KR101541795B1 - a nozzle pipe for chemical vapor deposition - Google Patents

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Abstract

본 발명은 화학적 기상 증착장치의 진공챔버 내부로 화합물가스를 분사하는 노즐관에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 노즐관에서 분사되는 화합물가스가 진공챔버의 내부에 고르게 분사되어 플렉시블필름의 표면에 균일한 두께를 갖는 고기능성 박막(薄膜)이 형성될 수 있도록 한 발명에 관한 것이다.
전술한 본 발명의 특징은, 진공펌프(11)에 의하여 진공이 유지되는 진공챔버(10)의 내부에 장착된 노즐관(20)에서 화합물가스를 분사하여 모재(母材)에 박막을 형성하는 화학적 기상 증착장치에 있어서, 상기 노즐관(20)은, 화합물가스가 공급되는 내관(21)과 외부에 씌워지는 외관(22)으로 구성되고, 내·외관(21)(22)들 사이에는 양측이 막혀진 공간부(23)가 형성되며, 내관(21)에 뚫려진 미세 노즐공(21a)을 통해 분사된 화합물가스가 공간부(23)로 유입된 후 외관(22)의 노즐공(22a)을 통해 균일하게 분사되어 모재(1)에 박막을 형성할 수 있도록 한 것을 특징으로 하는 화학적 기상 증착장치용 가스분사 노즐관에 의하여 달성될 수 있는 것이다.The present invention relates to a nozzle tube for injecting a compound gas into a vacuum chamber of a chemical vapor deposition apparatus, and more particularly, to a nozzle tube for injecting compound gas into a vacuum chamber of a chemical vapor deposition apparatus, Functional thin film (thin film) having a predetermined thickness can be formed.
A feature of the present invention is that a thin film is formed on a base material by spraying a compound gas in a nozzle tube 20 mounted inside a vacuum chamber 10 in which a vacuum is maintained by a vacuum pump 11 In the chemical vapor deposition apparatus, the nozzle tube 20 is composed of an inner tube 21 to which compound gas is supplied and an outer tube 22 to cover the outer surface, and between the inner and outer tubes 21 and 22, The compound gas injected through the fine nozzle holes 21a opened in the inner tube 21 flows into the space portion 23 and then the nozzle holes 22a of the outer tube 22 So that a thin film can be formed on the base material 1. The gas injection nozzle tube for a chemical vapor deposition apparatus according to the present invention is characterized in that the gas injection nozzle tube is uniformly sprayed through the gas injection nozzle tube.

Description

화학적 기상 증착장치용 가스분사 노즐관{a nozzle pipe for chemical vapor deposition}A nozzle pipe for chemical vapor deposition for a chemical vapor deposition apparatus,

본 발명은 화학적 기상 증착장치의 진공챔버 내부로 화합물가스를 분사하는 노즐관에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 노즐관에서 분사되는 화합물가스가 진공챔버의 내부에 고르게 분사되어 플렉시블필름의 표면에 균일한 두께를 갖는 고기능성 박막(薄膜)이 형성될 수 있도록 한 발명에 관한 것이다.
The present invention relates to a nozzle tube for injecting a compound gas into a vacuum chamber of a chemical vapor deposition apparatus, and more particularly, to a nozzle tube for injecting compound gas into a vacuum chamber of a chemical vapor deposition apparatus, Functional thin film (thin film) having a predetermined thickness can be formed.

일반적으로 화학적 기상증착(CVD)은 기체상태의 화합물을 모재의 표면에서 반응시켜 화합물가스를 모재(母材)의 표면에 증착시키는 방법으로 현재 상업적으로 이용되는 박막제조기술로 활용되고 있으며, 플렉시블필름은 연성회로기판(FPCB)과 같이 얇은 필름에 도전(導電) 패턴을 형성하여 3차원 배선이 가능하고, 소형화 및 경량화가 가능하여 휴대폰, 카메라, 모바일(mobile) 제품과 같은 각종 전자제품의 신경회로로 사용된다.In general, chemical vapor deposition (CVD) is a method of depositing a compound gas on the surface of a base material by reacting a gaseous compound on the surface of the base material, and is utilized as a commercially available thin film manufacturing technology. (Conductive pattern) formed on a thin film such as a flexible circuit board (FPCB) to enable three-dimensional wiring, and miniaturization and weight reduction can be achieved, and thus, a nerve circuit of various electronic products such as a mobile phone, a camera, .

이와 같은 플렉시블필름에는 전자회로를 보호하고 필름의 내구성을 강화하기 위하여 박막 형태의 보호막을 형성하는 것이 일반적이고 주로, 화학 기상증착(CVD) 공정에서는 노즐을 통해 화합물가스를 분사하여 플렉시블필름에 얇은 박막(薄膜)을 형성한다.In order to protect the electronic circuit and enhance the durability of the film, it is common to form a protective film in the form of a thin film. In the chemical vapor deposition (CVD) process, a compound film is sprayed through a nozzle to form a thin film (Thin film) is formed.

그러나, 얇은 유연성 필름에 박막을 형성하는 경우에는 가스의 분사가 균일하게 이루어져 일정 두께는 갖는 박막이 형성되도록 하는 것이 중요하나 노즐공을 통해 분사되는 가스의 분사가 균일하게 이루어지지 않고, 노즐공에 따라 분사 압력 및 분사되는 가스의 양이 각각 다르게 형성되어 일정 두께를 갖는 고기능성의 박막을 제조하기 어려웠다.However, when a thin film is formed on a thin flexible film, it is important that the gas is uniformly injected so that a thin film having a certain thickness is formed. However, the injection of the gas injected through the nozzle hole is not uniform, The injection pressure and the amount of the gas to be injected are different from each other, making it difficult to produce a high-performance thin film having a certain thickness.

종래에는 공개특허 제10-2004-0075250호 "고밀도 플라즈마 화학 기상 증착 장치의 측면 노즐"(선행기술1) 및 등록특허 제10-0578138호 "플라즈마 처리 장치에 사용되는 분사관 및 이를 가지는 플라즈마 화학 기상증착 장치"(인용발명2)이 제안된 바 있다.Conventionally, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-2004-0075250 entitled " Side Nozzle of High Density Plasma Chemical Vapor Deposition Device "(Prior Art 1) and Japanese Patent Registration No. 10-0578138 entitled" a spray tube used in a plasma processing apparatus and a plasma chemical vapor phase Quot; deposition apparatus "(Reference 2) has been proposed.

상기 선행기술1은 챔버의 내부 탑 노즐을 중심으로 측면노즐이 방사형으로 설치되고, 측면노즐 몸체의 내부에 형성된 주노즐관에는 분기되는 보조노즐관이 형성되어 다수개의 분사노즐구멍이 뚫려진 고밀도 플라즈마 화학 기상 증착장치의 측면 노즐이다.In the prior art 1 , a side nozzle is radially disposed around an inner top nozzle of the chamber, and an auxiliary nozzle tube branched from the main nozzle tube formed inside the side nozzle body is formed, and a high density plasma Side nozzle of the chemical vapor deposition apparatus.

상기 선행기술2는 노즐의 외부관의 선단에는 외부관에 비해 직경이 작으면서 짧은 내부관이 연결부재로 결합되어 공정가스가 내부관의 통공을 통해 분사되면서 내부관과 외부관 사이에 형성된 공간으로도 분산되어 흐르도록 구성한 플라즈마 처리 장치에 사용되는 분사관이다.In the prior art 2 , a short inner tube is connected to the connecting member at a tip of the outer tube of the nozzle, the diameter of which is smaller than that of the outer tube, and the process gas is injected through the through hole of the inner tube, Is a spray tube used in a plasma processing apparatus configured to flow in a dispersed manner.

그러나, 선행기술1은 탑 노즐을 중심으로 측면노즐들이 방사형으로 설치되어 노즐의 설치가 복잡하고 상당한 비용이 소요되었을 뿐 아니라 몸체의 내부에서 주노즐관이 보조노즐관으로 분기되는 단순 구성이므로 공정가스를 고르게 분사할 수 없었다.However, in the prior art 1 , since the side nozzles are arranged radially around the top nozzle, the installation of the nozzle is complicated and a considerable cost is required. In addition, since the main nozzle tube is branched into the auxiliary nozzle tube in the inside of the body, It was impossible to spray uniformly.

또한, 선행기술2는 공정가스가 내부관에 형성된 통공과 내·외부관과 사이에 형성된 공간으로도 분산되어 흐르도록 구성한 것이므로 균일한 압력으로 고르게 공정가스를 분사할 수 없는 구조이다.
 Prior Art 2 is a structure in which the process gas can not be uniformly injected at a uniform pressure because the process gas is dispersed into the space formed between the through hole formed in the inner pipe and the inner and outer pipes.

본 발명은 상기한 문제점을 감안하여 창안한 것으로서, 그 목적은 내관을 통해 분사하는 화합물가스가 외관에 주입되어 일정한 압력을 유지한 상태에서 외관의 노즐공을 통해 고르게 분사되어 플렉시블필름에 균일한 두께의 박막을 형성할 수 있도록 구성한 화학적 기상 증착장치용 가스분사 노즐관을 제공함에 있는 것이다.
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and it is an object of the present invention to provide a flexible film which uniformly injects a compound gas injected through an inner tube, And a thin film of a gas spraying nozzle for a chemical vapor deposition apparatus.

상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 특징은, 진공펌프(11)에 의하여 진공이 유지되는 진공챔버(10)의 내부에 장착된 노즐관(20)에서 화합물가스를 분사하여 모재(母材)에 박막을 형성하는 화학적 기상 증착장치의 상기 노즐관(20)은 화합물가스가 공급되는 내관(21)과 외부에 씌워지는 외관(22)으로 구성되고, 내·외관(21)(22)들 사이에는 양측이 막혀진 공간부(23)가 형성되며, 내관(21)에 뚫려진 미세 노즐공(21a)을 통해 분사된 화합물가스가 공간부(23)로 유입된 후 외관(22)의 노즐공(22a)을 통해 균일하게 분사되어 모재(1)에 박막을 형성할 수 있도록 구성된 화학적 기상 증착장치용 가스분사 노즐관에 있어서, 상기 내관(21)과 외관(22)에 각각 뚫려진 미세 노즐공(21a)(22a)들은 분사방향이 반대 방향으로 형성되고, 외관(22)의 양측에 형성된 너트체(30)에는 내관(21)이 관통 결합된 볼트체(31)가 나사 결합되어 내·외관(21)(22)들 사이에 공간부(23)가 형성될 수 있도록 한 것을 특징으로 하는 화학적 기상 증착장치용 가스분사 노즐관에 의하여 달성될 수 있는 것이다.
In order to achieve the above object, the present invention is characterized in that a compound gas is injected in a nozzle tube (20) mounted inside a vacuum chamber (10) in which a vacuum is maintained by a vacuum pump (11) The nozzle tube 20 of the chemical vapor deposition apparatus for forming a thin film is formed of an inner tube 21 to which compound gas is supplied and an outer tube 22 to cover the outer surface, The compound gas injected through the fine nozzle holes 21a opened in the inner tube 21 is introduced into the space portion 23 and then injected into the space portion 23 of the outer tube 22, (22), and a thin film can be formed on the base material (1), the gas injection nozzle tube for a chemical vapor deposition apparatus comprising a fine nozzle hole And the nut member 30 formed on both sides of the outer tube 22 is provided with the inner tube 2 Wherein the gas injection nozzle for chemical vapor deposition apparatus is characterized in that the bolt body (31) is threadedly coupled with the inner and outer tubes (21) and (22) It can be achieved by the pipe.

이상에서 상술한 바와 같은 본 발명은, 노즐관(20)의 내관(21)을 통해 공급된 화합물가스가 내·외관(21)(22)들 사이에 형성된 밀폐된 공간부(23)로 유입된 후 공간부(23)에서 일시 정체하여 일정한 압력을 유지한 상태에서 외관(22)의 노즐공(21a)을 통해 고르게 분사되는 것이므로 모재(1)에 균일한 두께를 갖는 고기능성의 박막(薄膜)을 형성할 수 있는 것으로서 노즐관(20)의 성능이 우수하면서도 증착(蒸着)작업의 효율을 높여줄 수 있는 고기능성의 화학적 기상 증착장치를 제공할 수 있는 동시에 모재(1)가 유연성 재질인 플렉시블필름으로 형성된 경우에도 내관(21)과 외관(22) 사이의 공간부(23)를 통해 일정 압력으로 분사되는 화합물가스가 플렉시블필름의 넓은 면에 고르게 분사되어 균일한 두께의 박막을 형성할 수 있는 것으로서 대외 경쟁력이 우수한 고기능성의 노즐관을 제공할 수 있는 등의 이점이 있다.
The present invention as described above can be applied to the case where the compound gas supplied through the inner tube 21 of the nozzle tube 20 flows into the closed space portion 23 formed between the inner and outer tubes 21 and 22 And is uniformly sprayed through the nozzle hole 21a of the outer tube 22 in a state of being temporarily stagnated in the rear space portion 23 and maintaining a constant pressure. Therefore, a highly functional thin film (thin film) It is possible to provide a high functional chemical vapor deposition apparatus capable of improving the efficiency of the deposition work while having excellent performance of the nozzle tube 20 and at the same time providing the base material 1 with a flexible The compound gas injected at a constant pressure through the space portion 23 between the inner tube 21 and the outer tube 22 is uniformly sprayed onto the wide surface of the flexible film to form a thin film having a uniform thickness It has excellent foreign competitiveness. There are advantages such as to provide a nozzle tube of possibilities.

도 1은 본 발명의 일실시예를 예시한 분해사시도,
도 2는 본 발명의 일실시예를 예시한 결합사시도,
도 3은 본 발명의 일부를 확대한 단면도,
도 4는 본 발명에 의한 노즐관이 가스 공급관에 결합되는 상태를 예시한 사시도,
도 5는 본 발명에 의한 노즐관이 화학적 기상 증착장치에 설치된 상태를 예시한 단면도,
도 6은 본 발명에 의한 노즐관이 화학적 기상 증착장치에 설치된 상태를 예시한 사시도.1 is an exploded perspective view illustrating an embodiment of the present invention,
2 is a perspective view illustrating an embodiment of the present invention,
FIG. 3 is a cross-sectional view of a part of the present invention,
4 is a perspective view illustrating a state in which the nozzle tube according to the present invention is coupled to the gas supply pipe;
5 is a cross-sectional view illustrating a state in which a nozzle tube according to the present invention is installed in a chemical vapor deposition apparatus;
6 is a perspective view illustrating a state in which a nozzle tube according to the present invention is installed in a chemical vapor deposition apparatus;

이하, 상기한 목적을 달성하기 위한 바람직한 실시예를 첨부된 도면에 의하여 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1 내지는 도 6에서 도시한 바와 같이, 본 발명에 의한 화학적 기상 증착장치는 진공챔버(10)의 하부에 진공펌프(11)가 장착되어 진공펌프(11)에서 발생되는 흡입력에 의하여 진공챔버(10)의 내부가 진공으로 유지될 수 있도록 구성되고, 진공챔버(10)의 내부에는 노즐관(20)이 장착되어 모재(母材)에 화합물가스를 분사하여 박막(薄膜)을 형성할 수 있도록 구성되어 있다.1 to 6, a chemical vapor deposition apparatus according to the present invention is characterized in that a vacuum pump 11 is mounted on a lower portion of a vacuum chamber 10 and a vacuum chamber 11 And a nozzle tube 20 is installed inside the vacuum chamber 10 so that a thin film can be formed by spraying a compound gas onto the base material. Consists of.

상기 노즐관(20)은 화합물가스가 공급되는 내관(21)과 외부에 씌워지는 외관(22)으로 구성되어 있다.The nozzle tube 20 is composed of an inner tube 21 to which compound gas is supplied and an outer tube 22 to cover the outer tube.

상기 내관(21)은 가스탱크(도시하지 않았음)와 호스(hose) 및 펌프로 연결되어 가스가 펌핑(pumping)된 후 내관(21)의 내부로 유입될 수 있도록 구성되어 있다.The inner pipe 21 is connected to a gas tank (not shown) through a hose and a pump so that the gas can be pumped into the inner pipe 21 after being pumped.

상기 내관(21)과 외관(22)들 사이에는 양측이 막혀진 공간부(23)가 형성되어 있고, 밀폐된 공간부(23)에는 내관(21)에 뚫려진 미세 노즐공(21a)을 통해 분사된 화합물가스가 유입되어 일정한 압력을 유지한 상태에서 외관(22)에 뚫려진 노즐공(22a)을 통해 분사된다.A space 23 is formed between the inner tube 21 and the outer tube 22 so that the space 23 is closed with a fine nozzle hole 21a formed in the inner tube 21 The injected compound gas is injected and injected through the nozzle hole 22a bored in the outer tube 22 while maintaining a constant pressure.

상기 내관(21)과 외관(22)에 각각 뚫려진 미세 노즐공(21a)(22a)들은 분사방향이 반대 방향으로 형성되어 있다.The fine nozzle holes 21a and 22a formed in the inner tube 21 and the outer tube 22 are formed in the opposite directions to each other.

따라서, 내관(21)의 노즐공(21a)을 통해 분사된 화합물가스가 외관(22)의 노즐공(21a)을 통해 직접 배출되지 않고, 공간부(23)에서 일시 정체하였다가 분사될 수 있도록 구성되어 일정 압력을 유지할 수 있도록 구성되어 있다.Therefore, the compound gas injected through the nozzle hole 21a of the inner tube 21 is temporarily discharged from the space portion 23 without being discharged directly through the nozzle hole 21a of the outer tube 22, And is configured to maintain a constant pressure.

즉, 상기 외관(22)의 양측에 형성된 너트체(30)에는 내관(21)이 관통 결합된 볼트체(31)가 나사 결합되어 내·외관(21)(22)들 사이에 공간부(23)가 형성되고, 공간부(23)는 양측이 막혀진 상태를 유지하여 화합물가스가 일시 정체하는 챔버(chamber) 역할을 수행한다.A bolt body 31 having an inner tube 21 inserted therein is screwed into the nut body 30 formed on both sides of the outer tube 22 to form a space portion 23 between the inner and outer tubes 21 and 22 And the space portion 23 is maintained in a closed state on both sides thereof to function as a chamber in which the compound gas temporarily stagnates.

상기 노즐관(20)은 도 4 내지는 도6에서 도시한 바와 같이, 외부 가스탱크와 호스로 연결된 가스 공급관(32)의 양측과 "L"형 결합구(33)로 연결되어 가스를 공급받아 분사할 수 있도록 구성되어 있다.4 and 6, the nozzle pipe 20 is connected to both sides of the gas supply pipe 32 connected to the external gas tank by a hose, through an "L" .

상기 노즐관(20)에서 분사되는 화합물가스는 플라즈마발생기(13)의 전극(13a)의 방전으로 생성되는 플라즈마에 의하여 미립자로 분해되어 플렉시블필름으로 이루어진 모재(1)에 분사되어 얇은 박막(薄膜)을 형성할 수 있는 것이다.The compound gas injected from the nozzle tube 20 is decomposed into fine particles by the plasma generated by the discharge of the electrode 13a of the plasma generator 13 and is sprayed on the base material 1 made of a flexible film to form a thin film, Can be formed.

상기 플렉시블필름 모재(1)는 구동롤러(12)를 통해 이송되는 과정에서 화합물가스가 분사되어 연속적인 증착작업이 이루어질 수 있도록 구성되어 생산성을 높여줄 수 있도록 구성되어 있다.The flexible film preform 1 is configured such that the compound gas is injected in a process of being transferred through the driving roller 12 to perform a continuous deposition operation, thereby enhancing productivity.

전술한 구성으로 이루어진 본 발명은, 노즐관(20)의 내관(21)을 통해 공급된 화합물가스가 내·외관(21)(22)들 사이에 형성된 밀폐된 공간부(23)로 유입된 후 공간부(23)에서 일시 정체하여 일정한 압력을 유지한 상태에서 외관(22)의 노즐공(22a)을 통해 균일하게 분사되는 것이므로 모재(1)에 일정 두께를 갖는 고기능성의 박막(薄膜)을 형성할 수 있는 것으로서 노즐관(20)의 성능이 우수하면서도 증착(蒸着)작업의 효율을 높여줄 수 있는 화학적 기상 증착장치를 제공할 수 있는 것이다.In the present invention having the above-described configuration, the compound gas supplied through the inner tube 21 of the nozzle tube 20 flows into the sealed space portion 23 formed between the inner and outer tubes 21 and 22 And is uniformly injected through the nozzle hole 22a of the outer tube 22 in a state of being temporarily stuck in the space portion 23 and maintaining a constant pressure. Therefore, a thin film having a certain thickness and having a certain thickness is formed on the base material 1 The present invention can provide a chemical vapor deposition apparatus capable of improving the efficiency of the deposition work while having excellent performance of the nozzle tube 20.

특히, 모재(1)가 플렉시블필름으로 구성되어 넓으면서 얇은 소재인 경우에도 내관(21)과 외관(22) 사이의 공간부(23)를 통해 일정 압력으로 분사되는 화합물가스가 모재(1)의 넓은 면에 고르게 분사되어 균일한 두께의 박막을 형성할 수 있는 것으로서 대외 경쟁력이 우수한 고기능성의 노즐관을 제공할 수 있는 등의 이점이 있는 것이다.Particularly, even when the base material 1 is made of a flexible film and is a thin and thin material, the compound gas injected at a constant pressure through the space portion 23 between the inner tube 21 and the outer tube 22 is prevented It is possible to form a thin film having a uniform thickness uniformly sprayed on a wide surface, and it is possible to provide a high-performance nozzle tube excellent in external competitiveness.

이상에서는 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 도시하고 또한 설명하였으나, 본 발명은 상기한 실시예에 한정되지 아니하며, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 본 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변형 실시가 가능한 것은 물론이고, 그와 같은 변경은 기재된 청구범위 내에 있게 된다.
While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments, but many variations and modifications may be made without departing from the scope of the invention. It will be understood by those skilled in the art that various changes may be made and equivalents may be resorted to without departing from the scope of the appended claims.

1 : 모재 10 : 진공챔버
11 : 진공펌프 12 : 구동롤러
13 : 플라즈마발생기 13a : 전극
20 : 노즐관 21 : 내관
21a : 노즐공 22 : 외관
22a : 노즐공 23 : 공간부
30 : 너트체 31 : 볼트체
32 : 공급관 33 : 결합구1: Base material 10: Vacuum chamber
11: Vacuum pump 12: Driving roller
13: Plasma generator 13a: Electrode
20: Nozzle tube 21: Inner tube
21a: nozzle hole 22: appearance
22a: nozzle hole 23:
30: nut body 31: bolt body
32: supply pipe 33:

Claims (4)

진공펌프(11)에 의하여 진공이 유지되는 진공챔버(10)의 내부에 장착된 노즐관(20)에서 화합물가스를 분사하여 모재(母材)에 박막을 형성하는 화학적 기상 증착장치의 상기 노즐관(20)은 화합물가스가 공급되는 내관(21)과 외부에 씌워지는 외관(22)으로 구성되고, 내·외관(21)(22)들 사이에는 양측이 막혀진 공간부(23)가 형성되며, 내관(21)에 뚫려진 미세 노즐공(21a)을 통해 분사된 화합물가스가 공간부(23)로 유입된 후 외관(22)의 노즐공(22a)을 통해 균일하게 분사되어 모재(1)에 박막을 형성할 수 있도록 구성된 화학적 기상 증착장치용 가스분사 노즐관에 있어서,
상기 내관(21)과 외관(22)에 각각 뚫려진 미세 노즐공(21a)(22a)들은 분사방향이 반대 방향으로 형성되고, 외관(22)의 양측에 형성된 너트체(30)에는 내관(21)이 관통 결합된 볼트체(31)가 나사 결합되어 내·외관(21)(22)들 사이에 공간부(23)가 형성될 수 있도록 한 것을 특징으로 하는 화학적 기상 증착장치용 가스분사 노즐관.The nozzle tube 20 of the chemical vapor deposition apparatus for forming a thin film on the base material by spraying the compound gas in the nozzle tube 20 mounted inside the vacuum chamber 10 in which the vacuum is maintained by the vacuum pump 11 (20) is composed of an inner tube (21) to which compound gas is supplied and an outer tube (22) to cover the outside, and a space portion (23) is formed between the inner and outer tubes (21) The compound gas injected through the fine nozzle holes 21a bored in the inner pipe 21 flows into the space portion 23 and is uniformly injected through the nozzle holes 22a of the outer pipe 22, The gas injection nozzle tube for a chemical vapor deposition apparatus configured to form a thin film on a substrate,
The fine nozzle holes 21a and 22a formed in the inner tube 21 and the outer tube 22 are formed in opposite directions and the nut body 30 formed on both sides of the outer tube 22 is provided with an inner tube 21 Wherein the gas injection nozzle tube for a chemical vapor deposition apparatus is characterized in that the bolt body 31 is threadedly coupled to the inner and outer tubes 21 and 22 so that the space 23 can be formed between the inner and outer tubes 21 and 22. [ . 삭제delete 삭제delete 삭제delete
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