KR100712728B1 - A cleaning device of gas separation type showerhead - Google Patents

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KR100712728B1
KR100712728B1 KR1020060021300A KR20060021300A KR100712728B1 KR 100712728 B1 KR100712728 B1 KR 100712728B1 KR 1020060021300 A KR1020060021300 A KR 1020060021300A KR 20060021300 A KR20060021300 A KR 20060021300A KR 100712728 B1 KR100712728 B1 KR 100712728B1
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cleaning
gas
cleaning gas
shower head
gas separation
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KR1020060021300A
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배근학
김경수
김호식
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주식회사 아토
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Abstract

본 발명은 가스분리형 샤워헤드의 세정 장치에 관한 것으로, 복수의 이질적인 가스들이 원료/반응 가스 공급부에 격리되어 공급되어 혼합 분사구를 통해 분사되는 샤워헤드에 있어서, 원료/반응 가스 공급부 외곽에서 세정 가스를 분리 공급되는 세정 가스 공급부, 상기 샤워헤드 상단부 및 측면의 내부의 벽과 외부 벽 사이의 공간으로써, 상기 세정 가스 공급부로부터 공급된 세정 가스가 이송되는 세정 가스 이송부 및 샤워헤드 하부의 혼합 분사구 바깥면을 둘러싸는 소정의 구조로써, 상기 이송된 세정 가스가 챔버 내부로 분사되는 제1 세정 가스 분사구;를 포함하는 것을 특징으로 한다.The present invention relates to a cleaning device for a gas separation showerhead, wherein a plurality of heterogeneous gases are isolated and supplied to the raw material / reactive gas supply unit and injected through the mixing nozzle, and the cleaning gas is disposed outside the raw material / reactive gas supply unit. The cleaning gas supply part which is supplied separately and the space between the inner wall and the outer wall of the showerhead upper end part and the side surface, and the cleaning gas conveyance part to which the cleaning gas supplied from the cleaning gas supply part is conveyed and the outer surface of the mixing nozzle of the lower part of the shower head are provided. As a predetermined structure surrounding the first cleaning gas injection port is injected into the chamber, the cleaning gas is characterized in that it comprises a.

본 발명에 의한 가스분리형 샤워헤드의 세정 장치는 반응가스 공급라인과 별도의 라인을 형성함으로써 샤워헤드 내부의 부식 등의 문제를 효과적으로 해결할 수 있으며, 샤워헤드 측면을 통한 세정 가스의 챔버내부 공급을 추가함으로써 챔버 상단부의 세정효율을 증대시켜 세정 시간을 단축할 수 있고, 세정 가스량을 감소할 수 있어서 생산성 향상에 기여할 수 있는 장점이 있다.The cleaning device of the gas separation type shower head according to the present invention can effectively solve problems such as corrosion inside the shower head by forming a separate line from the reaction gas supply line, and add an internal supply of the cleaning gas through the shower head side. As a result, the cleaning efficiency can be shortened by increasing the cleaning efficiency of the upper end of the chamber, and the amount of cleaning gas can be reduced, thereby contributing to productivity improvement.

샤워헤드, 멀티 할로우 캐소드, 플라즈마, 증착, 챔버 세정 Showerhead, Multi Hollow Cathodes, Plasma, Deposition, Chamber Cleaning

Description

가스분리형 샤워헤드의 세정 장치{A cleaning device of gas separation type showerhead}A cleaning device of gas separation type showerhead

도 1은 가스분리형 샤워헤드를 개략적으로 나타내는 도면.1 is a schematic view of a gas separation showerhead;

도 2a는 본 발명에 의한 가스분리형 샤워헤드의 세정 장치의 일실시예를 나타내는 도면.Figure 2a is a view showing an embodiment of a cleaning device for a gas separation shower head according to the present invention.

도 2b는 도 2a의 내부 구조를 입체적으로 나타내는 도면.FIG. 2B is a diagram three-dimensionally showing the internal structure of FIG. 2A; FIG.

도 3a 내지 도 3c는 도 2a 및 도 2b의 제1 세정 가스 분사구의 다양한 구조들을 나타내는 도면.3A-3C illustrate various structures of the first cleaning gas nozzle of FIGS. 2A and 2B.

도 4a는 본 발명에 의한 가스분리형 샤워헤드의 세정 장치의 다른 일실시예를 나타내는 도면.Figure 4a is a view showing another embodiment of the cleaning device for a gas separation shower head according to the present invention.

도 4b는 도 4a의 내부 구조를 입체적으로 나타내는 도면.4B is a view showing three-dimensionally the internal structure of FIG. 4A.

도 5a 및 도 5b는 도 4a 및 도 4b의 제2 세정 가스 분사구의 다양한 구조들을 나타내는 도면.5A and 5B show various structures of the second cleaning gas nozzle of FIGS. 4A and 4B.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

10 : 원료/반응 가스 공급부 20 : 가스 분리 모듈10: raw material / reactive gas supply unit 20: gas separation module

22 : 제1 가스 영역 24 : 제2 가스 영역22: first gas region 24: second gas region

30 : 가스 분사 모듈 40 : 혼합 분사구30: gas injection module 40: mixing nozzle

100 : 가스분리형 샤워헤드 103 : 샤워헤드 내부벽100: gas separation shower head 103: shower head inner wall

104 : 샤워헤드 외부벽 105 : 혼합 분사구 바깥면104: shower head outer wall 105: mixing nozzle outer surface

106 : 샤워헤드 하부의 외부벽 110 : 세정 가스 공급부106: outer wall of the shower head lower 110: cleaning gas supply unit

120 : 세정가스 이송부 130 : 제1 세정 가스 분사구120: cleaning gas transfer unit 130: first cleaning gas injection port

140 : 제2 세정 가스 분사구140: second cleaning gas injection port

본 발명은 반도체 증착 장치에 포함되는 샤워헤드에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 복수의 이질적인 가스들이 격리 공급되어 혼합 분사구를 통해 분사되는 가스분리형 샤워헤드의 세정 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a showerhead included in a semiconductor deposition apparatus, and more particularly, to a cleaning device of a gas separation type showerhead in which a plurality of heterogeneous gases are isolated and supplied and injected through a mixing nozzle.

종래의 챔버 내부의 클리닝을 위한 세정 가스는 별도의 세정 라인을 갖추지 않은 채 원료/반응 가스의 공급라인을 통하여 공급되었다.Conventional cleaning gas for cleaning inside the chamber was supplied through the supply line of raw material / reaction gas without a separate cleaning line.

그러나, 종래의 세정 방식은 탑-다운 방식의 샤워헤드 및 챔버 구조상 세정 가스의 흐름 방향이 상부에서 하부로 흐르게 되어 챔버 내부의 상단부, 즉 챔버리드의 하단과 챔버벽 상부의 세정 효율이 떨어짐에 따라 전체적인 세정 시간 증가 및 많은 세정 가스를 사용하게 되어 생산성이 저하되는 단점이 있다.However, in the conventional cleaning method, the flow direction of the cleaning gas flows from the top to the bottom in the shower head and the chamber structure of the top-down method, and as the cleaning efficiency of the upper part of the chamber, that is, the lower part of the chamber lid and the upper part of the chamber wall decreases. The increase in the overall cleaning time and the use of a large number of cleaning gas has the disadvantage of lowering the productivity.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 제안된 것으로서, 원료/반응가스가 서로 다른 경로를 갖는 샤워헤드에 있어 외부에서 이온화되어 공급되는 세정가스를 원료/반응가스의 경로와 별도로 공급하여 샤워헤드 내부 구조의 부식을 방지하면서 챔버 내부, 특히 챔버 내부의 상단부를 효율적으로 세정할 수 있는 가스분리형 샤워헤드의 세정 장치를 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention has been proposed to solve the above problems, the shower head by supplying the cleaning gas is ionized from the outside and supplied separately from the path of the raw material / reaction gas in the shower head having different paths of raw material / reaction gas It is an object of the present invention to provide a cleaning device for a gas separation showerhead capable of efficiently cleaning the upper end of a chamber, in particular, inside the chamber while preventing corrosion of the internal structure.

상기 기술적 과제를 이루기 위한 본 발명에 따른 가스분리형 샤워헤드의 세정 장치는 복수의 이질적인 가스들이 원료/반응 가스 공급부에 격리되어 공급되어 혼합 분사구를 통해 분사되는 가스분리형 샤워헤드의 세정 장치에 있어서, 상기 원료/반응 가스 공급부 외곽에서 세정 가스를 분리 공급되는 세정 가스 공급부; 상기 샤워헤드 상단부 및 측면의 내부의 벽과 외부 벽 사이의 공간으로써, 상기 세정 가스 공급부로부터 공급된 세정 가스가 이송되는 세정 가스 이송부; 및 상기 샤워헤드 하부의 상기 혼합 분사구 바깥면을 둘러싸는 소정의 구조로써, 상기 이송된 세정 가스가 챔버 내부로 분사되는 제1 세정 가스 분사구;를 포함하는 것을 특징으로 한다.In the cleaning device for a gas separation shower head according to the present invention for achieving the above technical problem, in the cleaning device for a gas separation shower head in which a plurality of heterogeneous gases are isolated and supplied to the raw material / reactive gas supply unit and injected through a mixing nozzle, A cleaning gas supply unit which separates and supplies the cleaning gas outside the raw material / reaction gas supply unit; A cleaning gas transfer unit configured to transfer a cleaning gas supplied from the cleaning gas supply unit as a space between an inner wall and an outer wall of the showerhead upper end portion and the side surface; And a predetermined structure surrounding the outer surface of the mixing injection hole of the lower portion of the shower head, wherein the transferred cleaning gas is injected into the chamber.

또한, 상기 기술적 과제를 이루기 위한 본 발명에 따른 가스분리형 샤워헤드의 세정 장치는 세정가스 이송부 측면의 외부 벽에 위치하는 소정의 구조로써, 상기 이송된 세정 가스가 챔버 내부의 상단부 또는 측면 부분으로 분사되는 제2 세정 가스 분사구;를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.In addition, the cleaning device of the gas separation type shower head according to the present invention for achieving the above technical problem is a predetermined structure located on the outer wall of the cleaning gas transfer side, the transported cleaning gas is injected into the upper end or side portion inside the chamber The second cleaning gas injection port is further characterized in that it comprises a.

이하에서는 본 발명의 구체적인 실시예를 도면을 참조하여 상세히 설명하도록 한다.Hereinafter, specific embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 출원인에 의해 대한민국특허청에 출원되고(출원번호 : 10- 2006-5890, 2006.01.19), 아직 공개되지 않은 가스분리형 샤워헤드를 개략적으로 도시한 것으로서, 원료/반응 가스 공급부(10), 가스 분리 모듈(20), 제1 가스 영역(22), 제2 가스 영역(24), 가스 분사 모듈(30) 및 혼합 분사구(40)로 구성된다. 1 is a schematic view of a gas separation type showerhead filed by the applicant of the present invention to the Korean Intellectual Property Office (Application No .: 10-2006-5890, 2006.01.19), and not yet disclosed. 10), the gas separation module 20, the first gas region 22, the second gas region 24, the gas injection module 30 and the mixing injection port 40.

도 1의 구성요소에 의거하여 가스분리형의 다수의 공동 전극을 이용한 샤워헤드의 구성요소를 간략히 설명하기로 한다.Based on the components of Figure 1 will be briefly described the components of the showerhead using a plurality of common electrode of the gas separation type.

원료/반응 가스 공급부(10)는 원료 가스와 반응가스가 격리되어 샤워헤드로 공급된다.The raw material / reactive gas supply unit 10 is supplied to the shower head by separating the raw material gas and the reactive gas.

원료/반응 가스 공급부(10)로부터 공급된 원료/반응는 각각 다른 공간 즉, 적어도 2개의 가스를 분리하여 다수의 가스통로로 주입 또는 분사하는 가스 분리 모듈(20)을 기준으로 하나의 가스를 제공하는 제1 가스 영역(22)과 다른 하나의 가스를 제공하는 제2 가스 영역(24)에서 격리되어 분포하게 된다.The raw material / reaction supplied from the raw material / reaction gas supply unit 10 provides one gas based on the gas separation module 20 which separates or injects or sprays into a plurality of gas passages by separating at least two gases. It is distributed in isolation from the first gas region 22 and the second gas region 24 providing the other gas.

각 가스 영역(22,24)을 통과하는 각각의 원료/반응 가스는 격리되어 이송된 후에 가스별로 별도의 분사구를 통하지 않고, 두 가스 모두 가스 분사 모듈(30) 내부 공간인 혼합 분사구(40)를 통해 공정 목적에 따라 동시에 또는 순차적으로 분사된다.Each raw material / reactive gas passing through each gas region 22 and 24 is isolated and transported, and then, instead of passing through a separate injection hole for each gas, both gases use a mixed injection hole 40 which is a space inside the gas injection module 30. Through the spraying simultaneously or sequentially depending on the process purpose.

가스 분사 모듈(30)은 공정 목적에 따라 다수의 공동 전극으로 구성될 경우 제1 가스 영역(22)과 제2 가스 영역(24)으로부터 각각 가스가 혼합 분사구(40)로 분사될 때에, 소정의 파워를 인가하여 분사되는 원료/반응 가스가 플라즈마 상태가 되도록 한다. 플라즈마 상태의 가스들은 공정 목적에 따라 동시에 또는 순차적으로 분사된다.When the gas injection module 30 is composed of a plurality of common electrodes according to the process purpose, when the gas is injected from the first gas region 22 and the second gas region 24 to the mixed injection port 40, respectively, Power is applied so that the injected raw material / reaction gas is in a plasma state. The gases in the plasma state are injected simultaneously or sequentially depending on the process purpose.

도 2a는 본 발명에 의한 가스분리형 샤워헤드의 세정 장치의 일실시예를 나타내는 것이고, 도 2b는 도 2a의 내부 구조를 입체적으로 나타내는 것으로서, 본 발명에 의한 가스분리형 샤워헤드는 세정 가스 공급부(110), 세정 가스 이송부(120) 및 제1 세정 가스 분사구(130)로 구성된다.2A illustrates an embodiment of a cleaning apparatus for a gas separation shower head according to the present invention, and FIG. 2B illustrates an internal structure of FIG. 2A in three dimensions. The gas separation shower head according to the present invention includes a cleaning gas supply unit 110. ), A cleaning gas transfer part 120, and a first cleaning gas injection hole 130.

도 2a 및 도 2b의 구성요소에 의거하여, 본 발명에 의한 가스분리형 샤워헤드의 구성을 상세히 설명하기로 한다.Based on the components of FIGS. 2A and 2B, the configuration of the gas separation showerhead according to the present invention will be described in detail.

세정 가스 공급부(110)에서는 가스분리형 샤워헤드(100)의 원료/반응 가스 공급부(10) 외곽에서 세정 가스를 분리 공급된다.In the cleaning gas supply unit 110, the cleaning gas is separated and supplied from the outside of the raw material / reactive gas supply unit 10 of the gas separation shower head 100.

세정 가스는 NF3, F2, C3F8 등의 불소(F)가 함유된 가스가 직접 또는 Ar, O2, N2, He, NO 등의 첨가가스와 함께 세정 가스 공급부(110)로 공급된다.The cleaning gas is a gas containing fluorine (F), such as NF 3 , F 2 , C 3 F 8 , or the like, directly to the cleaning gas supply unit 110 along with additive gas such as Ar, O 2 , N 2 , He, NO, or the like. Supplied.

세정 가스를 세정 가스 공급부(110)로 이온화하여 공급할 경우에는 가스분리형 샤워헤드(100) 외부의 별도의 원격 플라즈마 발생기(Remote Plasma Generator, 도면 미표시)를 통하여 세정 가스는 미리 이온화되어 공급된다.When the cleaning gas is ionized and supplied to the cleaning gas supply unit 110, the cleaning gas is ionized in advance through a separate remote plasma generator (not shown) outside the gas separation shower head 100.

세정 가스 이송부(120)에서는 가스분리형 샤워헤드(100)의 상단부 및 측면의 내부벽(103)과 외부벽(104) 사이의 공간으로써, 세정 가스 공급부(110)로부터 공급된 세정 가스가 이송된다.In the cleaning gas transfer unit 120, the cleaning gas supplied from the cleaning gas supply unit 110 is transferred to the space between the inner wall 103 and the outer wall 104 of the upper end and side surfaces of the gas separation shower head 100.

제1 세정 가스 분사구(130)는 가스분리형 샤워헤드(100) 하부의 상기 혼합 분사구(40) 바깥면(105)을 둘러싸는 샤워헤드 하부의 외부벽(106) 내부의 소정의 구조로써, 세정 가스 이송부(120)을 통하여 이송된 세정 가스가 챔버 내부로 분사 된다.The first cleaning gas injection hole 130 has a predetermined structure inside the outer wall 106 of the lower portion of the shower head surrounding the outer surface 105 of the mixing injection hole 40 under the gas separation shower head 100. The cleaning gas transferred through the transfer part 120 is injected into the chamber.

가스분리형 샤워헤드(100)에서는 원료/반응가스가 혼합 분사구(40)에서 분사되기 전까지는 분리되어 있기 때문에 반응에 따른 부산물들의 발생으로 인한 내부 세정이 불필요하다. In the gas separation shower head 100, since raw materials / reactive gases are separated until they are injected from the mixing nozzle 40, internal cleaning due to generation of by-products due to the reaction is unnecessary.

따라서 제1 세정 가스 분사구(130)는 혼합 분사구(40) 바깥면(105) 내부로는 분사되지 않고 바깥면(105) 외부로만 분사되도록 바깥면(105)을 둘러싸는 모양으로 형성되어 있다.Therefore, the first cleaning gas injection hole 130 is formed in a shape surrounding the outer surface 105 so as not to be injected into the outer surface 105 of the mixing injection hole 40 but only to the outside of the outer surface 105.

도 3a 내지 도 3c는 도 2a 및 도 2b의 제1 세정 가스 분사구의 다양한 구조들을 나타내는 것으로서, 도 3a의 경우에는 제1 세정 가스 분사구의 구조가 열린 구조이고, 도 3b의 경우에는 일렬의 홀 패턴을 가지는 구조, 도 3c에서는 다중열의 홀 패턴을 가지는 구조를 나타낸다.3A to 3C illustrate various structures of the first cleaning gas injection holes of FIGS. 2A and 2B. In the case of FIG. 3A, the first cleaning gas injection holes are opened. In the case of FIG. 3C shows a structure having a multi-row hole pattern.

도 3a의 열린 구조(open structure)의 제1 세정 가스 분사구는 가스분리형 샤워헤드(100) 하부에 위치하는 혼합 분사구(40) 바깥면(105)과 상기 샤워헤드 하부의 외부벽(106) 사이의 빈 공간으로 존재한다.The first cleaning gas jet of the open structure of FIG. 3A is provided between the outer surface 105 of the mixing jet 40 located below the gas separation shower head 100 and the outer wall 106 of the bottom of the shower head. It exists as an empty space.

도 3b 또는 도 3c의 하나 이상의 열로써 구성되는 홀 패턴의 경우에는 가스분리형 샤워헤드(100) 하부의 상기 혼합 분사구(40) 바깥면(105)과 샤워헤드 하부의 외부벽(106) 사이에서 일정 지름의 복수의 홀을 포함하는 홀(hole) 패턴이 하나 또는 둘 이상의 열로써 구성되어 있는 구조로 되어 있다.In the case of a hole pattern composed of one or more rows of FIG. 3B or 3C, a constant is formed between the outer surface 105 of the mixing nozzle 40 under the gas-separated shower head 100 and the outer wall 106 under the shower head. A hole pattern including a plurality of holes having a diameter is constituted by one or more rows.

홀 패턴은 세정가스가 분사되는 방향으로, 세정가스가 분사되는 표면에 대하여 규칙적인 각도로 또는 불규칙적인 각도로 형성된 복수의 홀을 포함한다.The hole pattern includes a plurality of holes formed at regular or irregular angles with respect to the surface to which the cleaning gas is injected in the direction in which the cleaning gas is injected.

특히 복수의 홀들이 불규칙적인 각도로 형성될 경우에는 세정 가스가 홀 각도에 따서 다양한 각도로 분사될 수 있어서 챔버 내부에 필요한 부분에 더 효율적인 세정효과를 얻을 수 있다.In particular, when a plurality of holes are formed at irregular angles, the cleaning gas may be injected at various angles according to the hole angles, thereby obtaining a more efficient cleaning effect on the necessary portion inside the chamber.

도 4a는 본 발명에 의한 가스분리형 샤워헤드의 세정 장치의 다른 일실시예를 나타내는 것이고, 도 4b는 도 4a의 내부 구조를 입체적으로 나타낸 것이다.Figure 4a shows another embodiment of the cleaning device of the gas separation showerhead according to the present invention, Figure 4b shows the internal structure of Figure 4a in three dimensions.

도 4a 및 도 4b를 참조하면, 본 발명에 의한 가스분리형 샤워헤드의 세정 장치는 도 2a 및 도 2b의 구성요소에 세정가스 이송부(120) 측면의 외부 벽에 위치하는 소정의 구조로써, 이송된 세정 가스가 챔버 내부의 상단부 또는 측면 부분으로 분사되는 제2 세정 가스 분사구(140)를 더 포함한다.4A and 4B, the cleaning device of the gas separation showerhead according to the present invention has a predetermined structure which is located on the outer wall of the side of the cleaning gas delivery unit 120 in the components of FIGS. 2A and 2B. The cleaning gas further includes a second cleaning gas injection hole 140 that is injected into the upper end or the side portion of the chamber.

도 4a 및 도 4b와 같이 가스분리형 샤워헤드 측면을 통하여 챔버로 세정 가스를 공급하게 되면 챔버 내부의 상단부의 세정효율을 증대시킬 수 있다.When the cleaning gas is supplied to the chamber through the gas separation shower head side as illustrated in FIGS. 4A and 4B, the cleaning efficiency of the upper end of the chamber may be increased.

도 5a 및 도 5b는 제2 세정 가스 분사구의 다양한 구조들을 나타내는 것이다.5A and 5B show various structures of the second cleaning gas injection port.

제2 세정 가스 분사구(140)도 제1 세정 가스 분사구(130)와 마찬가지로 가스분리형 샤워헤드(100) 측면을 둘러싸는 일정 지름의 홀(hole) 패턴이 하나 이상의 열로써 구성되어 있는 구조일 수 있다.Similar to the first cleaning gas injection hole 130, the second cleaning gas injection hole 140 may have a structure in which a hole pattern having a predetermined diameter surrounding the side surface of the gas separation shower head 100 is formed of one or more rows. .

제2 세정 가스 분사구(140)의 홀 패턴 역시 도 2a 및 도 2b와 마찬가지로 홀 패턴은 세정가스가 분사되는 방향으로, 세정가스가 분사되는 표면에 대하여 규칙적인 각도로 또는 불규칙적인 각도로 형성된 복수의 홀을 포함한다.As shown in FIGS. 2A and 2B, the hole pattern of the second cleaning gas injection hole 140 also includes a plurality of hole patterns formed at regular or irregular angles with respect to the surface on which the cleaning gas is injected. It includes a hall.

특히 복수의 홀들이 불규칙적인 각도로 형성될 경우에는 세정 가스가 홀 각 도에 따서 다양한 각도로 분사될 수 있어서 챔버 내부에 효율적인 세정효과를 얻을 수 있으며, 특히 홀이 뚫린 방향을 챔버 상단을 향하도록 할 경우에는 챔버 상단부에 더 효율적인 세정효과를 얻을 수 있다.In particular, when a plurality of holes are formed at irregular angles, the cleaning gas may be injected at various angles according to the hole angles, so that an efficient cleaning effect may be obtained inside the chamber. In this case, a more efficient cleaning effect can be obtained at the upper end of the chamber.

이상에서 본 발명에 대한 기술사상을 첨부 도면과 함께 서술하였지만 이는 본 발명의 바람직한 실시예를 예시적으로 설명한 것이지 본 발명을 한정하는 것은 아니다. 또한 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구나 본 발명의 기술적 사상의 범주를 이탈하지 않는 범위 내에서 다양한 변형 및 모방이 가능함은 명백한 사실이다.The technical spirit of the present invention has been described above with reference to the accompanying drawings. However, the present invention has been described by way of example only, and is not intended to limit the present invention. In addition, it is apparent that any person having ordinary knowledge in the technical field to which the present invention belongs may make various modifications and imitations without departing from the scope of the technical idea of the present invention.

상술한 바와 같이 본 발명에 의한 가스분리형 샤워헤드의 세정 장치는 반응가스 공급라인과 별도의 라인을 형성함으로써 샤워헤드 내부의 부식 등의 문제를 효과적으로 해결할 수 있다. As described above, the cleaning apparatus of the gas separation type shower head according to the present invention may effectively solve a problem such as corrosion inside the shower head by forming a separate line from the reaction gas supply line.

또한, 본 발명에 의한 가스분리형 샤워헤드의 세정 장치는 샤워헤드 측면을 통한 세정 가스의 챔버내부 공급을 추가함으로써 챔버 상단부의 세정효율을 증대시켜 세정 시간을 단축할 수 있고, 세정 가스량을 감소할 수 있어서 생산성 향상에 기여할 수 있는 장점이 있다.In addition, the cleaning apparatus of the gas separation showerhead according to the present invention can increase the cleaning efficiency of the upper end of the chamber by adding the supply inside the chamber of the cleaning gas through the showerhead side to shorten the cleaning time and reduce the amount of cleaning gas. There is an advantage that can contribute to improved productivity.

Claims (7)

복수의 이질적인 가스들이 원료/반응 가스 공급부에 격리되어 공급되어 혼합 분사구를 통해 분사되는 가스분리형 샤워헤드의 세정 장치에 있어서,In the cleaning device of the gas separation shower head in which a plurality of heterogeneous gases are supplied in isolation to the raw material / reactive gas supply and injected through the mixing nozzle, 상기 원료/반응 가스 공급부 외곽에서 세정 가스를 분리 공급되는 세정 가스 공급부;A cleaning gas supply unit which separates and supplies a cleaning gas outside the raw material / reaction gas supply unit; 상기 가스분리형 샤워헤드 상단부 및 측면의 내부의 벽과 외부 벽 사이의 공간으로써, 상기 세정 가스 공급부로부터 공급된 세정 가스가 이송되는 세정 가스 이송부; 및A cleaning gas transfer unit configured to transfer a cleaning gas supplied from the cleaning gas supply unit as a space between the upper wall of the gas separation type shower head and the inner wall of the side and the outer wall; And 상기 가스분리형 샤워헤드 하부의 상기 혼합 분사구 바깥면을 둘러싸는 소정의 구조로써, 상기 이송된 세정 가스가 챔버 내부로 분사되는 제1 세정 가스 분사구;를 포함하는 것을 특징으로 하는 가스분리형 샤워헤드의 세정 장치.And a first cleaning gas injection hole in which the transported cleaning gas is injected into the chamber as a predetermined structure surrounding the outer surface of the mixing injection hole of the lower portion of the gas separation shower head. Device. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 세정가스 이송부 측면의 외부 벽에 위치하는 소정의 구조로써, 상기 이송된 세정 가스가 챔버 내부의 상단부 또는 측면 부분으로 분사되는 제2 세정 가스 분사구;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 가스분리형 샤워헤드의 세정 장치.A predetermined structure positioned on an outer wall of the side of the cleaning gas delivery unit, the second cleaning gas injection port for the transported cleaning gas is injected into the upper end or the side portion of the chamber; Cleaning device. 제1항에 있어서, 상기 제1 세정 가스 분사구는The method of claim 1, wherein the first cleaning gas injection port 상기 혼합 분사구 바깥면과 상기 가스분리형 샤워헤드 하부의 외부벽 사이의 열린 구조(open structure)인 것을 특징으로 하는 가스분리형 샤워헤드의 세정 장치.And an open structure between the outer surface of the mixing nozzle and the outer wall of the lower portion of the gas separation shower head. 제1항에 있어서, 상기 제1 세정 가스 분사구는The method of claim 1, wherein the first cleaning gas injection port 상기 혼합 분사구 바깥면과 상기 가스분리형 샤워헤드 하부의 외부벽 사이에서 일정 지름의 복수의 홀(hole)을 포함하는 홀 패턴이 하나 또는 둘 이상의 열로써 구성되어 있는 구조인 것을 특징으로 하는 가스분리형 샤워헤드의 세정 장치.Gas separation type shower, characterized in that the hole pattern comprising a plurality of holes of a predetermined diameter between the outer surface of the mixing nozzle and the outer wall of the lower portion of the gas separation shower head composed of one or more rows Head cleaning device. 제2항에 있어서, 상기 제2 세정 가스 분사구는 The method of claim 2, wherein the second cleaning gas injection port 상기 가스분리형 샤워헤드 측면을 둘러싸는 일정 지름의 복수의 홀을 포함하는 홀 패턴이 하나 또는 둘 이상의 열로써 구성되어 있는 구조인 것을 특징으로 하는 가스분리형 샤워헤드의 세정 장치.And a hole pattern including a plurality of holes having a predetermined diameter surrounding the side surface of the gas separation shower head, wherein the hole pattern includes one or more rows. 제4항 또는 제5항에 있어서, 상기 홀(hole) 패턴은The method of claim 4 or 5, wherein the hole pattern (hole) 상기 세정가스가 분사되는 방향으로, 상기 세정가스가 분사되는 표면에 대하여 규칙적인 각도로 또는 불규칙적인 각도로 형성된 복수의 홀(hole)을 포함하는 것을 특징으로 하는 가스분리형 샤워헤드의 세정 장치.And a plurality of holes formed at regular or irregular angles with respect to the surface to which the cleaning gas is injected, in the direction in which the cleaning gas is injected. 제1항에 있어서, 상기 세정 가스는The method of claim 1, wherein the cleaning gas 상기 가스분리형 샤워헤드 외부에 위치하는 원격플라즈마 발생기를 통하여 이온화 되어 상기 세정 가스 공급부로 공급되는 것을 특징으로 하는 가스분리형 샤워헤드의 세정 장치.The apparatus for cleaning a gas separation shower head, which is ionized through a remote plasma generator located outside the gas separation shower head and supplied to the cleaning gas supply unit.
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