KR101530996B1 - 립스틱왁스용융통의 히터 및 물 중탕 가온 순환 장치 - Google Patents

립스틱왁스용융통의 히터 및 물 중탕 가온 순환 장치 Download PDF

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본 발명은 립스틱왁스용융통의 히터 및 물 중탕 가온 순환 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 립스틱원료가 투입된 용융통 내부에는 립스틱원료를 용융시킬 수 있는 히터가 내장되어 있고 용융통과 리시브탱크 사이에는 증기와 온수 및 냉수라인으로 연결되어 있어 용융통의 내부의 온도가 하강하면 리시브탱크에 저장된 온수가 공급하여 용융통의 온도를 상승시키고, 반대로 용융통의 내부의 온도가 상승하면 리시브탱크로 증기가 배기되어 용융통의 적정한 온도가 유지되도록 하는 립스틱원료용융통의 히터 및 물 중탕 가온 순환 장치에 관한 것이다.
이를 실현하기 위한 본 발명은 립스틱왁스용융통의 히터 및 물 중탕 가온 순환 장치(10)에는 왁스와 물이 수용된 용융통(20); 상기 용융통(20)에 물의 끊는 점에 의해 발생된 증기를 배기시킴과 아울러 온수를 용융통(20)에 공급할 수 있는 리시브탱크(30); 상기 용융통(20)과 리시브탱크(30) 사이에는 온수와 증기 및 냉수가 바이패스 될 수 있도록 하는 순환라인(40) 및 립스틱왁스용융통의 히터 및 물 중탕 가온 순환 장치(10)를 제어하는 컨트롤러(50)로 구성된 것을 특징으로 한다.

Description

립스틱왁스용융통의 히터 및 물 중탕 가온 순환 장치{A heater of container for melting lipstick wax and heating circulating device of boiling water}
본 발명은 립스틱왁스용융통의 히터 및 물 중탕 가온 순환 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 립스틱원료가 투입된 용융통 내부에는 립스틱원료를 용융시킬 수 있는 히터가 내장되어 있고 용융통과 리시브탱크 사이에는 증기와 온수 및 냉수라인으로 연결되어 있어 용융통의 내부의 온도가 하강하면 리시브탱크에 저장된 온수가 공급하여 용융통의 온도를 상승시키고, 반대로 용융통의 내부의 온도가 상승하면 리시브탱크로 증기가 배기되어 용융통의 적정한 온도가 유지되도록 하는 립스틱원료용융통의 히터 및 물 중탕 가온 순환 장치에 관한 것이다.
주지된 바와 같이 립스틱은 입술을 채색하여 아름답게 표현함과 동시에 보습효과를 가지고 있어 부드러우면서 윤기 있게 가꾸어 주는 화장품임을 알 수 있다.
상기와 같은 립스틱의 원료를 살펴보면 주로 동. 식물성 왁스, 에스테르게 오일 등의 유기성 물질과 향료, 파라핀이 주성분을 이루고 있으며, 립스틱의 색상을 결정하는 것은 유기 또는 무기안료의 첨가에 의해 결정되어진다.
상기와 같은 조성물 중에 로 동. 식물성 왁스를 융용시킬 때에는 융융통에 왁스와 물과 함께 투입하고 이어서 스팀 가온 방식으로 용융시킨 후 립스틱성형몰드에 부어 성형하게 된다.
그러나 상기에 있어 용융통에 수용된 왁스를 스팀 가온 방식으로 용융하게 되면 원하는 값의 온도를 설정하더라도 이를 제어할 수 있는 장치가 전무하기 때문에 원료인 왁스가 활성화가 되지 않음에 따라 품질에 낮아질 수 도 있고 심한 경우에는 폐기 처분되는 경우가 비일비재 하였다.
따라서 본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출한 것으로서 그 목적으로는 용융통 내부에는 투입된 왁스와 물을 히터로 용융시키며, 용용통에서 끊는 점에 의해 고온의 증기가 발생되면 리시브탱크로 바이패스 하여 용융통의 온도를 원하는 값에 설정되어 있고, 반대로 용융통에 온도가 낮아지면 리시브탱크에서 온수를 공급하도록 함으로서 용융통의 수용된 왁스에 적정한 온도로 유지시켜 왁스의 활성화를 높일 수 있도록 하는 것을 제공함에 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 립스틱왁스용융통의 히터 및 물 중탕 가온 순환 장치(10)에는 왁스와 물이 수용된 용융통(20);
상기 용융통(20)에 물의 끊는 점에 의해 발생된 증기를 배기시킴과 아울러 온수를 용융통(20)에 공급할 수 있는 리시브탱크(30); 상기 용융통(20)과 리시브탱크(30) 사이에는 온수와 증기 및 냉수가 바이패스 될 수 있도록 하는 순환라인(40) 및 립스틱왁스용융통의 히터 및 물 중탕 가온 순환 장치(10)를 제어하는 컨트롤러(50)로 하여 달성된다.
본 발명은 용용통에서 발생된 증기는 리시브탱크로 이송되고 용융통에 온도가 낮아지면 리시브탱크에서 온수를 공급하도록 함으로서 용융통의 수용된 왁스에 적정한 온도로 유지시켜 왁스의 활성화를 높일 수 있도록 함으로써 기존과 같이 활성화가 되지 못하여 품질에 낮아질 수 도 있는 것을 해결하고 또한 폐기 처분되는 경우도 예방할 수 있는 것이다.
도 1은 본 발명의 립스틱왁스용융통의 히터 및 물 중탕 가온 순환 장치의 평면 개략도.
도 2는 본 발명의 립스틱왁스용융통의 히터 및 물 중탕 가온 순환 장치의 측면도.
이하, 첨부된 도면을 참고로 하여 상세히 설명하면 다음과 같다.
먼저 첨부도면 도 1에 도시된 바와 같이
립스틱왁스용융통의 히터 및 물 중탕 가온 순환 장치(10)에는 왁스와 물이 수용된 용융통(20); 상기 용융통(20)에 물의 끊는 점에 의해 발생된 증기를 배기시킴과 아울러 온수를 용융통(20)에 공급할 수 있는 리시브탱크(30); 상기 용융통(20)과 리시브탱크(30) 사이에는 온수와 증기 및 냉수가 바이패스 될 수 있도록 하는 순환라인(40) 및 립스틱왁스용융통의 히터 및 물 중탕 가온 순환 장치(10)를 제어하는 컨트롤러(50)로 구성되어 있다.
그리고 상기 용융통(20)의 내부에는 수용된 왁스와 물을 설정된 온도로 하여 용융시킬 수 있는 히터(21)와 왁스와 물의 온도를 감지하여 상기 히터(21)를 제어하는 온도센서(22)로 구성되어 있다.
그리고 상기 리시브탱크(30)에는 온수가 공급되는 온수공급라인(31)과 공급된 온수가 수위보다 높을 때에는 온수를 배수시키는 배수라인(32) 및 상기 리시브탱크(30)의 수위를 조절하는 전극봉센서(33)가 마련되어 있다.
그리고, 상기 순환라인(40)에는 용융통(20)에서 물의 끊는 점에 의해 발생된 증기를 상기 리시브탱크(30)로 이송시킬 수 있는 증기라인(41)과, 용융통(20)에서 온도가 낮아지면 리시브탱크(30)에서 온수를 공급받을 수 있는 온수라인(42)으로 구성되어 있다.
여기서 상기 증기라인(41)에는 설정된 온도 값에 의해 자동으로 개폐되는 솔레노이드밸브(41a)마련되어 있다.
또한, 상기 온수라인(42)에는 온수를 일방향으로 통과시킬 수 있는 체크밸브(42a)가 마련되어 있다.
그리고, 상기 리시브탱크(30)는 용융통(20)을 복수개와 연결시켜 작용할 수 있도록 하였다.
상기와 같이 구성된 본 발명의 작용은 다음과 같다.
먼저, 용융통(20)의 내부에 립스틱의 원료인 왁스와 냉각수를 투입한 뒤
컨트롤러(50)에 의해 용융통(20)에 마련된 히터(21)를 작동시키되 왁스가 활성화 될 수 있는 95℃ 온도로 설정하게 된다.
상기와 같이 히터(21)의 작동에 의해 왁스가 물 중탕에 의해 용융되기 시작하여 일정시간 경과 후 95℃가 원하는 값에 도달되면 온도센서(22)가 이를 감지하여 컨트롤러(50)로 송출하고 컨트롤러(50)는 히터(21)의 작동을 차단하게 된다.
또한 이때 고온의 증기가 발생되는데 발생된 증기로 의해 용융통(20)의 내부 온도가 상승하는 것을 차단하기 위하여 컨트롤러(50)는 솔레노이드밸브(41a)를 개방시켜 증기라인(41)을 통해 리시브탱크(30)로 이송된다.
한편, 용용통(20)에서 용융된 왁스가 활성화 되는 95℃ 이하로 온도가 낮아지면 솔레노이브밸브(41a)가 패쇄됨과 동시에 히터(21)가 작동하게 된다.
그리고, 용융통(20) 내부에 중탕 물의 양이 부족할 경우에는 압력이 낮아지면서 온수라인(42)에 마련된 체크밸브(42a)가 개방되어 리시브탱크(30)에 저장된 온수가 용융통(20)로 공급하여 보충된다.
이상에서는 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 도시하고 또한 설명하였으나, 본 발명의 상기한 실시예에 한정되지 않고 이하 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명의 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변형실시가 가능함은 물론이며, 그와 같은 변형은 본 발명의 청구범위의 기재 내에 있다 하겠다.
10; 립스틱왁스용융통의 히터 및 물 중탕 가온 순환 장치
20: 용융통 30: 리시브탱크
40: 순환라인 50: 컨트롤러(50)

Claims (5)

  1. 립스틱왁스용융통의 히터 및 물 중탕 가온 순환 장치(10)에는 왁스와 물이 수용된 용융통(20);
    상기 용융통(20)에 물의 끊는 점에 의해 발생된 증기를 배기시킴과 아울러 온수를 용융통(20)에 공급할 수 있는 리시브탱크(30);
    상기 용융통(20)과 리시브탱크(30) 사이에는 온수와 증기 및 냉수가 바이패스 될 수 있도록 하는 순환라인(40) 및 립스틱왁스용융통의 히터 및 물 중탕 가온 순환 장치(10)를 제어하는 컨트롤러(50)로 구성되되,
    상기 리시브탱크(30)는 복수개의 용융통(20)과 연결되며,
    상기 용융통(20)의 내부에는 수용된 왁스와 물을 설정된 온도로 하여 용융시킬 수 있는 히터(21)와 왁스와 물의 온도를 감지하여 상기 히터(21)를 제어하는 온도센서(22)로 구성된 것을 특징으로 하는 립스틱왁스용융통의 히터 및 물 중탕 가온 순환 장치.
  2. 삭제
  3. 제1항에 있어서,
    상기 리시브탱크(30)에는 온수가 공급되는 온수공급라인(31)과 공급된 온수가 수위보다 높을 때에는 온수를 배수시키는 배수라인(32) 및 상기 리시브탱크(30)의 수위를 조절하는 전극봉센서(33)가 마련된 것을 특징으로 하는 립스틱왁스용융통의 히터 및 물 중탕 가온 순환 장치.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 순환라인(40)에는 용융통(20)에서 물의 끊는 점에 의해 발생된 증기를 상기 리시브탱크(30)로 이송시킬 수 있는 증기라인(41)과, 용융통(20)에서 온도가 낮아지면 리시브탱크(30)에서 온수를 공급받을 수 있는 온수라인(42)으로 구성된 것을 특징으로 하는 립스틱왁스용융통의 히터 및 물 중탕 가온 순환 장치.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 증기라인(41)에는 설정된 온도 값에 의해 자동으로 개폐되는 솔레노이드밸브(41a);
    상기 온수라인(42)에는 온수를 일방향으로 통과시킬 수 있는 체크밸브(42a)가 마련된 것을 특징으로 하는 립스틱왁스용융통의 히터 및 물 중탕 가온 순환 장치.
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