KR101563128B1 - apparatus for transferring substrates - Google Patents

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KR101563128B1
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이윤홍
이주명
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엠에스티코리아(주)
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Abstract

The present invention relates to an apparatus to transfer a substrate and, more specifically, relates to an apparatus to transfer a substrate capable of improving a washing efficiency or an etching process by generating a flow of process fluid in one direction by transferring a substrate while being tilted when the substrate is transferred for washing or an etching process of the substrate. The apparatus to transfer a substrate comprises: a pair of frames comprising a first frame and a second frame facing each other; and a plurality of rotation bars arranged to be continuous by being separated from each other, wherein one end is mounted on the first frame to be able to rotate and an other end connected to the second frame to be able to rotate. One end of each rotation bar mounted on the first frame has a same height, and the other end of the rotation bars mounted on the second frame to be continuous is mounted to have a section wherein the height of the other end continuously rises in the direction of the substrate transferring, and then falling continuously.

Description

기판 이송 장치{apparatus for transferring substrates}≪ Desc / Clms Page number 1 > apparatus for transferring &

본 발명은 기판 이송 장치에 관한 것으로, 특히 기판에 대한 세정 또는 에칭 공정을 진행하는 위하여 기판을 이송하는 과정에서, 상기 기판이 기울어진 상태로 이송될 수 있도록 구성함으로써, 공정 액체의 한쪽 방향으로의 흐름을 발생시키고, 이로 인하여 세정 또는 에칭 공정의 효율을 향상시킬 수 있도록 하는 기판 이송 장치에 관한 것이다.
The present invention relates to a substrate transfer apparatus, and more particularly, to a substrate transfer apparatus that is capable of transferring a substrate in a tilted state in a process of transferring a substrate in order to carry out a cleaning or etching process for the substrate, To thereby improve the efficiency of the cleaning or etching process.

기판에 대한 다양한 공정, 예를 들어 세정 공정 또는 에칭 공정을 수행하기 위하여 기판을 이송할 수 있는 이송 장치가 요청되고 있다.There is a need for a transfer device capable of transferring a substrate to perform various processes on the substrate, for example, a cleaning process or an etching process.

이와 같은 기판 이송 장치는 대부분 기판을 수평으로 유지한채 이송시키는 방법을 채택하고 있다. 예를 들어, 대한민국 공개특허공보 제2006-0002373호(글라스 이송용 컨베이어 시스템)에는 글라스 이송을 보다 안전하게 진행할 수 있는 기술적 특징에 대하여 기술하고 있다.Most of such a substrate transfer apparatus adopts a method of transferring a substrate while keeping it horizontally. For example, Korean Patent Laid-Open Publication No. 2006-0002373 (conveyor system for conveying glass) describes a technical feature that can more safely transport the glass.

그런데, 글라스를 수평으로 유지한 채, 액체를 상부에서 분사하여 세정 공정 또는 에칭 공정을 수행하면, 글라스에 공정 액체가 잔류하여 균일한 세정 또는 에칭 공정이 진행되지 못할 수도 있으며, 특정 부분이 과 세정 또는 과 에칭되어 공정 효율을 떨어뜨릴 수 있는 문제점을 안고 있다.However, if the cleaning process or the etching process is performed by spraying the liquid from above while keeping the glass horizontally, the process liquid may remain in the glass, so that a uniform cleaning or etching process may not proceed, Or may be etched to reduce the process efficiency.

따라서, 최근에 들어와서 대형 기판에 대한 에칭 또는 세정 공정을 수행함에 있어서, 기판을 수평으로 이송하다가 특정 지점에서 상기 대형 기판에 대한 이송을 정지시키고, 소정 각도로 틸팅시킨 후 상측에서 공정 액체를 분사하여 세정 또는 에칭 공정을 수행하는 방법이 활용되고 있다. Therefore, in recent years, in performing an etching or cleaning process on a large substrate, the substrate is transported horizontally, the transportation to the large substrate is stopped at a specific point, the substrate is tilted at a predetermined angle, A cleaning or etching process is performed.

상기 에칭 또는 세정 공정이 끝나면, 상기 기판은 다시 수평한 상태로 눕혀진 후 이송시키는 과정을 통하여 최종적으로 세정 또는 에칭 공정을 수행받게 된다.When the etching or cleaning process is completed, the substrate is again laid down in a horizontal state and then transported, thereby finally performing a cleaning or etching process.

그런데, 이와 같이 대형 기판에 대한 틸팅 공정을 추가적으로 진행하게 되면, 전체 공정의 택트 타임이 증가하여 생산 효율을 떨어뜨리는 단점이 발생하고, 틸팅하는 과정에서 대형 기판이 파손될 수 있는 문제점을 가지고 있다.
However, if the tilting process is further performed on the large substrate as described above, the tact time of the whole process is increased to lower the production efficiency, and there is a problem that the large substrate may be damaged in the process of tilting.

본 발명은 상기와 같은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위하여 창안된 것으로, 기판에 대한 세정 또는 에칭 공정을 진행하는 위하여 기판을 이송하는 과정에서, 상기 기판이 기울어진 상태로 이송될 수 있도록 구성함으로써, 공정 액체의 한쪽 방향으로의 흐름을 발생시키고, 이로 인하여 세정 또는 에칭 공정의 효율을 향상시킬 수 있도록 하는 기판 이송 장치를 제공하는 것을 그 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in order to solve the problems of the prior art as described above, and it is an object of the present invention to provide a substrate processing apparatus and a substrate processing method, It is an object of the present invention to provide a substrate transfer apparatus capable of generating a flow of a process liquid in one direction and thereby improving the efficiency of a cleaning or etching process.

또한 본 발명은 세정 또는 에칭 공정을 수행하기 위한 기판이 이송되는 과정에서 정지하지 않고 연속적으로 이동하면서 공정을 수행받도록 함으로써, 공정의 택트 타임을 감소시켜 생산 효율을 증대시킬 수 있도록 하는 기판 이송 장치를 제공하는 것을 그 목적으로 한다.Further, the present invention provides a substrate transfer apparatus that can increase the production efficiency by reducing the tact time of the process by allowing the process to be carried out while the substrate is continuously transferred without stopping in the course of transferring the substrate for performing the cleaning or etching process The purpose is to provide.

또한 본 발명은 세정 또는 에칭 공정을 수행하기 위한 기판이 이송되는 과정에서 별도의 틸팅 장치에 의하여 틸팅되는 공정을 수행받지 않고, 이송되는 과정에서 자연스럽게 틸팅되도록 구성함으로써, 별도의 틸팅 공정에 의한 기판 파손 가능성을 제거할 수 있고, 추가 장비를 제거하여 구조의 단순화를 달성할 수 있는 기판 이송 장치를 제공하는 것을 그 목적으로 한다.
In addition, the present invention does not perform a tilting process by a separate tilting apparatus in the process of carrying out a cleaning or etching process, and is configured to tilting naturally in the process of transporting, And it is an object of the present invention to provide a substrate transfer apparatus capable of eliminating the possibility and simplifying the structure by removing additional equipment.

상기와 같은 과제를 해결하기 위하여 제안된 본 발명인 기판 이송 장치를 이루는 구성수단은 기판 이송 장치에 있어서, 서로 마주보도록 배치되는 제1 프레임과 제2 프레임으로 구성되는 한 쌍의 프레임, 상기 제1 프레임 상에 일단이 회전 가능하게 장착되고, 제2 프레임 상에 타단이 회전 가능하게 결합되되, 상호 이격되어 연속해서 배치되는 복수개의 회전바를 포함하여 구성되되, 상기 제1 프레임 상에 장착되는 각각의 회전바들의 일단은 서로 동일한 높이를 유지하고, 상기 제2 프레임 상에 연속해서 장착되는 회전바들의 타단은 기판이 이송되는 방향으로 갈수록 높이가 연속해서 상승되다가 다시 연속해서 하강될 수 있는 구간을 가질 수 있도록 장착되는 것을 특징으로 한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a substrate transfer apparatus comprising: a pair of frames including a first frame and a second frame arranged to face each other; And a plurality of rotating bars which are rotatably mounted on the first frame and are rotatably coupled to the other end on the second frame and are spaced apart from each other, The other ends of the rotating bars, which are successively mounted on the second frame, can have a section where the height is continuously increased as the substrate is conveyed, So that it is mounted.

여기서, 상기 제1 프레임과 제2 프레임의 각 상부에는 서로 이격되어 상측으로 돌출되는 분리벽들이 연속해서 형성되고, 인접하고 있는 분리벽에 의하여 브라켓 장착부들이 형성되며, 상기 각 브라켓 장착부에는 상기 회전바의 끝단에 결합되는 베어링 조립체가 장착되는 브라켓이 삽입 결합되는 것을 특징으로 한다.In this case, the upper and lower portions of the first frame and the second frame are separated from each other by the partition walls protruding upward, and the bracket mounting portions are formed by the adjacent partition walls. And a bracket to which a bearing assembly coupled to an end of the bearing assembly is inserted.

여기서, 상기 제1 프레임 상부에 형성되는 브라켓 장착부들의 바닥면은 서로 동일한 높이를 유지하고, 상기 제2 프레임 상부에 연속해서 형성되는 브라켓 장착부들의 바닥면은 기판이 이송되는 방향으로 갈수록 연속해서 높이가 상승되다가 다시 연속해서 하강될 수 있는 구간을 가질 수 있도록 형성되며, 상기 브라켓은 동일한 사이즈로 형성되는 것을 특징으로 한다.Here, the bottom surfaces of the bracket mounting portions formed on the first frame maintain the same height, and the bottom surfaces of the bracket mounting portions continuously formed on the upper portion of the second frame are continuously heightened in the direction in which the substrate is transported The bracket is formed so as to have a section that can be lifted and then lowered continuously, and the brackets are formed in the same size.

여기서, 상기 기판이 이송되는 방향으로 갈수록 연속해서 높이가 상승되다가 다시 연속해서 하강될 수 있는 구간에 형성되는 브라켓 장착부에 삽입 결합되는 각 브라켓은 상기 베어링 조립체가 안착되는 바닥 접촉면이 경사지도록 형성되는 것을 특징으로 한다.
Here, each of the brackets, which are inserted into the bracket mounting part formed in a section where the height of the board is continuously increased in the direction in which the board is conveyed and can be continuously lowered, is formed so that the bottom contact surface on which the bearing assembly is mounted is inclined .

상기와 같은 과제 및 해결수단을 가지는 본 발명인 기판 이송 장치에 의하면, 기판에 대한 세정 또는 에칭 공정을 진행하는 위하여 기판을 이송하는 과정에서, 상기 기판이 기울어진 상태로 이송될 수 있도록 구성하기 때문에, 공정 액체의 한쪽 방향으로의 흐름을 발생시키고, 이로 인하여 세정 또는 에칭 공정의 효율을 향상시킬 수 있는 장점이 있다.According to the substrate transfer apparatus of the present invention having the above-described problems and the solution, since the substrate can be transferred in a tilted state in the process of transferring the substrate in order to advance the cleaning or etching process on the substrate, There is an advantage that the flow of the process liquid in one direction can be generated, thereby improving the efficiency of the cleaning or etching process.

또한 본 발명인 기판 이송 장치에 의하면, 기판을 이송하는 과정에서 기판의 이송을 정지시킨 후 소정 각도로 기판을 틸팅을 수행한 다음 세정 또는 에칭 공정을 수행하는 기존 방법을 이용하지 않고, 기판을 연속적으로 이송하면서 틸팅이 이루어지도록 하여 공정을 진행하기 때문에, 공정의 택트 타임이 감소하여 공정 효율을 더욱 향상시킬 수 있는 장점이 있다.
According to the substrate transfer apparatus of the present invention, the transfer of the substrate is stopped during the transfer of the substrate, the substrate is tilted at a predetermined angle, and then the substrate is transferred continuously The tilting is performed while the wafer is being transferred, so that the tact time of the process is reduced and the process efficiency can be further improved.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 기판 이송 장치의 평면도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 기판 이송 장치의 일 측면도이다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 기판 이송 장치의 타 측면도이다.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 기판 이송 장치의 부분 분리 사시도이다.
도 5는 본 발명의 실시예에 따른 기판 이송 장치에 적용되는 브라켓의 일측 단면도이다.1 is a plan view of a substrate transfer apparatus according to an embodiment of the present invention.
2 is a side view of a substrate transfer apparatus according to an embodiment of the present invention.
3 is another side view of the substrate transfer apparatus according to the embodiment of the present invention.
4 is a partially exploded perspective view of a substrate transfer apparatus according to an embodiment of the present invention.
5 is a cross-sectional view of one side of a bracket applied to the substrate transfer apparatus according to the embodiment of the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 상기와 같은 과제, 해결수단 및 효과를 가지는 본 발명인 기판 이송 장치에 관한 바람직한 실시예를 상세하게 설명한다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of a substrate transfer apparatus according to the present invention having the above-described problems, solutions and effects as described above will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

이 과정에서 도면에 도시된 구성요소의 크기나 형상 등은 설명의 명료성과 편의상 과장되게 도시될 수 있다. 또한, 본 발명의 구성 및 작용을 고려하여 특별히 정의된 용어들은 사용자, 운용자의 의도 또는 관례에 따라 달라질 수 있다.The sizes and shapes of the components shown in the drawings may be exaggerated for clarity and convenience. In addition, terms defined in consideration of the configuration and operation of the present invention may be changed according to the intention or custom of the user, the operator.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 기판 이송 장치(100)의 평면도이고, 도 2는 일 측면도이고, 도 3은 타 측면도이며, 도 4는 부분 분리 사시도이다.FIG. 1 is a plan view of a substrate transfer apparatus 100 according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a side view, FIG. 3 is another side view, and FIG. 4 is a partially separated perspective view.

도 1 내지 도 4에 도시된 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 기판 이송 장치(100)는 서로 마주보도록 배치되는 한 쌍의 프레임(10a, 10b)과 상기 한 쌍의 프레임에 각각의 끝단이 회전 가능하게 결합되는 복수개의 회전바(30)를 포함하여 구성된다.1 to 4, a substrate transfer apparatus 100 according to an embodiment of the present invention includes a pair of frames 10a and 10b arranged to face each other, And a plurality of rotation bars 30 rotatably coupled.

상기 한 쌍의 프레임은 한 쪽 프레임에 해당하는 제1 프레임(10a)과 다른 쪽 프레임에 해당하는 제2 프레임(10b)으로 구성된다. 상기 회전바(30)의 각각은 일단이 상기 제1 프레임(10a)에 회전 가능하게 장착되고, 타단이 상기 제2 프레임(10b)에 회전 가능하게 장착된다.The pair of frames consists of a first frame 10a corresponding to one frame and a second frame 10b corresponding to the other frame. One end of each of the rotary bars 30 is rotatably mounted on the first frame 10a and the other end of the rotary bar 30 is rotatably mounted on the second frame 10b.

상기 회전바(30)는 복수개로 구성되어 상기 기판(1)이 안착된 상태로 이송될 수 있도록 상기 제1 프레임과 제2 프레임에 걸쳐진 상태로 서로 소정 간격 이격되어 배치된다.The rotation bars 30 are arranged in a spaced relation to each other across the first frame and the second frame so that the rotation bars 30 can be transferred in a state in which the substrate 1 is seated.

즉, 상기 복수개의 회전바(30)는 상기 제1 프레임(10a) 상에 일단(30a)이 회전 가능하게 장착되고, 상기 제2 프레임(10b) 상에 타단(30b)이 회전 가능하게 결합되되, 상호 이격되어 연속해서 배치된다. 결과적으로, 상기 복수개의 회전바(30)에 상기 기판을 안착시킨 후, 상기 회전바(30)들을 회전시키면 상기 기판은 수평한 방향으로 이송될 수 있다.That is, one end 30a of the plurality of rotation bars 30 is rotatably mounted on the first frame 10a, and the other end 30b is rotatably engaged with the second frame 10b Are spaced apart from one another and are continuously arranged. As a result, if the rotating bars 30 are rotated after the substrates are mounted on the plurality of rotating bars 30, the substrates can be transported in a horizontal direction.

상기 각각의 회전바(30)에는 소정 간격 이격되어 배치되는 지지링(31)이 복수개 구비된다. 상기 지지링(31)은 상기 기판(1)을 접촉 지지하는 기능을 수행한다. 즉, 상기 기판(1)은 상기 회전바(30)에 결합 구비되는 복수개의 지지링(31) 상에 안착된다.A plurality of support rings (31) are disposed on the rotation bars (30) at predetermined intervals. The supporting ring 31 performs a function of contacting and supporting the substrate 1. That is, the substrate 1 is seated on a plurality of support rings 31 which are engaged with the rotary bar 30. [

따라서, 상기 지지링(31)은 매우 얇은 원판의 형상을 가지고, 상기 회전바(30)가 회전함에 따라 회전된다. 결과적으로, 상기 지지링(31) 상에 안착되는 상기 기판(10)은 수평 방향으로 이송될 수 있다.Therefore, the support ring 31 has a very thin disk shape and is rotated as the rotation bar 30 rotates. As a result, the substrate 10 mounted on the support ring 31 can be transported in the horizontal direction.

상기 회전바(30)들의 회전은 다양한 방법에 의하여 달성될 수 있다. 예를 들어, 기어 맞물림에 의하여 상기 복수개의 회전바들을 동시에 회전시킬 수도 있고, 마그네틱 컨베이어 구조를 채택하여 상기 회전바들을 동시에 회전시킬 수도 있다. 본 발명에서는 상기 회전바(30)들을 동시에 회전할 수 있는 방법이면 기존 다양한 방법 중 어느 하나를 채택하여 사용할 수 있다.The rotation of the rotating bars 30 can be accomplished by various methods. For example, the plurality of rotating bars may be simultaneously rotated by gear engagement, or the rotating bars may be rotated simultaneously by employing a magnetic conveyor structure. In the present invention, any of various methods may be adopted as long as the rotating bars 30 can be rotated at the same time.

그런데, 본 발명에 따른 기판 이송 장치(100)는 대형 기판을 이송하면서 세정 또는 에칭 공정을 수행하기 위한 장치에 해당되고, 상기 기판(1)의 정지 동작 없이 틸팅 상태를 유지하여 세정 또는 에칭 공정을 수행할 수 있다.The substrate transfer apparatus 100 according to the present invention corresponds to an apparatus for carrying out a cleaning or etching process while transferring a large substrate. The substrate transfer apparatus 100 maintains a tilted state without stopping the substrate 1, Can be performed.

즉, 본 발명에 따른 기판 이송 장치(100)는 기판을 이송하는 과정에서 별도의 틸팅 장치를 이용하지 않고, 세정 또는 에칭 공정을 수행하기 위하여 기판 이송 과정을 정지시키는 동작 없이, 상기 기판에 대한 세정 공정 또는 에칭 공정을 수행할 수 있도록 한다.In other words, the substrate transfer apparatus 100 according to the present invention can perform a cleaning operation or an etching operation without using a separate tilting apparatus in the process of transferring a substrate, So that the process or the etching process can be performed.

이를 위하여, 본 발명에 따른 기판 이송 장치(100)는 상기 회전바(30)가 기울어지도록 배치될 수 있도록 구성한다. 즉, 본 발명에 따른 회전바(30)들 중, 일부의 회전바들은 상기 제1 프레임(10a)에서 상기 제2 프레임(10b)로 갈수록 높아지거나 낮아질 수 있도록 배치된다.To this end, the substrate transfer apparatus 100 according to the present invention is configured to be arranged such that the rotary bar 30 is inclined. That is, some of the rotating bars 30 according to the present invention are arranged such that the rotating bars may be raised or lowered from the first frame 10a to the second frame 10b.

구체적으로, 상기 제1 프레임(10a) 상에 장착되는 각각의 회전바(30)들의 일단(30a)은 도 2에 도시된 바와 같이, 서로 동일한 높이를 유지하고, 상기 제2 프레임(10b) 상에 연속해서 장착되는 상기 회전바(30)들의 타단(30b)은 도 3에 도시된 바와 같이 상기 기판(1)이 이송되는 방향으로 갈수록 높이가 연속해서 상승되다가 다시 연속해서 하강될 수 있는 구간을 가질 수 있도록 장착된다.More specifically, one end 30a of each of the rotary bars 30 mounted on the first frame 10a maintains the same height as each other as shown in FIG. 2, The other end 30b of the rotary bars 30 continuously mounted on the substrate 1 is continuously elevated in height in the direction in which the substrate 1 is conveyed as shown in FIG. Respectively.

결국, 상기 회전바(30)들은 수평 상태를 유지하는 수평 구간, 상기 기판(1)이 틸팅될 수 있는 틸팅 구간 및 다시 수평 구간을 발생시킨다. 따라서, 상기 기판(1)이 상기 틸팅 구간을 이동하면서 세정 또는 에칭 공정을 수행받게 되고, 상기 기판(1)이 틸팅된 상태를 유지하기 때문에, 상측에서 분사되는 공정 액체는 기판의 한쪽에서 반대쪽으로 흐르게 되며, 이로 인하여 상기 공정 액체의 잔류 없이 상기 기판(1)에 대한 세정 또는 에칭 공정을 수행할 수 있다.As a result, the rotation bars 30 generate a horizontal section that maintains a horizontal state, a tilting section that allows the substrate 1 to be tilted, and a horizontal section again. Accordingly, since the substrate 1 is subjected to a cleaning or etching process while moving the tilting section, and the substrate 1 is maintained in a tilted state, the process liquid ejected from the upper side is moved from one side of the substrate to the other side So that the cleaning or etching process for the substrate 1 can be performed without the residual of the process liquid.

또한, 본 발명은 상기 기판을 틸팅시키기 위하여 별도의 틸팅 장치를 채택하지 않고 자연스럽게 상기 기판에 대한 틸팅동작을 수행하기 때문에, 전체 장치 구조가 단순하고 장치 비용이 절감되는 효과를 발생시키며, 세정 공정 등을 진행하기 위하여 기판 이송의 정지 동작을 거치지 않기 때문에, 공정 전체의 택트 타임을 감소시켜 생산효율을 향상시킬 수 있는 장점도 있다.Further, since the present invention tilts the substrate naturally without using a separate tilting device for tilting the substrate, the entire device structure is simple and the device cost is reduced, and the cleaning process It is possible to improve the production efficiency by reducing the tact time of the entire process.

상술한 바와 같이, 상기 한 쌍의 프레임, 즉 제1 프레임(10a)과 제2 프레임(10b) 상에는 상기 회전바(30)의 각 끝단이 회전 가능하게 결합된다. 이를 위하여, 본 발명에 따른 상기 제1 프레임(10a)과 제2 프레임(10b)의 각 상부에는 서로 이격되어 상측으로 돌출되는 분리벽(11a, 11b)들이 연속해서 형성되고, 인접하고 있는 분리벽에 의하여 브라켓 장착부(13a, 13b)들이 형성되며, 상기 각 브라켓 장착부에는 상기 회전바(30)의 끝단에 결합되는 베어링 조립체(50a, 50b)가 장착되는 브라켓(70a, 70b)이 삽입 결합된다.As described above, each end of the rotary bar 30 is rotatably coupled to the pair of frames, i.e., the first frame 10a and the second frame 10b. For this purpose, separation walls 11a and 11b are formed on upper portions of the first frame 10a and the second frame 10b, which are separated from each other and protrude upward, Brackets 70a and 70b to which the bearing assemblies 50a and 50b to be coupled to the ends of the rotary bar 30 are inserted are inserted into the respective bracket mounting portions by the bracket mounting portions 13a and 13b.

상기 분리벽(11a, 11b)은 제1 프레임(10a) 상부에 소정 간격 이격되어 돌출 형성되는 분리벽(11a)과 제2 프레임(10b) 상부에 소정 간격 이격되어 돌출 형성되는 분리벽(11b)으로 구분될 수 있다.The separation walls 11a and 11b are divided into a separation wall 11a protruding from the first frame 10a at a predetermined interval and a separation wall 11b protruding from the second frame 10b, .

상기 제1 프레임(10a) 상에 형성되는 분리벽(11a)과 상기 제2 프레임(10b) 상에 형성되는 분리벽(11b)은 동일한 길이로 돌출 형성되는 것이 바람직하고, 상기 제1 프레임(10a) 상에 형성되는 분리벽(11a)들은 서로 동일한 길이로 돌출 형성되는 것이 바람직하며, 상기 제2 프레임(10b) 상에 형성되는 분리벽(11b)들도 역시 동일한 길이로 돌출 형성되는 것이 바람직하다.It is preferable that the separation wall 11a formed on the first frame 10a and the separation wall 11b formed on the second frame 10b are protruded to have the same length and the first frame 10a The separation walls 11a formed on the second frame 10b are preferably protruded to have the same length and the separation walls 11b formed on the second frame 10b are also protruded to have the same length .

다만, 상기 제1 프레임(10a) 상에 형성되는 분리벽(11a)들은 서로 동일한 높이를 가지도록 형성되고, 상기 제2 프레임(10) 상에 형성되는 분리벽(11b)들은 서로 동일한 길이를 가지지만, 상기 기판이 이송되는 방향으로 갈수록 높이가 연속해서 상승되다가 다시 연속해서 하강될 수 있는 구간에서는 서로 다른 높이를 가지도록 형성되는 것이 바람직하다.However, the separation walls 11a formed on the first frame 10a are formed to have the same height, and the separation walls 11b formed on the second frame 10 have the same length However, it is preferable that the height is formed so as to have a different height in a section where the height is continuously increased in the direction in which the substrate is conveyed and then continuously lowered.

즉, 상기 제2 프레임(10b) 상에 형성되는 분리벽(11b)들은 도 3에 도시된 바와 같이, 기판이 이송되는 방향으로, 서로 동일한 높이를 가지는 제1 수평 구간(a), 수평 구간이 끝나는 지점부터 연속적으로 높이가 높아지는 상승 구간(b), 상승 구간이 끝나는 지점부터 서로 동일한 높이를 가지는 제2 수평 구간(c), 제2 수평 구간이 끝나는 지점부터 연속적으로 높이가 낮아지는 하강 구간(d) 및 하강 구간이 끝나는 지점부터 서로 동일한 높이를 가지는 제3 수평 구간(e)으로 구분 형성되고, 상기 기판이 이송되는 방향으로 갈수록 높이가 연속해서 상승되다가 다시 연속해서 하강될 수 있는 구간(상승 구간, 하강 구간)에서의 분리벽(11b)들은 서로 다른 높이를 가지도록 형성된다.That is, as shown in FIG. 3, the separation walls 11b formed on the second frame 10b are divided into a first horizontal section (a) having the same height as each other, a horizontal section (B), a second horizontal section (c) having the same height from the end of the rising section, and a falling section in which the height is continuously lowered from the end of the second horizontal section (d) and a third horizontal section e having the same height from the end of the falling section, wherein the height is continuously increased in the direction in which the substrate is conveyed, The separation walls 11b are formed so as to have different heights.

상기 제1 프레임(10a) 상에 형성되는 분리벽(11a)들 사이에 의하여 형성되는 공간인 브라켓 장착부(13a)와 상기 제2 프레임(10b) 상에 형성되는 분리벽(11b)들 사이에 의하여 형성되는 공간인 브라켓 장착부(13b)는 동일한 크기 및 형상으로 형성되는 것이 바람직하다. 또한, 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 제1 프레임(10a) 상에 형성되는 분리벽(11a)들 사이에 의하여 형성되는 공간인 브라켓 장착부(13a)들은 서로 동일한 깊이를 가지는 것이 바람직하다. 즉 상기 제1 프레임(10a) 상부에 형성되는 브라켓 장착부(13a)들의 바닥면(13a')은 모두 서로 동일한 높이를 유지하는 것이 바람직하다.Between the bracket mounting portion 13a which is a space formed between the partition walls 11a formed on the first frame 10a and the partition walls 11b formed on the second frame 10b The bracket mounting portion 13b, which is a space to be formed, is preferably formed in the same size and shape. Also, as shown in FIG. 2, the bracket mounting portions 13a, which are spaces formed by the partition walls 11a formed on the first frame 10a, may have the same depth. That is, the bottom surfaces 13a 'of the bracket mounting portions 13a formed on the first frame 10a preferably have the same height.

그러나, 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 제2 프레임(10b) 상에 형성되는 분리벽(11b)들 사이에 의하여 형성되는 공간인 브라켓 장착부(13b)들은 서로 다른 깊이를 가지는 것이 바람직하다. 즉 상기 제2 프레임(10b) 상부에 연속해서 형성되는 브라켓 장착부(13b)들의 바닥면(13b')은 기판(1)이 이송되는 방향으로 갈수록 연속해서 높이가 상승되다가 다시 연속해서 하강될 수 있는 구간을 가질 수 있도록 형성되는 것이 바람직하다. However, as shown in FIG. 3, it is preferable that the bracket mounting portions 13b, which are spaces formed by the separation walls 11b formed on the second frame 10b, have different depths. That is, the bottom surface 13b 'of the bracket mounting portions 13b continuously formed on the upper portion of the second frame 10b can be continuously elevated in height in the direction in which the substrate 1 is conveyed, It is preferable to be formed so as to have a section.

구체적으로, 상기 제2 프레임(10b) 상부에 연속해서 형성되는 브라켓 장착부(13b)들의 바닥면(13b')들은 기판이 이송되는 방향으로, 서로 동일한 높이를 가지는 제1 수평 구간(a), 수평 구간이 끝나는 지점부터 연속적으로 높이가 높아지는 상승 구간(b), 상승 구간이 끝나는 지점부터 서로 동일한 높이를 가지는 제2 수평 구간(c), 제2 수평 구간이 끝나는 지점부터 연속적으로 높이가 낮아지는 하강 구간(d) 및 하강 구간이 끝나는 지점부터 서로 동일한 높이를 가지는 제3 수평 구간(e)으로 구분 형성된다.Specifically, the bottom surfaces 13b 'of the bracket mounting portions 13b continuously formed on the second frame 10b are divided into a first horizontal section a having the same height as the first horizontal section a, (B) in which the height increases continuously from the end of the section, a second horizontal section (c) having the same height from the end of the rising section, and a descending descending continuously from the end of the second horizontal section (D) and a third horizontal section (e) having the same height from the end of the falling section.

상기와 같은 브라켓 장착부(13a, 13b)에는 상기 회전바(30)의 끝단에 결합되는 베어링 조립체(50a, 50b)가 장착되는 브라켓(70a, 70b)이 삽입 결합된다. 구체적으로, 제1 프레임(10a) 상부에 형성되는 브라켓 장착부(13a)에는 회전바(30)의 일단(30a)에 결합되는 베어링 조립체(50a)가 장착되는 브라켓(70a)이 삽입 결합되고, 제2 프레임(10b) 상부에 형성되는 브라켓 장착부(13b)에는 회전바(30)의 타단(30b)에 결합되는 베어링 조립체(50b)가 장착되는 브라켓(70b)이 삽입 결합된다.Brackets 70a and 70b to which the bearing assemblies 50a and 50b coupled to the ends of the rotary bar 30 are inserted are inserted into the bracket mounting portions 13a and 13b. Specifically, a bracket 70a to which a bearing assembly 50a to be coupled to one end 30a of the rotary bar 30 is inserted is inserted into the bracket mounting portion 13a formed on the upper portion of the first frame 10a, The bracket 70b to which the bearing assembly 50b to be coupled to the other end 30b of the rotary bar 30 is inserted is inserted into the bracket mounting portion 13b formed on the upper portion of the second frame 10b.

상기 회전바(30)의 일단(30a)에 결합되는 베어링 조립체(50a)와 상기 회전바(30)의 타단(30b)에 결합되는 베어링 조립체(50b)는 동일한 형상 및 사이즈를 가지는 것이 바람직하다.It is preferable that the bearing assembly 50a coupled to one end 30a of the rotary bar 30 and the bearing assembly 50b coupled to the other end 30b of the rotary bar 30 have the same shape and size.

그리고, 상기 회전바(30)의 일단(30a)에 결합되는 베어링 조립체(50a)가 장착되는 브라켓(70a) 및 상기 회전바(30)의 타단(30b)에 결합되는 베어링 조립체(50b)가 장착되는 브라켓(70b)은 서로 동일한 사이즈로 형성되는 것이 바람직하다.A bracket 70a to which a bearing assembly 50a coupled to one end 30a of the rotary bar 30 is mounted and a bearing assembly 50b to be coupled to the other end 30b of the rotary bar 30 are mounted It is preferable that the brackets 70b are formed in the same size.

다만 상기 기판(1)이 이송되는 방향으로 갈수록 연속해서 높이가 상승되다가 다시 연속해서 하강될 수 있는 구간에 형성되는 브라켓 장착부(13a, 13b)에 삽입 결합되는 각 브라켓(70a, 70b)은 상기 베어링 조립체(50a, 50b)가 안착되는 바닥 접촉면(70a', 70b')이 경사지도록 형성되는 것이 바람직하다.Each of the brackets 70a and 70b, which are inserted into the bracket mounting portions 13a and 13b formed in a section where the height of the board 1 is continuously increased in the direction in which the board 1 is conveyed and then can be continuously lowered, It is preferable that the bottom contact surfaces 70a 'and 70b' on which the assemblies 50a and 50b are mounted are formed to be inclined.

구체적으로, 도 5에 도시된 바와 같이, 제1 수평 구간, 상승 구간, 제2 수평 구간, 하강 구간 및 제3 수평 구간 중, 상기 상승 구간, 제2 수평 구간 및 하강 구간에 포함되는 브라켓 장착부(13a, 13b)에 삽입되어 장착 결합되는 상기 브라켓(70a, 70b)들의 바닥 접촉면(70a', 70b')들은 수평하게 형성되는 것이 아니라 상기 회전바(30)의 길이 방향으로 경사지도록 형성된다.Specifically, as shown in FIG. 5, a bracket mounting part (not shown) included in the rising section, the second horizontal section and the falling section of the first horizontal section, the rising section, the second horizontal section, the falling section and the third horizontal section The bottom contact surfaces 70a 'and 70b' of the brackets 70a and 70b which are inserted into the brackets 13a and 13b to be mounted and coupled are formed not to be horizontally but to be inclined in the longitudinal direction of the rotary bar 30.

이와 같이, 상기 상승 구간, 제2 수평 구간 및 하강 구간에 포함되는 브라켓 장착부(13a, 13b)에 삽입되어 장착 결합되는 상기 브라켓(70a, 70b)들의 바닥 접촉면(70a', 70b')들이 경사지도록 형성되는 이유는 상기 회전바(30)가 경사지게 배치됨에 따라, 상기 회전바(30)의 일단(30a) 및 타단(30b)에 각각 결합되는 베어링 조립체(50a, 50b)가 상기 브라켓(70a, 70b)들의 바닥 접촉면(70a', 70b')에 경사지도록 접촉되기 때문이다.In this way, the bottom contact surfaces 70a 'and 70b' of the brackets 70a and 70b inserted into the bracket mounting portions 13a and 13b included in the rising section, the second horizontal section and the falling section are inclined The reason why the rotation bar 30 is formed is that the bearing assemblies 50a and 50b coupled to one end 30a and the other end 30b of the rotary bar 30 are inserted into the brackets 70a and 70b (70a ', 70b').

즉, 상기 상승 구간, 제2 수평 구간 및 하강 구간에서의 경사지게 배치되는 상기 회전바(30)의 양 끝단에 결합되는 베어링 조립체 역시 회전바와 동일한 각도로 경사지게 배치되고, 이 경사지게 배치되는 베어링 조립체의 바닥면과 구조적으로 맞접되는 상기 브라켓(70a, 70b)들의 바닥 접촉면(70a', 70b') 역시 상기 베어링 조립체의 경사도와 동일하게 경사지게 형성된다. 이를 통하여 상기 브라켓과 상기 베어링 조립체가 구조적으로 안정되고, 견고하게 결합될 수 있도록 한다.That is, the bearing assemblies that are coupled to both ends of the rotating bar 30, which are disposed obliquely in the rising section, the second section, and the falling section, are also inclined at the same angle as the rotating bar, The bottom contact surfaces 70a ', 70b' of the brackets 70a, 70b, which are structurally in contact with the surface, are also sloped to be equal to the inclination of the bearing assembly. Thereby allowing the bracket and the bearing assembly to be structurally stable and firmly coupled.

이와 같이 구성되는 기판 이송 장치(100)를 통하여 상기 기판(1)을 이송하면, 상기 기판(1)은 이송하는 과정에서 자연스럽게 틸팅이 이루어지고, 상측에 배치되는 분사 모듈(미도시)에서 공정 액체가 분사되면, 이 공정 액체는 상기 기판의 한쪽에서 반대쪽으로 흐르게 되며, 이로 인하여 상기 기판에 대한 세정 또는 에칭 공정이 효과적으로 수행될 수 있다. 즉, 공정 액체의 잔류 등의 의한 문제점을 해결할 수 있다.When the substrate 1 is transferred through the substrate transfer apparatus 100 constructed as described above, the substrate 1 is tilted naturally in the process of transferring, and the process liquid (not shown) The process liquid flows from one side of the substrate to the other side, whereby the cleaning or etching process for the substrate can be effectively performed. That is, it is possible to solve the problem caused by the remaining of the process liquid.

또한, 별도의 틸팅 장치를 사용하지 않기 때문에, 구조적으로 단순화되고, 장비 가격을 감소시킬 수 있으며, 별도의 틸팅 장치를 이용하여 틸팅하는 과정에서 대형 기판의 파손 등을 미연에 방지할 수 있으며, 틸팅 장치에 의한 틸팅 과정에서 발생되는 기판 이송 정지가 필요없기 때문에 택트 타임이 감소되어 생산 효율을 향상시킬 수 있는 장점이 있다.In addition, since a separate tilting device is not used, the structure can be simplified, the cost of equipment can be reduced, and a large substrate can be prevented from being damaged in a process of tilting by using a separate tilting device, Since there is no need to stop the substrate transfer generated in the tilting process by the apparatus, the tact time is reduced and the production efficiency can be improved.

이상에서 본 발명에 따른 실시예들이 설명되었으나, 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 분야에서 통상적 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 범위의 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 다음의 특허청구범위에 의해서 정해져야 할 것이다.
While the invention has been shown and described with reference to certain preferred embodiments thereof, it will be understood by those skilled in the art that various changes and modifications may be made without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims. Accordingly, the true scope of the present invention should be determined by the following claims.

1 : 기판 10a : 제1 프레임
10b : 제2 프레임 11a : 제1 프레임의 분리벽
11b : 제2 프레임의 분리벽 13a : 제1 프레임의 브라켓 장착부
13a' : 제1 프레임 상부에 형성된 브라켓 장착부의 바닥면
13b : 제2 프레임의 브라켓 장착부 13b' : 제2 프레임 상부에 형성된 브라켓 장착부의 바닥면 30 : 회전바
30a : 회전바의 일단 30b : 회전바의 타단
31 : 지지링 50a, 50b : 베어링 조립체
70a, 70b : 브라켓 70a', 70b' : 베어링 조립체가 안착되는 브라켓의 바닥 접촉면 100 : 기판 이송 장치1: substrate 10a: first frame
10b: second frame 11a: separation wall of the first frame
11b: separation wall of the second frame 13a: bracket mounting portion of the first frame
13a ': a bottom surface of the bracket mounting part formed on the upper part of the first frame
13b: bracket mounting portion 13b 'of the second frame: bottom surface of the bracket mounting portion formed on the upper portion of the second frame 30:
30a: one end of the rotation bar 30b: the other end of the rotation bar
31: support ring 50a, 50b: bearing assembly
70a, 70b: Brackets 70a ', 70b': bottom contact surface of the bracket on which the bearing assembly is seated 100:

Claims (4)

기판 이송 장치에 있어서,
서로 마주보도록 배치되는 제1 프레임과 제2 프레임으로 구성되는 한 쌍의 프레임;
상기 제1 프레임 상에 일단이 회전 가능하게 장착되고, 제2 프레임 상에 타단이 회전 가능하게 결합되되, 상호 이격되어 연속해서 배치되는 복수개의 회전바를 포함하여 구성되되,
상기 제1 프레임 상에 장착되는 각각의 회전바들의 일단은 서로 동일한 높이를 유지하고, 상기 제2 프레임 상에 연속해서 장착되는 회전바들의 타단은 기판이 이송되는 방향으로 갈수록 높이가 연속해서 상승되다가 다시 연속해서 하강될 수 있는 구간을 가질 수 있도록 장착되고,
상기 제1 프레임과 제2 프레임의 각 상부에는 서로 이격되어 상측으로 돌출되는 분리벽들이 연속해서 형성되고, 인접하고 있는 분리벽에 의하여 브라켓 장착부들이 형성되며, 상기 각 브라켓 장착부에는 상기 회전바의 끝단에 결합되는 베어링 조립체가 장착되는 브라켓이 삽입 결합되고,
상기 제1 프레임 상에 형성되는 분리벽들은 서로 동일한 길이 및 높이를 가지도록 형성되고, 상기 제2 프레임 상에 형성되는 분리벽들은 서로 동일한 길이를 가지지만, 상기 기판이 이송되는 방향으로 갈수록 높이가 연속해서 상승되다가 다시 연속해서 하강될 수 있는 구간에서는 서로 다른 높이를 가지도록 형성되며,
상기 제1 프레임 상부에 형성되는 브라켓 장착부들의 바닥면은 서로 동일한 높이를 유지하고, 상기 제2 프레임 상부에 연속해서 형성되는 브라켓 장착부들의 바닥면은 기판이 이송되는 방향으로 갈수록 연속해서 높이가 상승되다가 다시 연속해서 하강될 수 있는 구간을 가질 수 있도록 형성되며, 상기 브라켓은 동일한 사이즈로 형성되는 것을 특징으로 하는 기판 이송 장치.
In the substrate transfer apparatus,
A pair of frames composed of a first frame and a second frame arranged to face each other;
A plurality of rotation bars mounted on the first frame such that one end thereof is rotatably mounted on the first frame and the other end is rotatably mounted on the second frame,
Wherein one end of each of the rotating bars mounted on the first frame maintains the same height as each other and the other end of the rotating bars continuously mounted on the second frame is continuously elevated in height in a direction in which the substrate is transported Is mounted so as to have a section that can be continuously lowered again,
Wherein the first and second frames are separated from each other by upper portions of the first frame and the second frame, and the bracket mounting portions are formed by adjacent separation walls, A bracket to which the bearing assembly is coupled,
The separation walls formed on the first frame are formed to have the same length and height as each other, and the separation walls formed on the second frame have the same length, but the height increases toward the direction in which the substrate is conveyed And are formed so as to have different heights in a section where they can be continuously raised and then continuously lowered again,
The bottom surfaces of the bracket mounting portions formed on the upper portion of the first frame maintain the same height and the bottom surfaces of the bracket mounting portions continuously formed on the upper portion of the second frame are continuously heightened in the direction in which the substrate is transported Wherein the bracket is formed to have a section that can be continuously lowered again, and the brackets are formed in the same size.
삭제delete 삭제delete 청구항 1에 있어서,
상기 기판이 이송되는 방향으로 갈수록 연속해서 높이가 상승되다가 다시 연속해서 하강될 수 있는 구간에 형성되는 브라켓 장착부에 삽입 결합되는 각 브라켓은 상기 베어링 조립체가 안착되는 바닥 접촉면이 경사지도록 형성되는 것을 특징으로 하는 기판 이송 장치.
The method according to claim 1,
Each of the brackets inserted and coupled to the bracket mounting portion formed in a section where the height of the board is continuously increased in the direction in which the board is conveyed and then can be continuously lowered is formed so that the bottom contact surface on which the bearing assembly is mounted is inclined .
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