KR101573754B1 - (meth)acrylate compound, resin composition containing the same, cured product of the resin composition and energy ray-curable resin composition for optical lens sheet and cured product thereof - Google Patents
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Abstract
본 발명은 투명성이 뛰어나고 수지 단독으로 높은 굴절률과 높은 밀착성을 갖는 한편 충분한 경도를 갖는 경화물을 제공하는 감광성 수지 및 이형성, 형태 재현성, 기재와의 밀착성이 뛰어나고 고굴절률로 유리 전이점이 높으며, 내광성이 우수한 광학 렌즈 시트용 수지 조성물을 제공한다. 하기 식(1)
로 표시되는 화합물을 에피할로히드린과 반응시켜 얻어진 에폭시 수지(a)와 분자중에 에틸렌성 불포화기를 갖는 모노카르복시산 화합물(b)과 방향족계 폴리이소시아네이트 화합물(c)을 반응시켜 얻어진 것을 특징으로 하는 우레탄 화합물(A), 및 이 우레탄 화합물(A) 및 광중합 개시제(B)를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 렌즈 시트용 에너지선 경화형 수지 조성물.The present invention relates to a photosensitive resin which is excellent in transparency and which has a high refractive index and high adhesiveness as a resin alone, and which provides a cured product having sufficient hardness, and which has excellent releasability, form reproducibility, adhesion with a substrate, high refractive index, high glass transition point, A resin composition for an excellent optical lens sheet is provided. (1)
(B) with an aromatic polyisocyanate compound (c) in the presence of an epoxy resin (a) obtained by reacting a compound represented by the following formula (1) with epihalohydrin An energy ray curable resin composition for an optical lens sheet, which comprises a urethane compound (A), an urethane compound (A) and a photopolymerization initiator (B).
Description
본 발명은 수지 단독으로 고굴절률이고 투명성이 뛰어난 특정 구조를 갖는 불포화기 함유 화합물, 이를 포함한 수지 조성물 및 그 경화물에 관한 것이다. 그 용도로는 피막 형성용 재료, 프린트 (배선 회로) 기판 제조시 솔더마스크, 도금 레지스터, 접착제, 렌즈, 디스플레이, 광섬유, 광도파로, 홀로그램, 코팅제 등을 들 수 있다.The present invention relates to an unsaturated group-containing compound having a specific structure having a high refractive index and excellent transparency alone, a resin composition containing the unsaturated group-containing compound, and a cured product thereof. Examples thereof include a film forming material, a solder mask, a plating resistor, an adhesive, a lens, a display, an optical fiber, an optical waveguide, a hologram, and a coating agent when manufacturing a printed circuit (wiring circuit) substrate.
또한 본 발명은 광학 렌즈 시트용 에너지선 경화형 수지 조성물 및 그 경화물에 관한 것이다. 보다 자세하게는, 프레넬 렌즈, 렌치큐라 렌즈, 프리즘 렌즈, 마이크로 렌즈 등의 렌즈류에 특히 적합한 수지 조성물 및 경화물에 관한 것이다.The present invention also relates to an energy radiation curable resin composition for an optical lens sheet and a cured product thereof. More particularly, the present invention relates to a resin composition and a cured product particularly suitable for lenses such as a Fresnel lens, a wrench cure lens, a prism lens, a microlens, and the like.
최근, 활성 에너지선으로 경화하여 고내열 및 고굴절률인 투명성을 갖는 감광성 재료의 개발이 여러가지 용도로 진행되고 있다(특허 문헌 1~3). 이러한 용도에서는 고내열성, 고굴절률 이외에도 기재와의 밀착성이나 경화물의 경도, 알칼리에 대한 용해성 등이 요구되고 있고, 이러한 요구에 따라 모노머나 필러 등의 첨가제를 부가하는 경우가 많다. 그러나, 이들 첨가제를 부가하게 되면 굴절률의 저하 등 유기 재료의 특성을 발현하기 어려워지기 때문에 수지 자체의 내열성이나 굴절률의 향상이 필요하다.In recent years, development of a photosensitive material having a high heat resistance and a high refractive index, which is cured with an active energy ray, has been developed for various uses (Patent Documents 1 to 3). In these applications, in addition to high heat resistance and high refractive index, adhesion with a substrate, hardness of a cured product, solubility in alkali, and the like are required, and in many cases, additives such as a monomer and a filler are added in accordance with this demand. However, if these additives are added, it becomes difficult to manifest the characteristics of an organic material such as a decrease in refractive index, and therefore it is necessary to improve the heat resistance and the refractive index of the resin itself.
또한 특허 문헌 4에서는 o-페닐페놀글리시딜에테르와 (메타)아크릴산의 반응물을 광학 재료로 사용하는 것이 개시되고 있다. 그러나, 이 방법으로 얻어진 화합물은 단관능 (메타)아크릴레이트이며, 경화물에서의 경도·내열성이 낮을 우려가 있고 액굴절률이 1.58 정도이므로 화합물로서는 아직 만족스러운 수준이 아니다. Patent Document 4 discloses the use of a reaction product of o-phenylphenol glycidyl ether and (meth) acrylic acid as an optical material. However, the compound obtained by this method is a monofunctional (meth) acrylate, and the hardness and heat resistance of the cured product may be low, and since the liquid refractive index is about 1.58, the compound is not yet satisfactory.
또한 특허 문헌 5에서는 방향족 글리시딜 화합물과 (메타)아크릴산 및 다가 이소시아네이트 화합물의 반응 생성물에 관해서 기재되어 있다. 그러나, 이 경우 용도가 염료 수용성 수지이고, 실시예에서는 지방족 이소시아네이트 화합물이 사용되어 광학적 특징을 찾아내지 못하였다.In Patent Document 5, the reaction products of an aromatic glycidyl compound and (meth) acrylic acid and a polyvalent isocyanate compound are described. However, in this case, the application is a dye-water-soluble resin, and in the examples, an aliphatic isocyanate compound is used and no optical characteristic is found.
또한 최근 하드네스(ハ―ドネス), 내찰상성 및 밀착성이 높고, 고굴절률이며, 고경도에서 저수축인 컬의 발생이 적은 하드 코트 재료로서 감광성 아크릴계 하드 코트제가 이용되고 있고, 특허 문헌 6은 가공 처리 스피드, 하드네스, 내찰상성, 연속 가공, 반사 방지, 대전 방지 등 여러 가지 기능을 부여한 하드 코트에 대해서 기술하고 있다. Recently, a photosensitive acrylic hard coat agent has been used as a hard coat material having high hardness, high scratch resistance and adhesion, high refractive index, and low occurrence of curling in high and low shrinkage. Patent Document 6 Hardness, hardness, scratch resistance, continuous machining, antireflection, antistatic and other functions.
또한 종래 프레넬 렌즈 등 상기에서 기술된 렌즈는 프레스법, 캐스트법(주형 형성법) 등의 방법에 의해 성형되었다. 전자의 프레스법은 가열, 가압, 냉각 사이클로 제조하기 때문에 생산성이 나빴다. 또한 후자의 캐스트법은 금형에 모노머를 유입하여 중합하기 때문에 제작 시간이 오래 걸리는 것과 동시에 금형이 다수개 필요하기 때문에 제조 비용이 오른다는 문제가 있었다. 이러한 문제를 해결하기 위해 자외선 경화형 수지 조성물을 사용하는 것에 대하여 여러 가지의 제안이 이루어지고 있다(특허 문헌 7, 특허 문헌 8).The lens described above such as a conventional Fresnel lens was molded by a method such as a pressing method, a casting method (mold forming method) or the like. The former press method is poor in productivity because it is manufactured by heating, pressurizing, and cooling cycles. In addition, the latter casting method has a problem in that the production cost is increased because a large number of molds are required at the same time as the production time is long because the monomer is polymerized by introducing the monomer into the mold. In order to solve such a problem, various proposals have been made for using an ultraviolet curable resin composition (Patent Document 7, Patent Document 8).
이들 자외선 경화형 수지 조성물을 사용하는 것에 의해 투과형 스크린 등에 이용하는 광학 렌즈 시트를 제조하는 방법은 알려져 있다. 그러나 이들 종래의 수지 조성물의 경화물은 기판과의 밀착성, 형태로부터의 이형성이 나쁘다는 문제가 있다. 밀착성이 나쁘면 사용가능한 기판의 종류가 한정되어 의도하는 광학 물성을 갖는 것을 얻기 힘들다. 이형성이 나쁘면 이형시에 형태에 수지가 남아 형태를 재사용할 수 없게 된다. 또한 기판과의 밀착성이 좋은 경화물을 제공하는 수지 조성물은 형태와의 밀착도 좋아지기 때문에 이형성이 나빠지기 쉽고 한편, 이형성이 좋은 수지 조성물은 밀착성이 나빠지기 쉬운 문제도 있다. 따라서 기판과의 밀착성과 형태로부터의 이형성의 양 성능을 만족할 수 있는 수지 조성물이 바람직하며, 특허 문헌 9가 제안되고 있다.A method of producing an optical lens sheet for use in a transmissive screen or the like by using these ultraviolet-curable resin compositions is known. However, these conventional cured products of the resin composition have a problem of poor adhesion to the substrate and poor mold releasability. If the adhesion is poor, the kinds of usable substrates are limited, and it is difficult to obtain the intended optical properties. If the releasability is poor, the resin remains in the form at the time of releasing, and the form can not be reused. In addition, the resin composition providing the cured product having good adhesion to the substrate has a good adhesion with the form, and thus the releasability is liable to be deteriorated. On the other hand, the resin composition having good releasability tends to have poor adhesiveness. Therefore, a resin composition capable of satisfying both the adhesion with the substrate and the releasability from the shape is preferable, and Patent Document 9 has been proposed.
이들 광학 렌즈 시트 등에 이용되는 수지 조성물은 최근 화상의 고정밀화 등에 따라 보다 미세한 형상으로 가공되거나 보다 얇게 가공되기 위하여, 또는 롤상의 시트나 필름에 연속 가공을 가능하게 하기 위해서 저점도인 것이 요구되고 있다.The resin compositions used for these optical lens sheets and the like have recently been required to have a low viscosity in order to process them into finer shapes or to be thinner in accordance with high definition of images or to enable continuous processing on rolls of sheets or films .
또한 렌즈 시트를 감아 꺼냈을 때 등에 미세 구조가 손상되기 어려운 것도 필요하고, 이 경우 높은 유리 전이점 온도(Tg)가 요구된다.Further, it is also necessary that the microstructure is not easily damaged when the lens sheet is wound and taken out. In this case, a high glass transition temperature (Tg) is required.
또한 광학 렌즈 시트를 고온 환경하에서 사용해도 물성의 변화가 적고, 가능한 유리 전이점 온도(Tg)가 높은 경화물을 제공하는 것이 요구되는 경향이 있으며, 장기간 사용했을때 착색에 의한 물성 저하가 일어나지 않고, 내광성이 좋은 것이 요구된다. 그러나 높은 굴절률, 높은 Tg점, 이형성, 밀착성, 저점도, 내광성을 겸비하는 것은 어렵고, 모든 것을 만족하는 것은 존재하지 않았다. In addition, there is a tendency that it is required to provide a cured product having a low glass transition temperature (Tg) at a low possible change in physical properties even when the optical lens sheet is used in a high temperature environment, , And good light resistance. However, it is difficult to combine high refractive index, high Tg point, releasability, adhesion, low viscosity, and light resistance, and nothing satisfying all of them exists.
특허 문헌 1: 국제공개 2002/033447호 팜플렛Patent Document 1: International Publication 2002/033447 pamphlet
특허 문헌 2: 특개 2004-29042호 공보Patent Document 2: JP-A-2004-29042
특허 문헌 3: 특개 2005-274664호 공보Patent Document 3: JP-A-2005-274664
특허 문헌 4: 특개평 9-272707호 공보Patent Document 4: JP-A-9-272707
특허 문헌 5: 특개평 4-316890호 공보Patent Document 5: JP-A-4-316890
특허 문헌 6: 특개 2006-188588호 공보Patent Document 6: JP-A 2006-188588
특허 문헌 7: 특개소 63-167301호 공보Patent Document 7: JP-A-63-167301
특허 문헌 8: 특개소 63-199302호 공보Patent Document 8: JP-A-63-199302
특허 문헌 9: 특허 제3209554호 공보Patent Document 9: Japanese Patent No. 3209554
본 발명은 투명성이 뛰어나고 수지 단독으로 높은 굴절률을 갖는 화합물을 제공하며, 또한 이를 함유하는 수지 조성물은 높은 밀착성을 갖는 한편 충분한 경도를 갖는 경화물을 제공하는 것을 목적으로 한다. 따라서, 본 발명의 감광성 수지 조성물은 피막 형성용 재료, 프린트 (배선 회로) 기판 제조시의 솔더마스크, 도금 레지스터, 접착제, 렌즈, 디스플레이, 광섬유, 광도파로, 홀로그램의 작성에 매우 적합하다. 또한 낮은 컬로 후막도공이 가능하고, 크랙이 발생하지 않는 하드 코트재에 적절한 화합물 및 감광성 수지 조성물의 경화 피막을 갖는 필름에도 매우 적합하다.It is an object of the present invention to provide a compound excellent in transparency and high in refractive index alone, and a resin composition containing the same, which has a high adhesiveness and a sufficient hardness. Accordingly, the photosensitive resin composition of the present invention is well suited for the production of film-forming materials, solder masks, plating resistors, adhesives, lenses, displays, optical fibers, optical waveguides, and holograms in the production of printed wiring boards. It is also suitable for a film having a cured film of a photosensitive resin composition and a compound suitable for a hard coat material capable of coating with a low curl thick film and free from cracks.
본 발명의 다른 목적은 프레넬 렌즈, 렌치큐라 렌즈, 프리즘 렌즈, 마이크로 렌즈 등의 렌즈 시트를 제조하는데 적합한 저점도의 수지 조성물 및 이형성, 형태 재현성, 밀착성이 뛰어나고 고굴절률로 내광성이 좋은 경화물을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a resin composition having a low viscosity suitable for manufacturing a lens sheet such as a Fresnel lens, a wrench cure lens, a prism lens or a microlens, a cured product excellent in releasability, form reproducibility and adhesiveness, .
본 발명자 등은 상기 과제를 해결하기 위하여 예의 연구한 결과, 특정 구조를 갖는 불포화기 함유 화합물 및 그 조성물이 상기 과제를 해결하는 것을 밝혀내고 본 발명을 완성하기에 이르렀다. 즉, 본 발명의 제 1 양상은The inventors of the present invention have made intensive studies to solve the above problems, and as a result, they have found that unsaturated group-containing compounds and compositions thereof having a specific structure solve the above problems and have completed the present invention. That is, the first aspect of the present invention is
(1) 하기 일반식(1)(1) A compound represented by the following general formula (1)
로 표시되는 화합물을 에피할로히드린과 반응시켜 얻어진 에폭시 수지(a)와 분자중에 에틸렌성 불포화기를 갖는 모노카르복시산 화합물(b) 및 방향족계 폴리이소시아네이트 화합물(c)를 반응시켜 얻어진 것을 특징으로 하는 우레탄 화합물(A), (B) and an aromatic polyisocyanate compound (c) are reacted with an epoxy resin (a) obtained by reacting a compound represented by the following general formula (1) with epihalohydrin The urethane compounds (A),
(2) 분자중에 에틸렌성 불포화기를 갖는 모노카르복시산 화합물(b)가 (메타)아크릴산, (메타)아크릴산과 ε-카프로락톤과의 반응 생성물 또는 계피산인 (1)에 기재된 화합물(A),(1), wherein the monocarboxylic acid compound (b) having an ethylenically unsaturated group in the molecule is a reaction product of (meth) acrylic acid, (meth) acrylic acid and epsilon -caprolactone,
(3) 분자중에 에틸렌성 불포화기를 갖는 모노카르복시산 화합물(b)가 아크릴산인 (1) 또는 (2)에 기재된 화합물(A),(3) the monocarboxylic acid compound (b) having an ethylenically unsaturated group in the molecule is acrylic acid;
(4) 방향족계 폴리이소시아네이트 화합물(c)가 탄소수 5~15의 방향환을 갖는 화합물인 (1) 내지 (3) 중 어느 하나에 기재된 화합물(A),(4) The aromatic polyisocyanate compound (c) according to any one of (1) to (3), wherein the aromatic polyisocyanate compound (c) is a compound having an aromatic ring having 5 to 15 carbon atoms,
(5) 방향족계 폴리이소시아네이트 화합물(c)가 2,4-톨릴렌디이소시아네이트인 (1) 내지 (4) 중 어느 하나에 기재된 화합물(A),(5) A process for producing the aromatic polyisocyanate compound (A), the aromatic polyisocyanate compound (c) and the aromatic polyisocyanate compound (c)
(6) 액굴절률이 1.59 이상인 (1) 내지 (5) 중 어느 하나에 기재된 화합물(A),(6) The liquid crystal composition according to any one of (1) to (5), wherein the liquid refractive index is 1.59 or more,
(7) (1) 내지 (6) 중 어느 하나에 기재된 화합물(A)와 (A) 이외의 중합성 화합물(B)를 함유하는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물,(7) A photosensitive resin composition characterized by containing a compound (A) described in any one of (1) to (6) and a polymerizable compound (B) other than (A)
(8) 중합성 화합물(B)가 (폴리)에스테르(메타)아크릴레이트(B-1), 우레탄(메타)아크릴레이트(B-2), 에폭시(메타)아크릴레이트(B-3), (폴리)에테르(메타)아크릴레이트(B-4), 알킬(메타)아크릴레이트 또는 알킬렌(메타)아크릴레이트(B-5), 방향환을 갖는 (메타)아크릴레이트(B-6) 및 지환구조를 갖는 (메타)아크릴레이트(B-7), 말레이미드기 함유 화합물(B-8), (메타)아크릴아미드 화합물(B-9), 불포화 폴리에스테르(B-10)로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 화합물인 (7)에 기재된 감광성 수지 조성물,(B-1), urethane (meth) acrylate (B-2), epoxy (meth) acrylate (B-3), (meth) acrylate (Meth) acrylate (B-4), alkyl (meth) acrylate or alkylene (meth) acrylate (B-5) (B-7), a maleimide group-containing compound (B-8), a (meth) acrylamide compound (B-9) and an unsaturated polyester (B-10) A photosensitive resin composition according to (7)
(9) 중합성 화합물(B)가 우레탄(메타)아크릴레이트(B-2), 알킬(메타)아크릴레이트 또는 알킬렌(메타)아크릴레이트(B-5) 및 방향환을 갖는 (메타)아크릴레이트(B-6)로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 화합물인 (7)에 기재된 감광성 수지 조성물,(9) The polymerizable liquid crystal composition according to any one of the above items (1) to (3), wherein the polymerizable compound (B) is at least one member selected from the group consisting of urethane (meth) acrylate (B-2), alkyl (meth) acrylate or alkylene (B-6), which is at least one compound selected from the group consisting of a photosensitive resin composition according to (7)
(10) 광중합 개시제(C)를 함유하는 (7) 내지 (9) 중 어느 하나에 기재된 감광성 수지 조성물,(10) The photosensitive resin composition according to any one of (7) to (9), which contains a photopolymerization initiator (C)
(11) (7) 내지 (10) 중 어느 하나에 기재된 감광성 수지 조성물의 경화물,(11) A cured product of the photosensitive resin composition according to any one of (7) to (10)
(12) (11)에 기재된 경화물을 갖는 필름,(12) A film having the cured product described in (11)
에 관련된다. Lt; / RTI >
또한 본 발명자 등은 상기 과제를 해결하기 위하여 예의 연구한 결과, 특정 조성을 갖는 자외선 경화형 수지 조성물 및 그 경화물이 상기 과제를 해결하는 것을 밝혀내고 본 발명을 완성하였다.The inventors of the present invention have made intensive studies in order to solve the above problems, and as a result, they have found that an ultraviolet-curable resin composition having a specific composition and a cured product thereof solve the above problems and completed the present invention.
즉, 본 발명의 제 2 양상은That is, the second aspect of the present invention is
(13) 하기 일반식(1)(13) A compound represented by the general formula (1)
로 표시되는 화합물과 에피할로히드린과의 반응 생성물인 에폭시 수지(a)와 분자중에 에틸렌성 불포화기를 갖는 모노카르복시산 화합물(b) 및 방향족계 폴리이소시아네이트 화합물(c)를 반응시켜 얻어진 우레탄 화합물(A), 및 광중합 개시제(C)를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 렌즈 시트용 에너지선 경화형 수지 조성물;(B) obtained by reacting an epoxy resin (a) which is a reaction product of a compound represented by the formula (1) with an epihalohydrin, a monocarboxylic acid compound (b) having an ethylenic unsaturated group in the molecule and an aromatic polyisocyanate compound A), and a photopolymerization initiator (C);
(14) 분자중에 에틸렌성 불포화기를 갖는 모노카르복시산 화합물(b)가 (메타)아크릴산, (메타)아크릴산과 ε-카프로락톤과의 반응 생성물 또는 계피산이며, 방향족계 폴리이소시아네이트 화합물(c)가 방향족계 디이소시아네이트 모노머인 상기 (13)에 기재된 수지 조성물;(14) The composition according to any one of (14) to (17) above, wherein the monocarboxylic acid compound (b) having an ethylenically unsaturated group in the molecule is a reaction product of (meth) acrylic acid, (meth) acrylic acid and epsilon -caprolactone, or cinnamic acid, and the aromatic polyisocyanate compound The resin composition according to (13), which is a diisocyanate monomer;
(15) 분자중에 에틸렌성 불포화기를 갖는 모노카르복시산 화합물(b)가 아크릴산이며, 방향족계 폴리이소시아네이트 화합물(c)가 2,4-톨릴렌디이소시아네이트인 상기 (13) 또는 (14)에 기재된 수지 조성물;(15) The resin composition according to (13) or (14), wherein the monocarboxylic acid compound (b) having an ethylenically unsaturated group in the molecule is acrylic acid and the aromatic polyisocyanate compound (c) is 2,4-tolylene diisocyanate;
(16) 추가로 페닐에테르기를 갖는 모노아크릴레이트 모노머(D)를 포함한 상기 (13) 내지 (15) 중 어느 하나에 기재된 수지 조성물;(16) The resin composition according to any one of (13) to (15), further comprising a monoacrylate monomer (D) having a phenyl ether group;
(17) 페닐 에테르기를 갖는 모노아크릴레이트 모노머(D)가 o-페닐페놀(폴리)에톡시(메타)아크릴레이트, p-페닐페놀(폴리)에톡시(메타)아크릴레이트, o-페닐페놀에폭시(메타)아크릴레이트, p-페닐페놀에폭시(메타)아크릴레이트인 상기 (16)에 기재된 수지 조성물;(17) The composition according to any one of (17) to (18) above, wherein the monoacrylate monomer (D) having a phenyl ether group is at least one selected from the group consisting of o-phenylphenol (poly) ethoxy (meth) acrylate, (Meth) acrylate, and p-phenylphenol epoxy (meth) acrylate;
(18) 추가로 우레탄 화합물(A) 또는 페닐 에테르기를 갖는 모노아크릴레이트 모노머(D) 이외의 (메타)아크릴레이트 화합물(E)를 포함한 상기 (13) 내지 (17) 중 어느 하나에 기재된 수지 조성물;(18) The resin composition according to any one of (13) to (17), further comprising a urethane compound (A) or a (meth) acrylate compound (E) other than the monoacrylate monomer (D) ;
(19) 상기 (13) 내지 (17) 중 어느 하나에 기재된 수지 조성물을 경화하여 얻어진 25℃에서의 굴절률이 1.55 이상인 경화물;(19) A cured product obtained by curing the resin composition according to any one of (13) to (17) and having a refractive index of 1.55 or more at 25 占 폚;
(20) 상기 (19)에 기재된 경화물을 이용한 광학 렌즈 시트;(20) An optical lens sheet using the cured product described in (19) above;
에 관련된다. Lt; / RTI >
본 발명의 화합물(A)는 수지 단독으로 고굴절률로 투명성이 뛰어나고 이를 함유하는 본 발명의 수지 조성물은 컬한 높이가 낮아 경화 수축이 적으며 그 경화물은 높은 밀착성을 갖고, 충분한 경도를 갖기 때문에 투명성을 필요로 하는 코팅제로서 유용하다. 따라서 본 발명의 화합물(A) 및 이를 함유하는 수지 조성물은 프레넬 렌즈, 렌치큐라 렌즈, 프리즘 렌즈, 마이크로 렌즈 등 각종 렌즈, 광섬유의 코어재, 클래드재, 광도파로, 홀로그램, 디스플레이 부재 등의 각종 광학 재료 등의 광학 용도로 유용하다.The compound (A) of the present invention is excellent in transparency at a high refractive index with the resin alone, and the resin composition of the present invention containing the same has a low curling height and low hardening shrinkage. The cured product has high adhesiveness and sufficient hardness. ≪ / RTI > Therefore, the compound (A) of the present invention and the resin composition containing the same can be used for various kinds of lenses such as a Fresnel lens, a wrench cure lens, a prism lens, a microlens, a core material of an optical fiber, a clad material, an optical waveguide, And is useful for optical applications such as optical materials.
본 발명의 에너지선 경화형 수지 조성물은 저점도이고, 그 경화물은 이형성, 형태 재현성, 기판과의 밀착성이 뛰어나며 고굴절률로 내광성이 양호하다. 따라서 특히 프레넬 렌즈, 렌치큐라 렌즈, 프리즘 렌즈, 마이크로 렌즈 등의 광학 렌즈 시트에 적절하다.The energy ray curable resin composition of the present invention has a low viscosity, and the cured product has excellent releasability, shape reproducibility, adhesion with a substrate, and high light resistance with a high refractive index. Therefore, it is particularly suitable for optical lens sheets such as a Fresnel lens, a wrench cure lens, a prism lens, and a microlens.
본 발명의 화합물(A)는 하기 일반식(1)로 표시되는 화합물을 에피할로히드린과 반응시켜 얻어진 에폭시 수지(a)와 분자중에 에틸렌성 불포화기를 갖는 모노카르복시산 화합물(b) 및 방향족계 폴리이소시아네이트 화합물(c)를 반응시켜 얻어진 것을 특징으로 한다.The compound (A) of the present invention is obtained by reacting an epoxy resin (a) obtained by reacting a compound represented by the following general formula (1) with epihalohydrin, a monocarboxylic acid compound (b) having an ethylenic unsaturated group in the molecule, And a polyisocyanate compound (c).
또한 본 발명의 에너지선 경화형 수지 조성물은 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물과 에피할로히드린과의 반응 생성물인 에폭시 수지(a)와 분자중에 에틸렌성 불포화기를 갖는 모노카르복시산 화합물(b) 및 방향족계 폴리이소시아네이트 화합물(c)를 반응시켜 얻어진 우레탄 화합물(A) 및 광중합 개시제(C)를 포함하는 것을 특징으로 한다.The energy ray-curable resin composition of the present invention comprises an epoxy resin (a) which is a reaction product of the compound represented by the general formula (1) with epihalohydrin and a monocarboxylic acid compound (b) having an ethylenic unsaturated group in the molecule, (A) and a photopolymerization initiator (C) obtained by reacting an aromatic polyisocyanate compound (c) with an aromatic polyisocyanate compound (c).
일반식(1)로 표시되는 화합물은 예컨대 o-페닐페놀, p-페닐페놀을 들 수 있고, 이러한 화합물의 시판품으로서는 예컨대 O-PP, P-PP(모두 산코(주) 제)를 들 수 있다.Examples of the compound represented by the general formula (1) include o-phenylphenol and p-phenylphenol. Commercially available products of these compounds include O-PP and P-PP (all manufactured by Sanko Co., Ltd.) .
본 발명에서 에폭시 수지(a), 즉 페닐페놀에폭시(메타)아크릴레이트는 상기 일반식(1)의 화합물을 알칼리 금속 수산화물 존재하에 에피할로히드린과 반응시켜 얻을 수 있다. 이 페닐페놀에폭시(메타)아크릴레이트는 본 발명에서 페닐에테르기를 갖는 모노아크릴레이트 모노머(D)로서 이용할 수 있다.In the present invention, the epoxy resin (a), that is, the phenylphenol epoxy (meth) acrylate can be obtained by reacting the compound of the general formula (1) with an epihalohydrin in the presence of an alkali metal hydroxide. The phenylphenol epoxy (meth) acrylate can be used as the monoacrylate monomer (D) having a phenyl ether group in the present invention.
본 발명에 사용하는 에폭시 수지(a)를 얻는 반응에서 에피할로히드린으로는 에피클로로히드린, α-메틸에피클로로히드린, γ-메틸에피클로로히드린, 에피브로모히드린 등을 사용할 수 있고, 본 발명에서는 공업적으로 입수가 용이한 에피클로로히드린이 바람직하다. 에피할로히드린의 사용량은 일반식(1)의 화합물의 수산기 1몰에 대하여 통상 2~20몰, 바람직하게는 3~15몰이다.As the epihalohydrin in the reaction for obtaining the epoxy resin (a) used in the present invention, epichlorohydrin,? -Methyl epichlorohydrin,? -Methyl epichlorohydrin,? -Methyl epichlorohydrin, In the present invention, epichlorohydrin which is industrially easily available is preferable. The epihalohydrin is used in an amount of usually 2 to 20 mol, preferably 3 to 15 mol, per 1 mol of the hydroxyl group of the compound of the general formula (1).
상기 반응에 사용할 수 있는 알칼리 금속 수산화물로는 수산화나트륨, 수산화칼륨 등을 들 수 있고, 고형물을 이용해도 좋고 그 수용액을 사용해도 좋다. 수용액을 사용하는 경우 알칼리 금속 수산화물의 수용액을 연속적으로 반응계 내에 첨가함과 동시에 감압하 또는 상압하에 연속적으로 물 및 에피할로히드린을 유출시키고 다시 분액하여 물을 제거하며 에피할로히드린을 반응계 내에 연속적으로 되돌리는 방법이어도 좋다. 알칼리 금속 수산화물의 사용량은 일반식(1)의 화합물의 수산기 1몰에 대하여 통상 0.1~10.0몰이며, 바람직하게는 0.3~5.0몰, 보다 바람직하게는 0.8~3.0몰이다.Examples of the alkali metal hydroxide which can be used in the reaction include sodium hydroxide, potassium hydroxide, etc., and a solid material or an aqueous solution thereof may be used. When an aqueous solution is used, an aqueous solution of an alkali metal hydroxide is continuously added to the reaction system, and at the same time, water and epihalohydrin are continuously flowed out under reduced pressure or atmospheric pressure. Subsequently, water is removed by separating the water and epihalohydrin is added to the reaction system As shown in FIG. The amount of the alkali metal hydroxide to be used is generally 0.1 to 10.0 mol, preferably 0.3 to 5.0 mol, more preferably 0.8 to 3.0 mol, per 1 mol of the hydroxyl group of the compound of the general formula (1).
반응을 촉진하기 위해서 테트라메틸암모늄클로라이드, 테트라메틸암모늄브로마이드, 트리메틸벤질암모늄클로라이드 등의 4급 암모늄염을 촉매로서 첨가하는 것은 바람직하다. 4급 암모늄염을 사용하는 경우 그 사용량으로는 일반식(1)의 화합물의 수산기 1몰에 대하여 통상 0.1~20g이며, 바람직하게는 0.2~15g이다.In order to accelerate the reaction, it is preferable to add a quaternary ammonium salt such as tetramethylammonium chloride, tetramethylammonium bromide or trimethylbenzylammonium chloride as a catalyst. When a quaternary ammonium salt is used, the amount of the quaternary ammonium salt to be used is usually 0.1 to 20 g, preferably 0.2 to 15 g, per 1 mol of the hydroxyl group of the compound of the general formula (1).
이때, 메탄올, 에탄올, 이소프로필 알코올 등의 지방족 알코올류, 디메틸술폰, 디메틸술폭시드, 테트라히드로푸란, 디옥산 등의 비프로톤성 극성 용매 등을 첨가하여 반응을 실시하는 것이 반응 진행상 바람직하다.At this time, it is preferable to carry out the reaction by adding an aprotic polar solvent such as aliphatic alcohols such as methanol, ethanol and isopropyl alcohol, dimethylsulfone, dimethylsulfoxide, tetrahydrofuran and dioxane.
알코올류를 사용하는 경우 그 사용량은 에피할로히드린의 사용량에 대하여 통상 1~50중량%, 바람직하게는 2~30중량%이다. 또한 비프로톤성 극성 용매를 이용하는 경우 에피할로히드린의 사용량에 대하여 통상 3~100중량%, 바람직하게는 5~80중량%이다.When alcohols are used, the amount thereof is usually 1 to 50% by weight, preferably 2 to 30% by weight based on the amount of epihalohydrin used. When an aprotic polar solvent is used, the amount of epihalohydrin is usually 3 to 100% by weight, preferably 5 to 80% by weight.
반응 온도는 통상 30~100℃이며, 바람직하게는 35~90℃이다. 반응 시간은 통상 0.2~10시간이며, 바람직하게는 0.5~8시간이다. 이러한 에폭시화 반응의 반응물을 수세 후 또는 수세 없이 가열 감압하에서 에피할로히드린이나 용매 등을 제거한다. 또한 다시 가수분해성 할로겐이 적은 에폭시 수지로 만들기 위해서 회수한 에폭시 수지를 톨루엔, 메틸이소부틸케톤 등의 용제에 용해하고 수산화나트륨, 수산화칼륨 등의 알칼리 금속 수산화물 수용액을 부가하여 반응을 실시하여, 폐환을 확실하게 할 수도 있다. 이 경우 알칼리 금속 수산화물의 사용량은 에폭시화에 사용한 일반식(1)의 화합물의 수산기 1몰에 대하여 통상 0.01~0.5몰, 바람직하게는 0.05~0.3몰이다. 반응 온도는 통상 50~120℃, 반응 시간은 통상 0.5~2시간이다.The reaction temperature is usually 30 to 100 ° C, preferably 35 to 90 ° C. The reaction time is usually 0.2 to 10 hours, preferably 0.5 to 8 hours. Epihalohydrin, a solvent, and the like are removed from the reaction product of the epoxidation reaction under heating and decompression after washing with water or without rinsing. Further, the epoxy resin thus recovered is dissolved in a solvent such as toluene or methyl isobutyl ketone to prepare an epoxy resin having little hydrolyzable halogen, and an alkali metal hydroxide aqueous solution such as sodium hydroxide or potassium hydroxide is added to carry out the reaction, You can be sure. In this case, the amount of the alkali metal hydroxide to be used is usually 0.01 to 0.5 mol, preferably 0.05 to 0.3 mol, based on 1 mol of the hydroxyl group of the compound of the general formula (1) used for the epoxidation. The reaction temperature is usually from 50 to 120 ° C, and the reaction time is usually from 0.5 to 2 hours.
반응 종료 후, 생성한 염을 여과, 수세 등에 의해 제거하고, 다시 가열 감압하에 용제를 유거하는 것에 의해 본 발명의 에폭시 수지를 얻을 수 있다. 이러한 방법으로 대표되는 방법에 의해 특별한 정제 없게 사용할 수 있는 에폭시 수지 혼합물을 얻을 수 있다.After completion of the reaction, the resulting salt is removed by filtration, washing with water, and the solvent is distilled off under reduced pressure again to obtain the epoxy resin of the present invention. An epoxy resin mixture which can be used without special purification can be obtained by a method represented by this method.
본 발명의 화합물(A)의 제조는 상기 에폭시 수지(a)와 분자 중에 에틸렌성 불포화기를 갖는 모노카르복시산 화합물(b)를 우선 반응시키고(이하 제 1 반응이라고 함), 그 후 생성한 수산기에 대하여 방향족계 폴리이소시아네이트 화합물(c)를 반응시키는 것(이하 제 2 반응이라고 함)에 의해 얻을 수 있다.In the production of the compound (A) of the present invention, the epoxy resin (a) and the monocarboxylic acid compound (b) having an ethylenic unsaturated group in the molecule are first reacted (hereinafter referred to as the first reaction) And reacting the aromatic polyisocyanate compound (c) (hereinafter referred to as the second reaction).
분자중에 에틸렌성 불포화기를 갖는 모노카르복시산 화합물(b)로는 예컨대, 아크릴산류나 크로톤산,α-시아노계피산, 계피산, 또는 포화 또는 불포화 이염기산과 불포화기 함유 모노글리시딜 화합물과의 반응물을 들 수 있다. 아크릴산류로는 예컨대, (메타)아크릴산, β-스티릴아크릴산, β-푸르푸릴아크릴산, (메타)아크릴산과 ε-카프로락톤과의 반응 생성물, 포화 또는 불포화 이염기산 무수물과 1 분자 중에 1개의 수산기를 갖는 (메타)아크릴레이트 유도체와의 당몰 반응물인 반 에스테르류, 포화 또는 불포화 이염기산과 모노글리시딜(메타)아크릴레이트 유도체류와의 당몰 반응물인 반 에스테르류 등을 들 수 있다.Examples of the monocarboxylic acid compound (b) having an ethylenically unsaturated group in the molecule include acrylic acid, crotonic acid,? -Cyano cinnamic acid, cinnamic acid, or a reaction product of a saturated or unsaturated dibasic acid and a monoglycidyl compound containing an unsaturated group have. Examples of the acrylic acids include (meth) acrylic acid,? -Styryl acrylic acid,? -Furfuryl acrylic acid, a reaction product of (meth) acrylic acid and? -Caprolactone, a saturated or unsaturated dibasic acid anhydride, (Meth) acrylate derivatives, and half esters, which are monohydric reactants of monoglycidyl (meth) acrylate derivatives with saturated or unsaturated dibasic acids and the like.
분자 중에 에틸렌성 불포화기를 갖는 모노카르복시산 화합물(b)로는 감광성 수지 조성물로 만들었을 때의 감도 면에서 (메타)아크릴산, (메타)아크릴산과 ε-카프로락톤과의 반응 생성물 또는 계피산이 바람직하고, (메타)아크릴산이 특히 바람직하다.The monocarboxylic acid compound (b) having an ethylenically unsaturated group in the molecule is preferably a reaction product of (meth) acrylic acid, (metha) acrylic acid and epsilon -caprolactone or cinnamic acid in terms of sensitivity when made into a photosensitive resin composition Methacrylic acid is particularly preferable.
제 1 반응은 무용제로 실시할 수 있지만, 필요에 따라 알코올성 수산기를 갖지 않는 용매, 예컨대 아세톤, 에틸메틸케톤, 시클로헥사논 등의 케톤류, 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 테트라메틸벤젠 등의 방향족 탄화수소류, 에틸렌글리콜디메틸에테르, 에틸렌글리콜디에틸에테르, 디프로필렌글리콜디메틸에테르, 디프로필렌글리콜디에틸에테르, 트리에틸렌글리콜디메틸에테르, 트리에틸렌글리콜디에틸에테르 등의 글리콜에테르류, 초산에틸, 초산부틸, 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트, 부틸셀로솔브아세테이트, 카르비톨아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르모노아세테이트, 글루타르산디알킬, 숙신산디알킬, 아디핀산디알킬 등의 에스테르류, γ-부틸올락톤 등의 환상 에스테르류, 석유 에테르, 석유 나프타, 수소 첨가 석유 나프타, 솔벤트 나프타 등의 석유계 용제, 또한 후술하는 모노아크릴레이트 모노머(D) 또는 (메타)아크릴레이트 화합물(E)를 포함한 각종 모노머, 예컨대 아크릴로일모르폴린, 2-페닐페놀의 에틸렌옥사이드 부가물의 말단 아크릴산에스테르화물(예컨대, 일본 화약(주) 제 OPP-1, OPP-2), 폴리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판폴리에톡시트리(메타)아크릴레이트, 글리세린폴리프로폭시트리(메타)아크릴레이트, 히드록시피발린산네오펜틸글리콜의 ε-카프로락톤 부가물의 디(메타)아크릴레이트(예컨대, 일본 화약(주) 제, KAYARAD HX-220, HX-620 등), 펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨과 ε-카프로락톤의 반응물의 폴리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨폴리(메타)아크릴레이트 등의 단독 또는 혼합 유기용매 중에서 실시할 수 있다.The first reaction may be carried out in the absence of a solvent, but if necessary, a solvent having no alcoholic hydroxyl group such as ketones such as acetone, ethyl methyl ketone, cyclohexanone, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, Glycol ethers such as ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol diethyl ether, triethylene glycol dimethyl ether and triethylene glycol diethyl ether, ethyl acetate, butyl acetate, methyl cell Esters such as rosorb acetate, ethyl cellosolve acetate, butyl cellosolve acetate, carbitol acetate, propylene glycol monomethyl ether monoacetate, dialkyl glutarate, dialkyl succinate, dialkyl adipate, Cyclic esters such as lactone, petroleum ether, petroleum naphtha, hydrogenated petroleum naphtha , Solvent naphtha, and various monomers including a monoacrylate monomer (D) or a (meth) acrylate compound (E) described later, such as acryloylmorpholine, an ethylene oxide adduct of 2-phenylphenol (Meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, and the like, as well as terminal acrylic acid esters such as OPP-1 and OPP- (Meth) acrylate of ε-caprolactone adduct of hydroxypivalic acid neopentyl glycol (for example, methacrylic acid esters such as trimethylolpropane polyethoxy tri (meth) acrylate, glycerin polypropoxytri (Metha) acrylate of a reaction product of pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol and epsilon -caprolactone, KAYARAD HX-220, HX- Acrylate, dipentaerythritol poly (meth) acrylate, and the like.
제 1 반응에서 원료의 주입 비율로는 분자 중에 에틸렌성 불포화기를 갖는 모노카르복시산 화합물(b)의 양이 에폭시 수지(a) 1당량에 대하여 60~140당량%, 바람직하게는 80~120당량%인 것이 바람직하다. 이 범위에서 주입하는 경우, 반응 중에 겔화를 일으킬 우려가 적고, 최종적으로 얻어진 화합물(A)의 열안정성도 높아진다.The amount of the monocarboxylic acid compound (b) having an ethylenic unsaturated group in the molecule is preferably 60 to 140 equivalent%, more preferably 80 to 120 equivalent%, based on 1 equivalent of the epoxy resin (a) . When injected in this range, there is little possibility of gelation during the reaction, and the thermal stability of the finally obtained compound (A) is also enhanced.
반응시에는 반응을 촉진시키기 위해서 촉매를 사용하는 것이 바람직하고, 촉매를 사용하는 경우 촉매의 사용량은 반응물에 대하여 0.1~10중량%이다. 이때 반응 온도는 60~150℃이며, 또 반응 시간은 바람직하게는 5~60시간이다. 사용하는 촉매의 구체적인 예로는 예컨대 트리에틸아민, 벤질디메틸아민, 트리에틸암모늄클로라이드, 벤질트리메틸암모늄브로마이드, 벤질트리메틸암모늄아이오다이드, 트리페닐포스핀, 트리페닐스틸빈, 메틸트리페닐스틸빈, 옥탄산크롬, 옥탄산지르코늄 등을 들 수 있다.In the reaction, a catalyst is preferably used to promote the reaction, and when the catalyst is used, the amount of the catalyst used is 0.1 to 10% by weight based on the reactants. The reaction temperature is 60 to 150 ° C, and the reaction time is preferably 5 to 60 hours. Specific examples of the catalyst to be used include triethylamine, benzyldimethylamine, triethylammonium chloride, benzyltrimethylammonium bromide, benzyltrimethylammonium iodide, triphenylphosphine, triphenylstilbine, methyltriphenylstyrene, Chromium carbonate, and zirconium octanoate.
또한 열중합 금지제를 사용할 수 있고, 구체적인 예로는 하이드로퀴논모노메틸에테르, 2-메틸하이드로퀴논, 하이드로퀴논, 2,6-디-tert-부틸-p-크레졸, 디페닐피크릴히드라진, 디페닐아민 등을 들 수 있으며, 사용하는 경우 사용량은 반응물에 대하여 0.1~10중량% 사용하는 것이 바람직하다.Further, thermal polymerization inhibitors can be used. Specific examples thereof include hydroquinone monomethyl ether, 2-methylhydroquinone, hydroquinone, 2,6-di-tert-butyl-p-cresol, diphenyl picrylhydrazine, Amine and the like. If used, it is preferable to use 0.1 to 10% by weight with respect to the reactant.
반응은 적당히 샘플링 하면서 샘플의 산가가 5mg·KOH/g 이하, 바람직하게는 3mg·KOH/g 이하가 된 시점을 종점으로 한다.The reaction is terminated when the acid value of the sample becomes 5 mg · KOH / g or less, preferably 3 mg · KOH / g or less while appropriately sampling.
제 2 반응에 사용하는 방향족계 폴리이소시아네이트 화합물(c)로는 탄소수 5~15로 방향환을 갖는 화합물이 입수 용이하고, 감광기의 밀도가 결과적으로 높아지기 때문에 경화막 강도 면에서도 바람직하고, 예컨대, 2,4-톨릴렌디이소시아네이트 등의 톨릴렌디이소시아네이트, 크실렌디이소시아네이트, 디페닐메탄디이소시아네이트, 1,5-나프탈렌디이소시아네이트, 트리진디이소시아네이트, 1,4-페닐렌디이소시아네이트, 1,6-페닐렌디이소시아네이트 등의 디이소시아네이트 모노머류 등을 들 수 있다. 그 중에서 2,4-톨릴렌디이소시아네이트가 특히 바람직하다.As the aromatic polyisocyanate compound (c) used in the second reaction, a compound having an aromatic ring having 5 to 15 carbon atoms is readily available and the density of the photoreceptor is consequently increased, which is preferable in view of the hardened film strength. , Tolylene diisocyanate such as 4-tolylene diisocyanate, xylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate, triazine diisocyanate, 1,4-phenylene diisocyanate, 1,6-phenylene diisocyanate And diisocyanate monomers represented by the following general formula (1). Among them, 2,4-tolylene diisocyanate is particularly preferable.
본 발명의 화합물(A)는 상기 제 1 반응에서 얻어진 생성물과 방향족계 폴리이소시아네이트 화합물(c)를 반응시켜 얻을 수 있다. 방향족계 폴리이소시아네이트 화합물(c)를 이용하는 것에 의해 본 발명의 화합물(A)는 굴절률이 높고, 본 발명의 수지 조성물의 경화 수축이 적으며, 본 발명의 경화물은 높은 밀착성과 충분한 경도를 가지게 된다. 사용량은 특별히 제한되는 것은 아니지만, 반응 후에 NCO기가 남지 않는 점에서 등량 관계로 반응시키는 것이 바람직하다. 방향족 폴리이소시아네이트 화합물(c)의 첨가(반응) 당량이 바람직한 범위의 경우에는 단관능 (메타)아크릴레이트가 거의 잔존하지 않기 때문에 내열성·경도·굴절률이 뛰어난 수지를 얻을 수 있는 한편 반응 중의 분자량 제어가 용이하기 때문에 겔화가 일어나기 어렵다. 또한 생성물의 점도도 적당히 제어할 수 있기 때문에 작업성이 좋다. 구체적으로는 제 1 반응으로 얻어진 생성물의 OH기 1.00mol에 대하여 방향족계 폴리이소시아네이트 화합물(c)의 NCO기를 0.05~0.99mol, 바람직하게는 0.1~0.95mol이 되도록 등량 관계로 주입한다. The compound (A) of the present invention can be obtained by reacting the product obtained in the first reaction with the aromatic polyisocyanate compound (c). When the aromatic polyisocyanate compound (c) is used, the compound (A) of the present invention has a high refractive index and a low curing shrinkage of the resin composition of the present invention, and the cured product of the present invention has high adhesion and sufficient hardness . The amount to be used is not particularly limited, but it is preferable to conduct the reaction in an equivalence relationship in that NCO groups are not left after the reaction. When the addition (reaction) equivalent of the aromatic polyisocyanate compound (c) is within a preferable range, a resin having excellent heat resistance, hardness and refractive index can be obtained because the monofunctional (meth) acrylate is hardly retained, Gelation is difficult to occur because it is easy. Also, since the viscosity of the product can be appropriately controlled, workability is good. Specifically, the NCO group of the aromatic polyisocyanate compound (c) is added in an amount equivalent to 0.05 to 0.99 mol, preferably 0.1 to 0.95 mol, per 1.00 mol of the OH group of the product obtained by the first reaction.
반응은 무용제로 실시할 수 있지만, 생성물의 점도가 높고 작업성 향상을 위해 상기 알코올성 수산기를 갖지 않는 용제 중 또는 각종 모노머의 단독 또는 혼합 유기용매 중에서 실시할 수 있다. 이 경우 상기 열중합 금지제를 추가로 첨가해도 좋다.The reaction can be carried out in the absence of a solvent, but it can be carried out in a solvent having no alcoholic hydroxyl group or in a solvent or in a mixed solvent of various monomers in order to increase the viscosity of the product and improve workability. In this case, the heat polymerization inhibitor may be further added.
반응 온도는 통상 30~150℃, 바람직하게는 50~100℃의 범위이다. 반응의 종점은 이시아네이트량의 감소를 역적정법으로 확인한다. 또한 이러한 반응 시간의 단축을 목적으로 촉매를 첨가해도 좋다. 촉매로는 염기성 촉매 및 산성 촉매 중 어느 것이 이용된다. 염기성 촉매의 예로는 피리딘, 피롤, 트리에틸아민, 디에틸아민, 디부틸아민, 암모니아 등의 아민류, 트리부틸포스핀, 트리페닐포스핀 등의 포스핀류를 들 수 있다. 또한 산성 촉매의 예로는 나프텐산동, 나프텐산코발트, 나프텐산아연, 트리부톡시알루미늄, 디타늄테트라이소프로폭시드, 지르코늄테트라부톡시드, 염화알루미늄, 2-에틸헥산산주석, 옥틸주석트리라우레이트, 디부틸주석디라우레이트, 옥틸주석디아세테이트 등의 루이스산 촉매를 들 수 있다. 이들 촉매의 첨가량은 제 2 반응 혼합물의 총 중량부 100중량부에 대하여 통상 0.001~1중량부이다.The reaction temperature is usually in the range of 30 to 150 ° C, preferably 50 to 100 ° C. The end point of the reaction is ascertained by the inverse titration method for the reduction of the amount of isocyanate. A catalyst may be added for the purpose of shortening the reaction time. As the catalyst, either a basic catalyst or an acid catalyst is used. Examples of basic catalysts include pyridine, pyrrole, triethylamine, diethylamine, dibutylamine, amines such as ammonia, and phosphines such as tributylphosphine and triphenylphosphine. Examples of acidic catalysts include, but are not limited to, naphthenic acid, cobalt naphthenate, zinc naphthenate, tributoxyaluminum, ditanium tetraisopropoxide, zirconium tetrabutoxide, aluminum chloride, 2-ethylhexanoate tin, And Lewis acid catalysts such as dibutyl tin dilaurate and octyl tin diacetate. The amount of these catalysts added is usually 0.001 to 1 part by weight based on 100 parts by weight of the total weight of the second reaction mixture.
본 발명의 화합물(A)은 굴절률이 높고, 프레넬 렌즈, 렌치큐라 렌즈, 프리즘 렌즈, 마이크로 렌즈 등의 각종 렌즈, 광섬유의 코어재, 클래드재, 광도파로, 홀로그램, 디스플레이 부재 등의 각종 광학 재료 등의 광학 용도로 사용하는 것이 바람직하다.The compound (A) of the present invention has a high refractive index and can be used for various optical materials such as various lenses such as a Fresnel lens, a wrench cure lens, a prism lens and a microlens, a core material of an optical fiber, a clad material, an optical waveguide, a hologram, And the like.
본 발명의 감광성 수지 조성물은 본 발명의 화합물(A)과 (A) 성분 이외의 중합성 화합물(B)를 함유하는 것을 특징으로 한다. 사용할 수 있는 중합성 화합물(B)의 구체적인 예로는 (메타)아크릴로일옥시기를 갖는 화합물, 말레이미드 화합물, (메타)아크릴아미드 화합물, 불포화 폴리에스테르 등을 들 수 있다.The photosensitive resin composition of the present invention is characterized by containing a compound (A) of the present invention and a polymerizable compound (B) other than the component (A). Specific examples of the usable polymerizable compound (B) include a compound having a (meth) acryloyloxy group, a maleimide compound, a (meth) acrylamide compound and an unsaturated polyester.
본 발명의 감광성 수지 조성물에 병용 가능한 (메타)아크릴로일옥시기를 갖는 화합물의 구체적인 예로는 (폴리)에스테르(메타)아크릴레이트(B-1);우레탄(메타)아크릴레이트(B-2);에폭시(메타)아크릴레이트(B-3);(폴리)에테르(메타)아크릴레이트(B-4);알킬(메타)아크릴레이트 또는 알킬렌(메타)아크릴레이트(B-5);방향환을 갖는 (메타)아크릴레이트(B-6);지환구조를 갖는 (메타)아크릴레이트(B-7) 등을 들 수 있지만, 이들로 한정되는 것은 아니다.Specific examples of the compound having a (meth) acryloyloxy group that can be used in combination with the photosensitive resin composition of the present invention include (poly) ester (meth) acrylate (B-1); urethane (meth) acrylate (B-2); (Meth) acrylate (B-3); (poly) ether (meth) acrylate (B-4); alkyl (meth) acrylate or alkylene (Meth) acrylate (B-6) having an alicyclic structure, (meth) acrylate (B-7) having an alicyclic structure, and the like.
본 발명의 감광성 수지 조성물에 병용 가능한 (폴리)에스테르(메타)아크릴레이트(B-1)는 주쇄에 에스테르 결합을 1개 이상 갖는 (메타)아크릴레이트의 총칭으로서, 우레탄(메타)아크릴레이트(B-2)는 주쇄에 우레탄 결합을 1개 이상 갖는 (메타)아크릴레이트의 총칭으로서, 에폭시(메타)아크릴레이트(B-3)은 1관능 이상의 에폭시 화합물과 (메타)아크릴산을 반응시켜 얻어진 (메타)아크릴레이트의 총칭으로서, (폴리)에테르(메타)아크릴레이트(B-4)는 주쇄에 에테르 결합을 1개 이상 갖는 (메타)아크릴레이트의 총칭으로서, 알킬(메타)아크릴레이트 또는 알킬렌(메타)아크릴레이트(B-5)는 주쇄가 직쇄 알킬, 분지 알킬, 직쇄 또는 말단에 할로겐 원자 및/또는 수산기를 갖고 있어도 좋은 (메타)아크릴레이트의 총칭으로서, 방향환을 갖는 (메타)아크릴레이트(B-6)는 주쇄 또는 측쇄에 방향환을 갖는 (메타)아크릴레이트의 총칭으로서, 지환구조를 갖는 (메타)아크릴레이트(B-7)은 주쇄 또는 측쇄에 구성 단위에 산소 원자 또는 질소 원자를 포함하고 있어도 좋은 지환구조를 갖는 (메타)아크릴레이트의 총칭으로서 각각 이용한다.(Poly) ester (meth) acrylate (B-1) which can be used in combination with the photosensitive resin composition of the present invention is a generic term of (meth) acrylate having at least one ester bond in the main chain, -2) is a generic name of a (meth) acrylate having at least one urethane bond in its main chain, and epoxy (meth) acrylate (B-3) is a (meth) acrylate obtained by reacting an epoxy compound having at least one functional group with (meth) (Meth) acrylate (B-4) is a generic term of a (meth) acrylate having at least one ether bond in its main chain, and may be an alkyl (meth) acrylate or an alkylene (Meth) acrylate (B-5) is a generic term of a straight chain alkyl, branched alkyl, linear or branched (meth) acrylate which may have a halogen atom and / or hydroxyl group at the terminal, (B (Meth) acrylate (B-7) having an alicyclic structure includes an oxygen atom or a nitrogen atom in the constituent unit in the main chain or side chain, (Meth) acrylate having an alicyclic structure which may be substituted or unsubstituted.
본 발명의 감광성 수지 조성물에 병용 가능한 (폴리)에스테르(메타)아크릴레이트(B-1)로는 예컨대, 카프로락톤변성2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 에틸렌옥사이드 및/또는 프로필렌옥사이드변성프탈산(메타)아크릴레이트, 에틸렌옥사이드변성숙신산(메타)아크릴레이트, 카프로락톤변성테트라히드로푸르푸릴(메타)아크릴레이트와 같은 단관능 (폴리)에스테르(메타)아크릴레이트류;히드록시피발린산에스테르네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 카프로락톤변성히드록시피발린산에스테르네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 에피클로로히드린변성프탈산디(메타)아크릴레이트;트리메틸올프로판 또는 글리세린 1몰에 1몰 이상의ε-카프로락톤, γ-부틸올락톤, δ-발레롤락톤 등의 환상 락톤 화합물을 부가하여 얻은 트리올의 모노, 디 또는 트리(메타)아크릴레이트;Examples of the (poly) ester (meth) acrylate (B-1) which can be used in combination with the photosensitive resin composition of the present invention include caprolactone-modified 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, ethylene oxide and / or propylene oxide modified phthalic acid (Poly) ester (meth) acrylates such as ethylene oxide modified (meth) acrylate, ethylene oxide modified succinic acid (meth) acrylate and caprolactone modified tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate; hydroxypivalic acid ester neopentyl Caprolactone-modified hydroxypivalic acid ester neopentyl glycol di (meth) acrylate, epichlorohydrin-modified phthalic acid di (meth) acrylate, 1 mole of trimethylolpropane or 1 mole of glycerin Or a triol obtained by addition of a cyclic lactone compound such as? -Caprolactone,? -Butyrolactone, or? -Valerolactone, Tri (meth) acrylate;
펜타에리트리톨 또는 디트리메틸올프로판 1몰에 1몰 이상의 ε-카프로락톤, γ-부틸올락톤, δ-발레롤락톤 등의 환상 락톤 화합물을 부가하여 얻은 트리올의 모노, 디, 트리 또는 테트라 (메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 1몰에 1몰 이상의 ε-카프로락톤, γ-부틸올락톤, δ-발레롤락톤 등의 환상 락톤 화합물을 부가하여 얻은 트리올의 모노, 또는 폴리(메타)아크릴레이트의 트리올, 테트라올, 펜타올 또는 헥사올 등의 다가 알코올의 모노(메타)아크릴레이트 또는 폴리(메타)아크릴레이트;Diol or tri (meth) acrylate obtained by adding at least one mole of a cyclic lactone compound such as ε-caprolactone, γ-butylolactone, δ-valerolactone to 1 mole of pentaerythritol or ditrimethylolpropane (Meta) acrylate obtained by adding a cyclic lactone compound such as? -Caprolactone,? -Butylolactone, or? -Valerolactone to 1 mole of dipentaerythritol, Mono (meth) acrylates or poly (meth) acrylates of polyhydric alcohols such as triols of acrylates, tetraols, pentaols or hexaols;
(폴리)에틸렌글리콜, (폴리)프로필렌글리콜, (폴리)테트라메틸렌글리콜, (폴리)부틸렌글리콜, 3-메틸-1,5-펜탄디올, 헥산디올 등의 디올 성분과 말레인산, 푸마르산, 숙신산, 아디핀산, 프탈산, 이소프탈산, 헥사히드로프탈산, 테트라히드로프탈산, 다이머산, 세바신산, 아젤라인산, 5-나트륨술포이소프탈산 등의 다염기산, 및 이러한 무수물과의 반응물인 폴리에스테르폴리올의 (메타)아크릴레이트; 상기 디올 성분과 다염기산 및 이러한 무수물과 ε-카프로락톤, γ-부틸올락톤, δ-발레롤락톤 등으로부터 이루어지는 환상 락톤 변성 폴리에스테르디올의 (메타)아크릴레이트 등의 다관능 (폴리)에스테르(메타)아크릴레이트류 등을 들 수 있지만, 이들로 한정되는 것은 아니다.(Poly) ethylene glycol, (poly) propylene glycol, (poly) tetramethylene glycol, (poly) butylene glycol, 3-methyl-1,5-pentanediol, and hexanediol, (Meth) acrylate of a polyester polyol which is a reaction product of a polybasic acid such as adipic acid, phthalic acid, isophthalic acid, hexahydrophthalic acid, tetrahydrophthalic acid, dimeric acid, sebacic acid, azelaic acid, 5-sodium sulfoisophthalic acid, Acrylate of a cyclic lactone-modified polyester diol composed of the diol component, a polybasic acid, and anhydride thereof and an? -Caprolactone,? -Butyrolactone,? -Valerolactone, Ester (meth) acrylates, and the like, but are not limited thereto.
본 발명의 감광성 수지 조성물에 병용 가능한 우레탄(메타)아크릴레이트(B-2)는 적어도 하나의 (메타)아크릴로일옥시기를 갖는 히드록시 화합물(B-2-가)와 이소시아네이트 화합물(B-2-나)와의 반응에 의해 얻어진 (메타)아크릴레이트의 총칭이다.The urethane (meth) acrylate (B-2) that can be used in combination with the photosensitive resin composition of the present invention is a urethane (meth) acrylate compound having at least one (meth) acryloyloxy group- - (meth) acrylate obtained by the reaction of (meth) acrylate and (meth) acrylate.
적어도 하나의 (메타)아크릴로일옥시기를 갖는 히드록시 화합물(B-2-가)의 구체적인 예로는 예컨대, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 2-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 4-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 시클로헥산디메탄올모노(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜모노(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜모노(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필(메타)아크릴레이트 등 각종 수산기를 갖는 (메타)아크릴레이트 화합물 및 상기 수산기를 갖는 (메타)아크릴레이트 화합물과 ε-카프로락톤과의 개환 반응물 등을 들 수 있다.Specific examples of the hydroxy compound (B-2-a) having at least one (meth) acryloyloxy group include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) (Meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 4-hydroxyethyl (meth) acrylate, cyclohexanedimethanol mono (meth) acrylate, polyethylene glycol mono (Meth) acrylate compound having various hydroxyl groups such as pentaerythritol tri (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate, and ring-opening reaction products with? -caprolactone.
이소시아네이트 화합물(B-2-나)의 구체적인 예로는 예컨대, P-페닐렌디이소시아네이트, m-페닐렌디이소시아네이트, P-크실렌디이소시아네이트, m-크실렌디이소시아네이트, 2,4-톨릴렌디이소시아네이트, 2,6-톨릴렌디이소시아네이트, 4,4'-디페닐메탄디이소시아네이트, 나프탈렌디이소시아네이트와 같은 방향족 디이소시아네이트류;이소포론디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 4,4'-디시클로헥실메탄디이소시아네이트, 수소첨가 크실렌디이소시아네이트, 노르보넨디이소시아네이트, 리딘디이소시아네이트 등의 지방족 또는 지환구조의 디이소시아네이트류;이소시아네이트 모노머의 1종 이상의 뷰렛체 또는 상기 디이소시아네이트 화합물을 3량화 한 이소시아네이트체 등의 폴리이소시아네이트;상기 이소시아네이트 화합물과 상기 폴리올 화합물과의 우레탄화 반응에 의해 얻어진 폴리이소시아네이트 등을 들 수 있다.Specific examples of the isocyanate compound (B-2-) include, for example, P-phenylenediisocyanate, m-phenylenediisocyanate, P-xylenediisocyanate, m-xylenediisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate, Aromatic diisocyanates such as tolylene diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate and naphthalene diisocyanate, isophorone diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, 4,4'-dicyclohexylmethane diisocyanate, hydrogenation Aliphatic or alicyclic diisocyanates such as xylylene diisocyanate, norbornenedisocyanate, and lidinedisocyanate, polyisocyanates such as one or more bisurets of isocyanate monomers or isocyanate compounds obtained by trimerizing the above diisocyanate compounds, And a polyisocyanate obtained by a urethane reaction between the polyol compound and the polyol compound.
본 발명의 감광성 수지 조성물에 병용 가능한 에폭시(메타)아크릴레이트(B-3)은 1관능성 이상의 에폭시기를 함유하는 에폭시 수지와 (메타)아크릴산을 반응시켜 얻어진 (메타)아크릴레이트의 총칭이다. 에폭시(메타)아크릴레이트의 원료가 되는 에폭시 수지의 구체적인 예로는 하이드로퀴논디글리시딜에테르, 카테콜디글리시딜에테르, 레조르시놀디글리시딜에테르 등의 페닐디글리시딜에테르; 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지, 비스페놀 S형 에폭시 수지, 2,2-비스(4-히드록시페닐)-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로판의 에폭시 화합물 등의 비스페놀형 에폭시 화합물; 수소화 비스페놀 A형 에폭시 수지, 수소화 비스페놀 F형 에폭시 수지, 수소화 비스페놀 S형 에폭시 수지, 수소화 2,2-비스(4-히드록시페닐)-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로판의 에폭시 화합물 등의 수소화 비스페놀형 에폭시 화합물; 브롬화 비스페놀 A형 에폭시 수지, 브롬화 비스페놀 F형 에폭시 수지 등의 할로게노화 비스페놀형 에폭시 화합물; 시클로헥산디메탄올디글리시딜에테르 화합물 등의 지환식 디글리시딜에테르 화합물; 1,6-헥산디올디글리시딜에테르, 1,4-부탄디올디글리시딜에테르, 디에틸렌글리콜디글리시딜에테르 등의 지방족 디글리시딜에테르 화합물; 폴리술파이드디글리시딜에테르 등의 폴리술파이드형 디글리시딜에테르 화합물; 페놀 노볼락형 에폭시 수지, 크레졸 노볼락형 에폭시 수지, 트리스히드록시페닐메탄형 에폭시 수지, 디시클로펜타디엔페놀형 에폭시 수지, 비페놀형 에폭시 수지, 비스페놀 A 노볼락형 에폭시 수지, 나프탈렌 골격 함유 에폭시 수지, 복소환식 에폭시 수지 등을 들 수 있다.The epoxy (meth) acrylate (B-3) which can be used in combination with the photosensitive resin composition of the present invention is a generic name of (meth) acrylates obtained by reacting an epoxy resin containing an epoxy group having one or more functional groups with (meth) acrylic acid. Specific examples of the epoxy resin as a raw material of the epoxy (meth) acrylate include phenyl diglycidyl ether such as hydroquinone diglycidyl ether, catechol diglycidyl ether and resorcinol diglycidyl ether; bisphenol A type Bisphenol such as epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, and epoxy compound of 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane Type epoxy resin, hydrogenated bisphenol A type epoxy resin, hydrogenated bisphenol F type epoxy resin, hydrogenated bisphenol S type epoxy resin, hydrogenated 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) -1,1,1,3,3,3 - hydrogenated bisphenol type epoxy compounds such as epoxy compounds of hexafluoropropane, halogenated bisphenol type epoxy compounds such as brominated bisphenol A type epoxy resin and brominated bisphenol F type epoxy resin, Alicyclic diglycidyl ether compounds such as 1,6-hexanediol diglycidyl ether, 1,4-butanediol diglycidyl ether, and diethylene glycol diglycidyl ether; A polysulfide diglycidyl ether compound such as polysulfide diglycidyl ether, a phenol novolak type epoxy resin, a cresol novolak type epoxy resin, a trishydroxyphenyl methane type epoxy resin, Resin, dicyclopentadiene phenol type epoxy resin, biphenol type epoxy resin, bisphenol A novolac type epoxy resin, naphthalene skeleton containing epoxy resin, and heterocyclic epoxy resin.
본 발명의 감광성 수지 조성물에 병용 가능한 (폴리)에테르(메타)아크릴레이트(B-4)로는 예컨대, 부톡시에틸(메타)아크릴레이트, 부톡시트리에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 에피클로로히드린변성부틸(메타)아크릴레이트, 디시클로펜테닐옥시에틸(메타)아크릴레이트, 2-에톡시에틸(메타)아크릴레이트, 에틸카르비톨(메타)아크릴레이트, 페녹시에틸(메타)아크릴레이트, 노닐페녹시폴리에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트 등의 단관능 (폴리)에테르(메타)아크릴레이트류;Examples of (poly) ether (meth) acrylate (B-4) usable in combination with the photosensitive resin composition of the present invention include butoxy ethyl (meth) acrylate, butoxy triethylene glycol (meth) acrylate, epichlorohydrin (Meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, nonyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, 2-ethoxyethyl Monofunctional (poly) ether (meth) acrylates such as phenoxypolyethylene glycol (meth) acrylate;
폴리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 폴리부틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 폴리테트라메틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트 등의 알킬렌글리콜디(메타)아크릴레이트류;에틸렌옥시드와 프로필렌 옥시드의 공중합체, 프로필렌글리콜과 테트라히드로푸란의 공중합체, 폴리이소프렌 글리콜, 수소첨가 폴리이소프렌 글리콜, 폴리부타디엔글리콜, 수소첨가 폴리부타디엔 글리콜 등의 탄화수소계 폴리올류 등의 다가 수산기 화합물과 (메타)아크릴산으로부터 유도되는 다관능 (메타)아크릴레이트류;네오펜틸글리콜 1몰에 1몰 이상의 에틸렌옥사이드, 프로필렌옥사이드, 부틸렌옥사이드 등의 환상 에테르를 부가한 디올의 디(메타)아크릴레이트;(Meth) acrylate such as polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, polybutylene glycol di (meth) acrylate and polytetramethylene glycol di Hydroxy polyols such as copolymers of ethylene oxide and propylene oxide, copolymers of propylene glycol and tetrahydrofuran, polyisoprene glycol, hydrogenated polyisoprene glycol, polybutadiene glycol and hydrogenated polybutadiene glycol, etc. Polyfunctional (meth) acrylates derived from (meth) acrylic acid and polyfunctional (meth) acrylates derived from diol having 1 mole or more of ethylene oxide, propylene oxide or butylene oxide added to 1 mole of neopentyl glycol, Methacrylate;
비스페놀 A, 비스페놀 F, 비스페놀 S 등의 비스페놀류의 알킬렌 옥시드 변성체의 디(메타)아크릴레이트;수소첨가 비스페놀 A, 수소첨가 비스페놀 F, 수소첨가 비스페놀 S 등의 수소첨가 비스페놀류의 알킬렌 옥시드 변성체 디(메타)아크릴레이트;트리메틸올프로판 또는 글리세린 1몰에 1몰 이상의 에틸렌옥사이드, 프로필렌옥사이드, 부틸렌옥사이드 등의 환상 에테르 화합물을 부가하여 얻은 트리올의 모노, 디 또는 트리(메타)아크릴레이트;Di (meth) acrylates of alkylene oxide modified products of bisphenols such as bisphenol A, bisphenol F and bisphenol S; hydrogenated bisphenols such as hydrogenated bisphenol A, hydrogenated bisphenol F and hydrogenated bisphenol S, Di (meth) acrylate obtained by adding 1 mole or more of a cyclic ether compound such as ethylene oxide, propylene oxide or butylene oxide to 1 mole of trimethylol propane or glycerin, ) Acrylate;
펜타에리트리톨 또는 디트리메틸올프로판 1몰에 1몰 이상의 에틸렌옥사이드, 프로필렌옥사이드, 부틸렌옥사이드 등의 환상 에테르 화합물을 부가한 트리올의 모노, 디, 트리 또는 테트라 (메타)아크릴레이트;디펜타에리트리톨 1몰에 1몰 이상의 에틸렌옥사이드, 프로필렌옥사이드, 부틸렌옥사이드 등의 환상 에테르 화합물을 부가한 헥사올의 3 내지 6관능 (메타)아크릴레이트 등의 다관능 (폴리)에테르(메타)아크릴레이트류 등을 들 수 있다.Mono-, di-, tri- or tetra (meth) acrylates of triols obtained by adding 1 mole or more of a cyclic ether compound such as ethylene oxide, propylene oxide or butylene oxide to 1 mole of pentaerythritol or ditrimethylol propane; Polyfunctional (poly) ether (meth) acrylates such as hexaol trifunctional (meth) acrylate having 1 mole or more of ethylene oxide, propylene oxide or butylen oxide added to 1 mole of lithol And the like.
본 발명의 감광성 수지 조성물에 병용 가능한 알킬(메타)아크릴레이트 또는 알킬렌(메타)아크릴레이트(B-5)로는 예컨대, 옥틸(메타)아크릴레이트, 이소옥틸(메타)아크릴레이트, 데실(메타)아크릴레이트, 도데실(메타)아크릴레이트 등의 단관능(메타)아크릴레이트류;Examples of the alkyl (meth) acrylate or alkylene (meth) acrylate (B-5) usable in the photosensitive resin composition of the present invention include octyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, decyl Monofunctional (meth) acrylates such as acrylate and dodecyl (meth) acrylate;
에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 1,4-부탄디올디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 2-메틸-1,8-옥탄디올디(메타)아크릴레이트, 1,9-노난디올디(메타)아크릴레이트, 1,10-데칸디올디(메타)아크릴레이트의 탄화수소 디올의 디(메타)아크릴레이트류;(Meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, ethylene glycol di (Meth) acrylate of 1, 2-methyl-1,8-octanediol di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol di (Meth) acrylates;
트리메틸올프로판의 모노(메타)아크릴레이트, 디(메타)아크릴레이트 또는 트리(메타)아크릴레이트(이하, 디, 트리, 테트라 등의 다관능의 총칭으로서「폴리」를 이용함), 글리세린의 모노(메타)아크릴레이트 또는 폴리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨의 모노 또는 폴리(메타)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판의 모노 또는 폴리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨의 모노 또는 폴리(메타)아크릴레이트 등의 트리올, 테트라올, 헥사올 등의 다가 알코올의 모노 또는 폴리(메타)아크릴레이트류;Mono (meth) acrylate, di (meth) acrylate or tri (meth) acrylate of trimethylolpropane (hereinafter, "poly" is used collectively as polyfunctional groups such as di-, tri- or tetra), glycerin mono- Mono- or poly (meth) acrylates of dipentaerythritol, mono- or poly (meth) acrylates of poly (meth) acrylate or poly Mono or poly (meth) acrylates of polyhydric alcohols such as triol, tetraol and hexanol;
2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메타)아크릴레이트 등의 수산기 함유 (메타)아크릴류 등을 들 수 있다.(Meth) acrylates having a hydroxyl group such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate and 4-hydroxybutyl (meth) acrylate.
본 발명의 감광성 수지 조성물에 병용 가능한 방향환을 갖는 (메타)아크릴레이트(B-6)로는 예컨대, 페닐(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트, 2-페닐페놀의 에틸렌옥사이드 부가물의 말단 아크릴산에스테르화물(예컨대, 일본 화약(주) 제 OPP-1, OPP-2) 등의 단관능 (메타)아크릴레이트류;비스페놀 A 디(메타)아크릴레이트, 비스페놀 F 디(메타)아크릴레이트 등의 디(메타)아크릴레이트류 등을 들 수 있지만, 이들로 한정되는 것은 아니다.Examples of the (meth) acrylate (B-6) having an aromatic ring which can be used in combination with the photosensitive resin composition of the present invention include a terminal of an ethylene oxide adduct of phenyl (meth) acrylate, benzyl (Meth) acrylates such as bisphenol A di (meth) acrylate and bisphenol F di (meth) acrylate, and the like; monofunctional (meth) acrylates such as acrylic acid esters (for example, OPP-1 and OPP- Di (meth) acrylates, and the like, but are not limited thereto.
본 발명의 감광성 수지 조성물에 병용 가능한 지환구조를 갖는 (메타)아크릴레이트(B-7)로는 예컨대, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 시클로펜틸(메타)아크릴레이트, 이소보닐(메타)아크릴레이트, 디시클로펜테닐(메타)아크릴레이트 등의 지환구조를 갖는 단관능 (메타)아크릴레이트류;수소 첨가 비스페놀 A, 수소 첨가 비스페놀 F 등의 수소 첨가 비스페놀류의 디(메타)아크릴레이트;트리시클로데칸디메틸올디(메타)아크릴레이트 등의 환상구조를 갖는 다관능성 (메타)아크릴레이트류;테트라푸르푸릴(메타)아크릴레이트 등의 구조 중에 산소 원자 등을 갖는 지환식(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있지만, 이들로 한정되는 것은 아니다.Examples of the (meth) acrylate (B-7) having an alicyclic structure that can be used in combination with the photosensitive resin composition of the present invention include cyclohexyl (meth) acrylate, cyclopentyl (meth) acrylate, isobonyl (meth) (Meth) acrylates having an alicyclic structure such as dicyclopentenyl (meth) acrylate, di (meth) acrylates of hydrogenated bisphenols such as hydrogenated bisphenol A and hydrogenated bisphenol F, tricyclodecane Alicyclic (meth) acrylates having cyclic structures such as dimethylol (meth) acrylate and dimethylol (meth) acrylate; and alicyclic (meth) acrylates having oxygen atoms in the structure such as tetrafurfuryl However, the present invention is not limited thereto.
또한 본 발명의 감광성 수지 조성물에 병용 가능한 (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물로는 상기 화합물 외에 예컨대, (메타)아크릴산 폴리머와 글리시딜(메타)아크릴레이트와의 반응물 또는 글리시딜(메타)아크릴레이트 폴리머와 (메타)아크릴산과의 반응물 등의 폴리(메타)아크릴폴리머(메타)아크릴레이트;디메틸아미노에틸(메타)아크릴레이트 등의 아미노기를 갖는 (메타)아크릴레이트;트리스(메타)아크릴옥시에틸이소시아누레이트 등의 이소시아누르(메타)아크릴레이트;폴리실록산 골격을 갖는 (메타)아크릴레이트;폴리 부타디엔(메타)아크릴레이트, 멜라민(메타)아크릴레이트 등도 사용 가능하다.Examples of the compound having a (meth) acryloyl group that can be used in combination with the photosensitive resin composition of the present invention include compounds obtained by reacting a reaction product of a (meth) acrylic acid polymer with glycidyl (meth) acrylate or glycidyl (meth) (Meth) acrylic acid polymer (meth) acrylate such as a reaction product of an acrylate polymer and (meth) acrylic acid; (meth) acrylate having an amino group such as dimethylaminoethyl (Meth) acrylate having a polysiloxane skeleton; polybutadiene (meth) acrylate, melamine (meth) acrylate, and the like can also be used.
또한 본 발명의 감광성 수지 조성물에 병용 가능한 말레이미드기 함유 화합물(B-8)로는 예컨대, N-n-부틸말레이미드, N-헥실말레이미드, 2-말레이미드에틸에틸카보네이트, 2-말레이미드에틸프로필카보네이트, N-에틸-(2-말레이미드에틸)카바메이트 등의 단관능 지방족 말레이미드류;N-시클로헥실말레이미드 등의 지환식 단관능 말레이미드류;N,N-헥사메틸렌비스말레이미드, 폴리프로필렌글리콜-비스(3-말레이미드프로필)에테르, 비스(2-말레이미드에틸)카보네이트 등의 지방족 비스말레이미드류;1,4-디말레이미드시클로헥산, 이소포론비스우레탄비스(N-에틸말레이미드) 등의 지환식 비스말레이미드;말레이미드 초산과 폴리테트라메틸렌글리콜을 에스테르화하여 얻어진 말레이미드 화합물, 말레이미드카프론산과 펜타에리트리톨의 테트라에틸렌옥사이드 부가물과의 에스테르화에 의한 말레이미드 화합물 등의 카르복시시말레이미드 유도체와 다양한 (폴리)올을 에스테르화하여 얻어진 (폴리)에스테르(폴리)말레이미드 화합물 등을 들 수 있지만, 이들로 한정되는 것은 아니다.Examples of the maleimide group-containing compound (B-8) which can be used in combination with the photosensitive resin composition of the present invention include N-n-butyl maleimide, N-hexyl maleimide, 2- maleimide ethyl ethyl carbonate, Monocyclic aliphatic maleimides such as N-methylmorpholine, propyl carbonate, N-ethyl- (2-maleimideethyl) carbamate, and alicyclic monofunctional maleimides such as N-cyclohexylmaleimide; , Aliphatic bismaleimides such as polypropylene glycol-bis (3-maleimidepropyl) ether and bis (2-maleimideethyl) carbonate; 1,4-dimaleimidocyclohexane, isophorone bis- Ethyl maleimide); maleimide compounds obtained by esterifying maleimide acetic acid and polytetramethylene glycol; maleimide compounds obtained by copolymerizing maleimide caproic acid and pentaerythritol (Poly) maleimide compounds obtained by esterifying various (poly) alcohols with a carboxymimeimide derivative such as a maleimide compound by esterification with a tetraethylene oxide adduct, and the like. But is not limited thereto.
본 발명의 감광성 수지 조성물에 병용 가능한 (메타)아크릴아미드 화합물(B-9)로는 예컨대, 아크릴로일모르폴린, N-이소프로필(메타)아크릴아미드 등의 단관능성 (메타)아크릴 아미드류; 메틸렌비스(메타)아크릴아미드 등의 다관능 (메타)아크릴아미드류 등을 들 수 있다.Examples of the (meth) acrylamide compound (B-9) usable in the photosensitive resin composition of the present invention include monofunctional (meth) acrylamides such as acryloylmorpholine and N- isopropyl (meth) And polyfunctional (meth) acrylamides such as bis (meth) acrylamide.
본 발명의 감광성 수지 조성물에 병용 가능한 불포화 폴리에스테르(B-10)로는 예컨대, 디메틸푸마레이트, 디에틸푸마레이트 등의 푸마르산에스테르류;말레인산, 푸마르산 등의 다가 불포화카르복시산과 다가 알코올과의 에스테르화 반응물을 들 수 있다.Examples of the unsaturated polyester (B-10) which can be used in combination with the photosensitive resin composition of the present invention include fumaric acid esters such as dimethyl fumarate and diethyl fumarate; esterification products of polyvalent unsaturated carboxylic acids such as maleic acid and fumaric acid with polyhydric alcohols .
본 발명의 감광성 수지 조성물에 병용 가능한 중합성 화합물(B)는 상기한 화합물로 한정된 것은 아니고, 상기 (A) 성분과 공중합성을 갖는 화합물이면, 그 1 종류 또는 복수종의 화합물을 특별한 제한 없이 병용 할 수 있다. 중합성 화합물로는 (B-2), (B-5), (B-6)이 바람직하게 이용된다.The polymerizable compound (B) that can be used in combination with the photosensitive resin composition of the present invention is not limited to the above-described compounds. Any compound having a copolymerization with the component (A) may be used alone or in combination of two or more. can do. As the polymerizable compound, (B-2), (B-5) and (B-6) are preferably used.
본 발명의 감광성 수지 조성물에서 상기 (A) 및 (B) 성분의 비율은 특별히 제한되는 것은 아니지만, (A) 성분 100중량부에 대하여 (B) 성분이 10~2000중량부이며, 50~1000중량부인 것이 바람직하다.The proportion of the component (A) and the component (B) in the photosensitive resin composition of the present invention is not particularly limited, but is preferably 10 to 2000 parts by weight, more preferably 50 to 1000 parts by weight per 100 parts by weight of the component (A) It is desirable to be wife.
본 발명의 감광성 수지 조성물에 이용되는 광중합 개시제(C)의 구체적인 예로는 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르 등의 벤조인류;아세토페논, 2,2-디에톡시-2-페닐아세토페논, 1,1-디클로로아세토페논, 2-히드록시-2-메틸-페닐프로판-1-온, 디에톡시아세토페논, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-메틸-1-4-(메틸티오)페닐-2-모르폴리노프로판-1-온 등의 아세토페논류;2-에틸안트라퀴논, 2-터셔리부틸안트라퀴논, 2-클로로안트라퀴논, 2-아밀안트라퀴논 등의 안트라퀴논류;2,4-디에틸티옥산톤, 2-이소프로필티옥산톤, 2-클로로티옥산톤 등의 티옥산톤류;아세토페논디메틸케탈, 벤질디메틸케탈 등의 케탈류;벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐설파이드, 4,4'-비스메틸아미노벤조페논 등의 벤조페논류;2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-페닐포스핀옥사이드 등의 포스핀 옥사이드류 등을 들 수 있다. 바람직하게는, 아세토페논류이며, 보다 바람직하게는 2-히드록시-2-메틸-페닐프로판-1-온, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤을 들 수 있다. 이들의 첨가 비율로는 감광성 수지 조성물의 고형분을 100중량%로 했을 때 통상 0.01~30중량%, 바람직하게는 0.1~25중량%이다.Specific examples of the photopolymerization initiator (C) used in the photosensitive resin composition of the present invention include benzoins such as benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin propyl ether and benzoin isobutyl ether; Hydroxy-2-methyl-phenylpropan-1-one, diethoxyacetophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, Acetophenones such as 2-methyl-1- (methylthio) phenyl-2-morpholinopropane-1-one, 2-amyl anthraquinone and the like; thioxanthones such as 2,4-diethylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone and 2-chlorothioxanthone; acetophenone dimethylketal, benzyldimethylketal, etc. Benzophenone, 4-benzoyl-4'-methyldiphenyl sulfide, 4,4'-bis Benzophenones such as aminobenzophenone; phosphine oxides such as 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide and bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide; and the like . Preferred are acetophenones, more preferably 2-hydroxy-2-methyl-phenylpropan-1-one and 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone. The addition ratio thereof is generally 0.01 to 30% by weight, preferably 0.1 to 25% by weight based on 100% by weight of the solid content of the photosensitive resin composition.
이들은 단독 또는 2종 이상의 혼합물로 사용할 수 있고, 트리에탄올아민, 메틸디에탄올아민 등의 제3급 아민, N,N-디메틸아미노안식향산에틸에스테르, N,N-디메틸아미노안식향산이소아밀에스테르 등의 안식향산 유도체 등의 경화촉진제 등과 조합하여 사용할 수 있다. 이러한 촉진제의 첨가량으로는 광중합 개시제(C)에 대하여 100중량% 이하가 되는 양을 필요에 따라 첨가한다.These may be used alone or as a mixture of two or more kinds. Examples thereof include tertiary amines such as triethanolamine and methyldiethanolamine, benzoic acid such as N, N-dimethylaminobenzoic acid ethyl ester and N, N-dimethylaminobenzoic acid, A curing accelerator such as a derivative, and the like. As the amount of the accelerator to be added, an amount of not more than 100% by weight based on the photopolymerization initiator (C) is added if necessary.
본 발명의 에너지선 경화형 수지 조성물에는 그 점도, 굴절률, 밀착성 등을 고려하여 추가로 페닐에테르기를 갖는 모노아크릴레이트 모노머(D)를 이용하는 것이 바람직하다. 페닐에테르기를 갖는 모노아크릴레이트 모노머(D)로는 페녹시에틸(메타)아크릴레이트, 페닐폴리에톡시(메타)아크릴레이트, p-쿠밀페녹시에틸(메타)아크릴레이트, 트리브로모페닐옥시에틸(메타)아크릴레이트, 페닐페놀(폴리)에톡시(메타)아크릴레이트, 페닐페놀에폭시(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있지만, 그 중에서 o-페닐페놀(폴리)에톡시(메타)아크릴레이트, p-페닐페놀(폴리)에톡시(메타)아크릴레이트, o-페닐페놀에폭시(메타)아크릴레이트, p-페닐페놀에폭시(메타)아크릴레이트가 바람직하다.It is preferable to use a monoacrylate monomer (D) having a phenyl ether group in consideration of the viscosity, the refractive index, and the adhesion property of the energy ray curable resin composition of the present invention. Examples of the monoacrylate monomer (D) having a phenyl ether group include phenoxyethyl (meth) acrylate, phenylpolyethoxy (meth) acrylate, p-cumylphenoxyethyl (meth) acrylate, tribromophenyloxyethyl (Meth) acrylate, phenylphenol (poly) ethoxy (meth) acrylate, phenylphenol epoxy (meth) acrylate and the like. Of these, Phenylphenol epoxy (meth) acrylate, o-phenylphenol epoxy (meth) acrylate and p-phenylphenol epoxy (meth) acrylate are preferable.
페닐페놀(폴리)에톡시(메타)아크릴레이트로는 에톡시 구조 부분의 반복수가 평균 1~3의 정수인 화합물이 바람직하고, 페닐페놀과 에틸렌옥사이드와의 반응물과 (메타)아크릴산을 반응시키는 것에 의해 얻을 수 있다. 페닐페놀과 에틸렌옥사이드와의 반응물은 공지의 방법에 의해 얻을 수 있고, 시판품도 사용할 수 있다. 다음, 페닐페놀과 에틸렌옥사이드와의 반응물에 p-톨루엔술폰산 또는 황산 등의 에스테르화 촉매, 하이드로퀴논이나 페노티아진 등의 중합 금지제의 존재하에, 바람직하게는 용제류(예컨대, 톨루엔, 시클로헥산, n-헥산, n-헵탄 등)의 존재하, 바람직하게는 70~150℃의 온도에서 (메타)아크릴산과 반응시키는 것에 의해 페닐페놀폴리에톡시(메타)아크릴레이트를 얻을 수 있다. (메타)아크릴산의 사용 비율은 페닐페놀과 에틸렌옥사이드와의 반응물 1몰에 대하여 1~5몰, 바람직하게는 1.05~2몰이다. 에스테르화 촉매는 사용하는 (메타)아크릴산에 대하여 0.1~15몰%, 바람직하게는 1~6몰%이다. 페닐페놀로는 상기와 같이, o-페닐페놀, p-페닐페놀을 들 수 있고 O-PP, P-PP(모두 산코(주)제)로 입수 가능하다. o-페닐페놀(폴리)에톡시(메타)아크릴레이트 또는 p-페닐페놀(폴리)에톡시(메타)아크릴레이트가 바람직하다.The phenylphenol (poly) ethoxy (meth) acrylate is preferably a compound having an average number of repetition of the ethoxy moiety of 1 to 3, and reacting the reaction product of phenylphenol and ethylene oxide with (meth) acrylic acid Can be obtained. The reaction product of phenylphenol and ethylene oxide can be obtained by a known method, and commercially available products can also be used. Next, in the presence of an esterification catalyst such as p-toluenesulfonic acid or sulfuric acid and a polymerization inhibitor such as hydroquinone or phenothiazine in the reaction product of phenylphenol and ethylene oxide, a solvent (for example, toluene, cyclohexane (meth) acrylic acid at a temperature of preferably 70 to 150 ° C in the presence of a catalyst (for example, n-hexane, n-heptane, etc.). (Meth) acrylic acid is used in an amount of 1 to 5 mol, preferably 1.05 to 2 mol, per mol of the reaction product of phenylphenol and ethylene oxide. The esterification catalyst is used in an amount of 0.1 to 15 mol%, preferably 1 to 6 mol%, based on the amount of (meth) acrylic acid used. As the phenylphenol, there can be mentioned o-phenylphenol and p-phenylphenol as described above, and O-PP and P-PP (both available from Sanko) are available. O-phenylphenol (poly) ethoxy (meth) acrylate or p-phenylphenol (poly) ethoxy (meth) acrylate are preferred.
페닐페놀에폭시(메타)아크릴레이트는 상기 에폭시 수지(a)와 동일하다. o-페닐페놀에폭시(메타)아크릴레이트 또는 p-페닐페놀에폭시(메타)아크릴레이트가 바람직하다.The phenylphenol epoxy (meth) acrylate is the same as the above epoxy resin (a). o-phenylphenol epoxy (meth) acrylate or p-phenylphenol epoxy (meth) acrylate are preferred.
또한, 본 발명의 에너지선 경화형 수지 조성물의 점도, 밀착성, 유리 전이점 온도(Tg), 경화물의 경도 등을 고려하여 상기 우레탄 화합물(A), 페닐에테르기를 갖는 모노아크릴레이트 모노머(D) 이외의 (메타)아크릴레이트 화합물(E)를 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용하는 것이 바람직하다. (메타)아크릴레이트 화합물(E)로는 (메타)아크릴레이트 모노머나 (메타)아크릴레이트 올리고머를 들 수 있다.In consideration of the viscosity, adhesion, glass transition temperature (Tg) and hardness of the cured product of the energy ray curable resin composition of the present invention, the urethane compound (A) and the monoacrylate monomer (D) having a phenyl ether group (Meth) acrylate compound (E) are preferably used alone or in combination of two or more. (Meth) acrylate compounds (E) include (meth) acrylate monomers and (meth) acrylate oligomers.
(메타)아크릴레이트 모노머로는 단관능 (메타)아크릴레이트 모노머, 2관능(메타)아크릴레이트 모노머, 3관능 이상의 다관능 (메타)아크릴레이트 모노머 등을 들 수 있다.Examples of the (meth) acrylate monomer include monofunctional (meth) acrylate monomers, bifunctional (meth) acrylate monomers, and trifunctional or higher polyfunctional (meth) acrylate monomers.
단관능 (메타)아크릴레이트 모노머로는 예컨대, 아크릴로일모르폴린, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 시클로헥산-1,4-디메탄올모노(메타)아크릴레이트, 테트라히드로푸르푸릴(메타)아크릴레이트, 이소보닐(메타)아크릴레이트, 디시클로펜타닐(메타)아크릴레이트, 디시클로펜테닐(메타)아크릴레이트, 디시클로펜테닐옥시에틸(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.Examples of monofunctional (meth) acrylate monomers include acryloylmorpholine, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, cyclohexane-1,4-dimethanolmono (Meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl Methacrylate, and the like.
2관능 (메타)아크릴레이트 모노머로는 예컨대, 1,4-부탄디올디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 1,9-노난디올디(메타)아크릴레이트, 트리시클로데칸디메탄올디(메타)아크릴레이트, 비스페놀 A 폴리에톡시디(메타)아크릴레이트, 비스페놀 A 폴리프로폭시디(메타)아크릴레이트, 비스페놀 F 폴리에톡시디(메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.Examples of the bifunctional (meth) acrylate monomer include 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,9- (Meth) acrylate, bisphenol A polypropoxydi (meth) acrylate, bisphenol A polypropoxydi (meth) acrylate, bisphenol F polyethoxydi (meth) acrylate, ethylene glycol Di (meth) acrylate, and polyethylene glycol di (meth) acrylate.
3관능 이상의 다관능 (메타)아크릴레이트 모노머로는 예컨대, 트리스(아크릴옥시에틸)이소시아누레이트, 펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메타)아크릴레이트, 트리펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트, 트리펜타에리트리톨펜타(메타)아크릴레이트, 히드록시피발린산네오펜틸글리콜의 ε-카프로락톤 부가물의 디(메타)아크릴레이트(예컨대, 일본 화약(주) 제, KAYARAD HX-220, HX-620 등), 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판폴리에톡시트리(메타)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판테트라(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.Examples of trifunctional or higher polyfunctional (meth) acrylate monomers include tris (acryloxyethyl) isocyanurate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (metha) acrylate, dipentaerythritol Di (meth) acrylate of ε-caprolactone adduct of hydroxypivalic acid neopentyl glycol, di (meth) acrylate of ε-caprolactone adduct of hydroxypivalic acid (meth) acrylate, tripentaerythritol hexa (Meth) acrylates such as trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolpropane polyethoxy tri (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (Meth) acrylate, and the like.
(메타)아크릴레이트 올리고머로는 예컨대, 우레탄(메타)아크릴레이트, 에폭시(메타)아크릴레이트, 폴리에스테르(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.Examples of the (meth) acrylate oligomer include urethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate and polyester (meth) acrylate.
우레탄(메타)아크릴레이트로는 예컨대, 디올 화합물(예컨대, 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 디프로필렌글리콜, 트리프로필렌글리콜, 1,4-부탄디올, 네오펜틸글리콜, 1,6-헥산디올, 1,8-옥탄디올, 1,9-노난디올, 2-메틸-1,8-옥탄디올, 3-메틸-1,5-펜탄디올, 2,4-디에틸-1,5-펜 탄디올, 2-부틸-2-에틸-1,3-프로판디올, 시클로헥산-1,4-디메탄올, 폴리에틸렌 글리콜, 폴리프로필렌글리콜, 비스페놀 A 폴리에톡시디올, 비스페놀 A 폴리프로폭시디올 등) 또는 이들 디올 화합물과 이염기산 또는 그 무수물(예컨대, 숙신산, 아디핀산, 아젤라인산, 다이머산, 이소프탈산, 테레프탈산, 프탈산 또는 이러한 무수물)과의 반응물인 폴리에스테르디올과 유기 폴리이소시아네이트(예컨대, 테트라메틸렌디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 2,2,4-트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 2,4,4-트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트 등의 쇄형 포화 탄화 수소 이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, 노르보르난디이소시아네이트, 디시클로헥실메탄디이소시아네이트, 메틸렌비스(4-시클로헥실이소시아네이트), 수소첨가 디페닐메탄디이소시아네이트, 수소첨가 크실렌디이소시아네이트, 수소첨가 톨루엔디이소시아네이트 등의 환상 포화 탄화 수소 이소시아네이트, 2,4-톨릴렌디이소시아네이트, 1,3-크실렌디이소시아네이트, p-페닐렌디이소시아네이트, 3,3'-디메틸-4,4'-디이소시아네이트, 6-이소프로필-1,3-페닐디이소시아네이트, 1,5-나프탈렌디이소시아네이트 등의 방향족 폴리이소시아네이트 등)를 반응시키고, 다음 수산기 함유 (메타)아크릴레이트를 부가한 반응물 등을 들 수 있다.Examples of the urethane (meth) acrylate include diol compounds such as ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, 1,4-butanediol, neopentyl glycol, Hexanediol, 1,8-octanediol, 1,9-nonanediol, 2-methyl-1,8-octanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, Diethylene glycol, polypropylene glycol, bisphenol A polyethoxydiol, bisphenol A polypropoxydiol < RTI ID = 0.0 > Etc.) or polyester diols which are a reaction product of these diol compounds with dibasic acids or anhydrides thereof (for example, succinic acid, adipic acid, azelaic acid, dimeric acid, isophthalic acid, terephthalic acid, phthalic acid or anhydrides thereof) and organic polyisocyanates Tetramethylene diisocyanate, hexa Chain saturated hydrocarbon isocyanates such as methylene diisocyanate, 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate and 2,4,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, norbornadiisocyanate, dicyclohexylmethane di Cyclic saturated hydrocarbon isocyanates such as isocyanate, methylene bis (4-cyclohexyl isocyanate), hydrogenated diphenylmethane diisocyanate, hydrogenated xylene diisocyanate and hydrogenated toluene diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate, 1,3 Aromatic polyamides such as xylylene diisocyanate, p-phenylenediisocyanate, 3,3'-dimethyl-4,4'-diisocyanate, 6-isopropyl-1,3-phenyldiisocyanate and 1,5- Isocyanate or the like) is reacted, and then the hydroxyl group-containing (meth) acrylate There may be mentioned a reaction product, such as adding a bit.
수산기 함유 (메타)아크릴레이트로는 예컨대, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 1,4-부탄디올모노(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜모노(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜모노(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트의 ε-카프로락톤 부가물, 2-히드록시-3-페닐옥시프로필(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.Examples of the hydroxyl group-containing (meth) acrylate include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 1,4-butanediol mono (meth) acrylate, polyethylene glycol mono Acrylate, ε-caprolactone adduct of 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenyl (meth) acrylate, (Meth) acrylate, and the like.
에폭시(메타)아크릴레이트로는 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지, 페놀 노볼락형 에폭시 수지, 비스페놀 A의 프로필렌 옥사이드 부가물의 말단 글리시딜에테르, 플루오렌에폭시 수지 등의 에폭시 수지류와 (메타)아크릴산과의 반응물 등을 들 수 있다.Examples of the epoxy (meth) acrylate include epoxy resins such as bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, phenol novolak type epoxy resin, terminal glycidyl ether of a propylene oxide adduct of bisphenol A, fluorene epoxy resin and the like (Meth) acrylic acid, and the like.
폴리에스테르(메타)아크릴레이트로는 예컨대, 상기 디올 화합물과 상기 이염기산 또는 그 무수물과의 반응물인 폴리에스테르디올과 (메타)아크릴산의 축합 반응물 등을 들 수 있다.Examples of the polyester (meth) acrylate include a condensation reaction product of a polyester diol and (meth) acrylic acid as a reaction product of the diol compound and the dibasic acid or an anhydride thereof.
특히 (메타)아크릴레이트 화합물(E)로는 본 발명의 에너지선 경화형 수지 조성물에 필요한 점도나 경화물의 밀착성을 고려하여, 단관능 또는 2관능 (메타)아크릴레이트 모노머가 적합하다. 그 중에서, 아크릴로일모르폴린, 테트라히드로푸르푸릴(메타)아크릴레이트, 1,4-부탄디올디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 이소보닐(메타)아크릴레이트, 디시클로펜타닐(메타)아크릴레이트, 디시클로펜테닐(메타)아크릴레이트, 디시클로펜테닐옥시에틸(메타)아크릴레이트, 비스페놀 A 폴리에톡시디(메타)아크릴레이트 등의 단관능 또는 2관능 (메타)아크릴레이트 모노머가 적합하다.In particular, as the (meth) acrylate compound (E), monofunctional or bifunctional (meth) acrylate monomers are suitable considering the viscosity necessary for the energy ray curable resin composition of the present invention and the adhesion of the cured product. Among them, acryloylmorpholine, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, isobonyl (Meth) acrylate such as dicyclopentanyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate and bisphenol A polyethoxydi Functional (meth) acrylate monomers are suitable.
또한 본 발명의 에너지선 경화형 수지 조성물에 필요한 경도나 Tg를 고려하면, 3관능 이상의 (메타)아크릴레이트 모노머를 병용하는 것도 바람직하고, 예컨대, 트리스(2-아크릴옥시에틸)이소시아누레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.In consideration of the hardness and Tg required for the energy ray curable resin composition of the present invention, it is also preferable to use a trifunctional or more (meth) acrylate monomer in combination. Examples thereof include tris (2-acryloxyethyl) isocyanurate, di (Meth) acrylate, pentaerythritol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate and the like.
본 발명의 에너지선 경화형 수지 조성물에서 각 성분의 사용 비율은 소망하는 굴절률이나 유리 전이점 온도, 점도나 밀착성 등을 고려하여 결정할 수 있지만, 필수 성분(A), 임의 성분(D)와 임의 성분(E)에 대하여, 성분(A)+성분(D)+성분(E)를 100중량부로 했을 경우, 성분(A)의 함유량은 3~100중량부, 특히 바람직하게는 5~100중량부이다. 성분(D)의 함유량은 0~85중량부, 특히 바람직하게는 0~75중량부이다. 성분(E)의 함유량은 0~60중량부, 특히 바람직하게는 0~50중량부이다. 성분(C)는 성분(A)+성분(D)+성분(E)를 100중량부로 했을 경우, 0.1~10중량부의 사용이 바람직하고, 특히 바람직하게는 0.3~5중량부의 사용이다.The use ratio of each component in the energy ray curable resin composition of the present invention can be determined in consideration of the desired refractive index, glass transition temperature, viscosity, adhesion, etc. However, the ratio of the essential component (A), the optional component (D) The content of the component (A) is 3 to 100 parts by weight, particularly preferably 5 to 100 parts by weight, based on 100 parts by weight of the component (A) + the component (D) + the component (E) The content of the component (D) is 0 to 85 parts by weight, particularly preferably 0 to 75 parts by weight. The content of the component (E) is 0 to 60 parts by weight, particularly preferably 0 to 50 parts by weight. Component (C) is preferably used in an amount of 0.1 to 10 parts by weight, particularly preferably 0.3 to 5 parts by weight, based on 100 parts by weight of component (A) + component (D) + component (E).
또한 본 발명의 감광성 수지 조성물은 용도에 따라 비반응성 화합물, 무기 충전제, 유기 충전제, 실란 커플링제, 점착 부여제, 이형제, 소포제, 레벨링제, 가소제, 광 안정화제, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 중합 금지제, 대전 방지제, 난연제, 안료, 염료 등을 그 경화성, 수지 특성을 해치지 않는 범위에서 특별한 제한 없이 사용할 수 있다. 또한, 필요에 따라서 아크릴 폴리머, 폴리에스테르 엘라스토머, 우레탄 폴리머 및 니트릴고무 등의 폴리머류, 무기 또는 유기 광확산 필러 등도 첨가할 수 있다.In addition, the photosensitive resin composition of the present invention may contain a non-reactive compound, an inorganic filler, an organic filler, a silane coupling agent, a tackifier, a releasing agent, a defoaming agent, a leveling agent, a plasticizer, a light stabilizer, an antioxidant, Antistatic agents, flame retardants, pigments, dyes and the like can be used without particular limitations within the range not impairing the curability and the resin characteristics. If necessary, polymers such as acrylic polymers, polyester elastomers, urethane polymers and nitrile rubbers, and inorganic or organic light-diffusing fillers may also be added.
상기 비반응성 화합물의 구체적인 예로는 반응성이 낮은, 또는 반응성이 없는 액상 또는 고체상 올리고머나 수지이며, (메타)아크릴산알킬 공중합체, 에폭시 수지, 액상 폴리 부타디엔, 디시클로펜타디엔 유도체, 포화 폴리에스테르 올리고머, 크실렌 수지, 폴리우레탄 폴리머, 케톤 수지, 디알릴프탈레이트 폴리머(다프수지), 석유 수지, 로딘 수지, 불소계 올리고머, 실리콘계 올리고머 등을 들 수 있지만, 이들로 한정되는 것은 아니다.Specific examples of the non-reactive compound include a liquid or solid oligomer or resin having low reactivity or no reactivity, and may be a (meth) acrylic acid alkyl copolymer, an epoxy resin, a liquid polybutadiene, a dicyclopentadiene derivative, a saturated polyester oligomer, But are not limited to, xylene resin, polyurethane polymer, ketone resin, diallyl phthalate polymer (Daff resin), petroleum resin, rosin resin, fluoric oligomer, and silicone oligomer.
상기 무기 충전제로는 예컨대, 이산화규소, 산화규소, 탄산칼슘, 규산칼슘, 탄산마그네슘, 산화마그네슘, 탈크, 카올린 클레이, 소성 클레이, 산화아연, 황산아연, 수산알루미늄, 산화알류미늄, 유리, 운모, 황산바륨, 알루미나 화이트, 제올라이트, 실리카 벌룬, 유리 벌룬 등을 들 수 있다. 이러한 무기 충전제에는 실란 커플링제, 티타네이트계 커플링제, 알루미늄계 커플링제, 지르코네이트계 커플링제 등을 첨가, 반응시키는 등 방법에 의해 할로겐기, 에폭시기, 수산기, 티올기의 관능기를 갖게 할 수도 있다.Examples of the inorganic filler include inorganic fillers such as silicon dioxide, silicon oxide, calcium carbonate, calcium silicate, magnesium carbonate, magnesium oxide, talc, kaolin clay, calcined clay, zinc oxide, zinc sulfate, aluminum oxide, Barium, alumina white, zeolite, silica balloons, glass balloons and the like. Such an inorganic filler may have a functional group of a halogen group, an epoxy group, a hydroxyl group or a thiol group by a method such as adding a silane coupling agent, a titanate coupling agent, an aluminum coupling agent, a zirconate coupling agent, have.
상기 유기 충전제로는 예컨대, 벤조구아나민 수지, 실리콘 수지, 저밀도 폴리에틸렌, 고밀도 폴리에틸렌, 폴리올레핀 수지, 에틸렌·아크릴산 공중합체, 폴리스티렌, 아크릴 공중합체, 폴리메틸메타크릴레이트 수지, 불소 수지, 나일론 12, 나일론 6/66, 페놀 수지, 에폭시 수지, 우레탄 수지, 폴리이미드 수지 등을 들 수 있다.Examples of the organic filler include benzoguanamine resin, silicone resin, low density polyethylene, high density polyethylene, polyolefin resin, ethylene-acrylic acid copolymer, polystyrene, acrylic copolymer, polymethylmethacrylate resin, fluororesin, nylon 12, nylon 6/66, phenol resin, epoxy resin, urethane resin, polyimide resin and the like.
실란 커플링제로는 예컨대, γ-글리시독시프로필트리메톡시실란 또는 γ-클로로프로필트리메톡시실란 등의 실란 커플링제, 테트라(2,2-디알릴옥시메틸-1-부틸)비스(디트리데실)포스파이트티타네이트, 비스(디옥틸파이로포스페이트)에틸렌 티타네이트 등의 티타네이트계 커플링제; 아세토알콕시알루미늄디이소프로필레이트 등의 알루미늄계 커플링제; 아세틸아세톤·지르코늄 착체 등의 지르코늄계 커플링제 등을 들 수 있다.Examples of the silane coupling agent include silane coupling agents such as? -Glycidoxypropyltrimethoxysilane or? -Chloropropyltrimethoxysilane, tetra (2,2-diallyloxymethyl-1-butyl) bis Titanate-based coupling agents such as bis (tridecyl) phosphite titanate and bis (dioctylpyrophosphate) ethylene titanate; aluminum-based coupling agents such as acetoalkoxyaluminum diisopropylate; and zirconium-based coupling agents such as acetylacetone- Coupling agents and the like.
본 발명의 감광성 수지 조성물을 얻기 위해서는 상기 각 성분을 혼합하면 좋고, 혼합의 순서나 방법은 특별히 한정되지 않는다.In order to obtain the photosensitive resin composition of the present invention, the above components may be mixed, and the order and method of mixing are not particularly limited.
본 발명의 감광성 수지 조성물은 실질적으로는 용제를 필요로 하지 않지만, 예컨대, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤류, 초산에틸, 초산부틸 등의 초산에스테르류, 벤젠, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소 등 그 외의 일반적으로 자주 이용되는 유기용제에 의해 본 발명의 감광성 수지 조성물을 희석하여 사용하는 것도 가능하다.The photosensitive resin composition of the present invention does not substantially require a solvent, but examples thereof include ketones such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, acetic acid esters such as ethyl acetate and butyl acetate, aromatic compounds such as benzene, toluene and xylene It is also possible to dilute the photosensitive resin composition of the present invention by using other commonly used organic solvents such as hydrocarbons.
본 발명에서 활성 에너지선은 자외선, 가시광선, 적외선, X선, 감마선, 레이저광선 등의 전자파, 알파선, 베타선, 전자선 등의 입자선 등을 들 수 있다. 그러나 본 발명의 매우 적합한 용도를 고려하면 레이저를 포함한 자외선, 가시광선, 또는 전자선이 바람직하다. 이때, 경화 속도를 실용적으로 할 수 있도록 광중합 개시제(C)를 함유하는 것이 바람직하다.In the present invention, active energy rays include electromagnetic waves such as ultraviolet rays, visible rays, infrared rays, X-rays, gamma rays and laser rays, particle beams such as alpha rays, beta rays and electron rays. However, in consideration of a highly suitable use of the present invention, ultraviolet rays including visible rays, visible rays, or electron rays are preferred. At this time, it is preferable to contain a photopolymerization initiator (C) so that the curing rate can be practically achieved.
각종 도막을 형성시키는 방법으로서는 특별히 한정되는 것은 아니지, 그라비아 등의 요판 인쇄 방식, 후레키소 등의 철판 인쇄 방식, 실크 스크린 등의 공판 인쇄 방식, 오프셋 등의 평판 인쇄 방식, 롤 코터, 나이프 코터, 다이 코터, 커텐 코터, 스핀 코터 등의 각종 도공 방식도 매우 적합하게 사용할 수 있다.There are no particular restrictions on the method of forming various coatings. Examples of the methods for forming various coatings include intaglio printing methods such as gravure printing, iron plate printing methods such as Furekiso, stencil printing methods such as silkscreen, flat plate printing methods such as offset printing, Various coating methods such as coater, curtain coater, spin coater and the like can also be suitably used.
본 발명의 화합물(A)를 함유하는 감광성 수지 조성물은 피막 형성용 재료, 프린트 (배선 회로) 기판 제조시 솔더마스크, 도금 레지스터, 접착제, 렌즈, 디스플레이, 광섬유, 광도파로, 홀로그램 등에 사용할 수 있다. 피막 형성용 재료는 기재 표면을 피복하는 것을 목적으로 이용되는 것이다. 구체적인 용도로는 그라비아 잉크, 후레키소 잉크, 실크 스크린 잉크, 오프셋 잉크 등의 잉크 재료, 하드 코트, 톱 코트, 오버 프린트 니스, 크리야 코트 등의 도공 재료 등이 이에 해당한다. 또한 솔더 레지스트, 에칭 레지스터, 마이크로 머신 용 레지스터 등의 레지스터 재료, 라미네이트용 외 각종 접착제, 점착제 등의 접착 재료, LED용 접착제 등의 각종 접착제, 프레넬 렌즈, 렌치큐라 렌즈, 프리즘 렌즈, 마이크로 렌즈 등의 각종 렌즈, 광섬유의 코어재, 클래드재, 광도파로, 홀로그램 등의 각종 광학 재료 등에도 사용할 수 있다. 또한 수지 조성물을 일시적으로 박리성 기재에 도공해 필름화한 후, 본래 목적으로 하는 기재에 접합하여 피막을 형성시키는 이른바 드라이 필름으로서도 사용할 수 있다.The photosensitive resin composition containing the compound (A) of the present invention can be used for a film forming material, a solder mask, a plating resistor, an adhesive, a lens, a display, an optical fiber, an optical waveguide, a hologram, The film-forming material is used for coating the substrate surface. Specific examples thereof include ink materials such as gravure ink, fresco ink, silkscreen ink and offset ink, and coating materials such as hard coat, top coat, overprint varnish, and crea coat. It is also possible to use various kinds of adhesives such as resist materials such as solder resists, etching resistors and resistors for micromachines, various other adhesives for laminates, adhesive materials such as adhesives, various adhesives such as adhesives for LEDs, Fresnel lenses, wrench cure lenses, prism lenses, Various optical materials such as various lenses of optical fibers, core materials of optical fibers, clad materials, optical waveguides, and holograms. It is also possible to use the resin composition as a so-called dry film in which the resin composition is temporarily coated on a releasable substrate to form a film, and then the film is bonded to a substrate intended for the intended purpose.
본 발명의 에너지선 경화형 수지 조성물은 각 성분을 상법에 따라 혼합 용해하는 것에 의해 조제할 수 있다. 예컨대, 교반장치, 온도계가 부착된 둥근바닥 플라스크에 각 성분을 주입하고, 40~80℃에서 0.5~6시간 교반하는 것에 의해 얻을 수 있다.The energy ray-curable resin composition of the present invention can be prepared by mixing and dissolving each component according to a conventional method. For example, it can be obtained by injecting each component into a round bottom flask equipped with a stirrer and a thermometer, and stirring at 40 to 80 ° C for 0.5 to 6 hours.
본 발명의 에너지선 경화형 수지 조성물의 점도는 광학 렌즈 시트류를 제조할 때 형상의 전사성이나 가공성의 작업성에 적절한 점도로서 E형 점도계(TV-200:동기 산업 사제)를 이용하여 측정한 점도가 25℃에서 50mPa·s 내지 4000mPa·s의 범위인 조성물이 바람직하다.The viscosity of the energy ray-curable resin composition of the present invention is suitable for the workability of shape transferability and workability when producing optical lens sheets, and the viscosity measured using an E-type viscometer (TV-200, And a composition in the range of 50 mPa · s to 4000 mPa · s at 25 ° C. is preferable.
상법에 따라 본 발명의 수지 조성물에 자외선 등의 에너지선을 조사하는 것에 의해 경화하여 얻어진 경화물도 본 발명에 포함된다. 경화물은 굴절률(25℃)이 1.55 이상이며, 본 발명의 수지 조성물을 예컨대, 프레넬 렌즈, 렌치큐라 렌즈, 프리즘 렌즈 등의 형상을 갖는 스탠퍼 상에 도포하여 수지 조성물 층을 마련하고, 그 층 위에 경질 투명 기판인 박 시트(예컨대, 폴리메타크릴수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리스티렌 수지, 폴리에스테르 수지 또는 이들 폴리머의 블렌드 품 등으로부터 이루어지는 기판 또는 필름)을 접착시키고 이어서, 경질 투명 기판측으로부터 고압 수은등 등에 의해 자외선을 조사하여 수지 조성물을 경화시킨 후, 스탠퍼로부터 경화물을 박리하여 얻을 수 있다. 또한 이러한 응용으로서 연속식 가공에 의해 실시할 수도 있다.The present invention also includes a cured product obtained by curing the resin composition of the present invention by irradiation with an energy ray such as ultraviolet ray according to a conventional method. The cured product has a refractive index (25 ° C) of 1.55 or more. The resin composition of the present invention is applied on a stenter having a shape such as a Fresnel lens, a wrench cure lens, a prism lens or the like to provide a resin composition layer, (For example, a polymethacrylic resin, a polycarbonate resin, a polystyrene resin, a polyester resin, or a substrate or a film made of a blend of these polymers) of a hard transparent substrate is adhered on the substrate, And then curing the resin composition by irradiating ultraviolet rays with a mercury lamp or the like, and then peeling the cured product from the stamper. It is also possible to carry out this application by continuous processing.
이와 같이 실시하여 굴절률(25℃)이 1.55 이상으로 이형성, 형태 재현성, 밀착성, 내광성이 뛰어난 프레넬 렌즈, 렌치큐라 렌즈, 프리즘 렌즈, 마이크로 렌즈 등의 광학 렌즈 부분을 형성한 광학 렌즈 시트를 얻을 수 있고, 이들도 본 발명에 포함된다. 또한 굴절률은 압베 굴절률계(제품번호:DR-M2, (주) 아타고제) 등으로 측정할 수 있다.Thus, an optical lens sheet having an optical lens portion such as a Fresnel lens, a wrench cure lens, a prism lens, and a microlens having a refractive index (25 ° C) of 1.55 or more and excellent in releasability, form reproducibility, And these are also included in the present invention. The refractive index can be measured by an Abbe refractometer (product number: DR-M2, manufactured by Atago Co., Ltd.).
본 발명의 에너지선 경화형 수지 조성물은 특히 광학 렌즈 시트용으로 유용하다. 광학 렌즈 시트로는 프레넬 렌즈, 렌치큐라 렌즈, 프리즘 렌즈, 마이크로 렌즈 등의 광학 렌즈가 형성된 시트를 들 수 있다. 광학 렌즈 시트용 이외의 용도로는 각종 코팅제, 접착제 등을 들 수 있다.The energy ray curable resin composition of the present invention is particularly useful for an optical lens sheet. Examples of the optical lens sheet include sheets formed with optical lenses such as a Fresnel lens, a wrench cure lens, a prism lens, and a microlens. Examples of applications other than the optical lens sheet include various coating agents and adhesives.
[실시예][Example]
하기 실시예에 의해 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다. 또한 본 발명은 이하의 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다.The following examples further illustrate the present invention. The present invention is not limited by the following examples.
합성예 1 에폭시 수지(a-1)의 합성Synthesis Example 1 Synthesis of epoxy resin (a-1)
온도계, 냉각관, 교반기를 설치한 플라스크에 질소 가스 파지를 실시하면서 하기 식(2)의 화합물(O-PP 산코 주식회사제) 170g, 에피클로로히드린 370g, 메탄올 74g를 주입하고 용해시켰다. 또한 70℃로 가열하여 플레이크상 수산화나트륨 41g를 90분에 걸쳐 분할 첨가하고 그 후, 다시 70℃로 60분간 반응시켰다. 반응 종료 후, 물 200g로 2회 세정을 실시하여 생성된 염 등을 제거한 후, 가열 감압하(~70℃,-0.08MPa~-0.09MPa), 교반하면서, 3시간으로, 과잉의 에피클로로히드린등을 유거했다. 잔류물에 메틸이소부틸케톤 450g를 부가하고 용해하여 70℃까지 온도상승시켰다. 교반하에 10중량%의 수산화나트륨 수용액 10g를 부가하고 1시간 반응을 실시한 후, 세정수가 중성이 될 때까지 수세를 실시하여 얻어진 용액을 로터리 증발기를 이용하여 감압하에 메틸이소부틸케톤 등을 유거하는 것에 의해 목적하는 에폭시 수지(a) 217g를 얻었다. 얻어진 에폭시 수지(a-1)는 에폭시 당량이 233g/eq. 및 상온에서 액상이었다.170 g of the compound of the following formula (2) (manufactured by O-PP Sanko Co., Ltd.), 370 g of epichlorohydrin and 74 g of methanol were poured into a flask equipped with a thermometer, a cooling tube and a stirrer and dissolved therein. Further, 41 g of sodium hydroxide on flakes was heated to 70 DEG C over 90 minutes, and then reacted at 70 DEG C for 60 minutes. After the completion of the reaction, the reaction mixture was washed twice with 200 g of water to remove the resulting salt and the like, and the reaction mixture was heated under reduced pressure (-70 ° C, -0.08 MPa to -0.09 MPa) And so on. 450 g of methyl isobutyl ketone was added to the residue and dissolved, and the temperature was raised to 70 캜. 10 g of a 10% by weight aqueous solution of sodium hydroxide was added thereto under stirring, and the reaction was carried out for 1 hour. Thereafter, the reaction solution was washed with water until the washing water became neutral. The resulting solution was distilled off under reduced pressure using methyl isobutyl ketone To obtain 217 g of the intended epoxy resin (a). The obtained epoxy resin (a-1) had an epoxy equivalent of 233 g / eq. And liquid at room temperature.
합성예 2 에폭시 수지(a-2)의 합성Synthesis Example 2 Synthesis of epoxy resin (a-2)
온도계, 냉각관, 교반기를 설치한 플라스크에 질소 가스 파지를 실시하면서 하기 식(3)의 화합물(P-PP 산코 주식회사제) 181g, 에피클로로히드린 394g, 메탄올 80g를 주입하고 용해시켰다. 또한 70℃로 가열하여 플레이크상 수산화나트륨 44g를 90분에 걸쳐 분할 첨가하고, 이어서 다시 70℃로 60분간 반응시켰다. 반응 종료 후, 물 200g으로 2회 세정을 실시하여 생성한 염 등을 제거한 후, 가열 감압하(~70℃,-0.08MPa~-0.09MPa), 교반하면서, 3시간으로, 과잉의 에피클로로히드린 등을 유거했다. 잔류물에 메틸이소부틸케톤 480g를 부가하고 용해하여, 70℃까지 온도상승시켰다. 교반하에서 10중량%의 수산화나트륨 수용액 12g를 부가하고 1시간 반응을 실시한 후, 세정수가 중성이 될 때까지 수세를 실시하여 얻어진 용액을 로터리 증발기를 이용해 감압하에 메틸이소부틸케톤 등을 유거하는 것에 의해 목적하는 에폭시 수지(a-2) 227g를 얻었다. 얻어진 에폭시 수지(a-2)는 에폭시 당량이 242g/eq. 및, 상온에서 백색 결정상이었다.181 g of the compound of the formula (3) (P-PP Sanko Co., Ltd.), 394 g of epichlorohydrin and 80 g of methanol were poured and dissolved in a flask equipped with a thermometer, a cooling tube and a stirrer while purging with nitrogen gas. Further, 44 g of sodium hydroxide on flaky was heated to 70 캜 over 90 minutes, and then reacted again at 70 캜 for 60 minutes. After completion of the reaction, the reaction mixture was washed twice with 200 g of water to remove the resulting salt and the like, and the reaction mixture was heated under reduced pressure (-70 ° C., -0.08 MPa to -0.09 MPa) And so on. 480 g of methyl isobutyl ketone was added to the residue and dissolved, and the temperature was raised to 70 캜. 12 g of a 10% by weight aqueous solution of sodium hydroxide was added under stirring, and the reaction was carried out for 1 hour. Thereafter, the reaction solution was washed with water until the washing water became neutral, and methyl isobutyl ketone or the like was distilled off under reduced pressure using a rotary evaporator 227 g of the desired epoxy resin (a-2) was obtained. The obtained epoxy resin (a-2) had an epoxy equivalent of 242 g / eq. And a white crystalline phase at room temperature.
실시예 1(화합물(A-1)의 합성)Example 1 (Synthesis of Compound (A-1)
교반 장치, 환류관을 설치한 1L 플라스크 중에 합성예 1에서 얻어진 에폭시 수지(a-1)를 139.8g(0.6eq.), 열중합 금지제로서 2,6-디-tert-부틸-p-크레졸을 0.55g, 분자 중에 에틸렌성 불포화기를 갖는 모노카르복시산 화합물(b)로서 아크릴산을 43.3g(0.6eq.), 반응 촉매로서 트리페닐포스핀을 0.55g 주입하고, 98℃로 30시간 반응시켜, 산가를 측정한 바 2.4mg·KOH/g으로 제 1 반응을 종료시켰다.139.8 g (0.6 eq.) Of the epoxy resin (a-1) obtained in Synthetic Example 1 was added to a 1 L flask equipped with a stirrer and a reflux tube, and 2,6-di-tert-butyl- (0.6 eq.) Of acrylic acid as a monocarboxylic acid compound (b) having an ethylenic unsaturated group in the molecule and 0.55 g of triphenylphosphine as a reaction catalyst were charged and reacted at 98 占 폚 for 30 hours to obtain an acid value And the first reaction was terminated with 2.4 mg KOH / g.
제 1 반응 종료 후, 반응 온도를 40℃로 하고, 반응 희석제로서 아크릴레이트 모노머인 2-페닐페놀의 에틸렌옥사이드 부가물의 말단아크릴산에스테르화물(일본 화약(주) 제 OPP-1)을 151.1g 부가하고 교반 혼합했다. 그 다음 우레탄 반응 촉매로서 디부틸주석디라우레이트를 0.057g 부가하고 방향족계 폴리이소시아네이트 화합물(c)로서 2,4-톨릴렌디이소시아네이트를 43.6g(0.5eq.)을 부가하여 반응 온도를 60℃까지 온도상승시키고, 24시간 반응시켜 NCO(%)를 측정한 바 0.00%로 반응을 종료시켰다. 이 공정에 의해 본 발명의 화합물(A-1)을 60wt.% 함유하는 투명 담황색 수지상의 생성물을 371g 얻었다.After the completion of the first reaction, 151.1 g of a terminal acrylic acid ester of an ethylene oxide adduct of 2-phenylphenol (OPP-1 made by Nippon Gakuin KK) as an acrylate monomer was added as a reaction diluent at a reaction temperature of 40 캜 Followed by stirring and mixing. Then, 0.057 g of dibutyltin dilaurate was added as a urethane reaction catalyst and 43.6 g (0.5 eq.) Of 2,4-tolylene diisocyanate was added as an aromatic polyisocyanate compound (c) The temperature was raised, and the reaction was carried out for 24 hours to measure NCO (%). The reaction was terminated at 0.00%. By this step, 371 g of a transparent pale yellow resin-like product containing 60% by weight of the compound (A-1) of the present invention was obtained.
실시예 2(화합물(A-2)의 합성)Example 2 (Synthesis of compound (A-2)
교반 장치, 환류관을 설치한 1L 플라스크 중에, 합성예 2에서 얻어진 에폭시 수지(a-2)를 145.2g(0.6eq.), 열중합 금지제로서 2,6-디-tert-부틸-p-크레졸을 0.57g, 분자 중에 에틸렌성 불포화기를 갖는 모노카르복시산 화합물(b)로서 아크릴산을 43.3g(0.6eq.), 반응 촉매로서 트리페닐포스핀을 0.57g 주입하고, 98℃에서 30시간 반응시켜 산가를 측정한 바 1.2mg·KOH/g로 제 1 반응을 종료시켰다.(0.6 eq.) Of the epoxy resin (a-2) obtained in Synthetic Example 2 and 2,6-di-tert-butyl-p-toluenesulfonic acid as a heat polymerization inhibitor were placed in a 1 L flask equipped with a stirrer, (0.6 eq.) Of acrylic acid as a monocarboxylic acid compound (b) having an ethylenic unsaturated group in the molecule and 0.57 g of triphenylphosphine as a reaction catalyst were charged and reacted at 98 占 폚 for 30 hours to obtain an acid value And the first reaction was terminated with 1.2 mg KOH / g.
제 1 반응 종료후, 반응 온도를 40℃로 하고, 반응 희석제로서 아크릴레이트 모노머인 2-페닐페놀의 에틸렌옥사이드 부가물의 말단아크릴산에스테르화물(일본 화약(주) 제 OPP-1)을 232.0g 부가하고 교반 혼합했다. 그 다음 우레탄 반응 촉매로서 디부틸주석디라우레이트를 0.070g 부가하고 방향족계 폴리이소시아네이트 화합물(c)로서 2,4-톨릴렌디이소시아네이트를 43.6g(0.5eq.)을 부가하여 반응 온도를 60℃까지 온도상승시키고, 24시간 반응시켜 NCO(%)를 측정한 바 0.00%로 반응을 종료시켰다. 이 공정에 의해 본 발명의 화합물(A-2)을 50wt.% 함유하는 투명 담황색 수지상의 생성물을 460g 얻었다.After the completion of the first reaction, 232.0 g of a terminal acrylic acid ester of an ethylene oxide adduct of 2-phenylphenol (OPP-1, manufactured by Nippon Yakuzaku Co., Ltd.) as an acrylate monomer was added as a reaction diluent at a reaction temperature of 40 캜 Followed by stirring and mixing. Then, 0.070 g of dibutyltin dilaurate was added as a urethane reaction catalyst, and 43.6 g (0.5 eq.) Of 2,4-tolylene diisocyanate was added as the aromatic polyisocyanate compound (c) The temperature was raised, and the reaction was carried out for 24 hours to measure NCO (%). The reaction was terminated at 0.00%. By this step, 460 g of a transparent yellowish resinous product containing 50% by weight of the compound (A-2) of the present invention was obtained.
비교예 1(화합물(H-1)의 합성)Comparative Example 1 (Synthesis of Compound (H-1)
교반 장치, 환류관을 설치한 1L 플라스크 중에, 합성예 1에서 얻어진 에폭시 수지(a)를 139.8g(0.6eq.), 열중합 금지제로서 2,6-디-tert-부틸-p-크레졸을 0.55g, 분자 중에 에틸렌성 불포화기를 갖는 모노카르복시산 화합물(b)로서 아크릴산을 43.3g(0.6eq.), 반응 촉매로서 트리페닐포스핀을 0.55g 주입하고, 98℃로 30시간 반응시켜 산가를 측정한 바 2.4mg·KOH/g로 반응을 종료시켰다. 이 공정에 의해 투명 담황색 수지상의 화합물(H-1)을 180g 얻었다.(0.6 eq.) Of the epoxy resin (a) obtained in Synthesis Example 1 and 2,6-di-tert-butyl-p-cresol as a thermal polymerization inhibitor were added to a 1 L flask equipped with a stirrer and a reflux tube 43.3 g (0.6 eq.) Of acrylic acid as a monocarboxylic acid compound (b) having an ethylenically unsaturated group in the molecule and 0.55 g of triphenylphosphine as a reaction catalyst were charged and reacted at 98 DEG C for 30 hours to measure an acid value The reaction was terminated at 2.4 mg KOH / g. By this step, 180 g of a transparent pale yellow resinous compound (H-1) was obtained.
비교예 2(화합물(H-2)의 합성)Comparative Example 2 (Synthesis of Compound (H-2)
교반 장치, 환류관을 설치한 1L 플라스크 중에 합성예 1에서 얻어진 에폭시 수지(a)를 139.8g(0.6eq.), 열중합 금지제로서 2,6-디-tert-부틸-p-크레졸을 0.55g, 분자 중에 에틸렌성 불포화기를 갖는 모노카르복시산 화합물(b)로서 아크릴산을 43.3g(0.6eq.), 반응 촉매로서 트리페닐포스핀을 0.55g 주입하고, 98℃로 30시간 반응시켜 산가를 측정한 바 2.4mg·KOH/g로 제 1 반응을 종료시켰다.139.8 g (0.6 eq.) Of the epoxy resin (a) obtained in Synthesis Example 1 and 0.5 g of 2,6-di-tert-butyl-p-cresol as a thermal polymerization inhibitor were placed in a 1 L flask equipped with a stirrer and a reflux tube, 43.3 g (0.6 eq.) of acrylic acid as a monocarboxylic acid compound (b) having an ethylenic unsaturated group in the molecule and 0.55 g of triphenylphosphine as a reaction catalyst were charged and reacted at 98 DEG C for 30 hours to measure an acid value The first reaction was terminated with 2.4 mg KOH / g of bar.
제 1 반응 종료후, 반응 온도를 40℃로 하고 반응 희석제로서 메틸이소부틸케톤을 159.1g 부가하여 교반 혼합하였다. 다음 우레탄 반응 촉매로서 디부틸주석디라우레이트를 0.06g 부가하고 폴리이소시아네이트 화합물로서 지방족디이소시아네이트의 이소포론디이소시아네이트를 55.6g(0.5eq.)을 부가하여 반응 온도를 60℃까지 온도상승시키고, 24시간 반응시켜 NCO(%)를 측정한 바 0.00%로 반응을 종료시켰다. 이 공정에 의해 화합물(H-2)을 60중량% 함유하는 투명 담황색 수지상의 생성물을 390g 얻었다.After the completion of the first reaction, the reaction temperature was adjusted to 40 占 폚, 159.1 g of methyl isobutyl ketone was added as a reaction diluent, and the mixture was stirred and mixed. Then, 0.06 g of dibutyltin dilaurate was added as a urethane reaction catalyst, 55.6 g (0.5 eq.) Of isophorone diisocyanate of aliphatic diisocyanate was added as a polyisocyanate compound, the reaction temperature was raised to 60 ° C, and 24 The reaction was terminated at 0.00% by measuring NCO (%). By this step, 390 g of a transparent yellow resin-like product containing 60% by weight of the compound (H-2) was obtained.
실시예, 비교예의 화합물의 액굴절률을 측정한 결과, 그 액굴절률은 표 1과 같이 나타났다. (모노머 및 용제 희석 생성물은 화합물 농도를 3점 변동시키도록 희석한 샘플을 작성하고, 그 액굴절률을 3점 측정하여 화합물 그 자체의 액굴절률을 계산했다. 측정 장치:다파장 압베 굴절계 DR-M2 주식회사 아타고제, 측정 파장:589nm(D선))The liquid refractive indexes of the compounds of Examples and Comparative Examples were measured, and the liquid refractive indexes thereof were as shown in Table 1. (The monomer and solvent dilution products were diluted so that the compound concentration was changed by 3 points, and the refractive index of the compound itself was measured by measuring the refractive index of the solution by three points.) Measurement apparatus: Multi-wavelength Abbe refractometer DR-M2 Manufactured by Atago Co., Ltd., measurement wavelength: 589 nm (D line))
표 1Table 1
이상의 결과로부터 본 발명의 화합물(A)는 수지 단독으로 고굴절률이며, 투명성을 갖고, 프레넬 렌즈, 렌치큐라 렌즈, 프리즘 렌즈, 마이크로 렌즈 등의 각종 렌즈, 광섬유의 코어재, 클래드재, 광도파로, 홀로그램, 디스플레이 부재 등의 각종 광학 재료 등의 광학 용도로 유용한 것을 알 수 있다.From the above results, it can be seen from the above results that the compound (A) of the present invention has a high refractive index and transparency alone, and can be used for various lenses such as a Fresnel lens, a wrench cure lens, a prism lens and a microlens, a core material of an optical fiber, , A hologram, a display member, and other optical materials.
실시예 3~7, 비교예 3~4Examples 3 to 7 and Comparative Examples 3 to 4
실시예에서 합성한 화합물(A-1, A-2) 및 비교예 1 및 2에서 얻어진 화합물(H-1, H-2)을 표 2에 나타낸 조성으로 배합한 감광성 수지 조성물(실시예에서 합성한 화합물은 반응성 희석제로서 OPP-1을 함유하기 때문에 표 2의 조성이 되도록 배합하고, 비교예 2에서 합성한 화합물(H-2)은 용제로서 메틸이소부틸케톤을 사용하며, 미리 H-2는 OPP-1로 표 2에 나타낸 배합 조성이 되도록 희석하고, 용제인 메틸이소부틸케톤을 감압유거 한 것을 이하 사용하였다)을 바 코터(No. 20)을 이용하여 역접착 처리 폴리에스테르 필름(동양방(주) 제:A-4300, 막 두께 188μm)에 도포하고, 80℃의 건조로 중에 1분간 방치한 후, 공기 분위기하에서 120W/cm2의 고압 수은 등을 이용하여 램프 높이 10cm의 거리로부터 5m/분의 반송 속도로 자외선을 조사하여, 경화 피막(10~15μm)을 갖는 필름을 얻었다.A photosensitive resin composition prepared by compounding the compounds (A-1 and A-2) synthesized in the Examples and the compounds (H-1 and H-2) obtained in Comparative Examples 1 and 2 in the composition shown in Table 2 Since one compound contains OPP-1 as a reactive diluent, it is blended so as to have the composition shown in Table 2, and the compound (H-2) synthesized in Comparative Example 2 uses methyl isobutyl ketone as a solvent. H- (Hereinafter referred to as " OPP-1 ") was diluted so as to have the composition shown in Table 2, and methyl isobutyl ketone as a solvent was distilled off under reduced pressure. (Co., Ltd.): a-4300, the film was coated in a thickness 188μm), and allowed to stand 1 minutes while in the 80 ℃ dried and under an air atmosphere using a high pressure mercury of 120W / cm 2 5m from the distance of the lamp height 10cm / Minute, thereby forming a cured coating (10 to 15 mu m) To give a name.
표 2Table 2
*1:OPP-1:일본화약(주) 제(2-페닐페놀의 에틸렌옥사이드 부가물의 말단 아크릴산에스테르화물)* 1: OPP-1: terminal acrylic acid ester of ethylene oxide adduct of 2-phenylphenol (manufactured by Nippon Yakushi Kogyo Co., Ltd.)
*2:DPHA:일본화약(주) 제, KAYARAD DPHA-40H(다관능우레탄아크릴레이트)* 2: DPHA: KAYARAD DPHA-40H (polyfunctional urethane acrylate) manufactured by Nippon Yakuza Co.,
*3:PET-30:일본화약(주) 제, KAYARAD PET-30(펜타에리트리톨트리아크릴레이트/펜타에리트리톨테트라아크릴레이트의 혼합물)* 3: PET-30: KAYARAD PET-30 (a mixture of pentaerythritol triacrylate / pentaerythritol tetraacrylate)
*4:Irg.184(이르가큐아 184):시바·스페셜티·케미칼즈 제(1-히드록시시클로헥실페닐케톤)* 4: Irg.184 (Irgacure 184): manufactured by Ciba Specialty Chemicals (1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone)
*5:MEK:2-부타논* 5: MEK: 2-butanone
시험예Test Example
실시예 3~7 또는 비교예 3~4에서 얻어진 필름에 대하여 하기와 같은 항목을 평가하고 그 결과를 표 3에 나타내었다.The following items were evaluated for the films obtained in Examples 3 to 7 or Comparative Examples 3 to 4, and the results are shown in Table 3.
(연필 경도)(Pencil hardness)
JIS K 5400에 따라 연필 긁기도구(引っかき)를 이용하여 도공 필름의 연필 경도를 측정했다. 즉, 측정하는 경화 피막을 갖는 폴리에스테르 필름 상에, 연필을 45번 각도로 위로부터 1kg의 하중을 걸어 5mm 정도 긁고, 상처 자국의 부착 상태를 확인했다. 5회 측정을 실시하여 상처 자국 없음의 회수를 센다.The pencil hardness of the coating film was measured using a pencil scratching tool (Jukka) according to JIS K 5400. That is, on a polyester film having a cured coating film to be measured, a pencil was rubbed with a load of 1 kg from an upper side at an angle of 45 to scratch about 5 mm, and the attachment state of the scratch marks was confirmed. Measure 5 times and count the number of scratch marks.
평가 5/5:5회 중 5회 모두 상처 자국 없음Rating 5/5: 5 out of 5 times No scars
0/5:5회 중 모두 상처 자국 발생0/5: All 5 incidents
(내찰상 시험)(Scratch test)
스틸울#0000 상에서 200g/cm2의 하중을 걸어 10회 왕복시켜 상처 자국의 상황을 목시로 판단했다.On a steel wool # 0000, a load of 200 g / cm 2 was applied, and the wool was reciprocated ten times to judge the condition of the wound marks as a visual indication.
평가 5: 상처 자국의 발생이 전혀 관찰되지 않았다.Evaluation 5: No occurrence of scars was observed.
평가 4: 1~5개의 상처 자국 발생이 관찰되었다.Evaluation 4: One to five wound marks were observed.
평가 3: 6~50개의 상처 자국 발생이 관찰되었다.Evaluation 3: 6 to 50 wound marks were observed.
평가 2: 51~100개의 상처 자국 발생이 관찰되었다.Evaluation 2: 51-100 incidence of scarring was observed.
평가 1: 도막 박리가 관찰되었다.Evaluation 1: Peeling of the coating film was observed.
(밀착성)(Adhesion)
JIS K 5400에 따라 필름의 표면에 1mm 간격으로 세로, 가로 11개의 조각눈(切れ目)을 넣어 100개의 바둑판눈을 만든다. 셀로판 테이프를 그 표면에 밀착시킨 후 단번에 벗겼을 때 박리하지 않고 잔존한 매스 눈의 개수를 표시했다.According to JIS K 5400, 11 pieces of vertical and horizontal pieces are cut in 1 mm intervals on the surface of the film to form 100 checkerboard eyes. The cellophane tape was brought into close contact with the surface of the cellophane tape, and the number of mass eyes remained after peeling at once was not peeled off.
(컬)(curl)
측정하는 경화 피막을 갖는 폴리에스테르 필름을 5cm×5cm로 절단하고, 80℃의 건조로에 1시간 방치한 후, 실온까지 되돌렸다. 수평인 대상에서 떠오른 4변 각각의 높이를 측정하여 평균치를 측정치(단위:mm)로 했다. 이때, 기재 자신 컬은 0mm였다.The polyester film having the cured coating film to be measured was cut into 5 cm x 5 cm, left in a drying furnace at 80 캜 for 1 hour, and then returned to room temperature. The height of each of the four sides rising from the horizontal object was measured, and the average value was set as a measurement value (unit: mm). At this time, the curl of the substrate itself was 0 mm.
(외관)(Exterior)
표면의 크랙, 백화, 흐림 등 상태를 목시로 판단했다.Cracks, whitening, and cloudiness on the surface were judged to be visually observable.
평가 ○:양호Evaluation ○: Good
△:미소 크랙 발생?: Small crack occurred
×:현저한 크랙 발생X: Significant cracks
표 3Table 3
에폭시 수지(a)가 오르토 체(실시예 3~5), 파라 체(실시예 6~7) 모두 비교예 3~4와 비교하여 경도, 내찰상성, 밀착성이 뛰어나고 컬 높이가 동일한 정도인 것으로부터 경화 수축은 적은 것을 알 수 있다. 실시예 5는 방향족 폴리이소시아네이트 화합물(c)를 이용하지 않는 비교예 3과 비교할 때, 실시예 5는 경도, 내찰상성, 밀착성이 현저하게 뛰어나고 경화 수축은 적은 것을 알 수 있다. 또한 실시예 5를 지방족 폴리이소시아네이트 화합물을 이용한 비교예 4와 비교할 때, 실시예 5는 경도, 내찰상성, 밀착성이 뛰어나고 경화 수축은 적은 것을 알 수 있다. 이상의 결과로부터 투명성을 갖는 본 발명의 화합물(A)를 함유하는 본 발명의 수지 조성물은 경화 수축이 적고, 그 경화물은 충분한 경도를 가지며, 높은 밀착성을 가지기 때문에 투명성을 필요로 하는 코팅제로서 유용하다.Compared with Comparative Examples 3 to 4, the epoxy resin (a) is superior in hardness, scratch resistance and adhesion and has the same curl height as the orthoester (Examples 3 to 5) and para-isomers (Examples 6 to 7) It can be seen that the hardening shrinkage is small. As compared with Comparative Example 3 in which the aromatic polyisocyanate compound (c) was not used, in Example 5, it was found that Example 5 was remarkably excellent in hardness, scratch resistance and adhesion, and hardened and shrunk. Further, when Example 5 is compared with Comparative Example 4 using an aliphatic polyisocyanate compound, it can be seen that Example 5 is excellent in hardness, scratch resistance, adhesion, and hardening shrinkage. From the above results, the resin composition of the present invention containing the compound (A) of the present invention having transparency is useful as a coating agent requiring transparency because it has less curing shrinkage and the cured product has sufficient hardness and high adhesiveness .
다음, 이하의 실시예에 나타내는 바와 같은 조성(수치는 중량부를 나타낸다)으로 본 발명의 자외선 경화성 수지 조성물 및 경화물을 얻었다. 또한 수지 조성물 및 경화막에 대한 평가방법 및 평가 기준은 하기와 같다.Next, an ultraviolet-curing resin composition and a cured product of the present invention were obtained with the compositions shown in the following examples (numerical values indicate parts by weight). The evaluation methods and evaluation criteria for the resin composition and the cured film are as follows.
(1) 점도:E형 점도계(TV-200:동기 산업(주) 제)을 이용하여 25℃에서 측정했다.(1) Viscosity: Measured at 25 캜 using an E-type viscometer (TV-200, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.).
(2) 이형성:경화한 수지를 금형으로부터 이형시킬 때의 난이도를 나타낸다.(2) Dissimilarity: It represents the degree of difficulty when releasing the cured resin from the mold.
○····금형으로부터의 이형이 양호하다.○ · · · Releasing from the mold is good.
△····이형이 약간 곤란 또는 이형시에 박리 음이 있다.DELTA ... ... There are some difficulties in releasing or peeling in releasing.
×····이형이 곤란 또는 형태 나머지가 있다.× · · · · · · · · · · · · · · · · · · · · · · · · · · · · · · · · · · · · · · · · · · · · · · ·
(3) 형태 재현성:경화한 자외선 경화성 수지층의 표면 형상과 금형의 표면 형상을 관찰했다.(3) Form reproducibility: The surface shape of the cured ultraviolet ray-curable resin layer and the surface shape of the mold were observed.
○····재현성 양호하다.Good reproducibility.
×····재현성이 불량이다.× ···· Reproducibility is poor.
(4) 밀착성:기재 상에 수지 조성물을 막 두께 약 50μm 정도로 도포하고, 다음 고압 수은등(80W/cm, 오존레스)으로 1000mJ/cm2 조사를 실시하여 경화시킨 테스트 부분을 제작하고, JIS K5600-5-6에 준해 밀착성 평가를 실시했다.(4) Adhesion: coating a resin composition on a base film to be about 50μm thick, and then a high pressure mercury lamp (80W / cm, an ozone-less) to 1000mJ / cm 2 to manufacture a test piece was carried out by hardening the irradiation, and JIS K5600- The adhesion was evaluated in accordance with 5-6.
평가 결과는 전혀 벗겨짐이 없는 0을 ◎로 하고, 1~2를 ○으로 하며, 3~5를 ×로 했다.The evaluation result was 0 for no peeling at all, 1 for 2 and 3 for 5, respectively.
(5) 굴절률(25℃):경화한 자외선 경화성 수지층의 굴절률(25℃)을 압베 굴절률계(DR-M2:(주) 아타고제)로 측정했다.(5) Refractive index (25 占 폚): The refractive index (25 占 폚) of the cured ultraviolet-curable resin layer was measured with an Abbe's refractive index meter (DR-M2; manufactured by Atago Co.).
(6) 유리 전이점 온도(Tg):경화한 자외선 경화성 수지층의 Tg점을 점탄성 측정 시스템(DMS-6000:세이코 전자공업(주) 제)에서 인장 모드, 주파수 1Hz에서 측정했다.(6) Glass Transition Point Temperature (Tg): The Tg point of the cured ultraviolet ray-curable resin layer was measured in a viscoelasticity measuring system (DMS-6000, manufactured by Seiko Electronics Industry Co., Ltd.) at a frequency of 1 Hz.
(7) 내광성:경화한 자외선 경화성 수지층을 EYE SUPER UV TESTER SUV-W11(이와사키전기제)에서 60℃, 60%RH 조건으로 2시간의 내광시험을 실시한 후, 막 상태를 목시로 평가했다.(7) Light fastness: The hardened ultraviolet ray-curable resin layer was subjected to light fastness test at 60 DEG C and 60% RH for 2 hours in EYE SUPER UV TESTER SUV-W11 (manufactured by Iwasaki Kikai Co., Ltd.).
○····약간 착색은 볼 수 있지만 투명성 양호하다.○ · · · · A little coloring can be seen, but transparency is good.
×····착색이 현저한 상태, 투명성 불량이 확인된다.× · · · · · · · · · · · · · · · · · · · · · · · · · · · · · · · · · · · · · /
실시예 8Example 8
성분(A)로서 실시예 1에서 얻어진 화합물(A-1) 함유 생성물 16.7부, 성분(C)로서 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온 3부, 성분(D)로서 o-페닐페놀모노에톡시아크릴레이트 70.3부, 성분(E)로서 아크릴로일모르폴린 10부 및 트리스(2-아크릴로일옥시에틸)이소시아누레이트 3부를 60℃로 가온, 혼합하여 본 발명의 수지 조성물을 얻었다. 이 수지 조성물의 점도는 195mPa·s였다. 또한 이 수지 조성물을 경화시킨 막의 굴절률(25℃)은 1.606이며, 유리 전이점 온도(Tg)는 50℃이었다.16.7 parts of the compound (A-1) -containing product obtained in Example 1 as Component (A), 3 parts of 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropane- , 70.3 parts of o-phenylphenol monoethoxyacrylate, 10 parts of acryloylmorpholine as component (E) and 3 parts of tris (2-acryloyloxyethyl) isocyanurate were heated to 60 ° C, To obtain a resin composition of the present invention. The viscosity of this resin composition was 195 mPa · s. The refractive index (25 占 폚) of the film cured with the resin composition was 1.606 and the glass transition temperature (Tg) was 50 占 폚.
이 수지 조성물을 프리즘 렌즈 금형 위에 막 두께가 50μm가 되도록 도포하고, 그 위에 기재로서 폴리카보네이트 필름 500μm 두께를 접착시키며, 그 위에서부터 고압 수은 램프로 1000mJ/cm2의 조사량의 자외선을 조사하여 경화시킨 후 박리하여 프리즘 렌즈 시트를 얻었다.Applied to this resin composition has a thickness of 50μm on a prism lens mold, and as the base material over the polycarbonate film 500μm sikimyeo adhesive thickness, the above that since curing by irradiating the irradiation quantity ultraviolet rays of 1000mJ / cm 2 by a high pressure mercury lamp And then peeled off to obtain a prism lens sheet.
평가 결과Evaluation results
이형성:○, 형태 재현성:○, 밀착성:○, 내광성:○이었다.Formability:?, Shape reproducibility:?, Adhesion:?, And light resistance:?.
실시예 9Example 9
성분(A)로서 실시예 1에서 얻어진 화합물(A-1) 함유 생성물 대신 실시예 2에서 얻어진 화합물(A-2) 함유 생성물 20부, o-페닐페놀모노에톡시아크릴레이트 70.3부 대신 67부를 이용하는 것 이외에는 실시예 8과 동일하게 하여 본 발명의 수지 조성물을 얻었다. 이 수지 조성물의 점도는 200mPa·s였다. 또한 이 수지 조성물을 경화시킨 막의 굴절률(25℃)은 1.607이며, 유리 전이점 온도(Tg)는 51℃이었다.20 parts of the compound (A-2) -containing product obtained in Example 2 and 67 parts of o-phenylphenol monoethoxyacrylate instead of 70.3 parts of the compound (A-1) -containing product obtained in Example 1 were used as the component (A) The resin composition of the present invention was obtained in the same manner as in Example 8. The viscosity of this resin composition was 200 mPa · s. The refractive index (25 占 폚) of the film obtained by curing the resin composition was 1.607 and the glass transition temperature (Tg) was 51 占 폚.
이 수지 조성물을 프리즘 렌즈 금형 위에 막 두께가 50μm가 되도록 도포하고 그 위에 기재로서 폴리카보네이트 필름 500μm 두께를 접착시키며 그 위에서부터 고압 수은 램프로 1000mJ/cm2의 조사량의 자외선을 조사하여 경화시킨 후 박리하여 프리즘 렌즈 시트를 얻었다.This resin composition was coated on a prism lens mold so as to have a film thickness of 50 mu m, and a polycarbonate film having a thickness of 500 mu m was adhered as a base thereon. Ultraviolet rays of 1000 mJ / cm < 2 & To obtain a prism lens sheet.
평가 결과Evaluation results
이형성:○, 형태 재현성:○, 밀착성:○, 내광성:○이었다.Formability:?, Shape reproducibility:?, Adhesion:?, And light resistance:?.
실시예 10Example 10
성분(A)로서 실시예 2로 얻어진 화합물(A-2) 함유 생성물 51부, 성분(C)로서 1-히드록시시클로헥실페닐케톤 3부, 성분(E)로서 아크릴로일모르폴린 20부, 트리스(2-아크릴로일옥시에틸)이소시아누레이트 5부 및 비스페놀 A(EO4 몰 변성)디아크릴레이트 20부 및 비스페놀 A 에폭시아크릴레이트 4부를 60℃로 가온, 혼합하여 본 발명의 수지 조성물을 얻었다. 이 수지 조성물의 점도는 2600mPa·s였다. 또한 이 수지 조성물을 경화시킨 막의 굴절률(25℃)은 1.594이며, 유리 전이점 온도(Tg)는 88℃이었다.51 parts of the compound (A-2) -containing product obtained in Example 2, 3 parts of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone as the component (C), 20 parts of acryloylmorpholine as the component (E) 5 parts of tris (2-acryloyloxyethyl) isocyanurate, 20 parts of bisphenol A (EO4 molar modified) diacrylate and 4 parts of bisphenol A epoxy acrylate were heated to 60 DEG C and mixed to prepare a resin composition of the present invention . The viscosity of this resin composition was 2600 mPa · s. The refractive index (25 占 폚) of the film obtained by curing the resin composition was 1.594 and the glass transition temperature (Tg) was 88 占 폚.
얻어진 수지 조성물을 프레넬 렌즈 금형 위에 막 두께가 200μm가 되도록 도포하고 그 위에 기재로서 메틸메타크릴레이트/스티렌 기재 2mm를 접착시키며 그 위에서부터 고압 수은 램프로 1000mJ/cm2의 조사량의 자외선을 조사하여 경화시킨 후 박리하여 프레넬 렌즈를 얻었다.The resulting resin composition was coated on a Fresnel lens mold so as to have a film thickness of 200 mu m, and 2 mm of methyl methacrylate / styrene base material was adhered as a base thereon. Ultraviolet rays of 1000 mJ / cm < 2 & After curing and peeling, a Fresnel lens was obtained.
평가 결과Evaluation results
이형성:○, 형태 재현성:○, 밀착성:○, 내광성:○이었다.Formability:?, Shape reproducibility:?, Adhesion:?, And light resistance:?.
실시예 11Example 11
실시예 8에서 성분(D)를 o-페닐페놀모노에톡시아크릴레이트 40.3부 및 p-페닐페놀에폭시아크릴레이트 30부로 변경하는 것 이외에는 실시예 8과 동일하게 하여 본 발명의 수지 조성물을 얻었다. 이 수지 조성물의 점도는 630mPa·s였다. 또한 이 수지 조성물을 경화시킨 막의 굴절률(25℃)은 1.600이며, 유리 전이점 온도(Tg)는 54℃였다.The resin composition of the present invention was obtained in the same manner as in Example 8 except that the component (D) in Example 8 was changed to 40.3 parts of o-phenylphenol monoethoxyacrylate and 30 parts of p-phenylphenol epoxy acrylate. The viscosity of this resin composition was 630 mPa · s. The refractive index (25 占 폚) of the film obtained by curing the resin composition was 1.600 and the glass transition temperature (Tg) was 54 占 폚.
이 수지 조성물을 프리즘 렌즈 금형 위에 막 두께가 50μm가 되도록 도포하고, 그 위에 기재로서 폴리카보네이트 필름 500μm 두께를 접착시키며 그 위에서부터 고압 수은 램프로 1000mJ/cm2의 조사량의 자외선을 조사하여 경화시킨 후 박리하여 프리즘 렌즈 시트를 얻었다.This resin composition was coated on a prism lens mold so as to have a film thickness of 50 m, a polycarbonate film having a thickness of 500 m was adhered as a base thereon, and irradiated with ultraviolet rays of 1000 mJ / cm < 2 & And peeled off to obtain a prism lens sheet.
평가 결과Evaluation results
이형성:○, 형태 재현성:○, 밀착성:○, 내광성:○이었다.Formability:?, Shape reproducibility:?, Adhesion:?, And light resistance:?.
실시예 12Example 12
실시예 9에서 성분(D)를 o-페닐페놀모노에톡시아크릴레이트 27부 및 o-페닐페놀에폭시아크릴레이트 30부로 변경하는 것 이외에는 실시예 9와 동일하게 하여 본 발명의 수지 조성물을 얻었다. 이 수지 조성물의 점도는 693mPa·s였다. 또한 이 수지 조성물을 경화시킨 막의 굴절률(25℃)은 1.604이며, 유리 전이점 온도(Tg)는 56℃이었다.The resin composition of the present invention was obtained in the same manner as in Example 9 except that the component (D) was changed to 27 parts of o-phenylphenol monoethoxyacrylate and 30 parts of o-phenylphenol epoxy acrylate in Example 9. The viscosity of this resin composition was 693 mPa · s. The refractive index (25 占 폚) of the film cured with this resin composition was 1.604 and the glass transition temperature (Tg) was 56 占 폚.
이 수지 조성물을 프리즘 렌즈 금형 위에 막 두께가 50μm가 되도록 도포하고, 그 위에 기재로서 폴리카보네이트 필름 500μm 두께를 접착시키며 그 위에서부터 고압 수은 램프로 1000mJ/cm2의 조사량의 자외선을 조사하여 경화시킨 후 박리하여 프리즘 렌즈 시트를 얻었다.This resin composition was coated on a prism lens mold so as to have a film thickness of 50 m, a polycarbonate film having a thickness of 500 m was adhered as a base thereon, and irradiated with ultraviolet rays of 1000 mJ / cm < 2 & And peeled off to obtain a prism lens sheet.
평가 결과Evaluation results
이형성:○, 형태 재현성:○, 밀착성:◎, 내광성:○이었다.Deformability:?, Shape reproducibility:?, Adhesion:?, And light resistance:?.
실시예 13Example 13
실시예 8의 수지 조성물을 프리즘 렌즈 금형 위에 막 두께가 50μm가 되도록 도포하고, 그 위에 기재로서 역접착 PET 필름 100μm 두께(동양방A4300)를 접착시키며 그 위에서부터 고압 수은 램프로 600mJ/cm2의 조사량의 자외선을 조사하여 경화시킨 후 박리하여 프리즘 렌즈 시트를 얻었다.Example 8 The film thickness of the resin composition on a prism lens mold of the coating to be 50μm, and sikimyeo station adhesive PET film 100μm adhesive thickness (Oriental room A4300) as described above that of 600mJ / cm 2 by a high-pressure mercury lamp from above, Irradiated with ultraviolet rays, cured, and peeled to obtain a prismatic lens sheet.
평가 결과Evaluation results
이형성:○, 형태 재현성:○, 밀착성:◎이었다.Releasability:?, Shape reproducibility:?, And adhesion:?.
실시예 14Example 14
실시예 9의 수지 조성물을 프리즘 렌즈 금형 위에 막 두께가 50μm가 되도록 도포하고, 그 위에 기재로서 역접착 PET 필름 100μm 두께(동양방A4300)를 접착시키며 그 위에서부터 고압 수은 램프로 600mJ/cm2의 조사량의 자외선을 조사하여 경화시킨 후 박리하여 프리즘 렌즈 시트를 얻었다.Example 9 The film thickness of the resin composition on the prism lens mold coating so that 50μm and sikimyeo station adhesive PET film 100μm adhesive thickness (Oriental room A4300) as described above that of 600mJ / cm 2 by a high-pressure mercury lamp from above, Irradiated with ultraviolet rays, cured, and peeled to obtain a prismatic lens sheet.
평가 결과Evaluation results
이형성:○, 형태 재현성:○, 밀착성:◎이었다.Releasability:?, Shape reproducibility:?, And adhesion:?.
실시예 15Example 15
실시예 11의 수지 조성물을 프리즘 렌즈 금형 위에 막 두께가 50μm가 되도록 도포하고, 그 위에 기재로서 역접착 PET 필름 100μm 두께(동양방A4300)를 접착시키며 그 위에서부터 고압 수은 램프로 600mJ/cm2의 조사량의 자외선을 조사하여 경화시킨 후 박리하여 프리즘 렌즈 시트를 얻었다.Embodiment the thickness of the resin composition on a prism lens mold 11 is applied such that the 50μm and sikimyeo station adhesive PET film 100μm adhesive thickness (Oriental room A4300) as described above that of 600mJ / cm 2 by a high-pressure mercury lamp from above, Irradiated with ultraviolet rays, cured, and peeled to obtain a prismatic lens sheet.
평가 결과Evaluation results
이형성:○, 형태 재현성:○, 밀착성:◎이었다.Releasability:?, Shape reproducibility:?, And adhesion:?.
실시예 16Example 16
실시예 12의 수지 조성물을 프리즘 렌즈 금형 위에 막 두께가 50μm가 되도록 도포하고, 그 위에 기재로서 역접착 PET 필름 100μm 두께(동양방A4300)를 접착시키며 그 위에서부터 고압 수은 램프로 600mJ/cm2의 조사량의 자외선을 조사하여 경화시킨 후 박리하여 프리즘 렌즈 시트를 얻었다.Embodiment the thickness of the resin composition on a prism lens mold 12 is applied such that the 50μm and sikimyeo station adhesive PET film 100μm adhesive thickness (Oriental room A4300) as described above that of 600mJ / cm 2 by a high-pressure mercury lamp from above, Irradiated with ultraviolet rays, cured, and peeled to obtain a prismatic lens sheet.
평가 결과Evaluation results
이형성:○, 형태 재현성:○, 밀착성:◎이었다.Releasability:?, Shape reproducibility:?, And adhesion:?.
비교예 5Comparative Example 5
특허 문헌 7(특개소 63-167301)의 실시예 1에 따라 아로닉스 M-315(트리스(2-아크릴로일옥시에틸)이소시아누레이트)를 70부, 테트라히드로푸르푸릴아크릴레이트 30부, 광중합 개시제로서 1-(4-이소프로필페닐)-2-히드록시-2-메틸프로판-1-온 3부를 60℃로 가온, 혼합하여 비교용 수지 조성물을 얻었다. 이 수지 조성물의 점도는 134mPa·s였다. 또한 이 수지 조성물을 경화시킨 막의 굴절률(25℃)은 1.52였다.70 parts of Aronix M-315 (tris (2-acryloyloxyethyl) isocyanurate), 30 parts of tetrahydrofurfuryl acrylate, 30 parts of tetrahydrofurfuryl acrylate, And 3 parts of 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropane-1-one as a photopolymerization initiator were heated to 60 DEG C and mixed to obtain a comparative resin composition. The viscosity of this resin composition was 134 mPa · s. The refractive index (25 DEG C) of the film obtained by curing the resin composition was 1.52.
이 결과로부터 비교예 5의 조성물은 본 발명의 조성물에 비해 굴절률이 낮고, 본 발명의 렌즈류의 제조에 적합하지 않다.From this result, the composition of Comparative Example 5 has a lower refractive index than that of the composition of the present invention, and is not suitable for the production of the lenses of the present invention.
비교예 6Comparative Example 6
특허 문헌 9(특허 제 3209554호)의 실시예에 따라 그 문헌의 합성예 1의 우레탄아크릴레이트(네오펜틸글리콜과 아디핀산의 폴리에스테르디올, 에틸렌글리콜, 톨릴렌디이소시아네이트 및 2-히드록시에틸아크릴레이트의 반응물) 및 그 문헌 합성예 3의 화합물(o-페닐페놀디에톡시아크릴레이트)을 합성하였다. 구체적으로는 폴리에스테르디올(네오펜틸글리콜과 아디핀산의 폴리에스테르디올, 분자량 2000, OH값 56.1) 120부, 에틸렌글리콜 2.48부, 톨릴렌디이소시아네이트 34.8부를 주입하고, 온도상승 후 80℃로 10시간 반응시키고, 그 다음 2-히드록시에틸아크릴레이트 24.4부, 메토퀴논 0.1부를 주입하고, 80℃로 10시간 반응을 실시하여 우레탄 아크릴레이트를 얻었다. 또한 하기 식(6)으로 표시되는 화합물 258부According to the embodiment of Patent Document 9 (Japanese Patent No. 3209554), the urethane acrylate of the synthetic example 1 of the document (polyester diol of neopentyl glycol and adipic acid, ethylene glycol, tolylene diisocyanate and 2-hydroxyethyl acrylate And a compound of Synthesis Example 3 (o-phenylphenol diethoxyacrylate) were synthesized. Specifically, 120 parts of a polyester diol (polyester diol having neopentyl glycol and adipic acid, molecular weight 2000, OH value 56.1), 2.48 parts of ethylene glycol, and 34.8 parts of tolylene diisocyanate were charged. After the temperature was raised, the mixture was reacted at 80 DEG C for 10 hours Then, 24.4 parts of 2-hydroxyethyl acrylate and 0.1 part of methoquinone were charged and reacted at 80 DEG C for 10 hours to obtain urethane acrylate. Further, 258 parts of the compound represented by the following formula (6)
(산요 화성(주) 제, O-페닐페놀 1몰과 에틸렌옥사이드 2몰의 반응물, 품명·뉴 폴 OPE-20, OH값 217. 5), 아크릴산 86.5부, 톨루엔 300부, 황산 21부, 하이드로퀴논 5부를 주입하고, 가열해 생성한 물은 용제와 함께 증류하여 응축시키고 분리기로 물이 18부 생성한 시점에서 반응 혼합물을 냉각했다. 반응 온도는 130~140℃이었다. 반응 혼합물을 톨루엔 500부로 용해하고, 20% NaOH 수용액으로 중화한 후, 20% NaCl 수용액 100부로 3회 세정하였다. 용제를 감압유거하여 화합물(B)(액체)(o-페닐페놀디에톡시아크릴레이트) 303부를 얻었다. 점도(25℃) 204 CPS, 굴절률(23℃) 1.567이었다. 상기 우레탄 아크릴레이트를 30부, 상기 o-페닐페놀디에톡시아크릴레이트를 15부, KAYARAD R-551(비스페놀 A 테트라에톡시디아크릴레이트)를 45부, 트리브로모페닐아크릴레이트를 10부, 이르가큐아 184(1-히드록시시클로헥실페닐케톤) 3부를 60℃로 가온, 혼합하여 비교용 수지 조성물을 얻었다. 이 수지 조성물의 점도는 4420mPa·s였다. 또한 이 수지 조성물을 경화시킨 막의 굴절률(25℃)은 1.574였다.(Product name: Newpol OPE-20, OH value: 217.5), acrylic acid (86.5 parts), toluene (300 parts), sulfuric acid (21 parts), hydrotreated silica (1 part by mass of O-phenylphenol and 2 moles of ethylene oxide, manufactured by Sanyo Chemical Industries, And 5 parts of quinone were charged. The water produced by heating was distilled and condensed with the solvent, and the reaction mixture was cooled when 18 parts of water was produced by the separator. The reaction temperature was 130 to 140 ° C. The reaction mixture was dissolved in 500 parts of toluene, neutralized with a 20% aqueous solution of NaOH, and then washed three times with 100 parts of 20% aqueous NaCl solution. The solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 303 parts of a compound (B) (liquid) (o-phenylphenol diethoxyacrylate). The viscosity (25 DEG C) was 204 CPS and the refractive index (23 DEG C) was 1.567. 30 parts of the urethane acrylate, 15 parts of o-phenylphenol diethoxyacrylate, 45 parts of KAYARAD R-551 (bisphenol A tetraethoxydiacrylate), 10 parts of tribromophenyl acrylate, 3 parts of Guria 184 (1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone) were heated to 60 캜 and mixed to obtain a comparative resin composition. The viscosity of this resin composition was 4420 mPa · s. The refractive index (25 DEG C) of the film obtained by curing the resin composition was 1.574.
이 결과로부터 비교예 6의 조성물은 본 발명의 조성물에 비해 점도가 높고, 미세한 가공이나 롤상의 시트나 필름의 연속 가공에 적합하지 않다.From this result, the composition of Comparative Example 6 has a higher viscosity than the composition of the present invention, and is not suitable for fine processing or continuous processing of roll-like sheets or films.
실시예 8~16, 비교예 5, 6의 평가 결과로부터 알 수 있는 바와 같이 특정 조성을 갖는 본 발명의 수지 조성물은 이형성, 형태 재현성, 기재와의 밀착성이 뛰어나고 그 경화물은 고굴절률로 유리 전이점 온도(Tg)가 50℃ 이상이며 내광성도 양호했다. 따라서, 미세 구조를 갖는 광학 렌즈 시트, 예컨대, 프레넬 렌즈, 렌치큐라 렌즈, 프리즘 렌즈, 마이크로 렌즈 등에 적절하다. 특히 미세한 가공이 필요한 용도나 연속 가공이 필요한 공정을 포함한 제조에도 적합하다.As can be seen from the evaluation results of Examples 8 to 16 and Comparative Examples 5 and 6, the resin composition of the present invention having a specific composition is excellent in releasability, form reproducibility and adhesion to a substrate, and the cured product has a glass transition point The temperature (Tg) was 50 DEG C or more and the light resistance was good. Therefore, it is suitable for an optical lens sheet having a fine structure, such as a Fresnel lens, a wrench cure lens, a prism lens, a microlens, or the like. Particularly, it is suitable for applications requiring fine processing or manufacturing including processes requiring continuous processing.
[산업상 이용 가능성][Industrial applicability]
본 발명의 자외선 경화성 수지 조성물 및 그 경화물은 주로, 프레넬 렌즈, 렌치큐라 렌즈, 프리즘 렌즈, 마이크로 렌즈 등의 광학 렌즈 시트 용으로 특히 적합하다.The ultraviolet ray curable resin composition and the cured product thereof of the present invention are particularly suitable for optical lens sheets such as a Fresnel lens, a wrench cure lens, a prism lens and a microlens.
Claims (14)
로 표시되는 화합물과 에피할로히드린과의 반응 생성물인 에폭시 수지(a)와 분자중에 에틸렌성 불포화기를 갖는 모노카르복시산 화합물(b) 및 방향족계 폴리이소시아네이트 화합물(c)를 반응시켜 얻어진 우레탄 화합물(A), 및 광중합 개시제(C)를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 렌즈 시트용 에너지선 경화형 수지 조성물로서, 추가로 페닐에테르기를 갖는 모노아크릴레이트 모노머(D)를 포함한 수지 조성물.(1)
(B) obtained by reacting an epoxy resin (a) which is a reaction product of a compound represented by the formula (1) with an epihalohydrin, a monocarboxylic acid compound (b) having an ethylenic unsaturated group in the molecule and an aromatic polyisocyanate compound A) and a photopolymerization initiator (C), wherein the resin composition further comprises a monoacrylate monomer (D) having a phenyl ether group.
An optical lens sheet using the cured product according to claim 13.
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007118233 | 2007-04-27 | ||
JPJP-P-2007-118233 | 2007-04-27 | ||
JP2007186585 | 2007-07-18 | ||
JPJP-P-2007-186585 | 2007-07-18 | ||
PCT/JP2008/057407 WO2008136262A1 (en) | 2007-04-27 | 2008-04-16 | (meth)acrylate compound, resin composition containing the same, cured product of the resin composition, and energy ray-curable resin composition for optical lens sheet and cured product thereof |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020097019507A Division KR101635801B1 (en) | 2007-04-27 | 2008-04-16 | (meth)acrylate compound, resin composition containing the same, cured product of the resin composition and energy ray-curable resin composition for optical lens sheet and cured product thereof |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20150013355A KR20150013355A (en) | 2015-02-04 |
KR101573754B1 true KR101573754B1 (en) | 2015-12-04 |
Family
ID=39943379
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020157000682A KR101573754B1 (en) | 2007-04-27 | 2008-04-16 | (meth)acrylate compound, resin composition containing the same, cured product of the resin composition and energy ray-curable resin composition for optical lens sheet and cured product thereof |
KR1020097019507A KR101635801B1 (en) | 2007-04-27 | 2008-04-16 | (meth)acrylate compound, resin composition containing the same, cured product of the resin composition and energy ray-curable resin composition for optical lens sheet and cured product thereof |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020097019507A KR101635801B1 (en) | 2007-04-27 | 2008-04-16 | (meth)acrylate compound, resin composition containing the same, cured product of the resin composition and energy ray-curable resin composition for optical lens sheet and cured product thereof |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPWO2008136262A1 (en) |
KR (2) | KR101573754B1 (en) |
CN (1) | CN101675089B (en) |
TW (1) | TW200911862A (en) |
WO (1) | WO2008136262A1 (en) |
Families Citing this family (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2219073B1 (en) * | 2009-02-17 | 2020-06-03 | Covestro Deutschland AG | Holographic media and photopolymer compositions |
JP5219084B2 (en) | 2009-02-18 | 2013-06-26 | 日本化薬株式会社 | Energy ray curable resin composition for optical lens sheet and cured product thereof |
JP5241023B2 (en) * | 2009-05-13 | 2013-07-17 | 日本化薬株式会社 | Energy ray curable resin composition for optical lens sheet and cured product thereof |
CN102858823A (en) * | 2010-04-09 | 2013-01-02 | 日本化药株式会社 | Energy Ray-curable Resin Composition For Optical Lens Sheet And Cured Product Thereof |
US8796349B2 (en) * | 2010-11-30 | 2014-08-05 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Photosensitive resin composition for microlenses |
JP5710356B2 (en) * | 2011-04-18 | 2015-04-30 | 日本化薬株式会社 | Energy ray curable resin composition for optical lens sheet and cured product thereof |
CN103370348B (en) * | 2011-05-18 | 2015-03-11 | Dic株式会社 | Radically polymerizable composition, cured product and plastic lens |
JP2013028662A (en) * | 2011-07-27 | 2013-02-07 | Nippon Kayaku Co Ltd | Energy ray-curable resin composition for optical lens sheet and cured product using the same |
TWI550019B (en) * | 2011-12-27 | 2016-09-21 | 日本化藥股份有限公司 | Epoxy resin composition for transparent circuit board and laminated glass sheet |
JP5897915B2 (en) * | 2012-01-27 | 2016-04-06 | 株式会社タムラ製作所 | UV curable transparent resin composition |
JP2013168395A (en) * | 2012-02-14 | 2013-08-29 | Taiyo Holdings Co Ltd | Resin composition for plating resist, multilayer printed wiring board, and manufacturing method of multilayer printed wiring board |
EP2684903B1 (en) * | 2012-03-12 | 2015-12-16 | DIC Corporation | Radical polymerizable composition, hardened product thereof, and plastic lens thereof |
JP6049055B2 (en) * | 2012-08-08 | 2016-12-21 | 日本化薬株式会社 | UV curable resin composition, cured product and article |
KR101467394B1 (en) * | 2013-07-12 | 2014-12-01 | 주식회사 한솔케미칼 | Photocurable and optical resin compositions with various properties and flat panel display using the compositions |
JP6128604B2 (en) * | 2013-12-05 | 2017-05-17 | 日本化薬株式会社 | Resin composition |
JP6172753B2 (en) * | 2014-03-03 | 2017-08-02 | 日本化薬株式会社 | Polyurethane compound and resin composition containing the same |
KR102245467B1 (en) | 2014-05-16 | 2021-04-27 | 닛뽄 가야쿠 가부시키가이샤 | (meth)acrylate compound and active energy ray curable resin composition containing same, and cured product thereof |
KR102327347B1 (en) | 2014-08-22 | 2021-11-16 | 닛뽄 가야쿠 가부시키가이샤 | Epoxy(meth)acrylate compound, resin composition containing the same and cured product thereof, color filter and display device |
CN105802238B (en) * | 2014-12-31 | 2019-06-25 | 埃肯有机硅(上海)有限公司 | Curable polysiloxane composition |
KR101956132B1 (en) * | 2015-01-23 | 2019-06-25 | (주)엘지하우시스 | Decoration sheet for vacuum thermoforming and the article applied the same, the method of manufacturing the same |
US10640603B2 (en) * | 2015-02-12 | 2020-05-05 | Dic Corporation | Urethane (meth)acrylate resin, curable resin composition, cured product thereof, and plastic lens |
JP6655395B2 (en) * | 2016-01-06 | 2020-02-26 | 株式会社Adeka | Water-based polyurethane resin composition and optical film using the composition |
JP2019077605A (en) * | 2017-10-26 | 2019-05-23 | 住友電気工業株式会社 | Ultraviolet-curable type resin composition and optical fiber |
CN109810668A (en) * | 2019-01-29 | 2019-05-28 | 宁波路宝科技实业集团有限公司 | A kind of polyurethane adhesive and preparation method thereof |
CN115038730A (en) * | 2020-02-10 | 2022-09-09 | 可乐丽则武齿科株式会社 | Resin composition for stereolithography |
US20230365735A1 (en) * | 2020-10-05 | 2023-11-16 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Resin composition, optical fiber, and method for manufacturing optical fiber |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60217301A (en) * | 1984-04-13 | 1985-10-30 | Toray Ind Inc | Plastic lens having high refractive index |
JPS6188201A (en) * | 1984-10-08 | 1986-05-06 | Toray Ind Inc | Plastic lens having high refractive index |
JP2683087B2 (en) * | 1989-03-06 | 1997-11-26 | 呉羽化学工業株式会社 | Plastic lens material |
JPH03244615A (en) * | 1990-02-23 | 1991-10-31 | Nippon Kayaku Co Ltd | Resin composition and cured product thereof |
JPH04316890A (en) * | 1991-04-17 | 1992-11-09 | Oji Paper Co Ltd | Thermally transferred dye image receiving sheet |
JPH06217301A (en) * | 1993-01-19 | 1994-08-05 | Canon Inc | Motion picture transmitter-receiver |
JPH09272707A (en) * | 1996-04-04 | 1997-10-21 | Toagosei Co Ltd | Actinic-radiation-curing (meth)acrylate composition |
JPH11292945A (en) * | 1998-04-07 | 1999-10-26 | Nippon Kayaku Co Ltd | Resin composition, resin composition for lens and its cured product |
-
2008
- 2008-04-16 WO PCT/JP2008/057407 patent/WO2008136262A1/en active Application Filing
- 2008-04-16 JP JP2009512915A patent/JPWO2008136262A1/en active Pending
- 2008-04-16 CN CN200880013424.4A patent/CN101675089B/en not_active Expired - Fee Related
- 2008-04-16 KR KR1020157000682A patent/KR101573754B1/en active IP Right Grant
- 2008-04-16 KR KR1020097019507A patent/KR101635801B1/en active IP Right Grant
- 2008-04-23 TW TW97114892A patent/TW200911862A/en unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW200911862A (en) | 2009-03-16 |
KR20100014469A (en) | 2010-02-10 |
CN101675089B (en) | 2015-06-17 |
KR101635801B1 (en) | 2016-07-04 |
KR20150013355A (en) | 2015-02-04 |
JPWO2008136262A1 (en) | 2010-07-29 |
WO2008136262A1 (en) | 2008-11-13 |
CN101675089A (en) | 2010-03-17 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A107 | Divisional application of patent | ||
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right |