KR101522346B1 - Epoxy resin composition and cured product - Google Patents

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Abstract

뛰어난 유동성이 발휘되고, 내열성, 저열팽창성을 나타내며, 반도체 봉지재, 성형 재료, 적층 재료, 분체 도료 및 접착 재료 등에 유용한 에폭시수지 조성물을 개시한다.
이 에폭시수지 조성물은 에폭시수지, 에폭시수지용 경화제 및 무기 충전재를 함유하고, 에폭시수지로서 디에폭시에틸벤젠 구조를 가지는 에폭시수지를 사용하며, 이 에폭시수지는 에폭시에틸기의 1,3-디치환체 및 1,4-디치환체를 90중량%이상 함유하고, 25℃에서의 점도가 50mPa·s이하이며, 에폭시수지용 경화제가 다가 히드록시화합물이다.
An epoxy resin composition which exhibits excellent fluidity, exhibits heat resistance and low thermal expansion, and is useful for semiconductor encapsulating materials, molding materials, laminated materials, powder coating materials and adhesive materials.
This epoxy resin composition comprises an epoxy resin, a curing agent for an epoxy resin, and an inorganic filler, and an epoxy resin having a diepoxyethylbenzene structure is used as the epoxy resin. The epoxy resin is a 1,3- And 90% by weight or more of a 4-disubstituent, the viscosity at 25 캜 is 50 mPa s or less, and the curing agent for an epoxy resin is a polyhydric hydroxy compound.

Description

에폭시수지 조성물 및 경화물{EPOXY RESIN COMPOSITION AND CURED PRODUCT}[0001] EPOXY RESIN COMPOSITION AND CURED PRODUCT [0002]

본 발명은 저점도성이 뛰어난 동시에, 내열성, 저열팽창성 등이 뛰어난 경화물을 부여하는 전기·전자부품 등의 봉지(封止), 코팅 재료, 적층 재료, 복합 재료 등의 용도로서 유용한 에폭시수지 조성물 및 그 경화물에 관한 것으로서, 프린트 배선판, 반도체 봉지 등의 전기 전자 분야의 절연 재료, 탄소 섬유 강화 복합 재료 등에 적합하게 사용된다.The present invention relates to an epoxy resin composition useful as an encapsulating material, a coating material, a lamination material, a composite material, etc. for electrical and electronic parts, which is excellent in low viscosity and excellent in heat resistance and low thermal expansion, As the cured product, it is suitably used for a printed wiring board, an insulating material for electrical and electronic fields such as a semiconductor bag, and a carbon fiber-reinforced composite material.

에폭시수지는 공업적으로 폭 넓은 용도로 사용되어 오고 있는데, 그 요구 성능은 최근 점점 고도화하고 있다. 예를 들면 에폭시수지를 주제(主劑)로 하는 수지 조성물의 대표적 분야에 반도체 봉지 재료가 있는데, 최근 반도체 소자의 집적도의 향상에 따라, 패키지 사이즈가 대면적화, 박형화를 향하는 동시에 실장 방식도 표면 실장화에의 이행이 진전되고 있어, 보다 솔더 내열성이 뛰어난 재료의 개발이 요망되고 있다.BACKGROUND ART Epoxy resins have been used industrially for a wide variety of applications, and their required performance has recently been advanced. For example, semiconductor encapsulating materials have been used in representative examples of resin compositions using epoxy resin as a main agent. Recently, as the degree of integration of semiconductor devices has been improved, package sizes have become larger and thinner, The development to the wire has progressed, and development of a material excellent in heat resistance of the solder is desired.

또한 최근에는 고집적화, 고밀도 실장화의 기술 동향에 의해, 종래의 금형을 이용한 트랜스퍼 성형에 의한 패키지를 대신하여, 하이브리드 IC, 칩 온 보드, 테이프 캐리어 패키지, 플라스틱 핀 그리드 어레이(plastic pin grid array), 플라스틱 볼 그리드 어레이(plastic ball grid array) 등의 금형을 사용하지 않고 액상 재료를 사용해 봉지하여, 실장하는 방식이 늘어나고 있다. 그러나 일반적으로 액상 재료는 트랜스퍼 성형에 사용하는 고형 재료에 비해 신뢰성이 낮은 결점이 있다. 이것은 액상 재료에 점도상의 한계가 있어, 사용하는 수지, 경화제, 충전제 등에 제약이 있기 때문이다.In recent years, in accordance with the trend of high integration and high-density mounting technology, a hybrid IC, a chip on board, a tape carrier package, a plastic pin grid array, There has been an increase in the number of mounting methods using a liquid material without using a mold such as a plastic ball grid array. Generally, however, the liquid material has a lower reliability than the solid material used in the transfer molding. This is because the viscosity of the liquid material is limited and there are restrictions on the resin, curing agent, filler, etc. used.

또한 탄소 섬유 강화 복합 재료의 매트릭스수지로서는 성형성, 내열성, 기계 특성 등이 뛰어난 에폭시수지가 요망되고 있다. 특히, 최근에는 자동차 부품, 철도 차량, 항공기 등의 용도에 있어서 저점도화 및 고내열화의 양립이라는 요구가 높아져 오고 있다.As a matrix resin of a carbon fiber-reinforced composite material, an epoxy resin excellent in moldability, heat resistance and mechanical characteristics is desired. In recent years, there has been a growing demand for compatibility between low viscosity and high internal resistance in applications such as automobile parts, railroad cars, and aircraft.

지금까지, 저점도 에폭시수지로서는 비스페놀 A형 에폭시수지, 비스페놀 F형 에폭시수지 등이 일반적으로 널리 알려져 있지만, 저점도성 및 내열성 면에서 충분하지 않다. 또한 저점도성이 뛰어난 에폭시수지로서, 일본국 공개특허공보 평4-359009호에는 옥시메틸렌쇄를 가지는 에폭시수지가 제안되어 있지만, 내열성 면에서 충분하지 않았다.As the low-viscosity epoxy resin, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin and the like are generally widely known, but they are not sufficient in terms of low viscosity and heat resistance. As an epoxy resin excellent in low viscosity, an epoxy resin having an oxymethylene chain has been proposed in JP-A-4-359009, but it is not sufficient in heat resistance.

한편, US 2924580호 명세서에는, 디비닐벤젠류의 에폭시화물인 에폭시에틸벤젠을 사용한 에폭시수지 조성물의 예가 기재되어 있고, 에폭시수지 조성물로서의 예가 나타나 있다. 그러나 여기서는 에폭시수지 경화물로 한 경우의 상세한 물성 검토는 이루어져 있지 않고, 실용 물성상의 성능은 알려져 있지 않았다.On the other hand, US 2924580 discloses an example of an epoxy resin composition using epoxyethylbenzene which is an epoxide of divinylbenzenes, and an example of the epoxy resin composition is shown. However, detailed physical properties of the epoxy resin cured product are not examined here, and the performance of practical properties is not known.

일본국 공개특허공보 평4-359009호Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-359009 US 2924580호 명세서US 2924580 specification

따라서, 본 발명의 목적은 저점도성이 뛰어나면서, 내열성, 저열팽창성 등이 뛰어난 경화물을 부여하는 에폭시수지 조성물 및 그 경화물을 제공하는 것에 있다.Accordingly, an object of the present invention is to provide an epoxy resin composition which is excellent in low viscosity and excellent in heat resistance, low thermal expansion, and the like, and a cured product thereof.

즉, 본 발명은 에폭시수지 및 에폭시수지용 경화제를 함유하는 에폭시수지 조성물에 있어서, 에폭시수지로서, 하기 일반식(1)That is, the present invention provides an epoxy resin composition comprising an epoxy resin and a curing agent for an epoxy resin, wherein the epoxy resin is represented by the following general formula (1)

Figure 112010065769941-pct00001
Figure 112010065769941-pct00001

(여기서, R은 수소원자 또는 탄소수 1~8의 탄화수소기이고, n은 4이며, 모두가 동일해도 달라도 된다.)로 표시되고, 2개의 에폭시에틸기의 치환 위치가 1,3-디치환체 및 1,4-디치환체인 에폭시화합물을 합계 90중량%이상 함유하며, 25℃에서의 점도가 50mPa·s이하인 에폭시수지를 사용하여, 조성물(무기 충전재를 포함하지 않음)로 했을 때의 점도가 25℃에서 0.01~100Pa·s인 것을 특징으로 하는 에폭시수지 조성물에 관한 것이다.(Wherein R is a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, and n is 4 and all may be the same or different), and the substitution positions of the two epoxyethyl groups are 1,3-disubstituted and 1 , An epoxy compound as a 4-disubstituted compound in an amount of 90 wt% or more in total, and having a viscosity at 25 캜 of 50 mPa s or less is used, and the viscosity of the composition (excluding inorganic filler) In the range of 0.01 to 100 Pa · s.

상기 일반식(1)로 표시되는 에폭시수지에 있어서, 에폭시에틸기의 1,3-디치환체와 1,4-디치환체의 존재 비율(몰비)이 1:9~9:1의 범위인 것이 좋다. 또한 에폭시수지용 경화제로서는 다가 히드록시화합물이 바람직하다. 상기의 에폭시수지 조성물은 무기 충전재를 함유할 수 있고, 그 경우의 무기 충전재의 함유율은 83중량%이상인 것이 좋다.In the epoxy resin represented by the general formula (1), it is preferable that the ratio (molar ratio) of the 1,3-di substituted compound to the 1,4-di substituted compound in the epoxy ethyl group is in the range of 1: 9 to 9: 1. The curing agent for epoxy resins is preferably a polyhydric hydroxy compound. The epoxy resin composition may contain an inorganic filler, and the content of the inorganic filler in the case may be 83 wt% or more.

또한 본 발명은 전기·전자부품 봉지용인 상기의 에폭시수지 조성물, 및 상기의 에폭시수지 조성물을 경화하여 이루어지는 에폭시수지 경화물에 관한 것이다.The present invention also relates to the above-mentioned epoxy resin composition for encapsulating electric and electronic parts, and an epoxy resin cured product obtained by curing the above epoxy resin composition.

본 발명에 의하면, 뛰어난 유동성이 발휘되고, 내열성, 저열팽창성을 나타내며, 반도체 봉지재, 성형 재료, 적층 재료, 분체 도료 및 접착 재료 등에 유용한 에폭시수지 조성물을 제공할 수 있다.According to the present invention, it is possible to provide an epoxy resin composition that exhibits excellent fluidity, exhibits heat resistance and low thermal expansion, and is useful for a semiconductor encapsulant, a molding material, a laminate material, a powder coating material, and an adhesive material.

이하, 본 발명에 대하여 상세하게 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail.

본 발명의 에폭시수지 조성물은 에폭시수지, 및 에폭시수지용 경화제를 필수 성분으로 하면서, 이들 필수 성분을 수지 성분의 주성분으로 한다. 본 발명의 에폭시수지 조성물은 무기 충전재를 포함할 수 있고, 이 경우는 상기 필수 성분과 무기 충전재를 주성분으로 한다.The epoxy resin composition of the present invention contains an epoxy resin and a curing agent for an epoxy resin as essential components, and these essential components are used as a main component of the resin component. The epoxy resin composition of the present invention may contain an inorganic filler. In this case, the epoxy resin composition comprises the essential component and an inorganic filler as main components.

본 발명의 에폭시수지 조성물에 사용되는 에폭시수지는 상기 일반식(1)로 표시된다. 일반식(1)의 에폭시수지는 벤젠 골격에 에폭시에틸기가 2개 치환된 구조를 가지고 있고, 이성체로서는 1,2-디치환체, 1,3-디치환체, 1,4-디치환체가 있다. 본 발명에서 사용하는 에폭시수지로서는, 이들 이성체의 혼합물이어도 되지만, 1,3-디치환체 및 1,4-디치환체의 함유율이 높은 것이 내열성 및 저점도성 양립의 관점에서 바람직하고, 90중량%이상, 바람직하게는 95중량%이상 1,3-디치환체 및 1,4-디치환체를 함유하는 것이 적합하게 사용된다. 1,2-디치환체의 함유율이 높은 것은 고내열성이 충분히 발현되지 않는다.The epoxy resin used in the epoxy resin composition of the present invention is represented by the above general formula (1). The epoxy resin of the general formula (1) has a structure in which two epoxyethyl groups are substituted in the benzene skeleton, and the isomers include 1,2-di-substituted, 1,3-di-substituted and 1,4-di-substituted. The epoxy resin used in the present invention may be a mixture of these isomers, but a high content ratio of 1,3-di-substituent and 1,4-di-substituent is preferable from the viewpoint of compatibility between heat resistance and low viscosity, Preferably 95% by weight or more, of 1,3-di-substituted and 1,4-di-substituted. A high content of 1,2-di-substituents does not sufficiently exhibit high heat resistance.

또한 상기 일반식(1)로 표시되는 에폭시수지는 1,3-디치환체와 1,4-디치환체의 존재 비율(몰비) 1:9~9:1의 범위인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 3:7~7:3의 범위이며, 더욱 바람직하게는 4:6~6:4의 범위이다. 예를 들면 1,3-디치환체의 존재 비율(몰비)이 이 범위보다 높을 경우, 내열성이 충분히 발현되지 않을 경우가 있고, 또한 1,4-디치환체의 존재 비율(몰비)이 이 범위보다 높을 경우, 결정성을 나타내는 경우가 있어, 액상 에폭시수지 조성물로서 핸들링성이 떨어진다.The epoxy resin represented by the general formula (1) is preferably in the range of 1: 9 to 9: 1 in terms of the ratio (molar ratio) of the 1,3-di substituted compound to the 1,4-di substituted compound, Is in the range of 3: 7 to 7: 3, more preferably in the range of 4: 6 to 6: 4. For example, when the ratio (molar ratio) of the 1,3-di-substituent is higher than the above range, the heat resistance may not be sufficiently exhibited. In addition, the ratio of the 1,4- , There is a case where the epoxy resin composition exhibits crystallinity and the handling property as a liquid epoxy resin composition is poor.

또한 상기 일반식(1)로 표시되는 에폭시수지의 25℃에서의 점도는 50mPa·s이하이고, 보다 바람직하게는 30mPa·s이하이다. 25℃에서의 점도가 50mPa·s보다 높으면 에폭시수지 조성물로 했을 때의 점도가 상승하여, 성형시의 유동성 및 무기 충전재의 고충전율화에 있어서 불리해져, 유동성, 저선팽창성 등의 성능의 향상을 기대할 수 없다. 이하, 상기 특성을 가지는 일반식(1)로 표시되는 에폭시수지를 일반식(1)의 에폭시수지라고도 칭한다.The viscosity of the epoxy resin represented by the general formula (1) at 25 占 폚 is 50 mPa 占 퐏 or less, and more preferably 30 mPa 占 퐏 or less. If the viscosity at 25 ° C is higher than 50 mPa · s, the viscosity of the epoxy resin composition increases, which is disadvantageous in terms of fluidity at the time of molding and high filling ratio of the inorganic filler, and the performance such as fluidity and low linear expansion property is expected to be improved I can not. Hereinafter, the epoxy resin represented by the general formula (1) having the above characteristics is also referred to as an epoxy resin of the general formula (1).

상기와 같은 일반식(1)로 표시되는 에폭시수지는 디비닐벤젠류를 사용하여 비닐기를 산화시켜 에폭시화를 행함으로써 얻어진다. 예를 들면 디비닐벤젠류를 유기 과산화물 또는 과산화수소 등의 산화제를 사용하여 산화 반응시켜 소망하는 에폭시수지로 할 수 있다. 또한 일반식(1)에 있어서, R은 H 또는 탄소수 1~8의 탄화수소기인데, 바람직하게는 H 또는 메틸기 또는 에틸기이다. 이들은 디비닐벤젠류를 산화시켜 에폭시화할 경우는, 원료로서 사용되는 디비닐벤젠류에 유래하게 된다. 디비닐벤젠류의 입수의 용이함이나 얻어지는 에폭시수지의 특성 면에서는, R의 전부가 수소이거나, R의 1 또는 2가 메틸기 또는 에틸기이고, 다른 것이 H인 것이 바람직하다. 여기서 말하는 디비닐벤젠류는 이와 같은 치환 또는 미치환의 디비닐벤젠의 이성체의 혼합물을 의미한다. 그리고, 디비닐벤젠의 이성체의 혼합 비율은 상기 에폭시수지의 이성체의 혼합 비율과 거의 같게 해 두는 것이 좋다.The epoxy resin represented by the general formula (1) is obtained by subjecting a vinyl group to epoxidation using a divinylbenzene. For example, the desired epoxy resin can be obtained by subjecting divinylbenzenes to an oxidation reaction using an organic peroxide or an oxidizing agent such as hydrogen peroxide. In the general formula (1), R is H or a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, preferably H or a methyl group or an ethyl group. When they are epoxidized by oxidizing divinylbenzenes, they are derived from divinylbenzenes used as raw materials. From the viewpoint of the availability of divinylbenzenes and the properties of the obtained epoxy resin, it is preferable that all of R is hydrogen, 1 or 2 of R is a methyl group or ethyl group, and the others are H. The divinylbenzenes referred to herein means a mixture of isomers of such substituted or unsubstituted divinylbenzene. The blending ratio of the isomers of divinylbenzene is preferably approximately the same as the blending ratio of the isomers of the epoxy resin.

상기 에폭시화 반응에 있어서, 사용하는 산화제로서는, 예를 들면 유기 과산, 유기 퍼옥시드, 히드로퍼옥시드, 과산에스테르, 과산화디아실 등의 유기 과산화물, 및 과산화수소를 들 수 있다.In the epoxidation reaction, examples of the oxidizing agent to be used include organic peroxides such as organic peroxides, organic peroxides, hydroperoxides, peroxide esters and diacyl peroxides, and hydrogen peroxide.

유기 과산화물로서 유기 과산을 사용할 경우는 과(過)포름산, 과아세트산, 과프로피온산, m-클로로안식향산 등이 예시된다.When organic peroxides are used as organic peroxides, there are exemplified peroxy formic acid, peracetic acid, propionic acid, m-chlorobenzoic acid and the like.

상기 유기 과아세트산은 촉매와 병용해도 되고, 예를 들면 탄산소다 등의 알칼리나 황산 등의 산을 촉매로서 사용하는 경우도 있다.The organic peracetic acid may be used in combination with a catalyst. For example, an alkali such as sodium carbonate or an acid such as sulfuric acid may be used as a catalyst.

유기 과산화물로서 유기 퍼옥시드를 사용할 경우는 과산화디tert-부틸, 과산화비스트리페닐메틸, 과산화디쿠밀 등이 예시된다.Examples of the organic peroxide used as the organic peroxide include di tert-butyl peroxide, bistriphenyl methyl peroxide, dicumyl peroxide and the like.

유기 과산화물로서 히드로퍼옥시드를 사용할 경우는 tert-부틸히드로퍼옥시드, 쿠멘히드로퍼옥시드, 트리페닐메틸히드로퍼옥시드 등이 예시된다.When hydroperoxide is used as the organic peroxide, tert-butyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide, triphenylmethyl hydroperoxide and the like are exemplified.

유기 과산화물로서 과산에스테르를 사용할 경우는 과아세트산tert-부틸, 과피발린산tert-부틸, 과이소부티르산tert-부틸, 과안식향산tert-부틸, p-니트로안식향산tert-부틸 등이 예시된다.Butyl ester, tert-butyl peracetate, tert-butyl tertiary butyl isobutyrate, tert-butyl benzoate and tert-butyl p-nitrobenzoate are exemplified.

유기 과산화물로서 과산화디아실을 사용할 경우는 과산화라우로일, 과산화벤조일, 과산화아세틸, 과산화프로피오닐 등이 예시된다.When diacyl peroxide is used as the organic peroxide, examples include lauroyl peroxide, benzoyl peroxide, acetyl peroxide, propionyl peroxide and the like.

과산화수소를 산화제로서 사용할 경우는 텅스텐산, 몰리브덴산, 헤테로폴리산 등을 촉매로 하거나, 또는 이들 산의 프로톤의 일부 또는 전부를 유기 4급 암모늄염, 알칼리 금속, 및 알칼리 토류 금속으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종으로 치환한 염 등을 촉매로서 사용하는 것이 바람직하다.When hydrogen peroxide is used as the oxidizing agent, tungstic acid, molybdic acid, heteropoly acid or the like may be used as a catalyst, or a part or all of the protons of these acids may be treated with at least one selected from the group consisting of organic quaternary ammonium salts, alkali metals and alkaline earth metals A salt substituted with a species is preferably used as the catalyst.

상기 에폭시화 반응에 있어서, 산화제와 디비닐벤젠류의 투입량(몰비)은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들면 0.1~20의 범위가 예시되며, 보다 바람직하게는 0.1~10의 범위이다.The amount (molar ratio) of the oxidizing agent and the divinylbenzene in the epoxidation reaction is not particularly limited, but is, for example, in the range of 0.1 to 20, more preferably in the range of 0.1 to 10.

반응 온도는 특별히 한정되는 것은 아니며, 관용의 범위이면 되는데, 에폭시화 반응이 산화제의 분해 반응이나 부반응보다 우선적으로 진행되는 온도 범위가 바람직하다. 온도 범위는 예를 들면 -30~200℃의 범위가 바람직하고, 보다 바람직하게는 -10~100℃의 범위이다.The reaction temperature is not particularly limited and may be in a range of an allowable range. It is preferable that the temperature range in which the epoxidation reaction proceeds preferentially over the decomposition reaction and the side reaction of the oxidant. The temperature range is, for example, in the range of -30 to 200 占 폚, and more preferably in the range of -10 to 100 占 폚.

에폭시화 반응은 필요에 따라 용매를 사용할 수 있다. 용매를 사용할 경우는 예를 들면 톨루엔, 크실렌 등의 방향족계 용매, 클로로포름, 디클로로메탄클로로벤젠 등의 할로겐계 용매, 아세트산에틸, 아세트산부틸 등의 에스테르계 용매, 아세톤, 메틸에틸케톤 등의 케톤계 용매, 디옥산 등의 에테르계 화합물, 아세토니트릴 등의 극성 용매 등 또는 이들 2종류 이상의 혼합 용매를 사용할 수 있다. 또한 용매의 사용량은 임의로 설정할 수 있다.The epoxidation reaction may be carried out using a solvent as required. When a solvent is used, for example, aromatic solvents such as toluene and xylene, halogen solvents such as chloroform and dichloromethane chlorobenzene, ester solvents such as ethyl acetate and butyl acetate, ketone solvents such as acetone and methyl ethyl ketone , An ether compound such as dioxane, a polar solvent such as acetonitrile, or a mixed solvent of two or more of these solvents. The amount of the solvent to be used can be set arbitrarily.

이와 같이 하여 얻어진 에폭시수지는, 반응 원료에 유래하는 불순물이나 반응 부생물에 유래하는 불순물을 소량 포함하고 있어도 되는데, 그들을 20중량%이하, 바람직하게는 10중량%이하에 머무르는 것이 좋다. 또한 에폭시수지는 수지 중의 에폭시기가 에테르 결합으로서 올리고머화한 것이 포함되어도 지장 없지만, 올리고머 성분이 늘어나면 점도가 향상되기 때문에, 25℃에서의 점도가 50mPa·s이하가 되는 분자량일 필요가 있다.The epoxy resin thus obtained may contain a small amount of impurities derived from reaction raw materials or impurities derived from reaction by-products. It is preferable to keep them at 20 wt% or less, preferably 10 wt% or less. The epoxy resin may contain an oligomerized epoxy group in the resin as an ether bond. However, since the viscosity of the epoxy resin increases as the amount of the oligomer component increases, the epoxy resin needs to have a molecular weight at 25 ° C of 50 mPa · s or less.

본 발명에 사용하는 에폭시수지의 가수분해성 염소량은, 봉지하는 전자부품의 신뢰성 향상의 관점에서 적은 것이 좋다. 특별히 한정되는 것은 아니지만, 50ppm이하가 바람직하고, 더욱 바람직하게는 10ppm이하이다. 또한 본 발명에서 말하는 가수분해성 염소란 이하의 방법에 의해 측정된 값을 말한다. 즉, 시료 0.5g을 디옥산 30ml에 용해 후, 1N-KOH를 10ml 첨가하여 30분간 자비 환류한 후, 실온까지 냉각하고, 또한 80% 아세톤수 100ml를 첨가해, 0.002N-AgNO3 수용액으로 전위차 적정을 행하여 얻어지는 값이다.The amount of the hydrolyzable chlorine of the epoxy resin used in the present invention is preferably as small as possible from the viewpoint of improving the reliability of the electronic component to be encapsulated. But is preferably 50 ppm or less, and more preferably 10 ppm or less. The term " hydrolyzable chlorine " in the present invention means a value measured by the following method. That is, after dissolving 0.5g of a sample in 30ml of dioxane, then a 1N-KOH refluxed for 30 min in 10ml ratio was added, and allowed to cool to room temperature, and 80% by the addition of 100ml acetone,-0.002N AgNO 3 solution to the potential difference Is a value obtained by performing titration.

본 발명에서 사용하는 에폭시수지 성분은, 일반식(1)의 에폭시수지 이외에, 본 발명의 효과를 손상하지 않는 범위에서 공지 관용의 다른 에폭시수지를 병용할 수 있다. 다른 에폭시수지로서는 예를 들면 비스페놀A, 비스페놀F, 비스페놀S, 플루오렌비스페놀, 2,2'-비페놀, 3,3',5,5'-테트라메틸-4,4'-디히드록시비페놀, 레조르신, 나프탈렌디올류 등의 2가의 페놀류의 에폭시화물, 트리스-(4-히드록시페닐)메탄, 1,1,2,2-테트라키스(4-히드록시페닐)에탄, 페놀노볼락, o-크레졸노볼락 등의 3가 이상의 페놀류의 에폭시화물, 디시클로펜타디엔과 페놀류의 공축합 수지의 에폭시화물, 페놀류와 파라크실릴렌디클로라이드 등으로부터 합성되는 페놀아랄킬수지류의 에폭시화물, 페놀류와 비스클로로메틸비페닐 등으로부터 합성되는 비페닐아랄킬형 페놀수지의 에폭시화물, 나프톨류와 파라크실릴렌디클로라이드 등으로부터 합성되는 나프톨아랄킬수지류의 에폭시화물 등을 들 수 있다. 이들 다른 에폭시수지는 2종 이상을 병용해도 된다. 이들 다른 에폭시수지를 병용할 경우, 그 사용량은 전 에폭시수지의 50wt%이하, 유리하게는 20wt%이하에 머무르는 것이 좋다.The epoxy resin component used in the present invention can be used in combination with other epoxy resin for known purpose in addition to the epoxy resin of the general formula (1) within the range not impairing the effect of the present invention. Examples of other epoxy resins include bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, fluorene bisphenol, 2,2'-biphenol, 3,3 ', 5,5'-tetramethyl-4,4'-dihydroxybis (4-hydroxyphenyl) methane, 1,1,2,2-tetrakis (4-hydroxyphenyl) ethane, phenol novolak, , o-cresol novolak, epoxides of cocondensation resins of dicyclopentadiene and phenols, epoxides of phenol aralkylphosphates synthesized from phenols and paraxylylene dihydrochloride, phenols such as phenols Epoxides of biphenyl aralkyl type phenol resins synthesized from bischloromethyl biphenyl and the like, and epoxides of naphthol aralkyl type ones synthesized from naphthols and p-xylylene dihydrochloride. These other epoxy resins may be used in combination of two or more. When these other epoxy resins are used in combination, the amount of the epoxy resin used is preferably 50 wt% or less, advantageously 20 wt% or less of the total epoxy resin.

본 발명의 에폭시수지 조성물에 사용하는 에폭시수지용 경화제로서는, 통상의 에폭시수지의 경화제로서 상용되고 있는 화합물은 모두 사용할 수 있고, 디에틸렌트리아민, 트리에틸렌테트라민 등의 지방족 아민류, 메타페닐렌디아민, 디아미노디페닐메탄, 디아미노디페닐술폰 등의 방향족 아민류, 페놀노볼락수지, 오르토크레졸노볼락수지, 나프톨노볼락수지, 페놀아랄킬수지 등의 다가 히드록시화합물, 및 이들의 변성물, 무수 프탈산, 무수 말레산, 무수 헥사히드로프탈산, 무수 피로멜리트산 등의 산무수물계 경화제, 디시안디아미드, 이미다졸, BF3-아민 착체, 구아니딘 유도체 등의 잠재성 경화제를 들 수 있다.As the curing agent for an epoxy resin used in the epoxy resin composition of the present invention, any compound commonly used as a curing agent for an ordinary epoxy resin can be used, and aliphatic amines such as diethylenetriamine and triethylenetetramine, , Aromatic amines such as diaminodiphenylmethane and diaminodiphenylsulfone, polyhydric hydroxy compounds such as phenol novolak resin, orthocresol novolak resin, naphthol novolak resin and phenol aralkyl resin, and modified products thereof, Acid anhydride-based curing agents such as phthalic anhydride, maleic anhydride, hexahydrophthalic anhydride and pyromellitic anhydride, latent curing agents such as dicyandiamide, imidazole, BF 3 -amine complexes and guanidine derivatives.

이들 중에서도, 반도체 봉지 재료에 적합한 다가 히드록시화합물이 바람직하게 사용된다. 구체적으로 예시하면, 비스페놀A, 비스페놀F, 비스페놀S, 플루오렌비스페놀, 4,4'-비페놀, 2,2'-비페놀, 히드로퀴논, 레조르신, 카테콜, 나프탈렌디올류 등의 2가의 페놀류, 트리스-(4-히드록시페닐)메탄, 1,1,2,2-테트라키스(4-히드록시페닐)에탄, 페놀노볼락, o-크레졸노볼락, 나프톨노볼락, 폴리비닐페놀 등으로 대표되는 3가 이상의 페놀류, 또한 페놀류, 나프톨류 또는 비스페놀A, 비스페놀F, 비스페놀S, 플루오렌비스페놀, 4,4'-비페놀, 2,2'-비페놀, 히드로퀴논, 레조르신, 카테콜, 나프탈렌디올류 등의 2가의 페놀류와 포름알데히드, 아세트알데히드, 벤즈알데히드, p-히드록시벤즈알데히드, p-크실릴렌글리콜, p-크실릴렌글리콜디메틸에테르, 디비닐벤젠, 디이소프로페닐벤젠, 디메톡시메틸비페닐류, 디비닐비페닐, 디이소프로페닐비페닐류 등의 가교제와의 반응에 의해 합성되는 다가 히드록시화합물 등을 들 수 있다.Among them, a polyhydric hydroxy compound suitable for a semiconductor encapsulating material is preferably used. Specific examples thereof include divalent phenols such as bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, fluorene bisphenol, 4,4'-biphenol, 2,2'-biphenol, hydroquinone, resorcin, catechol and naphthalene diols , Tris- (4-hydroxyphenyl) methane, 1,1,2,2-tetrakis (4-hydroxyphenyl) ethane, phenol novolak, o-cresol novolak, naphthol novolac, Phenols, naphthols or bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, fluorene bisphenol, 4,4'-biphenol, 2,2'-biphenol, hydroquinone, resorcin, catechol, Naphthalene diol and the like and a divalent phenol such as formaldehyde, acetaldehyde, benzaldehyde, p-hydroxybenzaldehyde, p-xylylene glycol, p-xylylene glycol dimethyl ether, divinylbenzene, diisopropenylbenzene, And a cross-linking agent such as ethoxy methyl biphenyl, divinyl biphenyl, diisopropenyl biphenyl, etc. In which, and the like polyhydric hydroxy compound synthesized.

다가 히드록시화합물의 연화점 범위는 바람직하게는 40~150℃, 보다 바람직하게는 50~120℃이다. 40℃보다 낮으면 예를 들면 무기재가 충전된 에폭시수지 조성물로 했을 때에 점도가 지나치게 낮아져 무기재가 침강한다는 문제가 있고, 150℃보다 높으면 에폭시수지 조성물 조제시의 혼합반죽성과 성형성에 문제가 있다. 또한 바람직한 150℃에서의 용융 점도는 1Pa·s이하이고, 보다 바람직하게는 0.5Pa·s이하이다. 1Pa·s보다 높으면 에폭시수지 조성물의 조제시의 혼합반죽성, 및 성형성에 문제가 있지만, 에폭시수지 조성물(무기 충전재를 포함하지 않음)로 했을 때의 25℃에서의 점도가 0.01~100Pa·s가 되도록 적당히 선정된다. 여기서, 에폭시수지 조성물(무기 충전재를 포함하지 않음)은 에폭시수지 조성물에 배합되는 전부의 에폭시수지와 전부의 경화제로 이루어지는 조성물을 의미한다.The softening point of the polyhydric hydroxy compound is preferably 40 to 150 캜, more preferably 50 to 120 캜. If the temperature is lower than 40 占 폚, for example, when the epoxy resin composition is filled with an inorganic material, the viscosity becomes too low to cause precipitation of the inorganic material. If the temperature is higher than 150 占 폚, there is a problem in mixing kneading and molding property at the time of preparing the epoxy resin composition. The melt viscosity at 150 캜 is preferably 1 Pa · s or less, and more preferably 0.5 Pa · s or less. When the viscosity is higher than 1 Pa · s, there is a problem in mixing kneading property and moldability at the time of preparation of the epoxy resin composition. However, when the epoxy resin composition (including no inorganic filler) has a viscosity of 0.01 to 100 Pa · s . Here, an epoxy resin composition (not including an inorganic filler) refers to a composition comprising all the epoxy resin to be mixed with the epoxy resin composition and the entire curing agent.

본 발명의 에폭시수지 조성물은, 무기 충전재를 고함유율로 배합하기 위해서는 저점도인 것이 바람직하다. 그 때문에, 에폭시수지 조성물로부터 무기 충전재를 제거한 상태에서의 에폭시수지 조성물의 점도는 25℃에서 0.01~100Pa·s, 바람직하게는 1~100Pa·s가 되도록 한다.The epoxy resin composition of the present invention preferably has a low viscosity in order to blend an inorganic filler at a high content. Therefore, the viscosity of the epoxy resin composition in the state where the inorganic filler is removed from the epoxy resin composition is set to 0.01 to 100 Pa · s, preferably 1 to 100 Pa · s at 25 ° C.

본 발명의 에폭시수지 조성물에는 무기 충전재를 배합할 수 있다. 무기 충전재를 배합한 에폭시수지 조성물은 봉지용으로서 적합하다. 무기 충전재로서는 예를 들면 실리카, 알루미나, 지르콘, 규산칼슘, 탄산칼슘, 탄화규소, 질화규소, 질화붕소, 지르코니아, 포스테라이트, 스테아타이트, 스피넬, 멀라이트, 티타니아 등이 있고, 이들의 1종 또는 2종 이상의 것을 조합해도 되는데, 용융 실리카를 주성분으로 하는 것이 바람직하고, 그 형태로서는 파쇄상, 또는 구(球)형상인 것을 들 수 있다. 통상 실리카는 수 종류의 입자지름 분포를 가진 것을 조합하여 사용된다. 조합하는 실리카의 평균 입자지름의 범위는 0.5~100㎛가 좋다. 무기 충전재를 배합할 경우의 함유율은 83중량%이상이 바람직하고, 보다 바람직하게는 83~90중량%이다. 83중량%보다 적으면 유기 성분의 함유율이 높아져 내습성, 저선팽창성이 충분히 발휘되지 않는다.The epoxy resin composition of the present invention may contain an inorganic filler. The epoxy resin composition containing the inorganic filler is suitable for sealing. Examples of the inorganic filler include silica, alumina, zircon, calcium silicate, calcium carbonate, silicon carbide, silicon nitride, boron nitride, zirconia, fosterite, stearate, spinel, mullite, titania, Two or more kinds of them may be used in combination, and it is preferable to use fused silica as a main component, and the form thereof may be crushed or spherical. Generally, silica is used in combination with several kinds of particles having a particle diameter distribution. The average particle diameter of the silica to be combined is preferably 0.5 to 100 mu m. When the inorganic filler is blended, the content is preferably 83% by weight or more, and more preferably 83 to 90% by weight. If it is less than 83% by weight, the content of the organic component increases, and moisture resistance and low linear expansion properties are not sufficiently exhibited.

또한 본 발명의 에폭시수지 조성물 중에는, 필요에 따라 폴리에스테르, 폴리아미드, 폴리이미드, 폴리에테르, 폴리우레탄, 석유수지, 인덴쿠마론수지, 페녹시수지 등의 올리고머나 고분자 화합물을 적당히 배합할 수 있고, 안료, 난연제, 요변성(搖變性) 부여제, 커플링제, 유동성 향상제 등의 첨가제를 배합할 수 있다. 안료로서는 유기계 또는 무기계의 체질 안료, 인편(鱗片)상 안료 등이 있다. 요변성 부여제로서는 실리콘계, 피마자유계, 지방족 아마이드 왁스, 산화폴리에틸렌 왁스, 유기 벤토나이트계 등을 들 수 있다. 또한 필요에 따라 아민류, 이미다졸류, 유기 포스핀류, 루이스산 등의 경화 촉진제를 배합할 수 있다. 경화 촉진제의 배합량으로서는 통상 에폭시수지 100중량부에 대하여 0.2~5중량부가 바람직하다. 또한 필요에 따라, 본 발명의 수지 조성물에는 카르나우바 왁스, OP 왁스 등의 이형제, γ-글리시독시프로필트리메톡시실란 등의 커플링제, 카본블랙 등의 착색제, 삼산화안티몬 등의 난연제, 실리콘 오일 등의 저응력화제, 스테아린산칼슘 등의 활제(滑劑) 등을 배합할 수 있다.In the epoxy resin composition of the present invention, an oligomer or a high molecular compound such as a polyester, a polyamide, a polyimide, a polyether, a polyurethane, a petroleum resin, an indenkumarone resin, or a phenoxy resin can be appropriately compounded , Pigments, flame retardants, thixotropic agents, coupling agents, flowability improvers, and the like. Examples of the pigment include an organic or inorganic extender pigment, a scaly pigment, and the like. Examples of the thixotropic agent include a silicone type, a castor oil type, an aliphatic amide wax, an oxidized polyethylene wax, and an organic bentonite type. If necessary, curing accelerators such as amines, imidazoles, organic phosphines and Lewis acids can be added. The blending amount of the curing accelerator is usually 0.2 to 5 parts by weight based on 100 parts by weight of the epoxy resin. If necessary, the resin composition of the present invention may contain a releasing agent such as carnauba wax and OP wax, a coupling agent such as? -Glycidoxypropyltrimethoxysilane, a coloring agent such as carbon black, a flame retardant such as antimony trioxide, Low-stressing agents such as oil, lubricants such as calcium stearate, and the like.

본 발명의 경화물은 상기 에폭시수지 조성물을 주형(注型), 압축 성형, 트랜스퍼 성형 등의 성형방법으로 경화시킴으로써 얻을 수 있다. 경화물이 생성될 때의 온도는 통상 120~220℃이다.The cured product of the present invention can be obtained by curing the epoxy resin composition by a molding method such as casting, compression molding, or transfer molding. The temperature at which the cured product is produced is usually 120 to 220 ° C.

<실시예><Examples>

이하, 합성예, 실시예 및 비교예에 근거하여 본 발명을 구체적으로 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail based on Synthesis Examples, Examples and Comparative Examples.

(합성예 1)(Synthesis Example 1)

3L 반응기에 디비닐벤젠(신닛테츠 가가쿠사 제품 DVB-960 디비닐벤젠 함유량 97%, m-체/p-체=62:38) 300g, 아세트산에틸 1200g을 장입하여 교반하였다. 이어서, 과아세트산 30% 아세트산에틸 용액 1640g을 3시간 동안 적하하였다. 적하 중은 반응 온도를 30℃가 되도록 제어를 행하였다. 적하 후, 또 30℃에서 3시간 교반을 행하였다. 반응액을 실온까지 냉각한 후 20% NaOH 수용액 1208g을 첨가하고, 1시간 교반 후 수층를 분리하여, 미반응의 과아세트산 및 생성된 아세트산의 제거를 행하였다. 증발기(evaporator)로 아세트산에틸을 감압 증류 제거한 후 디에폭시에틸벤젠 151.6g을 얻었다(에폭시수지 a). 얻어진 수지의 에폭시 당량은 111g/eq. 25℃에서의 점도는 10mPa·s, 순도는 94.3%(가스 크로마토그래피 면적%), m-체/P-체=64:36(1H-NMR 적분비)이었다.A 3 L reactor was charged with 300 g of divinylbenzene (DVB-960 divinylbenzene content 97%, m-isomer / p-isomer = 62: 38, manufactured by Shinnitetsuga Kagaku Co., Ltd.) and 1200 g of ethyl acetate. Subsequently, 1640 g of a 30% acetic acid ethyl acetate solution was added dropwise over 3 hours. The dropping was controlled so that the reaction temperature was 30 ° C. After the dropwise addition, stirring was further carried out at 30 DEG C for 3 hours. After the reaction solution was cooled to room temperature, 1208 g of 20% NaOH aqueous solution was added and stirred for 1 hour, and the aqueous layer was separated to remove unreacted peracetic acid and produced acetic acid. Ethyl acetate was distilled off under reduced pressure using an evaporator to obtain 151.6 g of diepoxyethylbenzene (epoxy resin a). The epoxy equivalent of the obtained resin was 111 g / eq. The viscosity at 25 占 폚 was 10 mPa 占 퐏, the purity was 94.3% (gas chromatographic area%), and the m- and p-isomers were 64:36 ( 1 H-NMR).

(합성예 2)(Synthesis Example 2)

4구 분리 가능 플라스크에 히드로퀴논 65g, 에피클로로히드린 546g, 디에틸렌글리콜디메틸에테르 82g을 넣어 교반 용해시켰다. 균일하게 용해 후 130mmHg의 감압하 65℃로 유지하고, 48% 수산화나트륨 수용액 98.4g을 4시간 동안 적하하여, 이 적하 중에 환류 유출(留出)된 물과 에피클로로히드린을 분리조(分離槽)에서 분리하여 에피클로로히드린은 반응 용기에 되돌리고, 물은 계외로 제거하여 반응하였다. 반응 종료 후 여과에 의해 생성된 염을 제거하고, 또한 수세한 후 에피클로로히드린을 증류 제거하여 에폭시수지 120g을 얻었다(에폭시수지 b). 얻어진 수지의 에폭시 당량은 116g/eq., 융점은 100℃였다.65 g of hydroquinone, 546 g of epichlorohydrin and 82 g of diethylene glycol dimethyl ether were placed in a four-neck separable flask and dissolved by stirring. After uniformly dissolving, 98.4 g of a 48% sodium hydroxide aqueous solution was added dropwise at 65 ° C under a reduced pressure of 130 mmHg for 4 hours, and water and epichlorohydrin, which had been refluxed and distilled in the dropwise addition, ), Epichlorohydrin was returned to the reaction vessel, and water was removed from the system and reacted. After completion of the reaction, the resulting salt was removed by filtration, and after washing with water, epichlorohydrin was distilled off to obtain 120 g of an epoxy resin (epoxy resin b). The obtained epoxy resin had an epoxy equivalent of 116 g / eq. And a melting point of 100 캜.

(실시예 1, 비교예 1~2)(Example 1, Comparative Examples 1 and 2)

하기에 나타내는 에폭시수지, 경화제, 무기 충전재와, 경화 촉진제로서 트리페닐포스핀을 사용하여, 표 1에 나타내는 배합 비율로 혼합반죽하여 에폭시수지 조성물을 조제하였다.An epoxy resin composition was prepared by mixing and kneading the epoxy resin, curing agent and inorganic filler shown below and triphenylphosphine as a curing accelerator at the mixing ratios shown in Table 1 below.

에폭시수지 성분으로서, 상기의 합성예 1에서 얻어진 에폭시수지 a, 비교로서 상기의 합성예 2에서 얻어진 히드로퀴논형 에폭시수지 b, 및 에폭시수지 c(비스페놀F형 에폭시수지, 토토 카세이사 제품, YDF-170; 에폭시 당량 167g/eq. 25℃에서의 점도는 2.9Pa·s)를 사용하였다.The hydroquinone type epoxy resin b obtained in Synthesis Example 2 and the epoxy resin c (bisphenol F type epoxy resin, YDF-170 manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd.) as comparative epoxy resin a obtained in Synthesis Example 1, ; Epoxy equivalent: 167 g / eq. Viscosity at 25 캜: 2.9 Pa · s) was used.

경화제 성분으로서 PN(페놀노볼락수지, 군에이 가가쿠사 제품, PSM-4261; OH 당량 103, 연화점 82℃)을 사용하였다.PN (phenol novolac resin, PSM-4261, OH equivalent: 103, softening point: 82 占 폚, manufactured by Gunegai Kagaku Co., Ltd.) was used as a curing agent component.

필러로서, 덴키 가가쿠 고교 가부시키가이샤 제품인 구상 용융 실리카 FB-60(평균 입자지름 21㎛) 및 FB-35(평균 입자지름 12㎛), 가부시키가이샤 아도마테쿠스 제품인 구상 용융 실리카 SO-C3(평균 입자지름 0.9㎛) 및 SO-C2(평균 입자지름 0.5㎛)의 4종류를 혼합하여 사용하였다.Spherical fused silica FB-60 (average particle diameter of 21 mu m) and FB-35 (mean particle diameter of 12 mu m) manufactured by Denki Kagaku Kogyo K.K., spherical fused silica SO-C3 manufactured by Adomatex Average particle diameter: 0.9 占 퐉) and SO-C2 (average particle diameter: 0.5 占 퐉) were mixed and used.

에폭시수지와 경화제를 혼합하여 얻어진 조성물(필러와 경화 촉진제를 포함하지 않음)에 대해서는, E형 점도계를 사용해 25℃에서의 조성물의 점도 측정을 행하여, 그 결과를 표 1에 나타내었다.The composition of the composition obtained by mixing the epoxy resin and the curing agent (without the filler and the curing accelerator) was measured by using an E-type viscometer at 25 ° C, and the results are shown in Table 1.

또한 상기 에폭시수지 조성물에 필러를 혼합하여 얻어진 에폭시수지 조성물에 대하여, 스파이럴 플로우 및 겔 타임을 측정하였다. 스파이럴 플로우에 대해서는, 규격(EMMI-1-66)에 준거한 스파이럴 플로우 측정용 금형으로 에폭시수지 조성물을 스파이럴 플로우의 주입 압력(150kgf/cm2), 경화 시간 3분의 조건으로 성형하여 유동 길이를 조사하였다. 겔 타임에 대해서는, 미리 175℃로 가열해 둔 겔화 시험기(닛신 가가쿠 가부시키가이샤 제품)의 오목부에 에폭시수지 조성물을 부어 넣고, 테프론(등록상표) 봉을 사용하여 1초간 2회전의 속도로 교반하여 에폭시수지 조성물이 경화할 때까지 요한 겔화 시간을 조사하였다.The epoxy resin composition obtained by mixing the epoxy resin composition with a filler was measured for spiral flow and gel time. With respect to the spiral flow, the epoxy resin composition was molded under the injection pressure (150 kgf / cm 2 ) of the spiral flow and the curing time of 3 minutes with a mold for spiral flow measurement conforming to the standard (EMMI-1-66) Respectively. With respect to the gel time, an epoxy resin composition was poured into a concave portion of a gelation tester (product of Nissin Kagaku Kogyo Co., Ltd.) preliminarily heated to 175 ° C, and a Teflon (registered trademark) rod was used at a rate of two revolutions And the gelation time required until the epoxy resin composition hardened was investigated by stirring.

다음으로, 에폭시수지 조성물을 175℃로 성형하고, 175℃로 12시간 포스트큐어를 행하여, 경화물 시험편을 얻은 후 각종 물성 측정에 제공하였다. 유리 전이점은 열기계 측정장치에 의해 승온 속도 7℃/분의 조건에서 구하였다. 구부림 시험은 구부림 강도, 구부림 탄성율을 3점 구부림법에 의해 행하였다. 흡수율(吸水率)은 본 에폭시수지 조성물을 사용하여 지름 50mm, 두께 3mm의 원반(圓盤)을 성형하고, 포스트큐어 후 85℃, 85% RH의 조건에서 100시간 흡습시킨 때의 것이다. 결과를 정리하여 표 1에 나타낸다.Next, the epoxy resin composition was molded at 175 占 폚 and post-cured at 175 占 폚 for 12 hours to obtain a cured product test piece, which was then subjected to various physical property measurements. The glass transition point was measured by a thermomechanical measuring apparatus at a heating rate of 7 DEG C / min. In the bending test, the bending strength and the bending elastic modulus were measured by a three-point bending method. The water absorption rate is obtained by forming a disk having a diameter of 50 mm and a thickness of 3 mm using the present epoxy resin composition and post-curing and moisture-absorbing at 85 ° C and 85% RH for 100 hours. The results are summarized in Table 1.

Figure 112014007051024-pct00004
Figure 112014007051024-pct00004

본 발명의 에폭시수지 조성물은 저점도성이 뛰어나고, 내열성 및 저열팽창성 등이 뛰어난 경화물을 부여할 수 있다. 본 발명의 에폭시수지 조성물은, 저점도성이 뛰어난 에폭시수지를 사용함으로써 성형시의 뛰어난 유동성이 발휘된다. 또한 저점도성에 기인하여 필러 고충전율화가 가능하다. 또한 에폭시수지 성분이 일반적인 에폭시수지가 가지는 글리시딜에테르기와 비교하여, 유연한 옥시메틸렌 부위를 가지지 않기 때문에, 경화물의 분자 운동이 억제됨으로써 뛰어난 내열성, 저열팽창성이 발휘된다. 이상의 뛰어난 유동성, 내열성, 저열팽창성에 의해 반도체 봉지재, 각종 성형 재료, 적층 재료, 분체 도료 및 접착 재료 등에 적합하게 사용할 수 있다. 특히, 전자부품 봉지용으로서 뛰어나다.The epoxy resin composition of the present invention can give a cured product excellent in low viscosity and excellent in heat resistance and low thermal expansion. The epoxy resin composition of the present invention exhibits excellent fluidity at the time of molding by using an epoxy resin excellent in low viscosity. It is also possible to make the filler low in charge due to the low viscosity. Further, since the epoxy resin component does not have a flexible oxymethylene moiety as compared with the glycidyl ether group possessed by a general epoxy resin, the molecular motion of the cured product is suppressed, and excellent heat resistance and low thermal expansion performance are exhibited. With the excellent fluidity, heat resistance and low thermal expansion property, it can be suitably used for semiconductor encapsulating materials, various molding materials, laminated materials, powder coating materials and adhesive materials. Especially, it is excellent for encapsulating electronic parts.

Claims (6)

에폭시수지 및 에폭시수지용 경화제를 함유하는 에폭시수지 조성물에 있어서, 에폭시수지로서, 하기 일반식(1)로 표시되고, 2개의 에폭시에틸기의 치환 위치가 1,3-디치환체 및 1,4-디치환체인 에폭시화합물을 합계로 90중량%이상 함유하며, 25℃에서의 점도가 50mPa·s이하인 에폭시수지를 사용하고, 에폭시수지용 경화제로서, 연화점이 40~150℃인 다가 히드록시화합물을 사용하며, 조성물(무기 충전재를 포함하지 않음)로 했을 때의 점도가 25℃에서 0.01~100Pa·s인 것을 특징으로 하는 에폭시수지 조성물.
Figure 112010066000805-pct00003

여기서, R은 수소원자 또는 탄소수 1~8의 탄화수소기이고, n은 4이며, 모두가 동일해도 달라도 된다.
An epoxy resin composition comprising an epoxy resin and a curing agent for an epoxy resin, wherein the epoxy resin is represented by the following general formula (1), wherein the substitution positions of the two epoxyethyl groups are 1,3-di- A polyhydric hydroxy compound having a softening point of 40 to 150 DEG C is used as a curing agent for an epoxy resin using an epoxy resin having a total of at least 90% by weight of a substituted epoxy compound and having a viscosity at 25 DEG C of 50 mPa.s or less , And a composition (not including an inorganic filler) having a viscosity of from 0.01 to 100 Pa · s at 25 占 폚.
Figure 112010066000805-pct00003

Here, R is a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, and n is 4, and they may all be the same or different.
제1항에 있어서,
일반식(1)로 표시되는 에폭시수지의 1,3-디치환체와 1,4-디치환체의 존재 비율(몰비)이 1:9~9:1의 범위인 것을 특징으로 하는 에폭시수지 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein the ratio (molar ratio) of the 1,3-di substituted compound to the 1,4-di substituted compound of the epoxy resin represented by the general formula (1) is in the range of 1: 9 to 9: 1.
제1항에 있어서,
에폭시수지용 경화제가 페놀노볼락수지인 것을 특징으로 하는 에폭시수지 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein the curing agent for an epoxy resin is a phenol novolak resin.
제1항에 있어서,
무기 충전재를 83중량%이상 함유하는 것을 특징으로 하는 에폭시수지 조성물.
The method according to claim 1,
And an inorganic filler in an amount of 83% by weight or more.
제1항에 있어서,
전기·전자부품 봉지용인 것을 특징으로 하는 에폭시수지 조성물
The method according to claim 1,
An epoxy resin composition characterized by being encapsulated in an electric or electronic part
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 기재된 에폭시수지 조성물을 경화하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 에폭시수지 경화물.An epoxy resin cured product obtained by curing the epoxy resin composition according to any one of claims 1 to 5.
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