator, benzoin photopolymerization initiator, benzophenone photopolymerization initiator, thioxanthone photopolymerization initiator or triazine photopolymerization initiator. At least one selected can be used.

상기 아세토페논계 광중합 개시제의 예로는 디에톡시아세토페논, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 벤질디메틸케탈, 2-히드록시-2-메틸-1-[2-(2-히드록시에톡시)페닐]프로판-1-온, 1-히드록시시클로헥실페닐 케톤, 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸티오페닐)프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온 및 2-히드록시-2-메틸-1-[4-(1-메틸비닐)페닐]프로판-1-온의 올리고머 등을 들 수 있다. Examples of the acetophenone-based photopolymerization initiator are diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzyldimethyl ketal, 2-hydroxy-2-methyl-1- [2- (2-hydroxyethoxy) phenyl] propan-1-one, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2-methyl-2-morpholino-1- (4-methylthiophenyl) propan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one and 2-hydroxy-2-methyl-1- [4- (1-methylvinyl) phenyl] propane-1 -On oligomers, etc. are mentioned.

상기 벤조인계 광중합 개시제의 예로는 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르 등을 들 수 있다. Examples of the benzoin-based photopolymerization initiators include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, and the like.

상기 벤조페논계 광중합 개시제의 예로는 벤조페논, 메틸 o-벤조일벤조에이트, 4-페닐벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐설파이드, 3,3',4,4'-테트라(t-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논, 2,4,6-트리메틸벤조페논 등을 들 수 있다.Examples of the benzophenone-based photopolymerization initiator are benzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, 4-benzoyl-4'-methyldiphenylsulfide, 3,3 ', 4,4'-tetra (t -Butyl peroxycarbonyl) benzophenone, 2,4, 6-trimethyl benzophenone, etc. are mentioned.

상기 티오크산톤 광중합 개시제의 예로는 2-이소프로필티오크산톤, 4-이소프로필티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤, 2,4-디클로로티오크산톤, 1-클로로-4-프로폭시티오크산톤 등을 들 수 있다.Examples of the thioxanthone photopolymerization initiator include 2-isopropyl thioxanthone, 4-isopropyl thioxanthone, 2,4-diethyl thioxanthone, 2,4-dichloro thioxanthone, 1-chloro-4- Propoxy thioxanthone etc. are mentioned.

상기 트리아진계 광중합 개시제의 예로는 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시나프틸)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-피페로닐-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시스티릴)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(5-메틸푸란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(푸란- 2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(4-디에틸아미노-2-메틸페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(3,4-디메톡시페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진 등을 들 수 있다.Examples of the triazine photoinitiator include 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6 -(4-methoxynaphthyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6-piperonyl-1,3,5-triazine, 2,4-bis (Trichloromethyl) -6- (4-methoxystyryl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (5-methylfuran-2- Yl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (furan-2-yl) ethenyl] -1,3,5-triazine , 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (4-diethylamino-2-methylphenyl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl ) -6- [2- (3,4-dimethoxyphenyl) ethenyl] -1,3,5-triazine and the like.

상기 증감제로의 예로는 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드, 2,2'-비스(o-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-바이이미다졸, 10-부틸-2-클로로아크리돈, 2-에틸안트라퀴논, 벤질, 9,10-페난트렌퀴논, 캄포퀴논, 메틸페닐글리옥실레이트, 티타노센 화합물 등을 사용할 수도 있다. Examples of the sensitizer include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2' -Biimidazole, 10-butyl-2-chloroacridone, 2-ethylanthraquinone, benzyl, 9,10-phenanthrenequinone, camphorquinone, methylphenylglyoxylate, titanocene compound and the like can also be used.

상기 산 발생제의 예로는 오늄염, 예컨대 4-히드록시페닐디메틸설포늄p-톨루엔설포네이트, 4-히드록시페닐디메틸설포늄헥사플루오로안티모네이트, 4-아세톡시페닐디메틸설포늄p-톨루엔설포네이트, 4-아세톡시페닐ㆍ메틸ㆍ벤질설포늄헥사플루오로안티모네이트, 트리페닐설포늄p-톨루엔설포네이트, 트리페닐설포늄헥사플루오로안티모네이이트, 디페닐요오도늄p-톨루엔설포네이트, 디페닐요오도늄헥사플루오로안티모네이트 등, 니트로벤질 토실레이트, 벤조인 토실레이트 등을 들 수 있다. Examples of the acid generator include onium salts such as 4-hydroxyphenyldimethylsulfonium p-toluenesulfonate, 4-hydroxyphenyldimethylsulfonium hexafluoroantimonate, 4-acetoxyphenyldimethylsulfonium p- Toluenesulfonate, 4-acetoxyphenylmethylbenzylsulfonium hexafluoroantimonate, triphenylsulfonium p-toluenesulfonate, triphenylsulfonium hexafluoroantimonate, diphenyliodonium p- Toluene sulfonate, diphenyl iodonium hexafluoro antimonate, nitrobenzyl tosylate, benzoin tosylate, etc. are mentioned.

상기 언급한 화합물 중에는 활성 라디칼 발생제로서 활성 라디칼을 발생시키는 것과 함께 산을 발생시키는 화합물도 있다. 예를 들면, 트리아진계 광중합 개시제는 산 발생제로서 사용된다. Among the above-mentioned compounds, there are also compounds which generate an acid together with generating an active radical as an active radical generator. For example, a triazine photoinitiator is used as an acid generator.

상기에서 예시한 광중합 개시제는 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.The photoinitiators illustrated above can be used individually or in combination of 2 types or more, respectively.

상기 광중합 개시제는 착색 감광성 수지 조성물 중의 고형분에 대하여 중량 분율로 1~50중량% 함유된다. 광중합 개시제가 상기의 기준으로 1중량% 미만일 경우 300nm 이하의 파장에서의 감도가 떨어져 우수한 해상도의 초미세화된 착색 패턴을 얻을 수 없다는 문제점이 있으며, 50중량%를 초과할 경우 해상도가 떨어지는 문제점이 있으므로, 상기 범위 내에서 광중합 개시제를 사용하는 것이 바람직하다. The said photoinitiator is contained 1-50 weight% in weight fraction with respect to solid content in colored photosensitive resin composition. If the photopolymerization initiator is less than 1 wt% based on the above criteria, there is a problem in that the sensitivity at the wavelength of 300 nm or less is insufficient to obtain an ultrafine colored pattern with excellent resolution. It is preferable to use a photoinitiator within the said range.

아울러, 상기 옥심에스테르계 광중합 개시제는 그를 포함하는 광중합 개시제 전체량에 대하여 중량 분율로 1~99중량% 포함되는 것이 바람직하다. 상기 옥시에스테르계 광중합 개시제가 상기의 기준으로 1중량% 미만일 경우 감도가 떨어져 우수한 해상도의 초미세화된 착색 패턴을 얻을 수 없다는 문제점이 있으며, 99중량%를 초과할 경우 해상도가 떨어지는 문제점이 있으므로, 상기 범위내에서 옥심에스테르계 광중합 개시제를 사용하는 것이 바람직하다. In addition, it is preferable that the said oxime ester type photoinitiator is contained 1 to 99 weight% by weight with respect to the photoinitiator whole quantity containing it. When the oxyester-based photopolymerization initiator is less than 1% by weight, there is a problem in that the sensitivity is not obtained to obtain an ultra-fine colored pattern with excellent resolution, and when the content exceeds 99% by weight, the resolution is lowered. It is preferable to use an oxime ester system photoinitiator within the range.

상기 광중합 개시제는 광중합성 화합물의 중합을 증진시키기 위해 광중합 개시 보조제를 함께 사용될 수 있다.The photopolymerization initiator may be used together with a photopolymerization initiation aid to enhance the polymerization of the photopolymerizable compound.

상기 광중합 개시 보조제로서는, 예를 들면 아민계 광중합 개시 보조제, 알콕시안트라센계 광중합 개시 보조제 등을 들 수 있다.As said photoinitiation start adjuvant, an amine photoinitiation start adjuvant, an alkoxy anthracene type photoinitiation start adjuvant, etc. are mentioned, for example.

상기 아민계 광중합 개시 보조제의 예로는 트리에탄올아민, 메틸디에탄올아민, 트리이소프로판올아민, 메틸4-디메틸아미노벤조에이트, 에틸4-디메틸아미노벤조에이트, 이소아밀4-디메틸아미노벤조에이트, 2-디메틸아미노에틸벤조에이트, 2-에틸헥실4-디메틸아미노벤조에이트, N,N-디메틸p-톨루이딘, 4,4'-비스(디메틸아미 노)벤조페논(일반명: 마이클러스(Michler's) 케톤), 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 4,4'-비스(에틸메틸아미노)벤조페논 등을 들 수 있다.Examples of the amine photopolymerization start adjuvant include triethanolamine, methyl diethanolamine, triisopropanolamine, methyl4-dimethylaminobenzoate, ethyl4-dimethylaminobenzoate, isoamyl4-dimethylaminobenzoate, 2-dimethylamino Ethylbenzoate, 2-ethylhexyl4-dimethylaminobenzoate, N, N-dimethyl p-toluidine, 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone (common name: Michaeller's ketone), 4 , 4'-bis (diethylamino) benzophenone, 4,4'-bis (ethylmethylamino) benzophenone, and the like.

상기 알콕시안트라센계 광중합 개시 보조제의 예로는 9,10-디메톡시안트라센, 2-에틸-9,10-디메톡시안트라센, 9,10-디에톡시안트라센, 2-에틸-9,10-디에톡시안트라센 등을 들 수 있다.Examples of the alkoxy anthracene-based photopolymerization start adjuvant include 9,10-dimethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-dimethoxyanthracene, 9,10-diethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-diethoxyanthracene, and the like. Can be mentioned.

이러한 광중합 개시 보조제를 사용하는 경우, 이것의 사용량은 광중합 개시제 1 몰 당 보통 10 몰 이하, 바람직하게는 0.01 몰 내지 5 몰이다. 상기 광중합 개시 보조제가 상기와 같은 함량으로 사용되는 경우에는 착색 감광성 수지 조성물의 감도가 더 높아져 컬러 필터의 생산성이 향상되기 때문에 바람직하다.In the case of using such a photopolymerization initiation aid, the amount thereof is usually 10 mol or less, preferably 0.01 to 5 mol, per mol of the photopolymerization initiator. When the photopolymerization start adjuvant is used in such a content, it is preferable because the sensitivity of the colored photosensitive resin composition is higher and the productivity of the color filter is improved.

용제(E)Solvent (E)

상기 용제는 특별히 제한되지 않으며 착색 감광성 수지 조성물의 분야에서 사용되고 있는 각종 유기 용제를 사용할 수 있다. The solvent is not particularly limited, and various organic solvents used in the field of colored photosensitive resin compositions can be used.

상기 용제의 구체적인 예로는 에틸렌글리콜모노알킬에테르, 예컨대 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노프로필에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르 등, 디에틸렌글리콜디알킬에테르, 예컨대 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜디프로필에테르, 디에틸렌글리콜디부틸에테르 등, 에틸렌글리콜알킬에테르아세테이트, 예컨대 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트 등, 알킬렌글리콜알킬에테르아세테이트, 예컨대 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테 르아세테이트, 프로필렌글리콜모노프로필에테르아세테이트, 메톡시부틸아세테이트, 메톡시펜틸아세테이트 등, 방향족 탄화수소, 예컨대 벤젠, 톨루엔, 크실렌 등, 케톤, 예컨대 메틸에틸케톤, 아세톤, 메틸아밀케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥산온 등, 알콜, 예컨대 에탄올, 프로판올, 부탄올, 헥산올, 시클로헥산올, 에틸렌글리콜, 글리세린 등, 고리형 에스테르, 예컨대 γ-부티롤락톤 등을 들 수 있다. 이들 용제는 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. Specific examples of the solvent include ethylene glycol monoalkyl ethers such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether and the like, and diethylene glycol dialkyl ethers such as diethylene glycol dimethyl. Ethylene glycol alkyl ether acetates such as ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dipropyl ether, diethylene glycol dibutyl ether, such as methyl cellosolve acetate and ethyl cellosolve acetate, and alkylene glycol alkyl ether acetate For example, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monopropyl ether acetate, methoxy butyl acetate, methoxy pentyl acetate, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, etc. For example, methyl ethyl ketone, acetone, methyl amyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone and the like, alcohols such as ethanol, propanol, butanol, hexanol, cyclohexanol, ethylene glycol, glycerin and the like, cyclic esters such as γ Butyrolactone etc. are mentioned. These solvents can be used individually or in combination of 2 types or more, respectively.

상기 용제는 그것을 포함하는 착색 감광성 수지 조성물 전체량에 대하여 중량분율로 50중량% 내지 90중량%, 바람직하게는 60중량% 내지 85중량% 함유되는 것이 바람직하다. 용제의 함량이 상기의 기준으로 50중량% 내지 90중량% 포함될 경우 도포성이 양호해지기 때문에 바람직하다. The solvent is preferably contained 50% by weight to 90% by weight, preferably 60% by weight to 85% by weight based on the total amount of the colored photosensitive resin composition including the same. When the content of the solvent is included in the range of 50% by weight to 90% by weight, it is preferable because the coating property is good.

첨가제(F)Additive (F)

상기 착색 감광성 수지 조성물은 필요에 따라 첨가제를 더 포함할 수 있다.The colored photosensitive resin composition may further include an additive as necessary.

상기 첨가제로서는, 예를 들면 충전제, 바인더 수지 이외의 다른 고분자, 밀착성 증진제, 항산화제, 자외선 흡수제, 응집 방지제, 유기산, 유기 아미노 화합물, 경화제 등을 들 수 있다. Examples of the additives include fillers, polymers other than binder resins, adhesion promoters, antioxidants, ultraviolet absorbers, anti-agglomerating agents, organic acids, organic amino compounds, curing agents, and the like.

상기 충진제는 구체적으로 유리, 실리카, 알루미나 등을 들 수 있다.Specific examples of the filler include glass, silica, alumina, and the like.

상기 다른 고분자의 예로는 폴리비닐 알콜, 폴리아크릴산, 폴리에틸렌글리콜모노알킬에테르, 폴리플루오로알킬아크릴레이트 등을 들 수 있다. Examples of the other polymer include polyvinyl alcohol, polyacrylic acid, polyethylene glycol monoalkyl ether, polyfluoroalkyl acrylate, and the like.

상기 밀착성 증진제의 예로는 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비 닐트리스(2-메톡시에톡시)실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-클로로프로필메틸디메톡시실란, 3-클로로프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-머캅토프로필트리메톡시실란 등을 들 수 있다. Examples of the adhesion promoter include vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (2-methoxyethoxy) silane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N -(2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-chloropropylmethyldimethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltri Methoxysilane, etc. are mentioned.

상기 항산화제의 예로는 2,2-티오비스(4-메틸-6-t-부틸페놀), 2,6-디-t-부틸페놀 등을 들 수 있다. Examples of the antioxidant include 2,2-thiobis (4-methyl-6-t-butylphenol), 2,6-di-t-butylphenol and the like.

상기 자외선 흡수제의 예로는 2-(3-t-부틸-5-메틸-2-히드록시페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 알콕시벤조페논 등을 들 수 있다.Examples of the ultraviolet absorber include 2- (3-t-butyl-5-methyl-2-hydroxyphenyl) -5-chlorobenzotriazole, alkoxybenzophenone and the like.

상기 응집 방지제의 예로는 나트륨 폴리아크릴레이트 등을 들 수 있다.Examples of the aggregation inhibitor include sodium polyacrylate and the like.

상기 유기산의 예로는 지방족 모노카르복실산, 예컨대 포름산, 아세트산, 프로피온산, 부티르산, 발레르산, 피발산, 카프론산, 디에틸아세트산, 에난트산(enanthic acid), 카프릴산 등, 지방족 디카르복실산, 예컨대 옥살산, 말론산, 숙신산, 글루타르산, 아디프산, 피멜산, 수베르산, 아젤라산(azelaic acid), 세바크산, 브라실산, 메틸말론산, 에틸말론산, 디메틸말론산, 메틸숙신산, 테트라메틸숙신산, 시클로헥산디카르복실산, 이타콘산, 시트라콘산, 말레산, 푸말산, 메자콘산 등, 지방족 트리카르복실산, 예컨대 트리카르복실산, 아코니트산, 캄포론산 등, 방향족 모노카르복실산, 예컨대 벤조산, 톨루산, 쿠멘산, 헤멜리트산, 메시틸렌산 등, 방향족 디카르복실산, 프탈산, 이소프탈산, 테레프탈산 등, 방향족 폴리카르복 실산, 예컨대 트리멜리트산, 트리메스산, 멜로판산, 피로멜리트산 등, 그리고 다른 산을 들 수 있다.Examples of the organic acid include aliphatic monocarboxylic acids such as formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, pivalic acid, capronic acid, diethylacetic acid, enanthic acid, caprylic acid, and the like. Such as oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, brassylic acid, methylmalonic acid, ethylmalonic acid, dimethylmalonic acid, Aliphatic tricarboxylic acids such as methyl succinic acid, tetramethyl succinic acid, cyclohexanedicarboxylic acid, itaconic acid, citraconic acid, maleic acid, fumaric acid, mezaconic acid, such as tricarboxylic acid, aconitic acid, camphoronic acid, etc. , Aromatic monocarboxylic acids such as benzoic acid, toluic acid, cumene acid, hemelitic acid, mesitylene acid, etc., aromatic dicarboxylic acids, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, etc., aromatic polycarboxylic acids such as trimellitic acid, Mount Trimes, Melopanic acid, pyromellitic acid, and other acids.

상기 유기 아미노 화합물의 예로는 모노(시클로)알킬아민, 예컨대 n-프로필아민, i-프로필아민, n-부틸아민, i-부틸아민, s-부틸아민, t-부틸 아민, n-펜틸아민, n-헥실아민, n-헵틸아민, n-옥틸아민, n-노닐아민, n-데실아민, n-운데실아민, n-도데실아민, 시클로헥실아민, 2-메틸시클로헥실아민, 3-메틸시클로헥실아민, 4-메틸시클로헥실아민 등, 디(시클로)알킬아민, 예컨대 메틸에틸아민, 디에틸아민, 메틸n-프로필아민, 에틸n-프로필아민, 디n-프로필아민, 디i-프로필아민, 디n-부틸아민, 디i-부틸아민, 디s-부틸아민, 디t-부틸아민, 디n-펜틸아민, 디n-헥실아민, 메틸시클로헥실아민, 에틸시클로헥실아민, 디시클로헥실아민 등, 트리(시클로)알킬아민, 예컨대 디메틸에틸아민, 메틸디에틸아민, 트리에틸아민, 디메틸n-프로필아민, 디에틸n-프로필아민, 메틸디n-프로필아민, 에틸디n-프로필아민, 트리n-프로필아민, 트리i-프로필아민, 트리n-부틸아민, 트리i-부틸아민, 트리s-부틸아민, 트리t-부틸아민, 트리n-펜틸아민, 트리n-헥실아민, 디메틸시클로헥실아민, 디에틸시클로헥실아민, 메틸디시클로헥실아민, 에틸디시클로헥실아민, 트리시클로헥실아민 등, 모노(시클로)알칸올아민, 예컨대 2-아미노에탄올, 3-아미노-1-프로판올, 1-아미노-2-프로판올, 4-아미노-1-부탄올, 5-아미노-1-펜탄올, 6-아미노-1-헥산올, 4-아미노-1-시클로헥산올 등, 디(시클로)알칸올아민, 예컨대 디에탄올아민, 디n-프로판올아민, 디i-프로판올아민, 디 n-부탄올아민, 디i-부탄올아민, 디n-펜탄올아민, 디n-헥산올아민, 디(4-시클로헥산올)아민 등, 트리(시클로)알칸올아민, 예컨대 트 리에탄올아민, 트리n-프로판올아민, 트리i-프로판올아민, 트리n-부탄올아민, 트리i-부탄올아민, 트리n-펜탄올아민, 트리n-헥산올아민, 트리(4-시클로헥산올)아민 등, 아미노(시클로)알칸디올, 예컨대 3-아미노-1,2-프로판디올, 2-아미노-1,3-프로판디올, 4-아미노-1,2-부탄디올, 4-아미노-1,3-부탄디올, 4-아미노-1,2-시클로헥산디올, 4-아미노-1,3-시클로헥산디올, 3-디메틸아미노-1,2-프로판디올, 3-디에틸아미노-1,2-프로판디올, 2-디메틸아미노-1,3-프로판디올, 2-디에틸아미노-1,3-프로판디올 등, 아미노기 함유 시클로알칸메탄올, 예컨대 1-아미노시클로펜탄온메탄올, 4-아미노시클로펜탄온메탄올, 1-아미노시클로헥산온메탄올, 4-아미노시클로헥산온메탄올, 4-디메틸아미노시클로펜탄메탄올, 4-디에틸아미노시클로펜탄메탄올, 4-디메틸아미노시클로헥산메탄올, 4-디에틸아미노시클로헥산메탄올 등, 아미노카르복실산, 예컨대 β-알라닌, 2-아미노부티르산, 3-아미노부티르산, 4-아미노부티르산, 2-아미노이소부티르산, 3-아미노이소부티르산, 2-아미노발레르산, 5-아미노발레르산, 6-아미노카프론산, 1-아미노시클로프로판카르복실산, 1-아미노시클로헥산카르복실산, 4-아미노시클로헥산카르복실산 등, 방향족 아민, 예컨대 아닐린, o-메틸아닐린, m-메틸아닐린, p-메틸아닐린, p-에틸아닐린, p-n-프로필아닐린, p-i-프로필아닐린, p-n-부틸아닐린, p-t-부틸아닐린, 1-나프틸아민, 2-나프틸아민, N,N-디메틸아닐린, N,N-디에틸아닐린, p-메틸-N,N-디메틸아닐린 등, 아미노벤질알콜, 예컨대 o-아미노벤질알콜, m-아미노벤질알콜, p-아미노벤질알콜, p-디메틸아미노벤질알콜, p-디에틸아미노벤질알콜 등, 아미노페놀, 예컨대 o-아미노페놀, m-아미노페놀, p-아미노페놀, p-디메틸아미노페놀, p-디에틸아미노페놀 등, 아미노벤조산, 예컨대 m-아미노벤조산, p-아미노벤조산, p-디메틸아미노벤조산, p-디에틸아미노벤조산 등, 그리고 다른 산을 들 수 있다. Examples of such organic amino compounds include mono (cyclo) alkylamines such as n-propylamine, i-propylamine, n-butylamine, i-butylamine, s-butylamine, t-butyl amine, n-pentylamine, n-hexylamine, n-heptylamine, n-octylamine, n-nonylamine, n-decylamine, n-undecylamine, n-dodecylamine, cyclohexylamine, 2-methylcyclohexylamine, 3- Methylcyclohexylamine, 4-methylcyclohexylamine and the like, di (cyclo) alkylamines such as methylethylamine, diethylamine, methyl n-propylamine, ethyl n-propylamine, din-propylamine, dii- Propylamine, din-butylamine, dii-butylamine, dis-butylamine, dit-butylamine, din-pentylamine, din-hexylamine, methylcyclohexylamine, ethylcyclohexylamine, dicy Tri (cyclo) alkylamines such as clohexylamine, such as dimethylethylamine, methyldiethylamine, triethylamine, dimethyl n-propylamine, diethyl n-propylamine, methyldin-propyl Min, ethyldin-propylamine, trin-propylamine, trii-propylamine, trin-butylamine, trii-butylamine, tris-butylamine, trit-butylamine, trin-pentylamine Mono (cyclo) alkanolamines such as trin-hexylamine, dimethylcyclohexylamine, diethylcyclohexylamine, methyldicyclohexylamine, ethyldicyclohexylamine, tricyclohexylamine, such as 2-aminoethanol, 3-amino-1-propanol, 1-amino-2-propanol, 4-amino-1-butanol, 5-amino-1-pentanol, 6-amino-1-hexanol, 4-amino-1-cyclohexane Di (cyclo) alkanolamines, such as diethanolamine, din-propanolamine, dii-propanolamine, di n-butanolamine, dii-butanolamine, din-pentanolamine, din- Tri (cyclo) alkanolamines such as hexanolamine, di (4-cyclohexanol) amine, such as triethanolamine, trin-propanolamine, trii-propanolamine, trin-butanolamine, Amino (cyclo) alkanediols such as li-butanolamine, trin-pentanolamine, trin-hexanolamine, tri (4-cyclohexanol) amine, such as 3-amino-1,2-propanediol, 2-amino-1,3-propanediol, 4-amino-1,2-butanediol, 4-amino-1,3-butanediol, 4-amino-1,2-cyclohexanediol, 4-amino-1,3 -Cyclohexanediol, 3-dimethylamino-1,2-propanediol, 3-diethylamino-1,2-propanediol, 2-dimethylamino-1,3-propanediol, 2-diethylamino-1, Amino group-containing cycloalkanethanols such as 3-propanediol, such as 1-aminocyclopentanonemethanol, 4-aminocyclopentanonmethanol, 1-aminocyclohexanonemethanol, 4-aminocyclohexanonemethanol, 4-dimethylaminocyclo Aminocarboxylic acids such as β-alanine, 2-amino, such as pentanemethanol, 4-diethylaminocyclopentanmethanol, 4-dimethylaminocyclohexanemethanol, 4-diethylaminocyclohexanemethanol Tyrolic acid, 3-aminobutyric acid, 4-aminobutyric acid, 2-aminoisobutyric acid, 3-aminoisobutyric acid, 2-aminovaleric acid, 5-amino valeric acid, 6-aminocaproic acid, 1-aminocyclopropanecarboxyl Aromatic amines such as acids, 1-aminocyclohexanecarboxylic acid, 4-aminocyclohexanecarboxylic acid such as aniline, o-methylaniline, m-methylaniline, p-methylaniline, p-ethylaniline, pn-propyl Aniline, pi-propylaniline, pn-butylaniline, pt-butylaniline, 1-naphthylamine, 2-naphthylamine, N, N-dimethylaniline, N, N-diethylaniline, p-methyl-N, Aminobenzyl alcohols such as N-dimethylaniline, such as o-aminobenzyl alcohol, m-aminobenzyl alcohol, p-aminobenzyl alcohol, p-dimethylaminobenzyl alcohol, p-diethylaminobenzyl alcohol and the like, aminophenols such as o Aminophenol, m-aminophenol, p-aminophenol, p-dimethylaminophenol, p-diethylaminophenol, etc. Crude acids such as m-aminobenzoic acid, p-aminobenzoic acid, p-dimethylaminobenzoic acid, p-diethylaminobenzoic acid and the like, and other acids.

상기 경화제는 패턴화에 있어서 현상 후 가열 처리에 의해 착색 패턴을 경화시켜 그것의 기계적 강도를 향상시키는 목적으로 사용될 수 있다. The curing agent may be used for the purpose of curing the colored pattern by post-development heat treatment in patterning to improve its mechanical strength.

상기 경화제로서는, 예를 들면 가열에 의해 바인더 중합체 내의 카르복실기와 반응하여 바인더 수지를 가교 결합시킬 수 있는 화합물을 들 수 있으며, 착색 패턴은 바인더 중합체를 가교 결합시킴으로써 경화된다. 또한, 가열에 의해 단독 중합될 수 있는 화합물도 사용할 수 있고, 색화소 등은 단독 중합에 의해 경화된다. 그러한 화합물로서는, 예를 들면 에폭시 화합물, 옥세탄 화합물 등을 들 수 있다.As said hardening | curing agent, the compound which can crosslink a binder resin by reacting with the carboxyl group in a binder polymer by heating, for example is mentioned, A coloring pattern is hardened by crosslinking a binder polymer. Moreover, the compound which can be homopolymerized by heating can also be used, A color pixel etc. are hardened by homopolymerization. As such a compound, an epoxy compound, an oxetane compound, etc. are mentioned, for example.

상기 에폭시 화합물의 예로는 에폭시 수지, 예컨대 비스페놀 A계 에폭시 수지, 수소화 비스페놀 A계 에폭시 수지, 베스페놀 F계 에폭시 수지, 수소화 비스페놀 F계 에폭시 수지, 노볼락계 에폭시 수지, 다른 방향족계 예폭시 수지, 지환족계 에폭시 수지, 복소환족계 에폭시 수지, 글리시딜 에스테르계 수지, 글리시딜아민계 수지, 에폭시화 오일 등, 이들 에폭시 수지의 브롬화 유도체; 에폭시 수지 및 이것의 브롬화 유도체를 제외한 다른 지방족계, 지환족계 또는 방향족계 에폭시 화합물; 부타디엔의 (공)중합체의 에폭시화 물질, 이소프렌의 (공)중합체의 에폭시화 물질, 글리시딜(메타)아크릴레이트의 (공)중합체, 트리글리시딜이소시아누레이트 등을 들 수 있다.Examples of the epoxy compound include epoxy resins such as bisphenol A epoxy resins, hydrogenated bisphenol A epoxy resins, besphenol F epoxy resins, hydrogenated bisphenol F epoxy resins, novolac epoxy resins, other aromatic epoxy resins, Brominated derivatives of these epoxy resins such as cycloaliphatic epoxy resins, heterocyclic epoxy resins, glycidyl ester resins, glycidylamine resins, and epoxidized oils; Aliphatic, cycloaliphatic or aromatic epoxy compounds other than epoxy resins and brominated derivatives thereof; The epoxidation material of the (co) polymer of butadiene, the epoxidation material of the (co) polymer of isoprene, the (co) polymer of glycidyl (meth) acrylate, a triglycidyl isocyanurate, etc. are mentioned.

상기 옥세탄 화합물의 예로는 카르보네이트비스옥세탄, 크실렌비스옥세탄, 아디페이트비스옥세탄, 테레프탈레이트비스옥세탄, 시클로헥산디카르복실산비스옥세탄 등을 들 수 있다.Examples of the oxetane compound include carbonate bis oxetane, xylene bis oxetane, adipate bis oxetane, terephthalate bis oxetane, cyclohexane dicarboxylic acid bis oxetane and the like.

상기 경화제를 착색 감광성 수지 조성물에 포함시킬 경우 에폭시 화합물 내의 에폭시기 및 옥세탄 화합물 내의 옥세탄 골격의 개환 중합을 일으킬 수 있는 화합물을 함께 사용할 수 있다. 이러한 화합물로서는, 예를 들면 다가 카르복실산, 다가 카르복실산 무수물 등을 들 수 있으며, 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.When including the said hardening | curing agent in a coloring photosensitive resin composition, the compound which can cause ring-opening polymerization of the epoxy group in an epoxy compound, and the oxetane skeleton in an oxetane compound can be used together. As such a compound, polyhydric carboxylic acid, polyhydric carboxylic anhydride, etc. are mentioned, for example, These can be used individually or in combination of 2 or more types, respectively.

상기 다가 카르복실산의 예로는 방향족계 다가 카르복실산, 예컨대 프탈산, 3,4-디메틸프탈산, 이소프탈산, 테레프탈산, 피로멜리트산, 트리메틸리트산, 1,4,5,8-나프탈렌테트라카르복실산, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르복실산 등, 지방족계 다가 카르복실산, 예컨대 숙신산, 글루타르산, 아디프산, 1,2,3,4-부탄테트라카르복실산, 말레산, 푸말산, 이타콘산 등, 지환족계 다가 카르복실산, 예컨대 헥사히드로프탈산, 3,4-디메틸테트라히드로프탈산, 헥사히드로이소프탈산, 헥사히드로테레프탈산, 1,2,4-시클로펜탄트리카르복실산, 1,2,4-시클로헥산트리카르복실산, 시클로펜탄테트라카르복실산, 1,2,4,5-시클로헥산테트라카르복실산 등을 들 수 있다.Examples of the polyhydric carboxylic acid include aromatic polyhydric carboxylic acids, such as phthalic acid, 3,4-dimethylphthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, pyromellitic acid, trimethyltriic acid, 1,4,5,8-naphthalenetetracarboxylic Aliphatic polyhydric carboxylic acids such as acid, 3,3 ', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic acid, such as succinic acid, glutaric acid, adipic acid, 1,2,3,4-butanetetracarboxylic Alicyclic polyhydric carboxylic acids such as acid, maleic acid, fumaric acid, itaconic acid, such as hexahydrophthalic acid, 3,4-dimethyltetrahydrophthalic acid, hexahydroisophthalic acid, hexahydroterephthalic acid, 1,2,4-cyclopentane Tricarboxylic acid, 1,2,4-cyclohexanetricarboxylic acid, cyclopentanetetracarboxylic acid, 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic acid, and the like.

상기 다가 카르복실산 무수물의 예로는 방향족계 다가 카르복실산 무수물, 예컨대 프탈산 무수물, 피로멜리트산 무수물, 트리멜리트산 무수물, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르복실산 이무수물 등, 지방족계 다가 카르복실산 무수물, 예컨대 이타콘산 무수물, 숙신산 무수물, 시트라콘산 무수물, 도데세닐숙신산 무수물, 트 리카르발릴산 무수물, 말레산 무수물, 1,2,3,4-부탄테트라카르복실산 이무수물 등, 지환족계 다가 카르복실산 무수물, 예컨대 헥사히드로프탈산 무수물, 3,4-디메틸테트라히드로프탈산 무수물, 1,2,4-시클로펜탄트리카르복실산 무수물, 1,2,4-시클로헥산트리카르복실산 무수물, 시클로펜탄테트라카르복실산 이무수물, 1,2,4,5-시클로헥산테트라카르복실산 이무수물, 힘산무수물(hymic anhydride), 나드산 무수물 등, 에스테르기 함유 카르복실산 무수물, 예컨대 에틸렌글리콜비스트리멜리트산, 글리세린트리스트리멜리트산 무수물 등을 들 수 있다.Examples of the polyhydric carboxylic anhydride include aromatic polyhydric carboxylic anhydrides such as phthalic anhydride, pyromellitic anhydride, trimellitic anhydride, 3,3 ', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride and the like. , Aliphatic polyhydric carboxylic anhydrides such as itaconic anhydride, succinic anhydride, citraconic anhydride, dodecenyl succinic anhydride, tricarvallylic anhydride, maleic anhydride, 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid Alicyclic polyhydric carboxylic anhydrides such as dianhydrides such as hexahydrophthalic anhydride, 3,4-dimethyltetrahydrophthalic anhydride, 1,2,4-cyclopentanetricarboxylic anhydride, 1,2,4-cyclohexane Ester group-containing carboxylic acids such as tricarboxylic anhydride, cyclopentanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride, hymic anhydride, nad anhydride radish Water, such as ethylene glycol bistrimellitic acid, glycerin tristrimellitic anhydride, and the like.

상기한 조성을 갖는 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은, 예를 들면 이하와 같은 방법에 의해 제조할 수 있다. 착색제(A)를 용제(E)와 혼합하여 착색 재료의 평균 입경이 0.2㎛ 이하 정도가 될 때까지 비드 밀 등을 이용하여 분산시킨다. 이때, 필요에 따라 안료 분산제가 사용되고, 또한 바인더 수지(B)의 일부 또는 전부가 배합될 수도 있다. 얻어진 분산액(이하, 밀 베이스라고 하는 경우도 있음)에 바인더 수지(B)의 잔량, 광중합성 화합물(C) 및 광중합 개시제(D), 필요에 따라 사용되는 그 밖의 성분, 필요에 따라 추가의 용제(E)를 첨가하여 충분히 혼합하면 본 발명에 따른 착색 감광성 수지 조성물을 얻을 수 있다. The colored photosensitive resin composition of this invention which has said composition can be manufactured by the following method, for example. The coloring agent (A) is mixed with the solvent (E) and dispersed using a bead mill or the like until the average particle diameter of the coloring material is about 0.2 µm or less. Under the present circumstances, a pigment dispersant is used as needed and some or all of binder resin (B) may be mix | blended. The remaining amount of the binder resin (B), the photopolymerizable compound (C) and the photopolymerization initiator (D), other components used if necessary, and additional solvents, if necessary, in the obtained dispersion (hereinafter sometimes referred to as a mill base). When (E) is added and fully mixed, the coloring photosensitive resin composition which concerns on this invention can be obtained.

본 발명은 본 발명에 따른 상술한 조성을 갖는 착색 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조되는 컬러 필터를 제공한다. This invention provides the color filter manufactured using the coloring photosensitive resin composition which has the above-mentioned composition which concerns on this invention.

이하에서는 상기 착색 감광성 수지 조성물을 이용하여 컬러 필터를 제조하는 방법에 대하여 설명한다. Hereinafter, the method of manufacturing a color filter using the said coloring photosensitive resin composition is demonstrated.

본 발명에 따른 컬러 필터의 제조방법은 상기한 본 발명에 따른 착색 감광성 수지 조성물을 기판상에 코팅하여 도막을 형성하는 도막형성단계와, 마스크를 이용하여 상기 도막의 착색패턴이 형성될 영역에 초단파장 노광기로 300nm 이하의 초단파장 레이저를 조사하여 노광하는 노광단계 및 상기 노광단계에서의 비노광된 도막 영역을 제거하여 착색패턴을 형성시키는 현상단계를 포함한다. The method for manufacturing a color filter according to the present invention includes a coating film forming step of forming a coating film by coating the colored photosensitive resin composition according to the present invention on a substrate, and using microwaves in a region where a coloring pattern of the coating film is to be formed. An exposure step of irradiating an ultra-short wavelength laser having a wavelength of 300 nm or less with a long exposure machine, and a developing step of forming a colored pattern by removing an unexposed coating area in the exposure step.

상기 도막형성단계는 착색 감광성 수지 조성물을 기판상에 코팅하여 도막을 형성하는 것으로서, 상기 기판은 유리판, 실리콘 웨이퍼 및 폴리에테르설폰(polyethersulfone, PES)나 폴리카보네이트(polycarbonate, PC) 등의 플라스틱 기재의 판 등일 수 있으며, 그 종류가 특별히 제한되는 것은 아니다. The coating film forming step is to form a coating film by coating a colored photosensitive resin composition on a substrate, the substrate is a glass substrate, a silicon wafer and a plastic substrate such as polyethersulfone (PES) or polycarbonate (PC) It may be a plate and the like, the kind is not particularly limited.

상기 코팅은 롤 코터, 스핀 코터, 슬릿 앤드 스핀 코터, 슬릿 코터(이하 '다이 코터'라고도 함), 잉크젯 등의 도포 장치를 이용하여 실시할 수 있다. The coating may be carried out using a coating apparatus such as a roll coater, spin coater, slit and spin coater, slit coater (hereinafter also referred to as 'die coater'), inkjet, or the like.

상기 코팅시의 두께는 제한 없이 다양한 두께로 형성가능하나, 0.5~1.0um로 코팅하는 것이 바람직하며, 상기 코팅 두께는 전면에 걸쳐 균일한 두께가 되도록 하는 것이 중요하다. 상기 코팅시의 두께가 상기의 범위로 포함될 경우 도막의 표면 평활성이 우수해지고, 경화가 빨라 생산속도의 향상을 도모할 수 있다. The thickness at the time of coating can be formed in various thicknesses without limitation, it is preferable to coat at 0.5 ~ 1.0um, it is important to make the coating thickness uniform thickness over the entire surface. When the thickness at the time of the coating is included in the above range, the surface smoothness of the coating film is excellent, and the curing is faster, thereby improving the production speed.

착색 감광성 수지 조성물의 코팅이 완료되면 예비 건조를 통해 용제 등의 휘발성분을 제거하여 도막을 얻게 된다. 상기 예비건조는 100 내지 120℃에서 1 내지 30분간 실시할 수 있다. 상기 범위내에서 예비건조가 이루어질 경우 용제 등의 휘발성분이 빠르게 제거되어 양호한 건조 도막을 얻을 수 있게 된다.When the coating of the colored photosensitive resin composition is completed, volatile components such as solvents are removed through preliminary drying to obtain a coating film. The preliminary drying may be performed at 100 to 120 ° C. for 1 to 30 minutes. When the pre-drying is made within the above range, volatile components such as solvents are quickly removed to obtain a good dry coating film.

상기 노광단계는 마스크를 이용하여 상기 도막의 착색 패턴이 형성될 영역에 0.6이상의 개구수를 갖는 초단파장 노광기로 300nm이하의 초단파장 레이저를 조사하여 노광하는 단계이다. The exposure step is a step of irradiating an ultrashort wavelength laser of 300 nm or less with an ultrashort wavelength exposure machine having a numerical aperture of 0.6 or more to a region where a colored pattern of the coating film is to be formed using a mask.

300nm이하의 파장을 갖는 레이저는 주로 알려진 KrF(248nm) 스캐너를 이용할 수 있다. KrF 스캐너는 불화크립톤 소스를 사용하여 발진된 레이저가 248nm의 파장대를 갖는 노광기이다. Lasers having a wavelength of less than 300 nm can mainly use known KrF (248 nm) scanners. The KrF scanner is an exposure machine in which a laser oscillated using a krypton fluoride source has a wavelength band of 248 nm.

마스크를 이용하여 전술한 도막형성단계에서 형성된 도막의 착색 패턴이 형성될 영역에 노광을 실시하면 마스크에 의해 빛이 투과된 부분에만 광중합 개시제에 의해 가교 및 광경화가 일어나게 된다. When the exposure is performed to the region where the coloring pattern of the coating film formed in the above-described coating film forming step is to be formed using the mask, crosslinking and photocuring are caused by the photopolymerization initiator only at the portion where the light is transmitted by the mask.

상기 노광은 반드시 제한되지는 않지만 노광량은 200mJ/㎠ 이하, 더욱 바람직하게는 50~150mJ/㎠인 것이 바람직하다. 상기 노광량이 200mJ/㎠을 초과할 경우 노광공정상의 지연으로 인한 전체 공정시간의 증가와 노광기 내부의 렌즈에 변형(distortion)으로 인한 노광기의 수명을 단축시킬 수 있다는 단점이 있다. The exposure is not necessarily limited, but the exposure dose is preferably 200 mJ / cm 2 or less, more preferably 50 to 150 mJ / cm 2. When the exposure amount exceeds 200mJ / cm 2, there is a disadvantage in that the overall process time due to the delay in the exposure process may be increased and the life of the exposure machine may be shortened due to distortion in the lens inside the exposure machine.

상기 현상단계는 상기 노광단계에서의 비노광된 도막 영역을 제거하여 착색 패턴을 형성시키는 단계이다. The developing step is a step of forming a colored pattern by removing the unexposed coating area in the exposing step.

상기 현상단계에서 비노광단 도막 영역을 제거하기 위해서 사용되는 현상액은 당해분야에서 일반적으로 사용되는 것을 적용할 수 있으며, 통상 알칼리성 화합물과 계면활성제를 포함하는 수용액이다. The developing solution used to remove the non-exposure end coating region in the developing step may be one commonly used in the art, and is usually an aqueous solution containing an alkaline compound and a surfactant.

상기 현상액에 포함되는 알칼리성 화합물은 무기 및 유기 알칼리성 화합물 중 어느 것을 사용하여도 무방하다. 무기 알칼리성 화합물의 구체적인 예로는, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 인산수소이나트륨, 인산이수소나트륨, 인산수소이암모늄, 인산이수소암모늄, 인산이수소칼륨, 규산나트륨, 규산칼륨, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 탄산수소나트륨, 탄산수소칼륨, 붕산나트륨, 붕산칼륨, 암모니아 등을 들 수 있다. 또한, 유기 알칼리성 화합물의 구체적인 예로는, 테트라메틸암모늄히드록시드, 2-히드록시에틸트리메틸암모늄히드록시드, 모노메틸아민, 디메틸아민, 트리메틸아민, 모노에틸아민, 디에틸아민, 트리에틸아민, 모노이소프로필아민, 디이소프로필아민, 에탄올아민 등을 들 수 있다. 이들 무기 및 유기 알칼리성 화합물은 각각 단독 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. The alkaline compound contained in the developer may be any of inorganic and organic alkaline compounds. Specific examples of the inorganic alkaline compound include sodium hydroxide, potassium hydroxide, disodium hydrogen phosphate, sodium dihydrogen phosphate, diammonium hydrogen phosphate, ammonium dihydrogen phosphate, potassium dihydrogen phosphate, sodium silicate, potassium silicate, sodium carbonate, potassium carbonate, hydrogen carbonate Sodium, potassium hydrogen carbonate, sodium borate, potassium borate, ammonia and the like. In addition, specific examples of the organic alkaline compound include tetramethylammonium hydroxide, 2-hydroxyethyltrimethylammonium hydroxide, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, Monoisopropylamine, diisopropylamine, ethanolamine and the like. These inorganic and organic alkaline compounds can be used individually or in combination of 2 or more types, respectively.

상기 현상액 중의 알칼리성 화합물의 농도는 0.01 내지 10중량%인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.03 내지 5중량%인 것이다.It is preferable that the density | concentration of the alkaline compound in the said developing solution is 0.01 to 10 weight%, More preferably, it is 0.03 to 5 weight%.

상기 현상액에 포함되는 계면 활성제로는 비이온계 계면활성제, 음이온계 계면활성제 또는 양이온계 계면활성제 중 어느 것을 사용하여도 무방하다. 비이온계 계면활성제의 구체적인 예로는, 폴리옥시에틸렌알킬에테르, 폴리옥시에틸렌아릴에테르, 폴리옥시에틸렌알킬아릴에테르, 그 밖의 폴리옥시에틸렌 유도체, 옥시에틸렌-옥시프로필렌 블록 공중합체, 소르비탄지방산에스테르, 폴리옥시에틸렌소르비탄지방산에스테르, 폴리옥시에틸렌소르비톨지방산에스테르, 글리세린지방산에스테르, 폴리옥시에틸렌지방산에스테르, 폴리옥시에틸렌알킬아민 등을 들 수 있다. 음이온계 계면활성제의 구체적인 예로는, 라우릴알콜황산에스테르나트륨, 올레일알콜황산 에스테르나트륨 등의 고급 알콜 황산에스테르염류; 라우릴황산나트륨, 라우릴황산암모늄 등의 알킬황산염류; 도데실벤젠술폰산나트륨, 도데실나프탈렌술폰산나트륨 등의 알킬아릴술폰산염류 등을 들 수 있다. 양이온계 계면활성제의 구체적인 예로는, 스테아릴아민염산염, 라우릴트리메틸암모늄클로라이드 등의 아민염, 또는 4급 암모늄염 등을 들 수 있다. 이들 계면활성제는 각각 단독 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.As surfactant contained in the said developing solution, you may use any of a nonionic surfactant, anionic surfactant, or cationic surfactant. Specific examples of the nonionic surfactant include polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene aryl ether, polyoxyethylene alkyl aryl ether, other polyoxyethylene derivatives, oxyethylene-oxypropylene block copolymers, sorbitan fatty acid esters, Polyoxyethylene sorbitan fatty acid ester, polyoxyethylene sorbitol fatty acid ester, glycerin fatty acid ester, polyoxyethylene fatty acid ester, polyoxyethylene alkylamine and the like. Specific examples of the anionic surfactant include higher alcohol sulfate ester salts such as sodium lauryl alcohol sulfate and sodium oleyl alcohol sulfate; Alkyl sulfates such as sodium lauryl sulfate and ammonium lauryl sulfate; Alkyl aryl sulfonates, such as sodium dodecyl benzene sulfonate and sodium dodecyl naphthalene sulfonate, etc. are mentioned. Specific examples of the cationic surfactant include amine salts such as stearylamine hydrochloride and lauryl trimethylammonium chloride, or quaternary ammonium salts. These surfactant can be used individually or in combination of 2 or more types, respectively.

상기 현상액 중의 계면활성제의 농도는 0.01 내지 10중량%일 수 있으며, 바람직하게는 0.05 내지 8중량%, 보다 바람직하게는 0.1 내지 5중량%인 것이다. The concentration of the surfactant in the developer may be 0.01 to 10% by weight, preferably 0.05 to 8% by weight, more preferably 0.1 to 5% by weight.

현상단계 이후 필요에 따라서 착색 패턴이 형성된 컬러 필터는 150 내지 230℃에서 1분 내지 60분 정도의 후건조를 실시할 수도 있다. 상기 후건조는 패턴상의 잔류 솔벤트를 완전히 제거함과 아울러 구현된 패턴을 단단히 경화시키기 위함이다.After the development step, the color filter having a colored pattern may be subjected to post-drying for about 1 minute to 60 minutes at 150 to 230 ° C. The post-drying is to completely remove the residual solvent on the pattern and to harden the embodied pattern.

본 발명에서는 상술한 고체 촬상 소자용 컬러 필터의 제조방법에 의해 제조되는 컬러 필터를 제공한다. This invention provides the color filter manufactured by the manufacturing method of the color filter for solid-state image sensors mentioned above.

상기 컬러 필터는 그 제조과정에서 초단판장 노광기를 사용함에 따라 미세화된 착색 패턴을 갖는다. 특히 본 발명에 의해 얻어지는 착색 패턴은 현재 상용화되는 2.2㎛보다도 현저하게 미세한 1.4㎛이하, 특히 1.0㎛이하가 가능하며, 그에 따라 상기 미세화된 착색 패턴을 갖는 컬러 필터는 고체 촬상 소자에 유용하게 적용될 수 있다. The color filter has a finely colored coloring pattern as the ultrashort plate exposure machine is used in its manufacturing process. In particular, the colored pattern obtained by the present invention can be significantly less than 1.4㎛, in particular less than 1.0㎛ than the current commercially available 2.2㎛, so that the color filter having the refined coloring pattern can be usefully applied to the solid-state image sensor have.

본 발명에서는 상기 컬러 필터를 포함하는 고체촬상 소자를 제공한다. 상기 고체 촬상 소자는 본 발명에 따른 컬러 필터를 구비한 것을 제외하고는 본 발명의 기술분야에서 당업자에게 알려진 구성을 채택할 수 있다. The present invention provides a solid state image pickup device including the color filter. The solid-state imaging device may adopt a configuration known to those skilled in the art, except that the solid-state imaging device is provided with the color filter according to the present invention.

이하, 실시예에 의해 본 발명을 보다 구체적으로 설명하지만, 본 발명이 실시예에 의해 한정되는 것은 물론 아니다. 아울러 이하의 실시예에서 함유량을 나타내는 "%" 및 "부"는 특별히 언급하지 않는 한 중량% 또는 중량부를 의미한다. Hereinafter, although an Example demonstrates this invention more concretely, this invention is not limited by an Example. In addition, "%" and "part" which show content in a following example mean the weight% or weight part, unless there is particular notice.

<실시예 1>&Lt; Example 1 >

착색 감광성수지 조성물은 용제를 제외한 성분의 전체 고형분 100%를 기준으로 착색제 C.I. Pigment GREEN 36호 안료 31.50% 및 C.I. Solvent Yellow 염료 82호 13.50%, 폴리에스테르계 분산제 9.07%로 구성된 밀베이스를 수득한 후, 23℃에서 교반 하에 상기 밀베이스에 바인더 수지(중량평균분자량이 20,000, 산가가 120mgKOH/g인 메타크릴산과 벤질메타크릴레이트의 공중합체) 19%, 광중합성 화합물(디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트(TOAGOSEI ㈜ 제조)) 7.36%과 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트(미원상사㈜ 제조) 7.36%, 광중합 개시제로서 에타논-1-[9-에틸-6-(2-메틸-4테트라히드로피라닐옥시벤조일)-9H-카바졸-3-일]-1-(O-아세틸옥심)(Irgacure OXE02; Ciba Specialty Chemical사 제조) 10%, 1-히드록시 시클로헥실 페닐케톤 (Irgacure 184; Ciba Specialty Chemical사 제조) 2%, 밀착성 증진제인 2- (3,4에폭시시클로헥실)-에틸트리메톡시실란 0.22%에 용제인 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트 첨가한 후 혼합하여 착색 감광성 수지 조성물을 제조하였다.The colored photosensitive resin composition is based on 100% of the total solids of the components excluding the solvent. Pigment GREEN 36 Pigment 31.50% and C.I. After obtaining a mill base consisting of 13.50% of Solvent Yellow Dye No. 82 and 9.07% of a polyester-based dispersant, a binder resin (method having a weight average molecular weight of 20,000 and an acid value of 120 mgKOH / g; 19% copolymer of benzyl methacrylate), 7.36% photopolymerizable compound (Dipentaerythritol pentaacrylate (manufactured by TOAGOSEI Co., Ltd.)), 7.36% pentaerythritol triacrylate (manufactured by Miwon Corporation), eta as photopolymerization initiator Non-1- [9-ethyl-6- (2-methyl-4tetrahydropyranyloxybenzoyl) -9H-carbazol-3-yl] -1- (O-acetyloxime) (Irgacure OXE02; Ciba Specialty Chemical Solvent) in 10%, 1-hydroxy cyclohexyl phenyl ketone (Irgacure 184; manufactured by Ciba Specialty Chemical) 2%, 0.22% of 2- (3,4-epoxycyclohexyl) -ethyltrimethoxysilane as an adhesion promoter Phosphorus Propylene Glycol Methyl Ether Acetate Added and Mixed to Color Photosensitive Resin A hydrous product was prepared.

<실시예 2><Example 2>

착색 감광성수지 조성물은 용제를 제외한 성분의 전체 고형분 100%를 기준으로 착색제 C.I. Pigment GREEN 36호 안료 20.12% 및 C.I. Pigment Yellow 염료 139호 2.25%, C.I. Solvent Yellow 82호 13.50%, 폴리에스테르계 분산제 9.07%로 구성된 밀베이스를 수득한 후, 23℃에서 교반 하에 상기 밀베이스에 바인더 수지(중량평균분자량이 20,000, 산가가 120mgKOH/g인 메타크릴산과 벤질메타크릴레이트의 공중합체) 19%, 광중합성 화합물(디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트(TOAGOSEI ㈜ 제조)) 7.36%과 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트(미원상사㈜ 제조) 7.36%, 광중합 개시제로서 에타논-1-[9-에틸-6-(2-메틸-4테트라히드로피라닐옥시벤조일)-9H-카바졸-3-일]-1-(O-아세틸옥심)(Irgacure OXE02; Ciba Specialty Chemical사 제조) 10%, 1-히드록시 시클로헥실 페닐케톤 (Irgacure 184; Ciba Specialty Chemical사 제조) 2%, 밀착성 증진제인 2-(3,4에폭시시클로헥실)-에틸트리메톡시실란 0.22%에 용제인 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트 첨가한 후 혼합하여 착색 감광성 수지 조성물을 제조하였다.The colored photosensitive resin composition is based on 100% of the total solids of the components excluding the solvent. Pigment GREEN 36 Pigment 20.12% and C.I. Pigment Yellow Dye No. 139 2.25%, C.I. After obtaining a mill base consisting of 13.50% of Solvent Yellow 82 and 9.07% of a polyester-based dispersant, methacrylic acid and benzyl having a binder resin (weight average molecular weight of 20,000 and an acid value of 120 mgKOH / g) were added to the mill base under stirring at 23 ° C. Copolymer of methacrylate) 19%, photopolymerizable compound (Dipentaerythritol pentaacrylate (manufactured by TOAGOSEI Co., Ltd.)) and 7.36% pentaerythritol triacrylate (manufactured by Miwon Corporation), ethanone as photopolymerization initiator -1- [9-ethyl-6- (2-methyl-4tetrahydropyranyloxybenzoyl) -9H-carbazol-3-yl] -1- (O-acetyloxime) (Irgacure OXE02; Ciba Specialty Chemical 10%, 1-hydroxy cyclohexyl phenyl ketone (Irgacure 184; manufactured by Ciba Specialty Chemical Co., Ltd.) 2%, solvent (2 (3,4epoxycyclohexyl) -ethyltrimethoxysilane 0.22% as an adhesion promoter) Propylene glycol methyl ether acetate is added, and then mixed to color the photosensitive resin composition It was prepared.

<비교예 1>Comparative Example 1

착색 감광성수지 조성물은 용제를 제외한 성분의 전체 고형분 100%를 기준으 로 착색제 C.I. Pigment GREEN 36호 안료 45.00%, 폴리에스테르계 분산제 10.08%로 구성된 밀베이스를 수득한 후, 23℃에서 교반 하에 상기 밀베이스에 바인더 수지(중량평균분자량이 20,000, 산가가 120mgKOH/g인 메타크릴산과 벤질메타크릴레이트의 공중합체) 15.00%, 광중합성 화합물(디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트(TOAGOSEI ㈜ 제조)) 8.67%과 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트(미원상사㈜ 제조) 8.67%, 광중합 개시제로서 에타논-1-[9-에틸-6-(2-메틸-4테트라히드로피라닐옥시벤조일)-9H-카바졸-3-일]-1-(O-아세틸옥심)(Irgacure OXE02; Ciba Specialty Chemical사 제조) 10%, 1-히드록시 시클로헥실 페닐케톤 (Irgacure 184; Ciba Specialty Chemical사 제조) 2%, 밀착성 증진제인 2-(3,4에폭시시클로헥실)-에틸트리메톡시실란 0.22%에 용제인 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트 첨가한 후 혼합하여 착색 감광성 수지 조성물을 제조하였다.The colored photosensitive resin composition is based on 100% of the total solids of the components excluding the solvent. After obtaining a millbase consisting of 45.00% Pigment GREEN No. 36 pigment, 10.08% polyester-based dispersant, and a binder resin (weight average molecular weight 20,000, acid value of 120mgKOH / g and methacrylic acid) Benzyl methacrylate copolymer) 15.00%, photopolymerizable compound (Dipentaerythritol pentaacrylate (manufactured by TOAGOSEI Corporation)) 8.67%, pentaerythritol triacrylate (manufactured by Miwon Corporation), eta as photopolymerization initiator Non-1- [9-ethyl-6- (2-methyl-4tetrahydropyranyloxybenzoyl) -9H-carbazol-3-yl] -1- (O-acetyloxime) (Irgacure OXE02; Ciba Specialty Chemical Solvent) in 10%, 1-hydroxy cyclohexyl phenyl ketone (Irgacure 184; manufactured by Ciba Specialty Chemical) 2%, 0.22% of 2- (3,4 epoxycyclohexyl) -ethyltrimethoxysilane as an adhesion promoter Phosphorus Propylene Glycol Methyl Ether Acetate Added and Mixed to Color Photosensitive Resin The composition was prepared.

<비교예 2>Comparative Example 2

착색 감광성수지 조성물은 용제를 제외한 성분의 전체 고형분 100%를 기준으로 착색제 C.I. Pigment GREEN 염료 36호 31.50% 및 C.I. Pigment Yellow 150호 13.50%, 폴리에스테르계 분산제 9.07%로 구성된 밀베이스를 수득한 후, 23℃에서 교반 하에 상기 밀베이스에 바인더 수지(중량평균분자량이 20,000, 산가가 120mgKOH/g인 메타크릴산과 벤질메타크릴레이트의 공중합체) 19%, 광중합성 화합물(디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트(TOAGOSEI ㈜ 제조)) 7.36%과 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트(미원상사㈜ 제조) 7.36%, 광중합 개시제로서 에타논-1-[9-에틸- 6-(2-메틸-4테트라히드로피라닐옥시벤조일)-9H-카바졸-3-일]-1-(O-아세틸옥심)(Irgacure OXE02; Ciba Specialty Chemical사 제조) 10%, 1-히드록시 시클로헥실 페닐케톤 (Irgacure 184; Ciba Specialty Chemical사 제조) 2%, 밀착성 증진제인 2-(3,4에폭시시클로헥실)-에틸트리메톡시실란 0.22%에 용제인 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트 첨가한 후 혼합하여 착색 감광성 수지 조성물을 제조하였다.The colored photosensitive resin composition is based on 100% of the total solids of the components excluding the solvent. Pigment GREEN dye No. 36 31.50% and C.I. After obtaining a millbase consisting of 13.50% Pigment Yellow No. 150, 9.07% polyester-based dispersant, methacrylic acid and benzyl having a binder resin (weight average molecular weight of 20,000, acid value of 120mgKOH / g and benzyl) to the millbase under stirring at 23 ℃ Copolymer of methacrylate) 19%, photopolymerizable compound (Dipentaerythritol pentaacrylate (manufactured by TOAGOSEI Co., Ltd.)) and 7.36% pentaerythritol triacrylate (manufactured by Miwon Corporation), ethanone as photopolymerization initiator -1- [9-ethyl-6- (2-methyl-4tetrahydropyranyloxybenzoyl) -9H-carbazol-3-yl] -1- (O-acetyloxime) (Irgacure OXE02; Ciba Specialty Chemical 10%, 1-hydroxy cyclohexyl phenyl ketone (Irgacure 184; manufactured by Ciba Specialty Chemical Co., Ltd.) 2%, solvent (2 (3,4epoxycyclohexyl) -ethyltrimethoxysilane 0.22% as an adhesion promoter) Propylene glycol methyl ether acetate is added and mixed to form a colored photosensitive resin It was prepared.

<실험예>Experimental Example

23℃의 청정실에서 4인치 크기의 Si-wafer의 표면 상에, 상기 실시예 및 비교예에서 얻은 착색 감광성 조성물을 스핀 코팅법에 의해서 도포한 후, 90℃에서 90초간 건조시켜 휘발 성분을 휘발시켜서 착색 감광성 조성물 층을 형성하였다. 23℃로 냉각시킨 후, 형성된 착색 감광성 조성물 층에 KrF 스캐너 노광기(248nm)를 이용하여 노광을 실시하였다. 이어서, 현상액(수산화테트라메틸암모늄 0.2 중량부를 포함하는 수용액)에 23℃에서 퍼들을 이용하여 60초간 현상하고, 순수한 물로 세정한 후, 220℃에서 180초간 후가열하여 착색 패턴을형성하였다. After applying the colored photosensitive composition obtained in the above Examples and Comparative Examples by spin coating on a surface of a 4 inch size Si-wafer in a clean room at 23 ° C., it was dried at 90 ° C. for 90 seconds to volatilize the volatile components. A colored photosensitive composition layer was formed. After cooling to 23 ° C., the formed colored photosensitive composition layer was exposed to light using a KrF scanner exposure machine (248 nm). Subsequently, the developer (aqueous solution containing 0.2 parts by weight of tetramethylammonium hydroxide) was developed for 60 seconds using a puddle at 23 ° C., washed with pure water, and then heated at 220 ° C. for 180 seconds to form a colored pattern.

얻어진 착색 패턴의 투과율을 각각 도 1 내지 도 4에 나타내었다. The transmittance | permeability of the obtained coloring pattern is shown to FIGS. 1-4, respectively.

도 1 내지 도 4에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 실시예 1 및 실시예 2의 결과를 나타낸 도 1 및 도 2의 경우 비교예 1 및 비교예 2의 결과를 나타낸 도 3 및 도 4에 비하여 요구 파장대에서 불순 피크들이 없어 색순도가 떨어지거나 색섞임이 발생하는 등의 단점이 없음을 확인할 수 있다.As shown in Figures 1 to 4, Figures 1 and 2 showing the results of Example 1 and Example 2 according to the present invention in Figures 3 and 4 showing the results of Comparative Example 1 and Comparative Example 2 In comparison, there are no disadvantages such as color purity or color mixing because there are no impurity peaks in the required wavelength range.

도 1은 실시예 1의 착색 감광성 수지 조성물의 투과도 그래프이다. 1 is a graph of transmittance of the colored photosensitive resin composition of Example 1. FIG.

도 2은 실시예 2의 착색 감광성 수지 조성물의 투과도 그래프이다. 2 is a graph of transmittance of the colored photosensitive resin composition of Example 2. FIG.

도 3은 비교예 1의 착색 감광성 수지 조성물의 투과도 그래프이다. 3 is a graph of transmittance of the colored photosensitive resin composition of Comparative Example 1. FIG.

도 4은 비교예 2의 착색 감광성 수지 조성물의 투과도 그래프이다. 4 is a graph of transmittance of the colored photosensitive resin composition of Comparative Example 2. FIG.

Claims (12)

착색제, 바인더 수지, 광중합성 화합물, 광중합 개시제 및 용매를 포함하여 이루어지는 300nm 이하의 초단파장 노광기를 이용한 컬러 필터 제조용 착색 감광성 수지 조성물로서,As colored photosensitive resin composition for color filter manufacture using the ultra short wavelength exposure machine of 300 nm or less which consists of a coloring agent, binder resin, a photopolymerizable compound, a photoinitiator, and a solvent, 상기 착색제는 안료 및 염료를 포함하여 이루어지고, The colorant comprises a pigment and a dye, 상기 광중합 개시제는 옥심에스테르계 광중합 개시제 및 상기 옥심에스테르계 광중합 개시제 이외의 다른 광중합 개시제를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 300nm 이하의 초단파장 노광기를 이용한 고체 촬상 소자의 컬러 필터 제조용 착색 감광성 수지 조성물. The said photoinitiator contains the photoinitiator other than an oxime ester system photoinitiator and the said oxime ester system photoinitiator, The coloring photosensitive resin composition for manufacturing the color filter of the solid-state image sensor using the ultra short wavelength exposure machine of 300 nm or less characterized by the above-mentioned. 청구항 1에 있어서, 상기 염료는 칼라 인덱스 솔벤트(C.I. Solvent) 중에서 선택되는 것을 포함함을 특징으로 하는 300nm 이하의 초단파장 노광기를 이용한 고체 촬상 소자의 컬러 필터 제조용 착색 감광성 수지 조성물.The coloring photosensitive resin composition for manufacturing a color filter of a solid-state imaging device using an ultra-short wavelength exposure device of 300 nm or less, characterized in that the dye is selected from color index solvents (C.I. Solvent). 청구항 1에 있어서, 상기 안료는 칼라 인덱스 피그먼트(C.I. Pigment) 중에서 선택되는 것을 포함함을 특징으로 하는 300nm 이하의 초단파장 노광기를 이용한 고체 촬상 소자의 컬러 필터 제조용 착색 감광성 수지 조성물.The coloring photosensitive resin composition for manufacturing a color filter of a solid-state imaging device using an ultra-short wavelength exposure device of 300 nm or less, characterized in that the pigment is selected from color index pigments (C.I. Pigment). 청구항 1에 있어서, 상기 착색 감광성 수지 조성물이 그린(Green)으로 착색되는 착색 감광성 수지 조성물이고, 상기 안료는 칼라 인덱스 피그먼트(C.I. Pigment) 그린(Green)을 포함하며, 상기 염료는 칼라 인덱스 솔벤트(C.I. Solvent) 옐로우(Yellow)를 포함하는 것을 특징으로 하는 300nm 이하의 초단파장 노광기를 이용한 고체 촬상 소자의 컬러 필터 제조용 착색 감광성 수지 조성물.The method according to claim 1, wherein the colored photosensitive resin composition is a colored photosensitive resin composition colored with Green, the pigment comprises a color index pigment (CI Pigment) Green, the dye is a color index solvent ( CI Solvent) The coloring photosensitive resin composition for color filter manufacture of the solid-state image sensor using the ultra short wavelength exposure machine of 300 nm or less characterized by including yellow. 청구항 1에 있어서, 상기 안료는 칼라 인덱스 피그먼트(C.I. Pigment) 그린(Green) 7호, 칼라 인덱스 피그먼트(C.I. Pigment) 그린(Green) 36호 및 칼라 인덱스 피그먼트(C.I.Pigment) 그린(Green) 58호에서 선택되는 적어도 하나를 포함하며, 상기 염료는 칼라 인덱스 솔벤트(C.I. Solvent) 옐로우(Yellow) 82호를 포함하는 것을 특징으로 하는 300nm 이하의 초단파장 노광기를 이용한 고체 촬상 소자의 컬러 필터 제조용 착색 감광성 수지 조성물.The pigment of claim 1, wherein the pigment is CI Pigment Green No. 7, CI Pigment Green No. 36 and Color Index Pigment Green. At least one selected from No. 58, wherein the dye includes color index solvent (Yellow) 82; color for manufacturing color filters of a solid-state imaging device using an ultra-short wavelength exposure device of 300 nm or less. Photosensitive resin composition. 청구항 1에 있어서, 상기 착색 감광성 수지 조성물이 레드(Red)로 착색되는 착색 감광성 수지 조성물이고, 상기 안료는 칼라 인덱스 피그먼트(C.I. Pigment) 레드(Red)를 포함하며, 상기 염료는 칼라 인덱스 솔벤트(C.I. Solvent)를 포함하는 것을 특징으로 하는 300nm 이하의 초단파장 노광기를 이용한 고체 촬상 소자의 컬러 필터 제조용 착색 감광성 수지 조성물.The method according to claim 1, wherein the colored photosensitive resin composition is a colored photosensitive resin composition colored in red, the pigment comprises a color index pigment (CI Pigment) Red, the dye is a color index solvent ( CI Solvent), The coloring photosensitive resin composition for color filter manufacture of the solid-state image sensor using the ultra short wavelength exposure machine of 300 nm or less. 청구항 1에 있어서, 상기 착색 감광성 수지 조성물이 블루(Blue)로 착색되는 착색 감광성 수지 조성물이고, 상기 안료는 칼라 인덱스 피그먼트(C.I. Pigment) 블루(Blue)를 포함하며, 상기 염료는 칼라 인덱스 솔벤트(C.I. Solvent)를 포함하는 것을 특징으로 하는 300nm 이하의 초단파장 노광기를 이용한 고체 촬상 소자의 컬러 필터 제조용 착색 감광성 수지 조성물.The method according to claim 1, wherein the coloring photosensitive resin composition is a coloring photosensitive resin composition that is colored blue, the pigment comprises a color index pigment (CI Pigment) Blue, the dye is a color index solvent ( CI Solvent), The coloring photosensitive resin composition for color filter manufacture of the solid-state image sensor using the ultra short wavelength exposure machine of 300 nm or less. 청구항 1에 있어서, 상기 다른 광중합 개시제는 아세토페논계 광중합 개시제, 벤조인계 광중합 개시제, 벤조페논계 광중합 개시제, 티오크산톤계 광중합 개시제 또는 트리아진계 광중합 개시제에서 선택되는 활성라디칼 발생제, 증감제 및 산발생제로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 포함하는 것을 특징으로 하는 300nm 이하의 초단파장 노광기를 이용한 고체 촬상 소자의 컬러 필터 제조용 착색 감광성 수지 조성물. The method of claim 1, wherein the other photopolymerization initiator is an active radical generator, a sensitizer and an acid selected from acetophenone photopolymerization initiator, benzoin photopolymerization initiator, benzophenone photopolymerization initiator, thioxanthone photopolymerization initiator or triazine photopolymerization initiator. The coloring photosensitive resin composition for color filter manufacture of the solid-state image sensor using the ultra short wavelength exposure machine of 300 nm or less characterized by including at least 1 sort (s) chosen from the group which consists of a generator. 청구항 1에 있어서, 상기 옥심에스테르계 광중합 개시제는 그를 포함하는 광 중합 개시제 전체량에 대하여 중량 분율로 1~99중량% 포함되고, The method according to claim 1, wherein the oxime ester photopolymerization initiator is contained in a weight fraction of 1 to 99% by weight based on the total amount of the photopolymerization initiator including the same, 상기 광중합 개시제는 착색 감광성 수지 조성물 중의 고형분 함량에 대하여 1~50중량% 함유되는 것을 특징으로 하는 300nm 이하의 초단파장 노광기를 이용한 고체 촬상 소자의 컬러 필터 제조용 착색 감광성 수지 조성물. The said photoinitiator is 1-50 weight% with respect to solid content in a coloring photosensitive resin composition, The coloring photosensitive resin composition for color filter manufacture of the solid-state image sensor using the 300 nm or less ultrashort wavelength exposure machine characterized by the above-mentioned. 청구항 1에 있어서, 상기 300nm 이하의 초단파장 노광기는 KrF 스캐너 노광기(248nm)인 것을 특징으로 하는 300nm 이하의 초단파장 노광기를 이용한 고체 촬상 소자의 컬러 필터 제조용 착색 감광성 수지 조성물.The colored photosensitive resin composition for manufacturing a color filter of a solid-state imaging device using the ultra short wavelength exposure machine of 300 nm or less, wherein the ultra short wavelength exposure machine of 300 nm or less is a KrF scanner exposure machine (248 nm). 청구항 1 내지 청구항 10 중 어느 한 항의 착색 감광성 수지 조성물을 기판상에 코팅한 후 300nm 이하의 초단파장 노광기를 사용하여 소정의 패턴으로 노광 및 현상하여서 된 착색 패턴을 포함하는 것을 특징으로 하는 컬러 필터. A color filter comprising a colored pattern obtained by coating the colored photosensitive resin composition according to any one of claims 1 to 10 onto a substrate and then exposing and developing in a predetermined pattern using an ultra-short wavelength exposure device of 300 nm or less. 청구항 11의 컬러 필터를 포함하는 것을 특징으로 하는 고체 촬상 소자.The color image sensor of Claim 11 containing the color filter.
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